JP2006269559A - 基板接続用テープを用いた基板製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】フレキシブル基板材料の搬送性がすぐれ、基板材料に与える損傷の少ないフレキシブル基板の製造方法を提案する。
【解決手段】少なくともエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープ1で、基板材料4の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープ1を貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法。
【選択図】図5
【解決手段】少なくともエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープ1で、基板材料4の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープ1を貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法。
【選択図】図5
Description
本発明は、プリント基板やリードフレーム等に用いられる基板の製造方法に関する。詳しくは搬送性の安定した基板の製造方法に関する。
基板は、その硬さで、フレキシブル基板とリジッド基板とに分類される。近年、フレキシブル基板は、携帯電話、液晶ディスプレイ、デジタルカメラ、ハードディスクその他多くの電子機器で使用されている。その屈曲性のゆえに、ヒンジ部や可動部に使用されたり、コンパクトに機器内に配線板を収納するために不可欠な存在となっている。しかし、その屈曲性のために、シート状のフレキシブル基板材料で搬送手段によりフレキシブル基板を製造すると、巻き付き、落下、斜行等の搬送トラブルが多発するため、リジッド基板の製造装置に見られるような、単純な搬送機構を使用することはできない。フレキシブル基板材料の代表的な構成は、ポリイミドや液晶ポリマー等の絶縁フィルム/接着剤層/銅箔の、いわゆる3層材(両面板の場合、銅箔/接着剤層/絶縁フィルム/接着剤層/銅箔)が主流であるが、近年接着剤層のない2層材が増えつつあるが、屈曲性がより高くなり、搬送トラブルは3層材より深刻である。さらに銅箔や絶縁フィルムの厚みは今後ますます薄くなると予想されており、搬送設備の改良で搬送性を確保するためには、莫大な投資が必要となり、対策が求められていた。
また、近年の電子機器の高速化・高機能化・小型化・軽量化とそれにともなう多層化によって、リジッド基板材料も薄板化が進んでおり、厚さ40μm、60μmといった非常に薄い、たわみやすい材料も登場している。そのため、リジッド基板においても、従来の単純な搬送装置を使用することができず、搬送設備の改良で搬送性を確保するためには、莫大な投資が必要となり、対策が求められていた。
搬送性を改善するには、たわみにくい先導板に基板材料を貼り付ける、さらにその後に複数の材料を連結するという技術が最も容易で、当業者で知られている。特許文献1〜2には、たわみやすい基板材料をテープで連結して安定して搬送する技術が開示されている。しかし、一般のテープで連結した場合、搬送性は良好であるが、シート状材料に分離する際に、切断するか、テープをはがす工程が必要になる。その際、たわみやすい基板材料の場合、変形する、伸びる、破れる、割れる等の弊害があった。
特許文献3〜5には、エッチング液に溶解する層とレジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層とレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層が積層されてなる基板接続用テープ、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層とレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層が積層されてなる基板接続用テープ、エッチング液に溶解する層とレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層が積層されてなる基板接続用テープ、等で基板を連結することにより、エッチングの不均一現象を解消する技術が開示されており、同時にこれらにより、アルカリ現像・エッチング工程における搬送性が大幅に改善された。しかし、無電解めっきや電解めっき等のその他の湿式処理においては、テープが溶解、膨潤等により、剥離、断裂することがあり、大部分の基板製造工程において使用可能にするためには、より一層の改善技術が求められていた。
特開平9−232723号公報
特開2000−151076号公報
特開2004−43848号公報
特開2004−10916号公報
特開2003−342543号公報
本発明の課題は、基板材料の搬送性がすぐれ、基板材料に与える損傷の少ない基板製造方法を提案することにある。
本発明者らは検討した結果、少なくともエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープで、基板材料の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープを貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法で上記課題を解決することを見出した。
あるいは少なくともレジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープで、基板材料の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープを貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法で上記課題を解決することを見出した。
あるいは少なくともエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープで、基板材料の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープを貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法で上記課題を解決することを見出した。
好ましくは貼り付け後、基板接続用テープのレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層が、基板接続用テープを構成する他の層よりも横方向に10μm以上広がっていることにより上記課題を解決することを見出した。
より好ましい態様としては、レジスト除去工程で基板接続用テープを溶解除去して基板材料を分離することにより上記課題を解決することを見出した。
本発明によれば、基板材料の搬送性がすぐれ、基板材料に与える損傷の少ない基板製造方法を提案することができる。
以下に本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。本発明において、基板接続用テープのエッチング液に溶解する層は、引っ張り強度が非常に大きく、伸びや切断が生じにくい性質が求められる。エッチング部の途中でこの層はすべて除去される。このようなエッチング液に溶解する層としては、一般的にエッチング液は酸性液であるので、金属層が好適に使用できる。銅、銀、アルミニウム、ステンレス、ニクロム、鉄、及びタングステン等の金属材料、銅、鉄、クロム、亜鉛、スズ等からなる合金等を用いることができる。例えば銅の配線回路を形成するためのプリント基板であったら、回路となる金属と溶解性を同じくした方が簡便であるため、銅が好適に使用できる。また、リードフレームをエッチングする場合であったら、同様な理由でリードフレーム用合金が好適に使用できる。エッチング液に溶解する層の厚みは1〜200μmであり、好ましくは5〜50μmがよい。
本発明において、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層は、少なくともエッチング液に対して溶解または膨潤しない性質を有し、またそれらのスプレー圧に耐えうる強度を有する。レジスト除去部の途中でこの層はすべて除去される。このようなレジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層としては、例えば、マイラーフィルムと保護フィルムを剥離した感光層を熱もしくは紫外光照射によって硬化させたドライフィルムレジスト、液状フォトレジストを塗布および乾燥後、熱もしくは紫外光照射によって硬化させたフィルム等が挙げられる。また、カルボン酸基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンイミド基、ホスホン酸基を有する、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂等からなる強アルカリに溶解するフィルムやポリビニルアルコール等が挙げられる。レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層の厚みは、1〜200μmであり、好ましくは5〜100μmがよい。
本発明において、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層は、基板接続用テープと基板を接着する役割を担い、エッチングが終了して不要となった際にレジスト除去部で速やかに除去される。必要であれば、加熱することで粘着性を増加させてもよい。このような層としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂等を主成分とする粘着樹脂が挙げられる。それらの粘着樹脂には、レジスト除去液に溶解または膨潤する必要があるため、カルボン酸基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルホンアミド基、スルホンイミド基、ホスホン酸基を有するモノマーを含有する。粘着樹脂の具体例としては、スチレン/マレイン酸モノアルキルエステル共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、スチレン/メタクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、アクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸/メタクリル酸エステル/アクリル酸エステル共重合体、スチレン/メタクリル酸/アクリル酸エステル共重合体、スチレン/アクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸共重合体、酢酸ビニル/クロトン酸/メタクリル酸エステル共重合体、安息香酸ビニル/アクリル酸/メタクリル酸エステル共重合体等のスチレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル等とカルボン酸含有単量体との共重合体等が挙げられる。本発明においては、紫外光に感光性を有せしめるために、粘着樹脂に加えて、当業者で知られる光重合性化合物と光重合開始剤を含有する。光重合性化合物としては、分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する光重合可能な化合物が挙げられる。例えば、多価アルコールにα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物;ビスフェノールA系(メタ)アクリレート化合物;グリシジル基含有化合物にα,β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物;分子内にウレタン結合を有する(メタ)アクリレート化合物等のウレタンモノマー;ノニルフェノキシポリエチレンオキシアクリレート;γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−(メタ)アクリロイルオキシエチル−o−フタレート、β−ヒドロキシアルキル−β′−(メタ)アクリロイルオキシアルキル−o−フタレート等のフタル酸系化合物;(メタ)アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。これらの光重合性化合物は単独で又は2種類以上を組み合わせて用いることができる。光重合開始剤の一例としては、ベンゾフェノン、N,N′−テトラメチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、N,N′−テトラエチル−4,4′−ジアミノベンゾフェノン、4−メトキシ−4′−ジメチルアミノベンゾフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパノン−1等の芳香族ケトン;2−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、2−メチル1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン等のキノン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物;ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物;ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体;2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体等の2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体;9−フェニルアクリジン、1,7−ビス(9,9′−アクリジニル)ヘプタン等のアクリジン誘導体;N−フェニルグリシン、N−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物等が挙げられる。上記2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体における2つの2,4,5−トリアリールイミダゾールのアリール基の置換基は、同一であって対象な化合物を与えてもよいし、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と3級アミン化合物とを組み合わせてもよい。これらは単独で、または2種類以上を組み合わせて使用される。また、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチルフタレート、o−トルエンスルホン酸アミド、p−トルエンスルホン酸アミド、クエン酸トリブチル、クエン酸トリエチル、アセチルクエン酸トリエチル等の可塑剤を含有してもよい。また、視認性を向上させるため、染料や顔料を含有してもよい。また、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層として、マイラーフィルムと保護フィルムを剥離した未硬化の感光層からなるドライフィルムレジストを使用しても良い。一般的なドライフィルムレジストとしては例えばデュポンMRCドライフィルム株式会社のリストン、日立化成工業株式会社のフォテック、旭化成株式会社のサンフォート等を使用することができる。レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有する層の厚みは、1〜200μmであり、好ましくは5〜100μmがよい。
本発明における基板接続用テープの構成例を図1〜3に示す。図1のようにエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層が積層されてなる基板接続用テープ1、図2のようにレジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層が積層されてなる基板接続用テープ2、図3のようにエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層が積層されてなる基板接続用テープ3が用いられるが、同一の機能を有する層が複数層で構成されていてもよい。また本発明の課題が解決される限り、その他の層が含まれていてもよい。
本発明において、基板接続用テープは、基板材料の搬送方向の縁部同士を基板接続用テープで互いに連結する。テープは両面に貼り付けてもよいし、片面だけに貼り付けてもよい。図4〜5に、両面、あるいは片面に基板接続用テープで基板材料を連結した部分の断面構造を示す。図4〜5はテープ1を貼り付けた例を示している。また図6〜8にテープの貼り付け例を示す。本発明において、基板材料はその搬送方向の縁部同士、すなわち搬送方向前辺と後辺を基板接続用テープで互いに連結される。搬送時に切断、変形、ねじれ、ゆがみ等による搬送不良が起こらない範囲でいかなる貼り付け方であってもよい。基板材料は、重ならないように連結されるのが好ましい。実生産において縁部同士をぴったり合わせるのは困難であり、基板材料の間隔をあけて連結するのがよい。間隔はテープの長さ、幅、貼り方、材料との密着性、工程等により異なるので一概には規定できないが、10mm以下がよい。好ましくは5mm以下がよい。基板接続用テープで基板材料を連結する方法は、材料を確実に接続できればいずれの方法、装置を用いてもよいが、例えば、特開2002−223057号公報に記載されている技術を使用することができる。
本発明において、基板接続用テープのエッチング液に溶解する層は、エッチング部の途中ですべて除去され、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層は、レジスト除去部の途中ですべて除去されることにより、基板接続用テープを構成する物質はレジスト除去工程で完全になくなり、基板材料は分離される。したがってレジスト除去工程より前の工程では、単純な搬送機構を使用することができ、除去工程のみの搬送性を向上させれば、たわみやすい材料を安定して搬送し、基板を製造することができる。
本発明において、基板材料の縁部に基板接続用テープを貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射する。紫外光源としては、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層を感光せしめるものであれば特に制限はなく、当業者で知られるあらゆるものを用いることができる。
本発明の好ましい態様としては、基板接続用テープのレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層が、基板接続用テープを構成する他の層よりも横方向に10μm以上広がっているのがよい。レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層は、基板接続用テープの両端でほぼ同様に他の層よりも横方向に広がるが、本発明においては、片側で広がった長さを規定している。図9に、基板接続用テープ1のレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層が、基板接続用テープ1を構成する他の層よりも10μm以上広がっている状態の断面構造を示す。図9の状態は様々な方法で実現できるが、基板接続用テープを加熱しながら加圧して貼り付けるのが、最も容易で再現性が高い。基板接続用テープのレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層の他の層と比べた広がりの度合いは、ルーペや光学顕微鏡で観察することにより、容易に計測できる。基板接続用テープのレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層を着色すると、観察しやすく、管理しやすい。この広がりの度合いは、全域にわたって均一ではないので、10箇所以上で測定した値の平均値とするのが好ましい。基板接続用テープの構成や成分、基板の材質等により異なるので、貼り付け条件は一概に特定できないが、温度が40〜140℃で、0.1〜0.6MPaに加圧するのがよい。
18μm銅箔((株)日鉱マテリアルズ製)に、保護フィルムを剥離したドライフィルムレジスト(旭化成エレクトロニクス(株)製AQ−5038)を貼り付け、紫外光を照射してレジストフィルムを硬化させ、マイラーフィルムを剥離した。次に、再び保護フィルムを剥離したドライフィルムレジスト(旭化成エレクトロニクス(株)製AQ−5038)を、上記の硬化したレジストフィルム面に貼り付けた。これを幅15mm×長さ50mに裁断して、基板接続用テープAを作製した。
一方、2枚のフレキシブル基板材料(50mm×100mm、片面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)の長辺(100mm辺)の間隔が約1mmとなるように、長さ80mmの基板接続用テープAをマイラーフィルムを剥離してから、図6に示すように、フレキシブル基板材料の縁部に、110℃に加熱した熱ロールで0.3MPaで加圧して貼り付けて、フレキシブル基板材料を連結し、基板接続用テープAを貼り付けた部分に、オーク製作所製5kW超高圧水銀灯HMW−201KBを用いて、両面に90mJ/cm2となるように露光し、連結基板A1を得た。基板接続用テープAは、図5のように片面だけに貼り付けた。なお、露光する前に500倍の光学顕微鏡で基板接続用テープAのエッジ部を真上から観察したところ、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層はその他の層より片側で40μm広がっていた。
連結基板A1を25℃の奥野製薬工業株式会社製スルーホール用無電解めっき液OPC−750無電解銅Mに激しく揺動しながら60分間浸漬したところ、基板接続用テープAにはがれは見られなかった。
また、25℃の下記の組成の硫酸銅電解めっき液に激しく揺動しながら30分間浸漬したところ、基板接続用テープAにはがれは見られなかった。
硫酸銅電解めっき液
CuSO4・5H2O 70g/L
H2SO4 200g/L
NaCl 80mg/L
奥野製薬工業株式会社製トップルチナ81−HL 2.5mL/L
奥野製薬工業株式会社製トップルチナメークアップ 10mL/L
残部は水
硫酸銅電解めっき液
CuSO4・5H2O 70g/L
H2SO4 200g/L
NaCl 80mg/L
奥野製薬工業株式会社製トップルチナ81−HL 2.5mL/L
奥野製薬工業株式会社製トップルチナメークアップ 10mL/L
残部は水
(比較例1)
超高圧水銀灯で露光しなかった以外は連結基板A1と同じ操作により、連結基板A2を得た。実施例1と同じく25℃の奥野製薬工業株式会社製スルーホール用無電解めっき液OPC−750無電解銅Mに60分間激しく揺動しながら浸漬したところ、基板接続用テープAのコーナー部とエッジ部にはがれが見られた。また実施例1の硫酸銅電解めっき液に30分間激しく揺動しながら浸漬したところ、基板接続用テープAのエッジ部にはがれが見られた。
超高圧水銀灯で露光しなかった以外は連結基板A1と同じ操作により、連結基板A2を得た。実施例1と同じく25℃の奥野製薬工業株式会社製スルーホール用無電解めっき液OPC−750無電解銅Mに60分間激しく揺動しながら浸漬したところ、基板接続用テープAのコーナー部とエッジ部にはがれが見られた。また実施例1の硫酸銅電解めっき液に30分間激しく揺動しながら浸漬したところ、基板接続用テープAのエッジ部にはがれが見られた。
18μm銅箔((株)日鉱マテリアルズ製)に、保護フィルムを剥離したドライフィルムレジスト(旭化成エレクトロニクス(株)製AQ−5038)を貼り付け、これを幅15mm×長さ50mに裁断して、基板接続用テープBを作製した。
一方、2枚のフレキシブル基板材料(50mm×100mm、片面銅箔厚12μm、ポリイミド基材厚み25μm)の長辺(100mm辺)の間隔が約1mmとなるように、長さ80mmの基板接続用テープBをマイラーフィルムを剥離してから、図6に示すように、フレキシブル基板材料の縁部に、熱ロールで加圧して貼り付ける際の熱ロールの温度を4水準変化させて、フレキシブル基板材料を連結し、それぞれの基板接続用テープBを貼り付けた部分に、オーク製作所製5kW超高圧水銀灯HMW−201KBを用いて、両面に90mJ/cm2となるように露光し、連結基板B1〜4を得た。露光する前に500倍の光学顕微鏡で基板接続用テープBのエッジ部を真上から観察したところ、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層はその他の層より片側で、連結基板B1は5μm、B2は10μm、B3は20μm、B4は40μm広がっていた。なお基板接続用テープBは、図5のように片面だけに貼り付けた。
連結基板B1〜4を25℃の奥野製薬工業株式会社製スルーホール用無電解めっき液OPC−750無電解銅Mに60分間激しく揺動しながら浸漬したところ、連結基板B1では基板接続用テープBのエッジ部がはがれてめくれあがったが、2枚の基板材料が分離することはなかった。連結基板B2〜4では基板接続用テープBがはがれた箇所はなかった。実用的な条件に比べると非常に過酷な条件であるが、本発明によれば基板が分離することはなかった。
(比較例2)
超高圧水銀灯で露光しなかった以外は連結基板B1〜4と同じ操作により、連結基板B5〜8を得た。実施例2と同じく25℃の奥野製薬工業株式会社製スルーホール用無電解めっき液OPC−750無電解銅Mに60分間激しく揺動しながら浸漬したところ、連結基板B5〜8のいずれにおいても基板接続用テープBがエッジ部で大きくはがれてめくれあがっており、引っ張ると2枚の基板材料は分離した。
超高圧水銀灯で露光しなかった以外は連結基板B1〜4と同じ操作により、連結基板B5〜8を得た。実施例2と同じく25℃の奥野製薬工業株式会社製スルーホール用無電解めっき液OPC−750無電解銅Mに60分間激しく揺動しながら浸漬したところ、連結基板B5〜8のいずれにおいても基板接続用テープBがエッジ部で大きくはがれてめくれあがっており、引っ張ると2枚の基板材料は分離した。
1 基板接続用テープ1
2 基板接続用テープ2
3 基板接続用テープ3
4 シート状基板材料
5 エッチング液に溶解する層
6 レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層
7 レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層
2 基板接続用テープ2
3 基板接続用テープ3
4 シート状基板材料
5 エッチング液に溶解する層
6 レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層
7 レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層
Claims (5)
- 少なくともエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープで、基板材料の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープを貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法。
- 少なくともレジスト除去液に溶解し且つ耐エッチング性を有する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープで、基板材料の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープを貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法。
- 少なくともエッチング液に溶解する層と、レジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層とが積層されてなる基板接続用テープで、基板材料の搬送方向の縁部同士を互いに連結して搬送する基板製造方法において、該基板接続用テープを貼り付け後、テープ貼り付け部のテープ貼り付け面、および/または裏面に紫外光を照射することを特徴とする基板製造方法。
- 貼り付け後、基板接続用テープのレジスト除去液に溶解し且つ粘着性を有し且つ紫外光に感光性を有する層が、基板接続用テープを構成する他の層よりも横方向に10μm以上広がっていることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基板製造方法。
- レジスト除去工程で基板接続用テープを溶解除去して基板材料を分離することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板製造方法。
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-
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WO2016100218A1 (en) * | 2014-12-15 | 2016-06-23 | Robert Bosch Gmbh | Modular deformable platform |
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