JP2006265575A - 深底蒸着ボート - Google Patents
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Abstract
昇華性材料、有機材料向けの抵抗加熱式金属性昇華性材料用蒸着ボートにおいて、蒸着材料の注ぎ足しや蒸着ボートの交換頻度を減らし多層成膜における連続蒸着作業の効率を上げるために、容器部の容量を増やした深底容器部を含む底板を溶接法を使わずプレス成型加工法により低コストで製造し、提供することを目的としたものである。
【解決手段】
容器部の深さが容器部の幅の1倍から4倍である深底容器とした本発明の大容量の蒸着ボートを使用することにより、蒸着材料を従来の蒸着ボートより多量に仕込むことができ、蒸着材料の注ぎ足しや蒸着ボートの交換頻度を減らし多層成膜における連続蒸着作業の効率を上げることができた。また、深底容器部は超塑性金属やランクフォード値の大きい材料を用いることにより溶接法を使わずプレス成型法で製造でき、低コストで手に入れることができた。
【選択図】図1
Description
Fe65質量%、Cr25質量%、Ni7質量%、Mo3質量%からなる1μm以下のフェライト相とオーステナイト相が混合した0.5mm厚の2相ステンレス板を1000℃において金型を使って深絞りプレス成型加工を行なった。プレス加工後、切断、ガイド部曲げ加工、電解研磨を行ない、図5の模式図の底板(2)を作製した。次に、0.1mm厚のカバー(4)および0.05mm厚の中板(3)を同じ材質でプレス成型加工し、切断、穴あけ、電解研磨を行ない組み立て本発明の蒸着ボートを作製した。
Ni38.3重量%、Fe26.2重量%、Cr34.9重量%、Ti0.58重量%からなる超塑性Ni合金の0.5mm厚の板を850℃において金型を使って深絞りプレス成型加工を行なった。プレス加工後、切断、ガイド部曲げ加工、電解研磨を行ない図5の模式図の底板(2)を作製した。次に、0.1mm厚のカバー(4)および0.05mm厚の中板(3)を同じ材質で室温プレス成型加工、切断、穴あけ、電解研磨を行ない組み立て本発明の蒸着ボートを作製した。
蒸着ボート作製例1の2相ステンレス板に代えて川崎製鉄製のクロム系(フェライト系)ステンレスRSX−1を圧延したr値2.6を有する厚さ0.2mmのステンレス板を用いて深絞りプレス成型加工を行なった。プレス成型加工後、切断、ガイド部曲げ加工、電解研磨を行ない、図5の模式図の底板(2)を作製した。次に、0.1mm厚のカバー(4)および0.05mm厚の中板(3)を同じ材質でプレス成型加工し切断、穴あけ、電解研磨により後本発明の蒸着ボートを作製した。
蒸着ボート作製例1の2相ステンレス板に代えて、純度99.9%以上の粉末冶金法で製造した厚さ0.2mmの超高純度のニッケル270の薄板深絞りプレス成型加工を行なった。プレス成型加工後、切断、ガイド部曲げ加工、電解研磨を行ない、図1の模式図の底板(2)を作製した。0.1mm厚のカバー(4)および0.05mm厚の中板(3)を同じ材質でプレス成型加工し切断、ガイド部曲げ加工、穴あけ、電解研磨後本発明の蒸着ボートを作製した。
2・・・・底板
3・・・・中板
4・・・・カバー
5・・・・蒸着材料
6・・・・電極板部
7・・・・電極ジグ
8・・・・ガイド部
Claims (6)
- 蒸着材料を入れる容器部を有する底板と、穴の開いた中板及び穴の開いたカバーの少なくとも一方からなる抵抗加熱式昇華性材料用金属製蒸着ボートにおいて、容器部の深さをH2、容器部幅をD2としたときにH2/D2が1以上4以下であることを特徴とする低温加熱用蒸着ボート。
- 前記容器部を有する底板が、超塑性特性をもつ2相ステンレス板またはNi合金板を加熱プレス成型加工することにより一体製造されたことを特徴とする請求項1記載の蒸着ボート。
- 前記容器部を有する底板が、ランクフォード値2以上のステンレス板をプレス成型加工することにより一体製造されたことを特徴とする請求項1記載の蒸着ボート。
- 前記容器部を有する底板が、ランクフォード値2.5以上かつ炭素濃度0.01質量%以下のCr系ステンレス板をプレス成型加工することにより一体製造されたことを特徴とする請求項1記載の蒸着ボート。
- 前記容器部を有する底板が、純度99.9%以上のNi板をプレス成型加工することにより一体製造されたことを特徴とする請求項1記載の蒸着ボート。
- 底板、中板、カバーのうち1枚以上の電極板部の幅の少なくとも一部を容器部幅D2よりも狭くしたことを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の蒸着ボート。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020054974A1 (ko) * | 2018-09-12 | 2020-03-19 | 주식회사 엘지화학 | 승화 정제 장치 및 승화 정제 방법 |
US11426678B2 (en) | 2018-09-12 | 2022-08-30 | Lg Chem, Ltd. | Sublimation purification apparatus and sublimation purification method |
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2005
- 2005-03-22 JP JP2005081156A patent/JP4655709B2/ja not_active Expired - Fee Related
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