JP2006265533A - Method for manufacturing electric equipment - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an electric device being excellent in the protection of the electric parts and can be improved in a yield, because the conventional method has problems wherein a resin tray which is used for conveying the electric parts has a contamination of electric parts, troubles due to electrostatic discharge or drop of yield caused by the impermeablity of the tray in a process for manufacturing the electric equipment. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the electric equipment comprising a process for conveying the electric equipment comprises using a conveying means prepared by molding an antistatic resin composition containing a thermoplastic resin (A) and an antistatic agent (B) having a hydrophilic chain and having a refractive index having a difference between itself and that of the thermoplastic resin (A) of ≤0.02. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、帯電防止性樹脂組成物を成形してなる搬送体を使用して、電気部品を搬送することを特徴とする電気機器の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an electrical device, wherein an electrical component is transported using a transport body formed by molding an antistatic resin composition.

従来、電気機器の製造工程において、電気部品は樹脂トレーに入れて搬送されている。その際、静電気放電による電気的な障害によって電気部品(液晶表示素子、デバイス等)が損傷を受けないように、該樹脂トレーは帯電防止性を有していることが要求され、表面に帯電防止剤を塗布したり、カーボン、界面活性剤または高分子型帯電防止剤を練り込み帯電防止性を付与しているものが一般に用いられている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, in the manufacturing process of electrical equipment, electrical components are carried in resin trays. At that time, the resin tray is required to have antistatic properties so that electric parts (liquid crystal display elements, devices, etc.) are not damaged by an electrical failure caused by electrostatic discharge, and the surface is prevented from being charged. In general, an agent is applied or an antistatic property is imparted by kneading carbon, a surfactant or a polymer type antistatic agent (see, for example, Patent Document 1).

特開平11−106665号公報JP-A-11-106665

しかしながら、上記方法ではトレーと部品との接触による帯電防止成分のはがれや粉落ちによる、部品の汚染や静電気放電の発生によって起こる電気部品の破壊、またトレーが不透明であるために中身がわかりづらいことから起こる歩留まりの低下をもたらすという問題がある。
本発明は、帯電防止性の劣化のない、半透明の搬送体を使用することにより、歩留まりの向上、部品の保護に優れる電気機器の製造方法を提供することを目的とするものである。ここにおいて、該搬送体には、本発明における帯電防止性樹脂組成物を成形してなる、搬送用容器、搬送用フィルムおよび搬送用シートが含まれ、以下同様とする。また、以下においては搬送体を成形品という場合がある。
However, in the above method, it is difficult to understand the contents because the antistatic component is peeled off due to contact between the tray and the component, the electrical component is destroyed due to the contamination of the component and the occurrence of electrostatic discharge, and the tray is opaque. There is a problem in that it results in a decrease in yield that occurs from.
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electrical device that is excellent in yield improvement and component protection by using a translucent carrier having no deterioration in antistatic properties. Here, the transport body includes a transport container, a transport film, and a transport sheet formed by molding the antistatic resin composition according to the present invention, and so on. Moreover, in the following, a conveyance body may be called a molded article.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果本発明に到達した。すなわち、本発明は、電気部品を搬送する工程を有する電気機器の製造方法において、親水性鎖を有し、熱可塑性樹脂(A)との屈折率差が0.02以下である帯電防止剤(B)を(A)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物を成形してなる搬送体を使用して、電気部品を搬送することを特徴とする電気機器の製造方法である。   The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the present invention relates to an antistatic agent having a hydrophilic chain and having a refractive index difference of 0.02 or less from a thermoplastic resin (A) in a method for producing an electric device having a step of conveying an electric component. A method of manufacturing an electrical device, wherein an electrical component is transported using a transport body formed by molding an antistatic resin composition containing B) in (A).

本発明の電気機器の製造方法は、下記の効果を奏することから極めて有用である。
(1)帯電防止性に優れ、電気部品への汚染性の少ない搬送体を使用するため、電気的な障害からの電気部品の保護に優れる。
(2)搬送体が透明性に優れることから歩留まりを低下させることがなく、電気機器の生産性に優れる。
The method for manufacturing an electrical device according to the present invention is extremely useful because of the following effects.
(1) Since a carrier having excellent antistatic properties and less contamination to electrical components is used, it is excellent in protecting electrical components from electrical failures.
(2) Since the conveyance body is excellent in transparency, the yield is not lowered, and the productivity of the electric device is excellent.

本発明における熱可塑性樹脂(A)としては、例えばビニル樹脂(A1)[例えばポリオレフィン樹脂(A11)、ポリアクリル樹脂(A12)およびポリスチレン樹脂(A13)]、ポリエステル樹脂(A2)、ポリアミド樹脂(A3)、ポリカーボネート樹脂(A4)、ポリアセタール樹脂(A5)、変性ポリフェニレンエーテル樹脂(A6)、生分解性樹脂(A7)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。   As the thermoplastic resin (A) in the present invention, for example, vinyl resin (A1) [for example, polyolefin resin (A11), polyacrylic resin (A12) and polystyrene resin (A13)], polyester resin (A2), polyamide resin (A3) ), Polycarbonate resin (A4), polyacetal resin (A5), modified polyphenylene ether resin (A6), biodegradable resin (A7), and mixtures of two or more thereof.

これらのうち後述の帯電防止剤(B)の(A)への分散のしやすさの観点から好ましいのは、(A1)および(A3)、さらに好ましいのは(A11)および(A13)である。   Of these, (A1) and (A3) are preferable from the viewpoint of ease of dispersion of the antistatic agent (B) described later in (A), and (A11) and (A13) are more preferable. .

ビニル樹脂(A1)は、エチレン性不飽和モノマーの1種または2種以上を重合(単独重合または共重合)したものであり、エチレン性不飽和モノマーには、下記(a1)〜(a7)が含まれる。   The vinyl resin (A1) is obtained by polymerization (homopolymerization or copolymerization) of one or more ethylenically unsaturated monomers. The ethylenically unsaturated monomers include the following (a1) to (a7). included.

(a1)不飽和炭化水素(以下、HCと略記)
(a11)脂肪族HC[炭素数(以下、Cと略記)2〜18またはそれ以上]
アルケン、例えばエチレン、プロピレン、(イソ)ブテン、ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、ヘプテン、ジイソブチレン、オクテン、ドデセン、オクタデセンおよびその他のα−オレフィン;ジエン、例えばブタジエン、イソプレン、1,4−ペンタジエン、1,6−ヘキサジエン、1,7−オクタジエンおよび1,11−ドデカジエン
(a12)脂環式HC(C4〜18またはそれ以上)
(ジ)シクロアルケン、例えばシクロヘキセン、(ジ)シクロペンタジエン、ピネン、リモネン、インデン、ビニルシクロヘキセンおよびエチリデンビシクロヘプテン
(a13)芳香族HC(C8〜20またはそれ以上)
スチレン、その同族体、例えばα−メチルスチレン、2,4−ジメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、フェニルスチレン、シクロヘキシルスチレン、ベンジルスチレン、ビニルトルエン、クロチルベンゼン、ポリビニル芳香族HC(例えばジビニルベンゼン、ジビニルトルエン、ジビニルキシレンおよびトリビニルベンゼン)、ビニルナフタレンおよびハロゲン化スチレン(例えばクロロスチレン)。
(A1) Unsaturated hydrocarbon (hereinafter abbreviated as HC)
(A11) Aliphatic HC [carbon number (hereinafter abbreviated as C) 2-18 or more]
Alkenes such as ethylene, propylene, (iso) butene, pentene, 4-methyl-1-pentene, heptene, diisobutylene, octene, dodecene, octadecene and other α-olefins; dienes such as butadiene, isoprene, 1,4- Pentadiene, 1,6-hexadiene, 1,7-octadiene and 1,11-dodecadiene (a12) alicyclic HC (C4-18 or more)
(Di) cycloalkenes such as cyclohexene, (di) cyclopentadiene, pinene, limonene, indene, vinylcyclohexene and ethylidenebicycloheptene (a13) aromatic HC (C8-20 or more)
Styrene, its homologues such as α-methyl styrene, 2,4-dimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, phenyl styrene, cyclohexyl styrene, benzyl styrene, vinyl toluene, crotyl benzene, polyvinyl aromatic HC (for example Divinylbenzene, divinyltoluene, divinylxylene and trivinylbenzene), vinylnaphthalene and halogenated styrene (eg chlorostyrene).

(a2)アルキル(メタ)アクリレート
C1〜50のアルキル基を有するもの、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、2−エチルヘキシル、ドデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシルおよびエイコシル(メタ)アクリレート。
(a3)カルボキシル基含有ビニルモノマー
(a31)不飽和モノカルボン酸
C3〜18の脂肪族、脂環式および芳香環含有のモノカルボン酸、例えば(メタ)アクリル、(イソ)クロトン、シクロヘキセンモノカルボンおよびケイ皮酸
(a32)不飽和ジカルボン酸、およびそれらの無水物、例えば脂肪族のもの[C4〜18、例えば(無水)マレイン、フマル、(無水)イタコン、(無水)シトラコン、メサ
コンおよびアリルマロン酸]、脂環式のもの[C7〜24、例えば4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸]および芳香環含有のもの[C8〜24、例えばフェニルマレイン酸]
(a33)ジカルボン酸モノエステル
上記ジカルボン酸(a32)のモノアルキル(C1〜8またはそれ以上)エステル、例えばマレイン、フマル、イタコンおよびシトラコン酸のモノアルキルエステル
(a34)上記(a31)、(a32)および(a33)の塩、例えばアルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム)塩、アルカリ土類金属(例えばカルシウムおよびマグネシウム)塩、アンモニウム塩、アミン(C2〜24)塩および4級アンモニウム(C4〜24)塩
(A2) Alkyl (meth) acrylates having a C1-50 alkyl group, such as methyl, ethyl, propyl, butyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, hexadecyl, heptadecyl and eicosyl (meth) acrylate.
(A3) Carboxyl group-containing vinyl monomer (a31) Unsaturated monocarboxylic acid C3-18 aliphatic, alicyclic and aromatic monocarboxylic acids such as (meth) acrylic, (iso) croton, cyclohexene monocarboxylic and Cinnamic acid (a32) unsaturated dicarboxylic acids and their anhydrides, such as aliphatic [C4-18, such as (anhydrous) malein, fumar, (anhydrous) itacone, (anhydrous) citracone, mesacone and allylmalonic acid] Alicyclic [C7-24, such as 4-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid] and aromatic ring-containing [C8-24, such as phenylmaleic acid]
(A33) dicarboxylic acid monoester monoalkyl (C1-8 or more) esters of the above dicarboxylic acid (a32), for example, monoalkyl esters of malee, fumarate, itacone and citraconic acid (a34) above (a31), (a32) And salts of (a33), such as alkali metal (eg lithium, sodium and potassium) salts, alkaline earth metal (eg calcium and magnesium) salts, ammonium salts, amine (C2-24) salts and quaternary ammonium (C4-24) )salt

(a4)カルボニル、エーテルおよび/またはイオウ含有不飽和モノマー
(a41)不飽和エステル
(a411)カルボン酸(例えば脂肪族および芳香族のモノ−およびポリカルボン酸)の不飽和エステル[ビニル、イソプロペニル、(メタ)アリルおよびビニルフェニルエステル]
脂肪族不飽和エステル(C4〜15)、例えばビニルエステル(例えばアセテート、プロピオネート、ブチレート、メトキシアセテートおよびベンゾエート)、イソプロペニルエステル(例えばアセテート)および(メタ)アリルエステル(例えばジアリルアジペート);および芳香族不飽和エステル(C9〜20)、例えばジアリルフタレート、メチル−4−ビニルベンゾエートおよびアセトキシスチレン
(A4) carbonyl, ether and / or sulfur containing unsaturated monomers (a41) unsaturated esters (a411) unsaturated esters of carboxylic acids (eg aliphatic and aromatic mono- and polycarboxylic acids) [vinyl, isopropenyl, (Meth) allyl and vinyl phenyl ester]
Aliphatic unsaturated esters (C4-15) such as vinyl esters (eg acetate, propionate, butyrate, methoxyacetate and benzoate), isopropenyl esters (eg acetate) and (meth) allyl esters (eg diallyl adipate); and aromatics Unsaturated esters (C9-20) such as diallyl phthalate, methyl-4-vinylbenzoate and acetoxystyrene

(a412)不飽和カルボン酸エステル[上記(a2)以外の]
(a4121)直鎖、分岐もしくは脂環式C1〜22(シクロ)アルキル基を有する、(メタ)アクリル酸以外の不飽和モノカルボン酸[上記(a31)] の(シクロ)アルキ
ルエステル、シクロアルキル(メタ)アクリレートおよび不飽和ジカルボン酸[上記(a32)]のジ(シクロ)アルキルエステル、例えばアルキル(イソ)クロトネート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、およびジアルキルフマレートおよびマレエート
(a4122)(ポリ)オキシアルキレン(C2〜4)基(重合度1〜30)を有する不飽和カルボン酸[上記(a31)および(a32)]のエステル
例えば2価アルコール[例えばC2〜12のアルキレングリコール]のモノ−およびジ(メタ)アクリレート[例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート]、ポリエーテルジオール{ポリアルキレングリコール〔分子量106〜数平均分子量[以下、Mnと略記。特に断りのない限り測定はGPC(ゲルパーミエイションクロマトグラフィー)法による。GPC装置:HLC−8220、東ソー(株)製]1,000〕、例えばポリエチレングリコール(Mn300)およびポリプロピレングリコール(Mn500)、および芳香環含有ポリオキシアルキレンジオール、例えばビスフェノールAのエチレンオキシド(以下、EOと略記)および/またはプロピレンオキシド(以下、POと略記)付加物}のモノ−およびジ(メタ)アクリレート、前記ポリエーテルモノオール〔例えば1価アルコール、1価フェノール等の活性水素原子を1個有する開始剤にアルキレンオキシド(以下、AOと略記)(例えばC2〜12、例えばEO、PO、1,2−、2,3−および1,4−ブチレンオキシド)を付加させた構造を有するポリオキシアルキレンモノオール、例えばポリオキシアルキレンアルキル(C1〜18)エーテル[例えばメチルアルコールEO(10モル)付加物およびラウリルアルコールEO(30モル)付加物]〕の(メタ)アクリレート;およびこれらに相当する(イソ)クロトネート、フマレートおよびマレエート
(A412) Unsaturated carboxylic acid ester [other than (a2) above]
(A4121) Unsaturated monocarboxylic acid other than (meth) acrylic acid having a linear, branched or alicyclic C1-22 (cyclo) alkyl group [above (a31)] (cyclo) alkyl ester, cycloalkyl ( Di (cyclo) alkyl esters of (meth) acrylates and unsaturated dicarboxylic acids [above (a32)] such as alkyl (iso) crotonates, cyclohexyl (meth) acrylates, and dialkyl fumarate and maleate (a4122) (poly) oxyalkylene ( C2-4) Esters of unsaturated carboxylic acids having a group (degree of polymerization 1-30) [above (a31) and (a32)] eg mono- and di (meta) of dihydric alcohols [eg C2-12 alkylene glycol] ) Acrylate [eg hydroxyethyl (meth) acrylate Rate, polyether diol {polyalkylene glycol [molecular weight 106 to number average molecular weight [hereinafter, abbreviated as Mn. Unless otherwise specified, the measurement is based on GPC (gel permeation chromatography) method. GPC apparatus: HLC-8220, manufactured by Tosoh Corporation] 1,000], for example, polyethylene glycol (Mn300) and polypropylene glycol (Mn500), and aromatic ring-containing polyoxyalkylene diol, for example, ethylene oxide of bisphenol A (hereinafter referred to as EO) Abbreviation) and / or propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO) adduct} mono- and di (meth) acrylates, polyether monools [for example, having one active hydrogen atom such as monohydric alcohol, monohydric phenol, etc. Polyoxyalkylene having a structure in which an alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) (for example, C2-12, such as EO, PO, 1,2-, 2,3- and 1,4-butylene oxide) is added to an initiator Monools such as polyoxyalkylene alkyls (C1-18) ethers [such as methyl alcohol EO (10 moles) adduct and lauryl alcohol EO (30 moles) adduct] of] (meth) acrylate; and equivalent thereto (iso) crotonate, fumarate and maleate

(a42)不飽和エーテル
(a421)脂肪族アルケニルおよびアルカジエニルエーテル(C3〜20)
例えばビニルエーテル(以下、VEと略記)、例えばアルキル(C1〜10)VE(例えばメチル、エチル、プロピル、ブチルおよび2−エチルヘキシルVE);(ポリ)オキシアルキレン(C2〜4)基(重合度1〜30)を有するアルケニルエーテル(VE等)、例えば(ポリ)アルコキシ(C1〜6)アルキル(C1〜4)VE(例えば2−メトキシエチルVE、2−ブトキシエチルVE、2−ブトキシ−2’−ビニロキシジエチルエーテルおよび2−エチルメルカプトエチルVE);メトキシブタジエン;および(メタ)アリルエーテル、例えばポリ(2〜4)(メタ)アリロキシアルカン(C2〜6)[例えばジ−、トリ−およびテトラ(メタ)アリロキシエタン、テトラ(メタ)アリロキシプロパンおよびテトラ(メタ)アリロキシブタン]
(a422)芳香族不飽和エーテル(C8〜20)
フェニルVEおよびフェノキシスチレン
(a423)複素環式不飽和エーテル、例えば3,4−ジヒドロ−1,2−ピラン
(A42) unsaturated ether (a421) aliphatic alkenyl and alkadienyl ether (C3-20)
For example, vinyl ether (hereinafter abbreviated as VE), for example, alkyl (C1-10) VE (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl and 2-ethylhexyl VE); (poly) oxyalkylene (C2-4) group (degree of polymerization of 1 30), such as (poly) alkoxy (C1-6) alkyl (C1-4) VE (eg 2-methoxyethyl VE, 2-butoxyethyl VE, 2-butoxy-2′-vinyl) Methoxybutadiene; and (meth) allyl ethers such as poly (2-4) (meth) allyloxyalkanes (C2-6) [eg di-, tri- and tetra ( (Meth) allyloxyethane, tetra (meth) allyloxypropane and tetra (meth) allyloxy Shibutan]
(A422) Aromatic unsaturated ether (C8-20)
Phenyl VE and phenoxystyrene (a423) heterocyclic unsaturated ethers such as 3,4-dihydro-1,2-pyran

(a43)ビニルケトン
例えば脂肪族ビニルケトン(C4〜25)および芳香族ビニルケトン(C9〜21)、例えばメチルビニル、エチルビニル、ジビニルおよびフェニルビニルケトン(a44)サルファイド結合含有モノマー(C4〜20)
(a42)に相当するサルファイド、例えばジビニルサルファイド、p−ビニルジフェニルサルファイドおよびビニルエチルサルファイド
(A43) Vinyl ketones, such as aliphatic vinyl ketones (C4-25) and aromatic vinyl ketones (C9-21), such as methyl vinyl, ethyl vinyl, divinyl and phenyl vinyl ketones (a44) monomers containing sulfide bonds (C4-20)
Sulfides corresponding to (a42), such as divinyl sulfide, p-vinyl diphenyl sulfide and vinyl ethyl sulfide

(a45)スルホン基含有モノマー(C4〜25)
(a451)不飽和スルホンおよびスルホキサイド
ビニルエチルスルホン、ジビニルスルホンおよびジビニルスルホキサイド
(a452)不飽和スルホン酸
例えばアルケンスルホン酸[例えばビニルスルホン酸および(メタ)アリルスルホン酸]、不飽和芳香族スルホン酸(例えばスチレンスルホン酸およびα−メチルスチレンスルホン酸)、スルホカルボン酸(例えばα−スルホアルカン酸およびスルホコハク酸)のアルケニルおよびアルキル(C1〜18)アルケニルエステル[例えばメチルビニル、プロピル(メタ)アリルおよびステアリル(メタ)アリルスルホサクシネート、および(メタ)アリルスルホラウレート]、スルホ(ヒドロキシ)アルキル(メタ)アクリレートおよび相当する(メタ)アクリルアミド[例えばスルホエチルおよびスルホプロピル(メタ)アクリレート、3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸および3−(メタ)アクリルアミド−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸]
(A45) Sulfone group-containing monomer (C4-25)
(A451) Unsaturated sulfone and sulfoxide Vinylethyl sulfone, divinyl sulfone and divinyl sulfoxide (a452) Unsaturated sulfonic acid such as alkene sulfonic acid [eg vinyl sulfonic acid and (meth) allyl sulfonic acid], unsaturated aromatic sulfonic acid Alkenyl and alkyl (C1-18) alkenyl esters of sulfocarboxylic acids (eg α-sulfoalkanoic acids and sulfosuccinic acids) [eg methyl vinyl, propyl (meth) allyl and Stearyl (meth) allylsulfosuccinate, and (meth) allylsulfolaurate], sulfo (hydroxy) alkyl (meth) acrylates and corresponding (meth) acrylamides [e.g. sulfoe And sulfopropyl (meth) acrylate, 3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropanesulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid and 3- (meth) acrylamide-2-hydroxypropanesulfone acid]

(a5)リン含有不飽和モノマー(C5〜30)
(a51)リン酸基含有不飽和モノマー、例えば(メタ)アクリロイロキシアルキル(C1〜24)モノ−およびジホスフェート、例えば2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフェートおよびフェニル−2−(メタ)アクリロイロキシエチルホスフェート
(a52)ホスホン酸基含有不飽和モノマー、例えば(メタ)アクリロイロキシアルカン(C1〜24)ホスホン酸、例えば2−アクリロイルオキシエチルホスホン酸
(a53)上記(a51)および(a52)の塩[前記(a34)におけると同様の塩]
(A5) Phosphorus-containing unsaturated monomer (C5-30)
(A51) phosphate group-containing unsaturated monomers such as (meth) acryloyloxyalkyl (C1-24) mono- and diphosphates such as 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate and phenyl-2- (meth) acryl Leuoxyethyl phosphate (a52) phosphonic acid group-containing unsaturated monomers such as (meth) acryloyloxyalkanes (C1-24) phosphonic acids such as 2-acryloyloxyethylphosphonic acid (a53) above (a51) and (a52) [Salts similar to those in (a34) above]

(a6)窒素含有モノマー
(a61)アミド基含有モノマー
例えば(メタ)アクリルアミドモノマー(C3〜20)、例えば(メタ)アクリルアミド[但し、後述の(a7)を除く];N−アルキル(C1〜6)(メタ)アクリルアミド、例えばN−メチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、N,N’−メチレン−ビス(メタ)アクリルアミド;N,N−ジアルキル(C1〜6)もしくはジアラルキル(C7〜15)(メタ)アクリルアミド、例えばN,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジベンジルアクリルアミド;上記(メタ)アクリルアミドモノマーを除くアミド基含有ビニルモノマー(C4〜20)、例えばメタアクリルホルムアミド、N−メチル−N−ビニルアセトアミド、桂皮酸アミド、環状アミド(N−ビニルピロリドンなど)、4級アンモニウム基含有ビニルモノマー[例えばジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリルアミドなどの3級アミノ基含有ビニルモノマーの4級化物(メチルクロライド、ジメチル硫酸、ベンジルクロライド、ジメチルカーボネートなどの4級化剤を用いて4級化したもの)]
(A6) Nitrogen-containing monomer (a61) Amide group-containing monomer For example, (meth) acrylamide monomer (C3-20), such as (meth) acrylamide [except for (a7) described later]; N-alkyl (C1-6) (Meth) acrylamide, such as N-methyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, diacetone acrylamide, N, N′-methylene-bis (meth) acrylamide; N, N-dialkyl (C1-6) or Diaralkyl (C7-15) (meth) acrylamide, such as N, N-dimethylacrylamide, N, N-dibenzylacrylamide; Amide group-containing vinyl monomer (C4-20) excluding the above (meth) acrylamide monomer, such as methacrylformamide N-methyl-N-vinylacetoa Cinnamates, cyclic amides (N-vinylpyrrolidone, etc.), quaternary ammonium group-containing vinyl monomers [for example, tertiary amino group-containing vinyl monomers such as dimethylaminoethyl (meth) acrylamide, diethylaminoethyl (meth) acrylamide 4 Graded product (quaternized with a quaternizing agent such as methyl chloride, dimethyl sulfate, benzyl chloride, dimethyl carbonate)]

(a62)(メタ)アクリレートモノマー(C5〜20)
例えば1級、2級アミノ基含有(メタ)アクリレート、例えばアミノアルキル(C1〜6)(メタ)アクリレート[例えばアミノエチル(メタ)アクリレート]、アルキル(C1〜6)アミノアルキル(C1〜6)(メタ)アクリレート[例えばt−ブチルアミノエチルメタアクリレート];3級アミノ基含有(メタ)アクリレート、例えばジアルキル(C1〜4)アミノアルキル(C1〜4)(メタ)アクリレート[例えばジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジ−t−ブチルアミノエチルメタアクリレートおよびモルホリノエチル(メタ)アクリレート];4級アンモニウム基含有(メタ)アクリレート、例えばジメチルアミノエチル(メタ)アクリ
レート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどの3級アミノ基含有(メタ)アクリレートの4級化物(前掲の4級化剤を用いて4級化したもの)
(A62) (Meth) acrylate monomer (C5-20)
For example, primary and secondary amino group-containing (meth) acrylates such as aminoalkyl (C1-6) (meth) acrylate [eg aminoethyl (meth) acrylate], alkyl (C1-6) aminoalkyl (C1-6) ( (Meth) acrylate [eg t-butylaminoethyl methacrylate]; tertiary amino group-containing (meth) acrylate, eg dialkyl (C1-4) aminoalkyl (C1-4) (meth) acrylate [eg dimethylaminoethyl (meth) Acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, di-t-butylaminoethyl methacrylate and morpholinoethyl (meth) acrylate]; quaternary ammonium group-containing (meth) acrylate such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl Tertiary amino group-containing, such as meth) acrylate (meth) quaternized product of acrylate (those quaternized with supra quaternizing agent)

(a63)複素環含有モノマー
例えばピリジン化合物(C7〜14)、例えば4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン;イミダゾール化合物(C5〜12)、例えばN−ビニルイミダゾール);ピロール化合物(C6〜13)、例えばN−ビニルピロール
(a64)ニトリル基含有モノマー(C3〜15)
例えば(メタ)アクリロニトリル、シアノスチレンおよびシアノアルキル(C1〜4)アクリレート
(a65)その他の窒素含有モノマー
ニトロ基含有モノマー(C8〜16)、例えばニトロスチレン
(A63) Heterocycle-containing monomer such as pyridine compound (C7-14) such as 4-vinylpyridine, 2-vinylpyridine; imidazole compound (C5-12) such as N-vinylimidazole; pyrrole compound (C6-13), For example, N-vinylpyrrole (a64) nitrile group-containing monomer (C3-15)
For example (meth) acrylonitrile, cyanostyrene and cyanoalkyl (C1-4) acrylate (a65) and other nitrogen-containing monomers Nitro group-containing monomers (C8-16) such as nitrostyrene

(a7)水酸基含有モノマー
(a71)スチレン系モノマー(C8〜15)、例えばヒドロキシスチレン
(a72)(メタ)アクリルアミド系モノマー(C4〜10)、例えばN−メチロール(メタ)アクリルアミド
(a73)不飽和カルボン酸エステル(C5〜12)
ヒドロキシアルキル(C1〜6)(メタ)アクリレート[例えばヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート];ポリ(n=2〜30)オキシアルキレン(C2〜4)鎖を有する水酸基含有モノマー〔例えばポリオキシアルキレンモノ(メタ)アクリレート[例えばポリ(n=10)オキシエチレンモノ(メタ)アクリレート]〕;ポリ(n=2〜30)オキシアルキレン(C2〜4)不飽和カルボン酸(ジ)エステル[例えばポリ(n=10)オキシエチレンマレイン酸(ジ)エステル];ポリ(n=2〜30)オキシアルキレン(C2〜4)(メタ)アリルエーテル、例えばポリ(n=10)オキシエチレン(メタ)アリルエーテル
(A7) Hydroxyl group-containing monomer (a71) Styrene monomer (C8-15), such as hydroxystyrene (a72) (meth) acrylamide monomer (C4-10), such as N-methylol (meth) acrylamide (a73) unsaturated carboxylic acid Acid ester (C5-12)
Hydroxyalkyl (C1-6) (meth) acrylate [for example, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate]; hydroxyl-containing monomer having a poly (n = 2-30) oxyalkylene (C2-4) chain [ For example, polyoxyalkylene mono (meth) acrylate [for example, poly (n = 10) oxyethylene mono (meth) acrylate]]; poly (n = 2-30) oxyalkylene (C2-4) unsaturated carboxylic acid (di) ester [Eg poly (n = 10) oxyethylenemaleic acid (di) ester]; poly (n = 2-30) oxyalkylene (C2-4) (meth) allyl ether, eg poly (n = 10) oxyethylene (meta) ) Allyl ether

(a74)アルコール(C3〜8)
例えば(メタ)アリルアルコール、クロチルアルコール、イソクロチルアルコール、1−ブテン−3−オールおよび2−ブテン−1,4−ジオール
(a75)水酸基含有エーテル(C5〜20)
例えばヒドロキシアルキル(C1〜6)アルケニル(C3〜6)エーテル、例えば2−ヒドロキシエチルプロペニルエーテル、多価アルコール(2価〜8価またはそれ以上でC2〜20、例えばエチレングリコール、グリセリン、グルコースおよび蔗糖)の前記のもの)のアリルエーテル(例えば蔗糖アリルエーテル)。
(A74) Alcohol (C3-8)
For example, (meth) allyl alcohol, crotyl alcohol, isocrotyl alcohol, 1-buten-3-ol and 2-butene-1,4-diol (a75) hydroxyl group-containing ether (C5-20)
For example, hydroxyalkyl (C1-6) alkenyl (C3-6) ethers, such as 2-hydroxyethylpropenyl ether, polyhydric alcohols (divalent to octavalent or higher, C2-20, such as ethylene glycol, glycerin, glucose and sucrose ) Of allyl ethers such as sucrose allyl ether.

ポリオレフィン樹脂(A11)には、上記エチレン性不飽和モノマーのうち(a11)のモノマーの(共)重合体、例えばポリエチレン(PE樹脂)、ポリプロピレン[(透明)PP樹脂]、エチレン−プロピレン共重合体[共重合比(重量比)=99.9/0.1〜0.1/99.9]、エチレンおよび/またはプロピレンと他のα−オレフィン[C4〜12]の1種以上との共重合体[共重合比(重量比)=99/1〜5/95、ランダムおよび/またはブロック付加]や、(a11)と(a411)のモノマーの共重合体、例えばエチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]、(a11)と(a2)のモノマーの共重合体、例えばエチレン/エチルアクリレート共重合体(EEA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]、およびこれらの混合物が含まれる。
これらのうち後述する樹脂組成物(以下、単に樹脂組成物という)の成形性の観点から好ましいのは(a11)のモノマーの(共)重合体、さらに好ましいのはポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体およびエチレンおよび/またはプロピレンとC4〜12のα−オレフィンの1種以上との共重合体[共重合比(重量比)=90/
10〜10/90、ランダムおよび/またはブロック付加]である。
The polyolefin resin (A11) includes (co) polymers of the monomer (a11) among the ethylenically unsaturated monomers, such as polyethylene (PE resin), polypropylene [(transparent) PP resin], ethylene-propylene copolymer. [Copolymerization ratio (weight ratio) = 99.9 / 0.1 to 0.1 / 99.9], copolymerization of ethylene and / or propylene with one or more other α-olefins [C4-12] Copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 99/1 to 5/95, random and / or block addition], copolymer of monomers of (a11) and (a411), for example, ethylene / vinyl acetate copolymer ( EVA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], copolymer of monomers of (a11) and (a2), for example, ethylene / ethyl acrylate copolymer (EEA) [copolymerization The ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], and mixtures thereof.
Among these, from the viewpoint of moldability of a resin composition described later (hereinafter simply referred to as a resin composition), a (co) polymer of the monomer (a11) is preferable, and polyethylene, polypropylene, and ethylene-propylene copolymer are more preferable. Polymer and copolymer of ethylene and / or propylene and one or more of C4-12 α-olefin [copolymerization ratio (weight ratio) = 90 /
10 to 10/90, random and / or block addition].

(A11)のメルトフローレート(以下、MFRと略記)は、後述の成形品の樹脂物性および帯電防止性付与の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。(A11)のMFRは、JIS
K7210(1976年)に準じて(ポリプロピレンの場合は、230℃、荷重2.16kgf、またポリエチレンの場合は、190℃、荷重2.16kgf)測定される。
The melt flow rate (hereinafter abbreviated as MFR) of (A11) is preferably from 0.5 to 150, more preferably from 1 to 100, from the viewpoint of imparting resin physical properties and antistatic properties to the molded product described later. MFR of (A11) is JIS
It is measured according to K7210 (1976) (230 ° C. and load 2.16 kgf for polypropylene, 190 ° C. and load 2.16 kgf for polyethylene).

ポリアクリル樹脂(A12)には、アクリルモノマー[例えば上記モノマー(a2)および(メタ)アクリロニトリル]の1種以上の(共)重合体[例えばポリメタアクリル酸メチル(PMMA樹脂)、ポリアクリル酸メチル(PMAA樹脂)およびポリ(メタ)アクリル酸ブチル]およびこれらのモノマーの1種以上と共重合可能な、上記モノマー(a11)のうちのオレフィンと(a13)を除くその他のビニルモノマーの1種以上との共重合体[アクリルモノマー/他のビニルモノマー共重合比(重量比)は、樹脂組成物の成形性および成形品の樹脂物性の観点から好ましくは5/95〜95/5、さらに好ましくは50/50〜90/10]が含まれる。   The polyacrylic resin (A12) includes one or more (co) polymers of acrylic monomers [for example, the above monomers (a2) and (meth) acrylonitrile] [for example, polymethyl methacrylate (PMMA resin), polymethyl acrylate. (PMAA resin) and poly (meth) butyl acrylate] and one or more of the above-mentioned monomers (a11) and other vinyl monomers excluding (a13) copolymerizable with one or more of these monomers [Acrylic monomer / other vinyl monomer copolymerization ratio (weight ratio) is preferably from 5/95 to 95/5, more preferably from the viewpoint of moldability of the resin composition and resin physical properties of the molded article. 50 / 50-90 / 10].

(A12)のMFRは、成形品の樹脂物性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。(A12)のMFRは、JIS K7210(1976年)に準じて[ポリアクリル樹脂(A12)の場合は230℃、荷重1.2kgf]測定される。   The MFR of (A12) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties of the molded product. The MFR of (A12) is measured according to JIS K7210 (1976) [230 ° C., load 1.2 kgf for polyacrylic resin (A12)].

ポリスチレン樹脂(A13)には、上記モノマー(a13)単独または(a13)と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種を構成単位とする共重合体が含まれる。
(A13)の具体例としては、ポリスチレン(PS樹脂)、ポリビニルトルエン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AS樹脂)[共重合比(重量比)=70/30〜80/20]、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)[共重合比(重量比)=60/40〜90/10]、スチレン/ブタジエン共重合体(HIPS樹脂)[共重合比(重量比)=60/40〜95/5]、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体[(透明)ABS樹脂][共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]等が挙げられる。
For the polystyrene resin (A13), the monomer (a13) alone or a copolymer having at least one selected from the group consisting of (a13) and (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile and butadiene as a structural unit Is included.
Specific examples of (A13) include polystyrene (PS resin), polyvinyltoluene, styrene / acrylonitrile copolymer (AS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 70/30 to 80/20], styrene / methacrylic acid. Methyl copolymer (MS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 90/10], styrene / butadiene copolymer (HIPS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 95 / 5], acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer [(transparent) ABS resin] [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)], methyl methacrylate / Butadiene / styrene copolymer (MBS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)].

(A13)のMFRは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。(A13)のMFRは、JIS K7210(1976年)に準じて(ポリスチレン樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。   The MFR of (A13) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. The MFR of (A13) is measured according to JIS K7210 (1976) (in the case of polystyrene resin, 230 ° C., load 1.2 kgf).

ポリエステル樹脂(A2)には、縮合ポリエステル、例えばC2〜40のジカルボン酸(例えば脂肪族、脂環式および芳香環含有ジカルボン酸)および/またはこれらのエステル形成性誘導体(C1〜4のアルキルエステルおよび無水物等)とジオールとの縮合物、およびラクトンの開環重合物が含まれる。   Polyester resins (A2) include condensed polyesters such as C2-40 dicarboxylic acids (eg aliphatic, alicyclic and aromatic ring-containing dicarboxylic acids) and / or their ester-forming derivatives (C1-4 alkyl esters and Anhydrides) and diol condensation products, and lactone ring-opening polymers.

上記ジカルボン酸のうち、脂肪族ジカルボン酸としては、C2〜40(好ましくは4〜20、さらに好ましくは6〜12)、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジ酸およびドデカンジ酸が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、C5〜20(好ましくは6〜18、さらに好ましくは8〜14)、例えば1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−4,4’−ジカルボン酸およびショウノウ酸が挙げられる。
芳香環含有ジカルボン酸としては、C8〜20(好ましくは8〜16、さらに好ましくは8〜14)、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、ナフタレン−2,6−および−2,7−ジカルボン酸、ジフェニル−4,4’ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、トリレンジカルボン酸、キシリレンジカルボン酸および5−スルホイソフタル酸アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム)塩が挙げられる。
Among the above dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids include C2-40 (preferably 4-20, more preferably 6-12), such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, Examples include sebacic acid, undecanedioic acid and dodecanedioic acid.
Alicyclic dicarboxylic acids include C5-20 (preferably 6-18, more preferably 8-14), such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dicyclohexyl-4,4'-dicarboxylic acid and camphoric acid. .
Examples of aromatic ring-containing dicarboxylic acids include C8-20 (preferably 8-16, more preferably 8-14), such as ortho-, iso- and terephthalic acid, naphthalene-2,6- and -2,7-dicarboxylic acid. , Diphenyl-4,4′dicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, tolylene dicarboxylic acid, xylylene dicarboxylic acid and alkali metal 5-sulfoisophthalic acid (for example, lithium, sodium and potassium) salts.

上記ジオールには、250未満の水酸基当量(水酸基価に基づく、水酸基当りの分子量。以下、OH当量と略記)を有する低分子ジオールおよび少なくとも250、好ましくは250〜3,000、さらに好ましくは350〜2,500、とくに好ましくは400〜2,000のOH当量を有するポリエーテルジオールが含まれる。
低分子ジオールとしては、脂肪族2価アルコール[C2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜6)のアルキレングリコール、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−および2,3−ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,2−、1,3−、1,4−、1,5−、1,6−、2,3−、2,4−、2,5−および3,4−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、2,2−、2,3−、2,4−、2,5−、3,3−および3,4−ジメチル−1,6−ヘキサンジオールおよび1,12−ドデカンジオール];脂環式2価アルコール[C5〜12(好ましくは5〜10、さらに好ましくは5〜8)、例えばシクロペンタン−1,2−および1,3−ジオール、シクロヘキサン−1,2−、1,3−および1,4−ジオール、ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサンおよび水素添加ビスフェノールA];および芳香環含有2価アルコール[C8〜20、例えばキシリレングリコール、ビス(ヒドロキシメチル)ベンゼンおよびビス(ヒドロキシエチル)ベンゼン]が挙げられる。
The diol includes a low molecular weight diol having a hydroxyl equivalent weight of less than 250 (based on hydroxyl value, molecular weight per hydroxyl group; hereinafter abbreviated as OH equivalent) and at least 250, preferably 250 to 3,000, more preferably 350 to 3,000. Polyether diols having an OH equivalent weight of 2,500, particularly preferably 400 to 2,000 are included.
Low molecular diols include aliphatic dihydric alcohols [C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-6) alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,3- and 2,3-butylene. Glycol, 1,4-butanediol, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 2,3-, 2,4-, 2,5- and 3 , 4-hexanediol, neopentyl glycol, 2,2-, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 3,3- and 3,4-dimethyl-1,6-hexanediol and 1, 12-dodecanediol]; alicyclic dihydric alcohol [C5-12 (preferably 5-10, more preferably 5-8), such as cyclopentane-1,2- and 1,3-diol, cyclohexane-1, 2--1, 3- and 1,4-diol, bis (hydroxymethyl) cyclohexane and hydrogenated bisphenol A]; and aromatic ring-containing dihydric alcohols [C8-20, such as xylylene glycol, bis (hydroxymethyl) benzene and bis (hydroxyethyl) ) Benzene].

ポリエーテルジオールとしては、上記低分子ジオールのAO(C2〜4、以下同じ)付加物、および2価フェノール[例えば単環フェノール(C6〜16、例えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシンおよびウルシオール)、縮合多環フェノール(C10〜30、例えばジヒドロキシナフタレンおよびビナフトール)およびビスフェノール(C12〜18、例えばビスフェノールA、−Fおよび−S)]のAO付加物が挙げられる。   Examples of the polyether diol include AO (C2-4, the same applies hereinafter) adducts of the above low molecular diols, and dihydric phenols (for example, monocyclic phenols (C6-16, such as hydroquinone, catechol, resorcin and urushiol), AO adducts of cyclic phenols (C10-30, such as dihydroxynaphthalene and binaphthol) and bisphenols (C12-18, such as bisphenol A, -F and -S)].

上記ラクトンとしては、C6〜12、例えばカプロラクトン、エナントラクトン、ラウロラクトンおよびウンデカノラクトンが挙げられる。   Examples of the lactone include C6-12, such as caprolactone, enanthlactone, laurolactone, and undecanolactone.

縮合ポリエステルのうち、脂肪族ポリエステルとしては、例えばポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペートおよびポリ−ε−カプロラクトン、脂環式ポリエステルとしては、例えばポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、および芳香環含有ポリエステルとしては、例えばポリエチレンテレフタレートおよびポリブチレンテレフタレートが挙げられる。   Among the condensed polyesters, examples of the aliphatic polyester include polybutylene adipate, polyethylene adipate and poly-ε-caprolactone, examples of the alicyclic polyester include polycyclohexanedimethylene terephthalate, and examples of the aromatic ring-containing polyester include polyethylene terephthalate. And polybutylene terephthalate.

ラクトンの開環重合物としては、例えば、アジピン酸、テレフタル酸、イソフタル酸またはセバシン酸を分子量調整剤としたカプロラクトンの各開環重合体、アジピン酸を分子量調整剤としたエナントラクトンの開環重合体およびアジピン酸を分子量調整剤としたウンデカノラクトンの開環重合体が挙げられる。   Examples of the ring-opening polymer of lactone include, for example, each ring-opening polymer of caprolactone using adipic acid, terephthalic acid, isophthalic acid or sebacic acid as a molecular weight regulator, and ring opening weight of enanthlactone using adipic acid as a molecular weight regulator. Examples include ring-opening polymers of undecanolactone using a combination and adipic acid as a molecular weight modifier.

(A2)の固有粘度[η]は、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリマーの0.5重量%オルトクロロフェノール溶液について、25℃でウベローデ1A粘度計を用いて測定される。   The intrinsic viscosity [η] of (A2) is preferably 0.1 to 4, more preferably 0.2 to 3.5, particularly preferably 0.3 to 3 from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. It is. [Η] is measured with a Ubbelohde 1A viscometer at 25 ° C. for a 0.5 wt% orthochlorophenol solution of the polymer.

ポリアミド樹脂(A3)には、ラクタム開環重合体(A31)、アミノカルボン酸の自己重縮合体(A32)およびジアミンとジカルボン酸の脱水重縮合体(A33)、およびこれらの重(縮)合体を構成するモノマー単位が2種類以上である共重合ナイロンが含まれる。   The polyamide resin (A3) includes a lactam ring-opening polymer (A31), a self-polycondensation product of aminocarboxylic acid (A32), a dehydration polycondensation product of diamine and dicarboxylic acid (A33), and a poly (condensation) combination thereof. Copolymer nylon having two or more types of monomer units constituting is included.

(A31)を構成するラクタムとしては、C6〜12、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタムが挙げられる。
(A31)としては、ナイロン4、ナイロン5、ナイロン6、ナイロン8およびナイロン12が挙げられる。
(A32)を構成するアミノカルボン酸としては、C6〜12、例えばω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペラルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸が挙げられる。
(A32)としては、アミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11および12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12等が挙げられる。
Examples of the lactam constituting (A31) include C6-12, such as caprolactam, enantolactam, laurolactam, and undecanolactam.
(A31) includes nylon 4, nylon 5, nylon 6, nylon 8, and nylon 12.
As the aminocarboxylic acid constituting (A32), C6-12, for example, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopelargonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecane And acid and 12-aminododecanoic acid.
Examples of (A32) include nylon 7 by polycondensation of aminoenanthic acid, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, and nylon 12 by polycondensation of 12-aminododecanoic acid.

(A33)を構成するジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸、芳香(脂肪)族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、これらのアミド形成性誘導体[例えば酸無水物および低級(C1〜4)アルキルエステル]およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。   Examples of the dicarboxylic acid constituting (A33) include aliphatic dicarboxylic acids, aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, amide-forming derivatives thereof [for example, acid anhydrides and lower (C1-4) alkyl esters. And a mixture of two or more thereof.

脂肪族ジカルボン酸としては、C4〜20、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸およびイタコン酸が挙げられる。
芳香(脂肪)族ジカルボン酸としては、C8〜20、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、ナフタレン−2,6−および−2,7−ジカルボン酸、ジフェニル−4,4’ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸のアルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム)塩が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、C5〜20、例えばシクロプロパンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸およびジシクロヘキシル−4,4’−ジカルボン酸が挙げられる。
アミド形成性誘導体のうち酸無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸および無水フタル酸が挙げられ、低級(C1〜4)アルキルエステルとしては上記ジカルボン酸の低級アルキルエステル、例えばアジピン酸ジメチルおよびオルト−、イソ−およびテレフタル酸ジメチルが挙げられる。
Aliphatic dicarboxylic acids include C4-20, such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid. Can be mentioned.
Aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids include C8-20, such as ortho-, iso- and terephthalic acid, naphthalene-2,6- and -2,7-dicarboxylic acid, diphenyl-4,4'dicarboxylic acid, diphenoxy Mention may be made of alkali metal (eg lithium, sodium and potassium) salts of ethanedicarboxylic acid and 3-sulfoisophthalic acid.
Alicyclic dicarboxylic acids include C5-20, such as cyclopropanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid and dicyclohexyl-4,4′-dicarboxylic acid.
Among the amide-forming derivatives, examples of the acid anhydride include anhydrides of the above dicarboxylic acids, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, and phthalic anhydride. Lower (C1-4) alkyl esters include those of the above dicarboxylic acids. Alkyl esters such as dimethyl adipate and ortho-, iso- and dimethyl terephthalate are mentioned.

(A33)を構成するジアミンとしては、脂肪族、脂環式および芳香(脂肪)族ジアミンが挙げられる。
脂肪族ジアミンとしては、C2〜20、例えばエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン、1,18−オクタデカンジアミンおよび1,20−エイコサンジアミンが挙げられる。
脂環式ジアミンとしては、C5〜20、例えば1,4−シクロヘキシレンジアミン、イソホロンジアミン、4,4’−ジアミノシクロヘキシルメタンおよび2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパンが挙げられる。
芳香脂肪族ジアミンとしては、C7〜20、例えばキシリレンジアミン、ビス(アミノエチル)ベンゼン、ビス(アミノプロピル)ベンゼンおよびビス(アミノブチル)ベンゼンが挙げられる。
芳香族ジアミンとしては、C6〜20、例えばp−フェニレンジアミン、2,4−および2,6−トルイレンジアミンおよび2,2−ビス(4,4’−ジアミノフェニル)プロパンが挙げられる。
Examples of the diamine constituting (A33) include aliphatic, alicyclic, and aromatic (aliphatic) diamines.
Aliphatic diamines include C2-20, such as ethylene diamine, propylene diamine, hexamethylene diamine, 1,12-dodecane diamine, 1,18-octadecane diamine, and 1,20-eicosane diamine.
Alicyclic diamines include C5-20, such as 1,4-cyclohexylenediamine, isophoronediamine, 4,4′-diaminocyclohexylmethane, and 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane.
Examples of araliphatic diamines include C7-20, such as xylylenediamine, bis (aminoethyl) benzene, bis (aminopropyl) benzene and bis (aminobutyl) benzene.
Aromatic diamines include C6-20, such as p-phenylenediamine, 2,4- and 2,6-toluylenediamine and 2,2-bis (4,4'-diaminophenyl) propane.

(A33)としては、ヘキサンメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合によるナイロン66、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の重縮合によるナイロン610、ヘキサメチレンジアミンとアゼライン酸の重縮合によるナイロン69、ヘキサメチレンジアミンとドデカン二酸の重縮合によるナイロン612およびテトラメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合によるナイロン46が挙げられる。
また、共重合ナイロンとしては、ナイロン6/66(ナイロン6とナイロン66の共重合体)およびナイロン6/12(ナイロン6とナイロン12の共重合体)が挙げられる。
(A33) includes nylon 66 by polycondensation of hexanemethylenediamine and adipic acid, nylon 610 by polycondensation of hexamethylenediamine and sebacic acid, nylon 69 by polycondensation of hexamethylenediamine and azelaic acid, hexamethylenediamine and dodecane Nylon 612 by polycondensation of diacid and nylon 46 by polycondensation of tetramethylenediamine and adipic acid.
Examples of the copolymer nylon include nylon 6/66 (a copolymer of nylon 6 and nylon 66) and nylon 6/12 (a copolymer of nylon 6 and nylon 12).

上記(A3)を構成するモノマー(アミド形成性モノマー)として例示したものは2種以上併用してもよい。これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、12−アミノドデカン酸およびアジピン酸/ヘキサメチレンジアミン、さらに好ましいのはカプロラクタムである。   Those exemplified as the monomer (amide-forming monomer) constituting the above (A3) may be used in combination of two or more. Of these, caprolactam, 12-aminododecanoic acid and adipic acid / hexamethylenediamine are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and caprolactam is more preferable.

(A3)の製造に際しては、分子量調整剤を使用してもよく、分子量調整剤としては、上記ジカルボン酸またはジアミンが挙げられる。
分子量調整剤としてのジカルボン酸のうち、ジアミンとの反応性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香族ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。
また、分子量調整剤としてのジアミンのうち、ジカルボン酸との反応性の観点から好ましいのはヘキサメチレンジアミンおよびデカメチレンジアミンである。
分子量調整剤の使用量は、アミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて成形品の帯電防止性および耐熱性の観点から好ましくは2〜80%、さらに好ましくは4〜75%である。
In the production of (A3), a molecular weight modifier may be used, and examples of the molecular weight modifier include the dicarboxylic acid or diamine.
Of the dicarboxylic acids as molecular weight modifiers, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids are preferred from the viewpoint of reactivity with diamines, and more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and 3-sulfo. Sodium isophthalate.
Of the diamines as molecular weight regulators, hexamethylenediamine and decamethylenediamine are preferred from the viewpoint of reactivity with dicarboxylic acid.
The amount used of the molecular weight modifier is preferably 2 to 80%, more preferably 4 to 75% from the viewpoint of the antistatic property and heat resistance of the molded product based on the total weight of the amide-forming monomer and the molecular weight modifier. .

(A3)のMFRは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。(A3)のMFRは、JIS
K7210(1976年)に準じて(ポリアミド樹脂の場合は、230℃、荷重0.325kgf)測定される。
The MFR of (A3) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. MFR of (A3) is JIS
It is measured according to K7210 (1976) (in the case of polyamide resin, 230 ° C., load 0.325 kgf).

ポリカーボネート樹脂(A4)には、ビスフェノール[C12〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−Sが挙げられ、(B)の(A4)に対する分散性の観点から好ましいのはビスフェノールA]系ポリカーボネート樹脂(例えば上記ビスフェノールとホスゲンまたは炭酸ジフェニルとの縮合物)、および該ポリカーボネート樹脂とABS樹脂とのポリマーアロイ[PC/ABS樹脂(PC/ABS重量比=90/10〜10/90)]が含まれる。
(A4)のMFRは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。(A4)のMFRは、JIS
K7210(1976年)に準じて(ポリカーボネート樹脂の場合は280℃、荷重2.16kgf)測定される。
Examples of the polycarbonate resin (A4) include bisphenol [C12-20, for example, bisphenol A, -F and -S. From the viewpoint of dispersibility of (B) with respect to (A4), bisphenol A] -based polycarbonate resin ( For example, a condensate of the above bisphenol and phosgene or diphenyl carbonate) and a polymer alloy [PC / ABS resin (PC / ABS weight ratio = 90/10 to 10/90)] of the polycarbonate resin and ABS resin are included.
The MFR of (A4) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. MFR of (A4) is JIS
Measured according to K7210 (1976) (280 ° C., load 2.16 kgf in the case of polycarbonate resin).

ポリアセタール樹脂(A5)としては、ホルムアルデヒドまたはトリオキサンのホモポリマー(ポリオキシメチレンホモポリマー)、およびホルムアルデヒドまたはトリオキサンと環状エーテル[前記AO(EO、PO等)、ジオキソラン等]との共重合体(ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレンコポリマー[例えばポリオキシメチレン/ポリオキシエチレン(重量比)=90/10〜99/1のブロック共重合体]等が挙げられる。
(A5)のMFRは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、より好ましくは1〜100である。(A5)のMFRは、JIS K7210
(1994年)に準じて(ポリアセタール樹脂の場合は190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(A5)の固有粘度[η]は、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、より好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。
Examples of the polyacetal resin (A5) include formaldehyde or trioxane homopolymer (polyoxymethylene homopolymer), and copolymers of formaldehyde or trioxane and cyclic ethers [AO (EO, PO, etc.), dioxolane, etc.] (polyoxy). And methylene / polyoxyethylene copolymer [for example, polyoxymethylene / polyoxyethylene (weight ratio) = 90/10 to 99/1 block copolymer].
The MFR of (A5) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. MFR of (A5) is JIS K7210
According to (1994) (in the case of polyacetal resin, 190 ° C., load 2.16 kgf).
The intrinsic viscosity [η] of (A5) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3 from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. It is.

変性ポリフェニレンエーテル樹脂(A6)には、ポリフェニレンエーテル樹脂と、前記ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂およびポリオレフィン樹脂からなる群から選ばれる樹脂とのポリマーアロイが含まれる。
ポリフェニレンエーテル樹脂としては、例えばポリ(2,6−ジメチル−、ジエチル−およびジプロピル−1,4−フェニレン)エーテルおよびポリ(2−メチル−6−メチル−、2−メチル−6−プロピル−および2−エチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテルが挙げられる。
The modified polyphenylene ether resin (A6) includes a polymer alloy of a polyphenylene ether resin and a resin selected from the group consisting of the polystyrene resin, polyamide resin and polyolefin resin.
Examples of polyphenylene ether resins include poly (2,6-dimethyl-, diethyl- and dipropyl-1,4-phenylene) ether and poly (2-methyl-6-methyl-, 2-methyl-6-propyl- and 2). -Ethyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether.

(A6)のうち、ポリフェニレンエーテル樹脂とポリスチレン樹脂とのポリマーアロイとしては、例えばノリル[ゼネラルエレクトリック(株)製];ポリフェニレンエーテル樹脂とポリアミド樹脂とのポリマーアロイとしては、例えばノリルGTYX[ゼネラルエレクトリック(株)製)];ポリフェニレンエーテル樹脂とポリオレフィン樹脂としては、例えばノリルPPX[ゼネラルエレクトリック(株)製]が挙げられる。
(A6)のMFRは、成形品の樹脂物性および帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS
K7210(1994年)に準じて[(A6)の場合は280℃、荷重5.0kgf]測定される。
Among (A6), as a polymer alloy of polyphenylene ether resin and polystyrene resin, for example, Noryl [manufactured by General Electric Co., Ltd.]; As a polymer alloy of polyphenylene ether resin and polyamide resin, for example, Noryl GTYX [General Electric ( As a polyphenylene ether resin and a polyolefin resin, for example, Noryl PPX [manufactured by General Electric Co., Ltd.] can be mentioned.
The MFR of (A6) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of the resin physical properties and antistatic properties of the molded product. MFR is JIS
According to K7210 (1994), [measured at 280 ° C., load 5.0 kgf in the case of (A6)].

生分解性樹脂(A7)には、ポリヒドロキシブチレート、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、アジペート変性ポリブチレンサクシネート、カーボネート変性ポリブチレンサクシネート、テレフタレート変性ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネート、およびポリビニルアルコール等が挙げられる。
(A7)のうち、ポリヒドロキシブチレートとしては、例えばビオグリーン[三菱ガス化学(株)製)];ポリ乳酸としては、例えばレイシア[三井化学(株)製];ポリカプロラクトンとしては、例えばセルグリーン[ダイセル化学工業(株)製];ポリブチレンサクシネートとしては、例えばビオノーレ[昭和高分子(株)製];ポリエチレンサクシネートとしては、例えばルナーレSE[日本触媒(株)製];ポリビニルアルコールとしては、例えばポバール[クラレ(株)製]が挙げられる。
Biodegradable resins (A7) include polyhydroxybutyrate, polylactic acid, polycaprolactone, polybutylene succinate, adipate-modified polybutylene succinate, carbonate-modified polybutylene succinate, terephthalate-modified polybutylene succinate, polyethylene succinate , And polyvinyl alcohol.
Among (A7), as polyhydroxybutyrate, for example, biogreen [manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.]]; as polylactic acid, for example, Laissia [manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.]; as polycaprolactone, for example, cell Green [Daicel Chemical Industries, Ltd.]; Polybutylene succinate, for example, Bionore [Showa Polymer Co., Ltd.]; Polyethylene succinate, for example, Lunare SE [manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.]; Polyvinyl alcohol For example, Poval [manufactured by Kuraray Co., Ltd.] can be mentioned.

(A)との屈折率差が0.02以下で、親水性鎖を有する帯電防止剤(B)には、ポリエーテルエステルアミド(B1)、ポリオレフィン(b21)のブロックと、体積固有抵抗値が1×105〜1×1011Ω・cmの親水性ポリマー(b22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー(B2)、ポリエーテルアミドイミド(B3)、エピハロヒドリン/AO共重合体(B4)、ポリエーテルエステル(B5)、ポリエーテルウレタン(B6)、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート共重合体(B7)、ポリエーテル基含有エチレン/酢酸ビニル共重合体(エチレン/ビニルアルコール共重合体のEO付加物)(B8)およびこれらの2種以上の混合物が含まれる。
これらのうち、帯電防止性の観点から好ましいのは(B1)、(B2)、(B3)、(B4)および(B5)であり、さらに好ましいのは(B1)および(B2)である。
ここにおいて、親水性鎖とは、通常1×104〜1×1012Ω・cm、好ましくは1×
105〜1×1011Ω・cmの体積固有抵抗値を有するものを意味する。
The antistatic agent (B) having a refractive index difference with respect to (A) of 0.02 or less and having a hydrophilic chain has a block of polyetheresteramide (B1) and polyolefin (b21), and a volume resistivity value. 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm of the hydrophilic polymer (b22) block has at least one bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. Block polymer (B2), polyether amide imide (B3), epihalohydrin / AO copolymer (B4), polyether ester (B5), polyether urethane (B6), methoxy polyethylene Glycol (meth) acrylate copolymer (B7), polyether group-containing ethylene / vinyl acetate copolymer (Eth EO adduct of a len / vinyl alcohol copolymer) (B8) and a mixture of two or more thereof.
Of these, (B1), (B2), (B3), (B4) and (B5) are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and (B1) and (B2) are more preferable.
Here, the hydrophilic chain is usually 1 × 10 4 to 1 × 10 12 Ω · cm, preferably 1 ×.
It means one having a volume resistivity of 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm.

(B1)としては、例えば特開平6−287547号公報および特公平4−5691号公報に記載のポリエーテルエステルアミドが使用できる。これらのうち耐熱性の観点から好ましいのは、Mnの好ましい下限が200、さらに好ましくは500,Mnの好ましい上限が5,000、さらに好ましくは3,000のポリアミド(b11)と、Mnの好ましい下限が300、さらに好ましくは500、Mnの好ましい上限が5,000、さらに好ましくは4,000のビスフェノールのAO付加物(b12)とから誘導されるポリエーテルエステルアミドである。
(b11)としては、前記(A3)として例示したものが挙げられ、(b11
)を構成するモノマーは2種以上併用してもよい。
これらのモノマーのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、12−アミノドデカン酸およびアジピン酸/ヘキサメチレンジアミンであり、さらに好ましいのはカプロラクタムである。
As (B1), for example, polyether ester amides described in JP-A-6-287547 and JP-B-4-5691 can be used. Of these, from the viewpoint of heat resistance, the preferred lower limit of Mn is 200, more preferably 500, the preferred upper limit of Mn is 5,000, more preferably 3,000, and the preferred lower limit of Mn. Is a polyether ester amide derived from an AO adduct (b12) of bisphenol having a preferable upper limit of 5,000, more preferably 4,000.
Examples of (b11) include those exemplified as the above (A3).
) May be used in combination of two or more.
Of these monomers, caprolactam, 12-aminododecanoic acid and adipic acid / hexamethylenediamine are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and caprolactam is more preferable.

(b11)は、C4〜20のジカルボン酸の1種以上を分子量調整剤として使用し、その存在下に上記アミド形成性モノマーを常法により開環重合あるいは重縮合させることによって得られる。
該C4〜20のジカルボン酸としては、前記の(A3)において例示したものが挙げられ、これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香族ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。
(B11) can be obtained by using one or more C4-20 dicarboxylic acids as molecular weight regulators and subjecting the amide-forming monomer to ring-opening polymerization or polycondensation in the presence thereof in the usual manner.
Examples of the C4-20 dicarboxylic acid include those exemplified in the above (A3). Among these, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic dicarboxylic acids are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and adipine is more preferable. Acids, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and sodium 3-sulfoisophthalate.

上記分子量調整剤の使用量は、アミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて、成形品の樹脂の帯電防止性および耐熱性の観点から好ましくは2〜80%、さらに好ましくは4〜75%である。   The amount of the molecular weight modifier used is preferably 2 to 80%, more preferably 4 to 4 from the viewpoint of the antistatic property and heat resistance of the resin of the molded product based on the total weight of the amide-forming monomer and the molecular weight modifier. 75%.

(b12)を構成するビスフェノールとしては、前記(A4)で例示したものが挙げられ、これらのうち(B)の(A)に対する分散性の観点から好ましいのはビスフェノールAである。
また、ビスフェノールに付加させるAOとしては、C2〜12、例えばEO、PO、1,2−、2,3−および1,4−ブチレンオキシド、C5〜12のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキシドおよびエピハロヒドリン(例えばエピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。これらのうち成形品の樹脂の帯電防止性の観点から好ましいのはEOである。
Examples of the bisphenol constituting (b12) include those exemplified in the above (A4). Among these, bisphenol A is preferred from the viewpoint of dispersibility of (B) with respect to (A).
As AO to be added to bisphenol, C2-12, for example, EO, PO, 1,2-, 2,3- and 1,4-butylene oxide, epoxidized product of C5-12 α-olefin, styrene oxide and And epihalohydrins (eg, epichlorohydrin and epibromohydrin) and mixtures of two or more thereof. Of these, EO is preferable from the viewpoint of the antistatic property of the resin of the molded product.

(b11)と(b12)の合計重量に基づく(b12)の割合は、成形品の樹脂の帯電防止性と耐熱性の観点から、好ましくは20〜80重量%、さらに好ましくは30〜70重量%である。   The proportion of (b12) based on the total weight of (b11) and (b12) is preferably 20 to 80% by weight, more preferably 30 to 70% by weight, from the viewpoint of antistatic properties and heat resistance of the resin of the molded product. It is.

ポリエーテルエステルアミド(B1)の製法としては、具体的には下記製法[1]、[2]および[3]が挙げられるが、特に限定されるものではない。
製法[1]:アミド形成性モノマーとジカルボン酸(分子量調整剤)を反応させて(b11)を形成させ、これに(b12)を加えて、高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合反応を行う方法。
製法[2]:アミド形成性モノマーおよびジカルボン酸(分子量調整剤)と(b12)の一部を同時に反応槽に仕込み、水の存在下または非存在下に、高温(160〜270℃)、加圧(0.1〜1MPa)下で反応させることによって中間体を生成させ、その後減圧下(0.03〜3kPa)で残りの(b12)との重合反応を行う方法。
製法[3]:(b12)の末端水酸基をアミノ基またはカルボキシル基に置換し、カルボキシル基またはアミノ基を末端に有するポリアミド(b11)と反応させる方法。
上記製法のうち、反応制御の観点から好ましいのは製法[1]である。
Specific examples of the production method of the polyetheresteramide (B1) include the following production methods [1], [2] and [3], but are not particularly limited.
Production method [1]: An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) are reacted to form (b11), to which (b12) is added, at a high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0. 03 to 3 kPa).
Production method [2]: An amide-forming monomer and dicarboxylic acid (molecular weight modifier) and a part of (b12) are simultaneously charged into a reaction vessel, and heated at a high temperature (160 to 270 ° C.) in the presence or absence of water. A method in which an intermediate is formed by reacting under pressure (0.1 to 1 MPa), and then the remaining (b12) is subjected to a polymerization reaction under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Production method [3]: A method in which the terminal hydroxyl group of (b12) is substituted with an amino group or a carboxyl group and reacted with a polyamide (b11) having a carboxyl group or an amino group at the terminal.
Of the above production methods, production method [1] is preferable from the viewpoint of reaction control.

上記製法[3]において、(b12)の末端水酸基をアミノ基に置換する方法としては、種々の方法、例えば水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法[例えば、(b12)とアクリロニトリルを反応させ、得られるシアノエチル化物を水素添加する方法]が挙げられる。
また、上記(b12)の末端水酸基をカルボキシル基に置換する方法としては、例えば酸化剤で酸化する方法[例えば、(b12)の水酸基をクロム酸により酸化する方法]が挙げられる。
In the production method [3], as a method for substituting the terminal hydroxyl group of (b12) with an amino group, various methods, for example, a method of reducing a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating a hydroxyl group to form an amino group [ For example, there is a method of reacting (b12) with acrylonitrile and hydrogenating the resulting cyanoethylated product.
Examples of the method for substituting the terminal hydroxyl group of (b12) with a carboxyl group include a method of oxidizing with an oxidizing agent [for example, a method of oxidizing the hydroxyl group of (b12) with chromic acid].

製法[1]〜[3]における重合反応においては、エステル化触媒が使用できる。該触媒としては、例えばアンチモン触媒(例えば三酸化アンチモン)、スズ触媒(例えばモノブチルスズオキシド)、チタン触媒(例えばテトラブチルチタネート)、ジルコニウム触媒(例えばテトラブチルジルコネート)および酢酸金属塩触媒(例えば酢酸亜鉛および酢酸ジルコニル)が挙げられる。
該触媒の使用量は、(b11)と(b12)の合計重量に基づいて、反応性および、成形品の樹脂物性の観点から好ましくは0.1〜5%、さらに好ましくは0.2〜3%である。
In the polymerization reaction in the production methods [1] to [3], an esterification catalyst can be used. Examples of the catalyst include an antimony catalyst (for example, antimony trioxide), a tin catalyst (for example, monobutyltin oxide), a titanium catalyst (for example, tetrabutyl titanate), a zirconium catalyst (for example, tetrabutylzirconate), and a metal acetate catalyst (for example, acetic acid). Zinc and zirconyl acetate).
The amount of the catalyst used is preferably 0.1 to 5%, more preferably 0.2 to 3 based on the total weight of (b11) and (b12) from the viewpoints of reactivity and resin physical properties of the molded product. %.

(B1)の還元粘度[ηSP/C、C=0.5重量%(m−クレゾール溶液、25℃)]は、(B1)の耐熱性と樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは0.5〜4、さらに好ましくは0.6〜3である。 The reduced viscosity [η SP / C, C = 0.5 wt% (m-cresol solution, 25 ° C.)] of (B1) is preferably 0 from the viewpoint of the heat resistance of (B1) and the moldability of the resin composition. .5-4, more preferably 0.6-3.

ブロックポリマー(B2)としては、国際公開WO00/47652号公報明細書に記載されているブロックポリマーが使用できる。
(B2)を構成するポリオレフィン(b21)のブロックには、ポリマーの両末端にカルボニル基(好ましくはカルボキシル基)を有するポリオレフィン(b211)、水酸基を有するポリオレフィン(b212)およびアミノ基を有するポリオレフィン(b213)、並びに、ポリマーの片末端にカルボニル基(好ましくはカルボキシル基)を有するポリオレフィン(b214)、水酸基を有するポリオレフィン(b215)およびアミノ基を有するポリオレフィン(b216)が含まれる。
As the block polymer (B2), a block polymer described in the specification of International Publication WO00 / 47652 can be used.
The block of the polyolefin (b21) constituting (B2) includes a polyolefin (b211) having a carbonyl group (preferably a carboxyl group) at both ends of the polymer, a polyolefin (b212) having a hydroxyl group, and a polyolefin having an amino group (b213). ), And a polyolefin (b214) having a carbonyl group (preferably a carboxyl group) at one end of the polymer, a polyolefin (b215) having a hydroxyl group, and a polyolefin (b216) having an amino group.

(b211)としては、両末端が変性可能なポリオレフィンを好ましくは主成分(含量50重量%以上、さらに好ましくは75重量%以上、特に好ましくは80〜100重量%)とするポリオレフィン(b210)の両末端にカルボニル基を導入したものが挙げられる。
(b210)は、通常、両末端が変性可能なポリオレフィン、片末端が変性可能なポリオレフィンおよび変性可能な末端基を持たないポリオレフィンの混合物であるが、両末端が変性可能なポリオレフィンが主成分であるものが好ましい。
As (b211), both polyolefins (b210) having a polyolefin which can be modified at both ends as a main component (content 50% by weight or more, more preferably 75% by weight or more, particularly preferably 80 to 100% by weight) are used. Examples thereof include those having a carbonyl group introduced at the terminal.
(B210) is usually a mixture of a polyolefin that can be modified at both ends, a polyolefin that can be modified at one end, and a polyolefin that does not have a terminal group that can be modified, but the main component is a polyolefin that can be modified at both ends. Those are preferred.

(b210)には、C2〜30のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合によって得られる低分子量ポリオレフィン[重合法ポリオレフィン]および高分子量ポリオレフィン[C2〜30のオレフィンの(共)重合によって得られる高分子量のポリオレフィン]を熱減成して得られる低分子量ポリオレフィン[熱減成法ポリオレフィン]が含まれる。   (B210) includes a low molecular weight polyolefin [polymerized polyolefin] obtained by (co) polymerization of one or a mixture of two or more C2-30 olefins and a high molecular weight polyolefin [(co) olefin of C2-30 olefins]. Low molecular weight polyolefins obtained by thermal degradation of high molecular weight polyolefins obtained by polymerization] are included.

C2〜30のオレフィンとしては、前記(a11)として例示したもの、例えばエチレン、プロピレン、C4〜30(好ましくは4〜12、さらに好ましくは4〜10)のα−オレフィン、およびC4〜30(好ましくは4〜18、さらに好ましくは4〜8)のジエンが挙げられる。
これらのうち(B)の、樹脂への混和性の観点から好ましいのは、C2〜12のオレフィンおよび/またはC4〜8のジエン、さらに好ましいのはC2〜10のオレフィンおよび/またはブタジエン、とくに好ましいのはエチレン、プロピレンおよび/またはブタジエンである。
Examples of the C2-30 olefin include those exemplified as the above (a11), for example, ethylene, propylene, C4-30 (preferably 4-12, more preferably 4-10) α-olefin, and C4-30 (preferably). Is a diene of 4 to 18, more preferably 4 to 8).
Of these, from the viewpoint of miscibility with the resin of (B), preferred are C2-12 olefins and / or C4-8 dienes, and more preferred are C2-10 olefins and / or butadienes. Is ethylene, propylene and / or butadiene.

[重合法ポリオレフィン]は、例えばラジカル触媒、金属酸化物触媒またはチーグラー−ナッタ触媒の存在下で上記オレフィンを(共)重合させる方法により容易に得ることができる。
ラジカル触媒としては、例えばジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルベンゾエート、デカノールパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、パーオキシ−ジ−カーボネートエステル、アゾ化合物およびγ−アルミナ担体に酸化モリブデンを付着させたものが挙げられる。
金属酸化物触媒としては、例えばシリカ−アルミナ担体に酸化クロムを付着させたものが挙げられる。
チーグラー−ナッタ触媒としては、(C253Al−TiCl4および(C253
l−TiCl3が挙げられる。
また、[熱減成法ポリオレフィン]は、例えば特開平3−62804号公報記載
の方法により容易に得ることができる。
上記ポリオレフィンのうち、変性基であるカルボニル基の導入のしやすさ、および入手のしやすさの観点から[熱減成法ポリオレフィン]が好ましい。
[Polymerized polyolefin] can be easily obtained by a method of (co) polymerizing the olefin in the presence of, for example, a radical catalyst, a metal oxide catalyst or a Ziegler-Natta catalyst.
Examples of the radical catalyst include di-t-butyl peroxide, t-butyl benzoate, decanol peroxide, lauryl peroxide, peroxy-dicarbonate ester, azo compound, and molybdenum oxide attached to a γ-alumina carrier. Is mentioned.
As the metal oxide catalyst, for example, a silica-alumina support having chromium oxide attached thereto can be mentioned.
Ziegler-Natta catalysts include (C 2 H 5 ) 3 Al—TiCl 4 and (C 2 H 5 ) 3 A
1-TiCl 3 may be mentioned.
[Thermal degradation polyolefin] can be easily obtained, for example, by the method described in JP-A-3-62804.
Of the above polyolefins, [thermally degraded polyolefin] is preferable from the viewpoint of easy introduction of a carbonyl group as a modifying group and availability.

(b210)のMnは、成形品の樹脂の帯電防止性の観点から好ましくは800〜20,000、さらに好ましくは1,000〜10,000、とくに好ましくは1,200〜6,000である。
(b210)中の二重結合の量は、成形品の樹脂の帯電防止性および外観の観点から好ましくは、C1,000当たり1〜40個、さらに好ましくは2〜30個、特に好ましくは4〜20個である。
1分子当たりの二重結合の平均数は、繰り返し構造の形成性および帯電防止性の観点から好ましくは、1.1〜5、さらに好ましくは1.3〜3、特に好ましくは1.5〜2.5、最も好ましくは1.8〜2.2である。
熱減成法によれば、Mnが800〜6,000の範囲で、1分子当たりの平均末端二重結合数が1.5〜2の低分子量ポリオレフィンが容易に得られる〔例えば、村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、192頁(1975)参照〕。
Mn of (b210) is preferably 800 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, and particularly preferably 1,200 to 6,000 from the viewpoint of the antistatic property of the resin of the molded product.
The amount of double bonds in (b210) is preferably 1 to 40, more preferably 2 to 30, particularly preferably 4 to 1,000 per C1,000 from the viewpoint of the antistatic property and appearance of the resin of the molded product. There are 20 pieces.
The average number of double bonds per molecule is preferably from 1.1 to 5, more preferably from 1.3 to 3, particularly preferably from 1.5 to 2, from the viewpoints of repetitive structure formation and antistatic properties. .5, most preferably 1.8-2.2.
According to the thermal degradation method, a low-molecular-weight polyolefin having an average number of terminal double bonds per molecule of 1.5 to 2 can be easily obtained in a range of 800 to 6,000 [for example, Katsuhide Murata, See Tadahiko Makino, Journal of the Chemical Society of Japan, page 192 (1975)].

(b210)のMnの測定条件は以下の通りである
装置 :高温ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒 :オルトジクロロベンゼン
基準物質 :ポリスチレン
サンプル濃度:3mg/ml
カラム固定相:PLgel MIXED−B
カラム温度 :135℃
The measurement conditions of Mn in (b210) are as follows: Apparatus: High-temperature gel permeation chromatography solvent: Orthodichlorobenzene reference material: Polystyrene sample concentration: 3 mg / ml
Column stationary phase: PLgel MIXED-B
Column temperature: 135 ° C

カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b211)には、(b210)の両末端をα、β−不飽和カルボン酸(無水物)[α,β−不飽和カルボン酸、該カルボン酸のアルキル(C1〜4)エステルまたはその無水物を意味する。以下同様。]で変性した構造を有するポリオレフィン(b2111)、(b2111)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(b2112)、(b210)を酸化またはヒドロホルミル化変性した構造を有するポリオレフィン(b2113)、(b2113)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(b2114)およびこれらの2種以上の混合物が含まれる。   The polyolefin (b211) having a carbonyl group at both ends of the polymer has an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) [α, β-unsaturated carboxylic acid, alkyl of the carboxylic acid at both ends of (b210). (C1-4) means an ester or an anhydride thereof. The same applies below. ] (B2111), a polyolefin (b2112) having a structure obtained by secondary modification of (b2111) with a lactam or an aminocarboxylic acid, and a polyolefin (b2113) having a structure obtained by oxidizing or hydroformylating (b210) ), Polyolefin (b2114) having a structure obtained by secondary modification of (b2113) with lactam or aminocarboxylic acid, and a mixture of two or more thereof.

(b2111)は、(b210)の両末端をα、β−不飽和カルボン酸(無水物)で変性することにより得られる。
α,β−不飽和カルボン酸(無水物)としては、C3〜12のカルボン酸、例えばモノカルボン酸[例えば(メタ)アクリル酸]、ジカルボン酸(例えばマレイン酸、フマル酸、イタコン酸およびシトラコン酸)、それらのアルキル(C1〜4)エステル[例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチルおよびイタコン酸ジエチル]および無水物が挙げられる。
これらのうち(b210)との反応性の観点から好ましいのは、ジカルボン酸、それらのアルキルエステルおよび無水物、さらに好ましいのはマレイン酸(無水物)およびフマル酸、特に好ましいのはマレイン酸(無水物)である。
(B2111) is obtained by modifying both ends of (b210) with α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride).
α, β-unsaturated carboxylic acids (anhydrides) include C3-12 carboxylic acids such as monocarboxylic acids [eg (meth) acrylic acid], dicarboxylic acids (eg maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and citraconic acid) ), Their alkyl (C1-4) esters [eg methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate and diethyl itaconate] and anhydrides.
Of these, from the viewpoint of reactivity with (b210), dicarboxylic acids, their alkyl esters and anhydrides are preferred, maleic acid (anhydride) and fumaric acid are more preferred, and maleic acid (anhydride is particularly preferred). Thing).

α、β−不飽和カルボン酸(無水物)の使用量は、ポリオレフィン(b210)の重量に基づき、繰り返し構造の形成性および帯電防止性の観点から好ましくは、0.5〜40%、さらに好ましくは1〜30%、特に好ましくは2〜20%である。   The amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used is preferably from 0.5 to 40%, more preferably from the viewpoint of the formation of a repeating structure and antistatic properties, based on the weight of the polyolefin (b210). Is 1 to 30%, particularly preferably 2 to 20%.

α,β−不飽和カルボン酸(無水物)によるポリオレフィン(b210)の変性は、例えば、(b210)の末端二重結合に、溶液法または溶融法のいずれかの方法で、α,β−不飽和カルボン酸(無水物)を熱的に付加(エン反応)させることにより行うことができる。
溶液法としては、例えば炭化水素(例えばキシレンおよびトルエン)溶媒の存在下、(b210)にα,β−不飽和カルボン酸(無水物)を加え、不活性ガス(例えば窒素、以下同じ。)雰囲気中170〜230℃で反応させる方法が挙げられる。
溶融法としては、例えば(b210)を加熱溶融した後に、α,β−不飽和カルボン酸(無水物)を加え、不活性ガス雰囲気中170〜230℃で反応させる方法が挙げられる。
これらの方法のうち、反応の均一性の観点から好ましいのは溶液法である。
The modification of the polyolefin (b210) with an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be carried out by, for example, converting the terminal double bond of (b210) to α, β-unsaturated by either a solution method or a melting method. It can be carried out by thermally adding (ene reaction) a saturated carboxylic acid (anhydride).
As the solution method, for example, an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is added to (b210) in the presence of a hydrocarbon (eg, xylene and toluene) solvent, and an inert gas (eg, nitrogen, the same applies hereinafter) atmosphere. The method of making it react at 170-230 degreeC inside is mentioned.
Examples of the melting method include a method in which (b210) is heated and melted, and then α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is added and reacted at 170 to 230 ° C. in an inert gas atmosphere.
Among these methods, the solution method is preferable from the viewpoint of reaction uniformity.

(b2112)は、(b2111)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得られる。
ラクタムとしては、C6〜12(好ましくは6〜8、さらに好ましくは6)のラクタム、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタムが挙げられる。
アミノカルボン酸としては、C2〜12(好ましくは4〜12、さらに好ましくは6〜12)のアミノカルボン酸、例えばアミノ酸(例えばグリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシンおよびフェニルアラニン)、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸が挙げられる。
これらのうち、二次変性の反応性の観点から好ましいのはグリシン、ロイシン、およびさらに好ましいのはカプロラクタム、ラウロラクタム、ω−アミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸、特に好ましいのはカプロラクタムおよび12−アミノドデカン酸である。
(B2112) can be obtained by secondary modification of (b2111) with lactam or aminocarboxylic acid.
Lactams include C6-12 (preferably 6-8, more preferably 6) lactams such as caprolactam, enantolactam, laurolactam and undecanolactam.
As aminocarboxylic acids, C2-12 (preferably 4-12, more preferably 6-12) aminocarboxylic acids such as amino acids (eg glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine and phenylalanine), ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopergonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid.
Of these, glycine, leucine, and more preferable caprolactam, laurolactam, ω-aminocaprylic acid, 11-aminoundecanoic acid, and 12-aminododecanoic acid are particularly preferable from the viewpoint of reactivity of secondary modification. Are caprolactam and 12-aminododecanoic acid.

ラクタムまたはアミノカルボン酸の使用量は、ポリオレフィン(b2111)の重量に基づき、繰り返し構造の形成性および帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜40%、さらに好ましくは1〜30%、特に好ましくは2〜20%である。   The amount of lactam or aminocarboxylic acid to be used is preferably 0.5 to 40%, more preferably 1 to 30%, particularly preferably based on the weight of the polyolefin (b2111) from the viewpoint of the formation of a repeating structure and antistatic properties. Is 2 to 20%.

(b2111)をラクタムで二次変性する方法としては、例えば(b2111)を加熱溶融した後に、ラクタムを加え、不活性ガス雰囲気中170〜230℃で反応させる方法が挙げられる。
また、アミノカルボン酸で二次変性する方法としては、例えば(b2111)を加熱溶融した後に、アミノカルボン酸を加え、不活性ガス雰囲気中170〜230℃で反応させる方法が挙げられる。
As a method for secondary modification of (b2111) with a lactam, for example, after heating and melting (b2111), a lactam is added and reacted at 170 to 230 ° C. in an inert gas atmosphere.
Moreover, as a method of carrying out secondary modification | denaturation by aminocarboxylic acid, after heating (b2111), for example, aminocarboxylic acid is added and the method of making it react at 170-230 degreeC in inert gas atmosphere is mentioned.

(b2113)は、(b210)を酸素および/またはオゾンにより酸化またはオキソ法によりヒドロホルミル化してカルボニル基を導入することにより得られる。酸化によるカルボニル基の導入は、例えば、米国特許第3,692,877号明細書記載の方法で行うことができる。ヒドロホルミル化によるカルボニル基の導入は、例えば、Macromolecules、Vol.31、5,943頁記載の方法で行うことができる。   (B2113) can be obtained by oxidizing (b210) with oxygen and / or ozone or hydroformylating with an oxo method to introduce a carbonyl group. The introduction of the carbonyl group by oxidation can be performed, for example, by the method described in US Pat. No. 3,692,877. The introduction of a carbonyl group by hydroformylation is described in, for example, Macromolecules, Vol. 31, 5, 943 page.

(b2114)は、(b2113)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得られる。
ラクタムおよびアミノカルボン酸としては、上記(b2112)の説明で例示したものが挙げられ、(b2113)の重量に基づくその使用量も同様である。
(B2114) can be obtained by secondary modification of (b2113) with lactam or aminocarboxylic acid.
Examples of the lactam and aminocarboxylic acid include those exemplified in the description of the above (b2112), and the use amount thereof based on the weight of (b2113) is also the same.

ポリマーの両末端にカルボニル基を有するポリオレフィン(b211)のMnは、耐熱性および後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、好ましい下限は800、さらに好ましくは1,000、とくに好ましくは2,500、好ましい上限は25,000、さらに好ましくは20,000、とくに好ましくは10,000である。
また、(b211)の酸価は、(b22)との反応性の観点から好ましくは4〜280(単位はmgKOH/g。以下、数値のみを記載する。)、さらに好ましくは4〜100、とくに好ましくは5〜50である。
The Mn of the polyolefin (b211) having a carbonyl group at both ends of the polymer is preferably 800, more preferably 1,000, particularly preferably 1,000 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later. Is 2,500, and the preferable upper limit is 25,000, more preferably 20,000, and particularly preferably 10,000.
The acid value of (b211) is preferably 4 to 280 (unit is mg KOH / g, hereinafter, only numerical values are described) from the viewpoint of reactivity with (b22), more preferably 4 to 100, particularly. Preferably it is 5-50.

(B2)を構成する、体積固有抵抗値が1×105〜1×1011Ω・cmの親水性ポリマー(b22)としては、ポリエーテル(b221)、ポリエーテル含有親水性ポリマー(b222)、カチオン性ポリマー(b223)およびアニオン性ポリマー(b224)が使用できる。
(b221)としては、ポリエーテルジオール(b221−1)およびポリエーテルジアミン(b221−2)、およびこれらの変性物(b221−3)が使用できる。(b222)としては、ポリエーテルセグメント形成成分としてポリエーテルジオール(b221−1)のセグメントを有するポリエーテルエステルアミド(b222−1)、(b221−1)のセグメントを有するポリエーテルアミドイミド(b222−2)、(b221−1)のセグメントを有するポリエーテルエステル(b222−3);(b221−2)のセグメントを有するポリエーテルアミド(b222−4)、および(b221−1)または(b221−2)のセグメントを有するポリエーテルウレタン(b222−5)が使用できる。
(b223)としては、非イオン性分子鎖(c1)で隔てられた2〜80個、好ましくは3〜60個のカチオン性基(c2)を分子内に有するカチオン性ポリマーが使用できる。
(b224)としては、スルホ基を有するジカルボン酸(e1)と、ジオール(b2201)またはポリエーテル(b221)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80個、好ましくは3〜60個のスルホ基を有するアニオン性ポリマーが使用できる。
As the hydrophilic polymer (b22) having a volume specific resistance value of 1 × 10 5 to 1 × 10 11 Ω · cm constituting (B2), polyether (b221), polyether-containing hydrophilic polymer (b222), Cationic polymer (b223) and anionic polymer (b224) can be used.
As (b221), polyether diol (b221-1), polyether diamine (b221-2), and modified products thereof (b221-3) can be used. As (b222), polyether ester amide (b222-1) having a segment of polyether diol (b221-1) as a polyether segment forming component, polyetheramide imide having a segment of (b221-1) (b222- 2), polyether ester (b222-3) having a segment of (b2211-1); polyetheramide (b222-4) having a segment of (b2211-2), and (b2211-1) or (b221-2) Polyether urethane (b222-5) having a segment of) can be used.
As (b223), a cationic polymer having 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups (c2) separated by a nonionic molecular chain (c1) in the molecule can be used.
As (b224), dicarboxylic acid (e1) having a sulfo group and diol (b2201) or polyether (b221) are essential structural units, and 2 to 80, preferably 3 to 60 in the molecule. An anionic polymer having a sulfo group can be used.

ポリエーテル(b221)のうち、ポリエーテルジオール(b221−1)としては、ジオール(b2201)または2価フェノール(b2202)にEOを必須成分として含むAO(C2〜12)を付加反応させることにより得られる構造のもの、例えば下記の一般式で示されるものが挙げられる。

H(OA1)mO−E1−O(A1O)m'

式中、E1は(b2201)または(b2202)から水酸基を除いた残基を表し、A1はC2〜4のアルキレン基;mおよびm’は1〜300、好ましくは2〜250、さらに好ましくは10〜100の整数を表し、mとm’とは同一でも異なっていてもよい。また、m個の(OA1)とm’個の(A1O)とは同一でも異なっていてもよく、また、これらが2種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい。
Of the polyether (b221), the polyether diol (b221-1) is obtained by addition reaction of AO (C2-12) containing EO as an essential component in the diol (b2201) or dihydric phenol (b2202). For example, the structure shown by the following general formula is mentioned.

H (OA 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ H

In the formula, E 1 represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from (b2201) or (b2202), A 1 is a C2-4 alkylene group; m and m ′ are 1 to 300, preferably 2 to 250, and more preferably. Represents an integer of 10 to 100, and m and m ′ may be the same or different. Further, m (OA 1 ) and m ′ (A 1 O) may be the same or different, and the bond form when these are composed of two or more oxyalkylene groups is random. And / or blocks.

ジオール(b2201)としては、例えばC2〜12(好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)の2価アルコール(例えば脂肪族、脂環式および芳香脂肪族2価アルコール)およびC1〜12の3級アミノ基含有ジオールが挙げられる。
脂肪族2価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールおよび1,12−ドデカンジオールが挙げられる。
脂環式2価アルコールとしては、例えば1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロオクタンジオールおよび1,3−シクロペンタンジオールが挙げられる。
芳香脂肪族2価アルコールとしては、例えばキシリレンジオール、1−フェニル−1,2−エタンジオールおよび1,4−ビス(ヒドロキシエチル)ベンゼンが挙げられる。
Examples of the diol (b2201) include C2-12 (preferably 2-10, more preferably 2-8) dihydric alcohols (for example, aliphatic, alicyclic and araliphatic dihydric alcohols) and C1-12. A tertiary amino group-containing diol may be mentioned.
Examples of the aliphatic dihydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol and 1,12-dodecanediol.
Examples of the alicyclic dihydric alcohol include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclooctanediol, and 1,3-cyclopentanediol.
Examples of the araliphatic dihydric alcohol include xylylene diol, 1-phenyl-1,2-ethanediol, and 1,4-bis (hydroxyethyl) benzene.

3級アミノ基含有ジオールとしては、脂肪族または脂環式1級モノアミン(C1〜12、好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)のビスヒドロキシアルキル(アルキル基のC1〜12、好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)化物および芳香(脂肪)族1級モノアミン(C6〜12)のビスヒドロキシアルキル(アルキル基のC1〜12)化物が挙げられる。
モノアミンのビスヒドロキシアルキル化物は、例えばモノアミンとC2〜4のAO[例えばEO、POおよびブチレンオキシド]とを反応させるか、モノアミンとC1〜12のハロゲン化ヒドロキシアルキル(例えば2−ブロモエチルアルコールおよび3−クロロプロピルアルコール)とを反応させることにより容易に得ることができる。
Tertiary amino group-containing diols include aliphatic or alicyclic primary monoamines (C1-12, preferably 2-10, more preferably 2-8) bishydroxyalkyl (alkyl group C1-12, preferably 2-10, more preferably 2-8) and aromatic (aliphatic) primary monoamines (C6-12) bishydroxyalkyl (alkyl group C1-12) compounds.
Monoamine bishydroxyalkylates are obtained by reacting, for example, monoamines with C2-4 AO [eg EO, PO and butylene oxide] or monoamines with C1-12 halogenated hydroxyalkyl (eg 2-bromoethyl alcohol and 3 It can be easily obtained by reacting with (chloropropyl alcohol).

脂肪族1級モノアミンとしては、例えばメチルアミン、エチルアミン、1−および2−プロピルアミン、n−およびi−アミルアミン、ヘキシルアミン、1,3−ジメチルブチルアミン、3,3−ジメチルブチルアミン、2−および3−アミノヘプタン、ヘプチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミンおよびドデシルアミンが挙げられる。
脂環式1級モノアミンとしては、例えばシクロプロピルアミン、シクロペンチルアミンおよびシクロヘキシルアミンが挙げられる。
芳香(脂肪)族1級モノアミンとしては、例えばアニリンおよびベンジルアミンが挙げられる。
Examples of aliphatic primary monoamines include methylamine, ethylamine, 1- and 2-propylamine, n- and i-amylamine, hexylamine, 1,3-dimethylbutylamine, 3,3-dimethylbutylamine, 2- and 3 -Aminoheptane, heptylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine and dodecylamine.
Examples of the alicyclic primary monoamine include cyclopropylamine, cyclopentylamine, and cyclohexylamine.
Examples of the aromatic (aliphatic) primary monoamine include aniline and benzylamine.

2価フェノール(b2202)としては、C6〜18(好ましくは8〜18、さらに好ましくは10〜15)、例えば単環2価フェノール(例えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシンおよびウルシオール)、ビスフェノール(例えばビスフェノールAおよび−F)および縮合多環2価フェノール(例えばジヒドロキシナフタレンおよびビナフトール)が挙げられる。   Examples of the dihydric phenol (b2202) include C6-18 (preferably 8-18, more preferably 10-15), such as monocyclic dihydric phenol (for example, hydroquinone, catechol, resorcin and urushiol), bisphenol (for example, bisphenol A). And -F) and condensed polycyclic dihydric phenols such as dihydroxynaphthalene and binaphthol.

(b2201)および(b2202)のうち帯電防止性の観点から好ましいのは、2価アルコールおよび2価フェノール、さらに好ましいのは脂肪族2価アルコールおよびビスフェノール、とくに好ましいのはエチレングリコールおよびビスフェノールAである。   Of (b2201) and (b2202), from the viewpoint of antistatic properties, preferred are dihydric alcohols and dihydric phenols, more preferred are aliphatic dihydric alcohols and bisphenols, and particularly preferred are ethylene glycol and bisphenol A. .

ジオール(b2201)または2価フェノール(b2202)に付加反応させるAOとしては、EO以外には例えばC3〜12のAO(例えばPO、1,2−、1,4−、2,3−および1,3−ブチレンオキシドおよびこれらの2種以上の混合物)が挙げられるが、必要によりその他のAOおよび置換AOを併用してもよい。
その他のAOおよび置換AOとしては、例えばC5〜12のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキシドおよびエピハロヒドリン(例えばエピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン)が挙げられる。他のAOおよび置換AOのそれぞれの使用量は、全AOの重量に基づいて帯電防止性の観点から好ましくは30%以下、さらに好ましくは0または25%以下、特に好ましくは0または20%以下である。
As AO to be subjected to addition reaction with diol (b2201) or dihydric phenol (b2202), in addition to EO, for example, C3-12 AO (for example, PO, 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1, 3-butylene oxide and a mixture of two or more thereof), but other AOs and substituted AOs may be used in combination if necessary.
Examples of other AO and substituted AO include epoxidized C5-12 α-olefin, styrene oxide and epihalohydrin (for example, epichlorohydrin and epibromohydrin). The amount of each of other AO and substituted AO used is preferably 30% or less, more preferably 0 or 25%, particularly preferably 0 or 20% or less from the viewpoint of antistatic properties based on the weight of the total AO. is there.

AOの付加モル数は、親水性ポリマー(b22)の体積固有抵抗値の観点から好ましくは、(b2201)または(b2202)の水酸基1個当り1〜300モル、さらに好ましくは2〜250モル、特に好ましくは10〜100モルである。2種以上のAOを併用するときの結合形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい。   The number of added moles of AO is preferably 1 to 300 moles, more preferably 2 to 250 moles per hydroxyl group of (b2201) or (b2202), from the viewpoint of the volume resistivity value of the hydrophilic polymer (b22). Preferably it is 10-100 mol. When two or more kinds of AO are used in combination, the coupling form may be random and / or block.

AOの付加反応は、例えばアルカリ触媒(例えば水酸化カリウムおよび水酸化ナトリウム)の存在下、100〜200℃、圧力0〜0.5MPaGの条件で行なうことができる。
ポリエーテルジオール(b221−1)中のオキシアルキレン単位の含量は、(b221−1)の重量に基づいて親水性ポリマー(b22)の体積固有抵抗値および(B)の(A)への分散性の観点から好ましくは5〜99.8%、さらに好ましくは8〜99.6%、特に好ましくは10〜98%である。また、ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は、ポリオキシアルキレン鎖の重量に基づいて(b22)の体積固有抵抗値および(B)の(A)への分散性の観点から好ましくは5〜100%、さらに好ましくは10〜100%、特に好ましくは50〜100%、最も好ましくは60〜100%である。
The addition reaction of AO can be performed, for example, in the presence of an alkali catalyst (for example, potassium hydroxide and sodium hydroxide) at 100 to 200 ° C. and a pressure of 0 to 0.5 MPaG.
The content of the oxyalkylene unit in the polyether diol (b221-1) is determined based on the weight specific resistance value of the hydrophilic polymer (b22) and the dispersibility of (B) in (A) based on the weight of (b2211-1). From this viewpoint, it is preferably 5 to 99.8%, more preferably 8 to 99.6%, and particularly preferably 10 to 98%. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 from the viewpoint of the volume resistivity value of (b22) and the dispersibility of (B) in (A) based on the weight of the polyoxyalkylene chain. -100%, more preferably 10-100%, particularly preferably 50-100%, most preferably 60-100%.

ポリエーテルジアミン(b221−2)としては、ポリエーテルジオール(b221−1)の水酸基をアミノ基(1級または2級アミノ基)に変性した構造のもの、例えば、一般式:RNH−A2−(OA1)mO−E1−O(A1O)m'−A2−NHRで示されるものが挙げられる。従って、ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は(b221−1)の場合と同じであり、(b221−2)中のオキシアルキレン単位の含量は対応する(b221−1)中のオキシアルキレン単位の含量と同じである。
上記式中の記号E1、A1、mおよびm’は前記と同様であり、A2はC2〜4のアルキ
レン基を表し、A1とA2とは同じでも異なっていてもよい。RはHまたはC1〜4(好ましくは1または2)のアルキル基を表す。
(b221−2)は、(b221−1)の両末端水酸基を種々の方法によりアミノ基に変えることにより、容易に得ることができる。
水酸基をアミノ基に変える方法としては、例えば(b221−1)の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法[例えば、(b221−1)とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノエチル化物に水素添加する方法]、(b221−1)とアミノカルボン酸またはラクタムとを反応させる方法、および(b221−1)とハロゲン化アミンをアルカリ条件下で反応させる方法が挙げられる。
The polyether diamine (b221-2) has a structure in which the hydroxyl group of the polyether diol (b221-1) is modified to an amino group (primary or secondary amino group), for example, the general formula: RNH-A 2 — Examples include (OA 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ —A 2 —NHR. Therefore, the content of the oxyethylene unit in the polyoxyalkylene chain is the same as in the case of (b2211-1), and the content of the oxyalkylene unit in (b2211-2) is the corresponding oxyalkylene in (b2211-1) Same as unit content.
Symbols E 1 , A 1 , m and m ′ in the above formula are the same as described above, A 2 represents a C2-4 alkylene group, and A 1 and A 2 may be the same or different. R represents H or a C1-4 (preferably 1 or 2) alkyl group.
(B221-2) can be easily obtained by changing both terminal hydroxyl groups of (b2211-1) to amino groups by various methods.
As a method of changing the hydroxyl group to an amino group, for example, a method of reducing a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the hydroxyl group of (b221-1) to an amino group [for example, (b2211-1) and acrylonitrile A method of reacting and hydrogenating the resulting cyanoethylated product], a method of reacting (b221-1) with an aminocarboxylic acid or lactam, and a method of reacting (b221-1) with a halogenated amine under alkaline conditions. Can be mentioned.

(b221−1)または(b221−2)の変性物(b221−3)としては、例えば(b221−1)または(b221−2)のアミノカルボン酸変性物(末端アミノ基)、同イソシアネート変性物(末端イソシアネート基)および同エポキシ変性物(末端エポキシ基)が挙げられる。   Examples of the modified product (b221-1) of (b2211-1) or (b221-2) include, for example, an aminocarboxylic acid modified product (terminal amino group) and an isocyanate modified product of (b221-1) or (b2211-2) (Terminal isocyanate group) and the same epoxy modified product (terminal epoxy group).

ポリエーテル(b221)のMnは、耐熱性およびポリオレフィン(b21)のブロックとの反応性の観点から好ましくは150〜20,000、さらに好ましくは300〜18,000、とくに好ましくは1,000〜15,000、最も好ましくは1,200〜8,000である。   Mn of the polyether (b221) is preferably 150 to 20,000, more preferably 300 to 18,000, and particularly preferably 1,000 to 15 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the block of the polyolefin (b21). 1,000, most preferably 1,200 to 8,000.

ポリエーテル含有親水性ポリマー(b222)としては、国際公開WO00/47652号公報明細書に記載のポリエーテル含有親水性ポリマー(b2)が挙げられる。   Examples of the polyether-containing hydrophilic polymer (b222) include the polyether-containing hydrophilic polymer (b2) described in WO 00/47652.

カチオン性ポリマー(b223)は、非イオン性分子鎖(c1)で隔てられた2〜80個、好ましくは3〜60個のカチオン性基(c2)を分子内に有する。
(c2)としては、4級アンモニウム塩およびホスホニウム塩を有する基が挙げられる。
The cationic polymer (b223) has 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups (c2) in the molecule separated by a nonionic molecular chain (c1).
Examples of (c2) include groups having a quaternary ammonium salt and a phosphonium salt.

(c2)の対アニオンとしては、Hammettの酸度関数(−H0)が12〜20の超強酸のアニオン、およびその他のアニオンが挙げられる。超強酸としては、(1)プロトン酸(d1)とルイス酸(d2)との組み合わせから誘導される超強酸(四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸等)、(2)プロトン酸(過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸等)が挙げられる。
その他のアニオンとしては、例えばハロゲンイオン(F-、Cl-、Br-、I-等)、OH-、PO4 -、CH3OSO4 -、C25OSO4 -、ClO4 -が挙げられる。
As the counter anion of (c2), Hammett acidity function (-H 0) super strong acid anions 12-20, and other anions. Examples of super strong acids include (1) super strong acids (tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, etc.) derived from a combination of protonic acid (d1) and Lewis acid (d2), and (2) protonic acid (peroxygen). Chloric acid, trifluoromethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, etc.).
Examples of other anions include halogen ions (F , Cl , Br , I −, etc.), OH , PO 4 , CH 3 OSO 4 , C 2 H 5 OSO 4 , and ClO 4 −. It is done.

(d1)の具体例としては、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素等が挙げられる。また、(d2)の具体例としては、三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタル等が挙げられる。
(d1)と(d2)の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせから誘導される超強酸アニオンの好ましい例としては、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、TaF6 -、BF3Cl-、PF5Cl-、SbF5Cl-、AsF5Cl-、TaF5Cl-、BF3Br-、PF5Br-、SbF5Br-、AsF5Br-、TaF5Br-、BF3-、PF5-、SbF5-、AsF5-およびTaF5-などが挙げられ、これらの2種以上の組み合わせでもよい。これらの対アニオンのうち耐熱性の観点から、好ましいのは超強酸のアニオン、さらに好ましいのはBF4 -、PF6 -、BF3Cl-およびPF5Cl-、特に好ましいのはBF4 -およびPF6 -である。
Specific examples of (d1) include hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide and the like. Specific examples of (d2) include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, and tantalum pentafluoride.
The combination of (d1) and (d2) is arbitrary, but preferred examples of superacid anions derived from these combinations include BF 4 , PF 6 , SbF 6 , AsF 6 , TaF 6 −. , BF 3 Cl , PF 5 Cl , SbF 5 Cl , AsF 5 Cl , TaF 5 Cl , BF 3 Br , PF 5 Br , SbF 5 Br , AsF 5 Br , TaF 5 Br BF 3 I , PF 5 I , SbF 5 I , AsF 5 I −, TaF 5 I − and the like, and a combination of two or more of these may be used. Among these counter anions, from the viewpoint of heat resistance, an anion of a super strong acid is preferable, BF 4 , PF 6 , BF 3 Cl and PF 5 Cl are particularly preferable, and BF 4 and are particularly preferable. PF 6 - is.

非イオン性分子鎖(c1)としては、二価の炭化水素基、またはエーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および/またはシロキシ結合を有する炭化水素基および窒素原子もしくは酸素原子を含む複素環構造を有する炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1種の二価の有機基;並びにこれらの2種以上の併用が挙げられる。   The nonionic molecular chain (c1) includes a divalent hydrocarbon group, or an ether bond, a thioether bond, a carbonyl bond, an ester bond, an imino bond, an amide bond, an imide bond, a urethane bond, a urea bond, a carbonate bond, and / or Or at least one divalent organic group selected from the group consisting of a hydrocarbon group having a siloxy bond and a hydrocarbon group having a heterocyclic structure containing a nitrogen atom or an oxygen atom; and combinations of two or more thereof. It is done.

二価の炭化水素基としては、C1〜18(好ましくは2〜8)の直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基(アルキレン基、アルケニレン基等)、例えばエチレン、プロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、デカメチレン、ドデカメチレン、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンなど;C6〜20の芳香族炭化水素基、例えば1,3−および1,4−フェニレン、2,4−および2,6−トリレン、4,4’−および2,4’−メチレンビスフェニレン、m−およびp−キシリレン、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレン、ナフチレン等;C4〜15の脂環式炭化水素基、例えばシクロヘキシレン、メチルシクロヘキシレン、4,4’−メチレンビスシクロヘキシレン、2,5−および/または2,6−ノルボルニレンなどが挙げられる。   Examples of the divalent hydrocarbon group include C1-18 (preferably 2-8) linear or branched aliphatic hydrocarbon groups (alkylene group, alkenylene group, etc.), such as ethylene, propylene, tetramethylene, hexamethylene, Decamethylene, dodecamethylene, 2,2,4-trimethylhexamethylene, etc .; C6-20 aromatic hydrocarbon groups such as 1,3- and 1,4-phenylene, 2,4- and 2,6-tolylene, 4 , 4′- and 2,4′-methylenebisphenylene, m- and p-xylylene, α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene, naphthylene, etc .; C4-15 alicyclic hydrocarbon group, Examples include cyclohexylene, methylcyclohexylene, 4,4′-methylenebiscyclohexylene, 2,5- and / or 2,6-norbornylene. That.

エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および/またはシロキシ結合を有する二価の炭化水素基としては、(ポリ)オキシアルキレン基、例えば前記ポリエーテルジオール(b22−1)の残基[例えば−(OA1)m−E1−(A1O)m'−(式中、E1、A1、mおよびm’は前記と同様)]、および一般式−A1−O−E1−で示されるモノエーテルジオールの残基(式中、E1、A1は前記と同様);上記に相当する(酸素原子がイオウ原子に置き換った)ポリチオエーテルの残基;ポリエステルおよび/または
ポリアミドの残基、例えば下記一般式(1)〜(4)で示される基;ポリウレタンおよび/またはポリウレアの残基、例えば下記一般式(5)で示される基;ポリカーボネート[前記ジオール(b2201)とホスゲンとから誘導される]の残基;ポリシロキサン(ポリオルガノシロキサン、例えばポリジメチルシロキサン)の残基などが挙げられる。
The divalent hydrocarbon group having an ether bond, thioether bond, carbonyl bond, ester bond, imino bond, amide bond, imide bond, urethane bond, urea bond, carbonate bond and / or siloxy bond includes (poly) oxyalkylene group, for example, residues [e.g. the polyether diol (b22-1) - (OA 1) m -E 1 - (a 1 O) m '- ( wherein, E 1, a 1, m and m' The same as above), and the residue of a monoether diol represented by the general formula -A 1 -O-E 1- (wherein E 1 and A 1 are the same as above); Residues of polythioethers (replaced by sulfur atoms); residues of polyesters and / or polyamides, eg groups of the following general formulas (1) to (4); polyurethanes and / or polyureas A group such as a group represented by the following general formula (5); a residue of polycarbonate [derived from the diol (b2201) and phosgene]; a residue of polysiloxane (polyorganosiloxane such as polydimethylsiloxane) Can be mentioned.

上記一般式(1)〜(5)中、Dは酸素原子またはイミノ基、R1はC1〜11の炭化水素基、R2はカチオン性基と結合する二価の有機基、E2はジオールの残基(Dが酸素原子の場合)またはジアミンの残基(Dがイミノ基の場合)、E3はジカルボン酸の残基、E4は後述の有機ジイソシアネートの残基、uおよびvは0または1、kは1〜20の整数を表す。
1には、ラクタムの残基(Dがイミノ基の場合)およびラクトンの残基(Dが酸素原子の場合)が含まれ、ラクタムとしては前記のもの、ラクトンとしては前記ラクタムに相当するラクトン(カプロラクトンなど)が挙げられる。
R2としては、C2〜12の二価の炭化水素基、例えばアルキレン基、および前記(ポリ)オキシアルキレン基[−A1−O−E1−、−(A1O)m−E1−(OA1m'−]が挙げられる。
In the general formulas (1) to (5), D is an oxygen atom or imino group, R 1 is a C 1-11 hydrocarbon group, R 2 is a divalent organic group bonded to a cationic group, and E 2 is a diol. (if D is an imino group) residue (when D is an oxygen atom) or a diamine residue, E3 residues of dicarboxylic acids, residue of an organic diisocyanate E 4 will be described later, u and v are 0 or 1, k represents an integer of 1-20.
R 1 includes a lactam residue (when D is an imino group) and a lactone residue (when D is an oxygen atom), the lactam as described above, and the lactone as a lactone corresponding to the lactam. (Such as caprolactone).
The R2, divalent hydrocarbon group of C2-12, such as an alkylene group, and the (poly) oxyalkylene group [-A 1 -O-E 1 - , - (A 1 O) m -E 1 - ( OA 1) m '-] and the like.

2のうちジオールの残基としては、二価アルコール(例えば前述のようなC2〜12の脂肪族、脂環族および芳香族二価アルコール)、これらのAO(C2〜4)付加物(付加モル数1〜20またはそれ以上)、二価フェノール(例えば前述のようなC6〜18の二価フェノール)のAO(C2〜4)付加物(付加モル数2〜20またはそれ以上)、およびこれらの2種以上の混合物などのジオールからヒドロキシル基を除いた残基が挙げられる。 Among E 2 , diol residues include dihydric alcohols (for example, C2-12 aliphatic, alicyclic and aromatic dihydric alcohols as described above), and AO (C2-4) adducts (additions). 1 to 20 or more moles), AO (C2-4) adducts (2 to 20 or more moles added) of dihydric phenols (eg, C6-18 dihydric phenols as described above), and these And a residue obtained by removing a hydroxyl group from a diol, such as a mixture of two or more thereof.

2のうちジアミンの残基としては、低分子量ジアミン、例えば前記ジイソシアネートに相当するジアミン:C2〜20の脂肪族ジアミン(エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン等)、C6〜15の脂環式ジアミン(1,4−シクロヘキシレンジアミン、イソホロンジアミン、4,4’−ジアミノシクロヘキシルメタン等)、C8〜15の芳香脂肪族ジアミン(キシリレンジアミン等)、C6〜15の芳香族ジアミン[p−フェニレンジアミン、2,4−および2,6−トルエンジアミン、2,2−ビス(4,4’−ジアミノフェニル)プロパン等]、前記ポリエーテルジアミン(b221−2)、およびこれらの2種以上の混合物などのジアミンからアミノ基を除いた残基が挙げられる。 Among E 2 , the diamine residue is a low molecular weight diamine, for example, a diamine corresponding to the diisocyanate: C2-20 aliphatic diamine (ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, 1,12-dodecanediamine, etc.), C6 -15 alicyclic diamine (1,4-cyclohexylenediamine, isophorone diamine, 4,4'-diaminocyclohexylmethane, etc.), C8-15 araliphatic diamine (xylylenediamine, etc.), C6-15 fragrance Group diamine [p-phenylenediamine, 2,4- and 2,6-toluenediamine, 2,2-bis (4,4′-diaminophenyl) propane, etc.], the polyether diamine (b221-2), and these A residue obtained by removing an amino group from a diamine, such as a mixture of two or more of The

3としては、ジカルボン酸[C4〜12の脂肪族ジカルボン酸(例えばコハク酸、アジピン酸、グルタル酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸などの飽和ジカルボン酸、および前記不飽和ジカルボン酸)、C8〜15の芳香族ジカルボン酸(フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等)、およびこれらの2種以上の混合物などのジカルボン酸からカルボキシル基を除いた残基が挙げられる。
4としては有機ジイソシアネート(例えば前述のような芳香族、脂肪族、脂環式および芳香脂肪族ジイソシアネート、これらの変性体、およびこれらの2種以上の混合物)からイソシアネート基を除いた残基が挙げられる。
E 3 may be a dicarboxylic acid [C4-12 aliphatic dicarboxylic acid (for example, succinic acid, adipic acid, glutaric acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, etc.) Dicarboxylic acid), C8-15 aromatic dicarboxylic acid (phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, etc.), and residues obtained by removing the carboxyl group from dicarboxylic acid such as a mixture of two or more thereof.
E 4 is a residue obtained by removing an isocyanate group from an organic diisocyanate (for example, aromatic, aliphatic, alicyclic and araliphatic diisocyanates as described above, modified products thereof, and mixtures of two or more thereof). Can be mentioned.

上記有機ジイソシアネートとしては、C(NCO基中の炭素を除く、以下同様)6〜20の芳香族ジイソシアネート、C2〜18の脂肪族ジイソシアネート、C4〜15の脂環式ジイソシアネート、C8〜15の芳香脂肪族ジイソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体およびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
上記芳香族ジイソシアネートの具体例としては、1,3−および1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−および2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、粗製TDI、2,4’−および4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、1,5−ナフチレンジイソシアネートなどが挙げられる。
上記脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネート、2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエートなどが挙げられる。
Examples of the organic diisocyanate include C (excluding carbon in the NCO group, the same shall apply hereinafter) 6 to 20 aromatic diisocyanate, C2 to 18 aliphatic diisocyanate, C4 to 15 alicyclic diisocyanate, and C8 to 15 aromatic fat. Group diisocyanates, modified products of these diisocyanates, and mixtures of two or more thereof.
Specific examples of the aromatic diisocyanate include 1,3- and 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- and 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), crude TDI, 2,4′- and 4,4. '-Diphenylmethane diisocyanate (MDI), 4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanato Examples thereof include diphenylmethane and 1,5-naphthylene diisocyanate.
Specific examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and 2,6-diisocyanatomethyl carbonate. Examples include proate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate.

上記脂環式ジイソシアネートの具体例としては、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート、2,5−又は2,6−ノルボルナンジイソシアネートなどが挙げられる。
上記芳香脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、m−またはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)などが挙げられる。
また、上記ジイソシアネートの変性体としては、ウレタン変性体、ウレア変性体、カルボジイミド変性体及びウレトジオン変性体などが挙げられる。
これらのうち、好ましいのはTDI、MDIおよびHDI、特に好ましいのはHDIである。
Specific examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), bis (2- And isocyanatoethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate, 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate.
Specific examples of the araliphatic diisocyanate include m- or p-xylylene diisocyanate (XDI), α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and the like.
Examples of the modified diisocyanate include urethane-modified, urea-modified, carbodiimide-modified, and uretdione-modified.
Of these, TDI, MDI and HDI are preferred, and HDI is particularly preferred.

非イオン性分子鎖(c1)の分子量は通常分子量28〜Mn10,000、好ましくは300〜5,000である。これらの非イオン性分子鎖(c1)のうち好ましいのは、二価の炭化水素基およびエーテル結合を有する二価の炭化水素基、さらに好ましいのはC1〜8のアルキレン基(ヘキサメチレン基等)、フェニレン基;並びに(ポリ)オキシアルキレン基、とくに好ましいのは(ポリ)オキシエチレン基、(ポリ)オキシプロピレン基である。   The molecular weight of the nonionic molecular chain (c1) is usually a molecular weight of 28 to Mn 10,000, preferably 300 to 5,000. Among these nonionic molecular chains (c1), a divalent hydrocarbon group and a divalent hydrocarbon group having an ether bond are preferable, and a C1-8 alkylene group (such as a hexamethylene group) is more preferable. , Phenylene groups; and (poly) oxyalkylene groups, particularly preferred are (poly) oxyethylene groups and (poly) oxypropylene groups.

カチオン性ポリマー(b223)としては、例えば下記一般式(6)で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。   Examples of the cationic polymer (b223) include those having a repeating unit represented by the following general formula (6).

式中、Mは窒素原子またはリン原子、J-は対アニオン、dは2〜60の整数、L1は非イオン性分子鎖(c1)、R3、R4は一価の非イオン性有機基である。さらに、(b223)は、下記一般式(7)または(8)で示されるように一般式(6)の隣接するR3および/またはR4がそれぞれ互いに結合して二価の非イオン性有機基(L3、L5)となりM+とともに環を形成していてもよい。 In the formula, M is a nitrogen atom or phosphorus atom, J is a counter anion, d is an integer of 2 to 60, L 1 is a nonionic molecular chain (c1), R 3 and R 4 are monovalent nonionic organic compounds It is a group. Further, (b223) is a divalent nonionic organic compound in which adjacent R 3 and / or R 4 in the general formula (6) are bonded to each other as shown in the following general formula (7) or (8). It may become a group (L 3 , L 5 ) and may form a ring together with M + .

式中、Mは窒素原子またはリン原子、L2、L3、L4およびL5は二価の非イオン性分子鎖、R4、R4'は一価の非イオン性有機基、J-は対アニオン、eは1〜30の整数である。 In the formula, M is a nitrogen atom or phosphorus atom, L 2 , L 3 , L 4 and L 5 are divalent nonionic molecular chains, R 4 and R 4 ′ are monovalent nonionic organic groups, J Is a counter anion, and e is an integer of 1-30.

一般式(6)および(7)におけるR3、R4およびR4'としては、エーテル結合もしくはエステル結合を有していてもよい、C1〜20の、脂肪族、脂環式および芳香族の一価炭化水素基[例えばばアルキル基(メチル基、エチル基、オクチル基、ドデシル基等)、アルケニル基(アリル基、1−ブテニル基、オレイル基等)、(置換)アラルキル基(ベンジル基、4−メチルベンジル基等)、脂環式炭化水素基(シクロヘキシル基等)、アルコキシ(C1〜12)アルキル(C1〜20)基(メトキシエチル基等)、アシロキシ(C1〜12)アルキル(C1〜20)基(アセトキシ基等)]等が挙げられる。
dは通常2〜60またはそれ以上の整数で、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン(b211)〜(b216)との反応性の観点から好ましくは3〜50、さらに好ましくは5〜30の整数である。
R 3 , R 4 and R 4 ′ in the general formulas (6) and (7) may have an ether bond or an ester bond, and may be an aliphatic, cycloaliphatic or aromatic group of C1-20. Monovalent hydrocarbon group [eg, alkyl group (methyl group, ethyl group, octyl group, dodecyl group, etc.), alkenyl group (allyl group, 1-butenyl group, oleyl group, etc.), (substituted) aralkyl group (benzyl group, 4-methylbenzyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon group (cyclohexyl group, etc.), alkoxy (C1-12) alkyl (C1-20) group (methoxyethyl group, etc.), acyloxy (C1-12) alkyl (C1- 20) group (acetoxy group and the like)] and the like.
d is an integer of usually 2 to 60 or more, preferably 3 to 50, more preferably an integer of 5 to 30 from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (b211) to (b216). is there.

1〜L5としては、前述のような非イオン性分子鎖(c1)が挙げられる。 Examples of L 1 to L 5 include the nonionic molecular chain (c1) as described above.

カチオン性ポリマー(b223)の好ましい例としては、一般式(6)または(8)の繰り返し単位を有するものである。さらに好ましい例としては、一般式(6)において、R3、R4がC1〜8のアルキル基、L1がポリエステルの残基[とくに好ましいのは一般式(2)中R2がC2〜4のアルキレン基、Dが酸素原子、kが1であるポリエステル]であるもの、および一般式(8)においてL2、L3およびL5がC2〜8のアルキレン基、L4がC2〜20のアルキレン基であるものである。それらの具体例としては下記式(9)および(10)で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。 Preferable examples of the cationic polymer (b223) are those having a repeating unit of the general formula (6) or (8). More preferable examples include those in the general formula (6), wherein R 3 and R 4 are C1-8 alkyl groups, and L 1 is a polyester residue [particular preference is given to R 2 in the general formula (2) being C2-4. An alkylene group, a polyester in which D is an oxygen atom, and k is 1], and in general formula (8), L 2 , L 3 and L 5 are C2-8 alkylene groups, and L 4 is C2-20. It is an alkylene group. Specific examples thereof include those having a repeating unit represented by the following formulas (9) and (10).

式(9)および(10)中、J-は対アニオン、fは2〜12の整数を表す。 In formulas (9) and (10), J represents a counter anion, and f represents an integer of 2 to 12.

カチオン性ポリマー(b3)の他の例としては、下記一般式(11)で示される繰り返し単位を有するものが挙げられる。   Other examples of the cationic polymer (b3) include those having a repeating unit represented by the following general formula (11).

式(11)中、Aは三価の炭化水素基、M、J-、R3、R4、R4'及びdは前記と同じである。
三価の炭化水素基Aとしては、C2〜20の三価の脂肪族炭化水素基、例えば、−CH2(CH2gCH<で示される基(gは0又は1〜18の整数)、C6〜12の3価の芳香族炭化水素基、例えば結合位置が1,3,5−、1,2,4−又は1,2,3−であるベンゼン環が挙げられる。
カチオン性基(c2)としては、四級アンモニウム塩又はホスホニウム塩を有する基が挙げられる。四級アンモニウム塩を有する基としては二価の四級アンモニウム塩含有複素環基が好ましい。
二価の四級アンモニウム塩基含有複素環基としては、二価の三級アミノ基含有複素環基[例えば二価のイミダゾール環基(1,4−イミダゾレン基、2−フェニル−1,4−イミダゾレン基など)、二価のピペリジン環基(2,3−、3,4−又は2,6−ピペリジレン基)、二価の芳香複素環基(2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−又は3,5−ピリジレン基、2,5−ピリミジニレン基、3,6−ピリダジニレン基、2,5−ピラジニレン基など)]が四級化された構造の基が挙げられる。
In formula (11), A is a trivalent hydrocarbon group, M, J , R 3 , R 4 , R 4 ′ and d are the same as described above.
The trivalent hydrocarbon group A is a C2-20 trivalent aliphatic hydrocarbon group, for example, a group represented by —CH 2 (CH 2 ) g CH <(g is 0 or an integer of 1 to 18). , C6-12 trivalent aromatic hydrocarbon group, for example, a benzene ring in which the bonding position is 1,3,5-, 1,2,4- or 1,2,3-.
Examples of the cationic group (c2) include a group having a quaternary ammonium salt or a phosphonium salt. The group having a quaternary ammonium salt is preferably a divalent quaternary ammonium salt-containing heterocyclic group.
Examples of the divalent quaternary ammonium base-containing heterocyclic group include a divalent tertiary amino group-containing heterocyclic group [for example, a divalent imidazole ring group (1,4-imidazolene group, 2-phenyl-1,4-imidazolene). Group), divalent piperidine ring group (2,3-, 3,4- or 2,6-piperidylene group), divalent aromatic heterocyclic group (2,3-, 2,4-, 2,5). -, 2,6-, 3,4- or 3,5-pyridylene group, 2,5-pyrimidinylene group, 3,6-pyridazinylene group, 2,5-pyrazinylene group, etc.)] Groups.

カチオン性ポリマー(b223)の末端構造はポリオレフィン(b21)のブロックとの反応性の観点から好ましいのはカルボニル基、水酸基またはアミノ基である。
(b223)のMnは、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン(b211)〜(b216)との反応性の観点から、好ましくは500〜20,000、さらに好ましくは1,000〜15,000、とくに好ましくは1,200〜8,000である。
The terminal structure of the cationic polymer (b223) is preferably a carbonyl group, a hydroxyl group or an amino group from the viewpoint of reactivity with the block of the polyolefin (b21).
Mn of (b223) is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000, particularly from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (b211) to (b216). Preferably, it is 1,200 to 8,000.

アニオン性ポリマー(b224)は、スルホ基を有するジカルボン酸(e1)と、ジオール(b2201)またはポリエーテル(b221)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80個、好ましくは3〜60個のスルホ基を有する。   The anionic polymer (b224) has a dicarboxylic acid (e1) having a sulfo group and a diol (b2201) or a polyether (b221) as essential structural units, and 2 to 80, preferably 3 to 60 in the molecule. Having one sulfo group.

(e1)としては、スルホ基を有する芳香族ジカルボン酸、例えば5−スルホ−、2−スルホ−および4−スルホイソフタル酸、4−スルホ−2,6−ナフタレンジカルボン酸、およびこれらのエステル形成性誘導体[低級アルキル(C1〜4)エステル(メチルエステル、エチルエステル等)、酸無水物等];スルホ基を有する脂肪族ジカルボン酸、例えばスルホコハク酸、そのエステル形成性誘導体[低級アルキル(C1〜4)エステル(メチルエステル、エチルエステル等)、酸無水物等];およびこれらのスルホ基のみの塩〔アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)塩、アルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)塩、アンモニウム塩、有機アミン塩[モノ−、ジ−およびトリ−アルキル(C1〜4)アミン(モノ−、ジ−およびトリエチルアミン等)、またはヒドロキ
シアルキル(C2〜4)基を有するアミン(モノ−、ジ−およびトリエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン等)等]およびこれらアミンの四級アンモニウム塩等];およびこれらの2種以上の併用が挙げられる。
これらのうち好ましいのはスルホ基を有する芳香族ジカルボン酸(塩)、さらに好ましいのは5−スルホイソフタル酸塩(とくに5−スルホイソフタル酸−ナトリウムおよび−カリウム)である。
(E1) is an aromatic dicarboxylic acid having a sulfo group, such as 5-sulfo-, 2-sulfo- and 4-sulfoisophthalic acid, 4-sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and ester forming properties thereof. Derivatives [lower alkyl (C1-4) esters (methyl esters, ethyl esters, etc.), acid anhydrides, etc.]; aliphatic dicarboxylic acids having a sulfo group, such as sulfosuccinic acid, ester-forming derivatives thereof [lower alkyl (C1-4 ) Esters (methyl esters, ethyl esters, etc.), acid anhydrides, etc.]; and salts of these sulfo groups only [alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) salts, alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.) salts, Ammonium salts, organic amine salts [mono-, di- and tri-alkyl (C1-4) amines -, Di- and triethylamine etc.), or amines having hydroxyalkyl (C2-4) groups (mono-, di- and triethanolamine, diethylethanolamine etc.) and the like, and quaternary ammonium salts of these amines etc.]; And a combination of two or more of these.
Of these, preferred are aromatic dicarboxylic acids (salts) having a sulfo group, and more preferred are 5-sulfoisophthalates (especially 5-sulfoisophthalic acid-sodium and -potassium).

アニオン性ポリマー(b224)を構成するジオール(b2201)またはポリエーテル(b221)のうち好ましいのは、C2〜10のアルカンジオール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール(重合度2〜20)、ビスフェノール(ビスフェノールA等)のEO付加物(付加モル数2〜60)およびこれらの2種以上の混合物である。
(b224)のMnは、帯電防止性および前記末端変性ポリオレフィン(b211)〜(b216)との反応性の観点から、好ましくは500〜20,000、さらに好ましくは1,000〜15,000、とくに好ましくは1,200〜8,000である。
親水性ポリマー(b22)として上述したものは、2種以上を任意に併用してもよい。
Of the diol (b2201) or polyether (b221) constituting the anionic polymer (b224), C2-10 alkanediol, ethylene glycol, polyethylene glycol (degree of polymerization 2-20), bisphenol (bisphenol A, etc.) ) EO adduct (addition mole number 2 to 60) and a mixture of two or more thereof.
Mn of (b224) is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000, particularly from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with the terminal-modified polyolefins (b211) to (b216). Preferably, it is 1,200 to 8,000.
As the hydrophilic polymer (b22), two or more kinds may be arbitrarily used in combination.

(b22)の体積固有抵抗値(後述の方法で、23℃、50%RHの雰囲気下で測定される値。単位Ω・cm)は成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましい下限は105、さらに好ましくは106、とくに好ましくは107、成形品の樹脂の帯電防止性の観点から好ましい上限は1011、さらに好ましくは1010、とくに好ましくは109である。
(b22)のMnは、耐熱性およびポリオレフィン(b21)のブロックとの反応性の観点から好ましい下限は150、さらに好ましくは300、とくに好ましくは1,000、最も好ましくは1,200、好ましい上限は20,000、さらに好ましくは18,000、とくに好ましくは15,000、最も好ましくは8,000である。
The volume resistivity value of (b22) (value measured in an atmosphere described later at 23 ° C. and 50% RH. Unit Ω · cm) is preferably 10 5 from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. More preferably, it is 10 6 , particularly preferably 10 7 , and the upper limit is preferably 10 11 , more preferably 10 10 , and particularly preferably 10 9 from the viewpoint of the antistatic property of the resin of the molded product.
Mn of (b22) is preferably 150 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the block of polyolefin (b21), more preferably 300, particularly preferably 1,000, most preferably 1,200, and preferred upper limit is 20,000, more preferably 18,000, particularly preferably 15,000, most preferably 8,000.

ブロックポリマー(B2)は、上記ポリオレフィン(b21)のブロックと、親水性ポリマー(b22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するものであり、これらのうち帯電防止性および透明性の観点から好ましいのは、(b22)がポリエーテル(b221)であるブロックポリマー(B21)、(b22)がカチオン性ポリマー(b223)であるブロックポリマー(B23)、(b22)がアニオン性ポリマー(b224)であるブロックポリマー(B24)である。   The block polymer (B2) is at least one selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond, in which the polyolefin (b21) block and the hydrophilic polymer (b22) block are included. The block polymer (B21) in which (b22) is a polyether (b221) is preferable from the viewpoint of antistatic properties and transparency. (B22) is a block polymer (B23) which is a cationic polymer (b223), and (b22) is a block polymer (B24) which is an anionic polymer (b224).

ブロックポリマー(B21)は、下記一般式(12)で示される繰り返し単位を有する。   The block polymer (B21) has a repeating unit represented by the following general formula (12).

式(12)において、nは2〜50(好ましくは3〜40、さらに好ましくは4〜30、特に好ましくは4〜30)の整数;R5およびR6の一方はHで他方はHまたはメチル基;yは15〜800(好ましくは20〜500、さらに好ましくは30〜400)の整数;E1、A1、mおよびm’は前記と同様であり;XおよびX’は、下記一般式(13)、(14)および対応する(13’)、(14’)から選ばれる基、すなわち、Xが一般式(13)で示される基のとき、X’は一般式(13’)で示される基であり、一般式(14)と(14’)についても同様の関係である。 In the formula (12), n is an integer of 2 to 50 (preferably 3 to 40, more preferably 4 to 30, particularly preferably 4 to 30); one of R 5 and R 6 is H and the other is H or methyl A group; y is an integer of 15 to 800 (preferably 20 to 500, more preferably 30 to 400); E 1 , A 1 , m and m ′ are the same as described above; (13), (14) and a corresponding group selected from (13 ′), (14 ′), that is, when X is a group represented by the general formula (13), X ′ is represented by the general formula (13 ′) It is a group shown, and the same relations apply to the general formulas (14) and (14 ′).

;一般式(13)、(14)および対応する(13’)、(14’)式において、Rは前記(b222)において述べたものと同じでH又はC1〜4(好ましくは1または2)のアルキル基、R7はC2〜22(好ましくは3〜16、さらに好ましくは5〜11)の2価の炭化水素基、R8はHまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基;rは1〜20(好ましくは1〜15、さらに好ましくは1〜10)の整数であり、uは0または1;Q、Q’、TおよびT’は次式で示される基 In the general formulas (13) and (14) and the corresponding formulas (13 ′) and (14 ′), R is the same as described in the above (b222) and H or C1-4 (preferably 1 or 2); R 7 is a C 2-22 (preferably 3-16, more preferably 5-11) divalent hydrocarbon group, R 8 is H or C 1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6) alkyl group; r is an integer of 1-20 (preferably 1-15, more preferably 1-10), u is 0 or 1; Q, Q ′, T and T ′ are represented by the following formulae: Group represented by

;上記の一般式(15)、(16)および対応する(15’)、(16’)式中、R9は
HまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基、R10はHまたはメチル基、tはR10がメチル基のとき1、Hのとき0である。
In the above general formulas (15) and (16) and the corresponding (15 ′) and (16 ′) formulas, R 9 is H or C 1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6) A group, R 10 is H or a methyl group, t is 1 when R 10 is a methyl group, and 0 when H is H.

一般式(12)で示される繰り返し単位中の{ }内のポリエーテルセグメント{(O
1)mO−E1−O(A1O)m'}は、前記ポリエーテルジオール(b221−1)またはポ
リエーテルジアミン(b221−2)に由来する構造であり、式中のE1、A1、mおよびm’は前記と同様である。
Polyether segment {in {} in the repeating unit represented by the general formula (12) {(O
A 1 ) m O—E 1 —O (A 1 O) m ′ } is a structure derived from the polyether diol (b221-1) or the polyether diamine (b221-2), and E 1 in the formula , A 1 , m and m ′ are the same as described above.

一般式(12)において、Xが一般式(13)で示される基、およびX’が一般式(13’)で示される基であるブロックポリマーには、前記末端変性ポリオレフィン(b2111)および/または(b2112)と(b221−1)とを重合反応させることにより得られる(B211)と、(b2111)および/または(b2112)と(b221−2)とを重合反応させることにより得られる(B212)とが含まれる。
(B211)には(b2111)と(b221−1)とを組み合わせた(B211−1)、(b2112)と(b221−1)とを組み合わせた(B211−2)、および(B211−1)と(B211−2)の混合物が含まれる。また、同様に(B212)には(b2111)と(b221−2)とを組み合わせた(B212−1)、(b2112)と(b221−2)とを組み合わせた(B212−2)、および(B212−1)と(B212−2)の混合物が含まれる。
In the general formula (12), the terminal-modified polyolefin (b2111) and / or the block polymer in which X is a group represented by the general formula (13) and X ′ is a group represented by the general formula (13 ′) (B2112) obtained by polymerizing (b2112) and (b2211-1) and (b2111) and / or (b2112) and (b221-2) obtained by polymerizing (B212) And are included.
(B211) is a combination of (b2111) and (b221-1) (B21-1), (b2112) is a combination of (b21-1) (B2111-2), and (B21-1) A mixture of (B211-2) is included. Similarly, (B212) is a combination of (B212-1), (b2112) and (b221-2) is combined with (B212-2), and (B212) is combined with (B212). -1) and a mixture of (B212-2).

(B211)は、例えば(b2111)および/または(b2112)に、(b221−1)を加えて減圧下、通常200〜250℃で重合(重縮合)反応を行う方法、または、一軸もしくは二軸の押出機を用い、通常160〜250℃、滞留時間0.1〜20分で重合する方法により製造することができる。
上記の重合反応では、種々の触媒、例えばアンチモン触媒(例えば三酸化アンチモン);スズ触媒(例えばモノブチルスズオキシド);チタン触媒(例えばテトラブチルチタネート);ジルコニウム触媒(例えばテトラブチルジルコネート);有機酸金属塩触媒[例えばジルコニウム有機酸塩(例えば酢酸ジルコニル)および酢酸亜鉛];およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。これらのうち好ましいのは、ジルコニウム触媒およびジルコニウム有機酸塩、さらに好ましいのは酢酸ジルコニルである。
触媒の使用量は、(b2111)および/または(b2112)と(b221−1)の合計重量に対して、好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(B211) is, for example, a method in which (b2211-1) is added to (b2111) and / or (b2112) and a polymerization (polycondensation) reaction is usually performed at 200 to 250 ° C. under reduced pressure, or uniaxial or biaxial In general, it can be produced by a method of polymerizing at 160 to 250 ° C. and a residence time of 0.1 to 20 minutes.
In the above polymerization reaction, various catalysts such as antimony catalysts (eg antimony trioxide); tin catalysts (eg monobutyltin oxide); titanium catalysts (eg tetrabutyl titanate); zirconium catalysts (eg tetrabutylzirconate); organic acids Metal salt catalysts [eg zirconium organic acid salts (eg zirconyl acetate) and zinc acetate]; and mixtures of two or more thereof. Of these, preferred are zirconium catalyst and zirconium organic acid salt, and more preferred is zirconyl acetate.
The amount of the catalyst used is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%, based on the total weight of (b2111) and / or (b2112) and (b2211-1).

(B211)のうち、(B211−2)は(b2111)を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性した後に、(b221−1)を加えて反応させてもよいし、(b2111)とラクタムもしくはアミノカルボン酸を(b221−1)の存在下反応させ、続いて(b221−1)と反応させて製造してもよい。   Among (B211), (B2111) may be reacted with (b2111) after the secondary modification of (b2111) with the lactam or aminocarboxylic acid, or (b2111) and the lactam or An aminocarboxylic acid may be reacted in the presence of (b2211-1) and subsequently reacted with (b2211-1).

(B212)は、(B211)における(b2111)および/または(b2112)と(b221−1)の組み合わせを、(b2111)および/または(b2112)と(b221−2)の組み合わせに代える以外は(B211)と同様の方法で製造することができる。
また、(B212)のうち、(B212−2)は(b2111)を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性した後に、これと(b221−2)とを反応させて製造してもよい。
(B212) is different from (B2111) except that the combination of (b2111) and / or (b2112) and (b221-1) is replaced with the combination of (b2111) and / or (b2112) and (b221-2) ( B211).
Moreover, (B212-2) among (B212) may be produced by reacting (b2111) with (b2111) after secondary modification of (b2111) with the lactam or aminocarboxylic acid.

一般式(12)において、Xが一般式(14)で示される基、およびX’が一般式(14’)で示される基であるブロックポリマーには、(b2113)(r=1の場合)および/または(b2114)(r≧2の場合)と(b221−1)とを重合反応させることにより得られる(B213)と、(b2113)および/または(b2114)と(b221−2)とを重合反応させることにより得られる(B214)とが含まれる。
(B213)には(b2113)と(b221−1)とを組み合わせた(B213−1)、(b2114)と(b221−1)とを組み合わせた(B213−2)、および(B213−1)と(B213−2)の混合物が含まれる。また、同様に(B214)には(b2113)と(b221−2)とを組み合わせた(B214−1)、(b2114)と(b221−2)とを組み合わせた(B214−2)、および(B214−1)と(B214−2)の混合物が含まれる。
(B213)および(B214)は(B211)や(B212)と同様の方法で製造することができる。
In the general formula (12), the block polymer in which X is a group represented by the general formula (14) and X ′ is a group represented by the general formula (14 ′) includes (b2113) (when r = 1) And / or (b2114) (in the case of r ≧ 2) and (b221-1) and (B213), (b2113) and / or (b2114) and (b2211-2) obtained by polymerization reaction (B214) obtained by a polymerization reaction.
(B213) is a combination of (B2113) and (b221-1), (B213-1), (b2114) and (b221-1) are combined (B213-2), and (B213-1) A mixture of (B213-2) is included. Similarly, (B214) is a combination of (B214-1) in which (b2113) and (b221-2) are combined with (B214-1), (B214-2) in which (b2114) is combined with (b221-2), and (B214). -1) and a mixture of (B214-2).
(B213) and (B214) can be produced in the same manner as (B211) and (B212).

ブロックポリマー(B23)は、カチオン性ポリマー(b223)のブロックを有するものであり、前記ポリオレフィン(b21)と(b223)とが繰り返し交互に結合した構造を有する。(B23)は前記(b211)〜(b213)と(b223)との重合反応により得ることができ、上記(B21)における、(b2111)および/または(b2112)と(b221)との重合反応と同様の方法で製造することができる。また、必要により、(b223)と(b221)とを任意の割合(例えば1:9〜9:1の重量比)で併用することができる。
(B23)中のカチオン性基(c2)の含量は、帯電防止性の観点から(B23)1分子当たり好ましくは2〜500個、さらに好ましくは10〜300個、とくに好ましくは15〜250個である。また、(c2)1個当たりの(B23)のMnは、帯電防止性の観点から好ましくは120〜30,000、さらに好ましくは200〜6,000、とくに好ましくは300〜4,000である。
The block polymer (B23) has a block of the cationic polymer (b223) and has a structure in which the polyolefins (b21) and (b223) are repeatedly and alternately bonded. (B23) can be obtained by the polymerization reaction of (b211) to (b213) and (b223), and the polymerization reaction of (b2111) and / or (b2112) and (b221) in (B21) above It can be manufactured by a similar method. Moreover, (b223) and (b221) can be used together in arbitrary ratios (for example, weight ratio of 1: 9-9: 1) as needed.
The content of the cationic group (c2) in (B23) is preferably 2 to 500, more preferably 10 to 300, and particularly preferably 15 to 250 per molecule from the viewpoint of antistatic properties (B23). is there. Further, the Mn of (B23) per (c2) is preferably 120 to 30,000, more preferably 200 to 6,000, and particularly preferably 300 to 4,000 from the viewpoint of antistatic properties.

ブロックポリマー(B24)は、アニオン性ポリマー(b224)のブロックを有するものであり、前記ポリオレフィン(b21)と(b224)とが繰り返し交互に結合した構造を有する。(B24)は前記(b211)〜(b213)と(b224)との重合反応により得ることができ、上記(B21)と同様の方法で製造することができる。また、必要により、(b224)と(b221)とを任意の割合(例えば1:9〜9:1の重量比)で併用してもよい。
(B24)中のスルホ基の含量は、帯電防止性の観点から(B24)1分子当たり好ましくは2〜500個、さらに好ましくは10〜300個、とくに好ましくは15〜250個である。また、スルホ基1個当たりの(B24)のMnは、帯電防止性の観点から好ましくは120〜30,000、さらに好ましくは200〜6,000、とくに好ましくは300〜4,000である。
The block polymer (B24) has a block of the anionic polymer (b224), and has a structure in which the polyolefins (b21) and (b224) are repeatedly and alternately bonded. (B24) can be obtained by the polymerization reaction of (b211) to (b213) and (b224), and can be produced by the same method as (B21) above. Moreover, you may use together (b224) and (b221) by arbitrary ratios (for example, weight ratio of 1: 9-9: 1) as needed.
The content of the sulfo group in (B24) is preferably 2 to 500, more preferably 10 to 300, and particularly preferably 15 to 250 per molecule of (B24) from the viewpoint of antistatic properties. The Mn of (B24) per sulfo group is preferably 120 to 30,000, more preferably 200 to 6,000, and particularly preferably 300 to 4,000 from the viewpoint of antistatic properties.

ブロックポリマー(B2)を構成する(b22)の量は、帯電防止性の観点から好ましくは(b21)と(b22)との合計重量に基づいて20〜90%、さらに好ましくは25〜80%、特に好ましくは30〜70%である。   The amount of (b22) constituting the block polymer (B2) is preferably 20 to 90%, more preferably 25 to 80% based on the total weight of (b21) and (b22), from the viewpoint of antistatic properties. Especially preferably, it is 30 to 70%.

ブロックポリマー(B2)のMnは、帯電防止性および(B2)の(A)への分散性の観点から好ましくは2,000〜60,000、さらに好ましくは5,000〜40,000、特に好ましくは8,000〜30,000である。   Mn of the block polymer (B2) is preferably from 2,000 to 60,000, more preferably from 5,000 to 40,000, particularly preferably from the viewpoint of antistatic properties and dispersibility of (B2) in (A). Is 8,000-30,000.

(B2)の構造において、(b21)のブロックと、(b22)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数(Nn)は、帯電防止性および(B2)の(A)への分散性の観点から好ましくは2〜50、さらに好ましくは2.3〜30、特に好ましくは2.7〜20、最も好ましくは3〜10である。
Nnは、(B2)のMnおよび1H−NMR分析によって求めることができる。
例えば、(b2111)のブロックと(b221−1)のブロックとが繰り返し交互に結合した構造を有する(B211)の場合は、1H−NMR分析において、4.0〜4.1ppmのエステル結合{−C(C=O)−OCH2−}のプロトンに帰属されるシグナル、および3.2〜3.7ppmのポリエチレングリコールのプロトンに帰属されるシグナルが観測できることから、これらのプロトン積分値の比を求めて、この比とMnとからNnを求めることができる。
In the structure of (B2), the average repeating number (Nn) of the repeating units of the block (b21) and the block (b22) is from the viewpoint of antistatic properties and dispersibility of (B2) in (A). Preferably it is 2-50, More preferably, it is 2.3-30, Most preferably, it is 2.7-20, Most preferably, it is 3-10.
Nn can be determined by Mn and 1 H-NMR analysis of (B2).
For example, in the case of (B211) having a structure in which the blocks of (b2111) and the blocks of (b2211-1) are repeatedly bonded alternately, in 1 H-NMR analysis, 4.0 to 4.1 ppm ester bond { Since a signal attributed to protons of —C (C═O) —OCH 2 —} and a signal attributed to protons of polyethylene glycol of 3.2 to 3.7 ppm can be observed, the ratio of these proton integral values Nn can be obtained from this ratio and Mn.

(B2)の末端は、(b21)由来のカルボニル基、アミノ基および/または無変性ポリオレフィン末端(何ら変性がなされていないポリオレフィン末端、すなわち、アルキル基またはアルケニル基)、あるいは(b22)由来の水酸基および/またはアミノ基のいずれかである。これらのうち反応性の観点から末端として好ましいのはアミノ基、およびさらに好ましいのはカルボニル基および水酸基である。   The end of (B2) is a carbonyl group derived from (b21), an amino group and / or an unmodified polyolefin end (polyolefin end not modified at all, ie, an alkyl group or an alkenyl group), or a hydroxyl group derived from (b22) And / or any amino group. Among these, an amino group is preferable as a terminal from the viewpoint of reactivity, and a carbonyl group and a hydroxyl group are more preferable.

ポリエーテルアミドイミド(B3)としては、例えば特公平7−119342号公報および特開平06−172609公報に記載のうち、ポリオキシエチレン鎖を有するポリエーテルアミドイミドが挙げられる。これらのうち耐熱性の観点から好ましいのは、カプロラクタム(b31)、アミノ基と反応して少なくとも1個のイミド環を形成しうる3価もしくは4価の芳香族ポリカルボン酸(b32)およびポリエチレングリコールもしくは少なくとも50重量%のポリエチレングリコールとポリエチレングリコール以外のポリアルキレングリコールとの混合物(b33)から誘導され、(b33)の含有量が30〜85重量%、30℃での還元粘度が1.5〜4であるポリエーテルアミドイミドである。   Examples of the polyether amide imide (B3) include polyether amide imides having a polyoxyethylene chain among those described in JP-B-7-119342 and JP-A-06-172609. Of these, caprolactam (b31), trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid (b32) capable of forming at least one imide ring by reacting with an amino group, and polyethylene glycol are preferable from the viewpoint of heat resistance. Alternatively, it is derived from a mixture (b33) of at least 50% by weight of polyethylene glycol and a polyalkylene glycol other than polyethylene glycol, the content of (b33) is 30 to 85% by weight, and the reduced viscosity at 30 ° C. is 1.5 to 4 is a polyetheramide imide.

(b32)には、芳香族ポリカルボン酸およびその酸無水物が含まれる。
3価の芳香族ポリカルボン酸(無水物)としては、C9〜18、例えば1,2,4−トリメリット酸、1,2,5−ナフタレントリカルボン酸、2,6,7−ナフタレントリカルボン酸、3,3’,4−ジフェニルトリカルボン酸、ベンゾフェノン−3,3’,4−トリカルボン酸、ジフェニルスルホン−3,3’,4−トリカルボン酸、ジフェニルエーテル−3,3’,4−トリカルボン酸、およびこれらの酸無水物が挙げられる。
4価の芳香族ポリカルボン酸(無水物)としては、C10〜20、例えばピロメリット酸、ジフェニル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ベンゾフェノン−2,2’,
3,3’−テトラカルボン酸、ジフェニルスルホン−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ジフェニルエーテル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、およびこれらの酸無水物が挙げられる。
(B32) includes aromatic polycarboxylic acids and acid anhydrides thereof.
Examples of the trivalent aromatic polycarboxylic acid (anhydride) include C9-18, such as 1,2,4-trimellitic acid, 1,2,5-naphthalenetricarboxylic acid, 2,6,7-naphthalenetricarboxylic acid, 3,3 ′, 4-diphenyltricarboxylic acid, benzophenone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, diphenylsulfone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, diphenylether-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, and these Of the acid anhydride.
Examples of the tetravalent aromatic polycarboxylic acid (anhydride) include C10-20, such as pyromellitic acid, diphenyl-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid, benzophenone-2,2 ′,
3,3′-tetracarboxylic acid, diphenylsulfone-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid, diphenyl ether-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid, and acid anhydrides thereof It is done.

(b33)のうち、ポリエチレングリコールのMnは特に制限はないが、(B3)の帯電防止性付与および製造上の観点から好ましくは500〜5,000、さらに好ましくは800〜3,000である。   Among (b33), Mn of polyethylene glycol is not particularly limited, but is preferably 500 to 5,000, more preferably 800 to 3,000, from the viewpoint of imparting antistatic property to (B3) and production.

ポリエチレングリコール以外のポリアルキレン(アルキレンのC3〜18)グリコールとしては、Mnが500〜5,000の、例えばポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールおよび変性ポリアルキレングリコールが挙げられる。変性ポリアルキレングリコールとしては、C2〜10のAOのうちの少なくとも2種の付加重合物(付加形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい)が挙げられる。
該AOのうち、帯電防止性付与の観点から好ましいのはEO、PO、1,3−プロピレンオキシド、2−メチル−1,3−プロピレンオキシド、2,2−ジメチル−1,3−プロピレンオキシド、1,5−ペンタメチレンオキシドおよび1,6−ヘキサメチレンオキシドである。
Examples of the polyalkylene (alkylene C3-18) glycol other than polyethylene glycol include polypropylene glycol, polytetramethylene glycol and modified polyalkylene glycol having a Mn of 500 to 5,000. Examples of the modified polyalkylene glycol include at least two addition polymers of C2-10 AO (addition form may be random and / or block).
Among the AOs, EO, PO, 1,3-propylene oxide, 2-methyl-1,3-propylene oxide, 2,2-dimethyl-1,3-propylene oxide, are preferable from the viewpoint of imparting antistatic properties. 1,5-pentamethylene oxide and 1,6-hexamethylene oxide.

(b32)と(b33)の反応における当量比は、通常0.9/1〜1.1/1、成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましくは0.95/1〜1.05/1である。   The equivalent ratio in the reaction of (b32) and (b33) is usually 0.9 / 1 to 1.1 / 1, preferably 0.95 / 1 to 1.05 / 1 from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. It is.

(B3)を構成するポリアミドイミド含量は、(B3)の帯電防止性付与および成形品の樹脂の耐水性の観点から、好ましくは15〜70重量%、さらに好ましくは30〜65重量%である。
また、(B3)中のポリアミドイミド部分のMnは、(B3)の耐熱性および成形品の樹脂の機械的強度の観点から好ましい下限は500、さらに好ましくは800、好ましい上限は3,000、さらに好ましくは2,000である。
The content of polyamideimide constituting (B3) is preferably 15 to 70% by weight, more preferably 30 to 65% by weight, from the viewpoint of imparting antistatic properties to (B3) and water resistance of the resin of the molded product.
In addition, Mn of the polyamideimide moiety in (B3) is preferably 500, more preferably 800, and preferably 3000 in terms of the heat resistance of (B3) and the mechanical strength of the resin of the molded product. Preferably it is 2,000.

(B3)の製法としては次のような方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。
即ち、(b31)、(b32)および(b33)を、(b32)と(b33)の当量比が通常0.9/1〜1.1/1(好ましくは0.95/1〜1.05/1)になる割合で、(b31)、(b32)および(b33)の合計重量に対して、帯電防止性の観点から、(b33)が好ましくは30〜85%、さらに好ましくは35〜70%となるように混合し、生成する重合体の水分含有率を0.1〜1重量%に保ちながら、通常150〜300℃、好ましくは180〜280℃で重縮合させる方法である。
重縮合させる際には、反応温度を段階的に昇温させることもできる。この際、一部のカプロラクタムは未反応で残るが、成形品の樹脂の機械特性の観点から減圧下に留去して反応混合物から除いておくことが望ましい。未反応のカプロラクタムを除いた後の反応混合物は、必要に応じて減圧下(0.03〜3kPa)、通常200〜300℃(好ましくは230〜280℃)で重合することによりさらに高分子量の重合体にすることができる。
Although the following method is mentioned as a manufacturing method of (B3), It does not specifically limit.
That is, (b31), (b32) and (b33) have an equivalent ratio of (b32) and (b33) of usually 0.9 / 1 to 1.1 / 1 (preferably 0.95 / 1 to 1.05). / B) is preferably 30 to 85%, more preferably 35 to 70 from the viewpoint of antistatic properties with respect to the total weight of (b31), (b32) and (b33). %, And the resulting polymer is polycondensed at 150 to 300 ° C., preferably 180 to 280 ° C. while maintaining the water content of the polymer at 0.1 to 1% by weight.
In the polycondensation, the reaction temperature can be raised stepwise. At this time, some caprolactam remains unreacted, but it is desirable to remove it from the reaction mixture by distillation under reduced pressure from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. The reaction mixture after removing unreacted caprolactam is further polymerized under a reduced pressure (0.03 to 3 kPa), usually at 200 to 300 ° C. (preferably 230 to 280 ° C.) as necessary, thereby further increasing the weight of the polymer. Can be combined.

(B3)の還元粘度[ηSP/C、C=0.5重量%(m−クレゾール溶液、30℃]は、樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは1.5〜4、さらに好ましくは1.7〜3.5である。 The reduced viscosity [η SP / C, C = 0.5 wt% (m-cresol solution, 30 ° C.) of (B3) is preferably 1.5 to 4, more preferably from the viewpoint of moldability of the resin composition. 1.7-3.5.

エピハロヒドリン/AO共重合体(B4)としては、例えば特公平7−84564号公報記載のうち、ポリオキシエチレン鎖を有するエピハロヒドリン/AO共重合体が挙げられる。
エピハロヒドリンとしては、例えばエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、エピヨードヒドリンおよびエピフルオロヒドリンが挙げられ、反応性、コストの観点から好ましいのはエピクロルヒドリンである。
AOとしては、C2〜4、例えばEO、POおよびテトラヒドロフランが挙げられる。
(B4)には、エピハロヒドリンと、1,2−エポキシドモノマー[特にアルキル(C2〜4)グリシジルエーテル]およびAO(特にEOおよびPO)から選ばれる1種または2種以上からなるコモノマーとの共重合体も含まれる。
エピハロヒドリンとAOとの重量比は、通常5/95〜95/5、帯電防止性付与および(B4)の(A)への分散性の観点から好ましくは10/90〜60/40である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は好ましくは5〜100重量%、さらに好ましくは10〜100重量%である。
(B4)のうち、帯電防止性付与および成形品の樹脂の機械特性の観点からさらに好ましいのはエピクロルヒドリン/EO(重量比50/50)の共重合体である。
Examples of the epihalohydrin / AO copolymer (B4) include an epihalohydrin / AO copolymer having a polyoxyethylene chain in JP-B-7-84564.
Examples of the epihalohydrin include epichlorohydrin, epibromohydrin, epiiodohydrin, and epifluorohydrin. Epichlorohydrin is preferable from the viewpoint of reactivity and cost.
AO includes C2-4, such as EO, PO, and tetrahydrofuran.
(B4) includes an epihalohydrin and a co-polymer of 1,2-epoxide monomer [especially alkyl (C2-4) glycidyl ether] and a comonomer composed of one or more selected from AO (especially EO and PO) Mergers are also included.
The weight ratio of epihalohydrin to AO is preferably 5/95 to 95/5, preferably 10/90 to 60/40 from the viewpoint of imparting antistatic properties and dispersibility of (B4) in (A). The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100% by weight, more preferably 10 to 100% by weight.
Among (B4), a copolymer of epichlorohydrin / EO (weight ratio 50/50) is more preferable from the viewpoint of imparting antistatic properties and mechanical properties of the resin of the molded product.

(B4)の製造に際しては、種々の触媒、例えば、有機アルミニウム化合物[例えばトリエチルアルミニウム]、または重合性を向上させるために有機アルミニウム化合物に水を反応させた触媒を用いて塊状重合または溶液重合により容易に製造できる。水と有機アルミニウム化合物とのモル比は、重合性の観点から通常0.1/1〜1/1、好ましくは0.3/1〜0.7/1である。
(B4)のMnは成形性および成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましい下限は30,000、さらに好ましくは60,00、好ましい上限は100,000、さらに好ましくは90,000である。
In the production of (B4), various catalysts, for example, organoaluminum compounds [for example, triethylaluminum], or bulk polymerization or solution polymerization using a catalyst obtained by reacting water with an organoaluminum compound to improve polymerizability. Easy to manufacture. The molar ratio of water to the organoaluminum compound is usually 0.1 / 1 to 1/1, preferably 0.3 / 1 to 0.7 / 1, from the viewpoint of polymerizability.
The lower limit of Mn in (B4) is preferably 30,000, more preferably 60,00, and the upper limit is preferably 100,000, more preferably 90,000 from the viewpoints of moldability and mechanical properties of the resin of the molded product.

ポリエーテルエステル(B5)としては、例えば、特公昭58−19696号公報記載のうち、ポリオキシアルキレン鎖を有するポリエーテルエステルが挙げられる。
(B5)は、ポリエーテルジオールまたはコポリエーテルジオールからなるセグメントを有するポリエステルであり、例えば前記ポリエーテルエステルアミド(B1)またはポリエーテルアミドイミド(B3)の構成成分として例示した(b12)および(b33)の1種以上と、(B1)の構成成分として例示したジカルボン酸もしくはこれらのエステル形成性誘導体[例えば低級(C1〜4)アルキルエステルおよび酸無水物]の1種以上との重縮合反応、あるいは上記ジオール成分とポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等とのエステル交換反応により得ることができる。
(B5)のポリエーテルセグメント含量は、(B5)の帯電防止性付与および樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは30〜70重量%、さらに好ましくは40〜60重量%であり、(B5)の融点[測定は示差走査熱量測定法(以下、DSC法と略記)による]は耐熱性の観点から好ましくは100℃以上、さらに好ましくは120〜210℃である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は好ましくは5〜100重量%、さらに好ましくは10〜100重量%である。
Examples of the polyether ester (B5) include polyether esters having a polyoxyalkylene chain described in JP-B No. 58-19696.
(B5) is a polyester having a segment composed of a polyether diol or a copolyether diol. For example, (b12) and (b33) exemplified as the constituent components of the polyether ester amide (B1) or the polyether amide imide (B3). And a polycondensation reaction of one or more of the dicarboxylic acids exemplified as the constituent of (B1) or their ester-forming derivatives [for example, lower (C1-4) alkyl esters and acid anhydrides], Alternatively, it can be obtained by an ester exchange reaction between the diol component and polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, or the like.
The polyether segment content of (B5) is preferably 30 to 70% by weight, more preferably 40 to 60% by weight from the viewpoint of imparting antistatic properties to (B5) and moldability of the resin composition, and (B5) The melting point of [measurement by differential scanning calorimetry (hereinafter abbreviated as DSC method)] is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 to 210 ° C. from the viewpoint of heat resistance. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100% by weight, more preferably 10 to 100% by weight.

ポリエーテルウレタン(B6)としては、有機ジイソシアネートと、ポリエーテルジオール(b221−1)又はポリエーテルジアミン(b221−2)及び必要により鎖伸長剤とから構成される。
(B6)の具体例としては、例えば特公昭47−35300号、特開昭62−236854号、特公平3−296565号各公報に記載のものが挙げられる。
(B6)のポリエーテルセグメント含量は、(B6)の帯電防止性付与および樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは30〜70重量%、さらに好ましくは40〜60重量%であり、(B6)の融点[測定はDSC法による]は耐熱性の観点から好ましくは100℃以上、さらに好ましくは120〜210℃である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は好ましくは5〜100重量%、さらに好ましくは10〜100重量%である。
The polyether urethane (B6) is composed of an organic diisocyanate, a polyether diol (b221-1) or a polyether diamine (b221-2) and, if necessary, a chain extender.
Specific examples of (B6) include those described in JP-B-47-35300, JP-A-62-236854, and JP-B-3-296565.
The polyether segment content of (B6) is preferably 30 to 70% by weight, more preferably 40 to 60% by weight from the viewpoint of imparting antistatic properties to (B6) and moldability of the resin composition, (B6) The melting point of [measured by DSC method] is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 to 210 ° C. from the viewpoint of heat resistance. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100% by weight, more preferably 10 to 100% by weight.

前記熱可塑性樹脂(A)と親水性鎖を有する帯電防止剤(B)との屈折率の差は0.02以下、好ましくは0.01以下、さらに好ましくは0〜0.005、とくに好ましくは0〜0.003である。(A)と(B)との屈折率の差が0.02を超えると後述の成形品(フィルムを含む)の透明性が悪くなる。
(B1)〜(B8)は、上記屈折率についての(A)と(B)の関係を満足するものであれば、それぞれ1種単独でも2種以上を任意に併用してもいずれでもよい。なお、本発明において、(A)と(B)との屈折率の差とは、(A)と(B)との屈折率の差の絶対値を意味するものとし、以下同様である。
The difference in refractive index between the thermoplastic resin (A) and the antistatic agent (B) having a hydrophilic chain is 0.02 or less, preferably 0.01 or less, more preferably 0 to 0.005, particularly preferably. 0 to 0.003. When the difference in refractive index between (A) and (B) exceeds 0.02, transparency of a molded product (including a film) described later is deteriorated.
As long as (B1) to (B8) satisfy the relationship between (A) and (B) for the refractive index, each may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the difference in refractive index between (A) and (B) means the absolute value of the difference in refractive index between (A) and (B), and so on.

(A)と(B)の屈折率は、理論式からの計算または予め(A)もしくは(B)を構成するモノマーを重合して得られた樹脂の屈折率をJIS K7105(1981年)に準じて測定することにより求められる。本発明における屈折率はアッベ屈折計で測定される値である。   The refractive index of (A) and (B) is calculated from the theoretical formula or the refractive index of the resin obtained by polymerizing the monomer constituting (A) or (B) in advance is in accordance with JIS K7105 (1981). It is obtained by measuring. The refractive index in the present invention is a value measured with an Abbe refractometer.

(A)の屈折率は、(B)の屈折率との差の観点から好ましくは1.480〜1.550であり、該範囲の屈折率を有する(A)のうち同様の観点から好ましいのは前記(A1)、(A2)、(A3)および(A4)からなる群から選ばれる1種または2種以上の熱可塑性樹脂である。
また、(B)のうち(B1)の屈折率は、(A)の屈折率との差の観点から好ましくは1.520〜1.540、(B2)の屈折率は、同様の観点から好ましくは1.498〜1.515である。
屈折率の差が0.02以下である、(A)と(B)の組み合わせのうち、(B)と(A)との屈折率の差の観点から好ましいのは、(B)と上記屈折率を有する(A)との組み合わせ、および上記屈折率を有する(B1)および/または(B2)と(A)との組み合わせ、さらに好ましいのは上記屈折率を有する(B1)および/または(B2)と上記屈折率を有する(A)との組み合わせである。
The refractive index of (A) is preferably 1.480 to 1.550 from the viewpoint of the difference from the refractive index of (B), and is preferable from the same viewpoint among (A) having a refractive index in this range. Is one or more thermoplastic resins selected from the group consisting of (A1), (A2), (A3) and (A4).
Moreover, the refractive index of (B1) among (B) is preferably 1.520 to 1.540 from the viewpoint of the difference from the refractive index of (A), and the refractive index of (B2) is preferably from the same viewpoint. Is 1.498 to 1.515.
Of the combinations of (A) and (B) in which the difference in refractive index is 0.02 or less, (B) and the above refraction are preferable from the viewpoint of the difference in refractive index between (B) and (A). In combination with (A) having a refractive index and (B1) and / or (B2) having the above-mentioned refractive index, and (B2) and / or (B2) having the above-mentioned refractive index. ) And (A) having the above refractive index.

(A)と(B)との屈折率差を0.02以下とするためには、(A)の屈折率に対応して(B)の屈折率を調整することが必要となるが、調整に際しては帯電防止性とのバランスを考慮する必要がある。通常帯電防止性と屈折率は相反する関係にあり、(B)の帯電防止性を維持したまま所望の屈折率とすることは容易ではない。
本発明における(B)の帯電防止性と屈折率の調整方法には下記の方法が含まれる。
(1)高屈折率(1.510〜1.550またはそれ以上)を有する(A)に(B)を適用する方法
(B)のうち比較的高い屈折率を有する(B1)を用いる。(B1)の屈折率を高めに調整する場合は、(B1)の有する帯電防止付与性を損なわない範囲で(B1)中の親水性部分である(b12)の割合を減らし、逆に(B1)の屈折率を低めに調整する場合は、成形品の耐水性を損なわない範囲で(b12)の割合を増やすことにより調整できる。
また、(B1)の屈折率を低めに調整する場合は比較的低い屈折率を有する(B2)を併用することにより調整することもできる。
(2)低屈折率(1.480またはそれ以下〜1.510未満)を有する(A)に(B)を適用す方法
(B)のうち比較的低い屈折率を有する(B2)を用いる。(B2)の屈折率を高めに調整する場合は、(B2)の有する帯電防止付与性を損なわない範囲で(B2)中の親水性部分である(b22)の割合を減らす、または(B2)中の親水性部分である(b22)として高親水性のカチオン性ポリマー(b223)もしくはアニオン性ポリマー(b224)を少ない割合で用いることにより調整できる。
また、(B2)の屈折率を高めに調整する場合は比較的高い屈折率を有する(B1)を併用することにより調整することもできる。
In order to make the refractive index difference between (A) and (B) 0.02 or less, it is necessary to adjust the refractive index of (B) corresponding to the refractive index of (A). In this case, it is necessary to consider the balance with antistatic properties. Usually, the antistatic property and the refractive index are in a contradictory relationship, and it is not easy to obtain a desired refractive index while maintaining the antistatic property of (B).
The method for adjusting the antistatic property and refractive index of (B) in the present invention includes the following methods.
(1) Method of applying (B) to (A) having a high refractive index (1.510 to 1.550 or more) (B1) having a relatively high refractive index among (B) is used. When adjusting the refractive index of (B1) to be higher, the ratio of (b12) which is a hydrophilic part in (B1) is reduced within a range not impairing the antistatic property of (B1), and conversely (B1 ) Can be adjusted by increasing the proportion of (b12) within a range not impairing the water resistance of the molded product.
Moreover, when adjusting the refractive index of (B1) low, it can also adjust by using together (B2) which has a comparatively low refractive index.
(2) Method of applying (B) to (A) having a low refractive index (1.480 or less to less than 1.510) (B2) having a relatively low refractive index among (B) is used. When adjusting the refractive index of (B2) to be high, the ratio of (b22) which is a hydrophilic part in (B2) is reduced within a range that does not impair the antistatic property of (B2), or (B2) It can be adjusted by using a highly hydrophilic cationic polymer (b223) or anionic polymer (b224) in a small proportion as the hydrophilic part (b22) in the inside.
Moreover, when adjusting the refractive index of (B2) high, it can also adjust by using (B1) which has a comparatively high refractive index together.

本発明における搬送体を形成する帯電防止性樹脂組成物は上記(A)と(B)からなる。(A)と(B)の合計重量に基づく(B)の割合は要求される性能に応じて種々変えることができるが、十分な帯電防止性の観点から好ましい下限は1%、さらに好ましくは1.5%、成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましい上限は50%、さらに好ましくは30%である。   The antistatic resin composition forming the carrier in the present invention comprises the above (A) and (B). Although the ratio of (B) based on the total weight of (A) and (B) can be variously changed according to the required performance, the preferable lower limit is 1%, more preferably 1 from the viewpoint of sufficient antistatic properties. From the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product, 0.5%, the upper limit is preferably 50%, more preferably 30%.

剪断速度103-1でキャピラリーから押し出された本発明における帯電防止性樹脂組成物の表面を走査型電子顕微鏡で観察して得られる(B)の数平均粒子径は、(B)の(A)への分散性および帯電防止性の観点から好ましくは0.05〜1μm、さらに好ましくは0.1〜0.5μmである。該数平均粒子径は以下のようにして求められる。
樹脂組成物を200〜280℃[(A)の種類により測定温度が異なり、例えば、PE樹脂では200℃、PP樹脂およびABS樹脂では230℃、PMMA樹脂では220℃、ポリカーボネート(PC)樹脂では280℃]に温度調整した後、キャピログラフ[加熱されたポリマーがバレル内からキャピラリー(口径1mm、長さ10mm)を通して流出するときの溶融ポリマーの特性(例えば溶融粘度、溶融弾性および溶融張力)を測定する装置、例えば(株)東洋精機製作所製の1B型]を用いて剪断速度103-1でキャピラリーから押し出される樹脂組成物を取り出し、室温まで急冷した後、その樹脂組成物表面における(B)の分散状態を走査型電子顕微鏡で観察する。
分散した(B)の数平均粒子径は撮影した写真について目視または画像解析装置によって求める。適当な範囲(例えば10μm×10μm)の中でN個の粒子について下記の計算式から粒子径dLが得られたとき、その分散した(B)の数平均粒子径Dは、D=(ΣdL)/Nにより算出する。

粒子径dL=(最大長径+最小短径)×(1/2)

Dの値は小さいほど(B)の(A)への分散性または(A)と(B)の相溶性が良好であることを示す。
The number average particle diameter of (B) obtained by observing the surface of the antistatic resin composition in the present invention extruded from the capillary at a shear rate of 10 3 s −1 with a scanning electron microscope is (B) ( From the viewpoint of dispersibility in A) and antistatic properties, it is preferably 0.05 to 1 μm, more preferably 0.1 to 0.5 μm. The number average particle diameter is determined as follows.
200-280 ° C. [Measurement temperature varies depending on the type of (A), for example, 200 ° C. for PE resin, 230 ° C. for PP resin and ABS resin, 220 ° C. for PMMA resin, and 280 for polycarbonate (PC) resin. After the temperature is adjusted to [° C.], the properties of the molten polymer (for example, melt viscosity, melt elasticity and melt tension) when the heated polymer flows out from the barrel through the capillary (caliber 1 mm, length 10 mm) are measured. Using a device such as Model 1B manufactured by Toyo Seiki Seisakusho, the resin composition extruded from the capillary at a shear rate of 10 3 s −1 is taken out, rapidly cooled to room temperature, and (B) on the surface of the resin composition The dispersion state is observed with a scanning electron microscope.
The number average particle diameter of the dispersed (B) is obtained visually or by an image analyzer with respect to the photograph taken. When the particle diameter dL is obtained from the following calculation formula for N particles in an appropriate range (for example, 10 μm × 10 μm), the number average particle diameter D of the dispersed (B) is D = (ΣdL) / N is calculated.

Particle diameter dL = (maximum major axis + minimum minor axis) × (1/2)

The smaller the value of D, the better the dispersibility of (B) in (A) or the compatibility of (A) and (B).

本発明における搬送体を形成する樹脂組成物には、成形品の樹脂の帯電防止性をさらに向上させる目的等の必要により本発明の効果を阻害しない範囲で、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩(C1)、界面活性剤(C2)、イオン性液体(C3)、相溶化剤(C4)およびその他の樹脂用添加剤(C5)からなる群から選ばれる添加剤(C)を含有させてもよい。
(C)の合計含有量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて通常40%以下、成形品の樹脂の機械特性の観点から好ましくは0.001〜30%、さらに好ましくは0.01〜25%、特に好ましくは0.2〜20%、最も好ましくは0.5〜10%である。]
In the resin composition forming the carrier in the present invention, an alkali metal or alkaline earth metal salt is used as long as it does not impair the effects of the present invention if necessary for the purpose of further improving the antistatic property of the resin of the molded product. An additive (C) selected from the group consisting of (C1), surfactant (C2), ionic liquid (C3), compatibilizer (C4) and other additives for resin (C5) may be contained. Good.
The total content of (C) is usually 40% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably from 0.001 to 30%, more preferably 0 from the viewpoint of the mechanical properties of the resin of the molded product. 0.01 to 25%, particularly preferably 0.2 to 20%, and most preferably 0.5 to 10%. ]

(C1)としては、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム、以下同じ)またはアルカリ土類金属(例えばマグネシウムおよびカルシウム、以下同じ)の有機酸[例えばC1〜12のモノ−およびジカルボン酸(例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸およびコハク酸)、C1〜20のスルホン酸(例えばメタンスルホン酸およびp−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびチオシアン酸]塩および無機酸[例えばハロゲン化水素酸(例えば塩酸および臭化水素酸)、過塩素酸、硫酸、硝酸およびリン酸]塩が挙げられる。   (C1) may be an organic acid of an alkali metal (for example, lithium, sodium and potassium, the same shall apply hereinafter) or an alkaline earth metal (for example, magnesium and calcium; , Acetic acid, propionic acid, oxalic acid and succinic acid), C1-20 sulfonic acids (eg methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and thiocyanic acid) salts and inorganic acids [eg hydrohalic acid ( For example, hydrochloric acid and hydrobromic acid), perchloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid] salts.

(C1)の具体例としては、例えばハライド(例えば塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化カルシウム、臭化マグネシウム、過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウムおよび過塩素酸カリウム)、酢酸リチウム、硫酸カリウム、燐酸カリウムおよびチオシアン酸カリウムが挙げられる。
上記(C1)のうち帯電防止性の観点から好ましいのは、ハライド(さらに好ましいのは塩化リチウム、塩化ナトリウム、塩化カリウムおよび過塩素酸カリウム)および酢酸塩(さらに好ましいのは酢酸カリウム)である。
(C1)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常5%以下、樹脂表面に析出せず良好な外観と帯電防止性を成形品に与えるとの観点から、好ましくは0.001〜3%、さらに好ましくは0.01〜2.5%、とくに好ましくは0.1〜2%、最も好ましくは0.15〜1%である。
(C1)を含有させる方法としては、成形品の透明性を損なわないために(B)中に予め分散させておくことが好ましく、(B)の製造時に(C1)を含有させておく方法がさらに好ましい。(C1)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に限定はなく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよいが重合前の原料に含有させるのが好ましい。
Specific examples of (C1) include, for example, halides (for example, lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride, calcium chloride, magnesium chloride, lithium bromide, sodium bromide, potassium bromide, calcium bromide, magnesium bromide, perchlorine). Lithium acetate, sodium perchlorate and potassium perchlorate), lithium acetate, potassium sulfate, potassium phosphate and potassium thiocyanate.
Of the above (C1), preferred from the viewpoint of antistatic properties are halide (more preferably lithium chloride, sodium chloride, potassium chloride and potassium perchlorate) and acetate (more preferably potassium acetate).
The amount of (C1) used is usually 5% or less, based on the total weight of (A) and (B), from the viewpoint of giving good appearance and antistatic properties to the molded product without precipitating on the resin surface. Preferably it is 0.001 to 3%, More preferably, it is 0.01 to 2.5%, Especially preferably, it is 0.1 to 2%, Most preferably, it is 0.15 to 1%.
As a method of containing (C1), in order not to impair the transparency of the molded product, it is preferable to disperse in (B) in advance, and a method of containing (C1) during the production of (B). Further preferred. There is no particular limitation on the timing at which (C1) is contained during the production of (B), and it may be any before, during or after polymerization, but is preferably contained in the raw material before polymerization.

(C2)としては、非イオン性、アニオン性、カチオン性および両性の界面活性剤が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えばEO付加型非イオン性界面活性剤[例えば高級アルコール(C8〜18、以下同じ)、高級脂肪酸(C8〜24、以下同じ)または高級アルキルアミン(C8〜24)のEO付加物(分子量158〜Mn200,000);グリコールのEO付加物であるポリアルキレングリコール(分子量150〜Mn6,000)の高級脂肪酸エステル;多価アルコール(C2〜18の2価〜8価またはそれ以上、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタン)高級脂肪酸エステルのEO付加物(分子量250〜Mn30,000);高級脂肪酸アミドのEO付加物(分子量200〜Mn30,000);および多価アルコール(前記のもの)アルキル(C3〜60)エーテルのEO付加物(分子量120〜Mn30,000)]、および多価アルコ−ル(C3〜60)型非イオン性界面活性剤[例えば多価アルコールの脂肪酸(C3〜60)エステル、多価アルコールのアルキル(C3〜60)エーテルおよび脂肪酸(C3〜60)アルカノールアミド]が挙げられる。
(C2) includes nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants.
Nonionic surfactants include, for example, EO addition type nonionic surfactants [for example, higher alcohols (C8-18, the same shall apply hereinafter), higher fatty acids (C8-24, the same shall apply hereinafter) or higher alkylamines (C8-24). ) EO adduct (molecular weight 158 to Mn 200,000); higher fatty acid ester of polyalkylene glycol (molecular weight 150 to Mn 6,000) which is an EO adduct of glycol; polyhydric alcohol (C2-18 divalent to octavalent) Or higher, eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, pentaerythritol and sorbitan) EO adducts of higher fatty acid esters (molecular weight 250-Mn 30,000); EO adducts of higher fatty acid amides (molecular weight 200-Mn 30,000); And polyhydric alcohols (as above) alkyl EO adduct of C3-60) ether (molecular weight 120-Mn30,000)], and polyhydric alcohol (C3-60) type nonionic surfactant [for example, fatty acid (C3-60) ester of polyhydric alcohol , Alkyl (C3-60) ethers and fatty acids (C3-60) alkanolamides of polyhydric alcohols].

アニオン性界面活性剤としては、前記(C1)を除く化合物、例えばカルボン酸(例えばC8〜22の飽和または不飽和脂肪酸およびエーテルカルボン酸)またはその塩;硫酸エステル塩〔例えば高級アルコール硫酸エステル塩(例えばC8〜18の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩)および高級アルキルエーテル硫酸エステル塩[例えばC8〜18の脂肪族アルコールのEO(1〜10モル)付加物の硫酸エステル塩]〕;スルホン酸塩[C10〜20、例えばアルキルベンゼンスルホン酸塩(例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)、アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジアルキルエステル型、ハイドロカーボン(例えばアルカン、α−オレフィン)スルホン酸塩およびイゲポンT型];およびリン酸エステル塩[例えば高級アルコール(C8〜60)EO付加物リン酸エステル塩およびアルキル(C4〜60)フェノールEO付加物リン酸エステル塩]が挙げられる。
上記の塩としては、例えばアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩が挙げられる。
Examples of the anionic surfactant include compounds other than the above (C1), such as carboxylic acids (for example, C8-22 saturated or unsaturated fatty acids and ether carboxylic acids) or salts thereof; sulfate salts [for example, higher alcohol sulfate salts ( For example, sulfate esters of C8-18 aliphatic alcohols) and higher alkyl ether sulfate esters [eg sulfate esters of EO (1-10 mol) adducts of C8-18 aliphatic alcohols]]; sulfonates [ C10-20, such as alkyl benzene sulfonates (eg sodium dodecylbenzene sulfonate), alkyl sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, dialkyl ester sulfosuccinates, hydrocarbon (eg alkane, α-olefin) sulfonates and Igepon T type] And phosphoric acid ester salts [e.g. higher alcohol (C8~60) EO adduct phosphoric acid ester salts and alkyl (C4~60) phenol EO adduct phosphoric acid ester salts], and.
Examples of the salts include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, alkylamine (C1-20) salts, and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di-, and triethanolamine) salts. It is done.

カチオン性界面活性剤としては、第4級アンモニウム塩型[例えばテトラアルキル(C4〜100)アンモニウム塩(例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド)、トリアルキル(C3〜80)ベンジルアンモニウム塩(例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム)、アルキル(C2〜60)ピリジニウム塩(例えばセチルピリジニウムクロライド)、ポリオキシアルキレン(C2〜4)トリアルキルアンモニウム塩(例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド)およびサパミン型第4級アンモニウム塩(例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート)];およびアミン塩型[例えば高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン)の無機酸(例えば塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸)塩、脂肪族アミン(C1〜30)のEO付加物などの無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩および3級アミン(C3〜30、例えばトリエタノールアミンモノステアレートおよびステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン)の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩]が挙げられる。   Cationic surfactants include quaternary ammonium salt types [eg, tetraalkyl (C4-100) ammonium salts (eg, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), Alkyl (C3-80) benzylammonium salts (eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride), alkyl (C2-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride), polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium salts (Eg, polyoxyethylenetrimethylammonium chloride) and sapamine type quaternary ammonium salts (eg, stearamide ester) Rudiethylmethyl ammonium methosulfate)]; and amine salt forms [eg higher aliphatic amines (C12-60, eg laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine and rosinamine) inorganic acids (eg hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and Phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, eg acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, EO adducts of aliphatic amines (C1-30) Inorganic acids (above) or organic acids (above) and tertiary amines (C3-30, eg triethanolamine monostearate and stearamide ethyl diethyl methylethanolamine) Or salt of organic acid (above)].

両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)のプロピオン酸ナトリウム]、ベタイン型両性界面活性剤[例えばアルキル(C12〜18)ジメチルベタイン]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)の硫酸エステルナトリウム塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(例えばペンタデシルスルホタウリンおよびイミダゾリンスルホン酸)およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤[例えばグリセリン高級脂肪酸(C8〜24)エステル化物のリン酸エステルアミン塩]が挙げられる。   Examples of amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants [for example, higher alkylamine (C8-24) sodium propionate], betaine type amphoteric surfactants [for example, alkyl (C12-18) dimethylbetaine], sulfate ester salts Type amphoteric surfactants [e.g. sulfate sodium salt of higher alkylamine (C8-24) and hydroxyethyl imidazoline sulfate sodium salt], sulfonate type amphoteric surfactants (e.g. pentadecyl sulfotaurine and imidazoline sulfonic acid) and Examples thereof include phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, phosphate ester amine salts of glycerin higher fatty acid (C8-24) esterified products].

これらの(C2)は単独でも2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち成形品の樹脂の耐熱性および帯電防止性の観点から好ましいのは、アニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、とくに好ましいのはアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩およびパラフィンスルホン酸塩である。
These (C2) may be used alone or in combination of two or more.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of heat resistance and antistatic properties of the resin of the molded article, more preferred are sulfonates, and particularly preferred are alkylbenzene sulfonates, alkyl sulfonates and paraffins. Sulfonate.

(C2)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常15%以下、フィルム表面に析出せず良好な外観と帯電防止性を成形品に与えるとの観点から、好ましくは0.001〜12%、さらに好ましくは0.01〜10%、とくに好ましくは0.1〜8%である。
(C2)を含有させる方法としては特に限定はないが、樹脂組成物中に効果的に分散させるためには、(B)中に予め含有させておくことが好ましい。(C2)を(B)中に予め含有させる場合、(B)の製造(重合)時に含有させておくのが好ましく、含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよいが重合前の原料に含有させるのが好ましい。
The amount of (C2) used is usually 15% or less, based on the total weight of (A) and (B), from the viewpoint of giving good appearance and antistatic properties to the molded product without depositing on the film surface, Preferably it is 0.001 to 12%, more preferably 0.01 to 10%, particularly preferably 0.1 to 8%.
The method for containing (C2) is not particularly limited, but it is preferably contained in advance in (B) for effective dispersion in the resin composition. When (C2) is preliminarily contained in (B), it is preferably contained during the production (polymerization) of (B), and the timing of inclusion is not particularly limited, and may be any before, during or after polymerization. Although it is good, it is preferable to make it contain in the raw material before superposition | polymerization.

イオン性液体(C3)は、前記(C1)および(C2)を除く化合物で、室温以下の融点を有し、(C3)を構成するカチオンまたはアニオンのうち少なくとも一つが有機物イオンで、初期電導度が1〜200ms/cm(好ましくは10〜200ms/cm)である常温溶融塩であって、例えばWO95/15572公報に記載の常温溶融塩が挙げられる。(C3)を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンが挙げられる。   The ionic liquid (C3) is a compound excluding the above (C1) and (C2), has a melting point of room temperature or lower, and at least one of cations or anions constituting (C3) is an organic ion, and has an initial conductivity. Is a room temperature molten salt of 1 to 200 ms / cm (preferably 10 to 200 ms / cm), for example, a room temperature molten salt described in WO95 / 15572. Examples of the cation constituting (C3) include an amidinium cation, a guanidinium cation, and a tertiary ammonium cation.

アミジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウムカチオン[1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウムなど]、イミダゾリウムカチオン[1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウムなど]、テトラヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1
,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウムなど]、およびジヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウムなど]が挙げられる。
Examples of the amidinium cation include imidazolinium cation [1,2,3,4-tetramethylimidazolinium, 1,3,4-trimethyl-2-ethylimidazolinium, 1,3-dimethylimidazolinium. 1,3-dimethyl-2,4-diethylimidazolinium, etc.], imidazolium cation [1,3-dimethylimidazolium, 1,3-diethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1, 2,3-trimethylimidazolium, etc.], tetrahydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1
, 4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4,5 6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,5-tetramethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and dihydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1,4- Or 1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium and the like].

グアニジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエ
チルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウムなど]、イミダゾリウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウムなど]、テトラヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウムなど]、およびジヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウムなど]が挙げられる。
Examples of the guanidinium cation include a guanidinium cation having an imidazolinium skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolinium, etc.], guanidinium cation having an imidazolium skeleton [2-dimethyl Amino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-methyl -3,4-diethylimidazolium etc.], tetrahydropyrimidi Guanidinium cation having a skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4 , 5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and guanidinium having a dihydropyrimidinium skeleton Cation [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1, 6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium Etc.], and the like.

3級アンモニウムカチオンとしては、例えばメチルジラウリルアンモニウムが挙げられる。   Examples of the tertiary ammonium cation include methyl dilauryl ammonium.

上記のアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンは1種単独でも、また2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち、初期電導度の観点から好ましいのはアミジニウムカチオン、さらに好ましいのはイミダゾリウムカチオン、特に好ましいのは1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。
The amidinium cation, guanidinium cation and tertiary ammonium cation may be used alone or in combination of two or more.
Of these, from the viewpoint of initial conductivity, an amidinium cation is preferable, an imidazolium cation is more preferable, and a 1-ethyl-3-methylimidazolium cation is particularly preferable.

イオン性液体(C3)において、アニオンを構成する有機酸または無機酸としては下記のものが挙げられる。
有機酸としては、例えばカルボン酸、硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル、スルホン酸およびリン酸エステルが挙げられる。
無機酸としては、例えば超強酸(例えばホウフッ素酸、四フッ化ホウ素酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、六フッ化アンチモン酸および六フッ化ヒ素酸)、リン酸およびホウ酸が挙げられる。
上記有機酸および無機酸は1種単独でも2種以上の併用でもいずれでもよい。
上記有機酸および無機酸のうち、(C3)の初期電導度の観点から好ましいのは(C3)を構成するアニオンのHamett酸度関数(−H0)が12〜100である、超強酸の共役塩基、超強酸の共役塩基以外のアニオンを形成する酸およびこれらの混合物である。
In the ionic liquid (C3), examples of the organic acid or inorganic acid constituting the anion include the following.
Examples of the organic acid include carboxylic acid, sulfate ester, higher alkyl ether sulfate ester, sulfonic acid and phosphate ester.
Examples of the inorganic acid include super strong acids (for example, borofluoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroantimonic acid and hexafluoroarsenic acid), phosphoric acid and boric acid. It is done.
The organic acid and inorganic acid may be used alone or in combination of two or more.
Among the organic and inorganic acids, are preferred from the viewpoint of the initial conductivity of the (C3) is anionic Hamett acidity function constituting the (C3) (-H 0) is 12 to 100, the superacid conjugate base , Acids that form anions other than the conjugate bases of super strong acids and mixtures thereof.

超強酸の共役塩基以外のアニオンとしては、例えばハロゲン(例えばフッ素、塩素および臭素)イオン、アルキル(C1〜12)ベンゼンスルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(例えばウンデカフルオロペンタンスルホン酸)イオンが挙げられる。   Examples of the anion other than the conjugate base of the super strong acid include halogen (for example, fluorine, chlorine and bromine) ions, alkyl (C1-12) benzenesulfonic acid (for example, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid) ions and poly (n = 1-25) Fluoroalkanesulfonic acid (for example, undecafluoropentanesulfonic acid) ion.

超強酸としては、プロトン酸およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせから誘導されるもの、およびこれらの混合物が挙げられる。
超強酸としてのプロトン酸としては、例えばビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタン、過塩素酸、フルオロスルホン酸、アルカン(C1〜30)スルホン酸[例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸など)、ポリ(n=1〜30)フルオロアルカン(C1〜30)スルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸およびトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ホウフッ素酸および四フッ化ホウ素酸が挙げられる。
これらのうち合成の容易さの観点から好ましいのはホウフッ素酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸である。
Super strong acids include those derived from protonic acids and combinations of protonic acids and Lewis acids, and mixtures thereof.
Examples of the protonic acid as the super strong acid include bis (trifluoromethylsulfonyl) imidic acid, bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid, tris (trifluoromethylsulfonyl) methane, perchloric acid, fluorosulfonic acid, alkane (C1 -30) sulfonic acid [eg methane sulfonic acid, dodecane sulfonic acid etc.], poly (n = 1-30) fluoroalkane (C1-30) sulfonic acid (eg trifluoromethane sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, heptafluoropropane) Sulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid and tridecafluorohexanesulfonic acid), borofluoric acid and tetrafluoroboric acid.
Of these, borofluoric acid, trifluoromethanesulfonic acid and bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid are preferable from the viewpoint of ease of synthesis.

ルイス酸と組合せて用いられるプロトン酸としては、例えばハロゲン化水素(例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素)、過塩素酸、フルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうち(C3)の初期電導度の観点から好ましいのはフッ化水素である。
Examples of the protonic acid used in combination with the Lewis acid include hydrogen halide (for example, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide), perchloric acid, fluorosulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid. , Pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid, tridecafluorohexanesulfonic acid and mixtures thereof.
Of these, hydrogen fluoride is preferred from the viewpoint of the initial conductivity of (C3).

ルイス酸としては、例えば三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタルおよびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうちで、(C3)の初期電導度の観点から好ましいのは三フッ化ホウ素および五フッ化リンである。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせからなる超強酸としては、例えばテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、六フッ化タンタル酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化タンタルスルホン酸、四フッ化ホウ素酸、六フッ化リン酸、塩化三フッ化ホウ素酸、六フッ化ヒ素酸およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, tantalum pentafluoride, and mixtures thereof.
Of these, boron trifluoride and phosphorus pentafluoride are preferable from the viewpoint of the initial conductivity of (C3).
The combination of the protonic acid and the Lewis acid is arbitrary, but as the super strong acid comprising these combinations, for example, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluorotantalic acid, hexafluoroantimonic acid, tantalum hexafluoride Examples include sulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, chloroboron trifluoride, arsenic hexafluoride, and mixtures thereof.

上記のアニオンのうち、(C3)の初期電導度の観点から好ましいのは超強酸の共役塩基(プロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸とルイス酸との組合せからなる超強酸)、さらに好ましいのはプロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸と、三フッ化ホウ素および/または五フッ化リンとからなる超強酸の共役塩基である。   Of the above anions, (C3) from the viewpoint of the initial conductivity, a super strong acid conjugate base (a super strong acid composed of a proton acid and a super strong acid composed of a combination of a proton acid and a Lewis acid), more preferably It is a conjugate base of a super strong acid consisting of a super strong acid consisting of a proton acid and a proton acid and boron trifluoride and / or phosphorus pentafluoride.

(C3)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常10%以下、成形品の良好な外観と帯電防止効果、および機械特性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(C3)を添加する方法についても特に限定はないが、樹脂中への効果的な分散の観点から、(A)中に予め分散させておくことが好ましく、(A)の製造(重合)後に(C3)を予め添加し分散させておくのがさらに好ましい。
The amount of (C3) used is usually 10% or less based on the total weight of (A) and (B). 5%, more preferably 0.01 to 3%.
The method for adding (C3) is not particularly limited, but from the viewpoint of effective dispersion in the resin, it is preferable to disperse in (A) in advance, and after the production (polymerization) of (A). More preferably, (C3) is added and dispersed in advance.

(C3)の製造法としては、例えばジメチルカーボネート等で4級化して得られるアミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンのジメチルカーボネート塩に、酸[(C3)においてアニオンを構成する前記の有機酸または無機酸]を加えて酸交換を行う方法、または、アミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンを一旦加水分解してモノアミドアミンを生成した後、そのモノアミドアミンを酸(前記に同じ)で中和する方法が挙げられる。   The production method of (C3) includes, for example, the above-mentioned organic compound constituting an anion in an acid [(C3) and an amidinium cation and / or a guanidinium cation dimethyl carbonate salt obtained by quaternization with dimethyl carbonate or the like. Acid or inorganic acid] to perform acid exchange, or once the amidinium cation and / or guanidinium cation is hydrolyzed to form a monoamidoamine, then the monoamidoamine is converted to an acid (same as above) The method of neutralizing with is mentioned.

(C4)としては、例えばカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の極性基を有する変性ビニル(共)重合体(例えば特開平3−258850号公報に記載のもの)、スルホ基を有する変性ビニル(共)重合体(例えば特開平6−345927号公報に記載のもの)およびポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック(共)重合体(例えば特開平6−345927号公報に記載のもの)が挙げられる。
これらの(C4)は単独でも2種以上併用してもよいが、成形品の透明性の観点から、(A)および(B)との屈折率差は好ましくは0.01以下、さらに好ましくは0.008以下、とくに好ましくは0.005以下である。
(C4)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常15%以下、(A)と(B)の相溶性および成形品の機械特性の観点から好ましくは0.1〜12%、さらに好ましくは1〜10%、とくに好ましくは1.5〜8%である。
Examples of (C4) include a modified vinyl (co) polymer having at least one polar group selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group (for example, JP-A-3- 258850), modified vinyl (co) polymers having sulfo groups (for example, those described in JP-A-6-345927), and blocks having polyolefin moieties and aromatic vinyl polymer moieties (copolymers). ) Polymers (for example, those described in JP-A-6-345927).
These (C4) may be used alone or in combination of two or more, but from the viewpoint of transparency of the molded product, the difference in refractive index from (A) and (B) is preferably 0.01 or less, more preferably 0.008 or less, particularly preferably 0.005 or less.
The amount of (C4) used is usually 15% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably from the viewpoint of the compatibility of (A) and (B) and the mechanical properties of the molded product. It is 1 to 12%, more preferably 1 to 10%, particularly preferably 1.5 to 8%.

(C5)としては、核剤(C51)、滑剤(C52)、可塑剤(C53)、離型剤(C54)、酸化防止剤(C55)、難燃剤(C56)、紫外線吸収剤(C57)および抗菌剤(C58)からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   (C5) includes nucleating agent (C51), lubricant (C52), plasticizer (C53), mold release agent (C54), antioxidant (C55), flame retardant (C56), ultraviolet absorber (C57) and The at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an antibacterial agent (C58) is mentioned.

(C51)としては、有機系核剤[例えば1,3,2,4−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−p−t−ブチルベンゾエート、ソジウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェートおよび安息香酸ナトリウム]および無機系核剤(例えばグラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化亜鉛、アルミナ、硫酸バリウムおよび硫酸カルシウム)が挙げられる。
(C52)としては、ワックス(例えばカルナバロウワックス、パラフィンワックスおよびポリオレフィンワックス)、高級脂肪酸(C8〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸およびリノレン酸)、高級アルコール(C8〜18、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコールおよびベヘニルアルコール)および高級脂肪酸アミド(C8〜24、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミドおよびリノレン酸アミド)が挙げられる。
(C51) includes organic nucleating agents [for example, 1,3,2,4-di-benzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium-bis (4-tert-butyl Phenyl) phosphate and sodium benzoate] and inorganic nucleating agents (eg, graphite, carbon black, magnesium oxide, calcium silicate, magnesium silicate, talc, kaolin, calcium carbonate, magnesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, zinc oxide, alumina, Barium sulfate and calcium sulfate).
(C52) include waxes (eg carnauba wax, paraffin wax and polyolefin wax), higher fatty acids (C8-24, eg stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid), higher alcohols (C8-18, eg stearyl alcohol). , Lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cetostearyl alcohol and behenyl alcohol) and higher fatty acid amides (C8-24, such as stearic acid amide, oleic acid amide, linoleic acid amide and linolenic acid amide).

(C53)としては、芳香族カルボン酸エステル[例えばフタル酸エステル(例えばジオクチルフタレートおよびジブチルフタレート)]、脂肪族モノカルボン酸エステル[例えばメチルアセチルリシノレートおよびトリエチレングリコールジベンゾエート]、脂肪族ジカルボン酸エステル[例えばジ(2−エチルヘキシル)アジペートおよびアジピン酸−プロピレングリコール系ポリエステル(Mn200〜2000)]、脂肪族トリカルボン酸エステル[例えばクエン酸エステル(例えばクエン酸トリエチル)]、リン酸トリエステル[例えばトリフェニルホスフェート]および石油樹脂が挙げられる。
(C54)としては、高級脂肪酸(上記のもの)の低級(C1〜4)アルコールエステル(例えばステアリン酸ブチル)、脂肪酸(C2〜18)の多価(2価〜4価またはそれ以上)アルコールエステル(例えば硬化ヒマシ油)、脂肪酸(C2〜18)のグリコール(C2〜8)エステル(例えばエチレングリコールモノステアレート)および流動パラフィンが挙げられる。
(C53) includes aromatic carboxylic acid esters [for example, phthalic acid esters (for example, dioctyl phthalate and dibutyl phthalate)], aliphatic monocarboxylic acid esters [for example, methyl acetyl ricinoleate and triethylene glycol dibenzoate], aliphatic dicarboxylic acids Esters [eg di (2-ethylhexyl) adipate and adipic acid-propylene glycol-based polyesters (Mn 200-2000)], aliphatic tricarboxylic esters [eg citrate esters (eg triethyl citrate)], phosphate triesters [eg tri Phenyl phosphate] and petroleum resins.
(C54) includes lower (C1-4) alcohol esters of higher fatty acids (above) (for example, butyl stearate), polyvalent (divalent to tetravalent or higher) alcohol esters of fatty acids (C2-18) (E.g. hydrogenated castor oil), glycol (C2-8) esters of fatty acids (C2-18) (e.g. ethylene glycol monostearate) and liquid paraffin.

(C55)としては、フェノール系〔例えば単環フェノール[例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールおよびブチル化ヒドロキシアニソール]、ビスフェノール[例えば2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノールおよび4,4’−チオビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノール]および多環フェノール[例えば1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンおよび1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン]〕;硫黄系〔例えばジラウリル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリルβ,β’−チオジブチレートおよびジラウリルサルファイド〕;リン系〔例えばトリフェニルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトおよびジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト〕;およびアミン系〔例えばオクチル化ジフェニルアミン、N−n−ブチル−p−アミノフェノール、N,N−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンおよびフェノチアジン〕が挙げられる。   (C55) includes phenolic [eg monocyclic phenol [eg 2,6-di-t-butyl-p-cresol and butylated hydroxyanisole], bisphenol [eg 2,2′-methylenebis (4-methyl-6 -T-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl) -6-t-butylphenol and 4,4'-thiobis (3-methyl) -6-t-butylphenol] and polycyclic phenols [eg 1, 3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t -Butylphenyl) butane]]; sulfur-based [eg dilauryl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate Lauryl stearyl 3,3′-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl β, β′-thiodibutyrate and dilauryl sulfide]; phosphorus systems [eg triphenyl phosphite, Triisodecyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) Octyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (octadecyl phosphite), cyclic neopentane tetrayl bis ( 2,6-di-tert-butyl-4-methyl Phenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and diisodecylpentaerythritol diphosphite]; and amine systems [eg octylated diphenylamine, Nn-butyl- p-aminophenol, N, N-diisopropyl-p-phenylenediamine, N, N-bis (1-ethyl-3-methylpentyl) -p-phenylenediamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine, N- Phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine and phenothiazine].

(C56)としては、有機難燃剤〔例えば含窒素系[例えば尿素化合物、グアニジン化合物およびトリアジン化合物(例えばメラミンおよびグアナミン)の塩(例えば無機酸(前記のもの)塩、シアヌール酸塩およびイソシアヌール酸塩)]、含硫黄系〔例えば硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの塩、エステルおよびアミド〕、含珪素系(例えばポリオルガノシロキサン)および含リン系[例えばリン酸エステル(例えばトリクレジルホスフェート)]〕および無機難燃剤〔例えば三酸化アンチモン、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、水酸化アルミニウム、赤リンおよびポリリン酸アンモニム〕が挙げられる。   (C56) includes organic flame retardants [for example, nitrogen-containing [for example, urea compounds, guanidine compounds and triazine compounds (for example, melamine and guanamine) salts (for example, inorganic acid (the foregoing) salts), cyanurate and isocyanuric acid] Salt)], sulfur-containing systems [for example, sulfates, organic sulfonic acids, sulfamic acids, organic sulfamic acids, and salts, esters, and amides thereof], silicon-containing systems (for example, polyorganosiloxane) and phosphorus-containing systems [for example, phosphoric acid Esters (eg tricresyl phosphate)]] and inorganic flame retardants [eg antimony trioxide, magnesium hydroxide, zinc borate, barium metaborate, aluminum hydroxide, red phosphorus and ammonium polyphosphate].

(C57)としては、ベンゾトリアゾール系[例えば2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール]、ベンゾフェノン系[例えば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンおよび2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン]、サリチレート系[例えばフェニルサリチレートおよびエチレングリコールモノサリチレート]およびアクリレート系[例えば2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’1−ジフェニルアクリレート]が挙げられる。   (C57) includes benzotriazole-based [for example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole], benzophenone-based [ For example 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone], salicylate systems [eg phenyl salicylate and ethylene glycol monosalicylate] and acrylate systems [eg 2-ethylhexyl-2- Cyano-3,3′1-diphenyl acrylate].

(C58)としては、安息香酸、パラオキシ安息香酸エステル、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール(例えば2,4,6−トリブロモフェノールナトリウム塩)、有機ヨウ素(例えば4−クロロフェニル−3−ヨードプロパギルホルマール)、ニトリル(例えば2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリル)、チオシアノ(例えばメチレンビスチアノシアネート)、N−ハロアルキルチオイミド(例えばN−テトラクロロエチル−チオ−テトラヒドロフタルイミド)、銅剤(例えば8−オキシキノリン銅)、ベンズイミダゾール(例えば2−4−チアゾリルベンズイミダゾール)、ベンゾチアゾール(例えば2−チオシアノメチルチオベンゾチアゾール)、トリハロアリル(例えば3−ブロモ−2,3−ジヨード−2−プロペニルエチルカルボナート)、トリアゾール(例えばアザコナゾール)、有機窒素硫黄化合物(例えばスラオフ39)、4級アンモニウム化合物(例えばトリメトキシシリル−プロピルオクタデシルアンモニウムクロライド)およびピリジン系化合物[例えば2,3,5,6−チトクロロ−4−(メチルスルホニル)−ピリジン]が挙げられる。   (C58) includes benzoic acid, paraoxybenzoic acid ester, sorbic acid, halogenated phenol (for example, 2,4,6-tribromophenol sodium salt), organic iodine (for example, 4-chlorophenyl-3-iodopropargyl formal) , Nitriles (eg 2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile), thiocyano (eg methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimides (eg N-tetrachloroethyl-thio-tetrahydrophthalimide), copper agents (eg 8-oxyquinoline copper), benzimidazole (eg 2-4-thiazolylbenzimidazole), benzothiazole (eg 2-thiocyanomethylthiobenzothiazole), trihaloallyl (eg 3-bromo-2,3-diiodo-2-yl) Propenyl ethyl Carbonates), triazoles (eg azaconazole), organic nitrogen sulfur compounds (eg Suraoff 39), quaternary ammonium compounds (eg trimethoxysilyl-propyloctadecyl ammonium chloride) and pyridine-based compounds [eg 2,3,5,6-cytochloro- 4- (methylsulfonyl) -pyridine].

(C5)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、(C51)、(C52)および(C54)はそれぞれ通常10%以下、好ましくは1〜10%;(C53)および(C56)はそれぞれ通常20%以下、好ましくは1〜10%;(C55)および(C57)は通常5%以下、好ましくは0.1〜3%;(C58)は通常3%以下、好ましくは0.05〜1%である。   The amount of (C5) used is based on the total weight of (A) and (B), (C51), (C52) and (C54) are each usually 10% or less, preferably 1 to 10%; (C53) And (C56) is usually 20% or less, preferably 1 to 10%; (C55) and (C57) are usually 5% or less, preferably 0.1 to 3%; (C58) is usually 3% or less, preferably Is 0.05 to 1%.

本発明における成形品は上記樹脂組成物を、例えば下記の工程に従って成形することにより得られる。ここにおいて成形品には厚み100μm以下のフィルムと、厚み100μmを超える成形物が含まれ、該フィルムには後述の多層フィルムも含まれる。
1.フィルムの製造
<1>(A)、(B)および必要により加えられる(C)の混合工程;
<2>製膜工程;
<3>ロール等による冷却工程;
<4>延伸工程(必要に応じて行われる)
また、熱可塑性樹脂からなるフィルムおよび/または本発明における樹脂組成物からなるフィルムを基層とし、本発明における樹脂組成物からなるフィルムを表層として積層して成形した多層フィルムとすることもできる。
The molded article in the present invention can be obtained by molding the above resin composition, for example, according to the following steps. Here, the molded product includes a film having a thickness of 100 μm or less and a molded product having a thickness exceeding 100 μm, and the film includes a multilayer film described later.
1. Production of film <1> Mixing step of (A), (B) and (C) optionally added;
<2> Film forming step;
<3> Cooling step using rolls or the like;
<4> Stretching step (performed as necessary)
Moreover, it can also be set as the multilayer film formed by laminating | stacking the film which consists of a film which consists of a thermoplastic resin and / or the resin composition in this invention as a base layer, and the film which consists of the resin composition in this invention as a surface layer.

積層する場合は、表層フィルムを基層の片面または両面に積層してよく、両面に積層する場合の表層樹脂の種類はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、基層の表裏面のそれぞれにおいて樹脂の種類の異なるフィルムを多層(2〜6層またはそれ以上)に積層してもよい。また、基層は、熱可塑樹脂フィルム−(A)と(B)を含む樹脂組成物からなるフィルムの単位が繰り返される多層フィルムであってもよい。
また、表層および基層のいずれかまたは両方が発泡層または発泡層と非発泡層からなる多層フィルムや、表層および基層の少なくとも一層が一軸または多軸に延伸されている多層フィルムであってもよい。
When laminating, the surface film may be laminated on one side or both sides of the base layer, and the type of surface layer resin when laminating on both sides may be the same or different, and the type of resin on each of the front and back sides of the base layer Different films may be laminated in multiple layers (2-6 layers or more). The base layer may be a multilayer film in which units of a film made of a resin composition containing thermoplastic resin films (A) and (B) are repeated.
Further, either or both of the surface layer and the base layer may be a foamed layer or a multilayer film composed of a foamed layer and a non-foamed layer, or a multilayer film in which at least one of the surface layer and the base layer is stretched uniaxially or multiaxially.

フィルム製造工程について以下にさらに詳細に説明する。
<1>混合工程
樹脂組成物の混合方法は、特に限定されないが、例えば(1)(A)、(B)および必要により(C)をタンブルミキサー、リボンブレンダーまたはヘンシェルミキサー等でドライブレンドして混合する方法、(2)上記の各成分を上記の方法でドライブレンドした後、押出機で溶融混合(通常200〜280℃)してペレット化する方法、(3)(A)と(B)とのマスターバッチ樹脂組成物を押出機による溶融混合(200〜280℃)で予め作成しておき[マスターバッチ樹脂組成物中の(B)の含有量は好ましくは30〜70重量%]、該マスターバッチ、(A)および必要により(C)を上記混合機でドライブレンドして混合する方法が挙げられる。
これらの方法のうち、(B)の(A)への分散性の観点から好ましいのは(2)および(3)、とくに好ましいのは(2)の方法である。本発明における搬送体を形成する樹脂組成物では(A)と(B)が相溶性に優れることから、(1)の方法でも良好なフィルムを得ることができる。
The film production process will be described in more detail below.
<1> Mixing step The mixing method of the resin composition is not particularly limited. For example, (1) (A), (B) and, if necessary, (C) are dry-blended with a tumble mixer, ribbon blender, Henschel mixer or the like. A method of mixing, (2) a method of dry blending each of the above components by the above method, and then melt-mixing with an extruder (usually 200 to 280 ° C.) to pelletize, (3) (A) and (B) The master batch resin composition is prepared in advance by melt mixing (200 to 280 ° C.) using an extruder [the content of (B) in the master batch resin composition is preferably 30 to 70% by weight], A method of dry blending the master batch, (A), and if necessary (C) with the above mixer is mentioned.
Among these methods, the methods (2) and (3) are preferable from the viewpoint of dispersibility of (B) into (A), and the method (2) is particularly preferable. In the resin composition which forms the conveyance body in the present invention, (A) and (B) are excellent in compatibility, so that a good film can also be obtained by the method (1).

<2>製膜工程
製膜方法については、特に限定はなく、種々の製膜方法(例えば押出成形法、インフレーション法およびチューブラー法)を用いることができる。
いずれの方法においても、共押出が可能なダイスから樹脂組成物を積層した状態で押出して製膜するか、基層に表層をラミネートするかまたは表層と基層を接着剤もしくは接着層を用いて貼り合わせる等を行い、多層フィルムとしてもよい。
製膜時に発泡剤(例えば塩化メチル、ブタン、炭酸ガスおよびアゾビスイソブチロニトリル)を添加することによりフィルム中に発泡層を形成させることもできる。
<2> Film-forming step The film-forming method is not particularly limited, and various film-forming methods (for example, an extrusion molding method, an inflation method, and a tubular method) can be used.
In either method, the resin composition is laminated from a die that can be co-extruded to form a film, or a surface layer is laminated to the base layer, or the surface layer and the base layer are bonded together using an adhesive or an adhesive layer. It is good also as a multilayer film.
A foaming layer can also be formed in the film by adding a foaming agent (for example, methyl chloride, butane, carbon dioxide and azobisisobutyronitrile) during film formation.

共押出では、例えば樹脂組成物の温度はその加熱流動温度85〜280℃とし、ダイスの温度は180〜280℃とするのが好ましい。
基層に表層をラミネートする場合は、例えば各層を積層した後に加熱圧着してもよいし、予めそれぞれの接合面を加熱装置によって加熱した後に接合して圧着してもよい。
貼り合わせる方法において使用される接着剤は、特に限定されないが、例えばエチレン−酢酸ビニル共重合体およびメタアクリル酸メチル重合体エラストマー〔例えば商品名:タフプレンおよびタフテック[いずれも旭化成工業(株)製]〕等の接着剤が好ましい。
In coextrusion, for example, the temperature of the resin composition is preferably 85 to 280 ° C., and the die temperature is preferably 180 to 280 ° C.
In the case of laminating the surface layer on the base layer, for example, the layers may be laminated and then thermocompression bonded, or the respective bonding surfaces may be preliminarily heated with a heating device and then bonded and pressure bonded.
The adhesive used in the laminating method is not particularly limited. For example, ethylene-vinyl acetate copolymer and methyl methacrylate polymer elastomer [for example, trade names: Tuffprene and Tuftec [both manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.] ] Is preferred.

<3>ロール等による冷却工程
冷却方法については、例えば、ロールとの接触によって冷却する方法(例えば押出成形法のとき)および空気を吹き付け冷却する方法(例えばインフレーション法およびチューブラー法のとき)を用いることができる。
<3> Cooling step by rolls etc. As for the cooling method, for example, a method of cooling by contact with a roll (for example, extrusion method) and a method of cooling by blowing air (for example, an inflation method and a tubular method) are used. Can be used.

<4>延伸工程
延伸方法としては、例えば予め無延伸のフィルムを製膜した後、別工程で延伸する方法(例えばロールの周速度の差を利用して延伸する方法およびテンター法)と、フィルムの生産工程に延伸工程が含まれるような方法(例えばインフレーション法およびチューブラー法)を挙げることができる。
<4> Stretching step As a stretching method, for example, after forming an unstretched film in advance, a method of stretching in a separate step (for example, a method of stretching using a difference in peripheral speed of rolls and a tenter method) and a film Examples of the production process include a stretching process (for example, an inflation method and a tubular method).

延伸倍率は、いずれの延伸方法においても帯電防止性の観点から、一軸延伸の場合は好ましくは2〜20倍、二軸延伸の場合は好ましくはそれぞれの方向に2〜15倍である。本発明における帯電防止性樹脂フィルムは延伸工程を経ることで、さらに優れた帯電防止性を発現させることができる。   In any stretching method, the stretching ratio is preferably 2 to 20 times in the case of uniaxial stretching, and preferably 2 to 15 times in each direction in the case of biaxial stretching, from the viewpoint of antistatic properties. The antistatic resin film in the present invention can exhibit further excellent antistatic properties through a stretching process.

また、本発明における帯電防止性樹脂フィルムには、用途(例えばフィルムへの印刷および他の物へのフィルムの接着)、目的(例えば印刷インキの定着性やフィルムの接着性の改良)に応じて、コロナ処理や火炎処理等の表面処理を行うこともできる。
該表面処理をする面は、帯電防止性の表層の面であっても、帯電防止性表層が積層されていない(片側積層の場合)裏面側(基層表面)であってもよい。
In addition, the antistatic resin film in the present invention can be used depending on the purpose (for example, printing on a film and adhesion of the film to another object) and purpose (for example, improvement of fixing property of printing ink or film adhesion). Surface treatment such as corona treatment and flame treatment can also be performed.
The surface to be surface-treated may be the surface of the antistatic surface layer or the back surface side (base layer surface) where the antistatic surface layer is not laminated (in the case of one-side lamination).

2−1.成形品の製造(例えば射出成形の場合)
<1>(A)、(B)および必要により加えられる添加剤(C)の混合工程;
<2>射出成形工程
射出成形品の製造工程について以下にさらに詳細に説明する。
<1>混合工程
上記1.フィルムの製造における<1>混合工程と同じく(1)〜(3)の方法が挙げられ、これらの方法のうち好ましい方法も同様である。本発明における搬送体を形成する樹脂組成物では(A)と(B)が相溶性に優れることから、該(1)の方法でも良好なフィルムを得ることができる。
<2>射出成形工程
射出成形方法については、特に限定はなく、オス型、メス型で構成される金型の隙間に溶融した樹脂を圧力をかけて押し込み、冷却固化させて成形品を得る、種々の射出成形方法(例えば射出成形法、ガスアシスト成形法、射出圧縮成形法および射出ブロー成形法)を用いることができる。
射出成形時に発泡剤(前記に同じ)を添加することにより成形品中に発泡層を形成させることもできる。
2−2.成形品の製造(例えば真空成形の場合)
<1>(A)、(B)および必要により加えられる(C)の混合工程;
<2>シート化工程;
<3>ロール等による冷却工程;
<4>真空成形工程
2-1. Manufacture of molded products (for example, injection molding)
<1> A mixing step of (A), (B) and, if necessary, an additive (C);
<2> Injection molding process The manufacturing process of an injection molded product will be described in more detail below.
<1> Mixing step The method of (1)-(3) is mentioned similarly to the <1> mixing process in manufacture of a film, A preferable method is also the same among these methods. In the resin composition forming the carrier in the present invention, (A) and (B) are excellent in compatibility, so that a good film can be obtained even by the method (1).
<2> Injection molding process The injection molding method is not particularly limited, and a molten resin is pressed into a gap between molds formed of a male mold and a female mold, and the molded product is obtained by cooling and solidifying. Various injection molding methods (for example, injection molding, gas assist molding, injection compression molding, and injection blow molding) can be used.
By adding a foaming agent (same as above) at the time of injection molding, a foamed layer can be formed in the molded product.
2-2. Manufacture of molded products (for example, vacuum forming)
<1> Mixing step of (A), (B) and (C) added as necessary;
<2> Sheet forming step;
<3> Cooling step using rolls or the like;
<4> Vacuum forming process

積層する場合は、フィルムの製造と同じく、多層シートであってもよいし、発泡層を含んでいてもよいし、延伸されていてもよい。   In the case of laminating, it may be a multilayer sheet, may contain a foamed layer, or may be stretched, as in the production of the film.

真空成形品の製造工程について以下にさらに詳細に説明する。
<1>混合工程
上記1.フィルムの製造における<1>混合工程と同じく(1)〜(3)の方法が挙げられ、これらの方法のうち好ましい方法も同様である。本発明における搬送体を形成する樹脂組成物では(A)と(B)が相溶性に優れることから、該(1)の方法でも良好なシートを得ることができる。
The manufacturing process of the vacuum formed product will be described in more detail below.
<1> Mixing step The method of (1)-(3) is mentioned similarly to the <1> mixing process in manufacture of a film, A preferable method is also the same among these methods. In the resin composition which forms the conveyance body in the present invention, since (A) and (B) are excellent in compatibility, a good sheet can also be obtained by the method (1).

<2>シート化工程
シート化方法については、特に限定はなく、種々のシート化方法(例えば押出成形法)を用いることができる。
いずれの方法においても、共押出が可能なダイスから樹脂組成物を積層した状態で押出してシート化するか、基層に表層をラミネートするかまたは表層と基層を接着剤もしくは接着層を用いて貼り合わせる等を行い、多層シートとしてもよい。
シート化時に発泡剤(前記に同じ)を添加することによりシート中に発泡層を形成させることもできる。
<2> Sheet Forming Step There are no particular limitations on the sheet forming method, and various sheet forming methods (for example, extrusion molding methods) can be used.
In either method, the resin composition is laminated from a die that can be co-extruded to form a sheet, or a surface layer is laminated to the base layer, or the surface layer and the base layer are bonded together using an adhesive or an adhesive layer. It is good also as a multilayer sheet.
A foaming layer can be formed in the sheet by adding a foaming agent (the same as above) at the time of forming the sheet.

共押出では、例えば樹脂組成物の温度はその加熱流動温度85〜280℃とし、ダイスの温度は180〜280℃とするのが好ましい。
基層に表層をラミネートする場合は、例えば各層を積層した後に加熱圧着してもよいし、予めそれぞれの接合面を加熱装置によって加熱した後に接合して圧着してもよい。
貼り合わせる方法において使用される接着剤は、特に限定されないが、前述のフィルムの製造と同じ接着剤が好ましい。
In coextrusion, for example, the temperature of the resin composition is preferably 85 to 280 ° C., and the die temperature is preferably 180 to 280 ° C.
In the case of laminating the surface layer on the base layer, for example, the layers may be laminated and then thermocompression bonded, or the respective bonding surfaces may be preliminarily heated with a heating device and then bonded and pressure bonded.
The adhesive used in the laminating method is not particularly limited, but the same adhesive as in the production of the film is preferable.

<3>ロール等による冷却工程
冷却方法については、例えば、ロールとの接触によって冷却する方法(例えば押出成形法のとき)を用いることができる。
<3> Cooling step with roll or the like As the cooling method, for example, a method of cooling by contact with a roll (for example, an extrusion method) can be used.

<4>真空成形工程
真空成形方法については、特に限定はなく、凹型金型上に加熱し軟化させたシートを置き、シートと金型の隙間を真空吸引し、成形し、冷却固化させて成形品を得る。
<4> Vacuum forming process The vacuum forming method is not particularly limited, and a heated and softened sheet is placed on the concave mold, the gap between the sheet and the mold is vacuum sucked, molded, cooled and solidified, and molded. Get the goods.

本発明における成形品のヘーズ(透明性を示す指標)は、透明性の観点から好ましくは20%以下、さらに好ましくは0〜10%、とくに好ましくは0〜5%以下である。
ヘーズはJIS K7105−1981の方法により測定することができる。該測定に用いられる装置としては、例えば、日本電色工業(株)製ND−300Aが挙げられる。
The haze (index indicating transparency) of the molded product in the present invention is preferably 20% or less, more preferably 0 to 10%, and particularly preferably 0 to 5% or less from the viewpoint of transparency.
Haze can be measured by the method of JIS K7105-1981. As an apparatus used for this measurement, Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. ND-300A is mentioned, for example.

本発明における成形品は、優れた機械特性および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有する。
該成形品を塗装する方法としては、エアスプレー法、エアレススプレー法、静電スプレー法、浸漬法、ローラー法、刷毛塗り法等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
塗料としては、ポリエステルメラミン、エポキシメラミン、アクリルメラミンおよびアクリルウレタン樹脂塗料等の種々の塗料が挙げられる。
塗装膜厚(乾燥後膜厚)は、目的に応じて適宜選択することができるが塗膜物性の観点から好ましくは10〜50μm、さらに好ましくは15〜40μmである。
また、該成形品に印刷する方法としては、種々の印刷法、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷およびオフセット印刷が挙げられる。
印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるものが挙げられる。
The molded article in the present invention has excellent mechanical properties and permanent antistatic properties, and also has good paintability and printability.
Examples of the method for coating the molded product include, but are not limited to, an air spray method, an airless spray method, an electrostatic spray method, a dipping method, a roller method, and a brush coating method.
Examples of the paint include various paints such as polyester melamine, epoxy melamine, acrylic melamine, and acrylic urethane resin paint.
Although a coating film thickness (film thickness after drying) can be appropriately selected according to the purpose, it is preferably 10 to 50 μm, more preferably 15 to 40 μm from the viewpoint of physical properties of the coating film.
Examples of the method for printing on the molded product include various printing methods such as gravure printing, flexographic printing, screen printing, and offset printing.
Examples of the printing ink include those usually used for plastic printing.

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において部は重量部、%は重量%を示す。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to this. In the following, “part” means “part by weight” and “%” means “% by weight”.

製造例1[ポリエーテルエステルアミド(B1−1)の製造]
3Lステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム83.5部、テレフタル酸16.5部、酸化防止剤[商品名:イルガノックス1010、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製、以下同じ]0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価112のポリアミド96部を得た。
次にMn1,500のビスフェノールAのEO付加物144部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させて粘稠なポリマーを得た。
このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってポリエーテルエステルアミド(B1−1)を得た。(B1−1)の屈折率は1.512であった。
Production Example 1 [Production of polyetheresteramide (B1-1)]
In a 3L stainless steel autoclave, 83.5 parts of ε-caprolactam, 16.5 parts of terephthalic acid, antioxidant [trade name: Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., hereinafter the same] 0.3 part and water 6 parts were charged, and the inside of the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 220 ° C. under pressure (0.3 to 0.5 MPa) for 4 hours to obtain 96 parts of polyamide having an acid value of 112 having carboxyl groups at both ends. It was.
Next, 144 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn 1,500 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain a viscous polymer.
The polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain a polyether ester amide (B1-1). The refractive index of (B1-1) was 1.512.

製造例2[ポリエーテルエステルアミド(B1−2)の製造]
製造例1において、ε−カプロラクタム83.5部、テレフタル酸16.5部、水6部に代えて、12−アミノドデカン酸89.7部、アジピン酸10.3部を用いた以外は製造例1と同様にして反応させた。その後同温度で徐々に減圧にして0.13kPa以下で2時間、未反応の12−アミノドデカン酸を留去して、両末端にカルボキシル基を有する酸価79のポリアミド98部を得た。
次に、製造例1におけるMn1,500のビスフェノールAのEO付加物144部、酢酸ジルコニル0.5部に代えてMn500のビスフェノールAのEO付加物35部、酢酸ジルコニル0.3部を用いた以外は製造例1と同様にしてポリエーテルエステルアミド(B1−2)からなる帯電防止剤を得た。(B1−2)の屈折率は1.537であった。
Production Example 2 [Production of polyetheresteramide (B1-2)]
Production Example 1 Production Example 1 except that 83.5 parts of ε-caprolactam, 16.5 parts of terephthalic acid, and 6 parts of water were replaced with 89.7 parts of 12-aminododecanoic acid and 10.3 parts of adipic acid. The reaction was carried out in the same manner as in 1. Thereafter, the pressure was gradually reduced at the same temperature, and unreacted 12-aminododecanoic acid was distilled off at 0.13 kPa or less for 2 hours to obtain 98 parts of polyamide having an acid value of 79 having carboxyl groups at both ends.
Next, 144 parts of EO addition product of bisphenol A of Mn 1,500 in Production Example 1 and 35 parts of EO addition product of bisphenol A of Mn 500 and 0.3 part of zirconyl acetate were used instead of 0.5 part of zirconyl acetate. Obtained the antistatic agent which consists of polyetheresteramide (B1-2) like manufacture example 1. The refractive index of (B1-2) was 1.537.

製造例3[酸変性ポリプロピレン(b21−1)の製造]
熱減成法[23℃における密度0.90g/cm3、MFR6.0g/10分のエチレン/プロピレン(ランダム付加)共重合体(エチレン含量2%)を410±0.1℃で熱減成]で得られた低分子量エチレン/プロピレンランダム共重合体(Mn3,500、密度0.89g/cm3、C1,000当たりの二重結合量7.1個、1分子当たりの二重結合の平均数1.8、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量90%)95部と無水マレイン酸10部とキシレン30部とを、窒素ガス雰囲気(密閉)下、200℃で溶融し、200℃、20時間反応を行った。
その後、過剰の無水マレイン酸とキシレンを減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(b21−1)を得た。(b21−1)の酸価は27.2、Mnは3,700であった。
Production Example 3 [Production of acid-modified polypropylene (b21-1)]
Thermal degradation method [Thermal degradation of ethylene / propylene (random addition) copolymer (ethylene content 2%) at a density of 0.90 g / cm 3 at 23 ° C. and MFR 6.0 g / 10 min at 410 ± 0.1 ° C. Low molecular weight ethylene / propylene random copolymer (Mn 3,500, density 0.89 g / cm 3 , 7.1 double bond amount per 1,000 C, average double bond per molecule) (Number 1.8, content of polyolefin which can be modified at both ends 90%) 95 parts, maleic anhydride 10 parts and xylene 30 parts were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed), Time reaction was performed.
Then, excess maleic anhydride and xylene were distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (b21-1). The acid value of (b21-1) was 27.2, and Mn was 3,700.

製造例4[二次変性ポリプロピレン(b21−2)の製造]
(b21−1)66部と12−アミノドデカン酸34部を窒素ガス雰囲気下、200℃で溶融し、200℃、3時間、1.3kPa以下の減圧下、反応を行い、二次変性ポリプロピレン(b21−2)を得た。(b21−2)の酸価は17.7、Mnは5,700であった。
Production Example 4 [Production of secondary modified polypropylene (b21-2)]
(B21-1) 66 parts and 34 parts of 12-aminododecanoic acid were melted at 200 ° C. under a nitrogen gas atmosphere, reacted at 200 ° C. for 3 hours under reduced pressure of 1.3 kPa or less, and secondary modified polypropylene ( b21-2) was obtained. The acid value of (b21-2) was 17.7, and Mn was 5,700.

製造例5[ブロックポリマー(B2−1)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、(b21−2)76.0部、Mn2,000、体積固有抵抗値1×107Ω・cmのポリエチレングリコール24.0部、酸化防止剤0.3部および酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下の条件で4時間重合させ粘稠なポリマーを得た。このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってブロックポリマー(B2−1)を得た。(B2−1)の屈折率は1.492であった。
Production Example 5 [Production of block polymer (B2-1)]
In a stainless steel autoclave, 76.0 parts of (b21-2), Mn 2,000, 24.0 parts of polyethylene glycol having a volume resistivity of 1 × 10 7 Ω · cm, 0.3 part of an antioxidant and 0. 5 parts were charged and polymerized for 4 hours under the conditions of 230 ° C. and reduced pressure of 0.13 kPa or less to obtain a viscous polymer. The polymer was taken out as a strand on the belt and pelletized to obtain a block polymer (B2-1). The refractive index of (B2-1) was 1.492.

製造例6[ブロックポリマー(B2−2)の製造]
製造例5において、(b21−2)76.0部、Mn2,000、体積固有抵抗値1×107Ω・cmのポリエチレングリコール24.0部に代えて、(b21−2)86.0部、Mn1,000、体積固有抵抗値2×108Ω・cmのビスフェノールAのEO付加物33.5部を用いた以外は、製造例5と同様にして、ブロックポリマー(B2−2)を得た。(B2−2)の屈折率は1.495であった。
Production Example 6 [Production of block polymer (B2-2)]
In Production Example 5, instead of 74.0 parts of (b21-2), Mn2,000, and 24.0 parts of polyethylene glycol having a volume resistivity of 1 × 10 7 Ω · cm, 86.0 parts of (b21-2) A block polymer (B2-2) was obtained in the same manner as in Production Example 5 except that 33.5 parts of an EO adduct of bisphenol A having a volume resistivity of 2 × 10 8 Ω · cm was used. It was. The refractive index of (B2-2) was 1.495.

製造例7[ブロックポリマー(B2−3)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、(b21−2)75.8部、Mn2,000、体積固有抵抗値1×107Ω・cmのポリエチレングリコールの両末端の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元して1級アミノ基に変性した親水性ポリマー(体積固有抵抗値2×108Ω・cm、)24.2部、酸化防止剤0.3部を仕込み、220℃、0.13kPa以下の減圧下の条件で6時間重合させ粘稠なポリマーを得た。このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってブロックポリマー(B2−3)を得た。(B2−3)の屈折率は、1.497であった。
Production Example 7 [Production of block polymer (B2-3)]
A terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating hydroxyl groups at both ends of polyethylene glycol having (b21-2) 75.8 parts, Mn 2,000, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm, on a stainless steel autoclave Reduced to primary amino group modified hydrophilic polymer (volume resistivity 2 × 10 8 Ω · cm) 24.2 parts, antioxidant 0.3 part, 220 ° C., 0.13 kPa or less Polymerization was performed for 6 hours under reduced pressure to obtain a viscous polymer. The polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain a block polymer (B2-3). The refractive index of (B2-3) was 1.497.

製造例8[ブロックポリマー(B2−4)の製造]
ステンレス製オートクレーブに、(b21−1)73.3部、ビスフェノールAのEO付加物(Mn1,500)の両末端の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元して1級アミノ基に変性した親水性ポリマー(体積固有抵抗値2×108Ω・cm、)26.7部を仕込み、200℃、1.3kPa以下の減圧下の条件で3時間重合させ粘稠なポリマーを得た。このポリマ−をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによってブロックポリマー(B2−4)を得た。(B2−4)の屈折率は、1.488であった。
Production Example 8 [Production of block polymer (B2-4)]
In a stainless steel autoclave, 73.3 parts of (b21-1), the terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the hydroxyl groups at both ends of the EO adduct of Bisphenol A (Mn1,500) is reduced to a primary amino group 26.7 parts of a modified hydrophilic polymer (volume resistivity 2 × 10 8 Ω · cm) and polymerized for 3 hours at 200 ° C. under reduced pressure of 1.3 kPa or less to obtain a viscous polymer It was. The polymer was taken out as a strand on the belt and pelletized to obtain a block polymer (B2-4). The refractive index of (B2-4) was 1.488.

製造例9[変性ビニル共重合体(C4−1)の製造]
熱減成法[熱減成条件:後述のPP樹脂(A−3)を窒素ガス通気下、350℃×2時間熱処理]で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn12,000、密度0.89g/cm3)95部と無水マレイン酸5部とを窒素雰囲気下180℃で溶融し、次いで、これにジクミルパーオキサイド1.5部を溶かしたキシレン50%溶液を15分かけて滴下した後、1時間反応を行った。その後、溶剤を減圧留去して、相溶化剤である変性ビニル共重合体(C4−1)を得た。(C4−1)の酸価は25.7、Mnは15,000であった。
Production Example 9 [Production of Modified Vinyl Copolymer (C4-1)]
Low molecular weight polypropylene (Mn 12,000, density 0.89 g / cm) obtained by a thermal degradation method [thermal degradation conditions: heat treatment at 350 ° C. for 2 hours under a nitrogen gas flow with PP resin (A-3) described later] 3 ) 95 parts and 5 parts of maleic anhydride were melted at 180 ° C. in a nitrogen atmosphere, and then a 50% xylene solution containing 1.5 parts of dicumyl peroxide was added dropwise over 15 minutes. Time reaction was performed. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a modified vinyl copolymer (C4-1) as a compatibilizing agent. The acid value of (C4-1) was 25.7, and Mn was 15,000.

実施例1〜11、比較例1〜6
表1に示す処方に従って、各成分をヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、A−5使用時は240℃、A−2使用時は230℃、A−3使用時は220℃、A−1およびA−4使用時は200℃で、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練して樹脂組成物(実施例1〜11、比較例1〜6)を得た。
Examples 1-11, Comparative Examples 1-6
In accordance with the formulation shown in Table 1, after blending each component for 3 minutes with a Henschel mixer, using a vented twin screw extruder, 240 ° C. when using A-5, 230 ° C. when using A-2, use A-3 The resin composition (Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6) was obtained by melt kneading at 220 ° C. when using A-1 and A-4 and 200 ° C. when using A-1 and A-4 at 100 rpm and a residence time of 5 minutes. It was.

(注)
A−1:PMMA樹脂[商品名:アクリペットVH、三菱レイヨン(株)製、屈折率は
1.490]
A−2:透明ABS樹脂[商品名:テクノABS 810、テクノポリマー(株)製、
屈折率は1.518]
A−3:透明PP樹脂[商品名:サンアロマーPM863V、サンアロマー(株)製、
屈折率は1.500]
A−4:MS樹脂[商品名:エスチレンMS600、新日鐵化学(株)製、屈折率は
1.533]
A−5:ポリエステル樹脂(シクロヘキサンジメタノール/エチレングリコール/テレフ
タル酸共重合物)[商品名:EASTER PETG6763、イーストマンケ
ミカルジャパン(株)製、屈折率は1.554]
B−3:グリセリンモノステアレート[屈折率は1.491]
C1−1:塩化リチウム
C1−2:トリフルオロメタンスルホン酸リチウム
C2−1:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
C1−1、C1−2、C2−1は、帯電防止剤(B)製造の際、ビスフェノールAのAO付加物またはポリエチレングリコールの使用時に、同時に添加、使用した。
(note)
A-1: PMMA resin [Product name: Acrypet VH, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., refractive index is
1.490]
A-2: Transparent ABS resin [trade name: Techno ABS 810, manufactured by Techno Polymer Co., Ltd.,
Refractive index is 1.518]
A-3: Transparent PP resin [Brand name: Sun Allomer PM863V, manufactured by Sun Allomer Co., Ltd.,
Refractive index is 1.500]
A-4: MS resin [Brand name: Estyrene MS600, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., refractive index is
1.533]
A-5: Polyester resin (cyclohexanedimethanol / ethylene glycol / terephthalic acid copolymer) [trade name: EASTER PETG6763, manufactured by Eastman Chemical Japan Co., Ltd., refractive index is 1.554]
B-3: Glycerol monostearate [refractive index is 1.491]
C1-1: Lithium chloride C1-2: Lithium trifluoromethanesulfonate C2-1: Sodium dodecylbenzenesulfonate C1-1, C1-2, C2-1 are bisphenol A in the production of the antistatic agent (B). When the AO adduct or polyethylene glycol was used, it was added and used simultaneously.

[成形]
上記で得られた樹脂組成物について、それぞれ射出成形、押出シート成形および二軸延伸フィルム成形を下記の条件で行った。
(1)射出成形
射出成形機[PS40E5ASE、日精樹脂工業(株)製]を用い、シリンダー温度240℃(A−5使用時)、230℃(A−2使用時)、220℃(A−3使用時)、または200℃(A−1およびA−4使用時)、金型温度50℃で試験片を作成した。
(2)押出フィルム、押出シート成形
T型ダイを備えた押出成形機[ラボプラストミル2D20C型、(株)東洋精機製作所製]を用い、(1)と同じシリンダー温度条件で溶融押出し、20℃の冷却ロールで急冷することにより厚さ100μmの押出フィルム、厚さ1mmの押出シートとした。
(3)二軸延伸フィルム成形
実施例4〜7および比較例4について上記(2)において得られた、100μmの押出フィルムを155℃に加熱したバッチ式延伸装置で延伸し、厚さ10μmの二軸延伸フィルムとした。
[Molding]
About the resin composition obtained above, injection molding, extrusion sheet molding, and biaxially stretched film molding were performed under the following conditions, respectively.
(1) Injection molding Using an injection molding machine [PS40E5ASE, manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd.], cylinder temperature 240 ° C (when A-5 is used), 230 ° C (when A-2 is used), 220 ° C (A-3) Test pieces were prepared at the time of use) or at 200 ° C. (when using A-1 and A-4) and at a mold temperature of 50 ° C.
(2) Extruded film, extruded sheet molding Using an extrusion molding machine equipped with a T-die [Lab plast mill 2D20C type, manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.], melt-extruded under the same cylinder temperature conditions as in (1), 20 ° C Were cooled with a chill roll to obtain an extruded film having a thickness of 100 μm and an extruded sheet having a thickness of 1 mm.
(3) Biaxially stretched film molding For Examples 4 to 7 and Comparative Example 4, the 100 μm extruded film obtained in (2) above was stretched with a batch-type stretching apparatus heated to 155 ° C., and the thickness was 10 μm. An axially stretched film was obtained.

[性能試験]
電気機器の製造工程における電気的な障害による部品の損傷や歩留まりについては、成形品の帯電防止性、透明性を評価することで代替した。評価項目および基準は下記に従い、上記得られた成形品またはフィルムについて性能評価した。結果を表2に示す。
[1]帯電防止性[ASTM D257(1984年)に準拠]
(1)飽和帯電圧
射出成形品、押出フィルム、押出シートおよび二軸延伸フィルムからそれぞれ切り出した試験片(50×50mm)を用い、該試験片を23℃、湿度50%RHの条件で48時間静置後、JIS L1094(1988年)に従ってスタティックオネストメーター[TYPE H0110、シシド静電気(株)製、以下同じ。]を用い、印加電圧10,000Vの条件で飽和帯電圧(単位V)を評価した。電気部品への電気的な障害は、500V以上で起こることから、搬送体としての電気的な障害有無の評価基準は下記に従った。

飽和帯電圧 500V以下 ○ 障害が起こらない
500V超 × 障害が起こる場合がある

(2)水洗後の飽和帯電圧
(1)と同様の試験片を、23℃のイオン交換水100mlを用い100ml/分の流量で斜めに立て掛けた試験片を水洗した後、循風乾燥機内80℃で3時間乾燥する。該水洗−乾燥の操作を10回繰り返した後、該試験片を23℃、湿度50%RHの条件で48時間静置後、スタティックオネストメーターにより同条件の雰囲気下で測定する。水洗前後の飽和帯電圧の変化がないことを帯電防止剤成分のはがれや粉落ちによる電気部品への汚染の有無の評価基準とした。

水洗前後の飽和帯電圧の差が±50V以下 ○
±50V超 ×

[2]透明性[JIS K7105−1981に準拠]
実施例1〜11、比較例1〜6の射出成形品、および押出フィルム、押出シートについてヘーズを測定し、透明性を評価する。搬送体の外から中身が見える透明性を示す、ヘーズ10を透明性の評価基準とする。
成形品のヘーズが10%以下 ○
10%超 ×
[performance test]
Parts damage and yield due to electrical failure in the manufacturing process of electrical equipment were replaced by evaluating the antistatic property and transparency of the molded product. The evaluation items and criteria were as follows, and performance evaluation was performed on the obtained molded product or film. The results are shown in Table 2.
[1] Antistatic property [Conforms to ASTM D257 (1984)]
(1) Saturation voltage A test piece (50 × 50 mm) cut out from an injection molded product, an extruded film, an extruded sheet and a biaxially stretched film was used, and the test piece was subjected to conditions of 23 ° C. and humidity 50% RH for 48 hours. After standing, in accordance with JIS L1094 (1988), a static one meter [TYPE H0110, manufactured by Sicid Electrostatic Co., Ltd., and so on. The saturation voltage (unit: V) was evaluated under the condition of an applied voltage of 10,000 V. Since an electrical failure to an electrical component occurs at 500 V or higher, the evaluation criteria for the presence or absence of an electrical failure as a carrier were as follows.

Saturation voltage 500V or less ○ No failure
Over 500V x Failure may occur

(2) Saturation voltage after washing After washing a test piece similar to that in (1) with 100 ml of ion exchange water at 23 ° C. at a flow rate of 100 ml / min, the test piece was washed in an air circulation dryer. Dry at 3 ° C. for 3 hours. After the operation of washing with water and drying was repeated 10 times, the test piece was allowed to stand for 48 hours under the conditions of 23 ° C. and humidity 50% RH, and then measured with a static Honest meter under the same conditions. The fact that there was no change in the saturation voltage before and after washing with water was used as an evaluation criterion for the presence or absence of contamination of electrical components due to peeling of the antistatic agent component or powder falling.

Difference in saturation voltage between before and after washing is less than ± 50V ○
More than ± 50V ×

[2] Transparency [conforms to JIS K7105-1981]
Haze is measured about the injection molded products of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6, extruded films, and extruded sheets, and the transparency is evaluated. Haze 10 indicating the transparency with which the contents can be seen from the outside of the carrier is used as the evaluation criterion for transparency.
Molded product haze is 10% or less ○
Over 10% ×

表2から明らかなように、本発明における成形品(実施例1〜11)は、比較の成形品(比較例1〜6)と比較して、帯電防止性および透明性において優れており、従って、搬送体としての、電気障害性および電気部品汚染性の評価、並びに透明性の評価において優れていることがわかる。そのような搬送体を使用することで、電気部品の保護に優れ、歩留まりが低下することのない電気機器の製造方法を提供することができる。   As is apparent from Table 2, the molded articles (Examples 1 to 11) in the present invention are superior in antistatic properties and transparency as compared with the comparative molded articles (Comparative Examples 1 to 6). As a result, it can be seen that the carrier is excellent in evaluation of electrical obstruction and electrical component contamination and transparency. By using such a carrier, it is possible to provide a method for manufacturing an electrical device that is excellent in protecting electrical components and that does not reduce yield.

本発明の、電気部品を搬送する工程を有する電気機器の製造方法は、親水性鎖を有し、熱可塑性樹脂(A)との屈折率差が0.02以下である帯電防止剤(B)を(A)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物を成形してなる搬送体を使用することにより、静電気放電による障害(デバイス破壊等)および歩留まり低下を防止することができるという効果を奏することから、家電(液晶テレビ、デジタルテレビ等)・OA機器およびゲーム機器等の幅広い電気機器の製造において、電気部品の保護および生産性の向上を図ることができる。   The manufacturing method of the electric equipment which has the process of conveying an electric component of this invention has an antistatic agent (B) which has a hydrophilic chain and a refractive index difference with a thermoplastic resin (A) is 0.02 or less. By using a transport body formed by molding an antistatic resin composition containing (A) in the form of (A), it is possible to prevent failures due to electrostatic discharge (device destruction, etc.) and yield reduction. For this reason, in the manufacture of a wide range of electrical equipment such as home appliances (liquid crystal televisions, digital televisions, etc.), OA equipment and game equipment, it is possible to protect electrical components and improve productivity.

Claims (2)

電気部品を搬送する工程を有する電気機器の製造方法において、親水性鎖を有し、熱可塑性樹脂(A)との屈折率差が0.02以下である帯電防止剤(B)を(A)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物を成形してなる搬送体を使用して、電気部品を搬送することを特徴とする電気機器の製造方法。 In the manufacturing method of the electric equipment which has the process of conveying an electrical component, the antistatic agent (B) which has a hydrophilic chain and a refractive index difference with a thermoplastic resin (A) is 0.02 or less (A) A method for producing an electrical device, comprising transporting an electrical component using a transport body formed by molding an antistatic resin composition contained in the composition. (B)が、下記の(B1)および(B2)からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の製造方法。
(B1):数平均分子量200〜5,000のポリアミド(b11)と数平均分子量300〜5,000のビスフェノールのアルキレンオキシド付加物(b12)とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
(B2):ポリオレフィン(b21)のブロックと、体積固有抵抗値が1×105〜1
×1011Ω・cmの親水性ポリマー(b22)のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
The production method according to claim 1, wherein (B) is at least one selected from the group consisting of the following (B1) and (B2).
(B1): Polyether ester amide derived from polyamide (b11) having a number average molecular weight of 200 to 5,000 and an alkylene oxide adduct (b12) of bisphenol having a number average molecular weight of 300 to 5,000 (B2): Polyolefin The block of (b21) and the volume specific resistance value are 1 × 10 5 to 1
A block of × 10 11 Ω · cm hydrophilic polymer (b22) was repeatedly bonded alternately through at least one bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. Block polymer with structure
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