JP4927449B2 - Antistatic biodegradable resin composition - Google Patents
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Description
本発明は帯電防止性樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、生分解性樹脂の生分解性を阻害することなく永久帯電防止性を付与する特性に優れる生分解性樹脂用帯電防止剤、および該帯電防止剤を生分解性樹脂に含有させてなる帯電防止性生分解性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to an antistatic resin composition. More specifically, an antistatic agent for a biodegradable resin excellent in the property of imparting permanent antistatic properties without inhibiting the biodegradability of the biodegradable resin, and the antistatic agent contained in the biodegradable resin It is related with the antistatic biodegradable resin composition which becomes.
従来、生分解性樹脂、例えばポリ乳酸に、ポリエーテル、特にポリエチレングリコールまたはその変性体を混合し、帯電防止性を付与する方法は周知である。(例えば、特許文献1〜3参照) Conventionally, a method for imparting antistatic properties by mixing a biodegradable resin such as polylactic acid with a polyether, particularly polyethylene glycol or a modified product thereof, is well known. (For example, see Patent Documents 1 to 3)
しかしながら、これらの方法では帯電防止性は付与されるが、自然環境下での生分解が困難となり、生分解性樹脂の有する本来の生分解性が損なわれるという問題が生じる。
本発明は、生分解性を損なうことなく生分解性樹脂に永久帯電防止性を付与する帯電防
止剤および該帯電防止剤を生分解性樹脂に含有させてなる帯電防止性生分解性樹脂組成物を提供することを目的とする。
However, although these methods provide antistatic properties, biodegradation in a natural environment is difficult, and the original biodegradability of the biodegradable resin is impaired.
The present invention relates to an antistatic agent that imparts a permanent antistatic property to a biodegradable resin without impairing the biodegradability, and an antistatic biodegradable resin composition containing the antistatic agent in a biodegradable resin. The purpose is to provide.
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち本発明は、1×106〜1×1010Ω・cmの体積固有抵抗値を有するエステル基含有ポリマーからなる帯電防止剤(A)、生分解性ポリエステル樹脂(B)およびイオン性液体(C3)を含有してなり、該ポリマーと(B)との単位重量当たりのエステル基濃度の比[(モル/kg)/(モル/kg)]が0.1/1〜0.9/1であることを特徴とする帯電防止性生分解性樹脂組成物;該組成物用の帯電防止剤(A);該組成物を成形してなる帯電防止性樹脂成形品;並びに、該成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品である。
The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the present invention is, 1 × 10 6 ~1 × 10 10 Ω · cm in volume resistivity antistatic agent consisting of an ester group-containing polymer having (A), the biodegradable polyester resin (B) and ionic liquid ( and also contains the C3), the ratio of the ester group concentration per unit weight of the polymer and (B) [(mol / kg) / (mol / kg)] is 0.1 / 1 to 0.9 / 1 An antistatic biodegradable resin composition comprising: an antistatic agent for the composition (A); an antistatic resin molded product obtained by molding the composition; and the molded product. It is a molded article formed by painting and / or printing.
本発明の帯電防止性生分解性樹脂組成物および該組成物用である帯電防止剤は下記の効果を奏する。
(1)該帯電防止剤は、生分解性ポリエステル樹脂への分散性に優れる。
(2)該帯電防止性生分解性樹脂組成物を成形してなる成形品は、優れた永久帯電防止性を有し、生分解性樹脂本来の生分解性が損われることがない。
The antistatic biodegradable resin composition of the present invention and the antistatic agent for the composition have the following effects.
(1) The antistatic agent is excellent in dispersibility in a biodegradable polyester resin.
(2) A molded product formed by molding the antistatic biodegradable resin composition has excellent permanent antistatic properties and does not impair the original biodegradability of the biodegradable resin.
本発明の帯電防止性生分解性樹脂組成物は、1×106〜1×1010Ω・cmの体積固
有抵抗値を有するエステル基含有ポリマーからなる帯電防止剤(A)を生分解性ポリエステル樹脂(B)に含有させてなり、該ポリマーと(B)との単位重量当たりのエステル基濃度の比が0.1/1〜0.9/1であることを特徴とする組成物である。
The antistatic biodegradable resin composition of the present invention is a biodegradable polyester comprising an antistatic agent (A) comprising an ester group-containing polymer having a volume resistivity of 1 × 10 6 to 1 × 10 10 Ω · cm. It is a composition characterized in that it is contained in the resin (B), and the ratio of the ester group concentration per unit weight between the polymer and (B) is 0.1 / 1 to 0.9 / 1. .
該ポリマーには、ポリエステルブロックを少なくとも含有するブロックポリマーが含まれる。これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのはポリエーテル鎖含有ブロックポリマー(A1)、アニオン性基含有ブロックポリマー(A2)およびカチオン性基含有ブロ
ックポリマー(A3)からなる群から選ばれる1種または2種以上のブロックポリマーである。以下、(A1)〜(A3)について説明する。
The polymer includes a block polymer containing at least a polyester block. Among these, from the viewpoint of antistatic properties, one selected from the group consisting of a polyether chain-containing block polymer (A1), an anionic group-containing block polymer (A2) and a cationic group-containing block polymer (A3) or Two or more block polymers. Hereinafter, (A1) to (A3) will be described.
[ポリエーテル鎖含有ブロックポリマー(A1)]
(A1)は、ポリエステルブロック(a)とポリエーテル鎖含有ブロック(b)からなるブロックポリマーであり、(a)と(b)を交互におよび/またはランダムに結合させることにより得られる。
(a)としては、生分解性脂肪族ポリエステル形成性のモノマー(a00)の単独重合体、および(a00)と他のモノマーとの共重合体が挙げられる。
(a00)としては、炭素数(以下、Cと略記)2〜6のオキシカルボン酸[グリコール酸、乳酸(DL体、D体およびL体)等]、C4〜6のラクチド(DL体、D体およびL体)、C3〜16のラクトン(プロピオラクトン、ブチロラクトン、カプロラクトン等)が挙げられる。これらのうち、生分解性の観点および反応性の観点から好ましいのはオキシカルボン酸、さらに好ましいのは乳酸およびラクチド、とくに好ましいのはL−乳酸およびL−ラクチドである。
[Polyether chain-containing block polymer (A1)]
(A1) is a block polymer comprising a polyester block (a) and a polyether chain-containing block (b), and is obtained by bonding (a) and (b) alternately and / or randomly.
Examples of (a) include a homopolymer of a biodegradable aliphatic polyester-forming monomer (a00), and a copolymer of (a00) and another monomer.
Examples of (a00) include oxycarboxylic acids having 2 to 6 carbon atoms (hereinafter abbreviated as C) [glycolic acid, lactic acid (DL, D and L), etc.], C4 to 6 lactides (DL, D) And L-form) and C3-16 lactones (propiolactone, butyrolactone, caprolactone, etc.). Of these, oxycarboxylic acids are preferable from the viewpoints of biodegradability and reactivity, lactic acid and lactide are more preferable, and L-lactic acid and L-lactide are particularly preferable.
(a00)と共重合させる他のモノマーとしてはラクタム(a01)、アミノカルボン酸(a02)、ジアミン(a03)、ジカルボン酸(a04)が挙げられる。
ラクタム(a01)としては、C6〜16、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタム、ウンデカノラクタムおよびこれらの混合物が挙げられる。
(a01)の開環重合体としては、例えばナイロン4、ナイロン5、ナイロン6、ナイロン8およびナイロン12が挙げられる。
Examples of other monomers copolymerized with (a00) include lactam (a01), aminocarboxylic acid (a02), diamine (a03), and dicarboxylic acid (a04).
The lactam (a01) includes C6-16, such as caprolactam, enantolactam, laurolactam, undecanolactam, and mixtures thereof.
Examples of the ring-opening polymer (a01) include nylon 4, nylon 5, nylon 6, nylon 8, and nylon 12.
アミノカルボン酸(a02)としては、C6〜16、例えばω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペラルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
(a02)の自己重縮合体としては、例えばω−アミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11および12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12が挙げられる。
As aminocarboxylic acid (a02), C6-16, for example, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopelargonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid, 12 -Aminododecanoic acid and mixtures thereof.
Examples of the self-polycondensate of (a02) include nylon 7 by polycondensation of ω-aminoenanthic acid, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, and nylon 12 by polycondensation of 12-aminododecanoic acid. .
ジアミン(a03)としては、C2〜40、例えば脂肪族、脂環式および芳香(脂肪)族ジアミン、並びにこれらの混合物が挙げられる。
脂肪族ジアミンとしては、C2〜40、例えばエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン、1,18−オクタデカンジアミンおよび1,20−エイコサンジアミンが挙げられる。
脂環式ジアミンとしては、C5〜40、例えば1,3−および1,4−シクロヘキサンジアミン、イソホロンジアミン、4,4’−ジアミノシクロヘキシルメタンおよび2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパンが挙げられる。
芳香脂肪族ジアミンとしては、C7〜20、例えばキシリレンジアミン、ビス(アミノエチル)ベンゼン、ビス(アミノプロピル)ベンゼンおよびビス(アミノブチル)ベンゼンが挙げられる。
芳香族ジアミンとしては、C6〜40、例えばp−フェニレンジアミン、2,4−および2,6−トルイレンジアミンおよび2,2−ビス(4,4’−ジアミノフェニル)プロパンが挙げられる。
Diamine (a03) includes C2-40, such as aliphatic, alicyclic and aromatic (aliphatic) diamines, and mixtures thereof.
Aliphatic diamines include C2-40, such as ethylene diamine, propylene diamine, hexamethylene diamine, decamethylene diamine, 1,12-dodecane diamine, 1,18-octadecane diamine and 1,20-eicosane diamine.
Alicyclic diamines include C5-40, such as 1,3- and 1,4-cyclohexanediamine, isophorone diamine, 4,4'-diaminocyclohexylmethane and 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane. It is done.
Examples of araliphatic diamines include C7-20, such as xylylenediamine, bis (aminoethyl) benzene, bis (aminopropyl) benzene, and bis (aminobutyl) benzene.
Aromatic diamines include C6-40, such as p-phenylenediamine, 2,4- and 2,6-toluylenediamine and 2,2-bis (4,4'-diaminophenyl) propane.
ジカルボン酸(a04)としては、C2〜40のジカルボン酸、例えば脂肪族ジカルボン酸、芳香環含有ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、これらのジカルボン酸の誘導体〔例えば酸無水物、低級(C1〜4)アルキルエステルおよびジカルボン酸塩[アルカリ金属(リチウム、ナトリウムおよびカリウム等)塩等]〕およびこれらの2種以上の混合物
が挙げられる。
Examples of the dicarboxylic acid (a04) include C2-40 dicarboxylic acids such as aliphatic dicarboxylic acids, aromatic ring-containing dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, and derivatives of these dicarboxylic acids [for example, acid anhydrides, lower (C1-4) ) Alkyl esters and dicarboxylates [alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) salts]] and mixtures of two or more thereof.
脂肪族ジカルボン酸としては、C2〜40(帯電防止性の観点から好ましくは4〜20、さらに好ましくは6〜12)の飽和もしくは不飽和ジカルボン酸、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸およびイタコン酸が挙げられる。
芳香環含有ジカルボン酸としては、C8〜40(帯電防止性の観点から好ましくは8〜16、さらに好ましくは8〜14)、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、2,6−および2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニル−4,4’−ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、トリレンジカルボン酸およびキシリレンジカルボン酸が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、C5〜40(帯電防止性の観点から好ましくは6〜18、さらに好ましくは8〜14)、例えばシクロプロパンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−4,4’−ジカルボン酸およびショウノウ酸が挙げられる。
Examples of aliphatic dicarboxylic acids include C2-40 (preferably 4 to 20, more preferably 6 to 12 from the viewpoint of antistatic properties) saturated or unsaturated dicarboxylic acids such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, and pimelic acid. , Suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid.
Examples of the aromatic ring-containing dicarboxylic acid include C8 to 40 (preferably 8 to 16, more preferably 8 to 14 from the viewpoint of antistatic properties), such as ortho-, iso- and terephthalic acid, 2,6- and 2,7. -Naphthalenedicarboxylic acid, diphenyl-4,4'-dicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, tolylene dicarboxylic acid and xylylene dicarboxylic acid.
As alicyclic dicarboxylic acid, C5-40 (preferably 6-18, more preferably 8-14 from the viewpoint of antistatic properties), for example, cyclopropanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid, Examples include dicyclohexyl-4,4'-dicarboxylic acid and camphoric acid.
ジカルボン酸誘導体のうち酸無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸および無水フタル酸;低級(C1〜4)アルキルエステルとしては上記ジカルボン酸の低級アルキルエステル、例えばアジピン酸ジメチルおよびオルト−、イソ−およびテレフタル酸ジメチル;ジカルボン酸塩としては、上記ジカルボン酸のアルカリ金属塩、例えば5−スルホイソフタル酸ナトリウムが挙げられる。 Among the dicarboxylic acid derivatives, examples of the acid anhydride include anhydrides of the above dicarboxylic acids, such as maleic anhydride, itaconic anhydride and phthalic anhydride; examples of lower (C1-4) alkyl esters include lower alkyl esters of the above dicarboxylic acids, such as Dimethyl adipate and ortho-, iso- and dimethyl terephthalate; examples of the dicarboxylate include alkali metal salts of the above dicarboxylic acids such as sodium 5-sulfoisophthalate.
これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香環含有ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および5−スルホイソフタル酸ナトリウムである。 Of these, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic ring-containing dicarboxylic acids are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and sodium 5-sulfoisophthalate are more preferable.
上記共重合体における(a00)と他のモノマーとの共重合比(重量比)は、通常99.9/0.1以下、帯電防止剤(A)の、後述する生分解性ポリエステル樹脂(B)への分散性の観点から好ましい下限は50/50、さらに好ましくは60/40、成形性の観点から好ましい上限は95/5、さらに好ましくは80/20である。 The copolymerization ratio (weight ratio) of (a00) and the other monomer in the copolymer is usually 99.9 / 0.1 or less, and a biodegradable polyester resin (B) described later of the antistatic agent (A). The lower limit is preferably 50/50, more preferably 60/40, and the upper limit is preferably 95/5, more preferably 80/20 from the viewpoint of moldability.
(a)の数平均分子量[以下、Mnと略記。測定はゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)法による。]は、成形品の耐熱性および後述するポリエーテル鎖含有ブロック(b)との反応性の観点から好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000である。
(a)の末端基は、(b)との反応性の観点から好ましいのはカルボニル基を含有する基(カルボキシル基等)である。
Number average molecular weight of (a) [hereinafter abbreviated as Mn. The measurement is based on a gel permeation chromatography (GPC) method. ] Is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000 from the viewpoint of heat resistance of the molded product and reactivity with the polyether chain-containing block (b) described later.
The terminal group of (a) is preferably a group containing a carbonyl group (such as a carboxyl group) from the viewpoint of reactivity with (b).
ポリエーテル鎖含有ブロック(b)としては、 下記の一般式(1)で表される、ジオ
ール(b01)または2価フェノール(b02)にアルキレンオキシド(以下、AOと略記)を付加反応させたものが挙げられる。
H−(OA1)m−O−E1−O−(A1O)m'−H (1)
式中、E1は活性水素原子含有化合物から水酸基を除いた残基、A1はC2〜4のアルキレン基、複数の(A1O)は同一でも異なっていてもよく、これらの結合形式はブロックおよび/またはランダムのいずれでもよい。mおよびm’は1〜300、好ましくは2〜250、特に好ましくは10〜100の整数を表す。
As the polyether chain-containing block (b), an addition reaction of alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) to diol (b01) or dihydric phenol (b02) represented by the following general formula (1) Is mentioned.
H- (OA 1) m -O- E 1 -O- (A 1 O) m '-H (1)
In the formula, E 1 is a residue obtained by removing a hydroxyl group from an active hydrogen atom-containing compound, A 1 is a C2-4 alkylene group, and a plurality of (A 1 O) may be the same or different. It may be either block and / or random. m and m ′ represent an integer of 1 to 300, preferably 2 to 250, particularly preferably 10 to 100.
ジオール(b01)としては、脂肪族2価アルコール[C2〜12(好ましくは2〜8
、さらに好ましくは2〜6)のアルキレングリコール、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−、1,3−、2,3−および1,4−ブタンジオール、1,2−、1,3−、1,4−、1,5−、1,6−、2,3−、2,4−、2,5−および3,4−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール(以下、それぞれEG、PG、BD、HGおよびNPGと略記。)、2,2−、2,3−、2,4−、2,5−、3,3−および3,4−ジメチル−1,6−ヘキサンジオールおよび1,12−ドデカンジオール];脂環式2価アルコール[C5〜12(好ましくは5〜10、さらに好ましくは5〜8)、例えばシクロペンタン−1,2−および1,3−ジオール、シクロヘキサン−1,2−、1,3−および1,4−ジオール、ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサンおよび水素添加ビスフェノールA];芳香環含有2価アルコール[C8〜20、例えばキシリレングリコール、ビス(ヒドロキシメチル)ベンゼンおよびビス(ヒドロキシエチル)ベンゼン];および3級アミノ基含有ジオール〔例えば、C1〜12の脂肪族または脂環式1級モノアミン[メチルアミン、エチルアミン、シクロプロピルアミン、1−プロピルアミン、2−プロピルアミン、アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、1,3−ジメチルブチルアミン、3,3−ジメチルブチルアミン、2−アミノヘプタン、3−アミノヘプタン、シクロペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン等]のビスヒドロキシアルキル化物およびC6〜12の芳香族1級モノアミン[アニリン、ベンジルアミン等]のビスヒドロキシアルキル化物〕が挙げられる。
(b01)のうち、(A1)の帯電防止性および後述の(B)に対する(A1)の分散性の観点から好ましいのは脂肪族2価アルコール、さらに好ましいのはEGである。
Diol (b01) includes aliphatic dihydric alcohol [C2-12 (preferably 2-8).
And more preferably 2-6) alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-, 1,3-, 2,3- and 1,4-butanediol, 1,2-, 1,3- 1,4-, 1,5-, 1,6-, 2,3-, 2,4-, 2,5- and 3,4-hexanediol, neopentyl glycol (hereinafter referred to as EG, PG, BD, respectively) , Abbreviated as HG and NPG.), 2,2-, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 3,3- and 3,4-dimethyl-1,6-hexanediol and 1,12 -Dodecanediol]; alicyclic dihydric alcohol [C5-12 (preferably 5-10, more preferably 5-8), such as cyclopentane-1,2- and 1,3-diol, cyclohexane-1,2 -, 1,3- and 1,4-di Bis (hydroxymethyl) cyclohexane and hydrogenated bisphenol A]; aromatic ring-containing dihydric alcohols [C8-20, such as xylylene glycol, bis (hydroxymethyl) benzene and bis (hydroxyethyl) benzene]; and tertiary Amino group-containing diol [e.g., C1-12 aliphatic or alicyclic primary monoamine [methylamine, ethylamine, cyclopropylamine, 1-propylamine, 2-propylamine, amylamine, isoamylamine, hexylamine, 1, 3-dimethylbutylamine, 3,3-dimethylbutylamine, 2-aminoheptane, 3-aminoheptane, cyclopentylamine, hexylamine, cyclohexylamine, heptylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, Bishydroxyalkyl halides and aromatic primary monoamine C6~12 [aniline-decylamine, etc.], and a bis hydroxyalkyl compound] benzyl amine.
Of (b01), from the viewpoint of antistatic properties of (A1) and dispersibility of (A1) with respect to (B) described later, aliphatic dihydric alcohols are preferred, and EG is more preferred.
2価フェノール(b02)としては、単環2価フェノール(C6〜18、例えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシンおよびウルシオール)、ビスフェノール(C12〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−S、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタンおよびジヒドロキシビフェニル)および縮合多環2価フェノール(ジヒドロキシナフタレン、ビナフトール等)]等が挙げられる。
(b02)のうち、(A1)の耐熱性と後述する成形性の観点から好ましいのは、ビスフェノールおよび縮合多環2価フェノール、さらに好ましいのはビスフェノールAである。
Examples of the dihydric phenol (b02) include monocyclic dihydric phenols (C6-18, such as hydroquinone, catechol, resorcin and urushiol), bisphenols (C12-20, such as bisphenol A, -F and -S, 4,4 ' -Dihydroxydiphenyl-2,2-butane and dihydroxybiphenyl) and condensed polycyclic dihydric phenols (dihydroxynaphthalene, binaphthol, etc.)] and the like.
Of (b02), from the viewpoint of the heat resistance of (A1) and the moldability described later, bisphenol and condensed polycyclic dihydric phenol are preferred, and bisphenol A is more preferred.
(b)のうち、生分解性の観点から好ましいのは、脂肪族2価アルコールのAO付加物である脂肪族ポリエーテルブロックである。 Among (b), an aliphatic polyether block that is an AO adduct of an aliphatic dihydric alcohol is preferable from the viewpoint of biodegradability.
(b)のMnは、帯電防止性および(a)との反応性の観点から好ましくは300〜5,000、さらに好ましくは1,000〜3,000である。
(b)の末端基は、(a)との反応性の観点から好ましいのは水酸基である。
Mn in (b) is preferably 300 to 5,000, more preferably 1,000 to 3,000, from the viewpoint of antistatic properties and reactivity with (a).
The terminal group of (b) is preferably a hydroxyl group from the viewpoint of reactivity with (a).
(A1)のMnは、後述する成形品の機械物性の観点から好ましい下限は2,000、さらに好ましくは4,000、とくに好ましくは5,000、(A1)の生分解性ポリエステル樹脂(B)への分散性の観点から好ましい上限は60,000、さらに好ましくは40,000、とくに好ましくは30,000である。 The lower limit of Mn of (A1) is preferably 2,000, more preferably 4,000, particularly preferably 5,000 from the viewpoint of the mechanical properties of the molded product to be described later, and (A1) biodegradable polyester resin (B). From the viewpoint of dispersibility, the upper limit is preferably 60,000, more preferably 40,000, particularly preferably 30,000.
(A1)は、例えば生分解性脂肪族ポリエステル形成性のモノマー(a00)にジカルボン酸(a04)を加え、加圧下(0.1〜1Mpa)、200℃で重合させてポリエステルブロック(a)を製造後、これにポリエーテル鎖含有ブロック(b)を加えて、高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合する方法で製造することができる。
上記ポリエステル化反応に際しては、エステル化触媒が使用できる。該触媒としては、例えばアンチモン触媒(三酸化アンチモン等)、スズ触媒(モノブチルスズオキシド等)
、チタン触媒(テトラブチルチタネート等)、ジルコニウム触媒(テトラブチルジルコネート等)および酢酸金属塩触媒(酢酸亜鉛、酢酸ジルコニル等)が挙げられる。
該触媒の使用量は(a)と(b)の合計重量に基づいて、反応性および成形品の機械物性の観点から好ましくは0.1〜5%、さらには好ましくは0.2〜3%である。
(A1)を構成する(b)の量は、(A1)の重量に基づいて、成形品の帯電防止性および機械物性の観点から好ましくは20〜90%、さらに好ましくは25〜80%である。
(A1) is, for example, adding a dicarboxylic acid (a04) to a biodegradable aliphatic polyester-forming monomer (a00) and polymerizing the polyester block (a) at 200 ° C. under pressure (0.1 to 1 Mpa). After the production, the polyether chain-containing block (b) can be added thereto and polymerized at a high temperature (160 to 270 ° C.) and under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
In the polyesterification reaction, an esterification catalyst can be used. Examples of the catalyst include an antimony catalyst (such as antimony trioxide) and a tin catalyst (such as monobutyltin oxide).
, Titanium catalysts (tetrabutyl titanate, etc.), zirconium catalysts (tetrabutyl zirconate, etc.) and acetate metal salt catalysts (zinc acetate, zirconyl acetate, etc.).
The amount of the catalyst used is preferably 0.1 to 5%, more preferably 0.2 to 3% based on the total weight of (a) and (b) from the viewpoint of reactivity and mechanical properties of the molded product. It is.
The amount of (b) constituting (A1) is preferably 20 to 90%, more preferably 25 to 80%, from the viewpoint of antistatic properties and mechanical properties of the molded product, based on the weight of (A1). .
[アニオン性基含有ブロックポリマー(A2)]
(A2)は前記ポリエステルブロック(a)とアニオン性基含有ブロック(c)からなるブロックポリマーであり、(a)と(c)を交互におよび/またはランダムに結合させることにより得られる。
[Anionic group-containing block polymer (A2)]
(A2) is a block polymer comprising the polyester block (a) and an anionic group-containing block (c), and is obtained by bonding (a) and (c) alternately and / or randomly.
アニオン性基含有ブロック(c)には、スルホ基を有するジカルボン酸、およびジオールとを必須構成単位とし、かつ分子内に好ましくは2〜80(さらに好ましくは3〜60)個のスルホ基を有するアニオン性親水性ブロック(c1)、スルホ基を有するジオール、およびジカルボン酸とを必須構成単位とし、かつ分子内に好ましくは2〜80(さらに好ましくは3〜60)個のスルホ基を有するアニオン性親水性ブロック(c2)およびスルホ基を有するビニルモノマーを種々の重合法(例えばラジカル重合法、チーグラー触媒重合法およびメタロセン触媒重合法)により(共)重合、もしくは他のビニルモノマー(前記のもの)と共重合させることにより得られるアニオン性親水性ブロック(c3)が含まれる。 The anionic group-containing block (c) contains a dicarboxylic acid having a sulfo group and a diol as essential structural units, and preferably has 2 to 80 (more preferably 3 to 60) sulfo groups in the molecule. An anionic hydrophilic block (c1), a diol having a sulfo group, and a dicarboxylic acid as essential constituent units, and preferably having 2 to 80 (more preferably 3 to 60) sulfo groups in the molecule (Co) polymerization of a vinyl monomer having a hydrophilic block (c2) and a sulfo group by various polymerization methods (for example, radical polymerization method, Ziegler catalyst polymerization method and metallocene catalyst polymerization method), or other vinyl monomers (as described above) And an anionic hydrophilic block (c3) obtained by copolymerization with the.
(c1)を構成するスルホ基含有ジカルボン酸としては、スルホ基含有芳香族および脂肪族ジカルボン酸が挙げられる。 Examples of the sulfo group-containing dicarboxylic acid constituting (c1) include sulfo group-containing aromatic and aliphatic dicarboxylic acids.
スルホ基含有芳香族ジカルボン酸には、C8〜20、例えば2−、4−および5−スルホイソフタル酸、4−スルホ−2,6−ナフタレンジカルボン酸、これらのスルホ基のみの塩およびこれらのエステル形成性誘導体[例えば低級アルキル(C1〜4)エステル(例えばメチルエステルおよびエチルエステル)および酸無水物]が含まれる。
スルホ基含有脂肪族ジカルボン酸には、C4〜18、例えばスルホコハク酸、これらのスルホ基のみの塩およびそのエステル形成性誘導体(上記に同じ)が含まれる。
上記ジカルボン酸のスルホ基のみの塩としては、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム)もしくはアルカリ土類金属(例えばカルシウムおよびマグネシウム)の塩、アンモニウム塩、アミン(C1〜C30)塩、モノ−、ジ−およびトリアルカノールアミン(C2〜6)塩、該アミン塩の4級アンモニウム塩およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
これらのうち耐熱性の観点から好ましいのは、スルホ基を有する芳香族ジカルボン酸、さらに好ましいのは2−、4−および5−スルホイソフタル酸、および4−スルホ−2,6−ナフタレンジカルボン酸である。
Examples of the sulfo group-containing aromatic dicarboxylic acid include C8-20, such as 2-, 4- and 5-sulfoisophthalic acid, 4-sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, salts of these sulfo groups only, and esters thereof. Formable derivatives [eg lower alkyl (C1-4) esters (eg methyl esters and ethyl esters) and acid anhydrides] are included.
The sulfo group-containing aliphatic dicarboxylic acid includes C4-18, for example, sulfosuccinic acid, salts of these sulfo groups only, and ester-forming derivatives thereof (same as above).
Examples of the salt of only the sulfo group of the dicarboxylic acid include salts of alkali metals (for example, lithium, sodium and potassium) or alkaline earth metals (for example, calcium and magnesium), ammonium salts, amine (C1 to C30) salts, mono-, Di- and trialkanolamine (C2-6) salts, quaternary ammonium salts of the amine salts and mixtures of two or more thereof.
Of these, aromatic dicarboxylic acids having a sulfo group are preferable from the viewpoint of heat resistance, and 2-, 4- and 5-sulfoisophthalic acid, and 4-sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid are more preferable. is there.
(c1)を構成するジオールとしては、例えばアルキレングリコール、ポリオキシアルキレンおよび水酸基含有化合物のAO付加物が挙げられる。
アルキレングリコールとしては、C2〜C12、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,6−ヘキサンジオールおよび1,12−ドデカンジオールが挙げられる。
ポリオキシアルキレン(アルキレンのCは2〜4、付加形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい)としては、重合度2〜60、例えばポリオキシエチレン(例えば重合度2〜20)、ポリオキシプロピレン(例えば重合度2〜20)およびポリオキシエチレン/プロピレン共重合体(重量比10/90〜90/10)(例えば重合度2〜
30)が挙げられる。
Examples of the diol constituting (c1) include AO adducts of alkylene glycol, polyoxyalkylene and a hydroxyl group-containing compound.
Alkylene glycols include C2-C12, such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,6-hexanediol and 1,12-dodecanediol.
As polyoxyalkylene (C is 2 to 4 for alkylene, and the addition form may be random and / or block), polymerization degree is 2 to 60, for example, polyoxyethylene (for example, polymerization degree is 2 to 20), polyoxypropylene (Eg, degree of polymerization 2-20) and polyoxyethylene / propylene copolymer (weight ratio 10 / 90-90 / 10) (eg, degree of polymerization 2
30).
水酸基含有化合物のAO付加物を構成する水酸基含有化合物には、例えばアルキレングリコール(上記のもの)および2価フェノール(前記のもの)が含まれる。水酸基含有化合物のAO付加物の分子量は通常Mn150〜2,500、耐熱性の観点から好ましくはMn300〜2,000である。 Examples of the hydroxyl group-containing compound constituting the AO adduct of the hydroxyl group-containing compound include alkylene glycol (above) and dihydric phenol (above). The molecular weight of the AO adduct of the hydroxyl group-containing compound is usually Mn 150 to 2,500, and preferably Mn 300 to 2,000 from the viewpoint of heat resistance.
これらのジオールのうち、耐熱性および帯電防止性の観点から好ましいのはC2〜10のアルキレングリコール、重合度2〜20のポリオキシエチレン、ビスフェノールのEO2〜60モル付加物およびこれらの2種以上の混合物、さらに好ましいのはエチレングリコールおよびポリオキシエチレン(重合度6〜15)、およびとくに好ましいのはビスフェノールAのEO6〜20モル付加物である。 Among these diols, preferred are C2-10 alkylene glycol, polyoxyethylene having a polymerization degree of 2-20, EO 2-60 mol adduct of bisphenol, and two or more of these from the viewpoint of heat resistance and antistatic properties. Mixtures, more preferred are ethylene glycol and polyoxyethylene (degree of polymerization 6-15), and particularly preferred is an EO 6-20 molar adduct of bisphenol A.
(c1)は例えば、スルホ基含有ジカルボン酸に上記のジオールを加えて高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重縮合反応させることにより製造することができる。重縮合反応には前記のポリエステル化触媒が使用でき、使用量も同様である。
該触媒の使用量は、該ジオールと該ジカルボン酸の合計重量に基づいて、好ましくは0.1〜5%、さらには好ましくは0.2〜3%である。
(C1) can be produced, for example, by adding the above diol to a sulfo group-containing dicarboxylic acid and subjecting it to a polycondensation reaction at a high temperature (160 to 270 ° C.) and a reduced pressure (0.03 to 3 kPa). The above-mentioned polyesterification catalyst can be used for the polycondensation reaction, and the amount used is also the same.
The amount of the catalyst used is preferably 0.1 to 5%, more preferably 0.2 to 3%, based on the total weight of the diol and the dicarboxylic acid.
(c2)を構成するスルホ基含有ジオールとしては、例えばスルファミン酸のAO2〜10モル付加物が挙げられる。
(c2)を構成するジカルボン酸としては前記(a04)が挙げられる。(c2)は(c1)と同様の方法で製造することができる。
Examples of the sulfo group-containing diol constituting (c2) include AO2 to 10 mol adducts of sulfamic acid.
Examples of the dicarboxylic acid constituting (c2) include the above (a04). (C2) can be produced by the same method as (c1).
(c3)を構成するスルホ基を含有するビニルモノマーとしては、C4〜25の不飽和スルホンおよびスルホキサイド、例えばビニルエチルスルホン、ジビニルスルホンおよびジビニルスルホキサイド;並びにC2〜25の不飽和スルホン酸(塩)、例えばアルケンスルホン酸[例えばビニル、メチルビニル、エチルビニル、n−およびi−プロピルビニル、n−、i−、sec−およびt−ブチルビニルおよびn−アミルビニルスルホン酸、および(メタ)アリルスルホン酸]、不飽和芳香族スルホン酸(例えばスチレンスルホン酸およびα−メチルスチレンスルホン酸)、スルホカルボン酸(例えばα−スルホアルカン酸およびスルホコハク酸)のアルケニルおよびアルキル(C1〜18)アルケニルエステル[例えばメチルビニル、プロピル(メタ)アリルおよびステアリル(メタ)アリルスルホサクシネート、および(メタ)アリルスルホラウレート]、スルホ(ヒドロキシ)アルキル(メタ)アクリレートおよび相当する(メタ)アクリルアミド[例えばスルホエチルおよびスルホプロピル(メタ)アクリレート、3−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸および3−(メタ)アクリルアミド−2−ヒドロキシプロパンスルホン酸]およびこれらの塩が挙げられる。
これらのスルホ基の塩としては、アルカリ金属(前記のもの)塩、アルカリ土類金属(前記のもの)塩、アンモニウム塩、アミン[例えばヒドロキシアルキル(C2〜4)基を有するモノ−、ジ−およびトリアミン]塩、これらのアミン(塩)を4級化剤(例えば塩化メチル、ジメチル硫酸および塩化ベンジル)を用いて4級化してなる第4級アンモニウム塩およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
Examples of the vinyl monomer containing a sulfo group constituting (c3) include C4-25 unsaturated sulfones and sulfoxides, such as vinylethylsulfone, divinylsulfone and divinylsulfoxide; and C2-25 unsaturated sulfonic acids (salts). ), Eg alkene sulfonic acids [eg vinyl, methyl vinyl, ethyl vinyl, n- and i-propyl vinyl, n-, i-, sec- and t-butyl vinyl and n-amyl vinyl sulfonic acids, and (meth) allyl sulfonic acids ], Unsaturated aromatic sulfonic acids (eg styrene sulfonic acid and α-methyl styrene sulfonic acid), alkenyl and alkyl (C1-18) alkenyl esters of sulfocarboxylic acids (eg α-sulfoalkanoic acid and sulfosuccinic acid) [eg methyl Vinyl, professional Pyr (meth) allyl and stearyl (meth) allylsulfosuccinate, and (meth) allylsulfolaurate], sulfo (hydroxy) alkyl (meth) acrylates and corresponding (meth) acrylamides [eg, sulfoethyl and sulfopropyl (meth) Acrylate, 3- (meth) acryloyloxy-2-hydroxypropanesulfonic acid, 2- (meth) acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid and 3- (meth) acrylamide-2-hydroxypropanesulfonic acid] and salts thereof. Can be mentioned.
The salts of these sulfo groups include alkali metal (above) salts, alkaline earth metal (above) salts, ammonium salts, amines [for example, mono-, di- having hydroxyalkyl (C2-4) groups. And triamine] salts, quaternary ammonium salts obtained by quaternizing these amines (salts) with a quaternizing agent (for example, methyl chloride, dimethyl sulfate and benzyl chloride), and mixtures of two or more of these. It is done.
これらのうち、後述する生分解性樹脂(B)への分散性の観点から好ましいのは、アルケンスルホン酸、不飽和芳香族スルホン酸およびこれらの塩、さらに好ましいのはエチルビニル、n−プロピルビニルおよびスチレンスルホン酸およびこれらの塩、とくに好ましいのはスチレンスルホン酸およびその塩である。
Among these, from the viewpoint of dispersibility in the biodegradable resin (B) described later, alkene sulfonic acid, unsaturated aromatic sulfonic acid and salts thereof are preferable, and ethyl vinyl, n-propyl vinyl and Styrene sulfonic acid and salts thereof, particularly preferred are styrene sulfonic acid and salts thereof.
スルホ基含有ビニルモノマーと共重合可能なビニルモノマーとしては、例えば芳香環含有モノマー(スチレン等)、炭化水素ビニルモノマー(例えば脂肪族炭化水素および脂環式炭化水素)、アクリルモノマー、その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸およびその誘導体、不飽和アルコールのカルボン酸エステル、不飽和アルコールのアルキルエーテル、ハロゲン含有ビニルモノマーおよびこれらの2種以上の混合物(付加形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい。)が挙げられる。 Examples of vinyl monomers copolymerizable with sulfo group-containing vinyl monomers include aromatic ring-containing monomers (such as styrene), hydrocarbon vinyl monomers (such as aliphatic hydrocarbons and alicyclic hydrocarbons), acrylic monomers, and other unsaturated monomers. Mono- and dicarboxylic acids and derivatives thereof, carboxylic acid esters of unsaturated alcohols, alkyl ethers of unsaturated alcohols, halogen-containing vinyl monomers and mixtures of two or more thereof (addition form may be random and / or block). ).
脂肪族炭化水素としては、オレフィン[C2〜30、例えばエチレン、プロピレン、C4〜30(好ましくは4〜12、さらに好ましくは4〜10)のα−オレフィン(例えば1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペンテン、1−オクテン、1−デセンおよび1−ドデセン)]およびアルカジエン[C4〜30(好ましくは4〜18、さらに好ましくは4〜8)、例えばブタジエン、イソプレンおよび1,11−ドデカジエン]が挙げられる。 Aliphatic hydrocarbons include olefins [C2-30, such as ethylene, propylene, C4-30 (preferably 4-12, more preferably 4-10) α-olefins (eg 1-butene, 4-methyl-1). -Pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene and 1-dodecene)] and alkadienes [C4-30 (preferably 4-18, more preferably 4-8) such as butadiene, isoprene and 1,11- Dodecadiene].
脂環式炭化水素としては、シクロアルケン(C5〜30、例えばシクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテンおよびシクロオクテン)およびシクロアルカジエン(C5〜30、例えばシクロペンタジエン、1,3−および1,4−シクロヘキサジエン、1,3−および1,4−シクロヘプタジエン、1,3−、1,4−および1、5−シクロオクタジエンおよび1−メチル−1,4−シクロヘキサジエン)が挙げられる。 Alicyclic hydrocarbons include cycloalkenes (C5-30, such as cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene and cyclooctene) and cycloalkadienes (C5-30, such as cyclopentadiene, 1,3- and 1,4-cyclohexadiene, 1,3- and 1,4-cycloheptadiene, 1,3-, 1,4- and 1,5-cyclooctadiene and 1-methyl-1,4-cyclohexadiene).
アクリルモノマーとしては、C3〜30、例えば(メタ)アクリル酸およびそれらの誘導体、(メタ)アクリロニトリルおよび(メタ)アクリルアミドが挙げられる。
(メタ)アクリル酸の誘導体としては、例えばアルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート[例えばメチル−、エチル−およびブチル(メタ)アクリレート]およびモノ−およびジ−アルキル(C1〜4)アミノアルキル(C2〜4)(メタ)アクリレート[例えばアミノエチル(メタ)アクリレートおよびジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート]挙げられる。
Acrylic monomers include C3-30, such as (meth) acrylic acid and derivatives thereof, (meth) acrylonitrile and (meth) acrylamide.
Examples of (meth) acrylic acid derivatives include alkyl (C1-20) (meth) acrylates [eg methyl-, ethyl- and butyl (meth) acrylates] and mono- and di-alkyl (C1-4) aminoalkyl ( C2-4) (meth) acrylates [for example, aminoethyl (meth) acrylate and dimethylaminoethyl (meth) acrylate].
不飽和モノカルボン酸としては、C4〜30(好ましくはC4〜18、さらに好ましくは4〜12)、例えばクロトン酸、3,3−ジメチルアクリル酸、エチルアクリル酸、2−および4−ペンテン酸、2−および3−ヘキセン酸、2−メチル−ペンテン酸、2,2−ジメチル−ペンテン酸、6−ヘプテン酸、2−エチル−2−ヘキセン酸および2−オクテン酸、不飽和ジカルボン酸としては、C4〜30(好ましくはC4〜18、さらに好ましくは4〜12)の不飽和ジカルボン酸、例えばマレイン酸、フマール酸およびイタコン酸が挙げられる。
不飽和モノ−およびジカルボン酸の誘導体としては、C4〜30、例えばモノ−およびジアルキル(C1〜20)エステル(例えばクロトン酸メチル、マレイン酸ジメチルおよびイタコン酸ジエチル)、酸無水物(例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸)および酸イミド(例えばマレイン酸イミド)が挙げられる。
As unsaturated monocarboxylic acid, C4-30 (preferably C4-18, more preferably 4-12), such as crotonic acid, 3,3-dimethylacrylic acid, ethylacrylic acid, 2- and 4-pentenoic acid, 2- and 3-hexenoic acid, 2-methyl-pentenoic acid, 2,2-dimethyl-pentenoic acid, 6-heptenoic acid, 2-ethyl-2-hexenoic acid and 2-octenoic acid, unsaturated dicarboxylic acid, C4-30 (preferably C4-18, more preferably 4-12) unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid and itaconic acid.
Unsaturated mono- and dicarboxylic acid derivatives include C4-30, such as mono- and dialkyl (C1-20) esters (eg methyl crotonic acid, dimethyl maleate and diethyl itaconate), acid anhydrides (eg maleic anhydride) , Itaconic anhydride) and acid imides (eg maleic imide).
不飽和アルコールのカルボン酸エステルとしては、C4〜6、例えば不飽和アルコール[C2〜4、例えばビニルアルコールおよび(メタ)アリルアルコール]のカルボン酸(C2〜4)エステル[例えば酢酸ビニルおよび酢酸(メタ)アリル]が挙げられ、不飽和アルコールのアルキルエーテルとしては、C3〜30、例えば不飽和アルコール(上記に同じ)のアルキル(C1〜20)エーテルが挙げられる。
ハロゲン含有ビニルモノマーとしては、C2〜12、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデンおよびクロロプレンが挙げられる。
Carboxylic acid esters of unsaturated alcohols include C4-6, such as carboxylic acid (C2-4) esters of unsaturated alcohols [C2-4, eg vinyl alcohol and (meth) allyl alcohol] [eg vinyl acetate and acetic acid (meta ) Allyl], and alkyl ethers of unsaturated alcohols include C3-30, for example alkyl (C1-20) ethers of unsaturated alcohols (same as above).
Halogen-containing vinyl monomers include C2-12, such as vinyl chloride, vinylidene chloride and chloroprene.
(c3)は種々の重合方法、例えば塊状重合、パール重合、溶液重合および乳化重合に
より製造できる。重合温度は、通常25〜250℃、好ましくは50〜150℃、重合時間は通常0.5〜10時間である。
(C3) can be produced by various polymerization methods such as bulk polymerization, pearl polymerization, solution polymerization and emulsion polymerization. The polymerization temperature is usually 25 to 250 ° C., preferably 50 to 150 ° C., and the polymerization time is usually 0.5 to 10 hours.
重合開始剤としては、例えばアゾ化合物、パーオキサイドおよびこれらの混合物が挙げられる。これらのうち好ましいのは官能基を有する開始剤、さらに好ましいのはカルボニル基、ヒドロキシル基、アミノ基、エポキシ基またはイソシアネート基を有するアゾ化合物およびカルボニル基を有するパーオキサイドである。 Examples of the polymerization initiator include azo compounds, peroxides, and mixtures thereof. Of these, preferred are initiators having a functional group, more preferred are azo compounds having a carbonyl group, a hydroxyl group, an amino group, an epoxy group or an isocyanate group, and peroxides having a carbonyl group.
官能基を有するアゾ化合物のうち、カルボニル基を有するものとしては、例えば3,3−アゾビス(3−シアノプロピオン酸)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、4−tブチルアゾ−4−シアノ吉草酸、4,4’−アゾビス(4−シアノペンタノイックアシッド)、2,2’−アゾビス(メチルイソブチレート)、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、1,1’−アゾビスホルムアミドおよび2−シアノ−2−プロピルアゾホルムアミド;
ヒドロキシル基を有するものとしては、例えば2,2’−アゾビス[2−(ヒドロキシメチル)プロピオニトリル]、2,2’−アゾビス[2−(ヒドロキシエチル)プロピオニトリル]、2,2’−アゾビス[2−(ヒドロキシメチル)ブチロニトリル]、4,4アゾビスシアノペンタノール、ジ−(3−ヒドロキシブチル)−2,2’アゾビスイソブチレートおよびジ−(4−ヒドロキシブチル)−2,2’アゾビスイソブチレート;
Among the azo compounds having a functional group, those having a carbonyl group include, for example, 3,3-azobis (3-cyanopropionic acid), 4,4′-azobis (4-cyanovaleric acid), 4-tbutylazo- 4-cyanovaleric acid, 4,4′-azobis (4-cyanopentanoic acid), 2,2′-azobis (methylisobutyrate), 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane) ), 1,1′-azobisformamide and 2-cyano-2-propylazoformamide;
Examples of those having a hydroxyl group include 2,2′-azobis [2- (hydroxymethyl) propionitrile], 2,2′-azobis [2- (hydroxyethyl) propionitrile], 2,2′-. Azobis [2- (hydroxymethyl) butyronitrile], 4,4 azobiscyanopentanol, di- (3-hydroxybutyl) -2,2′azobisisobutyrate and di- (4-hydroxybutyl) -2, 2 'azobisisobutyrate;
アミノ基を有するものとしては、例えば2,2’−アゾビス[2−(アミノメチル)プロピオニトリル]、2,2’−アゾビス[2−(アミノエチル)プロピオニトリル]、2,2’−アゾビス[2−(アミノメチル)ブチロニトリル]および4−アセトアミノフェニル−アゾ−トリフェニルメタン;
エポキシ基を有するものとしては、例えば2,2’−アゾビス[2−(グリシジロキシエチル)プロピオニトリル]および2,2’−アゾビス[2−(グリシジロキシエチル)ブチロニトリル];
並びに、イソシアネート基を有するものとしては、例えば2,2’−アゾビス[2−(イソシアナトエチル)プロピオニトリル]および2,2’−アゾビス[2−(イソシアナトエチル)ブチロニトリル]が挙げられる。
Examples of those having an amino group include 2,2′-azobis [2- (aminomethyl) propionitrile], 2,2′-azobis [2- (aminoethyl) propionitrile], 2,2′-. Azobis [2- (aminomethyl) butyronitrile] and 4-acetaminophenyl-azo-triphenylmethane;
Examples of those having an epoxy group include 2,2′-azobis [2- (glycidyloxyethyl) propionitrile] and 2,2′-azobis [2- (glycidyloxyethyl) butyronitrile];
Examples of those having an isocyanate group include 2,2′-azobis [2- (isocyanatoethyl) propionitrile] and 2,2′-azobis [2- (isocyanatoethyl) butyronitrile].
官能基を有するパーオキサイドのうち、カルボニル基を有するものとしては、例えばシクロヘキサノンパーオキサイド、コハク酸パーオキサイド、t−ブチルパーオキシマレイン酸、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、t−ブチルペルオキシアセテート、シクロペンタンアセチルパーオキサイドおよびシクロヘキサンホルミルパーオキサイド;
ヒドロキシル基を有するものとしては、例えばシクロヘキサノンパーオキサイド;
Among the peroxides having a functional group, those having a carbonyl group include, for example, cyclohexanone peroxide, succinic acid peroxide, t-butylperoxymaleic acid, methylcyclohexanone peroxide, t-butylperoxyacetate, cyclopentaneacetyl peroxide. Oxide and cyclohexaneformyl peroxide;
Examples of those having a hydroxyl group include cyclohexanone peroxide;
並びに、アミノ基を有するものとしては、例えばジメチルアミノメチル−t−アミルパーオキサイド、ジエチルアミノメチル−t−アミルパーオキサイド、ジイソプロピルアミノメチル−t−アミルパーオキサイド、1−[4−(ジメチルアミノフェニル]エチル−t−ブチルパーオキサイドおよび2−[4−(ジメチルアミノフェニル]プロピル−t−ブチルパーオキサイドが挙げられる。 Examples of those having an amino group include dimethylaminomethyl-t-amyl peroxide, diethylaminomethyl-t-amyl peroxide, diisopropylaminomethyl-t-amyl peroxide, 1- [4- (dimethylaminophenyl] Examples include ethyl-t-butyl peroxide and 2- [4- (dimethylaminophenyl] propyl-t-butyl peroxide.
上記官能基を有する開始剤以外のその他の重合開始剤としては、スチレン(共)重合用の開始剤、例えば 2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、1,1’−アゾビスシクロ
ヘキサン1−カーボニトリル、2,2’−アゾビス−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、クメンヒドロペ
ルオキシド、トリエチルホウ素、ジエチル亜過酸化水素−Fe(II)塩、過硫酸塩−NaHSO3、クメンヒドロパーオキサイド−Fe(II)塩および鉛塩が挙げられる。こ
れらのうち好ましいのは2,2’−アゾビスイソブチロニトリルおよび2,2’−アゾビス−2,4−ジメチルバレロニトリルである。
As other polymerization initiators other than the initiator having the above functional group, an initiator for styrene (co) polymerization such as 2,2′-azobisisobutyronitrile, 1,1′-azobiscyclohexane 1- Carbonitrile, 2,2'-azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, 2,2'-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile, dimethyl-2,2'-azobis (2-methylpro Pionate), 1,1′-azobis (1-acetoxy-1-phenylethane), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, cumene hydroperoxide, triethyl boron, diethyl nitrous hydrogen peroxide -Fe (II) salt, persulfate -NaHSO 3, cumene hydroperoxide Fe (II) salt and a lead salt thereof. Of these, 2,2′-azobisisobutyronitrile and 2,2′-azobis-2,4-dimethylvaleronitrile are preferred.
アニオン性基含有ブロック(c)のMnは、耐熱性および(c)のポリエステルブロック(a)との反応性の観点から好ましくは300〜5,000、さらに好ましくは1,000〜3,000である。 The Mn of the anionic group-containing block (c) is preferably 300 to 5,000, more preferably 1,000 to 3,000, from the viewpoints of heat resistance and reactivity with the polyester block (a) of (c). is there.
(c)の末端基は、ポリエステルブロック(a)との反応性の観点から好ましいのはカルボニル基を含有する基(カルボキシル基等)、水酸基である。
(A2)のMnは、後述する成形品の機械物性の観点から好ましい下限は2,000、さらに好ましくは4,000、とくに好ましくは5,000、(A2)の生分解性ポリエステル樹脂(B)への分散性の観点から好ましい上限は60,000、さらに好ましくは40,000、とくに好ましくは30,000である。
The terminal group (c) is preferably a group containing a carbonyl group (such as a carboxyl group) or a hydroxyl group from the viewpoint of reactivity with the polyester block (a).
The lower limit of Mn of (A2) is preferably 2,000, more preferably 4,000, particularly preferably 5,000 from the viewpoint of the mechanical properties of the molded product to be described later (B2). From the viewpoint of dispersibility, the upper limit is preferably 60,000, more preferably 40,000, particularly preferably 30,000.
(A2)は、例えば、スルホ基含有ジオールに前記(c2)を構成するジカルボン酸を加えて高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合させて(c2)を製造し、該(c2)とポリエステルブロック(a)を上記(c2)の製造と同様に重合させることにより得られる。重合反応には前記のエステル化触媒が使用でき、使用量は(c2)と(a)の合計重量に基づいて、好ましくは0.1〜5%、さらには好ましくは0.2〜3%である。 (A2) is prepared by, for example, adding the dicarboxylic acid constituting the above (c2) to a sulfo group-containing diol and polymerizing it at a high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa) to produce (c2). And (c2) and the polyester block (a) are polymerized in the same manner as in the production of (c2). The esterification catalyst can be used for the polymerization reaction, and the amount used is preferably 0.1 to 5%, more preferably 0.2 to 3%, based on the total weight of (c2) and (a). is there.
(A2)を構成する(c)の量は、(A2)の重量に基づいて、成形品の帯電防止性および機械物性の観点から好ましくは20〜90%、さらに好ましくは25〜80%である。 The amount of (c) constituting (A2) is preferably 20 to 90%, more preferably 25 to 80% based on the weight of (A2) from the viewpoint of antistatic properties and mechanical properties of the molded product. .
[カチオン性基含有ブロックポリマー(A3)]
(A3)は前記ポリエステルブロック(a)とカチオン性基含有ブロック(d)からなるブロックポリマーであり、(a)と(d)を交互におよび/またはランダムに結合させることにより得られる。
(d)としては、非イオン性分子鎖(e)で隔てられた2〜80個、好ましくは3〜60個のカチオン性基を分子内に有するカチオン性ポリマーが使用できる。
(e)には、2価の炭化水素基;エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合およびシロキシ結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を有する2価の有機基;および窒素原子または酸素原子を含む複素環構造を有する2価の有機基からなる群より選ばれる少なくとも1種の2価の有機基が含まれる。
[Cationic group-containing block polymer (A3)]
(A3) is a block polymer comprising the polyester block (a) and the cationic group-containing block (d), and is obtained by bonding (a) and (d) alternately and / or randomly.
As (d), a cationic polymer having 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups separated by a nonionic molecular chain (e) in the molecule can be used.
(E) is selected from the group consisting of divalent hydrocarbon groups; ether bonds, thioether bonds, carbonyl bonds, ester bonds, imino bonds, amide bonds, imide bonds, urethane bonds, urea bonds, carbonate bonds and siloxy bonds. And a divalent organic group having at least one kind of bond; and at least one divalent organic group selected from the group consisting of a divalent organic group having a heterocyclic structure containing a nitrogen atom or an oxygen atom. .
該(e)のうち後述する成形体の機械特性の観点から好ましいのは、2価の炭化水素基およびエーテル結合を有する2価の有機基、さらに好ましいのはC2〜8のアルキレン基、フェニレン基、およびとくに好ましいのは(ポリ)オキシアルキレン基、最も好ましいのは(ポリ)オキシエチレン基および(ポリ)オキシプロピレン基である。 Of these (e), from the viewpoint of the mechanical properties of the molded article described later, preferred are a divalent hydrocarbon group and a divalent organic group having an ether bond, and more preferred are C2-8 alkylene groups and phenylene groups. And particularly preferred are (poly) oxyalkylene groups, most preferred are (poly) oxyethylene groups and (poly) oxypropylene groups.
上記カチオン性基としては、4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩を有する基が挙げられる。4級アンモニウム塩を有する基としては、生分解性の観点から4級アンモニウム塩基を含有する2価の脂肪族炭化水素基が好ましい。
4級アンモニウム塩基を含有する2価の脂肪族炭化水素基としては、1、2または3級アミノ−アルキレン基(例えばアミノメチレン基、メチルアミノエチレン基、ジメチルアミノエチレン基)が4級化された構造の基が挙げられる。
Examples of the cationic group include groups having a quaternary ammonium salt or a phosphonium salt. The group having a quaternary ammonium salt is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group containing a quaternary ammonium base from the viewpoint of biodegradability.
As the divalent aliphatic hydrocarbon group containing a quaternary ammonium base, 1, 2 or tertiary amino-alkylene group (for example, aminomethylene group, methylaminoethylene group, dimethylaminoethylene group) was quaternized. Examples include structural groups.
該カチオン性基の対アニオンとしては、Hammettの酸度関数(−H0)が12以
上の超強酸(例えばプロトン酸、およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせ)のアニオンおよびその他のアニオンが挙げられる。
超強酸のアニオンとしては、例えばCF3SO3 -、N(CF3SO3)2 -、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、TaF6 -、BF3Cl-、PF5Cl-、SbF5Cl-、AsF5Cl-、TaF5Cl-、BF3Br-、PF5Br-、SbF5Br-、AsF5Br-、TaF5Br-、BF3I-、PF5I-、SbF5I- 、AsF5I-およびTaF5I-が挙げられる。
その他のアニオンとしては、例えばハロゲンイオン(例えばF-、Cl-、Br-および
I-)、OH-、PO4 -、アルキルサルフェートイオン(例えばCH3OSO3 -、C2H5O
SO3 -およびCF3OSO3 -)およびClO4 -、並びにスルホ基を含有する芳香族化合物
[C12〜30、例えばアルキル(C6〜18)ベンゼンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸]のアニオンが挙げられる。
Examples of the counter anion of the cationic group include an anion of a super strong acid having a Hammett acidity function (-H 0 ) of 12 or more (for example, a proton acid and a combination of a proton acid and a Lewis acid) and other anions.
Examples of super strong acid anions include CF 3 SO 3 − , N (CF 3 SO 3 ) 2 − , BF 4 − , PF 6 − , SbF 6 − , AsF 6 − , TaF 6 − , BF 3 Cl − and PF. 5 Cl − , SbF 5 Cl − , AsF 5 Cl − , TaF 5 Cl − , BF 3 Br − , PF 5 Br − , SbF 5 Br − , AsF 5 Br − , TaF 5 Br − , BF 3 I − , PF 5 I − , SbF 5 I − , AsF 5 I − and TaF 5 I − .
Examples of other anions include halogen ions (for example, F − , Cl − , Br − and I − ), OH − , PO 4 − , alkyl sulfate ions (for example, CH 3 OSO 3 − , C 2 H 5 O).
SO 3 − and CF 3 OSO 3 − ) and ClO 4 − and the anions of aromatic compounds containing a sulfo group [C12-30, such as alkyl (C6-18) benzenesulfonic acid and naphthalenesulfonic acid].
これらのうち、後述する成形体の耐熱性および帯電防止性の観点から好ましいのはCF3SO3 -、BF4 -、N(CF3SO3)2 -、SbF6 -、AsF6 -、TaF6 -およびアルキル
(C6〜18)ベンゼンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸のアニオン、さらに好ましいのはCF3SO3 -、N(CF3SO3)2 -、BF4 -およびアルキル(C6〜18)ベンゼ
ンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸のアニオンである。
Of these, CF 3 SO 3 − , BF 4 − , N (CF 3 SO 3 ) 2 − , SbF 6 − , AsF 6 − , TaF are preferable from the viewpoints of heat resistance and antistatic properties of the molded body described later. 6 - and alkyl (C6~18) anion of benzenesulfonic acid and naphthalene sulfonic acid, and more preferred are CF 3 SO 3 -, N ( CF 3 SO 3) 2 -, BF 4 - and alkyl (C6~18) benzene Anions of sulfonic acid and naphthalenesulfonic acid.
(d)の製造方法としては、例えばアミノ基(2級もしくは3級)含有ジオールと4級化剤(該アミノ基1当量当たり、それぞれ2当量もしくは1当量)を、必要により溶剤の存在下に、反応させ、得られる4級化ジオール、またはこれと4級化する前のジオールとの混合物と、ジカルボン酸[またはそのエステル形成性誘導体(例えば酸無水物、低級アルキルエステルおよび酸ハライド)]とをポリエステル化反応させる方法が挙げられる。 As the production method of (d), for example, an amino group (secondary or tertiary) -containing diol and a quaternizing agent (2 equivalents or 1 equivalent respectively per equivalent of the amino group) are optionally added in the presence of a solvent. A quaternized diol obtained by reacting, or a mixture thereof with a diol before quaternization, and a dicarboxylic acid [or an ester-forming derivative thereof (for example, acid anhydride, lower alkyl ester and acid halide)] A method of reacting polyester with polyester.
(d)のMnは耐熱性および(d)のポリエステルブロック(a)との反応性の観点から好ましくは300〜5,000、さらに好ましくは1,000〜3,000である。 Mn in (d) is preferably 300 to 5,000, more preferably 1,000 to 3,000, from the viewpoints of heat resistance and reactivity with (d) polyester block (a).
(d)の末端基は、ポリエステルブロック(a)との反応性の観点から好ましいのはカルボニル基を含有する基(カルボキシル基等)、水酸基、イソシアネート基、チオール基、エポキシ基および/またはアミノ基である。 The terminal group of (d) is preferably a group containing a carbonyl group (such as a carboxyl group), a hydroxyl group, an isocyanate group, a thiol group, an epoxy group and / or an amino group from the viewpoint of reactivity with the polyester block (a). It is.
(A3)のMnは、後述する成形品の機械物性の観点から好ましい下限は2,000、さらに好ましくは4,000、とくに好ましくは5,000、(A3)の生分解性ポリエステル樹脂(B)への分散性の観点から好ましい上限は60,000、さらに好ましくは40,000、とくに好ましくは30,000である。 Mn of (A3) is preferably 2,000, more preferably 4,000, particularly preferably 5,000, (A3) biodegradable polyester resin (B) from the viewpoint of the mechanical properties of the molded product described later. From the viewpoint of dispersibility, the upper limit is preferably 60,000, more preferably 40,000, particularly preferably 30,000.
(A3)は、例えばアミノ基含有ジオールにジカルボン酸を加えて高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合させた後、4級化剤を加え高温で反応させてカチオン性基含有ブロック(d)を製造し、該(d)とポリエステルブロック(a)を上記(d)の製造と同様に重合させることにより得られる。重合反応には前記のエステル化触媒が使用でき、使用量も前記と同様である。 (A3) is, for example, adding a dicarboxylic acid to an amino group-containing diol and polymerizing at a high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa), and then adding a quaternizing agent and reacting at a high temperature. The cationic group-containing block (d) is produced, and the (d) and the polyester block (a) are polymerized in the same manner as in the production of (d) above. The esterification catalyst can be used for the polymerization reaction, and the amount used is the same as described above.
(A3)を構成する(d)の量は、(A3)の重量に基づいて、成形品の帯電防止性および機械物性の観点から好ましくは20〜90%、さらに好ましくは25〜80%である。 The amount of (d) constituting (A3) is preferably 20 to 90%, more preferably 25 to 80% from the viewpoint of antistatic properties and mechanical properties of the molded product based on the weight of (A3). .
(A)を構成するポリマー(A1)、(A2)および(A3)のうち、後述する成形体の耐熱性の観点からさらに好ましいのは(A1)および(A2)からなる群から選ばれる
1種または2種以上のポリマーである。
Of the polymers (A1), (A2) and (A3) constituting (A), one more preferably selected from the group consisting of (A1) and (A2) is more preferable from the viewpoint of the heat resistance of the molded article described later. Or two or more polymers.
本発明における生分解性ポリエステル樹脂(B)には、合成法および発酵法で得られる生分解性ポリエステル樹脂が含まれる。
合成法による生分解性ポリエステル樹脂としては、ポリ乳酸(D体、L体、DL体を含む)(B−1)、ラクトン(C3〜10、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクトン等)の開環重合体(B−2)(ポリγ−ブチロラクトン、ポリε−カプロラクトン等)、および二塩基酸とジオールから得られる縮重合体(B−3)[ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネート、およびこれらの変性体(アジペート変性、カーボネート変性またはテレフタレート変性ポリブチレンサクシネート等)等]およびこれらの2種以上の混合物;また、発酵法による生分解性ポリエステル樹脂としては、ポリヒドロキシブチレート(B−4)が挙げられる。
The biodegradable polyester resin (B) in the present invention includes biodegradable polyester resins obtained by a synthesis method and a fermentation method.
Examples of biodegradable polyester resins obtained by synthesis include ring-opening weights of polylactic acid (including D-form, L-form and DL-form) (B-1) and lactones (C3 to 10, γ-butyrolactone, ε-caprolactone, etc.) Compound (B-2) (poly γ-butyrolactone, poly ε-caprolactone, etc.), and polycondensation polymer obtained from dibasic acid and diol (B-3) [polybutylene succinate, polyethylene succinate, and modifications thereof Body (adipate-modified, carbonate-modified or terephthalate-modified polybutylene succinate, etc.)] and a mixture of two or more thereof; and a biodegradable polyester resin by fermentation is polyhydroxybutyrate (B-4). Can be mentioned.
上記(B)のうち市販品としては、ポリ乳酸では、例えばレイシア[商品名、三井化学(株)製]、ラクティー[商品名、(株)島津製作所製];ポリカプロラクトンでは、例えばセルグリーン[商品名、ダイセル化学工業(株)製];ポリブチレンサクシネートでは、例えばビオノーレ[商品名、昭和高分子(株)製];ポリエチレンサクシネートでは、例えばルナーレSE[商品名、日本触媒(株)製];ポリヒドロキシブチレートでは、例えばビオグリーン[商品名、三菱ガス化学(株)製]等が挙げられる。
これらの(B)のうち帯電防止剤(A)の(B)への分散性の観点から好ましいのは(B−1)および/または(B−3)である。
Among the above-mentioned (B), commercially available products for polylactic acid include, for example, Lacia [trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.], lacty [trade name, manufactured by Shimadzu Corporation]; for polycaprolactone, for example, cell green [ Trade name, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]; for polybutylene succinate, for example, Bionore [trade name, manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.]; for polyethylene succinate, for example, Lunare SE [trade name, Nippon Shokubai Co., Ltd.] Product]; Examples of polyhydroxybutyrate include Biogreen [trade name, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.].
Of these (B), (B-1) and / or (B-3) are preferred from the viewpoint of dispersibility of the antistatic agent (A) in (B).
(B)は、いずれも公知の方法で製造することができ、例えばポリ乳酸(B−1)についても、乳酸を直接脱水して縮重合させる方法、乳酸の環状2量体であるラクチドを開環重合させる方法等が挙げられる。
(B)のMnは、成形品の機械強度および成形性の観点から好ましくは20,000〜1,000,000、さらに好ましくは50,000〜500,000である。また、(B)の融点は、帯電防止性の観点から好ましくは70℃以上、さらに好ましくは100〜200℃、とくに好ましくは140〜180℃である。
(B) can be produced by any known method. For example, polylactic acid (B-1) can also be prepared by a method in which lactic acid is directly dehydrated and polycondensed, or lactide, which is a cyclic dimer of lactic acid. Examples include a ring polymerization method.
Mn in (B) is preferably 20,000 to 1,000,000, more preferably 50,000 to 500,000, from the viewpoint of mechanical strength and moldability of the molded product. The melting point of (B) is preferably 70 ° C. or higher, more preferably 100 to 200 ° C., and particularly preferably 140 to 180 ° C. from the viewpoint of antistatic properties.
帯電防止剤(A)を構成するエステル基含有ポリマーの体積固有抵抗値は1×106〜1×1010Ω・cm、好ましくは1×106〜1×109Ω・cm、さらに好ましくは1×106〜1×108Ω・cmである。体積固有抵抗値が1×106Ω・cm未満では生分解性ポリエステル樹脂(B)への(A)の分散性が悪くなり、1×1010Ω・cmを超えると成形品の帯電防止性が悪くなる。 The volume resistivity of the ester group-containing polymer constituting the antistatic agent (A) is 1 × 10 6 to 1 × 10 10 Ω · cm, preferably 1 × 10 6 to 1 × 10 9 Ω · cm, more preferably 1 × 10 6 to 1 × 10 8 Ω · cm. When the volume resistivity is less than 1 × 10 6 Ω · cm, the dispersibility of (A) in the biodegradable polyester resin (B) is poor, and when it exceeds 1 × 10 10 Ω · cm, the antistatic property of the molded product Becomes worse.
(A)を構成するエステル基含有ポリマーと(B)との単位重量当たりのエステル基濃度の比は、0.1/1〜0.9/1、好ましくは0.3/1〜0.8/1である。該エステル基濃度の比が0.1/1未満では成形品の生分解性および(A)の(B)への分散性が悪くなり、0.9/1を超えると成形品の帯電防止性が悪くなる。 The ratio of the ester group concentration per unit weight between the ester group-containing polymer constituting (A) and (B) is 0.1 / 1 to 0.9 / 1, preferably 0.3 / 1 to 0.8. / 1. When the ratio of the ester group concentration is less than 0.1 / 1, the biodegradability of the molded product and the dispersibility of (A) in (B) are deteriorated. Becomes worse.
(A)を構成するエステル基含有ポリマーの単位重量当たりのエステル基濃度は、帯電防止性および生分解性の観点から好ましくは0.8〜13.5モル/kg、さらに好ましくは1.0〜12.5モル/kgである。
また、(B)の単位重量当たりのエステル基濃度は、生分解性の観点から好ましくは8.0〜15.0モル/kg、さらに好ましくは11.0〜14.0モル/kgである。
The ester group concentration per unit weight of the ester group-containing polymer constituting (A) is preferably 0.8 to 13.5 mol / kg, more preferably 1.0 to 1.0 from the viewpoint of antistatic properties and biodegradability. 12.5 mol / kg.
The ester group concentration per unit weight of (B) is preferably 8.0 to 15.0 mol / kg, more preferably 11.0 to 14.0 mol / kg, from the viewpoint of biodegradability.
本発明の帯電防止性樹脂組成物は、(A)を(B)に含有させてなるものである。(A)と(B)の合計重量に基づく(A)の割合は要求される性能に応じて種々変えることができるが、下限は帯電防止性の観点から好ましくは1%、さらに好ましくは1.5%、上限は成形品の機械特性の観点から好ましくは40%、さらに好ましくは30%である。 The antistatic resin composition of the present invention comprises (A) in (B). The proportion of (A) based on the total weight of (A) and (B) can be variously changed according to the required performance, but the lower limit is preferably 1% from the viewpoint of antistatic properties, more preferably 1. From the viewpoint of the mechanical properties of the molded product, the upper limit is preferably 40%, more preferably 30%.
本発明の帯電防止性樹脂組成物には、成形品の樹脂の帯電防止性をさらに向上させる等の目的で、必要により本発明の効果を阻害しない範囲で、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩(C1)、界面活性剤(C2)、イオン性液体(C3)、相溶化剤(C4)およびその他の樹脂用添加剤(C5)からなる群から選ばれる添加剤(C)を含有させてもよい。
(C1)〜(C5)の合計含有量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて通常40%以下、添加剤の効果の観点から好ましい下限は0.001%、さらに好ましくは0.01%、特に好ましくは0.2%、最も好ましくは0.5%、成形品の機械特性の観点から好ましい上限は30%、さらに好ましくは25%、特に好ましくは20%、最も好ましくは10%である。
The antistatic resin composition of the present invention includes an alkali metal or alkaline earth metal salt within the range that does not impair the effects of the present invention if necessary, for the purpose of further improving the antistatic property of the resin of the molded product. An additive (C) selected from the group consisting of (C1), surfactant (C2), ionic liquid (C3), compatibilizer (C4) and other additives for resin (C5) may be contained. Good.
The total content of (C1) to (C5) is usually 40% or less based on the total weight of (A) and (B), and the preferable lower limit from the viewpoint of the effect of the additive is 0.001%, more preferably 0. 0.01%, particularly preferably 0.2%, most preferably 0.5%. From the viewpoint of the mechanical properties of the molded product, the upper limit is preferably 30%, more preferably 25%, particularly preferably 20%, most preferably 10. %.
(C1)としては、アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム、以下同じ)またはアルカリ土類金属(例えばマグネシウムおよびカルシウム、以下同じ)の有機酸[例えばC1〜12のモノ−およびジカルボン酸(例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸およびコハク酸)、C1〜20のスルホン酸(例えばメタンスルホン酸およびp−トルエンスルホン酸)およびチオシアン酸]塩および無機酸[例えばハロゲン化水素酸(例えば塩酸および臭化水素酸)、過塩素酸、硫酸、硝酸およびリン酸]塩が挙げられる。 (C1) may be an organic acid of an alkali metal (for example, lithium, sodium and potassium, the same shall apply hereinafter) or an alkaline earth metal (for example, magnesium and calcium, the same shall apply hereinafter) [for example, C1-12 mono- and dicarboxylic acids (for example formic acid). , Acetic acid, propionic acid, oxalic acid and succinic acid), C1-20 sulfonic acids (eg methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid) and thiocyanic acid] salts and inorganic acids [eg hydrohalic acids (eg hydrochloric acid and odors) Hydrochloric acid), perchloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid] salts.
(C1)の具体例としては、ハライド[フッ化物(フッ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、塩化物(塩化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、臭化物(臭化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)およびヨウ化物(ヨウ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)等]、過塩素酸塩(過塩素酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、フッ化スルホン酸塩(フルオロスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、メタンスルホン酸塩(メタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリフルオロメタンスルホン酸塩(トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ペンタフルオロエタンスルホン酸塩(ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ノナフルオロブタンスルホン酸塩(ノナフルオロブタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸塩(ウンデカフルオロペンタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸塩(トリデカフルオロヘキサンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、酢酸塩(酢酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、硫酸塩(硫酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、燐酸塩(燐酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、チオシアン酸塩(チオシアン酸カリウム等)等が挙げられる。
これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、塩化物、過塩素酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、酢酸塩、さらに好ましいのは塩化リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、過塩素酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、酢酸カリウムである。
Specific examples of (C1) include halides [fluorides (lithium fluoride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), chlorides (lithium chloride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.) ), Bromides (such as lithium bromide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium) and iodides (such as lithium iodide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium)], perchlorates ( Lithium perchlorate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), fluorinated sulfonates (lithium fluorosulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), methanesulfonate (methane) Lithium sulfonate, -sodium, -ca Um, -magnesium and -calcium), trifluoromethanesulfonate (lithium trifluoromethanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium, etc.), pentafluoroethanesulfonate (lithium pentafluoroethanesulfonate, -Sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), nonafluorobutane sulfonate (such as lithium nonafluorobutane sulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), undecafluoropentane sulfonate ( Undecafluoropentanesulfonate lithium, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), tridecafluorohexanesulfonate (tridecafluorohexanesulfone) Lithium acid, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), acetate (lithium acetate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), sulfate (sodium sulfate, -potassium, -magnesium and- Calcium, etc.), phosphates (sodium phosphate, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), thiocyanates (potassium thiocyanate, etc.) and the like.
Of these, from the viewpoint of antistatic properties, preferred are chloride, perchlorate, trifluoromethanesulfonate, acetate, and more preferred are lithium chloride, -potassium and -sodium, lithium perchlorate, -potassium. And -sodium, lithium trifluoromethanesulfonate, -potassium and -sodium, potassium acetate.
(C1)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常5%以下、成形品の良好な外観と帯電防止性、および機械特性の観点から好ましくは0.001〜3%、さらに好ましくは0.01〜2.5%、とくに好ましくは0.1〜2%である。
(C1)を含有させる方法としては、成形品の透明性を損なわないために(A)中に予め分散させておくことが好ましく、(A)の製造時に(C1)を含有させておく方法がさらに好ましい。(C1)を(A)の製造時に含有させるタイミングは特に限定はなく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよいが重合前の原料に含有させるのが好ましい。
The amount of (C1) used is usually 5% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably 0.001 to 0.001 from the viewpoint of good appearance and antistatic properties of the molded product and mechanical properties. It is 3%, more preferably 0.01 to 2.5%, particularly preferably 0.1 to 2%.
As a method of containing (C1), it is preferable to disperse in (A) in advance so as not to impair the transparency of the molded product, and a method of containing (C1) during the production of (A). Further preferred. There is no particular limitation on the timing at which (C1) is contained during the production of (A), and it may be any before, during or after polymerization, but is preferably contained in the raw material before polymerization.
界面活性剤(C2)としては、非イオン性、アニオン性、カチオン性および両性の界面活性剤が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えばエチレンオキシド付加型非イオン性界面活性剤[例えば高級アルコール(C8〜18、以下同じ)、高級脂肪酸(C8〜24、以下同じ)または高級アルキルアミン(C8〜24)のエチレンオキシド付加物(分子量158〜Mn200,000);グリコールのエチレンオキシド付加物であるポリアルキレングリコール(分子量150〜Mn6,000)の高級脂肪酸エステル;多価アルコール(C2〜18の2価〜8価またはそれ以上、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタン)高級脂肪酸エステルのエチレンオキシド付加物(分子量250〜Mn30,000);高級脂肪酸アミドのエチレンオキシド付加物(分子量200〜Mn30,000);および多価アルコール(前記のもの)アルキル(C3〜60)エーテルのエチレンオキシド付加物(分子量120〜Mn30,000)]、および多価アルコ−ル(C3〜60)型非イオン性界面活性剤[例えば多価
アルコールの脂肪酸(C3〜60)エステル、多価アルコールのアルキル(C3〜60)エーテルおよび脂肪酸(C3〜60)アルカノールアミド]が挙げられる。
Examples of the surfactant (C2) include nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants.
Nonionic surfactants include, for example, ethylene oxide addition type nonionic surfactants [for example, higher alcohols (C8-18, the same shall apply hereinafter), higher fatty acids (C8-24, the same shall apply hereinafter) or higher alkylamines (C8-24). ) Ethylene oxide adduct (molecular weight 158 to Mn 200,000); higher fatty acid ester of polyalkylene glycol (molecular weight 150 to Mn 6,000) which is an ethylene oxide adduct of glycol; polyhydric alcohol (C2-18 divalent to octavalent) Or more, such as ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, pentaerythritol and sorbitan) higher fatty acid ester ethylene oxide adduct (molecular weight 250-Mn30,000); higher fatty acid amide ethylene oxide adduct (molecular weight 200-M) 30,000); and ethylene oxide adducts of polyhydric alcohols (as described above) alkyl (C3-60) ether (molecular weight 120-Mn30,000)], and polyhydric alcohol (C3-60) type nonionic And surfactants [for example, fatty acid (C3-60) ester of polyhydric alcohol, alkyl (C3-60) ether of polyhydric alcohol and fatty acid (C3-60) alkanolamide].
アニオン性界面活性剤としては、前記(C1)を除く化合物、例えばカルボン酸(例えばC8〜22の飽和または不飽和脂肪酸およびエーテルカルボン酸)またはその塩;硫酸エステル塩〔例えば高級アルコール硫酸エステル塩(例えばC8〜18の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩)および高級アルキルエーテル硫酸エステル塩[例えばC8〜18の脂肪族アルコールのエチレンオキシド(1〜10モル)付加物の硫酸エステル塩]〕;スルホン酸塩[C10〜20、例えばアルキルベンゼンスルホン酸塩(例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)、アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジアルキルエステル型、ハイドロカーボン(例えばアルカン、α−オレフィン)スルホン酸塩およびイゲポンT型];およびリン酸エステル塩[例えば高級アルコール(C8〜60)およびそのエチレンオキシド付加物のリン酸エステル塩およびアルキル(C4〜60)フェノールエチレンオキシド付加物リン酸エステル塩]が挙げられる。
上記の塩としては、例えばアルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム)塩、アルカリ土類金属(例えばカルシウムおよびマグネシウム)塩、アンモニウム塩、アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩が挙げられる。
Examples of the anionic surfactant include compounds other than the above (C1), such as carboxylic acids (for example, C8-22 saturated or unsaturated fatty acids and ether carboxylic acids) or salts thereof; sulfate salts [for example, higher alcohol sulfate salts ( For example, sulfate esters of C8-18 aliphatic alcohols) and higher alkyl ether sulfate esters [eg, sulfate esters of ethylene oxide (1-10 mol) adducts of C8-18 aliphatic alcohols]]; sulfonates [ C10-20, such as alkyl benzene sulfonates (eg sodium dodecylbenzene sulfonate), alkyl sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, dialkyl ester sulfosuccinates, hydrocarbon (eg alkane, α-olefin) sulfonates and Pont T-type]; and phosphate ester salts [e.g. higher alcohol (C8~60) and phosphoric acid ester salts and alkyl ethylene oxide adduct (C4~60) phenol ethylene oxide adduct phosphoric acid ester salt] can be mentioned.
Examples of the salts include alkali metal (for example, lithium, sodium and potassium) salts, alkaline earth metal (for example, calcium and magnesium) salts, ammonium salts, alkylamine (C1-20) salts and alkanolamines (C2-12, For example, mono-, di- and triethanolamine) salts.
カチオン性界面活性剤としては、第4級アンモニウム塩型[例えばテトラアルキル(C4〜100)アンモニウム塩(例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド)、トリアルキル(C3〜80)ベンジルアンモニウム塩(例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム)、アルキル(C2〜60)ピリジニウム塩(例えばセチルピリジニウムクロライド)、ポリオキシアルキレン(C2〜4)トリアルキルアンモニウム塩(例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド)およびサパミン型第4級アンモニウム塩(例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート)];およびアミン塩型[例えば高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン)の無機酸(例えば塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸)塩、脂肪族アミン(C1〜30)のエチレンオキシド付加物などの無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩および3級アミン(C3〜30、例えばトリエタノールアミンモノステアレートおよびステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン)の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩]が挙げられる。 Cationic surfactants include quaternary ammonium salt types [eg, tetraalkyl (C4-100) ammonium salts (eg, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), Alkyl (C3-80) benzylammonium salts (eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride), alkyl (C2-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride), polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium salts (Eg, polyoxyethylenetrimethylammonium chloride) and sapamine type quaternary ammonium salts (eg, stearamide ester) Rudiethylmethyl ammonium methosulfate)]; and amine salt forms [eg higher aliphatic amines (C12-60, eg laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine and rosinamine) inorganic acids (eg hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and Phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, eg acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, ethylene oxide adducts of aliphatic amines (C1-30) Inorganic acids (above) or organic acids (above) and tertiary amines (C3-30, eg triethanolamine monostearate and stearamide ethyl diethyl methylethanolamine) Thing) salt or organic acid (above thing) salt] It is.
両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)のプロピオン酸ナトリウム]、ベタイン型両性界面活性剤[例えばアルキル(C12〜18)ジメチルベタイン]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)の硫酸エステルナトリウム塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステルナトリウム塩]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(例えばペンタデシルスルホタウリンおよびイミダゾリンスルホン酸)およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤[例えばグリセリン高級脂肪酸(C8〜24)エステル化物のリン酸エステルアミン塩]が挙げられる。 Examples of amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants [for example, higher alkylamine (C8-24) sodium propionate], betaine type amphoteric surfactants [for example, alkyl (C12-18) dimethylbetaine], sulfate ester salts Type amphoteric surfactants [e.g. sulfate sodium salt of higher alkylamine (C8-24) and hydroxyethyl imidazoline sulfate sodium salt], sulfonate type amphoteric surfactants (e.g. pentadecyl sulfotaurine and imidazoline sulfonic acid) and Examples thereof include phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, phosphate ester amine salts of glycerin higher fatty acid (C8-24) esterified products].
これらの(C2)は単独でも2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち成形品の樹脂の耐熱性および帯電防止性の観点から好ましいのは、アニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、とくに好ましいのはアルキルベンゼ
ンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩およびパラフィンスルホン酸塩である。
These (C2) may be used alone or in combination of two or more.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of heat resistance and antistatic properties of the resin of the molded article, more preferred are sulfonates, and particularly preferred are alkylbenzene sulfonates, alkyl sulfonates and paraffins. Sulfonate.
(C2)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常15%以下、成形品の良好な外観と帯電防止性、および機械特性の観点から好ましくは0.001〜12%、さらに好ましくは0.01〜10%、とくに好ましくは0.1〜8%である。
(C2)を含有させる方法としては特に限定はないが、樹脂組成物中に効果的に分散させるためには、(A)中に予め含有させておくことが好ましい。(C2)を(A)中に予め含有させる場合、(A)の製造(重合)時に含有させておくのが好ましく、含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよいが重合前の原料に含有させるのが好ましい。
The amount of (C2) used is usually 15% or less based on the total weight of (A) and (B), and preferably 0.001 to 0.001 from the viewpoint of good appearance and antistatic properties of the molded product and mechanical properties. It is 12%, more preferably 0.01 to 10%, particularly preferably 0.1 to 8%.
The method for containing (C2) is not particularly limited, but it is preferably contained in advance in (A) in order to effectively disperse in the resin composition. When (C2) is previously contained in (A), it is preferably contained during the production (polymerization) of (A), and the timing of inclusion is not particularly limited, and can be any before, during or after polymerization. Although it is good, it is preferably contained in the raw material before polymerization.
イオン性液体(C3)は、前記(C1)および(C2)を除く化合物で、室温以下の融点を有し、(C3)を構成するカチオンまたはアニオンのうち少なくとも一つが有機物イオンで、初期電導度が1〜200ms/cm(好ましくは10〜200ms/cm)である常温溶融塩であって、例えばWO95/15572公報に記載の常温溶融塩が挙げられる。(C3)を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンが挙げられる。 The ionic liquid (C3) is a compound excluding the above (C1) and (C2), has a melting point of room temperature or lower, and at least one of cations or anions constituting (C3) is an organic ion, and has an initial conductivity. Is a room temperature molten salt of 1 to 200 ms / cm (preferably 10 to 200 ms / cm), for example, a room temperature molten salt described in WO95 / 15572. Examples of the cation constituting (C3) include an amidinium cation, a guanidinium cation, and a tertiary ammonium cation.
アミジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウムカチオン[1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウムなど]、イミダゾリウムカチオン[1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウムなど]、テトラヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1
,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウムなど]、およびジヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウムなど]が挙げられる。
Examples of the amidinium cation include imidazolinium cation [1,2,3,4-tetramethylimidazolinium, 1,3,4-trimethyl-2-ethylimidazolinium, 1,3-dimethylimidazolinium. 1,3-dimethyl-2,4-diethylimidazolinium, etc.], imidazolium cation [1,3-dimethylimidazolium, 1,3-diethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1, 2,3-trimethylimidazolium, etc.], tetrahydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1
, 4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4,5 6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,5-tetramethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and dihydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1,4- Or 1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium and the like].
グアニジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエ
チルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウムなど]、イミダゾリウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウムなど]、テトラヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウムなど]、およびジヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウムなど]が挙げられる。
Examples of the guanidinium cation include a guanidinium cation having an imidazolinium skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolinium, etc.], guanidinium cation having an imidazolium skeleton [2-dimethyl Amino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-methyl -3,4-diethylimidazolium etc.], tetrahydropyrimidi Guanidinium cation having a skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4 , 5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and guanidinium having a dihydropyrimidinium skeleton Cation [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1, 6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium Etc.], and the like.
3級アンモニウムカチオンとしては、例えばメチルジラウリルアンモニウムが挙げられる。 Examples of the tertiary ammonium cation include methyl dilauryl ammonium.
上記のアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンは1種単独でも、また2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち、初期電導度の観点から好ましいのはアミジニウムカチオン、さらに好ましいのはイミダゾリウムカチオン、特に好ましいのは1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。
The amidinium cation, guanidinium cation and tertiary ammonium cation may be used alone or in combination of two or more.
Of these, from the viewpoint of initial conductivity, an amidinium cation is preferable, an imidazolium cation is more preferable, and a 1-ethyl-3-methylimidazolium cation is particularly preferable.
イオン性液体(C3)において、アニオンを構成する有機酸または無機酸としては下記のものが挙げられる。
有機酸としては、例えばカルボン酸、硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル、スルホン酸およびリン酸エステルが挙げられ、例えば、前記(C2)および後述する(C4)に記載の有機酸を使用することができる。
無機酸としては、例えば超強酸(例えばホウフッ素酸、四フッ化ホウ素酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、六フッ化アンチモン酸および六フッ化ヒ素酸)、リン酸およびホウ酸が挙げられる。
上記有機酸および無機酸は1種単独でも2種以上の併用でもいずれでもよい。
上記有機酸および無機酸のうち、(C3)の初期電導度の観点から好ましいのは(C3)を構成するアニオンのHamett酸度関数(−H0)が12〜100である、超強酸
の共役塩基、超強酸の共役塩基以外のアニオンを形成する酸およびこれらの混合物である。
In the ionic liquid (C3), examples of the organic acid or inorganic acid constituting the anion include the following.
Examples of the organic acid include carboxylic acid, sulfuric acid ester, higher alkyl ether sulfuric acid ester, sulfonic acid and phosphoric acid ester. For example, the organic acid described in (C2) and (C4) described later may be used. it can.
Examples of the inorganic acid include super strong acids (for example, borofluoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroantimonic acid and hexafluoroarsenic acid), phosphoric acid and boric acid. It is done.
The organic acid and inorganic acid may be used alone or in combination of two or more.
Among the organic and inorganic acids, are preferred from the viewpoint of the initial conductivity of the (C3) is anionic Hamett acidity function constituting the (C3) (-H 0) is 12 to 100, the superacid conjugate base , Acids that form anions other than the conjugate bases of super strong acids and mixtures thereof.
超強酸の共役塩基以外のアニオンとしては、例えばハロゲン(例えばフッ素、塩素および臭素)イオン、アルキル(C1〜12)ベンゼンスルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(例えばウンデカフルオロペンタンスルホン酸)イオンが挙げられる。 Examples of the anion other than the conjugate base of the super strong acid include halogen (for example, fluorine, chlorine and bromine) ions, alkyl (C1-12) benzenesulfonic acid (for example, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid) ions and poly (n = 1-25) Fluoroalkanesulfonic acid (for example, undecafluoropentanesulfonic acid) ion.
超強酸としては、プロトン酸およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせから誘導されるもの、およびこれらの混合物が挙げられる。
超強酸としてのプロトン酸としては、例えばビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタン、過塩素酸、フルオロスルホン酸、アルカン(C1〜30)スルホン酸[例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸など)、ポリ(n=1〜30)フルオロアルカン(C1〜30)スルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸およびトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ホウフッ素酸および四フッ化ホウ素酸が挙げられる。
これらのうち合成の容易さの観点から好ましいのはホウフッ素酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸である。
Super strong acids include those derived from protonic acids and combinations of protonic acids and Lewis acids, and mixtures thereof.
Examples of the protonic acid as the super strong acid include bis (trifluoromethylsulfonyl) imidic acid, bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid, tris (trifluoromethylsulfonyl) methane, perchloric acid, fluorosulfonic acid, alkane (C1 -30) sulfonic acid [eg methane sulfonic acid, dodecane sulfonic acid etc.], poly (n = 1-30) fluoroalkane (C1-30) sulfonic acid (eg trifluoromethane sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, heptafluoropropane) Sulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid and tridecafluorohexanesulfonic acid), borofluoric acid and tetrafluoroboric acid.
Of these, borofluoric acid, trifluoromethanesulfonic acid and bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid are preferred from the viewpoint of ease of synthesis.
ルイス酸と組合せて用いられるプロトン酸としては、例えばハロゲン化水素(例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素)、過塩素酸、フルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうち(C3)の初期電導度の観点から好ましいのはフッ化水素である。
Examples of the protonic acid used in combination with the Lewis acid include hydrogen halide (for example, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide), perchloric acid, fluorosulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid. , Pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid, tridecafluorohexanesulfonic acid and mixtures thereof.
Of these, hydrogen fluoride is preferred from the viewpoint of the initial conductivity of (C3).
ルイス酸としては、例えば三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フ
ッ化ヒ素、五フッ化タンタルおよびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうちで、(C3)の初期電導度の観点から好ましいのは三フッ化ホウ素および五フッ化リンである。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせからなる超強酸としては、例えばテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、六フッ化タンタル酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化タンタルスルホン酸、四フッ化ホウ素酸、六フッ化リン酸、塩化三フッ化ホウ素酸、六フッ化ヒ素酸およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, tantalum pentafluoride, and mixtures thereof.
Of these, boron trifluoride and phosphorus pentafluoride are preferable from the viewpoint of the initial conductivity of (C3).
The combination of the protonic acid and the Lewis acid is arbitrary, but as the super strong acid comprising these combinations, for example, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluorotantalic acid, hexafluoroantimonic acid, tantalum hexafluoride Examples include sulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, chloroboron trifluoride, arsenic hexafluoride, and mixtures thereof.
上記のアニオンのうち、(C3)の初期電導度の観点から好ましいのは超強酸の共役塩基(プロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸とルイス酸との組合せからなる超強酸)、さらに好ましいのはプロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸と、三フッ化ホウ素および/または五フッ化リンとからなる超強酸の共役塩基である。 Of the above anions, (C3) from the viewpoint of the initial conductivity, a super strong acid conjugate base (a super strong acid composed of a proton acid and a super strong acid composed of a combination of a proton acid and a Lewis acid), more preferably It is a conjugate base of a super strong acid consisting of a super strong acid consisting of a proton acid and a proton acid and boron trifluoride and / or phosphorus pentafluoride.
(C3)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常10%以下、成形品の良好な外観と帯電防止効果、および機械特性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(C3)を添加する方法についても特に限定はないが、樹脂中への効果的な分散の観点から、(A)中に予め分散させておくことが好ましく、(A)の製造(重合)後に(C3)を予め添加し分散させておくのがさらに好ましい。
The amount of (C3) used is usually 10% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably from 0.001 in view of the good appearance and antistatic effect of the molded product and mechanical properties. 5%, more preferably 0.01 to 3%.
The method for adding (C3) is not particularly limited, but from the viewpoint of effective dispersion in the resin, it is preferable to disperse in (A) in advance, and after the production (polymerization) of (A). More preferably, (C3) is added and dispersed in advance.
(C3)の製法としては、例えばジメチルカーボネート等で4級化して得られるアミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンのジメチルカーボネート塩に、酸[(C3)においてアニオンを構成する前記の有機酸または無機酸]を加えて酸交換を行う方法、または、アミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンを一旦加水分解してモノアミドアミンを生成した後、そのモノアミドアミンを酸(前記に同じ)で中和する方法が挙げられる。 As the production method of (C3), for example, an dimethyl carbonate salt of an amidinium cation and / or a guanidinium cation obtained by quaternization with dimethyl carbonate or the like, an acid [the above organic acid constituting an anion in (C3) Or an inorganic acid] to perform acid exchange, or after hydrolyzing the amidinium cation and / or guanidinium cation to form a monoamidoamine, the monoamidoamine is converted to an acid (same as above). The method of neutralizing is mentioned.
相溶化剤(C4)としては、例えばカルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の極性基を有する変性ビニル(共)重合体(例えば特開平3−258850号公報に記載のもの)、スルホ基を有する変性ビニル(共)重合体(例えば特開平6−345927号公報に記載のもの)およびポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック(共)重合体(例えば特開平6−345927号公報に記載のもの)が挙げられる。
(C4)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて、通常15%以下、(A)と(B)の相溶性および成形品の機械特性の観点から好ましくは0.1〜12%、さらに好ましくは1〜10%、とくに好ましくは1.5〜8%である。
As the compatibilizing agent (C4), for example, a modified vinyl (co) polymer having at least one polar group selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group (for example, a special compound) And a modified vinyl (co) polymer having a sulfo group (for example, those described in JP-A-6-345927) and a polyolefin portion and an aromatic vinyl polymer portion. Examples thereof include block (co) polymers (for example, those described in JP-A-6-345927).
The amount of (C4) used is usually 15% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably from the viewpoint of the compatibility of (A) and (B) and the mechanical properties of the molded product. It is 1 to 12%, more preferably 1 to 10%, particularly preferably 1.5 to 8%.
その他の樹脂用添加剤(C5)としては、導電性物質(C51)、着色料(C52)、充填剤(C53)、核剤(C54)、滑剤(C55)、可塑剤(C56)、難燃剤(C57)、分散剤(C58)、離型剤(C59)、酸化防止剤(C510)、紫外線吸収剤(C511)および抗菌剤(C512)が挙げられる。 Other additives for resin (C5) include conductive substance (C51), colorant (C52), filler (C53), nucleating agent (C54), lubricant (C55), plasticizer (C56), flame retardant (C57), dispersant (C58), mold release agent (C59), antioxidant (C510), ultraviolet absorber (C511) and antibacterial agent (C512).
導電性物質(C51)としては、前記(C1)および(C3)を除く化合物で、例えばカーボンナノチューブ、カーボンブラックおよびホワイトカーボンが挙げられる。 The conductive substance (C51) is a compound other than the above (C1) and (C3), and examples thereof include carbon nanotubes, carbon black, and white carbon.
着色料(C52)としては、例えば無機顔料、有機顔料および染料が挙げられる。
無機顔料としては、例えば白色顔料(例えば酸化チタン、リトポン、鉛白および亜鉛華)、コバルト化合物(例えばオーレオリン、コバルトグリーン、セルリアンブルー、コバルトブルーおよびコバルトバイオレット)、鉄化合物(例えば酸化鉄および紺青)、クロム化合物(例えば酸化クロム、クロム酸鉛およびクロム酸バリウム)および硫化物(例え
ば硫化カドミウム、カドミウムイエローおよびウルトラマリン)が挙げられる。
有機顔料としては、例えばアゾ顔料(例えばアゾレーキ系、モノアゾ系、ジスアゾ系およびキレートアゾ系)および多環式顔料(例えばベンゾイミダゾロン系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ジオキサジン系、イソインドリノン系、チオインジゴ系、ペリレン系、キノフタロン系およびアンスラキノン系)が挙げられる。
染料としては、例えばアゾ系、アントラキノン系、インジゴイド系、硫化系、トリフェニルメタン系、ピラゾロン系、スチルベン系、ジフェニルメタン系、キサンテン系、アリザリン系、アクリジン系、キノンイミン系、チアゾール系、メチン系、ニトロ系、ニトロソ系およびアニリン系が挙げられる。
Examples of the colorant (C52) include inorganic pigments, organic pigments, and dyes.
Examples of inorganic pigments include white pigments (eg, titanium oxide, lithopone, lead white and zinc white), cobalt compounds (eg, aureoline, cobalt green, cerulean blue, cobalt blue and cobalt violet), and iron compounds (eg, iron oxide and bitumen). , Chromium compounds (eg chromium oxide, lead chromate and barium chromate) and sulfides (eg cadmium sulfide, cadmium yellow and ultramarine).
Examples of organic pigments include azo pigments (eg, azo lake, monoazo, disazo, and chelate azo) and polycyclic pigments (eg, benzimidazolone, phthalocyanine, quinacridone, dioxazine, isoindolinone, thioindigo). Perylene, quinophthalone, and anthraquinone).
Examples of the dye include azo, anthraquinone, indigoid, sulfide, triphenylmethane, pyrazolone, stilbene, diphenylmethane, xanthene, alizarin, acridine, quinoneimine, thiazole, methine, nitro System, nitroso system and aniline system.
充填剤(C53)としては、例えば無機充填剤(例えば炭酸カルシウム、タルク、クレー、けい酸、けい酸塩、アスベスト、マイカ、ガラス繊維、ガラスバルーン、カーボン繊維、金属繊維、セラミックウィスカおよびチタンウィスカ)および有機充填剤[例えば尿素、ステアリン酸カルシウムおよび有機架橋微粒子(例えばエポキシ系およびウレタン系)]が挙げられる。 Examples of the filler (C53) include inorganic fillers (eg, calcium carbonate, talc, clay, silicic acid, silicate, asbestos, mica, glass fiber, glass balloon, carbon fiber, metal fiber, ceramic whisker and titanium whisker). And organic fillers [for example, urea, calcium stearate and organic crosslinked fine particles (for example, epoxy-based and urethane-based)].
核剤(C54)としては、有機系核剤[例えば1,3,2,4−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−p−t−ブチルベンゾエート、ソジウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェートおよび安息香酸ナトリウム]および無機系核剤(例えばグラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化亜鉛、アルミナ、硫酸バリウムおよび硫酸カルシウム)が挙げられる。 Examples of the nucleating agent (C54) include organic nucleating agents [for example, 1,3,2,4-dibenzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium bis (4-t -Butylphenyl) phosphate and sodium benzoate] and inorganic nucleating agents (eg graphite, carbon black, magnesium oxide, calcium silicate, magnesium silicate, talc, kaolin, calcium carbonate, magnesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, zinc oxide, Alumina, barium sulfate and calcium sulfate).
滑剤(C55)としては、ワックス(例えばカルナバロウワックス、パラフィンワックスおよびポリオレフィンワックス)、高級脂肪酸(C8〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸およびリノレン酸)、高級アルコール(C8〜18、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコールおよびベヘニルアルコール)および高級脂肪酸アミド(C8〜24、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミドおよびリノレン酸アミド)が挙げられる。 Lubricants (C55) include waxes (eg carnauba wax, paraffin wax and polyolefin wax), higher fatty acids (C8-24, eg stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid), higher alcohols (C8-18, eg stearyl). Alcohols, lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cetostearyl alcohol and behenyl alcohol) and higher fatty acid amides (C8-24, such as stearic acid amide, oleic acid amide, linoleic acid amide and linolenic acid amide).
可塑剤(C56)としては、芳香族カルボン酸エステル[例えばフタル酸エステル(例えばジオクチルフタレートおよびジブチルフタレート)]、脂肪族モノカルボン酸エステル[例えばメチルアセチルリシノレートおよびトリエチレングリコールジベンゾエート]、脂肪族ジカルボン酸エステル[例えばジ(2−エチルヘキシル)アジペートおよびアジピン酸−プロピレングリコール系ポリエステル(Mn200〜2000)]、脂肪族トリカルボン酸エステル[例えばクエン酸エステル(例えばクエン酸トリエチル)]、リン酸トリエステル[例えばトリフェニルホスフェート]および石油樹脂が挙げられる。 Examples of the plasticizer (C56) include aromatic carboxylic acid esters [for example, phthalic acid esters (for example, dioctyl phthalate and dibutyl phthalate)], aliphatic monocarboxylic acid esters [for example, methyl acetyl ricinoleate and triethylene glycol dibenzoate], aliphatic Dicarboxylic acid esters [for example, di (2-ethylhexyl) adipate and adipic acid-propylene glycol-based polyester (Mn 200 to 2000)], aliphatic tricarboxylic acid esters [for example, citric acid ester (for example, triethyl citrate)], phosphoric acid triesters [ For example, triphenyl phosphate] and petroleum resin.
難燃剤(C57)としては、有機難燃剤〔例えば含窒素系[例えば尿素化合物、グアニジン化合物およびトリアジン化合物(例えばメラミンおよびグアナミン)の塩(例えば無機酸(前記のもの)塩、シアヌール酸塩およびイソシアヌール酸塩)]、含硫黄系〔例えば硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの塩、エステルおよびアミド〕、含珪素系(例えばポリオルガノシロキサン)および含リン系[例えばリン酸エステル(例えばトリクレジルホスフェート)]〕および無機難燃剤〔例えば三酸化アンチモン、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、水酸化アルミニウム、赤リンおよびポリリン酸アンモニム〕が挙げられる。 Examples of the flame retardant (C57) include organic flame retardants [for example, nitrogen-containing [for example, urea compounds, guanidine compounds, and triazine compounds (for example, melamine and guanamine) salts (for example, inorganic acid (the foregoing) salts, cyanurates and isocyanates)]. Nurates)], sulfur-containing systems (eg sulfates, organic sulfonic acids, sulfamic acids, organic sulfamic acids, and their salts, esters and amides), silicon-containing systems (eg polyorganosiloxanes) and phosphorus-containing systems [eg Phosphate esters (eg tricresyl phosphate)]] and inorganic flame retardants (eg antimony trioxide, magnesium hydroxide, zinc borate, barium metaborate, aluminum hydroxide, red phosphorus and ammonium polyphosphate).
分散剤(C58)としては、Mn1,000〜100,000の分散剤、例えばナフタ
レンスルホン酸ホルマリン縮合物(Mn1,000〜10,000)、ポリスチレンスルホン酸金属[例えばアルカリ金属(例えばナトリウムおよびカリウム)]塩(Mn1,000〜100,000)、ポリアクリル酸金属[例えばアルカリ金属(上記に同じ)]塩(Mn2,000〜50,000)、カルボキシメチルセルロースおよびポリビニルアルコールが挙げられる。
Examples of the dispersant (C58) include dispersants of Mn 1,000 to 100,000, such as naphthalene sulfonic acid formalin condensate (Mn 1,000 to 10,000), polystyrene sulfonate metals [for example, alkali metals (for example, sodium and potassium) ] Salt (Mn 1,000-100,000), polyacrylic acid metal [for example, alkali metal (same as above)] salt (Mn 2,000-50,000), carboxymethyl cellulose and polyvinyl alcohol.
離型剤(C59)としては、高級脂肪酸(上記のもの)の低級(C1〜4)アルコールエステル(例えばステアリン酸ブチル)、脂肪酸(C2〜18)の多価(2価〜4価またはそれ以上)アルコールエステル(例えば硬化ヒマシ油)、脂肪酸(C2〜18)のグリコール(C2〜8)エステル(例えばエチレングリコールモノステアレート)および流動パラフィンが挙げられる。テトラキス[メチレン−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシハイドロシンナメート)]メタン As the release agent (C59), lower fatty acid (C1-4) alcohol ester (for example, butyl stearate) of higher fatty acid (above), polyvalent (divalent to tetravalent or higher) of fatty acid (C2-18) ) Alcohol esters (eg hydrogenated castor oil), glycol (C2-8) esters of fatty acids (C2-18) (eg ethylene glycol monostearate) and liquid paraffin. Tetrakis [methylene- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate)] methane
酸化防止剤(C510)としては、フェノール系{例えば単環フェノール[例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールおよびブチル化ヒドロキシアニソール]、ビスフェノール[例えば2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノールおよび4,4’−チオビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノール]および多環フェノール〔例えば1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタンおよびテトラキス[メチレン−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシハイドロシンナメート)][商品名:イルガノックス1010、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製]〕};硫黄系〔例えばジラウリル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリルβ,β’−チオジブチレートおよびジラウリルサルファイド〕;リン系〔例えばトリフェニルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトおよびジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト〕;およびアミン系〔例えばオクチル化ジフェニルアミン、N−n−ブチル−p−アミノフェノール、N,N−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンおよびフェノチアジン〕が挙げられる。 Antioxidants (C510) include phenolic {eg monocyclic phenols [eg 2,6-di-t-butyl-p-cresol and butylated hydroxyanisole], bisphenols [eg 2,2′-methylenebis (4- Methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl) -6-tert-butylphenol and 4,4′-thiobis (3-methyl) -6-tert-butylphenol] and polycyclic phenols [ For example, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-) 5-t-butylphenyl) butane and tetrakis [methylene- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate)] Product name: Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.]]; sulfur-based [eg, dilauryl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate, lauryl stearyl 3, 3′-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl β, β′-thiodibutyrate and dilauryl sulfide]; phosphorus systems [eg triphenyl phosphite, triisodecyl phosphite, Diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-tert-butylphenyl) octyl phosphite, 4, 4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenol Luditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (octadecyl phosphite), cyclic neopentanetetrayl bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl Bis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and diisodecylpentaerythritol diphosphite]; and amine systems such as octylated diphenylamine, Nn-butyl-p-aminophenol, N, N-diisopropyl- p-phenylenediamine, N, N-bis (1-ethyl-3-methylpentyl) -p-phenylenediamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine And phenothia Down], and the like.
紫外線吸収剤(C511)としては、ベンゾトリアゾール系[例えば2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール]、ベンゾフェノン系[例えば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンおよび2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン]、サリチレート系[例えばフェニルサリチレートおよびエチレングリコールモノサリチレート]およびアクリレート系[例えば2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’1−ジフェニルアクリレート]が挙げられる。 Examples of the ultraviolet absorber (C511) include benzotriazoles [for example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole], Benzophenone series [eg 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone], salicylate series [eg phenyl salicylate and ethylene glycol monosalicylate] and acrylate series [eg 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3′1-diphenyl acrylate].
抗菌剤(C512)としては、安息香酸、パラオキシ安息香酸エステル、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール(例えば2,4,6−トリブロモフェノールナトリウム塩)、有機
ヨウ素(例えば4−クロロフェニル−3−ヨードプロパギルホルマール)、ニトリル(例えば2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリル)、チオシアノ(例えばメチレンビスチアノシアネート)、N−ハロアルキルチオイミド(例えばN−テトラクロロエチル−チオ−テトラヒドロフタルイミド)、銅剤(例えば8−オキシキノリン銅)、ベンズイミダゾール(例えば2−4−チアゾリルベンズイミダゾール)、ベンゾチアゾール(例えば2−チオシアノメチルチオベンゾチアゾール)、トリハロアリル(例えば3−ブロモ−2,3−ジヨード−2−プロペニルエチルカルボナート)、トリアゾール(例えばアザコナゾール)、有機窒素硫黄化合物(例えばスラオフ39)、4級アンモニウム化合物(例えばトリメトキシシリル−プロピルオクタデシルアンモニウムクロライド)およびピリジン系化合物[例えば2,3,5,6−チトクロロ−4−(メチルスルホニル)−ピリジン]が挙げられる。
As an antibacterial agent (C512), benzoic acid, paraoxybenzoic acid ester, sorbic acid, halogenated phenol (for example, 2,4,6-tribromophenol sodium salt), organic iodine (for example, 4-chlorophenyl-3-iodopropargyl) Formal), nitrile (eg, 2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile), thiocyano (eg, methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimide (eg, N-tetrachloroethyl-thio-tetrahydrophthalimide), copper agent (Eg 8-oxyquinoline copper), benzimidazole (eg 2-4-thiazolylbenzimidazole), benzothiazole (eg 2-thiocyanomethylthiobenzothiazole), trihaloallyl (eg 3-bromo-2,3-diiodo- 2-prop Ruethyl carbonate), triazoles (eg azaconazole), organic nitrogen sulfur compounds (eg Suraoff 39), quaternary ammonium compounds (eg trimethoxysilyl-propyloctadecyl ammonium chloride) and pyridine-based compounds [eg 2, 3, 5, 6 -Cytochloro-4- (methylsulfonyl) -pyridine].
上記(C5)の使用量は、(A)と(B)の合計重量に基づいて(C5)全体では通常20%以下であり、それぞれについては、(C53)、(C56)、(C57)、(C58)、(C512)は、通常10%以下、好ましくは1〜5%;(C51)、(C52)は、通常5%以下、好ましくは0.1〜3%;(C54)、(C55)、(C59)、(C510)、(C511)は、通常2%以下、好ましくは0.01〜0.5%である。 The amount of (C5) used is usually 20% or less in the whole (C5) based on the total weight of (A) and (B), and (C53), (C56), (C57), (C58) and (C512) are usually 10% or less, preferably 1 to 5%; (C51) and (C52) are usually 5% or less, preferably 0.1 to 3%; (C54) and (C55 ), (C59), (C510) and (C511) are usually 2% or less, preferably 0.01 to 0.5%.
本発明の樹脂組成物の製造方法としては、(A)と(B)、またはこれらに必要に応じて(C)を加えて[(C1)〜(C4)については前記のように効果的な分散の観点から(A)に予め含有させておいてもよい。]溶融混合する方法が挙げられる。
溶融混合する方法としては、例えばペレット状または粉体状の成分を適切な混合機(例えばヘンシェルミキサー)で混合した後、押出機で溶融混合(150〜260℃)してペレット化する方法が挙げられる。
混合に際しての各成分の添加順序には特に限定はないが、例えば、(1)(A)と(B)、またはこれらに必要に応じて(C)を一括して加えてブレンド、混練する方法、および(2)(A)と、(B)の一部、またはこれらに必要に応じて(C)をブレンド、混練した後、残りの(C)をブレンド、混練する方法が挙げられる。
これらのうち(2)の方法は、マスターバッチ法またはマスターペレット法と呼ばれ、少量の(C)を均一に樹脂に分散させる観点から好ましい方法である。
As the method for producing the resin composition of the present invention, (A) and (B), or (C) is added to these as necessary [[C1] to (C4) are effective as described above. From the viewpoint of dispersion, it may be previously contained in (A). The method of melt-mixing is mentioned.
As a method of melt mixing, for example, a method of mixing pellets or powdery components with an appropriate mixer (for example, a Henschel mixer) and then melt-mixing (150 to 260 ° C.) with an extruder to pelletize. It is done.
The order of addition of each component during mixing is not particularly limited. For example, (1) (A) and (B), or a method in which (C) is added all at once as necessary to blend and knead And (2) A method of blending and kneading a part of (A) and (B) or, if necessary, (C) and kneading the remaining (C).
Among these methods, the method (2) is called a master batch method or a master pellet method, and is a preferable method from the viewpoint of uniformly dispersing a small amount of (C) in a resin.
本発明の樹脂組成物の成形方法としては、例えば射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形およびフィルム成形(例えばキャスト法、テンター法およびインフレーション法)が挙げられ、目的に応じて任意の方法が選択できる。 Examples of the molding method of the resin composition of the present invention include injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding and film molding (for example, casting method, tenter method and inflation method). Any method can be selected according to the purpose.
本発明の樹脂組成物からなる成形品は、優れた機械的強度および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有し、成形品に塗装および/または印刷を施すことにより成形物品が得られる。
該成形品を塗装する方法としては、例えばエアスプレー塗装、エアレススプレー塗装、静電スプレー塗装、浸漬塗装、ローラー塗装、刷毛塗り等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
塗料としては、例えば、ポリエステルメラミン樹脂塗料、エポキシメラミン樹脂塗料、アクリルメラミン樹脂塗料、アクリルウレタン樹脂塗料等のプラスチックの塗装に一般に用いられる塗料が挙げられる。
塗装膜厚(乾燥膜厚)は、目的に応じて適宜選択することができるが通常10〜50μmである。
The molded product made of the resin composition of the present invention has excellent mechanical strength and permanent antistatic properties, and also has good paintability and printability, and is molded by coating and / or printing the molded product. An article is obtained.
Examples of the method for coating the molded product include, but are not limited to, air spray coating, airless spray coating, electrostatic spray coating, immersion coating, roller coating, and brush coating.
Examples of the paint include paints generally used for plastic coating such as polyester melamine resin paint, epoxy melamine resin paint, acrylic melamine resin paint, and acrylic urethane resin paint.
The coating film thickness (dry film thickness) can be appropriately selected according to the purpose, but is usually 10 to 50 μm.
また、該成形品または成形品に塗装を施した上に印刷する方法としては、一般的にプラスチックの印刷に用いられている印刷法であればいずれも用いることができ、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、ドライオフセット印刷およびオフセット印刷等が挙げられる。
印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるもの、例えばグラビアインキ、フレキソインキ、スクリーンインキ、パッドインキ、ドライオフセットインキおよびオフセットインキが使用できる。
In addition, as a method of printing after coating the molded product or the molded product, any printing method generally used for plastic printing can be used. For example, gravure printing, flexographic printing , Screen printing, pad printing, dry offset printing, offset printing, and the like.
As the printing ink, those usually used for printing plastics, for example, gravure ink, flexographic ink, screen ink, pad ink, dry offset ink and offset ink can be used.
以下実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の部は重量部を表す。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the part in an Example represents a weight part.
製造例1
ステンレス製オートクレーブに、光学純度99%以上のL−ラクチド94.8部、アジピン酸5部、酸化防止剤[商品名:イルガノックス1010、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製、以下同じ。]0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価78のポリエステル(a−1)100部を得た。
次に、Mn2,000のポリエチレングリコール68.5部および酢酸ジルコニル1.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させて粘稠なポリエーテル鎖含有ブロックポリマー(A1)を得た。(A1)をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって(A1)からなる帯電防止剤(A−1)を得た。該ブロックポリマー(A1)の体積固有抵抗値は5×108Ω・cm、単位重量当たりのエステル基濃度は7.8モル/kg、Mnは10,500であった。
Production Example 1
In a stainless steel autoclave, 94.8 parts of L-lactide having an optical purity of 99% or more, 5 parts of adipic acid, antioxidant [trade name: Irganox 1010, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., and so on. ] 0.3 parts and 6 parts of water were charged, the inside of the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 220 ° C. under pressure (0.3 to 0.5 MPa) for 4 hours under sealed conditions. Acid value having carboxyl groups at both ends 100 parts of 78 polyesters (a-1) were obtained.
Next, 68.5 parts of polyethylene glycol of Mn 2,000 and 1.5 parts of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to form a viscous polyether chain-containing block polymer (A1 ) The antistatic agent (A-1) consisting of (A1) was obtained by taking out (A1) in a strand form on a belt and pelletizing it. The volume resistivity of the block polymer (A1) was 5 × 10 8 Ω · cm, the ester group concentration per unit weight was 7.8 mol / kg, and Mn was 10,500.
製造例2
ステンレス製オートクレーブにアジピン酸41部、スルファミン酸ジエタノールのナトリウム塩59部および酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、2時間かけて220℃まで昇温し1時間かけて1mmHgまで減圧しポリエステル化反応を行い1分子内にスルホン酸ナトリウム塩基を平均8個有するアニオン性ポリマー(c−1)を得た。
次に、別のステンレス製オートクレーブに(c−1)50部、(a−1)50部、酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、以下製造例1と同様にしてアニオン性基含有ブロックポリマー(A2)からなる帯電防止剤(A−2)を得た。該ブロックポリマー(A2)の体積固有抵抗値は1×108Ω・cm、単位重量当たりのエステル基濃度は9.4モル/kg、Mnは10,300であった。
Production Example 2
A stainless steel autoclave is charged with 41 parts of adipic acid, 59 parts of sodium salt of sulfamic acid diethanol and 0.5 part of zirconyl acetate, heated to 220 ° C. over 2 hours and reduced to 1 mmHg over 1 hour for polyesterification reaction. An anionic polymer (c-1) having an average of 8 sodium sulfonate bases in one molecule was obtained.
Next, 50 parts of (c-1), 50 parts of (a-1), and 0.5 parts of zirconyl acetate were charged into another stainless steel autoclave, and the anionic group-containing block polymer (A2) was prepared in the same manner as in Production Example 1. An antistatic agent (A-2) comprising The volume resistivity of the block polymer (A2) was 1 × 10 8 Ω · cm, the ester group concentration per unit weight was 9.4 mol / kg, and Mn was 10,300.
製造例3
ステンレス製オートクレーブにN−メチルジエタノールアミン48部、アジピン酸52部、および酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、2時間かけて220℃まで昇温し1時間かけて1mmHgまで減圧しポリエステル化反応を行った。反応終了後生成物にメタノール100部を加えて溶解させた。撹拌しながら、オートクレーブ内の温度を120℃に保ち、炭酸ジメチル33部を3時間かけて徐々に滴下し、同温度で6時間熟成させた。室温まで冷却後、60%ヘキサフルオロリン酸水溶液100部を加え室温で一時間撹拌した。ついで溶剤を減圧留去し4級アンモニウム塩基を分子内に平均10個有するカチオン性ポリマー(d−1)得た。
次に、別のステンレス製オートクレーブに(d−1)50部、(a−1)50部、酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、以下製造例1と同様にしてカチオン性基含有ブロックポリマー(A3)からなる帯電防止剤(A−3)を得た。該ブロックポリマー(A3)の体積固有抵抗値は8×107Ω・cm、単位重量当たりのエステル基濃度は10.1モル/kg、Mnは13,000であった。
Production Example 3
A stainless steel autoclave was charged with 48 parts of N-methyldiethanolamine, 52 parts of adipic acid and 0.5 part of zirconyl acetate, heated to 220 ° C. over 2 hours, and reduced to 1 mmHg over 1 hour to conduct a polyesterification reaction. . After completion of the reaction, 100 parts of methanol was added to the product and dissolved. While stirring, the temperature in the autoclave was kept at 120 ° C., 33 parts of dimethyl carbonate was gradually added dropwise over 3 hours, and aged at the same temperature for 6 hours. After cooling to room temperature, 100 parts of a 60% hexafluorophosphoric acid aqueous solution was added and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a cationic polymer (d-1) having an average of 10 quaternary ammonium bases in the molecule.
Next, another stainless steel autoclave was charged with 50 parts of (d-1), 50 parts of (a-1) and 0.5 part of zirconyl acetate, and thereafter the cationic group-containing block polymer (A3) in the same manner as in Production Example 1. An antistatic agent (A-3) comprising The volume resistivity of the block polymer (A3) was 8 × 10 7 Ω · cm, the ester group concentration per unit weight was 10.1 mol / kg, and Mn was 13,000.
製造例4
ステンレス製オートクレーブに、光学純度99%以上のL−ラクチド69.9部、アジ
ピン酸29.9部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価230のポリエステル(a−2)100部を得た。
次に、Mn8,000のポリエチレングリコール1,643部および酢酸ジルコニル15.5部を加え、以下製造例1と同様にしてポリエーテル鎖含有ブロックポリマー(比A1)からなる帯電防止剤(比A−1)を得た。該ブロックポリマー(比A1)の体積固有抵抗値は5×108Ω・cm、単位重量当たりのエステル基濃度は0.6モル/kg、Mnは11,000であった。
Production Example 4
A stainless steel autoclave was charged with 69.9 parts of L-lactide having an optical purity of 99% or more, 29.9 parts of adipic acid, 0.3 part of an antioxidant and 6 parts of water. The mixture was heated and stirred for 4 hours under pressure (0.3 to 0.5 MPa) and sealed to obtain 100 parts of polyester (a-2) having an acid value of 230 having carboxyl groups at both ends.
Next, 1,643 parts of polyethylene glycol of Mn 8,000 and 15.5 parts of zirconyl acetate were added, and an antistatic agent (ratio A-) comprising a polyether chain-containing block polymer (ratio A1) in the same manner as in Production Example 1 below. 1) was obtained. The volume resistivity of the block polymer (ratio A1) was 5 × 10 8 Ω · cm, the ester group concentration per unit weight was 0.6 mol / kg, and Mn was 11,000.
実施例1〜7、比較例1〜3
表1に示す配合処方に従って、上記帯電防止剤と生分解性樹脂[後述の(B−1)、(B−2)]、またはこれらにさらに添加剤(C)を加えてヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、回転速度100rpm、滞留時間3分間の条件で、200℃で溶融混練して、樹脂組成物(実施例1〜7、比較例1〜3)を得た。
Examples 1-7, Comparative Examples 1-3
According to the formulation shown in Table 1, the antistatic agent and the biodegradable resin [described later (B-1), (B-2)], or an additive (C) is further added to these and added for 3 minutes with a Henschel mixer. After blending, the resin composition (Examples 1-7, Comparative Examples 1-3) was melt-kneaded at 200 ° C. under a condition of a rotational speed of 100 rpm and a residence time of 3 minutes in a twin-screw extruder with a vent. Obtained.
(B−1):ポリ乳酸[商品名:ラクティー1012、(株)島津製作所製、単位重量当
たりのエステル基濃度13.9モル/kg]
(B−2):ポリブチレンサクシネート[商品名:ビオノーレ#1003、昭和高分子
(株)製、単位重量当たりのエステル基濃度13.2モル/kg]
(C−1):ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
(C−2):ラウリルリン酸ナトリウム
(C−3):トリフルオロメタンスルホン酸リチウム
(C−4):1−エチル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホナート
(B-1): Polylactic acid [Brand name: Lacty 1012, manufactured by Shimadzu Corporation, ester group concentration per unit weight of 13.9 mol / kg]
(B-2): Polybutylene succinate [Brand name: Bionore # 1003, Showa Polymer Co., Ltd.
Manufactured by Co., Ltd., ester group concentration per unit weight 13.2 mol / kg]
(C-1): sodium dodecylbenzenesulfonate (C-2): sodium lauryl phosphate (C-3): lithium trifluoromethanesulfonate (C-4): 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfone Naruto
(性能試験)
上記樹脂組成物について、それぞれ射出成形機[PS40E5ASE、日精樹脂工業(株)製]を用い、所定のシリンダー温度[(B−1)含有樹脂組成物は200℃、および金型温度50℃で各成形品を作成し、これらを用い以下の方法に従って、帯電防止性、生分解性、分散性の評価を行った。結果を表2に示す。
(performance test)
About the said resin composition, each uses injection molding machine [PS40E5ASE, the Nissei Plastic Industry Co., Ltd.], predetermined | prescribed cylinder temperature [(B-1) containing resin composition is 200 degreeC, and mold temperature is 50 degreeC, respectively. Molded articles were prepared, and the antistatic property, biodegradability and dispersibility were evaluated according to the following methods. The results are shown in Table 2.
[1]帯電防止性
(1)体積固有抵抗値
試験片(100×100×2mm)を用い、超絶縁計[東亜電波工業(株)製DSM−8103(平板試料用電極SME−8310)、以下同じ。]により23℃、湿度50%RHの雰囲気下で測定した(ASTM D257に準拠)。
(2)水洗後の体積固有抵抗値
斜めに立てかけた試験片(100×100×2mm)の表面を、流量100ml/分のイオン交換水(23℃)100mlで水洗し、その後循風乾燥機内80℃で3時間乾燥する。該水洗−乾燥の操作を10回繰り返した試験片について、(1)と同様に超絶縁計により23℃、湿度50%RHの雰囲気下で体積固有抵抗値を測定した(ASTM D257に準拠)。
[1] Antistatic property (1) Volume specific resistance value Using a test piece (100 × 100 × 2 mm), a super insulation meter [DSM-8103 manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd. (electrode SME-8310 for flat plate sample), the same. ] In an atmosphere of 23 ° C. and humidity 50% RH (according to ASTM D257).
(2) Volume resistivity value after water washing The surface of the test piece (100 × 100 × 2 mm) leaning diagonally was washed with 100 ml of ion-exchanged water (23 ° C.) at a flow rate of 100 ml / min, and then in a circulating dryer 80 Dry at 3 ° C. for 3 hours. About the test piece which repeated this water washing-drying operation 10 times, the volume specific resistance value was measured by 23 degreeC and humidity 50% RH atmosphere by the super insulation meter similarly to (1) (based on ASTM D257).
[2]生分解性
地表から約20センチの深さの土中に試験片(100×100×2mm)を埋めて、6ヵ月後の外観変化を目視観察し下記の基準で評価した。
○:外観変化あり(生分解により成形片が原形を留めていない。)
×:外観変化なし
[2] Biodegradability A test piece (100 × 100 × 2 mm) was buried in soil at a depth of about 20 cm from the ground surface, and the appearance change after 6 months was visually observed and evaluated according to the following criteria.
○: Change in appearance (molded piece does not retain its original shape due to biodegradation)
×: No change in appearance
[3]分散性
成形品を180°折り曲げた際に、その破断面を目視観察して、生分解性樹脂への帯電防止剤の分散性を下記の基準で評価した。なお、下記において層状剥離とは、帯電防止剤(A)の層と生分解性ポリエステル樹脂(B)との界面剥離を意味する。
○:層状剥離なく分散性良好
×:層状剥離が認められ分散性悪い
[3] Dispersibility When the molded product was bent 180 °, the fracture surface was visually observed, and the dispersibility of the antistatic agent in the biodegradable resin was evaluated according to the following criteria. In the following, delamination means interfacial delamination between the layer of the antistatic agent (A) and the biodegradable polyester resin (B).
○: Dispersibility is good without delamination ×: Delamination is recognized and dispersibility is poor
表2から明らかなように、本発明の成形品は、帯電防止性、生分解性および分散性のいずれにおいても優れ、比較例の成形品より優れることがわかる。 As is apparent from Table 2, the molded article of the present invention is superior in all of antistatic properties, biodegradability and dispersibility, and is superior to the molded article of the comparative example.
本発明の帯電防止剤は生分解性樹脂の生分解性を損なうことなく優れた永久帯電防止性を付与することができ、分散性にも優れている。該帯電防止剤を該生分解性樹脂に含有させてなる樹脂組成物を成形してなる成形品は、優れた生分解性を有すると共に、永久帯電防止性に優れる。このことから、本発明の帯電防止性樹脂組成物は、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形およびフィルム成形(例えばキャスト法、テンター法およびインフレーション法)等の各種成形法で成形される、家電・OA機器、ゲーム機器および事務機器などのハウジング製品、ICトレー等の各種プラスチック容器、各種包材用フィルム、床材用シート、人工芝、マット並びに自動車部品等の各種成形品用の材料として幅広く用いることができる。 The antistatic agent of the present invention can impart excellent permanent antistatic properties without impairing the biodegradability of the biodegradable resin, and is excellent in dispersibility. A molded product obtained by molding a resin composition containing the antistatic agent in the biodegradable resin has excellent biodegradability and excellent permanent antistatic properties. From this, the antistatic resin composition of the present invention can be used for injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding and film molding (for example, casting method, tenter method and inflation method), etc. Housing products such as home appliances / OA equipment, game machines and office equipment, various plastic containers such as IC trays, various packaging films, flooring sheets, artificial turf, mats and automobile parts It can be widely used as a material for various molded articles such as.
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