JP4964806B2 - Conductive resin composition and antistatic resin composition - Google Patents

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本発明は、導電性樹脂組成物および帯電防止性樹脂組成物に関する。さらに詳しくは、耐水性、機械特性を低下させることなく導電性に優れる成形品を与える導電性樹脂組成物および該組成物を熱可塑性樹脂に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a conductive resin composition and an antistatic resin composition. More specifically, the present invention relates to a conductive resin composition that gives a molded article having excellent conductivity without deteriorating water resistance and mechanical properties, and an antistatic resin composition containing the composition in a thermoplastic resin.

従来、導電性樹脂組成物としては、導電性フィラーを分散させた樹脂組成物、π電子共役系導電性ポリマー組成物、窒素またはリンオニウムカチオンと含フッ素アニオンからなるイオン塩を熱可塑性樹脂等に含有させた樹脂組成物(例えば特許文献1参照)やイオン性液体を含有させた高分子固体電解質からなる導電性樹脂組成物(例えば非特許文献1参照)等が用いられていた。
また、帯電防止性樹脂組成物しては、従来、透明性、加工性、耐ブリードアウト性、耐水性が良好な成形品を与えるとして、ポリオキシアルキレン鎖を有するポリマーからなる高分子型帯電防止剤を含有する組成物が知られている(例えば、特許文献2参照)
Conventionally, as a conductive resin composition, a resin composition in which a conductive filler is dispersed, a π-electron conjugated conductive polymer composition, an ionic salt composed of a nitrogen or phosphorus cation and a fluorine-containing anion is used as a thermoplastic resin. The resin composition (for example, refer patent document 1) contained, the conductive resin composition (for example, refer nonpatent literature 1) which consists of a polymer solid electrolyte containing an ionic liquid, etc. were used.
In addition, as an antistatic resin composition, a polymer type antistatic agent made of a polymer having a polyoxyalkylene chain has been conventionally used to give a molded article having good transparency, workability, bleedout resistance and water resistance A composition containing an agent is known (for example, see Patent Document 2).

特開2006−193704号公報JP 2006-193704 A 「化学と工業」、第54巻(2001年)第3号、281〜285頁、日本化学 会出版“Chemistry and Industry”, Volume 54 (2001) No. 3, 281-285, published by the Japan Chemical Society 特開2002−321314号公報JP 2002-321314 A

しかしながら、上記導電性フィラーを分散させた樹脂組成物からなる導電性樹脂は導電性フィラーに起因する黒色または金属色を有して透明性が著しく阻害され、さらに使用中に導電性フィラーの欠落の恐れがありクリーン度を要求される用途には敬遠される。
π電子共役系導電性ポリマー組成物からなるポリマーは一般に不溶不融であるため加工性が悪く、さらにπ電子共役系に起因する黒色を呈するため透明性も低い。
また、窒素オニウムカチオンまたはリンオニウムカチオンと含フッ素有機アニオンからなるイオン塩やイオン性液体を含有する樹脂組成物の場合は、イオン塩やイオン性液体が低分子であることと、樹脂との親和性が不良であることによりイオン塩やイオン性液体が容易に成形品表面にブリードアウトし、水洗や布拭きにより導電性が低下したり耐水性が悪化するという問題があった。
However, the conductive resin made of the resin composition in which the conductive filler is dispersed has a black or metallic color caused by the conductive filler, and the transparency is remarkably inhibited. It is afraid of applications where there is a fear that cleanliness is required.
A polymer composed of a π-electron conjugated conductive polymer composition is generally insoluble and infusible and therefore has poor processability, and further exhibits a black color due to the π-electron conjugated system and thus has low transparency.
In the case of a resin composition containing an ionic salt or ionic liquid composed of a nitrogen onium cation or a phosphorus onium cation and a fluorine-containing organic anion, the ionic salt or ionic liquid has a low molecular weight and an affinity for the resin. Due to the poor properties, ionic salts and ionic liquids easily bleed out on the surface of the molded product, and there was a problem that the conductivity was lowered or the water resistance was deteriorated by washing with water or wiping with cloth.

また、上記帯電防止性樹脂組成物は、高分子型帯電防止剤の導電性が不足しているため、それを熱可塑性樹脂に練り込んだ場合は、十分な帯電防止性が発現しないという問題があった。
本発明の目的は、導電性かつ耐水性に優れる成形品を与える導電性樹脂組成物、および帯電防止性かつ耐水性に優れる成形品を与える帯電防止性樹脂組成物を提供することにある。
Further, since the antistatic resin composition has insufficient conductivity of the polymer antistatic agent, there is a problem that sufficient antistatic properties are not exhibited when it is kneaded into a thermoplastic resin. there were.
An object of the present invention is to provide a conductive resin composition that provides a molded article having excellent conductivity and water resistance, and an antistatic resin composition that provides a molded article having excellent antistatic properties and water resistance.

即ち、本発明は、少なくとも1個のオニウムカチオン基(a)と、対アニオン基を有するポリマー(b)からなるポリマー型イオン性液体(A)を、ポリエーテルエステル、ポリエーテルアミド、ポリエーテルエステルアミド、並びにポリオレフィンのブロックと1×104〜1×1011Ω・cmの体積固有抵抗値を有する親水性ポリマーのブロックとが繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1種のブロックポリマー(B)に含有させてなることを特徴とする導電性樹脂組成物(X);該導電性樹脂組成物を熱可塑性樹脂(D)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物;該導電性樹脂組成物または該帯電防止性樹脂組成物を成形してなる成形品;並びに、該成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品である。 That is, the present invention provides a polymer type ionic liquid (A) comprising at least one onium cation group (a) and a polymer (b) having a counter anion group as a polyether ester, a polyether amide, a polyether ester. At least selected from the group consisting of amides and block polymers having a structure in which a polyolefin block and a hydrophilic polymer block having a volume resistivity of 1 × 10 4 to 1 × 10 11 Ω · cm are alternately and repeatedly bonded. Conductive resin composition (X) characterized by being contained in one type of block polymer (B); antistatic resin composition comprising the conductive resin composition contained in thermoplastic resin (D) A molded article formed by molding the conductive resin composition or the antistatic resin composition; and coating and / or printing on the molded article Is a molded article.

本発明の導電性樹脂組成物、または帯電防止性樹脂組成物は下記の効果を奏する。
(1)導電性樹脂組成物を成形してなる成形品は導電性に優れ、かつ耐水性に優れる。
(2)帯電防止性樹脂組成物を成形してなる成形品は帯電防止性に優れ、かつ耐水性に優れる。
The conductive resin composition or the antistatic resin composition of the present invention has the following effects.
(1) A molded product obtained by molding a conductive resin composition is excellent in conductivity and water resistance.
(2) A molded product formed by molding an antistatic resin composition is excellent in antistatic properties and water resistance.

本発明におけるポリマー型イオン性液体(A)は、少なくとも1個のオニウムカチオン基(a)と、対アニオン基を有するポリマー(b)からなる。なお、ここ、および以下において、イオン性液体とは、100℃以下の融点または室温以下のガラス転移点(以下Tgと略記)を有する溶融塩を意味するものとする。   The polymer type ionic liquid (A) in the present invention comprises at least one onium cation group (a) and a polymer (b) having a counter anion group. Here and below, the ionic liquid means a molten salt having a melting point of 100 ° C. or lower or a glass transition point (hereinafter abbreviated as Tg) of room temperature or lower.

[オニウムカチオン基(a)]
オニウムカチオン基(a)には、アミジニウムカチオン(a1)およびグアニジニウムカチオン(a2)が含まれる。
(a1)としては下記のものが挙げられる。
[1]イミダゾリニウムカチオン
炭素数(以下Cと略記)5〜15、例えば1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウム、1,2−ジメチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウム、1−メチル−2,3,4−トリエチルイミダゾリニウム、1,2,3,4−テトラエチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1−エチル−2,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,2,3−トリエチルイミダゾリニウム、4−シアノ−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、3−シアノメチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム、2−シアノメチル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、4−アセチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、3−アセチルメチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム、4−メチルカルボオキシメチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、3−メチルカルボオキシメチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム、4−メトキシ−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、3−メトキシメチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム、4−ホルミル−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、3−ホルミルメチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム、3−ヒドロキシエチル−1,2−ジメチルイミダゾリニウム、4−ヒドロキシメチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリニウム、2−ヒドロキシエチル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム;
[Onium cation group (a)]
The onium cation group (a) includes an amidinium cation (a1) and a guanidinium cation (a2).
Examples of (a1) include the following.
[1] Imidazolinium cation 5 to 15 carbon atoms (hereinafter abbreviated as C), such as 1,2,3,4-tetramethylimidazolinium, 1,3,4-trimethyl-2-ethylimidazolinium, 1 , 3-dimethylimidazolinium, 1,3-dimethyl-2,4-diethylimidazolinium, 1,2-dimethyl-3,4-diethylimidazolinium, 1-methyl-2,3,4-triethylimidazole Linium, 1,2,3,4-tetraethylimidazolinium, 1,2,3-trimethylimidazolinium, 1,3-dimethyl-2-ethylimidazolinium, 1-ethyl-2,3-dimethylimidazole Linium, 1,2,3-triethylimidazolinium, 4-cyano-1,2,3-trimethylimidazolinium, 3-cyanomethyl-1,2-dimethylimidazole Zolinium, 2-cyanomethyl-1,3-dimethylimidazolinium, 4-acetyl-1,2,3-trimethylimidazolinium, 3-acetylmethyl-1,2-dimethylimidazolinium, 4-methylcarbooxymethyl -1,2,3-trimethylimidazolinium, 3-methylcarbooxymethyl-1,2-dimethylimidazolinium, 4-methoxy-1,2,3-trimethylimidazolinium, 3-methoxymethyl-1, 2-dimethylimidazolinium, 4-formyl-1,2,3-trimethylimidazolinium, 3-formylmethyl-1,2-dimethylimidazolinium, 3-hydroxyethyl-1,2-dimethylimidazolinium, 4-hydroxymethyl-1,2,3-trimethylimidazolinium, 2-hydroxyethyl-1, - dimethyl imidazolinium;

[2]イミダゾリウムカチオン
C5〜15、例えば1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−エチルイミダゾリウム、1,2−ジメチル−3−エチル−イミダゾリウム、1,2,3−トリエチルイミダゾリウム、1,2,3,4−テトラエチルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−フェニルイミダゾリウム、1,3−ジメチル−2−ベンジルイミダゾリウム、1−ベンジル−2,3−ジメチル−イミダゾリウム、4−シアノ−1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、3−シアノメチル−1,2−ジメチルイミダゾリウム、2−シアノメチル−1,3−ジメチル−イミダゾリウム、4−アセチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、3−アセチルメチル−1,2−ジメチルイミダゾリウム、4−メチルカルボオキシメチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、3−メチルカルボオキシメチル−1,2−ジメチルイミダゾリウム、4−メトキシ−1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、3−メトキシメチル−1,2−ジメチルイミダゾリウム、4−ホルミル−1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、3−ホルミルメチル−1,2−ジメチルイミダゾリウム、3−ヒドロキシエチル−1,2−ジメチルイミダゾリウム、4−ヒドロキシメチル−1,2,3−トリメチルイミダゾリウム、2−ヒドロキシエチル−1,3−ジメチルイミダゾリウム;
[2] Imidazolium cation C5-15, such as 1,3-dimethylimidazolium, 1,3-diethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1,2,3-trimethylimidazolium, 1,2 , 3,4-tetramethylimidazolium, 1,3-dimethyl-2-ethylimidazolium, 1,2-dimethyl-3-ethyl-imidazolium, 1,2,3-triethylimidazolium, 1,2,3 , 4-tetraethylimidazolium, 1,3-dimethyl-2-phenylimidazolium, 1,3-dimethyl-2-benzylimidazolium, 1-benzyl-2,3-dimethyl-imidazolium, 4-cyano-1, 2,3-trimethylimidazolium, 3-cyanomethyl-1,2-dimethylimidazolium, 2-cyanomethyl-1,3 -Dimethyl-imidazolium, 4-acetyl-1,2,3-trimethylimidazolium, 3-acetylmethyl-1,2-dimethylimidazolium, 4-methylcarbooxymethyl-1,2,3-trimethylimidazolium, 3-methylcarbooxymethyl-1,2-dimethylimidazolium, 4-methoxy-1,2,3-trimethylimidazolium, 3-methoxymethyl-1,2-dimethylimidazolium, 4-formyl-1,2, 3-trimethylimidazolium, 3-formylmethyl-1,2-dimethylimidazolium, 3-hydroxyethyl-1,2-dimethylimidazolium, 4-hydroxymethyl-1,2,3-trimethylimidazolium, 2-hydroxy Ethyl-1,3-dimethylimidazolium;

[3]テトラヒドロピリミジニウムカチオン
C6〜15、例えば1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、8−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセニウム、5−メチル−1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネニウム、4−シアノ−1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、3−シアノメチル−1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−シアノメチル−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、4−アセチル−1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、3−アセチルメチル−1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、4−メチルカルボオキシメチル−1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、3−メチルカルボオキシメチル−1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、4−メトキシ−1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、3−メトキシメチル−1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、4−ホルミル−1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、3−ホルミルメチル−1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、3−ヒドロキシエチル−1,2−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、4−ヒドロキシメチル−1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ヒドロキシエチル−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム;
[3] Tetrahydropyrimidinium cation C6-15, such as 1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyri Midinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,5-tetramethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium 8-methyl-1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecenium, 5-methyl-1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5-nonenium, 4-cyano-1,2 , 3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 3-cyanomethyl-1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-cyanomethyl-1,3-dimethyl -1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 4-acetyl-1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 3-acetylmethyl-1,2-dimethyl- 1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 4-methylcarbooxymethyl-1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 3-methylcarbooxymethyl-1, 2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 4-methoxy-1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 3-methoxymethyl-1,2 -Dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 4-formyl-1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 3-formylmethyl- , 2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 3-hydroxyethyl-1,2-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 4-hydroxymethyl-1,2 , 3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-hydroxyethyl-1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium;

[4]ジヒドロピリミジニウムカチオン
C6〜20、例えば1,3−ジメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、[これらを1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウムと表記し、以下同様の表記を用いる。]1,2,3−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、8−メチル−1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7,9(10)−ウンデカジエニウム、5−メチル−1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5,7(8)−ノナジエニウム、4−シアノ−1,2,3−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、3−シアノメチル−1,2−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−シアノメチル−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、4−アセチル−1,2,3−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、3−アセチルメチル−1,2−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、4−メチルカルボオキシメチル−1,2,3−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、3−メチルカルボオキシメチル−1,2−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、4−メトキシ−1,2,3−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、3−メトキシメチル−1,2−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、4−ホルミル−1,2,3−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、3−ホルミルメチル−1,2−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、3−ヒドロキシエチル−1,2−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、4−ヒドロキシメチル−1,2,3−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ヒドロキシエチル−1,3−ジメチル−1,4(6)−ヒドロピリミジニウム。
[4] Dihydropyrimidinium cation C6-20, such as 1,3-dimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium [these are 1,3-dimethyl-1,4 (6)- This is expressed as dihydropyrimidinium, and the same notation is used hereinafter. 1,2,3-trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 1,2,3 5-tetramethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 8-methyl-1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7,9 (10) -undecadienium, 5-methyl- 1,5-diazabicyclo [4,3,0] -5,7 (8) -nonadienium, 4-cyano-1,2,3-trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 3-cyanomethyl- 1,2-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-cyanomethyl-1,3-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 4-acetyl-1,2,3- Trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 3 Acetylmethyl-1,2-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 4-methylcarbooxymethyl-1,2,3-trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 3- Methylcarbooxymethyl-1,2-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 4-methoxy-1,2,3-trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 3-methoxy Methyl-1,2-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 4-formyl-1,2,3-trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 3-formylmethyl-1 , 2-Dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 3-hydroxyethyl-1,2-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 4-hydroxymethyl-1,2,3 Trimethyl-1,4 (6) - dihydropyrimidinium, 1,3 2-hydroxyethyl dimethyl-1,4 (6) - hydro pyrimidinium.

(a2)としては下記のものが挙げられる。
[1]イミダゾリニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン
C8〜15、例えば2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−テトラエチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1−エチル−3−メチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジエチルイミダゾリニウム、1,5,6,7−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]イミダゾリニウム、1,5−ジヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]イミダゾリニウム、1,5,6,7−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]イミダゾリニウム、1,5−ジヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]イミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−4−シアノ−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−3−シアノメチル−1−メチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−4−アセチル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−3−アセチルメチル−1−メチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−4−メチルカルボオキシメチル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−3−メチルカルボオキシメチル−1−メチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−4−メトキシ−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−3−メトキシメチル−1−メチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−4−ホルミル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−3−ホルミルメチル−1−メチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−3−ヒドロキシエチル−1−メチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム;
Examples of (a2) include the following.
[1] Guanidinium cation having imidazolinium skeleton C8-15, such as 2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2 -Diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolinium, 2-diethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolinium 2-diethylamino-1,3,4-tetraethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1,3-dimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3-dimethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1- Ethyl-3-methylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3-diethylimidazole Linium, 1,5,6,7-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] imidazolinium, 1,5-dihydro-1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] Imidazolinium, 1,5,6,7-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1,2a] imidazolinium, 1,5-dihydro-1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1, 2a] imidazolinium, 2-dimethylamino-4-cyano-1,3-dimethylimidazolinium, 2-dimethylamino-3-cyanomethyl-1-methylimidazolinium, 2-dimethylamino-4-acetyl-1 , 3-Dimethylimidazolinium, 2-dimethylamino-3-acetylmethyl-1-methylimidazolinium, 2-dimethylamino-4-methylcarbooxymethyl 1,3-dimethylimidazolinium, 2-dimethylamino-3-methylcarbooxymethyl-1-methylimidazolinium, 2-dimethylamino-4-methoxy-1,3-dimethylimidazolinium, 2-dimethylamino -3-methoxymethyl-1-methylimidazolinium, 2-dimethylamino-4-formyl-1,3-dimethylimidazolinium, 2-dimethylamino-3-formylmethyl-1-methylimidazolinium, 2- Dimethylamino-3-hydroxyethyl-1-methylimidazolinium, 2-dimethylamino-4-hydroxymethyl-1,3-dimethylimidazolinium;

[2]イミダゾリウム骨格を有するグアニジニウムカチオン
C8〜15、例えば2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−テトラエチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1,3−ジメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジエチルイミダゾリウム、1,5,6,7−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]イミダゾリウム、1,5−ジヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]イミダゾリウム、1,5,6,7−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]イミダゾリウム、1,5−ジヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]イミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−4−シアノ−1,3−ジメチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−3−シアノメチル−1−メチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−4−アセチル−1,3−ジメチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−3−アセチルメチル−1−メチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−4−メチルカルボオキシメチル−1,3−ジメチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−3−メチルカルボオキシメチル−1−メチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−4−メトキシ−1,3−ジメチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−3−メトキシメチル−1−メチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−4−ホルミル−1,3−ジメチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−3−ホルミルメチル−1−メチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−3−ヒドロキシエチル−1−メチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジメチルイミダゾリウム;
[2] Guanidinium cation having imidazolium skeleton C8-15, such as 2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino- 1,3-dimethyl-4-ethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolium, 2-diethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolium, 2-diethylamino-1 , 3,4-tetraethylimidazolium, 2-dimethylamino-1,3-dimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3-dimethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-ethyl-3-methylimidazolium, 2 -Diethylamino-1,3-diethylimidazolium, 1,5,6, 7-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] imidazolium, 1,5-dihydro-1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] imidazolium, 1,5,6, 7-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1,2a] imidazolium, 1,5-dihydro-1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1,2a] imidazolium, 2-dimethylamino-4 -Cyano-1,3-dimethylimidazolium, 2-dimethylamino-3-cyanomethyl-1-methylimidazolium, 2-dimethylamino-4-acetyl-1,3-dimethylimidazolinium, 2-dimethylamino-3 -Acetylmethyl-1-methylimidazolium, 2-dimethylamino-4-methylcarbooxymethyl-1,3-dimethylimidazolium, 2 Dimethylamino-3-methylcarbooxymethyl-1-methylimidazolium, 2-dimethylamino-4-methoxy-1,3-dimethylimidazolium, 2-dimethylamino-3-methoxymethyl-1-methylimidazolium, 2 -Dimethylamino-4-formyl-1,3-dimethylimidazolium, 2-dimethylamino-3-formylmethyl-1-methylimidazolium, 2-dimethylamino-3-hydroxyethyl-1-methylimidazolium, 2- Dimethylamino-4-hydroxymethyl-1,3-dimethylimidazolium;

[3]テトラヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン
C10〜20、例えば2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−テトラエチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−1−エチル−3−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジエチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]ピリミジニウム、1,3,4,6−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]ピリミジニウム、1,3,4,6,7,8−ヘキサヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]ピリミジニウム、1,3,4,6−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]ピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−シアノ−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−シアノメチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、、2−ジメチルアミノ−4−アセチル−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−アセチルメチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−メチルカルボオキシメチル−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−メチルカルボオキシメチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−メトキシ−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−メトキシメチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−ホルミル−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−ホルミルメチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−ヒドロキシエチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム;
[3] Guanidinium cation having tetrahydropyrimidinium skeleton C10-20, such as 2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1 , 3,4-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethyl Amino-1-methyl-3,4-diethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1-methyl-3,4-diethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidi Ni, 2-diethylamino-1,3,4-tetraethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-1,3-dimethyl Til-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-1-ethyl-3-methyl -1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-diethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,3,4,6,7,8-hexahydro -1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] pyrimidinium, 1,3,4,6-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] pyrimidinium, 1,3,4,6 , 7,8-Hexahydro-1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1,2a] pyrimidinium, 1,3,4,6-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1,2a] pyrimidi , 2-dimethylamino-4-cyano-1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-cyanomethyl-1-methyl-1,4,5,6 -Tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-acetyl-1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-acetylmethyl-1-methyl-1 , 4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-methylcarbooxymethyl-1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3- Methylcarbooxymethyl-1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-methoxy-1,3-dimethyl-1,4 5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-methoxymethyl-1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-formyl-1,3-dimethyl -1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-formylmethyl-1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-hydroxyethyl -1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-hydroxymethyl-1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium;

[4]ジヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン
C10〜20、例えば2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−テトラエチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−1−エチル−3−メチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジエチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、1,6,7,8−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]ピリミジニウム、1,6−ジヒドロ−1,2−ジメチル−2H−イミド[1,2a]ピリミジニウム、1,6,7,8−テトラヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]ピリミジニウム、1,6−ジヒドロ−1,2−ジメチル−2H−ピリミド[1,2a]ピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−シアノ−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−シアノメチル−1−メチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−アセチル−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−アセチルメチル−1−メチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−メチルカルボオキシメチル−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−メチルカルボオキシメチル−1−メチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−メトキシ−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−メトキシメチル−1−メチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−ホルミル−1,3−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−ホルミルメチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−3−ヒドロキシエチル−1−メチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジメチルアミノ−4−ヒドロキシメチル−1,3−ジメチル−1,4(6)−ジヒドロピリミジニウム。
[4] Guanidinium cation having dihydropyrimidinium skeleton C10-20, such as 2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1, 3,4-trimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-1 -Methyl-3,4-diethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1-methyl-3,4-diethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-diethylamino -1,3,4-tetraethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-1,3-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium 2-diethylamino-1,3-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-1-ethyl-3-methyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, -Diethylamino-1,3-diethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 1,6,7,8-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] pyrimidinium, 1,6 -Dihydro-1,2-dimethyl-2H-imide [1,2a] pyrimidinium, 1,6,7,8-tetrahydro-1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1,2a] pyrimidinium, 1,6-dihydro -1,2-dimethyl-2H-pyrimido [1,2a] pyrimidinium, 2-dimethylamino-4-cyano-1,3-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethyl Ruamino-3-cyanomethyl-1-methyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-acetyl-1,3-dimethyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2 -Dimethylamino-3-acetylmethyl-1-methyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-methylcarbooxymethyl-1,3-dimethyl-1,4 (6)- Dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-methylcarbooxymethyl-1-methyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-methoxy-1,3-dimethyl-1, 4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-methoxymethyl-1-methyl-1,4 (6) -dihydropyrimidinium, 2-dimethylamino- -Formyl-1,3-dimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-3-formylmethyl-1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2 -Dimethylamino-3-hydroxyethyl-1-methyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-dimethylamino-4-hydroxymethyl-1,3-dimethyl-1,4 (6) -dihydro Pyrimidinium.

これらのうち、電導度の観点から好ましいのは(a1)、さらに好ましいのはイミダゾリウムカチオン、特に好ましいのは1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。   Among these, (a1) is preferable from the viewpoint of conductivity, imidazolium cation is more preferable, and 1-ethyl-3-methylimidazolium cation is particularly preferable.

[対アニオン基を有するポリマー(b)]
本発明におけるポリマー(b)は、付加重合物(b1)、重縮合物(b2)および重付加物(b3)からなる群から選ばれるポリマーで、しかも上記オニウムカチオン基(a)の対アニオン基を有するポリマーである。
(b)を構成するアニオン基としては、カルボン酸基、硫酸エステル基、スルホン酸基、リン酸エステル基等の有機酸基が挙げられる。
[Polymer having counter anion group (b)]
The polymer (b) in the present invention is a polymer selected from the group consisting of an addition polymer (b1), a polycondensation product (b2) and a polyaddition product (b3), and the counter anion group of the onium cation group (a). It is a polymer having
Examples of the anionic group constituting (b) include organic acid groups such as carboxylic acid groups, sulfuric acid ester groups, sulfonic acid groups, and phosphoric acid ester groups.

付加重合物(b1)には、エチレン性不飽和基含有モノマー(b01)の(共)重合物で、少なくとも1個の上記アニオン基を有するものが含まれる。
重縮合物(b2)には、多価カルボン酸(b021)と多価アルコール(b022)及び/または多価アミン(b023)からなる重縮合物(ポリエステル、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリエーテルエステル、ポリエーテルエステルアミド等)で、少なくとも1個の上記アニオン基を有するものが含まれる。
重付加物(b3)には、活性水素原子含有多価化合物(b031)とポリイソシアネート(b032)からなるポリウレタンおよび/またはポリウレアで、少なくとも1個の上記アニオン基を有するものが含まれる。
The addition polymer (b1) includes a (co) polymer of the ethylenically unsaturated group-containing monomer (b01) having at least one of the anionic groups.
The polycondensate (b2) includes a polycondensate (polyester, polyamide, polyesteramide, polyetherester, polyester comprising a polycarboxylic acid (b021) and a polyhydric alcohol (b022) and / or a polyamine (b023). Ether ester amide etc.) having at least one of the above anionic groups.
The polyadduct (b3) includes a polyurethane and / or polyurea composed of an active hydrogen atom-containing polyvalent compound (b031) and a polyisocyanate (b032) and having at least one of the above anionic groups.

付加重合物(b1)は、上記アニオン基を有するエチレン性不飽和基含有モノマー(b011)を必須構成成分とし、該アニオン基を含有しない共重合性のエチレン性不飽和基含有モノマー(b012)と共重合させることにより得られる。   The addition polymerized product (b1) has the above-described anionic group-containing ethylenically unsaturated group-containing monomer (b011) as an essential component, and a copolymerizable ethylenically unsaturated group-containing monomer (b012) that does not contain the anionic group. Obtained by copolymerization.

(b011)としては下記のもの、およびこれらの併用系が挙げられる。
(1)カルボン酸基を有するもの
C3〜30、例えば(メタ)アクリル酸、(イソ)クロトン酸、桂皮酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、およびこれらの無水物、並びにイソフタル酸、テレフタル酸、フタル酸(無水物)およびトリメリット酸(無水物)等のポリカルボン酸と水酸基含有(メタ)アクリレートとのエステル化物;
(2)硫酸エステル基を有するもの
C5〜20、例えば水酸基含有(メタ)アクリレートと硫酸とのエステル化物(2−ヒドロキシエチルアクリレートの硫酸エステル、3−ヒドロキシプロピルアクリレートの硫酸エステル等);
(3)スルホン酸基を有するもの
C6〜30、例えば(メタ)アクリロイルメチルベンゼンスルホン酸、(メタ)アクリロイルオキシベンゼンスルホン酸、(メタ)アクリロイルドデシルベンゼンスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等;
(4)リン酸エステル基を有するもの
C6〜30、例えば2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシ−2−および3−ヒドロキシプロピルアシッドホスフェート、(メタ)アクリロイルオキシ−3−クロロ−2−ヒドロキシプロピルアシッドホスフェートおよびアリルアルコールアシッドホスフェート等。
これらの(b011)のうち、電導度の観点から好ましいのは(1)および(3)である。
Examples of (b011) include the following, and combinations thereof.
(1) Having a carboxylic acid group C3-30, such as (meth) acrylic acid, (iso) crotonic acid, cinnamic acid, vinylbenzoic acid, maleic acid, itaconic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, and these And esterified products of polycarboxylic acids such as isophthalic acid, terephthalic acid, phthalic acid (anhydride) and trimellitic acid (anhydride) with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate;
(2) Those having a sulfate ester group C5-20, for example, esterified product of hydroxyl group-containing (meth) acrylate and sulfuric acid (sulfate ester of 2-hydroxyethyl acrylate, sulfate ester of 3-hydroxypropyl acrylate, etc.);
(3) Those having a sulfonic acid group C6-30, such as (meth) acryloylmethylbenzenesulfonic acid, (meth) acryloyloxybenzenesulfonic acid, (meth) acryloyldecylbenzenesulfonic acid, styrenesulfonic acid, 2-acrylamide-2 -Methylpropanesulfonic acid and the like;
(4) Those having a phosphate ester group C6-30, such as 2- (meth) acryloyloxyethyl acid phosphate, (meth) acryloyloxypropyl acid phosphate, (meth) acryloyloxy-2- and 3-hydroxypropyl acid phosphate (Meth) acryloyloxy-3-chloro-2-hydroxypropyl acid phosphate, allyl alcohol acid phosphate, and the like.
Of these (b011), (1) and (3) are preferable from the viewpoint of conductivity.

エチレン性不飽和基含有モノマー(b012)としては下記のものが挙げられる。
(1)不飽和炭化水素
脂肪族炭化水素としては、C2〜30、例えばオレフィン[エチレン、プロピレン、 C4〜30のα−オレフィン(1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、 1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン等)等]、C4〜30のジエン[アルカジエン(ブタジエン、イソプレン、1,4−ペンタジエン、1,6−ヘキサジエ ンおよび1,7−オクタジエン等)等];芳香環含有炭化水素としては、C8〜30、例えばスチレンおよびその誘導体[o−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン、ベンジルスチレン、ビニルトルエン、ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)等];脂環含有炭化水素としては、C4〜30、例えば(ジ)シクロアルケン、例えばシクロヘキセン、(ジ)シクロペンタジエン、ピネン、リモネン、インデン、ビニルシクロヘキセンおよびエチリデンビシクロヘプテン;
Examples of the ethylenically unsaturated group-containing monomer (b012) include the following.
(1) Unsaturated hydrocarbon As the aliphatic hydrocarbon, C2-30, for example, olefin [ethylene, propylene, C4-30 α-olefin (1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1 -Octene, 1-decene, 1-dodecene, etc.)], C4-30 dienes [alkadienes (butadiene, isoprene, 1,4-pentadiene, 1,6-hexadiene, 1,7-octadiene, etc.), etc.]; Examples of the aromatic ring-containing hydrocarbon include C8-30, such as styrene and derivatives thereof [o-, m- and p-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, benzylstyrene, vinyltoluene, divinylbenzene, vinylnaphthalene]. ), Α-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, etc.) and halogenated styrene (chloro Styrene, etc.), etc.]; the alicyclic ring-containing hydrocarbon, C4~30, for example (di) cycloalkenes, for example cyclohexene, (di) cyclopentadiene, pinene, limonene, indene, vinylcyclohexene and ethylidenebicycloheptene;

(2)(メタ)アクリロイル基含有モノマー
C3〜30、例えば(メタ)アクリル酸の誘導体〔アルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ レート、ブチル(メタ)アクリレート等]、モノ−およびジアルキル(C1〜4)アミノアルキル(C2〜4)(メタ)アクリレート[メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等]、(メタ)アクリルアミド等〕;
(2) (meth) acryloyl group-containing monomer C3-30, for example, (meth) acrylic acid derivatives [alkyl (C1-20) (meth) acrylate [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) ) Acrylate, etc.], mono- and dialkyl (C1-4) aminoalkyl (C2-4) (meth) acrylate [methylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, etc.], (meth) acrylamide, etc.] ;

(3)不飽和アルコールのカルボン酸エステル
不飽和アルコール[C2〜6、例えばビニルアルコール 、(メタ)アリルアルコール]のカルボン酸(C2〜4、例えば酢酸、プロピオン酸)エステル(酢酸ビニル等);
(4)不飽和アルコールのアルキルエーテル
上記不飽和アルコールのアルキル(C1〜20)エーテル(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等);
(5)ハロゲン含有ビニルモノマー
C2〜12、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデンおよびクロロプレン;
(6)その他のビニルモノマー
(メタ)アクリロニトリル等。
これらの(b012)のうち、導電性の観点から好ましいのは(メタ)アクリロイル基含有モノマー、不飽和アルコールのアルキルエーテルおよび(メタ)アクリロニトリルである。
(3) Carboxylic acid ester of unsaturated alcohol Carboxylic acid (C2-4, such as acetic acid, propionic acid) ester (vinyl acetate, etc.) of unsaturated alcohol [C2-6, such as vinyl alcohol, (meth) allyl alcohol];
(4) alkyl ether of unsaturated alcohol alkyl (C1-20) ether of the above unsaturated alcohol (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, etc.);
(5) halogen-containing vinyl monomers C2-12, such as vinyl chloride, vinylidene chloride and chloroprene;
(6) Other vinyl monomers (meth) acrylonitrile and the like.
Among these (b012), preferred from the viewpoint of conductivity are a (meth) acryloyl group-containing monomer, an alkyl ether of an unsaturated alcohol, and (meth) acrylonitrile.

(b011)と(b012)の共重合比(重量比)は、導電性および耐水性の観点から好ましくは50/50〜100/0、さらに好ましくは70/30〜100/0である。   The copolymerization ratio (weight ratio) of (b011) and (b012) is preferably 50/50 to 100/0, more preferably 70/30 to 100/0, from the viewpoint of conductivity and water resistance.

重縮合物(b2)には、多価カルボン酸(b021)と、多価アルコール(b022)および/または多価アミン(b023)から形成される重縮合物(ポリエステル、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリエーテルエステル、ポリエーテルエステルアミド等)で、少なくとも1個の上記アニオン基を有するものが含まれる。   The polycondensate (b2) includes a polycondensate (polyester, polyamide, polyesteramide, polyether formed from a polyvalent carboxylic acid (b021) and a polyhydric alcohol (b022) and / or a polyvalent amine (b023). Ester, polyether ester amide, etc.) having at least one anionic group.

重縮合物(b2)を構成する多価カルボン酸(b021)としては、下記の2価〜4価またはそれ以上の多価カルボン酸、これらの酸の無水物、アルキル(C1〜3)エステル、スルホ基含有多価カルボン酸、硫酸基含有多価カルボン酸、スルファミン酸基含有多価カルボン酸、リン酸基含有多価カルボン酸、ホスホン酸基含有多価カルボン酸等が挙げられる。
2価のカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸(C2〜20、例えばシュウ酸、フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸、マロン酸、ドデセニルコハク酸、オクチルコハク酸);芳香環含有ジカルボン酸(C8〜15、例えばフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸);脂環含有ジカルボン酸(C7〜10、例えばシクロヘキサンジカルボン酸);スルホ基含有ジカルボン酸[C8〜15、例えばスルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸、5−スルホイソフタル酸ジメチル、4−スルホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7ジカルボン酸、5(4−スルホフェノキシ)イソフタル酸];
The polyvalent carboxylic acid (b021) constituting the polycondensate (b2) includes the following divalent to tetravalent or higher polyvalent carboxylic acids, anhydrides of these acids, alkyl (C1-3) esters, Examples include sulfo group-containing polyvalent carboxylic acids, sulfate group-containing polyvalent carboxylic acids, sulfamic acid group-containing polyvalent carboxylic acids, phosphoric acid group-containing polyvalent carboxylic acids, and phosphonic acid group-containing polyvalent carboxylic acids.
Divalent carboxylic acids include aliphatic dicarboxylic acids (C2-20, such as oxalic acid, fumaric acid, maleic acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, malonic acid. , Dodecenyl succinic acid, octyl succinic acid); aromatic ring-containing dicarboxylic acid (C8-15, such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid); alicyclic dicarboxylic acid (C7-10, such as cyclohexanedicarboxylic acid); sulfo group-containing dicarboxylic acid Acid [C8-15, such as sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, dimethyl 5-sulfoisophthalate, 4-sulfophthalic acid, 4-sulfonaphthalene-2,7dicarboxylic acid, 5 (4-sulfophenoxy) isophthalic acid] ;

3価のカルボン酸としては、C6〜20、例えば1,2,4−ベンゼントリカルボン酸(トリメリット酸)、2,5,7−ナフタレントリカルボン酸、1,2,4−ナフタレントリカルボン酸、1,2,4−ブタントリカルボン酸、1,2,5−ヘキサントリカルボン酸、1,3−ジカルボキシル−2−メチル−2−メチレンカルボキシプロパン、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸;
4価またはそれ以上のカルボン酸としては、C9〜20、例えばテトラ(メチレンカルボキシル)メタン、1,2,7,8−オクタンテトラカルボン酸、ピロメリット酸、エンポール三量体酸、およびこれらの酸無水物、アルキル(C1〜3)エステル。
Examples of the trivalent carboxylic acid include C6-20, such as 1,2,4-benzenetricarboxylic acid (trimellitic acid), 2,5,7-naphthalenetricarboxylic acid, 1,2,4-naphthalenetricarboxylic acid, 2,4-butanetricarboxylic acid, 1,2,5-hexanetricarboxylic acid, 1,3-dicarboxyl-2-methyl-2-methylenecarboxypropane, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid;
Tetravalent or higher carboxylic acids include C9-20, such as tetra (methylenecarboxyl) methane, 1,2,7,8-octanetetracarboxylic acid, pyromellitic acid, empole trimer acid, and these acids. Anhydride, alkyl (C1-3) ester.

これらの(b021)のうち、導電性の観点から好ましいのはスルホ基含有ジカルボン酸、さらに好ましいのはスルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸、5−スルホイソフタル酸ジメチル、および4−スルホフタル酸である。   Of these (b021), from the viewpoint of conductivity, preferred are sulfo group-containing dicarboxylic acids, and more preferred are sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, dimethyl 5-sulfoisophthalate, and 4-sulfophthalic acid. .

多価アルコール(b022)としては2個以上のOH基を有し、OH当量(OH価に基づく、OH当たりの分子量)が250未満の低分子ポリオールおよびOH当量が250以上の高分子ポリオール、スルホ基含有ポリオールおよびこれらの混合物が挙げられる。   As the polyhydric alcohol (b022), a low molecular polyol having two or more OH groups, an OH equivalent (molecular weight per OH based on OH value) of less than 250, a high molecular polyol having an OH equivalent of 250 or more, sulfo Examples include group-containing polyols and mixtures thereof.

低分子多価アルコールとしては、2価アルコール(C2〜20またはそれ以上)、例えば脂肪族2価アルコール〔C2〜12、例えば(ジ)アルキレングリコール[エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,2−、2,3−、1,3−および1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールおよび3−メチルペンタンジオール(以下それぞれEG、DEG、PG、DPG、BD、HD、NPGおよびMPDと略記)、ドデカンジオール等]等〕、脂環含有2価アルコール[C5〜10、例えば1,3−シクロペンタンジオール、1,3−および1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール等]、芳香脂肪族2価アルコール[C8〜20、例えばキシリレングリコール、ビス(ヒドロキシエチル)ベンゼン等];
3価〜8価もしくはそれ以上の多価アルコール、例えば(シクロ)アルカンポリオールおよびそれらの分子内もしくは分子間脱水物[グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールおよびジペンタエリスリトール(以下それぞれGR、TMP、PE、SOおよびDPEと略記)、1,2 ,6−ヘキサントリオール、エリスリトール、シクロヘキサントリオール、マンニトール、キシリトール、ソルビタン、ジグリセリンその他のポリグリセリン等]、糖類およびその誘導体[ショ糖、グルコース、フラクトース、マンノース、ラクトース、グルコシド(メチルグルコシド等)等]等;
並びに、後述するポリエーテルポリオール、ポリテトラメチレングリコール(以下PTMGと略記)、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトン、ポリカーボネート、ポリブタジエン、水添ポリブタジエン、ポリイソプレンポリオールおよび水添ポリイソプレンポリオールのうち、OH当量が250未満のものが挙げられる。
As the low molecular weight polyhydric alcohol, dihydric alcohol (C2-20 or more), for example, aliphatic dihydric alcohol [C2-12, such as (di) alkylene glycol [ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,2-, 2,3-, 1,3- and 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol and 3-methylpentanediol (hereinafter EG, DEG, PG, DPG, BD, respectively) , HD, NPG and MPD), dodecanediol etc.]], alicyclic dihydric alcohol [C5-10, such as 1,3-cyclopentanediol, 1,3- and 1,4-cyclohexanediol, 1 , 4-cyclohexanedimethanol, etc.], aromatic aliphatic dihydric alcohols C8~20, for example, xylylene glycol, bis (hydroxyethyl) benzene];
Trihydric to octahydric or higher polyhydric alcohols such as (cyclo) alkane polyols and their intramolecular or intermolecular dehydrates [glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol and dipentaerythritol (hereinafter referred to as GR, TMP respectively) , PE, SO and DPE), 1,2,6-hexanetriol, erythritol, cyclohexanetriol, mannitol, xylitol, sorbitan, diglycerin and other polyglycerins, etc.], sugars and derivatives thereof [sucrose, glucose, fructose Mannose, lactose, glucoside (methyl glucoside, etc.) etc.], etc .;
In addition, among the polyether polyol, polytetramethylene glycol (hereinafter abbreviated as PTMG), polyester polyol, polycaprolactone, polycarbonate, polybutadiene, hydrogenated polybutadiene, polyisoprene polyol and hydrogenated polyisoprene polyol described later, the OH equivalent is less than 250. Can be mentioned.

高分子ポリオールには、ポリエーテルポリオール{上記2価アルコール、または3価〜8価もしくはそれ以上の多価アルコールのアルキレンオキシド(以下AOと略記)[C2〜4、例えばエチレンオキシド(以下、EOと略記)、プロピレンオキシド(以下POと略記)、1,2−および2,3−ブチレンオキシド、テトラヒドロフラン(以下、THFと略記)。以下同じ。]付加物〔数平均分子量[以下Mnと略記。測定はゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)による。]500〜20,000〕、例えばポリエチレングリコール(以下PEGと略記)(Mn500〜10,000)例えばポリプロピレングリコール(以下PPGと略記)(Mn500〜10,000)、ポリテトラメチレングリコール(以下PTMGと略記)(Mn500〜10,000)等]、ポリエステルポリオール(Mn500〜20,000)、Mn500〜10,000の、ポリカプロラクトン、ポリカーボネート、ポリブタジエン、水添ポリブタジエン、ポリイソプレンポリオールおよび水添ポリイソプレンポリオール等が含まれる。   The polymer polyol includes a polyether polyol {an alkylene oxide of the above dihydric alcohol or a trihydric to octahydric or higher polyhydric alcohol (hereinafter abbreviated as AO) [C2-4, such as ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO). ), Propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO), 1,2- and 2,3-butylene oxide, tetrahydrofuran (hereinafter abbreviated as THF). same as below. ] Adduct [Number average molecular weight [hereinafter abbreviated as Mn. The measurement is performed by gel permeation chromatography (GPC). 500-20,000], for example, polyethylene glycol (hereinafter abbreviated as PEG) (Mn 500-10,000), for example, polypropylene glycol (hereinafter abbreviated as PPG) (Mn 500-10,000), polytetramethylene glycol (hereinafter abbreviated as PTMG). ) (Mn 500 to 10,000) etc.], polyester polyol (Mn 500 to 20,000), Mn 500 to 10,000, such as polycaprolactone, polycarbonate, polybutadiene, hydrogenated polybutadiene, polyisoprene polyol and hydrogenated polyisoprene polyol. included.

スルホ基含有ポリオールとしては、前記スルホ基含有ジカルボン酸のAO2〜10モル付加物[5−スルホ−オルト−、イソ−およびテレフタル酸のEO2モル付加物等]が挙げられる。   Examples of the sulfo group-containing polyol include AO2 to 10 mol adducts of the sulfo group-containing dicarboxylic acid [5-sulfo-ortho-, iso- and EO2 mol adducts of terephthalic acid and the like].

多価アミン(b023)としては、C2〜20のジアミン、例えば脂肪族[エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、エイコサンジアミン等]、芳香(脂肪)族[フェニレンジアミン、ナフチレンジアミン、キシリレンジアミン等]および脂環式[シクロヘキサンジアミン等]等が挙げられる。   Examples of the polyvalent amine (b023) include C2-20 diamines such as aliphatic [ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, decamethylenediamine, eicosanediamine, etc.], aromatic (aliphatic) [phenylene Diamine, naphthylenediamine, xylylenediamine, etc.] and alicyclic [cyclohexanediamine, etc.].

ポリエステル化反応において、COOH基とOH基の当量比(COOH/OH)は、後述するポリマー型イオン性液体の電導度および成形品の透明性の観点から好ましくは1.2/1〜2/1、さらに好ましくは1.5/1〜2/1である。
ポリアミド化反応において、COOH基とNH2基の当量比(COOH/NH2)は、上記と同様の観点から好ましくは1.2/1〜2/1、さらに好ましくは1.5/1〜2/1である。
ポリエステルアミド化反応において、COOH基、OH基およびNH2基の当量比(COOH/OH/NH2)は、上記と同様の観点から好ましくは1.2/0.5/0.5〜2/0.5/0.5、さらに好ましくは1.5/0.5/0.5〜2.0/0.5/0.5である。
ポリエーテルエステル化反応において、COOH基とOH基の当量比(COOH/OH)は、上記と同様の観点から好ましくは1.1/1〜2/1、さらに好ましくは1.5/1〜1.9/1である。
ポリエーテルエステルアミド化反応において、COOH基、OH基およびNH2基の当量比(COOH/OH/NH2)は、上記と同様の観点から好ましくは1.2/0.5/0.5〜2/0.5/0.5、さらに好ましくは1.5/0.5/0.5〜2/0.5/0.5である。
In the polyesterification reaction, the equivalent ratio of COOH group to OH group (COOH / OH) is preferably 1.2 / 1 to 2/1 from the viewpoint of the conductivity of the polymer type ionic liquid described later and the transparency of the molded product. More preferably, it is 1.5 / 1 to 2/1.
In the polyamidation reaction, the equivalent ratio of COOH groups to NH 2 groups (COOH / NH 2 ) is preferably 1.2 / 1 to 2/1, more preferably 1.5 / 1 to 2 from the same viewpoint as described above. / 1.
In the polyester amidation reaction, the equivalent ratio of COOH group, OH group and NH 2 group (COOH / OH / NH 2 ) is preferably 1.2 / 0.5 / 0.5 to 2 / from the same viewpoint as above. 0.5 / 0.5, more preferably 1.5 / 0.5 / 0.5 to 2.0 / 0.5 / 0.5.
In the polyether esterification reaction, the equivalent ratio of COOH group to OH group (COOH / OH) is preferably 1.1 / 1 to 2/1, more preferably 1.5 / 1 to 1, from the same viewpoint as described above. .9 / 1.
In the polyether ester amidation reaction, the equivalent ratio of COOH group, OH group and NH 2 group (COOH / OH / NH 2 ) is preferably 1.2 / 0.5 / 0.5 to 0.5 from the same viewpoint as above. It is 2 / 0.5 / 0.5, more preferably 1.5 / 0.5 / 0.5 to 2 / 0.5 / 0.5.

重付加物(b3)には、活性水素原子含有多価化合物(b031)とポリイソシアネート(b032)とのウレタン化および/またはウレア化反応で形成されるポリウレタンおよび/またはポリウレアに多価カルボン酸(b021)を反応させたもの、および(b031)のうちの前記スルホ基含有ポリオールを必須成分とする活性水素原子含有多価化合物とポリイソシアネート(b032)とのウレタン化および/またはウレア化反応で形成されるポリウレタンおよび/またはポリウレアが含まれる。
これらのうち、導電性の観点から好ましいのはスルホ基含有ポリオールを必須成分とする活性水素原子含有多価化合物とポリイソシアネート(b032)とのウレタン化および/またはウレア化反応で形成されるポリウレタンおよび/またはポリウレアである。
該(b031)としては、前記の多価アルコール(b022)および/または多価アミン(b023)が使用できる。
The polyadduct (b3) includes a polyhydric carboxylic acid (polyurethane and / or polyurea formed by urethanization and / or urea formation reaction of the active hydrogen atom-containing polyvalent compound (b031) and the polyisocyanate (b032). Formed by urethanization and / or urea formation reaction of polyisocyanate (b032) with an active hydrogen atom-containing polyvalent compound having the sulfo group-containing polyol as an essential component of (b031) and a reaction product of b021) Polyurethane and / or polyurea.
Among these, from the viewpoint of electrical conductivity, preferred are polyurethanes formed by urethanization and / or ureaization reaction of polyisocyanate (b032) with an active hydrogen atom-containing polyvalent compound having a sulfo group-containing polyol as an essential component, and / Or polyurea.
As the (b031), the polyhydric alcohol (b022) and / or the polyvalent amine (b023) can be used.

該ウレタン化および/またはウレア化反応において、NCO基とOH基および/またはNR0H(R0はHまたはC1〜3のアルキル基)基の当量比[NCO/(OH+NR0H)]は、特に限定されないが、後述する成形品の靭性および(b3)の経時安定性の観点から好ましくは0.3/1〜0.6/1、さらに好ましくは0.4/1〜0.5/1である。
また、上記重付加物に前記カルボン酸末端重縮合物(b2)をエステル化またはアミド化により付加させてもよい。
In the urethanization and / or urea formation reaction, the equivalent ratio [NCO / (OH + NR 0 H)] of the NCO group, the OH group, and / or the NR 0 H (R 0 is H or C 1-3 alkyl group) group is: Although not particularly limited, it is preferably 0.3 / 1 to 0.6 / 1, more preferably 0.4 / 1 to 0.5 / 1, from the viewpoint of the toughness of the molded product described later and the temporal stability of (b3). It is.
The carboxylic acid-terminated polycondensate (b2) may be added to the polyaddition product by esterification or amidation.

前記ポリイソシアネート(b032)(以下においてPIと略記することがある。)としては、例えば下記のもの、およびこれらの2種以上の混合物が含まれる。
(1)C(NCO基中のCを除く、以下同じ)6〜20の芳香族PI
ジイソシアネート(以下、DIと略記)、例えば1,3−および/または1,4−フェ ニレンDI、2,4−および/または2,6−トリレンDI(TDI)、4, 4’−および/または2,4’−ジフェニルメタンDI(MDI)、m−およびp−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニ ル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、1,5−ナフチレンDI、およびm−およびp−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート;および3官能以上のPI(トリイソシアネート等)、例えば粗製TDI、粗製MDI(ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート)および4,4’,4”−トリフェニルメタントリイソシアネート
Examples of the polyisocyanate (b032) (hereinafter sometimes abbreviated as PI) include the following, and mixtures of two or more thereof.
(1) C (excluding C in the NCO group, the same shall apply hereinafter) 6 to 20 aromatic PI
Diisocyanates (hereinafter abbreviated as DI), such as 1,3- and / or 1,4-phenylene DI, 2,4- and / or 2,6-tolylene DI (TDI), 4, 4′- and / or 2,4′-diphenylmethane DI (MDI), m- and p-isocyanatophenylsulfonyl isocyanate, 4,4′-diisocyanatobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diisocyanatobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diisocyanatodiphenylmethane, 1,5-naphthylene DI, and m- and p-isocyanatophenylsulfonyl isocyanate; and trifunctional or higher functional PI (such as triisocyanate), such as crude TDI, crude MDI (polymethylene polyphenyl polyisocyanate) and 4,4 ′, 4 ″ -triphenyl meta Triisocyanate

(2)C2〜18の脂肪族PI
DI、例えばエチレンDI、テトラメチレンDI、ヘキサメチレンDI(HDI)、ヘプタメチレンDI、オクタメチレンDI、ノナメチレンDI、デカメチレンDI、ドデカメチレンDI、2,2,4−および/または2,4,4 −トリメチルヘキサメチレンDI、リジンDI、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、2,6−ジイソシアナトエチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネートおよびトリメチルヘキサメチレンジイソシアネート(TMDI);および3官能以上のPI(トリイソシアネート等)、例えば1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネートおよびリジンエステルトリイソシアネート(リジンとアルカノールアミンの反応生成物のホスゲン化物、例えば2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエート、2−および/または3−イソシアナトプロピル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエート)
(2) C2-18 aliphatic PI
DI, such as ethylene DI, tetramethylene DI, hexamethylene DI (HDI), heptamethylene DI, octamethylene DI, nonamethylene DI, decamethylene DI, dodecamethylene DI, 2,2,4- and / or 2,4,4- Trimethylhexamethylene DI, lysine DI, 2,6-diisocyanatomethylcaproate, 2,6-diisocyanatoethylcaproate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate and Trimethylhexamethylene diisocyanate (TMDI); and trifunctional or higher functional PI (such as triisocyanate), such as 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexa Methyleneto Reisocyanates and lysine ester triisocyanates (phosgenates of reaction products of lysine and alkanolamines, such as 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate, 2- and / or 3-isocyanatopropyl-2 , 6-Diisocyanatohexanoate)

(3)C4〜45の脂環含有PI
DI、例えばイソホロンDI(IPDI)、2,4−および/または2,6−メチルシクロヘキサンDI(水添TDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−DI(水添MDI)、シクロヘキシレンDI、メチルシクロヘキシレンDI、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキシレン−1,2−ジカルボキシレートおよび2,5−および/または2,6−ノルボルナンDI、ダイマー酸DI(DDI);および3官能以上のPI(トリイソシアネート等)、例えばビシクロヘプタントリイソシアネート
(4)C8〜15の芳香脂肪族PI
m−および/またはp−キシリレンDI(XDI)、ジエチルベンゼンDIおよびα,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンDI(TMXDI)
(5)上記(1)〜(4)のヌレート化物
これらの(b032)のうち耐光性の観点から好ましいのは(2)、(3)、および(5)のうちの脂肪族および脂環含有PIのヌレート化物である。
(3) C4-45 alicyclic PI
DI, for example isophorone DI (IPDI), 2,4- and / or 2,6-methylcyclohexane DI (hydrogenated TDI), dicyclohexylmethane-4,4′-DI (hydrogenated MDI), cyclohexylene DI, methylcyclohexyl Silene DI, bis (2-isocyanatoethyl) -4-cyclohexylene-1,2-dicarboxylate and 2,5- and / or 2,6-norbornane DI, dimer acid DI (DDI); PI (triisocyanate etc.), for example, bicycloheptane triisocyanate (4) C8-15 araliphatic PI
m- and / or p-xylylene DI (XDI), diethylbenzene DI and α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene DI (TMXDI)
(5) Nurateated products of the above (1) to (4) Among these (b032), preferred from the viewpoint of light resistance are the aliphatic and alicyclic groups of (2), (3), and (5) It is a nurateated product of PI.

ポリウレタンおよび/またはポリウレアと多価カルボン酸(b021)との反応において、カルボキシル基とOH基および/またはNR0H基の当量比(COOH/(OH+NR0H)]は、特に限定されないが、後述するポリマー型イオン液体の電導度および成形品の靱性の観点から好ましくは1.2/1〜2/1、さらに好ましくは1.5/1〜2/1である。 In the reaction of the polyurethane and / or polyurea with the polyvalent carboxylic acid (b021), the equivalent ratio (COOH / (OH + NR 0 H)) of the carboxyl group, the OH group, and / or the NR 0 H group is not particularly limited. From the viewpoint of the electric conductivity of the polymer type ionic liquid and the toughness of the molded product, it is preferably 1.2 / 1 to 2/1, more preferably 1.5 / 1 to 2/1.

〔ブロックポリマー(B)〕
本発明におけるブロックポリマー(B)は、ポリエーテルブロック構造を分子中に10〜90重量%含有するものであり、(B)にはポリエーテルエステル、ポリエーテルアミドおよびポリエーテルエステルアミドからなる群から選ばれる1種以上のブロックポリマー(B1)、およびポリオレフィンのブロックと1×104〜1×1011Ω・cmの体積固有抵抗値を有する親水性ポリマーのブロックとが、繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー(B2)が含まれる。
[Block polymer (B)]
The block polymer (B) in the present invention contains a polyether block structure in the molecule in an amount of 10 to 90% by weight. One or more selected block polymers (B1), and a structure in which a polyolefin block and a hydrophilic polymer block having a volume resistivity of 1 × 10 4 to 1 × 10 11 Ω · cm are alternately and alternately bonded. The block polymer (B2) having

[ブロックポリマー(B1)]
ブロックポリマー(B1)としては、特開平14−146212号公報記載のポリエーテルエステル、ポリエーテルアミドおよびポリエーテルエステルアミドが挙げられる。
(B1)の結合構造および製造方法の具体例等は上記公報に記載のとおりである。以下(B1)について説明する。
[Block polymer (B1)]
Examples of the block polymer (B1) include polyether esters, polyether amides and polyether ester amides described in JP-A No. 14-146212.
Specific examples of the bonding structure (B1) and the production method are as described in the above publication. Hereinafter, (B1) will be described.

(B1)は、(ポリ)オキシアルキレン基を有する、ジオール(b11)および/またはジアミン(b12)と、1分子中に少なくとも2個のカルボキシル基を有する縮重合体(b13)から形成される。
(b11)としては、2個の活性水素原子を含有する化合物のアルキレンオキシド(以下、AOと略記)付加物が挙げられる。
2個の活性水素原子を含有する化合物としては、グリコール(b111)、2価フェノ―ル(b112)、アミン(b113)およびジカルボン酸(b114)等が挙げられる。
(B1) is formed from a diol (b11) and / or diamine (b12) having a (poly) oxyalkylene group and a condensation polymer (b13) having at least two carboxyl groups in one molecule.
(B11) includes an alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) adduct of a compound containing two active hydrogen atoms.
Examples of the compound containing two active hydrogen atoms include glycol (b111), divalent phenol (b112), amine (b113) and dicarboxylic acid (b114).

(b111)としては、C2〜20の脂肪族グリコール、C5〜12の脂環式グリコール、C8〜30の芳香脂肪族グリコールおよびC5〜10のアルカノールアミン等が挙げられる。
脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,2−、1,3−および1,4−ブタンジオール、1,3−、1,4−、1,6−および2,5−ヘキサンジオール、1,2−および1,8−オクタンジオール、1,10−デカンジオール、1,18−オクタデカンジオール、1,20−エイコサンジオール等が挙げられる。
Examples of (b111) include C2-20 aliphatic glycol, C5-12 alicyclic glycol, C8-30 araliphatic glycol, and C5-10 alkanolamine.
Aliphatic glycols include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,2-, 1,3- and 1,4-butanediol, 1,3-, 1,4-, 1,6- and 2, Examples include 5-hexanediol, 1,2- and 1,8-octanediol, 1,10-decanediol, 1,18-octadecanediol, 1,20-eicosanediol, and the like.

脂環式グリコールとしては、1−ヒドロキシメチル−1−シクロブタノール、1,2−、1,3−および1,4−シクロヘキサンジオール、1−メチル−3,4−シクロヘキサンジオール、2−および4−ヒドロキシメチルシクロヘキサノール、1,4−シクロヘキサンジメタノールおよび1,1’−ジヒドロキシ−1,1’−ジシクロヘキシル等が挙げられる。
芳香脂肪族グリコールとしては、例えば、ジヒドロキシメチルベンゼン、2−フェニル−1,3−プロパンジオール、2−フェニル−1,4−ブタンジオール、2−ベンジル−1,3−プロパンジオール、トリフェニルエチレングリコール、テトラフェニルエチレングリコールおよびベンゾピナコール等が挙げられる。
アルカノールアミンとしては、N−メチルジエタノールアミン、N−メチルジプロパノールアミン、N−オクチルジエタノ―ルアミンおよびN−ステアリルジエタノ―ルアミン等が挙げられる。
Alicyclic glycols include 1-hydroxymethyl-1-cyclobutanol, 1,2-, 1,3- and 1,4-cyclohexanediol, 1-methyl-3,4-cyclohexanediol, 2- and 4- Examples thereof include hydroxymethylcyclohexanol, 1,4-cyclohexanedimethanol and 1,1′-dihydroxy-1,1′-dicyclohexyl.
Examples of the araliphatic glycol include dihydroxymethylbenzene, 2-phenyl-1,3-propanediol, 2-phenyl-1,4-butanediol, 2-benzyl-1,3-propanediol, and triphenylethylene glycol. , Tetraphenylethylene glycol, benzopinacol and the like.
Examples of the alkanolamine include N-methyldiethanolamine, N-methyldipropanolamine, N-octyldiethanolamine and N-stearyldiethanolamine.

2価フェノ―ル(b112)としては、C6〜30のフェノール、例えば単環フェノール(カテコール、レゾルシノール、ハイドロキノン等)、多環フェノール(ジヒドロキシジフェニルエーテル、ジヒドロキシジフェニルチオエーテル、ビナフトール等)、ビスフェノール化合物(ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS等)およびこれらのアルキル(C1〜10)またはハロゲン置換体等が挙げられる。   Examples of the divalent phenol (b112) include C6-30 phenols such as monocyclic phenols (catechol, resorcinol, hydroquinone, etc.), polycyclic phenols (dihydroxydiphenyl ether, dihydroxydiphenylthioether, binaphthol, etc.), bisphenol compounds (bisphenol A). , Bisphenol F, bisphenol S, etc.) and their alkyl (C1-10) or halogen-substituted products.

アミン(b113)としては、C1〜20の脂肪族1級モノアミン、C4〜18の脂肪族2級ジアミン、4〜13の複素環式1級モノアミンおよび2級ジアミン、6〜14の脂環式2級ジアミン、8〜14の芳香(脂肪)族2級ジアミンおよびC3〜22の2級アルカノ―ルアミン等が挙げられる。
脂肪族1級モノアミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、n−およびi−プロピルアミン、n−、sec−およびi−ブチルアミン、メチル−n−プロピルアミン、n−およびi−アミルアミン、メチル−n−ブチルアミン、エチル−n−プロピルアミン、n−ヘキシルアミン、エチル−n−ブチルアミン、ジメチル−n−ブチルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、n−デシルアミン、n−オクタデシルアミンおよびn−イコシルアミン等が挙げられる。
As amine (b113), C1-20 aliphatic primary monoamine, C4-18 aliphatic secondary diamine, 4-13 heterocyclic primary monoamine and secondary diamine, 6-14 alicyclic 2 And secondary alkanolamines having 8 to 14 aromatic (aliphatic) secondary diamines and C3 to 22 secondary alkanolamines.
Aliphatic primary monoamines include methylamine, ethylamine, n- and i-propylamine, n-, sec- and i-butylamine, methyl-n-propylamine, n- and i-amylamine, methyl-n-butylamine , Ethyl-n-propylamine, n-hexylamine, ethyl-n-butylamine, dimethyl-n-butylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-decylamine, n-octadecylamine and n-icosylamine It is done.

脂肪族2級ジアミンとしては、N,N’−ジメチルエチレンジアミン、N,N’−ジエチルエチレンジアミン、N,N’−ジブチルエチレンジアミン、、N,N’−ジメチルプロピレンジアミン、N,N’−ジエチルプロピレンジアミン、N,N’−ジブチルプロピレンジアミン、N,N’−ジメチルテトラメチレンジアミン、N,N’−ジエチルテトラメチレンジアミン、N,N’−ジブチルテトラメチレンジアミン、N,N’−ジメチルヘキサメチレンジアミン、N,N’−ジエチルヘキサメチレンジアミン、N,N’−ジブチルヘキサメチレンジアミン、N,N’−ジメチルデカメチレンジアミン、N,N’−ジエチルデカメチレンジアミンおよびN,N’−ジブチルデカメチレンジアミン等が挙げられる。   Examples of the aliphatic secondary diamine include N, N′-dimethylethylenediamine, N, N′-diethylethylenediamine, N, N′-dibutylethylenediamine, N, N′-dimethylpropylenediamine, and N, N′-diethylpropylenediamine. N, N′-dibutylpropylenediamine, N, N′-dimethyltetramethylenediamine, N, N′-diethyltetramethylenediamine, N, N′-dibutyltetramethylenediamine, N, N′-dimethylhexamethylenediamine, N, N′-diethylhexamethylenediamine, N, N′-dibutylhexamethylenediamine, N, N′-dimethyldecamethylenediamine, N, N′-diethyldecamethylenediamine, N, N′-dibutyldecamethylenediamine, etc. Is mentioned.

複素環式1級アミンまたは2級ジアミンとしては、ピペラジン、1−アミノピペリジン、、1−アミノホモピペリジン、2−アミノチアゾール、2−アミノベンゾチアゾール、3−アミノトリアジン、3−アミノ−9−メチルカルバゾール、9−アミノフルオレンおよびこれらのアルキル(C1〜10)またはハロゲン置換体等が挙げられる。   Examples of the heterocyclic primary amine or secondary diamine include piperazine, 1-aminopiperidine, 1-aminohomopiperidine, 2-aminothiazole, 2-aminobenzothiazole, 3-aminotriazine, and 3-amino-9-methyl. Examples thereof include carbazole, 9-aminofluorene, and their alkyl (C1-10) or halogen-substituted products.

脂環式2級ジアミンとしては、N,N’−ジメチル−、ジエチル−およびジブチル−1,2−シクロブタンジアミン、N,N’−ジメチル−、ジエチル−およびジブチル−1,4−シクロヘキサンジアミン、N,N’−ジメチル、ジエチル−およびジブチル−1,3−シクロヘキサンジアミンおよびこれらのアルキル(C1〜10)またはハロゲン置換体等が挙げられる。   Examples of the alicyclic secondary diamine include N, N′-dimethyl-, diethyl- and dibutyl-1,2-cyclobutanediamine, N, N′-dimethyl-, diethyl- and dibutyl-1,4-cyclohexanediamine, N , N′-dimethyl, diethyl- and dibutyl-1,3-cyclohexanediamine and their alkyl (C1-10) or halogen-substituted products.

芳香(脂肪)族ジアミンとしては、N,N’−ジメチル−フェニレンジアミン、N,N’−ジメチル−キシリレンジアミン、N,N’−ジメチル−ジフェニルメタンジアミン、N,N’−ジメチル−ジフェニルエ−テルジアミン、N,N’−ジメチル−ベンジジンおよびN,N’−ジメチル−1,4−ナフタレンジアミン等が挙げられる。   Examples of aromatic (aliphatic) diamines include N, N′-dimethyl-phenylenediamine, N, N′-dimethyl-xylylenediamine, N, N′-dimethyl-diphenylmethanediamine, and N, N′-dimethyl-diphenylamine. Terdiamine, N, N′-dimethyl-benzidine, N, N′-dimethyl-1,4-naphthalenediamine and the like can be mentioned.

2級アルカノ―ルアミンとしては、N−メチルモノエタノ―ルアミン、N−メチルモノプロパノールアミン、N−メチルモノブタノールアミン、N−オクチルモノエタノ―ルアミン、N−ドデシルモノエタノ―ルアミン、N−ステアリルモノエタノ―ルアミン等が挙げられる。   Secondary alkanolamines include N-methylmonoethanolamine, N-methylmonopropanolamine, N-methylmonobutanolamine, N-octylmonoethanolamine, N-dodecylmonoethanolamine, N-stearylmono Ethanolamine and the like can be mentioned.

ジカルボン酸(b114)としては、C2〜20の、脂肪族ジカルボン酸、芳香(脂肪)族ジカルボン酸および脂環式ジカルボン酸等が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸としては、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、メチルコハク酸、ジメチルマロン酸、β−メチルグルタル酸、エチルコハク酸、イソプロピルマロン酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジ酸、ドデカンジ酸、トリデカンジ酸、テトラデカンジ酸、ヘキサデカンジ酸、オクタデカンジ酸およびイコサンジ酸等が挙げられる。
Examples of the dicarboxylic acid (b114) include C2-20 aliphatic dicarboxylic acid, aromatic (aliphatic) dicarboxylic acid, and alicyclic dicarboxylic acid.
Aliphatic dicarboxylic acids include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, methyl succinic acid, dimethyl malonic acid, β-methyl glutaric acid, ethyl succinic acid, isopropyl malonic acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid , Sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, tridecanedioic acid, tetradecanedioic acid, hexadecanedioic acid, octadecanedioic acid, icosandiic acid and the like.

芳香(脂肪)族ジカルボン酸としては、オルト−、イソ−およびテレフタル酸、フェニルマロン酸、ホモフタル酸、フェニルコハク酸、β−フェニルグルタル酸、α−およびβ−フェニルアジピン酸、ビフェニル−2,2’−および4,4’−ジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、3−スルホイソフタル酸ナトリウムおよび3−スルホイソフタル酸カリウム等が挙げられる。   Aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids include ortho-, iso- and terephthalic acid, phenylmalonic acid, homophthalic acid, phenylsuccinic acid, β-phenylglutaric acid, α- and β-phenyladipic acid, biphenyl-2,2 Examples include '-and 4,4'-dicarboxylic acid, naphthalenedicarboxylic acid, sodium 3-sulfoisophthalate, and potassium 3-sulfoisophthalate.

脂環式ジカルボン酸としては、1,3−および1,2−シクロペンタンジカルボン酸、1,2−、1,3−および1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−、1,3−および1,4−シクロヘキサンジ酢酸およびジシクロヘキシル−4,4’−ジカルボン酸等が挙げられる。   Alicyclic dicarboxylic acids include 1,3- and 1,2-cyclopentanedicarboxylic acid, 1,2-, 1,3- and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,2-, 1,3- and Examples thereof include 1,4-cyclohexanediacetic acid and dicyclohexyl-4,4′-dicarboxylic acid.

これらの活性水素原子含有化合物は、1種単独でも2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち耐熱性の観点から、好ましいのはグリコール(b111)、2価フェノ―ル(b112)およびジカルボン酸(b114)、さらに好ましいのは脂肪族グリコール、(b112)および脂肪族ジカルボン酸、特に好ましいのはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ハイドロキノン、ビスフェノールA、ビスフェノールSおよびアジピン酸、最も好ましいのはエチレングリコール、プロピレングリコールおよびビスフェノールA、さらに最も好ましいのはビスフェノールAである。
These active hydrogen atom-containing compounds may be used alone or in combination of two or more.
Among these, from the viewpoint of heat resistance, preferred are glycol (b111), divalent phenol (b112) and dicarboxylic acid (b114), more preferred are aliphatic glycol, (b112) and aliphatic dicarboxylic acid, Preferred are ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, hydroquinone, bisphenol A, bisphenol S and adipic acid, most preferred are ethylene glycol, propylene glycol and bisphenol A, and most preferred is bisphenol A.

AOとしては、C2〜4のAO[エチレンオキシド(以下、EOと略記)、プロピレンオキシド(以下、POと略記)、1,2−、1,4−、2,3−および1,3−ブチレンオキサイドおよびこれらの2種以上の併用系]が用いられるが、必要により他のAOまたは置換AO、例えばC5〜12のα−オレフィン、スチレンオキサイドおよびエピハロヒドリン(エピクロルヒドリン等)(以下、これらも含めてAOと総称する。)を少しの割合(例えば、全AOの重量に基づいて30%以下)で併用することもできる。   AO includes C2-4 AO [ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO), propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO), 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1,3-butylene oxide. And a combination system of two or more of these], other AO or substituted AO, for example, C5-12 α-olefin, styrene oxide and epihalohydrin (such as epichlorohydrin) (hereinafter referred to as AO). Can be used together in a small proportion (for example, 30% or less based on the weight of the total AO).

AOは、単独でも2種以上併用でもよく、後者の場合の付加形式はブロック付加(チップ型、バランス型、活性セカンダリー型等)、ランダム付加またはこれらの混合系のいずれでもよい。
これらのAOのうちで好ましいのは、導電性の観点から、EO単独、POとEOとの併用(重量比1/99〜99/1)、POおよび/またはEOとTHFとの併用(重量比1/99〜99/1)である。
AO may be used alone or in combination of two or more, and the addition type in the latter case may be any of block addition (chip type, balance type, active secondary type, etc.), random addition, or a mixed system thereof.
Among these AOs, from the viewpoint of conductivity, EO alone, combined use of PO and EO (weight ratio 1/99 to 99/1), combined use of PO and / or EO and THF (weight ratio) 1/99 to 99/1).

活性水素原子含有化合物へのAOの付加反応は、通常の方法で行うことができ、無触媒で、または触媒[アルカリ触媒(水酸化カリウム等)、アミン触媒(トリエチルアミン等)、酸性触媒(塩酸等)]の存在下(特にAO付加の後半の段階で)、常圧または加圧下に1段階または多段階で行なわれる。
ジオール(b11)のMnは、(b11)と縮合重合体(b13)から形成されるブロックポリマーの製造時の反応性の観点から、好ましくは300〜6,000、さらに好ましくは500〜4,000、特に好ましくは700〜2,000である。
The addition reaction of AO to the active hydrogen atom-containing compound can be carried out in the usual manner, without a catalyst, or with a catalyst [alkali catalyst (potassium hydroxide, etc.), amine catalyst (triethylamine, etc.), acidic catalyst (hydrochloric acid, etc.) )] (Especially in the latter half of the AO addition) in one or more stages under normal pressure or pressure.
Mn of diol (b11) is preferably from 300 to 6,000, more preferably from 500 to 4,000, from the viewpoint of reactivity during production of the block polymer formed from (b11) and the condensation polymer (b13). Particularly preferred is 700 to 2,000.

(b11)の不飽和度は副反応の観点から少ない方が好ましく、通常0.1meq/g以下、好ましくは0〜0.05meq/g、さらに好ましくは0〜0.02meq/gである。
(b11)の第1級水酸基含有率〔(第1級水酸基数)×100/(全水酸基数)(%)〕は、重合性の観点から、好ましくは30〜100%、さらに好ましくは50〜100%、特に好ましくは70〜100%である。
The degree of unsaturation of (b11) is preferably smaller from the viewpoint of side reactions, and is usually 0.1 meq / g or less, preferably 0 to 0.05 meq / g, more preferably 0 to 0.02 meq / g.
The primary hydroxyl group content [(number of primary hydroxyl groups) × 100 / (total number of hydroxyl groups) (%)] of (b11) is preferably 30 to 100%, more preferably 50 to 50% from the viewpoint of polymerizability. 100%, particularly preferably 70 to 100%.

ポリオキシアルキレン基を有するジアミン(b12)としては、ジオール(b11)の末端水酸基をアミノ基に変性したものが使用できる。
(b11)の末端水酸基をアミノ基に変性する方法としては、公知の方法、例えば、(b11)の末端水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元しアミノアルキル化する方法[(b11)とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノエチル化物を水素添加する方法等]等が挙げられる。
(b12)のMnは(b12)と縮合重合体(b13)から形成されるブロックポリマーの製造時の反応性の観点から、好ましくは300〜8,000、さらに好ましくは500〜6,000、特に好ましくは700〜4,000である。
As the diamine (b12) having a polyoxyalkylene group, one obtained by modifying the terminal hydroxyl group of the diol (b11) to an amino group can be used.
As a method for modifying the terminal hydroxyl group of (b11) to an amino group, a known method, for example, a method of reducing the terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the terminal hydroxyl group of (b11) to aminoalkylate [(b11 ) And acrylonitrile are reacted, and the resulting cyanoethylated product is hydrogenated, etc.].
Mn of (b12) is preferably from 300 to 8,000, more preferably from 500 to 6,000, particularly from the viewpoint of reactivity during production of the block polymer formed from (b12) and the condensation polymer (b13). Preferably it is 700-4,000.

1分子中に少なくとも2個のカルボキシル基を有する縮合重合体(b13)は、1分子中に少なくとも2個(好ましくは2個)のカルボキシル基を有し、(b11)および/または(b12)と重合可能なものであれば特に限定されないが、導電性および重合性の観点から好ましいのは、両末端にカルボキシル基を有するポリアミド(イミド)(b131)、および両末端にカルボキシル基を有するポリエステル(b132)からなる群から選ばれる少なくとも1種のジカルボン酸、さらに好ましいのは(b131)である。
両末端にカルボキシル基を有する(b131)および(b132)のMnは、導電性、重合体製造時の反応性および重合体製造後の取り扱い易さの観点から好ましくは300〜7,000、さらに好ましくは500〜5,000である。
The condensation polymer (b13) having at least two carboxyl groups in one molecule has at least two (preferably two) carboxyl groups in one molecule, and (b11) and / or (b12) Although it will not specifically limit if it can superpose | polymerize, From a viewpoint of electroconductivity and polymeric property, the polyamide (imide) (b131) which has a carboxyl group in both ends, and polyester (b132) which has a carboxyl group in both ends are preferable. At least one dicarboxylic acid selected from the group consisting of: (b131).
Mn of (b131) and (b132) having a carboxyl group at both ends is preferably 300 to 7,000, more preferably from the viewpoints of conductivity, reactivity during polymer production, and ease of handling after polymer production. Is 500 to 5,000.

両末端にカルボキシル基を有するポリアミド(イミド)(b131)のうちポリアミド(b1311)としては、ジカルボン酸を分子量調整剤として使用し、アミド形成性モノマーを開環重合または重縮合することにより得られるものが挙げられる。
分子量調整剤として使用するジカルボン酸としては、C2〜20のジカルボン酸、例えば前記(b114)として例示したものが挙げられる。
Of polyamides (imide) (b131) having carboxyl groups at both ends, polyamide (b1311) is obtained by ring-opening polymerization or polycondensation of an amide-forming monomer using dicarboxylic acid as a molecular weight regulator. Is mentioned.
Examples of the dicarboxylic acid used as the molecular weight modifier include C2-20 dicarboxylic acids such as those exemplified as the above (b114).

アミド形成性モノマーとしては、ラクタム、アミノカルボン酸およびジアミン/ジカルボン酸が挙げられる。
ラクタムとしては、C4〜20のラクタム、例えばγ−ブチロラクタム、γ−バレロラクタム、ε−カプロラクタム、γ−ピメロラクタム、γ−カプリロラクタム、γ−デカノラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタム、ウンデカノラクタム、エイコサノラクタムおよび5−フェニル−2−ピペリドン等が挙げられる。
Amide-forming monomers include lactams, aminocarboxylic acids and diamine / dicarboxylic acids.
Examples of the lactam include C4-20 lactams such as γ-butyrolactam, γ-valerolactam, ε-caprolactam, γ-pimelolactam, γ-caprolactam, γ-decanolactam, enantolactam, laurolactam, undecanolactam, eicosano. Examples include lactam and 5-phenyl-2-piperidone.

アミノカルボン酸としては、C2〜20のアミノカルボン酸、例えばグリシン、アラニン、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペラルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸および20−アミノエイコサン酸等が挙げられる。   Examples of aminocarboxylic acids include C2-20 aminocarboxylic acids such as glycine, alanine, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopelargonic acid, ω-aminocapric acid, 11- Examples include aminoundecanoic acid, 12-aminododecanoic acid, and 20-aminoeicosanoic acid.

ジアミンとしては、C2〜20のジアミン、例えば脂肪族[エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、エイコサンジアミン等]、芳香(脂肪)族[フェニレンジアミン、ナフチレンジアミン、キシリレンジアミン等]および脂環式[シクロヘキシレンジアミン等]等が挙げられる。
ジカルボン酸としては、C2〜20のジカルボン酸、例えば前記(b114)として例示したものが挙げられる。
Examples of the diamine include C2-20 diamines such as aliphatic [ethylene diamine, hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, decamethylene diamine, eicosane diamine, etc.], aromatic (aliphatic) [phenylene diamine, naphthylene diamine. And xylylenediamine etc.] and alicyclic [cyclohexylenediamine etc.] and the like.
Examples of the dicarboxylic acid include C2-20 dicarboxylic acids such as those exemplified as the above (b114).

これらのアミド形成性モノマーは、1種単独でも2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち、ブロックポリマーの製造時の反応性の観点から好ましいのはカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタム、ω−アミノカプロン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸、アジピン酸/ヘキサメチレンジアミンおよびアジピン酸/キシリレンジアミン、さらに好ましいのはカプロラクタム、ラウロラクタム、ω−アミノカプロン酸および12−アミノドデカン酸、特に好ましいのはカプロラクタムおよびラウロラクタム、最も好ましいのはカプロラクタムである。
(b131)のうちのポリアミド(b1311)は、公知の方法、例えば特公平4−72855号公報記載の方法で容易に製造することができる。
These amide-forming monomers may be used alone or in combination of two or more.
Of these, caprolactam, enantolactam, laurolactam, ω-aminocaproic acid, 11-aminoundecanoic acid, 12-aminododecanoic acid, adipic acid / hexamethylenediamine, and Adipic acid / xylylenediamine, more preferred are caprolactam, laurolactam, ω-aminocaproic acid and 12-aminododecanoic acid, particularly preferred are caprolactam and laurolactam, most preferred caprolactam.
Polyamide (b1311) among (b131) can be easily produced by a known method, for example, a method described in JP-B-4-72855.

(b131)のうち両末端にカルボキシル基を有するポリアミドイミド(b1312)としては、上記(b131)製造時の分子量調整剤の全部または一部を3価もしくは4価の芳香族ポリカルボン酸またはこれらの酸無水物に置き換えて上記アミド形成性モノマーとを組み合わせるか、または、アミド形成性モノマー中のジカルボン酸の全部または一部を3価もしくは4価の芳香族ポリカルボン酸またはこれらの酸無水物に置き換えて上記のアミド形成モノマーとを組み合わせて開環重合または重縮合することによって得られるものが挙げられる。   As the polyamide-imide (b1312) having carboxyl groups at both ends of (b131), all or part of the molecular weight modifier in the production of (b131) may be a trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid, or these The acid anhydride is replaced with the amide-forming monomer, or all or part of the dicarboxylic acid in the amide-forming monomer is converted into a trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid or an acid anhydride thereof. Those obtained by substitution and ring-opening polymerization or polycondensation in combination with the above-mentioned amide-forming monomers can be mentioned.

3価の芳香族ポリカルボン酸としては、C9〜20のポリカルボン酸、例えば3価のポリカルボン酸としては、1,2,4−トリメリット酸、1,2,5−ナフタレントリカルボン酸、2,6,7−ナフタレントリカルボン酸、3,3’,4−ジフェニルトリカルボン酸、ベンゾフェノン−3,3’,4−トリカルボン酸、ジフェニルスルホン−3,3’,4−トリカルボン酸およびジフェニルエーテル−3,3’,4−トリカルボン酸等が挙げられる。   As trivalent aromatic polycarboxylic acid, C9-20 polycarboxylic acid, for example, as trivalent polycarboxylic acid, 1,2,4-trimellitic acid, 1,2,5-naphthalenetricarboxylic acid, 2 , 6,7-Naphthalenetricarboxylic acid, 3,3 ′, 4-diphenyltricarboxylic acid, benzophenone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, diphenylsulfone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid and diphenylether-3,3 ', 4-tricarboxylic acid and the like.

4価の芳香族ポリカルボン酸としては、C10〜20のポリカルボン酸、例えばピロメリット酸、ジフェニル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ベンゾフェノン−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ジフェニルスルホン−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸およびジフェニルエーテル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸等が挙げられる。   Examples of tetravalent aromatic polycarboxylic acids include C10-20 polycarboxylic acids such as pyromellitic acid, diphenyl-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid, benzophenone-2,2 ′, 3,3. Examples include '-tetracarboxylic acid, diphenylsulfone-2,2', 3,3'-tetracarboxylic acid, and diphenyl ether-2,2 ', 3,3'-tetracarboxylic acid.

これらは1種単独でも2種以上を併用してもよい。これらのうちブロックポリマーの製造時の反応性の観点から好ましいのは、1,2,4−トリメリット酸、1,2,5−ナフタレントリカルボン酸、2,6,7−ナフタレントリカルボン酸、3,3’,4−ジフェニルトリカルボン酸、ピロメリット酸、ジフェニル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸およびベンゾフェノン−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、さらに好ましいのは1,2,4−トリメリット酸およびピロメリット酸である。
(b131)のうちのポリアミドイミド(b1312)は、公知の方法、例えば、特公平7−119342号公報記載の方法で容易に製造することができる。
These may be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of reactivity during production of the block polymer, 1,2,4-trimellitic acid, 1,2,5-naphthalenetricarboxylic acid, 2,6,7-naphthalenetricarboxylic acid, 3 ′, 4-diphenyltricarboxylic acid, pyromellitic acid, diphenyl-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid and benzophenone-2,2 ′, 3,3′-tetracarboxylic acid, more preferably 1 2,4-trimellitic acid and pyromellitic acid.
Of polyamide (b131), polyamideimide (b1312) can be easily produced by a known method, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 7-119342.

両末端にカルボキシル基を有するポリエステル(b132)としては、ジカルボン酸を分子量調整剤として使用し、エステル形成性モノマーを常法により重縮合またはエステル交換反応させることによって得られるものが挙げられる。
分子量調整剤として使用するジカルボン酸としては、C1〜20のジカルボン酸、例えば炭酸および前記(b114)として例示したものが挙げられる。
エステル形成性モノマーとしては、ジカルボン酸および/またはジカルボン酸低級アルキルエステルと、2価アルコールおよび/または2価フェノールとの組み合わせ、ラクトン、ヒドロキシカルボン酸並びにこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the polyester (b132) having carboxyl groups at both ends include those obtained by using a dicarboxylic acid as a molecular weight regulator and subjecting an ester-forming monomer to polycondensation or transesterification by a conventional method.
Examples of the dicarboxylic acid used as the molecular weight modifier include C1-20 dicarboxylic acids such as carbonic acid and those exemplified as the above (b114).
Examples of ester-forming monomers include combinations of dicarboxylic acids and / or dicarboxylic acid lower alkyl esters with dihydric alcohols and / or dihydric phenols, lactones, hydroxycarboxylic acids, and mixtures thereof.

ジカルボン酸としては、C1〜20のジカルボン酸、例えば炭酸および前記(b114)として例示したものが挙げられる。
ジカルボン酸エステル(エステルを構成するアルコール成分のC1〜10)としては、炭酸または上記ジカルボン酸(C2〜20)のエステル、例えば、メチルエステル、エチルエステル、ブチルエステル、フェニルエステル等が挙げられる。
これらは1種単独でも2種以上を併用してもよい。
これらのうち、耐熱性の観点から、好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、イコサン酸、オルト−、イソ−およびテレフタル酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、3−スルホイソフタル酸ナトリウム、炭酸ジメチル、炭酸ジフェニル、アジピン酸ジメチル、イソ−およびテレフタル酸ジメチル、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチル、3−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウムおよび3−スルホイソフタル酸ジエチルナトリウムである。
Examples of the dicarboxylic acid include C1-20 dicarboxylic acids such as carbonic acid and those exemplified as the above (b114).
Examples of the dicarboxylic acid ester (C1-10 of the alcohol component constituting the ester) include carbonic acid or esters of the above dicarboxylic acid (C2-20), such as methyl ester, ethyl ester, butyl ester, and phenyl ester.
These may be used alone or in combination of two or more.
Of these, from the viewpoint of heat resistance, adipic acid, sebacic acid, icosanoic acid, ortho-, iso- and terephthalic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, sodium 3-sulfoisophthalate, dimethyl carbonate, carbonic acid are preferred. Diphenyl, dimethyl adipate, dimethyl iso- and terephthalate, dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate, dimethyl sodium 3-sulfoisophthalate and diethyl sodium 3-sulfoisophthalate.

2価アルコールとしては、C2〜30のジオール、例えば、前記グリコール(b111)およびジオール(b11)として例示したものが挙げられる。
2価フェノールとしては、C6〜40の2価フェノール、例えば、前記2価フェノール(b112)として例示したものが挙げられる。
これらは1種単独でも2種以上を併用してもよい。
これらのうち、ブロックポリマーの製造時の反応性の観点から好ましいのはエチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、シクロヘキサンジオール、ビスフェノールA、ポリエチレングリコール(Mn300〜6,000)、ポリプロピレングリコール(Mn300〜6,000)、ポリテトラメチレングリコール(Mn300〜6,000)、ビスフェノールAのEO(EO2〜110モル)付加物、ビスフェノールAのPO(PO2〜110モル)付加物である。
Examples of the dihydric alcohol include C2-30 diols such as those exemplified as the glycol (b111) and diol (b11).
Examples of the dihydric phenol include C6-40 dihydric phenol, for example, those exemplified as the dihydric phenol (b112).
These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, cyclohexanediol, bisphenol A, polyethylene glycol (Mn 300 to 6) are preferable from the viewpoint of reactivity during the production of the block polymer. , 000), polypropylene glycol (Mn 300-6,000), polytetramethylene glycol (Mn 300-6,000), EO (EO 2-110 mol) addition product of bisphenol A, PO (PO 2-110 mol) addition of bisphenol A It is a thing.

ラクトンとしては、C4〜20のラクトン、例えば、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、γ−ピメロラクトン、γ−カプリロラクトン、γ−デカノラクトン、エナントラクトン、ラウロラクトン、ウンデカノラクトンおよびエイコサノラクトン等が挙げられる。   Lactones include C4-20 lactones such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, ε-caprolactone, γ-pimerolactone, γ-caprolactone, γ-decanolactone, enanthlactone, laurolactone, undecanolactone and eico. And sanolactone.

ヒドロキシカルボン酸としては、C2〜20のヒドロキシカルボン酸、例えば、ヒドロキシ酢酸、乳酸、ω−ヒドロキシカプロン酸、ω−ヒドロキシエナント酸、ω−ヒドロキシカプリル酸、ω−ヒドロキシペルゴン酸、ω−ヒドロキシカプリン酸、11−ヒドロキシウンデカン酸、12−ヒドロキシドデカン酸および20−ヒドロキシエイコサン酸、トロパ酸、ベンジル酸等が挙げられる。   Examples of hydroxycarboxylic acids include C2-20 hydroxycarboxylic acids such as hydroxyacetic acid, lactic acid, ω-hydroxycaproic acid, ω-hydroxyenanthic acid, ω-hydroxycaprylic acid, ω-hydroxypergonic acid, ω-hydroxycaprin. Examples include acids, 11-hydroxyundecanoic acid, 12-hydroxydodecanoic acid and 20-hydroxyeicosanoic acid, tropic acid, benzylic acid and the like.

これらのうちブロックポリマーの製造時の反応性の観点から、好ましいのはテレフタル酸(ジメチル)−エチレングリコール、テレフタル酸(ジメチル)−ブタンジオール、テレフタル酸(ジメチル)−シクロヘキサンジオール、イソフタル酸(ジメチル)/エチレングリコール、イソフタル酸(ジメチル)/ブタンジオール、アジピン酸(ジメチル)/1,6−ヘキサンジオール、カプロラクトン、エナントラクトン、ラウロラクトン、ω−ヒドロキシカプロン酸、11−ヒドロキシウンデカン酸、12−ヒドロキシドデカン酸、さらに好ましいのは、テレフタル酸(ジメチル)/エチレングリコール、テレフタル酸(ジメチル)/ブタンジオール、テレフタル(ジメチル)酸/シクロヘキサンジオール、イソフタル酸(ジメチル)/エチレングリコールおよびイソフタル酸(ジメチル)/ブタンジオール、特に好ましいのはテレフタル酸(ジメチル)/エチレングリコールおよびテレフタル酸(ジメチル)/ブタンジオールである。
両末端にカルボキシル基を有するポリエステル(b132)は、公知の方法、例えば、特公昭58−19696号公報記載の方法で容易に製造することができる。
Of these, terephthalic acid (dimethyl) -ethylene glycol, terephthalic acid (dimethyl) -butanediol, terephthalic acid (dimethyl) -cyclohexanediol, and isophthalic acid (dimethyl) are preferred from the viewpoint of reactivity during production of the block polymer. / Ethylene glycol, isophthalic acid (dimethyl) / butanediol, adipic acid (dimethyl) / 1,6-hexanediol, caprolactone, enanthlactone, laurolactone, ω-hydroxycaproic acid, 11-hydroxyundecanoic acid, 12-hydroxydodecane Acids, more preferably terephthalic acid (dimethyl) / ethylene glycol, terephthalic acid (dimethyl) / butanediol, terephthalic (dimethyl) acid / cyclohexanediol, isophthalic acid (dimethyl) / ethyl Glycol and isophthalic acid (dimethyl) / butanediol, particularly preferred is terephthalic acid (dimethyl) / ethylene glycol and terephthalic acid (dimethyl) / butanediol.
The polyester (b132) having a carboxyl group at both ends can be easily produced by a known method, for example, a method described in JP-B-58-19696.

本発明におけるブロックポリマー(B1)の製法としては、例えば、以下のものが挙げられる。
<(B1)の製法>
分子量調整剤としてのジカルボン酸および/または3価もしくは4価のポリカルボン酸と、アミド形成性モノマーおよび/またはエステル形成性モノマーとを反応させ、両末端にカルボキシル基を有するポリアミド(b1311)、ポリアミドイミド(b1312)および/またはポリエステル(b132)を形成させる。
これらに(ポリ)オキシアルキレン基を有する、ジオール(b11)および/またはジアミン(b12)を加えて、高温(220〜245℃)、減圧下(1mmHg以下)で重合反応を行い、ブロックポリマー(B1)を得る。
本発明の導電性樹脂組成物は、得られた(B1)と(A)を溶融混練して製造することができる。
As a manufacturing method of the block polymer (B1) in this invention, the following are mentioned, for example.
<Production method of (B1)>
A polyamide (b1311) having a carboxyl group at both ends by reacting a dicarboxylic acid and / or a trivalent or tetravalent polycarboxylic acid as a molecular weight modifier with an amide-forming monomer and / or an ester-forming monomer. An imide (b1312) and / or a polyester (b132) is formed.
A diol (b11) and / or a diamine (b12) having a (poly) oxyalkylene group is added thereto, and a polymerization reaction is carried out at a high temperature (220 to 245 ° C.) under reduced pressure (1 mmHg or less) to produce a block polymer (B1 )
The conductive resin composition of the present invention can be produced by melt-kneading the obtained (B1) and (A).

上記製法における重合反応のうち、ポリエステル化反応においては、通常エステル化触媒が使用される。
エステル化触媒としては、プロトン酸(リン酸等)、金属[アルカリ金属(ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウム等)、遷移金属(ニッケル、鉄、コバルト等)、IIB金属(亜鉛等)、IVB金属(チタン、ジルコニウム等)およびVB金属(バナジウム等)]の有機酸(酢酸等)塩、炭酸塩、硫酸塩、リン酸塩、酸化物、塩化物、水酸化物およびアルコキシド等が挙げられる。
これらのうち生成物の色調の観点から好ましいのは、三酸化アンチモン、モノブチルスズオキシド、テトラブチルチタネート、テトラブチルジルコネート、酢酸ジルコニル、酢酸亜鉛である。
エステル化触媒の使用量は、ブロックポリマー(B1)の重量に基づいて、通常0.005〜5%、反応性および色調の観点から好ましくは0.1〜1.0%である。
Of the polymerization reactions in the above production method, an esterification catalyst is usually used in the polyesterification reaction.
Examples of esterification catalysts include proton acids (phosphoric acid, etc.), metals [alkali metals (sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.), transition metals (nickel, iron, cobalt, etc.), IIB metals ( Organic acids (such as acetic acid), carbonates, sulfates, phosphates, oxides, chlorides, hydroxides and alkoxides of zinc, etc.), IVB metals (such as titanium, zirconium) and VB metals (such as vanadium)] Etc.
Of these, antimony trioxide, monobutyltin oxide, tetrabutyl titanate, tetrabutyl zirconate, zirconyl acetate, and zinc acetate are preferred from the viewpoint of the color of the product.
The amount of the esterification catalyst used is usually 0.005 to 5% based on the weight of the block polymer (B1), and preferably 0.1 to 1.0% from the viewpoint of reactivity and color tone.

(b11)および/または(b12)と、(b131)および/または(b132)との反応における当量比は、通常80/120〜120/80、導電性および耐熱性の観点から好ましくは90/110〜110/90である。
ブロックポリマー(B1)の還元粘度(0.5重量%m−クレゾール溶液、25℃)は、重合体の取扱性および後述する熱可塑性樹脂への相溶性の観点から、好ましくは0.5〜5、さらに好ましくは0.5〜4、特に好ましくは1〜3である。
The equivalent ratio in the reaction between (b11) and / or (b12) and (b131) and / or (b132) is usually 80/120 to 120/80, preferably 90/110 from the viewpoint of conductivity and heat resistance. ~ 110/90.
The reduced viscosity (0.5 wt% m-cresol solution, 25 ° C.) of the block polymer (B1) is preferably 0.5 to 5 from the viewpoint of handling of the polymer and compatibility with the thermoplastic resin described later. More preferably, it is 0.5 to 4, particularly preferably 1 to 3.

(B1)を製造する際に、耐水性を向上させる目的で、(b11)および/または(b12)の重量に基づいて30%(好ましくは20%)の範囲内で(b11)および/または(b12)の一部をポリアルキレンジオールに代えて使用してもよい。
ポリアルキレンジオールとしては、オレフィンを重合して末端を水酸基化したものおよび含まれる二重結合をさらに水添して得られるものが挙げられる。
オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、およびC4〜20のα−オレフィン(1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン等)およびC4〜20のジエン(ブタジエン等)等が挙げられる。
ポリアルキレンジオールのMnは、耐水性向上の観点から好ましくは500〜10,000、さらに好ましくは1,000〜5,000である。
(B11) and / or (b) within the range of 30% (preferably 20%) based on the weight of (b11) and / or (b12) for the purpose of improving water resistance when producing (B1). A part of b12) may be used in place of the polyalkylenediol.
Examples of the polyalkylene diol include those obtained by polymerizing olefins and hydroxylating the terminals and those obtained by further hydrogenating the double bonds contained therein.
Examples of olefins include ethylene, propylene, and C4-20 α-olefins (1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, etc.) and C4-20. And diene (butadiene and the like).
Mn of the polyalkylene diol is preferably 500 to 10,000, more preferably 1,000 to 5,000, from the viewpoint of improving water resistance.

[ブロックポリマー(B2)]
ブロックポリマー(B2)は、ポリオレフィン(b21)のブロックと1×104〜1×1011Ω・cmの体積固有抵抗値を有する親水性ポリマー(b22)のブロックとが、繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマーであり、該(B2)には、国際公開パンフレットWO00/47652に記載のブロックポリマーが含まれる。
該ポリオレフィン(b21)、親水性ポリマー(b22)、およびそれらの結合構造および製造方法の具体例等は上記パンフレットに記載されているとおりであり、以下(B2)について説明する。
[Block polymer (B2)]
The block polymer (B2) has a structure in which a block of a polyolefin (b21) and a block of a hydrophilic polymer (b22) having a volume resistivity of 1 × 10 4 to 1 × 10 11 Ω · cm are alternately and repeatedly bonded. (B2) includes the block polymer described in International Publication Pamphlet WO00 / 47652.
Specific examples of the polyolefin (b21), the hydrophilic polymer (b22), and their binding structures and production methods are as described in the pamphlet, and (B2) will be described below.

ブロックポリマー(B2)は、ポリオレフィン(b21)のブロックと、親水性ポリマー(b22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合およびイミド結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有する。   The block polymer (B2) is at least one selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, a urethane bond and an imide bond, in which the block of the polyolefin (b21) and the block of the hydrophilic polymer (b22) It has a structure in which the bonds are alternately and alternately connected through bonds.

(b21)としては、カルボニル基(好ましくは、カルボキシル基、以下同じ。)をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b211)、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b212)、アミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b213)が挙げられ、さらに、カルボニル基をポリマーの片末端に有するポリオレフィン(b214)、水酸基をポリマーの片末端に有するポリオレフィン(b215)およびアミノ基をポリマーの片末端に有するポリオレフィン(b216)が挙げられる。
これらのうち、変性のし易さの観点から好ましいのはポリマーの末端にカルボニル基を有するポリオレフィン(b211)および(b214)である。
(B21) includes a polyolefin (b211) having a carbonyl group (preferably a carboxyl group, the same shall apply hereinafter) at both ends of the polymer, a polyolefin (b212) having a hydroxyl group at both ends of the polymer, and an amino group at both ends of the polymer. Polyolefin (b213) having a carbonyl group at one end of the polymer, polyolefin (b215) having a hydroxyl group at one end of the polymer, and polyolefin having an amino group at one end of the polymer. (B216).
Of these, polyolefins (b211) and (b214) having a carbonyl group at the end of the polymer are preferable from the viewpoint of easy modification.

(b211)としては、両末端が変性可能なポリオレフィンを主成分(含量50重量%以上、好ましくは75〜100重量%)とするポリオレフィン(b210)の両末端にカルボニル基を導入したものが挙げられる。
(b212)としては、(b210)の両末端に水酸基を導入したものが挙げられる。
(b213)としては、(b210)の両末端にアミノ基を導入したものが挙げられる。
Examples of (b211) include those in which a carbonyl group is introduced at both ends of a polyolefin (b210) whose main component (content is 50% by weight or more, preferably 75 to 100% by weight) is a polyolefin that can be modified at both ends. .
Examples of (b212) include those in which hydroxyl groups are introduced at both ends of (b210).
Examples of (b213) include those in which amino groups are introduced at both ends of (b210).

(b210)としては、C2〜30のオレフィンの1種または2種以上の混合物(好ましくはC2〜12のオレフィン、さらに好ましくはエチレンおよび/またはプロピレン)の重合によって得られるポリオレフィンおよび高分子量[Mn30,000以上、好ましくは50,000〜200,000]のポリオレフィン[好ましくはC2〜30、さらに好ましくはC2〜12のオレフィンの重合によって得られるポリオレフィン、特に好ましいのはポリエチレンおよび/またはポリプロピレン]の熱減成法によって得られる低分子量ポリオレフィンが挙げられる。
(b210)のMnは、導電性の観点から好ましくは800〜20,000、さらに好ましくは1,000〜10,000、特に好ましくは1,200〜6,000である。
(b210)におけるC1,000個当たりの二重結合量は、帯電防止性の観点から好ましくは1〜40個、さらに好ましくは1〜30個、特に好ましくは4〜20個である。
上記熱減成法によると、Mnが800〜6,000の範囲で、1分子当たりの平均末端二重結合量が1.5〜2個の低分子量ポリオレフィンが容易に得られる〔村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、192頁(1975)〕。
変性の容易さの観点から(b210)として好ましいのは、熱減成法による低分子量ポリオレフィン(特にMnが1,200〜6,000のポリエチレンおよびポリプロピレン)である。
(B210) includes a polyolefin obtained by polymerizing one or a mixture of two or more C2-30 olefins (preferably a C2-12 olefin, more preferably ethylene and / or propylene) and a high molecular weight [Mn30, 000 or more, preferably 50,000 to 200,000] polyolefins [preferably polyolefins obtained by polymerization of C2-30, more preferably C2-12 olefins, particularly preferably polyethylene and / or polypropylene] Examples thereof include low molecular weight polyolefins obtained by the synthesis method.
Mn of (b210) is preferably 800 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, and particularly preferably 1,200 to 6,000 from the viewpoint of conductivity.
The amount of double bonds per 1,000 C in (b210) is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 30, and particularly preferably 4 to 20 from the viewpoint of antistatic properties.
According to the above thermal degradation method, a low molecular weight polyolefin having an average terminal double bond amount per molecule of 1.5 to 2 can be easily obtained with Mn in the range of 800 to 6,000 [Katsuhide Murata, Makino Tadahiko, Journal of the Chemical Society of Japan, page 192 (1975)].
From the viewpoint of ease of modification, (b210) is preferably a low molecular weight polyolefin (especially polyethylene and polypropylene having Mn of 1,200 to 6,000) by a thermal degradation method.

(b214)としては、片末端が変性可能なポリオレフィンを主成分(含量50重量%以上、好ましくは75〜100重量%)とするポリオレフィン(b2100)の片末端にカルボニル基を導入したものが挙げられる。
(b215)としては、(b2100)の片末端に水酸基を導入したものが挙げられる。
(b216)としては、(b2100)の片末端にアミノ基を導入したものが挙げられる。
Examples of (b214) include those in which a carbonyl group is introduced at one end of a polyolefin (b2100) whose main component (content is 50% by weight or more, preferably 75 to 100% by weight) is a polyolefin whose one end can be modified. .
Examples of (b215) include those in which a hydroxyl group is introduced at one end of (b2100).
Examples of (b216) include those obtained by introducing an amino group at one end of (b2100).

(b2100)は(b210)と同様にして得ることができ、(b2100)のMnは帯電防止性の観点から好ましくは2,000〜50,000、さらに好ましくは2,500〜30,000、特に好ましくは3,000〜20,000である。
(b2100)におけるC1,000個当たりの二重結合量は、導電性の観点から好ましくは0.3〜20個、さらに好ましくは0.5〜15個、特に好ましくは0.7〜10個である。
変性の容易さの観点から(b2100)として好ましいのは、熱減成法による低分子量ポリオレフィン(特にMnが2,000〜20,000のポリエチレンおよびポリプロピレン)である。
なお、(b210)および(b2100)は、通常これらの混合物として得られるが、これらの混合物をそのまま使用しても、精製分離してから使用してもいずれでもよい。
(B2100) can be obtained in the same manner as (b210), and Mn of (b2100) is preferably 2,000 to 50,000, more preferably 2,500 to 30,000, particularly from the viewpoint of antistatic properties. Preferably it is 3,000-20,000.
The amount of double bonds per 1,000 C in (b2100) is preferably 0.3 to 20, more preferably 0.5 to 15, and particularly preferably 0.7 to 10 from the viewpoint of conductivity. is there.
From the viewpoint of ease of modification, (b2100) is preferably a low molecular weight polyolefin (especially polyethylene and polypropylene having Mn of 2,000 to 20,000) by a thermal degradation method.
In addition, (b210) and (b2100) are usually obtained as a mixture thereof. However, these mixtures may be used as they are or after being purified and separated.

(b211)としては、(b210)の末端をα、β−不飽和カルボン酸および/またはその無水物[C3〜15、例えばモノカルボン酸[(メタ)アクリル酸等]、ジカルボン酸(マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等)、これらのアルキル(C1〜4)エステル[(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、イタコン酸ジエチル等]およびこれらの無水物が挙げられる]で変性したポリオレフィン(b2111)、(b2111)をラクタム(カプロラクタム等前記のもの)またはアミノカルボン酸(12アミノドデカン酸等前記のもの)で二次変性したポリオレフィン(b2112)、(b210)を酸素および/またはオゾンによる酸化で変性したポリオレフィン(b2113)、(b2113)をラクタム(前記のもの)またはアミノカルボン酸(前記のもの)で二次変性したポリオレフィン(b2114)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
(b211)の酸価は、後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
As (b211), the terminal of (b210) is an α, β-unsaturated carboxylic acid and / or anhydride thereof [C3-15, such as monocarboxylic acid [(meth) acrylic acid etc.], dicarboxylic acid (maleic acid, Fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid and the like), alkyl (C1-4) esters thereof [methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, diethyl itaconate, etc.] and their anhydrides]. Modified polyolefins (b2111), (b2111) secondary modified with lactam (as described above such as caprolactam) or aminocarboxylic acid (as described above as 12 aminododecanoic acid) (b2112), (b210) as oxygen and / or Or polyolefin (b2113) and (b2113) modified by oxidation with ozone And polyolefin (b2114) secondarily modified with an amino acid (above) or aminocarboxylic acid (above) and a mixture of two or more thereof.
The acid value of (b211) is preferably 4 to 280, more preferably 4 to 100, and particularly preferably 5 to 50 from the viewpoint of reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later.

(b212)としては、(b210)をC2〜10のヒドロキシルアミン(2−アミノエタノール等)で変性した末端にヒドロキシル基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
(b212)の水酸基価は、後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
(b213)としては、(b211)をC2〜10のジアミン(エチレンジアミン等)で変性した末端にアミノ基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
(b213)のアミン価は、後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Examples of (b212) include a polyolefin having a hydroxyl group at the terminal obtained by modifying (b210) with C2-10 hydroxylamine (such as 2-aminoethanol) and a mixture of two or more of these.
The hydroxyl value of (b212) is preferably 4 to 280, more preferably 4 to 100, and particularly preferably 5 to 50 from the viewpoint of reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later.
As (b213), a polyolefin having an amino group at a terminal obtained by modifying (b211) with a C2-10 diamine (ethylenediamine or the like) and a mixture of two or more of these can be used.
The amine value of (b213) is preferably 4 to 280, more preferably 4 to 100, and particularly preferably 5 to 50 from the viewpoint of reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later.

(b214)としては、(b2100)の末端をα、β−不飽和カルボン酸および/またはその無水物[前記に同じ]で変性したポリオレフィン(b2141)、(b2141)をラクタム(カプロラクタム等前記のもの)またはアミノカルボン酸(12アミノドデカン酸等前記のもの)で二次変性したポリオレフィン(b2142)、(b210)を酸素および/またはオゾンによる酸化で変性したポリオレフィン(b2143)、(b2143)をラクタム(前記のもの)またはアミノカルボン酸(前記のもの)で二次変性したポリオレフィン(b2144)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
(b214)の酸価は、後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、好ましくは1〜70、さらに好ましくは2〜50である。
(B214) is a polyolefin (b2141) in which the end of (b2100) is modified with an α, β-unsaturated carboxylic acid and / or an anhydride thereof [same as above], and (b2141) is a lactam (caprolactam or the like). ) Or an aminocarboxylic acid (12aminododecanoic acid or the like as described above), and a polyolefin (b2143) modified by oxidation with oxygen and / or ozone (b2143) and (b2143) a lactam (b2143). And polyolefins (b2144) secondarily modified with aminocarboxylic acids (above) and mixtures of two or more thereof.
The acid value of (b214) is preferably 1 to 70, more preferably 2 to 50, from the viewpoint of reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later.

(b215)としては、(b214)をC2〜10のヒドロキシルアミン(2−アミノエタノール等)で変性した末端にヒドロキシル基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
(b215)の水酸基価は、後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、好ましくは1〜70、さらに好ましくは2〜50である。
(b216)としては、(b214)をC2〜10のジアミン(エチレンジアミン等前記のもの)で変性した末端にアミノ基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
(b216)のアミン価は、後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、好ましくは1〜70、さらに好ましくは2〜50である。
As (b215), polyolefin having a hydroxyl group at the terminal obtained by modifying (b214) with C2-10 hydroxylamine (such as 2-aminoethanol) and a mixture of two or more of these can be used.
The hydroxyl value of (b215) is preferably 1 to 70, more preferably 2 to 50, from the viewpoint of reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later.
Examples of (b216) include polyolefins having an amino group at the terminal obtained by modifying (b214) with a C2-10 diamine (such as ethylenediamine) and mixtures of two or more thereof.
The amine value of (b216) is preferably 1 to 70, more preferably 2 to 50, from the viewpoint of reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later.

なお、(b211)と(b214)は、通常これらの混合物として得られるが、これらの混合物をそのまま使用してもよく、精製分離してから使用してもいずれでもよい。製造コスト等の観点から、混合物として使用するのが好ましい。
また、(b212)と(b215)および(b213)と(b216)も同様に精製分離してから使用してもよいが、製造コスト等の観点から、混合物として使用するのが好ましい。
耐熱性および後述する親水性ポリマー(b22)との反応性の観点から、(b211)、(b212)および(b213)のMnは、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000、(b214)、(b215)および(b216)のMnは、好ましくは800〜50,000、さらに好ましくは1,000〜30,000、特に好ましくは2,000〜20,000である。
In addition, (b211) and (b214) are usually obtained as a mixture thereof, but these mixtures may be used as they are or may be used after being purified and separated. From the viewpoint of production cost and the like, it is preferably used as a mixture.
Further, (b212) and (b215) and (b213) and (b216) may be used after being purified and separated in the same manner, but are preferably used as a mixture from the viewpoint of production cost and the like.
From the viewpoint of heat resistance and reactivity with the hydrophilic polymer (b22) described later, Mn of (b211), (b212) and (b213) is preferably 800 to 25,000, and more preferably 1,000 to 20 , Particularly preferably 2,500 to 10,000, Mn of (b214), (b215) and (b216) is preferably 800 to 50,000, more preferably 1,000 to 30,000, particularly preferably Is 2,000 to 20,000.

親水性ポリマー(b22)としては、ポリエーテル(b221)、ポリエーテル含有親水性ポリマー(b222)、カチオン性ポリマー(b223)およびアニオン性ポリマー(b224)が挙げられる。
(b221)としては、ポリエーテルジオール(b2211)、ポリエーテルジアミン(b2212)およびこれらの変性物(b2213)が挙げられる。
Examples of the hydrophilic polymer (b22) include polyether (b221), polyether-containing hydrophilic polymer (b222), cationic polymer (b223), and anionic polymer (b224).
Examples of (b221) include polyether diol (b2211), polyether diamine (b2212), and modified products thereof (b2213).

該親水性ポリマー(b22)の体積固有抵抗値(後述の方法で、23℃、50%RHの雰囲気下で測定される値。単位はΩ・cm)は104〜1011、好ましくは104〜109である。該体積固有抵抗値が104未満のものは存在せず、1011を超えると導電性が悪くなる。 The volume resistivity value of the hydrophilic polymer (b22) (value measured by an after-mentioned method in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH. The unit is Ω · cm) is 10 4 to 10 11 , preferably 10 4. 10 is 9. There is no volume resistivity of less than 10 4 , and if it exceeds 10 11 , the conductivity deteriorates.

ブロックポリマー(B2)を構成する親水性ポリマー(b22)のブロックのポリオキシアルキレン基におけるアルキレン基は、その繰り返し単位の少なくとも一部が、下記の一般式(1)で表されるアルキレン基であり、残りはC2〜4のアルキレン基であってもよい。

−CHR−CHR’− (1)

−CH2O(A1O)sR” (2)

C2〜4のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、1,2−、1,4−、2,3−および1,3−ブチレン基およびこれらの2種以上が挙げられる。これらのうち、導電性の観点から好ましいのはエチレン基である。
繰り返し単位がオキシ置換アルキレン基および/または1種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式は、ブロック、ランダムまたはこれらの組合せのいずれでもよい。
上記繰り返し単位中、オキシ置換アルキレン基の割合は、オキシ置換アルキレン基と(非置換)オキシアルキレン基の合計モル数に基づいて帯電防止性の観点から好ましくは90モル%以下、さらに好ましくは0〜60モル%である。
式(1)中、R、R’はいずれもがHか、もしくはいずれか一方がH、他方が一般式(2)で表される基である。一般式(2)中、sは0〜10、好ましくは2〜4の整数を表す。
R”は、H、C1〜20のアルキル基(メチル基、エチル基、n−およびi−プロピル基、n−、sec−、i−およびt−ブチル基および2−エチルヘキシル基等)、アリール基(フェニル基等)、アルキルアリール基(ノニルフェニル基等)、アリールアルキル基(ベンジル基等)、アシル基(アセチル基およびベンゾイル基等)またはこれらの塩素化物等を表し、これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのはC1〜3のアルキル基である。
1はC2〜4のアルキレン基、例えばエチレン基、プロピレン基、1,2−、1,4−、2,3−および1,3−ブチレン基およびこれらの2種以上を表す。これらのうち、導電性の観点からエチレン基が好ましい。
1が2種以上のアルキレン基で構成される場合のオキシアルキレン基の結合形式はブロック、ランダムまたはこれらの組合せのいずれでもよい。
The alkylene group in the polyoxyalkylene group in the block of the hydrophilic polymer (b22) constituting the block polymer (B2) is an alkylene group in which at least a part of the repeating unit is represented by the following general formula (1). The remainder may be a C2-4 alkylene group.

-CHR-CHR'- (1)

—CH 2 O (A 1 O) s R ″ (2)

Examples of the C2-4 alkylene group include an ethylene group, a propylene group, 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1,3-butylene groups, and two or more thereof. Among these, an ethylene group is preferable from the viewpoint of conductivity.
When the repeating unit is composed of an oxy-substituted alkylene group and / or one or more oxyalkylene groups, the bond form may be any of block, random, or a combination thereof.
In the above repeating unit, the proportion of the oxy-substituted alkylene group is preferably 90 mol% or less, more preferably 0 to 0% from the viewpoint of antistatic properties based on the total number of moles of the oxy-substituted alkylene group and the (unsubstituted) oxyalkylene group. 60 mol%.
In the formula (1), R and R ′ are both H, or one of them is H and the other is a group represented by the general formula (2). In general formula (2), s represents an integer of 0 to 10, preferably 2 to 4.
R ″ is H, C1-20 alkyl group (methyl group, ethyl group, n- and i-propyl group, n-, sec-, i- and t-butyl group, 2-ethylhexyl group, etc.), aryl group (Phenyl group, etc.), alkylaryl group (nonylphenyl group, etc.), arylalkyl group (benzyl group, etc.), acyl group (acetyl group, benzoyl group, etc.) or chlorinated compounds thereof, etc. From this viewpoint, a C1 to C3 alkyl group is preferable.
A 1 represents a C2-4 alkylene group such as an ethylene group, a propylene group, a 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1,3-butylene group and two or more of these. Among these, an ethylene group is preferable from the viewpoint of conductivity.
When A 1 is composed of two or more alkylene groups, the bond form of the oxyalkylene group may be block, random, or a combination thereof.

ポリエーテル含有親水性ポリマー(b222)としては、ポリエーテルセグメント形成成分としてポリエーテルジオール(b2211)のセグメントを有するポリエーテルエステルアミド(b2221)、同じく(b2211)のセグメントを有するポリエーテルアミドイミド(b2222)、同じく(b2211)のセグメントを有するポリエーテルエステル(b2223)、同じくポリエーテルジアミン(b2212)のセグメントを有するポリエーテルアミド(b2224)および同じく(b2211)または(b2212)のセグメントを有するポリエーテルウレタン(b2225)が挙げられる。   Examples of the polyether-containing hydrophilic polymer (b222) include polyetheresteramide (b2221) having a segment of polyetherdiol (b2211) as a polyether segment-forming component, and polyetheramideimide (b2222) having a segment of (b2211). ), Polyether ester (b2223) having the same segment (b2211), polyether amide (b2224) having the same segment of polyether diamine (b2212), and polyether urethane having the same segment (b2211) or (b2212) (B2225).

ポリエーテルジオール(b2211)は、2個の活性水素原子を有する化合物にAOを付加反応させることにより得られ、前記(b11)として例示したものが挙げられる。
AOとしては、前記のものが挙げられ、AOとして好ましいのは、EO単独およびEOと他のAOとの併用(ブロックおよび/またはラダム付加)である。AOの付加モル数は、2個の活性水素原子を有する化合物の活性水素原子1個当り、通常1〜300、好ましくは2〜250、さらに好ましくは10〜100である。
これらのうち導電性の観点から好ましいのは、脂肪族2価アルコールのAO付加物およびビスフェノールのAO付加物、さらに好ましいのはエチレングリコールのAO10〜100モル付加物およびビスフェノールAのAO10〜100モル付加物である。
The polyether diol (b2211) is obtained by subjecting a compound having two active hydrogen atoms to addition reaction with AO, and examples thereof include those exemplified as the (b11).
Examples of AO include those described above. Preferred examples of AO include EO alone and a combination of EO and other AO (block and / or radam addition). The added mole number of AO is usually 1 to 300, preferably 2 to 250, more preferably 10 to 100 per active hydrogen atom of the compound having two active hydrogen atoms.
Of these, from the viewpoint of electrical conductivity, an AO adduct of an aliphatic dihydric alcohol and an AO adduct of bisphenol are preferred, and an AO 10-100 mol adduct of ethylene glycol and an AO 10-100 mol addition of bisphenol A are more preferred. It is a thing.

(b2211)中のC2〜4のオキシアルキレン単位の含量は、導電性の観点から好ましくは8〜99.6%、さらに好ましくは10〜98%である。
ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は、導電性の観点から好ましくは10〜100重量%、さらに好ましくは50〜100重量%、特に好ましくは60〜100重量%である。
The content of C2-4 oxyalkylene units in (b2211) is preferably 8-99.6%, more preferably 10-98%, from the viewpoint of conductivity.
The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 10 to 100% by weight, more preferably 50 to 100% by weight, and particularly preferably 60 to 100% by weight from the viewpoint of conductivity.

ポリエーテルジアミン(b2212)は、(b2211)の水酸基を公知の方法によりアミノ基に変えることにより得られ、例えば、(b2211)の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端基を還元してアミノ基としたものが挙げられる。   The polyether diamine (b2212) is obtained by changing the hydroxyl group of (b2211) to an amino group by a known method. For example, the end group obtained by cyanoalkylating the hydroxyl group of (b2211) is reduced to form an amino group. The thing which was done is mentioned.

変性物(b2213)としては、例えば、(b2211)または(b2212)のアミノカルボン酸変性物(末端アミノ基)、同イソシアネート変性物(末端イソシアネート基)および同エポキシ変性物(末端エポキシ基)が挙げられる。
アミノカルボン酸変性物は、(b2211)または(b2212)と、アミノカルボン酸(前記のもの)またはラクタム(前記のもの)とを反応させることにより得ることができる。
イソシアネート変性物は、(b2211)または(b2212)と、有機ジイソシアネートとを反応させるか、(b2212)とホスゲンとを反応させることにより得ることができる。
有機ジイソシアネートとしては、C(NCO基中の炭素を除く、以下同様)6〜20の芳香族ジイソシアネート、C2〜18の脂肪族ジイソシアネート、C4〜15の脂環式ジイソシアネート、C8〜15の芳香脂肪族ジイソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
Examples of the modified product (b2213) include the aminocarboxylic acid modified product (terminal amino group), the isocyanate modified product (terminal isocyanate group) and the epoxy modified product (terminal epoxy group) of (b2211) or (b2212). It is done.
The aminocarboxylic acid-modified product can be obtained by reacting (b2211) or (b2212) with aminocarboxylic acid (above) or lactam (above).
The isocyanate-modified product can be obtained by reacting (b2211) or (b2212) with an organic diisocyanate or reacting (b2212) with phosgene.
As organic diisocyanate, C (excluding carbon in NCO group, the same shall apply hereinafter) 6-20 aromatic diisocyanate, C2-18 aliphatic diisocyanate, C4-15 alicyclic diisocyanate, C8-15 araliphatic Examples thereof include diisocyanates, modified products of these diisocyanates, and mixtures of two or more thereof.

エポキシ変性物は、(b2211)または(b2212)と、ジエポキシド[エポキシ当量85〜600、例えばジグリシジルエーテル、ジグリシジルエステル、脂環式ジエポキシド(1,2,5,6−ジエポキシクロオクタン)等]とを反応させるか、(b2211)とエピハロヒドリン(エピクロルヒドリン等)とを反応させることにより得ることができる。   Epoxy modified products include (b2211) or (b2212), diepoxide [epoxy equivalent 85-600, such as diglycidyl ether, diglycidyl ester, alicyclic diepoxide (1,2,5,6-diepoxy crooctane), etc. ] Or a reaction between (b2211) and epihalohydrin (such as epichlorohydrin).

(b221)のMnは、耐熱性および(b21)との反応性の観点から好ましくは150〜20,000、さらに好ましくは300〜20,000、特に好ましくは1,000〜15,000、最も好ましくは1,200〜8,000である。   Mn of (b221) is preferably 150 to 20,000, more preferably 300 to 20,000, particularly preferably 1,000 to 15,000, most preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with (b21). Is 1,200 to 8,000.

ポリエーテルエステルアミド(b2221)は、末端にカルボキシル基を有するポリアミド(Q1)とポリエーテルジオール(b2211)とから構成される。
(Q1)としては、C4〜20のラクタム(Q11)(前記のもの)の開環重合体;C2〜20のアミノカルボン酸(Q12)(前記のもの)の重縮合体;ジアミン(Q13)(前記のもの)(C2〜20の脂肪族ジアミン、C6〜15の脂環式ジアミン、C8〜15の芳香脂肪族ジアミンおよびC6〜15の芳香族ジアミン等)とC2〜20のジカルボン酸(Q14)(前記のもの)〔脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸およびこれらのエステル形成性誘導体[低級アルキル(C1〜6)エステル、無水物等]等〕とのポリアミド(Q15);およびこれらの混合物が挙げられる。
(Q1)として導電性の観点から好ましいのは、カプロラクタムの開環重合体、12−アミノドデカン酸の重縮合体およびアジピン酸とヘキサメチレンジアミンとのポリアミド、さらに好ましいのはカプロラクタムの開環重合体である。
The polyether ester amide (b2221) is composed of a polyamide (Q1) having a carboxyl group at the terminal and a polyether diol (b2211).
(Q1) includes a ring-opening polymer of C4-20 lactam (Q11) (described above); a polycondensate of C2-20 aminocarboxylic acid (Q12) (described above); diamine (Q13) ( The above) (C2-20 aliphatic diamine, C6-15 alicyclic diamine, C8-15 araliphatic diamine, C6-15 aromatic diamine, etc.) and C2-20 dicarboxylic acid (Q14) (The foregoing) Polyamide (Q15) with [aliphatic dicarboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid, alicyclic dicarboxylic acid and their ester-forming derivatives [lower alkyl (C1-6) ester, anhydride, etc.], etc.] And mixtures thereof.
(Q1) is preferably a ring-opening polymer of caprolactam, a polycondensate of 12-aminododecanoic acid and a polyamide of adipic acid and hexamethylenediamine, and more preferably a ring-opening polymer of caprolactam. It is.

ポリエーテルアミドイミド(b2222)としては、少なくとも1個のイミド環を有するポリアミドイミド(Q2)とポリエーテルジオール(b2211)とから構成される。
(Q2)としては、C4〜20のラクタム(Q11)と少なくとも1個のイミド環を形成しうる3価または4価の芳香族ポリカルボン酸(Q21)とからなる重合体;C2〜20のアミノカルボン酸(Q12)と(Q21)とからなる重合体;ポリアミド(Q15)と(Q21)とからなる重合体;およびこれらの混合物が挙げられる。
The polyetheramide imide (b2222) is composed of a polyamideimide (Q2) having at least one imide ring and a polyether diol (b2211).
(Q2) includes a polymer comprising a C4-20 lactam (Q11) and a trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid (Q21) capable of forming at least one imide ring; a C2-20 amino Examples thereof include a polymer composed of carboxylic acid (Q12) and (Q21); a polymer composed of polyamide (Q15) and (Q21); and a mixture thereof.

ポリエーテルエステル(b2223)は、ポリエステル(Q3)とポリエーテルジオール(b2211)とから構成される。
(Q3)としては、C2〜20のジカルボン酸(Q14)とグリコール[前記(b111)として例示したもの]とのポリエステル;C6〜12のラクトン(前記のもの)もしくはC2〜20のヒドロキシカルボン酸のポリエステル;およびこれらの混合物が挙げられる。
ポリエーテルアミド(b2224)は、ポリアミド(Q1)とポリエーテルジアミン(b2212)とから構成される。
ポリエーテルウレタン(b2225)は、前記有機ジイソシアネートと、ポリエーテルジオール(b2211)またはポリエーテルジアミン(b2212)および必要により鎖伸長剤[前記(b111)例示のグリコールおよびジアミン(Q31)等]とから構成される。
The polyether ester (b2223) is composed of polyester (Q3) and polyether diol (b2211).
(Q3) is a polyester of C2-20 dicarboxylic acid (Q14) and glycol [as exemplified as (b111) above]; C6-12 lactone (above) or C2-20 hydroxycarboxylic acid Polyesters; and mixtures thereof.
The polyether amide (b2224) is composed of polyamide (Q1) and polyether diamine (b2212).
The polyether urethane (b2225) is composed of the organic diisocyanate, the polyether diol (b2211) or the polyether diamine (b2212) and, if necessary, the chain extender [glycol and diamine (Q31) etc. exemplified in the (b111)]. Is done.

ポリエーテル含有親水性ポリマー(b222)中のポリエーテル(b221)セグメントの含量は、成形性の観点から好ましくは、(b222)の重量に基づいて30〜80重量%、さらに好ましくは40〜70重量%である。
(b222)中のオキシエチレン基の含量は、導電性および成形性の観点から、(b222)の重量に基づいて30〜80重量%、さらに好ましくは40〜70重量%である。
(b222)のMnは、耐熱性の観点から好ましい下限は800、さらに好ましくは1,000、ポリオレフィン(b21)との反応性の観点から好ましい上限は50,000、さらに好ましくは30,000である。
The content of the polyether (b221) segment in the polyether-containing hydrophilic polymer (b222) is preferably 30 to 80% by weight, more preferably 40 to 70% by weight based on the weight of (b222), from the viewpoint of moldability. %.
The content of the oxyethylene group in (b222) is 30 to 80% by weight, more preferably 40 to 70% by weight, based on the weight of (b222), from the viewpoints of conductivity and moldability.
Mn of (b222) is preferably 800, more preferably 1,000 from the viewpoint of heat resistance, and 50,000, more preferably 30,000, from the viewpoint of reactivity with polyolefin (b21). .

カチオン性ポリマー(b223)としては、非イオン性分子鎖(b2231)で隔てられた2〜80個、好ましくは3〜60個のカチオン性基(b2232)を分子内に有するカチオン性ポリマーが使用できる。
非イオン性分子鎖(b2231)としては、2価の炭化水素基;エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および/またはシロキシ結合を有する有機基並びに窒素原子または酸素原子を含む複素環構造を有する有機基からなる群より選ばれる少なくとも1種の2価の有機基;およびこれらの2種以上の併用が挙げられる。
As the cationic polymer (b223), a cationic polymer having 2 to 80, preferably 3 to 60, cationic groups (b2232) separated by a nonionic molecular chain (b2231) in the molecule can be used. .
As the nonionic molecular chain (b2231), a divalent hydrocarbon group; ether bond, thioether bond, carbonyl bond, ester bond, imino bond, amide bond, imide bond, urethane bond, urea bond, carbonate bond and / or And at least one divalent organic group selected from the group consisting of an organic group having a siloxy bond and an organic group having a heterocyclic structure containing a nitrogen atom or an oxygen atom; and combinations of two or more thereof.

2価の炭化水素基としては、C1〜18(好ましくは2〜8)の直鎖もしくは分岐の飽和または不飽和脂肪族炭化水素基(アルキレン基およびアルケニレン基等)、C6〜20の芳香(脂肪)族炭化水素基およびC4〜15の脂環式炭化水素基等が挙げられる。
エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合、イミノ結合、アミド結合、イミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合および/またはシロキシ結合を有する2価の有機基としては、(ポリ)オキシアルキレン基、例えば前記ポリエーテルジオール(b2211)またはモノエーテルジオールから水酸基を除いた残基;上記に相当する(酸素原子がイオウ原子に置き換った)ポリチオエーテルからSHを除いた残基;ポリエステルおよび/またはポリアミドからカルボキシル基またはアミノ基を除いた残基;ポリウレタンおよび/またはポリウレアから水酸基、アミノ基またはイソシアネート基を除いた残基;ポリカーボネート[前記グリコール(b111)とホスゲンとから誘導されるもの]から水酸基を除いた残基;ポリオルガノシロキサンから水酸基を除いた残基等が挙げられる。
Examples of the divalent hydrocarbon group include a C1-18 (preferably 2-8) linear or branched saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group (such as an alkylene group and an alkenylene group), and a C6-20 aroma (fatty). ) Group hydrocarbon group and C4-15 alicyclic hydrocarbon group.
As the divalent organic group having an ether bond, thioether bond, carbonyl bond, ester bond, imino bond, amide bond, imide bond, urethane bond, urea bond, carbonate bond and / or siloxy bond, (poly) oxyalkylene group For example, a residue obtained by removing a hydroxyl group from the polyether diol (b2211) or monoether diol; a residue obtained by removing SH from a polythioether corresponding to the above (in which an oxygen atom is replaced by a sulfur atom); Or a residue obtained by removing a carboxyl group or an amino group from polyamide; a residue obtained by removing a hydroxyl group, an amino group or an isocyanate group from polyurethane and / or polyurea; a polycarbonate [derived from the glycol (b111) and phosgene] Hydroxyl group Except residues; residues such as by removing a hydroxyl group from polyorganosiloxanes are exemplified.

これらの非イオン性分子鎖(b2231)のうち導電性の観点から好ましいのは、2価の炭化水素基およびエーテル結合を有する2価の有機基、さらに好ましいのはC2〜8のアルキレン基(プロピレン基、ブチレン基、ヘキサメチレン基等)、フェニレン基および(ポリ)オキシアルキレン基を有する2価の有機基、特に好ましいのは(ポリ)オキシエチレン基を有する2価の有機基、(ポリ)オキシプロピレン基を有する2価の有機基である。
非イオン性分子鎖(b2231)のMnは導電性の観点から好ましくは28〜10,000、さらに好ましくは300〜5,000である。
Among these nonionic molecular chains (b2231), from the viewpoint of conductivity, a divalent hydrocarbon group and a divalent organic group having an ether bond are more preferable, and a C2-8 alkylene group (propylene) is more preferable. A divalent organic group having a phenylene group and a (poly) oxyalkylene group, particularly preferably a divalent organic group having a (poly) oxyethylene group, (poly) oxy It is a divalent organic group having a propylene group.
Mn of the nonionic molecular chain (b2231) is preferably 28 to 10,000, more preferably 300 to 5,000, from the viewpoint of conductivity.

カチオン性基(b2232)としては、4級アンモニウム塩またはホスホニウム塩を有する基が挙げられる。4級アンモニウム塩を有する基としては、導電性の観点から2価の4級アンモニウム塩含有複素環基が好ましい。
2価の4級アンモニウム塩基含有複素環基としては、2価の3級アミノ基含有複素環基[2価のイミダゾール環基(1,4−イミダゾレン基および2−フェニル−1,4−イミダゾレン基等)、2価のピペリジン環基(2,3−、3,4−および2,6−ピペリジレン基等)および2価の芳香複素環基(2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−および3,5−ピリジレン基、2,5−ピリミジニレン基、3,6−ピリダジニレン基および2,5−ピラジニレン基等)等]が4級化剤[アルキル(C1〜12)ハライド(メチルクロライド等)、ジアルキル(アルキル基のC1〜12)硫酸(ジメチル硫酸等)等]で4級化された構造の基が挙げられる。
Examples of the cationic group (b2232) include a group having a quaternary ammonium salt or a phosphonium salt. The group having a quaternary ammonium salt is preferably a divalent quaternary ammonium salt-containing heterocyclic group from the viewpoint of conductivity.
As the divalent quaternary ammonium base-containing heterocyclic group, a divalent tertiary amino group-containing heterocyclic group [divalent imidazole ring group (1,4-imidazolene group and 2-phenyl-1,4-imidazolene group] Etc.) Divalent piperidine ring groups (2,3-, 3,4- and 2,6-piperidylene groups etc.) and divalent aromatic heterocyclic groups (2,3-, 2,4-, 2,5) -, 2,6-, 3,4- and 3,5-pyridylene groups, 2,5-pyrimidinylene groups, 3,6-pyridazinylene groups and 2,5-pyrazinylene groups, etc.)] are quaternizing agents [alkyl And (C1-12) halide (methyl chloride, etc.), dialkyl (C1-12 of alkyl group) sulfuric acid (dimethylsulfuric acid, etc.) and the like].

(b2232)の対アニオンとしては、後述する超強酸の共役塩基およびその他のアニオンが挙げられる。
その他のアニオンとしては、ハロゲンイオン(F-、Cl-、Br-およびI-)、OH-、PO4 3-、CH3OSO3 -、C25OSO3 -、ビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸イオンおよびClO4 -等が挙げられる。
これらのうち初期電導度の観点から好ましいのはアニオンのHamett酸度関数(−H0)が12〜100である、超強酸の共役塩基、超強酸の共役塩基以外のアニオンおよびこれらの混合物である。
Examples of the counter anion of (b2232) include a conjugate base of a super strong acid described later and other anions.
Other anions include halogen ions (F , Cl , Br and I ), OH , PO 4 3− , CH 3 OSO 3 , C 2 H 5 OSO 3 , bis (trifluoromethylsulfonyl). ) Imido ion and ClO 4- and the like.
Among these, from the viewpoint of initial conductivity, preferred are an anion other than the conjugate base of a super strong acid, a conjugate base of a super strong acid, and a mixture thereof, having an Hammett acidity function (−H 0 ) of the anion of 12 to 100.

カチオン性ポリマー(b223)の末端構造は、ポリオレフィン(b21)との反応性の観点から好ましいのはカルボニル基を含有する基、水酸基およびアミノ基である。
(b223)のMnは、導電性およびポリオレフィン(b21)との反応性の観点から、好ましくは500〜20,000、さらに好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは1,200〜8,000である。
The terminal structure of the cationic polymer (b223) is preferably a group containing a carbonyl group, a hydroxyl group and an amino group from the viewpoint of reactivity with the polyolefin (b21).
Mn of (b223) is preferably 500 to 20,000, more preferably 1,000 to 15,000, and particularly preferably 1,200 to 8,8, from the viewpoint of conductivity and reactivity with polyolefin (b21). 000.

アニオン性ポリマー(b224)としては、スルホン酸基を有するジカルボン酸と、グリコール(b111)またはポリエーテル(b221)とを必須構成単位とし、かつ分子内に導電性の観点から好ましくは2〜80個、さらに好ましくは3〜60個のスルホン酸基を有するアニオン性ポリマーが挙げられる。
スルホン酸基を有するジカルボン酸としては、スルホン酸基含有芳香(脂肪)族ジカルボン酸、スルホン酸基含有脂肪族ジカルボン酸およびこれらのスルホン酸基のみが塩となったものが挙げられる。
As the anionic polymer (b224), dicarboxylic acid having a sulfonic acid group and glycol (b111) or polyether (b221) are essential constituent units, and preferably 2 to 80 from the viewpoint of conductivity in the molecule. More preferable examples include anionic polymers having 3 to 60 sulfonic acid groups.
Examples of the dicarboxylic acid having a sulfonic acid group include a sulfonic acid group-containing aromatic (aliphatic) dicarboxylic acid, a sulfonic acid group-containing aliphatic dicarboxylic acid, and a salt of only these sulfonic acid groups.

スルホン酸基含有芳香(脂肪)族ジカルボン酸としては、C8〜20、例えば2−、5−および4−スルホイソフタル酸、4−スルホ−2,6−ナフタレンジカルボン酸およびこれらのエステル形成性誘導体[低級アルキル(C1〜4)エステル(メチルエステル、エチルエステル等)、酸無水物等]が挙げられる。
スルホン酸基含有脂肪族ジカルボン酸としては、C8〜20、例えばスルホコハク酸およびそのエステル形成性誘導体が挙げられる。
これらのスルホン酸基のみが塩となったものとしては、上記ジカルボン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、ヒドロキシアルキル(C2〜4)基を有するモノ−、ジ−およびトリアルカノールアミン等のアミン塩、これらアミンの四級アンモニウム塩およびこれらの2種以上の併用が挙げられる。
これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、スルホン酸基を有する芳香(脂肪)族ジカルボン酸である。
Examples of the sulfonic acid group-containing aromatic (aliphatic) dicarboxylic acid include C8-20, such as 2-, 5- and 4-sulfoisophthalic acid, 4-sulfo-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and ester-forming derivatives thereof [ Lower alkyl (C1-4) ester (methyl ester, ethyl ester, etc.), acid anhydride, etc.].
Examples of the sulfonic acid group-containing aliphatic dicarboxylic acid include C8-20, for example, sulfosuccinic acid and ester-forming derivatives thereof.
Examples of the salts of only these sulfonic acid groups include alkali metal salts, alkaline earth metal salts, ammonium salts, mono-, di- and trialkanols having a hydroxyalkyl (C2-4) group. Examples include amine salts such as amines, quaternary ammonium salts of these amines, and combinations of two or more of these.
Of these, aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids having a sulfonic acid group are preferred from the viewpoint of antistatic properties.

アニオン性ポリマー(b224)を構成するグリコール(b111)またはポリエーテル(b221)のうち導電性の観点から好ましいのは、C2〜10のアルカンジオール、EG、PEG(重合度2〜20)、ビスフェノール(ビスフェノールA等)のEO付加物(付加モル数2〜60)およびこれらの2種以上の混合物である。
(b224)のMnは、導電性およびポリオレフィン(b21)との反応性の観点から、好ましくは500〜20,000、さらに好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは1,200〜8,000である。
Of the glycol (b111) or polyether (b221) constituting the anionic polymer (b224), preferred are C2-10 alkanediol, EG, PEG (degree of polymerization 2-20), bisphenol ( EO adduct (addition mole number 2 to 60) of bisphenol A and the like, and a mixture of two or more thereof.
Mn of (b224) is preferably from 500 to 20,000, more preferably from 1,000 to 15,000, particularly preferably from 1,200 to 8,8, from the viewpoints of conductivity and reactivity with polyolefin (b21). 000.

ブロックポリマー(B2)の構造において、ポリオレフィン(b21)のブロックと、親水性ポリマー(b22)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数(Nn)は、通常2〜50、導電性の観点から好ましくは2.3〜30、さらに好ましくは2.7〜20、特に好ましくは3〜10である。Nnがこの範囲であると、好ましい。
Nnは、(B2)のMnおよび1H−NMR分析から、国際公開パンフレットWO00/47652に記載されている方法で求めることができる。
In the structure of the block polymer (B2), the average repeating number (Nn) of repeating units of the polyolefin (b21) block and the hydrophilic polymer (b22) block is usually 2 to 50, preferably from the viewpoint of conductivity. It is 2.3-30, More preferably, it is 2.7-20, Most preferably, it is 3-10. Nn is preferably in this range.
Nn can be determined by the method described in International Publication Pamphlet WO00 / 47652 from the Mn and 1 H-NMR analysis of (B2).

ブロックポリマー(B2)のMnは、導電性の観点から好ましくは、2,000〜60,000、さらに好ましくは5,000〜40,000、特に好ましくは8,000〜30,000である。
(B2)を構成する親水性ポリマー(b22)の割合は、ポリオレフィン(b21)と親水性ポリマー(b22)の合計重量に基づいて導電性の観点から、好ましくは20〜90重量%、さらに好ましくは30〜70重量%である。
The Mn of the block polymer (B2) is preferably 2,000 to 60,000, more preferably 5,000 to 40,000, and particularly preferably 8,000 to 30,000 from the viewpoint of conductivity.
The proportion of the hydrophilic polymer (b22) constituting (B2) is preferably 20 to 90% by weight, more preferably from the viewpoint of conductivity based on the total weight of the polyolefin (b21) and the hydrophilic polymer (b22). 30 to 70% by weight.

(B2)の製法としては、例えば、以下のものが挙げられる。
<(B2)の製法>
公知の方法、例えばカルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b211)に、ポリエーテルジオール(b2211)を加えて減圧下(1mmHg以下)、通常200〜250℃で重合(重縮合)反応を行う方法、または、一軸もしくは二軸の押出機を用い、通常160〜250℃、滞留時間0.1〜20分で重合する方法により製造することができる。
上記の重合反応では、公知の触媒、例えばアンチモン触媒(三酸化アンチモン等);スズ触媒(モノブチルスズオキシド等);チタン触媒(テトラブチルチタネート等);ジルコニウム触媒(テトラブチルジルコネート等);有機酸金属塩触媒[ジルコニウム有機酸塩(酢酸ジルコニル等)、酢酸亜鉛等];およびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、ジルコニウム触媒およびジルコニウム有機酸塩、さらに好ましいのは酢酸ジルコニルである。
触媒の使用量は、ポリオレフィン(b211)とポリエーテルジオール(b2211)の合計重量に基づいて、通常0.001〜5重量%、好ましくは0.01〜3重量%である。
本発明の導電性樹脂組成物は得られた(B2)とポリマー型イオン性液体(A)を混練することにより製造することができる。
As a manufacturing method of (B2), the following are mentioned, for example.
<Production method of (B2)>
A known method, for example, polyether diol (b2211) is added to polyolefin (b211) having carbonyl groups at both ends of the polymer, and polymerization (polycondensation) reaction is carried out under reduced pressure (1 mmHg or less), usually at 200 to 250 ° C. It can be produced by a method or a polymerization method using a uniaxial or biaxial extruder, usually at 160 to 250 ° C. and a residence time of 0.1 to 20 minutes.
In the above polymerization reaction, known catalysts such as antimony catalyst (antimony trioxide, etc.); tin catalyst (monobutyltin oxide, etc.); titanium catalyst (tetrabutyl titanate, etc.); zirconium catalyst (tetrabutyl zirconate, etc.); organic acid Metal salt catalysts [zirconium organic acid salts (such as zirconyl acetate), zinc acetate, etc.]; and mixtures of two or more of these. Of these, preferred are zirconium catalyst and zirconium organic acid salt, and more preferred is zirconyl acetate.
The usage-amount of a catalyst is 0.001 to 5 weight% normally based on the total weight of polyolefin (b211) and polyether diol (b2211), Preferably it is 0.01 to 3 weight%.
The conductive resin composition of the present invention can be produced by kneading the obtained (B2) and the polymer type ionic liquid (A).

[導電性樹脂組成物]
本発明の導電性樹脂組成物は、上記ブロックポリマー(B)に前記ポリマー型イオン性液体(A)を含有させ溶融混練することにより製造することができる。
(A)と(B)の重量比は導電性および樹脂強度の観点から好ましくは1/99〜50/50、さらに好ましくは5/95〜40/60、とくに好ましくは10/90〜30/70である。
[Conductive resin composition]
The conductive resin composition of the present invention can be produced by adding the polymer type ionic liquid (A) to the block polymer (B) and melt-kneading.
The weight ratio of (A) to (B) is preferably from 1/99 to 50/50, more preferably from 5/95 to 40/60, particularly preferably from 10/90 to 30/70, from the viewpoints of conductivity and resin strength. It is.

本発明の導電性樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲で、必要によりアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩(C1)、界面活性剤(C2)、(A)以外のイオン性液体(C3)、相溶化剤(C4)およびその他の樹脂用添加剤(C5)からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤(C)を含有させてもよい。   In the conductive resin composition of the present invention, an ionicity other than the alkali metal or alkaline earth metal salt (C1), surfactant (C2), or (A) is included as long as the effects of the present invention are not impaired. You may contain the at least 1 sort (s) of additive (C) chosen from the group which consists of a liquid (C3), a compatibilizing agent (C4), and the other additive (C5) for resin.

(C1)としては、アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)および/またはアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)の有機酸(C1〜12のモノ−およびジ−カルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、コハク酸;C1〜20のスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸;チオシアン酸)の塩、および無機酸(ハロゲン化水素酸、例えば塩酸、臭化水素酸;過塩素酸;硫酸;硝酸;リン酸)の塩が使用できる。   (C1) include alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) and / or alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.) organic acids (C1-12 mono- and dicarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, Propionic acid, oxalic acid, succinic acid; salts of C1-20 sulfonic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid; thiocyanic acid, and inorganic acids (hydrohalic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid; A salt of perchloric acid; sulfuric acid; nitric acid; phosphoric acid) can be used.

(C1)の具体例としては、ハライド[フッ化物(フッ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、塩化物(塩化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、臭化物(臭化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)およびヨウ化物(ヨウ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)等]、過塩素酸塩(過塩素酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、フッ化スルホン酸塩(フルオロスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、メタンスルホン酸塩(メタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリフルオロメタンスルホン酸塩(トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ペンタフルオロエタンスルホン酸塩(ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ノナフルオロブタンスルホン酸塩(ノナフルオロブタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸塩(ウンデカフルオロペンタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸塩(トリデカフルオロヘキサンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、酢酸塩(酢酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、硫酸塩(硫酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、燐酸塩(燐酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、チオシアン酸塩(チオシアン酸カリウム等)等が挙げられる。
これらのうち導電性の観点から好ましいのは、ハライド、過塩素酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、酢酸塩、さらに好ましいのは塩化リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、過塩素酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、酢酸カリウムである。
Specific examples of (C1) include halides [fluorides (lithium fluoride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), chlorides (lithium chloride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.) ), Bromides (such as lithium bromide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium) and iodides (such as lithium iodide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium)], perchlorates ( Lithium perchlorate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), fluorinated sulfonates (lithium fluorosulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), methanesulfonate (methane) Lithium sulfonate, -sodium, -ca Um, -magnesium and -calcium), trifluoromethanesulfonate (lithium trifluoromethanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium, etc.), pentafluoroethanesulfonate (lithium pentafluoroethanesulfonate, -Sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), nonafluorobutane sulfonate (such as lithium nonafluorobutane sulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), undecafluoropentane sulfonate ( Undecafluoropentanesulfonate lithium, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), tridecafluorohexanesulfonate (tridecafluorohexanesulfone) Lithium acid, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), acetate (lithium acetate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), sulfate (sodium sulfate, -potassium, -magnesium and- Calcium, etc.), phosphates (sodium phosphate, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), thiocyanates (potassium thiocyanate, etc.) and the like.
Of these, halide, perchlorate, trifluoromethanesulfonate, and acetate are preferable from the viewpoint of conductivity, and lithium chloride, -potassium and -sodium, lithium perchlorate, -potassium and-are more preferable. Sodium, lithium trifluoromethanesulfonate, -potassium and -sodium, potassium acetate.

(C1)の使用量は、(A)、(B)の合計重量に基づいて通常10%以下、成形品の導電性の観点および成形品表面に析出せず良好な外観の成形品を与える観点から、好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜4%、特に好ましくは0.1〜2%、最も好ましくは0.15〜1%である。
(C1)を含有させる方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散のさせ易さから、親水性基含有ポリマー(B)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(B)中へ(C)を分散させる場合、(B)の製造(重合)時に予め(C1)を含有、分散させておくのが特に好ましい。(C1)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
The amount of (C1) used is usually 10% or less based on the total weight of (A) and (B). From the viewpoint of the conductivity of the molded article and the viewpoint of giving a molded article having a good appearance without depositing on the surface of the molded article. Therefore, it is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 4%, particularly preferably 0.1 to 2%, and most preferably 0.15 to 1%.
The method for containing (C1) is not particularly limited, but it is preferable to disperse it in advance in the hydrophilic group-containing polymer (B) from the viewpoint of ease of effective dispersion in the composition.
Further, when (C) is dispersed in (B), it is particularly preferable that (C1) is contained and dispersed in advance during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (C1) is contained during the production of (B), and any time before polymerization, during polymerization, or immediately after polymerization may be used.

(C2)としては、非イオン性、アニオン性、カチオン性および両性の界面活性剤、並びにこれらの混合物が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えばEO付加型非イオン性界面活性剤[例えば高級アルコール(C8〜18、以下同じ)、高級脂肪酸(C8〜24、以下同じ)または高級アルキルアミン(C8〜24)のEO付加物(分子量158以上かつMn200,000以下);グリコールのEO付加物であるポリアルキレングリコール(分子量150以上かつMn6,000以下)の高級脂肪酸エステル;多価アルコール(C2〜18の2価〜8価またはそれ以上、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタン)高級脂肪酸エステルのEO付加物(分子量250以上かつMn30,000以下);高級脂肪酸アミドのEO付加物(分子量200以上かつMn30,000以下);および多価アルコール(前記のもの)アルキル(C3〜60)エーテルのEO付加物(分子量120以上かつMn30,000以下)]、および多価アルコ−ル(C3〜60)型非イオン性界面活性剤[例えば多価アルコールの脂肪酸(C3〜60)エステル、多価アルコールのアルキル(C3〜60)エーテルおよび脂肪酸(C3〜60)アルカノールアミド]が挙げられる。
(C2) includes nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants, and mixtures thereof.
Nonionic surfactants include, for example, EO addition type nonionic surfactants [for example, higher alcohols (C8-18, the same shall apply hereinafter), higher fatty acids (C8-24, the same shall apply hereinafter) or higher alkylamines (C8-24). ) EO adduct (molecular weight 158 or more and Mn 200,000 or less); higher fatty acid ester of polyalkylene glycol (molecular weight 150 or more and Mn 6,000 or less) which is an EO adduct of glycol; polyhydric alcohol (C2-18-2) EO adduct of higher fatty acid ester (molecular weight of 250 or more and Mn of 30,000 or less); EO adduct of higher fatty acid amide (molecular weight 200) And Mn 30,000 or less); And polyhydric alcohol (as described above) EO adduct of alkyl (C3-60) ether (molecular weight of 120 or more and Mn of 30,000 or less)], and polyhydric alcohol (C3-60) type nonionic surfactant [For example, fatty acid (C3-60) ester of polyhydric alcohol, alkyl (C3-60) ether of polyhydric alcohol and fatty acid (C3-60) alkanolamide].

アニオン性界面活性剤としては、上記(C1)を除く化合物が使用でき、例えば、高級脂肪酸塩等のカルボン酸塩;高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩等の硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;高級アルコールリン酸エステル塩等のリン酸エステル塩等が挙げられる。   As the anionic surfactant, compounds other than the above (C1) can be used, for example, carboxylates such as higher fatty acid salts; sulfates such as higher alcohol sulfates and higher alkyl ether sulfates, alkylbenzene sulfones. Examples thereof include sulfonates such as acid salts, alkyl sulfonates, and paraffin sulfonates; and phosphate ester salts such as higher alcohol phosphate salts.

カチオン性界面活性剤としては、第4級アンモニウム塩型[例えばテトラアルキル(C4〜100)アンモニウム塩(例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド)、トリアルキル(C3〜80)ベンジルアンモニウム塩(例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム)、アルキル(C2〜60)ピリジニウム塩(例えばセチルピリジニウムクロライド)、ポリオキシアルキレン(C2〜4)トリアルキルアンモニウム塩(例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド)およびサパミン型第4級アンモニウム塩(例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート)];およびアミン塩型[例えば高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン)の無機酸(例えば塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸)塩、脂肪族アミン(C1〜30)のエチレンオキシド付加物等の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩および3級アミン(C3〜30、例えばトリエタノールアミンモノステアレートおよびステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン)の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩]が挙げられる。   Cationic surfactants include quaternary ammonium salt types [eg, tetraalkyl (C4-100) ammonium salts (eg, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), Alkyl (C3-80) benzylammonium salts (eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride), alkyl (C2-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride), polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium salts (Eg, polyoxyethylenetrimethylammonium chloride) and sapamine type quaternary ammonium salts (eg, stearamide ester) Rudiethylmethyl ammonium methosulfate)]; and amine salt forms [eg higher aliphatic amines (C12-60, eg laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine and rosinamine) inorganic acids (eg hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and Phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, eg acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, ethylene oxide adducts of aliphatic amines (C1-30) Inorganic acids (above) or organic acids (above) salts and tertiary amines (C3-30, eg triethanolamine monostearate and stearamide ethyl diethyl methylethanolamine) Thing) salt or organic acid (above thing) salt] It is.

両性界面活性剤としては、高級アルキルアミノプロピオン酸塩等のアミノ酸型両性界面活性剤、高級アルキルジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン等のベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)のプロピオン酸塩]、ベタイン型両性界面活性剤[例えば高級アルキル(C12〜18)ジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)の硫酸エステル塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステル塩]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(例えばペンタデシルスルホタウリン塩およびイミダゾリンスルホン酸塩)およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤[例えばグリセリン高級脂肪酸(C8〜24)エステル化物のリン酸エステル塩]が挙げられる。
Examples of amphoteric surfactants include amino acid-type amphoteric surfactants such as higher alkylaminopropionates, and betaine-type amphoteric surfactants such as higher alkyldimethylbetaine and higher alkyldihydroxyethylbetaine.
Examples of amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants [for example, propionates of higher alkylamines (C8-24)], betaine type amphoteric surfactants [for example, higher alkyl (C12-18) dimethylbetaines, higher alkyldihydroxys. Ethyl betaine], sulfate ester type amphoteric surfactants [for example, sulfate esters of higher alkylamines (C8-24) and hydroxyethylimidazoline sulfate esters], sulfonate type amphoteric surfactants (eg, pentadecyl sulfotaurine salts) And imidazoline sulfonate) and phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, phosphate ester salts of glycerin higher fatty acid (C8-24) esterified products].

これらは単独でも2種以上を併用してもよい。
上記のアニオン性および両性界面活性剤における塩には、金属塩、例えばアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウム等)およびIIB族金属(亜鉛等)の塩;アンモニウム塩;並びに、アミン塩[アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩等]および4級アンモニウム塩が含まれる。
これらのうち、導電性の観点から好ましいのはアニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、特に好ましいのはアルキルベンゼンスルホン酸塩(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等)、アルキルスルホン酸塩およびパラフィンスルホン酸塩である。
These may be used alone or in combination of two or more.
Salts in the above anionic and amphoteric surfactants include metal salts, such as salts of alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.) and group IIB metals (zinc, etc.); And ammonium salts [alkylamine (C1-20) and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di- and triethanolamine) salts] and quaternary ammonium salts.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of conductivity, sulfonates are more preferred, alkylbenzene sulfonates (such as sodium dodecylbenzene sulfonate), alkyl sulfonates and paraffin sulfones are particularly preferred. Acid salt.

(C2)の使用量は、(A)、(B)の合計重量に基づいて通常10%以下、成形品の導電性および耐水性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%、特に好ましくは0.1〜2.5%である。
(C2)を含有させる方法については特に限定はないが、樹脂組成物中へ効果的に分散させるためには、(B)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(B)中へ(C2)を分散させる場合、(B)の製造(重合)時に該(C2)を予め含有、分散させておくのが特に好ましい。(C2)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後の何れでもよい。
The amount of (C2) used is usually 10% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably from 0.001 to 5%, more preferably 0 from the viewpoint of the conductivity and water resistance of the molded product. 0.01 to 3%, particularly preferably 0.1 to 2.5%.
The method for containing (C2) is not particularly limited, but in order to effectively disperse it in the resin composition, it is preferable to disperse it in (B) in advance. Further, when (C2) is dispersed in (B), it is particularly preferable that (C2) is previously contained and dispersed during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (C2) is contained during the production of (B), and any time before polymerization, during polymerization, or immediately after polymerization may be used.

(C3)は、(A)以外のイオン性液体で、上記(C1)および(C2)を除く化合物であり、100℃以下の融点または室温以下のTgを有し、(C3)を構成するカチオンまたはアニオンのうち少なくとも一つが有機物イオンである。(C3)を構成するカチオンとしては、前記(a1)、(a2)が挙げられる。   (C3) is an ionic liquid other than (A) and is a compound other than the above (C1) and (C2), and has a melting point of 100 ° C. or lower or a Tg of room temperature or lower, and constitutes (C3) Alternatively, at least one of the anions is an organic ion. Examples of the cation constituting (C3) include the above (a1) and (a2).

上記の(a1)および(a2)は1種単独でも、また2種以上を併用してもいずれでもよい。これらのうち、導電性の観点から好ましいのは(a1)、さらに好ましいのはイミダゾリウムカチオン、特に好ましいのは1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。   The above (a1) and (a2) may be used alone or in combination of two or more. Of these, (a1) is preferable from the viewpoint of conductivity, imidazolium cation is more preferable, and 1-ethyl-3-methylimidazolium cation is particularly preferable.

(C3)において、アニオンを構成する有機酸または無機酸としては下記のものが挙げられる。
有機酸としては、例えばカルボン酸、硫酸エステル、スルホン酸およびリン酸エステルが挙げられる。
無機酸としては、例えば超強酸(例えばホウフッ素酸、四フッ化ホウ素酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、六フッ化アンチモン酸および六フッ化ヒ素酸)、リン酸およびホウ酸が挙げられる。
上記有機酸および無機酸は1種単独でも2種以上の併用でもいずれでもよい。
上記有機酸および無機酸のうち、(C3)の導電性の観点から好ましいのは(C3)を構成するアニオンのHamett酸度関数(−H0)が12〜100である、超強酸の共役塩基、超強酸の共役塩基以外のアニオンを形成する酸およびこれらの混合物である。
In (C3), examples of the organic acid or inorganic acid constituting the anion include the following.
Examples of the organic acid include carboxylic acid, sulfuric acid ester, sulfonic acid and phosphoric acid ester.
Examples of the inorganic acid include super strong acids (for example, borofluoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroantimonic acid and hexafluoroarsenic acid), phosphoric acid and boric acid. It is done.
The organic acid and inorganic acid may be used alone or in combination of two or more.
Among the organic and inorganic acids, are preferred from the viewpoint of conductivity of the (C3) is anionic Hamett acidity function constituting the (C3) (-H 0) is 12 to 100, the superacid conjugate base, Acids that form anions other than conjugate bases of super strong acids and mixtures thereof.

超強酸の共役塩基以外のアニオンとしては、例えばハロゲン(例えばフッ素、塩素および臭素)イオン、アルキル(C1〜12)ベンゼンスルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(例えばウンデカフルオロペンタンスルホン酸)イオンが挙げられる。   Examples of the anion other than the conjugate base of the super strong acid include halogen (for example, fluorine, chlorine and bromine) ions, alkyl (C1-12) benzenesulfonic acid (for example, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid) ions and poly (n = 1-25) Fluoroalkanesulfonic acid (for example, undecafluoropentanesulfonic acid) ion.

超強酸としては、プロトン酸およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせから誘導されるもの、およびこれらの混合物が挙げられる。
超強酸としてのプロトン酸としては、例えばビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタン、過塩素酸、フルオロスルホン酸、アルカン(C1〜30)スルホン酸[例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸等)、ポリ(n=1〜30)フルオロアルカン(C1〜30)スルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸およびトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ホウフッ素酸および四フッ化ホウ素酸が挙げられる。
これらのうち合成の容易さの観点から好ましいのはホウフッ素酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸である。
Super strong acids include those derived from protonic acids and combinations of protonic acids and Lewis acids, and mixtures thereof.
Examples of the protonic acid as the super strong acid include bis (trifluoromethylsulfonyl) imidic acid, bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid, tris (trifluoromethylsulfonyl) methane, perchloric acid, fluorosulfonic acid, alkane (C1 -30) sulfonic acid [for example, methanesulfonic acid, dodecanesulfonic acid, etc.], poly (n = 1-30) fluoroalkane (C1-30) sulfonic acid (for example, trifluoromethanesulfonic acid, pentafluoroethanesulfonic acid, heptafluoropropane) Sulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid and tridecafluorohexanesulfonic acid), borofluoric acid and tetrafluoroboric acid.
Of these, borofluoric acid, trifluoromethanesulfonic acid and bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid are preferred from the viewpoint of ease of synthesis.

ルイス酸と組合せて用いられるプロトン酸としては、例えばハロゲン化水素(例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素)、過塩素酸、フルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうち(C3)の初期電導度の観点から好ましいのはフッ化水素である。
Examples of the protonic acid used in combination with the Lewis acid include hydrogen halide (for example, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide), perchloric acid, fluorosulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid. , Pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid, tridecafluorohexanesulfonic acid and mixtures thereof.
Of these, hydrogen fluoride is preferred from the viewpoint of the initial conductivity of (C3).

ルイス酸としては、例えば三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタルおよびこれらの混合物が挙げられる。これらのうちで、(DC3)の初期電導度の観点から好ましいのは三フッ化ホウ素および五フッ化リンである。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせからなる超強酸としては、例えばテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、六フッ化タンタル酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化タンタルスルホン酸、四フッ化ホウ素酸、六フッ化リン酸、塩化三フッ化ホウ素酸、六フッ化ヒ素酸およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, tantalum pentafluoride, and mixtures thereof. Among these, boron trifluoride and phosphorus pentafluoride are preferable from the viewpoint of the initial conductivity of (DC3).
The combination of the protonic acid and the Lewis acid is arbitrary, but as the super strong acid comprising these combinations, for example, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluorotantalic acid, hexafluoroantimonic acid, tantalum hexafluoride Examples include sulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, chloroboron trifluoride, arsenic hexafluoride, and mixtures thereof.

上記のアニオンのうち、(C3)の導電性の観点から好ましいのは超強酸の共役塩基(プロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸とルイス酸との組合せからなる超強酸)、さらに好ましいのはプロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸と、三フッ化ホウ素および/または五フッ化リンとからなる超強酸の共役塩基である。   Of the above anions, (C3) from the viewpoint of conductivity, a super strong acid conjugate base (a super strong acid comprising a proton acid and a super strong acid comprising a combination of a proton acid and a Lewis acid), and more preferably a proton. It is a conjugate base of a super strong acid consisting of a super strong acid and a proton acid consisting of an acid and boron trifluoride and / or phosphorus pentafluoride.

(C3)の使用量は、(A)、(B)の合計重量に基づいて通常10%以下、成形品の導電性および機械特性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(C3)を添加する方法については特に限定はないが、樹脂中への効果的な分散の観点から、(B)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(B)中へ(C3)を分散させる場合、(B)の製造(重合)時に予め(C3)を含有、分散させておくのが特に好ましい。(C3)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
The amount of (C3) used is usually 10% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably 0.001 to 5%, more preferably 0 from the viewpoint of the conductivity and mechanical properties of the molded product. 0.01 to 3%.
The method of adding (C3) is not particularly limited, but it is preferable to disperse in (B) in advance from the viewpoint of effective dispersion in the resin. Further, when (C3) is dispersed in (B), it is particularly preferable that (C3) is contained and dispersed in advance during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (C3) is contained during the production of (B), and any time before polymerization, during polymerization, or immediately after polymerization may be used.

(C3)の製造法としては、例えばジメチルカーボネート等で4級化して得られるアミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンのジメチルカーボネート塩に、酸[(C3)においてアニオンを構成する前記の有機酸または無機酸]を加えて酸交換を行う方法、または、アミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンを一旦加水分解してモノアミドアミンを生成した後、そのモノアミドアミンを酸で中和する方法が挙げられる。   The production method of (C3) includes, for example, the above-mentioned organic compound constituting an anion in an acid [(C3) and an amidinium cation and / or a guanidinium cation dimethyl carbonate salt obtained by quaternization with dimethyl carbonate or the like. Acid or inorganic acid] to perform acid exchange, or a method of once hydrolyzing the amidinium cation and / or guanidinium cation to produce a monoamidoamine, and then neutralizing the monoamidoamine with an acid Is mentioned.

相溶化剤(C4)としては、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基(極性基)を有する変性ビニル重合体等が使用でき、例えば、特開平3−258850号公報に記載の重合体が挙げられる。また、例えば、特開平6−345927号公報に記載のスルホニル基を有する変性ビニル重合体、ポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック重合体等も使用できる。
(C4)の使用量は、(A)、(B)の合計重量に基づいて、通常20%以下、成形品の導電性および機械特性の観点から好ましくは0.01〜15%、さらに好ましくは0.1〜10%、特に好ましくは1〜8%である。
(C4)を含有させる方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散もしくは溶解のさせ易さから、親水性基含有ポリマー(B)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(B)中へ(C4)を分散もしくは溶解させる場合、(B)の製造(重合)時に予め(C4)を含有させておくのが特に好ましい。(C4)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
As the compatibilizing agent (C4), a modified vinyl polymer having at least one functional group (polar group) selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group is used. Examples thereof include polymers described in JP-A-3-258850. Further, for example, a modified vinyl polymer having a sulfonyl group described in JP-A-6-345927, a block polymer having a polyolefin portion and an aromatic vinyl polymer portion, and the like can be used.
The amount of (C4) used is usually 20% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably from 0.01 to 15%, more preferably from the viewpoint of the conductivity and mechanical properties of the molded product. It is 0.1 to 10%, particularly preferably 1 to 8%.
The method for containing (C4) is not particularly limited, but it is preferable to disperse it in advance in the hydrophilic group-containing polymer (B) from the standpoint of effective dispersion or dissolution in the composition. . In addition, when (C4) is dispersed or dissolved in (B), it is particularly preferable to contain (C4) in advance during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (C4) is contained during the production of (B), and any time before polymerization, during polymerization, or immediately after polymerization may be used.

また、本発明の樹脂組成物には、種々の用途に応じ、本発明の効果を阻害しない範囲でその他の樹脂用添加剤(C5)を任意に添加することができる。
(C5)としては、核剤(C51)、滑剤(C52)、顔料(C53)、染料(C54)、離型剤(C55)、酸化防止剤(C56)、難燃剤(C57)、紫外線吸収剤(C5)、抗菌剤(C59)、分散剤(C510)、導電性物質(C511)および充填剤(C512)からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
Moreover, according to various uses, the other resin additive (C5) can be arbitrarily added to the resin composition of this invention in the range which does not inhibit the effect of this invention.
(C5) includes nucleating agent (C51), lubricant (C52), pigment (C53), dye (C54), mold release agent (C55), antioxidant (C56), flame retardant (C57), ultraviolet absorber Examples thereof include at least one selected from the group consisting of (C5), an antibacterial agent (C59), a dispersant (C510), a conductive substance (C511), and a filler (C512).

核剤(C51)としては、有機核剤[例えば1,3,2,4−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−p−t−ブチルベンゾエート、ソジウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェートおよび安息香酸ナトリウム]および無機核剤(例えばグラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化亜鉛、アルミナ、硫酸バリウムおよび硫酸カルシウム)が挙げられる。
滑剤(C52)としては、ワックス(例えばカルナバロウワックス、パラフィンワックスおよびポリオレフィンワックス)、高級脂肪酸(C8〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸およびリノレン酸)、高級アルコール(C8〜18、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコールおよびベヘニルアルコール)および高級脂肪酸アミド(C8〜24、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミドおよびリノレン酸アミド)が挙げられる。
Examples of the nucleating agent (C51) include organic nucleating agents [for example, 1,3,2,4-di-benzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium bis (4-t- Butylphenyl) phosphate and sodium benzoate] and inorganic nucleating agents (eg graphite, carbon black, magnesium oxide, calcium silicate, magnesium silicate, talc, kaolin, calcium carbonate, magnesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, zinc oxide, alumina, Barium sulfate and calcium sulfate).
Lubricants (C52) include waxes (eg carnauba wax, paraffin wax and polyolefin wax), higher fatty acids (C8-24, eg stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid), higher alcohols (C8-18, eg stearyl). Alcohols, lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cetostearyl alcohol and behenyl alcohol) and higher fatty acid amides (C8-24, such as stearic acid amide, oleic acid amide, linoleic acid amide and linolenic acid amide).

顔料(C53)としては、無機顔料[白色顔料(酸化チタン、リトポン、鉛白、亜鉛華等)、コバルト化合物(オーレオリン、コバルトグリーン等)、鉄化合物(酸化鉄、紺青等)、クロム化合物(酸化クロム、クロム酸鉛等)および硫化物(硫化カドミウム、ウルトラマリン等)等]、有機顔料[アゾ顔料(アゾレーキ系、モノアゾ系、ジスアゾ系、キレートアゾ系等)、多環式顔料(ベンゾイミダゾロン系、フタロシアニン系、イソインドリノン系、アンスラキノン系等)等が挙げられる。
染料(C54)としては、アゾ系、インジゴイド系、硫化系、アリザリン系、アクリジン系、チアゾール系、ニトロ系、アニリン系等が挙げられる。
離型剤(C55)としては、高級脂肪酸(上記のもの)の低級(C1〜4)アルコールエステル(例えばステアリン酸ブチル)、脂肪酸(C2〜18)の多価(2価〜4価またはそれ以上)アルコールエステル(例えば硬化ヒマシ油)、脂肪酸(C2〜18)のグリコール(C2〜8)エステル(例えばエチレングリコールモノステアレート)および流動パラフィンが挙げられる。
Examples of the pigment (C53) include inorganic pigments [white pigments (titanium oxide, lithopone, lead white, zinc white, etc.), cobalt compounds (aureolin, cobalt green, etc.), iron compounds (iron oxide, bitumen, etc.), chromium compounds (oxidation). Chromium, lead chromate, etc.) and sulfides (cadmium sulfide, ultramarine, etc.)], organic pigments [azo pigments (azo lakes, monoazos, disazos, chelate azos, etc.), polycyclic pigments (benzoimidazolones) Phthalocyanine, isoindolinone, anthraquinone, etc.).
Examples of the dye (C54) include azo, indigoid, sulfide, alizarin, acridine, thiazole, nitro, and aniline.
As the release agent (C55), lower fatty acid (C1-4) alcohol ester (for example, butyl stearate) of higher fatty acid (above), polyvalent (divalent to tetravalent or higher) of fatty acid (C2-18) ) Alcohol esters (eg hydrogenated castor oil), glycol (C2-8) esters of fatty acids (C2-18) (eg ethylene glycol monostearate) and liquid paraffin.

酸化防止剤(C56)としては、フェノール系{例えば単環フェノール[例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールおよびブチル化ヒドロキシアニソール]、ビスフェノール[例えば2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノールおよび4,4’−チオビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノール]および多環フェノール〔例えば1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、テトラキス[メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン〕};硫黄系〔例えばジラウリル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリルβ,β’−チオジブチレートおよびジラウリルサルファイド〕;リン系〔例えばトリフェニルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトおよびジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト〕;およびアミン系〔例えばオクチル化ジフェニルアミン、N−n−ブチル−p−アミノフェノール、N,N−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンおよびフェノチアジン〕が挙げられる。   Antioxidants (C56) include phenolic {eg monocyclic phenols [eg 2,6-di-t-butyl-p-cresol and butylated hydroxyanisole], bisphenols [eg 2,2′-methylenebis (4- Methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl) -6-tert-butylphenol and 4,4′-thiobis (3-methyl) -6-tert-butylphenol] and polycyclic phenols [ For example, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-) 5-t-butylphenyl) butane, tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propione Methane]}; sulfur-based [eg, dilauryl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3′-thiodipropionate, dimyristyl 3,3 ′ -Thiodipropionate, distearyl β, β'-thiodibutyrate and dilauryl sulfide]; phosphorus systems (eg triphenyl phosphite, triisodecyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris ( 2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6- t-butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetra Rubis (octadecyl phosphite), cyclic neopentanetetrayl bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, cyclic neopentane tetrayl bis (2,4-di-t-butyl) Phenyl) phosphite and diisodecylpentaerythritol diphosphite]; and amine systems such as octylated diphenylamine, Nn-butyl-p-aminophenol, N, N-diisopropyl-p-phenylenediamine, N, N-bis ( 1-ethyl-3-methylpentyl) -p-phenylenediamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine and phenothiazine.

難燃剤(C57)には、ハロゲン含有難燃剤(C571)、窒素含有難燃剤(C572)、硫黄含有難燃剤(C573)、珪素含有難燃剤(C574)およびリン含有難燃剤(C575)からなる群から選ばれる1種または2種以上の難燃剤が含まれる。   The flame retardant (C57) includes a halogen-containing flame retardant (C571), a nitrogen-containing flame retardant (C572), a sulfur-containing flame retardant (C573), a silicon-containing flame retardant (C574), and a phosphorus-containing flame retardant (C575). 1 type or 2 types or more of flame retardants chosen from these are included.

ハロゲン含有難燃剤(C571)としては、ヘキサクロロペンタジエン、ヘキサブロモジフェニル、オクタブロモジフェニルオキシド、トリブロモフェノキシメタン、デカブロモジフェニル、デカブロモジフェニルオキシド、テトラブロモビスフェノールA、テトラブルモフタルイミド、ヘキサブロモブテン、ヘキサブロモシクロドデカン等;   Examples of the halogen-containing flame retardant (C571) include hexachloropentadiene, hexabromodiphenyl, octabromodiphenyl oxide, tribromophenoxymethane, decabromodiphenyl, decabromodiphenyl oxide, tetrabromobisphenol A, tetromophthalimide, hexabromobutene, Hexabromocyclododecane, etc .;

窒素含有難燃剤(C572)としては、尿素化合物、グアニジン化合物またはトリアジン化合物(メラミン、グアナミン等)と、シアヌール酸またはイソシアヌル酸との塩等;硫黄含有難燃剤(C573)としては、硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの、塩、エステルおよびアミド等;
珪素含有難燃剤(C574)としては、ポリオルガノシロキサン等;
Examples of the nitrogen-containing flame retardant (C572) include a salt of urea compound, guanidine compound or triazine compound (melamine, guanamine, etc.) and cyanuric acid or isocyanuric acid, etc .; Sulfonic acid, sulfamic acid, organic sulfamic acid, and their salts, esters and amides;
Examples of the silicon-containing flame retardant (C574) include polyorganosiloxane;

リン含有難燃剤(C575)としては、リン含有の酸およびそのエステル(C2〜20)、例えばリン酸、ホスフェート、ハロゲン含有ホスフェート、亜リン酸、ホスホネート、ハロゲン含有ホスホネート、およびリン酸アンモニウム塩等が挙げられる。   Phosphorus-containing flame retardants (C575) include phosphorus-containing acids and esters thereof (C2-20) such as phosphoric acid, phosphates, halogen-containing phosphates, phosphorous acid, phosphonates, halogen-containing phosphonates, and ammonium phosphate salts. Can be mentioned.

上記ホスフェートとしては、ホスフェートおよび縮合ホスフェート(ジ−およびポリホスフェート)が挙げられる。
ホスフェートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスフェート[トリメチル−、トリエチル−、トリブチル−およびトリオクチルホスフェート等]、トリアルコキシ(アルコキシ基はC1〜6)ホスフェート[トリエトキシ−およびトリブトキシホスフェート等]、トリアリールホスフェート[トリフェニルホスフェート等]、アルキル(アルキル基はC1〜10)アリールホスフェート[トリクレジル−、クレジルジフェニル−、オクチルジフェニル−、ジイソプロピルフェニル−およびレゾルシノール−ビス(ジ−2,6−ジメチルフェニル)ホスフェート等]等が挙げられる。
Examples of the phosphate include phosphates and condensed phosphates (di- and polyphosphates).
Examples of the phosphate include trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphate [trimethyl-, triethyl-, tributyl-, and trioctylphosphate, etc.], trialkoxy (alkoxy group is C1-6) phosphate [triethoxy-, tributoxyphosphate, etc. ], Triaryl phosphate [triphenyl phosphate and the like], alkyl (alkyl group is C1-10) aryl phosphate [tricresyl-, cresyldiphenyl-, octyldiphenyl-, diisopropylphenyl- and resorcinol-bis (di-2,6- Dimethylphenyl) phosphate, etc.].

縮合ホスフェートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスフェート、フェニルレゾルシンポリ(n=2〜30)ホスフェート、レゾルシンポリ(n=2〜30)ホスフェート[レゾルシンビスホスフェート、クレジルレゾルシンポリホスフェート等]、ヒドロキノンポリ(n=2〜30)ホスフェート[ヒドロキノンビスホスフェート、ヒドロキノンポリホスフェート等]、ビスフェノールAビスホスフェート、トリオキシベンゼントリホスフェート等が挙げられる。   Examples of the condensed phosphate include trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2-30) phosphate, phenyl resorcinol poly (n = 2-30) phosphate, resorcinol poly (n = 2-30) phosphate [resorcin bis. Phosphate, cresyl resorcinol polyphosphate, etc.], hydroquinone poly (n = 2-30) phosphate [hydroquinone bisphosphate, hydroquinone polyphosphate, etc.], bisphenol A bisphosphate, trioxybenzene triphosphate and the like.

上記ハロゲン含有ホスフェートとしては、トリスハロゲン化アルキル(アルキル基はC2〜4)ホスフェート[トリスクロロエチルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、トリス−β−クロロプロピルホスフェート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスフェート等]、トリスハロゲン化アリールホスフェート[トリス(トリブロモフェニル)ホスフェート、トリス(ジブロモフェニル)ホスフェート等]等が挙げられる。   Examples of the halogen-containing phosphate include tris halogenated alkyl (alkyl group is C2-4) phosphate [trischloroethyl phosphate, trisdichloropropyl phosphate, tris-β-chloropropyl phosphate, tris (tribromoneopentyl) phosphate, etc.], And tris-halogenated aryl phosphate [tris (tribromophenyl) phosphate, tris (dibromophenyl) phosphate, etc.].

上記ホスホネートとしては、ホスホネートおよび縮合ホスホネートが挙げられる。
ホスホネートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスホネート[トリメチルホスホネート、トリエチルホスホネート、トリブチルホスホネート、トリオクチルホスホネート等]、トリアルコキシ(アルコキシ基はC1〜6)ホスホネート[トリエトキシホスホネート、トリブトキシホスホネート等]、トリアリールホスホネート[トリフェニルホスホネート等]、アルキル(アルキル基はC1〜10)アリールホスホネート[トリクレジルホスホネート、クレジルジフェニルホスホネート、オクチルジフェニルホスホネート、ジイソプロピルフェニルホスホネート、レゾルシノール−ビス(ジ−2,6−ジメチルフェニル)ホスホネート等]等が挙げられる。
Examples of the phosphonate include phosphonates and condensed phosphonates.
As phosphonates, trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphonate [trimethylphosphonate, triethylphosphonate, tributylphosphonate, trioctylphosphonate, etc.], trialkoxy (alkoxy group is C1-6) phosphonate [triethoxyphosphonate, tributoxyphosphonate Etc.], triaryl phosphonate [triphenyl phosphonate etc.], alkyl (alkyl group is C1-10) aryl phosphonate [tricresyl phosphonate, cresyl diphenyl phosphonate, octyl diphenyl phosphonate, diisopropyl phenyl phosphonate, resorcinol bis (di-2) , 6-dimethylphenyl) phosphonate and the like.

縮合ホスホネートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスホネート、フェニルレゾルシンポリ(n=2〜30)ホスホネート、レゾルシンポリ(n=2〜30)ホスホネート[レゾルシンビスホスフェート、クレジルレゾルシンポリホスホネート等]、ヒドロキノンポリ(n=2〜30)ホスホネート[ヒドロキノンビスホスホネート、ヒドロキノンポリホスホネート等]、ビスフェノールAビスホスホネート、トリオキシベンゼントリホスホネート等が挙げられる。   As the condensed phosphonate, trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2 to 30) phosphonate, phenyl resorcinol poly (n = 2 to 30) phosphonate, resorcinol poly (n = 2 to 30) phosphonate [resorcinbis Phosphate, cresyl resorcinol polyphosphonate, etc.], hydroquinone poly (n = 2-30) phosphonate [hydroquinone bisphosphonate, hydroquinone polyphosphonate, etc.], bisphenol A bisphosphonate, trioxybenzene triphosphonate and the like.

上記ハロゲン含有ホスホネートとしては、トリスハロゲン化アルキル(アルキル基はC2〜4)ホスホネート[トリスクロロエチルホスホネート、トリスジクロロプロピルホスホネート、トリス−β−クロロプロピルホスホネート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスホネート等]、トリスハロゲン化アリールホスホネート[トリス(トリブロモフェニル)ホスホネート、トリス(ジブロモフェニル)ホスホネート等]等が挙げられる。   Examples of the halogen-containing phosphonate include tris halogenated alkyl (alkyl group is C2-4) phosphonate [trischloroethyl phosphonate, tris dichloropropyl phosphonate, tris-β-chloropropyl phosphonate, tris (tribromoneopentyl) phosphonate, etc.], And tris-halogenated aryl phosphonate [tris (tribromophenyl) phosphonate, tris (dibromophenyl) phosphonate, etc.].

上記リン酸アンモニウム塩としては通常難燃剤用に市販されているものを用いることができる。これらは、必要に応じてメラミン化合物(例えばメラミン単体)、ペンタエリスリトール化合物(例えばペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール)、アミド(例えばナイロン6、ナイロン66)等を併用してもよい。   As said ammonium phosphate, what is marketed normally for flame retardants can be used. These may be used in combination with a melamine compound (for example, melamine alone), a pentaerythritol compound (for example, pentaerythritol, dipentaerythritol), an amide (for example, nylon 6, nylon 66) or the like, if necessary.

これらの難燃剤は、必要に応じて難燃助剤[ドリップ防止剤(例えばポリテトラフルオロエチレン)、金属酸化物(例えば酸化亜鉛)等]を併用してもよい。   These flame retardants may be used in combination with a flame retardant aid [anti-drip agent (for example, polytetrafluoroethylene), metal oxide (for example, zinc oxide), etc.] as necessary.

これらの難燃剤のうち難燃性、および焼却時におけるダイオキシン発生等の環境汚染がないとの観点から好ましいのは窒素含有難燃剤(C572)である。   Of these flame retardants, a nitrogen-containing flame retardant (C572) is preferable from the viewpoint of flame retardancy and the absence of environmental pollution such as dioxin generation during incineration.

紫外線吸収剤(C58)としては、ベンゾトリアゾール系[例えば2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール]、ベンゾフェノン系[例えば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンおよび2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン]、サリチレート系[例えばフェニルサリチレートおよびエチレングリコールモノサリチレート]およびアクリレート系[例えば2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’1−ジフェニルアクリレート]が挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber (C58) include benzotriazoles [for example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole], Benzophenone series [eg 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone], salicylate series [eg phenyl salicylate and ethylene glycol monosalicylate] and acrylate series [eg 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3′1-diphenyl acrylate].

抗菌剤(C59)としては、安息香酸、パラオキシ安息香酸エステル、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール(例えば2,4,6−トリブロモフェノールナトリウム塩)、有機ヨウ素(例えば4−クロロフェニル−3−ヨードプロパギルホルマール)、ニトリル(例えば2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリル)、チオシアノ(例えばメチレンビスチアノシアネート)、N−ハロアルキルチオイミド(例えばN−テトラクロロエチル−チオ−テトラヒドロフタルイミド)、銅剤(例えば8−オキシキノリン銅)、ベンズイミダゾール(例えば2−4−チアゾリルベンズイミダゾール)、ベンゾチアゾール(例えば2−チオシアノメチルチオベンゾチアゾール)、トリハロアリル(例えば3−ブロモ−2,3−ジヨード−2−プロペニルエチルカルボナート)、トリアゾール(例えばアザコナゾール)、有機窒素硫黄化合物(例えばスラオフ39)、4級アンモニウム化合物(例えばトリメトキシシリル−プロピルオクタデシルアンモニウムクロライド)およびピリジン系化合物[例えば2,3,5,6−チトクロロ−4−(メチルスルホニル)−ピリジン]が挙げられる。   Examples of the antibacterial agent (C59) include benzoic acid, paraoxybenzoic acid ester, sorbic acid, halogenated phenol (for example, 2,4,6-tribromophenol sodium salt), organic iodine (for example, 4-chlorophenyl-3-iodopropargyl). Formal), nitrile (eg, 2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile), thiocyano (eg, methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimide (eg, N-tetrachloroethyl-thio-tetrahydrophthalimide), copper agent (Eg 8-oxyquinoline copper), benzimidazole (eg 2-4-thiazolylbenzimidazole), benzothiazole (eg 2-thiocyanomethylthiobenzothiazole), trihaloallyl (eg 3-bromo-2,3-diiodo- 2-propenis Ethyl carbonate), triazoles (eg azaconazole), organic nitrogen sulfur compounds (eg Suraoff 39), quaternary ammonium compounds (eg trimethoxysilyl-propyloctadecylammonium chloride) and pyridine-based compounds [eg 2,3,5,6- Cytochloro-4- (methylsulfonyl) -pyridine].

分散剤(C510)としては、Mn1,000〜100,000の分散剤、例えばナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物(Mn1,000〜10,000)、ポリスチレンスルホン酸金属[例えばアルカリ金属(例えばナトリウムおよびカリウム)]塩(Mn1,000〜100,000)、ポリアクリル酸金属[例えばアルカリ金属(上記に同じ)]塩(Mn2,000〜50,000)、カルボキシメチルセルロースおよびポリビニルアルコールが挙げられる。   As the dispersant (C510), a dispersant having Mn of 1,000 to 100,000, such as naphthalene sulfonic acid formalin condensate (Mn 1,000 to 10,000), polystyrene sulfonate metal [for example, alkali metals (for example, sodium and potassium) ] Salt (Mn 1,000-100,000), polyacrylic acid metal [for example, alkali metal (same as above)] salt (Mn 2,000-50,000), carboxymethyl cellulose and polyvinyl alcohol.

導電性物質(C511)としては、前記(C1)および(C3)を除く化合物で、例えばカーボンナノチューブ、カーボンブラックおよびホワイトカーボンが挙げられる。   The conductive substance (C511) is a compound other than the above (C1) and (C3), and examples thereof include carbon nanotubes, carbon black, and white carbon.

充填剤(C512)としては、例えば無機充填剤(例えば炭酸カルシウム、タルク、クレー、けい酸、けい酸塩、アスベスト、マイカ、ガラス繊維、ガラスバルーン、カーボン繊維、金属繊維、セラミックウィスカおよびチタンウィスカ)および有機充填剤[例えば尿素、ステアリン酸カルシウムおよび有機架橋微粒子(例えばエポキシ系およびウレタン系)]が挙げられる。   Examples of the filler (C512) include inorganic fillers (eg, calcium carbonate, talc, clay, silicic acid, silicate, asbestos, mica, glass fiber, glass balloon, carbon fiber, metal fiber, ceramic whisker and titanium whisker). And organic fillers [for example, urea, calcium stearate and organic crosslinked fine particles (for example, epoxy-based and urethane-based)].

(C5)の合計の使用量は、(A)、(B)の合計重量に基づいて、通常45%以下、各添加剤の添加効果および成形品の機械特性の観点から好ましくは0.001〜40%、さらに好ましくは0.01〜35%、とくに好ましくは0.05〜30%である。
(C5)のうち、(C51)、(C52)、(C53)、(C54)、(C55)、(C510)および(C512)はそれぞれ通常10%以下、好ましくは1〜5%;(C57)は通常20%以下、好ましくは1〜10%;(C56)、(C58)および(C511)は通常5%以下、好ましくは0.1〜3%;(C59)は通常3%以下、好ましくは0.05〜1%である。
The total amount used of (C5) is usually 45% or less based on the total weight of (A) and (B), preferably 0.001 to 0.005 in view of the additive effect of each additive and the mechanical properties of the molded product. It is 40%, more preferably 0.01 to 35%, particularly preferably 0.05 to 30%.
Of (C5), (C51), (C52), (C53), (C54), (C55), (C510) and (C512) are each usually 10% or less, preferably 1 to 5%; (C57) Is usually 20% or less, preferably 1 to 10%; (C56), (C58) and (C511) are usually 5% or less, preferably 0.1 to 3%; (C59) is usually 3% or less, preferably 0.05 to 1%.

本発明の導電性樹脂組成物は、(A)と(B)および必要により(C)を溶融混練することにより得られる。
溶融混練する方法としては、通常の方法が用いられ、一般的にはペレット状または粉体状の重合体同士を適切な混合機、例えばヘンシェルミキサー等で混合した後、押出機で溶融混練してペレット化する方法が適用できる。
The conductive resin composition of the present invention is obtained by melt-kneading (A) and (B) and, if necessary, (C).
As a method of melt-kneading, a normal method is used, and generally, a pellet-like or powder-like polymer is mixed with an appropriate mixer such as a Henschel mixer and then melt-kneaded with an extruder. A pelletizing method can be applied.

[帯電防止性樹脂組成物]
本発明の帯電防止性樹脂組成物は、上記導電性樹脂組成物(X)を熱可塑性樹脂(D)に含有させてなる。
[Antistatic resin composition]
The antistatic resin composition of the present invention comprises the thermoplastic resin (D) containing the conductive resin composition (X).

(D)としては、ポリフェニレンエーテル樹脂(D1);ビニル樹脂〔ポリオレフィン樹脂(D2)[例えばポリプロピレン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂]、ポリアクリル樹脂(D3)[例えばポリメタクリル酸メチル]、ポリスチレン樹脂(D4)[ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体、例えばポリスチレン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AN樹脂)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)]等〕;ポリエステル樹脂(D5)[例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート];ポリアミド樹脂(D6)[例えばナイロン66、ナイロン69、ナイロン612、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン46、ナイロン6/66、ナイロン6/12];ポリカーボネート樹脂(D7)[例えばポリカーボネート、ポリカーボネート/ABSアロイ樹脂];ポリアセタール樹脂(D8);生分解性樹脂(D9)、およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。   (D) includes polyphenylene ether resin (D1); vinyl resin [polyolefin resin (D2) [for example, polypropylene, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA), ethylene-ethyl acrylate copolymer resin], polyacrylic resin (D3) [for example, polymethyl methacrylate], polystyrene resin (D4) [comprising vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, (meth) acrylic ester, (meth) acrylonitrile and butadiene Copolymers having at least one selected from the group as structural units, such as polystyrene, styrene / acrylonitrile copolymer (AN resin), acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS resin), methyl methacrylate / butadiene / Styrene Polyester resin (D5) [for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polybutylene adipate, polyethylene adipate]; Polyamide resin (D6) [for example, nylon 66, nylon 69, nylon 612, nylon 6, nylon 11, nylon 12, nylon 46, nylon 6/66, nylon 6/12]; polycarbonate resin (D7) [for example, polycarbonate, polycarbonate / ABS alloy resin]; polyacetal resin (D8); biodegradable resin (D9), and a mixture of two or more thereof.

これらのうち、後述する成形品の機械特性および本発明の帯電防止剤の(D)への分散性の観点から好ましいのは(D1)、(D2)、(D3)、(D4)および(D7)、さらに好ましいのは(D2)、(D4)および(D7)である。   Among these, (D1), (D2), (D3), (D4) and (D7) are preferable from the viewpoint of the mechanical properties of the molded product described later and the dispersibility of the antistatic agent of the present invention in (D). More preferred are (D2), (D4) and (D7).

ポリフェニレンエーテル樹脂(D1)としては、例えば下記一般式(93)で示されるものが挙げられる。   Examples of the polyphenylene ether resin (D1) include those represented by the following general formula (93).

一般式(3)においてpは50以上の整数、R1、R2、R3、R4は、H、ハロゲン原子、C1〜12の炭化水素基、C2〜12の置換炭化水素基、アルコキシ基、シアノ基、フェノキシ基またはニトロ基を表す。R1、R2、R3、R4はそれぞれ同じでも、異なっていてもよい。また、(D1)は一般式(3)で示される重合体の1種単独であっても、2種以上の構成単位からなる共重合体や、2種以上の重合体の配合物であってもよい。 In general formula (3), p is an integer of 50 or more, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are H, a halogen atom, a C1-12 hydrocarbon group, a C2-12 substituted hydrocarbon group, and an alkoxy group. Represents a cyano group, a phenoxy group or a nitro group. R 1 , R 2 , R 3 and R 4 may be the same or different. Further, (D1) is a single polymer of the general formula (3) or a copolymer of two or more structural units or a blend of two or more polymers. Also good.

(D1)の具体例としては、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジプロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−エチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジメトキシ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジブロモ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジフェニル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジベンジル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、5−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等が挙げられる。
また、これらの(D1)に前記のスチレンおよび/またはその誘導体のモノマーをグラフトしたもの(変性ポリフェニレンエーテル)も(D1)に含まれる。
Specific examples of (D1) include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-ethyl). -1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dipropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6) -Propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dimethoxy-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dichloromethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-phenylene) Dibromo-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diphenyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene) ether, poly (2,6) Dibenzyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,5-dimethyl-1,4-phenylene) ether.
Further, (D1) includes those obtained by grafting the above styrene and / or its derivative monomer (modified polyphenylene ether) to (D1).

(D1)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリマーの0.5重量%クロロホルム溶液について、30℃でウベローデ1A粘度計を用いて測定される。
(D1)のTgは、成形性の観点から好ましくは190〜240℃、さらに好ましくは210〜230℃である。Tgは示差走査熱量測定(DSC)法により測定される。
The intrinsic viscosity [η] of (D1) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties. [Η] is measured using a Ubbelohde 1A viscometer at 30 ° C. for a 0.5 wt% chloroform solution of the polymer.
Tg of (D1) is preferably 190 to 240 ° C., more preferably 210 to 230 ° C. from the viewpoint of moldability. Tg is measured by a differential scanning calorimetry (DSC) method.

ビニル樹脂[(D2)〜(D4)]としては、以下のビニルモノマーを種々の重合法(ラジカル重合法、チーグラー触媒重合法、メタロセン触媒重合法等)により(共)重合させることにより得られるものが挙げられる。   As the vinyl resins [(D2) to (D4)], those obtained by (co) polymerizing the following vinyl monomers by various polymerization methods (radical polymerization method, Ziegler catalyst polymerization method, metallocene catalyst polymerization method, etc.) Is mentioned.

ビニルモノマーとしては、不飽和炭化水素(脂肪族炭化水素、芳香環含有炭化水素、脂環式炭化水素等)、アクリルモノマー、その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸およびその誘導体、不飽和アルコールのカルボン酸エステル、不飽和アルコールのアルキルエーテル、ハロゲン含有ビニルモノマー並びにこれらの2種以上の組合せ (ランダムおよび/またはブロック)等が挙げられる。   Examples of vinyl monomers include unsaturated hydrocarbons (aliphatic hydrocarbons, aromatic ring-containing hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, etc.), acrylic monomers, other unsaturated mono- and dicarboxylic acids and their derivatives, and carboxylic acids of unsaturated alcohols. Examples thereof include acid esters, alkyl ethers of unsaturated alcohols, halogen-containing vinyl monomers, and combinations of two or more thereof (random and / or block).

脂肪族炭化水素としては、C2〜30のオレフィン[エチレン、プロピレン、 C4〜30のα−オレフィン(1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、 1−ペンテン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン等)等]、C4〜30のジエン[アルカジエン(ブタジエン、イソプレン等)、シクロアルカジエン(シクロペンタジエン等)等]等が挙げられる。   Aliphatic hydrocarbons include C2-30 olefins [ethylene, propylene, C4-30 α-olefins (1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene, 1 -Dodecene etc.), etc.], C4-30 dienes [alkadiene (butadiene, isoprene etc.), cycloalkadiene (cyclopentadiene etc.) etc.] and the like.

芳香環含有炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、例えばo−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。   Examples of the aromatic ring-containing hydrocarbon include C8-30 styrene and derivatives thereof, such as o-, m- and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyltoluene, etc.), α-alkyl (C1-10) styrene ( α-methylstyrene and the like) and halogenated styrene (chlorostyrene and the like).

アクリルモノマーとしては、C3〜30、例えば(メタ)アクリル酸およびその誘導体が挙げられる。
(メタ)アクリル酸の誘導体としては、例えばアルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ レート、ブチル(メタ)アクリレート等]、モノ−およびジ−アルキル(C1〜4)アミノアルキル(C2〜4)(メタ)アクリレート[メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等]、(メタ)アクリロニトリルおよび(メタ)アクリルアミドが挙げられる。
Acrylic monomers include C3-30, such as (meth) acrylic acid and its derivatives.
Examples of (meth) acrylic acid derivatives include alkyl (C1-20) (meth) acrylate [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, etc.], mono- and di-alkyl ( C1-4) aminoalkyl (C2-4) (meth) acrylate [methylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, etc.], (meth) acrylonitrile and (meth) acrylamide.

その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸としては、C2〜30(好ましくは3〜20、さらに好ましくは4〜15)の不飽和モノ−およびジカルボン酸、例えば、クロトン酸、マレイン酸、フマール酸およびイタコン酸等が挙げられ、その誘導体としては、C5〜30、例えばモノ−およびジアルキル(C1〜20)エステル、酸無水物(無水マレイン酸等)および酸イミド(マレイン酸イミド等)等が挙げられる。   Other unsaturated mono- and dicarboxylic acids include C2-30 (preferably 3-20, more preferably 4-15) unsaturated mono- and dicarboxylic acids such as crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and itacon. Examples thereof include C5-30, such as mono- and dialkyl (C1-20) esters, acid anhydrides (maleic anhydride, etc.) and acid imides (maleic imide, etc.).

不飽和アルコールのカルボン酸エステルとしては、不飽和アルコール[C2〜6、例えばビニルアルコール 、(メタ)アリルアルコール]のカルボン酸(C2〜4、例えば酢酸、プロピオン酸)エステル(酢酸ビニル等)が挙げられる。
不飽和アルコールのアルキルエーテルとしては、上記不飽和アルコールのアルキル(C1〜20)エーテル(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等)が挙げられる。ハロゲン含有ビニルモノマーとしては、C2〜12、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデンおよびクロロプレンが挙げられる。
Examples of carboxylic acid esters of unsaturated alcohols include carboxylic acids (C2-4, such as acetic acid and propionic acid) esters (such as vinyl acetate) of unsaturated alcohols [C2-6, such as vinyl alcohol, (meth) allyl alcohol]. It is done.
Examples of the alkyl ether of the unsaturated alcohol include alkyl (C1-20) ethers of the above unsaturated alcohol (methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, etc.). Halogen-containing vinyl monomers include C2-12, such as vinyl chloride, vinylidene chloride and chloroprene.

ポリオレフィン樹脂(D2)としては、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体[共重合比(重量比)=0.1/99.9〜99.9/0.1]、プロピレンおよび/またはエチレンと他のα−オレフィン(C4〜12)の1種以上との共重合体(ランダムおよび/またはブロック付加)[共重合比(重量比)=99/1〜5/95]、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]、エチレン/エチルアクリレート共重合体(EEA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレンおよび/またはエチレンとC4〜12のα−オレフィンの1種以上との共重合体[共重合比(重量比)=90/10〜10/90、ランダムおよび/またはブロック付加]である。
Examples of the polyolefin resin (D2) include polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 0.1 / 99.9 to 99.9 / 0.1], propylene and / or ethylene. And other α-olefin (C4-12) copolymers (random and / or block addition) [copolymerization ratio (weight ratio) = 99 / 1-5 / 95], ethylene / vinyl acetate Copolymer (EVA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], ethylene / ethyl acrylate copolymer (EEA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40 ].
Among these, preferred are polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer, propylene and / or a copolymer of ethylene and one or more of C4-12 α-olefin [copolymerization ratio (weight ratio) = 90. / 10 to 10/90, random and / or block addition].

(D2)のメルトフローレート(以下、MFRと略記)は、樹脂物性、帯電防止性付与の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。ここにおけるMFRは、JIS K6758に準じて(ポリプロピレンの場合:230℃、荷重2.16kgf、ポリエチレンの場合:190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(D2)の結晶化度は、帯電防止性の観点から好ましくは0〜98%、さらに好ましくは0〜80%、とくに好ましくは0〜70%である。
ここにおける結晶化度は、X線回折、赤外線吸収スペクトル等の方法によって測定される〔「高分子の固体構造−高分子実験学講座2」(南篠初五郎)、42頁、共立出版1958年刊参照〕。
The melt flow rate (hereinafter abbreviated as MFR) of (D2) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of imparting resin physical properties and antistatic properties. The MFR here is measured according to JIS K6758 (in the case of polypropylene: 230 ° C., load 2.16 kgf, in the case of polyethylene: 190 ° C., load 2.16 kgf).
The crystallinity of (D2) is preferably 0 to 98%, more preferably 0 to 80%, and particularly preferably 0 to 70% from the viewpoint of antistatic properties.
The crystallinity here is measured by a method such as X-ray diffraction, infrared absorption spectrum, etc. [Refer to “Solid Structure of Polymers—Human Goro Laboratory 2” (Hatsugoro Minamishino), page 42, published by Kyoritsu Shuppan 1958. ].

ポリアクリル樹脂(D3)としては、例えば前記アクリルモノマー〔アルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等〕の1種以上の(共)重合体[ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル等]およびこれらのモノマーの1種以上と共重合可能な前記ビニルモノマーの1種以上との共重合体[アクリルモノマー/ビニルモノマー共重合比(重量比)は樹脂物性の観点から好ましくは5/95〜95/5、さらに好ましくは50/50〜90/10][但し、(C2)に含まれるものは除く]が含まれる。   As the polyacrylic resin (D3), for example, one or more (co) polymers [poly (meth) acrylic acid methyl ester, such as acrylic monomers [alkyl (C1-20) (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, etc.], Poly (meth) butyl acrylate, etc.] and copolymers with one or more of the above-mentioned vinyl monomers copolymerizable with one or more of these monomers [acrylic monomer / vinyl monomer copolymerization ratio (weight ratio) is a resin physical property In view of the above, preferably 5/95 to 95/5, more preferably 50/50 to 90/10] [however, those included in (C2) are excluded] are included.

(D3)のMFRは、樹脂物性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じて(ポリアクリル樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。   The MFR of (D3) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100 from the viewpoint of resin physical properties. MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (230 ° C. and load 1.2 kgf in the case of polyacrylic resin).

ポリスチレン樹脂(D4)としては、ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体が挙げられる。
ビニル基含有芳香族炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、例えばo−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。
(D4)の具体例としては、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AS樹脂)[共重合比(重量比)=70/30〜80/20]、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)[共重合比(重量比)=60/40〜90/10]、スチレン/ブタジエン共重合体[共重合比(重量比)=60/40〜95/5]、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]等が挙げられる。
As the polystyrene resin (D4), a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, and at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile and butadiene Examples thereof include a copolymer as a structural unit.
Examples of vinyl group-containing aromatic hydrocarbons include C8-30 styrene and its derivatives, such as o-, m- and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyltoluene etc.), α-alkyl (C1-10). Examples include styrene (α-methylstyrene and the like) and halogenated styrene (chlorostyrene and the like).
Specific examples of (D4) include polystyrene, polyvinyltoluene, styrene / acrylonitrile copolymer (AS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 70/30 to 80/20], styrene / methyl methacrylate copolymer. (MS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 90/10], styrene / butadiene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 95/5], acrylonitrile / butadiene / Styrene copolymer (ABS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)], methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer (MBS resin) [Copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)].

(D4)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6871(1994年)に準じて(ポリスチレン樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。   The MFR of (D4) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. MFR is measured according to JIS K6871 (1994) (230 ° C. in the case of polystyrene resin, load 1.2 kgf).

ポリエステル樹脂(D5)としては、芳香環含有ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート等)および脂肪族ポリエステル(ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート、ポリ−ε−カプロラクトン等)が挙げられる。   Examples of the polyester resin (D5) include aromatic ring-containing polyesters (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, etc.) and aliphatic polyesters (polybutylene adipate, polyethylene adipate, poly-ε-caprolactone, etc.).

(D5)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリマーの0.5重量%オルトクロロフェノール溶液について、25℃でウベローデ1A粘度計を用いて測定される。   The intrinsic viscosity [η] of (D5) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties. [Η] is measured with a Ubbelohde 1A viscometer at 25 ° C. for a 0.5 wt% orthochlorophenol solution of the polymer.

ポリアミド樹脂(D6)としては、ラクタム開環重合体(D61)、ジアミンとジカルボン酸の脱水重縮合体(D62)、アミノカルボン酸の自己重縮合体(D63)およびこれらの重(縮)合体を構成するモノマー単位が2種類以上である共重合ナイロン等が挙げられる。   The polyamide resin (D6) includes a lactam ring-opening polymer (D61), a dehydration polycondensation product of diamine and dicarboxylic acid (D62), a self-polycondensation product of aminocarboxylic acid (D63), and a poly (condensation) combination thereof. Examples thereof include copolymer nylon having two or more types of monomer units.

(D61)におけるラクタムとしては、C4〜20のラクタム、例えばγ−ブチロラクタム、γ−バレロラクタム、ε−カプロラクタム、γ−ピメロラクタム、γ−カプリロラクタム、γ−デカノラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタム、ウンデカノラクタム、エイコサノラクタムおよび5−フェニル−2−ピペリドン等が挙げられ、(D61)としては、ナイロン4、ナイロン5、ナイロン6、ナイロン8、ナイロン12等が挙げられる。
(D62)におけるジアミンとしては、C2〜20のジアミン、例えば脂肪族[エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、エイコサンジアミン等]、芳香(脂肪)族[フェニレンジアミン、ナフチレンジアミン、キシリレンジアミン等]および脂環式[シクロヘキシレンジアミン等]等が挙げられる。
ジカルボン酸としては、C2〜20のジカルボン酸、例えば前記ジカルボン酸(b114)として例示したものが挙げられる。
(D62)としては、ヘキサンメチレンジアミンとアジピン酸の縮重合によるナイロン66、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の重縮合によるナイロン610等が挙げられる。
(D63)におけるアミノカルボン酸としては、C2〜20のアミノカルボン酸、例えばグリシン、アラニン、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペラルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸および20−アミノエイコサン酸等が挙げられ、(D63)としては、アミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11、12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12等が挙げられる。
Examples of the lactam in (D61) include C4-20 lactams such as γ-butyrolactam, γ-valerolactam, ε-caprolactam, γ-pimelolactam, γ-caprololactam, γ-decanolactam, enantolactam, laurolactam, undecano Examples include lactam, eicosanolactam, and 5-phenyl-2-piperidone. Examples of (D61) include nylon 4, nylon 5, nylon 6, nylon 8, nylon 12, and the like.
Examples of the diamine in (D62) include C2-20 diamines such as aliphatic [ethylene diamine, hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, decamethylene diamine, eicosane diamine, etc.], aromatic (aliphatic) [phenylene diamine. , Naphthylenediamine, xylylenediamine, etc.] and alicyclic [cyclohexylenediamine, etc.].
Examples of the dicarboxylic acid include C2-20 dicarboxylic acids such as those exemplified as the dicarboxylic acid (b114).
Examples of (D62) include nylon 66 by condensation polymerization of hexanemethylenediamine and adipic acid, nylon 610 by polycondensation of hexamethylenediamine and sebacic acid, and the like.
Examples of the aminocarboxylic acid in (D63) include C2-20 aminocarboxylic acids such as glycine, alanine, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopelargonic acid, and ω-aminocaprin. Acid, 11-aminoundecanoic acid, 12-aminododecanoic acid, 20-aminoeicosanoic acid, etc., and (D63) is nylon 7 by polycondensation of aminoenanthic acid, by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid Nylon 11, 12-aminododecanoic acid nylon 12 by polycondensation and the like.

(D6)の製造に際しては、分子量調整剤を使用してもよく、分子量調整剤としては、上記に示したジカルボン酸および/またはジアミンが挙げられる。
分子量調整剤としてのジカルボン酸のうち、好ましいのは脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩であり、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。また、分子量調整剤としてのジアミンのうち、好ましいのはヘキサメチレンジアミン、デカメチレンジアミンである。
In the production of (D6), a molecular weight modifier may be used, and examples of the molecular weight modifier include the dicarboxylic acid and / or diamine shown above.
Of the dicarboxylic acids as molecular weight modifiers, preferred are aliphatic dicarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids and alkali metal salts of 3-sulfoisophthalic acid, and more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and It is sodium 3-sulfoisophthalate. Of the diamines as molecular weight regulators, hexamethylene diamine and decamethylene diamine are preferable.

(D6)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じて(ポリアミド樹脂の場合は、230℃、荷重0.325kgf)測定される。   The MFR of (D6) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyamide resin, 230 ° C., load 0.325 kgf).

ポリカーボネート樹脂(D7)としては、ビスフェノール(C12〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−S、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタン)系およびジヒドロキシビフェニル系ポリカーボネート、例えば上記ビスフェノールとホスゲンまたは炭酸ジエステルとの縮合物が挙げられる。上記ビスフェノールのうち(A)の分散性の観点から好ましいのはビスフェノールAである。
(D7)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じて(ポリカーボネート樹脂の場合は280℃、荷重2.16kgf)測定される。
Examples of the polycarbonate resin (D7) include bisphenols (C12-20, such as bisphenol A, -F and -S, 4,4'-dihydroxydiphenyl-2,2-butane) and dihydroxybiphenyl polycarbonates such as bisphenol and phosgene. Or the condensate with a carbonic acid diester is mentioned. Of the above bisphenols, bisphenol A is preferred from the viewpoint of dispersibility of (A).
The MFR of (D7) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polycarbonate resin, 280 ° C., load 2.16 kgf).

ポリアセタール樹脂(D8)としては、ホルムアルデヒドまたはトリオキサンのホモポリマー(ポリオキシメチレンホモポリマー)、およびホルムアルデヒドまたはトリオキサンと環状エーテル[前記AO(EO、PO、ジオキソラン等)等]との共重合体(ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレンコポリマー[ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレン(重量比)=90/10〜99/1のブロック共重合体等]等が挙げられる。
(D8)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じて(ポリアセタール樹脂の場合は190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(C8)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。
Examples of the polyacetal resin (D8) include formaldehyde or trioxane homopolymer (polyoxymethylene homopolymer), and a copolymer of formaldehyde or trioxane and a cyclic ether [the above-mentioned AO (EO, PO, dioxolane, etc.)] (polyoxy). And methylene / polyoxyethylene copolymer [polyoxymethylene / polyoxyethylene (weight ratio) = 90/10 to 99/1 block copolymer and the like].
The MFR of (D8) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyacetal resin, 190 ° C., load 2.16 kgf).
Intrinsic viscosity [η] of (C8) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, and particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties.

生分解性樹脂(D9)としては、ポリヒドロキシブチレート、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、アジペート変性ポリブチレンサクシネート、カーボネート変性ポリブチレンサクシネート、テレフタレート変性ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネートおよびポリビニルアルコールが含まれる。   Examples of the biodegradable resin (D9) include polyhydroxybutyrate, polylactic acid, polycaprolactone, polybutylene succinate, adipate-modified polybutylene succinate, carbonate-modified polybutylene succinate, terephthalate-modified polybutylene succinate, polyethylene succinate And polyvinyl alcohol.

(D9)のうち、ポリヒドロキシブチレートとしては、例えばビオグリーン[三菱ガス化学(株)製)];ポリ乳酸としては、例えばレイシア[三井化学(株)製)];ポリカプロラクトンとしては、例えばセルグリーン[ダイセル化学工業(株)製];ポリブチレンサクシネートとしては、例えばビオノーレ[昭和高分子(株)製)];ポリエチレンサクシネートとしては、例えばルナーレSE[日本触媒(株)製)];ポリビニルアルコールとしては、例えばポバール[クラレ(株)製)]が挙げられる。   Among (D9), as polyhydroxybutyrate, for example, biogreen [manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.]]; as polylactic acid, for example, Lacia [manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.]]; Cell Green [manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]; Polybutylene succinate, for example, Bionore [manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.]; Polyethylene succinate, for example, Lunare SE (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)] Examples of polyvinyl alcohol include Poval [manufactured by Kuraray Co., Ltd.].

本発明の帯電防止性樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲で、必要により前記添加剤(C1)〜(C5)からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤(C)を含有させてもよい。   The antistatic resin composition of the present invention contains at least one additive (C) selected from the group consisting of the additives (C1) to (C5) as necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may make it contain.

アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩(C1)の使用量は、熱可塑性樹脂(D)および導電性樹脂組成物(X)の合計重量に基づいて通常10%以下、成形品の導電性の観点および成形品表面に析出せず良好な外観の成形品を与える観点から、好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜4%、特に好ましくは0.1〜2%、最も好ましくは0.15〜1%である。   The amount of the alkali metal or alkaline earth metal salt (C1) used is usually 10% or less based on the total weight of the thermoplastic resin (D) and the conductive resin composition (X). And preferably from 0.001 to 5%, more preferably from 0.01 to 4%, particularly preferably from 0.1 to 2%, most preferably from the viewpoint of giving a molded article having a good appearance without depositing on the surface of the molded article. Is 0.15 to 1%.

界面活性剤(C2)の使用量は、(D)および(X)の合計重量に基づいて通常10%以下、成形品の導電性および耐水性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%、特に好ましくは0.1〜2.5%である。   The amount of the surfactant (C2) used is usually 10% or less based on the total weight of (D) and (X), preferably 0.001 to 5% from the viewpoint of the conductivity and water resistance of the molded product, Preferably it is 0.01 to 3%, Most preferably, it is 0.1 to 2.5%.

(A)以外のイオン性液体(C3)の使用量は、(D)および(X)の合計重量に基づいて通常10%以下、成形品の導電性および機械特性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。   The amount of the ionic liquid (C3) other than (A) is usually 10% or less based on the total weight of (D) and (X), preferably 0.001 from the viewpoint of the conductivity and mechanical properties of the molded product. -5%, more preferably 0.01-3%.

相溶化剤(C4)の使用量は、(D)および(X)の合計重量に基づいて、通常20%以下、成形品の導電性および成形品の機械特性の観点から好ましくは0.01〜15%、さらに好ましくは0.1〜10%、特に好ましくは1〜8%である。   The amount of the compatibilizing agent (C4) used is usually 20% or less based on the total weight of (D) and (X), preferably 0.01 to from the viewpoint of the conductivity of the molded product and the mechanical properties of the molded product 15%, more preferably 0.1 to 10%, particularly preferably 1 to 8%.

その他の樹脂用添加剤(C5)の合計の使用量は、(D)および(X)の合計重量に基づいて、通常45%以下、各添加剤の添加効果および成形品の機械特性の観点から好ましくは0.001〜40%、さらに好ましくは0.01〜35%、とくに好ましくは0.05〜30%である。
(C5)のうち各添加剤の使用量は、(D)および(X)の合計重量に基づいて、(C51)、(C52)、(C53)、(C54)、(C55)、(C510)および(C512)はそれぞれ通常10%以下、好ましくは1〜5%;(C57)は通常20%以下、好ましくは1〜10%;(C56)、(C58)および(C511)は通常5%以下、好ましくは0.1〜3%;(C59)は通常3%以下、好ましくは0.05〜1%である。
The total amount of other additives for resin (C5) used is usually 45% or less based on the total weight of (D) and (X), from the viewpoint of the additive effect of each additive and the mechanical properties of the molded product. Preferably it is 0.001 to 40%, more preferably 0.01 to 35%, particularly preferably 0.05 to 30%.
The amount of each additive used in (C5) is based on the total weight of (D) and (X) (C51), (C52), (C53), (C54), (C55), (C510) And (C512) is usually 10% or less, preferably 1 to 5%; (C57) is usually 20% or less, preferably 1 to 10%; (C56), (C58) and (C511) are usually 5% or less. , Preferably 0.1 to 3%; (C59) is usually 3% or less, preferably 0.05 to 1%.

本発明の成形用帯電防止性樹脂組成物は、前記導電性樹脂組成物(X)、および必要により添加剤(C)を熱可塑性樹脂(D)に含有させ溶融混練することにより得られる。
溶融混練する方法としては、通常の方法が用いられ、一般的にはペレット状または粉体状の重合体同士を適切な混合機、例えばヘンシェルミキサー等で混合(ブレンド)した後、押出機で溶融混練(150〜250℃)してペレット化する方法が適用できる。
混練時の各成分の添加順序については特に限定はないが、例えば、
(1)(X)と(D)、および必要により(C)を一括して溶融混練する方法;
(2)(X)と、(D)の一部、および必要により(C)の一部をあらかじめ溶融混練して、ポリマー型イオン性液体(A)およびブロックポリマー(B)の高濃度樹脂組成物(マスターバッチ帯電防止性樹脂組成物)を作成し、その後残りの(D)、および必要により残りの(C)を加えて溶融混練する方法
が挙げられる。(2)の方法におけるマスターバッチ帯電防止性樹脂組成物において、(A)と(B)の合計含有量は、(D)の重量に基づいて好ましくは50〜90%、さらに好ましくは55〜80%である。
これらのうち(2)の方法は、マスターバッチ法またはマスターペレット法と呼ばれる方法であり、本発明における(A)と(B)の熱可塑性樹脂(D)への効率的な分散の観点から好ましい方法である。
The antistatic resin composition for molding according to the present invention is obtained by melt-kneading the conductive resin composition (X) and, if necessary, the additive (C) in the thermoplastic resin (D).
As a method of melt-kneading, a usual method is used. Generally, pellets or powdery polymers are mixed (blended) with an appropriate mixer such as a Henschel mixer and then melted with an extruder. The method of kneading (150-250 degreeC) and pelletizing is applicable.
There is no particular limitation on the order of addition of each component during kneading, for example,
(1) A method of melt-kneading (X) and (D) and, if necessary, (C) all together;
(2) A high concentration resin composition of the polymer type ionic liquid (A) and the block polymer (B) by melt-kneading a part of (X), part of (D), and part of (C) if necessary A method of preparing a product (masterbatch antistatic resin composition) and then adding the remaining (D) and, if necessary, the remaining (C) and melt-kneading. In the masterbatch antistatic resin composition in the method (2), the total content of (A) and (B) is preferably 50 to 90%, more preferably 55 to 80, based on the weight of (D). %.
Among these, the method (2) is a method called a master batch method or a master pellet method, and is preferable from the viewpoint of efficient dispersion of the (A) and (B) in the thermoplastic resin (D) in the present invention. Is the method.

本発明の成形用帯電防止性樹脂組成物において、(A)と(B)の合計含有量は、(D)の重量に基づいて、帯電防止性および機械特性の観点から好ましくは1〜50%、さらに好ましくは5〜40%である。   In the antistatic resin composition for molding of the present invention, the total content of (A) and (B) is preferably 1 to 50% from the viewpoint of antistatic properties and mechanical properties based on the weight of (D). More preferably, it is 5 to 40%.

本発明の樹脂組成物(導電性樹脂組成物および成形用帯電防止性樹脂組成物、以下同じ。)の成形方法としては、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、フィルム成形(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)等が挙げられ、目的に応じて任意の方法で成形できる。
本発明の樹脂組成物からなる成形品は、優れた機械特性および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有し、成形品に塗装および/または印刷を施すことにより成形物品が得られる。
該成形品を塗装する方法としては、例えばエアスプレー塗装、エアレススプレー塗装、静電スプレー塗装、浸漬塗装、ローラー塗装、刷毛塗り等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
塗料としては、例えば、ポリエステルメラミン樹脂塗料、エポキシメラミン樹脂塗料、アクリルメラミン樹脂塗料、アクリルウレタン樹脂塗料等のプラスチックの塗装に一般に用いられる塗料が挙げられる。
塗装膜厚(乾燥膜厚)は、目的に応じて適宜選択することができるが通常10〜50μmである。
また、該成形品または成形品に塗装を施した上に印刷する方法としては、一般的にプラスチックの印刷に用いられている印刷法であればいずれも用いることができ、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、ドライオフセット印刷およびオフセット印刷等が挙げられる。
印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるもの、例えばグラビアインキ、フレキソインキ、スクリーンインキ、パッドインキ、ドライオフセットインキおよびオフセットインキが使用できる。
Examples of the molding method of the resin composition of the present invention (conductive resin composition and antistatic resin composition for molding, the same shall apply hereinafter) include injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, Examples thereof include blow molding, film molding (casting method, tenter method, inflation method, etc.), and the like can be molded by any method depending on the purpose.
The molded article comprising the resin composition of the present invention has excellent mechanical properties and permanent antistatic properties, and also has good paintability and printability, and is formed by applying and / or printing the molded article. Is obtained.
Examples of the method for coating the molded product include, but are not limited to, air spray coating, airless spray coating, electrostatic spray coating, immersion coating, roller coating, and brush coating.
Examples of the paint include paints generally used for plastic coating such as polyester melamine resin paint, epoxy melamine resin paint, acrylic melamine resin paint, and acrylic urethane resin paint.
The coating film thickness (dry film thickness) can be appropriately selected according to the purpose, but is usually 10 to 50 μm.
In addition, as a method of printing after coating the molded product or the molded product, any printing method generally used for plastic printing can be used. For example, gravure printing, flexographic printing , Screen printing, pad printing, dry offset printing, offset printing, and the like.
As the printing ink, those usually used for printing plastics, for example, gravure ink, flexographic ink, screen ink, pad ink, dry offset ink and offset ink can be used.

さらに、本発明の樹脂組成物は、公知の塗料に添加したり、溶剤(例えばキシレン、トルエン)を加えて帯電防止用の塗料としても用いることができる。
公知の塗料としては、前記の塗料等が挙げられる。
公知の塗料に本発明の樹脂組成物[導電性樹脂組成物および帯電防止性樹脂組成物(マスターバッチ、成形用を含む)、以下同じ。]を添加する場合の(A)と(B)の合計の割合は、公知の塗料の固形分重量に基づいて帯電防止性および耐水性の観点から好ましくは5〜60%、さらに好ましくは5〜50%、とくに好ましくは5〜40%である。
また、本発明の樹脂組成物に溶剤を加えて塗料とした場合の(A)と(B)の合計の割合は、塗料の固形分重量に基づいて帯電防止性および耐水性の観点から好ましくは5〜60%、さらに好ましくは5〜50%、とくに好ましくは5〜40%である。
Furthermore, the resin composition of the present invention can be added to a known paint or used as an antistatic paint by adding a solvent (for example, xylene or toluene).
Examples of the known paint include the paints described above.
The resin composition of the present invention [conductive resin composition and antistatic resin composition (including master batch and molding)], and the same applies to known paints. The total ratio of (A) and (B) is preferably 5 to 60%, more preferably 5 to 60% from the viewpoint of antistatic properties and water resistance based on the solid content weight of a known paint. 50%, particularly preferably 5 to 40%.
The total ratio of (A) and (B) when a solvent is added to the resin composition of the present invention to form a paint is preferably from the viewpoint of antistatic properties and water resistance based on the solid content weight of the paint. It is 5 to 60%, more preferably 5 to 50%, particularly preferably 5 to 40%.

以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものでない。実施例中の「部」は重量部、「%」は重量%を示す。
<ポリマー型イオン性液体(A−1)の製造>
製造例1
冷却管、攪拌機及び窒素導入管の付いた反応槽中にイオン交換水2700部,2−アクリルミド−2−メチルプロパンスルホン酸300部を仕込み、ついで常圧下、100℃まで昇温した後、アゾビスシアノ吉草酸3.5部を約1分で滴下して3時間重合し、更に3時間熟成した。次いで脱水を行い、乾燥後ポリ2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸を得た。収率は98%、Mnは130,000であった。
次に得られたポリ2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸250部をイオン交換水1644部に室温にて溶解させ、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムモノメチル炭酸塩(合成方法は特開2001−316372記載の方法に従った)のメタノール溶液(濃度48%)427部を混合した。反応による炭酸ガスを発生させながら反応を行い、炭酸ガスの発生がおさまった後、減圧下、約5時間かけて温度60〜80℃で溶媒等を全量除去することによって、ポリマー型イオン性液体である、ポリ(1−エチル−3−メチルイミダゾリウム)2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸塩(A−1)を得た。収率は95%であった。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further, this invention is not limited to this. In the examples, “parts” represents parts by weight, and “%” represents% by weight.
<Production of polymer type ionic liquid (A-1)>
Production Example 1
In a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer and a nitrogen introduction tube, 2700 parts of ion exchange water and 300 parts of 2-acrylimido-2-methylpropanesulfonic acid were charged and then heated to 100 ° C. under normal pressure. 3.5 parts of valeric acid was dropped in about 1 minute, polymerized for 3 hours, and further aged for 3 hours. Next, dehydration was performed, and after drying, poly-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid was obtained. The yield was 98% and Mn was 130,000.
Next, 250 parts of the obtained poly-2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid was dissolved in 1644 parts of ion-exchanged water at room temperature, and 1-ethyl-3-methylimidazolium monomethyl carbonate (the synthesis method was disclosed in JP-A-2001-2001). 427 parts of a methanol solution (concentration 48%) in accordance with the method described in -316372. The reaction is carried out while generating carbon dioxide by the reaction, and after the generation of carbon dioxide is stopped, the solvent is removed at a temperature of 60 to 80 ° C. under a reduced pressure for about 5 hours. A certain poly (1-ethyl-3-methylimidazolium) 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonate (A-1) was obtained. The yield was 95%.

<ポリマー型イオン性液体(A−2)の製造>
製造例2
5−スルホイソフタル酸300部をメタノール500部に溶解させ、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムモノメチル炭酸塩のメタノール溶液(濃度48%)674部を混合した。反応終了後減圧下、約5時間かけて温度60〜80℃で溶媒等を全量除去することによって1−エチル−3−メチルイミダゾリウム5−スルホイソフタル酸塩を得た。収率は95%であった。
次に 耐圧反応容器に、得られた1−エチル−3−メチルイミダゾリウム5−スルホイソフタル酸塩200部、ヘキサメチレンジアミン59部、酸化防止剤[商品名「イルガノックス1010」、チバガイギー(株)製、以下同じ]0.1部を仕込み、窒素置換後、220℃で加圧密閉下4時間加熱撹拌して、ポリマー型イオン性液体である、Mn1,400、酸価80の両末端にカルボキシル基を有するポリアミド(A−2)を得た。
<Production of polymer type ionic liquid (A-2)>
Production Example 2
300 parts of 5-sulfoisophthalic acid was dissolved in 500 parts of methanol, and 674 parts of methanol solution (concentration 48%) of 1-ethyl-3-methylimidazolium monomethyl carbonate was mixed. After completion of the reaction, 1-ethyl-3-methylimidazolium 5-sulfoisophthalate was obtained by removing all of the solvent and the like at a temperature of 60 to 80 ° C. under reduced pressure for about 5 hours. The yield was 95%.
Next, 200 parts of the obtained 1-ethyl-3-methylimidazolium 5-sulfoisophthalate, 59 parts of hexamethylenediamine, an antioxidant [trade name “Irganox 1010”, Ciba Geigy Co., Ltd.] Manufactured, the same applies hereinafter) 0.1 parts were charged, and after substitution with nitrogen, the mixture was heated and stirred at 220 ° C. for 4 hours under pressure and hermetically sealed, and both ends of Mn 1,400, acid value 80, which are polymer type ionic liquids, were carboxylated. A polyamide (A-2) having a group was obtained.

<ポリマー型イオン性液体(A−3)の製造>
製造例3
反応容器に5−スルホイソフタル酸のEO2モル付加物52.7部、IPDI 31.5部、およびビスマストリ(2−エチルヘキサノエート)溶液(2−エチルヘキサン酸50%溶液)0.1部を仕込み、80℃で6時間反応させた。放冷後、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムモノメチル炭酸塩27.7部を混合して反応させ、反応終了後減圧下、約5時間かけて温度60〜80℃で溶媒等を全量除去することによってポリマー型イオン性液体である、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムポリウレタン(A−3)を得た。
<Production of polymer type ionic liquid (A-3)>
Production Example 3
In a reaction vessel, 52.7 parts of EO2 molar adduct of 5-sulfoisophthalic acid, 31.5 parts of IPDI, and 0.1 part of a bismuth tri (2-ethylhexanoate) solution (2-ethylhexanoic acid 50% solution) were added. Charged and reacted at 80 ° C. for 6 hours. After allowing to cool, 27.7 parts of 1-ethyl-3-methylimidazolium monomethyl carbonate are mixed and reacted, and after completion of the reaction, all of the solvent and the like are removed at a temperature of 60 to 80 ° C. under reduced pressure for about 5 hours. As a result, 1-ethyl-3-methylimidazolium polyurethane (A-3), which is a polymer type ionic liquid, was obtained.

<ブロックポリマー(B1−1)の製造>
製造例4
耐圧反応容器に、ε−カプロラクタム105部、テレフタル酸19.4部、酸化防止剤[商品名「イルガノックス1010」、チバガイギー(株)製、以下同じ。]0.3部、および水6部を仕込み、窒素置換後、220℃で加圧密閉下4時間加熱撹拌し、Mn1,000、酸価110の両末端にカルボキシル基を有するポリアミドオリゴマーを115部得た。次にMn2,000のビスフェノールAのEO付加物230部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、1mmHg以下の減圧下の条件で5時間重合させ、粘稠なポリマー得た。このポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化してブロックポリマー(B1−1)を得た。(B1−1)の還元粘度は2.05(0.5重量%m−クレゾール溶液、25℃)であった。
<Production of block polymer (B1-1)>
Production Example 4
In a pressure-resistant reaction vessel, 105 parts of ε-caprolactam, 19.4 parts of terephthalic acid, antioxidant [trade name “Irganox 1010”, manufactured by Ciba Geigy Co., Ltd., and the same shall apply hereinafter. ] 0.3 parts and 6 parts of water were charged, and after nitrogen substitution, the mixture was heated and stirred at 220 ° C. for 4 hours under pressure and hermetically sealed, and 115 parts of polyamide oligomer having carboxyl groups at both ends of Mn 1,000 and acid value 110 were obtained. Obtained. Next, 230 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn 2,000 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 1 mmHg or less for 5 hours to obtain a viscous polymer. This polymer was taken out as a strand on the belt and pelletized to obtain a block polymer (B1-1). The reduced viscosity of (B1-1) was 2.05 (0.5 wt% m-cresol solution, 25 ° C.).

<ブロックポリマー(B2−1)の製造>
製造例5
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られたポリプロピレン(Mn2,500、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量10.5個、1分子当たりの二重結合の平均数1.90)85部と無水マレイン酸15部とを仕込み、窒素ガス雰囲気下、200℃で溶融し、200℃で20時間反応させた。その後、未反応の無水マレイン酸を減圧下留去して、酸変性ポリプロピレン(b211−1)を得た。(b211−1)の酸価は39.8、Mnは、2,800であった。
<Production of block polymer (B2-1)>
Production Example 5
In a stainless steel autoclave, polypropylene obtained by the thermal degradation method (Mn 2,500, density 0.89, 10.5 double bonds per 1,000 C, average number of double bonds per molecule 1) .90) 85 parts and maleic anhydride 15 parts were charged, melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere, and reacted at 200 ° C. for 20 hours. Thereafter, unreacted maleic anhydride was distilled off under reduced pressure to obtain acid-modified polypropylene (b211-1). The acid value of (b211-1) was 39.8, and Mn was 2,800.

製造例6
ステンレス製オートクレーブに、(b211−1)87部と12−アミノドデカン酸13部を仕込み、200℃で溶融させ、200℃、2時間、10mmHg以下の条件で反応させ、酸変性ポリプロピレン(b2112−1)を得た。(b2112−1)の酸価は32.1、Mnは3,100であった。
Production Example 6
In a stainless steel autoclave, 87 parts of (b211-1) and 13 parts of 12-aminododecanoic acid are charged, melted at 200 ° C., reacted at 200 ° C. for 2 hours and 10 mmHg or less, and acid-modified polypropylene (b2112-1 ) The acid value of (b2112-1) was 32.1, and Mn was 3,100.

製造例7
ステンレス製オートクレーブに、(b2112−1)51部、Mn3,300のポリエチレングリコール(b2211−1)(体積固有抵抗値1×107Ω・cm)49部、酸化防止剤0.3部および酢酸亜鉛0.5部を仕込み、230℃、1mmHg以下の減圧下の条件で4時間重合し、粘稠なポリマーを得た。以下、製造例4と同様の操作を行いブロックポリマー(B2−1)を得た。(B2−1)のMnは26,000であった。
Production Example 7
In a stainless steel autoclave, 51 parts of (b2112-1), 49 parts of polyethylene glycol (b2211-1) of Mn 3,300 (volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm), 0.3 part of antioxidant and zinc acetate 0.5 parts was charged and polymerized for 4 hours at 230 ° C. under reduced pressure of 1 mmHg or less to obtain a viscous polymer. Thereafter, the same operation as in Production Example 4 was performed to obtain a block polymer (B2-1). The Mn of (B2-1) was 26,000.

実施例1〜24、比較例1〜14
表1および表2に示す処方(部)に従って、導電性樹脂組成物ではA〜Cを、帯電防止性樹脂ではC、DおよびXをヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、240℃、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練して樹脂組成物を得た。
Examples 1-24, Comparative Examples 1-14
In accordance with the formulation (parts) shown in Tables 1 and 2, A to C for the conductive resin composition, C, D and X for the antistatic resin were blended for 3 minutes with a Henschel mixer, and then a twin screw extruder with a vent. The resin composition was obtained by melt kneading at 240 ° C., 100 rpm, and a residence time of 5 minutes.

(注)表中の記号は次のとおりである。
C5−1:テトラキス[メチレン−3−(3’,5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート]メタン
C3−1:1−エチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート
C3−2:1−エチル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホニルイミド
C2−1:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
C4−1:エポキシ化ポリスチレン系エラストマー[商品名「エポフレンドAT501」 、ダイセル化学工業(株)製]
D−1 :ポリプロピレン[商品名「ノバテックMA3H」、日本ポリプロ(株)製]
D−2 :変性ポリフェニレンエーテル樹脂[商品名「ノリルV095」、日本ジーイー プラスチックス(株)製]
(Note) The symbols in the table are as follows.
C5-1: Tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxy
Ciphenyl) propionate] methane C3-1: 1-ethyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate C3-2: 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethanesulfonylimide C2-1: sodium dodecylbenzenesulfonate C4-1 : Epoxidized polystyrene elastomer [trade name “Epofriend AT501”, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]
D-1: Polypropylene [trade name “NOVATEC MA3H”, manufactured by Nippon Polypro Co., Ltd.]
D-2: Modified polyphenylene ether resin [trade name “Noryl V095”, manufactured by Nippon GE Plastics Co., Ltd.]

<性能評価>
上記得られた樹脂組成物を射出成形機[型番「PS40E5ASE」、日精樹脂工業(株)製]を用い、所定のシリンダー温度[(D−1)含有樹脂組成物は220℃、(D−2)含有樹脂組成物は270℃]および金型温度[(D−1)含有樹脂組成物は50℃、(D−2)含有樹脂組成物は80℃]で成形して試験片を作成し、引張強度、引張破壊伸び、曲げ弾性率、表面固有抵抗値、水洗後の表面固有抵抗値の評価に用いた。
これらの試験片について、下記の試験法に基づいて機械強度(引張強度、引張破壊伸び、曲げ弾性率)、導電性または帯電防止性(表面固有抵抗値)および耐水性(水洗後の表面固有抵抗値)を評価した。結果を表3に示す。
<Performance evaluation>
Using the injection molding machine [model number “PS40E5ASE”, manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd.], the resin composition obtained above was used at a predetermined cylinder temperature [(D-1) containing resin composition was 220 ° C., (D-2 ) Containing resin composition is 270 ° C.] and mold temperature [(D-1) containing resin composition is 50 ° C., (D-2) containing resin composition is 80 ° C.] to create a test piece, It was used for evaluation of tensile strength, tensile elongation at break, flexural modulus, surface resistivity, and surface resistivity after washing with water.
For these specimens, mechanical strength (tensile strength, tensile fracture elongation, flexural modulus), conductivity or antistatic properties (surface resistivity) and water resistance (surface resistivity after washing) based on the following test methods Value). The results are shown in Table 3.

(1)引張強度、引張破壊伸び
JIS K7113に準拠。
(2)曲げ弾性率
ASTM D790に準拠。試験片(10×4×100mm)、支点間距離60mm。
(1) Tensile strength, tensile elongation at break compliant with JIS K7113.
(2) Flexural modulus Conforms to ASTM D790. Test piece (10 × 4 × 100 mm), distance between fulcrums 60 mm.

(3)表面固有抵抗値(実施例1〜12および比較例1〜6)
試験片(射出成形:100×100×2mm)を用い、抵抗率測定器[型番「ロレスタGP、MCP−T600」、(株)ダイアインスツルメンツ製]を用い、23℃、湿度50%RHの雰囲気下で測定した。
(4)表面固有抵抗値(実施例13〜24および比較例7〜14)
ASTM D257(1984年)に準拠。試験片(射出成形:100×100×2mm)を用い超絶縁計[型番「DSM−8103」、東亜電波(株)製]により23℃、湿度50%RHの雰囲気下で測定した。
(3) Surface resistivity (Examples 1-12 and Comparative Examples 1-6)
Using a test piece (injection molding: 100 × 100 × 2 mm), using a resistivity meter [model number “Loresta GP, MCP-T600”, manufactured by Dia Instruments Co., Ltd.], in an atmosphere of 23 ° C. and humidity 50% RH Measured with
(4) Surface resistivity (Examples 13 to 24 and Comparative Examples 7 to 14)
Conforms to ASTM D257 (1984). Using a test piece (injection molding: 100 × 100 × 2 mm), measurement was performed in an atmosphere of 23 ° C. and humidity 50% RH with a super insulation meter [model number “DSM-8103”, manufactured by Toa Denpa Co., Ltd.].

(5)水洗後の表面固有抵抗値(実施例1〜12、および比較例1〜6)
縦30cm、横40cm、高さ5cmのポリプロピレン製の蓋付き容器に深さ3cmまでイオン交換水を入れて25℃に温度調整し、その中に試験片(100×100×2mm)を水平に沈めた状態で24時間保持後、取り出しイオン交換水100mlで水洗し、循風乾燥機内80℃で5時間乾燥させる。乾燥後の試験片について、(3)と同様に測定した。
(6)水洗後の表面固有抵抗値(実施例13〜24および比較例7〜14)
上記(5)と同様に水洗、乾燥を行った試験片について(4)と同様に測定した。
(5) Surface resistivity after washing with water (Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 6)
Ion exchange water is poured to a depth of 3 cm in a polypropylene lidded container 30 cm long, 40 cm wide, and 5 cm high, and the temperature is adjusted to 25 ° C., and a test piece (100 × 100 × 2 mm) is submerged horizontally. After being kept for 24 hours, it is taken out and washed with 100 ml of deionized water and dried at 80 ° C. for 5 hours in a circulating air dryer. About the test piece after drying, it measured similarly to (3).
(6) Surface resistivity after washing with water (Examples 13 to 24 and Comparative Examples 7 to 14)
The test piece was washed and dried in the same manner as in (5) above, and the measurement was carried out in the same manner as in (4).

本発明の導電性樹脂組成物は優れた導電性を有し、また該組成物を成形してなる成形品は優れた導電性と機械特性を有することから、各種二次電池用固体電解質用組成物や、高度な帯電防止性が要求される電子部品、電子部品搬送用部材、工程管理用ラベル、クリーンルーム用床材、除電シート、除電マットおよびリストバンド等の各種成形材料用組成物として極めて有用である。
また、本発明の帯電防止性樹脂組成物は、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形およびフィルム成形(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)等の各種成形法で成形される家電・OA機器、ゲーム機器、事務機器用のハウジング製品、ICトレー等の各種プラスチック容器、各種包材用フィルム、床材用シート、人工芝、マット、自動車部品等の帯電防止性を必要とする各種成形材料用組成物として幅広く使用できることから極めて有用である。
Since the conductive resin composition of the present invention has excellent conductivity, and a molded product formed by molding the composition has excellent conductivity and mechanical properties, various compositions for solid electrolytes for secondary batteries. It is extremely useful as a composition for various molding materials such as products, electronic components that require high antistatic properties, electronic component transport members, process control labels, floor materials for clean rooms, static elimination sheets, static elimination mats and wristbands. It is.
In addition, the antistatic resin composition of the present invention includes various types such as injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding, and film molding (casting method, tenter method, inflation method, etc.). Charging of household appliances / OA equipment, housing equipment for office equipment, office equipment, various plastic containers such as IC trays, various packaging films, flooring sheets, artificial grass, mats, automobile parts, etc. It is extremely useful because it can be widely used as a composition for various molding materials that require prevention.

Claims (9)

少なくとも1個のオニウムカチオン基(a)と、対アニオン基を有するポリマー(b)からなるポリマー型イオン性液体(A)を、ポリエーテルエステル、ポリエーテルアミド、ポリエーテルエステルアミド、並びにポリオレフィンのブロックと1×104〜1×1011Ω・cmの体積固有抵抗値を有する親水性ポリマーのブロックとが繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1種のブロックポリマー(B)に含有させてなることを特徴とする導電性樹脂組成物(X)。 Polymeric ionic liquid (A) comprising at least one onium cation group (a) and a polymer (b) having a counter anion group is converted into a polyether ester, a polyether amide, a polyether ester amide, and a polyolefin block. And at least one block polymer selected from the group consisting of block polymers having a structure in which hydrophilic polymer blocks having a volume resistivity of 1 × 10 4 to 1 × 10 11 Ω · cm are alternately and repeatedly bonded ( A conductive resin composition (X), which is contained in B). (b)が、付加重合物、重縮合物および重付加物からなる群から選ばれるポリマーである請求項1記載の組成物。 The composition according to claim 1, wherein (b) is a polymer selected from the group consisting of an addition polymer, a polycondensate and a polyaddition. (A)と(B)の重量比が、1/99〜50/50である請求項1または2記載の組成物。 The composition according to claim 1 or 2, wherein the weight ratio of (A) to (B) is from 1/99 to 50/50. さらに、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩、界面活性剤、(A)以外のイオン性液体、相溶化剤およびその他の樹脂用添加剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤(C)を含有させてなる請求項1〜3のいずれか記載の組成物。 Further, at least one additive (C) selected from the group consisting of an alkali metal or alkaline earth metal salt, a surfactant, an ionic liquid other than (A), a compatibilizing agent, and other additives for resins. The composition according to any one of claims 1 to 3, which is contained. 請求項1〜4のいずれか記載の(A)と(B)を含む組成物(X)を熱可塑性樹脂(D)に含有させてなり、(A)と(B)の合計含有量が(D)の重量に基づいて50〜90%であるマスターバッチ帯電防止性樹脂組成物。 The composition (X) containing (A) and (B) according to any one of claims 1 to 4 is contained in a thermoplastic resin (D), and the total content of (A) and (B) is ( A master batch antistatic resin composition which is 50 to 90% based on the weight of D). 請求項5記載の組成物にさらに、熱可塑性樹脂(D)を加えてなり、(A)と(B)の合計含有量が(D)の合計重量に基づいて1〜50%である成形用帯電防止性樹脂組成物。 The thermoplastic resin (D) is further added to the composition according to claim 5, and the total content of (A) and (B) is 1 to 50% based on the total weight of (D). Antistatic resin composition. さらに、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩、界面活性剤、(A)以外のイオン性液体、相溶化剤およびその他の樹脂用添加剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤(C)を含有させてなる請求項6記載の組成物。 Further, at least one additive (C) selected from the group consisting of an alkali metal or alkaline earth metal salt, a surfactant, an ionic liquid other than (A), a compatibilizing agent, and other additives for resins. The composition according to claim 6, which comprises 請求項1〜4、または請求項6〜7のいずれか記載の組成物を成形してなる成形品。 A molded article formed by molding the composition according to any one of claims 1 to 4 or claims 6 to 7. 請求項8記載の成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品。 A molded article obtained by coating and / or printing the molded article according to claim 8.
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Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0539388A (en) * 1991-08-02 1993-02-19 Toray Ind Inc Antistatic resin composition
JPH11199667A (en) * 1998-01-14 1999-07-27 Arakawa Chem Ind Co Ltd Polyether-ester-amide, antistatic agent and thermoplastic resin composition
FR2824329B1 (en) * 2001-05-03 2003-06-13 Atofina ANTISTATIC POLYMER COMPOSITIONS
JP2004006232A (en) * 2001-12-27 2004-01-08 Sanyo Chem Ind Ltd Polyelectrolyte
JP2003342483A (en) * 2002-03-20 2003-12-03 Sanyo Chem Ind Ltd Electroconductive elastomer
JP4625255B2 (en) * 2002-12-27 2011-02-02 三洋化成工業株式会社 Antistatic agent and antistatic resin composition
JP2005015573A (en) * 2003-06-24 2005-01-20 Mitsubishi Engineering Plastics Corp Antistatic resin composition
JP2007009124A (en) * 2005-07-04 2007-01-18 Japan Carlit Co Ltd:The Antistatic epoxy resin composition and shaped article
JP5260273B2 (en) * 2007-12-27 2013-08-14 三洋化成工業株式会社 Active energy ray-curable antistatic resin composition

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