JP2008031461A - Antistatic resin composition - Google Patents

Antistatic resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP2008031461A
JP2008031461A JP2007173424A JP2007173424A JP2008031461A JP 2008031461 A JP2008031461 A JP 2008031461A JP 2007173424 A JP2007173424 A JP 2007173424A JP 2007173424 A JP2007173424 A JP 2007173424A JP 2008031461 A JP2008031461 A JP 2008031461A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
group
examples
antistatic
parts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007173424A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanori Hattori
真範 服部
Yasuhiro Ueda
安宏 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
Priority to JP2007173424A priority Critical patent/JP2008031461A/en
Publication of JP2008031461A publication Critical patent/JP2008031461A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic resin composition giving a molded product of high moldability with excellent antistaticity and mechanical properties in view of the conventional problem that, for imparting a thermoplastic resin with electrical conductivity, there has been the need of using a resin composition compounded with much electrically conductive material, leading to impairing its moldability due to declining in its fluidity. <P>SOLUTION: An antistatic agent is provided, comprising a mixture of carbon nanotubes and a dispersant having a conjugated double bond and a hydrophilic group-containing polymer with a volume resistivity of 1×10<SP>6</SP>to 1×10<SP>12</SP>Ωcm. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、カーボンナノチューブを含有してなることを特徴とする帯電防止剤に関する。さらに詳しくは、カーボンナノチューブの分散性に優れた帯電防止剤、および該帯電防止剤を熱可塑性樹脂に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物に関する。   The present invention relates to an antistatic agent comprising carbon nanotubes. More specifically, the present invention relates to an antistatic agent excellent in dispersibility of carbon nanotubes, and an antistatic resin composition comprising the antistatic agent contained in a thermoplastic resin.

従来、エラストマー(オレフィンエラストマー、塩化ビニルエラストマー、スチレンエラストマー、ウレタンエラストマー、ポリエステルエラストマー、ポリアミドエラストマー、フッ素エラストマー、シンジオタクチック−1,2−PBエラストマー、塩素化エチレンコポリマー架橋体アロイ、塩素化ポリエチレンおよびエステル・ハロゲンポリマーアロイ等)に導電性を付与する方法としては、カーボンや金属繊維あるいは金属粉等の導電性物質を配合する方法(例えば、特許文献1参照)等が知られている。   Conventional elastomers (olefin elastomers, vinyl chloride elastomers, styrene elastomers, urethane elastomers, polyester elastomers, polyamide elastomers, fluoroelastomers, syndiotactic-1,2-PB elastomers, chlorinated ethylene copolymer crosslinked alloys, chlorinated polyethylene and esters) As a method of imparting conductivity to a halogen polymer alloy or the like, a method of blending a conductive substance such as carbon, metal fiber, or metal powder (for example, see Patent Document 1) is known.

特開平7−216224号公報JP-A-7-216224

しかしながら、上記方法では、多量の導電性物質を配合する必要があることから、樹脂組成物の流動性の低下により成形性が悪化したり、成形品が重くなるという問題があった。本発明の目的は、成形性に優れた帯電防止性樹脂組成物、および永久帯電防止性、機械物性に優れた成形品を提供することにある。   However, in the above method, since it is necessary to add a large amount of a conductive substance, there is a problem that the moldability deteriorates due to a decrease in the fluidity of the resin composition, and the molded article becomes heavy. An object of the present invention is to provide an antistatic resin composition excellent in moldability and a molded article excellent in permanent antistatic property and mechanical properties.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、カーボンナノチューブ(A)および共役二重結合を有する分散剤(B)の混合物と、1×106〜1×1012の体積固有抵抗値を有する親水性基含有ポリマー(C
)からなることを特徴とする帯電防止剤;該帯電防止剤を熱可塑性樹脂(D)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物;該組成物を成形してなる成形品;並びに、該成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品である。
The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the present invention relates to a mixture of a carbon nanotube (A) and a dispersant (B) having a conjugated double bond and a hydrophilic group-containing polymer (C) having a volume resistivity of 1 × 10 6 to 1 × 10 12.
An antistatic agent comprising the thermoplastic resin (D) containing the antistatic agent; a molded product formed by molding the composition; and the molding A molded article obtained by painting and / or printing a product.

本発明の帯電防止剤を熱可塑性樹脂に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物は、成形性に優れ、しかも該組成物を成形してなる成形品は機械特性に優れ、従来にない高度な永久帯電防止性を有するという効果を奏する。   The antistatic resin composition comprising the antistatic agent of the present invention contained in a thermoplastic resin is excellent in moldability, and a molded product formed by molding the composition is excellent in mechanical properties and has an unprecedented advanced level. There is an effect of having a permanent antistatic property.

本発明におけるカーボンナノチューブ(A)は、炭素原子が2次元的に配列したグラファイト層が円筒状に閉じた構造を有するものである。
(A)には、単層構造のもの(単層カーボンナノチューブ)、複数のカーボンナノチューブが入れ子状となった多層構造のもの(多層カーボンナノチューブ)、部分的にカーボンナノチューブの構造を有している炭素材料、およびこれらの混合物が含まれる。
(A)のアスペクト比(長さ/直径比)は、導電性および成形性の観点から好ましくは10〜1,000、さらに好ましくは30〜800である。
また、(A)の直径は、工業上および導電性の観点から好ましくは1〜50nm、さらに好ましくは1〜40nmである。
The carbon nanotube (A) in the present invention has a structure in which a graphite layer in which carbon atoms are two-dimensionally arranged is closed in a cylindrical shape.
(A) has a single-walled structure (single-walled carbon nanotube), a multilayered structure in which a plurality of carbon nanotubes are nested (multi-walled carbon nanotube), and partially has a carbon nanotube structure. Carbon materials, and mixtures thereof are included.
The aspect ratio (length / diameter ratio) of (A) is preferably 10 to 1,000, more preferably 30 to 800, from the viewpoint of conductivity and moldability.
Further, the diameter of (A) is preferably 1 to 50 nm, more preferably 1 to 40 nm, from the viewpoint of industrial and electrical conductivity.

(A)の製造方法としては、例えば炭素電極間にアーク放電を発生させ、放電用電極の
陰極表面に成長させる方法、シリコンカーバイドにレーザービームを照射して加熱・昇華させる方法、遷移金属触媒を用いて炭化水素を還元雰囲気下の気相で炭化させる方法が挙げられる。
As a manufacturing method of (A), for example, a method of generating an arc discharge between carbon electrodes and growing it on the cathode surface of the discharge electrode, a method of heating and sublimating silicon carbide with a laser beam, a transition metal catalyst, And a method of carbonizing hydrocarbons in a gas phase under a reducing atmosphere.

本発明における共役二重結合を有する分散剤(B)には、分子中に共役二重結合を有する、炭素数(以下Cと略記)3〜22の有機化合物であればとくに限定されず、例えば下記のものが挙げられる。
(1)炭化水素
(1−1)脂肪族炭化水素
C4〜20、例えばブタジエン、1,3−ペンタジエン、イソプレン、1,3−および2,4−ヘキサジエン、1,3,5−ヘキサトリエン、2−、3−および4−メチル−1,3−ペンタジエン、2−エチル−1,3−ブタジエン、1,3−および2,4−ヘプタジエン、1,3,5−ヘプタトリエン、2−および3−メチル−1,3−ヘキサジエン、2−および3−メチル−2,4−ヘキサジエン、2−および3−メチル−1,3,5−ヘキサトリエン、2−、3−および4−エチル−1,3−ペンタジエン等;
(1−2)脂環含有炭化水素
C5〜20、例えばシクロペンタジエン、シクロヘプタトリエン等;
(1−3)芳香環含有炭化水素
C6〜22、例えば単環(C6〜22、例えばベンゼン、トルエン、o−、m−およびp−キシレン、1,2,3−トリメチルベンゼン、メシチレン、クメン、o−、m−およびp−シメン、スチレン、1,4−ジビニルベンゼン、)、および多環(C10〜22、例えばビフェニル、ペンタレン、インデン、ナフタレン、アズレン、ヘプタレン、as−およびs−インダセン、アセナフチレン、フルオレン、フェナレン、フェナントレン、アンスラセン、フルオランテン、アセフェナントリエン、アセアントリレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、プレイアデン、ピセン、ペリレン、ペンタフェン、ペンタセン)炭化水素が挙げられ、これらのうちカーボンナノチューブの分散性の観点から好ましいのはフルオレン、アンスラセンおよびペリレンである;
(2)エーテル
(2−1)直鎖状もしくは分岐状エーテル
C7〜20、例えばアニソール、エチルフェニルエーテル、ブチルフェニルエーテル、イソブチルフェニルエーテル、t−ブチルフェニルエーテル等;
(2−2)環状(チオ)エーテル
フラン、2−および3−メチルフラン、2−および3−エチルフラン、2−および3−フランアセトニトリル、2−および3−フランエチルアミン、チオフェン、2−および3−メチルチオフェン、2−および3−エチルチオフェン、2−および3−チオフェンアセトニトリル、2−および3−チオフェンエチルアミン等;
(3)ケトン
C7〜20、例えばメチルフェニルケトン、エチルフェニルケトン、ブチルフェニルケトン、イソブチルフェニルケトン、t−ブチルフェニルケトン、ベンゾフェノン等;
(4)エステル
C7〜20、例えば安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ブチル、安息香酸イソブチル、安息香酸t−ブチル等;
(5)有機酸(塩)
C7〜20、例えば安息香酸、o−、m−およびp−ヒドロキシ安息香酸、o−、m−およびp−メチル安息香酸、フタル酸、ベンゼンスルホン酸およびこれらの塩〔アルカリもしくはアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン[但し下記(5)のアミンを除く]塩等〕等;
The dispersant (B) having a conjugated double bond in the present invention is not particularly limited as long as it is an organic compound having 3 to 22 carbon atoms (hereinafter abbreviated as C) having a conjugated double bond in the molecule. The following are mentioned.
(1) Hydrocarbon (1-1) Aliphatic hydrocarbon C4-20, such as butadiene, 1,3-pentadiene, isoprene, 1,3- and 2,4-hexadiene, 1,3,5-hexatriene, 2 -, 3- and 4-methyl-1,3-pentadiene, 2-ethyl-1,3-butadiene, 1,3- and 2,4-heptadiene, 1,3,5-heptatriene, 2- and 3-methyl -1,3-hexadiene, 2- and 3-methyl-2,4-hexadiene, 2- and 3-methyl-1,3,5-hexatriene, 2-, 3- and 4-ethyl-1,3- Pentadiene and the like;
(1-2) Alicyclic ring-containing hydrocarbon C5-20, such as cyclopentadiene, cycloheptatriene and the like;
(1-3) Aromatic ring-containing hydrocarbons C6-22, such as monocyclic (C6-22, such as benzene, toluene, o-, m- and p-xylene, 1,2,3-trimethylbenzene, mesitylene, cumene, o-, m- and p-cymene, styrene, 1,4-divinylbenzene,) and polycyclic (C10-22, eg biphenyl, pentalene, indene, naphthalene, azulene, heptalene, as- and s-indacene, acenaphthylene. , Fluorene, phenalene, phenanthrene, anthracene, fluoranthene, acephenanthrene, aceanthrylene, triphenylene, pyrene, chrysene, naphthacene, pleiaden, picene, perylene, pentaphen, pentacene), among these, carbon nanotubes From the viewpoint of dispersibility Preferred are fluorene, anthracene and perylene;
(2) ether (2-1) linear or branched ether C7-20, such as anisole, ethyl phenyl ether, butyl phenyl ether, isobutyl phenyl ether, t-butyl phenyl ether, etc .;
(2-2) Cyclic (thio) ether furan, 2- and 3-methylfuran, 2- and 3-ethylfuran, 2- and 3-furanacetonitrile, 2- and 3-furanethylamine, thiophene, 2- and 3 -Methylthiophene, 2- and 3-ethylthiophene, 2- and 3-thiopheneacetonitrile, 2- and 3-thiopheneethylamine and the like;
(3) Ketone C7-20, such as methyl phenyl ketone, ethyl phenyl ketone, butyl phenyl ketone, isobutyl phenyl ketone, t-butyl phenyl ketone, benzophenone, etc .;
(4) Esters C7-20, such as methyl benzoate, ethyl benzoate, butyl benzoate, isobutyl benzoate, t-butyl benzoate and the like;
(5) Organic acid (salt)
C7-20, such as benzoic acid, o-, m- and p-hydroxybenzoic acid, o-, m- and p-methylbenzoic acid, phthalic acid, benzenesulfonic acid and their salts [alkali or alkaline earth metal salts , Ammonium salts, amines [provided that the amine of the following (5) is excluded], etc.], etc .;

(6)アミン(塩)〔アミン、その塩および4級アンモニウム塩を表す。以下同じ。〕
(6−1)脂肪族アミン(塩)
C4〜20、例えば1−および2−アミノ−1,3−ブタジエン、1−、2−、3−、4−および5−アミノ−1,3−ペンタジエン、1−、2−、3−、4−、5−および6−アミノ1,3−ヘキサジエン、1−、2−および3−アミノ−2,4−ヘキサジエン、これらの塩および4級アンモニウム塩;
(6−2)環を有するアミン(塩)
(6−2−1)ベンゼン環含有アミン(塩)
C6〜20、例えばアニリン、トリレンジアミン、キシリレンジアミン、これらの塩および4級アンモニウム塩;
(6−2−2)複素環含有アミン(塩)
C3〜20、例えばイミダゾール化合物(イミダゾール、メチルイミダゾール、エチルイミダゾール、1,2,4−トリメチルイミダゾール、1,4−ジメチル−2−エチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−ジエチルアミノ−1,4−ジメチルイミダゾール、2−ジエチルアミノ−1−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ジメチルアミノ−4−エチル−1−メチルイミダゾール、2−ジメチルアミノ−1,4−ジメチルイミダゾール、2−ジエチルアミノ−1,4−ジメチルイミダゾール、2−ジエチルアミノ−4−エチル−1−メチルイミダゾール、2−ジメチルアミノ−4−エチル−1−メチルイミダゾリウム等)、ピリジン化合物(ピリジン、4−メチルピリジン等)、ピリミジン化合物(ピリミジン、2−メチルピリミジン等)、ピラジン化合物(ピラジン、2−メチルピラジン等)、トリアゾール化合物(1,2,4−トリアゾール、1H−1,2,3−トリアゾール等)、これらの塩および4級アンモニウム塩が挙げられ、カーボンナノチューブの分散性の観点から好ましいのはイミダゾール化合物、およびこれらの4級アンモニウム塩である。
(6) Amine (salt) [represents an amine, a salt thereof, and a quaternary ammonium salt. same as below. ]
(6-1) Aliphatic amine (salt)
C4-20, such as 1- and 2-amino-1,3-butadiene, 1-, 2-, 3-, 4- and 5-amino-1,3-pentadiene, 1-, 2-, 3--4 -, 5- and 6-amino 1,3-hexadiene, 1-, 2- and 3-amino-2,4-hexadiene, their salts and quaternary ammonium salts;
(6-2) Ring-containing amine (salt)
(6-2-1) Amine containing benzene ring (salt)
C6-20, such as aniline, tolylenediamine, xylylenediamine, their salts and quaternary ammonium salts;
(6-2-2) Heterocycle-containing amine (salt)
C3-20, such as imidazole compounds (imidazole, methylimidazole, ethylimidazole, 1,2,4-trimethylimidazole, 1,4-dimethyl-2-ethylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-diethylamino-1,4 -Dimethylimidazole, 2-diethylamino-1-ethyl-4-methylimidazole, 2-dimethylamino-4-ethyl-1-methylimidazole, 2-dimethylamino-1,4-dimethylimidazole, 2-diethylamino-1,4 -Dimethylimidazole, 2-diethylamino-4-ethyl-1-methylimidazole, 2-dimethylamino-4-ethyl-1-methylimidazolium, etc.), pyridine compounds (pyridine, 4-methylpyridine, etc.), pyrimidine compounds (pyrimidine) , 2-me Lupyrimidine etc.), pyrazine compounds (pyrazine, 2-methylpyrazine etc.), triazole compounds (1,2,4-triazole, 1H-1,2,3-triazole etc.), their salts and quaternary ammonium salts. In view of the dispersibility of the carbon nanotubes, imidazole compounds and quaternary ammonium salts thereof are preferable.

上記アミン塩としては、該アミンの無機酸(塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等)塩、有機酸(C1〜15のカルボン酸等)塩等;4級アンモニウム塩としては、該アミンを4級化剤(メチルクロライド、ジメチル硫酸、ベンジルクロライド、ジメチルカーボネート等)を用いて4級化したもの、および該4級化したものをさらに後述の方法で酸交換したもの等(該4級アンモニウム塩を構成するカチオンおよびアニオンについては後述する。)が挙げられる。   Examples of the amine salt include inorganic acid (hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc.) salt of the amine, organic acid (C1-15 carboxylic acid, etc.) salt, etc .; Quaternized with an agent (methyl chloride, dimethyl sulfate, benzyl chloride, dimethyl carbonate, etc.), and those quaternized with an acid exchange by the method described later (the quaternary ammonium salt Constituent cations and anions will be described later).

上記(B)のうち、カーボンナノチューブの分散性の観点から好ましいのは炭化水素およびアミン(塩)、さらに好ましいのは複素環含有アミン(塩)、とくに好ましいのはイミダゾール化合物およびその4級アンモニウム塩である。   Of the above (B), hydrocarbons and amines (salts) are preferred from the viewpoint of dispersibility of carbon nanotubes, more preferred are heterocyclic-containing amines (salts), and particularly preferred are imidazole compounds and quaternary ammonium salts thereof. It is.

上記4級アンモニウム塩を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオンおよびグアニジニウムカチオンが挙げられる。
アミジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウムカチオン[1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウムなど]、イミダゾリウムカチオン[1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウムなど]、ピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチルピリミジニウム、
1,2,3−トリメチルピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチルピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチルピリミジニウムなど];
Examples of the cation constituting the quaternary ammonium salt include an amidinium cation and a guanidinium cation.
Examples of the amidinium cation include an imidazolinium cation [1,2,3,4-tetramethylimidazolinium, 1,3,4-trimethyl-2-ethylimidazolinium, 1,3-dimethylimidazolinium. 1,3-dimethyl-2,4-diethylimidazolinium, etc.], imidazolium cation [1,3-dimethylimidazolium, 1,3-diethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1, 2,3-trimethylimidazolium, etc.], pyrimidinium cation [1,3-dimethylpyrimidinium,
1,2,3-trimethylpyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethylpyrimidinium, 1,2,3,5-tetramethylpyrimidinium, etc.];

グアニジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウムなど]が挙げられる。   Examples of guanidinium cations include guanidinium cations having an imidazolium skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino. -1,3-dimethyl-4-ethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolium, etc.].

上記4級アンモニウム塩を構成するアニオンには、有機酸または無機酸のアニオンが含まれ、該有機酸としては、例えばカルボン酸、硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル、スルホン酸およびリン酸エステル;無機酸としては、例えば超強酸(例えばホウフッ素酸、四フッ化ホウ素酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、六フッ化アンチモン酸および六フッ化ヒ素酸)、リン酸およびホウ酸が挙げられる。上記有機酸および無機酸は1種単独でも2種以上の併用でもいずれでもよい。
上記有機酸および無機酸のうち、(A)の分散性の観点から好ましいのはアニオンのHammett酸度関数(−H0)が12〜100である、超強酸、超強酸の共役塩基以外
のアニオンを形成する酸およびこれらの混合物である。
The anion constituting the quaternary ammonium salt includes an anion of an organic acid or an inorganic acid. Examples of the organic acid include carboxylic acid, sulfate ester, higher alkyl ether sulfate ester, sulfonic acid and phosphate ester; inorganic Examples of the acid include super strong acids (for example, borofluoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroantimonic acid, and hexafluoroarsenic acid), phosphoric acid, and boric acid. . The organic acid and inorganic acid may be used alone or in combination of two or more.
Among the above organic acids and inorganic acids, from the viewpoint of the dispersibility of (A), it is preferable to form anions other than the super strong acid and the conjugate base of the super strong acid whose Hammett acidity function (-H0) is 12 to 100. Acid and mixtures thereof.

超強酸の共役塩基以外のアニオンとしては、例えばハロゲン(例えばフッ素、塩素および臭素)イオン、アルキル(C1〜12)ベンゼンスルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(例えばウンデカフルオロペンタンスルホン酸)イオンが挙げられる。   Examples of the anion other than the conjugate base of the super strong acid include halogen (for example, fluorine, chlorine and bromine) ions, alkyl (C1-12) benzenesulfonic acid (for example, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid) ions and poly (n = 1-25) Fluoroalkanesulfonic acid (for example, undecafluoropentanesulfonic acid) ion.

超強酸としては、プロトン酸およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせから誘導されるもの、およびこれらの混合物が挙げられる。
超強酸としてのプロトン酸としては、例えばビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタン、過塩素酸、フルオロスルホン酸、アルカン(C1〜30)スルホン酸[例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸など)、ポリ(n=1〜30)フルオロアルカン(C1〜30)スルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸およびトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ホウフッ素酸および四フッ化ホウ素酸が挙げられる。
これらのうち合成の容易さの観点から好ましいのはホウフッ素酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸である。
Super strong acids include those derived from protonic acids and combinations of protonic acids and Lewis acids, and mixtures thereof.
Examples of the protonic acid as the super strong acid include bis (trifluoromethylsulfonyl) imidic acid, bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid, tris (trifluoromethylsulfonyl) methane, perchloric acid, fluorosulfonic acid, alkane (C1 -30) sulfonic acid [eg methane sulfonic acid, dodecane sulfonic acid etc.], poly (n = 1-30) fluoroalkane (C1-30) sulfonic acid (eg trifluoromethane sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, heptafluoropropane) Sulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid and tridecafluorohexanesulfonic acid), borofluoric acid and tetrafluoroboric acid.
Of these, borofluoric acid, trifluoromethanesulfonic acid and bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid are preferred from the viewpoint of ease of synthesis.

ルイス酸と組合せて用いられるプロトン酸としては、例えばハロゲン化水素(例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素)、過塩素酸、フルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸およびこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the protonic acid used in combination with the Lewis acid include hydrogen halide (for example, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide), perchloric acid, fluorosulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid. , Pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid, tridecafluorohexanesulfonic acid and mixtures thereof.

ルイス酸としては、例えば三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタルおよびこれらの混合物が挙げられる。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせからなる超強酸としては、例えばテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、六フッ化タンタル酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化タンタルスルホン酸、四フッ化ホウ素酸、六フッ化リン酸、塩化三フッ化ホウ素酸、六フッ化ヒ素酸およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, tantalum pentafluoride, and mixtures thereof.
The combination of the protonic acid and the Lewis acid is arbitrary, but as the super strong acid comprising these combinations, for example, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluorotantalic acid, hexafluoroantimonic acid, tantalum hexafluoride Examples include sulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, chloroboron trifluoride, arsenic hexafluoride, and mixtures thereof.

上記4級アンモニウム塩の製法としては、例えばジメチルカーボネート等で4級化して得られるアミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンのジメチルカーボネート塩に、酸[該4級アンモニウム塩においてアニオンを構成する前記の有機酸または無機酸]を加えて酸交換を行う方法、または、アミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンを一旦加水分解してモノアミドアミンを生成した後、そのモノアミドアミンを酸(前記に同じ)で中和する方法が挙げられる。   As a method for producing the quaternary ammonium salt, for example, a dimethyl carbonate salt of an amidinium cation and / or a guanidinium cation obtained by quaternization with dimethyl carbonate or the like, an acid [forms an anion in the quaternary ammonium salt]. The above-mentioned organic acid or inorganic acid] is added to perform acid exchange, or the amidinium cation and / or guanidinium cation is once hydrolyzed to form a monoamidoamine, and then the monoamidoamine is converted into an acid (described above) And the same method).

本発明における親水性基含有ポリマー(C)は、1×106〜1×1012(好ましくは5×106〜1×1011、さらに好ましくは1×107〜1×1010)Ω・cmの体積固有抵抗値を有する親水性基含有ポリマーである。(C)の体積固有抵抗値が1×106Ω・cm未満では組成物の成形性が悪くなり、1×1012Ω・cmを超えると帯電防止性が悪くなる。
(C)には、下記のもの、およびこれらの2種以上の混合物が含まれる。
(C1):数平均分子量[以下Mnと略記。測定はゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)法による。]が好ましくは200〜5,000のポリアミド(c11)と、Mnが好ましくは300〜5,000のビスフェノール化合物のアルキレンオキシド(以下AOと略記)付加物(c12)とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
(C2):ポリオレフィン(c21)のブロックとポリオキシアルキレン鎖含有化合物((c22)のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
(C3):ポリエーテルアミドイミド
(C4):ポリエーテルエステル
これらのうち、帯電防止性の観点から好ましいのは(C1)〜(C3)、さらに好ましいのは(C1)および(C2)である。
The hydrophilic group-containing polymer (C) in the present invention is 1 × 10 6 to 1 × 10 12 (preferably 5 × 10 6 to 1 × 10 11 , more preferably 1 × 10 7 to 1 × 10 10 ) Ω · It is a hydrophilic group-containing polymer having a volume resistivity of cm. When the volume resistivity value of (C) is less than 1 × 10 6 Ω · cm, the moldability of the composition is deteriorated, and when it exceeds 1 × 10 12 Ω · cm, the antistatic property is deteriorated.
(C) includes the following and mixtures of two or more thereof.
(C1): Number average molecular weight [hereinafter abbreviated as Mn. The measurement is based on a gel permeation chromatography (GPC) method. ] Is preferably a polyether ester derived from a polyamide (c11) having 200 to 5,000 and an alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) adduct (c12) of a bisphenol compound having Mn preferably 300 to 5,000. Amide (C2): at least one selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond, and a urethane bond, in which the block of polyolefin (c21) and the polyoxyalkylene chain-containing compound ((c22) block) Block polymer (C3) having a structure that is alternately and repeatedly bonded via a bond: Polyetheramideimide (C4): Polyetherester Among these, (C1) to (C3) are preferable from the viewpoint of antistatic properties. More preferred are (C1) and (C2).

(C1)としては、例えば特開平6−287547号公報および特公平4−5691号公報に記載のポリエーテルエステルアミドが使用できる。これらのうち耐熱性の観点から、Mnの好ましい下限が200、さらに好ましくは500,Mnの好ましい上限が5,000、さらに好ましくは3,000のポリアミド(c11)と、Mnの好ましい下限が300、さらに好ましくは500、Mnの好ましい上限が5,000、さらに好ましくは4,000のビスフェノール化合物のAO付加物(c12)とから誘導されるポリエーテルエステルアミドである。   As (C1), for example, polyether ester amides described in JP-A-6-287547 and JP-B-4-5691 can be used. Among these, from the viewpoint of heat resistance, the preferable lower limit of Mn is 200, more preferably 500, the preferable upper limit of Mn is 5,000, more preferably 3,000 polyamide (c11), and the preferable lower limit of Mn is 300, More preferred is a polyether ester amide derived from an AO adduct (c12) of a bisphenol compound having a preferred upper limit of 500 and Mn of 5,000, more preferably 4,000.

ポリアミド(c11)としては、ラクタム開環重合体(c111)、アミノカルボン酸の重縮合体(c112)およびジカルボン酸とジアミンの重縮合体(c113)およびこれらの共重合ポリアミド(c114)が挙げられる。
これらのポリアミドを形成するアミド形成性モノマーのうち、(c111)におけるラクタムとしては、C6〜12、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタム、ウンデカノラクタムが挙げられる。
ラクタムの開環重合体としては、例えばナイロン4、−5、−6、−8および−12が挙げられる。
(c112)におけるアミノカルボン酸としては、C2〜12、例えばグリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸が挙げられる。
アミノカルボン酸の重縮合体としては、例えばアミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11および12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12が挙げられる。
(c113)におけるジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸、芳香(脂肪)族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、これらのアミド形成性誘導体[酸無水物、低級(C1〜4)アルキルエステル]およびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。
Examples of the polyamide (c11) include a lactam ring-opening polymer (c111), an aminocarboxylic acid polycondensate (c112), a dicarboxylic acid and diamine polycondensate (c113), and a copolymerized polyamide (c114) thereof. .
Among the amide-forming monomers forming these polyamides, the lactam in (c111) includes C6-12, such as caprolactam, enantolactam, laurolactam, and undecanolactam.
Examples of the ring-opening polymer of lactam include nylon 4, -5, -6, -8 and -12.
The aminocarboxylic acid in (c112) is C2-12, such as glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, phenylalanine, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopergonic acid, ω. -Amino capric acid, 11-amino undecanoic acid, 12-amino dodecanoic acid are mentioned.
Examples of the polycondensate of aminocarboxylic acid include nylon 7 by polycondensation of aminoenanthic acid, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, and nylon 12 by polycondensation of 12-aminododecanoic acid.
Examples of the dicarboxylic acid in (c113) include aliphatic dicarboxylic acids, aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, amide-forming derivatives thereof [acid anhydrides, lower (C1-4) alkyl esters], and the like. Or a mixture of two or more thereof.

脂肪族ジカルボン酸としては、C4〜20、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸が挙げられる。
芳香(脂肪)族ジカルボン酸としては、C8〜20、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、ナフタレン−2,6−および−2,7−ジカルボン酸、ジフェニル−4,4’ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸のアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウムなど)塩が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、C7〜14、例えばシクロプロパンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−4,4−ジカルボン酸が挙げられる。
アミド形成性誘導体のうち酸無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物、例えば無水
マレイン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸が挙げられ、低級(C1〜4)アルキルエステルとしては上記ジカルボン酸の低級アルキルエステル、例えばアジピン酸ジメチル、オルト−、イソ−およびテレフタル酸ジメチルが挙げられる。
また、ジアミンとしては、C6〜12、例えばヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン等が挙げられる。
Aliphatic dicarboxylic acids include C4-20, such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid. Can be mentioned.
Aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids include C8-20, such as ortho-, iso- and terephthalic acid, naphthalene-2,6- and -2,7-dicarboxylic acid, diphenyl-4,4'dicarboxylic acid, diphenoxy Examples include alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) salts of ethanedicarboxylic acid and 3-sulfoisophthalic acid.
Examples of the alicyclic dicarboxylic acid include C7 to 14 such as cyclopropanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid, and dicyclohexyl-4,4-dicarboxylic acid.
Among the amide-forming derivatives, examples of the acid anhydride include anhydrides of the above dicarboxylic acids, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, and phthalic anhydride. Lower (C1-4) alkyl esters include those of the above dicarboxylic acids. Alkyl esters such as dimethyl adipate, ortho-, iso- and dimethyl terephthalate are mentioned.
Examples of the diamine include C6-12, such as hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, and decamethylene diamine.

ジカルボン酸とジアミンの重縮合体(c113)としては、ヘキサメチレンジアミンとアジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸またはドデカン二酸の重縮合による、それぞれナイロン66、−610、−69または−612、およびテトラメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合によるナイロン46等が挙げられる。
また、共重合ポリアミド(c114)としては、ナイロン6/66〔ナイロン6とナイロン66の共重合体[共重合比(重量比)=5/95〜95/5]〕およびナイロン6/12〔ナイロン6とナイロン12の共重合体[共重合比(重合比)=5/95〜95/5]〕等が挙げられる。
Polycondensates of dicarboxylic acid and diamine (c113) include nylon 66, -610, -69, or -612, respectively, by polycondensation of hexamethylenediamine and adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, or dodecanedioic acid, and tetra Nylon 46 by the polycondensation of methylenediamine and adipic acid is mentioned.
As the copolymerized polyamide (c114), nylon 6/66 [a copolymer of nylon 6 and nylon 66 [copolymerization ratio (weight ratio) = 5/95 to 95/5]] and nylon 6/12 [nylon 6 and nylon 12 copolymer [copolymerization ratio (polymerization ratio) = 5/95 to 95/5]] and the like.

上記アミド形成性モノマーとして例示したものは2種以上併用してもよい。これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、12−アミノドデカン酸およびアジピン酸/ヘキサメチレンジアミンであり、さらに好ましいのはカプロラクタムである。   Two or more of those exemplified as the amide-forming monomer may be used in combination. Of these, caprolactam, 12-aminododecanoic acid and adipic acid / hexamethylenediamine are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and caprolactam is more preferable.

ポリアミド(c11)は、C4〜20のジカルボン酸の1種以上を分子量調整剤として使用し、その存在下に上記アミド形成性モノマーを常法により開環重合あるいは重縮合させることによって得られる。
該C4〜20のジカルボン酸としては、前記の(c113)において例示したものが挙げられ、これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。
The polyamide (c11) can be obtained by using one or more C4-20 dicarboxylic acids as molecular weight regulators and subjecting the amide-forming monomer to ring-opening polymerization or polycondensation in the presence thereof in the usual manner.
Examples of the C4-20 dicarboxylic acid include those exemplified in the above (c113). Among these, aliphatic dicarboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid and 3-sulfoisophthalic acid are preferable from the viewpoint of antistatic properties. Alkali metal salts, more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and sodium 3-sulfoisophthalate.

上記分子量調整剤の使用量は、アミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて帯電防止性、耐熱性の観点から好ましくは2〜80%、さらに好ましくは4〜75%である。   The amount of the molecular weight modifier used is preferably 2 to 80%, more preferably 4 to 75%, from the viewpoint of antistatic properties and heat resistance, based on the total weight of the amide-forming monomer and the molecular weight modifier.

ポリアミド(c11)のMnは、後述のビスフェノール化合物のAO付加物(c12)との反応性と得られる(C1)の耐熱性の観点から好ましくは200〜5,000、さらに好ましくは500〜3,000である。   Mn of the polyamide (c11) is preferably 200 to 5,000, more preferably 500 to 3, from the viewpoint of the reactivity with the AO adduct (c12) of the bisphenol compound described later and the heat resistance of the obtained (C1). 000.

ビスフェノール化合物のAO付加物(c12)を構成するビスフェノール化合物としては、C13〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−Sが挙げられ、これらのうち分散性の観点から好ましいのはビスフェノールAである。また、ビスフェノール化合物に付加させるAOとしては、C2〜12、例えばエチレンオキシド(以下EOと略記)、プロピレンオキシド(以下POと略記)、1,2−、2,3−および1,4−ブチレンオキシド、C5〜12のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキシドおよびエピハロヒドリン(例えばエピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン)およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのはEOである。   Examples of the bisphenol compound constituting the AO adduct (c12) of the bisphenol compound include C13-20, such as bisphenol A, -F, and -S. Among these, bisphenol A is preferred from the viewpoint of dispersibility. Examples of AO added to the bisphenol compound include C2-12, such as ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO), propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO), 1,2-, 2,3- and 1,4-butylene oxide, C5-12 alpha-olefin epoxids, styrene oxide and epihalohydrins (e.g. epichlorohydrin and epibromohydrin) and mixtures of two or more thereof. Of these, EO is preferable from the viewpoint of antistatic properties.

(c12)のMnは、帯電防止性の観点から好ましくは300〜5,000、さらに好ましくは500〜4,000である。   Mn of (c12) is preferably 300 to 5,000, more preferably 500 to 4,000 from the viewpoint of antistatic properties.

(c11)と(c12)の合計重量に基づく(c12)の割合は、(C1)の帯電防止性と耐熱性の観点から、好ましくは20〜80%、さらに好ましくは30〜70%である。   The ratio of (c12) based on the total weight of (c11) and (c12) is preferably 20 to 80%, more preferably 30 to 70%, from the viewpoint of the antistatic property and heat resistance of (C1).

ポリエーテルエステルアミド(C1)の製法としては、下記(1)、(2)が挙げられるが、特に限定されるものではない。
製法(1) アミド形成性モノマーとジカルボン酸(分子量調整剤)を反応させて(c11)を形成させ、これに(c12)を加えて、高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合させる方法。
製法(2) アミド形成性モノマーおよびジカルボン酸(分子量調整剤)と(c12)
の一部を同時に反応槽に仕込み、水の存在下または非存在下に、高温(160〜270℃)で加圧(0.1〜1MPa)反応させることによってポリアミド中間体(c11)を生成させ、その後減圧下(0.03〜3kPa)で残りの(c12)と重合させる方法。上記製法のうち、反応制御の観点から好ましいのは製法(1)である。
Examples of the method for producing the polyetheresteramide (C1) include the following (1) and (2), but are not particularly limited.
Production Method (1) An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) are reacted to form (c11), to which (c12) is added, at a high temperature (160 to 270 ° C.), under reduced pressure (0.03 -3 kPa).
Production Method (2) Amide Forming Monomer and Dicarboxylic Acid (Molecular Weight Modifier) and (c12)
A polyamide intermediate (c11) is produced by simultaneously charging a part of the reaction mixture into a reaction vessel and reacting under pressure (0.1 to 1 MPa) at a high temperature (160 to 270 ° C.) in the presence or absence of water. And then polymerizing with the remaining (c12) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa). Of the above production methods, production method (1) is preferred from the viewpoint of reaction control.

(C1)の製法としては、上記の他に、(c12)の末端水酸基をアミノ基またはカルボキシル基に置換し、カルボキシル基またはアミノ基を末端に有するポリアミドと反応させる方法を用いてもよい。
(c12)の末端水酸基をアミノ基に置換する方法としては、公知の方法、例えば水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法[例えば、(c12)とアクリロニトリルを反応させ、得られるシアノエチル化物を水素添加する方法]が挙げられる。
(c12)の末端水酸基をカルボキシル基に置換する方法としては、酸化剤で酸化する方法[例えば、(c12)の水酸基をクロム酸により酸化する方法]等が挙げられる。
As a production method of (C1), in addition to the above, a method in which the terminal hydroxyl group of (c12) is substituted with an amino group or a carboxyl group and reacted with a polyamide having a carboxyl group or an amino group at the terminal may be used.
As a method of substituting the terminal hydroxyl group of (c12) with an amino group, a known method, for example, a method of reducing a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating a hydroxyl group to form an amino group [for example, (c12) and acrylonitrile And a method of hydrogenating the resulting cyanoethylated product].
Examples of the method of substituting the terminal hydroxyl group of (c12) with a carboxyl group include a method of oxidizing with an oxidizing agent [for example, a method of oxidizing the hydroxyl group of (c12) with chromic acid] and the like.

上記の重合反応においては、通常用いられる公知のエステル化触媒が使用される。該触媒としては、アンチモン触媒(三酸化アンチモン等)、スズ触媒(モノブチルスズオキシド等)、チタン触媒(テトラブチルチタネート等)、ジルコニウム触媒(テトラブチルジルコネートなど)、有機酸金属塩[ジルコニウム有機酸塩(酢酸ジルコニル等)、酢酸亜
鉛等]等が挙げられる。
触媒の使用量は、(c11)と(c12)の合計重量に基づいて、通常0.1〜5%、反応性および樹脂物性の観点から好ましくは0.2〜3%である。
In the above polymerization reaction, a commonly used known esterification catalyst is used. Examples of the catalyst include antimony catalysts (antimony trioxide, etc.), tin catalysts (monobutyltin oxide, etc.), titanium catalysts (tetrabutyl titanate, etc.), zirconium catalysts (tetrabutyl zirconate, etc.), organic acid metal salts [zirconium organic acid Salts (such as zirconyl acetate) and zinc acetate].
The usage-amount of a catalyst is 0.1 to 5% normally based on the total weight of (c11) and (c12), Preferably it is 0.2 to 3% from a viewpoint of reactivity and a resin physical property.

(C1)の還元粘度[ηsp/C、C=0.5重量%(m−クレゾール溶液、25℃)]は、(C1)の耐熱性と樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは0.5〜4、さらに好ましくは0.6〜3である。 The reduced viscosity [η sp / C, C = 0.5 wt% (m-cresol solution, 25 ° C.)] of (C1) is preferably 0 from the viewpoint of the heat resistance of (C1) and the moldability of the resin composition. .5-4, more preferably 0.6-3.

ブロックポリマー(C2)としては、国際公開WO00/47652号公報明細書に記載されているブロックポリマーが使用できる。
(C2)は、ポリオレフィン(c21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物(c22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合およびイミド結合からなる群より選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有する。
(c21)と(c22)の合計重量に基づく(c22)の割合は、(C2)の帯電防止性と耐熱性の観点から、好ましくは20〜80%、さらに好ましくは30〜70%である。
(C2)を構成する(c21)のブロックとしては、カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(c211)、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(c212)およびアミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(c213)等が使用できる。
As block polymer (C2), the block polymer described in the international publication WO00 / 47652 specification can be used.
(C2) is at least one selected from the group consisting of a block of the polyolefin (c21) and a block of the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, a urethane bond and an imide bond. It has a structure in which the bonds are alternately and alternately connected through the bonds.
The ratio of (c22) based on the total weight of (c21) and (c22) is preferably 20 to 80%, more preferably 30 to 70%, from the viewpoint of the antistatic property and heat resistance of (C2).
The block of (c21) constituting (C2) includes a polyolefin (c211) having carbonyl groups at both ends of the polymer, a polyolefin (c212) having hydroxyl groups at both ends of the polymer, and an amino group at both ends of the polymer. Polyolefin (c213) etc. can be used.

(c211)としては、両末端に変性可能なポリオレフィンを主成分とするポリオレフィン(c210)の両末端にカルボニル基を導入したものが用いられる。
(c212)としては、(c210)の両末端に水酸基を導入したものが用いられる。
(c213)としては、(c210)の両末端にアミノ基を導入したものが用いられる。
(c210)は、通常、両末端に変性可能なポリオレフィン、片末端に変性可能なポリオレフィンおよび変性可能な末端基を持たないポリオレフィンの混合物であるが、主成分として両末端に変性可能なポリオレフィンが含有していれば使用できる。
(c210)の主成分となる両末端に変性可能なポリオレフィンの含量は、(c210
)の重量に基づいて、50〜100%が好ましく、さらに好ましくは75〜100%、特に好ましくは80〜100%である。
As (c211), those having a carbonyl group introduced at both ends of polyolefin (c210) mainly composed of a denatureable polyolefin at both ends are used.
As (c212), those having hydroxyl groups introduced at both ends of (c210) are used.
As (c213), those in which amino groups are introduced at both ends of (c210) are used.
(C210) is usually a mixture of a polyolefin that can be modified at both ends, a polyolefin that can be modified at one end, and a polyolefin that does not have a modifiable end group, but contains a polyolefin that can be modified at both ends as a main component. You can use it if you do.
The content of polyolefin that can be modified at both ends, which is the main component of (c210), is (c210
) Is preferably 50 to 100%, more preferably 75 to 100%, particularly preferably 80 to 100%.

(c210)には、C2〜30(好ましくは2〜12、さらに好ましくは2〜10)のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合(重合または共重合を意味する。以下同様。)によって得られるポリオレフィン(重合法)および減成されたポリオ レフ
ィン[高分子量ポリオレフィン(好ましくはMn50,000〜150,000)を機械的、熱的および化学的に減成してなるもの](減成法)が含まれる。カルボニル基、水酸基またはアミノ基を導入する変性のしやすさおよび入手のしやすさの観点から好ましいのは、減成されたポリオレフィン、とくに熱減成されたポリオレフィンである。
熱減成されたポリオレフィンは特に限定されないが、高分子量ポリオレフィンを不活性ガス中で加熱する(通常300〜450℃で0.5〜10時間)ことにより熱減成されたもの(例えば特開平3−62804号公報記載のもの)が挙げられる。
該熱減成法に用いられる高分子量ポリオレフィンとしては、C2〜30(好ましくは2〜12、さらに好ましくは2〜10)のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合体等が使用できる。C2〜30のオレフィンとしては、後述のポリオレフィン(重合法)製造に用いられるものと同じものが使用でき、これらのうち好ましいのはエチレン、プロピレンおよびC4〜12のα−オレフィン、さらに好ましいのはエチレン、プロピレンおよびC4〜10のα−オレフィン、特に好ましいのはエチレンおよびプロピレンである。
(C210) means (co) polymerization (polymerization or copolymerization) of one or a mixture of two or more C2-30 (preferably 2-12, more preferably 2-10) olefins. )) And a degraded polyolefin [made by mechanically, thermally and chemically degrading a high molecular weight polyolefin (preferably Mn 50,000 to 150,000)] ( (Degradation method). From the viewpoint of ease of modification and availability of introduction of a carbonyl group, hydroxyl group or amino group, a degraded polyolefin, particularly a thermally degraded polyolefin, is preferred.
The heat-degraded polyolefin is not particularly limited, but is heat-degraded by heating a high molecular weight polyolefin in an inert gas (usually at 300 to 450 ° C. for 0.5 to 10 hours) (for example, JP-A-3 -62804).
Examples of the high molecular weight polyolefin used in the thermal degradation method include (co) polymers of one or a mixture of two or more C2-30 (preferably 2-12, more preferably 2-10) olefins. Can be used. As the C2-30 olefin, the same as those used for the production of the polyolefin (polymerization method) described later can be used, and among these, ethylene, propylene and C4-12 α-olefin are preferred, and ethylene is more preferred. , Propylene and C4-10 alpha-olefins, particularly preferred are ethylene and propylene.

上記ポリオレフィン(重合法)の製造に用いられるC2〜30のオレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、C4〜30(好ましくは4〜12、さらに好ましくは4〜10)のα−オレフィンおよびC4〜30(好ましくは4〜18、さらに好ましくは4〜8)のジエンが用いられる。
α−オレフィンとしては、例えば、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペンテン、1−オクテン、1−デセンおよび1−ドデセン等が挙げられる。
ジエンとしては、例えば、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタジエンおよび1,11−ドデカジエン等が挙げられる。
これらのうち、エチレン、プロピレン、C4〜12のα−オレフィン、ブタジエンおよびイソプレンが好ましく、さらに好ましいのはエチレン、プロピレン、C4〜10のα−オレフィンおよびブタジエン、特に好ましいのはエチレン、プロピレンおよびブタジエンである。
Examples of the C2-30 olefin used for the production of the polyolefin (polymerization method) include ethylene, propylene, C4-30 (preferably 4-12, more preferably 4-10) α-olefin and C4-30. A diene of (preferably 4-18, more preferably 4-8) is used.
Examples of the α-olefin include 1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene and 1-dodecene.
Examples of the diene include butadiene, isoprene, cyclopentadiene, 1,11-dodecadiene, and the like.
Of these, ethylene, propylene, C4-12 α-olefin, butadiene and isoprene are preferred, ethylene, propylene, C4-10 α-olefin and butadiene are more preferred, and ethylene, propylene and butadiene are particularly preferred. is there.

重合法によって得られるポリオレフィンは種々の方法で製造でき、例えば、ラジカル触媒、金属酸化物触媒、Ziegler触媒またはZiegler−Natta触媒存在下で(共)重合反応させる方法等により容易に得ることができる。
ラジカル触媒としては、種々のものが使用でき、例えば、有機過酸化物(ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、デカノールパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、パーオキシジカーボネートエステル等)、アゾ化合物(アゾニトリル、アゾアミジン、アゾアミド化合物)およびγ−アルミナ担体に酸化モリブデンを付着させたものが挙げられる。
金属酸化物触媒としては、シリカ−アルミナ担体に酸化クロムを付着させたもの等が挙げられる。Ziegler触媒またはZiegler−Natta触媒としては、(C2
53Al−TiCl4等が挙げられる。
The polyolefin obtained by the polymerization method can be produced by various methods, and can be easily obtained, for example, by a (co) polymerization reaction in the presence of a radical catalyst, a metal oxide catalyst, a Ziegler catalyst or a Ziegler-Natta catalyst.
Various radical catalysts can be used, for example, organic peroxides (di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, decanol peroxide, lauryl peroxide, peroxydicarbonate ester, etc.) , Azo compounds (azonitrile, azoamidine, azoamide compounds), and γ-alumina carriers having molybdenum oxide attached thereto.
Examples of the metal oxide catalyst include those obtained by attaching chromium oxide to a silica-alumina support. As the Ziegler catalyst or Ziegler-Natta catalyst, (C 2
H 5 ) 3 Al—TiCl 4 and the like.

(c210)のMnは、好ましくは800〜20,000、さらに好ましくは1,000〜10,000、特に好ましくは1,200〜6,000である。Mnがこの範囲であるとカーボンナノチューブの分散性および帯電防止性がさらに良好になる。
(c210)中の二重結合の量は、C1,000個当たり、1〜40個が好ましく、さ
らに好ましくは2〜30個、特に好ましくは4〜20個である。二重結合の量がこの範囲であるとカーボンナノチューブ分散性および帯電防止性がさらに良好になる。
1分子当たりの二重結合の平均数は、1.1〜5.0が好ましく、さらに好ましくは1.3〜3.0、特に好ましくは1.5〜2.5、最も好ましくは1.8〜2.2である。二重結合の平均数がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、カーボンナノチューブ分散性および帯電防止性がさらに良好になる。
熱減成法によると、Mnが800〜6,000の範囲で、一分子当たりの平均末端二重結合量が1.5〜2個の低分子量ポリオレフィンが容易に得られる〔村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、192頁(1975)〕。
Mn of (c210) is preferably 800 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, and particularly preferably 1,200 to 6,000. When Mn is within this range, the dispersibility and antistatic property of the carbon nanotubes are further improved.
The amount of double bonds in (c210) is preferably 1-40 per 1,000 C, more preferably 2-30, and particularly preferably 4-20. When the amount of double bonds is within this range, the carbon nanotube dispersibility and antistatic properties are further improved.
The average number of double bonds per molecule is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1.3 to 3.0, particularly preferably 1.5 to 2.5, and most preferably 1.8. ~ 2.2. When the average number of double bonds is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the carbon nanotube dispersibility and antistatic property are further improved.
According to the thermal degradation method, a low-molecular-weight polyolefin having an average terminal double bond amount of 1.5 to 2 per molecule in the range of 800 to 6,000 can be easily obtained [Katsuhide Murata, Tadahiko Makino. , Journal of Chemical Society of Japan, page 192 (1975)].

(c211)としては、(c210)の末端をα、β不飽和カルボン酸(無水物)(α,β−不飽和カルボン酸、そのC1〜4のアルキルエステルまたはその無水物を意味する。以下、同様。)で変性した構造を有するポリオレフィン(c211−1)、(c211−1)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(c211―2)、(c210)を酸化またはヒドロホルミル化による変性をした構造を有するポリオレフィン(c211−3)、(c211―3)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(c211―4)およびこれらの2種以上の混合物等が使用できる。   As (c211), the terminal of (c210) is an α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride) (α, β-unsaturated carboxylic acid, a C1-4 alkyl ester thereof or an anhydride thereof. The same as above.) Polyolefin (c211-1) having a structure modified with (c211-1), polyolefin (c211-2) having a structure secondarily modified with lactam or aminocarboxylic acid (c211-2), and (c210) oxidized or hydroformylated Polyolefin (c211-3) having a structure modified by the above, polyolefin (c211-4) having a structure obtained by secondary modification of (c211-3) with lactam or aminocarboxylic acid, and a mixture of two or more of these it can.

(c211−1)は、(c210)をα,β−不飽和カルボン酸(無水物)により変性することにより得ることができる。
変性に用いられるα,β−不飽和カルボン酸(無水物)としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸、これらのアルキル(C1〜4)エステルおよびこれらの無水物が使用でき、例えば(メタ)アクリル酸(アクリル酸またはメタアクリル酸を意味する。以下同じ。)、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、マレイン酸(無水物)、マレイン酸ジメチル、フマル酸、イタコン酸(無水物)、イタコン酸ジエチルおよびシトラコン酸(無水物)等が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ジカルボン酸、これらのアルキルエステルおよびこれらの無水物、さらに好ましいのはマレイン酸(無水物)およびフマル酸、特に好ましいのはマレイン酸(無水物)である。
(C211-1) can be obtained by modifying (c210) with an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride).
As α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used for modification, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, alkyl (C1-4) ester thereof and anhydride thereof can be used, for example, (meth) acrylic acid (Means acrylic acid or methacrylic acid; the same shall apply hereinafter), methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, maleic acid (anhydride), dimethyl maleate, fumaric acid, itaconic acid (anhydride) , Diethyl itaconate and citraconic acid (anhydride).
Among these, preferred are dicarboxylic acids, their alkyl esters and their anhydrides, more preferred are maleic acid (anhydride) and fumaric acid, and particularly preferred is maleic acid (anhydride).

変性に使用するα、β−不飽和カルボン酸(無水物)の量は、ポリオレフィン(c210)の重量に基づき、好ましくは0.5〜40%、さらに好ましくは1〜30%、特に好ましくは2〜20%である。α、β−不飽和カルボン酸(無水物)の量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および帯電防止性がさらに良好になる。
α,β−不飽和カルボン酸(無水物)による変性は、種々の方法で行うことができ、例えば、(c210)の末端二重結合に、溶液法または溶融法のいずれかの方法で、α,β−不飽和カルボン酸(無水物)を熱的に付加(エン反応)させることにより行うことができる。(c210)にα,β−不飽和カルボン酸(無水物)を反応させる温度は、通常170〜230℃である。
The amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used for modification is preferably 0.5 to 40%, more preferably 1 to 30%, particularly preferably 2 based on the weight of the polyolefin (c210). ~ 20%. When the amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and filler dispersibility and antistatic properties are further improved.
The modification with α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be carried out by various methods. For example, the terminal double bond of (c210) can be modified by either solution method or melt method. , Β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be thermally added (ene reaction). The temperature at which (c210) is reacted with the α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is usually 170 to 230 ° C.

(c211−2)は、(c211−1)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得ることができる。
二次変性に用いるラクタムとしては、C6〜12(好ましくは6〜8、さらに好ましくは6)のラクタム等が使用でき、例えば、カプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタム等が挙げられる。
また、アミノカルボン酸としては、C2〜12(好ましくは4〜12、さらに好ましくは6〜12)のアミノカルボン酸等が使用でき、例えば、アミノ酸(グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシンおよびフェニルアラニン等)、ω−アミノカプロン酸
、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸等が挙げられる。
これらのうち、カプロラクタム、ラウロラクタム、グリシン、ロイシン、ω−アミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸が好ましく、さらに好ましくはカプロラクタム、ラウロラクタム、ω−アミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸、特に好ましくはカプロラクタムおよび12−アミノドデカン酸である。
二次変性に用いるラクタムまたはアミノカルボン酸の量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)のカルボキシル基1個当たり、好ましくは0.1〜50個、さらに好ましくは0.3〜20個、特に好ましくは0.5〜10個、最も好ましくは1〜2個である。この量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および帯電防止性がさらに良好になる。
(C211-2) can be obtained by secondary modification of (c211-1) with lactam or aminocarboxylic acid.
As the lactam used for the secondary modification, C6-12 (preferably 6-8, more preferably 6) lactam and the like can be used, and examples thereof include caprolactam, enantolactam, laurolactam and undecanolactam.
As the aminocarboxylic acid, C2-12 (preferably 4-12, more preferably 6-12) aminocarboxylic acid and the like can be used. For example, amino acids (glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, phenylalanine, etc.) ), Ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopergonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid.
Of these, caprolactam, laurolactam, glycine, leucine, ω-aminocaprylic acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid are preferred, and caprolactam, laurolactam, ω-aminocaprylic acid, 11-amino are more preferred. Undecanoic acid and 12-aminododecanoic acid, particularly preferably caprolactam and 12-aminododecanoic acid.
The amount of lactam or aminocarboxylic acid used for secondary modification is preferably 0.1 to 50, more preferably 0.3 to 20 per carboxyl group of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). The number is particularly preferably 0.5 to 10, most preferably 1 to 2. When this amount is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and filler dispersibility and antistatic properties are further improved.

(c211−3)は、(c210)を酸素および/もしくはオゾンによる酸化法またはオキソ法によるヒドロホルミル化によりカルボニル基を導入することにより得ることができる。
酸化法によるカルボニル基の導入は、公知の方法で行うことができ、例えば、米国特許第3,692,877号明細書記載の方法で行うことができる。
ヒドロホルミル化によるカルボニル基の導入は、公知の方法で行うことができ、例えば、Macromolecules、Vol.31、5943頁記載の方法で行うことができる。
(c211−4)は、(c211−3)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得ることができる。
ラクタムおよびアミノカルボン酸およびこれらの好ましい範囲は、(c211−2)の製造で使用できるものと同じである。ラクタムおよびアミノカルボン酸の使用量も同じである。
(C211-3) can be obtained by introducing (c210) a carbonyl group by oxidation with oxygen and / or ozone or hydroformylation with an oxo method.
The introduction of the carbonyl group by the oxidation method can be performed by a known method, for example, the method described in US Pat. No. 3,692,877.
Introduction of a carbonyl group by hydroformylation can be carried out by a known method, for example, see Macromolecules, Vol. 31, 5943 page.
(C211-4) can be obtained by secondary modification of (c211-3) with lactam or aminocarboxylic acid.
The lactam and aminocarboxylic acid and preferred ranges thereof are the same as those that can be used in the production of (c211-2). The amount of lactam and aminocarboxylic acid used is the same.

(c211)のMnは、耐熱性および後述するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(c22)との反応性の観点から、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(c211)の酸価は、(c22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280(mgKOH/g。以下においては数値のみを記載する。)、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Mn of (c211) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) described later. Is 2,500 to 10,000.
The acid value of (c211) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g. In the following, only numerical values are described), more preferably 4 to 100, particularly from the viewpoint of reactivity with (c22). Preferably it is 5-50.

水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(c212)としては、(c211)をヒドロキシルアミンで変性したヒドロキシル基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
変性に使用できるヒドロキシルアミンとしては、C2〜10(好ましくは2〜6、さらに好ましくは2〜4)のヒドロキシルアミン等が挙げられ、例えば、2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタノール、6−アミノヘキサノールおよび3−アミノメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキサノールが挙げられる。
これらのうち、好ましいのは2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタノールおよび6−アミノヘキサノール、さらに好ましいのは2−アミノエタノールおよび4−アミノブタノール、特に好ましいのは2−アミノエタノールである。
ヒドロキシルアミンによる変性は、種々の方法で行うことができ、例えば、(c211)とヒドロキシルアミンとを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120℃〜230℃である。
As the polyolefin (c212) having a hydroxyl group at both ends of the polymer, a polyolefin having a hydroxyl group obtained by modifying (c211) with hydroxylamine and a mixture of two or more of these can be used.
Examples of hydroxylamine that can be used for the modification include C2-10 (preferably 2-6, more preferably 2-4) hydroxylamine, and the like. For example, 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 1-amino- Examples include 2-propanol, 4-aminobutanol, 5-aminopentanol, 6-aminohexanol and 3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexanol.
Of these, 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 4-aminobutanol, 5-aminopentanol and 6-aminohexanol are more preferable, 2-aminoethanol and 4-aminobutanol are particularly preferable. Is 2-aminoethanol.
The modification with hydroxylamine can be performed by various methods, for example, by directly reacting (c211) with hydroxylamine. The reaction temperature is usually 120 ° C to 230 ° C.

変性に用いるヒドロキシルアミンの量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、好ましくは0.1〜2個、さらに好ましくは0.3〜1.5個、特に好ましくは0.5〜1.2個、最も好ましくは1個である。ヒドロキシルアミンの量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、カーボンナノチューブ分散性および帯電防止性がさらに良好になる。
(c212)のMnは、耐熱性および後述するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(c22)との反応性の観点から、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(c212)の水酸基価は、(c22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280(mgKOH/g。以下においては数値のみを記載する。)、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
The amount of hydroxylamine used for modification is preferably 0.1 to 2, more preferably 0.3 to 1.5, particularly preferably per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). Is 0.5 to 1.2, most preferably 1. When the amount of hydroxylamine is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the carbon nanotube dispersibility and antistatic property are further improved.
Mn of (c212) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) described later. Is 2,500 to 10,000.
The hydroxyl value of (c212) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g. In the following, only numerical values are described), more preferably 4 to 100, particularly from the viewpoint of reactivity with (c22). Preferably it is 5-50.

(c213)としては、(c211)をジアミン(Q1)で変性したアミノ基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
この変性に用いるジアミン(Q1)としては、C2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜6)のジアミン等が使用でき、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミンおよびデカメチレンジアミン等が挙げられる。
これらのうち、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミンおよびオクタメチレンジアミンが好ましく、さらに好ましいのはエチレンジアミンおよびヘキサメチレンジアミン、特に好ましいのはエチレンジアミンである。
ジアミンによる変性は、公知の方法で行うことができ、例えば、(c211)とジアミン(Q1)とを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120℃〜230℃である。
As (c213), polyolefin having an amino group obtained by modifying (c211) with diamine (Q1) and a mixture of two or more of these can be used.
As the diamine (Q1) used for this modification, C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-6) diamines can be used, for example, ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine. And decamethylenediamine.
Of these, ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine and octamethylenediamine are preferable, ethylenediamine and hexamethylenediamine are more preferable, and ethylenediamine is particularly preferable.
The modification with diamine can be performed by a known method, for example, by reacting (c211) and diamine (Q1) directly. The reaction temperature is usually 120 ° C to 230 ° C.

変性に用いるジアミンの量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、0.1〜2個が好ましく、さらに好ましくは0.3〜1.5個、さらに好ましくは0.5〜1.2個、特に好ましくは1個である。ジアミンの量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および帯電防止性がさらに良好になる。
なお、実際の製造に当たっては、ポリアミド(イミド)化を防止するため、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、2〜1,000個、さらに好ましくは5〜800個、特に好ましくは10〜500個のジアミンを使用し、未反応の過剰ジアミンを減圧下で(通常120℃〜230℃)除去することが好ましい。
The amount of diamine used for modification is preferably 0.1 to 2, more preferably 0.3 to 1.5, and still more preferably, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). 0.5 to 1.2, particularly preferably 1. When the amount of diamine is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and filler dispersibility and antistatic properties are further improved.
In actual production, in order to prevent polyamide (imide) formation, 2 to 1,000, more preferably 5 to 800, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). Particularly preferably, 10 to 500 diamines are used, and it is preferable to remove unreacted excess diamine under reduced pressure (usually 120 to 230 ° C.).

(c213)のMnは、耐熱性および後述するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(c22)との反応性の観点から、800〜25,000が好ましく、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(c213)のアミン価は、(c22)との反応性の観点から、4〜280(mgKOH/g、以下、数値のみを記載する。)が好ましく、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Mn of (c213) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) described later. Is 2,500 to 10,000.
Further, the amine value of (c213) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g, hereinafter, only numerical values are described) from the viewpoint of reactivity with (c22), more preferably 4 to 100, and particularly preferably. Is 5-50.

ブロックポリマー(C2)を構成するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(c22)としては、ポリエーテルジオール(c221)、ポリエーテルジアミン(c222)およびこれらの変性物(c223)が使用できる。
(c22)の体積固有抵抗値(後述の方法で、23℃、50%RHの雰囲気下で測定される値)は、帯電防止性の観点から好ましい上限は1011Ω・cm、さらに好ましくは1010Ω・cm、特に好ましくは109Ω・cm、機械物性の観点から好ましい下限は105Ω・cm、さらに好ましくは106Ω・cm、特に好ましくは107Ω・cmである。
また、(c22)のMnは、耐熱性および(c21)との反応性の観点から好ましくは150〜20,000、さらに好ましくは300〜20,000、特に好ましくは1,0
00〜15,000、最も好ましくは1,200〜8,000である。
As the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) constituting the block polymer (C2), polyether diol (c221), polyether diamine (c222), and modified products thereof (c223) can be used.
From the viewpoint of antistatic properties, the upper limit of the specific volume resistance value of (c22) (value measured in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH by the method described later) is preferably 10 11 Ω · cm, more preferably 10 10 Ω · cm, particularly preferably 10 9 Ω · cm, and from the viewpoint of mechanical properties, the lower limit is preferably 10 5 Ω · cm, more preferably 10 6 Ω · cm, and particularly preferably 10 7 Ω · cm.
Further, Mn of (c22) is preferably 150 to 20,000, more preferably 300 to 20,000, and particularly preferably 1.0 from the viewpoint of heat resistance and reactivity with (c21).
It is 00 to 15,000, most preferably 1,200 to 8,000.

ポリエーテルジオール(c221)は、ジオール(c220)または二価フェノールにAOを付加反応させることにより得られる構造のものが使用でき、例えば、一般式:

H−(OA1m−O−E1−O−(A1O)m'−H

で示されるものが挙げられる。
式中、E1は、ジオール(c220)または二価フェノールから水酸基を除いた残基を
表し、A1は、ハロゲン原子を含んでいてもよいC2〜12(好ましくは2〜8、さらに
好ましくは2〜4)のアルキレン基を表す。また、mおよびm’は、1〜300、好ましくは2〜250、さらに好ましくは8〜150の整数である。また、mとm’とは同一でも異なっていてもよい。m個の(OA1)とm’個の(A1O)とは、同一でも異なっていてもよく、また、これらが2種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブロックもしくはランダムまたはこれらの組合せのいずれでもよい。
As the polyether diol (c221), a diol (c220) or a structure obtained by adding AO to a dihydric phenol can be used. For example, a general formula:

H— (OA 1 ) m —O—E 1 —O— (A 1 O) m ′ —H

The thing shown by is mentioned.
In the formula, E 1 represents a diol (c220) or a residue obtained by removing a hydroxyl group from a dihydric phenol, and A 1 represents C 2 to 12 (preferably 2 to 8, more preferably a halogen atom). 2-4) represents an alkylene group. M and m ′ are integers of 1 to 300, preferably 2 to 250, and more preferably 8 to 150. M and m ′ may be the same or different. m (OA 1 ) and m ′ (A 1 O) may be the same or different, and the bond form in the case where they are composed of two or more oxyalkylene groups is a block or Either random or a combination thereof may be used.

ジオール(c220)としては、C2〜12(好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)の二価アルコール(例えば、脂肪族、脂環含有もしくは芳香脂肪族二価アルコール)、C6〜18(好ましくは8〜18、さらに好ましくは10〜15)の二価フェノールおよび三級アミノ基含有ジオール等が使用できる。
脂肪族二価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールおよび1,12−ドデカンジオールが挙げられる。
脂環含有二価アルコールとしては、例えば、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロオクタンジオールおよび1,3−シクロペンタンジオールが挙げられる。
芳香脂肪族二価アルコールとしては、例えば、キシリレンジオール、1−フェニル−1,2−エタンジオールおよび1,4−ビス(ヒドロキシエチル)ベンゼンが挙げられる。
As the diol (c220), a C2-12 (preferably 2-10, more preferably 2-8) dihydric alcohol (for example, an aliphatic, alicyclic or araliphatic dihydric alcohol), C6-18 ( Preferably, the dihydric phenol and tertiary amino group-containing diol of 8 to 18, more preferably 10 to 15) can be used.
Examples of the aliphatic dihydric alcohol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol and 1,12-dodecanediol.
Examples of the alicyclic dihydric alcohol include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4-cyclooctanediol, and 1,3-cyclopentanediol.
Examples of the araliphatic dihydric alcohol include xylylenediol, 1-phenyl-1,2-ethanediol, and 1,4-bis (hydroxyethyl) benzene.

三級アミノ基含有ジオールとしては、例えば、脂肪族または脂環含有一級モノアミン(C1〜12、好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)のビスヒドロキシアルキル(C1〜12、好ましくは2〜10、さらに好ましくは2〜8)化物および芳香(脂肪)族一級モノアミン(C6〜12)のビスヒドロキシアルキル(C1〜12)化物が挙げられる。
なお、モノアミンのビスヒドロキシアルキル化物は、種々の方法で容易に得ることができ、例えば、モノアミンとC2〜4のAO(例えば、EO、PO、ブチレンオキサイド)とを反応させるか、C1〜12のモノアミンとC1〜12のハロゲン化ヒドロキシアルキル(例えば、2−ブロモエチルアルコール、3−クロロプロピルアルコール)とを反応させることにより得ることができる。
Examples of the tertiary amino group-containing diol include bishydroxyalkyls (C1-12, preferably 2 to 8) of aliphatic or alicyclic primary monoamines (C1-12, preferably 2-10, more preferably 2-8). 10, more preferably 2-8) and bishydroxyalkyl (C1-12) compounds of aromatic (aliphatic) primary monoamines (C6-12).
The bishydroxyalkylated product of monoamine can be easily obtained by various methods. For example, monoamine and C2-4 AO (for example, EO, PO, butylene oxide) are reacted, or C1-12 It can be obtained by reacting a monoamine with a C1-12 halogenated hydroxyalkyl (for example, 2-bromoethyl alcohol, 3-chloropropyl alcohol).

脂肪族または脂環式一級モノアミンとしては、例えば、メチルアミン、エチルアミン、シクロプロピルアミン、1−プロピルアミン、2−プロピルアミン、アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、1,3−ジメチルブチルアミン、3,3−ジメチルブチルアミン、2−アミノヘプタン、3−アミノヘプタン、シクロペンチルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミンおよびドデシルアミンが挙げられる。
芳香(脂肪)族一級モノアミンとしては、例えば、アニリンおよびベンジルアミンが挙げられる。
Examples of the aliphatic or alicyclic primary monoamine include methylamine, ethylamine, cyclopropylamine, 1-propylamine, 2-propylamine, amylamine, isoamylamine, hexylamine, 1,3-dimethylbutylamine, 3,3 -Dimethylbutylamine, 2-aminoheptane, 3-aminoheptane, cyclopentylamine, cyclohexylamine, heptylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine and dodecylamine.
Examples of the aromatic (aliphatic) primary monoamine include aniline and benzylamine.

二価フェノールとしては、例えば、単環二価フェノール(ハイドロキノン、カテコール
、レゾルシン、ウルシオール等)、ビスフェノール(ビスフェノールA、−Fおよび−S、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタン等)、ジヒドロキビフェニルおよび縮合多環二価フェノール(ジヒドロキシナフタレン、ビナフトール等)が挙げられる。
Examples of the dihydric phenol include monocyclic dihydric phenol (hydroquinone, catechol, resorcin, urushiol, etc.), bisphenol (bisphenol A, -F and -S, 4,4'-dihydroxydiphenyl-2,2-butane, etc. ), Dihydrokibiphenyl and condensed polycyclic dihydric phenols (dihydroxynaphthalene, binaphthol, etc.).

これらのジオール(c220)および二価フェノールうち、反応性の観点から好ましいのは二価アルコールおよび二価フェノール、さらに好ましいのは脂肪族二価アルコールおよびビスフェノール、特に好ましいのはエチレングリコールおよびビスフェノールAである。   Of these diols (c220) and dihydric phenols, dihydric alcohols and dihydric phenols are preferable from the viewpoint of reactivity, aliphatic dihydric alcohols and bisphenols are more preferable, and ethylene glycol and bisphenol A are particularly preferable. is there.

ポリエーテルジオール(c221)は、例えば、ジオール(c220)または二価フェノールにAOを付加反応させることにより製造することができる。
AOとしては、C2〜4のAO(EO、PO、1,2−、1,4−、2,3−および1,3−ブチレンオキサイドおよびこれらの2種以上の混合物)等が用いられるが、必要により他のAOまたは置換AOを併用してもよい(本発明において、これらも含めてAOと総称する。)。他のAOまたは置換AOとしては、例えば、C5〜12のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキサイドおよびエピハロヒドリン(エピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン等)が挙げられる。他のAOまたは置換AOの量は、全AOの重量に基づいて、30%以下が好ましく、さらに好ましくは0〜25%、特に好ましくは0〜20%である。
The polyether diol (c221) can be produced, for example, by subjecting the diol (c220) or dihydric phenol to addition reaction with AO.
As AO, C2-4 AO (EO, PO, 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1,3-butylene oxide and a mixture of two or more thereof) and the like are used. If necessary, other AO or substituted AO may be used in combination (in the present invention, these are also collectively referred to as AO). Examples of other AO or substituted AO include epoxidized C5-12 α-olefin, styrene oxide and epihalohydrin (such as epichlorohydrin and epibromohydrin). The amount of other AO or substituted AO is preferably 30% or less, more preferably 0 to 25%, and particularly preferably 0 to 20% based on the weight of the total AO.

2種以上のAOを併用するときの結合形式はブロックおよび/またはランダムのいずれでもよい。
AOとして好ましいのは、EO単独およびEOと他のAOとの併用(ブロックおよび/またはランダム付加)、さらに好ましいのはEO、EO/POの併用、特に好ましいのはEO単独である。
AOの付加モル数は、(c220)または二価フェノールの水酸基1個当り、1〜300モルが好ましく、さらに好ましくは2〜250モル、特に好ましくは10〜100モルである。AOの付加モル数がこの範囲であると(c22)の体積固有抵抗値がさらに好ましい範囲になりやすい。
When two or more kinds of AO are used in combination, the binding form may be either block and / or random.
Preferred as AO is EO alone or a combination of EO and another AO (block and / or random addition), more preferred is a combination of EO and EO / PO, and particularly preferred is EO alone.
The number of moles of AO added is preferably 1 to 300 moles, more preferably 2 to 250 moles, and particularly preferably 10 to 100 moles per hydroxyl group of (c220) or dihydric phenol. When the added mole number of AO is within this range, the volume resistivity value of (c22) tends to be more preferable.

AOの付加は、公知の方法、例えばアルカリ触媒の存在下、100〜200℃の温度で行なうことができる。
ポリエーテルジオール(c221)中のC2〜4のオキシアルキレン単位の含量は、(c221)の重量に基づいて、5〜99.8%が好ましく、さらに好ましくは8〜99.6%、特に好ましくは10〜98%である。
ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は、ポリオキシアルキレン鎖の重量に基づいて、好ましくは5〜100%、さらに好ましくは10〜100%、特に好ましくは50〜100%、最も好ましくは60〜100%である。オキシエチレン単位の含量がこの範囲であると(c22)の体積固有抵抗値がさらに好ましい範囲になりやすい。
AO can be added by a known method, for example, at a temperature of 100 to 200 ° C. in the presence of an alkali catalyst.
The content of the C2-4 oxyalkylene unit in the polyether diol (c221) is preferably 5 to 99.8%, more preferably 8 to 99.6%, particularly preferably based on the weight of (c221). 10 to 98%.
The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100%, more preferably 10 to 100%, particularly preferably 50 to 100%, most preferably 60, based on the weight of the polyoxyalkylene chain. ~ 100%. When the content of the oxyethylene unit is within this range, the volume resistivity value of (c22) tends to be a more preferable range.

ポリエーテルジアミン(c222)は、(c221)の水酸基をアミノ基に変性した構造のものが使用でき、例えば、一般式:

RNH−A2−(OA1m−O−E1−O−(A1O)m'−A2−NHR

で示されるものが挙げられる。
式中の記号E1、A1、mおよびm’は(c221)で示した式と同様であり、A2はハ
ロゲン原子を含んでいてもよいC2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜4)のアルキレン基を表し、A1とA2とは同じでも異なっていてもよい。RはHまたはC1〜4(好ましくは1または2)のアルキル基を表す。
(c222)は、(c221)の水酸基を公知の方法によりアミノ基に変えることにより、容易に得ることができる。
水酸基をアミノ基に変える方法としては、種々の方法が使用でき、例えば、(c221)の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法[例えば、(c221)とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノエチル化物を水素添加する方法]、(c221)と、アミノカルボン酸またはラクタムとを反応させる方法、およびハロゲン化アミンをアルカリ条件下で反応する方法が挙げられる。
As the polyether diamine (c222), one having a structure in which the hydroxyl group of (c221) is modified to an amino group can be used.

RNH-A 2 - (OA 1 ) m -O-E 1 -O- (A 1 O) m '-A 2 -NHR

The thing shown by is mentioned.
The symbols E 1 , A 1 , m and m ′ in the formula are the same as those in the formula (c221), and A 2 may be a C 2-12 (preferably 2-8, more preferably a halogen atom). Represents an alkylene group of 2 to 4), and A 1 and A 2 may be the same or different. R represents H or a C1-4 (preferably 1 or 2) alkyl group.
(C222) can be easily obtained by changing the hydroxyl group of (c221) to an amino group by a known method.
Various methods can be used as a method for changing a hydroxyl group to an amino group. For example, a method in which a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating a hydroxyl group in (c221) is reduced to an amino group [for example, (c221) And a method of reacting acrylonitrile and hydrogenating the resulting cyanoethylated product], a method of reacting (c221) with an aminocarboxylic acid or lactam, and a method of reacting a halogenated amine under alkaline conditions.

(c221)または(c222)の変性物(c223)としては、例えば、(c221)または(c222)のイソシアネート変性物(末端イソシアネート基)および同じくエポキシ変性物(末端エポキシ基)が挙げられる。
イソシアネート変性物は、(c221)または(c222)と、有機ジイソシアネートとを反応させるか、(c222)とホスゲンとを反応させることにより得ることができる。
エポキシ変性物は、(c221)または(c222)と、ジエポキシド(ジグリシジルエーテル、ジグリシジルエステル、脂環式ジエポキシド等のエポキシ樹脂:エポキシ当量85〜600)とを反応させるか、(c221)とエピハロヒドリン(エピクロルヒドリン等)とを反応させることにより得ることができる。
Examples of the modified product (c223) of (c221) or (c222) include the isocyanate-modified product (terminal isocyanate group) and the epoxy-modified product (terminal epoxy group) of (c221) or (c222).
The isocyanate-modified product can be obtained by reacting (c221) or (c222) with an organic diisocyanate or reacting (c222) with phosgene.
The epoxy-modified product is obtained by reacting (c221) or (c222) with diepoxide (epoxy resin such as diglycidyl ether, diglycidyl ester, alicyclic diepoxide: epoxy equivalent 85 to 600), or (c221) and epihalohydrin. It can be obtained by reacting with (e.g. epichlorohydrin).

有機ジイソシアネートとしては、C(NCO基中の炭素を除く、以下同様)6〜20(好ましくは6〜18、さらに好ましくは8〜14)の芳香族ジイソシアネート、C2〜18(好ましくは4〜16、さらに好ましくは6〜14)の脂肪族ジイソシアネート、C4〜15(好ましくは4〜13、さらに好ましくは6〜11)の脂環式ジイソシアネート、C8〜15(好ましくは8〜13、さらに好ましくは9〜11)の芳香脂肪族ジイソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体およびこれらの2種以上の混合物が使用できる。   As the organic diisocyanate, C (excluding carbon in the NCO group, the same shall apply hereinafter) 6-20 (preferably 6-18, more preferably 8-14) aromatic diisocyanate, C2-18 (preferably 4-16, More preferably 6-14) aliphatic diisocyanate, C4-15 (preferably 4-13, more preferably 6-11) alicyclic diisocyanate, C8-15 (preferably 8-13, more preferably 9- 11) Aro-aliphatic diisocyanates, modified products of these diisocyanates, and mixtures of two or more thereof can be used.

芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、1,3−または1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−または2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、2,4’−または4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタンおよび1,5−ナフチレンジイソシアネートが挙げられる。   Examples of the aromatic diisocyanate include 1,3- or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), 2,4′- or 4,4′-diphenylmethane diisocyanate ( MDI), 4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatodiphenylmethane and 1,5 -Naphthylene diisocyanate.

脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネートおよび2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエート等が挙げられる。   Examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and 2,6-diisocyanatomethylcaproate. Bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate and the like.

脂環式ジイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレートおよび2,5−または2,6−ノルボルナンジイソシアネート等が挙げられる。   Examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), and bis (2-isocyanato). And ethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate and 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate.

芳香脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、m−またはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)およびα,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート
(TMXDI)等が挙げられる。
また、ジイソシアネートの変性体としては、例えば、ウレタン変性体、ウレア変性体、カルボジイミド変性体およびウレトジオン変性体が挙げられる。
これらの有機ジイソシアネートのうち、反応性の観点から好ましいのは芳香族および脂肪族ジイソシアネート、さらに好ましいのはTDI、MDIおよびHDI、特に好ましいのはHDIである。
Examples of the araliphatic diisocyanate include m- or p-xylylene diisocyanate (XDI) and α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI).
Examples of the modified diisocyanate include urethane-modified products, urea-modified products, carbodiimide-modified products, and uretdione-modified products.
Of these organic diisocyanates, aromatic and aliphatic diisocyanates are preferable from the viewpoint of reactivity, TDI, MDI and HDI are more preferable, and HDI is particularly preferable.

ポリウレタン化反応を促進するために、必要により通常用いられる触媒を使用してもよい。このような触媒としては、金属触媒、アミン触媒およびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
金属触媒としては、例えば、錫触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレート、スタナスオクトエート、ジブチルチンマレエート等);鉛触媒(オレイン酸鉛、2−エチルヘキサン酸鉛、ナフテン酸鉛、オクテン酸鉛等);その他の金属触媒(ナフテン酸コバルト等のナフテン酸金属塩、フェニル水銀プロピオン酸塩等)等が挙げられる。
In order to accelerate the polyurethane formation reaction, a commonly used catalyst may be used if necessary. As such a catalyst, a metal catalyst, an amine catalyst, and a mixture of two or more thereof can be used.
Examples of metal catalysts include tin catalysts (trimethyltin laurate, trimethyltin hydroxide, dimethyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, stannous octoate, dibutyltin maleate, etc.); lead catalysts (lead oleate) , Lead 2-ethylhexanoate, lead naphthenate, lead octenoate, etc.); other metal catalysts (metal naphthenate such as cobalt naphthenate, phenylmercuric propionate, etc.).

アミン触媒として、例えば、トリエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルヘキシレンジアミン、ジアザビシクロアルケン{1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7[サンアプロ(株)製、登録商標DBU]等}、ジアルキルアミノアルキルアミン(ジメチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノオクチルアミン、ジプロピルアミノプロピルアミン等)および複素環式アミノアルキルアミン{2−(1−アジリジニル)エチルアミン、4−(1−ピペリジニル)−2−ヘキシルアミン等}の炭酸塩および有機酸塩(ギ酸塩等)等が使用でき、このほかN−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン、トリエチルアミン、ジエチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン等が使用できる。   Examples of the amine catalyst include triethylenediamine, tetramethylethylenediamine, tetramethylhexylenediamine, diazabicycloalkene {1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 [manufactured by San Apro Co., Ltd., registered trademark DBU]. Etc.}, dialkylaminoalkylamines (dimethylaminoethylamine, dimethylaminopropylamine, diethylaminopropylamine, dibutylaminoethylamine, dimethylaminooctylamine, dipropylaminopropylamine, etc.) and heterocyclic aminoalkylamines {2- (1- Aziridinyl) ethylamine, 4- (1-piperidinyl) -2-hexylamine, etc.} carbonates and organic acid salts (formate, etc.), etc. In addition, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, Ethylamine, diethylethanolamine, dimethylethanolamine and the like can be used.

本発明における(C2)には、一般式(1)で示される繰り返し単位を有するポリマーが含まれる。

Figure 2008031461
In the present invention, (C2) includes a polymer having a repeating unit represented by the general formula (1).
Figure 2008031461

一般式(1)において、nは2〜50、好ましくは3〜40、さらに好ましくは4〜30の整数である。また、R1およびR2の一方はHであり他方はHまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基である。また、yは15〜800、好ましくは20〜500、さらに好ましくは30〜400の整数である。
1、A1、mおよびm’は前記と同様であり、XおよびX’は、一般式(2)〜(8)で示される基から選ばれる基および対応する(2’)〜(8’)で示される基から選ばれる基、すなわち、Xが一般式(2)で示される基のとき、X’は一般式(2’)で示される基であり、一般式(3)〜(8)および(3’)〜(8’)についても同様の関係である。
In general formula (1), n is an integer of 2 to 50, preferably 3 to 40, and more preferably 4 to 30. One of R 1 and R 2 is H, and the other is H or an alkyl group of C1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6). Moreover, y is an integer of 15 to 800, preferably 20 to 500, more preferably 30 to 400.
E 1 , A 1 , m and m ′ are the same as above, and X and X ′ are groups selected from the groups represented by the general formulas (2) to (8) and the corresponding (2 ′) to (8 A group selected from the group represented by '), that is, when X is a group represented by the general formula (2), X' is a group represented by the general formula (2 '), and the general formulas (3) to (3) to ( The same relationship applies to 8) and (3 ′) to (8 ′).

Figure 2008031461
Figure 2008031461

Figure 2008031461
Figure 2008031461

一般式(2)〜(8)および(2’)〜(8’)において、R3およびR3'は、C2〜3の三価の炭化水素基を表し、R4は、C1〜11(好ましくは1〜8、さらに好ましく
は1〜6)の2価の炭化水素基を表し、R5は、HまたはC1〜10(好ましくは1〜8
、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基を表し、R6は、C2〜22(好ましくは4〜
18、さらに好ましくは6〜12)の炭化水素基を表し、E2は、有機ジイソシアネート
残基を表し、rは、1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)の整数、uおよびvは、0または1を表し、A2、Rは前記に同じである。
また、Q、Q’、TおよびT’は次式で示される基である。
In the general formulas (2) to (8) and (2 ′) to (8 ′), R 3 and R 3 ′ represent a C2-3 trivalent hydrocarbon group, and R 4 represents C1-11 ( Preferably, it represents a divalent hydrocarbon group of 1-8, more preferably 1-6, and R 5 is H or C1-10 (preferably 1-8).
, More preferably 1-6), and R 6 is C 2-22 (preferably 4-4).
18 and more preferably 6-12), E 2 represents an organic diisocyanate residue, r is an integer of 1 to 10 (preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6), u and v represent 0 or 1, and A 2 and R are the same as defined above.
Q, Q ′, T and T ′ are groups represented by the following formula.

Figure 2008031461
Figure 2008031461

但し、R5は、HまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)の
アルキル基を表し、R7は、Hまたはメチル基を表し、tは、R7がメチル基のとき1、Hのとき0または1である。
一般式(1)で示される繰り返し単位中の{ }内のポリエーテルセグメント{(OA1m−O−E1−O−(A1O)m'}は、ポリエーテルジオール(c221)により構成される構造であり、式中のE1、A1、mおよびm’は前記と同様である。
However, R 5 is H or C1-10 (preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6) represents an alkyl group, R 7 represents H or a methyl group, t is, R 7 is a methyl group 1 for H, 0 or 1 for H.
The polyether segment {(OA 1 ) m —O—E 1 —O— (A 1 O) m ′ } in {} in the repeating unit represented by the general formula (1) depends on the polyether diol (c221). It is a structure to be constructed, and E 1 , A 1 , m and m ′ in the formula are the same as described above.

一般式(1)において、Xが一般式(2)で示される基、X’が一般式(2’)で示される基であるブロックポリマー(C21)は、前記のカルボニル基を有するポリオレフィン(c211−1)とポリエーテルジオール(c221)とを反応させることにより得ることができる。一般式(2)および(2’)中のR3およびR3'は、不飽和ジカルボン酸から形成される式 In the general formula (1), the block polymer (C21) in which X is a group represented by the general formula (2) and X ′ is a group represented by the general formula (2 ′) is a polyolefin having a carbonyl group (c211 -1) and polyether diol (c221) can be obtained. R 3 and R 3 ′ in general formulas (2) and (2 ′) are formulas formed from unsaturated dicarboxylic acids.

Figure 2008031461
(R’はHまたはメチル基、tはR’がHのとき1または0、R’がメチル基のとき1である。)
で示される基であり、例えば、ポリオレフィンのカルボニル変性に、マレイン酸またはフマル酸を用いた場合は、R3は−CH2−CH<であり、R3'は>CH−CH2−である。
Figure 2008031461
(R ′ is H or a methyl group, t is 1 or 0 when R ′ is H, and 1 when R ′ is a methyl group.)
For example, when maleic acid or fumaric acid is used for carbonyl modification of polyolefin, R 3 is —CH 2 —CH <and R 3 ′ is> CH—CH 2 —. .

(C21)は、種々の方法で製造でき、例えば、カルボニル基を有するポリオレフィン(c211−1)に、ポリエーテルジオール(c221)を加えて減圧下通常200〜250℃で重合(重縮合)反応を行う方法により製造することができる。一軸または二軸の押出機を用いて、製造することもできる。通常、160〜250℃、滞留時間0.1〜20分で重合する方法により製造することができる。また、上記の重合反応には、種々の触媒を使用することができる。
触媒としては、アンチモン触媒(三酸化アンチモン等)、スズ触媒(モノブチルスズオ
キサイド等)、チタン触媒(テトラブチルチタネート等)、ジルコニウム触媒(テトラブチルジルコネート等)、有機酸金属塩[ジルコニウム有機酸塩(酢酸ジルコニル等)、酢
酸亜鉛等]、およびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。
これらのうち、好ましいのはジルコニウム触媒および有機酸金属塩、さらに好ましいのは酢酸ジルコニルである。
触媒の使用量は、(c211−1)と(c221)の合計重量に対して、通常0.001〜5%である。
(C21) can be produced by various methods. For example, polyether diol (c221) is added to polyolefin (c211-1) having a carbonyl group, and polymerization (polycondensation) reaction is usually performed at 200 to 250 ° C. under reduced pressure. It can be manufactured by the method to be performed. It can also be produced using a single or twin screw extruder. Usually, it can manufacture by the method of superposing | polymerizing with 160-250 degreeC and residence time 0.1-20 minutes. Various catalysts can be used for the above polymerization reaction.
Catalysts include antimony catalysts (antimony trioxide, etc.), tin catalysts (monobutyltin oxide, etc.), titanium catalysts (tetrabutyl titanate, etc.), zirconium catalysts (tetrabutyl zirconate, etc.), organic acid metal salts [zirconium organic acid salts (Such as zirconyl acetate) and zinc acetate], and mixtures of two or more thereof.
Of these, preferred are a zirconium catalyst and an organic acid metal salt, and more preferred is zirconyl acetate.
The usage-amount of a catalyst is 0.001 to 5% normally with respect to the total weight of (c211-1) and (c221).

一般式(1)において、Xが一般式(3)で示される基、およびX’が一般式(3’)で示される基のブロックポリマー(C22)は、カルボニル基を有するポリオレフィン(c211−1)とポリエーテルジアミン(c222)とを反応させることにより得ることができる。(c211−1)と(c222)との重合反応は、(c211−1)と(c221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), the block polymer (C22) in which X is a group represented by the general formula (3) and X ′ is a group represented by the general formula (3 ′) is a polyolefin having a carbonyl group (c211-1 ) And polyether diamine (c222). The polymerization reaction of (c211-1) and (c222) can be carried out in the same manner as the polymerization reaction of (c211-1) and (c221).

一般式(1)において、Xが一般式(4)で示される基、およびX’が一般式(4’)で示される基であるブロックポリマー(C23)は、(c211−2)と(c221)とを反応させることにより得ることができる。(c211−2)と(c221)との重合反応は、(c211−1)と(c221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), the block polymer (C23) in which X is a group represented by the general formula (4) and X ′ is a group represented by the general formula (4 ′) is represented by (c211-2) and (c221). ). The polymerization reaction of (c211-2) and (c221) can be performed in the same manner as the polymerization reaction of (c211-1) and (c221).

一般式(1)において、Xが一般式(5)で示される基、およびX’が一般式(5’)で示される基であるブロックポリマー(C24)は、(c211−2)と(c222)とを反応させることにより得ることができる。また、(c222)を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性してから、これと(c211−1)と反応させて製造してもよい。これらの重合反応は、(c211−1)と(c221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), the block polymer (C24) in which X is a group represented by the general formula (5) and X ′ is a group represented by the general formula (5 ′) includes (c211-2) and (c222 ). Alternatively, (c222) may be secondarily modified with the lactam or aminocarboxylic acid and then reacted with (c211-1) to produce the product. These polymerization reactions can be carried out in the same manner as the polymerization reaction of (c211-1) and (c221).

一般式(1)において、Xが一般式(6)で示される基、およびX’が一般式(6’)で示される基であるブロックポリマー(C25)は、(c211−3)(r=1の場合)または(c211−4)(r≧2の場合)と、(c221)(u=0の場合)またはポリエーテルジアミン(c222)(u=1の場合)とを反応させることにより得ることができる。(c211−3)または(c211−4)と、(c221)または(c222)との重合反応は、(c211−1)と(c221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), the block polymer (C25) in which X is a group represented by the general formula (6) and X ′ is a group represented by the general formula (6 ′) is (c211-3) (r = 1) or (c211-4) (when r ≧ 2) and (c221) (when u = 0) or polyetherdiamine (c222) (when u = 1). be able to. The polymerization reaction of (c211-3) or (c211-4) and (c221) or (c222) can be carried out in the same manner as the polymerization reaction of (c21-1) and (c221).

一般式(1)において、Xが一般式(7)で示される基、およびX’が一般式(7’)で示される基であるブロックポリマー(C26)は、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(c212)と、ポリエーテルジオール(c221)(u=0の場合)またはポリエーテルジアミン(c222)(u=1の場合)とを、有機ジイソシアネートを介して結合させたものであり、これらを同時に反応させるか、順次に反応させて得ることができる。順次反応させる方法として、例えば(c212)と有機ジイソシアネートとを反応させてイソシアネート変性ポリオレフィンを得た後、これと(c221)または(c222)とを反応させることにより得ることができる。   In the general formula (1), the block polymer (C26) in which X is a group represented by the general formula (7) and X ′ is a group represented by the general formula (7 ′) has hydroxyl groups at both ends of the polymer. Polyolefin (c212) and polyether diol (c221) (when u = 0) or polyether diamine (c222) (when u = 1) are bonded via an organic diisocyanate. It can be obtained by reacting simultaneously or sequentially. As a method of sequentially reacting, for example, (c212) and an organic diisocyanate are reacted to obtain an isocyanate-modified polyolefin, and then this is reacted with (c221) or (c222).

一般式(1)において、Xが一般式(8)で示される基、およびX’が一般式(8’)で示される基であるブロックポリマー(C26)は、(c211−3)(v=0の場合)または(c212)(v=1の場合)と、(c221)または(c222)とを、有機ジイソシアネートを介して結合させたものであり、これらを同時に反応させるか、順次反応させて得ることができる。順次反応させる方法として、例えば(c211−3)または(c212)と、有機ジイソシアネートとを反応させてイソシアネート変性ポリオレフィンを得た後、これと(c221)または(c222)と反応させることにより得ることがで
きる。
(c212)と有機ジイソシアネートとの反応、(c221)または(c222)と有機ジイソシアネート反応、およびイソシアネート変性ポリオレフィンと(c221)または(c222)との反応は、通常のウレタン化またはウレア化反応と同様の方法で行うことができる。
In the general formula (1), the block polymer (C26) in which X is a group represented by the general formula (8) and X ′ is a group represented by the general formula (8 ′) is (c211-3) (v = 0) or (c212) (when v = 1) and (c221) or (c222) are bonded via an organic diisocyanate, and these are reacted simultaneously or sequentially. Obtainable. For example, (c211-3) or (c212) is reacted with an organic diisocyanate to obtain an isocyanate-modified polyolefin, and then reacted with (c221) or (c222). it can.
The reaction between (c212) and an organic diisocyanate, the reaction between (c221) or (c222) and an organic diisocyanate, and the reaction between an isocyanate-modified polyolefin and (c221) or (c222) are the same as the usual urethanization or urea formation reaction. Can be done in a way.

イソシアネート変性ポリオレフィンを形成する際の、有機ジイソシアネートと(c212)との当量比(NCO/OH比)、およびイソシアネート変性ポリオレフィンと(c221)または(c222)との当量比(NCO/OH比)は、好ましくは1.8/1〜3/1、さらに好ましくは1.9/1〜2.5/1、特に好ましくは2/1である。当量比がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および帯電防止性がさらに良好になる。有機ジイソシアネートおよび反応を促進するための触媒は前述のものが使用できる。   The equivalent ratio (NCO / OH ratio) between the organic diisocyanate and (c212) and the equivalent ratio between the isocyanate-modified polyolefin and (c221) or (c222) (NCO / OH ratio) in forming the isocyanate-modified polyolefin are: The ratio is preferably 1.8 / 1 to 3/1, more preferably 1.9 / 1 to 2.5 / 1, and particularly preferably 2/1. When the equivalent ratio is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and filler dispersibility and antistatic properties are further improved. As the organic diisocyanate and the catalyst for promoting the reaction, those described above can be used.

一般式(1)で示される繰り返し単位を有するブロックポリマー(C2)のうちで、好ましいのは(C21)、(C22)、(C23)、(C24)、さらに好ましいのは(C21)および(C23)、特に好ましいのは(C23)である。
ブロックポリマー(C2)を構成するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(c22)の量は、帯電防止性の観点から、(c21)と(c22)との合計重量に基づいて、好ましくは20〜90%、さらに好ましくは25〜90%、特に好ましくは30〜70%である。 また、(C2)のMnは、カーボンナノチューブ分散性および帯電防止性能の観点から、好ましくは2,000〜60,000、さらに好ましくは5,000〜40,000、特に好ましくは8,000〜30,000である。
Among the block polymers (C2) having the repeating unit represented by the general formula (1), (C21), (C22), (C23), (C24) are preferable, and (C21) and (C23 are more preferable. Particularly preferred is (C23).
The amount of the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) constituting the block polymer (C2) is preferably 20 to 90% based on the total weight of (c21) and (c22) from the viewpoint of antistatic properties. More preferably, it is 25 to 90%, and particularly preferably 30 to 70%. Further, Mn of (C2) is preferably from 2,000 to 60,000, more preferably from 5,000 to 40,000, particularly preferably from 8,000 to 30 from the viewpoint of carbon nanotube dispersibility and antistatic performance. , 000.

ブロックポリマー(C2)の構造において、ポリオレフィン(c21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物(c22)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数(Nn)は、カーボンナノチューブ分散性および帯電防止性の観点から、好ましくは2〜50、さらに好ましくは2.3〜30、特に好ましくは2.7〜20、最も好ましくは3〜10である。
Nnは、(C2)のMnおよび1H−NMR分析によって求めることができる。例えば
、(c211)のブロックと(c221)のブロックとが繰り返し交互に結合した構造を有する(C21)の場合について説明すると、1H−NMR分析において、4.0〜4.
1ppmのエステル結合{−C(C=O)−OCH2−}のプロトンに帰属されるシグナ
ル、および3.2〜3.7ppmのポリエチレングリコールのプロトンに帰属されるシグナルが観測できる。これらのプロトン積分値の比を求めて、この比とMnとからNnを求めることができる。
In the structure of the block polymer (C2), the average number of repeating units (Nn) of the block of the polyolefin (c21) and the block of the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) is the carbon nanotube dispersibility and antistatic property. From the viewpoint, it is preferably 2 to 50, more preferably 2.3 to 30, particularly preferably 2.7 to 20, and most preferably 3 to 10.
Nn can be determined by Mn and 1 H-NMR analysis of (C2). For example, the case of (C21) having a structure in which blocks (c211) and (c221) are alternately and repeatedly bonded will be described. In 1 H-NMR analysis, 4.0 to 4.
A signal attributed to the proton of 1 ppm ester bond {—C (C═O) —OCH 2 —} and a signal attributed to the proton of polyethylene glycol of 3.2 to 3.7 ppm can be observed. The ratio of these proton integral values is obtained, and Nn can be obtained from this ratio and Mn.

(C2)の両末端は、(c21)由来のカルボニル基、アミノ基、水酸基および/または無変性ポリオレフィン末端、並びに(c22)由来の水酸基、アミノ基、イソシアネート基および/またはエポキシ基を有する。なお、無変性ポリオレフィンとは、何ら変性がなされていないポリオレフィン末端、すなわち、アルキル基またはアルケニル基を意味する。   Both ends of (C2) have a carbonyl group, amino group, hydroxyl group and / or unmodified polyolefin end derived from (c21), and a hydroxyl group, amino group, isocyanate group and / or epoxy group derived from (c22). The unmodified polyolefin means a polyolefin terminal that is not modified at all, that is, an alkyl group or an alkenyl group.

ポリエーテルアミドイミド(C3)としては、例えば特公平7−119342号公報および特開平06−172609公報に記載のポリエーテルアミドイミドが挙げられる。
これらのうち耐熱性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、アミノ基と反応して少なくとも1個のイミド環を形成しうる3価もしくは4価の芳香族ポリカルボン酸およびポリエチレングリコールもしくは少なくとも50重量%のポリエチレングリコールとポリエチレングリコール以外のポリアルキレングリコールとの混合物から誘導され、該混合物の含有量が30〜85重量%、30℃での還元粘度が1.5〜4であるポリエーテルアミド
イミドが挙げられる。
(C3)の還元粘度は、帯電防止性および樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは1.5〜4、さらに好ましくは1.7〜3.5である。
Examples of the polyether amide imide (C3) include polyether amide imides described in JP-B-7-119342 and JP-A-06-172609.
Of these, from the viewpoint of heat resistance, caprolactam, trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid capable of reacting with an amino group to form at least one imide ring and polyethylene glycol or at least 50% by weight are preferred. Polyether amide imide derived from a mixture of polyethylene glycol and a polyalkylene glycol other than polyethylene glycol, wherein the content of the mixture is 30 to 85% by weight and the reduced viscosity at 30 ° C. is 1.5 to 4. .
The reduced viscosity of (C3) is preferably 1.5 to 4, more preferably 1.7 to 3.5 from the viewpoint of antistatic properties and moldability of the resin composition.

ポリエーテルエステル(C4)としては、ポリエーテルジオールまたはコポリエーテルジオールからなるセグメントを有するポリエステル、例えば、特公昭58−19696号公報記載のポリエーテルエステルが挙げられる。
(C4)の融点[測定は示差走査熱量測定法(以下、DSC法と略記)による]は耐熱性の観点から好ましくは100℃以上、さらに好ましくは120〜210℃である。
(C4)のMnは、カーボンナノチューブ分散性および帯電防止性能の観点から好ましくは2,000〜60,000、さらに好ましくは5,000〜40,000である。
Examples of the polyether ester (C4) include polyesters having a segment made of polyether diol or copolyether diol, for example, polyether esters described in JP-B No. 58-19696.
The melting point of [C4] [measurement is by differential scanning calorimetry (hereinafter abbreviated as DSC method)] is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 to 210 ° C. from the viewpoint of heat resistance.
Mn of (C4) is preferably from 2,000 to 60,000, more preferably from 5,000 to 40,000, from the viewpoint of carbon nanotube dispersibility and antistatic performance.

本発明の帯電防止剤は、カーボンナノチューブ(A)および共役二重結合を有する分散剤(B)の混合物と、上記(C)からなる。
該帯電防止剤中の(A)、(B)、(C)の合計重量に基づく割合は要求される性能に応じて種々変えることができるが、(A)は、帯電防止性および樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは1〜20%、さらに好ましくは2〜15%;(B)は、カーボンナノチューブの分散性および樹脂組成物の成形性の観点から1〜40%、さらに好ましくは2〜35%;(C)は、カーボンナノチューブの分散性および帯電防止性の観点から好ましくは40〜98%、さらに好ましくは50〜96%である。
The antistatic agent of the present invention comprises a mixture of a carbon nanotube (A) and a dispersant (B) having a conjugated double bond, and the above (C).
The proportion based on the total weight of (A), (B), and (C) in the antistatic agent can be variously changed according to the required performance. (A) is an antistatic property and a resin composition. From the viewpoint of moldability of the resin, preferably 1 to 20%, more preferably 2 to 15%; (B) is 1 to 40%, more preferably 2 from the viewpoint of the dispersibility of the carbon nanotubes and the moldability of the resin composition. -35%; (C) is preferably 40-98%, more preferably 50-96%, from the viewpoint of the dispersibility and antistatic properties of the carbon nanotubes.

本発明の帯電防止剤は、カーボンナノチューブ(A)と共役二重結合を有する分散剤(B)を予め混合した後、これを(C)に含有させることにより製造される。
(A)と(B)との混合方法は、特に限定はないが、乳鉢ですり潰して混合してもよいし、ボールミル、ローラーミルなどを使用することもできる。混合時間はカーボンナノチューブの分散性および工業的観点から好ましくは1分〜3時間、さらに好ましくは5分〜2時間;混合温度は、カーボンナノチューブの分散性および工業的観点から好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは20〜100℃;混合の終点は、(A)と(B)の混合物がペースト状になったことを目視により確認することにより判断することができる。
また、(A)と(B)の混合物を(C)に含有させる方法については、特に限定はないが、該混合物の(C)への効果的な分散の観点から、親水性基含有ポリマー(C)中に予め分散させておくことが好ましく、その場合、(C)の製造(重合)時に予め該混合物を分散させておくのが特に好ましい。該混合物を(C)の製造時に含有、分散させるタイミングは特に制限はなく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
The antistatic agent of the present invention is produced by previously mixing the carbon nanotube (A) and the dispersant (B) having a conjugated double bond, and then adding this to (C).
The mixing method of (A) and (B) is not particularly limited, but may be ground and mixed with a mortar, or a ball mill, a roller mill, or the like may be used. The mixing time is preferably 1 minute to 3 hours, more preferably 5 minutes to 2 hours from the dispersibility of carbon nanotubes and from an industrial viewpoint; more preferably 5 minutes to 2 hours; the mixing temperature is preferably 0 to 150 ° C. from the dispersibility of carbon nanotubes and an industrial viewpoint. More preferably, it is 20-100 degreeC; The end point of mixing can be judged by confirming visually that the mixture of (A) and (B) became paste-form.
Further, the method of incorporating the mixture of (A) and (B) into (C) is not particularly limited, but from the viewpoint of effective dispersion of the mixture into (C), a hydrophilic group-containing polymer ( It is preferable to disperse in C) in advance, and in this case, it is particularly preferable to disperse the mixture in advance during the production (polymerization) of (C). There is no particular limitation on the timing of containing and dispersing the mixture during the production of (C), and it may be any before, during or immediately after polymerization.

本発明の帯電防止性樹脂組成物は、上記帯電防止剤を熱可塑性樹脂(D)に含有させてなるものである。
(D)としては、ポリフェニレンエーテル樹脂(D1);ビニル樹脂〔ポリオレフィン樹脂(D2)[例えばポリプロピレン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂]、ポリアクリル樹脂(D3)[例えばポリメタクリル酸メチル]、ポリスチレン樹脂(D4)[ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体、例えばポリスチレン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AN樹脂)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)]等〕;ポリエステル樹脂(D5)[例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート];ポリアミド樹脂(D6)[例えばナイロン66、ナイロン69、ナイロン612、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン46、ナイロン6/66、ナイロン6/12];ポリカーボネート樹脂(D7)[例えばポリカーボネート、ポリカーボネート/ABSアロイ樹脂];ポリアセタール
樹脂(D8)、およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
The antistatic resin composition of the present invention comprises the thermoplastic resin (D) containing the antistatic agent.
(D) includes polyphenylene ether resin (D1); vinyl resin [polyolefin resin (D2) [for example, polypropylene, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA), ethylene-ethyl acrylate copolymer resin], polyacrylic resin (D3) [for example, polymethyl methacrylate], polystyrene resin (D4) [consisting of vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile, and butadiene Copolymers having at least one selected from the group as structural units, such as polystyrene, styrene / acrylonitrile copolymer (AN resin), acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS resin), methyl methacrylate / butadiene / Styrene Polyester resin (D5) [for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polybutylene adipate, polyethylene adipate]; Polyamide resin (D6) [for example, nylon 66, nylon 69, nylon 612, nylon 6, nylon 11, nylon 12, nylon 46, nylon 6/66, nylon 6/12]; polycarbonate resin (D7) [for example, polycarbonate, polycarbonate / ABS alloy resin]; polyacetal resin (D8), and a mixture of two or more thereof.

これらのうち、後述する成形品の機械特性および(A)と(B)の混合物、および(C)からなる帯電防止剤の(D)への分散性の観点から好ましいのは(D1)、(D2)、(D3)、(D4)および(D7)、さらに好ましいのは(D2)、(D4)および(D7)である。   Among these, (D1) and (D) are preferable from the viewpoint of the mechanical properties of the molded product described later and the dispersibility of the antistatic agent comprising (C) in (D). (D2), (D3), (D4) and (D7), more preferably (D2), (D4) and (D7).

(D)の使用量は、成形品の帯電防止性および機械特性の観点から、(A)と(B)の混合物、および(C)からなる帯電防止剤と(D)の重量比[帯電防止剤/(D)]で好ましくは1/99〜30/70、さらに好ましくは5/95〜20/80となる量である。   The amount of (D) used is the weight ratio of the mixture of (A) and (B) and the antistatic agent comprising (C) to (D) from the viewpoint of antistatic properties and mechanical properties of the molded product [antistatic Agent / (D)] is preferably 1/99 to 30/70, more preferably 5/95 to 20/80.

ポリフェニレンエーテル樹脂(D1)としては、例えば下記一般式(9)で示されるものが挙げられる。   Examples of the polyphenylene ether resin (D1) include those represented by the following general formula (9).

Figure 2008031461
Figure 2008031461

一般式(9)においてpは50以上の整数、R8、R9、R10、R11は、H、ハロゲン原子、C1〜12の炭化水素基、C2〜12の置換炭化水素基、アルコキシ基、シアノ基、フェノキシ基またはニトロ基を表す。R8、R9、R10、R11はそれぞれ同じでも、異なっていてもよい。また、(D1)は一般式(9)で示される重合体の1種単独であっても、2種以上の構成単位からなる共重合体や、2種以上の重合体の配合物であってもよい。 In general formula (9), p is an integer of 50 or more, R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are H, a halogen atom, a C1-12 hydrocarbon group, a C2-12 substituted hydrocarbon group, and an alkoxy group. Represents a cyano group, a phenoxy group or a nitro group. R 8 , R 9 , R 10 and R 11 may be the same or different. Further, (D1) is a single polymer of the general formula (9) or a copolymer of two or more structural units or a blend of two or more polymers. Also good.

(D1)の具体例としては、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジプロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−エチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジメトキシ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジブロモ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジフェニル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジベンジル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、5−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等が挙げられる。
また、これらの(D1)に前記のスチレンおよび/またはその誘導体のモノマーをグラフトしたもの(変性ポリフェニレンエーテル)も(D1)に含まれる。
Specific examples of (D1) include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-ethyl). -1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dipropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6) -Propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dimethoxy-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dichloromethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-phenylene) Dibromo-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diphenyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene) ether, poly (2,6) Dibenzyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,5-dimethyl-1,4-phenylene) ether.
Further, (D1) includes those obtained by grafting the above styrene and / or its derivative monomer (modified polyphenylene ether) to (D1).

(D1)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリマーの0.5重量%クロロホルム溶液について、30℃でウベローデ1A粘度計を用いて
測定される。
(D1)のガラス転移温度(以下、Tgと略記)は、成形性の観点から好ましくは190〜240℃、さらに好ましくは210〜230℃である。Tgは示差走査熱量測定(DSC)法により測定される。
The intrinsic viscosity [η] of (D1) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties. [Η] is measured using a Ubbelohde 1A viscometer at 30 ° C. for a 0.5 wt% chloroform solution of the polymer.
The glass transition temperature (hereinafter abbreviated as Tg) of (D1) is preferably 190 to 240 ° C., more preferably 210 to 230 ° C. from the viewpoint of moldability. Tg is measured by a differential scanning calorimetry (DSC) method.

ビニル樹脂[(D2)〜(D4)]としては、以下のビニルモノマーを種々の重合法(ラジカル重合法、チーグラー触媒重合法、メタロセン触媒重合法等)により(共)重合させることにより得られるものが挙げられる。   As the vinyl resins [(D2) to (D4)], those obtained by (co) polymerizing the following vinyl monomers by various polymerization methods (radical polymerization method, Ziegler catalyst polymerization method, metallocene catalyst polymerization method, etc.) Is mentioned.

ビニルモノマーとしては、不飽和炭化水素(脂肪族炭化水素、芳香環含有炭化水素、脂環式炭化水素等)、アクリルモノマー、その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸およびその誘導体、不飽和アルコールのカルボン酸エステル、不飽和アルコールのアルキルエーテル、ハロゲン含有ビニルモノマー並びにこれらの2種以上の組合せ (ランダムおよび
/またはブロック)等が挙げられる。
Examples of vinyl monomers include unsaturated hydrocarbons (aliphatic hydrocarbons, aromatic ring-containing hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, etc.), acrylic monomers, other unsaturated mono- and dicarboxylic acids and their derivatives, and carboxylic acids of unsaturated alcohols. Examples include acid esters, alkyl ethers of unsaturated alcohols, halogen-containing vinyl monomers, and combinations (random and / or block) of two or more thereof.

脂肪族炭化水素としては、C2〜30のオレフィン[エチレン、プロピレン、 C4〜
30のα−オレフィン(1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、 1−ペンテン、1−
オクテン、1−デセン、1−ドデセン等)等]、C4〜30のジエン[アルカジエン(ブタジエン、イソプレン等)、シクロアルカジエン(シクロペンタジエン等)等]等が挙げられる。
Aliphatic hydrocarbons include C2-30 olefins [ethylene, propylene, C4 ~
30 α-olefins (1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-
Octene, 1-decene, 1-dodecene, etc.)], C4-30 dienes [alkadienes (butadiene, isoprene, etc.), cycloalkadienes (cyclopentadiene, etc.), etc.].

芳香環含有炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、例えばo
−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。
Examples of the aromatic ring-containing hydrocarbon include C8-30 styrene and its derivatives, such as o.
-, M- and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyl toluene, etc.), α-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, etc.) and halogenated styrene (chlorostyrene, etc.).

アクリルモノマーとしては、C3〜30、例えば(メタ)アクリル酸およびその誘導体が挙げられる。
(メタ)アクリル酸の誘導体としては、例えばアルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ レート、ブチル(メタ)
アクリレート等]、モノ−およびジ−アルキル(C1〜4)アミノアルキル(C2〜4)(メタ)アクリレート[メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレ ート等]、(メタ)アクリロニトリルおよび(メタ)アクリルアミ
ドが挙げられる。
Acrylic monomers include C3-30, such as (meth) acrylic acid and its derivatives.
Examples of derivatives of (meth) acrylic acid include alkyl (C1-20) (meth) acrylate [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth)
Acrylate etc.], mono- and di-alkyl (C1-4) aminoalkyl (C2-4) (meth) acrylate [methylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate etc.], (meth) Examples include acrylonitrile and (meth) acrylamide.

その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸としては、C2〜30(好ましくは3〜20、さらに好ましくは4〜15)の不飽和モノ−およびジカルボン酸、例えば、クロトン酸、マレイン酸、フマール酸およびイタコン酸等が挙げられ、その誘導体としては、C5〜30、例えばモノ−およびジアルキル(C1〜20)エステル、酸無水物(無水マレイン酸等)および酸イミド(マレイン酸イミド等)等が挙げられる。   Other unsaturated mono- and dicarboxylic acids include C2-30 (preferably 3-20, more preferably 4-15) unsaturated mono- and dicarboxylic acids such as crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and itacon. Examples thereof include C5-30, such as mono- and dialkyl (C1-20) esters, acid anhydrides (maleic anhydride, etc.) and acid imides (maleic imide, etc.).

不飽和アルコールのカルボン酸エステルとしては、不飽和アルコール[C2〜6、例えばビニルアルコール 、(メタ)アリルアルコール]のカルボン酸(C2〜4、例えば酢
酸、プロピオン酸)エステル(酢酸ビニル等)が挙げられる。
不飽和アルコールのアルキルエーテルとしては、上記不飽和アルコールのアルキル(C1〜20)エーテル(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等)が挙げられる。ハロゲン含有ビニルモノマーとしては、C2〜12、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデン
およびクロロプレンが挙げられる。
Examples of carboxylic acid esters of unsaturated alcohols include carboxylic acids (C2-4, such as acetic acid, propionic acid) esters (vinyl acetate, etc.) of unsaturated alcohols [C2-6, such as vinyl alcohol, (meth) allyl alcohol]. It is done.
Examples of the alkyl ether of the unsaturated alcohol include alkyl (C1-20) ethers of the above unsaturated alcohol (such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether). Halogen-containing vinyl monomers include C2-12, such as vinyl chloride, vinylidene chloride and chloroprene.

ポリオレフィン樹脂(D2)としては、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、プロピ
レン−エチレン共重合体[共重合比(重量比)=0.1/99.9〜99.9/0.1]、プロピレンおよび/またはエチレンと他のα−オレフィン(C4〜12)の1種以上との共重合体(ランダムおよび/またはブロック付加)[共重合比(重量比)=99/1〜5/95]、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]、エチレン/エチルアクリレート共重合体(EEA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレンおよび/またはエチレンとC4〜12のα−オレフィンの1種以上との共重合体[共重合比(重量比)=90/10〜10/90、ランダムおよび/またはブロック付加]である。
Examples of the polyolefin resin (D2) include polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 0.1 / 99.9 to 99.9 / 0.1], propylene and / or ethylene. And other α-olefin (C4-12) copolymers (random and / or block addition) [copolymerization ratio (weight ratio) = 99 / 1-5 / 95], ethylene / vinyl acetate Copolymer (EVA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], ethylene / ethyl acrylate copolymer (EEA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40 ].
Among these, preferred are polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer, propylene and / or a copolymer of ethylene and one or more of C4-12 α-olefin [copolymerization ratio (weight ratio) = 90. / 10 to 10/90, random and / or block addition].

(D2)のメルトフローレート(以下MFRと略記)は、樹脂物性、帯電防止性付与の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6758に準じて(ポリプロピレンの場合:230℃、荷重2.16kgf、ポ
リエチレンの場合:190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(D2)の結晶化度は、帯電防止性の観点から好ましくは0〜98%、さらに好ましくは0〜80%、とくに好ましくは0〜70%である。
結晶化度は、X線回折、赤外線吸収スペクトル等の方法によって測定される〔「高分子の固体構造−高分子実験学講座2」(南篠初五郎)、42頁、共立出版1958年刊参照〕。
The melt flow rate (hereinafter abbreviated as MFR) of (D2) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100 from the viewpoint of imparting resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K6758 (in the case of polypropylene: 230 ° C., load 2.16 kgf, in the case of polyethylene: 190 ° C., load 2.16 kgf).
The crystallinity of (D2) is preferably 0 to 98%, more preferably 0 to 80%, and particularly preferably 0 to 70% from the viewpoint of antistatic properties.
The crystallinity is measured by a method such as X-ray diffraction, infrared absorption spectrum, etc. [Refer to “Solid Structure of Polymers—Lecture of Polymer Experiments 2” (Hatsugoro Minamishino), page 42, published by Kyoritsu Shuppan 1958).

ポリアクリル樹脂(D3)としては、例えば前記アクリルモノマー〔アルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等〕の1種以上の(共)重合体[ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル等]およびこれらのモノマーの1種以上と共重合可能な前記ビニルモノマーの1種以上との共重合体[アクリルモノマー/ビニルモノマー共重合比(重量比)は樹脂物性の観点から好ましくは5/95〜95/5、さらに好ましくは50/50〜90/10][但し、(D2)に含まれるものは除く]が含まれる。   As the polyacrylic resin (D3), for example, one or more (co) polymers [poly (meth) acrylic acid methyl ester, such as acrylic monomers [alkyl (C1-20) (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, etc.], Poly (meth) butyl acrylate, etc.] and copolymers with one or more of the above-mentioned vinyl monomers copolymerizable with one or more of these monomers [acrylic monomer / vinyl monomer copolymerization ratio (weight ratio) is a resin physical property From the viewpoint of the above, preferably 5/95 to 95/5, more preferably 50/50 to 90/10] [however, those included in (D2) are excluded] are included.

(D3)のMFRは、樹脂物性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好まし
くは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じて(ポリアクリル樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。
The MFR of (D3) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100 from the viewpoint of resin physical properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (230 ° C in the case of polyacrylic resin, load 1.2 kgf).

ポリスチレン樹脂(D4)としては、ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体が挙げられる。
ビニル基含有芳香族炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、
例えばo−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。
(D4)の具体例としては、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AS樹脂)[共重合比(重量比)=70/30〜80/20]、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)[共重合比(重量比)=60/40〜90/10]、スチレン/ブタジエン共重合体[共重合比(重量比)=60/40〜95/5]、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]等が挙げられる。
As the polystyrene resin (D4), a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, and at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile and butadiene A copolymer as a structural unit is exemplified.
Examples of vinyl group-containing aromatic hydrocarbons include C8-30 styrene and its derivatives,
For example, o-, m-, and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyl toluene, etc.), α-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, etc.) and halogenated styrene (chlorostyrene, etc.) can be mentioned. .
Specific examples of (D4) include polystyrene, polyvinyltoluene, styrene / acrylonitrile copolymer (AS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 70/30 to 80/20], styrene / methyl methacrylate copolymer. (MS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 90/10], styrene / butadiene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 95/5], acrylonitrile / butadiene / Styrene copolymer (ABS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)], methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer (MBS resin) [Copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)].

(D4)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6871(1994年)に準じて(ポリスチレン樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。   The MFR of (D4) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. MFR is measured according to JIS K6871 (1994) (230 ° C. in the case of polystyrene resin, load 1.2 kgf).

ポリエステル樹脂(D5)としては、芳香環含有ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート等)および脂肪族ポリエステル(ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート、ポリ−ε−カプロラクトン等)が挙げられる。   Examples of the polyester resin (D5) include aromatic ring-containing polyesters (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, etc.) and aliphatic polyesters (polybutylene adipate, polyethylene adipate, poly-ε-caprolactone, etc.).

(D5)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリマーの0.5重量%オルトクロロフェノール溶液について、25℃でウベローデ1A粘度計を用いて測定される。   The intrinsic viscosity [η] of (D5) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties. [Η] is measured with a Ubbelohde 1A viscometer at 25 ° C. for a 0.5 wt% orthochlorophenol solution of the polymer.

ポリアミド樹脂(D6)としては、ラクタム開環重合体(D61)、ジアミンとジカルボン酸の脱水重縮合体(D62)、アミノカルボン酸の自己重縮合体(D63)およびこれらの重(縮)合体を構成するモノマー単位が2種類以上である共重合ナイロン等が挙げられる。   The polyamide resin (D6) includes a lactam ring-opening polymer (D61), a dehydration polycondensation product of diamine and dicarboxylic acid (D62), a self-polycondensation product of aminocarboxylic acid (D63), and a poly (condensation) combination thereof. Examples thereof include copolymer nylon having two or more types of monomer units.

(D61)におけるラクタムとしては、前記(c111)で例示したものが挙げられ、(D61)としては、ナイロン4、ナイロン5、ナイロン6、ナイロン8、ナイロン12等が挙げられる。
(D62)におけるジアミンとジカルボン酸としては、前記(c113)で例示したものが挙げられ、(D62)としては、ヘキサンメチレンジアミンとアジピン酸の縮重合によるナイロン66、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の重縮合によるナイロン610等が挙げられる。
(D63)におけるアミノカルボン酸としては、前記(c112)で例示したものが挙げられ、(D63)としては、アミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11、12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12等が挙げられる。
Examples of the lactam in (D61) include those exemplified in the above (c111), and examples of (D61) include nylon 4, nylon 5, nylon 6, nylon 8, nylon 12, and the like.
Examples of the diamine and dicarboxylic acid in (D62) include those exemplified in the above (c113). Examples of (D62) include nylon 66 obtained by condensation polymerization of hexanemethylenediamine and adipic acid, and a combination of hexamethylenediamine and sebacic acid. Examples thereof include nylon 610 by condensation.
Examples of the aminocarboxylic acid in (D63) include those exemplified in the above (c112). Examples of (D63) include nylon 7 by polycondensation of aminoenanthate, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, Nylon 12 by polycondensation of 12-aminododecanoic acid and the like can be mentioned.

(D6)の製造に際しては、分子量調整剤を使用してもよく、分子量調整剤としては、(c113)で例示したジカルボン酸および/またはジアミンが挙げられる。
分子量調整剤としてのジカルボン酸のうち、好ましいのは脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩であり、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。また、分子量調整剤としてのジアミンのうち、好ましいのはヘキサメチレンジアミン、デカメチレンジアミンである。
In the production of (D6), a molecular weight modifier may be used, and examples of the molecular weight modifier include the dicarboxylic acid and / or diamine exemplified in (c113).
Of the dicarboxylic acids as molecular weight modifiers, preferred are aliphatic dicarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids and alkali metal salts of 3-sulfoisophthalic acid, and more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and It is sodium 3-sulfoisophthalate. Of the diamines as molecular weight regulators, hexamethylene diamine and decamethylene diamine are preferable.

(D6)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリアミド樹脂の場合は、230℃、荷重0.325kgf)測定される。
The MFR of (D6) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyamide resin, 230 ° C., load 0.325 kgf).

ポリカーボネート樹脂(D7)としては、ビスフェノール(C12〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−S、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタン)系およびジヒドロキシビフェニル系ポリカーボネート、例えば上記ビスフェノールとホスゲンまたは炭酸ジエステルとの縮合物が挙げられる。上記ビスフェノールのうち(A)の分散性の観点から好ましいのはビスフェノールAである。
(D7)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリカーボネート樹脂の場合は280℃、荷重2.16kgf)測定される。
Examples of the polycarbonate resin (D7) include bisphenols (C12-20, such as bisphenol A, -F and -S, 4,4'-dihydroxydiphenyl-2,2-butane) and dihydroxybiphenyl polycarbonates such as bisphenol and phosgene. Or the condensate with a carbonic acid diester is mentioned. Of the above bisphenols, bisphenol A is preferred from the viewpoint of the dispersibility of (A).
The MFR of (D7) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polycarbonate resin, 280 ° C., load 2.16 kgf).

ポリアセタール樹脂(D8)としては、ホルムアルデヒドまたはトリオキサンのホモポリマー(ポリオキシメチレンホモポリマー)、およびホルムアルデヒドまたはトリオキサンと環状エーテル[前記AO(EO、PO、ジオキソラン等)等]との共重合体(ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレンコポリマー[ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレン(重量比)=90/10〜99/1のブロック共重合体等]等が挙げられる。
(D8)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリアセタール樹脂の場合は190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(D8)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。
Examples of the polyacetal resin (D8) include formaldehyde or trioxane homopolymer (polyoxymethylene homopolymer), and a copolymer of formaldehyde or trioxane and a cyclic ether [the above-mentioned AO (EO, PO, dioxolane, etc.)] (polyoxy). And methylene / polyoxyethylene copolymer [polyoxymethylene / polyoxyethylene (weight ratio) = 90/10 to 99/1 block copolymer and the like].
The MFR of (D8) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyacetal resin, 190 ° C., load 2.16 kgf).
The intrinsic viscosity [η] of (D8) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties.

本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲において、必要により帯電防止性向上剤(E)、相溶化剤(F)、およびその他の樹脂用添加剤(G)からなる群から選ばれる少なくとも一種の添加剤を含有させてもよい。   The resin composition of the present invention is a group comprising an antistatic property improver (E), a compatibilizing agent (F), and other additives for resin (G) as necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may contain the at least 1 sort (s) of additive chosen from these.

(E)には、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩(E1)および界面活性剤(E2)からなる群から選ばれる1種または2種以上が含まれる。
(E1)としては、アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)および/またはアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)の有機酸(C1〜12のモノ−およびジ−カルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、コハク酸;C1〜20のスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸;チオシアン酸)の塩、および無機酸(ハロゲン化水素酸、例えば塩酸、臭化水素酸;過塩素酸;硫酸;硝酸;リン酸)の塩が使用できる。
(E) includes one or more selected from the group consisting of an alkali metal or alkaline earth metal salt (E1) and a surfactant (E2).
(E1) include alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) and / or alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.) organic acids (C1-12 mono- and di-carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, Propionic acid, oxalic acid, succinic acid; salts of C1-20 sulfonic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid; thiocyanic acid, and inorganic acids (hydrohalic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid; A salt of perchloric acid; sulfuric acid; nitric acid; phosphoric acid) can be used.

(E1)の具体例としては、ハライド[フッ化物(フッ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、塩化物(塩化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、臭化物(臭化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)およびヨウ化物(ヨウ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)等]、過塩素酸塩(過塩素酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、フッ化スルホン酸塩(フルオロスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、メタンスルホン酸塩(メタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリフルオロメタンスルホン酸塩(トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ペンタフルオロエタンスルホン酸塩(ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ノナフルオロブタンスルホン酸塩(ノナフルオロブタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸塩(ウンデカフルオロペンタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸塩(トリデカフルオロヘキサンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、酢酸塩(酢酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、硫酸塩(硫酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、燐酸塩(燐酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、チオシアン酸塩(チオシアン酸カリウム等)等が挙げられる。
これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、ハライド、過塩素酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、酢酸塩、さらに好ましいのは塩化リチウム、−カリウムおよび−
ナトリウム、過塩素酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、酢酸カリウムである。
Specific examples of (E1) include halides [fluorides (lithium fluoride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), chlorides (lithium chloride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.) ), Bromides (such as lithium bromide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium) and iodides (such as lithium iodide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium)], perchlorates ( Lithium perchlorate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), fluorinated sulfonates (lithium fluorosulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), methanesulfonate (methane) Lithium sulfonate, -sodium, -ca Um, -magnesium and -calcium), trifluoromethanesulfonate (lithium trifluoromethanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), pentafluoroethanesulfonate (lithium pentafluoroethanesulfonate, -Sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), nonafluorobutane sulfonate (such as lithium nonafluorobutane sulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), undecafluoropentane sulfonate ( Undecafluoropentanesulfonate lithium, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), tridecafluorohexanesulfonate (tridecafluorohexanesulfone) Lithium acid, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), acetate (lithium acetate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), sulfate (sodium sulfate, -potassium, -magnesium and- Calcium, etc.), phosphates (sodium phosphate, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), thiocyanates (potassium thiocyanate, etc.) and the like.
Of these, halide, perchlorate, trifluoromethanesulfonate, and acetate are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and lithium chloride, -potassium, and-are more preferable.
Sodium, lithium perchlorate, -potassium and -sodium, lithium trifluoromethanesulfonate, -potassium and -sodium, potassium acetate.

(E1)の使用量は、樹脂表面に析出せず良好な外観の樹脂成形品を与える観点から、(A)、(B)、(C)、(D)の合計重量に基づいて、好ましくは0.001〜3%、さらに好ましくは0.01〜2.5%、特に好ましくは0.1〜2%、最も好ましくは0.15〜1%である。
(E1)を含有させる方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散のさせ易さから、親水性基含有ポリマー(C)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(C)中へ(E1)を分散させる場合、(C)の製造(重合)時に予め(E1)を含有、分散させておくのが特に好ましい。(E1)を(C)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
The amount of (E1) used is preferably based on the total weight of (A), (B), (C), and (D) from the viewpoint of giving a resin molded article having a good appearance without being deposited on the resin surface. 0.001 to 3%, more preferably 0.01 to 2.5%, particularly preferably 0.1 to 2%, and most preferably 0.15 to 1%.
The method of containing (E1) is not particularly limited, but it is preferable to disperse it in advance in the hydrophilic group-containing polymer (C) because it is easy to effectively disperse it in the composition.
Further, when (E1) is dispersed in (C), it is particularly preferable that (E1) is contained and dispersed in advance during the production (polymerization) of (C). There is no particular limitation on the timing at which (E1) is contained during the production of (C), and any of the timing before polymerization, during polymerization, and immediately after polymerization may be used.

(E2)のうち、非イオン性界面活性剤としては、高級アルコール(C8〜18)EO付加物、脂肪酸(C8〜24)EO付加物、高級アルキルアミン(C8〜24)EO付加物、ポリプロピレングリコールEO付加物等のポリエチレングリコール型非イオン界面活性剤;ポリエチレンオキサイド、グリセリンの脂肪酸エステル、ペンタエリスリットの脂肪酸エステル、ソルビットもしくはソルビタンの脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノールアミンの脂肪族アミド等の多価アルコール型非イオン界面活性剤等が挙げられる。   Among (E2), as the nonionic surfactant, higher alcohol (C8-18) EO adduct, fatty acid (C8-24) EO adduct, higher alkylamine (C8-24) EO adduct, polypropylene glycol Polyethylene glycol type nonionic surfactants such as EO adducts; polyethylene oxide, fatty acid ester of glycerin, fatty acid ester of pentaerythritol, fatty acid ester of sorbit or sorbitan, alkyl ether of polyhydric alcohol, aliphatic amide of alkanolamine, etc. And polyhydric alcohol type nonionic surfactants.

アニオン性界面活性剤としては、上記(E1)を除く化合物が使用でき、例えば、高級脂肪酸塩等のカルボン酸塩;高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩等の硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;高級アルコールリン酸エステル塩等のリン酸エステル塩等が挙げられる。   As the anionic surfactant, compounds other than the above (E1) can be used, for example, carboxylates such as higher fatty acid salts; sulfates such as higher alcohol sulfates and higher alkyl ether sulfates, alkylbenzene sulfones. Examples thereof include sulfonates such as acid salts, alkyl sulfonates, and paraffin sulfonates; and phosphate ester salts such as higher alcohol phosphate salts.

カチオン性界面活性剤としては、第4級アンモニウム塩型[例えばテトラアルキル(C4〜100)アンモニウム塩(例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド)、トリアルキル(C3〜80)ベンジルアンモニウム塩(例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム)、アルキル(C2〜60)ピリジニウム塩(例えばセチルピリジニウムクロライド)、ポリオキシアルキレン(C2〜4)トリアルキルアンモニウム塩(例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド)およびサパミン型第4級アンモニウム塩(例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート)];およびアミン塩型[例えば高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン)の無機酸(例えば塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸)塩、脂肪族アミン(C1〜30)のエチレンオキシド付加物などの無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩および3級アミン(C3〜30、例えばトリエタノールアミンモノステアレートおよびステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン)の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩]が挙げられる。   Cationic surfactants include quaternary ammonium salt types [eg, tetraalkyl (C4-100) ammonium salts (eg, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), Alkyl (C3-80) benzylammonium salts (eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride), alkyl (C2-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride), polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium salts (Eg, polyoxyethylenetrimethylammonium chloride) and sapamine type quaternary ammonium salts (eg, stearamide ester) Rudiethylmethyl ammonium methosulfate)]; and amine salt forms [eg higher aliphatic amines (C12-60, eg laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine and rosinamine) inorganic acids (eg hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and Phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, eg acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, ethylene oxide adducts of aliphatic amines (C1-30) Inorganic acids (above) or organic acids (above) and tertiary amines (C3-30, eg triethanolamine monostearate and stearamide ethyl diethyl methylethanolamine) Thing) salt or organic acid (above thing) salt] It is.

両性界面活性剤としては、高級アルキルアミノプロピオン酸塩等のアミノ酸型両性界面活性剤、高級アルキルジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン等のベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)のプロピオン酸塩]、ベタイン型両性界面活性剤[例えば高級アルキル(C12〜18)ジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン]、硫酸エステ
ル塩型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)の硫酸エステル塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステル塩]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(例えばペンタデシルスルホタウリン塩およびイミダゾリンスルホン酸塩)およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤[例えばグリセリン高級脂肪酸(C8〜24)エステル化物のリン酸エステル塩]が挙げられる。
Examples of amphoteric surfactants include amino acid-type amphoteric surfactants such as higher alkylaminopropionates, and betaine-type amphoteric surfactants such as higher alkyldimethylbetaine and higher alkyldihydroxyethylbetaine.
Examples of amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants [for example, propionates of higher alkylamines (C8-24)], betaine type amphoteric surfactants [for example, higher alkyl (C12-18) dimethylbetaines, higher alkyldihydroxys. Ethyl betaine], sulfate ester type amphoteric surfactants [for example, sulfates of higher alkylamines (C8-24) and hydroxyethyl imidazoline sulfate esters], sulfonate type amphoteric surfactants (for example, pentadecyl sulfotaurine salts) And imidazoline sulfonate) and phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, phosphate ester salts of glycerol higher fatty acid (C8-24) esterified products].

これらは単独でも2種以上を併用してもよい。
上記のアニオン性および両性界面活性剤における塩には、金属塩、例えばアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウム等)およびIIB族金属(亜鉛等)の塩;アンモニウム塩;並びに、アミン塩[アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩等]および4級アンモニウム塩が含まれる。
これらのうち、帯電防止性の観点から好ましいのはアニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、特に好ましいのはアルキルベンゼンスルホン酸塩(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等)、アルキルスルホン酸塩およびパラフィンスルホン酸塩である。
These may be used alone or in combination of two or more.
Salts in the above anionic and amphoteric surfactants include metal salts, such as salts of alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.) and group IIB metals (zinc, etc.); And ammonium salts [alkylamine (C1-20) and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di- and triethanolamine) salts] and quaternary ammonium salts.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of antistatic properties, more preferred are sulfonates, and particularly preferred are alkylbenzene sulfonates (such as sodium dodecylbenzenesulfonate), alkylsulfonates, and paraffins. Sulfonate.

(E2)の使用量は、(A)、(B)、(C)、(D)の合計重量に基づいて、好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%、特に好ましくは0.1〜2.5%である。
(E2)を含有させる方法についても特に限定はないが、樹脂組成物中へ効果的に分散させるためには、(C)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(C)中へ(E2)を分散させる場合、(C)の製造(重合)時に該(E2)を予め含有、分散させておくのが特に好ましい。(E2)を(C)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後の何れでもよい。
The amount of (E2) used is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%, especially based on the total weight of (A), (B), (C) and (D). Preferably it is 0.1 to 2.5%.
The method of containing (E2) is not particularly limited, but it is preferable to disperse in (C) in advance in order to effectively disperse it in the resin composition. Further, when (E2) is dispersed in (C), it is particularly preferable that (E2) is previously contained and dispersed during the production (polymerization) of (C). There is no particular limitation on the timing at which (E2) is contained during the production of (C), and any time before polymerization, during polymerization, or immediately after polymerization may be used.

相溶化剤(F)としては、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基(極性基)を有する変性ビニル重合体等が使用でき、例えば、特開平3−258850号公報に記載の重合体が挙げられる。また、例えば、特開平6−345927号公報に記載のスルホニル基を有する変性ビニル重合体、ポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック重合体等も使用できる。
(F)の使用量は、樹脂物性の観点から、(A)、(B)、(C)、(D)の合計重量に基づいて、好ましくは0.1〜15%、さらに好ましくは1〜10%、特に好ましくは1.5〜8%である。
(F)を含有させる方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散もしくは溶解のさせ易さから、親水性基含有ポリマー(C)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(C)中へ(F)を分散もしくは溶解させる場合、(C)の製造(重合)時に予め(F)を含有させておくのが特に好ましい。(F)を(C)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
As the compatibilizer (F), a modified vinyl polymer having at least one functional group (polar group) selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group is used. Examples thereof include polymers described in JP-A-3-258850. Further, for example, a modified vinyl polymer having a sulfonyl group described in JP-A-6-345927, a block polymer having a polyolefin portion and an aromatic vinyl polymer portion, and the like can be used.
The amount of (F) used is preferably 0.1 to 15%, more preferably 1 to 15% based on the total weight of (A), (B), (C), and (D) from the viewpoint of resin physical properties. 10%, particularly preferably 1.5 to 8%.
The method of containing (F) is not particularly limited, but it is preferable to disperse it in advance in the hydrophilic group-containing polymer (C) from the viewpoint of ease of effective dispersion or dissolution in the composition. .
In addition, when (F) is dispersed or dissolved in (C), it is particularly preferable to contain (F) in advance during the production (polymerization) of (C). There is no particular limitation on the timing at which (F) is contained during the production of (C), and any of the timing before polymerization, during polymerization, and immediately after polymerization may be used.

(G)としては、核剤(G1)、滑剤(G2)、可塑剤(G3)、離型剤(G4)、酸化防止剤(G5)、難燃剤(G6)、紫外線吸収剤(G7)および抗菌剤(G8)からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   (G) includes nucleating agent (G1), lubricant (G2), plasticizer (G3), mold release agent (G4), antioxidant (G5), flame retardant (G6), ultraviolet absorber (G7) and The at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an antibacterial agent (G8) is mentioned.

(G1)としては、有機系核剤[例えば1,3,2,4−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−p−t−ブチルベンゾエート、ソジウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェートおよび安息香酸ナトリウム]および無機系核剤(例えばグラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、酸化亜鉛、アルミナ、硫酸バリウムおよび硫酸カルシウム)が挙げられる。
(G2)としては、ワックス(例えばカルナバロウワックス、パラフィンワックスおよびポリオレフィンワックス)、高級脂肪酸(C8〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸およびリノレン酸)、高級アルコール(C8〜18、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコールおよびベヘニルアルコール)および高級脂肪酸アミド(C8〜24、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミドおよびリノレン酸アミド)が挙げられる。
(G1) includes organic nucleating agents [for example, 1,3,2,4-di-benzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium-bis (4-tert-butyl Phenyl) phosphate and sodium benzoate] and inorganic nucleating agents (eg, graphite, carbon black, magnesium oxide, calcium silicate, magnesium silicate, talc, kaolin, calcium carbonate, magnesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, zinc oxide, alumina, Barium sulfate and calcium sulfate).
(G2) include waxes (eg carnauba wax, paraffin wax and polyolefin wax), higher fatty acids (C8-24, eg stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid), higher alcohols (C8-18, eg stearyl alcohol). , Lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cetostearyl alcohol and behenyl alcohol) and higher fatty acid amides (C8-24, such as stearic acid amide, oleic acid amide, linoleic acid amide and linolenic acid amide).

(G3)としては、芳香族カルボン酸エステル[例えばフタル酸エステル(例えばジオクチルフタレートおよびジブチルフタレート)]、脂肪族モノカルボン酸エステル[例えばメチルアセチルリシノレートおよびトリエチレングリコールジベンゾエート]、脂肪族ジカルボン酸エステル[例えばジ(2−エチルヘキシル)アジペートおよびアジピン酸−プロピレングリコール系ポリエステル(Mn200〜2000)]、脂肪族トリカルボン酸エステル[例えばクエン酸エステル(例えばクエン酸トリエチル)]、リン酸トリエステル[例えばトリフェニルホスフェート]および石油樹脂が挙げられる。
(G4)としては、高級脂肪酸(上記のもの)の低級(C1〜4)アルコールエステル(例えばステアリン酸ブチル)、脂肪酸(C2〜18)の多価(2価〜4価またはそれ以上)アルコールエステル(例えば硬化ヒマシ油)、脂肪酸(C2〜18)のグリコール(C2〜8)エステル(例えばエチレングリコールモノステアレート)および流動パラフィンが挙げられる。
(G3) includes aromatic carboxylic acid esters [for example, phthalic acid esters (for example, dioctyl phthalate and dibutyl phthalate)], aliphatic monocarboxylic acid esters [for example, methyl acetyl ricinoleate and triethylene glycol dibenzoate], aliphatic dicarboxylic acids Esters [eg di (2-ethylhexyl) adipate and adipic acid-propylene glycol based polyesters (Mn 200-2000)], aliphatic tricarboxylic esters [eg citrate esters (eg triethyl citrate)], phosphate triesters [eg tri Phenyl phosphate] and petroleum resins.
(G4) includes lower (C1-4) alcohol esters of higher fatty acids (above) (for example, butyl stearate), polyvalent (divalent to tetravalent or higher) alcohol esters of fatty acids (C2-18) (E.g. hydrogenated castor oil), glycol (C2-8) esters of fatty acids (C2-18) (e.g. ethylene glycol monostearate) and liquid paraffin.

(G5)としては、フェノール系〔例えば単環フェノール[例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールおよびブチル化ヒドロキシアニソール]、ビスフェノール[例えば2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノールおよび4,4’−チオビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノール]および多環フェノール[例えば1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンおよび1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン]〕;硫黄系〔例えばジラウリル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリルβ,β’−チオジブチレートおよびジラウリルサルファイド〕;リン系〔例えばトリフェニルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトおよびジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト〕;およびアミン系〔例えばオクチル化ジフェニルアミン、N−n−ブチル−p−アミノフェノール、N,N−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンおよびフェノチアジン〕が挙げられる。   (G5) may be phenol-based [eg monocyclic phenol [eg 2,6-di-t-butyl-p-cresol and butylated hydroxyanisole], bisphenol [eg 2,2′-methylenebis (4-methyl-6 -T-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl) -6-t-butylphenol and 4,4'-thiobis (3-methyl) -6-t-butylphenol] and polycyclic phenols [eg 1, 3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene and 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-t -Butylphenyl) butane]]; sulfur-based [eg dilauryl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate Lauryl stearyl 3,3′-thiodipropionate, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl β, β′-thiodibutyrate and dilauryl sulfide]; phosphorus systems [eg triphenyl phosphite, tri Isodecyl phosphite, diphenyl isodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl Phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-tert-butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (octadecyl phosphite), cyclic neopentanetetrayl bis (2 , 6-Di-tert-butyl-4-methylphenol Nyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite and diisodecylpentaerythritol diphosphite]; and amine systems [eg octylated diphenylamine, Nn-butyl- p-aminophenol, N, N-diisopropyl-p-phenylenediamine, N, N-bis (1-ethyl-3-methylpentyl) -p-phenylenediamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine, N- Phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine and phenothiazine].

(G6)としては、有機難燃剤〔例えば含窒素系[例えば尿素化合物、グアニジン化合物およびトリアジン化合物(例えばメラミンおよびグアナミン)の塩(例えば無機酸(前
記のもの)塩、シアヌール酸塩およびイソシアヌール酸塩)]、含硫黄系〔例えば硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの塩、エステルおよびアミド〕、含珪素系(例えばポリオルガノシロキサン)および含リン系[例えばリン酸エステル(例えばトリクレジルホスフェート)]〕および無機難燃剤〔例えば三酸化アンチモン、水酸化マグネシウム、ホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、水酸化アルミニウム、赤リンおよびポリリン酸アンモニム〕が挙げられる。
(G6) includes organic flame retardants [for example, nitrogen-containing [for example, urea compounds, guanidine compounds, and triazine compounds (for example, melamine and guanamine) salts (for example, inorganic acid (the foregoing) salts), cyanurate and isocyanuric acid] Salt)], sulfur-containing systems [for example, sulfates, organic sulfonic acids, sulfamic acids, organic sulfamic acids, and salts, esters and amides thereof], silicon-containing systems (for example, polyorganosiloxane) and phosphorus-containing systems [for example, phosphoric acid Esters (for example tricresyl phosphate)]] and inorganic flame retardants [for example antimony trioxide, magnesium hydroxide, zinc borate, barium metaborate, aluminum hydroxide, red phosphorus and ammonium polyphosphate].

(G7)としては、ベンゾトリアゾール系[例えば2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール]、ベンゾフェノン系[例えば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンおよび2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン]、サリチレート系[例えばフェニルサリチレートおよびエチレングリコールモノサリチレート]およびアクリレート系[例えば2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’1−ジフェニルアクリレート]が挙げられる。   (G7) includes benzotriazole-based [eg, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole], benzophenone-based [ For example 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone], salicylate systems [eg phenyl salicylate and ethylene glycol monosalicylate] and acrylate systems [eg 2-ethylhexyl-2- Cyano-3,3′1-diphenyl acrylate].

(G8)としては、安息香酸、パラオキシ安息香酸エステル、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール(例えば2,4,6−トリブロモフェノールナトリウム塩)、有機ヨウ素(例えば4−クロロフェニル−3−ヨードプロパギルホルマール)、ニトリル(例えば2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリル)、チオシアノ(例えばメチレンビスチアノシアネート)、N−ハロアルキルチオイミド(例えばN−テトラクロロエチル−チオ−テトラヒドロフタルイミド)、銅剤(例えば8−オキシキノリン銅)、ベンズイミダゾール(例えば2−4−チアゾリルベンズイミダゾール)、ベンゾチアゾール(例えば2−チオシアノメチルチオベンゾチアゾール)、トリハロアリル(例えば3−ブロモ−2,3−ジヨード−2−プロペニルエチルカルボナート)、トリアゾール(例えばアザコナゾール)、有機窒素硫黄化合物(例えばスラオフ39)、4級アンモニウム化合物(例えばトリメトキシシリル−プロピルオクタデシルアンモニウムクロライド)およびピリジン系化合物[例えば2,3,5,6−チトクロロ−4−(メチルスルホニル)−ピリジン]が挙げられる。   (G8) includes benzoic acid, paraoxybenzoic acid ester, sorbic acid, halogenated phenol (for example, 2,4,6-tribromophenol sodium salt), organic iodine (for example, 4-chlorophenyl-3-iodopropargyl formal) , Nitriles (eg 2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile), thiocyano (eg methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimides (eg N-tetrachloroethyl-thio-tetrahydrophthalimide), copper agents (eg 8-oxyquinoline copper), benzimidazole (eg 2-4-thiazolylbenzimidazole), benzothiazole (eg 2-thiocyanomethylthiobenzothiazole), trihaloallyl (eg 3-bromo-2,3-diiodo-2-yl) Propenyl ethyl Sulfonates), triazoles (eg azaconazole), organic nitrogen sulfur compounds (eg Suraoff 39), quaternary ammonium compounds (eg trimethoxysilyl-propyloctadecyl ammonium chloride) and pyridine-based compounds [eg 2,3,5,6-cytochloro- 4- (methylsulfonyl) -pyridine].

(G)の使用量は、(A)、(B)、(C)、(D)の合計重量に基づいて、(G1)、(G2)および(G4)はそれぞれ通常10%以下、好ましくは1〜10%;(G3)および(G6)はそれぞれ通常20%以下、好ましくは1〜10%;(G5)および(G7)は通常5%以下、好ましくは0.1〜3%;(G8)は通常3%以下、好ましくは0.05〜1%である。   The amount of (G) used is usually 10% or less for each of (G1), (G2) and (G4) based on the total weight of (A), (B), (C) and (D), preferably 1 to 10%; (G3) and (G6) are each usually 20% or less, preferably 1 to 10%; (G5) and (G7) are usually 5% or less, preferably 0.1 to 3%; (G8 ) Is usually 3% or less, preferably 0.05 to 1%.

本発明の樹脂組成物は、(A)、(B)、(C)、(D)並びに必要に応じて(E)、(F)および/または(G)とを溶融混合することにより得られる。溶融混合する方法としては、一般的にはペレット状または粉体状の成分を適切な混合機、例えばヘンシェルミキサー等で混合した後、押出機で溶融混合してペレット化する方法が適用できる。
溶融混合時の各成分の添加順序には特に限定はないが、例えば、(1)(A)、(B)を混合し、その後(C)を溶融混合してから、(D)、(E)、(F)および/または(G)を一括して溶融混合する方法、(2)(A)、(B)を混合し、その後(C)を溶融混合してから、(D)の一部を予め溶融混合して(A)、(B)、(C)の高濃度組成物(マスターバッチ樹脂組成物)を作成し、その後、残りの(D)並びに必要に応じて(E)、(F)および/または(G)を溶融混合する方法、が挙げられる。
(2)の方法におけるマスターバッチ樹脂組成物中の(C)の濃度は好ましくは40〜80重量%、さらに好ましくは50〜70重量%である。
これらのうち(2)の方法は、マスターバッチ法またはマスターペレット法と呼ばれる方法で、(A)、(B)、(C)の(D)への効率的な分散の観点から好ましい方法である。
The resin composition of the present invention is obtained by melt-mixing (A), (B), (C), (D) and, if necessary, (E), (F) and / or (G). . As a method of melt mixing, generally, a method in which pellets or powdery components are mixed with an appropriate mixer such as a Henschel mixer, and then melt mixed with an extruder to be pelletized can be applied.
The order of addition of each component during melt mixing is not particularly limited. For example, (1) (A) and (B) are mixed, (C) is then melt mixed, and then (D) and (E ), (F) and / or (G), and (2) (A) and (B) are mixed, then (C) is melt-mixed and then (D) is mixed. Parts are melt-mixed in advance to prepare a high concentration composition (masterbatch resin composition) of (A), (B), (C), and then the remaining (D) as well as (E) as necessary, A method of melt-mixing (F) and / or (G).
The concentration of (C) in the masterbatch resin composition in the method (2) is preferably 40 to 80% by weight, more preferably 50 to 70% by weight.
Among these, the method (2) is a method called a master batch method or a master pellet method, and is a preferable method from the viewpoint of efficient dispersion of (A), (B), and (C) into (D). .

本発明の成形品は、上記帯電防止性樹脂組成物を成形して得られる。該成形方法としては、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、フィルム成形(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)、発泡成形等が挙げられ、目的に応じて任意の方法で成形できる。   The molded product of the present invention can be obtained by molding the antistatic resin composition. Examples of the molding method include injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding, film molding (cast method, tenter method, inflation method, etc.), foam molding, etc. Depending on the method, it can be formed by any method.

本発明の成形品の体積固有抵抗値(Ω・cm)は、成形品の機械物性および帯電防止性の観点から好ましくは1×102〜1×109、さらに好ましくは1×103〜1×107、とくに好ましくは1×104〜1×106である。 The volume resistivity (Ω · cm) of the molded product of the present invention is preferably 1 × 10 2 to 1 × 10 9 , more preferably 1 × 10 3 to 1 from the viewpoint of mechanical properties and antistatic properties of the molded product. × 10 7 , particularly preferably 1 × 10 4 to 1 × 10 6 .

上記成形品は、優れた機械特性、耐熱性および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有する。
該成形品を塗装する方法としては、エアスプレー法、エアレススプレー法、静電スプレー法、浸漬法、ローラー法、刷毛塗り法等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。塗料としては、ポリエステルメラミン、エポキシメラミン、アクリルメラミンおよびアクリルウレタン樹脂塗料等の種々の塗料が挙げられる。
塗装膜厚(乾燥後膜厚)は、目的に応じて適宜選択することができるが塗膜物性の観点から好ましくは10〜50μm、さらに好ましくは15〜40μmである。
また、該成形品に印刷する方法としては、種々の印刷法、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷およびオフセット印刷が挙げられる。
印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるものが挙げられる。
The molded article has excellent mechanical properties, heat resistance, and permanent antistatic properties, as well as good paintability and printability.
Examples of the method for coating the molded product include, but are not limited to, an air spray method, an airless spray method, an electrostatic spray method, a dipping method, a roller method, and a brush coating method. Examples of the paint include various paints such as polyester melamine, epoxy melamine, acrylic melamine, and acrylic urethane resin paint.
The coating film thickness (film thickness after drying) can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 10 to 50 μm, more preferably 15 to 40 μm from the viewpoint of physical properties of the coating film.
Examples of the method for printing on the molded product include various printing methods such as gravure printing, flexographic printing, screen printing, and offset printing.
Examples of the printing ink include those usually used for plastic printing.

以下実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の部は重量部。%は重量%を表す。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the part in an Example is a weight part. % Represents% by weight.

実施例1
単層カーボンナノチューブ(A−1)[商品名「S−SWNT」、NTP(Shent
en Nanotech Port Co.)(株)製、直径10nm、アスペクト比500]10部と1−エチル−3−メチルイミダゾリウムテトラフルオロボレート(B−1)
90部を配合し、乳鉢で30分間25℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
次に、ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム83.5部、テレフタル酸16.5部、酸化防止剤[商品名「イルガノックス1010」、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製、以下同じ。]0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価112、Mn1,000のポリアミド96部を得た。
次に、Mn2,000のビスフェノールAのEO付加物192部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、ポリエーテルエステルアミド(C1−1)を得た。(C1−1)の体積固有抵抗値は2×108Ω・
cmであった。
ステンレス製オートクレーブに(C1−1)80部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、230℃で加熱撹拌した。前記(A−1)と(B−1)の混合物20部を添加混合し、230℃で1時間溶融撹拌後、得られた混合物をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X1)を得た。
Example 1
Single-walled carbon nanotube (A-1) [trade name “S-SWNT”, NTP (Shent
en Nanotech Port Co. ) Manufactured by Co., Ltd., diameter 10 nm, aspect ratio 500] 10 parts and 1-ethyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate (B-1)
90 parts were blended and mixed in a mortar for 30 minutes at 25 ° C. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Next, in a stainless steel autoclave, 83.5 parts of ε-caprolactam, 16.5 parts of terephthalic acid, an antioxidant [trade name “Irganox 1010”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., and so on. ] 0.3 parts and 6 parts of water were charged, the inside of the autoclave was purged with nitrogen, then heated and stirred at 220 ° C. under pressure (0.3 to 0.5 MPa) for 4 hours, and an acid having carboxyl groups at both ends. 96 parts of polyamide having a value of 112 and Mn of 1,000 were obtained.
Next, 192 parts of an EO adduct of bisphenol A with Mn of 2,000 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain a polyether ester amide (C1-1). Got. The volume resistivity value of (C1-1) is 2 × 10 8 Ω ·
cm.
A stainless steel autoclave was charged with 80 parts of (C1-1), and the interior of the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 230 ° C. 20 parts of the mixture of (A-1) and (B-1) was added and mixed, and after melting and stirring at 230 ° C. for 1 hour, the resulting mixture was taken out as a strand on a belt and pelletized to prevent charging. Agent (X1) was obtained.

実施例2
(A−1)50部と(B−1)50部を配合し、乳鉢で30分間25℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
次に、ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム67部、テレフタル酸33部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価224、Mn500のポリアミド96部を得た。
次に、Mn500のビスフェノールAのEO付加物96部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、ポリエーテルエステルアミド(C1−2)を得た。(C1−2)の体積固有抵抗値は1×1012Ω・cmであった。
ステンレス製オートクレーブに(C1−2)98部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、230℃で加熱撹拌した。前記(A−1)と(B−1)の混合物2部を添加混合し、230℃で1時間溶融撹拌後、得られた混合物をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X2)を得た。
Example 2
50 parts of (A-1) and 50 parts of (B-1) were blended and mixed at 25 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Next, 67 parts of ε-caprolactam, 33 parts of terephthalic acid, 0.3 part of antioxidant and 6 parts of water were charged into a stainless steel autoclave, and the interior of the autoclave was purged with nitrogen and then pressurized at 220 ° C. (0.3 to 0.5 MPa) Under sealing, the mixture was heated and stirred for 4 hours to obtain 96 parts of polyamide having an acid value of 224 and Mn500 having carboxyl groups at both ends.
Next, 96 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn500 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain a polyether ester amide (C1-2). It was. The volume resistivity value of (C1-2) was 1 × 10 12 Ω · cm.
A stainless steel autoclave was charged with 98 parts of (C1-2), and the atmosphere in the autoclave was replaced with nitrogen, followed by heating and stirring at 230 ° C. 2 parts of the mixture of (A-1) and (B-1) was added and mixed, and after melting and stirring at 230 ° C. for 1 hour, the resulting mixture was taken out as a strand on a belt and pelletized. Agent (X2) was obtained.

実施例3
(A−1)20部と(B−1)40部を配合し、乳鉢で30分間25℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
次に、ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム50部、テレフタル酸50部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価560、Mn200のポリアミド96部を得た。
次に、Mn300のビスフェノールAのEO付加物64部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、ポリエーテルエステルアミド(C1−3)を得た。(C1−3)の体積固有抵抗値は1×1011Ω・cmであった。
ステンレス製オートクレーブに(C1−3)40部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、230℃で加熱撹拌した。前記(A−1)と(B−1)の混合物60部を添加混合し、230℃で1時間溶融撹拌後、得られた混合物をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X3)を得た。
Example 3
20 parts of (A-1) and 40 parts of (B-1) were blended and mixed at 25 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Next, 50 parts of ε-caprolactam, 50 parts of terephthalic acid, 0.3 part of an antioxidant and 6 parts of water were charged into a stainless steel autoclave, and the autoclave was purged with nitrogen and pressurized at 220 ° C. (0.3 to 0.5 MPa) Under sealing, the mixture was heated and stirred for 4 hours to obtain 96 parts of polyamide having an acid value of 560 and Mn200 having carboxyl groups at both ends.
Next, 64 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn300 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain a polyether ester amide (C1-3). It was. The volume resistivity value of (C1-3) was 1 × 10 11 Ω · cm.
A stainless steel autoclave was charged with 40 parts of (C1-3), the inside of the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 230 ° C. 60 parts of the mixture of (A-1) and (B-1) was added and mixed, and after melting and stirring at 230 ° C. for 1 hour, the resulting mixture was taken out as a strand on a belt and pelletized to prevent charging. Agent (X3) was obtained.

実施例4
(A−1)15部と(B−1)35部を配合し、乳鉢で30分間25℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
次に、ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム94部、テレフタル酸6部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価37、Mn3,000のポリアミド96部を得た。
次に、Mn4,000のビスフェノールAのEO付加物72部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、ポリエーテルエステルアミド(C1−4)を得た。(C1−4)の体積固有抵抗値は5×106Ω・cmであった。
ステンレス製オートクレーブに(C1−4)50部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、230℃で加熱撹拌した。前記(A−1)と(B−1)の混合物50部を添加混合し、230℃で1時間溶融撹拌後、得られた混合物をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X4)を得た。
Example 4
15 parts of (A-1) and 35 parts of (B-1) were blended and mixed at 25 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Next, 94 parts of ε-caprolactam, 6 parts of terephthalic acid, 0.3 part of antioxidant and 6 parts of water were charged into a stainless steel autoclave, and the inside of the autoclave was purged with nitrogen, and then pressurized at 220 ° C. (0.3 to 0.5 MPa) Under sealing, the mixture was heated and stirred for 4 hours to obtain 96 parts of polyamide having an acid value of 37 and Mn of 3,000 having carboxyl groups at both ends.
Next, 72 parts of EO adduct of bisphenol A of Mn 4,000 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain polyetheresteramide (C1-4). Got. The volume resistivity value of (C1-4) was 5 × 10 6 Ω · cm.
A stainless steel autoclave was charged with 50 parts of (C1-4), and the interior of the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 230 ° C. Add 50 parts of the mixture of (A-1) and (B-1), mix and stir at 230 ° C. for 1 hour, take out the resulting mixture in the form of a strand on a belt and pelletize it to prevent charging Agent (X4) was obtained.

実施例5
(A−1)10部と(B−1)90部を配合し、乳鉢で30分間25℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
次に、ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム96部、テレフタル酸4部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価22、Mn5,000のポリアミド96部を得た。
次に、Mn5,000のビスフェノールAのEO付加物96部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、ポリエーテルエステルアミド(C1−5)を得た。(C1−5)の体積固有抵抗値は1×106Ω・cmであった。
ステンレス製オートクレーブに(C1−5)80部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、230℃で加熱撹拌した。前記(A−1)と(B−1)の混合物20部を添加混合し、230℃で1時間溶融撹拌後、得られた混合物をベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X5)を得た。
Example 5
10 parts of (A-1) and 90 parts of (B-1) were blended and mixed at 25 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Next, 96 parts of ε-caprolactam, 4 parts of terephthalic acid, 0.3 part of antioxidant and 6 parts of water were charged into a stainless steel autoclave, and the inside of the autoclave was purged with nitrogen, and then pressurized at 220 ° C. (0.3 to 0.5 MPa) Under sealing, the mixture was heated and stirred for 4 hours to obtain 96 parts of polyamide having an acid value of 22 and Mn of 5,000 having carboxyl groups at both ends.
Next, 96 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn 5,000 and 0.5 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 245 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain a polyether ester amide (C1-5). Got. The volume resistivity value of (C1-5) was 1 × 10 6 Ω · cm.
A stainless steel autoclave was charged with 80 parts of (C1-5), and the interior of the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 230 ° C. 20 parts of the mixture of (A-1) and (B-1) was added and mixed. After melting and stirring at 230 ° C. for 1 hour, the resulting mixture was taken out as a strand on a belt and pelletized. Agent (X5) was obtained.

実施例6
実施例1において、(A−1)に代えて多層カーボンナノチューブ(A−2)[商品名「MWNT−A−P」、サンナノテック(株)製]、直径1nm、アスペクト比500]を用いたこと以外は実施例1と同様にして、帯電防止剤(X6)を得た。
Example 6
In Example 1, instead of (A-1), a multi-walled carbon nanotube (A-2) [trade name “MWNT-AP”, manufactured by Sun Nanotech Co., Ltd.], diameter 1 nm, aspect ratio 500] was used. Except that, an antistatic agent (X6) was obtained in the same manner as in Example 1.

実施例7
実施例1において(A−1)10部と(B−1)90部を配合することに代えて(A−1)50部と(B−1)50部を配合したこと以外は実施例1と同様にして、帯電防止剤(X7)を得た。
Example 7
Example 1 except that 50 parts of (A-1) and 50 parts of (B-1) were blended instead of blending 10 parts of (A-1) and 90 parts of (B-1) in Example 1. In the same manner as above, an antistatic agent (X7) was obtained.

実施例8
実施例1において(B−1)に代えてイミダゾールトリフルオロメタンスルホナート(B−2)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、帯電防止剤(X8)を得た。
Example 8
An antistatic agent (X8) was obtained in the same manner as in Example 1 except that imidazole trifluoromethanesulfonate (B-2) was used instead of (B-1) in Example 1.

実施例9
(A−1)10部と(B−1)90部を混合し、乳鉢で30分間50℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn2,500、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量10.5個、1分子当たりの二重結合の平均数1.9個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量95%)85部と無水マレイン酸15部を仕込み、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、200℃で溶融し、200℃、20時間反応させた。
その後、過剰の無水マレイン酸を減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(c21−1)を得た。(c21−1)は、酸価39.8、Mn2,800であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(c21−1)50部、ポリエチレングリコール(c22−1)(Mn2,800、体積固有抵抗値1×107Ω・cm)50部、酸化
防止剤0.3部および酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で3時間重合させ、粘稠なポリマー(C2−1)を得た。(C2−1)のMnは22,000、該Mnと1H−NMR分析より求めた平均繰り返し数(Nn)は3.9で
あった。(C2−1)の体積固有抵抗値は5×108Ω・cmであった。
該(C2−1)80部をステンレス製オートクレーブに仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、200℃で加熱撹拌し、上記(A−1)と(B−1)の混合物20部を添加混合し、200℃で1時間溶融撹拌後、得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X9)を得た。
Example 9
10 parts of (A-1) and 90 parts of (B-1) were mixed and mixed at 50 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Low molecular weight polypropylene (Mn 2,500, density 0.89, 10.5 double bonds per 1,000 C, average double bonds per molecule) obtained by a stainless steel autoclave 1.9 parts, content of polyolefin which can be modified at both ends (95%) and 85 parts of maleic anhydride and 15 parts of maleic anhydride were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed) and reacted at 200 ° C. for 20 hours. I let you.
Thereafter, excess maleic anhydride was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (c21-1). (C21-1) had an acid value of 39.8 and Mn of 2,800.
Next, in a stainless steel autoclave, 50 parts of (c21-1), 50 parts of polyethylene glycol (c22-1) (Mn2,800, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm), 0.3 parts of antioxidant Then, 0.5 part of zirconyl acetate was charged and polymerized at 230 ° C. under a reduced pressure of 0.13 kPa or less for 3 hours to obtain a viscous polymer (C2-1). Mn of (C2-1) was 22,000, and the average number of repetitions (Nn) determined from the Mn and 1 H-NMR analysis was 3.9. The volume resistivity value of (C2-1) was 5 × 10 8 Ω · cm.
80 parts of (C2-1) was charged into a stainless steel autoclave, the inside of the autoclave was purged with nitrogen, and heated and stirred at 200 ° C., and 20 parts of the mixture of (A-1) and (B-1) was added and mixed. After melting and stirring at 200 ° C. for 1 hour, the obtained polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain an antistatic agent (X9).

実施例10
(A−1)15部と(B−1)35部を配合し、乳鉢で30分間25℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn3,400、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量7.0個、1分子当たりの二重結合の平均数1.8個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量90%)90部と無水マレイン酸10部とを、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、200℃で溶融し、200℃、20時間反応させた。
その後、過剰の無水マレイン酸を減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(c21−2)を得た。(c21−2)は、酸価27.5、Mn3,600であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(c21−2)97部とエタノールアミン5部を窒素ガス雰囲気下、180℃で溶融し、180℃、2時間反応させた。その後、過剰のエタノールアミンを減圧下、180℃、2時間で留去して、水酸基を有する変性ポリプロピレン(b21−3)を得た。(b21−3)の水酸基価は26.7、アミン価は0.01、Mnは3,700であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、ポリエチレングリコール(c22−2)(Mn3,200、体積固有抵抗値1×107Ω・cm)とMDIを反応させて得られたイソシ
アネート変性ポリエチレングリコール(c22−3)(NCO含量3.0%、体積固有抵抗値1×107Ω・cm)43部と、水酸基を有する変性ポリプロピレン(c21−3)
57部とを2軸押出機にて、200℃、滞留時間30秒で混練し、これをストランド状に取り出し、ペレット化することにより粘稠なポリマー(C2−2)を得た。(C2−2)の体積固有抵抗値は4×108Ω・cmであった。
該(C2−1)80部をステンレス製オートクレーブに仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、200℃で加熱撹拌し、上記(A−1)と(B−1)の混合物20部を添加混合し、200℃で1時間溶融撹拌後、得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X10)を得た。
Example 10
15 parts of (A-1) and 35 parts of (B-1) were blended and mixed at 25 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Low molecular weight polypropylene obtained by a thermal degradation method (Mn 3,400, density 0.89, 7.0 double bonds per 1,000 C, average of double bonds per molecule, and stainless steel autoclave) 1.8 parts, 90 parts of polyolefin capable of modifying both ends) and 10 parts of maleic anhydride were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed) and reacted at 200 ° C. for 20 hours. I let you.
Then, excess maleic anhydride was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (c21-2). (C21-2) had an acid value of 27.5 and Mn3,600.
Next, 97 parts of (c21-2) and 5 parts of ethanolamine were melted at 180 ° C. in a nitrogen gas atmosphere in a stainless steel autoclave and reacted at 180 ° C. for 2 hours. Then, excess ethanolamine was distilled off under reduced pressure at 180 ° C. for 2 hours to obtain a modified polypropylene (b21-3) having a hydroxyl group. (B21-3) had a hydroxyl value of 26.7, an amine value of 0.01, and Mn of 3,700.
Next, an isocyanate-modified polyethylene glycol (c22-3) obtained by reacting polyethylene glycol (c22-2) (Mn3,200, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm) with MDI in a stainless steel autoclave. 43 parts (NCO content 3.0%, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm) and modified polypropylene (c21-3) having a hydroxyl group
57 parts were kneaded with a twin-screw extruder at 200 ° C. for a residence time of 30 seconds, taken out into a strand shape, and pelletized to obtain a viscous polymer (C2-2). The volume resistivity value of (C2-2) was 4 × 10 8 Ω · cm.
80 parts of the (C2-1) was charged into a stainless steel autoclave, the inside of the autoclave was purged with nitrogen, heated and stirred at 200 ° C., and 20 parts of the mixture of the above (A-1) and (B-1) was added and mixed. After melting and stirring at 200 ° C. for 1 hour, the obtained polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain an antistatic agent (X10).

実施例11
実施例9において、(c22−1)に代えてポリエーテルジアミン(c22−4)(Mn2,800、体積固有抵抗値2×107Ω・cm)を用いたこと以外は実施例9と同様にして、粘稠なポリマー(C2−3)を得た。(C2−3)のMnは20,000、該Mnと1H−NMR分析より求めた平均繰り返し数(Nn)は3.6であった。(C2−3)の体積固有抵抗値は1×107Ω・cmであった。さらに実施例9と同様にして、帯電防止剤(X11)を得た。
Example 11
In Example 9, the same procedure as in Example 9 was used except that polyether diamine (c22-4) (Mn 2,800, volume resistivity 2 × 10 7 Ω · cm) was used instead of (c22-1). Thus, a viscous polymer (C2-3) was obtained. Mn of (C2-3) was 20,000, and the average number of repetitions (Nn) obtained from the Mn and 1 H-NMR analysis was 3.6. The volume resistivity value of (C2-3) was 1 × 10 7 Ω · cm. Further, in the same manner as in Example 9, an antistatic agent (X11) was obtained.

実施例12
(A−1)50部と(B−1)50部を配合し、乳鉢で30分間25℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn19,000、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量6.8個、1分子当たりの二重結合の平均数1.7個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量90%)250部と無水マレイン酸10部とを、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、220℃で溶融し、220℃、29時間反応させた。
その後、過剰の無水マレイン酸を減圧下、220℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(c21−4)を得た。(c21−4)は、酸価5.5、Mn19,200であった。
次に、酸変性ポリプロピレン(c21−4)135部とビス(2−アミノエチル)エーテル10部を窒素ガス雰囲気下、撹拌下、200℃で溶融し、200℃、2時間反応させた。その後、過剰のビス(2−アミノエチル)エーテルを減圧下、200℃、2時間で留去して、両末端にアミノ基を有する変性ポリプロピレン(c21−5)を得た。(c21−5)のアミン価は5.8、Mnは19,400であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(c21−5)50部、ポリエチレングリコール(c22−5)(Mn20,000、体積固有抵抗値1×108Ω・cm)40部、ド
デカン二酸5.2部、酸化防止剤0.3部および酢酸亜鉛0.5部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で15時間重合させ、粘稠なポリマー(C2−4)を得た。(C2−4)の体積固有抵抗値は1×1010Ω・cmであった。
該(C2−4)96部をステンレス製オートクレーブに仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、200℃で加熱撹拌し、上記(A−1)と(B−1)の混合物4部を添加混合し、200℃で1時間溶融撹拌後、得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X12)を得た。
Example 12
50 parts of (A-1) and 50 parts of (B-1) were blended and mixed at 25 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Low molecular weight polypropylene (Mn 19,000, density 0.89, average number of double bonds per 1,000 C, 1,000 double bonds per molecule) obtained by a stainless steel autoclave 1.7 parts, content of polyolefin which can be modified at both ends (90%) 250 parts and maleic anhydride 10 parts were melted at 220 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed) and reacted at 220 ° C. for 29 hours. I let you.
Thereafter, excess maleic anhydride was distilled off under reduced pressure at 220 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (c21-4). (C21-4) had an acid value of 5.5 and Mn of 19,200.
Next, 135 parts of acid-modified polypropylene (c21-4) and 10 parts of bis (2-aminoethyl) ether were melted at 200 ° C. under stirring in a nitrogen gas atmosphere and reacted at 200 ° C. for 2 hours. Thereafter, excess bis (2-aminoethyl) ether was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 2 hours to obtain a modified polypropylene (c21-5) having amino groups at both ends. The amine value of (c21-5) was 5.8, and Mn was 19,400.
Next, in a stainless steel autoclave, 50 parts of (c21-5), 40 parts of polyethylene glycol (c22-5) (Mn 20,000, volume resistivity 1 × 10 8 Ω · cm), 5.2 parts of dodecanedioic acid Then, 0.3 part of an antioxidant and 0.5 part of zinc acetate were charged and polymerized at 230 ° C. under a reduced pressure of 0.13 kPa or less for 15 hours to obtain a viscous polymer (C2-4). The volume resistivity value of (C2-4) was 1 × 10 10 Ω · cm.
96 parts of the (C2-4) were charged into a stainless steel autoclave, the inside of the autoclave was purged with nitrogen, heated and stirred at 200 ° C., and 4 parts of the mixture of the above (A-1) and (B-1) were added and mixed. After melting and stirring at 200 ° C. for 1 hour, the obtained polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain an antistatic agent (X12).

実施例13
(A−1)10部と(B−1)90部を混合し、乳鉢で30分間50℃で混合した。(A−1)と(B−1)の混合物がペースト状になったことを確認した。
次にポリエーテルエステルアミド(C1−1)40部と、粘稠なポリマー(C2−1)40部をステンレス製オートクレーブに仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、200℃で加熱撹拌し、上記(A−1)と(B−1)の混合物20部を添加混合し、200℃で1時間溶融撹拌後、得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって帯電防止剤(X13)を得た。
Example 13
10 parts of (A-1) and 90 parts of (B-1) were mixed and mixed at 50 ° C. for 30 minutes in a mortar. It was confirmed that the mixture of (A-1) and (B-1) became a paste.
Next, 40 parts of polyetheresteramide (C1-1) and 40 parts of a viscous polymer (C2-1) were charged into a stainless steel autoclave, and the interior of the autoclave was purged with nitrogen, followed by heating and stirring at 200 ° C. -1) and 20 parts of a mixture of (B-1) were added and mixed, and after melting and stirring at 200 ° C. for 1 hour, the resulting polymer was taken out in a strand form on a belt and pelletized to give an antistatic agent (X13 )

比較例1
実施例1において、(A−1)に代えて、カーボンナノチューブとは異なる炭素材料で
あるケッチェンブラック(比A−1)[商品名「EC300J」、ライオン(株)製、アス
ペクト比1]を用いたこと以外は実施例1と同様にして、帯電防止剤(比X1)を得た。
Comparative Example 1
In Example 1, in place of (A-1), Ketjen Black (ratio A-1) [trade name “EC300J”, manufactured by Lion Corporation, aspect ratio 1], which is a carbon material different from carbon nanotubes, is used. An antistatic agent (ratio X1) was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was used.

比較例2
実施例1において、(A−1)を用いないこと以外は実施例1と同様にして、帯電防止剤(比X2)を得た。
Comparative Example 2
In Example 1, an antistatic agent (ratio X2) was obtained in the same manner as in Example 1 except that (A-1) was not used.

比較例3
実施例1において、(B−1)に代えて1−ヘプタン−スルホン酸(比B−1)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、帯電防止剤(比X3)を得た。
Comparative Example 3
In Example 1, an antistatic agent (ratio X3) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1-heptane-sulfonic acid (ratio B-1) was used instead of (B-1).

比較例4
実施例1において、(B−1)を用いないこと以外は実施例1と同様にして、帯電防止剤(比X4)を得た。
Comparative Example 4
In Example 1, an antistatic agent (ratio X4) was obtained in the same manner as in Example 1 except that (B-1) was not used.

比較例5
カーボンナノチューブ(A−1)10部と(B−1)90部を混合し、乳鉢で30分間混合し、ペースト状の混合物(帯電防止剤)(比X5)を得た。
Comparative Example 5
10 parts of carbon nanotubes (A-1) and 90 parts of (B-1) were mixed and mixed in a mortar for 30 minutes to obtain a paste-like mixture (antistatic agent) (ratio X5).

比較例6
実施例9において、(A−1)に代えて、(比A−1)を用いたこと以外は実施例5と同様にして、帯電防止剤(比X6)を得た。
Comparative Example 6
In Example 9, an antistatic agent (Ratio X6) was obtained in the same manner as in Example 5 except that (Ratio A-1) was used instead of (A-1).

比較例7
実施例9において、(A−1)を用いないこと以外は実施例9と同様にして、帯電防止剤(比X7)を得た。
Comparative Example 7
In Example 9, an antistatic agent (ratio X7) was obtained in the same manner as in Example 9 except that (A-1) was not used.

実施例14〜28、比較例8〜15
表1に示す配合組成に従って、(X1)〜(X13)または(比X1)〜(比X7)と熱可塑性樹脂(D−1)または(D−2)とを、場合により帯電防止性向上剤(E−1)、相溶化剤(F−1)と共に、ヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、220℃、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練して、それぞれ樹脂組成物(実施例14〜28および比較例8〜15)を得た。
Examples 14 to 28, Comparative Examples 8 to 15
According to the blending composition shown in Table 1, (X1) to (X13) or (Ratio X1) to (Ratio X7) and the thermoplastic resin (D-1) or (D-2) are optionally added to an antistatic property improving agent. (E-1) After blending for 3 minutes with a Henschel mixer together with the compatibilizer (F-1), the mixture is melt-kneaded in a twin-screw extruder with a vent at 220 ° C., 100 rpm, and a residence time of 5 minutes. Resin compositions (Examples 14 to 28 and Comparative Examples 8 to 15) were obtained.

Figure 2008031461
(D−1):ABS樹脂[商品名「セビアン−V320」、ダイセルポリマー(株)製]
(D−2):ポリプロピレン樹脂[商品名「サンアロマーPM771M」、サンアロマー
(株)製]
(E−1):ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
(F−1):相溶化剤[商品名「エポフレンド」、ダイセル化学(株)製、変性ビニル重
合体]
Figure 2008031461
(D-1): ABS resin [trade name “Cebian-V320”, manufactured by Daicel Polymer Co., Ltd.]
(D-2): Polypropylene resin [Brand name "Sun Allomer PM771M", Sun Allomer
Manufactured by]
(E-1): Sodium dodecylbenzenesulfonate (F-1): Compatibilizer [trade name “Epofriend”, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., modified vinyl heavy
Combined]

<性能評価>
上記樹脂組成物を用いて、それぞれ射出成形機[PS40E5ASE、日精樹脂工業(
株)製]により、金型温度50℃で成形し、試験片を各々作成し、衝撃強度、帯電防止性
、成形性の評価を行った。結果を表2に示す。
<Performance evaluation>
Using the above resin composition, injection molding machines [PS40E5ASE, Nissei Plastic Industry (
The product was molded at a mold temperature of 50 ° C. to produce test pieces, and the impact strength, antistatic property and moldability were evaluated. The results are shown in Table 2.

[1]機械特性
(1)衝撃強度
ASTM D256(ノッチ付、3.2mm厚)Method Aに準拠。
[2]帯電防止性
(1)体積固有抵抗値
試験片(100×100×2mm)について、超絶縁計[DSM−8103(平板
試料用電極SME−8310)、東亜電波工業(株)、以下同じ。]により23℃
、湿度50%RHの雰囲気下で測定した(ASTM D257に準拠)。
(2)水洗後の体積固有抵抗値
斜めに立てかけた試験片(100×100×2mm)の表面を、流量100ml
/分のイオン交換水(23℃)100mlで水洗し、その後80℃の循風乾燥機で
3時間乾燥させる。該水洗−乾燥の操作を10回繰り返した試験片について、(1
)と同様に測定した。
[3]成形性
熱可塑性樹脂単体での成形と同条件にて成形し、下記の基準で成形品の表面状態を熱可塑性樹脂単体の成形品と比較した。
○:成形品表面が熱可塑性樹脂単体の成形品と同等。
×:成形品表面が熱可塑性樹脂単体の成形品に比べ凸凹している。
[1] Mechanical properties (1) Impact strength Conforms to ASTM D256 (with notch, 3.2 mm thickness) Method A.
[2] Antistatic property (1) Volume specific resistance value For a test piece (100 × 100 × 2 mm), a superinsulator [DSM-8103 (plate sample electrode SME-8310), Toa Denpa Kogyo Co., Ltd., and so on . ] At 23 ° C
, And measured under an atmosphere of humidity 50% RH (according to ASTM D257).
(2) Volume specific resistance value after washing with water The surface of a test piece (100 × 100 × 2 mm) leaning diagonally is set at a flow rate of 100 ml.
Wash with 100 ml of ion-exchanged water (23 ° C.) per minute, and then dry for 3 hours in a circulating dryer at 80 ° C. About the test piece which repeated this washing-drying operation 10 times, (1
) And measured in the same manner.
[3] Moldability Molding was performed under the same conditions as molding with a single thermoplastic resin, and the surface condition of the molded product was compared with that of a single thermoplastic resin according to the following criteria.
○: The surface of the molded product is equivalent to a molded product of a single thermoplastic resin.
X: The surface of the molded product is uneven as compared with a molded product of a single thermoplastic resin.

Figure 2008031461
Figure 2008031461

表2から明らかなように、本発明の樹脂組成物(実施例14〜28)は、比較の樹脂組成物(比較例8〜15)に比べ、成形品の機械特性、永久帯電防止性および成形性に優れることがわかる。   As is apparent from Table 2, the resin compositions of the present invention (Examples 14 to 28) were compared with the comparative resin compositions (Comparative Examples 8 to 15) in mechanical properties, permanent antistatic properties and molding of the molded products. It turns out that it is excellent in property.

本発明の帯電防止性樹脂組成物は成形性に優れ、優れた永久帯電防止性および機械物性を有する成形品を与えることから、各種成形法[射出成形、圧縮成型、カレンダ成形、ス
ラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、発泡成形およびフィルム成形(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)等]で成形され、帯電防止性が求められる、家電・OA機器、ゲーム機器および事務機器用のハウジング製品、ICトレー等の各種プラスチック容器、各種包材用フィルム、床材用シート、人工芝、マット、並びに自動車部品等の各種成形材料として極めて有用である。
Since the antistatic resin composition of the present invention is excellent in moldability and gives a molded product having excellent permanent antistatic properties and mechanical properties, various molding methods [injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotation Molding, extrusion molding, blow molding, foam molding, film molding (casting method, tenter method, inflation method, etc.)] and housings for home appliances / OA equipment, game machines and office equipment that require antistatic properties It is extremely useful as various molding materials for products, various plastic containers such as IC trays, various packaging films, flooring sheets, artificial turf, mats, and automobile parts.

Claims (7)

カーボンナノチューブ(A)および共役二重結合を有する分散剤(B)の混合物と、1×106〜1×1012Ω・cmの体積固有抵抗値を有する親水性基含有ポリマー(C)からなることを特徴とする帯電防止剤。 A mixture of a carbon nanotube (A) and a dispersant (B) having a conjugated double bond and a hydrophilic group-containing polymer (C) having a volume resistivity of 1 × 10 6 to 1 × 10 12 Ω · cm An antistatic agent characterized by that. (C)が、下記の(C1)および(C2)からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の帯電防止剤。
(C1):数平均分子量200〜5,000のポリアミド(c11)と数平均分子量30
0〜5,000のビスフェノール化合物のアルキレンオキシド付加物(c12)
とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
(C2):ポリオレフィン(c21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物
(c22)のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結
合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰
り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
The antistatic agent according to claim 1, wherein (C) is at least one selected from the group consisting of the following (C1) and (C2).
(C1): polyamide (c11) having a number average molecular weight of 200 to 5,000 and a number average molecular weight of 30
0 to 5,000 alkylene oxide adducts of bisphenol compounds (c12)
Polyether ester amide (C2) derived from: The block of the polyolefin (c21) and the block of the polyoxyalkylene chain-containing compound (c22) are composed of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. A block polymer having a structure in which they are repeatedly bonded alternately via at least one bond selected from the group consisting of
(A)、(B)、(C)の合計重量に基づく割合が、(A)が1〜20%、(B)が1〜40%、(C)が40〜98%である請求項1または2記載の帯電防止剤。 The proportion based on the total weight of (A), (B), and (C) is 1 to 20% for (A), 1 to 40% for (B), and 40 to 98% for (C). Or the antistatic agent according to 2. 請求項1〜3のいずれか記載の帯電防止剤を熱可塑性樹脂(D)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物。 The antistatic resin composition which makes the thermoplastic resin (D) contain the antistatic agent in any one of Claims 1-3. さらに、帯電防止性向上剤、相溶化剤およびその他の樹脂用添加剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤を含有させてなる請求項4記載の組成物。 5. The composition according to claim 4, further comprising at least one additive selected from the group consisting of an antistatic property improver, a compatibilizing agent and other additives for resins. 請求項4または5記載の組成物を成形してなる成形品。 A molded article formed by molding the composition according to claim 4 or 5. 請求項6記載の成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品。 A molded article obtained by coating and / or printing the molded article according to claim 6.
JP2007173424A 2006-06-30 2007-06-29 Antistatic resin composition Pending JP2008031461A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007173424A JP2008031461A (en) 2006-06-30 2007-06-29 Antistatic resin composition

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006181109 2006-06-30
JP2007173424A JP2008031461A (en) 2006-06-30 2007-06-29 Antistatic resin composition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008031461A true JP2008031461A (en) 2008-02-14

Family

ID=39121225

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007173424A Pending JP2008031461A (en) 2006-06-30 2007-06-29 Antistatic resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008031461A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014162888A (en) * 2013-02-27 2014-09-08 Ricoh Co Ltd Resin composition, seamless belt, and image forming apparatus
JP2018104658A (en) * 2016-12-28 2018-07-05 富士ゼロックス株式会社 Resin composition and resin molded article
CN115124833A (en) * 2022-07-26 2022-09-30 南京聚隆科技股份有限公司 Permanent antistatic PA56 material and preparation method thereof

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001278985A (en) * 1999-02-10 2001-10-10 Sanyo Chem Ind Ltd Block polymer and antistatic agent from the same
JP2002097378A (en) * 2000-07-21 2002-04-02 Sanyo Chem Ind Ltd Filler-containing antistatic resin composition
JP2003238820A (en) * 2002-02-20 2003-08-27 Nidec Copal Corp Antistatic resin material for optical instrument
JP2003313724A (en) * 2002-02-22 2003-11-06 Sanyo Chem Ind Ltd Polyolefin-based nonwoven fabric
JP2004190028A (en) * 2002-11-29 2004-07-08 Sanyo Chem Ind Ltd Antistatic resin composition
JP2004217931A (en) * 2002-12-27 2004-08-05 Sanyo Chem Ind Ltd Antistatic agent and antistatic resin composition
JP2005097598A (en) * 2003-08-29 2005-04-14 Sanyo Chem Ind Ltd Antistatic resin composition

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001278985A (en) * 1999-02-10 2001-10-10 Sanyo Chem Ind Ltd Block polymer and antistatic agent from the same
JP2002097378A (en) * 2000-07-21 2002-04-02 Sanyo Chem Ind Ltd Filler-containing antistatic resin composition
JP2003238820A (en) * 2002-02-20 2003-08-27 Nidec Copal Corp Antistatic resin material for optical instrument
JP2003313724A (en) * 2002-02-22 2003-11-06 Sanyo Chem Ind Ltd Polyolefin-based nonwoven fabric
JP2004190028A (en) * 2002-11-29 2004-07-08 Sanyo Chem Ind Ltd Antistatic resin composition
JP2004217931A (en) * 2002-12-27 2004-08-05 Sanyo Chem Ind Ltd Antistatic agent and antistatic resin composition
JP2005097598A (en) * 2003-08-29 2005-04-14 Sanyo Chem Ind Ltd Antistatic resin composition

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014162888A (en) * 2013-02-27 2014-09-08 Ricoh Co Ltd Resin composition, seamless belt, and image forming apparatus
JP2018104658A (en) * 2016-12-28 2018-07-05 富士ゼロックス株式会社 Resin composition and resin molded article
CN115124833A (en) * 2022-07-26 2022-09-30 南京聚隆科技股份有限公司 Permanent antistatic PA56 material and preparation method thereof
CN115124833B (en) * 2022-07-26 2024-02-27 南京聚隆科技股份有限公司 Permanent antistatic PA56 material and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5259987B2 (en) Antistatic agent and antistatic resin composition
KR101669431B1 (en) Antistatic resin composition
JP5723532B2 (en) Antistatic agent
JP4625255B2 (en) Antistatic agent and antistatic resin composition
JP4786628B2 (en) Antistatic resin composition
JP3488163B2 (en) Block polymer and antistatic agent comprising the same
JP2012031395A (en) Antistatic agent and antistatic resin composition
JP5638251B2 (en) Antistatic agent
JP2006265540A (en) Antistatic resin composition
JP4927449B2 (en) Antistatic biodegradable resin composition
JP5356112B2 (en) Conductive or antistatic resin composition
JP5426819B2 (en) Antistatic agent
JP4451646B2 (en) Antistatic resin composition
JP2007246878A (en) Nano-dispersed inorganic filler-containing antistatic resin composition
JP4593105B2 (en) Antistatic resin composition and molded article thereof
JP4964806B2 (en) Conductive resin composition and antistatic resin composition
JP5514396B2 (en) Antistatic resin composition
JP2008031461A (en) Antistatic resin composition
US6184292B1 (en) Soft gel polymers for high temperature use
JP5340578B2 (en) Antistatic agent
JP5901893B2 (en) Conductive agent and conductive resin composition
JP4530748B2 (en) Antistatic agent and antistatic resin composition
JP2010077422A (en) Antistatic agent
JP2011153302A (en) Resin composition for molded article for packaging material
JP2006206894A (en) Antistatic agent and antistatic resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100305

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121030

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121220

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130129