JP2008248097A - Conductivity imparting agent - Google Patents

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智 小川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductivity imparting agent which imparts semi-conductivity largely surpassing conventional antistatic property without reducing moldability and mechanical properties as a conventional method of imparting conductivity to a thermoplastic resin has such drawbacks that moldability is deteriorated due to the reduction of flowability of a resin composition, a molded article becomes heavy in weight, and impact resistance is lowered, because a large amount of conductive material is necessary to be blended. <P>SOLUTION: The conductivity imparting agent is obtained by reducing a metal salt in a composition comprising the metal salt, and a polymer having a volume resistivity of 1×10<SP>6</SP>-1×10<SP>12</SP>Ωcm and at least one hydrophilic group. A semi-conductive resin composition comprises a thermoplastic resin, and the conductivity imparting agent contained in the thermoplastic resin. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電性付与剤に関する。さらに詳しくは、熱可塑性樹脂に優れた導電性を付与する導電性付与剤に関する。   The present invention relates to a conductivity imparting agent. More specifically, the present invention relates to a conductivity imparting agent that imparts excellent conductivity to a thermoplastic resin.

従来、絶縁性の高い熱可塑性樹脂に導電性を付与する方法としては、(1)カーボンや金属繊維あるいは金属粉等の導電性物質を配合する方法(例えば、特許文献1参照)、(2)窒素オニウムカチオンと含フッ素有機アニオンからなるイオン塩を帯電防止剤として熱可塑性樹脂に含有させる方法(例えば、特許文献2参照)、(3)イオン性液体を帯電防止剤として含有させた高分子固体電解質からなるもの(例えば、非特許文献1参照)等が知られている。   Conventionally, as a method for imparting conductivity to a highly insulating thermoplastic resin, (1) a method of blending a conductive material such as carbon, metal fiber, or metal powder (see, for example, Patent Document 1), (2) A method of containing an ionic salt composed of a nitrogen onium cation and a fluorine-containing organic anion as an antistatic agent in a thermoplastic resin (for example, see Patent Document 2), (3) a polymer solid containing an ionic liquid as an antistatic agent An electrolyte (for example, see Non-Patent Document 1) and the like are known.

特開平7−216224号公報JP-A-7-216224 特表2003−511505号公報Special table 2003-511505 gazette 「化学と工業」、第54巻(2001年)第3号、281〜285頁、日本化学会 出版"Chemistry and Industry", Vol. 54 (2001) No. 3, 281-285, The Chemical Society of Japan Publication

(1)の方法では、多量の導電性物質を配合する必要があることから、樹脂組成物の流動性の低下により成形性が悪化したり、成形品が重くなったり、耐衝撃性が低下するという難点があった。(2)および(3)の方法では、帯電防止性をより向上させる目的で帯電防止剤の使用量を増加させた場合は、樹脂組成物の成形性の不具合に伴う成形品外観の悪化や成形品の機械特性の低下等の問題があった。
本発明の目的は、熱可塑性樹脂の成形性および機械特性を損なうことなく、従来の帯電防止性を大幅に凌ぐ半導電性を付与する導電性付与剤を提供することにある。
In the method (1), since it is necessary to add a large amount of conductive material, the moldability is deteriorated due to the decrease in fluidity of the resin composition, the molded article becomes heavy, and the impact resistance is decreased. There was a difficulty. In the methods (2) and (3), when the use amount of the antistatic agent is increased for the purpose of further improving the antistatic property, the appearance of the molded product is deteriorated or molded due to the moldability defect of the resin composition. There were problems such as deterioration of the mechanical properties of the product.
An object of the present invention is to provide a conductivity-imparting agent that imparts semiconductivity that greatly exceeds conventional antistatic properties without impairing the moldability and mechanical properties of a thermoplastic resin.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、金属塩(A)、および1×106〜1×1012Ω・cmの体積固有抵抗値を有し、下記(B1)〜(B9)からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性基含有ポリマー(B)からなる組成物中において、さらに(A)を還元してなることを特徴とする導電性付与剤(X)である。
(B1):ポリアミド(b11)と、ビスフェノール化合物のアルキレンオキシド付加物(b12)および/またはポリオキシアルキレングリコール(b13)とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
(B2):ポリオレフィン(b21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
(B3):ポリエーテルアミドイミド
(B4):ポリエーテルエステル
(B5):エピハロヒドリン/アルキレンオキシド共重合体
(B6):アクリルアミド共重合体
(B7):エチレン/不飽和カルボン酸(塩)もしくはエチレン/(メタ)アクリレート/不飽和カルボン酸(塩)共重合体
(B8):メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート共重合体
(B9):ポリエーテル基含有エチレン/酢酸ビニル共重合体[エチレン/ビニルアルコール共重合体のエチレンオキシド付加物]
The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the present invention has a metal salt (A) and a volume resistivity of 1 × 10 6 to 1 × 10 12 Ω · cm, and at least one selected from the group consisting of the following (B1) to (B9) In the composition comprising the seed type hydrophilic group-containing polymer (B), the conductivity imparting agent (X) is characterized by further reducing (A).
(B1): Polyether ester amide (B2) derived from a polyamide (b11) and an alkylene oxide adduct (b12) of a bisphenol compound and / or a polyoxyalkylene glycol (b13): a block of a polyolefin (b21) The polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) has a structure in which the block is repeatedly and alternately bonded via at least one bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. Block polymer (B3): polyether amide imide (B4): polyether ester (B5): epihalohydrin / alkylene oxide copolymer (B6): acrylamide copolymer (B7): ethylene / unsaturated carboxylic acid (salt) or ethylene (Meth) acrylate / unsaturated carboxylic acid (salt) copolymer (B8): methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate copolymer (B9): polyether group-containing ethylene / vinyl acetate copolymer [ethylene / vinyl alcohol copolymer Polymer ethylene oxide adduct]

本発明の導電性付与剤は下記の効果を奏する。
(1)該導電性付与剤を熱可塑性樹脂に含有させてなる半導電性樹脂組成物は成形性に優れる。
(2)該半導電性樹脂組成物を成形してなる成形品は機械特性に優れる。
(3)該成形品は半導電性を有し、永久帯電防止性に優れる。
The conductivity imparting agent of the present invention has the following effects.
(1) A semiconductive resin composition obtained by incorporating the conductivity imparting agent in a thermoplastic resin is excellent in moldability.
(2) A molded product formed by molding the semiconductive resin composition is excellent in mechanical properties.
(3) The molded product has semiconductivity and is excellent in permanent antistatic properties.

本発明における金属塩(A)としては、例えば、周期表第8族金属(鉄、ルテニウム等)、第9族金属(コバルト、ロジウム等)、第10族金属(ニッケル、パラジウム、白金等)および第11族金属(銅、銀、金等)等の遷移金属や第12族金属(亜鉛、カドミウム、水銀等)のハロゲン化物、無機酸(硫酸、硝酸、塩酸、過塩素酸、炭酸、燐酸、チオシアン酸等)塩、有機酸[炭素数(以下Cと略記)1〜15、例えば脂肪族カルボン酸(ギ酸、酢酸等)、フッ化スルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等]塩等が挙げられる。
これらのうちで、導電性の観点から好ましいのは第8族金属、第9族金属、第10族金属および第11族金属の塩、とくに好ましいのは鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀および金のハロゲン化物、硫酸塩および硝酸塩である。
Examples of the metal salt (A) in the present invention include Group 8 metals (iron, ruthenium, etc.), Group 9 metals (cobalt, rhodium, etc.), Group 10 metals (nickel, palladium, platinum, etc.) and Transition metals such as Group 11 metals (copper, silver, gold, etc.), halides of Group 12 metals (zinc, cadmium, mercury, etc.), inorganic acids (sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, perchloric acid, carbonic acid, phosphoric acid, Thiocyanic acid, etc.) salt, organic acid [carbon number (hereinafter abbreviated as C) 1-15, for example, aliphatic carboxylic acid (formic acid, acetic acid, etc.), fluorinated sulfonic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, etc.] salt, etc. Is mentioned.
Of these, from the viewpoint of conductivity, the group 8 metal, the group 9 metal, the group 10 metal and the group 11 metal salts are preferable, and iron, cobalt, nickel, palladium, platinum, copper are particularly preferable. Silver and gold halides, sulfates and nitrates.

本発明における親水性基含有ポリマー(B)は、1×106〜1×1012Ω・cmの体積固有抵抗値を有する。(B)の体積固有抵抗値が1×106Ω・cm未満では後述する組成物の成形性が悪くなり、1×1012Ω・cmを超えると導電性が悪くなる。
(B)には、下記の(B1)〜(B9)およびこれらの2種以上の混合物が含まれる。(B1):ポリアミド(b11)と、ビスフェノール化合物のアルキレンオキシド(以下AOと略記)付加物(b12)および/またはポリオキシアルキレングリコール(b13)とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
(B2):ポリオレフィン(b21)のブロックとポリオキシアルキレン鎖含有化合物((b22)のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
(B3):ポリエーテルアミドイミド
(B4):ポリエーテルエステル
(B5):エピハロヒドリン/アルキレンオキシド(以下AOと略記)共重合体
(B6):アクリルアミド共重合体
(B7):エチレン/不飽和カルボン酸(塩)もしくはエチレン/(メタ)アクリレート/不飽和カルボン酸(塩)共重合体
(B8):メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート共重合体
(B9):ポリエーテル基含有エチレン/酢酸ビニル共重合体[エチレン/ビニルアルコール共重合体のエチレンオキシド(以下EOと略記)付加物]
The hydrophilic group-containing polymer (B) in the present invention has a volume specific resistance value of 1 × 10 6 to 1 × 10 12 Ω · cm. If the volume resistivity value of (B) is less than 1 × 10 6 Ω · cm, the moldability of the composition described later will be poor, and if it exceeds 1 × 10 12 Ω · cm, the conductivity will be poor.
(B) includes the following (B1) to (B9) and a mixture of two or more thereof. (B1): Polyether ester amide (B2) derived from polyamide (b11) and an alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) adduct (b12) and / or polyoxyalkylene glycol (b13) of a bisphenol compound: polyolefin The block of (b21) and the polyoxyalkylene chain-containing compound (the block of (b22) are alternately alternated through at least one bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. Block polymer (B3): polyetheramideimide (B4): polyetherester (B5): epihalohydrin / alkylene oxide (hereinafter abbreviated as AO) copolymer (B6): acrylamide copolymer (B7) ): Ethylene / No Japanese carboxylic acid (salt) or ethylene / (meth) acrylate / unsaturated carboxylic acid (salt) copolymer (B8): methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate copolymer (B9): polyether group-containing ethylene / vinyl acetate Copolymer [ethylene / vinyl alcohol copolymer ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO) adduct]

これらのうち、導電性の観点から好ましいのは(B1)〜(B3)、さらに好ましいのは(B1)および(B2)である。   Of these, (B1) to (B3) are preferable from the viewpoint of conductivity, and (B1) and (B2) are more preferable.

(B1)としては、例えば特開平6−287547号公報および特公平4−5691号公報に記載のポリエーテルエステルアミド、すなわち、ポリアミド(b11)と、ビスフェノール化合物のAO付加物(b12)および/またはポリオキシアルキレングリコール(b13)とから誘導されるポリエーテルエステルアミドが使用できる。
(b11)と反応させる(b12)および/または(b13)は、(b12)、(b13)のそれぞれ単独でもよいし、併用してもよい。併用する場合の割合[(b12)/(b13)重量比]は、熱可塑性樹脂に対する分散性の観点から好ましくは1/99〜99/1、さらに好ましくは5/95〜95/5である。
Examples of (B1) include polyether ester amides described in JP-A-6-287547 and JP-B-4-5691, that is, polyamide (b11), an AO adduct (b12) of a bisphenol compound and / or Polyether ester amides derived from polyoxyalkylene glycol (b13) can be used.
(B12) and / or (b13) to be reacted with (b11) may be either (b12) or (b13) alone or in combination. The ratio [(b12) / (b13) weight ratio] when used in combination is preferably 1/99 to 99/1, more preferably 5/95 to 95/5, from the viewpoint of dispersibility with respect to the thermoplastic resin.

ポリアミド(b11)としては、ラクタム開環重合体(b111)、アミノカルボン酸の重縮合体(b112)およびジカルボン酸とジアミンの重縮合体(b113)が挙げられる。
これらのポリアミドを形成するアミド形成性モノマーのうち、(b111)におけるラクタムとしては、C6〜12、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタム、ウンデカノラクタムが挙げられる。
(b112)におけるアミノカルボン酸としては、C6〜12、例えばω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸が挙げられる。
(b113)におけるジカルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸、芳香(脂肪)族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、これらのアミド形成性誘導体[酸無水物、低級(C1〜4)アルキルエステル]およびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。
Examples of the polyamide (b11) include a lactam ring-opening polymer (b111), an aminocarboxylic acid polycondensate (b112), and a dicarboxylic acid and diamine polycondensate (b113).
Among the amide-forming monomers that form these polyamides, the lactam in (b111) includes C6-12, such as caprolactam, enantolactam, laurolactam, and undecanolactam.
As the aminocarboxylic acid in (b112), C6-12, for example, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopergonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid, 12 -Aminododecanoic acid.
Examples of the dicarboxylic acid in (b113) include aliphatic dicarboxylic acids, aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, amide-forming derivatives thereof [acid anhydrides, lower (C1-4) alkyl esters], and the like. Or a mixture of two or more thereof.

脂肪族ジカルボン酸としては、C4〜20、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸が挙げられる。
芳香(脂肪)族ジカルボン酸としては、C8〜20、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、ナフタレン−2,6−および−2,7−ジカルボン酸、ジフェニル−4,4’ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸のアルカリ金属(ナトリウム、カリウム等)塩が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、C7〜14、例えばシクロプロパンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−4,4−ジカルボン酸が挙げられる。
アミド形成性誘導体のうち酸無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸が挙げられ、低級(C1〜4)アルキルエステルとしては上記ジカルボン酸の低級アルキルエステル、例えばアジピン酸ジメチル、オルト−、イソ−およびテレフタル酸ジメチルが挙げられる。
また、ジアミンとしては、C6〜12、例えばヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン等が挙げられる。
Aliphatic dicarboxylic acids include C4-20, such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid. Can be mentioned.
Aromatic (aliphatic) dicarboxylic acids include C8-20, such as ortho-, iso- and terephthalic acid, naphthalene-2,6- and -2,7-dicarboxylic acid, diphenyl-4,4'dicarboxylic acid, diphenoxy Examples thereof include alkali metal (sodium, potassium, etc.) salts of ethanedicarboxylic acid and 3-sulfoisophthalic acid.
Examples of the alicyclic dicarboxylic acid include C7 to 14 such as cyclopropanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid, and dicyclohexyl-4,4-dicarboxylic acid.
Among the amide-forming derivatives, examples of the acid anhydride include anhydrides of the above dicarboxylic acids, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, and phthalic anhydride. Lower (C1-4) alkyl esters include those of the above dicarboxylic acids. Alkyl esters such as dimethyl adipate, ortho-, iso- and dimethyl terephthalate are mentioned.
Examples of the diamine include C6-12, such as hexamethylene diamine, heptamethylene diamine, octamethylene diamine, and decamethylene diamine.

上記アミド形成性モノマーとして例示したものは2種以上併用してもよい。これらのうち導電性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、12−アミノドデカン酸およびアジピン酸/ヘキサメチレンジアミンであり、さらに好ましいのはカプロラクタムである。   Two or more of those exemplified as the amide-forming monomer may be used in combination. Of these, caprolactam, 12-aminododecanoic acid and adipic acid / hexamethylenediamine are preferable from the viewpoint of conductivity, and caprolactam is more preferable.

ポリアミド(b11)は、C4〜20のジカルボン酸の1種以上を分子量調整剤として使用し、その存在下に上記アミド形成性モノマーを常法により開環重合あるいは重縮合させることによって得られる。
該C4〜20のジカルボン酸としては、前記の(b113)において例示したものが挙げられ、これらのうち導電性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。
The polyamide (b11) can be obtained by using one or more C4-20 dicarboxylic acids as molecular weight regulators and subjecting the amide-forming monomer to ring-opening polymerization or polycondensation in the presence thereof in the usual manner.
Examples of the C4-20 dicarboxylic acid include those exemplified in the above (b113). Among these, aliphatic dicarboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid and alkali 3-sulfoisophthalic acid are preferable from the viewpoint of conductivity. Metal salts, more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and sodium 3-sulfoisophthalate.

上記分子量調整剤の使用量は、アミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて導電性、耐熱性の観点から好ましくは2〜80%、さらに好ましくは4〜75%
である。
The amount of the molecular weight modifier used is preferably 2 to 80%, more preferably 4 to 75% from the viewpoints of conductivity and heat resistance based on the total weight of the amide-forming monomer and the molecular weight modifier.
It is.

ポリアミド(b11)のMnは、ポリエーテルエステルアミド(B1)の耐熱性および後述のビスフェノール化合物のAO付加物(b12)との反応性の観点から好ましくは200〜5,000、さらに好ましくは500〜3,000である。   Mn of the polyamide (b11) is preferably 200 to 5,000, more preferably 500 to 5,000 from the viewpoint of heat resistance of the polyetheresteramide (B1) and reactivity with the AO adduct (b12) of a bisphenol compound described later. 3,000.

ビスフェノール化合物のAO付加物(b12)を構成するビスフェノール化合物としては、C13〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−Sが挙げられ、これらのうち導電性付与剤の、熱可塑性樹脂への分散性の観点から好ましいのはビスフェノールAである。
また、ビスフェノール化合物に付加させるAOとしては、C2〜4またはそれ以上、例えばEO、PO、1,2−、2,3−および1,4−ブチレンオキシド、C5〜12のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキシドおよびエピハロヒドリン(例えばエピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン)およびこれらの2種以上の混合物(ランダムおよび/またはブロック)が挙げられる。これらのうち導電性の観点から好ましいのはEOである。
Examples of the bisphenol compound constituting the AO adduct (b12) of the bisphenol compound include C13-20, such as bisphenol A, -F, and -S. Among these, the dispersibility of the conductivity-imparting agent in the thermoplastic resin. From this viewpoint, bisphenol A is preferred.
As the AO added to the bisphenol compound, C2-4 or more, for example, EO, PO, 1,2-, 2,3- and 1,4-butylene oxide, C5-12 α-olefin epoxidized product Styrene oxide and epihalohydrins (eg epichlorohydrin and epibromohydrin) and mixtures of two or more thereof (random and / or block). Of these, EO is preferable from the viewpoint of conductivity.

(b12)のMnは、導電性および機械特性の観点から好ましくは300〜5,000、さらに好ましくは500〜4,000である。   Mn in (b12) is preferably 300 to 5,000, more preferably 500 to 4,000 from the viewpoints of conductivity and mechanical properties.

ポリアルキレングリコール(b13)の体積固有抵抗値(後述の方法で、23℃、50%RHの雰囲気下で測定される値。以下同じ。)は、導電性の観点から好ましい上限は1011Ω・cm、さらに好ましくは1010Ω・cm、特に好ましくは109Ω・cm、機械物性の観点から好ましい下限は105Ω・cm、さらに好ましくは106Ω・cm、特に好ましくは107Ω・cmである。
また、(b13)のMnは、(B1)の耐熱性および(b13)の(b11)との反応性の観点から好ましくは150〜20,000、さらに好ましくは300〜15,000、特に好ましくは1,000〜10,000、最も好ましくは1,200〜8,000である。
The volume specific resistance value of the polyalkylene glycol (b13) (value measured in an atmosphere of 23 ° C. and 50% RH by the method described later. The same applies hereinafter) is preferably 10 11 Ω · from the viewpoint of conductivity. cm, more preferably 10 10 Ω · cm, particularly preferably 10 9 Ω · cm. From the viewpoint of mechanical properties, the lower limit is preferably 10 5 Ω · cm, more preferably 10 6 Ω · cm, and particularly preferably 10 7 Ω · cm. cm.
Further, Mn of (b13) is preferably 150 to 20,000, more preferably 300 to 15,000, particularly preferably from the viewpoint of the heat resistance of (B1) and the reactivity of (b13) with (b11). 1,000 to 10,000, most preferably 1,200 to 8,000.

ポリエーテルエステルアミド(B1)の製法としては、下記(1)、(2)が挙げられるが、特に限定されるものではない。
製法(1) アミド形成性モノマーとジカルボン酸(分子量調整剤)を反応させてポリアミド(b11)を形成させ、これにビスフェノール化合物のAO付加物(b12)および/またはポリアルキレングリコール(b13)を加えて、高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合させる方法。
製法(2) アミド形成性モノマーおよびジカルボン酸(分子量調整剤)と(b12)および/または(b13)の一部を同時に反応槽に仕込み、水の存在下または非存在下に、高温(160〜270℃)で加圧(0.1〜1MPa)反応させることによってポリアミド中間体(b11)を生成させ、その後減圧下(0.03〜3kPa)で残りの(b12)および/または(b13)と重合させる方法。上記製法のうち、反応制御の観点から好ましいのは製法(1)である。
Examples of the method for producing the polyetheresteramide (B1) include the following (1) and (2), but are not particularly limited.
Production Method (1) An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) are reacted to form a polyamide (b11), and an AO adduct (b12) and / or a polyalkylene glycol (b13) of a bisphenol compound is added thereto. And polymerization at high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Production Method (2) An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) and a part of (b12) and / or (b13) are simultaneously charged into a reaction vessel, and heated at a high temperature (160 to 270 ° C.) under pressure (0.1 to 1 MPa) to form a polyamide intermediate (b11), and then the remaining (b12) and / or (b13) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa) Polymerization method. Of the above production methods, production method (1) is preferred from the viewpoint of reaction control.

(B1)の製法としては、上記の他に、(b12)および/または(b13)の末端水酸基をアミノ基またはカルボキシル基に置換し、カルボキシル基またはアミノ基を末端に有するポリアミドと反応させる方法を用いてもよい。
(b12)および/または(b13)の末端水酸基をアミノ基に置換する方法としては、公知の方法、例えば水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法[例えば、(b12)および/または(b13)とアクリロニトリルを反応させ、得られるシアノエチル化物を水素添加する方法]が挙げられる。
(b12)および/または(b13)の末端水酸基をカルボキシル基に置換する方法としては、酸化剤で酸化する方法[例えば、(b12)および/または(b13)の水酸基をクロム酸により酸化する方法]等が挙げられる。
In addition to the above, (B1) is produced by replacing the terminal hydroxyl group of (b12) and / or (b13) with an amino group or a carboxyl group and reacting with a polyamide having a carboxyl group or an amino group at the terminal. It may be used.
As a method for substituting the terminal hydroxyl group of (b12) and / or (b13) with an amino group, a known method, for example, a method of reducing a terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating a hydroxyl group to form an amino group [for example, , (B12) and / or (b13) and acrylonitrile are reacted, and the resulting cyanoethylated product is hydrogenated.
As a method of substituting the terminal hydroxyl group of (b12) and / or (b13) with a carboxyl group, a method of oxidizing with an oxidizing agent [for example, a method of oxidizing the hydroxyl group of (b12) and / or (b13) with chromic acid] Etc.

(b11)と(b12)および/または(b13)の合計重量に基づく(b12)および/または(b13)の割合は、(B1)の導電性および耐熱性の観点から、好ましくは20〜80%、さらに好ましくは30〜70%である。   The ratio of (b12) and / or (b13) based on the total weight of (b11) and (b12) and / or (b13) is preferably 20 to 80% from the viewpoint of the conductivity and heat resistance of (B1). More preferably, it is 30 to 70%.

上記の重合反応においては、通常用いられる公知のエステル化触媒が使用される。該触媒としては、アンチモン触媒(三酸化アンチモン等)、スズ触媒(モノブチルスズオキシド等)、チタン触媒(テトラブチルチタネート等)、ジルコニウム触媒(テトラブチルジルコネート等)、有機酸金属塩[ジルコニウム有機酸塩(酢酸ジルコニル等)、酢酸亜
鉛等]等が挙げられる。
触媒の使用量は、(b11)と(b12)および/または(b13)の合計重量に基づいて、通常0.1〜5%、反応性および樹脂物性の観点から好ましくは0.2〜3%である。
In the above polymerization reaction, a commonly used known esterification catalyst is used. Examples of the catalyst include antimony catalysts (antimony trioxide, etc.), tin catalysts (monobutyltin oxide, etc.), titanium catalysts (tetrabutyl titanate, etc.), zirconium catalysts (tetrabutyl zirconate, etc.), organic acid metal salts [zirconium organic acid Salts (such as zirconyl acetate) and zinc acetate].
The amount of the catalyst used is usually 0.1 to 5% based on the total weight of (b11) and (b12) and / or (b13), preferably 0.2 to 3% from the viewpoint of reactivity and resin properties. It is.

(B1)の還元粘度[ηsp/C、C=0.5重量%(m−クレゾール溶液、25℃)]は、(B1)の耐熱性と後述の樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは0.5〜4、さらに好ましくは0.6〜3である。 The reduced viscosity [η sp / C, C = 0.5 wt% (m-cresol solution, 25 ° C.)] of (B1) is preferable from the viewpoint of the heat resistance of (B1) and the moldability of the resin composition described later. Is 0.5-4, more preferably 0.6-3.

ブロックポリマー(B2)としては、国際公開WO00/47652号公報明細書に記載されているブロックポリマーが使用できる。
(B2)は、ポリオレフィン(b21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合およびイミド結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有する。
(b21)と(b22)の合計重量に基づく(b22)の割合は、(B2)の導電性および耐熱性の観点から、好ましくは20〜80%、さらに好ましくは30〜70%である。
(B2)を構成する(b21)のブロックとしては、カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b211)、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b212)およびアミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b213)等が使用できる。
As the block polymer (B2), a block polymer described in the specification of International Publication WO00 / 47652 can be used.
(B2) is at least one selected from the group wherein the block of the polyolefin (b21) and the block of the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) are an ester bond, an amide bond, an ether bond, a urethane bond and an imide bond It has a structure in which the bonds are alternately and alternately connected through the bonds.
The proportion of (b22) based on the total weight of (b21) and (b22) is preferably 20 to 80%, more preferably 30 to 70%, from the viewpoint of the conductivity and heat resistance of (B2).
The block of (b21) constituting (B2) includes a polyolefin (b211) having carbonyl groups at both ends of the polymer, a polyolefin (b212) having hydroxyl groups at both ends of the polymer, and an amino group at both ends of the polymer. Polyolefin (b213) or the like can be used.

(b211)としては、両末端に変性可能なポリオレフィンを主成分とするポリオレフィン(b210)の両末端にカルボニル基を導入したものが用いられる。
(b212)としては、(b210)の両末端に水酸基を導入したものが用いられる。
(b213)としては、(b210)の両末端にアミノ基を導入したものが用いられる。
(b210)は、通常、両末端に変性可能なポリオレフィン、片末端に変性可能なポリオレフィンおよび変性可能な末端基を持たないポリオレフィンの混合物であるが、主成分として両末端に変性可能なポリオレフィンが含有していれば使用できる。
(b210)の主成分となる両末端に変性可能なポリオレフィンの含量は、(b210)の重量に基づいて、50〜100%が好ましく、さらに好ましくは75〜100%、特に好ましくは80〜100%である。
As (b211), those having carbonyl groups introduced at both ends of polyolefin (b210) mainly composed of a denatureable polyolefin at both ends are used.
As (b212), those having hydroxyl groups introduced at both ends of (b210) are used.
As (b213), those in which amino groups are introduced at both ends of (b210) are used.
(B210) is usually a mixture of a polyolefin that can be modified at both ends, a polyolefin that can be modified at one end, and a polyolefin that does not have a modifiable end group, but contains a polyolefin that can be modified at both ends as a main component. You can use it if you do.
The content of the polyolefin which can be modified at both ends as the main component of (b210) is preferably 50 to 100%, more preferably 75 to 100%, particularly preferably 80 to 100% based on the weight of (b210). It is.

(b210)には、C2〜30(好ましくは2〜12、さらに好ましくは2〜10)のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合(重合または共重合を意味する。以下同様。)によって得られるポリオレフィン(重合法)および減成されたポリオレフィン[高分子量ポリオレフィン(好ましくはMn50,000〜150,000)を機械的、熱的および化学的に減成してなるもの](減成法)が含まれる。カルボニル基、水酸基またはアミノ基を導入する変性のしやすさおよび入手のしやすさの観点から好ましいのは、減成されたポリオレフィン、とくに熱減成されたポリオレフィンである。
熱減成されたポリオレフィンは特に限定されないが、高分子量ポリオレフィンを不活性ガス中で加熱する(通常300〜450℃で0.5〜10時間)ことにより熱減成されたもの(例えば特開平3−62804号公報記載のもの)が挙げられる。
該熱減成法に用いられる高分子量ポリオレフィンとしては、C2〜30(好ましくは2〜12、さらに好ましくは2〜10)のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合体等が使用できる。C2〜30のオレフィンとしては、後述のポリオレフィン(重合法)製造に用いられるものと同じものが使用でき、これらのうち好ましいのはエチレン、プロピレンおよびC4〜12のα−オレフィン、さらに好ましいのはエチレン、プロピレンおよびC4〜10のα−オレフィン、特に好ましいのはエチレンおよびプロピレンである。
(B210) means (co) polymerization (polymerization or copolymerization) of one or a mixture of two or more C2-30 (preferably 2-12, more preferably 2-10) olefins. )) And a degraded polyolefin [a product obtained by mechanically, thermally and chemically degrading a high molecular weight polyolefin (preferably Mn 50,000 to 150,000)] (reduced) Method). From the viewpoint of ease of modification and availability of introduction of a carbonyl group, hydroxyl group or amino group, a degraded polyolefin, particularly a thermally degraded polyolefin, is preferred.
The heat-degraded polyolefin is not particularly limited, but is heat-degraded by heating a high molecular weight polyolefin in an inert gas (usually at 300 to 450 ° C. for 0.5 to 10 hours) (for example, JP-A-3 -62804).
Examples of the high molecular weight polyolefin used in the thermal degradation method include (co) polymers of one or a mixture of two or more C2-30 (preferably 2-12, more preferably 2-10) olefins. Can be used. As the C2-30 olefin, the same as those used for the production of the polyolefin (polymerization method) described later can be used, and among these, ethylene, propylene and C4-12 α-olefin are preferred, and ethylene is more preferred. , Propylene and C4-10 alpha-olefins, particularly preferred are ethylene and propylene.

上記ポリオレフィン(重合法)の製造に用いられるC2〜30のオレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、C4〜30(好ましくは4〜12、さらに好ましくは4〜10)のα−オレフィンおよびC4〜30(好ましくは4〜18、さらに好ましくは4〜8)のジエンが用いられる。
α−オレフィンとしては、例えば、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペンテン、1−オクテン、1−デセンおよび1−ドデセン等が挙げられる。
ジエンとしては、例えば、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタジエンおよび1,11−ドデカジエン等が挙げられる。
これらのうち、エチレン、プロピレン、C4〜12のα−オレフィン、ブタジエンおよびイソプレンが好ましく、さらに好ましいのはエチレン、プロピレン、C4〜10のα−オレフィンおよびブタジエン、特に好ましいのはエチレン、プロピレンおよびブタジエンである。
Examples of the C2-30 olefin used for the production of the polyolefin (polymerization method) include ethylene, propylene, C4-30 (preferably 4-12, more preferably 4-10) α-olefin and C4-30. A diene of (preferably 4-18, more preferably 4-8) is used.
Examples of the α-olefin include 1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene and 1-dodecene.
Examples of the diene include butadiene, isoprene, cyclopentadiene, 1,11-dodecadiene, and the like.
Of these, ethylene, propylene, C4-12 α-olefin, butadiene and isoprene are preferred, ethylene, propylene, C4-10 α-olefin and butadiene are more preferred, and ethylene, propylene and butadiene are particularly preferred. is there.

重合法によって得られるポリオレフィンは種々の方法で製造でき、例えば、ラジカル触媒、金属酸化物触媒、Ziegler触媒またはZiegler−Natta触媒存在下で(共)重合反応させる方法等により容易に得ることができる。
ラジカル触媒としては、種々のものが使用でき、例えば、有機過酸化物(ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、デカノールパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、パーオキシジカーボネートエステル等)、アゾ化合物(アゾニトリル、アゾアミジン、アゾアミド化合物)およびγ−アルミナ担体に酸化モリブデンを付着させたものが挙げられる。
金属酸化物触媒としては、シリカ−アルミナ担体に酸化クロムを付着させたもの等が挙げられる。Ziegler触媒またはZiegler−Natta触媒としては、Al(C253−TiCl4等が挙げられる。
The polyolefin obtained by the polymerization method can be produced by various methods, and can be easily obtained, for example, by a (co) polymerization reaction in the presence of a radical catalyst, a metal oxide catalyst, a Ziegler catalyst or a Ziegler-Natta catalyst.
Various radical catalysts can be used, for example, organic peroxides (di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, decanol peroxide, lauryl peroxide, peroxydicarbonate ester, etc.) , Azo compounds (azonitrile, azoamidine, azoamide compounds), and γ-alumina carriers having molybdenum oxide attached thereto.
Examples of the metal oxide catalyst include those obtained by attaching chromium oxide to a silica-alumina support. Examples of the Ziegler catalyst or Ziegler-Natta catalyst include Al (C 2 H 5 ) 3 —TiCl 4 .

(b210)のMnは、好ましくは800〜20,000、さらに好ましくは1,000〜10,000、特に好ましくは1,200〜6,000である。Mnがこの範囲であると導電性がさらに良好になる。
(b210)中の二重結合の量は、C1,000個当たり、1〜40個が好ましく、さらに好ましくは2〜30個、特に好ましくは4〜20個である。二重結合の量がこの範囲であると導電性がさらに良好になる。
1分子当たりの二重結合の平均数は、1.1〜5.0が好ましく、さらに好ましくは1
.3〜3.0、特に好ましくは1.5〜2.5、最も好ましくは1.8〜2.2である。二重結合の平均数がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、導電性がさらに良好になる。
熱減成法によると、Mnが800〜6,000の範囲で、一分子当たりの平均末端二重結合量が1.5〜2個の低分子量ポリオレフィンが容易に得られる〔村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、192頁(1975)〕。
Mn of (b210) is preferably 800 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, and particularly preferably 1,200 to 6,000. When Mn is within this range, the conductivity is further improved.
The amount of double bonds in (b210) is preferably 1 to 40, more preferably 2 to 30, and particularly preferably 4 to 20 per 1,000 C. When the amount of the double bond is within this range, the conductivity is further improved.
The average number of double bonds per molecule is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1
. It is 3-3.0, Most preferably, it is 1.5-2.5, Most preferably, it is 1.8-2.2. When the average number of double bonds is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the conductivity is further improved.
According to the thermal degradation method, a low-molecular-weight polyolefin having an average terminal double bond amount of 1.5 to 2 per molecule in the range of 800 to 6,000 can be easily obtained [Katsuhide Murata, Tadahiko Makino. , Journal of Chemical Society of Japan, page 192 (1975)].

カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b211)としては、(b210)の末端をα、β不飽和カルボン酸(無水物)(α,β−不飽和カルボン酸、そのC1〜4のアルキルエステルまたはその無水物を意味する。以下、同様。)で変性した構造を有するポリオレフィン(b211−1)、(b211−1)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(b211―2)、(b210)を酸化またはヒドロホルミル化による変性をした構造を有するポリオレフィン(b211
−3)、(b211―3)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(b211―4)およびこれらの2種以上の混合物等が使用できる。
The polyolefin (b211) having a carbonyl group at both ends of the polymer is as follows. Or an anhydride thereof (hereinafter the same shall apply)) Polyolefin (b211-1) having a structure modified with (b211-1) and (b211-2) having a structure secondary modified with lactam or aminocarboxylic acid (b211-2) ), (B210) a polyolefin having a structure modified by oxidation or hydroformylation (b211
-3), polyolefin (b211-4) having a structure obtained by secondary modification of (b211-3) with lactam or aminocarboxylic acid, and a mixture of two or more of these.

(b211−1)は、(b210)をα,β−不飽和カルボン酸(無水物)により変性することにより得ることができる。
変性に用いられるα,β−不飽和カルボン酸(無水物)としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸、これらのアルキル(C1〜4)エステルおよびこれらの無水物が使用でき、例えば(メタ)アクリル酸(アクリル酸またはメタアクリル酸を意味する。以下同じ。)、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、マレイン酸(無水物)、マレイン酸ジメチル、フマル酸、イタコン酸(無水物)、イタコン酸ジエチルおよびシトラコン酸(無水物)等が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ジカルボン酸、これらのアルキルエステルおよびこれらの無水物、さらに好ましいのはマレイン酸(無水物)およびフマル酸、特に好ましいのはマレイン酸(無水物)である。
(B211-1) can be obtained by modifying (b210) with an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride).
As α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used for modification, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, alkyl (C1-4) ester thereof and anhydride thereof can be used, for example, (meth) acrylic acid (Means acrylic acid or methacrylic acid; the same shall apply hereinafter), methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, maleic acid (anhydride), dimethyl maleate, fumaric acid, itaconic acid (anhydride) , Diethyl itaconate and citraconic acid (anhydride).
Among these, preferred are dicarboxylic acids, their alkyl esters and their anhydrides, more preferred are maleic acid (anhydride) and fumaric acid, and particularly preferred is maleic acid (anhydride).

変性に使用するα、β−不飽和カルボン酸(無水物)の量は、ポリオレフィン(b210)の重量に基づき、好ましくは0.5〜40%、さらに好ましくは1〜30%、特に好ましくは2〜20%である。α、β−不飽和カルボン酸(無水物)の量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および導電性がさらに良好になる。
α,β−不飽和カルボン酸(無水物)による変性は、種々の方法で行うことができ、例えば、(b210)の末端二重結合に、溶液法または溶融法のいずれかの方法で、α,β−不飽和カルボン酸(無水物)を熱的に付加(エン反応)させることにより行うことができる。(b210)にα,β−不飽和カルボン酸(無水物)を反応させる温度は、通常170〜230℃である。
The amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used for modification is preferably 0.5 to 40%, more preferably 1 to 30%, particularly preferably 2 based on the weight of the polyolefin (b210). ~ 20%. When the amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and filler dispersibility and conductivity are further improved.
The modification with α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be carried out by various methods. For example, the terminal double bond of (b210) can be modified by either solution method or melt method. , Β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be thermally added (ene reaction). The temperature at which (b210) is reacted with the α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is usually 170 to 230 ° C.

(b211−2)は、(b211−1)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得ることができる。
二次変性に用いるラクタムとしては、C6〜12(好ましくは6〜8、さらに好ましくは6)のラクタム等が使用でき、例えば、カプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタム等が挙げられる。
また、アミノカルボン酸としては、C2〜12(好ましくは4〜12、さらに好ましくは6〜12)のアミノカルボン酸等が使用でき、例えば、アミノ酸(グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシンおよびフェニルアラニン等)、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸等が挙げられる。
これらのうち、カプロラクタム、ラウロラクタム、グリシン、ロイシン、ω−アミノカ
プリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸が好ましく、さらに好ましくはカプロラクタム、ラウロラクタム、ω−アミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸、特に好ましくはカプロラクタム、ラウロラクタムおよび12−アミノドデカン酸である。
二次変性に用いるラクタムまたはアミノカルボン酸の量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)のカルボキシル基1個当たり、好ましくは0.1〜50個、さらに好ましくは0.3〜20個、特に好ましくは0.5〜10個、最も好ましくは1〜2個である。この量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および導電性がさらに良好になる。
(B211-2) can be obtained by secondary modification of (b211-1) with lactam or aminocarboxylic acid.
As the lactam used for the secondary modification, C6-12 (preferably 6-8, more preferably 6) lactam and the like can be used, and examples thereof include caprolactam, enantolactam, laurolactam and undecanolactam.
As the aminocarboxylic acid, C2-12 (preferably 4-12, more preferably 6-12) aminocarboxylic acid and the like can be used. For example, amino acids (glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, phenylalanine, etc.) ), Ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopergonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid.
Of these, caprolactam, laurolactam, glycine, leucine, ω-aminocaprylic acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid are preferred, and caprolactam, laurolactam, ω-aminocaprylic acid, 11-amino are more preferred. Undecanoic acid and 12-aminododecanoic acid, particularly preferably caprolactam, laurolactam and 12-aminododecanoic acid.
The amount of lactam or aminocarboxylic acid used for secondary modification is preferably 0.1 to 50, more preferably 0.3 to 20 per carboxyl group of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). The number is particularly preferably 0.5 to 10, most preferably 1 to 2. When this amount is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and filler dispersibility and conductivity are further improved.

(b211−3)は、(b210)を酸素および/もしくはオゾンによる酸化法またはオキソ法によるヒドロホルミル化によりカルボニル基を導入することにより得ることができる。
酸化法によるカルボニル基の導入は、公知の方法で行うことができ、例えば、米国特許第3,692,877号明細書記載の方法で行うことができる。
ヒドロホルミル化によるカルボニル基の導入は、公知の方法で行うことができ、例えば、Macromolecules、Vol.31、5943頁記載の方法で行うことができる。
(b211−4)は、(b211−3)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得ることができる。
ラクタムおよびアミノカルボン酸およびこれらの好ましい範囲は、(b211−2)の製造で使用できるものと同じである。ラクタムおよびアミノカルボン酸の使用量も同じである。
(B211-3) can be obtained by introducing (b210) a carbonyl group by oxidation with oxygen and / or ozone or hydroformylation by the oxo method.
The introduction of the carbonyl group by the oxidation method can be performed by a known method, for example, the method described in US Pat. No. 3,692,877.
Introduction of a carbonyl group by hydroformylation can be carried out by a known method, for example, see Macromolecules, Vol. 31, 5943 page.
(B211-4) can be obtained by secondarily modifying (b211-3) with a lactam or an aminocarboxylic acid.
The lactam and aminocarboxylic acid and preferred ranges thereof are the same as those which can be used in the production of (b211-2). The amount of lactam and aminocarboxylic acid used is the same.

カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b211)のMnは、耐熱性および後述するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)との反応性の観点から、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(b211)の酸価は、(b22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280(mgKOH/g。以下においては数値のみを記載する。)、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Mn of the polyolefin (b211) having carbonyl groups at both ends of the polymer is preferably 800 to 25,000, more preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) described later. 1,000 to 20,000, particularly preferably 2,500 to 10,000.
The acid value of (b211) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g. In the following, only numerical values will be described), more preferably 4 to 100, particularly from the viewpoint of reactivity with (b22). Preferably it is 5-50.

水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b212)としては、(b211)をヒドロキシルアミンで変性したヒドロキシル基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
変性に使用できるヒドロキシルアミンとしては、C2〜10(好ましくは2〜6、さらに好ましくは2〜4)のヒドロキシルアミン等が挙げられ、例えば、2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタノール、6−アミノヘキサノールおよび3−アミノメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキサノールが挙げられる。
これらのうち、好ましいのは2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタノールおよび6−アミノヘキサノール、さらに好ましいのは2−アミノエタノールおよび4−アミノブタノール、特に好ましいのは2−アミノエタノールである。
ヒドロキシルアミンによる変性は、種々の方法で行うことができ、例えば、(b211)とヒドロキシルアミンとを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120℃〜230℃である。
As the polyolefin (b212) having a hydroxyl group at both ends of the polymer, a polyolefin having a hydroxyl group obtained by modifying (b211) with hydroxylamine and a mixture of two or more of these can be used.
Examples of hydroxylamine that can be used for the modification include C2-10 (preferably 2-6, more preferably 2-4) hydroxylamine, and the like. For example, 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 1-amino- Examples include 2-propanol, 4-aminobutanol, 5-aminopentanol, 6-aminohexanol and 3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexanol.
Of these, 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 4-aminobutanol, 5-aminopentanol and 6-aminohexanol are more preferable, 2-aminoethanol and 4-aminobutanol are particularly preferable. Is 2-aminoethanol.
The modification with hydroxylamine can be carried out by various methods, for example, by directly reacting (b211) with hydroxylamine. The reaction temperature is usually 120 ° C to 230 ° C.

変性に用いるヒドロキシルアミンの量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、好ましくは0.1〜2個、さらに好ましくは0.3〜1.5個、特に好ましく
は0.5〜1.2個、最も好ましくは1個である。ヒドロキシルアミンの量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、導電性がさらに良好になる。
(b212)のMnは、耐熱性および後述するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)との反応性の観点から、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(b212)の水酸基価は、(b22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280(mgKOH/g。以下においては数値のみを記載する。)、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
The amount of hydroxylamine used for modification is preferably 0.1 to 2, more preferably 0.3 to 1.5, particularly preferably per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). Is 0.5 to 1.2, most preferably 1. When the amount of hydroxylamine is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the conductivity is further improved.
Mn of (b212) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) described later. Is 2,500 to 10,000.
The hydroxyl value of (b212) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g. In the following, only numerical values are described), more preferably 4 to 100, particularly from the viewpoint of reactivity with (b22). Preferably it is 5-50.

アミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b213)としては、(b211)をジアミン(Q1)で変性したアミノ基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
この変性に用いるジアミン(Q1)としては、C2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜6)のジアミン等が使用でき、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミンおよびデカメチレンジアミン等が挙げられる。
これらのうち、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミンおよびオクタメチレンジアミンが好ましく、さらに好ましいのはエチレンジアミンおよびヘキサメチレンジアミン、特に好ましいのはエチレンジアミンである。
ジアミンによる変性は、公知の方法で行うことができ、例えば、(b211)とジアミン(Q1)とを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120℃〜230℃である。
As the polyolefin (b213) having an amino group at both ends of the polymer, a polyolefin having an amino group obtained by modifying (b211) with a diamine (Q1) and a mixture of two or more of these can be used.
As the diamine (Q1) used for this modification, C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-6) diamines can be used, for example, ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine. And decamethylenediamine.
Of these, ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine and octamethylenediamine are preferable, ethylenediamine and hexamethylenediamine are more preferable, and ethylenediamine is particularly preferable.
The modification with diamine can be carried out by a known method, for example, by reacting (b211) and diamine (Q1) directly. The reaction temperature is usually 120 ° C to 230 ° C.

変性に用いるジアミンの量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、0.1〜2個が好ましく、さらに好ましくは0.3〜1.5個、さらに好ましくは0.5〜1.2個、特に好ましくは1個である。ジアミンの量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および導電性がさらに良好になる。
なお、実際の製造に当たっては、ポリアミド(イミド)化を防止するため、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、2〜1,000個、さらに好ましくは5〜800個、特に好ましくは10〜500個のジアミンを使用し、未反応の過剰ジアミンを減圧下で(通常120℃〜230℃)除去することが好ましい。
The amount of diamine used for modification is preferably 0.1 to 2, more preferably 0.3 to 1.5, and still more preferably, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). 0.5 to 1.2, particularly preferably 1. When the amount of diamine is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and filler dispersibility and conductivity are further improved.
In actual production, in order to prevent polyamide (imide) formation, 2 to 1,000, more preferably 5 to 800, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). Particularly preferably, 10 to 500 diamines are used, and it is preferable to remove unreacted excess diamine under reduced pressure (usually 120 to 230 ° C.).

(b213)のMnは、耐熱性および後述するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)との反応性の観点から、800〜25,000が好ましく、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(b213)のアミン価は、(b22)との反応性の観点から、4〜280(mgKOH/g、以下、数値のみを記載する。)が好ましく、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Mn of (b213) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) described later. Is 2,500 to 10,000.
The amine value of (b213) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g, hereinafter, only numerical values are described) from the viewpoint of reactivity with (b22), more preferably 4 to 100, and particularly preferably. Is 5-50.

ブロックポリマー(B2)を構成するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)としては、ポリエーテルジオール(b221)、ポリエーテルジアミン(b222)およびこれらの変性物(b223)が使用できる。
(b22)の体積固有抵抗値は、導電性の観点から好ましい上限は1011Ω・cm、さらに好ましくは1010Ω・cm、特に好ましくは109Ω・cm、機械物性の観点か
ら好ましい下限は105Ω・cm、さらに好ましくは106Ω・cm、特に好ましくは107Ω・cmである。
また、(b22)のMnは、耐熱性および(b21)との反応性の観点から好ましくは150〜20,000、さらに好ましくは300〜20,000、特に好ましくは1,000〜15,000、最も好ましくは1,200〜8,000である。
As the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) constituting the block polymer (B2), polyether diol (b221), polyether diamine (b222), and modified products thereof (b223) can be used.
The upper limit of the volume resistivity of (b22) is preferably 10 11 Ω · cm, more preferably 10 10 Ω · cm, particularly preferably 10 9 Ω · cm, from the viewpoint of conductivity, and the lower limit preferable from the viewpoint of mechanical properties. 10 5 Ω · cm, more preferably 10 6 Ω · cm, and particularly preferably 10 7 Ω · cm.
Further, Mn of (b22) is preferably 150 to 20,000, more preferably 300 to 20,000, particularly preferably 1,000 to 15,000, from the viewpoint of heat resistance and reactivity with (b21). Most preferably, it is 1,200 to 8,000.

ポリエーテルジオール(b221)は、ジオール(b01)または二価フェノール(b02)にAOを付加させることにより得られる構造のものが使用でき、例えば、一般式:
H−(OA1m−O−E1−O−(A1O)m'−H

で示されるものが挙げられる。
式中、E1は、(b01)または(b02)から水酸基を除いた残基を表し、A1は、ハロゲン原子を含んでいてもよいC2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜4)のアルキレン基;mおよびm’は1〜300、好ましくは2〜250、とくに好ましくは10〜100の整数を表し、mとm’とは同一でも異なっていてもよい。また、m個の(OA1)とm’個の(A1O)とは同一でも異なっていてもよく、また、これらが2種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブロック、ランダムまたはこれらの組合せのいずれでもよい。
As the polyether diol (b221), one having a structure obtained by adding AO to the diol (b01) or the dihydric phenol (b02) can be used.
H— (OA 1 ) m —O—E 1 —O— (A 1 O) m ′ —H

The thing shown by is mentioned.
In the formula, E 1 represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from (b01) or (b02), and A 1 represents C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2) which may contain a halogen atom. -4) alkylene group; m and m 'represent an integer of 1 to 300, preferably 2 to 250, particularly preferably 10 to 100, and m and m' may be the same or different. In addition, m (OA 1 ) and m ′ (A 1 O) may be the same or different, and the bond form in the case where these are composed of two or more oxyalkylene groups is a block form. , Random or a combination thereof.

これらのジオール(b01)および二価フェノール(b02)のうち、反応性の観点から好ましいのは二価アルコールおよび二価フェノール、さらに好ましいのは脂肪族二価アルコールおよびビスフェノール、特に好ましいのはエチレングリコールおよびビスフェノールAである。   Of these diols (b01) and dihydric phenols (b02), dihydric alcohols and dihydric phenols are preferable from the viewpoint of reactivity, aliphatic dihydric alcohols and bisphenols are more preferable, and ethylene glycol is particularly preferable. And bisphenol A.

ポリエーテルジオール(b221)は、例えば、ジオール(b01)または二価フェノール(b02)にAOを付加させることにより製造することができる。
AOとしては、C2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜4)のAO(EO、PO、1,2−、1,4−、2,3−および1,3−ブチレンオキサイドおよびこれらの2種以上の混合物)等が用いられるが、必要により他のAOまたは置換AOを併用してもよい(本発明においては、これらも含めてAOと総称する。)。他のAOまたは置換AOとしては、例えば、C5〜12のα−オレフィンのエポキシ化物、スチレンオキサイドおよびエピハロヒドリン(エピクロルヒドリンおよびエピブロモヒドリン等)が挙げられる。他のAOまたは置換AOの量は、全AOの重量に基づいて、30%以下が好ましく、さらに好ましくは0〜25%、特に好ましくは0〜20%である。
The polyether diol (b221) can be produced, for example, by adding AO to the diol (b01) or the dihydric phenol (b02).
As AO, C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-4) AO (EO, PO, 1,2-, 1,4-, 2,3- and 1,3-butylene oxide and A mixture of two or more of these) is used, and other AO or substituted AO may be used in combination as necessary (in the present invention, these are also collectively referred to as AO). Examples of other AO or substituted AO include epoxidized C5-12 α-olefin, styrene oxide and epihalohydrin (such as epichlorohydrin and epibromohydrin). The amount of other AO or substituted AO is preferably 30% or less, more preferably 0 to 25%, and particularly preferably 0 to 20% based on the weight of the total AO.

2種以上のAOを併用するときの結合形式はブロックおよび/またはランダムのいずれでもよい。
AOとして好ましいのは、EO単独およびEOと他のAOとの併用(ブロックおよび/またはランダム付加)、さらに好ましいのはEO、EO/POの併用、特に好ましいのはEO単独である。
AOの付加モル数は、(b01)または二価フェノール(b02)の水酸基1個当り、1〜300モルが好ましく、さらに好ましくは2〜250モル、特に好ましくは10〜100モルである。AOの付加モル数がこの範囲であると(b22)の体積固有抵抗値がさらに好ましい範囲になりやすい。
When two or more kinds of AO are used in combination, the binding form may be either block and / or random.
Preferred as AO is EO alone or a combination of EO and another AO (block and / or random addition), more preferred is a combination of EO and EO / PO, and particularly preferred is EO alone.
The number of added moles of AO is preferably 1 to 300 moles, more preferably 2 to 250 moles, and particularly preferably 10 to 100 moles per hydroxyl group of (b01) or dihydric phenol (b02). When the added mole number of AO is within this range, the volume resistivity value of (b22) tends to be more preferable.

AOの付加は、公知の方法、例えばアルカリ触媒の存在下、100〜200℃の温度で行なうことができる。
ポリエーテルジオール(b221)中のC2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜4)のオキシアルキレン単位の含量は、(b221)の重量に基づいて、5〜99.8%が好ましく、さらに好ましくは8〜99.6%、特に好ましくは10〜98%である。
ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は、ポリオキシアルキレン鎖の重量に基づいて、好ましくは5〜100%、さらに好ましくは10〜100%、特に好ましくは50〜100%、最も好ましくは60〜100%である。オキシエチレン単位の含量がこの範囲であると(b22)の体積固有抵抗値がさらに好ましい範囲になりやすい。
AO can be added by a known method, for example, at a temperature of 100 to 200 ° C. in the presence of an alkali catalyst.
The content of oxyalkylene units of C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-4) in the polyether diol (b221) is preferably 5-99.8% based on the weight of (b221). More preferably, it is 8 to 99.6%, particularly preferably 10 to 98%.
The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is preferably 5 to 100%, more preferably 10 to 100%, particularly preferably 50 to 100%, most preferably 60, based on the weight of the polyoxyalkylene chain. ~ 100%. When the content of the oxyethylene unit is within this range, the volume resistivity value of (b22) tends to be more preferable.

ポリエーテルジアミン(b222)は、ポリエーテルジオール(b221)の水酸基をアミノ基に変性した構造のものが使用でき、例えば、一般式:

R”NH−A2−(OA1m−O−E1−O−(A1O)m'−A2−NHR”

で示されるものが挙げられる。
式中の記号E1、A1、mおよびm’は(b221)で示した式と同様であり、A2はハロゲン原子を含んでいてもよいC2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜4)のアルキレン基を表し、A1とA2とは同じでも異なっていてもよい。R”はHまたはC1〜4(好ましくは1または2)のアルキル基を表す。
(b222)は、(b221)の水酸基を公知の方法によりアミノ基に変えることにより、容易に得ることができる。
水酸基をアミノ基に変える方法としては、種々の方法が使用でき、例えば、(b221)の水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノ基とする方法[例えば、(b221)とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノエチル化物を水素添加する方法]、(b221)と、アミノカルボン酸またはラクタムとを反応させる方法、およびハロゲン化アミンをアルカリ条件下で反応する方法が挙げられる。
As the polyether diamine (b222), one having a structure in which the hydroxyl group of the polyether diol (b221) is modified to an amino group can be used.

R ″ NH—A 2 — (OA 1 ) m —O—E 1 —O— (A 1 O) m ′ —A 2 —NHR ”

The thing shown by is mentioned.
Symbols E 1 , A 1 , m and m ′ in the formula are the same as those in the formula (b221), and A 2 may contain a halogen atom, C 2-12 (preferably 2-8, more preferably Represents an alkylene group of 2 to 4), and A 1 and A 2 may be the same or different. R ″ represents H or a C1-4 (preferably 1 or 2) alkyl group.
(B222) can be easily obtained by changing the hydroxyl group of (b221) to an amino group by a known method.
Various methods can be used as a method for changing the hydroxyl group to an amino group. For example, a method in which the terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the hydroxyl group of (b221) is reduced to an amino group [for example, (b221) And a method of reacting acrylonitrile and hydrogenating the resulting cyanoethylated product], a method of reacting (b221) with an aminocarboxylic acid or lactam, and a method of reacting a halogenated amine under alkaline conditions.

(b221)または(b222)の変性物(b223)としては、例えば、(b221)または(b222)のイソシアネート変性物(末端イソシアネート基)および同じくエポキシ変性物(末端エポキシ基)が挙げられる。
イソシアネート変性物は、(b221)または(b222)と、有機ジイソシアネートとを反応させるか、(b222)とホスゲンとを反応させることにより得ることができる。
エポキシ変性物は、(b221)または(b222)と、ジエポキシド(ジグリシジルエーテル、ジグリシジルエステル、脂環式ジエポキシド等のエポキシ樹脂:エポキシ当量85〜600)とを反応させるか、(b221)とエピハロヒドリン(エピクロルヒドリン等)とを反応させることにより得ることができる。
Examples of the modified product (b223) of (b221) or (b222) include the isocyanate-modified product (terminal isocyanate group) and the epoxy-modified product (terminal epoxy group) of (b221) or (b222).
The isocyanate-modified product can be obtained by reacting (b221) or (b222) with an organic diisocyanate or reacting (b222) with phosgene.
The epoxy-modified product is obtained by reacting (b221) or (b222) with a diepoxide (epoxy resin such as diglycidyl ether, diglycidyl ester, alicyclic diepoxide: epoxy equivalent 85 to 600), or (b221) and epihalohydrin. It can be obtained by reacting with (e.g. epichlorohydrin).

有機ジイソシアネートとしては、C(NCO基中の炭素を除く、以下同様)6〜20(好ましくは6〜18、さらに好ましくは8〜14)の芳香族ジイソシアネート、C2〜18(好ましくは4〜16、さらに好ましくは6〜14)の脂肪族ジイソシアネート、C4〜15(好ましくは4〜13、さらに好ましくは6〜11)の脂環式ジイソシアネート、C8〜15(好ましくは8〜13、さらに好ましくは9〜11)の芳香脂肪族ジイソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体およびこれらの2種以上の混合物が使用できる。   As the organic diisocyanate, C (excluding carbon in the NCO group, the same shall apply hereinafter) 6-20 (preferably 6-18, more preferably 8-14) aromatic diisocyanate, C2-18 (preferably 4-16, More preferably 6-14) aliphatic diisocyanate, C4-15 (preferably 4-13, more preferably 6-11) alicyclic diisocyanate, C8-15 (preferably 8-13, more preferably 9- 11) Aro-aliphatic diisocyanates, modified products of these diisocyanates, and mixtures of two or more thereof can be used.

芳香族ジイソシアネートとしては、例えば、1,3−または1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−または2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、2,4’−または4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタンおよび1,5−ナフチレンジイソシアネートが挙げられる。   Examples of the aromatic diisocyanate include 1,3- or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), 2,4′- or 4,4′-diphenylmethane diisocyanate ( MDI), 4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatobiphenyl, 3,3'-dimethyl-4,4'-diisocyanatodiphenylmethane and 1,5 -Naphthylene diisocyanate.

脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネートおよび2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエート等が挙げられる。   Examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI), dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, and 2,6-diisocyanatomethylcaproate. Bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate and the like.

脂環式ジイソシアネートとしては、例えば、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、ビス
(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレートおよび2,5−または2,6−ノルボルナンジイソシアネート等が挙げられる。
Examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), and bis (2-isocyanato). And ethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate and 2,5- or 2,6-norbornane diisocyanate.

芳香脂肪族ジイソシアネートとしては、例えば、m−またはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)およびα,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)等が挙げられる。
また、ジイソシアネートの変性体としては、例えば、ウレタン変性体、ウレア変性体、カルボジイミド変性体およびウレトジオン変性体が挙げられる。
これらの有機ジイソシアネートのうち、反応性の観点から好ましいのは芳香族および脂肪族ジイソシアネート、さらに好ましいのはTDI、MDIおよびHDI、特に好ましいのはHDIである。
Examples of the araliphatic diisocyanate include m- or p-xylylene diisocyanate (XDI) and α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI).
Examples of the modified diisocyanate include urethane-modified products, urea-modified products, carbodiimide-modified products, and uretdione-modified products.
Of these organic diisocyanates, aromatic and aliphatic diisocyanates are preferable from the viewpoint of reactivity, TDI, MDI and HDI are more preferable, and HDI is particularly preferable.

ポリウレタン化反応を促進するために、必要により通常用いられる触媒を使用してもよい。このような触媒としては、金属触媒、アミン触媒およびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
金属触媒としては、例えば、錫触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレート、スタナスオクトエート、ジブチルチンマレエート等);鉛触媒(オレイン酸鉛、2−エチルヘキサン酸鉛、ナフテン酸鉛、オクテン酸鉛等);その他の金属触媒(ナフテン酸コバルト等のナフテン酸金属塩、フェニル水銀プロピオン酸塩等)等が挙げられる。
In order to accelerate the polyurethane formation reaction, a commonly used catalyst may be used if necessary. As such a catalyst, a metal catalyst, an amine catalyst, and a mixture of two or more thereof can be used.
Examples of metal catalysts include tin catalysts (trimethyltin laurate, trimethyltin hydroxide, dimethyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, stannous octoate, dibutyltin maleate, etc.); lead catalysts (lead oleate) , Lead 2-ethylhexanoate, lead naphthenate, lead octenoate, etc.); other metal catalysts (metal naphthenate such as cobalt naphthenate, phenylmercuric propionate, etc.).

アミン触媒として、例えば、トリエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルヘキシレンジアミン、ジアザビシクロアルケン{1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7[サンアプロ(株)製、登録商標DBU]等}、ジアルキルアミノアルキルアミン(ジメチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノオクチルアミン、ジプロピルアミノプロピルアミン等)および複素環式アミノアルキルアミン{2−(1−アジリジニル)エチルアミン、4−(1−ピペリジニル)−2−ヘキシルアミン等}の炭酸塩および有機酸塩(ギ酸塩等)等が使用でき、このほかN−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン、トリエチルアミン、ジエチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン等が使用できる。   Examples of the amine catalyst include triethylenediamine, tetramethylethylenediamine, tetramethylhexylenediamine, diazabicycloalkene {1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 [manufactured by San Apro Co., Ltd., registered trademark DBU]. Etc.}, dialkylaminoalkylamines (dimethylaminoethylamine, dimethylaminopropylamine, diethylaminopropylamine, dibutylaminoethylamine, dimethylaminooctylamine, dipropylaminopropylamine, etc.) and heterocyclic aminoalkylamines {2- (1- Aziridinyl) ethylamine, 4- (1-piperidinyl) -2-hexylamine, etc.} carbonates and organic acid salts (formate, etc.), etc. In addition, N-methylmorpholine, N-ethylmorpholine, Ethylamine, diethylethanolamine, dimethylethanolamine and the like can be used.

本発明における(B2)には、一般式(1)で示される繰り返し単位を有するポリマーが含まれる。

Figure 2008248097
In the present invention, (B2) includes a polymer having a repeating unit represented by the general formula (1).
Figure 2008248097

一般式(1)において、nは2〜50、好ましくは3〜40、さらに好ましくは4〜30の整数である。また、R1およびR2の一方はHであり他方はHまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基である。また、yは15〜800、好ましくは20〜500、さらに好ましくは30〜400の整数である。
1、A1、mおよびm’は前記と同様であり、XおよびX’は、一般式(2)〜(8)で示される基から選ばれる基および対応する(2’)〜(8’)で示される基から選ばれる基、すなわち、Xが一般式(2)で示される基のとき、X’は一般式(2’)で示される基であり、一般式(3)〜(8)および(3’)〜(8’)についても同様の関係であ
る。
In general formula (1), n is an integer of 2 to 50, preferably 3 to 40, and more preferably 4 to 30. One of R 1 and R 2 is H, and the other is H or an alkyl group of C1-10 (preferably 1-8, more preferably 1-6). Moreover, y is an integer of 15 to 800, preferably 20 to 500, more preferably 30 to 400.
E 1 , A 1 , m and m ′ are the same as above, and X and X ′ are groups selected from the groups represented by the general formulas (2) to (8) and the corresponding (2 ′) to (8 A group selected from the group represented by '), that is, when X is a group represented by the general formula (2), X' is a group represented by the general formula (2 '), and the general formulas (3) to (3) to ( The same relationship applies to 8) and (3 ′) to (8 ′).

Figure 2008248097
Figure 2008248097

Figure 2008248097
Figure 2008248097

一般式(2)〜(8)および(2’)〜(8’)において、R3およびR3'は、C2〜
3の三価の炭化水素基を表し、R4は、C1〜11(好ましくは1〜8、さらに好ましく
は1〜6)の2価の炭化水素基を表し、R5は、HまたはC1〜10(好ましくは1〜8
、さらに好ましくは1〜6)のアルキル基を表し、R6は、C2〜22(好ましくは4〜
18、さらに好ましくは6〜12)の炭化水素基を表し、E2は、有機ジイソシアネート
残基を表し、rは、1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)の整数、uおよびvは、0または1を表し、A2、Rは前記に同じである。
また、Q、Q’、TおよびT’は次式で示される基である。
In the general formulas (2) to (8) and (2 ′) to (8 ′), R 3 and R 3 ′ are C 2 −
3 represents a trivalent hydrocarbon group, R 4 represents a C 1 to 11 (preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6) divalent hydrocarbon group, and R 5 represents H or C 1 to C 1. 10 (preferably 1-8
, More preferably 1-6), and R 6 is C 2-22 (preferably 4-4).
18 and more preferably 6-12), E 2 represents an organic diisocyanate residue, r is an integer of 1 to 10 (preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6), u and v represent 0 or 1, and A 2 and R are the same as defined above.
Q, Q ′, T and T ′ are groups represented by the following formula.

Figure 2008248097
Figure 2008248097

但し、R5は、HまたはC1〜10(好ましくは1〜8、さらに好ましくは1〜6)の
アルキル基を表し、R7は、Hまたはメチル基を表し、tは、R7がメチル基のとき1、Hのとき0または1である。
一般式(1)で示される繰り返し単位中の{ }内のポリエーテルセグメント{(OA1m−O−E1−O−(A1O)m'}は、ポリエーテルジオール(b221)により構成される構造であり、式中のE1、A1、mおよびm’は前記と同様である。
However, R 5 is H or C1-10 (preferably 1 to 8, more preferably 1 to 6) represents an alkyl group, R 7 represents H or a methyl group, t is, R 7 is a methyl group 1 for H, 0 or 1 for H.
The polyether segment {(OA 1 ) m —O—E 1 —O— (A 1 O) m ′ } in {} in the repeating unit represented by the general formula (1) depends on the polyether diol (b221). It is a structure to be constructed, and E 1 , A 1 , m and m ′ in the formula are the same as described above.

一般式(1)において、Xが一般式(2)で示される基、X’が一般式(2’)で示される基であるブロックポリマー(B21)は、前記のカルボニル基を有するポリオレフィン(b211−1)とポリエーテルジオール(b221)とを反応させることにより得ることができる。一般式(2)および(2’)中のR3およびR3'は、不飽和ジカルボン酸から形成される式 In the general formula (1), the block polymer (B21) in which X is a group represented by the general formula (2) and X ′ is a group represented by the general formula (2 ′) is a polyolefin having the carbonyl group (b211 -1) and polyether diol (b221) can be obtained. R 3 and R 3 ′ in general formulas (2) and (2 ′) are formulas formed from unsaturated dicarboxylic acids.

Figure 2008248097
(R’はHまたはメチル基、tはR’がHのとき1または0、R’がメチル基のとき1である。)
で示される基であり、例えば、ポリオレフィンのカルボニル変性に、マレイン酸またはフマル酸を用いた場合は、R3は−CH2−CH<であり、R3'は>CH−CH2−である。
Figure 2008248097
(R ′ is H or a methyl group, t is 1 or 0 when R ′ is H, and 1 when R ′ is a methyl group.)
For example, when maleic acid or fumaric acid is used for carbonyl modification of polyolefin, R 3 is —CH 2 —CH <and R 3 ′ is> CH—CH 2 —. .

(B21)は、種々の方法で製造でき、例えば、カルボニル基を有するポリオレフィン(b211−1)に、ポリエーテルジオール(b221)を加えて減圧下通常200〜250℃で重合(重縮合)反応を行う方法により製造することができる。一軸または二軸の押出機を用いて、製造することもできる。通常、160〜250℃、滞留時間0.1〜20分で重合する方法により製造することができる。また、上記の重合反応には、種々の触媒を使用することができる。
触媒としては、アンチモン触媒(三酸化アンチモン等)、スズ触媒(モノブチルスズオキサイド等)、チタン触媒(テトラブチルチタネート等)、ジルコニウム触媒(テトラブチルジルコネート等)、有機酸金属塩[ジルコニウム有機酸塩(酢酸ジルコニル等)、酢
酸亜鉛等]、およびこれらの2種以上の混合物等が挙げられる。
これらのうち、好ましいのはジルコニウム触媒および有機酸金属塩、さらに好ましいのは酢酸ジルコニルである。
触媒の使用量は、(b211−1)と(b221)の合計重量に対して、通常0.001〜5%である。
(B21) can be produced by various methods. For example, polyether diol (b221) is added to polyolefin (b211-1) having a carbonyl group, and polymerization (polycondensation) reaction is usually performed at 200 to 250 ° C. under reduced pressure. It can be manufactured by the method to be performed. It can also be produced using a single or twin screw extruder. Usually, it can manufacture by the method of superposing | polymerizing with 160-250 degreeC and residence time 0.1-20 minutes. Various catalysts can be used for the above polymerization reaction.
Catalysts include antimony catalysts (antimony trioxide, etc.), tin catalysts (monobutyltin oxide, etc.), titanium catalysts (tetrabutyl titanate, etc.), zirconium catalysts (tetrabutyl zirconate, etc.), organic acid metal salts [zirconium organic acid salts (Such as zirconyl acetate) and zinc acetate], and mixtures of two or more thereof.
Of these, preferred are a zirconium catalyst and an organic acid metal salt, and more preferred is zirconyl acetate.
The usage-amount of a catalyst is 0.001 to 5% normally with respect to the total weight of (b211-1) and (b221).

一般式(1)において、Xが一般式(3)で示される基、およびX’が一般式(3’)で示される基のブロックポリマー(B22)は、カルボニル基を有するポリオレフィン(b211−1)とポリエーテルジアミン(b222)とを反応させることにより得ることができる。(b211−1)と(b222)との重合反応は、(b211−1)と(b221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), a block polymer (B22) in which X is a group represented by the general formula (3) and X ′ is a group represented by the general formula (3 ′) is a polyolefin having a carbonyl group (b211-1 ) And polyether diamine (b222). The polymerization reaction of (b211-1) and (b222) can be performed by the same method as the polymerization reaction of (b211-1) and (b221).

一般式(1)において、Xが一般式(4)で示される基、およびX’が一般式(4’)で示される基であるブロックポリマー(B23)は、(b211−2)と(b221)とを反応させることにより得ることができる。(b211−2)と(b221)との重合反応は、(b211−1)と(b221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), the block polymer (B23) in which X is a group represented by the general formula (4) and X ′ is a group represented by the general formula (4 ′) is represented by (b211-2) and (b221 ). The polymerization reaction of (b211-2) and (b221) can be performed by the same method as the polymerization reaction of (b211-1) and (b221).

一般式(1)において、Xが一般式(5)で示される基、およびX’が一般式(5’)で示される基であるブロックポリマー(B24)は、(b211−2)と(b222)とを反応させることにより得ることができる。また、(b222)を前記ラクタムもしくはアミノカルボン酸で二次変性してから、これと(b211−1)と反応させて製造してもよい。これらの重合反応は、(b211−1)と(b221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), the block polymer (B24) in which X is a group represented by the general formula (5) and X ′ is a group represented by the general formula (5 ′) is represented by (b211-2) and (b222). ). Alternatively, (b222) may be secondarily modified with the lactam or aminocarboxylic acid and then reacted with (b211-1) for production. These polymerization reactions can be performed in the same manner as the polymerization reaction of (b211-1) and (b221).

一般式(1)において、Xが一般式(6)で示される基、およびX’が一般式(6’)で示される基であるブロックポリマー(B25)は、(b211−3)(r=1の場合)または(b211−4)(r≧2の場合)と、(b221)(u=0の場合)またはポリエーテルジアミン(b222)(u=1の場合)とを反応させることにより得ることができる。(b211−3)または(b211−4)と、(b221)または(b222)との重合反応は、(b211−1)と(b221)との重合反応と同様の方法で行うことができる。   In the general formula (1), the block polymer (B25) in which X is a group represented by the general formula (6) and X ′ is a group represented by the general formula (6 ′) is (b211-3) (r = 1) or (b211-4) (when r ≧ 2) and (b221) (when u = 0) or polyetherdiamine (b222) (when u = 1). be able to. The polymerization reaction of (b211-3) or (b211-4) and (b221) or (b222) can be carried out in the same manner as the polymerization reaction of (b21-1) and (b221).

一般式(1)において、Xが一般式(7)で示される基、およびX’が一般式(7’)で示される基であるブロックポリマー(B26)は、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(b212)と、ポリエーテルジオール(b221)(u=0の場合)またはポリエーテルジアミン(b222)(u=1の場合)とを、有機ジイソシアネートを介して結合させたものであり、これらを同時に反応させるか、順次に反応させて得ることができる。順次反応させる方法として、例えば(b212)と有機ジイソシアネートとを反応させてイソシアネート変性ポリオレフィンを得た後、これと(b221)または(b222)とを反応させることにより得ることができる。   In the general formula (1), the block polymer (B26) in which X is a group represented by the general formula (7) and X ′ is a group represented by the general formula (7 ′) has hydroxyl groups at both ends of the polymer. Polyolefin (b212) and polyether diol (b221) (when u = 0) or polyether diamine (b222) (when u = 1) are bonded via an organic diisocyanate. It can be obtained by reacting simultaneously or sequentially. For example, (b212) and an organic diisocyanate are reacted to obtain an isocyanate-modified polyolefin, and then this is reacted with (b221) or (b222).

一般式(1)において、Xが一般式(8)で示される基、およびX’が一般式(8’)で示される基であるブロックポリマー(B26)は、(b211−3)(v=0の場合)または(b212)(v=1の場合)と、(b221)または(b222)とを、有機ジイソシアネートを介して結合させたものであり、これらを同時に反応させるか、順次反応させて得ることができる。順次反応させる方法として、例えば(b211−3)または(b212)と、有機ジイソシアネートとを反応させてイソシアネート変性ポリオレフィン
を得た後、これと(b221)または(b222)と反応させることにより得ることができる。
(b212)と有機ジイソシアネートとの反応、(b221)または(b222)と有機ジイソシアネート反応、およびイソシアネート変性ポリオレフィンと(b221)または(b222)との反応は、通常のウレタン化またはウレア化反応と同様の方法で行うことができる。
In the general formula (1), the block polymer (B26) in which X is a group represented by the general formula (8) and X ′ is a group represented by the general formula (8 ′) is (b211-3) (v = 0) or (b212) (when v = 1) and (b221) or (b222) are bonded via an organic diisocyanate, and these are reacted simultaneously or sequentially. Obtainable. For example, (b211-3) or (b212) is reacted with an organic diisocyanate to obtain an isocyanate-modified polyolefin, and then reacted with (b221) or (b222). it can.
The reaction between (b212) and an organic diisocyanate, the reaction between (b221) or (b222) and an organic diisocyanate, and the reaction between an isocyanate-modified polyolefin and (b221) or (b222) are the same as the usual urethanization or urea formation reaction. Can be done in a way.

イソシアネート変性ポリオレフィンを形成する際の、有機ジイソシアネートと(b212)との当量比(NCO/OH比)、およびイソシアネート変性ポリオレフィンと(b221)または(b222)との当量比(NCO/OH比)は、好ましくは1.8/1〜3/1、さらに好ましくは1.9/1〜2.5/1、特に好ましくは2/1である。当量比がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、フィラー分散性および導電性がさらに良好になる。有機ジイソシアネートおよび反応を促進するための触媒は前述のものが使用できる。   The equivalent ratio (NCO / OH ratio) of the organic diisocyanate and (b212) and the equivalent ratio of the isocyanate-modified polyolefin and (b221) or (b222) (NCO / OH ratio) in forming the isocyanate-modified polyolefin are: The ratio is preferably 1.8 / 1 to 3/1, more preferably 1.9 / 1 to 2.5 / 1, and particularly preferably 2/1. When the equivalence ratio is within this range, it becomes easier to take a repeated structure, and filler dispersibility and conductivity are further improved. As the organic diisocyanate and the catalyst for promoting the reaction, those described above can be used.

一般式(1)で示される繰り返し単位を有するブロックポリマー(B2)のうちで、好ましいのは(B21)、(B22)、(B23)、(B24)、さらに好ましいのは(B21)および(B23)、特に好ましいのは(B23)である。
ブロックポリマー(B2)を構成するポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)の量は、導電性の観点から、(b21)と(b22)との合計重量に基づいて、好ましくは20〜90%、さらに好ましくは25〜90%、特に好ましくは30〜70%である。
また、(B2)のMnは、機械特性および導電性の観点から、好ましくは2,000〜60,000、さらに好ましくは5,000〜40,000、特に好ましくは8,000〜30,000である。
Among the block polymers (B2) having a repeating unit represented by the general formula (1), (B21), (B22), (B23), (B24) are preferable, and (B21) and (B23 are more preferable. Particularly preferred is (B23).
The amount of the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) constituting the block polymer (B2) is preferably 20 to 90% based on the total weight of (b21) and (b22) from the viewpoint of conductivity, and more preferably Preferably it is 25 to 90%, particularly preferably 30 to 70%.
Moreover, Mn of (B2) is preferably 2,000 to 60,000, more preferably 5,000 to 40,000, and particularly preferably 8,000 to 30,000 from the viewpoints of mechanical properties and conductivity. is there.

ブロックポリマー(B2)の構造において、ポリオレフィン(b21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数(Nn)は、導電性の観点から、好ましくは2〜50、さらに好ましくは2.3〜30、特に好ましくは2.7〜20、最も好ましくは3〜10である。
Nnは、(B2)のMnおよび1H−NMR分析によって求めることができる。例えば
、(b211)のブロックと(b221)のブロックとが繰り返し交互に結合した構造を有する(B21)の場合について説明すると、1H−NMR分析において、4.0〜4.
1ppmのエステル結合{−C(C=O)−OCH2−}のプロトンに帰属されるシグナ
ル、および3.2〜3.7ppmのポリエチレングリコールのプロトンに帰属されるシグナルが観測できる。これらのプロトン積分値の比を求めて、この比とMnとからNnを求めることができる。
In the structure of the block polymer (B2), the average number of repeating units (Nn) of the block of the polyolefin (b21) and the block of the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) is preferably 2 from the viewpoint of conductivity. To 50, more preferably 2.3 to 30, particularly preferably 2.7 to 20, and most preferably 3 to 10.
Nn can be determined by Mn and 1 H-NMR analysis of (B2). For example, the case of (B21) having a structure in which blocks (b211) and (b221) are alternately and repeatedly bonded will be described. In 1 H-NMR analysis, 4.0 to 4.
A signal attributed to the proton of 1 ppm ester bond {—C (C═O) —OCH 2 —} and a signal attributed to the proton of polyethylene glycol of 3.2 to 3.7 ppm can be observed. The ratio of these proton integral values is obtained, and Nn can be obtained from this ratio and Mn.

(B2)の両末端は、(b21)由来のカルボニル基、アミノ基、水酸基および/または無変性ポリオレフィン末端、並びに(b22)由来の水酸基、アミノ基、イソシアネート基および/またはエポキシ基を有する。なお、無変性ポリオレフィンとは、何ら変性がなされていないポリオレフィン末端、すなわち、アルキル基またはアルケニル基を意味する。   Both ends of (B2) have a carbonyl group, amino group, hydroxyl group and / or unmodified polyolefin end derived from (b21), and a hydroxyl group, amino group, isocyanate group and / or epoxy group derived from (b22). The unmodified polyolefin means a polyolefin terminal that is not modified at all, that is, an alkyl group or an alkenyl group.

ポリエーテルアミドイミド(B3)としては、例えば特公平7−119342号公報および特開平6−172609公報に記載のポリエーテルアミドイミドが挙げられる。
これらのうち耐熱性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、アミノ基と反応して少なくとも1個のイミド環を形成しうる3価もしくは4価の芳香族ポリカルボン酸およびポリエチレングリコールもしくは少なくとも50重量%のポリエチレングリコールとポリエチレングリコール以外のポリアルキレングリコールとの混合物から誘導され、該混合物の含有量が30〜85重量%、30℃での還元粘度が1.5〜4であるポリエーテルアミド
イミドが挙げられる。
(B3)の還元粘度は、樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは1.5〜4、さらに好ましくは1.7〜3.5である。
Examples of the polyether amide imide (B3) include polyether amide imides described in JP-B-7-119342 and JP-A-6-172609.
Among these, from the viewpoint of heat resistance, caprolactam, trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid capable of forming at least one imide ring by reacting with an amino group and polyethylene glycol or at least 50% by weight Polyether amide imide derived from a mixture of polyethylene glycol and a polyalkylene glycol other than polyethylene glycol, wherein the content of the mixture is 30 to 85% by weight and the reduced viscosity at 30 ° C. is 1.5 to 4. .
The reduced viscosity of (B3) is preferably 1.5 to 4, more preferably 1.7 to 3.5 from the viewpoint of moldability of the resin composition.

ポリエーテルエステル(B4)としては、ポリエーテルジオールまたはコポリエーテルジオールと2価以上の多価カルボン酸とを反応させて得られる、ポリエステル、例えば、特公昭58−19696号公報記載のポリエーテルエステルが挙げられる。
(B4)の融点[測定は示差走査熱量測定法(以下、DSC法と略記)による]は耐熱性の観点から好ましくは100℃以上、さらに好ましくは120〜210℃である。
Examples of the polyether ester (B4) include polyesters obtained by reacting a polyether diol or copolyether diol with a divalent or higher polyvalent carboxylic acid, for example, a polyether ester described in Japanese Patent Publication No. 58-19696. Can be mentioned.
The melting point of (B4) [measurement is by differential scanning calorimetry (hereinafter abbreviated as DSC method)] is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 120 to 210 ° C. from the viewpoint of heat resistance.

エピハロヒドリン/AO共重合体(B5)としては、例えば特公平7−84564号公報記載のエピハロヒドリン/AO共重合体が挙げられる。
エピハロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン、エピヨードヒドリンおよびエピフルオロヒドリンが挙げられ、反応性、コストの観点から好ましいのはエピクロルヒドリンである。AOとしては、C2〜4、例えばEO、PO、THFが挙げられる。
(B5)には、エピハロヒドリンと、1,2−エポキシドモノマー[とくにアルキル(C2〜4)グリシジルエーテル]およびAO(とくにEOおよびPO)から選ばれる1種または2種以上からなるコモノマーとの共重合体も含まれる。
エピハロヒドリンとAOとの重量比は、通常5/95〜95/5、導電性付与性の観点から好ましくは10/90〜60/40である。
(B5)のうち、樹脂物性、導電性付与の観点から好ましいのはエピクロルヒドリン/EO(重量比50/50)の共重合体である。
(B5)のMnは樹脂物性および成形性の観点から好ましくは30,000〜100,000、さらに好ましくは60,000〜90,000である。
Examples of the epihalohydrin / AO copolymer (B5) include an epihalohydrin / AO copolymer described in JP-B-7-84564.
Examples of the epihalohydrin include epichlorohydrin, epibromohydrin, epiiodohydrin, and epifluorohydrin, and epichlorohydrin is preferable from the viewpoint of reactivity and cost. AO includes C2-4, such as EO, PO, and THF.
(B5) includes a co-polymer of epihalohydrin and a comonomer composed of one or more selected from 1,2-epoxide monomers [especially alkyl (C2-4) glycidyl ether] and AO (especially EO and PO). Mergers are also included.
The weight ratio of epihalohydrin to AO is usually 5/95 to 95/5, and preferably 10/90 to 60/40 from the viewpoint of imparting conductivity.
Among (B5), a copolymer of epichlorohydrin / EO (weight ratio 50/50) is preferable from the viewpoints of resin physical properties and conductivity.
Mn of (B5) is preferably from 30,000 to 100,000, more preferably from 60,000 to 90,000, from the viewpoints of resin physical properties and moldability.

アクリルアミド共重合体(B6)としては、例えば特開平4−198308号公報記載の、エチレン単位65〜99モル%、アクリレート単位0〜15モル%、およびアクリルアミド単位1〜35モル%からなるアクリルアミド共重合体が挙げられる。
(B6)のMnは、(B6)の耐熱性と樹脂組成物の成形性とのバランスの観点から好ましくは1,000〜150,000、さらに好ましくは3,000〜100,000である。
Examples of the acrylamide copolymer (B6) include an acrylamide copolymer comprising 65 to 99 mol% of ethylene units, 0 to 15 mol% of acrylate units, and 1 to 35 mol% of acrylamide units described in JP-A-4-198308. Coalesce is mentioned.
Mn of (B6) is preferably 1,000 to 150,000, more preferably 3,000 to 100,000, from the viewpoint of the balance between the heat resistance of (B6) and the moldability of the resin composition.

エチレン/不飽和カルボン酸(塩)もしくはエチレン/(メタ)アクリレート/不飽和カルボン酸(塩)共重合体(B7)としては、例えば特開平8−269276号公報記載の、エチレン/不飽和カルボン酸もしくはエチレン/(メタ)アクリレート/不飽和カルボン酸のランダム共重合体のカルボキシル基の一部もしくは全部がアルカリ金属で中和されたアイオノマーが挙げられる。
(B7)のメルトフローレート(以下、MFRと略記、測定条件は190℃、2.16kg)は樹脂組成物の成形性の観点から好ましくは1〜20、さらに好ましくは1.5〜15である。
Examples of the ethylene / unsaturated carboxylic acid (salt) or ethylene / (meth) acrylate / unsaturated carboxylic acid (salt) copolymer (B7) include ethylene / unsaturated carboxylic acid described in JP-A-8-269276. Or the ionomer by which the one part or all part of the carboxyl group of the random copolymer of ethylene / (meth) acrylate / unsaturated carboxylic acid was neutralized with the alkali metal is mentioned.
The melt flow rate (hereinafter abbreviated as MFR, measurement conditions are 190 ° C., 2.16 kg) of (B7) is preferably 1 to 20, more preferably 1.5 to 15 from the viewpoint of moldability of the resin composition. .

メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート共重合体(B8)としては、メトキシポリエチレングリコール(Mnは好ましくは250〜4,950、さらに好ましくは750〜2,950)(メタ)アクリレートと後述するビニルモノマーとの共重合物が挙げられる。
メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートのMnは、導電性の観点から、好ましくは300〜5,000、さらに好ましくは800〜3,000である。共重合するモノマーとして好ましいのは、(メタ)アクリル酸、アルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル
(メタ)アクリレート等]である。
(B8)のMnは、樹脂物性の観点から好ましくは3,000〜50,000、さらに好ましくは5,000〜30,000であり、(B8)におけるメトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート単位とビニルモノマー単位の重量割合は、導電性の観点から好ましくは20/80〜80/20、さらに好ましくは30/70〜60/40である。
As the methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate copolymer (B8), methoxypolyethylene glycol (Mn is preferably 250 to 4,950, more preferably 750 to 2,950) (meth) acrylate and a vinyl monomer described later. A copolymer may be mentioned.
Mn of methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate is preferably 300 to 5,000, more preferably 800 to 3,000, from the viewpoint of conductivity. Preferred as the monomer to be copolymerized are (meth) acrylic acid, alkyl (C1-20) (meth) acrylate [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, etc.].
Mn of (B8) is preferably 3,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000 from the viewpoint of physical properties of the resin. The methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate unit and vinyl monomer in (B8) The weight ratio of the unit is preferably 20/80 to 80/20, more preferably 30/70 to 60/40 from the viewpoint of conductivity.

ポリエーテル基含有エチレン/酢酸ビニル共重合体(B9)としては、エチレン/酢酸ビニル共重合体を加水分解してエチレン/ビニルアルコール共重合体としたものにEO付加したものが挙げられる。
該エチレン/酢酸ビニル共重合体におけるエチレン単位と酢酸ビニル単位の重量割合は、導電性の観点から好ましくは20/80〜80/20、さらに好ましくは30/70〜60/40であり、酢酸ビニル単位の加水分解率[加水分解前の酢酸ビニル単位/加水分解後のビニルアルコール単位](モル%)は、導電性の観点から好ましくは30〜100モル%、さらに好ましくは40〜80モル%である。また、ビニルアルコール単位当たりのEO付加モル数は、導電性の観点から好ましくは5〜30、さらに好ましくは10〜20である。
(B9)のMnは、樹脂物性の観点から好ましくは3,000〜50,000、さらに好ましくは5,000〜30,000である。
Examples of the polyether group-containing ethylene / vinyl acetate copolymer (B9) include those obtained by hydrolyzing an ethylene / vinyl acetate copolymer to give an ethylene / vinyl alcohol copolymer with EO addition.
The weight ratio of ethylene units to vinyl acetate units in the ethylene / vinyl acetate copolymer is preferably 20/80 to 80/20, more preferably 30/70 to 60/40, from the viewpoint of conductivity. The hydrolysis rate of the unit [vinyl acetate unit before hydrolysis / vinyl alcohol unit after hydrolysis] (mol%) is preferably 30 to 100 mol%, more preferably 40 to 80 mol% from the viewpoint of conductivity. is there. Further, the number of moles of EO added per vinyl alcohol unit is preferably 5 to 30, more preferably 10 to 20, from the viewpoint of conductivity.
Mn of (B9) is preferably 3,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000 from the viewpoint of resin physical properties.

本発明の導電性付与剤(X)は、上記金属塩(A)と親水性基含有ポリマー(B)からなる組成物中において、(A)を還元してなることを特徴とする。
(A)と(B)の重量比[(A)/(B)]は、導電性および機械特性の観点から好ましくは1/99〜40/60、さらに好ましくは5/95〜30/70である。
The conductivity-imparting agent (X) of the present invention is characterized in that (A) is reduced in the composition comprising the metal salt (A) and the hydrophilic group-containing polymer (B).
The weight ratio [(A) / (B)] of (A) and (B) is preferably 1/99 to 40/60, more preferably 5/95 to 30/70, from the viewpoint of conductivity and mechanical properties. is there.

金属塩(A)と親水性基含有ポリマー(B)からなる組成物の製造方法としては、均一分散の観点から(A)を(B)中に予め分散させておくことが好ましく、(B)の製造時に(A)を含有させておく方法がさらに好ましい。(A)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に限定はなく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよいが重合前の原料に含有させるのが好ましい。   As a method for producing a composition comprising a metal salt (A) and a hydrophilic group-containing polymer (B), it is preferable to disperse (A) in (B) in advance from the viewpoint of uniform dispersion. A method in which (A) is contained during the production of is more preferred. There is no particular limitation on the timing of containing (A) during the production of (B), and any of before, during and after polymerization is preferable, but it is preferable to contain it in the raw material before polymerization.

金属塩(A)を還元する方法としては、(1)(A)と(B)からなる組成物を還元剤溶液と接触させる(組成物をペレット化して還元剤溶液中に浸漬する、組成物に還元剤溶液を散布する等)方法、(2)(A)と(B)からなる組成物を後述の熱可塑性樹脂(C)に含有させ、その後還元剤溶液と接触させる方法(上記に同じ)等が挙げられる。これらのうち、半導電性の観点から好ましいのは(1)の方法である。   As a method for reducing the metal salt (A), (1) a composition comprising (A) and (B) is brought into contact with a reducing agent solution (a composition in which the composition is pelletized and immersed in the reducing agent solution). (2) A method of containing a composition comprising (A) and (B) in a thermoplastic resin (C) described later and then contacting with the reducing agent solution (same as above) ) And the like. Among these, the method (1) is preferable from the viewpoint of semiconductivity.

還元剤を溶解させる溶媒としては、親水性基含有ポリマー内部への浸透性を有する水溶性溶媒が挙げられる。具体的には例えば、水、メタノール、エタノール、アセトン、2−プロパノール、ジメチルスルホキシド、N‐メチル‐2‐ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、テトラヒドロフラン等を用いることができる。
これらのうち、(B)に対する還元剤溶液の浸透性の観点から、好ましいのは水溶性でかつ極性溶媒(水、メタノール、エタノール、アセトン、2−プロパノール、ジメチルスルホキシド 、N‐メチル‐2‐ピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等)である。
還元剤としては、無機還元剤[次亜リン酸塩(次亜リン酸ナトリウム等)、水酸素化ホウ素塩(水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化トリエチルホウ素リチウム等)、亜硫酸塩(亜硫酸アンモニウム等)、チオ硫酸塩(チオ硫酸アンモニウム等)、ヒドラジン化合物(ヒドラジン、硫酸ヒドラジン等)、ジボラン、塩化第一鉄、塩化錫、過酸化水素等]、有機還元剤[アルデヒド化合物(ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド等)、リン含有化合物(トリス−2−カルボキシエチルホスフィン等)、ジメチルアミンボラン、有機酸(C1〜15、例えばギ酸、シュウ酸、コハク酸、乳酸、クエン酸、アスコルビン酸、イソアスコルビン酸、没食子酸、ヒドロキシルアミン、カテコール、ピロガロール、ハイドロキノン、メトール、アミドール)等]およびそれらの誘導体等が挙げられる。
Examples of the solvent for dissolving the reducing agent include a water-soluble solvent having permeability to the inside of the hydrophilic group-containing polymer. Specifically, for example, water, methanol, ethanol, acetone, 2-propanol, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, tetrahydrofuran and the like can be used. .
Of these, from the viewpoint of the permeability of the reducing agent solution to (B), water-soluble and polar solvents (water, methanol, ethanol, acetone, 2-propanol, dimethyl sulfoxide, N-methyl-2-pyrrolidone are preferred. N, N-dimethylformamide and the like.
Examples of the reducing agent include inorganic reducing agents [hypophosphites (such as sodium hypophosphite), hydrooxyborohydrides (potassium borohydride, sodium borohydride, lithium borohydride, zinc borohydride, hydrogen Triethylborohydride), sulfites (such as ammonium sulfite), thiosulfates (such as ammonium thiosulfate), hydrazine compounds (hydrazine, hydrazine sulfate, etc.), diborane, ferrous chloride, tin chloride, hydrogen peroxide, etc.], Organic reducing agents [aldehyde compounds (formaldehyde, acetaldehyde, etc.), phosphorus-containing compounds (tris-2-carboxyethylphosphine, etc.), dimethylamine borane, organic acids (C1-15, such as formic acid, oxalic acid, succinic acid, lactic acid, citric acid Acid, ascorbic acid, isoascorbic acid, gallic acid, hydroxylamine, catechol Lumpur, pyrogallol, hydroquinone, metol, amidol), etc.] and derivatives thereof.

還元剤溶液中の還元剤濃度(モル/L)は、還元効果および樹脂物性の観点から好ましくは0.005〜4、さらに好ましくは0.01〜2である。また、還元剤溶液中には各種キレ−ト剤(エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、ニトリロ三酢酸(NTA)等)、pH緩衝剤(リン酸、ホウ酸等)、安定剤(鉛化合物、ピロリン酸等)等が含まれていてもよい。   The reducing agent concentration (mol / L) in the reducing agent solution is preferably 0.005 to 4, more preferably 0.01 to 2, from the viewpoints of reducing effect and resin physical properties. In the reducing agent solution, various chelating agents (ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), nitrilotriacetic acid (NTA), etc.), pH buffering agents (phosphoric acid, boric acid, etc.), stabilizers (lead compounds, pyrophosphoric acid) Etc.) may be included.

金属塩が還元されたことについては、電子顕微鏡または目視等により樹脂組成物表面の状態変化(色の変化や光沢の発生等)を判定することで確認することができる。
また、樹脂組成物を還元剤で処理した後は、樹脂物性の観点から加熱、減圧乾燥等により還元剤溶液の溶媒を除去することが望ましい。
The reduction of the metal salt can be confirmed by determining the state change (color change, gloss generation, etc.) on the surface of the resin composition with an electron microscope or visual inspection.
In addition, after treating the resin composition with a reducing agent, it is desirable to remove the solvent of the reducing agent solution by heating, drying under reduced pressure, or the like from the viewpoint of resin physical properties.

本発明の導電性付与剤(X)の体積固有抵抗値(Ω・cm)は、導電性の観点から好ましくは1×101〜1×104、さらに好ましくは1×101〜1×103、とくに好ましくは1×101〜1×102である。 Conductivity imparting agent of the present invention a volume resistivity of (X) (Ω · cm) is preferred from the viewpoint of conductivity 1 × 10 1 ~1 × 10 4 , more preferably 1 × 10 1 ~1 × 10 3 , particularly preferably 1 × 10 1 to 1 × 10 2 .

本発明の半導電性樹脂組成物は、上記導電性付与剤(X)を熱可塑性樹脂(C)に含有させてなるものである。
(C)としては、ポリフェニレンエーテル樹脂(C1);ビニル樹脂〔ポリオレフィン樹脂(C2)[例えばポリプロピレン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂]、ポリアクリル樹脂(C3)[例えばポリメタクリル酸メチル]、ポリスチレン樹脂(C4)[ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体、例えばポリスチレン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AN樹脂)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)]等〕;ポリエステル樹脂(C5)[例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート];ポリアミド樹脂(C6)[例えばナイロン66、ナイロン69、ナイロン612、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン46、ナイロン6/66、ナイロン6/12];ポリカーボネート樹脂(C7
)[例えばポリカーボネート、ポリカーボネート/ABSアロイ樹脂];ポリアセタール樹脂(C8);生分解性樹脂(C9)、およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
The semiconductive resin composition of the present invention comprises the above-described conductivity imparting agent (X) in the thermoplastic resin (C).
(C) includes polyphenylene ether resin (C1); vinyl resin [polyolefin resin (C2) [for example, polypropylene, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA), ethylene-ethyl acrylate copolymer resin], polyacrylic resin (C3) [for example, polymethyl methacrylate], polystyrene resin (C4) [consisting of a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, (meth) acrylic ester, (meth) acrylonitrile, and butadiene Copolymers having at least one selected from the group as structural units, such as polystyrene, styrene / acrylonitrile copolymer (AN resin), acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS resin), methyl methacrylate / butadiene / Styrene Polyester resin (C5) [for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polybutylene adipate, polyethylene adipate]; Polyamide resin (C6) [for example, nylon 66, nylon 69, nylon 612, nylon 6, nylon 11, nylon 12, nylon 46, nylon 6/66, nylon 6/12]; polycarbonate resin (C7
) [For example, polycarbonate, polycarbonate / ABS alloy resin]; polyacetal resin (C8); biodegradable resin (C9), and a mixture of two or more thereof.

これらのうち、後述する成形品の機械特性および本発明の導電性付与剤(X)の(C)への分散性の観点から好ましいのは(C1)、(C2)、(C3)、(C4)および(C7)、さらに好ましいのは(C2)、(C4)および(C7)である。   Of these, (C1), (C2), (C3), (C4) are preferable from the viewpoint of the mechanical properties of the molded product described later and the dispersibility of the conductivity-imparting agent (X) of the present invention in (C). ) And (C7), more preferably (C2), (C4) and (C7).

本発明の導電性付与剤(X)と(C)との合計重量に基づく(X)の含有量は、導電性および機械特性の観点から好ましくは1〜30%、さらに好ましくは5〜15%である。   The content of (X) based on the total weight of the conductivity-imparting agents (X) and (C) of the present invention is preferably 1 to 30%, more preferably 5 to 15% from the viewpoint of conductivity and mechanical properties. It is.

ポリフェニレンエーテル樹脂(C1)としては、例えば下記一般式(9)で示されるものが挙げられる。   Examples of the polyphenylene ether resin (C1) include those represented by the following general formula (9).

Figure 2008248097
Figure 2008248097

一般式(9)においてpは50以上の整数、R8、R9、R10、R11は、H、ハロゲン原子、C1〜12の炭化水素基、C2〜12の置換炭化水素基、アルコキシ基、シアノ基、フェノキシ基またはニトロ基を表す。R8、R9、R10、R11はそれぞれ同じでも、異なっていてもよい。また、(C1)は一般式(9)で示される重合体の1種単独であっても、2種以上の構成単位からなる共重合体や、2種以上の重合体の配合物であってもよい。 In general formula (9), p is an integer of 50 or more, R 8 , R 9 , R 10 and R 11 are H, a halogen atom, a C1-12 hydrocarbon group, a C2-12 substituted hydrocarbon group, and an alkoxy group. Represents a cyano group, a phenoxy group or a nitro group. R 8 , R 9 , R 10 and R 11 may be the same or different. In addition, (C1) is a single polymer of the general formula (9) or a copolymer of two or more structural units or a blend of two or more polymers. Also good.

(C1)の具体例としては、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジプロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−エチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジメトキシ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジブロモ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジフェニル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジベンジル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、5−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等が挙げられる。
また、これらの(C1)に前記のスチレンおよび/またはその誘導体のモノマーをグラフトしたもの(変性ポリフェニレンエーテル)も(C1)に含まれる。
Specific examples of (C1) include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-ethyl). -1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dipropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6) -Propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dimethoxy-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dichloromethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-phenylene) Dibromo-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diphenyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dichloro-1,4-phenylene) ether, poly (2,6) Dibenzyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,5-dimethyl-1,4-phenylene) ether.
Also, (C1) includes those obtained by grafting the above styrene and / or its derivative monomer (modified polyphenylene ether) to (C1).

(C1)の固有粘度[η]は、樹脂物性、導電性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリ
マーの0.5重量%クロロホルム溶液について、30℃でウベローデ1A粘度計を用いて測定される。
(C1)のガラス転移温度(以下、Tgと略記)は、成形性の観点から好ましくは190〜240℃、さらに好ましくは210〜230℃である。Tgは示差走査熱量測定(DSC)法により測定される。
The intrinsic viscosity [η] of (C1) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and conductivity. [Η] is measured using a Ubbelohde 1A viscometer at 30 ° C. for a 0.5 wt% chloroform solution of the polymer.
The glass transition temperature (hereinafter abbreviated as Tg) of (C1) is preferably 190 to 240 ° C., more preferably 210 to 230 ° C. from the viewpoint of moldability. Tg is measured by a differential scanning calorimetry (DSC) method.

ビニル樹脂[(C2)〜(C4)]としては、以下のビニルモノマーを種々の重合法(ラジカル重合法、チーグラー触媒重合法、メタロセン触媒重合法等)により(共)重合させることにより得られるものが挙げられる。   As the vinyl resins [(C2) to (C4)], those obtained by (co) polymerizing the following vinyl monomers by various polymerization methods (radical polymerization method, Ziegler catalyst polymerization method, metallocene catalyst polymerization method, etc.) Is mentioned.

ビニルモノマーとしては、不飽和炭化水素(脂肪族炭化水素、芳香環含有炭化水素、脂環式炭化水素等)、アクリルモノマー、その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸およびその誘導体、不飽和アルコールのカルボン酸エステル、不飽和アルコールのアルキルエーテル、ハロゲン含有ビニルモノマー並びにこれらの2種以上の組合せ (ランダムおよび
/またはブロック)等が挙げられる。
Examples of vinyl monomers include unsaturated hydrocarbons (aliphatic hydrocarbons, aromatic ring-containing hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, etc.), acrylic monomers, other unsaturated mono- and dicarboxylic acids and their derivatives, and carboxylic acids of unsaturated alcohols. Examples include acid esters, alkyl ethers of unsaturated alcohols, halogen-containing vinyl monomers, and combinations (random and / or block) of two or more thereof.

脂肪族炭化水素としては、C2〜30のオレフィン[エチレン、プロピレン、 C4〜
30のα−オレフィン(1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、 1−ペンテン、1−
オクテン、1−デセン、1−ドデセン等)等]、C4〜30のジエン[アルカジエン(ブタジエン、イソプレン等)、シクロアルカジエン(シクロペンタジエン等)等]等が挙げられる。
Aliphatic hydrocarbons include C2-30 olefins [ethylene, propylene, C4 ~
30 α-olefins (1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-
Octene, 1-decene, 1-dodecene, etc.)], C4-30 dienes [alkadienes (butadiene, isoprene, etc.), cycloalkadienes (cyclopentadiene, etc.), etc.].

芳香環含有炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、例えばo
−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。
Examples of the aromatic ring-containing hydrocarbon include C8-30 styrene and its derivatives, such as o.
-, M- and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyl toluene, etc.), α-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, etc.) and halogenated styrene (chlorostyrene, etc.).

アクリルモノマーとしては、C3〜30、例えば(メタ)アクリル酸およびその誘導体が挙げられる。
(メタ)アクリル酸の誘導体としては、例えばアルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ レート、ブチル(メタ)
アクリレート等]、モノ−およびジ−アルキル(C1〜4)アミノアルキル(C2〜4)(メタ)アクリレート[メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等]、(メタ)アクリロニトリルおよび(メタ)アクリルアミ
ドが挙げられる。
Acrylic monomers include C3-30, such as (meth) acrylic acid and its derivatives.
Examples of derivatives of (meth) acrylic acid include alkyl (C1-20) (meth) acrylate [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth)
Acrylate etc.], mono- and di-alkyl (C1-4) aminoalkyl (C2-4) (meth) acrylate [methylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate etc.], (meth) acrylonitrile and (Meth) acrylamide is mentioned.

その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸としては、C2〜30(好ましくは3〜20、さらに好ましくは4〜15)の不飽和モノ−およびジカルボン酸、例えば、クロトン酸、マレイン酸、フマール酸およびイタコン酸等が挙げられ、その誘導体としては、C5〜30、例えばモノ−およびジアルキル(C1〜20)エステル、酸無水物(無水マレイン酸等)および酸イミド(マレイン酸イミド等)等が挙げられる。   Other unsaturated mono- and dicarboxylic acids include C2-30 (preferably 3-20, more preferably 4-15) unsaturated mono- and dicarboxylic acids such as crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and itacon. Examples thereof include C5-30, such as mono- and dialkyl (C1-20) esters, acid anhydrides (maleic anhydride, etc.) and acid imides (maleic imide, etc.).

不飽和アルコールのカルボン酸エステルとしては、不飽和アルコール[C2〜6、例えばビニルアルコール 、(メタ)アリルアルコール]のカルボン酸(C2〜4、例えば酢
酸、プロピオン酸)エステル(酢酸ビニル等)が挙げられる。
不飽和アルコールのアルキルエーテルとしては、上記不飽和アルコールのアルキル(C1〜20)エーテル(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等)が挙げられる。ハロゲン含有ビニルモノマーとしては、C2〜12、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデンおよびクロロプレンが挙げられる。
Examples of carboxylic acid esters of unsaturated alcohols include carboxylic acids (C2-4, such as acetic acid, propionic acid) esters (vinyl acetate, etc.) of unsaturated alcohols [C2-6, such as vinyl alcohol, (meth) allyl alcohol]. It is done.
Examples of the alkyl ether of the unsaturated alcohol include alkyl (C1-20) ethers of the above unsaturated alcohol (such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether). Halogen-containing vinyl monomers include C2-12, such as vinyl chloride, vinylidene chloride and chloroprene.

ポリオレフィン樹脂(C2)としては、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体[共重合比(重量比)=0.1/99.9〜99.9/0.1]、プロピレンおよび/またはエチレンと他のα−オレフィン(C4〜12)の1種以上との共重合体(ランダムおよび/またはブロック付加)[共重合比(重量比)=99/1〜5/95]、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]、エチレン/エチルアクリレート共重合体(EEA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレンおよび/またはエチレンとC4〜12のα−オレフィンの1種以上との共重合体[共重合比(重量比)=90/10〜10/90、ランダムおよび/またはブロック付加]である。
Examples of the polyolefin resin (C2) include polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 0.1 / 99.9 to 99.9 / 0.1], propylene and / or ethylene. And other α-olefin (C4-12) copolymers (random and / or block addition) [copolymerization ratio (weight ratio) = 99 / 1-5 / 95], ethylene / vinyl acetate Copolymer (EVA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], ethylene / ethyl acrylate copolymer (EEA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40 ].
Among these, preferred are polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer, propylene and / or a copolymer of ethylene and one or more of C4-12 α-olefin [copolymerization ratio (weight ratio) = 90. / 10 to 10/90, random and / or block addition].

(C2)のMFRは、樹脂物性、導電性付与の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6758に準じて(ポリプ
ロピレンの場合:230℃、荷重2.16kgf、ポリエチレンの場合:190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(C2)の結晶化度は、導電性の観点から好ましくは0〜98%、さらに好ましくは0〜80%、とくに好ましくは0〜70%である。
結晶化度は、X線回折、赤外線吸収スペクトル等の方法によって測定される〔「高分子の固体構造−高分子実験学講座2」(南篠初五郎)、42頁、共立出版1958年刊参照〕。
The MFR of (C2) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of imparting resin physical properties and conductivity. The MFR is measured according to JIS K6758 (in the case of polypropylene: 230 ° C., load 2.16 kgf, in the case of polyethylene: 190 ° C., load 2.16 kgf).
The crystallinity of (C2) is preferably 0 to 98%, more preferably 0 to 80%, and particularly preferably 0 to 70% from the viewpoint of conductivity.
The crystallinity is measured by a method such as X-ray diffraction, infrared absorption spectrum, etc. [Refer to “Solid Structure of Polymers—Lecture of Polymer Experiments 2” (Hatsugoro Minamishino), page 42, published by Kyoritsu Shuppan 1958).

ポリアクリル樹脂(C3)としては、例えば前記アクリルモノマー〔アルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等〕の1種以上の(共)重合体[ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル等]およびこれらのモノマーの1種以上と共重合可能な前記ビニルモノマーの1種以上との共重合体[アクリルモノマー/ビニルモノマー共重合比(重量比)は樹脂物性の観点から好ましくは5/95〜95/5、さらに好ましくは50/50〜90/10][但し、(C2)に含まれるものは除く]が含まれる。   Examples of the polyacrylic resin (C3) include one or more (co) polymers [poly (meth) acrylic acid methyl ester, such as the above-mentioned acrylic monomers [alkyl (C1-20) (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, etc.], Poly (meth) butyl acrylate, etc.] and copolymers with one or more of the above-mentioned vinyl monomers copolymerizable with one or more of these monomers [acrylic monomer / vinyl monomer copolymerization ratio (weight ratio) is a resin physical property In view of the above, preferably 5/95 to 95/5, more preferably 50/50 to 90/10] [however, those included in (C2) are excluded] are included.

(C3)のMFRは、樹脂物性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好まし
くは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じて(ポリアクリル樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。
The MFR of (C3) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100 from the viewpoint of resin physical properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (230 ° C in the case of polyacrylic resin, load 1.2 kgf).

ポリスチレン樹脂(C4)としては、ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体が挙げられる。
ビニル基含有芳香族炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、
例えばo−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。
(C4)の具体例としては、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AS樹脂)[共重合比(重量比)=70/30〜80/20]、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)[共重合比(重量比)=60/40〜90/10]、スチレン/ブタジエン共重合体[共重合比(重量比)=60/40〜95/5]、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]等が挙げられる。
As the polystyrene resin (C4), a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, and at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile and butadiene Examples thereof include a copolymer as a structural unit.
Examples of vinyl group-containing aromatic hydrocarbons include C8-30 styrene and its derivatives,
For example, o-, m-, and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyl toluene, etc.), α-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, etc.) and halogenated styrene (chlorostyrene, etc.) can be mentioned. .
Specific examples of (C4) include polystyrene, polyvinyltoluene, styrene / acrylonitrile copolymer (AS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 70/30 to 80/20], styrene / methyl methacrylate copolymer. (MS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 90/10], styrene / butadiene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 95/5], acrylonitrile / butadiene / Styrene copolymer (ABS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)], methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer (MBS resin) [Copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)].

(C4)のMFRは、樹脂物性、導電性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6871(1994年)に準じて(ポリスチレン樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。   The MFR of (C4) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and conductivity. MFR is measured according to JIS K6871 (1994) (230 ° C. in the case of polystyrene resin, load 1.2 kgf).

ポリエステル樹脂(C5)としては、芳香環含有ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート等)および脂肪族ポリエステル(ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート、ポリ−ε−カプロラクトン等)が挙げられる。   Examples of the polyester resin (C5) include aromatic ring-containing polyesters (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, etc.) and aliphatic polyesters (polybutylene adipate, polyethylene adipate, poly-ε-caprolactone, etc.).

(C5)の固有粘度[η]は、樹脂物性、導電性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリマーの0.5重量%オルトクロロフェノール溶液について、25℃でウベローデ1A粘度計を用いて測定される。   The intrinsic viscosity [η] of (C5) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and conductivity. [Η] is measured with a Ubbelohde 1A viscometer at 25 ° C. for a 0.5 wt% orthochlorophenol solution of the polymer.

ポリアミド樹脂(C6)としては、ラクタム開環重合体(C61)、ジアミンとジカルボン酸の脱水重縮合体(C62)、アミノカルボン酸の自己重縮合体(C63)およびこれらの重(縮)合体を構成するモノマー単位が2種類以上である共重合ナイロン等が挙げられる。   As the polyamide resin (C6), a lactam ring-opening polymer (C61), a dehydration polycondensation product of diamine and dicarboxylic acid (C62), a self-polycondensation product of aminocarboxylic acid (C63), and a poly (condensation) combination thereof. Examples thereof include copolymer nylon having two or more types of monomer units.

(C61)におけるラクタムとしては、前記(b111)で例示したものが挙げられ、(C61)としては、ナイロン4、ナイロン5、ナイロン6、ナイロン8、ナイロン12等が挙げられる。
(C62)におけるジアミンとジカルボン酸としては、前記(b113)で例示したものが挙げられ、(C62)としては、ヘキサンメチレンジアミンとアジピン酸の縮重合によるナイロン66、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の重縮合によるナイロン610等が挙げられる。
(C63)におけるアミノカルボン酸としては、前記(b112)で例示したものが挙げられ、(C63)としては、アミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11、12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12等が挙げられる。
Examples of the lactam in (C61) include those exemplified in the above (b111), and examples of (C61) include nylon 4, nylon 5, nylon 6, nylon 8, nylon 12, and the like.
Examples of the diamine and dicarboxylic acid in (C62) include those exemplified in the above (b113). Examples of (C62) include nylon 66 obtained by polycondensation of hexanemethylenediamine and adipic acid, and the weight of hexamethylenediamine and sebacic acid. Examples thereof include nylon 610 by condensation.
Examples of the aminocarboxylic acid in (C63) include those exemplified in the above (b112). Examples of (C63) include nylon 7 by polycondensation of aminoenanthate, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, Nylon 12 and the like by polycondensation of 12-aminododecanoic acid.

(C6)の製造に際しては、分子量調整剤を使用してもよく、分子量調整剤としては、(b113)で例示したジカルボン酸および/またはジアミンが挙げられる。
分子量調整剤としてのジカルボン酸のうち、好ましいのは脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩であり、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。また、分子量調整剤としてのジアミンのうち、好ましいのはヘキサメチレンジアミン、デカメチレンジアミンである。
In the production of (C6), a molecular weight modifier may be used, and examples of the molecular weight modifier include the dicarboxylic acid and / or diamine exemplified in (b113).
Of the dicarboxylic acids as molecular weight modifiers, preferred are aliphatic dicarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids and alkali metal salts of 3-sulfoisophthalic acid, and more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and It is sodium 3-sulfoisophthalate. Of the diamines as molecular weight regulators, hexamethylene diamine and decamethylene diamine are preferable.

(C6)のMFRは、樹脂物性、導電性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリアミド樹脂の場合は、230℃、荷重0.325kgf)測定される。
The MFR of (C6) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and conductivity. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyamide resin, 230 ° C., load 0.325 kgf).

ポリカーボネート樹脂(C7)としては、ビスフェノール(C12〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−S、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタン)系およびジヒドロキシビフェニル系ポリカーボネート、例えば上記ビスフェノールとホスゲンまたは炭酸ジエステルとの縮合物が挙げられる。上記ビスフェノールのうち(A)の分散性の観点から好ましいのはビスフェノールAである。
(C7)のMFRは、樹脂物性、導電性の観点から好ましくは0.5〜150、さ
らに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリカーボネート樹脂の場合は280℃、荷重2.16kgf)測定される。
Polycarbonate resins (C7) include bisphenols (C12-20, such as bisphenol A, -F and -S, 4,4'-dihydroxydiphenyl-2,2-butane) and dihydroxybiphenyl polycarbonates such as bisphenol and phosgene. Or the condensate with a carbonic acid diester is mentioned. Of the above bisphenols, bisphenol A is preferred from the viewpoint of the dispersibility of (A).
The MFR of (C7) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and conductivity. MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polycarbonate resin, 280 ° C., load 2.16 kgf).

ポリアセタール樹脂(C8)としては、ホルムアルデヒドまたはトリオキサンのホモポリマー(ポリオキシメチレンホモポリマー)、およびホルムアルデヒドまたはトリオキサンと環状エーテル[前記AO(EO、PO、ジオキソラン等)等]との共重合体(ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレンコポリマー[ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレン(重量比)=90/10〜99/1のブロック共重合体等]等が挙げられる。
(C8)のMFRは、樹脂物性、導電性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリアセタール樹脂の場合は190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(C8)の固有粘度[η]は、樹脂物性、導電性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。
Examples of the polyacetal resin (C8) include formaldehyde or trioxane homopolymer (polyoxymethylene homopolymer), and a copolymer of formaldehyde or trioxane and a cyclic ether [the above-mentioned AO (EO, PO, dioxolane, etc.)] (polyoxy). And methylene / polyoxyethylene copolymer [polyoxymethylene / polyoxyethylene (weight ratio) = 90/10 to 99/1 block copolymer, etc.].
The MFR of (C8) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and conductivity. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyacetal resin, 190 ° C., load 2.16 kgf).
The intrinsic viscosity [η] of (C8) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and conductivity.

生分解性樹脂(C9)としては、ポリヒドロキシブチレート、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリブチレンサクシネート、アジペート変性ポリブチレンサクシネート、カーボネート変性ポリブチレンサクシネート、テレフタレート変性ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンサクシネートおよびポリビニルアルコールが含まれる。   Examples of the biodegradable resin (C9) include polyhydroxybutyrate, polylactic acid, polycaprolactone, polybutylene succinate, adipate-modified polybutylene succinate, carbonate-modified polybutylene succinate, terephthalate-modified polybutylene succinate, polyethylene succinate And polyvinyl alcohol.

(C9)のうち、ポリヒドロキシブチレートとしては、例えばビオグリーン[三菱ガス化学(株)製)];ポリ乳酸としては、例えばレイシア[三井化学(株)製)];ポリカプロラクトンとしては、例えばセルグリーン[ダイセル化学工業(株)製];ポリブチレンサクシネートとしては、例えばビオノーレ[昭和高分子(株)製)];ポリエチレンサクシネートとしては、例えばルナーレSE[日本触媒(株)製)];ポリビニルアルコールとしては、例えばポバール[クラレ(株)製)]が挙げられる。   Among (C9), as polyhydroxybutyrate, for example, biogreen [manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.]]; as polylactic acid, for example, Lacia [manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.]]; as polycaprolactone, for example, Cell Green [manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.]; Polybutylene succinate, for example, Bionore [manufactured by Showa Polymer Co., Ltd.]; Polyethylene succinate, for example, Lunare SE (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)] Examples of polyvinyl alcohol include Poval [manufactured by Kuraray Co., Ltd.].

本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲において、必要により導電性向上剤(D)、相溶化剤(E)、およびその他の樹脂用添加剤(F)からなる群から選ばれる少なくとも一種の添加剤を含有させてもよい。   The resin composition of the present invention includes a conductive improver (D), a compatibilizing agent (E), and other resin additives (F) as necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. At least one additive selected may be included.

導電性向上剤(D)には、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩(D1)、界面活性剤(D2)およびイオン性液体(D3)からなる群から選ばれる1種または2種以上が含まれる。
(D1)としては、アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)および/またはアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)の有機酸(C1〜12のモノ−およびジ−カルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、コハク酸;C1〜20のスルホン酸、例えばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸;チオシアン酸)の塩、および無機酸(ハロゲン化水素酸、例えば塩酸、臭化水素酸;過塩素酸;硫酸;硝酸;リン酸)の塩が使用できる。
The conductivity improver (D) includes one or more selected from the group consisting of alkali metal or alkaline earth metal salts (D1), surfactants (D2) and ionic liquids (D3). It is.
(D1) includes alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) and / or alkaline earth metal (magnesium, calcium, etc.) organic acids (C1-12 mono- and di-carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, Propionic acid, oxalic acid, succinic acid; salts of C1-20 sulfonic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid; thiocyanic acid, and inorganic acids (hydrohalic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid; A salt of perchloric acid; sulfuric acid; nitric acid; phosphoric acid) can be used.

(D1)の具体例としては、ハロゲン化物[フッ化物(フッ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、塩化物(塩化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、臭化物(臭化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)およびヨウ化物(ヨウ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)等]、過塩素酸塩(過塩素酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、フッ化スルホン酸塩(フルオロスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、メタンスルホン酸塩(メタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリフルオロメタンスルホン酸塩(トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ペンタフルオロエタンスルホン酸塩(ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ノナフルオロブタンスルホン酸塩(ノナフルオロブタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸塩(ウンデカフルオロペンタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸塩(トリデカフルオロヘキサンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、酢酸塩(酢酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、硫酸塩(硫酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、燐酸塩(燐酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、チオシアン酸塩(チオシアン酸カリウム等)等が挙げられる。
これらのうち導電性の観点から好ましいのは、ハロゲン化物、過塩素酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、酢酸塩、さらに好ましいのは塩化リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、過塩素酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、酢酸カリウムである。
Specific examples of (D1) include halides [fluorides (lithium fluoride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), chlorides (lithium chloride, -sodium, -potassium, -magnesium, and -calcium). Etc.), bromides (such as lithium bromide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium) and iodides (such as lithium iodide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium) etc.], perchlorates (Such as lithium perchlorate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), fluorinated sulfonates (such as lithium fluorosulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), methanesulfonate ( Lithium methanesulfonate, -sodium, Potassium, -magnesium and -calcium), trifluoromethanesulfonate (lithium trifluoromethanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), pentafluoroethanesulfonate (lithium pentafluoroethanesulfonate, -Sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), nonafluorobutane sulfonate (such as lithium nonafluorobutane sulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), undecafluoropentane sulfonate ( Undecafluoropentanesulfonate lithium, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium, etc.), tridecafluorohexanesulfonate (tridecafluorohexanes) Lithium fonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), acetates (lithium acetate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), sulfates (sodium sulfate, -potassium, -magnesium and -Calcium etc.), phosphate (sodium phosphate, -potassium, -magnesium, -calcium etc.), thiocyanate (potassium thiocyanate etc.), etc. are mentioned.
Among these, from the viewpoint of conductivity, preferred are halides, perchlorates, trifluoromethanesulfonates, acetates, and more preferred are lithium chloride, -potassium and -sodium, lithium perchlorate, -potassium and -Sodium, lithium trifluoromethanesulfonate,-potassium and-sodium, potassium acetate.

(D1)の使用量は、導電性向上効果の観点および樹脂表面に析出せず良好な外観の樹脂成形品を与える観点から、導電性付与剤(X)および(C)の合計重量に基づいて、好ましくは0.001〜3%、さらに好ましくは0.01〜2.5%、特に好ましくは0.1〜2%、最も好ましくは0.15〜1%である。
(D1)を含有させる方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散のさせ易さから、親水性基含有ポリマー(B)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(B)中へ(D)を分散させる場合、(B)の製造(重合)時に予め(D1)を含有、分散させておくのが特に好ましい。(D1)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
The amount of (D1) used is based on the total weight of the conductivity-imparting agents (X) and (C) from the viewpoint of the conductivity improvement effect and from the viewpoint of giving a resin molded article having a good appearance without being deposited on the resin surface. , Preferably 0.001 to 3%, more preferably 0.01 to 2.5%, particularly preferably 0.1 to 2%, and most preferably 0.15 to 1%.
Although there is no particular limitation on the method of containing (D1), it is preferable to disperse in advance in the hydrophilic group-containing polymer (B) from the viewpoint of ease of effective dispersion in the composition.
Further, when (D) is dispersed in (B), it is particularly preferable that (D1) is contained and dispersed in advance during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (D1) is contained during the production of (B), and any of the timing before polymerization, during polymerization, and immediately after polymerization may be used.

(D2)としては、非イオン性、アニオン性、カチオン性および両性の界面活性剤、並びにこれらの混合物が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えばEO付加型非イオン性界面活性剤[例えば高
級アルコール(C8〜18、以下同じ)、高級脂肪酸(C8〜24、以下同じ)または高級アルキルアミン(C8〜24)のEO付加物(分子量158以上かつMn200,000以下);グリコールのEO付加物であるポリアルキレングリコール(分子量150以上かつMn6,000以下)の高級脂肪酸エステル;多価アルコール(C2〜18の2価〜8価またはそれ以上、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタン)高級脂肪酸エステルのEO付加物(分子量250以上かつMn30,000以下);高級脂肪酸アミドのEO付加物(分子量200以上かつMn30,000以下);および多価アルコール(前記のもの)アルキル(C3〜60)エーテルのEO付加物(分子量120以上かつMn30,000以下)]、および多価アルコ−ル(C3〜60)型非イオン性界面活性剤[例えば多価アルコールの脂肪酸(C3〜60)エステル、多価アルコールのアルキル(C3〜60)エーテルおよび脂肪酸(C3〜60)アルカノールアミド]が挙げられる。
(D2) includes nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants, and mixtures thereof.
Nonionic surfactants include, for example, EO addition type nonionic surfactants [for example, higher alcohol (C8-18, the same hereinafter), higher fatty acid (C8-24, same hereinafter) or higher alkylamine (C8-24). ) EO adduct (molecular weight 158 or more and Mn 200,000 or less); higher fatty acid ester of polyalkylene glycol (molecular weight 150 or more and Mn 6,000 or less) which is an EO adduct of glycol; polyhydric alcohol (C2-18) EO adduct of higher fatty acid ester (molecular weight of 250 or more and Mn of 30,000 or less); EO adduct of higher fatty acid amide (molecular weight 200) And Mn 30,000 or less); And polyhydric alcohol (as described above) EO adduct of alkyl (C3-60) ether (molecular weight of 120 or more and Mn30,000 or less)], and polyhydric alcohol (C3-60) type nonionic surfactant [For example, fatty acid (C3-60) ester of polyhydric alcohol, alkyl (C3-60) ether of polyhydric alcohol and fatty acid (C3-60) alkanolamide].

アニオン性界面活性剤としては、上記(D1)を除く化合物が使用でき、例えば、高級脂肪酸塩等のカルボン酸塩;高級アルコール硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩等の硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩等のスルホン酸塩;高級アルコールリン酸エステル塩等のリン酸エステル塩等が挙げられる。   As the anionic surfactant, compounds other than the above (D1) can be used, for example, carboxylates such as higher fatty acid salts; sulfates such as higher alcohol sulfates and higher alkyl ether sulfates; alkylbenzene sulfones. Examples thereof include sulfonates such as acid salts, alkyl sulfonates, and paraffin sulfonates; and phosphate ester salts such as higher alcohol phosphate salts.

カチオン性界面活性剤としては、第4級アンモニウム塩型[例えばテトラアルキル(C4〜100)アンモニウム塩(例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデ
シルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド)、トリアルキル(C3〜80)ベンジルアンモニウム塩(例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム)、アルキル(C2〜60)ピリジニウム塩(例えばセチルピリジニウムクロライド)、ポリオキシアルキレン(C2〜4)トリアルキルアンモニウム塩(例えばポリオキシエチレントリメチルアンモニウムクロライド)およびサパミン型第4級アンモニウム塩(例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート)];およびアミン塩型[例えば高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン)の無機酸(例えば塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸)塩、脂肪族アミン(C1〜30)のエチレンオキシド付加物等の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩および3級アミン(C3〜30、例えばトリエタノールアミンモノステアレートおよびステアラミドエチルジエチルメチルエタノールアミン)の無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩]が挙げられる。
Cationic surfactants include quaternary ammonium salt types [eg, tetraalkyl (C4-100) ammonium salts (eg, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyldimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), Alkyl (C3-80) benzylammonium salts (eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride), alkyl (C2-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride), polyoxyalkylene (C2-4) trialkylammonium salts (Eg, polyoxyethylenetrimethylammonium chloride) and sapamine type quaternary ammonium salts (eg, stearamide ester) Rudiethylmethyl ammonium methosulfate)]; and amine salt forms [eg higher aliphatic amines (C12-60, eg laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallow amine and rosinamine) inorganic acids (eg hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and Phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, such as acetic acid, propionic acid, lauric acid, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, ethylene oxide adducts of aliphatic amines (C1-30) Inorganic acids (above) or organic acids (above) and tertiary amines (C3-30, eg triethanolamine monostearate and stearamide ethyl diethyl methylethanolamine) Thing) salt or organic acid (above thing) salt] It is.

両性界面活性剤としては、高級アルキルアミノプロピオン酸塩等のアミノ酸型両性界面活性剤、高級アルキルジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン等のベタイン型両性界面活性剤等が挙げられる。
両性界面活性剤としては、アミノ酸型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)のプロピオン酸塩]、ベタイン型両性界面活性剤[例えば高級アルキル(C12〜18)ジメチルベタイン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン]、硫酸エステ
ル塩型両性界面活性剤[例えば高級アルキルアミン(C8〜24)の硫酸エステル塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステル塩]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(例えばペンタデシルスルホタウリン塩およびイミダゾリンスルホン酸塩)およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤[例えばグリセリン高級脂肪酸(C8〜24)エステル化物のリン酸エステル塩]が挙げられる。
Examples of amphoteric surfactants include amino acid-type amphoteric surfactants such as higher alkylaminopropionates, and betaine-type amphoteric surfactants such as higher alkyldimethylbetaine and higher alkyldihydroxyethylbetaine.
Examples of amphoteric surfactants include amino acid type amphoteric surfactants [for example, propionates of higher alkylamines (C8-24)], betaine type amphoteric surfactants [for example, higher alkyl (C12-18) dimethylbetaines, higher alkyldihydroxys. Ethyl betaine], sulfate ester type amphoteric surfactants [for example, sulfates of higher alkylamines (C8-24) and hydroxyethyl imidazoline sulfate esters], sulfonate type amphoteric surfactants (for example, pentadecyl sulfotaurine salts) And imidazoline sulfonate) and phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, phosphate ester salts of glycerol higher fatty acid (C8-24) esterified products].

これらは単独でも2種以上を併用してもよい。
上記のアニオン性および両性界面活性剤における塩には、金属塩、例えばアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウム等)およびIIB族金属(亜鉛等)の塩;アンモニウム塩;並びに、アミン塩[アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩等]および4級アンモニウム塩が含まれる。
これらのうち、導電性の観点から好ましいのはアニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、特に好ましいのはアルキルベンゼンスルホン酸塩(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等)、アルキルスルホン酸塩およびパラフィンスルホン酸塩である。
These may be used alone or in combination of two or more.
Salts in the above anionic and amphoteric surfactants include metal salts, such as salts of alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.) and group IIB metals (zinc, etc.); And ammonium salts [alkylamine (C1-20) and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di- and triethanolamine) salts] and quaternary ammonium salts.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of conductivity, sulfonates are more preferred, alkylbenzene sulfonates (such as sodium dodecylbenzene sulfonate), alkyl sulfonates and paraffin sulfones are particularly preferred. Acid salt.

(D2)の使用量は、導電性付与剤(X)、(C)の合計重量に基づいて、好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%、特に好ましくは0.1〜2.5%である。
(D2)を含有させる方法についても特に限定はないが、樹脂組成物中へ効果的に分散させるためには、(B)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(B)中へ(D2)を分散させる場合、(B)の製造(重合)時に該(D2)を予め含有、分散させておくのが特に好ましい。(D2)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後の何れでもよい。
The amount of (D2) used is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%, particularly preferably 0.001% based on the total weight of the conductivity-imparting agents (X) and (C). 1 to 2.5%.
The method of containing (D2) is also not particularly limited, but it is preferable to disperse in (B) in advance in order to effectively disperse it in the resin composition. Further, when (D2) is dispersed in (B), it is particularly preferable that (D2) is previously contained and dispersed during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (D2) is contained during the production of (B), and any time before polymerization, during polymerization, or immediately after polymerization may be used.

(D3)は、上記(D1)および(D2)を除く化合物で、室温以下の融点を有し、(D3)を構成するカチオンまたはアニオンのうち少なくとも一つが有機物イオンで、初期
電導度が1〜200ms/cm(好ましくは10〜200ms/cm)である常温溶融塩であって、例えばWO95/15572公報に記載の常温溶融塩が挙げられる。(D3)を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンが挙げられる。
(D3) is a compound other than the above (D1) and (D2), has a melting point of room temperature or lower, and at least one of cations or anions constituting (D3) is an organic ion, and has an initial conductivity of 1 to 1. A room temperature molten salt of 200 ms / cm (preferably 10 to 200 ms / cm), for example, a room temperature molten salt described in WO95 / 15572. Examples of the cation constituting (D3) include an amidinium cation, a guanidinium cation, and a tertiary ammonium cation.

アミジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウムカチオン[1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウム等]、イミダゾリウムカチオン[1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウム等]、テトラヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1
,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム等]、およびジヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム等]が挙げられる。
Examples of the amidinium cation include an imidazolinium cation [1,2,3,4-tetramethylimidazolinium, 1,3,4-trimethyl-2-ethylimidazolinium, 1,3-dimethylimidazolinium. 1,3-dimethyl-2,4-diethylimidazolinium, etc.], imidazolium cation [1,3-dimethylimidazolium, 1,3-diethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1, 2,3-trimethylimidazolium etc.], tetrahydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1
, 4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4,5 6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,5-tetramethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and dihydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1,4- Or 1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium and the like].

グアニジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエ
チルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリニウム等]、イミダゾリウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウム等]、テトラヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム等]、およびジヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム等]が挙げられる。
Examples of the guanidinium cation include a guanidinium cation having an imidazolinium skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolinium, etc.], guanidinium cation having an imidazolium skeleton [2-dimethyl Amino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-methyl -3,4-diethylimidazolium, etc.], tetrahydropyrimidiniu Guanidinium cation having a skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4 , 5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and guanidinium having a dihydropyrimidinium skeleton Cation [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1, 6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, etc.] And the like.

3級アンモニウムカチオンとしては、例えばメチルジラウリルアンモニウムが挙げられる。   Examples of the tertiary ammonium cation include methyl dilauryl ammonium.

上記のアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンは1種単独でも、また2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち、初期電導度の観点から好ましいのはアミジニウムカチオン、さらに好ましいのはイミダゾリウムカチオン、特に好ましいのは1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。
The amidinium cation, guanidinium cation and tertiary ammonium cation may be used alone or in combination of two or more.
Of these, from the viewpoint of initial conductivity, an amidinium cation is preferable, an imidazolium cation is more preferable, and a 1-ethyl-3-methylimidazolium cation is particularly preferable.

(D3)において、アニオンを構成する有機酸または無機酸としては下記のものが挙げられる。
有機酸としては、例えばカルボン酸、硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル、スルホン酸およびリン酸エステルが挙げられる。
無機酸としては、例えば超強酸(例えばホウフッ素酸、四フッ化ホウ素酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、六フッ化アンチモン酸および六フッ化ヒ素酸)、リン酸およびホウ酸が挙げられる。
上記有機酸および無機酸は1種単独でも2種以上の併用でもいずれでもよい。
上記有機酸および無機酸のうち、(D3)の初期電導度の観点から好ましいのは(D3)を構成するアニオンのHamett酸度関数(−H0)が12〜100である、超強酸
の共役塩基、超強酸の共役塩基以外のアニオンを形成する酸およびこれらの混合物である。
In (D3), examples of the organic acid or inorganic acid constituting the anion include the following.
Examples of the organic acid include carboxylic acid, sulfate ester, higher alkyl ether sulfate ester, sulfonic acid and phosphate ester.
Examples of the inorganic acid include super strong acids (for example, borofluoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroantimonic acid and hexafluoroarsenic acid), phosphoric acid and boric acid. It is done.
The organic acid and inorganic acid may be used alone or in combination of two or more.
Among the organic and inorganic acids, Hamett acidity function initial conductivity standpoint preferred from of the anion constituting the (D3) of (D3) (-H 0) is 12 to 100, the superacid conjugate base , Acids that form anions other than the conjugate bases of super strong acids, and mixtures thereof.

超強酸の共役塩基以外のアニオンとしては、例えばハロゲン(例えばフッ素、塩素および臭素)イオン、アルキル(C1〜12)ベンゼンスルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(例えばウンデカフルオロペンタンスルホン酸)イオンが挙げられる。   Examples of the anion other than the conjugate base of the super strong acid include halogen (for example, fluorine, chlorine and bromine) ions, alkyl (C1-12) benzenesulfonic acid (for example, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid) ions and poly (n = 1-25) Fluoroalkanesulfonic acid (for example, undecafluoropentanesulfonic acid) ion.

超強酸としては、プロトン酸およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせから誘導されるもの、およびこれらの混合物が挙げられる。
超強酸としてのプロトン酸としては、例えばビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタン、過塩素酸、フルオロスルホン酸、アルカン(C1〜30)スルホン酸[例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸等)、ポリ(n=1〜30)フルオロアルカン(C1〜30)スルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンス
ルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸およびトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ホウフッ素酸および四フッ化ホウ素酸が挙げられる。
これらのうち合成の容易さの観点から好ましいのはホウフッ素酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸である。
Super strong acids include those derived from protonic acids and combinations of protonic acids and Lewis acids, and mixtures thereof.
Examples of the protonic acid as the super strong acid include bis (trifluoromethylsulfonyl) imidic acid, bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid, tris (trifluoromethylsulfonyl) methane, perchloric acid, fluorosulfonic acid, alkane (C1 -30) sulfonic acid [eg methane sulfonic acid, dodecane sulfonic acid etc.], poly (n = 1-30) fluoroalkane (C1-30) sulfonic acid (eg trifluoromethane sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, heptafluoropropane) Sulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid and tridecafluorohexanesulfonic acid), borofluoric acid and tetrafluoroboric acid.
Of these, borofluoric acid, trifluoromethanesulfonic acid and bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid are preferred from the viewpoint of ease of synthesis.

ルイス酸と組合せて用いられるプロトン酸としては、例えばハロゲン化水素(例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素)、過塩素酸、フルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうち(D3)の初期電導度の観点から好ましいのはフッ化水素である。
ルイス酸としては、例えば三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタルおよびこれらの混合物が挙げられる。これらのうちで、(D3)の初期電導度の観点から好ましいのは三フッ化ホウ素および五フッ化リンである。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせからなる超強酸としては、例えばテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、六フッ化タンタル酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化タンタルスルホン酸、四フッ化ホウ素酸、六フッ化リン酸、塩化三フッ化ホウ素酸、六フッ化ヒ素酸およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the protonic acid used in combination with the Lewis acid include hydrogen halides (for example, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide), perchloric acid, fluorosulfonic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid. , Pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid, tridecafluorohexanesulfonic acid and mixtures thereof.
Of these, hydrogen fluoride is preferred from the viewpoint of the initial conductivity of (D3).
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, tantalum pentafluoride, and mixtures thereof. Of these, boron trifluoride and phosphorus pentafluoride are preferable from the viewpoint of the initial conductivity of (D3).
The combination of the protonic acid and the Lewis acid is arbitrary, but as the super strong acid comprising these combinations, for example, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluorotantalic acid, hexafluoroantimonic acid, tantalum hexafluoride Examples include sulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, chloroboron trifluoride, arsenic hexafluoride, and mixtures thereof.

上記のアニオンのうち、(D3)の初期電導度の観点から好ましいのは超強酸の共役塩基(プロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸とルイス酸との組合せからなる超強酸)、さらに好ましいのはプロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸と、三フッ化ホウ素および/または五フッ化リンとからなる超強酸の共役塩基である。   Among the above anions, (D3) from the viewpoint of the initial conductivity, a super strong acid conjugate base (a super strong acid consisting of a proton acid and a super strong acid consisting of a combination of a proton acid and a Lewis acid), more preferably It is a conjugate base of a super strong acid consisting of a super strong acid consisting of a proton acid and a proton acid and boron trifluoride and / or phosphorus pentafluoride.

(D3)の使用量は、導電性付与剤(X)、(C)の合計重量に基づいて、通常10%以下、成形品の良好な外観と導電性効果、および機械特性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(D3)を添加する方法についても特に限定はないが、樹脂中への効果的な分散の観点から、(B)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(B)中へ(D3)を分散させる場合、(B)の製造(重合)時に予め(D3)を含有、分散させておくのが特に好ましい。(D3)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
The amount of (D3) used is preferably 10% or less based on the total weight of the conductivity-imparting agents (X) and (C), preferably from the viewpoint of good appearance and conductivity effect of the molded product, and mechanical properties. 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%.
The method of adding (D3) is also not particularly limited, but it is preferable to disperse in (B) in advance from the viewpoint of effective dispersion in the resin. Further, when (D3) is dispersed in (B), it is particularly preferable that (D3) is contained and dispersed in advance during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing at which (D3) is contained during the production of (B), and any time before polymerization, during polymerization, or immediately after polymerization may be used.

(D3)の製造法としては、例えばジメチルカーボネート等で4級化して得られるアミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンのジメチルカーボネート塩に、酸[(D3)においてアニオンを構成する前記の有機酸または無機酸]を加えて酸交換を行う方法、または、アミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンを一旦加水分解してモノアミドアミンを生成した後、そのモノアミドアミンを酸(前記に同じ)で中和する方法が挙げられる。   The production method of (D3) includes, for example, an amidinium cation and / or guanidinium cation dimethyl carbonate salt obtained by quaternization with dimethyl carbonate, etc. Acid or inorganic acid] to perform acid exchange, or after amidinium cation and / or guanidinium cation is hydrolyzed to form monoamidoamine, the monoamidoamine is converted to acid (same as above) The method of neutralizing with is mentioned.

相溶化剤(E)としては、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基(極性基)を有する変性ビニル重合体等が使用でき、例えば、特開平3−258850号公報に記載の重合体が挙げられる。また、例えば、特開平6−345927号公報に記載のスルホニル基を有する変性ビニル重合体、ポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック重合体等も使用できる。
(E)の使用量は、樹脂物性の観点から、導電性付与剤(X)、(C)の合計重量に基づいて、好ましくは0.1〜15%、さらに好ましくは1〜10%、特に好ましくは1.5〜8%である。
(E)を含有させる方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散もしくは溶解のさせ易さから、親水性基含有ポリマー(B)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(B)中へ(E)を分散もしくは溶解させる場合、(B)の製造(重合)時に予め(E)を含有させておくのが特に好ましい。(E)を(B)の製造時に含有させるタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合直後のいずれでもよい。
As the compatibilizer (E), a modified vinyl polymer having at least one functional group (polar group) selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group is used. Examples thereof include polymers described in JP-A-3-258850. Further, for example, a modified vinyl polymer having a sulfonyl group described in JP-A-6-345927, a block polymer having a polyolefin portion and an aromatic vinyl polymer portion, and the like can be used.
The use amount of (E) is preferably 0.1 to 15%, more preferably 1 to 10%, particularly preferably 1 to 10%, based on the total weight of the conductivity-imparting agents (X) and (C), from the viewpoint of resin physical properties. Preferably it is 1.5 to 8%.
The method of containing (E) is not particularly limited, but it is preferable to disperse it in advance in the hydrophilic group-containing polymer (B) from the viewpoint of easy dispersion or dissolution in the composition. .
In addition, when (E) is dispersed or dissolved in (B), it is particularly preferable to contain (E) in advance during the production (polymerization) of (B). There is no particular limitation on the timing of incorporating (E) during the production of (B), and any of the timing before polymerization, during polymerization, and immediately after polymerization may be used.

また、本発明の樹脂組成物には、種々の用途に応じ、本発明の効果を阻害しない範囲でその他の樹脂用添加剤(F)を任意に添加することができる。
(F)としては、核剤(F1)、滑剤(F2)、顔料(F3)、染料(F4)、離型剤(F5)、酸化防止剤(F6)、難燃剤(F7)、紫外線吸収剤(F8)、抗菌剤(F9)、分散剤(F10)、可塑剤(F11)、導電性物質(F12)および充填剤(F13)からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
Moreover, according to various uses, the other resin additive (F) can be arbitrarily added to the resin composition of this invention in the range which does not inhibit the effect of this invention.
(F) includes nucleating agent (F1), lubricant (F2), pigment (F3), dye (F4), mold release agent (F5), antioxidant (F6), flame retardant (F7), ultraviolet absorber Examples thereof include at least one selected from the group consisting of (F8), antibacterial agent (F9), dispersant (F10), plasticizer (F11), conductive material (F12), and filler (F13).

核剤(F1)としては、有機系核剤[例えば1,3,2,4−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−p−t−ブチルベンゾエート、ソジウム−ビス(4−t−ブチルフェニル)ホスフェートおよび安息香酸ナトリウム]および無機系核剤(例えばグラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、タルク、カオリン、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化亜鉛、アルミナ、硫酸バリウムおよび硫酸カルシウム)が挙げられる。
滑剤(F2)としては、ワックス(例えばカルナバロウワックス、パラフィンワックスおよびポリオレフィンワックス)、高級脂肪酸(C8〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸、リノール酸およびリノレン酸)、高級アルコール(C8〜18、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、セトステアリルアルコールおよびベヘニルアルコール)および高級脂肪酸アミド(C8〜24、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、リノール酸アミドおよびリノレン酸アミド)が挙げられる。
As the nucleating agent (F1), organic nucleating agents [for example, 1,3,2,4-di-benzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium-bis (4-t -Butylphenyl) phosphate and sodium benzoate] and inorganic nucleating agents (eg graphite, carbon black, magnesium oxide, calcium silicate, magnesium silicate, talc, kaolin, calcium carbonate, magnesium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, zinc oxide, Alumina, barium sulfate and calcium sulfate).
Lubricants (F2) include waxes (eg carnauba wax, paraffin wax and polyolefin wax), higher fatty acids (C8-24, eg stearic acid, oleic acid, linoleic acid and linolenic acid), higher alcohols (C8-18, eg stearyl). Alcohols, lauryl alcohol, myristyl alcohol, cetyl alcohol, cetostearyl alcohol and behenyl alcohol) and higher fatty acid amides (C8-24, such as stearic acid amide, oleic acid amide, linoleic acid amide and linolenic acid amide).

顔料(F3)としては、無機顔料[白色顔料(酸化チタン、リトポン、鉛白、亜鉛華等)、コバルト化合物(オーレオリン、コバルトグリーン等)、鉄化合物(酸化鉄、紺青等)、クロム化合物(酸化クロム、クロム酸鉛等)および硫化物(硫化カドミウム、ウルトラマリン等)等]、有機顔料[アゾ顔料(アゾレーキ系、モノアゾ系、ジスアゾ系、キレートアゾ系等)、多環式顔料(ベンゾイミダゾロン系、フタロシアニン系、イソインドリノン系、アンスラキノン系等)等が挙げられる。
染料(F4)としては、アゾ系、インジゴイド系、硫化系、アリザリン系、アクリジン系、チアゾール系、ニトロ系、アニリン系等が挙げられる。
離型剤(F5)としては、高級脂肪酸(上記のもの)の低級(C1〜4)アルコールエステル(例えばステアリン酸ブチル)、脂肪酸(C2〜18)の多価(2価〜4価またはそれ以上)アルコールエステル(例えば硬化ヒマシ油)、脂肪酸(C2〜18)のグリコール(C2〜8)エステル(例えばエチレングリコールモノステアレート)および流動パラフィンが挙げられる。
Examples of the pigment (F3) include inorganic pigments [white pigments (titanium oxide, lithopone, lead white, zinc white, etc.), cobalt compounds (aureolin, cobalt green, etc.), iron compounds (iron oxide, bitumen, etc.), chromium compounds (oxidation). Chromium, lead chromate, etc.) and sulfides (cadmium sulfide, ultramarine, etc.)], organic pigments [azo pigments (azo lakes, monoazos, disazos, chelate azos, etc.), polycyclic pigments (benzoimidazolones) Phthalocyanine, isoindolinone, anthraquinone, etc.).
Examples of the dye (F4) include azo, indigoid, sulfide, alizarin, acridine, thiazole, nitro, and aniline.
As the release agent (F5), lower fatty acid (C1-4) alcohol ester of higher fatty acid (above) (for example, butyl stearate), polyvalent fatty acid (C2-18) (divalent to tetravalent or higher) ) Alcohol esters (eg hydrogenated castor oil), glycol (C2-8) esters of fatty acids (C2-18) (eg ethylene glycol monostearate) and liquid paraffin.

酸化防止剤(F6)としては、フェノール系{例えば単環フェノール[例えば2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾールおよびブチル化ヒドロキシアニソール]、ビスフェノール[例えば2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ブチリデンビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノールおよび4,4’−チオビス(3−メチル)−6−t−ブチルフェノール]および多環フェノール〔例えば1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、テトラキス[メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン〕};硫黄系〔例えばジラウリル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリルβ,β’−チオジブチレートおよびジラウリルサルファイド〕;リン系〔例えばトリフェニルホスファイト、トリイソデシルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、4,4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェニルジトリデシル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(オクタデシルホスファイト)、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイトおよびジイソデシルペンタエリスリトールジホスファイト〕;およびアミン系〔例えばオクチル化ジフェニルアミン、N−n−ブチル−p−アミノフェノール、N,N−ジイソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−α−ナフチルアミン、フェニル−β−ナフチルアミンおよびフェノチアジン〕が挙げられる。   Antioxidants (F6) include phenolic {eg monocyclic phenols [eg 2,6-di-t-butyl-p-cresol and butylated hydroxyanisole], bisphenols [eg 2,2′-methylenebis (4- Methyl-6-tert-butylphenol), 4,4′-butylidenebis (3-methyl) -6-tert-butylphenol and 4,4′-thiobis (3-methyl) -6-tert-butylphenol] and polycyclic phenols [ For example, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-) 5-t-butylphenyl) butane, tetrakis [methylene-3- (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate ] Methane]}; sulfur-based [eg, dilauryl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3'-thiodipropionate, lauryl stearyl 3,3'-thiodipropionate, dimyristyl 3,3'- Thiodipropionate, distearyl β, β′-thiodibutyrate and dilauryl sulfide]; phosphorus systems [eg triphenyl phosphite, triisodecyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, tris (2 , 4-di-t-butylphenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-t) -Butylphenylditridecyl) phosphite, cyclic neopentanetetri Bis (octadecyl phosphite), cyclic neopentanetetrayl bis (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (2,4-di-t-butyl) Phenyl) phosphite and diisodecylpentaerythritol diphosphite]; and amine systems such as octylated diphenylamine, Nn-butyl-p-aminophenol, N, N-diisopropyl-p-phenylenediamine, N, N-bis ( 1-ethyl-3-methylpentyl) -p-phenylenediamine, N, N-diphenyl-p-phenylenediamine, N-phenyl-α-naphthylamine, phenyl-β-naphthylamine and phenothiazine.

難燃剤(F7)には、ハロゲン含有難燃剤(F71)、窒素含有難燃剤(F72)、硫黄含有難燃剤(F73)、珪素含有難燃剤(F74)およびリン含有難燃剤(F75)からなる群から選ばれる1種または2種以上の難燃剤が含まれる。   The flame retardant (F7) includes a halogen-containing flame retardant (F71), a nitrogen-containing flame retardant (F72), a sulfur-containing flame retardant (F73), a silicon-containing flame retardant (F74), and a phosphorus-containing flame retardant (F75). 1 type or 2 types or more of flame retardants chosen from these are included.

ハロゲン含有難燃剤(F71)としては、ヘキサクロロペンタジエン、ヘキサブロモジフェニル、オクタブロモジフェニルオキシド、トリブロモフェノキシメタン、デカブロモジフェニル、デカブロモジフェニルオキシド、テトラブロモビスフェノールA、テトラブルモフタルイミド、ヘキサブロモブテン、ヘキサブロモシクロドデカン等;   Examples of the halogen-containing flame retardant (F71) include hexachloropentadiene, hexabromodiphenyl, octabromodiphenyl oxide, tribromophenoxymethane, decabromodiphenyl, decabromodiphenyl oxide, tetrabromobisphenol A, tetromophthalimide, hexabromobutene, Hexabromocyclododecane, etc .;

窒素含有難燃剤(F72)としては、尿素化合物、グアニジン化合物またはトリアジン化合物(メラミン、グアナミン等)と、シアヌール酸またはイソシアヌル酸との塩等;
硫黄含有難燃剤(F73)としては、硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの、塩、エステルおよびアミド等;
珪素含有難燃剤(F74)としては、ポリオルガノシロキサン等;
Examples of the nitrogen-containing flame retardant (F72) include a salt of urea compound, guanidine compound or triazine compound (melamine, guanamine, etc.) and cyanuric acid or isocyanuric acid;
Examples of the sulfur-containing flame retardant (F73) include sulfuric ester, organic sulfonic acid, sulfamic acid, organic sulfamic acid, and salts, esters and amides thereof;
Examples of the silicon-containing flame retardant (F74) include polyorganosiloxane;

リン含有難燃剤(F75)としては、リン含有の酸およびそのエステル(C2〜20)、例えばリン酸、ホスフェート、ハロゲン含有ホスフェート、亜リン酸、ホスホネート、およびリン酸アンモニウム塩等が挙げられる。   Examples of the phosphorus-containing flame retardant (F75) include phosphorus-containing acids and esters thereof (C2-20) such as phosphoric acid, phosphate, halogen-containing phosphate, phosphorous acid, phosphonate, and ammonium phosphate.

上記ホスフェートとしては、ホスフェートおよび縮合ホスフェート(ジ−およびポリホスフェート)が挙げられる。
ホスフェートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスフェート[トリメチル−、トリエチル−、トリブチル−およびトリオクチルホスフェート等]、トリアルコキシ(アルコキシ基はC1〜6)ホスフェート[トリエトキシ−およびトリブトキシホスフェート等]、トリアリールホスフェート[トリフェニルホスフェート等]、アルキル(アルキル基はC1〜10)アリールホスフェート[トリクレジル−、クレジルジフェニル−、オクチルジフェニル−、ジイソプロピルフェニル−およびレゾルシノール−ビス(ジ−2,6−ジメチルフェニル)ホスフェート等]等が挙げられる。
Examples of the phosphate include phosphates and condensed phosphates (di- and polyphosphates).
Examples of the phosphate include trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphate [trimethyl-, triethyl-, tributyl- and trioctylphosphate etc.], trialkoxy (alkoxy group is C1-6) phosphate [triethoxy- and tributoxyphosphate etc. ], Triaryl phosphate [triphenyl phosphate and the like], alkyl (alkyl group is C1-10) aryl phosphate [tricresyl-, cresyldiphenyl-, octyldiphenyl-, diisopropylphenyl- and resorcinol-bis (di-2,6- Dimethylphenyl) phosphate, etc.].

縮合ホスフェートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスフェート、フェニルレゾルシンポリ(n=2〜30)ホスフェート、レゾルシンポリ(n=2〜30)ホスフェート[レゾルシンビスホスフェート、クレジルレゾルシンポリホスフェート等]、ヒドロキノンポリ(n=2〜30)ホスフェート[ヒドロキノンビスホスフェート、ヒドロキノンポリホスフェート等]、ビスフェノールAビスホスフェート、トリオキシベンゼントリホスフェート等が挙げられる。   Examples of the condensed phosphate include trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2-30) phosphate, phenyl resorcinol poly (n = 2-30) phosphate, resorcinol poly (n = 2-30) phosphate [resorcin bis. Phosphate, cresyl resorcinol polyphosphate, etc.], hydroquinone poly (n = 2-30) phosphate [hydroquinone bisphosphate, hydroquinone polyphosphate, etc.], bisphenol A bisphosphate, trioxybenzene triphosphate and the like.

上記含ハロゲンホスフェートとしては、トリスハロゲン化アルキル(アルキル基はC2〜4)ホスフェート[トリスクロロエチルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、トリス−β−クロロプロピルホスフェート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスフェート等]、トリスハロゲン化アリールホスフェート[トリス(トリブロモフェニル)ホスフェート、トリス(ジブロモフェニル)ホスフェート等]等が挙げられる。   Examples of the halogen-containing phosphate include tris halogenated alkyl (alkyl group is C2-4) phosphate [trischloroethyl phosphate, trisdichloropropyl phosphate, tris-β-chloropropyl phosphate, tris (tribromoneopentyl) phosphate, etc.], And tris-halogenated aryl phosphate [tris (tribromophenyl) phosphate, tris (dibromophenyl) phosphate, etc.].

上記ホスホネートとしては、ホスホネートおよび縮合ホスホネートが挙げられる。
ホスホネートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスホネート[トリメチルホスホネート、トリエチルホスホネート、トリブチルホスホネート、トリオクチルホスホネート等]、トリアルコキシ(アルコキシ基はC1〜6)ホスホネート[トリエトキシホスホネート、トリブトキシホスホネート等]、トリアリールホスホネート[トリフェニルホスホネート等]、アルキル(アルキル基はC1〜10)アリールホスホネート[トリクレジルホスホネート、クレジルジフェニルホスホネート、オクチルジフェニルホスホネート、ジイソプロピルフェニルホスホネート、レゾルシノール−ビス(ジ−2,6−ジメチルフェニル)ホスホネート等]等が挙げられる。
Examples of the phosphonate include phosphonates and condensed phosphonates.
As phosphonates, trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphonate [trimethylphosphonate, triethylphosphonate, tributylphosphonate, trioctylphosphonate, etc.], trialkoxy (alkoxy group is C1-6) phosphonate [triethoxyphosphonate, tributoxyphosphonate Etc.], triaryl phosphonate [triphenyl phosphonate etc.], alkyl (alkyl group is C1-10) aryl phosphonate [tricresyl phosphonate, cresyl diphenyl phosphonate, octyl diphenyl phosphonate, diisopropyl phenyl phosphonate, resorcinol bis (di-2) , 6-dimethylphenyl) phosphonate and the like.

縮合ホスホネートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスホネート、フェニルレゾルシンポリ(n=2〜30)ホスホネート、レゾルシンポリ(n=2〜30)ホスホネート[レゾルシンビスホスフェート、クレジルレゾルシンポリホスホネート等]、ヒドロキノンポリ(n=2〜30)ホスホネート[ヒドロキノンビスホスホネート、ヒドロキノンポリホスホネート等]、ビスフェノールAビスホスホネート、トリオキシベンゼントリホスホネート等が挙げられる。   As the condensed phosphonate, trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2 to 30) phosphonate, phenyl resorcinol poly (n = 2 to 30) phosphonate, resorcinol poly (n = 2 to 30) phosphonate [resorcinbis Phosphate, cresyl resorcinol polyphosphonate, etc.], hydroquinone poly (n = 2-30) phosphonate [hydroquinone bisphosphonate, hydroquinone polyphosphonate, etc.], bisphenol A bisphosphonate, trioxybenzene triphosphonate and the like.

上記含ハロゲンホスホネートとしては、トリスハロゲン化アルキル(アルキル基はC2〜4)ホスホネート[トリスクロロエチルホスホネート、トリスジクロロプロピルホスホネート、トリス−β−クロロプロピルホスホネート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスホネート等]、トリスハロゲン化アリールホスホネート[トリス(トリブロモフェニル)ホスホネート、トリス(ジブロモフェニル)ホスホネート等]等が挙げられる。   Examples of the halogen-containing phosphonate include tris halogenated alkyl (alkyl group is C2-4) phosphonate [trischloroethyl phosphonate, tris dichloropropyl phosphonate, tris-β-chloropropyl phosphonate, tris (tribromoneopentyl) phosphonate, etc.], And tris-halogenated aryl phosphonate [tris (tribromophenyl) phosphonate, tris (dibromophenyl) phosphonate, etc.].

上記リン酸アンモニウム塩としては通常難燃剤用に市販されているものを用いることができる。これらは、必要に応じてメラミン化合物(例えばメラミン単体)、ペンタエリスリトール化合物(例えばペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール)、アミド(例えばナイロン6、ナイロン66)等を併用してもよい。   As said ammonium phosphate, what is marketed normally for flame retardants can be used. These may be used in combination with a melamine compound (for example, melamine alone), a pentaerythritol compound (for example, pentaerythritol, dipentaerythritol), an amide (for example, nylon 6, nylon 66) or the like, if necessary.

これらの難燃剤は、必要に応じて難燃助剤[ドリップ防止剤(例えばポリテトラフルオロエチレン)、金属酸化物(例えば酸化亜鉛)等]を併用してもよい。   These flame retardants may be used in combination with a flame retardant aid [anti-drip agent (for example, polytetrafluoroethylene), metal oxide (for example, zinc oxide), etc.] as necessary.

これらの難燃剤のうち難燃性、および焼却時におけるダイオキシン発生等の環境汚染がないとの観点から好ましいのは(F72)である。   Of these flame retardants, (F72) is preferred from the viewpoint of flame retardancy and the absence of environmental pollution such as dioxin generation during incineration.

紫外線吸収剤(F8)としては、ベンゾトリアゾール系[例えば2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾールおよび2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール]、ベンゾフェノン系[例えば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンおよび2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン]、サリチレート系[例えばフェニルサリチレートおよびエチレングリコールモノサリチレート]およびアクリレート系[例えば2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’1−ジフェニルアクリレート]が挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber (F8) include benzotriazoles [for example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2′-hydroxy-4′-octoxyphenyl) benzotriazole], Benzophenone series [eg 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone], salicylate series [eg phenyl salicylate and ethylene glycol monosalicylate] and acrylate series [eg 2-ethylhexyl 2-cyano-3,3′1-diphenyl acrylate].

抗菌剤(F9)としては、安息香酸、パラオキシ安息香酸エステル、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール(例えば2,4,6−トリブロモフェノールナトリウム塩)、有機ヨウ素(例えば4−クロロフェニル−3−ヨードプロパギルホルマール)、ニトリル(例えば2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリル)、チオシアノ(例えばメチレンビスチアノシアネート)、N−ハロアルキルチオイミド(例えばN−テトラクロロエチル−チオ−テトラヒドロフタルイミド)、銅剤(例えば8−オキシキノリン銅)、ベンズイミダゾール(例えば2−4−チアゾリルベンズイミダゾール)、ベンゾチアゾール(例えば2−チオシアノメチルチオベンゾチアゾール)、トリハロアリル(例えば3−ブロモ−2,3−ジヨード−2−プロペニルエチルカルボナート)、トリアゾール(例えばアザコナゾール)、有機窒素硫黄化合物(例えばスラオフ39)、4級アンモニウム化合物(例えばトリメトキシシリル−プロピルオクタデシルアンモニウムクロライド)およびピリジン系化合物[例えば2,3,5,6−チトクロロ−4−(メチルスルホニル)−ピリジン]が挙げられる。   Examples of the antibacterial agent (F9) include benzoic acid, paraoxybenzoic acid ester, sorbic acid, halogenated phenol (for example, 2,4,6-tribromophenol sodium salt), organic iodine (for example, 4-chlorophenyl-3-iodopropargyl). Formal), nitrile (eg, 2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile), thiocyano (eg, methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimide (eg, N-tetrachloroethyl-thio-tetrahydrophthalimide), copper agent (Eg 8-oxyquinoline copper), benzimidazole (eg 2-4-thiazolylbenzimidazole), benzothiazole (eg 2-thiocyanomethylthiobenzothiazole), trihaloallyl (eg 3-bromo-2,3-diiodo- 2-propenyl Til carbonate), triazoles (eg azaconazole), organic nitrogen sulfur compounds (eg Suraoff 39), quaternary ammonium compounds (eg trimethoxysilyl-propyloctadecylammonium chloride) and pyridine compounds [eg 2,3,5,6- Cytochloro-4- (methylsulfonyl) -pyridine].

分散剤(F10)としては、Mn1,000〜100,000の分散剤、例えばナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物(Mn1,000〜10,000)、ポリスチレンスルホン酸金属[例えばアルカリ金属(例えばナトリウムおよびカリウム)]塩(Mn1,000〜100,000)、ポリアクリル酸金属[例えばアルカリ金属(上記に同じ)]塩(Mn2,000〜50,000)、カルボキシメチルセルロースおよびポリビニルアルコールが挙げられる。   As the dispersant (F10), a dispersant of Mn 1,000 to 100,000, for example, naphthalene sulfonic acid formalin condensate (Mn 1,000 to 10,000), polystyrene sulfonate metal [for example, alkali metals (for example, sodium and potassium) ] Salt (Mn 1,000-100,000), polyacrylic acid metal [for example, alkali metal (same as above)] salt (Mn 2,000-50,000), carboxymethyl cellulose and polyvinyl alcohol.

可塑剤(F11)としては、ポリオキシアルキレン鎖を含有するモノおよびジエステル(F111)、ポリエステルポリオール(F112)、ポリエーテルポリオール(F113)、芳香族カルボン酸エステル[C10〜28、例えばフタル酸エステル(例えばジオクチルフタレートおよびジブチルフタレート、ジ2−エチルヘキシルフタレート等)]、脂肪族モノカルボン酸エステル[C3〜30、例えばメチルアセチルリシノレートおよびトリエチレングリコールジベンゾエート]、脂肪族ジカルボン酸エステル[C8以上かつ
Mn2,000以下、例えばジ(2−エチルヘキシル)アジペートおよびアジピン酸−プロピレングリコール系ポリエステル(Mn200〜2000)]、脂肪族トリカルボン酸エステル[例えばクエン酸エステル(例えばクエン酸トリエチル)]、リン酸トリエステル[例えばトリフェニルホスフェート]および石油樹脂が挙げられる。
これらの(F11)のうち、(B)の結晶性を下げ導電性を高める効果の観点から好ましいのは(F111)、(F112)および(F113)である。
Examples of the plasticizer (F11) include mono- and diesters (F111) containing a polyoxyalkylene chain, polyester polyol (F112), polyether polyol (F113), aromatic carboxylic acid ester [C10-28, for example, phthalate ester ( For example, dioctyl phthalate and dibutyl phthalate, di2-ethylhexyl phthalate, etc.)], aliphatic monocarboxylic acid ester [C3-30, such as methylacetylricinoleate and triethylene glycol dibenzoate], aliphatic dicarboxylic acid ester [C8 or more and Mn2 , 000 or less, such as di (2-ethylhexyl) adipate and adipic acid-propylene glycol-based polyester (Mn 200 to 2000)], aliphatic tricarboxylic acid ester [for example, citrate ester Le (e.g. triethyl citrate), and a phosphoric acid triester [e.g. triphenyl phosphate] and petroleum resins.
Of these (F11), (F111), (F112) and (F113) are preferable from the viewpoint of the effect of reducing the crystallinity of (B) and increasing the conductivity.

ポリオキシアルキレン鎖を含有するモノおよびジエステル(F111)には、ポリエーテルジオール(b221)またはコポリエーテルジオールとモノカルボン酸とを反応させて得られる、下記の何れかの式で表されるモノまたはジエステルが含まれる。

R−CO−(OA2)x−O−B2−O−(A2O)y−OC−R (F1111)

R−CO−(OA2)x−O−OC−R (F1112)

R−CO−(OA2)x−O−B2−O−(A2 O)y−H (F1113)

R−CO−(OA2)x−O−H (F1114)
Mono- and diesters (F111) containing a polyoxyalkylene chain are obtained by reacting a polyether diol (b221) or copolyether diol with a monocarboxylic acid, represented by any of the following formulas: Diesters are included.

R—CO— (OA 2 ) x —O—B 2 —O— (A 2 O) y —OC—R (F1111)

R—CO— (OA 2 ) x —O—OC—R (F1112)

R—CO— (OA 2 ) x —O—B 2 —O— (A 2 O) y —H (F1113)

R—CO— (OA 2 ) x —O—H (F1114)

式中、B2は、ジオール(b220)または二価フェノールから水酸基を除いた残基を表し、A2は、ハロゲン原子を含んでいてもよいC2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜4)のアルキレン基を表す。また、xおよびyはそれぞれ、1〜300、好ましくは2〜250、さらに好ましくは8〜150の整数である。また、xとyとは同一でも異なっていてもよい。p個の(OA2)とq個の(A2O)とは、同一でも異なっていてもよく、また、これらが2種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブロックもしくはランダムまたはこれらの組合せのいずれでもよい。
上記の式で表される(F111)のうち、(B)の結晶性を下げ導電性を高める効果の観点から好ましいのは(F1111)および(F1112)である。
In the formula, B 2 represents a diol (b220) or a residue obtained by removing a hydroxyl group from a dihydric phenol, and A 2 represents C 2-12 (preferably 2-8, more preferably a halogen atom). 2-4) represents an alkylene group. X and y are each an integer of 1 to 300, preferably 2 to 250, and more preferably 8 to 150. X and y may be the same or different. p (OA 2 ) and q (A 2 O) may be the same or different, and the bond form in the case where they are composed of two or more oxyalkylene groups is block or random. Or any combination thereof may be used.
Of the (F111) represented by the above formula, (F1111) and (F1112) are preferable from the viewpoint of the effect of reducing the crystallinity of (B) and increasing the conductivity.

前記式中、RはC1〜24の1価の炭化水素基であり、具体的には脂肪族、芳香族および脂環式炭化水素基が挙げられる。   In the above formula, R is a C1-24 monovalent hydrocarbon group, and specific examples include aliphatic, aromatic and alicyclic hydrocarbon groups.

脂肪族飽和炭化水素基としては、C1〜24のアルキル基、例えばメチル、エチル、n−およびi−プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル基、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、へプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、エイコシル、ヘンエイコシル、ドコシル、トリコシル、テトラコシル、2−プロピル−1−ペンチル、2−エチル−1−ヘキシル、4−メチル−3−ヘプチルおよび6−メチル−2−ヘプチル基;脂肪族不飽和炭化水素基としては、C2〜24のアルケニル基もしくはアルキニル基、例えばエテニル、1−,2−およびi−プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、エイコセニル、ヘンエイコセニル、ドコセニル、トリコセニル、テトラコセニル、エチニル、2−プロピニル、ペンチニル、ヘキシニル、3−メチル−3−ブテニルおよび4−メチル−3−ペンテニル基等が挙げられる。   Aliphatic saturated hydrocarbon groups include C1-24 alkyl groups such as methyl, ethyl, n- and i-propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decyl, undecyl groups, dodecyl, tridecyl, tetradecyl. , Pentadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl, eicosyl, heneicosyl, docosyl, tricosyl, tetracosyl, 2-propyl-1-pentyl, 2-ethyl-1-hexyl, 4-methyl-3-heptyl and 6-methyl-2- Heptyl group; aliphatic unsaturated hydrocarbon group includes C2-24 alkenyl group or alkynyl group such as ethenyl, 1-, 2- and i-propenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, nonenyl, decenyl, undecenyl, Dodecenyl, tri Cenyl, tetradecenyl, pentadecenyl, hexadecenyl, heptadecenyl, octadecenyl, nonadecenyl, eicosenyl, henecocenyl, dococenyl, tricocenyl, tetracocenyl, ethynyl, 2-propynyl, pentynyl, hexynyl, 3-methyl-3-butenyl and 4-methyl-3-pentenyl groups Etc.

芳香族炭化水素基としては、C6〜24、例えばフェニル基、アルキル(C1〜10)アリール基(o−、m−およびp−メチルフェニル、m、p−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、o−、m−およびp−エチルフェニル、p−n−ブチルフェニル、
p−オクチルフェニルおよびp−ノニルフェニル基等)、アラールアルキル(アルキルのC1〜20)基(ベンジルおよびフェネチル基等)、置換アラールアルキル(アルキルのC1〜20)基(o−、m−およびp−メチルベンジル、p−n−ブチルフェネチル基等);脂環式炭化水素基としては、C4〜20、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
Examples of the aromatic hydrocarbon group include C6-24, such as phenyl group, alkyl (C1-10) aryl group (o-, m- and p-methylphenyl, m, p-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, o-, m- and p-ethylphenyl, pn-butylphenyl,
p-octylphenyl and p-nonylphenyl groups), aralalkyl (C1-20 alkyl) (eg benzyl and phenethyl groups), substituted aralkylalkyl (C1-20 alkyl) groups (o-, m- and p) -Methylbenzyl, pn-butylphenethyl group, etc.); Examples of the alicyclic hydrocarbon group include C4-20, such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group.

ポリエステルポリオール(F112)には、低分子量(通常C2以上かつMn300以下)ポリオール(2価〜8価またはそれ以上)と多価(2価〜3価またはそれ以上)カルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体とを反応させて得られる縮合ポリエステルポリオール、ラクトンの開環重合により得られるポリラクトンポリオール、エチレンカーボネートとポリオール(1、6−ヘキサンジオール等)の反応により得られるポリカーボネートポリオール等が含まれる。(F112)の両末端はOH基、COOH基のいずれでもよい。
これらの(F112)のうち、(B)の結晶性を下げ導電性を高める効果の観点から好ましいのは縮合ポリエステルポリオールおよびポリラクトンポリオールである。
Polyester polyol (F112) includes low molecular weight (usually C2 or more and Mn300 or less) polyol (2 to 8 or more) and polyvalent (2 to 3 or more) carboxylic acids or ester-forming derivatives thereof. And polycondensate polyol obtained by the ring-opening polymerization of lactone, polycarbonate polyol obtained by the reaction of ethylene carbonate and polyol (1,6-hexanediol, etc.), and the like. Both ends of (F112) may be either OH groups or COOH groups.
Of these (F112), preferred are a condensed polyester polyol and a polylactone polyol from the viewpoint of the effect of reducing the crystallinity of (B) and increasing the conductivity.

縮合ポリエステルポリオールを構成する低分子量ポリオールとしては、2価〜8価またはそれ以上の多価アルコール、および該多価アルコールまたは2価〜8価またはそれ以上の多価フェノールのAO低モル(1〜10)付加物が挙げられる。
該多価アルコールには、以下のものが含まれる。
2価アルコール(C2〜20またはそれ以上)、例えばC2〜12の脂肪族2価アルコール[(ジ)アルキレングリコール、例えばEG、ジエチレングリコール、PG、ジプロピレングリコール、BD、HD、NPGおよび3−メチルペンタンジオール、ドデカンジオール等];C6〜10の脂環含有2価アルコール[1,4−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール等];C8〜20の芳香環含有2価アルコール[キシリレングリコール、ビス(ヒドロキシエチル)ベンゼン等];3価〜8価またはそれ以上の多価アルコール、例えば(シクロ)アルカンポリオールおよびそれらの分子内もしくは分子間脱水物[グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールおよびジペンタエリスリトール(以下それぞれGR、TMP、PE、SOおよびDPEと略記)、1,2 ,6−ヘキサントリオール、エリスリトール、シクロヘキサントリオール、
マンニトール、キシリトール、ソルビタン、ジグリセリンその他のポリグリセリン等]、糖類およびその誘導体[例えば蔗糖、グルコース、フラクトース、マンノース、ラクトース、およびグリコシド(メチルグルコシド等)]。
The low molecular weight polyol constituting the condensed polyester polyol includes a dihydric to octahydric or higher polyhydric alcohol, and an AO low mole (1 to 8) of the polyhydric alcohol or a dihydric to octahydric or higher polyhydric phenol. 10) Additives are mentioned.
The polyhydric alcohol includes the following.
Dihydric alcohols (C2-20 or higher), such as C2-12 aliphatic dihydric alcohols [(di) alkylene glycols such as EG, diethylene glycol, PG, dipropylene glycol, BD, HD, NPG and 3-methylpentane Diol, dodecanediol, etc.]; C6-10 alicyclic divalent alcohol [1,4-cyclohexanediol, cyclohexanedimethanol, etc.]; C8-20 aromatic ring-containing dihydric alcohol [xylylene glycol, bis (hydroxyethyl) Benzene etc.]; trihydric to octahydric or higher polyhydric alcohols such as (cyclo) alkane polyols and their intramolecular or intermolecular dehydrates [glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, sorbitol and dipentaerythritol ( Under each GR, TMP, PE, and SO and DPE hereinafter), 1,2, 6-hexanetriol, erythritol, cyclohexanetriol,
Mannitol, xylitol, sorbitan, diglycerin and other polyglycerols, etc.], saccharides and derivatives thereof [for example, sucrose, glucose, fructose, mannose, lactose, and glycosides (methylglucoside, etc.)].

上記多価フェノールには、C6〜18の2価フェノール、例えば単環2価フェノール(ハイドロキノン、カテコール、レゾルシノール、ウルシオール等)、ビスフェノール(ビスフェノールA、−F、−C、−B、−ADおよび−S、ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタン等)、および縮合多環2価フェノール[ジヒドロキシナフタレン(例えば1,5−ジヒドロキシナフタレン)、ビナフトール等];並びに3価〜8価またはそれ以上の多価フェノール、例えば単環多価フェノール(ピロガロール、フロログルシノール、および1価もしくは2価フェノール(フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシノール等)のアルデヒドもしくはケトン(ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒド、グリオキザール、アセトン)低縮合物(例えばフェノールもしくはクレゾールノボラック樹脂、レゾールの中間体、フェノールとグリオキザールもしくはグルタールアルデヒドの縮合反応によって得られるポリフェノール、およびレゾルシンとアセトンの縮合反応によって得られるポリフェノール)が含まれる。   The polyhydric phenol includes C6-18 dihydric phenol, such as monocyclic dihydric phenol (hydroquinone, catechol, resorcinol, urushiol, etc.), bisphenol (bisphenol A, -F, -C, -B, -AD and -S, dihydroxybiphenyl, 4,4'-dihydroxydiphenyl-2,2-butane, etc.), and condensed polycyclic dihydric phenols [dihydroxynaphthalene (eg, 1,5-dihydroxynaphthalene), binaphthol, etc.]; Octavalent or higher polyhydric phenols such as monocyclic polyphenols (pyrogallol, phloroglucinol, and mono- or dihydric phenols (phenol, cresol, xylenol, resorcinol, etc.) aldehydes or ketones (formaldehyde, glutaraldehyde) , Lyoxal, acetone) low condensates (eg phenol or cresol novolac resins, resole intermediates, polyphenols obtained by the condensation reaction of phenol and glyoxal or glutaraldehyde, and polyphenols obtained by the condensation reaction of resorcin and acetone) .

多価カルボン酸もしくはそのエステル形成性誘導体としては、C2〜20のジカルボン酸、例えば脂肪族ジカルボン酸(コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸 、
フマル酸、マレイン酸等)、脂環式ジカルボン酸(1,3−および1,4−シクロヘキサ
ンジカルボン酸、ダイマー酸等)、芳香族ジカルボン酸(テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等);3価またはそれ以上のポリカルボン酸(トリメリット酸、ピロメリット酸等);これらの多価カルボン酸の無水物(無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水トリメリット酸等);これらの多価カルボン酸の酸ハロゲン化物(アジピン酸ジクロライド等);これらの多価カルボン酸の低級アルキル(C1〜4)エステル(コハク酸ジメチル、フタル酸ジメチル等);並びに、これらの2種以上の混合物が挙げられる。
Examples of the polycarboxylic acid or ester-forming derivative thereof include C2-20 dicarboxylic acids such as aliphatic dicarboxylic acids (succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid,
Fumaric acid, maleic acid, etc.), alicyclic dicarboxylic acids (1,3- and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, dimer acids, etc.), aromatic dicarboxylic acids (terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, etc.); trivalent Or more polycarboxylic acids (trimellitic acid, pyromellitic acid, etc.); anhydrides of these polycarboxylic acids (succinic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, etc.); Acid halides of divalent carboxylic acids (adipic acid dichloride, etc.); lower alkyl (C1-4) esters of these polycarboxylic acids (dimethyl succinate, dimethyl phthalate, etc.); and mixtures of two or more of these Can be mentioned.

縮合ポリエステルポリオールの具体例としては、ポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンイソフタレートジオール、ポリネオペンチルアジペートジオール、ポリエチレンプロピレンアジペートジオール、ポリエチレンブチレンアジペートジオール、ポリブチレンヘキサメチレンアジペートジオール、ポリジエチレンアジペートジオール、ポリ(ポリテトラメチレンエーテル)アジペートジオール、ポリ(3−メチルペンチレンアジペート)ジオール、ポリエチレンアゼレートジオール、ポリエチレンセバケートジオール、ポリブチレンアゼレートジオール、ポリブチレンセバケートジオール、ポリネオペンチルテレフタレートジオール、ポリエチレンテレフタレートジオール、ポリヘキサメチレンイソフタレートジオール等が挙げられる。   Specific examples of the condensed polyester polyol include polyethylene adipate diol, polybutylene adipate diol, polyhexamethylene adipate diol, polyhexamethylene isophthalate diol, polyneopentyl adipate diol, polyethylene propylene adipate diol, polyethylene butylene adipate diol, polybutylene hexa Methylene adipate diol, polydiethylene adipate diol, poly (polytetramethylene ether) adipate diol, poly (3-methylpentylene adipate) diol, polyethylene azelate diol, polyethylene sebacate diol, polybutylene azelate diol, polybutylene sebacate Diol, Polyneopentyl terephthalate diol, Polyethylene Terephthalate diol, polyhexamethylene isophthalate diol.

ポリラクトンポリオールを構成するラクトンとしては、C4〜12、例えばε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンおよびこれらの2種以上の併用が挙げられる 。ポリラクトンポリオールの具体例としては、例えばポリカプロラクトンジオ
ール、ポリバレロラクトンジオール、ポリカプロラクトントリオールが挙げられる。
Examples of the lactone constituting the polylactone polyol include C4 to 12, for example, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, and combinations of two or more thereof. Specific examples of the polylactone polyol include polycaprolactone diol, polyvalerolactone diol, and polycaprolactone triol.

ポリエーテルポリオール(F113)には、活性水素原子含有化合物を開始剤とするAO付加物が含まれ、該開始剤としては、多価(2価〜8価またはそれ以上)アルコール、多価(2価〜8価またはそれ以上)フェノール、および1級もしくは2級アミノ基含有化合物が挙げられる。   The polyether polyol (F113) includes an AO adduct having an active hydrogen atom-containing compound as an initiator, and examples of the initiator include polyvalent (divalent to octavalent or higher) alcohols, polyvalent (2 Valent to octavalent or higher) phenols and primary or secondary amino group-containing compounds.

上記開始剤のうち、多価アルコールとしては、前記の2価〜8価の多価アルコールが挙げられ、また多価フェノールとしては、前記の2価〜8価の多価フェノールが挙げられる。
また、1級もしくは2級アミノ基含有化合物としては、アルキル(C1〜12)アミン、および(ポリ)アルキレンポリアミン(アルキレン基のC2〜6、アルキレン基の数1〜4、アミノ基の数2〜5)等が挙げられる。
Among the initiators, examples of the polyhydric alcohol include the divalent to octavalent polyhydric alcohols, and examples of the polyhydric phenol include the divalent to octavalent polyhydric phenols.
Examples of the primary or secondary amino group-containing compound include alkyl (C1-12) amine and (poly) alkylene polyamine (C2-6 of alkylene group, 1 to 4 of alkylene group, 2 to 2 of amino group). 5) and the like.

AOとしては、C2〜4またはそれ以上のAO、例えばEO、PO、BO、テトラヒドロフラン(THF)、α−オレフィンオキサイド、スチレンオキサイド、エピハロヒドリン(エピクロルヒドリン等)、およびこれらの2種以上の併用(ランダムおよび/またはブロック)が挙げられる。   AO includes C2-4 or more AO, such as EO, PO, BO, tetrahydrofuran (THF), α-olefin oxide, styrene oxide, epihalohydrin (such as epichlorohydrin), and combinations of two or more thereof (random and (Or block).

ポリエーテルポリオール(F113)の具体例のうち、多価アルコールのAO付加物としては、例えばポリエチレングリコール(以下PEGと略記)、ポリプロピレングリコール(以下PPGと略記)、ポリオキシエチレン/ポリオキシプロピレン、ポリテトラメチレングリコール(以下、PTMGと略記)、GRのPO2モル付加物およびソルビットのEO6モル付加物;多価フェノールのAO付加物としては、ビスフェノール骨格を有するもの、例えばビスフェノールAのEOもしくはPO付加物[ビスフェノールAのEO2モル付加物、ビスフェノールAのEO20モル付加物、ビスフェノールAの2モル付加物、ビスフェノールAのPO5モル付加物等]およびレゾルシンのEOもしくはPO付加物[レゾルシンのEO2モル付加物、レゾルシンのPO6モル付加物等];1級もしくは2級アミノ基含有化合物のAO付加物としては、例えばモノエタノールアミンのEO2モル付
加物、ジエタノールアミンのPO2モル付加物等が挙げられる。
これらの(F113)のうち(B)の結晶性を下げる効果の観点から好ましいのはPEG、PPG、PTMG、およびビスフェノールAのAO付加物である。
(F11)のMnは、相溶性および導電性の観点から、好ましくは150〜8,000、さらに好ましくは150〜5,000、特に好ましくは150〜3,000である。
Among specific examples of polyether polyol (F113), polyhydric alcohol AO adducts include, for example, polyethylene glycol (hereinafter abbreviated as PEG), polypropylene glycol (hereinafter abbreviated as PPG), polyoxyethylene / polyoxypropylene, poly Tetramethylene glycol (hereinafter abbreviated as PTMG), PO PO2 mole adduct of GR and EO6 mole adduct of sorbit; AO adduct of polyhydric phenol having bisphenol skeleton, such as EO or PO adduct of bisphenol A [EO 2 mol adduct of bisphenol A, EO 20 mol adduct of bisphenol A, 2 mol adduct of bisphenol A, PO 5 mol adduct of bisphenol A, etc.] and EO or PO adduct of resorcin [EO 2 mol adduct of resorcin PO6 mol adduct] resorcinol; the AO adduct of primary or secondary amino group-containing compounds, for example EO2 mol adduct of monoethanolamine, PO2 mol adduct of diethanolamine.
Among these (F113), AO adducts of PEG, PPG, PTMG, and bisphenol A are preferable from the viewpoint of the effect of lowering the crystallinity of (B).
Mn of (F11) is preferably 150 to 8,000, more preferably 150 to 5,000, and particularly preferably 150 to 3,000, from the viewpoints of compatibility and conductivity.

導電性物質(F12)としては、前記(D1)および(D3)を除く化合物で、例えばカーボンナノチューブ、カーボンブラックおよびホワイトカーボンが挙げられる。   Examples of the conductive substance (F12) are compounds other than the above (D1) and (D3), and examples thereof include carbon nanotubes, carbon black, and white carbon.

充填剤(F13)としては、例えば無機充填剤(例えば炭酸カルシウム、タルク、クレー、けい酸、けい酸塩、アスベスト、マイカ、ガラス繊維、ガラスバルーン、カーボン繊維、金属繊維、セラミックウィスカおよびチタンウィスカ)および有機充填剤[例えば尿素、ステアリン酸カルシウムおよび有機架橋微粒子(例えばエポキシ系およびウレタン系)]が挙げられる。   Examples of the filler (F13) include inorganic fillers (eg, calcium carbonate, talc, clay, silicic acid, silicate, asbestos, mica, glass fiber, glass balloon, carbon fiber, metal fiber, ceramic whisker and titanium whisker). And organic fillers [for example, urea, calcium stearate and organic crosslinked fine particles (for example, epoxy-based and urethane-based)].

(F)の合計の使用量は、導電性付与剤(X)、(C)の合計重量に基づいて、通常45%以下、各添加剤の効果および成形品の機械物性の観点から好ましくは0.001〜40%、さらに好ましくは0.01〜35%、とくに好ましくは0.05〜30%である。
(F)のうち、(F9)、(F10)、(F11)および(F13)はそれぞれ通常10%以下、好ましくは1〜5%;(F7)は通常20%以下、好ましくは1〜10%;(F3)、(F4)および(F12)は通常5%以下、好ましくは0.1〜3%;(F1)、(F2)、(F5)、(F6)および(F8)は通常3%以下、好ましくは0.05〜1%である。
The total amount of (F) used is preferably 45% or less based on the total weight of the conductivity-imparting agents (X) and (C), and is preferably 0 from the viewpoint of the effect of each additive and the mechanical properties of the molded product. 0.001 to 40%, more preferably 0.01 to 35%, particularly preferably 0.05 to 30%.
Of (F), (F9), (F10), (F11) and (F13) are each usually 10% or less, preferably 1 to 5%; (F7) is usually 20% or less, preferably 1 to 10%. (F3), (F4) and (F12) are usually 5% or less, preferably 0.1 to 3%; (F1), (F2), (F5), (F6) and (F8) are usually 3% Hereinafter, it is preferably 0.05 to 1%.

本発明の半導電性樹脂組成物は、本発明の導電性付与剤(X)、(C)、並びに必要に応じて(D)、(E)および/または(F)とを溶融混合することにより得られる。溶融混合する方法としては、一般的にはペレット状または粉体状の成分を適切な混合機、例えばヘンシェルミキサー等で混合した後、押出機で溶融混合してペレット化する方法が適用できる。
溶融混合時の各成分の添加順序には特に限定はないが、例えば、(1)(X)、(C)、必要により(D)、(E)および/または(F)を一括して溶融混合する方法、(2)(X)および(C)の一部を予め溶融混合して導電性付与剤(X)の高濃度組成物(マスターバッチ樹脂組成物)を作成し、その後、残りの(C)並びに必要に応じて(D)、(E)および/または(F)を溶融混合する方法、が挙げられる。
(2)の方法におけるマスターバッチ樹脂組成物中の本発明の導電性付与剤の濃度は好ましくは40〜80重量%、さらに好ましくは50〜70重量%である。
これらのうち(2)の方法は、マスターバッチ法またはマスターペレット法と呼ばれる方法で、本発明の導電性付与剤の(C)への効率的な分散の観点から好ましい方法である。
The semiconductive resin composition of the present invention is obtained by melt-mixing the conductivity-imparting agents (X) and (C) of the present invention and (D), (E) and / or (F) as necessary. Is obtained. As a method of melt mixing, generally, a method in which pellets or powdery components are mixed with an appropriate mixer such as a Henschel mixer, and then melt mixed with an extruder to be pelletized can be applied.
There is no particular limitation on the order of adding each component during melt mixing. For example, (1) (X), (C), and if necessary, (D), (E) and / or (F) are melted together. (2) A part of (X) and (C) is previously melt-mixed to prepare a high concentration composition (masterbatch resin composition) of the conductivity-imparting agent (X), and then the rest (C) and a method of melt-mixing (D), (E) and / or (F) as necessary.
The concentration of the conductivity-imparting agent of the present invention in the masterbatch resin composition in the method (2) is preferably 40 to 80% by weight, more preferably 50 to 70% by weight.
Among these, the method (2) is a method called a master batch method or a master pellet method, which is a preferable method from the viewpoint of efficient dispersion of the conductivity-imparting agent of the present invention into (C).

本発明の成形品は、上記半導電性樹脂組成物を成形して得られる。該成形方法としては、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、発泡成形、フィルム成形(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)等が挙げられ、目的に応じて任意の方法で成形できる。   The molded product of the present invention can be obtained by molding the semiconductive resin composition. Examples of the molding method include injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding, foam molding, film molding (casting method, tenter method, inflation method, etc.). Depending on the method, it can be formed by any method.

本発明の半導電性樹脂組成物からなる成形品は、優れた機械的強度および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有し、成形品に塗装および/または印刷を施すことにより成形物品が得られる。
該成形品を塗装する方法としては、例えばエアスプレー塗装、エアレススプレー塗装、静電スプレー塗装、浸漬塗装、ローラー塗装、刷毛塗り等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
塗料としては、例えば、ポリエステルメラミン樹脂塗料、エポキシメラミン樹脂塗料、アクリルメラミン樹脂塗料、アクリルウレタン樹脂塗料等のプラスチックの塗装に一般に用いられる塗料が挙げられる。
塗装膜厚(乾燥膜厚)は、目的に応じて適宜選択することができるが通常10〜50μmである。
The molded article comprising the semiconductive resin composition of the present invention has excellent mechanical strength and permanent antistatic properties, and also has good paintability and printability, and the molded article is painted and / or printed. Thus, a molded article is obtained.
Examples of the method for coating the molded product include, but are not limited to, air spray coating, airless spray coating, electrostatic spray coating, immersion coating, roller coating, and brush coating.
Examples of the paint include paints generally used for plastic coating such as polyester melamine resin paint, epoxy melamine resin paint, acrylic melamine resin paint, and acrylic urethane resin paint.
The coating film thickness (dry film thickness) can be appropriately selected according to the purpose, but is usually 10 to 50 μm.

また、該成形品または成形品に塗装を施した上に印刷する方法としては、一般的にプラスチックの印刷に用いられている印刷法であればいずれも用いることができ、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、パッド印刷、ドライオフセット印刷およびオフセット印刷等が挙げられる。
印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるもの、例えばグラビアインキ、フレキソインキ、スクリーンインキ、パッドインキ、ドライオフセットインキおよびオフセットインキが使用できる。
In addition, as a method of printing after coating the molded product or the molded product, any printing method generally used for plastic printing can be used, for example, gravure printing, flexographic printing, and the like. , Screen printing, pad printing, dry offset printing, offset printing, and the like.
As the printing ink, those usually used for printing plastics, for example, gravure ink, flexographic ink, screen ink, pad ink, dry offset ink and offset ink can be used.

以下実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の部は重量部、%は重量%を表す。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the part in an Example represents a weight part and% represents weight%.

実施例1
ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム83.5部、テレフタル酸16.5部、酸化防止剤〔商品名「イルガノックス1010」、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製、テトラキス[メチレン−3−(3’、5’−ジ−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、以下同じ。〕0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価112のポリアミド96部を得た。
次に、Mn2,000のビスフェノールAのEO付加物192部、塩化コバルト(II)六水和物(A−1)72部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって親水性基含有ポリマー(B1−1)を得た。(B1−1)の体積固有抵抗値は1×108Ω・cmであった。
次に、水に水素化ホウ素ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B1−1)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X1)を得た。(X1)の体積固有抵抗値は7×101Ω・cmであった。
Example 1
In a stainless steel autoclave, 83.5 parts of ε-caprolactam, 16.5 parts of terephthalic acid, an antioxidant [trade name “Irganox 1010”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., tetrakis [methylene-3- (3 ′ 5′-di-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate] methane, and so on. ] 0.3 parts and 6 parts of water were charged, the inside of the autoclave was purged with nitrogen, then heated and stirred at 220 ° C. under pressure (0.3 to 0.5 MPa) for 4 hours, and an acid having carboxyl groups at both ends. 96 parts of polyamide having a value of 112 were obtained.
Next, 192 parts of an EO adduct of bisphenol A with Mn of 2,000, 72 parts of cobalt (II) chloride hexahydrate (A-1) and 0.5 part of zirconyl acetate were added, and 245 ° C. and 0.13 kPa or less were added. Polymerization was performed for 5 hours under reduced pressure to obtain a viscous polymer.
The obtained polymer was taken out as a strand on the belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B1-1). The volume resistivity value of (B1-1) was 1 × 10 8 Ω · cm.
Next, sodium borohydride was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B1-1) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X1). The volume resistivity value of (X1) was 7 × 10 1 Ω · cm.

実施例2
実施例1において、(A−1)を32部用いたこと以外は実施例1と同様にして、親水性基含有ポリマー(B1−2)を得た。(B1−2)の体積固有抵抗値は1×109Ω・cmであった。導電性付与剤(X2)の体積固有抵抗値は5×102Ω・cmであった。
Example 2
In Example 1, hydrophilic group containing polymer (B1-2) was obtained like Example 1 except having used 32 parts of (A-1). The volume resistivity value of (B1-2) was 1 × 10 9 Ω · cm. The volume resistivity of the conductivity-imparting agent (X2) was 5 × 10 2 Ω · cm.

実施例3
ステンレス製オートクレーブに、12−アミノドデカン酸104部、アジピン酸21部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価126のポリアミド120部を得た。
次に、Mn2,000のポリオキシアルキレングリコール270部、硝酸ニッケル(II)六水和物(A−2)98部および酢酸亜鉛0.5部を加え、240℃、0.13kPa以下の減圧下で6時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって親水性基含有ポリマー(B1−3)を得た。(B1−3)の体積固有抵抗値は2×108Ω・cmであった。
次に、メタノールに次亜リン酸ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B1−3)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X3)を得た。(X3)の体積固有抵抗値は8×101Ω・cmであった。
Example 3
A stainless steel autoclave was charged with 104 parts of 12-aminododecanoic acid, 21 parts of adipic acid, 0.3 part of an antioxidant and 6 parts of water, and the inside of the autoclave was purged with nitrogen and pressurized at 220 ° C. (0.3 to 0). 0.5 MPa) under heating and stirring for 4 hours, 120 parts of polyamide having an acid value of 126 having carboxyl groups at both ends were obtained.
Next, 270 parts of polyoxyalkylene glycol of Mn 2,000, 98 parts of nickel nitrate (II) hexahydrate (A-2) and 0.5 parts of zinc acetate were added, and the mixture was subjected to 240 ° C. and reduced pressure of 0.13 kPa or less. For 6 hours to obtain a viscous polymer.
The obtained polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B1-3). The volume resistivity value of (B1-3) was 2 × 10 8 Ω · cm.
Next, sodium hypophosphite was dissolved in methanol to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B1-3) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X3). The volume resistivity value of (X3) was 8 × 10 1 Ω · cm.

実施例4
ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム49部、コハク酸51部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価510のポリアミド94部を得た。
次に、Mn300のビスフェノールAのEO付加物43部、Mn150のポリオキシアルキレングリコール43部、(A−1)45部および三酸化アンチモン0.5部を加え、245℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって親水性基含有ポリマー(B1−4)を得た。(B1−4)の体積固有抵抗値は1×1012Ω・cmであった。
次に、水に水素化ホウ素ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B1−4)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X4)を得た。(X4)の体積固有抵抗値は8×103Ω・cmであった。
Example 4
A stainless steel autoclave was charged with 49 parts of ε-caprolactam, 51 parts of succinic acid, 0.3 part of an antioxidant and 6 parts of water, and the autoclave was purged with nitrogen and pressurized at 220 ° C. (0.3 to 0.5 MPa). The mixture was heated and stirred under sealing for 4 hours to obtain 94 parts of polyamide having an acid value of 510 having carboxyl groups at both ends.
Next, 43 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn300, 43 parts of polyoxyalkylene glycol of Mn150, 45 parts of (A-1) and 0.5 part of antimony trioxide were added and reduced pressure at 245 ° C. and 0.13 kPa or less. Polymerization was carried out for 5 hours under a viscous polymer.
The obtained polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B1-4). The volume resistivity value of (B1-4) was 1 × 10 12 Ω · cm.
Next, sodium borohydride was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B1-4) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X4). The volume resistivity value of (X4) was 8 × 10 3 Ω · cm.

実施例5
ステンレス製オートクレーブに、12−アミノドデカン酸97部、アジピン酸3部、酸化防止剤0.3部および水6部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下、4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価22のポリアミド95部を得た。
次に、Mn5,000のビスフェノールAのEO付加物48部、Mn20,000のポリオキシアルキレングリコール190部、(A−2)60部、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム1.5部、および酢酸亜鉛0.5部を加え、240℃、0.13kPa以下の減圧下で12時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって親水性基含有ポリマー(B1−5)を得た。(B1−5)の体積固有抵抗値は2×106Ω・cmであった。
次に、メタノールに次亜リン酸ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B1−5)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X5)を得た。(X5)の体積固有抵抗値は8×102Ω・cmであった。
Example 5
A stainless steel autoclave was charged with 97 parts of 12-aminododecanoic acid, 3 parts of adipic acid, 0.3 part of antioxidant and 6 parts of water, and the inside of the autoclave was purged with nitrogen and pressurized at 220 ° C. (0.3 to 0). 0.5 MPa) The mixture was heated and stirred for 4 hours in a sealed state to obtain 95 parts of polyamide having an acid value of 22 having carboxyl groups at both ends.
Next, 48 parts of an EO adduct of bisphenol A of Mn 5,000, 190 parts of polyoxyalkylene glycol of Mn 20,000, 60 parts of (A-2), 1.5 parts of lithium trifluoromethanesulfonate, and 0. 5 parts were added and polymerized at 240 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 12 hours to obtain a viscous polymer.
The obtained polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B1-5). The volume resistivity value of (B1-5) was 2 × 10 6 Ω · cm.
Next, sodium hypophosphite was dissolved in methanol to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B1-5) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X5). The volume resistivity value of (X5) was 8 × 10 2 Ω · cm.

実施例6
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn2,500、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量10.5個、1分子当たりの二重結合の平均数1.9個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量95%)85部と無水マレイン酸15部を仕込み、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、200℃で溶融し、200℃、20時間反応させた。
その後、過剰の無水マレイン酸を減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(b21−1)を得た。(b21−1)は、酸価39.8、Mn2,800であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(b21−1)50部、ポリエチレングリコール(b22−1)(Mn2,800、体積固有抵抗値1×107Ω・cm)50部、(A−2)25部、酸化防止剤0.3部および酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で3時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって親水性基含有ポリマー(B2−1)を得た。(B2−1)のMnは22,000、該Mnと1H−NMR分析より求めた平均繰り返し数(Nn)は3.9であった。(B2−1)の体積固有抵抗値は2×108Ω・cmであった。
次に、水に水素化ホウ素ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B2−1)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X6)を得た。(X6)の体積固有抵抗値は7×101Ω・cmであった。
Example 6
Low molecular weight polypropylene (Mn 2,500, density 0.89, 10.5 double bonds per 1,000 C, average double bonds per molecule) obtained by a stainless steel autoclave 1.9 parts, content of polyolefin which can be modified at both ends (95%) and 85 parts of maleic anhydride and 15 parts of maleic anhydride were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed) and reacted at 200 ° C. for 20 hours. I let you.
Then, excess maleic anhydride was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (b21-1). (B21-1) had an acid value of 39.8 and Mn of 2,800.
Next, in a stainless steel autoclave, 50 parts of (b21-1), 50 parts of polyethylene glycol (b22-1) (Mn2,800, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm), 25 parts of (A-2) Then, 0.3 part of an antioxidant and 0.5 part of zirconyl acetate were charged and polymerized at 230 ° C. under a reduced pressure of 0.13 kPa or less for 3 hours to obtain a viscous polymer.
The obtained polymer was taken out as a strand on a belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B2-1). Mn of (B2-1) was 22,000, and the average number of repetitions (Nn) determined from the Mn and 1 H-NMR analysis was 3.9. The volume resistivity value of (B2-1) was 2 × 10 8 Ω · cm.
Next, sodium borohydride was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B2-1) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X6). The volume resistivity value of (X6) was 7 × 10 1 Ω · cm.

実施例7
ステンレス製オートクレーブに、(b21−1)51部、(b22−1)34部、EO/THF−ランダム共重合体(EO/THF=重量比40/60、Mn3,000)18部、(A−1)26部、塩化リチウム1.0部、酸化防止剤0.3部およびテトラブチルチタネート0.5部を加え、230℃、0.13kPa以下の減圧下で5時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって親水性基含有ポリマー(B2−2)を得た。(B2−2)のMnは30,000、Nnは5.3、体積固有抵抗値は8×106Ω・cmであった。
次に、水に次亜リン酸ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B2−2)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X7)を得た。(X7)の体積固有抵抗値は5×101Ω・cmであった。
Example 7
In a stainless steel autoclave, 51 parts of (b21-1), 34 parts of (b22-1), 18 parts of EO / THF-random copolymer (EO / THF = weight ratio 40/60, Mn3,000), (A- 1) 26 parts, 1.0 part of lithium chloride, 0.3 part of antioxidant and 0.5 part of tetrabutyl titanate were added and polymerized at 230 ° C. under a reduced pressure of 0.13 kPa or less for 5 hours to obtain a viscous polymer. Got.
The obtained polymer was taken out in a strand form on a belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B2-2). Mn of (B2-2) was 30,000, Nn was 5.3, and the volume resistivity value was 8 × 10 6 Ω · cm.
Next, sodium hypophosphite was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B2-2) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X7). The volume resistivity value of (X7) was 5 × 10 1 Ω · cm.

実施例8
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn3,400、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量7.0個、1分子当たりの二重結合の平均数1.8個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量90%)90部と無水マレイン酸10部とを、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、200℃で溶融し、200℃、20時間反応を行った。
その後、過剰の無水マレイン酸を減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(b21−2)を得た。(b21−2)は、酸価27.5、Mn3,600であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(b21−2)97部とエタノールアミン5部を窒素ガス雰囲気下、180℃で溶融し、180℃、2時間反応させた。その後、過剰のエタノールアミンを減圧下、180℃、2時間で留去して、水酸基を有する変性ポリプロピレン(b21−3)を得た。(b21−3)の水酸基価は26.7、アミン価は0.01、Mnは3,700であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、ポリエチレングリコール(b22−2)(Mn3,200、体積固有抵抗値1×107Ω・cm)とMDIを反応させて得られたイソシアネート変性ポリエチレングリコール(b22−3)(NCO含量3.0%、体積固有抵抗値1×107Ω・cm)43部と、水酸基を有する変性ポリプロピレン(b21−3)57部、硝酸銀(A−3)25部とを2軸押出機にて、200℃、滞留時間30秒で混練し、これをストランド状に取り出し、ペレット化することにより親水性基含有ポリマー(B2−3)を得た。(B2−3)のMnは50,000、Nnは7.2、体積固有抵抗値は4×108Ω・cmであった。
次に、メタノールに次亜リン酸ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B2−3)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X8)を得た。(X8)の体積固有抵抗値は8×102Ω・cmであった。
Example 8
Low molecular weight polypropylene obtained by a thermal degradation method (Mn 3,400, density 0.89, 7.0 double bonds per 1,000 C, average of double bonds per molecule, and stainless steel autoclave) 1.8 parts, 90 parts of polyolefin capable of modifying both ends) and 10 parts of maleic anhydride were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed) and reacted at 200 ° C. for 20 hours. Went.
Then, excess maleic anhydride was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (b21-2). (B21-2) had an acid value of 27.5 and Mn3,600.
Next, 97 parts of (b21-2) and 5 parts of ethanolamine were melted at 180 ° C. in a nitrogen gas atmosphere in a stainless steel autoclave and reacted at 180 ° C. for 2 hours. Then, excess ethanolamine was distilled off under reduced pressure at 180 ° C. for 2 hours to obtain a modified polypropylene (b21-3) having a hydroxyl group. (B21-3) had a hydroxyl value of 26.7, an amine value of 0.01, and Mn of 3,700.
Next, an isocyanate-modified polyethylene glycol (b22-3) obtained by reacting polyethylene glycol (b22-2) (Mn3,200, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm) with MDI in a stainless steel autoclave. Biaxial extrusion of 43 parts (NCO content 3.0%, volume resistivity 1 × 10 7 Ω · cm), 57 parts of modified polypropylene (b21-3) having a hydroxyl group and 25 parts of silver nitrate (A-3) A hydrophilic group-containing polymer (B2-3) was obtained by kneading in a machine at 200 ° C. for a residence time of 30 seconds, taking it into a strand, and pelletizing it. Mn of (B2-3) was 50,000, Nn was 7.2, and the volume resistivity value was 4 × 10 8 Ω · cm.
Next, sodium hypophosphite was dissolved in methanol to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B2-3) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X8). The volume resistivity value of (X8) was 8 × 10 2 Ω · cm.

実施例9
実施例6において、(b22−1)に代えてポリエチレングリコールジアミン(b22−4)(Mn2,800、体積固有抵抗値2×107Ω・cm)を用いた以外は実施例4
と同様にして、親水性基含有ポリマー(B2−4)を得た。(B2−4)のMnは20,000、Nnは3.9、体積固有抵抗値は4×108Ω・cmであった。
次に、水にヒドラジンを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B2−4)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X9)を得た。(X9)の体積固有抵抗値は7×102Ω・cmであった。
Example 9
Example 4 except that polyethylene glycol diamine (b22-4) (Mn 2,800, volume resistivity 2 × 10 7 Ω · cm) was used instead of (b22-1) in Example 6.
In the same manner as described above, a hydrophilic group-containing polymer (B2-4) was obtained. Mn of (B2-4) was 20,000, Nn was 3.9, and the volume resistivity value was 4 × 10 8 Ω · cm.
Next, hydrazine was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B2-4) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X9). The volume resistivity value of (X9) was 7 × 10 2 Ω · cm.

実施例10
ステンレス製のオートクレーブで、酸変性ポリプロピレン(b21−2)66部と12−アミノドデカン酸34部を窒素ガス雰囲気下、撹拌下、200℃で溶融し、200℃、3時間、1.3kPa以下の減圧下で反応させ、酸変性ポリプロピレン(a21−4)96部を得た。(b21−4)の酸価は17.7、Mnは、5,700であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(b21−4)60部、(b22−1)27部、(A−1)22部、酸化防止剤0.3部および酢酸亜鉛0.5部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で8時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって、親水性基含有ポリマー(B2−5)を得た。(B2−5)のMnは29,000、Nnは3.6、体積固有抵抗値は1×108Ω・cmであった。
次に、水に水素化ホウ素ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B2−5)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X10)を得た。(X10)の体積固有抵抗値は7×101Ω・cmであった。
Example 10
In a stainless steel autoclave, 66 parts of acid-modified polypropylene (b21-2) and 34 parts of 12-aminododecanoic acid were melted at 200 ° C. under stirring in a nitrogen gas atmosphere, at 200 ° C. for 3 hours, 1.3 kPa or less. The reaction was carried out under reduced pressure to obtain 96 parts of acid-modified polypropylene (a21-4). The acid value of (b21-4) was 17.7, and Mn was 5,700.
Next, 60 parts of (b21-4), 27 parts of (b22-1), 22 parts of (A-1), 0.3 part of antioxidant and 0.5 part of zinc acetate were charged into a stainless steel autoclave, 230 Polymerization was carried out for 8 hours under reduced pressure of 0.13 kPa at 0 ° C. to obtain a viscous polymer.
The obtained polymer was taken out as a strand on the belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B2-5). Mn of (B2-5) was 29,000, Nn was 3.6, and the volume resistivity value was 1 × 10 8 Ω · cm.
Next, sodium borohydride was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B2-5) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X10). The volume resistivity value of (X10) was 7 × 10 1 Ω · cm.

実施例11
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn19,000、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量6.8個、1分子当たりの二重結合の平均数1.7個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量90%)250部と無水マレイン酸10部とを、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、220℃で溶融し、220℃、29時間反応を行った。
その後、過剰の無水マレイン酸を減圧下、220℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(b21−5)を得た。(b21−5)は、酸価5.5、Mn19,200であった。
次に、酸変性ポリプロピレン(b21−5)135部とビス(2−アミノエチル)エーテル10部を窒素ガス雰囲気下、撹拌下、200℃で溶融し、200℃、2時間反応させた。その後、過剰のビス(2−アミノエチル)エーテルを減圧下、200℃、2時間で留去して、両末端にアミノ基を有する変性ポリプロピレン(b21−6)を得た。(b21−6)のアミン価は5.8、Mnは19,400であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(b21−6)50部、ポリエチレングリコール(b22−5)(Mn20,000、体積固有抵抗値1×108Ω・cm)40部、ドデカン二酸5.2部、硫酸銅(II)(A−4)23部、酸化防止剤0.3部および酢酸亜鉛0.5部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で15時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって、親水性基含有ポリマー(B2−6)を得た。(B2−6)のMnは58,000、Nnは1.5、体積固有抵抗値は2×109Ω・cmであった。
次に、メタノールに次亜リン酸ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B2−6)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X11)を得た。(X11)の体積固有抵抗値は8×102Ω・cmであった。
Example 11
Low molecular weight polypropylene (Mn 19,000, density 0.89, average number of double bonds per 1,000 C, 1,000 double bonds per molecule) obtained by a stainless steel autoclave 1.7 parts, content of polyolefin which can be modified at both ends (90%) 250 parts and maleic anhydride 10 parts were melted at 220 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed) and reacted at 220 ° C. for 29 hours. Went.
Thereafter, excess maleic anhydride was distilled off under reduced pressure at 220 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (b21-5). (B21-5) had an acid value of 5.5 and Mn of 19,200.
Next, 135 parts of acid-modified polypropylene (b21-5) and 10 parts of bis (2-aminoethyl) ether were melted at 200 ° C. under stirring in a nitrogen gas atmosphere and reacted at 200 ° C. for 2 hours. Thereafter, excess bis (2-aminoethyl) ether was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 2 hours to obtain a modified polypropylene (b21-6) having amino groups at both ends. The amine value of (b21-6) was 5.8, and Mn was 19,400.
Next, in a stainless steel autoclave, 50 parts of (b21-6), 40 parts of polyethylene glycol (b22-5) (Mn 20,000, volume resistivity 1 × 10 8 Ω · cm), 5.2 parts of dodecanedioic acid , 23 parts of copper (II) sulfate (A-4), 0.3 part of antioxidant and 0.5 part of zinc acetate were charged and polymerized for 15 hours at 230 ° C. under a reduced pressure of 0.13 kPa or less. A polymer was obtained.
The obtained polymer was taken out as a strand on the belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B2-6). Mn of (B2-6) was 58,000, Nn was 1.5, and the volume resistivity value was 2 × 10 9 Ω · cm.
Next, sodium hypophosphite was dissolved in methanol to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B2-6) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X11). The volume resistivity value of (X11) was 8 × 10 2 Ω · cm.

実施例12
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn800、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量10.8個、1分子当たりの二重結合の平均数1.8個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量95%)80部と無水マレイン酸45部とを、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、200℃で溶融し、200℃、20時間反応を行った。
その後、過剰の無水マレイン酸を減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(b21−7)を得た。(b21−7)は、酸価112、Mn1,000であった。
次に、ステンレス製オートクレーブに、(b21−7)50部、ポリエチレングリコール(b22−6)(Mn300、体積固有抵抗値1×106Ω・cm)15部、(A−2)16部、酸化防止剤0.3部および酢酸ジルコニル0.5部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で3時間重合させ、粘稠なポリマーを得た。
得られたポリマーをベルト上にストランド状で取り出し、ペレット化することによって親水性基含有ポリマー(B2−7)を得た。(B2−7)のMnは6,000、該Mnと1H−NMR分析より求めた平均繰り返し数(Nn)は4.6であった。(B2−7)の体積固有抵抗値は2×1010Ω・cmであった。
次に、水に水素化ホウ素ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液中で(B2−7)を30分浸漬させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、導電性付与剤(X12)を得た。(X12)の体積固有抵抗値は9×103Ω・cmであった。
Example 12
In a stainless steel autoclave, low molecular weight polypropylene obtained by a thermal degradation method (Mn 800, density 0.89, 10.8 double bonds per 1,000 C, average number of double bonds per molecule 1) 8 parts, content of polyolefin which can be modified at both ends (95%) 80 parts and maleic anhydride 45 parts were melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed) and reacted at 200 ° C. for 20 hours. It was.
Then, excess maleic anhydride was distilled off under reduced pressure at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (b21-7). (B21-7) had an acid value of 112 and Mn of 1,000.
Next, in a stainless steel autoclave, 50 parts of (b21-7), 15 parts of polyethylene glycol (b22-6) (Mn300, volume resistivity 1 × 10 6 Ω · cm), 16 parts of (A-2), oxidized 0.3 parts of an inhibitor and 0.5 parts of zirconyl acetate were charged and polymerized at 230 ° C. under a reduced pressure of 0.13 kPa or less for 3 hours to obtain a viscous polymer.
The obtained polymer was taken out in a strand form on a belt and pelletized to obtain a hydrophilic group-containing polymer (B2-7). Mn of (B2-7) was 6,000, and the average number of repetitions (Nn) determined from the Mn and 1H-NMR analysis was 4.6. The volume resistivity value of (B2-7) was 2 × 10 10 Ω · cm.
Next, sodium borohydride was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (B2-7) was immersed in the reducing agent solution for 30 minutes. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the electroconductivity imparting agent (X12). The volume resistivity value of (X12) was 9 × 10 3 Ω · cm.

比較例1
実施例1において、(A−1)を用いないこと以外は実施例1と同様にして、導電性付与剤(比X1)を得た。(比X1)の体積固有抵抗値は3×109Ω・cmであった。
Comparative Example 1
In Example 1, the electroconductivity imparting agent (ratio X1) was obtained like Example 1 except not using (A-1). The volume resistivity value of (Ratio X1) was 3 × 10 9 Ω · cm.

比較例2
実施例3において、次亜リン酸ナトリウムを用いないこと以外は実施例3と同様にして、導電性付与剤(比X2)を得た。(比X2)の体積固有抵抗値は2×109Ω・cmであった。
Comparative Example 2
In Example 3, the electroconductivity imparting agent (ratio X2) was obtained like Example 3 except not using sodium hypophosphite. The volume resistivity value of (Ratio X2) was 2 × 10 9 Ω · cm.

比較例3
実施例6において、(A−2)を用いないこと以外は実施例6と同様にして、導電性付与剤(比X3)を得た。(比X3)の体積固有抵抗値は2×109Ω・cmであった。
Comparative Example 3
In Example 6, the electroconductivity imparting agent (ratio X3) was obtained like Example 6 except not using (A-2). The volume resistivity value of (Ratio X3) was 2 × 10 9 Ω · cm.

比較例4
実施例7において、(A−1)に代えて酢酸カリウム(比A−1)を用いること以外は実施例7と同様にして、導電性付与剤(比X4)を得た。(比X4)の体積固有抵抗値は3×109Ω・cmであった。
Comparative Example 4
In Example 7, the electroconductivity imparting agent (ratio X4) was obtained like Example 7 except using potassium acetate (ratio A-1) instead of (A-1). The volume resistivity value of (Ratio X4) was 3 × 10 9 Ω · cm.

比較例5
実施例10における(B2−5)を導電性付与剤(比X5)とした。(比X5)の体積固有抵抗値は1×108Ω・cmであった。
Comparative Example 5
(B2-5) in Example 10 was used as a conductivity-imparting agent (ratio X5). The volume resistivity value of (Ratio X5) was 1 × 10 8 Ω · cm.

実施例13〜27、比較例6〜12
表1に示す配合組成に従って、(X1)〜(X12)または(比X1)〜(比X5)と熱可塑性樹脂(C−1)または(C−2)とを、場合により帯電防止性向上剤(D−1)または(D−2)、相溶化剤(E−1)と共に、ヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、220℃、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練して、それぞれ樹脂組成物(実施例13〜27および比較例6〜12)を得た。
Examples 13-27, Comparative Examples 6-12
According to the composition shown in Table 1, (X1) to (X12) or (Ratio X1) to (Ratio X5) and the thermoplastic resin (C-1) or (C-2) are optionally added to an antistatic property improving agent. After blending with (D-1) or (D-2) and compatibilizer (E-1) for 3 minutes with a Henschel mixer, using a twin screw extruder with a vent, 220 ° C., 100 rpm, residence time 5 minutes It melt-kneaded on condition, and obtained the resin composition (Examples 13-27 and Comparative Examples 6-12), respectively.

実施例28
親水性基含有ポリマー(B2−1)10部と熱可塑性樹脂(C−2)88部とを、帯電防止性向上剤(D−1)2部とを、ヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、220℃、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練して、樹脂組成物(C−3)を得た。
次に、水に水素化ホウ素ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液に(C−3)を1時間接触させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、樹脂組成物(実施例28)を得た。
Example 28
After blending 10 parts of the hydrophilic group-containing polymer (B2-1) and 88 parts of the thermoplastic resin (C-2) with 2 parts of the antistatic property improver (D-1) for 3 minutes using a Henschel mixer, The resin composition (C-3) was obtained by melt-kneading in a twin screw extruder with a vent at 220 ° C., 100 rpm, and a residence time of 5 minutes.
Next, sodium borohydride was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (C-3) was contacted with the reducing agent solution for 1 hour. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the resin composition (Example 28).

比較例13
金属塩(A−1)2部と熱可塑性樹脂(C−2)88部とを、帯電防止性向上剤(D−1)2部とを、ヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、220℃、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練して、樹脂組成物(比C−3)を得た。
次に、水に水素化ホウ素ナトリウムを溶かし、1モル/l還元剤溶液を作成した。その還元剤溶液に(比C−3)を1時間接触させた。その後、減圧下、100℃、4時間乾燥させ、樹脂組成物(比較例13)を得た。
Comparative Example 13
After blending 2 parts of metal salt (A-1) and 88 parts of thermoplastic resin (C-2) with 2 parts of antistatic improver (D-1) for 3 minutes using a Henschel mixer, 2 with vent It melt-kneaded on the conditions of 220 degreeC, 100 rpm, and residence time 5 minutes with the axial extruder, and the resin composition (ratio C-3) was obtained.
Next, sodium borohydride was dissolved in water to prepare a 1 mol / l reducing agent solution. (Ratio C-3) was contacted with the reducing agent solution for 1 hour. Then, it dried at 100 degreeC under pressure reduction for 4 hours, and obtained the resin composition (comparative example 13).

Figure 2008248097
(C−1):ABS樹脂[商品名「セビアン−V320」、ダイセルポリマー(株)製]
(C−2):ポリプロピレン樹脂[商品名「サンアロマーPM771M」、サンアロマー
(株)製]
(D−1):ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
(D−2):塩化リチウム
(E−1):相溶化剤[商品名「エポフレンド」、ダイセル化学(株)製、変性ビニル重
合体]
Figure 2008248097
(C-1): ABS resin [trade name “Cebian-V320”, manufactured by Daicel Polymer Co., Ltd.]
(C-2): Polypropylene resin [trade name “Sun Aroma PM771M”, Sun Aroma
Manufactured by]
(D-1): Sodium dodecylbenzenesulfonate (D-2): Lithium chloride (E-1): Compatibilizer [trade name “Epofriend”, manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., modified vinyl heavy
Combined]

<性能評価>
上記樹脂組成物を用いて、それぞれ射出成形機[PS40E5ASE、日精樹脂工業(
株)製]により、シリンダー温度[(C−1)の場合は240℃、(C−2)の場合は2
20℃]、金型温度50℃で成形し、試験片を各々作成し、下記の方法に従って衝撃強度、帯電防止性、成形性の評価を行った。結果を表2に示す。
<Performance evaluation>
Using the above resin composition, injection molding machines [PS40E5ASE, Nissei Plastic Industry (
Co., Ltd.], cylinder temperature [240C for (C-1), 2 for (C-2)
20 [deg.] C.] and a mold temperature of 50 [deg.] C. to prepare test pieces, and the impact strength, antistatic properties and moldability were evaluated according to the following methods. The results are shown in Table 2.

[1]機械特性
(1)衝撃強度
ASTM D256(ノッチ付、3.2mm厚)Method Aに準拠。
[2]帯電防止性
(1)体積固有抵抗値
試験片(100×100×2mm)について、超絶縁計[DSM−8103(平板試料用電極SME−8310)、東亜電波工業(株)、以下同じ。]により23℃、湿度50%RHの雰囲気下で測定した(ASTM D257に準拠)。
(2)水洗後の体積固有抵抗値
斜めに立てかけた試験片(100×100×2mm)の表面を、流量100ml/分のイオン交換水(23℃)100mlで水洗し、その後80℃の循風乾燥機で3時間乾燥させる。該水洗−乾燥の操作を10回繰り返した試験片について、(1)と同様に測定した。
[3]成形性
熱可塑性樹脂単体での成形と同条件にて成形し、下記の基準で成形品の表面状態を熱可塑性樹脂単体の成形品と比較した。
○:成形品表面が熱可塑性樹脂単体の成形品と同等。
×:成形品表面が熱可塑性樹脂単体の成形品に比べ凸凹している。
[1] Mechanical properties (1) Impact strength Conforms to ASTM D256 (with notch, 3.2 mm thickness) Method A.
[2] Antistatic property (1) Volume specific resistance value For a test piece (100 × 100 × 2 mm), a superinsulator [DSM-8103 (electrode SME-8310 for flat plate sample), Toa Denpa Kogyo Co., Ltd. . ] In an atmosphere of 23 ° C. and humidity 50% RH (according to ASTM D257).
(2) Volume resistivity value after washing with water The surface of a test piece (100 × 100 × 2 mm) leaning diagonally was washed with 100 ml of ion-exchanged water (23 ° C.) at a flow rate of 100 ml / min, and then circulated at 80 ° C. Dry in a dryer for 3 hours. The test piece obtained by repeating the washing-drying operation 10 times was measured in the same manner as (1).
[3] Moldability Molding was performed under the same conditions as molding with a single thermoplastic resin, and the surface condition of the molded product was compared with that of a single thermoplastic resin according to the following criteria.
○: The surface of the molded product is equivalent to a molded product of a single thermoplastic resin.
X: The surface of the molded product is uneven as compared with a molded product of a single thermoplastic resin.

Figure 2008248097
Figure 2008248097
Figure 2008248097
Figure 2008248097

表2および表3から明らかなように、本発明の樹脂組成物(実施例13〜28)は、比較の樹脂組成物(比較例6〜13)に比べ、成形品の機械特性、永久帯電防止性および成形性に優れることがわかる。   As is clear from Tables 2 and 3, the resin compositions of the present invention (Examples 13 to 28) were compared with the comparative resin compositions (Comparative Examples 6 to 13) in mechanical properties and permanent charge prevention. It can be seen that it is excellent in properties and moldability.

本発明の半導電性樹脂組成物は成形性に優れ、極めて優れた高レベルの永久帯電防止性(半導電性)および機械物性を有する成形品を与えることから、各種成形法[射出成形、圧縮成型、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、発泡成形およびフィルム成形(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)等]で成形され、半導電性、帯電防止性が求められる、家電・OA機器、ゲーム機器および事務機器用のハウジング製品、ICトレー等の各種プラスチック容器、各種包材用フィルム、床材用シート、人工芝、マット、並びに自動車部品等の各種成形材料として極めて有用である。   The semiconductive resin composition of the present invention is excellent in moldability and gives a molded article having a very high level of permanent antistatic property (semiconductive) and mechanical properties. Various molding methods [injection molding, compression Molding, calender molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding, foam molding and film molding (casting method, tenter method, inflation method, etc.)], semi-conductivity and antistatic properties are required. Extremely useful as various molding materials for housing products for home appliances / OA equipment, game equipment and office equipment, various plastic containers such as IC trays, various packaging films, flooring sheets, artificial turf, mats, and automotive parts It is.

Claims (8)

金属塩(A)、および1×106〜1×1012Ω・cmの体積固有抵抗値を有し、下記(B1)〜(B9)からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性基含有ポリマー(B)からなる組成物中において、(A)を還元してなることを特徴とする導電性付与剤(X)。
(B1):ポリアミド(b11)と、ビスフェノール化合物のアルキレンオキシド付加物(b12)および/またはポリオキシアルキレングリコール(b13)とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
(B2):ポリオレフィン(b21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
(B3):ポリエーテルアミドイミド
(B4):ポリエーテルエステル
(B5):エピハロヒドリン/アルキレンオキシド共重合体
(B6):アクリルアミド共重合体
(B7):エチレン/不飽和カルボン酸(塩)もしくはエチレン/(メタ)アクリレート/不飽和カルボン酸(塩)共重合体
(B8):メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート共重合体
(B9):ポリエーテル基含有エチレン/酢酸ビニル共重合体[エチレン/ビニルアルコール共重合体のエチレンオキシド付加物]
Metal salt (A) and a volume specific resistance value of 1 × 10 6 to 1 × 10 12 Ω · cm, containing at least one hydrophilic group selected from the group consisting of (B1) to (B9) below A conductivity-imparting agent (X) obtained by reducing (A) in a composition comprising a polymer (B).
(B1): Polyether ester amide (B2) derived from polyamide (b11) and an alkylene oxide adduct (b12) and / or polyoxyalkylene glycol (b13) of a bisphenol compound: a block of polyolefin (b21) A structure in which the block of the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) is alternately and repeatedly bonded via at least one bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. Block polymer (B3): polyether amide imide (B4): polyether ester (B5): epihalohydrin / alkylene oxide copolymer (B6): acrylamide copolymer (B7): ethylene / unsaturated carboxylic acid (salt) Or Ethile / (Meth) acrylate / unsaturated carboxylic acid (salt) copolymer (B8): methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate copolymer (B9): polyether group-containing ethylene / vinyl acetate copolymer [ethylene / vinyl alcohol Copolymer ethylene oxide adduct]
(A)と(B)の重量比が、1/99〜40/60である、請求項1記載の導電性付与剤(X)。 The conductivity imparting agent (X) according to claim 1, wherein the weight ratio of (A) to (B) is from 1/99 to 40/60. 請求項1または2記載の導電性付与剤(X)を、熱可塑性樹脂(C)に含有させてなる半導電性樹脂組成物。 A semiconductive resin composition comprising the thermoplastic resin (C) containing the conductivity imparting agent (X) according to claim 1 or 2. 金属塩(A)、および1×106〜1×1012Ω・cmの体積固有抵抗値を有し、下記(B1)〜(B9)からなる群から選ばれる少なくとも1種の親水性基含有ポリマー(B)からなる組成物を、熱可塑性樹脂(C)に含有させてなる樹脂組成物中において、(A)を還元してなり、該還元された(A)と(B)からなる導電性付与剤(X)を含有してなる半導電性樹脂組成物。
(B1):ポリアミド(b11)と、ビスフェノール化合物のアルキレンオキシド付加物(b12)および/またはポリオキシアルキレングリコール(b13)とから誘導されるポリエーテルエステルアミド
(B2):ポリオレフィン(b21)のブロックと、ポリオキシアルキレン鎖含有化合物(b22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
(B3):ポリエーテルアミドイミド
(B4):ポリエーテルエステル
(B5):エピハロヒドリン/アルキレンオキシド共重合体
(B6):アクリルアミド共重合体
(B7):エチレン/不飽和カルボン酸(塩)もしくはエチレン/(メタ)アクリレート/不飽和カルボン酸(塩)共重合体
(B8):メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート共重合体
(B9):ポリエーテル基含有エチレン/酢酸ビニル共重合体[エチレン/ビニルアルコール共重合体のエチレンオキシド付加物]
Metal salt (A) and a volume specific resistance value of 1 × 10 6 to 1 × 10 12 Ω · cm, containing at least one hydrophilic group selected from the group consisting of (B1) to (B9) below In the resin composition obtained by containing the composition comprising the polymer (B) in the thermoplastic resin (C), (A) is reduced, and the conductive material comprising the reduced (A) and (B). A semiconductive resin composition containing the property-imparting agent (X).
(B1): Polyether ester amide (B2) derived from polyamide (b11) and an alkylene oxide adduct (b12) and / or polyoxyalkylene glycol (b13) of a bisphenol compound: a block of polyolefin (b21) A structure in which the block of the polyoxyalkylene chain-containing compound (b22) is alternately and repeatedly bonded via at least one bond selected from the group consisting of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond and a urethane bond. Block polymer (B3): polyether amide imide (B4): polyether ester (B5): epihalohydrin / alkylene oxide copolymer (B6): acrylamide copolymer (B7): ethylene / unsaturated carboxylic acid (salt) Or Ethile / (Meth) acrylate / unsaturated carboxylic acid (salt) copolymer (B8): methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate copolymer (B9): polyether group-containing ethylene / vinyl acetate copolymer [ethylene / vinyl alcohol Copolymer ethylene oxide adduct]
導電性付与剤(X)の含有量が、(X)と(C)の合計重量に基づいて1〜30%である請求項3または4記載の半導電性樹脂組成物。 The semiconductive resin composition according to claim 3 or 4, wherein the content of the conductivity imparting agent (X) is 1 to 30% based on the total weight of (X) and (C). さらに、帯電防止性向上剤、相溶化剤およびその他の樹脂用添加剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤を含有させてなる請求項3〜5のいずれか記載の半導電性樹脂組成物。 The semiconductive resin composition according to any one of claims 3 to 5, further comprising at least one additive selected from the group consisting of an antistatic property improver, a compatibilizing agent, and other resin additives. object. 請求項3〜6のいずれか記載の半導電性樹脂組成物を成形してなる成形品。 A molded product obtained by molding the semiconductive resin composition according to claim 3. 請求項7記載の成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品。 A molded article obtained by coating and / or printing the molded article according to claim 7.
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KR20160040523A (en) * 2013-06-26 2016-04-14 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 Voltage-stabilized polymeric compositions
JPWO2016063931A1 (en) * 2014-10-24 2017-08-03 ナミックス株式会社 Conductive composition and electronic component using the same

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