JP2006253412A - Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a solid electrolytic capacitor precisely lining up the end face of a capacitor element in a lamination direction by cutting a plurality of laminated capacitor elements to the lowest layer, and also to provide the solid electrolytic capacitor. <P>SOLUTION: In a laser cutting process in the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor, four laminated capacitor elements 10-40 are cut from end edge sections 13-43 by laser scanning. In the laser cutting process, a slit 40a is formed at an edge 41B at a positive electrode section by laser scanning, a slit 30a that is narrower than the slit 40a is formed at an edge 31B of the positive electrode, a slit 20a that is narrower than the slit 30a is formed at an edge 21B of the positive electrode, and a slit 10a that is narrower than a slit 10a is formed at the edge 11B of the positive electrode. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は固体電解コンデンサの製造方法及び固体電解コンデンサに関し、特に複数のコンデンサ素子を積層し電気的に並列接続して固体電解コンデンサを製造する固体電解コンデンサの製造方法、及び当該製造方法により製造される固体電解コンデンサに関する。   The present invention relates to a solid electrolytic capacitor manufacturing method and a solid electrolytic capacitor, and more particularly, a solid electrolytic capacitor manufacturing method for stacking a plurality of capacitor elements and electrically connecting them in parallel to manufacture a solid electrolytic capacitor, and the manufacturing method. The present invention relates to a solid electrolytic capacitor.

固体電解コンデンサとしては、高い静電容量を確保するために複数のコンデンサ素子が積層され電気的に並列接続されている構成が従来より知られている。例えば、特開平10−144573号公報(特許文献1参照)にはこの構成の固体電解コンデンサ及びその製造方法が記載されている。固体電解コンデンサの製造方法では、固体電解コンデンサを構成する複数の板状のコンデンサ素子は、金型により打ち抜かれて所定の形状とされた後に積層され、固体電解コンデンサが構成される。
特開平10−144573号公報
As a solid electrolytic capacitor, a configuration in which a plurality of capacitor elements are stacked and electrically connected in parallel in order to ensure high capacitance has been conventionally known. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 10-144573 (see Patent Document 1) describes a solid electrolytic capacitor having this configuration and a method for manufacturing the same. In the method of manufacturing a solid electrolytic capacitor, a plurality of plate-like capacitor elements constituting the solid electrolytic capacitor are punched out by a mold and formed into a predetermined shape, and then laminated to form a solid electrolytic capacitor.
Japanese Patent Laid-Open No. 10-144573

しかし、前述の従来の固体電解コンデンサの製造方法では、予め金型により打抜いて所定の形状とした板状のコンデンサ素子を積層するため、積層方向におけるコンデンサ素子の端面を高い精度で揃えることは困難であった。   However, in the above-described conventional method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, since plate-shaped capacitor elements that have been punched out in advance with a predetermined shape are stacked, it is not possible to align the end faces of the capacitor elements in the stacking direction with high accuracy. It was difficult.

前述の従来の固体電解コンデンサの製造方法とは異なる製造方法としては、例えば、複数の板状のコンデンサ素子を積層した後に、積層されたコンデンサ素子の積層方向上方からレーザー照射を行い、複数の板状のコンデンサ素子を同時に切断して外形を規定する方法が考えられる。このような方法により固体電解コンデンサの外形を規定すると、レーザー照射により複数の板状のコンデンサ素子を同時に切断できるため、切断された各コンデンサ素子の端面たる切断面を揃えることができる。   As a manufacturing method different from the above-described conventional solid electrolytic capacitor manufacturing method, for example, after laminating a plurality of plate-like capacitor elements, laser irradiation is performed from above in the laminating direction of the laminated capacitor elements, thereby A method is conceivable in which the external shape is defined by simultaneously cutting the capacitor elements. When the outer shape of the solid electrolytic capacitor is defined by such a method, a plurality of plate-like capacitor elements can be simultaneously cut by laser irradiation, so that the cut surfaces that are the end faces of the cut capacitor elements can be aligned.

しかし、実際にコンデンサ素子の積層方向上方からのレーザー照射により複数の板状のコンデンサ素子を同時に切断しようとしても、積層方向上層のものは切断できても、下層のものまで同時に切断することはできない。これは、YAGレーザーを用いた場合であっても、YAGよりも強力なYVOレーザーを用いた場合であっても同様である。 However, even when trying to cut a plurality of plate-like capacitor elements at the same time by laser irradiation from the upper side in the stacking direction of the capacitor elements, even if the upper layer can be cut, the lower layer cannot be cut simultaneously. . This is the same whether a YAG laser is used or a YVO 4 laser that is stronger than YAG is used.

ここで、上層のコンデンサ素子が切断され下層のコンデンサ素子が切断されていない状態で、切断された上層のコンデンサ素子の不要部分を除去し、次に、下層のコンデンサ素子に対してレーザー照射して下層のコンデンサ素子を切断し不要部分を除去して、一枚ずつ切断除去してゆくことが考えられる。しかし、このようにすると不要部分を除去する手間が余計にかかり、固体電解コンデンサの製造工程が複雑になる。また、不要部分を除去する際に、固体電解コンデンサの陽極部となる部分が変形してしまう恐れがある。   Here, in a state where the upper capacitor element is cut and the lower capacitor element is not cut, an unnecessary portion of the cut upper capacitor element is removed, and then the lower capacitor element is irradiated with laser. It is conceivable that the capacitor elements in the lower layer are cut to remove unnecessary portions and cut and removed one by one. However, this makes it unnecessary to remove unnecessary portions and complicates the manufacturing process of the solid electrolytic capacitor. Moreover, when removing an unnecessary part, there exists a possibility that the part used as the anode part of a solid electrolytic capacitor may deform | transform.

そこで、本発明は、積層された複数のコンデンサ素子を最下層に至るまで切断して、積層方向におけるコンデンサ素子の端面を高い精度で揃えることができる固体電解コンデンサの製造方法及び固体電解コンデンサを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides a solid electrolytic capacitor manufacturing method and a solid electrolytic capacitor capable of cutting a plurality of stacked capacitor elements down to the lowest layer and aligning the end faces of the capacitor elements in the stacking direction with high accuracy. The purpose is to do.

上記目的を達成するために、本発明はコンデンサ素子製造工程と、積層工程と、レーザー切断工程と、接続工程とを有する固体電解コンデンサの製造方法を提供している。コンデンサ素子製造工程では、表面に酸化膜層が形成され弁作用金属からなる陽極部の該表面の所定の領域に、固体電解質層を有する陰極部を層状に形成する工程を有する。積層工程では、該コンデンサ素子製造工程を複数回行うことにより製造された複数の該コンデンサ素子を、該陽極部の端部同士が互いに隣接するように積層配置するとともに該陰極部同士を互いに積層配置する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a method of manufacturing a solid electrolytic capacitor having a capacitor element manufacturing process, a laminating process, a laser cutting process, and a connecting process. The capacitor element manufacturing step includes a step of forming a cathode portion having a solid electrolyte layer in a predetermined region on the surface of an anode portion made of a valve metal having an oxide film layer formed on the surface. In the laminating process, a plurality of the capacitor elements manufactured by performing the capacitor element manufacturing process a plurality of times are arranged so that the ends of the anode parts are adjacent to each other, and the cathode parts are arranged in a stacked manner. To do.

レーザー切断工程では、該コンデンサ素子において該陰極部が層状に形成された部分から該陰極部が形成されていない該陽極部の部分が突出する方向を突出方向とし、該コンデンサ素子が積層される方向を積層方向とし、該突出方向及び該積層方向に垂直の方向を幅方向としたときに、全ての該コンデンサ素子の該陽極部の端部において該幅方向の一端から他端へわたり該積層方向上方からレーザー照射することによりスリットを形成して、該スリットよりも該突出方向に位置する該陽極部の端縁部を切落とす。また、該レーザー切断工程では、該積層方向において最下層に配置された該コンデンサ素子以外の該コンデンサ素子の該スリットの幅が、該積層方向において最下層に配置された該コンデンサ素子の該スリットの幅よりも広くなるように、該複数のコンデンサ素子にそれぞれ該レーザーのビームスポット径よりも広い幅の該スリットを形成する。接続工程では、積層した該複数のコンデンサ素子を互いに電気的に並列接続する。   In the laser cutting step, a direction in which the portion of the anode portion in which the cathode portion is not formed protrudes from a portion in which the cathode portion is formed in a layered manner in the capacitor element, and a direction in which the capacitor elements are stacked Is the stacking direction, and the direction perpendicular to the stacking direction and the direction perpendicular to the stacking direction is the width direction, and the stacking direction extends from one end of the width direction to the other end of all the capacitor elements. A slit is formed by laser irradiation from above, and the edge of the anode portion located in the protruding direction is cut off from the slit. Further, in the laser cutting step, the width of the slit of the capacitor element other than the capacitor element arranged in the lowermost layer in the stacking direction is equal to the width of the slit of the capacitor element arranged in the lowermost layer in the stacking direction. The slits each having a width wider than the beam spot diameter of the laser are formed in the plurality of capacitor elements so as to be wider than the width. In the connecting step, the plurality of stacked capacitor elements are electrically connected in parallel to each other.

レーザー切断工程では、該積層方向において最下層に配置された該コンデンサ素子以外の該コンデンサ素子の該スリットの幅が、該積層方向において最下層に配置された該コンデンサ素子の該スリットの幅よりも広くなるように、該複数のコンデンサ素子にそれぞれ該レーザーのビームスポット径よりも広い幅の該スリットを形成するようにしたため、積層された複数のコンデンサ素子の陽極部の端部をレーザー照射により切落とすことができる。このため、レーザー照射により陽極部の端縁部が切落とされて生じた陽極部の各切断面を、複数のコンデンサ素子の積層方向において面一とすることができる。このため、この切断面において導電性の材料からなる板状の接続部材をすべての陽極部の端部に跨って固定して陽極部を電気的に接続する場合には、接続部材と陽極部の端部との電気的接続を確実にすることができる。また、製造される固体電解コンデンサの寸法精度を向上させることができ、歩留まりをよくすることができる。   In the laser cutting step, the width of the slit of the capacitor element other than the capacitor element arranged in the lowermost layer in the stacking direction is larger than the width of the slit of the capacitor element arranged in the lowermost layer in the stacking direction. Since the slits having a width wider than the beam spot diameter of the laser are formed in each of the plurality of capacitor elements so as to widen, the end portions of the anode portions of the plurality of stacked capacitor elements are cut by laser irradiation. Can be dropped. For this reason, each cut surface of the anode part produced by cutting off the edge part of the anode part by laser irradiation can be flush with each other in the stacking direction of the plurality of capacitor elements. For this reason, when the plate-shaped connecting member made of a conductive material is fixed across the end portions of all the anode portions and the anode portions are electrically connected to each other at the cut surface, The electrical connection with the end can be ensured. Moreover, the dimensional accuracy of the manufactured solid electrolytic capacitor can be improved, and the yield can be improved.

また、積層されたコンデンサ素子の陽極部をレーザー照射により一枚切断した後に、当該切断した陽極部の部分を除去するという工程を繰返し行わずに済み、このようにして切断した陽極部の不要部分を除去する際に、固体電解コンデンサの陽極部となる部分が変形することを防止することができ、且つ製造工程を簡単にすることができる。   In addition, it is not necessary to repeat the process of removing the anode part of the laminated capacitor element by laser irradiation and then removing the part of the cut anode part. Can be prevented from being deformed, and the manufacturing process can be simplified.

ここで、該レーザー切断工程では、該積層方向において下層に配置された該コンデンサ素子には、該積層方向において上層に配置された該コンデンサ素子よりも幅の狭い該スリットを形成することが好ましい。   Here, in the laser cutting step, it is preferable that the capacitor element arranged in the lower layer in the stacking direction is formed with the narrower slit than the capacitor element arranged in the upper layer in the stacking direction.

積層方向において下層に配置されたコンデンサ素子には、積層方向において上層に配置されたコンデンサ素子よりも幅の狭いスリットを形成するようにしたため、下層のコンデンサ素子の陽極部の端部に所望の幅のスリットを形成することができる。   The capacitor element arranged in the lower layer in the stacking direction is formed with a narrower slit than the capacitor element arranged in the upper layer in the stacking direction, so that a desired width is formed at the end of the anode part of the capacitor element in the lower layer. Slits can be formed.

また、該接続工程は、該複数のコンデンサ素子の該陽極部の端縁部を切落とすことにより生じた該陽極部の切断面に、該複数のコンデンサ素子の各該陽極部の端部を互いに電気的に接続するための導電性の材料からなる接続部材をすべての該陽極部の端部に跨って固定する接続部材固定工程を有することが好ましい。   Further, the connecting step includes connecting the end portions of the anode portions of the plurality of capacitor elements to the cut surface of the anode portions generated by cutting off the edge portions of the anode portions of the plurality of capacitor elements. It is preferable to have a connecting member fixing step of fixing a connecting member made of a conductive material for electrical connection across the end portions of all the anode portions.

複数のコンデンサ素子の各陽極部の端部を互いに電気的に接続するための導電性の材料からなる接続部材をすべての陽極部の端部に跨って固定する接続部材固定工程を行うようにしたため、コンデンサ素子の陽極部の端部どうしを接続部材を介して電気的に接続することができる。   Because the connection member fixing step of fixing the connection member made of a conductive material for electrically connecting the end portions of the anode portions of the plurality of capacitor elements across the end portions of all the anode portions is performed. The end portions of the anode portion of the capacitor element can be electrically connected to each other through the connection member.

また、該レーザー切断工程では、レーザースキャンによるレーザー照射により該スリットを形成することが好ましい。   In the laser cutting step, the slit is preferably formed by laser irradiation by laser scanning.

また、該レーザー切断工程の該レーザースキャンでは、最下層に配置された該コンデンサ素子以外の該コンデンサ素子には、形成される該スリットの長手方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する第1長手方向スキャン工程と、形成される該スリットの長手方向の他端においてレーザーの照射位置を該スリットの幅方向へ移動させる幅方向スキャン位置移動工程と、形成される該スリットの長手方向の他端から一端へと移動しながらレーザー照射する第2長手方向スキャン工程とを少なくとも行い、該スリットの幅は該幅方向スキャン位置移動工程による移動量の総和及びビームスポット径により規定され、最下層に配置された該コンデンサ素子には少なくとも該第1長手方向スキャン工程を行うことが好ましい。   Further, in the laser scanning of the laser cutting step, laser irradiation is performed on the capacitor elements other than the capacitor element arranged in the lowermost layer while moving from one end to the other end in the longitudinal direction of the slit to be formed. A first longitudinal scanning step, a widthwise scanning position moving step of moving the laser irradiation position in the widthwise direction of the slit at the other longitudinal end of the slit to be formed, and a longitudinal direction of the slit to be formed At least a second longitudinal scanning step in which laser irradiation is performed while moving from the other end to the other end, and the width of the slit is defined by the total amount of movement and the beam spot diameter in the width direction scanning position moving step, It is preferable that at least the first longitudinal scanning step is performed on the capacitor element arranged in the capacitor element.

また、該レーザー切断工程のレーザースキャンでは、最下層に配置された該コンデンサ素子以外の該コンデンサ素子には、形成される該スリットの幅方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する第1幅方向スキャン工程と、形成される該スリットの幅方向の他端においてレーザーの照射位置を該スリットの長手方向へ移動させる長手方向スキャン位置移動工程と、形成される該スリットの幅方向の他端から一端へと移動しながらレーザー照射する第2幅方向スキャン工程とを少なくとも行い、該スリットの長手方向の長さは該長手方向スキャン位置移動工程による移動量の総和により規定され、最下層に配置された該コンデンサ素子には、形成される該スリットの長手方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する長手方向スキャン工程を少なくとも行うことが好ましい。   In the laser scanning of the laser cutting step, the capacitor elements other than the capacitor element arranged in the lowermost layer are irradiated with laser while moving from one end to the other end in the width direction of the slit to be formed. One width direction scanning step, a longitudinal scanning position moving step of moving the laser irradiation position in the longitudinal direction of the slit at the other end in the width direction of the slit to be formed, and other width direction of the slit to be formed At least a second width direction scanning step in which laser irradiation is performed while moving from one end to the other end, and the length in the longitudinal direction of the slit is defined by the total amount of movement in the longitudinal direction scan position moving step, The arranged capacitor element has a longitudinal direction in which laser irradiation is performed while moving from one end to the other end in the longitudinal direction of the slit to be formed. It is preferable that at least performing scanning process.

また、該レーザー切断工程のレーザースキャンでは、上層の該コンデンサ素子において該スリットが形成される領域内の所定範囲内でスキャンしながらレーザー照射する上層照射工程と、下層の該コンデンサ素子の該積層方向における該所定範囲内相当位置において該所定範囲よりも狭い範囲でスキャンしながらレーザー照射する下層照射工程とを行う積層方向複数層レーザー照射工程を繰返し行うことが好ましい。   Further, in the laser scanning of the laser cutting step, the upper layer irradiation step of performing laser irradiation while scanning within a predetermined range in the region where the slit is formed in the upper capacitor element, and the stacking direction of the lower capacitor element It is preferable to repeatedly perform a multi-layer laser irradiation step in the stacking direction in which a lower layer irradiation step of performing laser irradiation while scanning in a range narrower than the predetermined range at a position corresponding to the predetermined range in FIG.

レーザースキャンによるレーザー照射によりスリットを形成するようにしたため、スリットの形成を極めて容易に行うことができる。   Since the slit is formed by laser irradiation by laser scanning, the slit can be formed very easily.

また、本発明は、表面に酸化膜層が形成され弁作用金属からなる陽極部と、該表面の所定の領域に固体電解質層を有して層状に形成された陰極部とにより構成される略板状のコンデンサ素子を複数備え、該複数のコンデンサ素子は、各該陽極部の端部同士が互いに対向するように積層配置されるとともに該陰極部同士が互いに積層配置されて、互いに電気的に並列接続される固体電解コンデンサを提供している。   The present invention also includes an anode part made of a valve metal having an oxide film layer formed on the surface, and a cathode part formed in a layered manner having a solid electrolyte layer in a predetermined region of the surface. A plurality of plate-like capacitor elements are provided, and the plurality of capacitor elements are stacked so that the end portions of the anode portions face each other, and the cathode portions are stacked on each other to electrically connect each other. A solid electrolytic capacitor connected in parallel is provided.

該コンデンサ素子において該陰極部が層状に形成された部分から該陰極部が形成されていない該陽極部の部分が突出する方向を突出方向とし、該コンデンサ素子が積層される方向を積層方向とし、該突出方向及び該積層方向に垂直の方向を幅方向としたときに、全ての該コンデンサ素子の該陽極部の端部は、該陽極部の端部において該幅方向の一端から他端へわたり該積層方向上方からレーザー照射されることによりスリットが形成されて該スリットよりも該突出方向に位置する該陽極部の端縁部が切落とされて生じた該陽極部の切断面を有し、各該切断面は、該複数のコンデンサ素子の積層方向において面一である。   In the capacitor element, the direction in which the portion of the anode part where the cathode part is not formed from the part in which the cathode part is formed in a layer form is defined as a projecting direction, and the direction in which the capacitor element is laminated is defined as a laminating direction. When the width direction is the direction perpendicular to the protruding direction and the stacking direction, the end portions of the anode portions of all the capacitor elements extend from one end to the other end in the width direction at the end portions of the anode portions. A slit is formed by laser irradiation from above the stacking direction, and has a cut surface of the anode part generated by cutting off the edge part of the anode part located in the projecting direction from the slit, Each cut surface is flush with the stacking direction of the plurality of capacitor elements.

各切断面は、複数のコンデンサ素子の積層方向において面一であるため、例えば切断面において、導電性の材料からなる板状の接続部材をすべての陽極部の端部に跨って固定して陽極部を電気的に接続する場合には、接続部材と陽極部の端部との電気的接続を確実にすることができる。   Since each cut surface is flush with the stacking direction of a plurality of capacitor elements, for example, a plate-like connection member made of a conductive material is fixed across the end portions of all anode portions on the cut surface. When the parts are electrically connected, the electrical connection between the connection member and the end of the anode part can be ensured.

以上により、積層された複数のコンデンサ素子を最下層に至るまで切断して、積層方向におけるコンデンサ素子の端面を高い精度で揃えることができる固体電解コンデンサの製造方法及び固体電解コンデンサを提供することができる。   As described above, it is possible to provide a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor and a solid electrolytic capacitor capable of cutting a plurality of stacked capacitor elements up to the lowest layer and aligning the end faces of the capacitor elements in the stacking direction with high accuracy. it can.

本発明の実施の形態による固体電解コンデンサの製造方法及び固体電解コンデンサについて図1乃至図6に基づき説明する。図1に示されるように固体電解コンデンサ1は、積層された4つのコンデンサ素子10〜40と、プリント基板50と、接続部材60と、4つのコンデンサ素子10〜40を覆うようにしてモールドする図示せぬモールド部とを備えている。   A method of manufacturing a solid electrolytic capacitor and a solid electrolytic capacitor according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the solid electrolytic capacitor 1 is molded so as to cover the four capacitor elements 10 to 40, the printed board 50, the connection member 60, and the four capacitor elements 10 to 40 that are stacked. And a mold part (not shown).

4つのコンデンサ素子10〜40は、それぞれ同一形状且つ同一の構成であり、図1に示されるように陽極部11〜41と、陰極部12〜42とを備えている。なお、図2を参照して説明する以下の説明では、4つのコンデンサ素子10〜40の構成は同一であることから、コンデンサ素子10のみについて図示し、他のコンデンサ素子20〜40については説明を省略する。   The four capacitor elements 10 to 40 have the same shape and the same configuration, respectively, and include anode parts 11 to 41 and cathode parts 12 to 42 as shown in FIG. In the following description that will be described with reference to FIG. 2, the configuration of the four capacitor elements 10 to 40 is the same. Therefore, only the capacitor element 10 is illustrated, and the other capacitor elements 20 to 40 are described. Omitted.

陽極部11は略長方形状をした板状をなしており、図1及び図2に示される左右方向に長辺が指向し、図1に示される左側の端部11Bには、図6に示されるように外方へ略長方形状に突出する凸部11Cが設けられている。   The anode portion 11 has a substantially rectangular plate shape, the long side is oriented in the left-right direction shown in FIGS. 1 and 2, and the left end portion 11B shown in FIG. As shown, a convex portion 11C that protrudes outward in a substantially rectangular shape is provided.

ここで、コンデンサ素子10において陰極部12の形成されていない陽極部11の部分が後述の陰極部12の形成された部分から突出する方向、即ち、図1の左方向を突出方向とし、コンデンサ素子10〜40が積層される方向を積層方向とし、突出方向及び積層方向に垂直の方向、即ち、図1の紙面の表と裏とを結ぶ方向を幅方向とする。   Here, in the capacitor element 10, the portion of the anode portion 11 where the cathode portion 12 is not formed protrudes from the portion where the cathode portion 12 described later is formed, that is, the left direction in FIG. The direction in which 10 to 40 are stacked is defined as the stacking direction, and the direction perpendicular to the projecting direction and the stacking direction, that is, the direction connecting the front and back of the paper surface of FIG.

このときに、後述のように、当該陽極部11の端部11Bにおいて当該幅方向の一端から他端へわたり積層方向上方からレーザー照射されることにより、スリット10a〜40a(図3等)が形成される。このスリット10a〜40aよりも当該突出方向に位置する陽極部11の端縁部13〜43(図3等)が切落とされて生じた陽極部11の切断面が、凸部11Cの設けられた端部11Bの輪郭を規定する。この切断面は、後述のようにコンデンサ素子10〜40の積層方向上方からレーザー照射されることにより生じるため、コンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の切断面たる図1に示される左側の端部11B〜41Bの輪郭は、積層方向において面一となっている。   At this time, as will be described later, slits 10a to 40a (FIG. 3 and the like) are formed by laser irradiation from the upper side in the stacking direction from one end to the other end in the width direction at the end portion 11B of the anode portion 11. Is done. A cut surface of the anode portion 11 formed by cutting off the edge portions 13 to 43 (FIG. 3 and the like) of the anode portion 11 located in the projecting direction from the slits 10a to 40a is provided with a convex portion 11C. The contour of the end portion 11B is defined. Since this cut surface is generated by laser irradiation from above in the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40 as will be described later, the cut surface of the anode parts 11 to 41 of the capacitor elements 10 to 40 is shown on the left side shown in FIG. The contours of the end portions 11B to 41B are flush with each other in the stacking direction.

陽極部11は弁作用金属であるアルミニウムにより構成されており、図2に示されるように、その表面には、表面積を増やすためにエッチングが施されることにより粗面化(拡面化)されてポーラス状になっている。このポーラス状の表面全体は化成処理(陽極酸化)によって絶縁性の酸化膜層(誘電体層)11Aが形成されている。陽極部11の寸法は、長手方向の長さが10mm、幅が5mm程度であり、厚さ、即ち、図2に示される上下方向の幅は100μm程度である。   The anode portion 11 is made of aluminum which is a valve metal, and as shown in FIG. 2, the surface thereof is roughened (enlarged) by etching to increase the surface area. It is porous. An insulating oxide film layer (dielectric layer) 11A is formed on the entire porous surface by chemical conversion treatment (anodic oxidation). The anode portion 11 has a length in the longitudinal direction of about 10 mm and a width of about 5 mm, and the thickness, that is, the width in the vertical direction shown in FIG. 2 is about 100 μm.

陽極部11の表面の所定の領域、即ち、図2に示される陽極部11の右側の端部から左側の端部11Bに向って陽極部11の左右方向の長さの略2/3の位置に至るまでの領域全体には、導電性のポリマーにより構成される固体電解質層12Aが形成されている。固体電解質層12Aは酸化膜層11Aの上に積層して設けられており、酸化膜層11Aに対向する固体電解質層12Aの部分は、エッチングにより陽極部11の表面に形成されたポーラスの中に入り込んでいる。固体電解質層12A上には、グラファイトペースト層12Bと、銀ペースト層12Cとがこの順で積層されており、固体電解質層12A、グラファイトペースト層12B、及び銀ペースト層12Cは陰極部12を構成する。グラファイトペースト層12B及び銀ペースト層12Cは、固体電解質層12Aが形成されている陽極部11及び酸化膜層(誘電体層)11Aの領域を覆うようにして固体電解質層12A上に形成されている。   A predetermined region on the surface of the anode part 11, that is, a position of approximately 2/3 of the length in the left-right direction of the anode part 11 from the right end part to the left end part 11B of the anode part 11 shown in FIG. A solid electrolyte layer 12A composed of a conductive polymer is formed in the entire region up to. The solid electrolyte layer 12A is provided by being laminated on the oxide film layer 11A, and the portion of the solid electrolyte layer 12A facing the oxide film layer 11A is in a porous formed on the surface of the anode part 11 by etching. It has entered. A graphite paste layer 12B and a silver paste layer 12C are laminated in this order on the solid electrolyte layer 12A, and the solid electrolyte layer 12A, the graphite paste layer 12B, and the silver paste layer 12C constitute the cathode portion 12. . The graphite paste layer 12B and the silver paste layer 12C are formed on the solid electrolyte layer 12A so as to cover the areas of the anode portion 11 and the oxide film layer (dielectric layer) 11A where the solid electrolyte layer 12A is formed. .

陽極部11の図2に示される左側の端部11Bであって陰極部12が設けられていない領域と陰極部12との境界位置には、絶縁性を有するエポキシ系樹脂等からなるレジスト13が設けられている。レジスト13は、固体電解質層12Aを陽極部11上に形成するために陽極部11となる化成箔を溶液に浸漬させているときに、ポーラス状になっている陽極部11の表面において毛細管現象により溶液が所定の領域よりも図2の左側の方へ上がってくることを防止し、固体電解質層12Aが形成されていない陽極部11の図2に示される左側の端部11Bを確保するために設けられている。   A resist 13 made of an insulating epoxy resin or the like is provided at the boundary between the cathode portion 12 and the region of the anode portion 11 on the left side 11B shown in FIG. 2 where the cathode portion 12 is not provided. Is provided. The resist 13 is formed by capillary action on the surface of the anode portion 11 that is porous when the chemical conversion foil that becomes the anode portion 11 is immersed in the solution in order to form the solid electrolyte layer 12A on the anode portion 11. In order to prevent the solution from rising toward the left side in FIG. 2 from a predetermined region, and to secure the left end portion 11B shown in FIG. 2 of the anode portion 11 where the solid electrolyte layer 12A is not formed. Is provided.

4つのコンデンサ素子10〜40は、図1に示されるように、陰極部12〜42同士が互いに積層配置されている。陰極部12〜42は、板状の陽極部11〜41上に形成されているため、陽極部11〜41の厚さ方向に対して略垂直な上面10A〜40Aと下面10B〜40Bとを有している。図1に示されるように、積層される4つのコンデンサ素子10〜40の第1層をなす第1コンデンサ素子10の上面10Aと第2コンデンサ素子20の下面20Bとが導電性接着剤71によって接着され、第2コンデンサ素子20の上面20Aと第3コンデンサ素子30の下面30Bとが導電性接着剤71によって接着され、第3コンデンサ素子30の上面30Aと第4コンデンサ素子40の下面40Bとが導電性接着剤71によって接着されている。従って、4つのコンデンサ素子10〜40の陰極部12〜42は電気的に接続されており、後述のように4つのコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の図1に示される左側の端部11B〜41B同士が電気的に接続されることと相まって、4つのコンデンサ素子10〜40は電気的に並列接続されている。   As shown in FIG. 1, the four capacitor elements 10 to 40 are configured such that the cathode portions 12 to 42 are stacked on each other. Since the cathode portions 12 to 42 are formed on the plate-like anode portions 11 to 41, the cathode portions 12 to 42 have upper surfaces 10A to 40A and lower surfaces 10B to 40B substantially perpendicular to the thickness direction of the anode portions 11 to 41. is doing. As shown in FIG. 1, the upper surface 10 </ b> A of the first capacitor element 10 and the lower surface 20 </ b> B of the second capacitor element 20 that form the first layer of the four capacitor elements 10 to 40 that are stacked are bonded together by the conductive adhesive 71. The upper surface 20A of the second capacitor element 20 and the lower surface 30B of the third capacitor element 30 are bonded by the conductive adhesive 71, and the upper surface 30A of the third capacitor element 30 and the lower surface 40B of the fourth capacitor element 40 are electrically conductive. Bonded by the adhesive 71. Accordingly, the cathode portions 12 to 42 of the four capacitor elements 10 to 40 are electrically connected, and the left ends of the anode portions 11 to 41 of the four capacitor elements 10 to 40 shown in FIG. Coupled with the portions 11B to 41B being electrically connected, the four capacitor elements 10 to 40 are electrically connected in parallel.

4つのコンデンサ素子10〜40の陰極部12〜42が設けられていない陽極部11〜41の端部11B〜41Bの部分は、陰極部12〜42が設けられている部分と比較して銀ペースト層12C等が形成されていないことから薄くなっている。このため、図1に示されるように、コンデンサ素子10〜40の積層方向において、陽極部11〜41の図の左側の端部11B〜41B同士が互いに所定の間隔で離間して隣接して積層配置されている。   The portions of the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 where the cathode portions 12 to 42 of the four capacitor elements 10 to 40 are not provided are silver paste compared to the portion where the cathode portions 12 to 42 are provided. The layer 12C is thin because it is not formed. Therefore, as shown in FIG. 1, in the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40, the left end portions 11 </ b> B to 41 </ b> B of the anode portions 11 to 41 are adjacently stacked at a predetermined interval. Is arranged.

積層された4つのコンデンサ素子10〜40は、陽極部11〜41と略同一形状をしたプリント基板50上に載置されている。プリント基板50は、例えば、エポキシ樹脂製のプリント基板50である。4つのコンデンサ素子10〜40は、プリント基板50に対して形状が一致して重なるようにプリント基板50上に載置されている。プリント基板50は、積層された4つのコンデンサ素子10〜40のうちの第1コンデンサ素子10の陰極部12及び陽極部11の下面11Bに対向している。   The four capacitor elements 10 to 40 stacked are placed on a printed circuit board 50 having substantially the same shape as the anode portions 11 to 41. The printed board 50 is, for example, a printed board 50 made of epoxy resin. The four capacitor elements 10 to 40 are placed on the printed circuit board 50 so as to coincide with the printed circuit board 50 in shape. The printed circuit board 50 faces the cathode portion 12 of the first capacitor element 10 and the lower surface 11B of the anode portion 11 among the four capacitor elements 10 to 40 stacked.

プリント基板50の表面50A及び裏面50Bには、第1の導電パターン51A、51Bと第2の導電パターン52A、52Bとがそれぞれ設けられている。表面50Aの第1導電パターン51A、第2の導電パターン52Aは、それぞれ裏面50Bの第1の導電パターン51B、第2の導電パターン52Bと、スルーホール50a、50bを介して電気的に接続されている。第1の導電パターン51Aは、第1コンデンサ素子10の陽極部11の図1に示される左側の端部11Bに対向する位置に配置されており、第2の導電パターン52Aは、第1コンデンサ素子10の陰極部12に対向する位置に配置されている。   First conductive patterns 51A and 51B and second conductive patterns 52A and 52B are provided on the front surface 50A and the back surface 50B of the printed circuit board 50, respectively. The first conductive pattern 51A and the second conductive pattern 52A on the front surface 50A are electrically connected to the first conductive pattern 51B and the second conductive pattern 52B on the back surface 50B through the through holes 50a and 50b, respectively. Yes. The first conductive pattern 51A is disposed at a position facing the left end portion 11B of the anode portion 11 of the first capacitor element 10 shown in FIG. 1, and the second conductive pattern 52A is the first capacitor element. 10 are arranged at positions facing the cathode portions 12.

プリント基板50の裏面の第1の導電パターン51B、第2の導電パターン52Bは、それぞれ図示せぬ電子回路等に実装されるいわゆるユーザ端子であり、プリント基板50の表面の第1の導電パターン51A、第2の導電パターン52Aと同様の金属材料により構成されている。陽極部11の図1に示される左側の端部11Bは、プリント基板50の表面の第1の導電パターン51Aに電気的に後述の接続部材60を介して接続されている。また、陰極部12が導電性接着剤71によって第2の導電パターン52Aに電気的に接続されている。   The first conductive pattern 51B and the second conductive pattern 52B on the back surface of the printed circuit board 50 are so-called user terminals that are mounted on an electronic circuit (not shown), and the first conductive pattern 51A on the front surface of the printed circuit board 50. The second conductive pattern 52A is made of the same metal material. The left end portion 11B shown in FIG. 1 of the anode portion 11 is electrically connected to the first conductive pattern 51A on the surface of the printed circuit board 50 via a connecting member 60 described later. Further, the cathode portion 12 is electrically connected to the second conductive pattern 52 </ b> A by the conductive adhesive 71.

4つのコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の図1に示される左側の端部11B〜41Bの位置には、接続部材60が設けられている。接続部材60は、図6に示されるように、それぞれ略長方形状の板状をなす接続部本体61と底部62とを有しており、底部62の一の短辺の全体は、接続部本体61の一の長辺の長手方向の略中央の位置に一体に接続されている。接続部本体61と底部62とは略垂直の角度をなして接続されて略L字状をなしている。従って、接続部本体61は、積層されたコンデンサ素子10〜40の積層方向に底部62から延出している。   Connection members 60 are provided at the positions of the left end portions 11B to 41B shown in FIG. 1 of the anode portions 11 to 41 of the four capacitor elements 10 to 40. As shown in FIG. 6, the connection member 60 has a connection portion main body 61 and a bottom portion 62 each having a substantially rectangular plate shape, and one short side of the bottom portion 62 is entirely connected to the connection portion main body. One long side of 61 is integrally connected to a substantially central position in the longitudinal direction. The connecting portion main body 61 and the bottom portion 62 are connected at a substantially vertical angle to form a substantially L shape. Accordingly, the connection portion main body 61 extends from the bottom portion 62 in the stacking direction of the stacked capacitor elements 10 to 40.

接続部本体61は、図1に示されるように、陽極部11〜41の各端部にそれぞれ跨って当接して固定されており、すべての陽極部11〜41の図1に示される左側の端部11B〜41Bの凸部11C〜41Cに当接した状態で、コンデンサ素子10〜40の積層方向に交差する方向であって、且つ陽極部11〜41の端部の凸部11C〜41Cが当接している側とは反対の側である接続部材60の外側から、即ち、図1の左側から右側へ向けてレーザーの照射を受けることにより、陽極部11〜41の各端部11B〜41Bにそれぞれ電気的に接続される。接続部材60はNiにより構成されている。   As shown in FIG. 1, the connecting portion main body 61 is in contact with and fixed to the end portions of the anode portions 11 to 41, and the left side of all the anode portions 11 to 41 shown in FIG. The convex portions 11C to 41C at the end portions of the anode portions 11 to 41 are in a direction intersecting with the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40 in a state where the convex portions 11C to 41C of the end portions 11B to 41B are in contact with each other. Each of the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 is irradiated with laser from the outside of the connection member 60 that is the opposite side to the abutting side, that is, from the left side to the right side in FIG. Are electrically connected to each other. The connecting member 60 is made of Ni.

凸部11C〜41Cの設けられたコンデンサ素子10〜40の端部11B〜41Bの輪郭形状は、前述のように、コンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41がコンデンサ素子10〜40の積層方向上方からレーザー照射されることにより生じた切断面であり、積層方向において面一となっているため、端部11B〜41Bに接続部本体61が均一に当接し、陽極部11〜41の各端部11B〜41Bと接続部材60との電気的接続を確実にすることができる。   As described above, the contour shapes of the end portions 11B to 41B of the capacitor elements 10 to 40 provided with the convex portions 11C to 41C are the stacking directions of the capacitor elements 10 to 40 in the anode portions 11 to 41 of the capacitor elements 10 to 40, respectively. Since it is a cut surface generated by laser irradiation from above and is flush with the stacking direction, the connecting portion main body 61 uniformly contacts the end portions 11B to 41B, and each end of the anode portions 11 to 41 The electrical connection between the portions 11B to 41B and the connection member 60 can be ensured.

接続部材60の底部62は、第1コンデンサ素子10の陽極部11の図1に示される左側の端部11Bと、プリント基板50の第1の導電パターン51Aとの間に配置されており、プリント基板50の第1の導電パターン51Aに当接している。底部62は、コンデンサ素子10〜40の積層方向、即ち、図1において上から下に向う方向へレーザーの照射を受けることによりプリント基板50の第1の導電パターン51Aに電気的に接続される。   The bottom 62 of the connection member 60 is disposed between the left end 11B of the anode 11 of the first capacitor element 10 shown in FIG. 1 and the first conductive pattern 51A of the printed circuit board 50. The substrate 50 is in contact with the first conductive pattern 51A. The bottom 62 is electrically connected to the first conductive pattern 51 </ b> A of the printed circuit board 50 by receiving laser irradiation in the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40, i.e., from the top to the bottom in FIG. 1.

前述のように、陽極部11〜41の図1に示される左側の端部11B〜41Bには凸部11C〜41Cが設けられているため、図6に示されるように、あたかも長方形状の一の短辺を挟む2つの角部を、それぞれ切欠いて取除いたような形状をなしている。これに対して、図6に示されるように底部62は長方形状をしている。底部62は、コンデンサ素子10〜40の積層方向において、陽極部11〜41の図1に示される左側の端部11B〜41Bの凸部11C〜41Cと重なるように配置されるのであるが、底部62の長手方向の幅、即ち、図6における左右方向の長さは、陽極部11〜41の延出方向に対する幅方向における凸部11C〜41Cの幅、即ち図6における凸部11C〜41Cの左右方向の長さよりも大きいため、底部62は、結果的にコンデンサ素子10〜40の積層方向においていずれのコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41とも重ならない非重畳部62Aを有する。   As described above, the left end portions 11B to 41B shown in FIG. 1 of the anode portions 11 to 41 are provided with the convex portions 11C to 41C. Therefore, as shown in FIG. The two corners sandwiching the short side are cut out and removed. In contrast, the bottom 62 has a rectangular shape as shown in FIG. The bottom portion 62 is arranged so as to overlap the convex portions 11C to 41C of the left end portions 11B to 41B shown in FIG. 1 of the anode portions 11 to 41 in the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40. The width in the longitudinal direction of 62, that is, the length in the left-right direction in FIG. 6, is the width of the convex portions 11C to 41C in the width direction with respect to the extending direction of the anode portions 11 to 41, that is, the convex portions 11C to 41C in FIG. Since it is larger than the length in the left-right direction, the bottom 62 has a non-overlapping portion 62A that does not overlap with the anode portions 11-41 of any of the capacitor elements 10-40 in the stacking direction of the capacitor elements 10-40.

固体電解コンデンサの製造方法では、先ず、コンデンサ素子製造工程を行う。実際に行われるコンデンサ素子製造工程では、複数のコンデンサ素子が同時に製造されるが、ここでは、説明の便宜上1つのコンデンサ素子10が製造される工程を一回のコンデンサ素子製造工程とする。先ず、表面に酸化膜層11Aが形成され陽極部11となるアルミニウム板、即ち、化成箔を打抜いて一端を陽極部11の形状とする。このとき、後述のように陰極層が形成される化成箔の部分は、複数同時に製造される他のコンデンサ素子の陰極部が形成される化成箔の他端の部分と、製品にならない余分な化成箔の部分を介して接続された状態となっている。後述の接続工程を行う直前に行うレーザー切断工程において、この余分な化成箔の部分は切断され除去される。   In the method of manufacturing a solid electrolytic capacitor, first, a capacitor element manufacturing process is performed. In the actual capacitor element manufacturing process, a plurality of capacitor elements are manufactured at the same time. Here, for convenience of explanation, the process of manufacturing one capacitor element 10 is a single capacitor element manufacturing process. First, an aluminum film that is formed on the surface with an oxide film layer 11 </ b> A and serves as the anode portion 11, that is, a chemical conversion foil is punched out so that one end has the shape of the anode portion 11. At this time, as will be described later, the portion of the conversion foil on which the cathode layer is formed includes the other end portion of the conversion foil on which the cathode portions of other capacitor elements manufactured at the same time are formed, and an extra formation that does not become a product. It is in a state of being connected through the foil portion. In a laser cutting step performed immediately before performing a connection step described later, the excess chemical conversion foil portion is cut and removed.

次に、スクリーン印刷法を用いて、陽極部11の所定の位置であって陰極部12と陽極部11との境界となる位置にレジスト13を形成する。次に、前述のように化成箔を打抜いたときに、打抜いた断面には酸化膜層11Aが形成されていない部分が生ずるが、この部分に酸化膜層11Aを生成するために再度酸化させる再化成を行う。   Next, using a screen printing method, a resist 13 is formed at a predetermined position of the anode portion 11 and a boundary between the cathode portion 12 and the anode portion 11. Next, when the chemical conversion foil is punched as described above, a portion where the oxide film layer 11A is not formed is formed in the punched cross section, but the oxide film layer 11A is formed again in this portion in order to generate the oxide film layer 11A. Perform re-formation.

次に、レジスト13を境とする所定の領域、即ち図1に示される陽極部11のレジスト13よりも右側の部分に相当する化成箔の部分を、固体電解質層12Aを形成するための反応溶液中に浸漬し、化学酸化重合を行うことにより、固体電解質層12A、即ち、導電性ポリマー層を形成する。陽極部11の表面はエッチングによりポーラス状になっているので、直接銀ペースト層12Cを形成することができないため、銀ペースト層12Cを形成する準備のために固体電解質層12Aを形成するのである。   Next, a reaction solution for forming a solid electrolyte layer 12A on a predetermined region with the resist 13 as a boundary, that is, a portion of the chemical conversion foil corresponding to a portion on the right side of the resist 13 of the anode portion 11 shown in FIG. The solid electrolyte layer 12A, that is, the conductive polymer layer is formed by dipping in the substrate and performing chemical oxidative polymerization. Since the surface of the anode part 11 is made porous by etching, the silver paste layer 12C cannot be formed directly, so the solid electrolyte layer 12A is formed in preparation for forming the silver paste layer 12C.

次に、導電性高分子層の上にグラファイトペースト層12Bと、銀ペースト層12Cとをこの順で積層して形成する。グラファイトペースト層12B、銀ペースト層12Cの形成は、ディップ法やスクリーン印刷法やスプレー塗布法等が用いられる。以上がコンデンサ素子製造工程である。このコンデンサ素子製造工程を4回行うことによって、4つのコンデンサ素子10〜40を製造する。   Next, a graphite paste layer 12B and a silver paste layer 12C are stacked in this order on the conductive polymer layer. For forming the graphite paste layer 12B and the silver paste layer 12C, a dipping method, a screen printing method, a spray coating method, or the like is used. The above is the capacitor element manufacturing process. By performing this capacitor element manufacturing process four times, four capacitor elements 10 to 40 are manufactured.

次に、積層工程を行う。積層工程では、4つのコンデンサ素子10〜40を、陽極部11〜41の図1に示される左側の端部11B〜41B同士が互いに隣接するように積層配置するとともに、陰極部12〜42同士を互いに積層配置する。陰極部12〜42間には、導電性接着剤71が塗布され、陰極部12〜42同士が導電性接着剤71によって互いに電気的に接続される。導電性接着剤71としては、例えば、銀−エポキシ系接着剤が用いられる。   Next, a lamination process is performed. In the laminating step, the four capacitor elements 10 to 40 are laminated so that the left end portions 11B to 41B shown in FIG. 1 of the anode portions 11 to 41 are adjacent to each other, and the cathode portions 12 to 42 are arranged together. Laminate each other. A conductive adhesive 71 is applied between the cathode portions 12 to 42, and the cathode portions 12 to 42 are electrically connected to each other by the conductive adhesive 71. As the conductive adhesive 71, for example, a silver-epoxy adhesive is used.

次に、積層された状態の4つのコンデンサ素子10〜40を、製品とならない余分な化成箔の部分から切断することにより陽極部11〜41の端部11B〜41Bを所望の輪郭形状とし、略長方形状をしたコンデンサ素子10〜40の形状とするレーザー切断工程を行う。レーザー切断工程では、全てのコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の端部11B〜41Bにおいて、前述の幅方向の一端41F等(図3)から他端11G〜41Gへ、又は他端11G〜41Gから一端41F等へと積層方向上方からレーザー照射することにより、図3に示されるようなスリット10a〜40aを形成して、スリット10a〜40aよりも前述の突出方向に位置する陽極部11〜41の端縁部、即ち、図3に示される左側の部分13〜43を切落とす。   Next, the four capacitor elements 10 to 40 in the stacked state are cut from the portion of the excess chemical conversion foil that does not become a product, so that the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 have a desired outline shape, A laser cutting step for forming the rectangular capacitor elements 10 to 40 is performed. In the laser cutting process, at the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 of all the capacitor elements 10 to 40, the one end 41F in the width direction described above (FIG. 3) to the other end 11G to 41G or the other end 11G. By irradiating a laser beam from above 41G to one end 41F or the like from above in the stacking direction, slits 10a to 40a as shown in FIG. 3 are formed, and anode portion 11 located in the above-described protruding direction from slits 10a to 40a. The edge part of -41, ie, the left side parts 13-43 shown by FIG. 3, is cut off.

レーザー照射はレーザースキャンすることにより行う。レーザー切断工程で用いたレーザーはYAGレーザーであり、波長は1064nmであり、F100mm〜F300mmのfθレンズ、エキスパンダX8を用いる。レーザーのスポット径は約φ60μmであり、アパーチャ径はφ2mmである。   Laser irradiation is performed by laser scanning. The laser used in the laser cutting process is a YAG laser, the wavelength is 1064 nm, and an fθ lens of F100 mm to F300 mm and an expander X8 are used. The spot diameter of the laser is about φ60 μm, and the aperture diameter is φ2 mm.

また、出力は@5kHz〜@15kHzで5W〜10Wであり、スキャン速度は50mm/sec〜100mm/secである。照射するコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の端部11B〜41Bの表面とレーザービーム出射部との間の距離(WD)はそれぞれ100mm〜200mmであり、陽極部11〜41の端部11B〜41Bの表面に焦点を合わせてレーザー照射する。   The output is 5 W to 10 W at @ 5 kHz to @ 15 kHz, and the scan speed is 50 mm / sec to 100 mm / sec. The distances (WD) between the surfaces of the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 of the capacitor elements 10 to 40 to be irradiated and the laser beam emitting portions are 100 mm to 200 mm, respectively, and the end portions of the anode portions 11 to 41 The surface of 11B to 41B is focused and irradiated with laser.

レーザースキャンについては、具体的には、先ず形成されるスリット10a〜40aの位置を境としてコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の端部11B〜41Bの図3の示される左側の部分13〜43及び右側の部分14〜44を図示せぬ治具により保持し、積層された4層のコンデンサ素子10〜40の最上層40について、形成されるスリット40aの長手方向の一端から他端へと向かう方向、即ち、図4の紙面の裏から表へと向かう方向へ移動しながらレーザー照射する第1長手方向スキャン工程を行なう。コンデンサ素子40の陽極部41の端部41Bにおいてレーザースキャンをする位置は、図4に示されるように、コンデンサ素子40の陽極部41の端部41B輪郭を規定する位置Aである。位置Aで示される幅はレーザーのビームスポット径に一致する。   Regarding the laser scanning, specifically, the left side portion 13 shown in FIG. 3 of the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 of the capacitor elements 10 to 40 with the position of the slits 10a to 40a formed first as a boundary. -43 and the right-side portions 14-44 are held by a jig (not shown), and the uppermost layer 40 of the stacked four-layer capacitor elements 10-40 is from one end to the other end in the longitudinal direction of the slit 40a to be formed. A first longitudinal scanning step is performed in which laser irradiation is performed while moving in the direction toward the front, that is, in the direction from the back to the front of FIG. The position where laser scanning is performed at the end 41B of the anode 41 of the capacitor element 40 is a position A that defines the outline of the end 41B of the anode 41 of the capacitor 40 as shown in FIG. The width indicated by position A corresponds to the beam spot diameter of the laser.

次に、形成されるスリット40aの長手方向の他端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子40の紙面の最も表側寄りの位置において、レーザーの照射位置をスリット40aの幅方向、即ち、図4の左方向へ移動させる幅方向スキャン位置移動工程を行なう。移動させる距離は10μmである。   Next, at the position of the other end in the longitudinal direction of the slit 40a to be formed, that is, the position closest to the front side of the paper surface of the capacitor element 40 in FIG. 4, the laser irradiation position is set in the width direction of the slit 40a, that is, in FIG. The width direction scan position moving step is performed to move to the left. The moving distance is 10 μm.

次に、スリット40aの長手方向の他端から一端へと向かう方向、即ち、図4の紙面の表から裏へと向かう方向へ移動しながらレーザー照射する第2長手方向スキャン工程を行う。このときのコンデンサ素子40の陽極部41の端部41Bにおいてレーザースキャンをする位置は、図4に示される位置Bである。位置Bで示される幅も、位置Aと同じくレーザーのビームスポット径に一致する。後述の位置C〜位置Eについても同様である。   Next, a second longitudinal scanning step is performed in which laser irradiation is performed while moving the slit 40a in the direction from the other end to the one end in the longitudinal direction, that is, in the direction from the front side to the back side in FIG. At this time, the position where laser scanning is performed at the end 41B of the anode 41 of the capacitor element 40 is the position B shown in FIG. Similarly to the position A, the width indicated by the position B also matches the beam spot diameter of the laser. The same applies to positions C to E described later.

次に、スリット40aの長手方向の一端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子40の紙面の最も裏側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、コンデンサ素子40の陽極部41の端部41Bの位置Cにおいて第1長手方向スキャン工程を行う。そして、スリット40aの長手方向の他端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子40の紙面の最も表側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、コンデンサ素子40の陽極部41の端部41Bの位置Dにおいて第2長手方向スキャン工程を行う。更に続けて、スリット40aの長手方向の他端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子40の紙面の最も裏側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、コンデンサ素子40の陽極部41の端部41Bの位置Eにおいて第1長手方向スキャン工程を行い、コンデンサ素子40に対するレーザースキャンが終了する。   Next, a width direction scan position moving step is performed at the position of one end of the slit 40a in the longitudinal direction, that is, the position closest to the back side of the paper surface of the capacitor element 40 in FIG. The first longitudinal scanning step is performed at position C. Then, the width direction scan position moving step is performed at the position of the other end in the longitudinal direction of the slit 40a, that is, the position closest to the front side of the paper surface of the capacitor element 40 in FIG. The second longitudinal scanning step is performed at position D. Subsequently, a width direction scan position moving step is performed at the position of the other end in the longitudinal direction of the slit 40a, that is, the position closest to the back side of the paper surface of the capacitor element 40 in FIG. The first longitudinal direction scanning step is performed at the position E of the portion 41B, and the laser scan for the capacitor element 40 is completed.

レーザースキャンにより形成されるスリット40aの幅は、幅方向スキャン位置移動工程による移動量の総和及びビームスポット径により規定される。即ち、一回の幅方向スキャン位置移動工程による移動距離は、前述のように10μmであり、ビームスポット径は60μmであり、幅方向スキャン位置移動工程を4回行うため、コンデンサ素子40の陽極部41の端部41Bにおけるスリット40aの幅は100μmである。   The width of the slit 40a formed by laser scanning is defined by the total amount of movement in the width direction scan position moving step and the beam spot diameter. That is, the moving distance in one width direction scan position moving step is 10 μm as described above, the beam spot diameter is 60 μm, and the width direction scan position moving step is performed four times. The width of the slit 40a at the end 41B of 41 is 100 μm.

次に、コンデンサ素子30に対するレーザースキャンを行う。先ず、コンデンサ素子30の陽極部31の端部31Bの位置A(図4)において第1長手方向スキャン工程を行い、形成されるスリット30aの長手方向の他端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子30の紙面の最も表側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、コンデンサ素子30の陽極部31の端部31Bの位置Bにおいて第2長手方向スキャン工程を行う。   Next, laser scanning is performed on the capacitor element 30. First, the first longitudinal scanning step is performed at the position A (FIG. 4) of the end 31B of the anode 31 of the capacitor element 30, and the position of the other end in the longitudinal direction of the formed slit 30a, that is, the capacitor of FIG. The width direction scan position moving step is performed at the position closest to the front side of the surface of the element 30, and the second longitudinal direction scan step is performed at the position B of the end portion 31 </ b> B of the anode portion 31 of the capacitor element 30.

続けて、形成されるスリット30aの長手方向の一端の位置、即ち、図4の陽極部31の端部31Bの紙面の最も裏側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、陽極部31の端部31Bの位置Cにおいて第1長手方向スキャン工程を行う。次に、形成されるスリット30aの長手方向の他端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子30の紙面の最も表側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、コンデンサ素子30の陽極部31の端部31Bの位置Dにおいて第2長手方向スキャン工程を行い、コンデンサ素子30に対するレーザースキャンが終了する。   Subsequently, the width direction scan position moving step is performed at the position of one end in the longitudinal direction of the slit 30a to be formed, that is, at the position closest to the back side of the paper surface of the end portion 31B of the anode portion 31 in FIG. The first longitudinal scanning process is performed at the position C of the end 31B. Next, the width direction scan position moving step is performed at the position of the other end in the longitudinal direction of the slit 30a to be formed, that is, the position closest to the front side of the paper surface of the capacitor element 30 in FIG. The second longitudinal direction scanning step is performed at the position D of the end portion 31B, and the laser scanning on the capacitor element 30 is completed.

コンデンサ素子40では、位置Aから位置Eまでがスリット40aの幅になっているため、図5に示されるように、位置Aから位置Dまでがスリット30aの幅になっているコンデンサ素子30と比較して広くなっている。コンデンサ素子30の陽極部31の端部31Bにおけるスリット30aの幅は90μmである。このため、コンデンサ素子30に対してレーザー照射を行い、所望の幅のスリット30aを形成することができる。   In the capacitor element 40, since the width from the position A to the position E is the width of the slit 40a, as shown in FIG. 5, compared with the capacitor element 30 where the width from the position A to the position D is the width of the slit 30a. And it is getting wider. The width of the slit 30a at the end 31B of the anode 31 of the capacitor element 30 is 90 μm. For this reason, the capacitor element 30 can be irradiated with laser to form a slit 30a having a desired width.

次に、コンデンサ素子20に対するレーザースキャンを行う。先ず、図4に示される陽極部21の端部21Bの位置Aにおいて第1長手方向スキャン工程を行い、形成されるスリット20aの長手方向の他端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子20の紙面の最も表側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、コンデンサ素子20の陽極部21の端部21Bの位置Bにおいて第2長手方向スキャン工程を行う。   Next, laser scanning is performed on the capacitor element 20. First, the first longitudinal scanning step is performed at the position A of the end portion 21B of the anode portion 21 shown in FIG. 4, and the position of the other end in the longitudinal direction of the slit 20a to be formed, that is, the capacitor element 20 of FIG. The width direction scan position moving step is performed at a position closest to the front side of the paper surface, and the second longitudinal direction scan step is performed at the position B of the end portion 21B of the anode portion 21 of the capacitor element 20.

続けて、形成されるスリット20aの長手方向の一端の位置、即ち、図4の陽極部21の端部21Bの紙面の最も裏側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、陽極部21の端部21Bの位置Cにおいて第1長手方向スキャン工程を行い、コンデンサ素子20に対するレーザースキャンが終了する。   Subsequently, a width direction scan position moving step is performed at the position of one end in the longitudinal direction of the slit 20a to be formed, that is, at the position closest to the back side of the paper surface of the end 21B of the anode 21 in FIG. The first longitudinal scanning process is performed at the position C of the end 21B, and the laser scanning for the capacitor element 20 is completed.

コンデンサ素子30では、位置Aから位置Dまでがスリット30aの幅になっているため、図5に示されるように、位置Aから位置Cまでがスリット20aの幅になっているコンデンサ素子20と比較して広くなっている。コンデンサ素子20の陽極部21の端部21Bにおけるスリットの幅は80μmである。このため、コンデンサ素子20に対してレーザー照射を行い、所望の幅のスリット20aを形成することができる。   In the capacitor element 30, since the width from the position A to the position D is the width of the slit 30a, as shown in FIG. 5, compared with the capacitor element 20 where the width from the position A to the position C is the width of the slit 20a. And it is getting wider. The width of the slit at the end portion 21B of the anode portion 21 of the capacitor element 20 is 80 μm. For this reason, laser irradiation can be performed on the capacitor element 20 to form a slit 20a having a desired width.

次に、コンデンサ素子10に対するレーザースキャンを行う。具体的には、図4に示される陽極部11の端部11Bの位置Aにおいて第1長手方向スキャン工程を行い、形成されるスリット10aの長手方向の他端の位置、即ち、図4のコンデンサ素子10の紙面の最も表側寄りの位置において幅方向スキャン位置移動工程を行い、コンデンサ素子10の陽極部11の端部11Bの位置Bにおいて第2長手方向スキャン工程を行い、コンデンサ素子10に対するレーザースキャンが終了する。   Next, laser scanning is performed on the capacitor element 10. Specifically, the first longitudinal scanning step is performed at the position A of the end portion 11B of the anode portion 11 shown in FIG. 4, and the position of the other end in the longitudinal direction of the slit 10a to be formed, that is, the capacitor of FIG. The width direction scan position moving step is performed at a position closest to the front side of the surface of the element 10, the second longitudinal direction scanning step is performed at the position B of the end portion 11 </ b> B of the anode portion 11 of the capacitor element 10, and the laser scan for the capacitor element 10 is performed. Ends.

コンデンサ素子20では、位置Aから位置Cまでがスリット20aの幅になっているため、図5に示されるように、位置Aから位置Bまでがスリット10aの幅になっているコンデンサ素子10と比較してスリットの幅が広くなっている。コンデンサ素子10の陽極部11の端部11Bにおけるスリットの幅は70μmである。このため、コンデンサ素子10に対してレーザー照射を行うことにより、スリット10aを形成することができる。以上がレーザー切断工程である。   In the capacitor element 20, since the width from the position A to the position C is the width of the slit 20a, as shown in FIG. 5, it is compared with the capacitor element 10 in which the width from the position A to the position B is the width of the slit 10a. And the width of the slit is wide. The slit width at the end portion 11B of the anode portion 11 of the capacitor element 10 is 70 μm. For this reason, the slit 10a can be formed by irradiating the capacitor element 10 with laser. The above is the laser cutting process.

レーザー切断工程では、コンデンサ素子10以外のコンデンサ素子20〜40の陽極部21〜41の端部21B〜41Bに、コンデンサ素子10に形成されるスリット10aよりも広い幅のスリット20a〜40aを形成するようにしたため、レーザー光の到達強度を弱めずにコンデンサ素子10の陽極部11の端部11Bに照射することができると考えられ、コンデンサ素子10の陽極部11の端部11Bにスリット10aを形成することができる。   In the laser cutting step, slits 20 a to 40 a having a width wider than the slit 10 a formed in the capacitor element 10 are formed in the end portions 21 B to 41 B of the anode parts 21 to 41 of the capacitor elements 20 to 40 other than the capacitor element 10. Therefore, it is considered that the end portion 11B of the anode portion 11 of the capacitor element 10 can be irradiated without weakening the reaching intensity of the laser beam, and the slit 10a is formed in the end portion 11B of the anode portion 11 of the capacitor element 10. can do.

このため、レーザー照射によって、積層された複数のコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の端縁部である図3の左側の部分13〜43をレーザー照射により切落とすことができる。この結果、レーザー照射により陽極部11〜41の端縁部13〜43が切落とされて生じた陽極部11〜41の各切断面を、前述のようにコンデンサ素子10〜40の積層方向において面一とすることができる。このため、製造される固体電解コンデンサ1の寸法精度を向上させることができ、歩留まりをよくすることができる。   Therefore, by laser irradiation, the left side portions 13 to 43 in FIG. 3 which are the edge portions of the anode portions 11 to 41 of the plurality of capacitor elements 10 to 40 stacked can be cut off by laser irradiation. As a result, the cut surfaces of the anode portions 11 to 41 generated by cutting off the edge portions 13 to 43 of the anode portions 11 to 41 by laser irradiation are surfaces in the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40 as described above. Can be one. For this reason, the dimensional accuracy of the manufactured solid electrolytic capacitor 1 can be improved, and the yield can be improved.

また、積層されたコンデンサ素子の陽極部の端縁部をレーザー照射により一枚切断した後に、当該切断した陽極部の部分を除去するという工程を繰返し行わずに済み、このように切断した陽極部の不要部分を除去する際に、固体電解コンデンサの陽極部となる部分が変形することを防止することができ、且つ製造工程を簡単にすることができる。   Further, after cutting the edge part of the anode part of the laminated capacitor element by laser irradiation, it is not necessary to repeat the process of removing the part of the cut anode part. When the unnecessary portion is removed, it is possible to prevent the portion that becomes the anode portion of the solid electrolytic capacitor from being deformed, and the manufacturing process can be simplified.

次に、接続工程を行う。接続工程では、図6に示されるように、4つの積層されたコンデンサ素子10〜40とは別体として用意された接続部材60を、積層した複数のコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の図1に示される左側の端部11B〜41Bに、電気的に接続することにより、4つのコンデンサ素子10〜40を互いに電気的に並列接続する接続部材固定工程を行う。具体的には、先ず、積層された4つのコンデンサ素子10〜40の第1層をなす第1コンデンサ素子10の陽極部11の図1に示される左側の端部11Bの凸部11Cと平行に底部62を対向配置させた状態で、接続部材60の接続部本体61をすべての陽極部11〜41の当該端部11B〜41Bの凸部11C〜41Cに跨って当接させる。このことにより、コンデンサ素子10〜40の積層方向においていずれのコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41とも重ならない非重畳部62Aを底部62に規定する。   Next, a connection process is performed. In the connecting step, as shown in FIG. 6, the connecting members 60 prepared separately from the four stacked capacitor elements 10 to 40 are connected to the anode portions 11 to 41 of the stacked capacitor elements 10 to 40. A connecting member fixing step of electrically connecting the four capacitor elements 10 to 40 in parallel with each other is performed by electrically connecting to the left end portions 11B to 41B shown in FIG. Specifically, first, parallel to the convex portion 11C of the left end portion 11B shown in FIG. 1 of the anode portion 11 of the first capacitor element 10 forming the first layer of the four capacitor elements 10 to 40 stacked. In a state where the bottom portion 62 is disposed oppositely, the connection portion main body 61 of the connection member 60 is brought into contact with the convex portions 11C to 41C of the end portions 11B to 41B of all the anode portions 11 to 41. Thus, a non-overlapping portion 62 </ b> A that does not overlap with the anode portions 11 to 41 of any of the capacitor elements 10 to 40 in the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40 is defined as the bottom portion 62.

なお、図6において二点鎖線で示される矢印は、単に積層された4つのコンデンサ素子10〜40と、接続部材60と、プリント基板50との位置関係を示しているだけであって、必ずしもこの方向に移動させることによりこれら3つを接続するという意味ではない。   In addition, the arrow shown with a dashed-two dotted line in FIG. 6 only shows the positional relationship of the four capacitor | condenser elements 10-40 laminated | stacked, the connection member 60, and the printed circuit board 50. It does not mean that these three are connected by moving in the direction.

次に、陽極部11〜41の端部11B〜41Bに当接する接続部本体61の側に対する反対の側、即ち、図1に示される左側から、コンデンサ素子10〜40の積層方向に交差する方向、具体的には、積層方向に垂直の方向に向けて接続部本体61に対してレーザーを照射する。レーザーはYAGレーザースポット溶接が用いられ、レーザーの照射は、接続部本体61の長手方向の一端から他端へ向って波を描くようにして照射する。このことにより接続部本体61を陽極部11〜41の各端部11B〜41Bに電気的に接続する。以上が接続部材固定工程である。   Next, the direction crossing the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40 from the side opposite to the side of the connecting portion main body 61 that contacts the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41, that is, the left side shown in FIG. Specifically, the connection portion main body 61 is irradiated with laser in a direction perpendicular to the stacking direction. As the laser, YAG laser spot welding is used, and laser irradiation is performed by drawing a wave from one end of the connecting portion main body 61 in the longitudinal direction to the other end. Thereby, the connection part main body 61 is electrically connected to each end part 11B-41B of the anode parts 11-41. The above is the connecting member fixing step.

次に、プリント基板接続工程を行う。プリント基板接続工程では、図6に示されるように、4つの積層されたコンデンサ素子10〜40、接続部材60とは別体として用意されたプリント基板50上に、当該4つの積層されたコンデンサ素子10〜40及び接続部材60を載置し電気的に接続する。具体的には、先ず、導電性接着剤71を塗布した陰極部12〜42をプリント基板50の第2の導電パターン52A上に当接させ、また、接続部材60の底部62を第1の導電パターン51A上に当接させ、非重畳部62Aに対してコンデンサ素子10〜40の積層方向から、即ち、図1又は図2に示される上方向から、図6の破線で示される円の位置にレーザーを照射する。このことにより、接続部材60の底部62をプリント基板50の第1の導電パターン51Aに電気的に接続すると共に、陰極部12〜42を第2の導電パターン52Aに電気的に接続する。   Next, a printed circuit board connection process is performed. In the printed circuit board connecting step, as shown in FIG. 6, the four stacked capacitor elements 10 to 40 and the four stacked capacitor elements are prepared on the printed circuit board 50 prepared separately from the connection member 60. 10 to 40 and the connection member 60 are placed and electrically connected. Specifically, first, the cathode portions 12 to 42 to which the conductive adhesive 71 is applied are brought into contact with the second conductive pattern 52A of the printed circuit board 50, and the bottom portion 62 of the connection member 60 is set to the first conductive pattern. Abutting on the pattern 51A, from the stacking direction of the capacitor elements 10 to 40 with respect to the non-overlapping portion 62A, that is, from the upper direction shown in FIG. 1 or 2, to the position of the circle shown by the broken line in FIG. Irradiate the laser. As a result, the bottom 62 of the connecting member 60 is electrically connected to the first conductive pattern 51A of the printed circuit board 50, and the cathode portions 12 to 42 are electrically connected to the second conductive pattern 52A.

その後、固体電解コンデンサ1を保護するためにモールドを行い、切断を行い、更に、損傷している部分を修復するためのエージングを行い、特性検査、外観検査を経て固体電解コンデンサの製造方法の全工程を終了する。   Thereafter, molding is performed to protect the solid electrolytic capacitor 1, cutting is performed, aging is performed to repair a damaged portion, and the entire method of manufacturing the solid electrolytic capacitor is performed through characteristic inspection and appearance inspection. The process ends.

本発明による固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサの製造方法は、上述した実施の形態に限定されず、特許請求の範囲に記載した範囲で種々の変形や改良が可能である。例えば、接続部材は、本実施の形態による接続部材60の形状に限定されない。また、接続部材が固定されるコンデンサ素子の陽極部の端部の位置は、本実施の形態による位置に限られない。   The solid electrolytic capacitor and the method for manufacturing the solid electrolytic capacitor according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various modifications and improvements can be made within the scope described in the claims. For example, the connecting member is not limited to the shape of the connecting member 60 according to the present embodiment. Further, the position of the end of the anode part of the capacitor element to which the connection member is fixed is not limited to the position according to the present embodiment.

例えば、図7に示されるように、接続部材90の接続部本体91を、陽極部11〜41の端部11B〜41Bの凸部11C〜41Cの突出端縁11D〜41Dではなく、凸部11C〜41Cの側面11E〜41Eに溶接するようにしてもよい。本実施の形態では、コンデンサ素子1の図1に示される左側の端部には接続部材60の接続部本体61が存在しているが、接続部本体を凸部11C〜41Cの側面11E〜41Eに溶接することにより、コンデンサ素子の図1に示される左側の端部相当位置に接続部本体61を配置させずに済み、図1に示される左右方向に相当する方向において接続部本体91の厚み分だけコンデンサ素子の長さを短くすることができる。   For example, as shown in FIG. 7, the connecting portion main body 91 of the connecting member 90 is not the protruding end edges 11D to 41D of the protruding portions 11C to 41C of the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 but the protruding portions 11C. You may make it weld to the side surfaces 11E-41E of -41C. In the present embodiment, the connection portion main body 61 of the connection member 60 exists at the left end portion of the capacitor element 1 shown in FIG. 1, but the connection portion main body serves as the side surfaces 11E to 41E of the convex portions 11C to 41C. 1, it is not necessary to arrange the connecting portion main body 61 at the position corresponding to the left end portion of the capacitor element shown in FIG. 1, and the thickness of the connecting portion main body 91 in the direction corresponding to the left-right direction shown in FIG. The length of the capacitor element can be shortened by this amount.

また、本実施の形態では、スリットの幅は上層の方が下層よりも広くなっていたが、最下層以外においては上層のスリットの幅と下層のスリットの幅とが同一であってもよい。この場合であっても最下層以外のスリットの幅は、いずれも最下層のスリットの幅よりも広くする必要がある。このようにすることにより、最下層のコンデンサ素子の陽極部の端部において、確実にスリットを形成することができる。   In the present embodiment, the slit width is wider in the upper layer than in the lower layer, but the width of the upper slit and the width of the lower slit may be the same except for the lowermost layer. Even in this case, the width of the slits other than the lowermost layer needs to be wider than the width of the lowermost slit. By doing in this way, a slit can be reliably formed in the edge part of the anode part of the capacitor element of the lowest layer.

また、レーザーとしてはYAGレーザーが用いられたが、これに限定されない。例えば、YVOレーザーを用いてもよい。一例を挙げれば、波長は1064nmであり、F100mm〜F300mmのfθレンズを用いる。レーザーのスポット径は約φ60μmである。出力は@50kHz〜@80kHzで5W〜20Wであり、スキャン速度は50mm/sec〜100mm/secである。照射するコンデンサ素子10〜40の陽極部11〜41の端部11B〜41Bの表面とレーザービーム出射部との間の距離(WD)は50mm〜150mmであり、陽極部11〜41の端部11B〜41Bの表面に焦点を合わせてレーザー照射する。 Moreover, although YAG laser was used as a laser, it is not limited to this. For example, a YVO 4 laser may be used. As an example, the wavelength is 1064 nm, and an fθ lens of F100 mm to F300 mm is used. The spot diameter of the laser is about φ60 μm. The output is from 5 W to 20 W at @ 50 kHz to @ 80 kHz, and the scan speed is from 50 mm / sec to 100 mm / sec. The distance (WD) between the surfaces of the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 of the capacitor elements 10 to 40 to be irradiated and the laser beam emitting portion is 50 mm to 150 mm, and the end portions 11B of the anode portions 11 to 41 are used. A laser beam is focused on the surface of ~ 41B.

また、本実施の形態のレーザー切断工程におけるレーザースキャンでは、第1長手方向スキャン工程と、幅方向スキャン位置移動工程と、第2長手方向スキャン工程とが行なわれたが、これに限定されず、所望の幅のスリットが形成されればどのようなレーザースキャンを行ってもよい。   Further, in the laser scanning in the laser cutting step of the present embodiment, the first longitudinal scanning step, the width direction scanning position moving step, and the second longitudinal scanning step were performed, but not limited thereto, Any laser scan may be performed as long as a slit having a desired width is formed.

例えば、最下層に配置されたコンデンサ素子以外のコンデンサ素子には、形成されるスリットの幅方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する第1幅方向スキャン工程と、形成されるスリットの幅方向の他端においてレーザーの照射位置をスリットの長手方向へ移動させる長手方向スキャン位置移動工程と、形成されるスリットの幅方向の他端から一端へと移動しながらレーザー照射する第2幅方向スキャン工程とを少なくとも行うようにし、最下層に配置されたコンデンサ素子には、形成されるスリットの長手方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する長手方向スキャン工程を少なくとも行うようにしてもよい。この場合には、スリットの長手方向の長さは長手方向スキャン位置移動工程による移動量の総和により規定される。   For example, a capacitor element other than the capacitor element arranged in the lowermost layer includes a first width direction scanning step in which laser irradiation is performed while moving from one end to the other end in the width direction of the formed slit, and the slit formed A longitudinal scan position moving step of moving the laser irradiation position in the longitudinal direction of the slit at the other end in the width direction, and a second width direction in which laser irradiation is performed while moving from the other end of the slit in the width direction to the one end At least a scanning step, and at least a longitudinal scanning step of irradiating a laser while moving from one end to the other end of the slit to be formed on the capacitor element arranged in the lowermost layer. Also good. In this case, the length of the slit in the longitudinal direction is defined by the total amount of movement in the longitudinal scan position moving step.

また、別のレーザースキャンの方法としては、例えば、上層のコンデンサ素子においてスリットが形成される領域内の所定範囲内でスキャンしながらレーザー照射する上層照射工程と、下層のコンデンサ素子の積層方向における所定範囲内相当位置において所定範囲よりも狭い範囲でスキャンしながらレーザー照射する下層照射工程とを行う積層方向複数層レーザー照射工程を繰返し行うことにより、所望の幅のスリットを形成するようにしてもよい。   Further, as another laser scanning method, for example, an upper layer irradiation step of performing laser irradiation while scanning within a predetermined range in a region where a slit is formed in the upper layer capacitor element, and a predetermined direction in the stacking direction of the lower layer capacitor element A slit having a desired width may be formed by repeatedly performing a multi-layer laser irradiation step in a stacking direction in which a lower layer irradiation step of performing laser irradiation while scanning in a range narrower than a predetermined range at a position corresponding to the range is performed. .

また、スリット10a〜40aを形成するためにレーザースキャンによるレーザー照射を行ったが、これに代えてレーザーを固定し、コンデンサ素子をレーザーに対して相対的にスキャンさせることによりスリットを形成してもよい。   Moreover, although laser irradiation by laser scanning was performed to form the slits 10a to 40a, instead of this, the laser may be fixed and the slit may be formed by scanning the capacitor element relative to the laser. Good.

また、レーザー照射は連続照射であってもパルス照射であってもよい。   The laser irradiation may be continuous irradiation or pulse irradiation.

また、最上層のコンデンサ素子40の陽極部41の端部41Bにおけるスリットの幅は100μmであったが、これに限定されない、例えば、300μm程度であってもよい。これに伴い、最下層及び最上層以外のコンデンサ素子の陽極部の端部に形成されるスリットの幅を広くしてもよい。   In addition, the width of the slit at the end portion 41B of the anode portion 41 of the uppermost capacitor element 40 is 100 μm, but is not limited thereto, and may be, for example, about 300 μm. Accordingly, the width of the slit formed at the end of the anode portion of the capacitor element other than the lowermost layer and the uppermost layer may be increased.

また、陽極部11〜41は接続部材60によって電気的に接続されたが、陽極部11〜41が電気的に接続できるのであれば、接続部材60を用いなくてもよい。例えば、陽極部の端部どうしをカシメにより電気的に接続してもよい。また、陽極部の端部間を所定の間隔に保持するためのスペーサを、陽極部の端部間に配置させてもよい。   Moreover, although the anode parts 11-41 were electrically connected by the connection member 60, if the anode parts 11-41 can be electrically connected, it is not necessary to use the connection member 60. FIG. For example, the end portions of the anode portion may be electrically connected by caulking. In addition, a spacer for maintaining a predetermined distance between the end portions of the anode portion may be disposed between the end portions of the anode portion.

また、接続部材のレーザー照射を受ける表面は粗面化されていてもよい。粗面化されていることにより、レーザー光の反射を低減することができる。このため、接続部材におけるレーザー光の吸収を増加させることができる。   Moreover, the surface which receives the laser irradiation of a connection member may be roughened. By being roughened, the reflection of laser light can be reduced. For this reason, absorption of the laser beam in a connection member can be increased.

また、接続部材60は、底部62と接続部本体61とを備えていたが、接続部本体のみを有する構成であってもよい。また、固体電解コンデンサの寸法は、本実施の形態による値に限定されない。また、積層されたコンデンサ素子10〜40はプリント基板50上に配置されたが、これに限定されない。例えば、プリント基板に代えてリードフレーム上に載置されるようにしてもよい。   Moreover, although the connection member 60 was provided with the bottom part 62 and the connection part main body 61, the structure which has only a connection part main body may be sufficient. Further, the dimensions of the solid electrolytic capacitor are not limited to the values according to the present embodiment. Further, the laminated capacitor elements 10 to 40 are arranged on the printed board 50, but the invention is not limited to this. For example, it may be placed on a lead frame instead of the printed board.

また、陽極部11〜41を構成する弁作用金属はアルミニウムにより構成されたが、これに限定されない。例えばタンタルやニオブ等であってもよい。また、接続部材60はNiにより構成されていたが、これに限定されない。例えば、SUS、鉄、アルミニウム、銅、リン青銅、Mo、Cr、FeNi合金等の導電性の金属であればよく、また、例えば、日立電線株式会社により製造されている商品名「日立ハイクラッド」のような、異種金属を金属学的に接合させたいわゆるクラッド材等を用いてもよい。また、コンデンサ素子10〜40は4つ設けられていたが、個数は4つに限定されない。   Moreover, although the valve action metal which comprises the anode parts 11-41 was comprised with aluminum, it is not limited to this. For example, tantalum or niobium may be used. Moreover, although the connection member 60 was comprised with Ni, it is not limited to this. For example, conductive metals such as SUS, iron, aluminum, copper, phosphor bronze, Mo, Cr, and FeNi alloy may be used. For example, the trade name “Hitachi High Clad” manufactured by Hitachi Cable, Ltd. A so-called clad material in which dissimilar metals are metallurgically bonded may be used. Further, although four capacitor elements 10 to 40 are provided, the number is not limited to four.

また、接続部本体61と底部62とは一体に接続されていたが、これに限定されず、予め別体として用意された接続部本体と底部とを溶接等により接続して構成してもよい。   Moreover, although the connection part main body 61 and the bottom part 62 were connected integrally, it is not limited to this, You may comprise by connecting the connection part main body and bottom part which were prepared as a different body beforehand by welding etc. .

また、レーザーの照射は、接続部本体61の長手方向の一端から他端へ向って波を描くようにして照射したが、これに限定されない。例えば、接続部本体61の幅方向の一端から他端へ向って波を描くようにして照射してもよく、また、陽極部11〜41の端部11B〜41Bの凸部11C〜41Cに当接する接続部本体61の位置にのみにスポットで間欠的にレーザーを照射してもよい。   Further, the laser irradiation is performed so as to draw a wave from one end to the other end in the longitudinal direction of the connection portion main body 61, but is not limited to this. For example, the irradiation may be performed so as to draw a wave from one end to the other end in the width direction of the connection portion main body 61, and the projections 11C to 41C of the end portions 11B to 41B of the anode portions 11 to 41 are applied. You may irradiate a laser intermittently with a spot only to the position of the connection part main body 61 which touches.

本発明の固体電解コンデンサ及び固体電解コンデンサの製造方法は、多数のコンデンサ素子が積層されて構成される固体電解コンデンサ及び当該固体電解コンデンサの製造方法の分野において有用である。   The solid electrolytic capacitor and the method for manufacturing the solid electrolytic capacitor of the present invention are useful in the fields of a solid electrolytic capacitor configured by laminating a large number of capacitor elements and a method for manufacturing the solid electrolytic capacitor.

本発明の実施の形態による固体電解コンデンサを示す断面図。Sectional drawing which shows the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention. 本発明の実施の形態による固体電解コンデンサを構成するコンデンサ素子を示す断面図。Sectional drawing which shows the capacitor | condenser element which comprises the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention. 本発明の実施の形態による固体電解コンデンサの製造方法のレーザー切断工程により形成されたスリットを示す概念図。The conceptual diagram which shows the slit formed of the laser cutting process of the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention. 本発明の実施の形態による固体電解コンデンサの製造方法のレーザー切断工程を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating the laser cutting process of the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention. 本発明の実施の形態による固体電解コンデンサの製造方法のレーザー切断工程により形成されたスリットを示す説明図。Explanatory drawing which shows the slit formed of the laser cutting process of the manufacturing method of the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention. 本発明の実施の形態による固体電解コンデンサを示す分解斜視図。1 is an exploded perspective view showing a solid electrolytic capacitor according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施の形態による固体電解コンデンサの接続部材の変形例を示す分解斜視図。The disassembled perspective view which shows the modification of the connection member of the solid electrolytic capacitor by embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 固体電解コンデンサ
10〜40 コンデンサ素子
10a〜40a スリット
11〜41 陽極部
11A 酸化膜層
11B〜41B 端部
12〜42 陰極部
12A 固体電解質層
12B グラファイトペースト層
12C 銀ペースト層
13〜43 端縁部
41F 一端
41G 他端
60、70 接続部材
61、71 接続部本体
62、72 底部
62A 非重畳部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Solid electrolytic capacitor 10-40 Capacitor element 10a-40a Slit 11-41 Anode part 11A Oxide film layer 11B-41B End part 12-42 Cathode part 12A Solid electrolyte layer 12B Graphite paste layer 12C Silver paste layer 13-43 Edge part 41F One end 41G The other end 60, 70 Connection member 61, 71 Connection part main body 62, 72 Bottom part 62A Non-overlapping part

Claims (8)

表面に酸化膜層が形成され弁作用金属からなる陽極部の該表面の所定の領域に、固体電解質層を有する陰極部を層状に形成する工程を有するコンデンサ素子製造工程と、
該コンデンサ素子製造工程を複数回行うことにより製造された複数の該コンデンサ素子を、該陽極部の端部同士が互いに隣接するように積層配置するとともに該陰極部同士を互いに積層配置する積層工程と、
該コンデンサ素子において該陰極部が層状に形成された部分から該陰極部が形成されていない該陽極部の部分が突出する方向を突出方向とし、該コンデンサ素子が積層される方向を積層方向とし、該突出方向及び該積層方向に垂直の方向を幅方向としたときに、全ての該コンデンサ素子の該陽極部の端部において該幅方向の一端から他端へわたり該積層方向上方からレーザー照射することによりスリットを形成して、該スリットよりも該突出方向に位置する該陽極部の端縁部を切落とすレーザー切断工程と、
積層した該複数のコンデンサ素子を互いに電気的に並列接続する接続工程とを有する固体電解コンデンサの製造方法であって、
該レーザー切断工程では、該積層方向において最下層に配置された該コンデンサ素子以外の該コンデンサ素子の該スリットの幅が、該積層方向において最下層に配置された該コンデンサ素子の該スリットの幅よりも広くなるように、該複数のコンデンサ素子にそれぞれ該レーザーのビームスポット径よりも広い幅の該スリットを形成することを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
A capacitor element manufacturing step including a step of forming a cathode portion having a solid electrolyte layer in a predetermined region on the surface of an anode portion formed of an oxide film layer on the surface and made of a valve metal;
A plurality of capacitor elements manufactured by performing the capacitor element manufacturing step a plurality of times, and a stacking step of stacking and arranging the cathode portions so that the ends of the anode portions are adjacent to each other; ,
In the capacitor element, the direction in which the portion of the anode part where the cathode part is not formed from the part in which the cathode part is formed in a layer form is defined as the projecting direction, and the direction in which the capacitor element is laminated is defined as the laminating direction. When the width direction is the direction perpendicular to the protruding direction and the stacking direction, laser irradiation is performed from above the stacking direction from one end to the other end of the anode section of all the capacitor elements. A laser cutting step of forming a slit by cutting off the edge portion of the anode portion located in the projecting direction from the slit;
A method of manufacturing a solid electrolytic capacitor having a connecting step of electrically connecting the plurality of stacked capacitor elements in parallel with each other,
In the laser cutting step, the width of the slit of the capacitor element other than the capacitor element arranged in the lowermost layer in the stacking direction is larger than the width of the slit of the capacitor element arranged in the lowermost layer in the stacking direction. And forming a slit having a width wider than the beam spot diameter of the laser in each of the plurality of capacitor elements.
該レーザー切断工程では、該積層方向において下層に配置された該コンデンサ素子には、該積層方向において上層に配置された該コンデンサ素子よりも幅の狭い該スリットを形成することを特徴とする請求項1記載の固体電解コンデンサの製造方法。   The laser cutting step is characterized in that the capacitor element disposed in the lower layer in the stacking direction is formed with the slit having a narrower width than the capacitor element disposed in the upper layer in the stacking direction. A method for producing a solid electrolytic capacitor according to 1. 該接続工程は、該複数のコンデンサ素子の該陽極部の端縁部を切落とすことにより生じた該陽極部の切断面に、該複数のコンデンサ素子の各該陽極部の端部を互いに電気的に接続するための導電性の材料からなる接続部材をすべての該陽極部の端部に跨って固定する接続部材固定工程を有することを特徴とする請求項1又は請求項2記載の固体電解コンデンサの製造方法。   The connecting step includes electrically connecting the end portions of the anode portions of the plurality of capacitor elements to the cut surface of the anode portions generated by cutting off the edge portions of the anode portions of the plurality of capacitor elements. 3. A solid electrolytic capacitor according to claim 1, further comprising a connecting member fixing step of fixing a connecting member made of a conductive material for connecting to the end portion of all the anode portions. Manufacturing method. 該レーザー切断工程では、レーザースキャンによるレーザー照射により該スリットを形成することを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一記載の固体電解コンデンサの製造方法。   The method for manufacturing a solid electrolytic capacitor according to any one of claims 1 to 3, wherein, in the laser cutting step, the slit is formed by laser irradiation by laser scanning. 該レーザー切断工程の該レーザースキャンでは、最下層に配置された該コンデンサ素子以外の該コンデンサ素子には、形成される該スリットの長手方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する第1長手方向スキャン工程と、形成される該スリットの長手方向の他端においてレーザーの照射位置を該スリットの幅方向へ移動させる幅方向スキャン位置移動工程と、形成される該スリットの長手方向の他端から一端へと移動しながらレーザー照射する第2長手方向スキャン工程とを少なくとも行い、該スリットの幅は該幅方向スキャン位置移動工程による移動量の総和及びビームスポット径により規定され、
最下層に配置された該コンデンサ素子には少なくとも該第1長手方向スキャン工程を行うことを特徴とする請求項4記載の固体電解コンデンサの製造方法。
In the laser scanning of the laser cutting step, the first and second capacitor elements other than the capacitor element arranged in the lowermost layer are irradiated with laser while moving from one end to the other end in the longitudinal direction of the slit to be formed. Longitudinal scanning step, widthwise scanning position moving step of moving the laser irradiation position in the width direction of the slit at the other end in the longitudinal direction of the slit to be formed, and the other end in the longitudinal direction of the slit to be formed At least a second longitudinal scanning step in which laser irradiation is performed while moving from one end to the other, and the width of the slit is defined by the total amount of movement and the beam spot diameter by the width direction scanning position moving step,
5. The method of manufacturing a solid electrolytic capacitor according to claim 4, wherein at least the first longitudinal scanning step is performed on the capacitor element disposed in the lowermost layer.
該レーザー切断工程のレーザースキャンでは、最下層に配置された該コンデンサ素子以外の該コンデンサ素子には、形成される該スリットの幅方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する第1幅方向スキャン工程と、形成される該スリットの幅方向の他端においてレーザーの照射位置を該スリットの長手方向へ移動させる長手方向スキャン位置移動工程と、形成される該スリットの幅方向の他端から一端へと移動しながらレーザー照射する第2幅方向スキャン工程とを少なくとも行い、該スリットの長手方向の長さは該長手方向スキャン位置移動工程による移動量の総和により規定され、
最下層に配置された該コンデンサ素子には、形成される該スリットの長手方向の一端から他端へと移動しながらレーザー照射する長手方向スキャン工程を少なくとも行うことを特徴とする請求項4記載の固体電解コンデンサの製造方法。
In the laser scanning of the laser cutting step, the first width that is irradiated with the laser while moving from one end to the other end in the width direction of the slit to be formed on the capacitor elements other than the capacitor element arranged at the lowermost layer. From the other end in the width direction of the slit to be formed, a direction scanning step, a longitudinal scan position moving step in which the laser irradiation position is moved in the longitudinal direction of the slit at the other end in the width direction of the slit to be formed At least a second width direction scanning step of laser irradiation while moving to one end, the length in the longitudinal direction of the slit is defined by the total amount of movement in the longitudinal scanning position movement step,
The capacitor element disposed in the lowermost layer is at least subjected to a longitudinal scanning step in which laser irradiation is performed while moving from one end to the other end in the longitudinal direction of the slit to be formed. A method for producing a solid electrolytic capacitor.
該レーザー切断工程のレーザースキャンでは、上層の該コンデンサ素子において該スリットが形成される領域内の所定範囲内でスキャンしながらレーザー照射する上層照射工程と、下層の該コンデンサ素子の該積層方向における該所定範囲内相当位置において該所定範囲よりも狭い範囲でスキャンしながらレーザー照射する下層照射工程とを行う積層方向複数層レーザー照射工程を繰返し行うことを特徴とする請求項4記載の固体電解コンデンサの製造方法。   In the laser scanning of the laser cutting step, the upper layer irradiation step of performing laser irradiation while scanning within a predetermined range in the region where the slit is formed in the upper capacitor element, and the lower layer capacitor element in the stacking direction 5. The solid electrolytic capacitor according to claim 4, wherein a multi-layer laser irradiation step in a stacking direction is repeatedly performed in which a lower layer irradiation step of performing laser irradiation while scanning in a range narrower than the predetermined range at a position corresponding to a predetermined range. Production method. 表面に酸化膜層が形成され弁作用金属からなる陽極部と、該表面の所定の領域に固体電解質層を有して層状に形成された陰極部とにより構成される略板状のコンデンサ素子を複数備え、
該複数のコンデンサ素子は、各該陽極部の端部同士が互いに対向するように積層配置されるとともに該陰極部同士が互いに積層配置されて、互いに電気的に並列接続され、
該コンデンサ素子において該陰極部が層状に形成された部分から該陰極部が形成されていない該陽極部の部分が突出する方向を突出方向とし、該コンデンサ素子が積層される方向を積層方向とし、該突出方向及び該積層方向に垂直の方向を幅方向としたときに、全ての該コンデンサ素子の該陽極部の端部は、該陽極部の端部において該幅方向の一端から他端へわたり該積層方向上方からレーザー照射されることによりスリットが形成されて該スリットよりも該突出方向に位置する該陽極部の端縁部が切落とされて生じた該陽極部の切断面を有し、各該切断面は、該複数のコンデンサ素子の積層方向において面一であることを特徴とする固体電解コンデンサ。
A substantially plate-shaped capacitor element comprising an anode part formed of an oxide film layer on the surface and made of a valve metal, and a cathode part formed in a layered manner with a solid electrolyte layer in a predetermined region of the surface. Multiple
The plurality of capacitor elements are stacked so that the ends of the anode parts face each other, and the cathode parts are stacked together so as to be electrically connected to each other in parallel.
In the capacitor element, the direction in which the portion of the anode part where the cathode part is not formed from the part in which the cathode part is formed in a layer form is defined as the projecting direction, and the direction in which the capacitor element is laminated is defined as the laminating direction. When the width direction is the direction perpendicular to the protruding direction and the stacking direction, the end portions of the anode portions of all the capacitor elements extend from one end to the other end in the width direction at the end portions of the anode portions. A slit is formed by laser irradiation from above the stacking direction, and has a cut surface of the anode part generated by cutting off the edge part of the anode part located in the projecting direction from the slit, Each of the cut surfaces is flush with the stacking direction of the plurality of capacitor elements.
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