JP2006073638A - Solid electrolytic capacitor - Google Patents

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Masaaki Kobayashi
正明 小林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a solid electrolytic capacitor which can reduce an operation failure even if the resist layer of a capacitor element is made thin. <P>SOLUTION: The capacitor element 2 of the solid electrolytic capacitor is provided with an anode 6, a cathode 7 and a resist layer 8 to isolate the anode 6 and the cathode 7 electrically. The anode 6 is formed of the roughening destructive part 9 of an aluminum substrate 9. A solid electrolyte layer 11 is formed in a roughening holding area 9b of the aluminum substrate 9, and a conductor layer 12 forming the cathode 7 is formed on the solid electrolyte layer 11. The resist layer 8 is formed with an internal projected part 15 having an arcuate cross section, and two external projected parts 16 which are formed on both sides of the internal projected part 15 and have arcuate cross sections. A space between the internal projected part 15 and the respective external projected parts 16 forms a recess 17 for liquid accumulation to accumulate a reaction solution that flows toward the anode 6 during the formation of the cathode 7. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、陽極部と陰極部とを有するコンデンサ素子を備えた固体電解コンデンサに関するものである。   The present invention relates to a solid electrolytic capacitor including a capacitor element having an anode part and a cathode part.

従来の固体電解コンデンサとしては、例えば特許文献1に記載されているものがある。この特許文献1に記載の固体電解コンデンサは、弁作用金属箔の所定部位に、撥水性樹脂層と親水性樹脂層とからなるレジスト層を設けることで、弁作用金属箔を陽極引出し部と素子箔部とに区画し、その素子箔部上に化学酸化重合膜を形成し、更に化学酸化重合膜上に電解重合膜を形成してなるものである。
特開平6−45206号公報
As a conventional solid electrolytic capacitor, for example, there is one described in Patent Document 1. In the solid electrolytic capacitor described in Patent Document 1, the valve action metal foil is provided with a resist layer including a water repellent resin layer and a hydrophilic resin layer at a predetermined portion of the valve action metal foil. It is divided into a foil part, a chemical oxidation polymerization film is formed on the element foil part, and an electrolytic polymerization film is further formed on the chemical oxidation polymerization film.
JP-A-6-45206

しかしながら、上記従来技術においては、レジスト層が薄い場合には、化学重合法により素子箔部上に化学酸化重合膜を形成する際に、反応液がレジスト層を乗り越えて陽極引出し部に流れ込むことがある。この場合には、固体電解コンデンサの漏れ電流不良等が発生するという問題がある。このような不具合を解決するためには、レジスト層を十分に厚くすることが考えられる。ところで、複数のコンデンサ素子を積層してなる積層型固体電解コンデンサを形成する場合には、各コンデンサ素子の陽極部同士をレーザ溶接等で接続するために、各陽極部を曲げる必要がある。このとき、レジスト層が厚いと、その分だけ各陽極部の曲げ量が大きくなってしまうため、陽極部の亀裂や断線等が発生する可能性がある。   However, in the above-described prior art, when the resist layer is thin, when the chemical oxidation polymerization film is formed on the element foil portion by the chemical polymerization method, the reaction solution may get over the resist layer and flow into the anode extraction portion. is there. In this case, there is a problem that a leakage current failure of the solid electrolytic capacitor occurs. In order to solve such a problem, it is conceivable to make the resist layer sufficiently thick. By the way, when forming a multilayer solid electrolytic capacitor by laminating a plurality of capacitor elements, it is necessary to bend each anode part in order to connect the anode parts of each capacitor element by laser welding or the like. At this time, if the resist layer is thick, the amount of bending of each anode portion increases accordingly, so that there is a possibility that cracks or disconnection of the anode portion may occur.

本発明の目的は、コンデンサ素子のレジスト層を薄くしても、動作不良を低減することができる固体電解コンデンサを提供することである。   An object of the present invention is to provide a solid electrolytic capacitor capable of reducing malfunction even when the resist layer of the capacitor element is thinned.

本発明者らは、コンデンサ素子の形成について実験等を繰り返し行い、鋭意検討を重ねた結果、例えば化学酸化重合法を用いて、一部にレジスト層が形成された弁金属基体の表面上に固体電解質層を形成する際、レジスト層に凹みを設けると、レジスト層が多少薄い場合でも、反応溶液がレジスト層を乗り越えにくくなることを見出した。本発明は、そのような知見に基づいて為されたものである。   The inventors of the present invention repeatedly conducted experiments on the formation of a capacitor element, and as a result of intensive studies, for example, using a chemical oxidation polymerization method, a solid was formed on the surface of a valve metal substrate partially formed with a resist layer. It has been found that when the electrolyte layer is formed, if the dent is provided in the resist layer, the reaction solution hardly gets over the resist layer even if the resist layer is somewhat thin. The present invention has been made based on such knowledge.

即ち、本発明は、コンデンサ素子を備えた固体電解コンデンサであって、コンデンサ素子は、弁金属基体の一部領域で形成される陽極部と、弁金属基体における陽極部を除く領域の表面上に固体電解質層及び導電体層を積層して形成される陰極部と、陽極部と陰極部とを電気的に分離するレジスト層とを有し、レジスト層には、陰極部の形成時に陽極部に向かって流れる反応溶液を溜めるための液溜まり用凹部が設けられていることを特徴とするものである。   That is, the present invention is a solid electrolytic capacitor including a capacitor element, the capacitor element being formed on a surface of an anode portion formed in a partial region of the valve metal base and a region excluding the anode portion in the valve metal base. A cathode portion formed by laminating a solid electrolyte layer and a conductor layer; and a resist layer that electrically separates the anode portion and the cathode portion. The resist layer has an anode portion when the cathode portion is formed. A liquid reservoir recess is provided for storing the reaction solution flowing toward it.

このような固体電解コンデンサにおいて、コンデンサ素子を作る場合は、まず弁金属基体における陽極形成領域と陰極形成領域との間の領域の表面上に、液溜まり用凹部を有するレジスト層を形成する。そして、弁金属基体における陰極形成領域の表面上に固体電解質層及び導電体層を積層して陰極部を形成する。このとき、例えば化学酸化重合法により固体電解質層を形成する場合、反応溶液がレジスト層に向かって流れるが、レジスト層の厚みが小さいと、反応溶液がレジスト層を乗り越えようとする。しかし、レジスト層には液溜まり用凹部が設けられているので、レジスト層に流れ込んだ反応溶液は液溜まり凹部に溜まるようになる。このため、反応溶液がレジスト層を乗り越えて陽極部に流れていくことが抑止される。これにより、レジスト層が多少薄くても、固体電解コンデンサの漏れ電流不良等といった動作不良を低減することができる。   In order to produce a capacitor element in such a solid electrolytic capacitor, first, a resist layer having a recess for collecting liquid is formed on the surface of the region between the anode forming region and the cathode forming region in the valve metal substrate. Then, a cathode part is formed by laminating a solid electrolyte layer and a conductor layer on the surface of the cathode forming region in the valve metal substrate. At this time, for example, when the solid electrolyte layer is formed by the chemical oxidative polymerization method, the reaction solution flows toward the resist layer. However, when the thickness of the resist layer is small, the reaction solution tends to get over the resist layer. However, since the resist layer is provided with a liquid reservoir recess, the reaction solution that has flowed into the resist layer is accumulated in the liquid reservoir recess. For this reason, the reaction solution is prevented from flowing over the resist layer to the anode portion. Thereby, even if the resist layer is somewhat thin, it is possible to reduce malfunction such as a leakage current defect of the solid electrolytic capacitor.

好ましくは、レジスト層は、第1凸状部と、第1凸状部に対して陰極部側に形成され、第1凸状部よりも頂上高さ位置が低い第2凸状部とを有し、第1凸状部と第2凸状部との間の空間で液溜まり用凹部を形成する。この場合には、例えば化学酸化重合法により弁金属基体の表面上に固体電解質層を形成する際、レジスト層に流れ込んだ反応溶液は、第2凸状部を越えて液溜まり用凹部に溜まっても、更に第1凸状部を越えないと、陽極部には流れていかない。ここで、第1凸状部の頂上高さ位置は第2凸状部の頂上高さ位置よりも高いので、反応溶液は、容易には第1凸状部を越えられない。これにより、反応溶液がレジスト層を乗り越えて陽極部に流れていくことをより効果的に抑止できる。   Preferably, the resist layer includes a first convex portion and a second convex portion that is formed on the cathode portion side with respect to the first convex portion and has a top height position lower than that of the first convex portion. And the recessed part for a liquid pool is formed in the space between a 1st convex part and a 2nd convex part. In this case, for example, when the solid electrolyte layer is formed on the surface of the valve metal substrate by the chemical oxidative polymerization method, the reaction solution that has flowed into the resist layer is accumulated in the liquid reservoir recess beyond the second convex portion. However, it does not flow to the anode part unless it exceeds the first convex part. Here, since the top height position of the first convex portion is higher than the top height position of the second convex portion, the reaction solution cannot easily exceed the first convex portion. Thereby, it can suppress more effectively that a reaction solution gets over an resist part over a resist layer.

また、好ましくは、レジスト層は、陽極部と陰極部との並設方向に沿って形成され、断面山形状を有する複数の凸状部を有し、各凸状部間の空間で液溜まり凹部を形成する。このような断面山形状をもった凸状部を複数有するレジスト層は、例えばスクリーン印刷法を用いることで容易に形成可能である。   Preferably, the resist layer is formed along a direction in which the anode part and the cathode part are juxtaposed, and has a plurality of convex parts having a cross-sectional mountain shape, and a liquid reservoir concave part is formed in a space between the convex parts. Form. A resist layer having a plurality of convex portions having such cross-sectional mountain shapes can be easily formed by using, for example, a screen printing method.

本発明によれば、レジスト層を多少薄くした場合でも、陰極部の形成時に、陽極部に向かって流れる反応溶液がレジスト層を乗り越えることが抑止されるので、固体電解コンデンサの動作不良を低減することができる。従って、レジスト層の厚さを必要以上に大きくしなくて済むため、複数のコンデンサ素子を積層した積層型固体電解コンデンサを形成する場合に、各コンデンサ素子の陽極部の曲げ量を抑えることができる。その結果、陽極部の亀裂や断線等の発生を防止することが可能となる。   According to the present invention, even when the resist layer is made somewhat thin, the reaction solution flowing toward the anode portion is prevented from getting over the resist layer when the cathode portion is formed, thereby reducing the malfunction of the solid electrolytic capacitor. be able to. Accordingly, since the thickness of the resist layer does not need to be increased more than necessary, the bending amount of the anode portion of each capacitor element can be suppressed when forming a multilayer solid electrolytic capacitor in which a plurality of capacitor elements are stacked. . As a result, it is possible to prevent the occurrence of cracks and disconnections in the anode part.

以下、本発明に係わる固体電解コンデンサの好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。   DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of a solid electrolytic capacitor according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明に係わる固体電解コンデンサの一実施形態を示す断面図である。同図において、本実施形態の固体電解コンデンサ1は、複数(ここでは3つ)のコンデンサ素子2からなるコンデンサ素子積層体3と、このコンデンサ素子積層体3が載置・固定される基板4と、コンデンサ素子積層体3をモールドする樹脂モールド部5とを備えている。コンデンサ素子2は、陽極部6と、陰極部7と、陽極部6と陰極部7との間に形成され、陽極部6と陰極部7とを電気的に分離するレジスト層8とを有している。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a solid electrolytic capacitor according to the present invention. In the figure, the solid electrolytic capacitor 1 of the present embodiment includes a capacitor element laminate 3 composed of a plurality (three in this case) of capacitor elements 2, and a substrate 4 on which the capacitor element laminate 3 is placed and fixed. And a resin mold part 5 for molding the capacitor element laminate 3. The capacitor element 2 includes an anode part 6, a cathode part 7, and a resist layer 8 that is formed between the anode part 6 and the cathode part 7 and electrically separates the anode part 6 and the cathode part 7. ing.

図2は、コンデンサ素子2の具体的構造を示す断面図であり、図3は図2の一部拡大断面図であり、図4はコンデンサ素子2の平面図である。各図において、陽極部6は、矩形状に打ち抜き加工された箔状または板状のアルミニウム基体9の一端側部分で形成されている。アルミニウム基体9の表面は、表面積を増やすべく粗面化(拡面化)されている。また、アルミニウム基体9の表面には、化成処理(陽極酸化)によって絶縁性の酸化アルミニウム皮膜(誘電体層)10が形成されている。   2 is a cross-sectional view showing a specific structure of the capacitor element 2, FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG. 2, and FIG. 4 is a plan view of the capacitor element 2. In each figure, the anode portion 6 is formed by one end side portion of a foil-like or plate-like aluminum substrate 9 punched into a rectangular shape. The surface of the aluminum substrate 9 is roughened (enlarged) to increase the surface area. An insulating aluminum oxide film (dielectric layer) 10 is formed on the surface of the aluminum substrate 9 by chemical conversion treatment (anodic oxidation).

陽極部6を形成する領域を含むアルミニウム基体9の一端側領域は、表面の粗面化構造が破壊された粗面化破壊領域9aを構成している。アルミニウム基体9における粗面化破壊部分9aを除く粗面化保持領域9bの表面(両面)上には、導電性高分子化合物を含む固体電解質層11が形成されている。この固体電解質層11は、アルミニウム基体9の表面の粗面化によって形成された微細穴9cに入り込むように形成されている。固体電解質層11上には、陰極部7を形成する導電体層12が設けられている。導電体層12は、グラファイトペースト層13及び銀ペースト層14を順に積層して形成されている。   One end side region of the aluminum substrate 9 including the region where the anode 6 is formed constitutes a roughened fracture region 9a in which the roughened structure of the surface is destroyed. A solid electrolyte layer 11 containing a conductive polymer compound is formed on the surface (both sides) of the roughened holding region 9b excluding the roughened broken portion 9a in the aluminum substrate 9. The solid electrolyte layer 11 is formed so as to enter the fine hole 9 c formed by roughening the surface of the aluminum substrate 9. On the solid electrolyte layer 11, a conductor layer 12 that forms the cathode portion 7 is provided. The conductor layer 12 is formed by sequentially laminating a graphite paste layer 13 and a silver paste layer 14.

アルミニウム基体9における粗面化破壊領域9aの基端部の表面(両面)上には、上記のレジスト層8が形成されている。レジスト層8は、アルミニウム基体9の長手方向(陽極部6と陰極部7との並設方向)に対して垂直な方向に延びている。レジスト層8は、絶縁性を有するエポキシ樹脂等で形成されている。なお、レジスト層8の幅Wは、0.5〜1mm程度であり、レジスト層8の厚さ(高さ)Dは、例えば15μm程度である。   The resist layer 8 is formed on the surface (both sides) of the base end portion of the roughened fracture region 9a in the aluminum substrate 9. The resist layer 8 extends in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the aluminum substrate 9 (the direction in which the anode portion 6 and the cathode portion 7 are arranged in parallel). The resist layer 8 is made of an insulating epoxy resin or the like. The width W of the resist layer 8 is about 0.5 to 1 mm, and the thickness (height) D of the resist layer 8 is about 15 μm, for example.

レジスト層8は、断面山形状を有する内側凸状部15と、この内側凸状部15の両側(陽極部6側及び陰極部7側)にそれぞれ形成され、断面山形状を有する2つの外側凸状部16とからなっている。外側凸状部16の頂上高さ位置は、内側凸状部15の頂上高さ位置よりも低くなっている。これらの断面山形状を有する内側凸状部15及び外側凸状部16によって、内側凸状部15と各外側凸状部16との間には空間がそれぞれ形成されることになる。この空間は、陰極部7の形成時に陽極部6に向かって流れる反応溶液を溜めるための断面略V字状の液溜まり用凹部17を形成している。この液溜まり用凹部17は、アルミニウム基体9の長手方向に対して垂直な方向に延びている。   The resist layer 8 is formed on the inner convex portion 15 having a cross-sectional mountain shape, and on both sides (the anode portion 6 side and the cathode portion 7 side) of the inner convex portion 15, and has two outer convex portions having a cross-sectional mountain shape. It consists of the shape part 16. The top height position of the outer convex portion 16 is lower than the top height position of the inner convex portion 15. A space is formed between the inner convex portion 15 and each outer convex portion 16 by the inner convex portion 15 and the outer convex portion 16 having a mountain shape in cross section. This space forms a liquid reservoir recess 17 having a substantially V-shaped cross section for storing a reaction solution flowing toward the anode 6 when the cathode 7 is formed. The liquid reservoir recess 17 extends in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the aluminum substrate 9.

このようなコンデンサ素子2を作製する場合は、まずスクリーン印刷法を用いて、アルミニウム基体9における粗面化破壊領域9aの基端部の表面上にレジスト層8を形成する。   In the case of producing such a capacitor element 2, first, a resist layer 8 is formed on the surface of the base end portion of the roughened fracture region 9 a in the aluminum substrate 9 by using a screen printing method.

具体的には、まず平行に延びる2本の線状パターンを有するスクリーンパターン(図示せず)を使用して、図5(a)に示すように、断面山形状を有する2つの樹脂層18を形成する。これらの樹脂層18は、レジスト層8の外側凸状部16を構成するものである。続いて、1本の線状パターンを有するスクリーンパターン(図示せず)を使用して、図5(b)に示すように、2つの樹脂層18間に、断面山形状を有する樹脂層19を形成する。この樹脂層19は、レジスト層8の内側凸状部15を構成するものである。このとき、2回目に使用するスクリーンパターンとしては、最初に使用するスクリーンパターンよりも膜厚の厚いものを用いるのが望ましい。以上により、2つの断面略V字状の液溜まり用凹部17を有するレジスト層8が形成される。   Specifically, first, using a screen pattern (not shown) having two linear patterns extending in parallel, two resin layers 18 having a cross-sectional mountain shape are formed as shown in FIG. Form. These resin layers 18 constitute the outer convex portions 16 of the resist layer 8. Subsequently, using a screen pattern (not shown) having a single linear pattern, a resin layer 19 having a cross-sectional mountain shape is formed between the two resin layers 18 as shown in FIG. Form. The resin layer 19 constitutes the inner convex portion 15 of the resist layer 8. At this time, as the screen pattern used for the second time, it is desirable to use a screen pattern having a larger film thickness than the screen pattern used first. As described above, the resist layer 8 having the two liquid reservoir concave portions 17 having a substantially V-shaped cross section is formed.

次いで、アルミニウム基体9における粗面化保持領域9bの表面上に、導電性高分子化合物を含む固体電解質層11を形成する(図2参照)。具体的には、アルミニウム基体9における粗面化保持領域9bのみを、固体電解質層11を形成するための反応溶液中に浸漬し、化学酸化重合を行うことにより、固体電解質層11を形成する。このとき、モノマーとして、例えばピロールや3,4−エチレンジオキシチオフェン溶液を用い、酸化剤反応溶液として、例えばアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム及び硫酸鉄(III)を含むエタノール水混合溶液を用いる。   Next, a solid electrolyte layer 11 containing a conductive polymer compound is formed on the surface of the roughened holding region 9b in the aluminum substrate 9 (see FIG. 2). Specifically, the solid electrolyte layer 11 is formed by immersing only the roughened holding region 9b in the aluminum substrate 9 in a reaction solution for forming the solid electrolyte layer 11 and performing chemical oxidation polymerization. At this time, for example, a pyrrole or 3,4-ethylenedioxythiophene solution is used as a monomer, and an ethanol water mixed solution containing, for example, sodium alkylnaphthalenesulfonate and iron (III) sulfate is used as an oxidant reaction solution.

このとき、レジスト層8の厚さDが小さい場合には、反応溶液がレジスト層8を乗り越えて陽極部6側に行こうとするが、レジスト層8には液溜まり用凹部17が形成されているため、陽極部6に向かって流れる反応溶液は液溜まり用凹部17に溜まることになる。しかも、レジスト層8の内側凸状部15の頂上は外側凸状部16の頂上よりも高い位置にあるため、液溜まり用凹部17に一旦溜まった反応溶液が更に内側凸状部15を乗り越えることは困難であると考えられる。従って、レジスト層8が反応溶液のダム効果(堰き止め効果)を有効に発揮するようになるため、反応溶液がレジスト層8を容易に乗り越えていくことは無い。   At this time, when the thickness D of the resist layer 8 is small, the reaction solution goes over the resist layer 8 and tries to go to the anode portion 6 side. Therefore, the reaction solution flowing toward the anode portion 6 is collected in the liquid reservoir recess portion 17. Moreover, since the top of the inner convex portion 15 of the resist layer 8 is at a higher position than the top of the outer convex portion 16, the reaction solution once accumulated in the liquid reservoir concave portion 17 gets over the inner convex portion 15. Is considered difficult. Therefore, since the resist layer 8 effectively exhibits the dam effect (damming effect) of the reaction solution, the reaction solution does not easily get over the resist layer 8.

続いて、固体電解質層11の表面にグラファイトペースト層13を形成し、更にグラファイトペースト層13の表面に銀ペースト層14を形成することにより、導電体層12を形成する。この導電体層12の形成は、例えばスクリーン印刷法やスプレー塗布法等を用いて行う。これにより、1枚のコンデンサ素子2が完成する。   Subsequently, the conductor layer 12 is formed by forming the graphite paste layer 13 on the surface of the solid electrolyte layer 11 and further forming the silver paste layer 14 on the surface of the graphite paste layer 13. The conductor layer 12 is formed by using, for example, a screen printing method or a spray coating method. Thereby, one capacitor element 2 is completed.

コンデンサ素子積層体3は、そのようなコンデンサ素子2を複数枚積層したものである。コンデンサ素子2の陰極部7を構成する導電体層12同士は、導電性接着剤20で接合されている。この導電性接着剤としては、例えば銀−エポキシ系接着剤が用いられる。   The capacitor element laminate 3 is obtained by laminating a plurality of such capacitor elements 2. The conductor layers 12 constituting the cathode part 7 of the capacitor element 2 are joined together by a conductive adhesive 20. As this conductive adhesive, for example, a silver-epoxy adhesive is used.

このようなコンデンサ素子積層体3が載置される基板4は、例えばエポキシ樹脂製のプリント基板である。基板4の上面4aには、コンデンサ素子積層体3の陽極部6と電気的に接続される陽極配線パターン21と、コンデンサ素子積層体3の陰極部7と電気的に接続される陰極配線パターン22とが設けられている。これらの配線パターン21,22は、銅等で形成されている。   The substrate 4 on which such a capacitor element laminate 3 is placed is, for example, an epoxy resin printed substrate. On the upper surface 4 a of the substrate 4, an anode wiring pattern 21 that is electrically connected to the anode portion 6 of the capacitor element laminate 3 and a cathode wiring pattern 22 that is electrically connected to the cathode portion 7 of the capacitor element laminate 3. And are provided. These wiring patterns 21 and 22 are made of copper or the like.

コンデンサ素子積層体3における最下層のコンデンサ素子2の陰極部7は、導電性接着剤20により陰極配線パターン22に接着されている。コンデンサ素子積層体3における各コンデンサ素子2の陽極部6は、基板4側に曲げて重ねた状態で、YAGレーザスポット溶接等の溶接手段により陽極配線パターン21に溶接されている。   The cathode portion 7 of the lowermost capacitor element 2 in the capacitor element laminate 3 is bonded to the cathode wiring pattern 22 with a conductive adhesive 20. The anode portion 6 of each capacitor element 2 in the capacitor element laminate 3 is welded to the anode wiring pattern 21 by a welding means such as YAG laser spot welding while being bent and overlapped on the substrate 4 side.

基板4の下面4bには、陽極端子パターン23及び陰極端子パターン24が設けられている。これらの端子パターン23,24は、電子回路基板等(図示せず)に実装される部分であり、配線パターン21,22と同様の金属材料で形成されている。   An anode terminal pattern 23 and a cathode terminal pattern 24 are provided on the lower surface 4 b of the substrate 4. These terminal patterns 23 and 24 are parts mounted on an electronic circuit board or the like (not shown), and are formed of the same metal material as the wiring patterns 21 and 22.

基板4には、陽極配線パターン21と陽極端子パターン23とを電気的に接続するスルーホール25と、陰極配線パターン22と陰極端子パターン24とを電気的に接続するスルーホール26とが設けられている。これらのスルーホール25,26は、例えばドリル加工により基板4に貫通孔27を形成した後、その貫通孔27を形成する基板4の内壁面にメッキ28を施して形成される。   The substrate 4 is provided with a through hole 25 that electrically connects the anode wiring pattern 21 and the anode terminal pattern 23, and a through hole 26 that electrically connects the cathode wiring pattern 22 and the cathode terminal pattern 24. Yes. These through holes 25 and 26 are formed by, for example, forming a through hole 27 in the substrate 4 by drilling and then plating the inner wall surface of the substrate 4 where the through hole 27 is formed.

以上のように構成した本実施形態にあっては、陰極部7の形成時に陽極部6に向かって流れる反応溶液を溜めるための液溜まり用凹部17をレジスト層8に設けることにより、レジスト層8の厚さDが小さい場合であっても、固体電解質層11を形成する際に反応溶液がレジスト層8を乗り越えて陽極部6に流れ込むことが抑えられる。これにより、完成した固体電解コンデンサ1において、コンデンサ素子2の漏れ電流不良等を低減することが可能となる。   In the present embodiment configured as described above, the resist layer 8 is provided with the liquid reservoir recesses 17 for storing the reaction solution flowing toward the anode part 6 when the cathode part 7 is formed. Even when the thickness D is small, the reaction solution is prevented from flowing over the resist layer 8 and flowing into the anode portion 6 when the solid electrolyte layer 11 is formed. Thereby, in the completed solid electrolytic capacitor 1, it becomes possible to reduce the leakage current defect of the capacitor element 2, and the like.

また、上記の理由から、レジスト層8を必要以上に厚く形成する必要がないので、その分だけコンデンサ素子積層体3における各コンデンサ素子2(特に最上層のコンデンサ素子2)の陽極部6の曲げ量を小さくすることが可能となる。従って、陽極部6を構成するアルミニウム基体9に亀裂や破損等が生じたり、陽極部6の強度が低下することを防止できるので、コンデンサ素子2の特性劣化を避けることが可能となる。   For the above reason, it is not necessary to form the resist layer 8 thicker than necessary. Therefore, the bending of the anode portion 6 of each capacitor element 2 (particularly, the uppermost capacitor element 2) in the capacitor element laminate 3 is correspondingly increased. The amount can be reduced. Therefore, it is possible to prevent the aluminum substrate 9 constituting the anode portion 6 from being cracked or damaged, or to prevent the strength of the anode portion 6 from being lowered, so that it is possible to avoid deterioration of the characteristics of the capacitor element 2.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、陰極部7の形成時に陽極部6に向かって流れる反応溶液を溜めるための液溜まり用凹部を有するレジスト層としては、特に上記実施形態のような1つの内側凸状部15と2つの外側凸状部16とからなるレジスト層8に限られず、形状を種々変形可能である。そのような液溜まり用凹部を有するレジスト層の変形例を図6及び図7に示す。   The present invention is not limited to the above embodiment. For example, as the resist layer having a recess for storing a liquid for storing a reaction solution flowing toward the anode 6 when the cathode 7 is formed, the inner convex portion 15 and the two outer portions particularly as in the above embodiment are used. The shape is not limited to the resist layer 8 composed of the convex portions 16 and can be variously deformed. Modification examples of the resist layer having such a recess for storing liquid are shown in FIGS.

図6(a)に示すレジスト層30は、アルミニウム基体9の長手方向(陰極部7から陽極部6に向かう方向)に沿って形成され、断面山形状を有する3つの凸状部31からなっている。各凸状部31の頂上高さ位置は、同等となっている。そして、各凸状部31間の空間が断面略V字状の液溜まり用凹部32を形成している。   The resist layer 30 shown in FIG. 6A is formed along the longitudinal direction of the aluminum substrate 9 (the direction from the cathode portion 7 toward the anode portion 6), and is composed of three convex portions 31 having a cross-sectional mountain shape. Yes. The top height positions of the convex portions 31 are the same. And the space between each convex-shaped part 31 forms the recessed part 32 for a liquid reservoir with a cross-sectional substantially V shape.

図6(b)に示すレジスト層35は、アルミニウム基体9の長手方向に沿って形成され、断面山形状を有する2つの凸状部36からなっている。各凸状部36の頂上高さ位置は、同等となっている。そして、各凸状部36間の空間が断面略V字状の液溜まり用凹部37を形成している。   The resist layer 35 shown in FIG. 6B is formed along the longitudinal direction of the aluminum substrate 9 and includes two convex portions 36 having a cross-sectional mountain shape. The top height positions of the convex portions 36 are the same. And the space between each convex-shaped part 36 forms the recessed part 37 for a liquid reservoir with a cross-sectional substantially V shape.

図6(c)に示すレジスト層40は、アルミニウム基体9の長手方向に沿って形成され、断面山形状を有する凸状部41,42からなっている。陰極部7側の凸状部42の頂上高さ位置は、陽極部6側の凸状部41の頂上高さ位置よりも低くなっている。そして、凸状部41,42間の空間が断面略V字状の液溜まり用凹部43を形成している。   The resist layer 40 shown in FIG. 6C is formed along the longitudinal direction of the aluminum base 9, and is composed of convex portions 41 and 42 having a cross-sectional mountain shape. The top height position of the convex part 42 on the cathode part 7 side is lower than the top height position of the convex part 41 on the anode part 6 side. The space between the convex portions 41 and 42 forms a liquid reservoir concave portion 43 having a substantially V-shaped cross section.

図7(a)に示すレジスト層45は、アルミニウム基体9の長手方向に沿って形成され、断面矩形状を有する2つの凸状部46を有している。各凸状部46の頂上高さ位置は、同等となっている。そして、各凸状部46間の空間が断面矩形状の液溜まり用凹部47を形成している。   The resist layer 45 shown in FIG. 7A is formed along the longitudinal direction of the aluminum substrate 9 and has two convex portions 46 having a rectangular cross section. The top height positions of the convex portions 46 are the same. And the space between each convex-shaped part 46 forms the concave part 47 for a liquid reservoir with a rectangular cross section.

図7(b)に示すレジスト層50は、アルミニウム基体9の長手方向に沿って形成され、断面矩形状を有する凸状部51,52を有している。陰極部7側の凸状部52の頂上高さ位置は、陽極部6側の凸状部51の頂上高さ位置よりも低くなっている。そして、凸状部51,52間の空間が断面矩形状の液溜まり用凹部53を形成している。   The resist layer 50 shown in FIG. 7B is formed along the longitudinal direction of the aluminum substrate 9 and has convex portions 51 and 52 having a rectangular cross section. The top height position of the convex part 52 on the cathode part 7 side is lower than the top height position of the convex part 51 on the anode part 6 side. A space between the convex portions 51 and 52 forms a liquid pool concave portion 53 having a rectangular cross section.

図7(c)に示すレジスト層55は、アルミニウム基体9の長手方向に沿って形成され、断面台形状を有する2つの凸状部56を有している。各凸状部56の頂上高さ位置は、同等となっている。そして、各凸状部56間の空間が断面V字状の液溜まり用凹部57を形成している。   The resist layer 55 shown in FIG. 7C is formed along the longitudinal direction of the aluminum base 9 and has two convex portions 56 having a trapezoidal cross section. The top height positions of the convex portions 56 are the same. And the space between each convex-shaped part 56 forms the recessed part 57 for a liquid reservoir with a V-shaped cross section.

なお、レジスト層に形成する液溜まり用凹部の数は、アルミニウム基体9の長手方向に沿って3つ以上あっても良い。また、液溜まり用凹部の形状は、断面球面状等であっても良い。さらに、液溜まり用凹部の形成方法としては、上記実施形態のような2段階の樹脂層印刷に限られず、エッチング等により樹脂層の表面を削っても良い。   It should be noted that the number of recesses for reservoirs formed in the resist layer may be three or more along the longitudinal direction of the aluminum substrate 9. In addition, the shape of the liquid reservoir recess may be spherical in cross section. Furthermore, the method for forming the recess for liquid pool is not limited to the two-step resin layer printing as in the above embodiment, and the surface of the resin layer may be shaved by etching or the like.

また、上記実施形態では、レジスト層8の液溜まり用凹部17は、固体電解質層11の形成時に陽極部6に向かって流れる反応溶液を溜めるものであるが、その後の工程である導電体層12の形成を浸漬法(ディップ法)等で行う場合には、その時に使用する反応溶液も液溜まり用凹部に溜まるように液溜まり用凹部を構成する。   In the above embodiment, the liquid reservoir recess 17 of the resist layer 8 stores the reaction solution that flows toward the anode portion 6 when the solid electrolyte layer 11 is formed. However, the conductor layer 12 is a subsequent process. Is formed by dipping or the like, the liquid reservoir recess is configured so that the reaction solution used at that time is also stored in the liquid reservoir recess.

さらに、上記実施形態では、コンデンサ素子2の陽極部6を形成する弁金属電極体としてアルミニウム基体9を用いたが、弁金属電極体の金属材料としては、アルミニウム以外に、アルミニウム合金、チタン、タンタル、ニオブ及びジルコニウムまたはこれらの合金を使用してもよい。   Furthermore, in the said embodiment, although the aluminum base | substrate 9 was used as a valve metal electrode body which forms the anode part 6 of the capacitor | condenser element 2, as a metal material of a valve metal electrode body, in addition to aluminum, aluminum alloy, titanium, tantalum Niobium and zirconium or alloys thereof may be used.

また、上記実施形態の固体電解コンデンサ1は、陽極部6及び陰極部7を1つずつ有する2端子型コンデンサであるが、本発明は、複数の陽極部を有する多端子型コンデンサにも適用可能である。また、本発明は、上記実施形態のような基板型の電解コンデンサに限らず、リードフレーム型の固体電解コンデンサにも適用可能である。   The solid electrolytic capacitor 1 of the above embodiment is a two-terminal capacitor having one anode portion 6 and one cathode portion 7, but the present invention can also be applied to a multi-terminal capacitor having a plurality of anode portions. It is. Further, the present invention is not limited to the substrate type electrolytic capacitor as in the above embodiment, but can also be applied to a lead frame type solid electrolytic capacitor.

[実施例]
上記実施形態に係わる固体電解コンデンサを、以下のようにして作製した。
[Example]
The solid electrolytic capacitor according to the above embodiment was produced as follows.

(1)コンデンサ素子の作製
まず、粗面化処理が施され、更に酸化アルミニウム皮膜が形成されている厚さ100μmのアルミニウム箔シートを用意する。なお、このアルミニウム箔シートからは、250μF/cmの静電容量が得られる。アルミニウム箔シートを、図4に示すような矩形状となるように打ち抜き加工し、面積が0.1cmであるアルミニウム陽極電極体を作製した。そして、陽極部に相当するアルミニウム陽極電極体の一端側部分の粗面化構造を押圧処理により破壊した。
(1) Production of Capacitor Element First, an aluminum foil sheet having a thickness of 100 μm is prepared, which is subjected to a roughening treatment and further has an aluminum oxide film formed thereon. From this aluminum foil sheet, a capacitance of 250 μF / cm 2 is obtained. The aluminum foil sheet was punched into a rectangular shape as shown in FIG. 4 to produce an aluminum anode electrode body having an area of 0.1 cm 2 . And the roughened structure of the one end side part of the aluminum anode electrode body corresponding to an anode part was destroyed by the press process.

続いて、アルミニウム陽極電極体の粗面化破壊領域の基端部にエポキシ樹脂を塗布してレジスト層を形成した。このレジスト層は、スクリーン印刷手法を用いて以下のように形成した。   Subsequently, an epoxy resin was applied to the base end portion of the roughened fracture region of the aluminum anode electrode body to form a resist layer. This resist layer was formed as follows using a screen printing method.

即ち、まずスクリーン印刷用の製版において、平行に延びる2本の線状パターンを有するスクリーンパターンを作製した。そして、このスクリーンパターンを使用して、幅0.3mm、高さ10μmの樹脂層を印刷し、これを所定の温度で硬化させた。これにより、図5(a)に示すような2つの線状の熱硬化性エポキシ樹脂層が形成された。   That is, first, a screen pattern having two linear patterns extending in parallel was prepared in screen printing plate making. Then, using this screen pattern, a resin layer having a width of 0.3 mm and a height of 10 μm was printed and cured at a predetermined temperature. As a result, two linear thermosetting epoxy resin layers as shown in FIG. 5A were formed.

さらに、スクリーン印刷用の製版において、1本の線状パターンを有するスクリーンパターンを作製した。そして、このスクリーンパターンを使用して、幅0.3mm、高さ10μmの樹脂層を印刷し、これを所定の温度で硬化させた。これにより、先に形成した2つの熱硬化性エポキシ樹脂層の間に、図5(b)に示すような1つの線状の熱硬化性エポキシ樹脂層が形成された。その結果、2つの液溜まり用凹部を有する幅0.3mm、高さ17μmのレジスト層が形成された。   Furthermore, a screen pattern having one linear pattern was produced in the screen printing plate making. Then, using this screen pattern, a resin layer having a width of 0.3 mm and a height of 10 μm was printed and cured at a predetermined temperature. Thus, one linear thermosetting epoxy resin layer as shown in FIG. 5B was formed between the two previously formed thermosetting epoxy resin layers. As a result, a resist layer having a width of 0.3 mm and a height of 17 μm having two liquid reservoir recesses was formed.

続いて、3重量%の濃度で6.0のpHに調整されたアジピン酸アンモニウム水溶液中にアルミニウム陽極電極体を浸漬し、酸化アルミニウム皮膜が形成され粗面化構造が保持されている部分が完全に水溶液中に浸るようにした。次いで、アルミニウム陽極電極体における粗面化構造が破壊された陽極部側を陽極として、水溶液中のアルミニウム陽極電極体を化成電流密度50〜100mA/cm、化成電圧6Vの条件下で酸化させ、電極体の切断部端面に酸化アルミニウム皮膜を形成した。 Subsequently, the aluminum anode electrode body was immersed in an aqueous solution of ammonium adipate adjusted to a pH of 6.0 at a concentration of 3% by weight, and the portion where the aluminum oxide film was formed and the roughened structure was maintained was completely Soaked in an aqueous solution. Next, using the anode portion side where the roughened structure in the aluminum anode electrode body was destroyed as an anode, the aluminum anode electrode body in the aqueous solution was oxidized under conditions of a formation current density of 50 to 100 mA / cm 2 and a formation voltage of 6 V, An aluminum oxide film was formed on the end face of the cut part of the electrode body.

その後、アルミニウム陽極電極体を上記水溶液中から引き上げ、粗面化処理が施されている電極体の表面(陰極形成領域)上に、化学酸化重合によって、ポリピロールからなる固体高分子電解質層を形成した。具体的には、ピロールからなるモノマー溶液を、粗面化処理が施され酸化アルミニウム皮膜が形成されたアルミニウム箔部分のみに含浸させ、精製した0.1mol/lのアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム及び0.05mol/lの硫酸鉄(III)を含むエタノール水混合溶液セル中にセットし、30分にわたって攪拌して化学酸化重合を進行させ、同じ操作を3回にわたって繰り返すことにより生成した。その結果、最大厚さが約10μmの固体高分子電解質層が形成された。   Thereafter, the aluminum anode electrode body was pulled out of the aqueous solution, and a solid polymer electrolyte layer made of polypyrrole was formed by chemical oxidative polymerization on the surface (cathode formation region) of the electrode body that had been roughened. . Specifically, a monomer solution composed of pyrrole was impregnated only in a portion of the aluminum foil on which a roughening treatment was performed and an aluminum oxide film was formed, and purified 0.1 mol / l sodium alkylnaphthalene sulfonate and 0. It was generated by setting in an ethanol water mixed solution cell containing 05 mol / l iron (III) sulfate, stirring for 30 minutes to advance chemical oxidative polymerization, and repeating the same operation three times. As a result, a solid polymer electrolyte layer having a maximum thickness of about 10 μm was formed.

こうして得られた固体高分子電解質層の表面にカーボンペーストを塗布し、更にカーボンペーストの表面に銀ペーストを塗布して、陰極部を形成した。以上の処理によってコンデンサ素子が完成した。なお、このようなコンデンサ素子を、同様の方法により4つ作製した。   A carbon paste was applied to the surface of the solid polymer electrolyte layer thus obtained, and a silver paste was further applied to the surface of the carbon paste to form a cathode portion. The capacitor element was completed by the above processing. In addition, four such capacitor elements were produced by the same method.

(2)基板の作製
基板として、厚さ35μmの配線パターン及び端子パターンが印刷され、縦7.3mm×横4.3mm×厚さ0.5mmのサイズを有するガラスクロス含有耐熱性エポキシ樹脂基板(以下、FR4基板と称す)を以下のようにして準備した。
(2) Fabrication of substrate As a substrate, a glass cloth-containing heat-resistant epoxy resin substrate having a size of 7.3 mm in length, 4.3 mm in width, and 0.5 mm in thickness printed with a wiring pattern and a terminal pattern having a thickness of 35 μm ( (Hereinafter referred to as FR4 substrate) was prepared as follows.

即ち、両面に厚さ36μmの銅箔がコーティングされている厚さ0.4mmのFR4基板を100mm×100mmの寸法に切り出し、その片面(上面)に、7.3mm×4.3mmのサイズの配線パターンをフォトリソグラフィ技術によりパターンニングした。このパターンを同一面上に96個形成した。また、FR4基板の下面に、配線パターンとの位置合わせを図りつつ、フォトリソグラフィ技術を用いて端子パターンをパターンニングした。   That is, a 0.4 mm thick FR4 substrate coated with a 36 μm thick copper foil on both sides is cut out to a size of 100 mm × 100 mm, and a wiring of a size of 7.3 mm × 4.3 mm is formed on one side (upper surface) thereof. The pattern was patterned by photolithography technology. 96 patterns were formed on the same surface. Further, a terminal pattern was patterned on the lower surface of the FR4 substrate using a photolithography technique while aligning with the wiring pattern.

続いて、FR4基板の上面に形成された配線パターンとFR4基板の下面に形成された端子パターンとを結ぶための貫通孔(0.3mmφ)を複数形成した。続いて、この貫通孔を形成するFR4基板部の内壁に、無電解メッキによって3μmのニッケルメッキを施し、更にその上に0.8μmの金メッキを施して、スルーホールを形成した。   Subsequently, a plurality of through holes (0.3 mmφ) for connecting the wiring pattern formed on the upper surface of the FR4 substrate and the terminal pattern formed on the lower surface of the FR4 substrate were formed. Subsequently, 3 μm nickel plating was applied to the inner wall of the FR4 substrate part forming the through hole by electroless plating, and 0.8 μm gold plating was further formed thereon to form a through hole.

(3)基板上へのコンデンサ素子の実装
先に作製した4枚のコンデンサ素子の陽極部を互いに重なり合うように揃えて、これらのコンデンサ素子を積層すると共に、各コンデンサ素子の陰極部(ペースト層)同士を導電性接着剤で接着して、1つのコンデンサ素子積層体を作製した。
(3) Mounting Capacitor Elements on Substrate The anode parts of the four capacitor elements prepared above are aligned so as to overlap each other, and these capacitor elements are stacked, and the cathode parts (paste layer) of each capacitor element They were bonded together with a conductive adhesive to produce one capacitor element laminate.

このようなコンデンサ素子積層体をFR4基板上に載置し、銀−エポキシ系導電性接着剤を用いて、積層体の最下面に露出した陰極部(ペースト層)を陰極配線パターンに接着した。また、NEC製YAGレーザ溶接機を用いて、コンデンサ素子積層体の各陽極部を陽極配線パターンに溶接して一体化した。   Such a capacitor element laminated body was mounted on the FR4 substrate, and a cathode part (paste layer) exposed on the lowermost surface of the laminated body was adhered to the cathode wiring pattern using a silver-epoxy conductive adhesive. Moreover, each anode part of the capacitor | condenser element laminated body was welded and integrated with the anode wiring pattern using the YAG laser welding machine made from NEC.

その後、FR4基板上の所定領域に載置・固定された積層体を、真空印刷法を用いたキャスティングモールドによってエポキシ樹脂でモールドした。   Thereafter, the stacked body placed and fixed in a predetermined region on the FR4 substrate was molded with an epoxy resin by a casting mold using a vacuum printing method.

このようにモールドされた100mm×100mm寸法のFR4基板のモールド面を上にした状態で、所定のマーキング位置を基準にして、7.3mm×4.3mm間隔でダイシング切断を行った。そして、洗浄後、7.3mm×4.3mmのコンデンサ素子を内蔵したディスクリートタイプの2端子型固体電解コンデンサのサンプル♯1を得た。その後、公知の方法により固体電解コンデンサに一定の電圧を印加してエージング処理を行い、漏れ電流を十分に低減し、固体電解コンデンサのサンプル♯1を完成させた。   Dicing cutting was performed at intervals of 7.3 mm × 4.3 mm on the basis of a predetermined marking position with the mold surface of the FR4 substrate having a size of 100 mm × 100 mm molded as described above facing upward. After washing, a discrete type two-terminal solid electrolytic capacitor sample # 1 having a capacitor element of 7.3 mm × 4.3 mm was obtained. Thereafter, an aging process was performed by applying a constant voltage to the solid electrolytic capacitor by a known method, and the leakage current was sufficiently reduced to complete the solid electrolytic capacitor sample # 1.

(4)評価
こうして得られた約100個のサンプル♯1の電気的特性について、漏れ電流値を測定した。漏れ電流の測定手法はすでに公知であり、試作した固体電解コンデンサに定格電圧(4V)を印加できる直流安定化電源と電流計とを用意し、固体電解コンデンサを電源の極性に従って接続した。その際、保護回路として1kΩの抵抗を電流計と共に直列に接続した。そして、電源を入れてから5分後に、一定規格値以下の電流値に到達したサンプル数をカウントした。その結果、漏れ電流規格値(40μA以下)を満たすサンプルは89個であった。
(4) Evaluation About the electrical characteristics of about 100 samples # 1 obtained in this way, the leakage current value was measured. A method for measuring leakage current is already known, and a DC stabilized power source and an ammeter that can apply a rated voltage (4 V) to a prototype solid electrolytic capacitor were prepared, and the solid electrolytic capacitor was connected according to the polarity of the power source. At that time, a resistance of 1 kΩ was connected in series with an ammeter as a protection circuit. And 5 minutes after turning on the power, the number of samples that reached a current value below a certain standard value was counted. As a result, 89 samples satisfy the leakage current standard value (40 μA or less).

[比較例]
比較例となる固体電解コンデンサを、以下のようにして作製した。
[Comparative example]
A solid electrolytic capacitor as a comparative example was produced as follows.

即ち、まず上記実施例と同様にして、同じアルミニウム陽極電極体を作製した。続いて、アルミニウム陽極電極体の粗面化破壊領域の基端部にエポキシ樹脂を塗布してレジスト層を形成した。具体的には、スクリーン印刷用の製版において、1本の線状パターンを有するスクリーンパターンを作製した。そして、このスクリーンパターンを使用して、幅0.7mm、高さ22μmの樹脂層を印刷し、これを所定の温度で硬化させた。これにより、液溜まり用凹部の無い線状の熱硬化性エポキシ樹脂層が形成された。   That is, first, the same aluminum anode electrode body was produced as in the above example. Subsequently, an epoxy resin was applied to the base end portion of the roughened fracture region of the aluminum anode electrode body to form a resist layer. Specifically, a screen pattern having one linear pattern was prepared in screen printing plate making. Then, using this screen pattern, a resin layer having a width of 0.7 mm and a height of 22 μm was printed and cured at a predetermined temperature. Thereby, the linear thermosetting epoxy resin layer without the recessed part for liquid pools was formed.

以後、上記実施例と同様にして、2端子型固体電解コンデンサのサンプル♯2を約100個作製し、同様の評価を行った。その結果、漏れ電流規格値(40μA以下)を満たすサンプルは60個であった。   Thereafter, in the same manner as in the above example, about 100 two-terminal solid electrolytic capacitor samples # 2 were produced and evaluated in the same manner. As a result, 60 samples satisfied the leakage current standard value (40 μA or less).

ここで、上述した[実施例]で作製した固体電解コンデンサのサンプル♯1と、[比較例]で作製した従来の固体電解コンデンサのサンプル♯2とでは、電極の作製方法、絶縁性酸化皮膜の形成方法、使用する固体高分子化合物の種類及び完成部品のサイズについては同一である。異なる点は、コンデンサ素子のレジスト層の形状、つまりレジスト層における液溜まり用凹部の有無である。従って、当該レジスト層の形状が固体電解コンデンサの特性に影響を及ぼしていると考えられる。以上の結果から、本発明に係わる固体電解コンデンサの効果を確認することができた。   Here, in the solid electrolytic capacitor sample # 1 manufactured in [Example] described above and the conventional solid electrolytic capacitor sample # 2 manufactured in [Comparative Example], the electrode manufacturing method, the insulating oxide film, The formation method, the type of solid polymer compound used, and the size of the finished part are the same. The difference is the shape of the resist layer of the capacitor element, that is, the presence or absence of a liquid pool recess in the resist layer. Therefore, it is considered that the shape of the resist layer affects the characteristics of the solid electrolytic capacitor. From the above results, the effect of the solid electrolytic capacitor according to the present invention could be confirmed.

本発明に係わる固体電解コンデンサの一実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one Embodiment of the solid electrolytic capacitor concerning this invention. 図1に示すコンデンサ素子の具体的構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the specific structure of the capacitor | condenser element shown in FIG. 図2に示すコンデンサ素子の一部拡大断面図である。FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the capacitor element shown in FIG. 2. 図2に示すコンデンサ素子の平面図である。FIG. 3 is a plan view of the capacitor element shown in FIG. 2. 図2に示すレジスト層を形成する工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the process of forming the resist layer shown in FIG. 図2に示すレジスト層の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the resist layer shown in FIG. 図2に示すレジスト層の他の変形例を示す図である。It is a figure which shows the other modification of the resist layer shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1…固体電解コンデンサ、2…コンデンサ素子、6…陽極部、7…陰極部、8…レジスト層、9…アルミニウム基体(弁金属電極体)、11…固体電解質層、12…導電体層、15…内側凸状部(第1凸状部)、16…外側凸状部(第2凸状部)、17…液溜まり用凹部、30…レジスト層、31…凸状部、32…液溜まり用凹部、35…レジスト層、36…凸状部、37…液溜まり用凹部、40…レジスト層、41…凸状部(第1凸状部)、42…凸状部(第2凸状部)、43…液溜まり用凹部、45…レジスト層、46…凸状部、47…液溜まり用凹部、50…レジスト層、51…凸状部(第1凸状部)、52…凸状部(第2凸状部)、53…液溜まり用凹部、55…レジスト層、56…凸状部、57…液溜まり用凹部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Solid electrolytic capacitor, 2 ... Capacitor element, 6 ... Anode part, 7 ... Cathode part, 8 ... Resist layer, 9 ... Aluminum base | substrate (valve metal electrode body), 11 ... Solid electrolyte layer, 12 ... Conductor layer, 15 ... inner convex part (first convex part), 16 ... outer convex part (second convex part), 17 ... concave part for liquid reservoir, 30 ... resist layer, 31 ... convex part, 32 ... for liquid reservoir Recess, 35 ... resist layer, 36 ... convex portion, 37 ... recess for liquid pool, 40 ... resist layer, 41 ... convex portion (first convex portion), 42 ... convex portion (second convex portion) , 43 ... concave portion for liquid reservoir, 45 ... resist layer, 46 ... convex portion, 47 ... concave portion for liquid reservoir, 50 ... resist layer, 51 ... convex portion (first convex portion), 52 ... convex portion ( (Second convex portion), 53 ... concave portion for liquid reservoir, 55 ... resist layer, 56 ... convex portion, 57 ... concave portion for liquid reservoir.

Claims (3)

コンデンサ素子を備えた固体電解コンデンサであって、
前記コンデンサ素子は、
弁金属基体の一部領域で形成される陽極部と、
前記弁金属基体における前記陽極部を除く領域の表面上に固体電解質層及び導電体層を積層して形成される陰極部と、
前記陽極部と前記陰極部とを電気的に分離するレジスト層とを有し、
前記レジスト層には、前記陰極部の形成時に前記陽極部に向かって流れる反応溶液を溜めるための液溜まり用凹部が設けられていることを特徴とする固体電解コンデンサ。
A solid electrolytic capacitor having a capacitor element,
The capacitor element is
An anode formed in a partial region of the valve metal substrate;
A cathode part formed by laminating a solid electrolyte layer and a conductor layer on the surface of the valve metal substrate excluding the anode part; and
A resist layer for electrically separating the anode part and the cathode part;
A solid electrolytic capacitor, wherein the resist layer is provided with a recess for storing a liquid for storing a reaction solution flowing toward the anode when the cathode is formed.
前記レジスト層は、第1凸状部と、前記第1凸状部に対して前記陰極部側に形成され、前記第1凸状部よりも頂上高さ位置が低い第2凸状部とを有し、
前記第1凸状部と前記第2凸状部との間の空間で前記液溜まり用凹部を形成したことを特徴とする請求項1記載の固体電解コンデンサ。
The resist layer includes a first convex portion and a second convex portion that is formed on the cathode portion side with respect to the first convex portion and has a top height position lower than that of the first convex portion. Have
2. The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the liquid reservoir recess is formed in a space between the first convex portion and the second convex portion.
前記レジスト層は、前記陽極部と前記陰極部との並設方向に沿って形成され、断面山形状を有する複数の凸状部を有し、
前記各凸状部間の空間で前記液溜まり用凹部を形成したことを特徴とする請求項1または2記載の固体電解コンデンサ。
The resist layer is formed along a parallel direction of the anode portion and the cathode portion, and has a plurality of convex portions having a cross-sectional mountain shape,
The solid electrolytic capacitor according to claim 1, wherein the liquid reservoir concave portion is formed in a space between the convex portions.
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