JP2006237467A - 半導体発光素子及びその製造方法 - Google Patents
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Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 109
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 102
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 176
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 44
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 20
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 8
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- -1 nitride compound Chemical class 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N azanylidyneindigane Chemical compound [In]#N NWAIGJYBQQYSPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/36—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
- H01L33/40—Materials therefor
- H01L33/405—Reflective materials
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
- H05K9/0073—Shielding materials
- H05K9/0081—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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- H01L33/00—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/02—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
- H01L33/20—Semiconductor devices with at least one potential-jump barrier or surface barrier specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a particular shape, e.g. curved or truncated substrate
Abstract
【課題】 光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低減することができる半導体発光素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板1と、基板1における一方の主面に配置されている発光部2と、発光部2の上に配置されている第1電極3と、第1電極3の上に配置されているパッド電極9と、基板1における一方の主面の少なくとも一部に凹部11aが形成されており、その凹部11aに配置されている導電性材料からなるものであって、発光部2から出射された光を反射する導電層11とを有することを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 基板1と、基板1における一方の主面に配置されている発光部2と、発光部2の上に配置されている第1電極3と、第1電極3の上に配置されているパッド電極9と、基板1における一方の主面の少なくとも一部に凹部11aが形成されており、その凹部11aに配置されている導電性材料からなるものであって、発光部2から出射された光を反射する導電層11とを有することを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体発光素子及びその製造方法に関する。
窒化物系化合物半導体を有する半導体発光素子は、シリコン、セラミック又はSiCなどの基板の上に、発光部が配置さている。発光部としては、以下の各種構造がある。第1に、第1導電型の半導体層と第2導電型の半導体層との間に発光層を挟んだダブルヘテロ構造がある。第2に、半導体層と半導体層との間に極めて薄い発光層を挟んだ単一量子井戸構造(SQW)がある。第3に、発光層が多層化された薄い層からなる多重量子井戸構造(MQW)がある。また、従来の半導体発光素子は、発光部の上に第1電極が配置されている。また、従来の半導体発光素子は、基板の底面側(発光部側とは反対側の面)に第2電極が配置されている。第2電極は、発光部を介して第1電極と電気的に接続されていればよい。
そして、基板は、発光部を支持する役割を果たすために厚く形成されている。そこで、発光層から出射された光を効率よく取り出すために、発光層と基板との間に反射膜を設けた構造が考え出されている。このようにすると、発光層から基板方向に出射された光は、反射膜で反射されて第1電極側から外に放射されることとなる。さらに、屈折率の異なる反射膜を重ねることにより反射率を向上させる構造が考え出されている(特許文献1参照)。この特許文献1の反射膜は、絶縁材料であるAlOyからなる主反射膜とその主反射膜よりも屈折率の低いAlGaAsからなる副反射膜との多層構造となっている。
また、第1電極によって発光層から出射された光が半導体装置の外部へ出射した時に減衰するなどの問題を考慮して、第1電極が半導体層(発光部)の上面の全体ではなく一部に形成されている場合、第1電極と第2電極と間における各部の電流経路の距離が一様でなくなってしまう。すなわち、第1電極直下の第2電極における部位と第1電極との間の電流経路は、第1電極直下を除いた第2電極における部位と第1電極との間の電流経路よりも短い。そして、第1電極と第2電極間の抵抗値は、両者間の電流経路の距離に比例するので、第1電極直下の第2電極における部位と第1電極との間の電流経路に電流が比較的多く流れる。その結果、横方向の電流拡散性が低い場合、第1電極直下の発光層近傍のみで光を発してしまう。
これに対して、第1電極を半導体層(発光部)の上面ほぼ全体に形成することによって、電流を半導体発光素子全体に行き渡らせ、発光層からの光取り出し効率を向上させる構造が考え出されている。また、第1電極において光が遮断されないように、第1電極を光透過性がある薄い電極材料で形成した構造も考え出されている。また、パッド電極直下にパッド電極よりも幅が広い電流阻止層を設け、パッド電極直下の電流経路の抵抗値を上げることにより、半導体発光素子の全体に電流が流れるようにする構造も考えられている。
特開2003−163368号公報
しかしながら、特許文献1に記載の従来の半導体発光素子では、絶縁材料AlOyで構成される反射膜が導電層の周りに形成されているため、電流が反射膜内を通過することができず、反射膜の内側の導電層を通らなければならず、電流経路が狭くなる。これにより、半導体発光素子の順方向電圧が上昇してしまう。
さらに、特許文献1の半導体発光素子では、中央に設けられたパッド電極直下に電流阻止層が設けられている。このような構造の半導体発光素子では、第1電極と第2電極間の電流経路が長くなり、順方向電圧が上昇してしまうという問題点がある。
さらに、特許文献1の半導体発光素子の構造において、反射膜の上に発光部を形成しようとすると、反射膜を形成する結晶の格子の大きさと発光部を形成する結晶の格子の大きさの違いなどが原因となり、発光部に結晶欠陥が生じ易くなる。
これに対して、反射膜と基板とで構成される部分と、発光部で構成される部分とを予め形成しておき、両者を張り合わせるという製造方法が考えられる。しかし、この製造方法では、両者の接合部における密着性の問題、及び製造工程が複雑になるという問題が生じる。
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、順方向電圧を低減することができる半導体発光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低減することができる半導体発光素子を提供することを目的とする。
また、本発明は、光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低減することができ、さらに簡便に製造できる半導体発光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低減することができる半導体発光素子を提供することを目的とする。
また、本発明は、光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低減することができ、さらに簡便に製造できる半導体発光素子及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決し、上記目的を達成するための本発明の半導体発光素子は、基板と、前記基板における一方の主面に配置された発光部と、前記発光部の上に配置されている第1電極とを有している。そして、前記一方の主面の上方から見て前記基板は前記発光部に対して延伸している。そして、導電性材料からなる導電層が、前記一方の主面の基板側に形成され、前記一方の主面の上方から見て、前記発光部の内側から前記基板が前記発光部に対して延伸している領域に向かって形成されている。そして、前記導電層は、前記発光部から出射された光を反射する機能を有する。
さらに、請求項2に示すように、前記導電層は、前記基板と前記発光部とを接続する機能を有し、前記導電層と前記基板との接触抵抗と、前記導電層と前記発光部との接触抵抗との和は、前記発光部と前記基板との接触抵抗よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子に係るものである。
さらに、請求項3に示すように、前記一方の主面の上方から見て、前記パッド電極直下に前記導電層は形成されていないことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光素子に係るものである。
さらに、請求項4に示すように、前記一方の主面の上方から見て、前記導電層は前記発光部の内側から前記延伸している領域に向かって形成され、前記発光部の外側まで張り出し露出していることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体発光素子に係るものである。
さらに、請求項5に示すように、前記導電層の内側には、該導電層の屈折率とは異なる屈折率の部材からなる反射膜が配置されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体発光素子に係るものである。
さらに、請求項6に示すように、基板上に発光部を形成する工程と、一方の主面の上方から見て前記発光部の一部について前記基板まで削除し、前記基板の表面の一部を露出させる工程と、一方の主面の上方から見て、前記基板の露出した領域から基板と発光部との界面への方向に延伸するように前記基板の一方の主面に凹部を形成する工程と、前記凹部に少なくとも導電性材料を埋め込む工程とを有することを特徴とする半導体発光素子の製造方法に係るものである。
本願各請求項の発明は次の効果を有する。
請求項1の発明によれば、光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、発光部から出射された光を発光部の内側から基板が発光部に対して延伸している領域に向かって形成された導電層で反射させることで、発光部から出射された光が基板で吸収される割合を低減させることができる。さらに、導電層では、光取り出し面の方向(基板の一方の主面の上方)に光を反射することができ、光取り出し面での光取り出し効率を向上させることができる。さらに、導電性を有する導電層で反射させる構造であるので、電流経路を狭めることなく、発光部から出射された光を導電層で反射させることができる。以上の事柄より、半導体発光素子の光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低く抑えることができる。
請求項1の発明によれば、光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、発光部から出射された光を発光部の内側から基板が発光部に対して延伸している領域に向かって形成された導電層で反射させることで、発光部から出射された光が基板で吸収される割合を低減させることができる。さらに、導電層では、光取り出し面の方向(基板の一方の主面の上方)に光を反射することができ、光取り出し面での光取り出し効率を向上させることができる。さらに、導電性を有する導電層で反射させる構造であるので、電流経路を狭めることなく、発光部から出射された光を導電層で反射させることができる。以上の事柄より、半導体発光素子の光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低く抑えることができる。
更に、請求項2の発明によれば、請求項1の効果に加えて、導電層と基板との接触抵抗と、導電層と発光部との接触抵抗との和を、発光部と基板との接触抵抗よりも小さくすることによって、発光部の内側から基板が発光部に対して延伸している領域に向かって形成された導電層に流れる電流通路の抵抗値を低減することができる。その結果、半導体発光素子の全面に電流を拡散させることができる。換言すれば、発光部から出射された光が第1電極で遮断されることなく、半導体発光素子の外部に取り出すことができるので、さらに光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低く抑えることができる。
更に、請求項3の発明によれば、パッド電極直下(パットの下方向の部位)に導電層が配置されていない。換言すれば、基板の一方の主面において、パッド電極直下は発光部と基板とが接触しており、発光部と基板との界面を取り囲むように導電層が形成されている。これにより、あたかもパット電極の直下に高抵抗層(電流阻止層)を配置した構造と同様の効果を奏することができ、パッド電極直下での電流集中を緩和することができ、発光部から出射された光が第1電極で遮断されることを改善でき、光取り出し効率を向上することができる。以上のような事柄から、さらに光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低く抑えることができる。
更に、請求項4の発明によれば、基板における一方の主面の上方から見たときに、導電層は発光部の内側から基板が発光部に対し延伸している領域に向かって形成され、発光部の外側まで張り出し露出しているので、導電層を設けた所を通る抵抗値が減少し、パッド電極直下での電流集中を緩和することができる。その結果、発光部から出射された光が第1電極で遮断されることを改善でき、光取り出し効率を向上することができる。また、発光部から該外側(断面における斜め下方向、図1参照)に出た光をも、発光部の外側まで張り出し露出した導電部で反射することができる。以上のような事柄から、さらに光取り出し効率を向上させながら順方向電圧を低く抑えることができる。
更に、請求項5の発明によれば、導電層の表面のみならず、導電層内に設けられた反射膜との境界面においても光を反射することができ、導電層全体での反射率を向上させ、半導体発光素子の光取り出し効率を向上させることができる。
また、請求項6の発明によれば、基板上に発光部を形成した後、導電層を埋め込むので、導電層と基板とで構成される部分と発光部で構成される部分との張り合わせによる従来の製造方法に比べて、張り合わせる工程がなくなり製造を容易化することができる。また、導電層の上に発光部を積層する場合、導電層の上に形成する発光部の結晶成長が難しく、発光部で結晶欠陥を生じやすい。しかし、請求項6の発明を適応することによってこの問題を解決することができる。また、導電層と基板及び発光部との密着性が良い材料を選定する必要がない。よって導電性や反射性が良好な導電材料の選定を容易化することができ、光取り出し効率が比較的高く、順方向電圧が比較的低い半導体発光素子を提供することができる。
次に、本発明の実施形態に係る半導体発光素子としての窒化物系化合物半導体を有する半導体発光素子(発光ダイオード)について、図面を参照して説明する。
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。第1の実施形態の半導体発光素子は、基板1と、発光部2と、第1電極3と、第2電極4と、パッド電極9と、導電層11とを有して構成されている。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。第1の実施形態の半導体発光素子は、基板1と、発光部2と、第1電極3と、第2電極4と、パッド電極9と、導電層11とを有して構成されている。
基板1は、シリコン又はSiCなど導電性を有する材料からなる。基板1の上(一方の主面上)に、発光部2が形成されている。例えば、低抵抗のn型のシリコンで基板1を構成する。すなわち、n型の導電型決定不純物としてAs(砒素)を含むn+型シリコン単結晶で基板1を構成する。
発光機能層を含む半導体層からなる発光部2は、基板1の一方の主面上に形成されており、一方の主面の上方から見て基板1が発光部2に対して延伸する領域を有するように形成されている。換言すれば、一方の主面の上方から見て、基板1の一方の主面上において発光部2を有しない領域が存在する。発光部2の第1構造例としては、図1に示すように、第1導電型の窒化物系化合物半導体からなる第1クラッド層5と、第2導電型の窒化物系化合物半導体からなる第2クラッド層6との間に発光層7を挟んだダブルヘテロ構造が挙げられる。発光部2の第2構造例としては図1に示すように、第1クラッド層5と第2クラッド層6との間に極めて薄い発光層7を挟んだ単一量子井戸構造(SQW)が挙げられる。発光部2の第3構造例としては、図1に示すように、第1クラッド層5と第2クラッド層6との間に配置された発光層7が多層化された薄い層からなる多重量子井戸構造(MQW)が挙げられる。例えば、第1クラッド層5は、n型の窒化ガリウム(GaN)で構成する。発光層7は、p型の窒化ガリウムインジウム(InGaN)で構成する。第2クラッド層6は、p型の窒化ガリウム(GaN)で構成する。
第1電極3は、発光部2の上に形成されている。第1電極3は、本発明の第1の実施形態の半導体発光素子(発光ダイオード)のアノード電極をなしている。そして第1電極3は、発光部2から出る光を透過させるために、薄く形成されていると共に、光透過性を有している。例えば、膜厚5nmのNi(ニッケル)と膜厚5nmのAu(金)との積層で第1電極3を構成する。また、第1電極3の表面には、パッド電極9が形成されている。パッド電極9は、本発明の第1の実施形態の半導体発光素子と外部とを電気的に接続するための電極であり、ワイヤボンディング方法などで電気的に接続される電極である。ちなみに、第1電極3は、図1に示すように発光部2の上面全体に形成されていなくてもよく、発光部2の上面の一部の領域に形成されていてもよい。また、この場合、バット電極9を第1電極3に置き換えても、本発明の効果を得ることができる。
第2電極4は、基板1の他方の主面(基板1の下面)に形成されている。第2電極4は本発明の第1の実施形態の半導体発光素子のカソード電極をなしている。例えばAl(アルミニウム)で第2電極4を構成する。そして、第2電極4は、第1電極3に対して短絡することなく、且つ発光部2を介して第1電極3との間で電流を流すように形成されている。
導電層11は、一方の主面の基板1側、すなわち、基板1における一方の主面(上面)の一部領域に環状(リング状)に形成された凹部11a上に配置されている。ただし、凹部11aは、一方の主面の上方から見て、パッド電極9の直下以外の領域に配置することが望ましい。この凹部11aを埋めるように、導電層11が配置されている。
また、基板1における一方の主面の上方から見たときに、導電層11は環状で、発光部2の内側から、発光部2に対して基板が延伸している領域に向かって形成されていることが望ましい。換言すれば、導電層11は発光部2の外側まで張り出すように形成されていることが望ましい。さらに、導電層11が発光部2の外側まで張り出し、一方の主面の上方から見て、露出していることが望ましい。換言すれば、発光部2の外周近傍の発光部2の内側を含むように配置されている導電層11と、発光部2の外周を囲むように環状に配置されている導電層11の露出部位11’が連続して形成されていることが望ましい。(以下、導電層11の形成されている領域を領域Aとして述べる)。なお、図1において基板1の端まで延伸していることが望ましいが、基板1の端まで延伸していなくても良い。
導電層11は、発光部2から出射された光を反射する層であって、低抵抗性(または高不純物濃度)の導電性材料からなり、第1クラッド層5及び基板1のそれぞれに電気的に接続されている。つまり、導電層11は、基板1と発光部2との間に形成され、基板1と発光部2とを電気的に低抵抗接続する。
よって、導電層11を通る電流経路Bの抵抗値が、導電層11を通らない電流経路Cの抵抗値よりも低くなるように、少なくとも導電層11と基板1との界面の接触抵抗と、導電層11と発光部2との界面の接触抵抗との和が、発光部2と基板1と界面の接触抵抗よりも小さくなることが望ましい。このような構造にすることにより、導電層11を電流が通り易くなり、半導体発光素子を流れる電流が図面の横方向(流路に直交する方向)に拡散し易くなる。したがって、導電層11と基板1とはオーミック接触していることが望ましい。さらに、導電層11と発光部2とはオーミック接触していることが望ましい。さらに、導電層11をなす材料が基板1のシート抵抗よりも小さいことが望ましい。
例えば、発光部2と基板1との界面近傍が同一のn型半導体で構成されている場合、導電層11の材料構成は、導電層11の界面における接触抵抗を小さくするために、仕事関数の小さい物質であることが望ましく、Ag、Al、Auのうちのいずれか少なくとも1つを構成元素として含む導電層11であることが望ましい。逆に、発光部2と基板1との界面近傍が同一のp型半導体で構成されている場合、導電層11の構成材料は仕事関数の大きい物質であることが望ましく、Rh、Ni、Pd、Ptのうちのいずれか少なくとも1つを構成元素として含む導電層11であることが望ましい。
図2は、図1に示す本発明の第1の実施形態の半導体発光素子の作用・効果を説明するための断面図である。本発明の第1の実施形態の半導体発光素子によれば、光取り出し効率を向上させることができる。発光部2から出射される光は、発光部2から見て上方(第1電極3の方向)に出射される光L1のみならず、下方(第2電極4の方向)に出射される光もある。この下方に出射された光の一部は、導電層11で反射されて、上方に向かう光L2となる。また、発光部2の側面からも光が出射される。この側面から出射された光の一部も、導電層11で反射されて、上方に向かう光L3となる。これらにより、本発明の第1の実施形態の半導体発光素子は、光取り出し面(上方)での光取り出し効率を向上させることができる。
また、第1の実施形態の半導体発光素子によれば、導電層11が反射膜としての機能を兼ねるため、電流通路を確保しながら出射される光を効果的に光取り出し面方向に反射させて光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、順方向電圧を低く抑えながら光取り出し効率を向上することができる。
また、第1の実施形態の半導体発光素子によれば、パッド電極9の直下に導電層11が配置されておらず、領域Aに導電層11が配置されている。その結果、導電層11を通る抵抗値を低減し、あたかもパット電極9の直下に高抵抗層(電流阻止層)を配置した構造と同様の効果を奏することができる。すなわち、パッド電極9直下での電流集中を緩和することができ、輝度ムラを改善でき、寿命を延ばすことができる。
(第2の実施形態)
図3は、本発明の第2の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。図3において図1に示す第1の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一符号を付けている。第2の実施形態と第1の実施形態との主な相違点は、平面においての導電層11の配置と、発光部2、第1電極3及びパッド電極9の配置形状とである。
図3は、本発明の第2の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。図3において図1に示す第1の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一符号を付けている。第2の実施形態と第1の実施形態との主な相違点は、平面においての導電層11の配置と、発光部2、第1電極3及びパッド電極9の配置形状とである。
本発明の第2の実施形態に係る半導体発光素子は、基板1が発光部2に対して延伸する領域を有するように発光部2が環状(ドーナツ状)に形成され、発光部2の内側から延伸する領域(露出部位11’)に向かって基板1の上面に形成された凹部11a上に導電層11が配置されていることが望ましい。さらに、発光部2が導電層11の外周を含むように環状(ドーナツ状)に囲まれており、基板1における一方の主面の上方から見たときに、導電層11の露出部位11’を囲むように発光層2が有していることが望ましい。換言すれば、導電層11は発光部2の外側まで張り出し、露出部位11’を有していることが望ましい。また、発光部2の上に形成されている第1電極3も、環状(ドーナツ状)となっていることが望ましい。また、第1電極3の上に形成されているパッド電極9も、環状(ドーナツ状)となっており、パッド電極9は第1電極3の外周に沿って形成されていることが望ましい。また、図3において、導電層11の露出部位11’の限定された領域に導電層11より内側の凹部を形成し、導電層11と異なる反射率の良い材料を埋め込んでも良い。
図4は、図2に示す本発明の第2の実施形態の半導体発光素子の作用・効果を説明するための断面図である。第2の半導体発光素子によれば、第1の実施形態の半導体発光素子と同様に、光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、発光部2から出射される光は、発光部2から見て上方(第1電極3の方向)に出射される光L1のみならず、下方(第2電極4の方向)に出射される光もある。この下方に出射された光の一部は、導電層11で反射されて、上方に向かう光L2となる。また、発光部2の内側の側面からも光が出射される。この側面から出射された光の一部も、導電層11で反射されて上方に向かう光L3となる。これらにより、第2の実施形態の半導体発光素子は、光取り出し面(上方)での光取り出し効率を向上させることができる。
また、第2の実施形態の半導体発光素子によれば、導電層11が反射膜としての機能を兼ねるため、電流通路を確保しながら出射される光を効果的に光取り出し面方向に反射させて光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、順方向電圧を低く抑えながら光取り出し効率を向上することができる。
また、第2の実施形態の半導体発光素子によれば、パッド電極9の直下に導電層11が配置されておらず、領域Aに導電層11が配置されている。換言すれば、パッド電極9から比較的に遠い所に限定して導電層11を配置している。導電層11を配置することによって導電層11を通る抵抗値を低減し、あたかもパット電極9の直下に高抵抗層(電流阻止層)を配置した構造と同様の効果を奏することができる。すなわち、パッド電極9直下での電流集中を緩和することができ、輝度ムラを改善でき、寿命を延ばすことができる。
(第3の実施形態)
図5は、本発明の第3の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。図5において図1に示す第1の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一符号を付けている。第1〜2の実施形態では、基板1の下面と半導体発光素子領域の上面とに一対の電極を設け、素子の厚み方向(縦方向)に電流を流す構造について説明したが、第3の実施形態で示すように、電流を横方向に流す構造の半導体発光素子に適用することも可能である。即ち、一方の主面の上方に第1電極3と第2電極4とを並置した構造の半導体発光素子にも適用可能である。ちなみに、第3の実施形態では、第1の実施形態の基板1が絶縁基板14の上に半導体層15を形成した構造に置き換わっている。
図5は、本発明の第3の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。図5において図1に示す第1の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一符号を付けている。第1〜2の実施形態では、基板1の下面と半導体発光素子領域の上面とに一対の電極を設け、素子の厚み方向(縦方向)に電流を流す構造について説明したが、第3の実施形態で示すように、電流を横方向に流す構造の半導体発光素子に適用することも可能である。即ち、一方の主面の上方に第1電極3と第2電極4とを並置した構造の半導体発光素子にも適用可能である。ちなみに、第3の実施形態では、第1の実施形態の基板1が絶縁基板14の上に半導体層15を形成した構造に置き換わっている。
ここで、第2電極4と半導体層15との間にはコンタクト層13が形成されていてもよい。なお、第1クラッド層5とコンタクト層13とは、分離されている。
導電層11は、半導体層15における一方の主面(上面)の一部領域に形成された凹部11a上に配置され、半導体層15における一方の主面の上方から見たときに、発光部2の内側から、発光部2に対して基板が延伸している領域に向かって形成されていることが望ましい。換言すれば、導電層11は発光部2の外側まで張り出すように形成されていることが望ましい。さらに、導電層11が発光部2の外側まで張り出し、一方の主面の上方から見て、露出していることが望ましい。換言すれば、発光部2の外周近傍の発光部2の内側を含むように配置されている導電層11と、発光部2の外周を囲むように環状に配置されている導電層11の露出部位11’が連続して形成されていることが望ましい。さらに、一方の主面の上方から見て、露出部位11’を介してコンタクト層13の内側まで達していることが望ましい。ただし、凹部11aは、一方の主面の上方から見て、パッド電極9の直下以外の領域に配置することが望ましい。なお、このような電流を横方向に流す構造の半導体発光素子では、シリコンなどの導電性基板の代わりにサファイアなどの絶縁基板を使用してもよい。また、導電層11は一方の主面の上方から見て、コンタクト層13の直下全面に形成されているが、コンタクト層13の直下を含まなくても良い。ただし、半導体層5と近い領域の一部を含むように形成されていることが望ましい。また、導電層11の露出部位11’の限定された領域に導電層11より内側の凹部を形成し、導電層11と異なる反射率の良い材料を埋め込んでも良い。
図6は、図5に示す第3の実施形態の半導体発光素子の作用・効果を説明するための断面図である。第3の実施形態の半導体発光素子では半導体層15内を横方向に電流が流れるが、半導体層15内に発光部2の外側まで張り出すように導電層11を形成することにより、第1実施形態と同様に、光取り出し効率を向上することができる。すなわち、発光部2から出射される光は、発光部2から見て上方(第1電極3の方向)に出射される光L1のみならず、下方(半導体層15の方向)に出射される光もある。この下方に出射された光の一部は、導電層11で反射されて、上方に向かう光L2となる。また、発光部2の側面からも光が出射される。この側面から出射された光の一部も、導電層11で反射されて、上方に向かう光L3となる。これらにより、本半導体発光素子は、光取り出し面(上方)での光取り出し効率を向上させることができる。
また、第3の実施形態の半導体発光素子によれば、導電層11が反射膜としての機能を兼ねるため、電流通路を確保しながら出射される光を効果的に光取り出し面方向に反射させて光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、順方向電圧を低く抑えながら光取り出し効率を向上することができる。
また、第3の実施形態の半導体発光素子によれば、パッド電極9の直下に導電層11が配置されていない。換言すれば、パッド電極9から比較的に遠い所に限定して導電層11を配置している。導電層11を配置することによって導電層11を通る抵抗値を低減し、あたかもパット電極9の直下に高抵抗層(電流阻止層)を配置した構造と同様の効果を奏することができる。すなわち、パッド電極9直下での電流集中を緩和することができ、輝度ムラを改善でき、寿命を延ばすことができる。
(第4の実施形態)
図7は、本発明の第4の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。図7において図1に示す第1の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一符号を付けている。第4の実施形態と第1の実施形態との相違点は、導電層11の内側に、導電層11の屈折率とは異なる屈折率の材料からなる反射膜12が配置されている点であり、第4の実施形態を第1の実施形態〜第3の実施形態に適応することができる。反射膜12を構成する材料は、導電層11よりも屈折率が高いものであることが望ましく、絶縁材料であってもよい。
図7は、本発明の第4の実施形態に係る半導体発光素子を示す断面図である。図7において図1に示す第1の実施形態の構成要素と同一の構成要素には同一符号を付けている。第4の実施形態と第1の実施形態との相違点は、導電層11の内側に、導電層11の屈折率とは異なる屈折率の材料からなる反射膜12が配置されている点であり、第4の実施形態を第1の実施形態〜第3の実施形態に適応することができる。反射膜12を構成する材料は、導電層11よりも屈折率が高いものであることが望ましく、絶縁材料であってもよい。
図8は、図7に示す第4の実施形態の半導体発光素子の作用・効果を説明するための断面図である。第4の実施形態の半導体発光素子によれば、第1の実施形態の半導体発光素子よりも、光取り出し効率を向上させることが可能である。すなわち、発光部2から出射される光は、発光部2から見て上方(第1電極3の方向)に出射される光L1のみならず、下方(基板1の方向)に出射される光もある。この下方に出射された光の一部は、導電層11で反射されて、上方に向かう光L2aとなる。また、下方に出射された光の他の一部は、反射膜12で反射されて、上方に向かう光L2bとなる。また、発光部2の側面からも光が出射される。この側面から出射された光の一部も、導電層11で反射されて、上方に向かう光L3aとなる。また、側面から出射された光の他の一部は、反射膜12で反射されて、上方に向かう光L3bとなる。これらにより、第4の実施形態の半導体発光素子は、光取り出し面(上方)での光取り出し効率を向上させることができる。また、第4の実施形態の半導体発光素子によれば、導電層11が反射膜としての機能を兼ねるため、電流通路を確保しながら出射される光を効果的に光取り出し面方向に反射させて光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、順方向電圧を低く抑えながら光取り出し効率を向上することができる。
また、第4の実施形態の半導体発光素子によれば、導電層11が反射膜としての機能を兼ねるため、電流通路を確保しながら出射される光を効果的に光取り出し面方向に反射させて光取り出し効率を向上させることができる。すなわち、順方向電圧を低く抑えながら光取り出し効率を向上することができる。
また、第4の実施形態の半導体発光素子によれば、第1〜第3の実施形態で述べた領域Aに導電層11が配置されている。換言すれば、パッド電極9から比較的に遠い所に限定して導電層11を配置している。導電層11を配置することによって導電層11を通る抵抗値を低減し、あたかもパット電極9の直下に高抵抗層(電流阻止層)を配置した構造と同様の効果を奏することができる。すなわち、パッド電極9直下での電流集中を緩和することができ、輝度ムラを改善でき、寿命を延ばすことができる。
(製造方法)
図9は本発明の実施形態に係る半導体発光素子の製造方法の一例を示す断面図である。図9は、図1に示した第1の実施形態の半導体発光素子を例として記載している。図9において図1に示す構成要素と同一のものには同一符号を付けている。
図9は本発明の実施形態に係る半導体発光素子の製造方法の一例を示す断面図である。図9は、図1に示した第1の実施形態の半導体発光素子を例として記載している。図9において図1に示す構成要素と同一のものには同一符号を付けている。
先ず、基板1を用意する。そして、基板1の上に、MOVPE法(有機金属気相成長法)などにより第1クラッド層5と発光層7と第2クラッド層6とを順に積層する。これにより、発光部2が基板1上に形成される。また、第2クラッド層6の表面全体に透明電極を形成して、その透明電極を第1電極3とする(図9(a)参照)。
次いで、基板1の表面(第1電極3側)にフォトマスクを選択的に形成する。そして、ドライエッチングを施す。このドライエッチングでは、基板1と発光部2とのエッチング速度の違いを利用して、図9(b)に示すように、第1電極3及び発光部2の一部を選択的に削除して、溝21を形成する。この溝21により、基板1の上面の一部が露出する。
次いで、例えば、HFとHNO3との混合液からなるエッチング溶液で、基板1の露出部位のみについて等方性エッチングを行う。これにより、基板1の露出した部位から基板1と発光部2との界面への方向に延伸するように基板1の一方の主面に凹部11aを形成する。換言すれば、溝21を起点として基板1がエッチングされ、凹部11aが基板1の一方の主面に形成する。この凹部11aは、図9(c)に示すように、発光部2によるオーバーハングを有するような凹部となる。
次いで、メッキ、CVD(Chemical Vapor Deposition:化学蒸着法)、ゾルゲル法などを用いて、凹部11aに少なくとも導電性材料を埋め込む。これにより、図9(d)に示すように、凹部11a内に、反射機能を有する導電層11が形成される。
次いで、図9(e)に示すように、基板1の下面全体に第2電極4を形成し、第1電極3の上にパッド電極9を形成する。次いで、図9(f)に示すように、矢印23に沿ってダイシングする。これにより、図1に示す半導体発光素子が複数完成する。なお、第2から第4の実施形態に係る半導体発光素子も、上記製造方法を利用することで製造することができる。
これらにより、本実施形態の製造方法によれば、導電層11をなす材料の選定を容易化することができる。すなわち、基板1上に発光部2を形成し、その後、等方性エッチングなどで凹部11aを形成でき、その凹部11aに導電層11を形成することができる。したがって、本製造方法は、従来の製造方法である張り合わせによる方法に比べて、導電層11と基板1及び発光部2との密着性が問題とならない。また、導電層11の上に発光部2を積層する工程がないので、発光部2での結晶成長が生じにくく、結晶欠陥を低減することができる。
また、本実施形態の製造方法によれば、基板1と発光部2とを張り合わせる工程がないので、容易に、第1から第4の実施形態の半導体発光素子を製造することができる。これらにより、本製造方法によれば、光取り出し効率が比較的高く、順方向電圧が比較的低い半導体発光素子を、安価に製造することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明の半導体発光素子及びその製造方法は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加えることができる。
本発明は、各種の半導体発光素子に有用である。すなわち、本発明は、各種の発光ダイオードに適用でき、例えば窒化ガリウム系化合物青色発光ダイオードに適用することができる。
1…基板、2…発光部、3…第1電極、4…第2電極、5…第1クラッド層、6…第2クラッド層、7…発光層、9…パッド電極、11…導電層、11a…凹部、12…反射膜、L1,L2,L2a,L2b,L3,L3a,L3b
Claims (6)
- 基板と、
前記基板における一方の主面に配置された発光部と、
前記発光部の上に配置されている第1電極と、
前記一方の主面の上方から見て、前記基板は前記発光部に対して延伸しており、
導電性材料からなるものであって、前記一方の主面の基板側に形成され、前記一方の主面の上方から見て、前記発光部の内側から前記延伸している領域に向かって形成され、前記発光部から出射された光を反射する導電層と
を有することを特徴とする半導体発光素子。 - 前記導電層は、前記基板と前記発光部とを接続する機能を有し、
前記導電層と前記基板との接触抵抗と、前記導電層と前記発光部との接触抵抗との和は、前記発光部と前記基板との接触抵抗よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。 - 前記一方の主面の上方から見て、前記パッド電極直下に前記導電層は、形成されていないことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体発光素子。
- 前記一方の主面の上方から見て、
前記導電層は前記発光部の内側から前記基板が前記発光部に対して延伸している領域に向かって形成され、前記発光部の外側まで張り出し露出していることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体発光素子。 - 前記導電層の内側には、該導電層の屈折率とは異なる屈折率の部材からなる反射膜が配置されていることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体発光素子。
- 基板の一方の主面上に発光部を形成する工程と、
一方の主面の上方から見て前記発光部の一部について前記基板まで削除し、前記基板の表面の一部を露出させる工程と、
一方の主面の上方から見て、前記基板の露出した領域から基板と発光部との界面への方向に延伸するように前記基板の一方の主面に凹部を形成する工程と、
前記凹部に反射機能を有する導電性材料を埋め込む工程とを有することを特徴とする半導体発光素子の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005052934A JP2006237467A (ja) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
US11/350,332 US7446342B2 (en) | 2005-02-28 | 2006-02-08 | Light emitting diode having conductive reflecting layer |
TW095104850A TW200633275A (en) | 2005-02-28 | 2006-02-14 | Semiconductor light emitting diode and method of manufacturing same |
KR1020060017648A KR100724782B1 (ko) | 2005-02-28 | 2006-02-23 | 반도체 발광 다이오드 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005052934A JP2006237467A (ja) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006237467A true JP2006237467A (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=36931892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005052934A Pending JP2006237467A (ja) | 2005-02-28 | 2005-02-28 | 半導体発光素子及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7446342B2 (ja) |
JP (1) | JP2006237467A (ja) |
KR (1) | KR100724782B1 (ja) |
TW (1) | TW200633275A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7723732B2 (en) | 2006-12-04 | 2010-05-25 | Sanken Electric Co., Ltd. | Semiconductor light-emitting device and manufacturing method thereof |
JP2018503982A (ja) * | 2015-01-30 | 2018-02-08 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | 半導体部品を製造するための方法および半導体部品 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100590775B1 (ko) * | 2004-12-08 | 2006-06-19 | 한국전자통신연구원 | 실리콘 발광 소자 |
KR101534848B1 (ko) * | 2008-07-21 | 2015-07-27 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 다이오드 및 그 제조방법. 그리고 발광 소자 및 그발광 소자 제조방법 |
KR101039904B1 (ko) * | 2010-01-15 | 2011-06-09 | 엘지이노텍 주식회사 | 발광 소자, 발광 소자 패키지 및 발광 소자 제조방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08125225A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-17 | Nippondenso Co Ltd | 半導体装置 |
JP2001135890A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-05-18 | Lucent Technol Inc | 面内注入型垂直キャビティ表面発光レーザ |
JP2003209282A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Sharp Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5406095A (en) * | 1992-08-27 | 1995-04-11 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Light emitting diode array and production method of the light emitting diode |
KR100545113B1 (ko) * | 1996-12-27 | 2006-04-14 | 모토로라 인코포레이티드 | 가시파장의수직공동표면방출레이저 |
JP4054631B2 (ja) * | 2001-09-13 | 2008-02-27 | シャープ株式会社 | 半導体発光素子およびその製造方法、ledランプ並びにled表示装置 |
KR20190000980A (ko) * | 2017-06-26 | 2019-01-04 | 이동원 | 퍼스널 헬스케어 시스템 |
-
2005
- 2005-02-28 JP JP2005052934A patent/JP2006237467A/ja active Pending
-
2006
- 2006-02-08 US US11/350,332 patent/US7446342B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2006-02-14 TW TW095104850A patent/TW200633275A/zh not_active IP Right Cessation
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08125225A (ja) * | 1994-10-19 | 1996-05-17 | Nippondenso Co Ltd | 半導体装置 |
JP2001135890A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-05-18 | Lucent Technol Inc | 面内注入型垂直キャビティ表面発光レーザ |
JP2003209282A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Sharp Corp | 半導体発光素子及びその製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7723732B2 (en) | 2006-12-04 | 2010-05-25 | Sanken Electric Co., Ltd. | Semiconductor light-emitting device and manufacturing method thereof |
JP2018503982A (ja) * | 2015-01-30 | 2018-02-08 | オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングOsram Opto Semiconductors GmbH | 半導体部品を製造するための方法および半導体部品 |
US10475773B2 (en) | 2015-01-30 | 2019-11-12 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing a semiconductor component and a semiconductor component |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7446342B2 (en) | 2008-11-04 |
TWI323043B (ja) | 2010-04-01 |
US20060193355A1 (en) | 2006-08-31 |
KR100724782B1 (ko) | 2007-06-04 |
KR20060095470A (ko) | 2006-08-31 |
TW200633275A (en) | 2006-09-16 |
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