JP2006235238A - Sheet object positioning and holding method and mechanism, and drawing system using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and rapidly attach and detach a sheet body to and from a stage. <P>SOLUTION: In positioning and fixing a substrate F on an exposure stage 18, the substrate F is placed on a supporting plate 60 while a prescribed amount of air is ejected from exhaust holes 74 and then, the air is sucked from intake air holes 72 to absorb the substrate F. In peeling the substrate F from the exposure stage 18, the prescribed amount of air is ejected from exhaust holes 74 to structurally release the absorption state. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ステージの所定位置にシート体を位置決め保持するシート体位置決め保持方法及び機構並びにそれを用いた描画装置に関する。   The present invention relates to a sheet body positioning and holding method and mechanism for positioning and holding a sheet body at a predetermined position of a stage, and a drawing apparatus using the same.

例えば、所望の画像パターンに従ってレーザビームを制御し、感光材料からなるシート体を露光走査することにより、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等のフィルタや多層プリント配線基板を製造する露光装置が開発されている（特許文献１参照）。   For example, an exposure apparatus has been developed that manufactures filters and multilayer printed wiring boards such as liquid crystal displays and plasma displays by controlling a laser beam in accordance with a desired image pattern and exposing and scanning a sheet body made of a photosensitive material ( Patent Document 1).

このような露光装置では、シート体の所定位置に画像を記録するため、シート体を露光ステージに高精度に位置決め保持させる必要がある。特に、カラー液晶ディスプレイのカラーフィルタや多層プリント配線基板のように、同一のシート体の着脱を繰り返しながら所定のパターンを所定位置に重ねて露光記録しなければならないものにおいては、パターン間の位置ずれを回避するため、シート体の位置決め精度を確保することが極めて重要である。   In such an exposure apparatus, in order to record an image at a predetermined position of the sheet body, it is necessary to position and hold the sheet body on the exposure stage with high accuracy. In particular, such as color filters for color liquid crystal displays and multilayer printed wiring boards, where the same pattern must be repeatedly attached and removed and a predetermined pattern must be superimposed and recorded at a predetermined position, the positional deviation between the patterns In order to avoid this, it is extremely important to ensure the positioning accuracy of the sheet body.

この場合、露光ステージにシート体を位置決め保持する方法としては、露光ステージに多数の吸気孔を形成し、載置されたシート体を吸気孔を介して吸着保持するのが一般的である。   In this case, as a method of positioning and holding the sheet body on the exposure stage, it is common to form a large number of intake holes in the exposure stage and hold the placed sheet body by suction through the intake holes.

特開２００４−６２１５５号公報JP 2004-62155 A

ところで、露光ステージに吸着保持されたシート体を剥離するには、露光ステージとシート体との間の真空状態を破壊しなければならないが、吸着状態を解除してから真空が破壊されるまでにかなりの時間を要するため、シート体の取り外し作業に時間がかかってしまうおそれがある。また、多層プリント配線基板のように、シート体の両面に露光記録を行う必要があるワークの場合、作業者等によるシート体の着脱のタイミングと、露光ステージによるシート体の吸着保持及び吸着解除のタイミングとが合わないと、シート体を損傷してしまうおそれがある。   By the way, in order to peel off the sheet body held by suction on the exposure stage, the vacuum state between the exposure stage and the sheet body must be broken, but after the suction state is released, the vacuum is broken. Since a considerable amount of time is required, it may take time to remove the sheet body. In addition, in the case of a work that requires exposure recording on both sides of a sheet body, such as a multilayer printed wiring board, the timing of attaching and detaching the sheet body by an operator, etc., and the adsorption holding and releasing of the sheet body by an exposure stage If the timing does not match, the sheet body may be damaged.

本発明は、前記の不具合を解消するためになされたもので、シート体を損傷することなく、ステージに対するシート体の着脱処理を容易且つ迅速に行うことができるシート体位置決め保持方法及び機構並びにそれを用いた描画装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and a sheet body positioning and holding method and mechanism capable of easily and quickly performing the process of attaching and detaching the sheet body to and from the stage without damaging the sheet body. It is an object of the present invention to provide a drawing apparatus using the.

前記の課題を解決するため、本発明は、ステージの所定位置にシート体を位置決め保持するシート体位置決め保持機構において、
前記ステージは、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の吸気孔と、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の排気孔とを備え、
前記吸気孔を介した吸気作用により前記シート体を前記ステージに吸着保持する一方、前記排気孔を介した排気作用により前記シート体の吸着状態を解除することを特徴とする。 In order to solve the above problems, the present invention provides a sheet body positioning and holding mechanism for positioning and holding a sheet body at a predetermined position of a stage.
The stage is
A plurality of intake holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body;
A plurality of exhaust holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body,
The sheet body is sucked and held on the stage by an intake action through the intake hole, and the suction state of the sheet body is released by an exhaust action through the exhaust hole.

また、本発明は、ステージの所定位置にシート体を位置決め保持するシート体位置決め保持方法において、
前記ステージに形成された排気孔を介して気体を排気させた状態で、前記ステージの所定位置に前記シート体を載置するステップと、
前記ステージに前記シート体が載置された後、前記ステージに形成された吸気孔を介して吸気し、前記シート体を前記ステージに吸着保持させるステップと、
からなることを特徴とする。 Further, the present invention provides a sheet body positioning and holding method for positioning and holding a sheet body at a predetermined position on a stage.
Placing the sheet body at a predetermined position of the stage in a state where the gas is exhausted through an exhaust hole formed in the stage;
After the sheet body is placed on the stage, sucking air through an intake hole formed in the stage, and sucking and holding the sheet body on the stage;
It is characterized by comprising.

さらに、本発明は、ステージの所定位置に位置決め保持されたシート体に対して描画を行う描画装置において、
前記ステージは、
前記ステージは、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の吸気孔と、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の排気孔とを備え、
前記吸気孔を介した吸気作用により前記シート体を前記ステージに吸着保持する一方、前記排気孔を介した排気作用により前記シート体の吸着状態を解除することを特徴とする。 Furthermore, the present invention provides a drawing apparatus that performs drawing on a sheet body that is positioned and held at a predetermined position of a stage.
The stage is
The stage is
A plurality of intake holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body;
A plurality of exhaust holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body,
The sheet body is sucked and held on the stage by an intake action through the intake hole, and the suction state of the sheet body is released by an exhaust action through the exhaust hole.

この場合、排気孔から気体を排気させた状態としてステージにシート体を載置した後、吸気孔から気体を吸気してシート体を吸着保持することができる。また、シート体に対する描画等の処理が終了した後、排気孔から気体を排気させることにより、シート体の吸着作用が迅速に解除され、シート体をステージから容易且つ迅速に取り外すことができる。   In this case, after the sheet body is placed on the stage in a state where the gas is exhausted from the exhaust hole, the sheet body can be sucked and held by sucking the gas from the intake hole. In addition, after the drawing or the like on the sheet body is completed, the gas body is exhausted from the exhaust hole, whereby the adsorption action of the sheet body is quickly released, and the sheet body can be easily and quickly removed from the stage.

本発明のシート体位置決め保持方法及び機構並びにそれを用いた描画装置では、シート体を損傷することなく、ステージに対するシート体の着脱を容易且つ迅速に行うことができる。   In the sheet body positioning and holding method and mechanism and the drawing apparatus using the same according to the present invention, the sheet body can be easily and quickly attached to and detached from the stage without damaging the sheet body.

図１は、本発明の実施形態に係る描画装置であるプリント配線基板等の露光処理を行う露光装置１０を示す。露光装置１０は、複数の脚部１２によって支持された変形の極めて小さい定盤１４を備え、この定盤１４上には、２本のガイドレール１６を介して露光ステージ１８が矢印方向に往復移動可能に設置される。露光ステージ１８には、感光材料が塗布された矩形状の基板Ｆ（シート体）が吸着保持される。   FIG. 1 shows an exposure apparatus 10 that performs exposure processing of a printed wiring board or the like that is a drawing apparatus according to an embodiment of the present invention. The exposure apparatus 10 includes a surface plate 14 that is supported by a plurality of legs 12 and is extremely small in deformation. On the surface plate 14, an exposure stage 18 reciprocates in the direction of an arrow via two guide rails 16. Installed as possible. A rectangular substrate F (sheet body) coated with a photosensitive material is adsorbed and held on the exposure stage 18.

定盤１４の中央部には、ガイドレール１６を跨ぐようにして門型のコラム２０が設置される。このコラム２０の一方の側部には、基板Ｆに記録されたアラインメントマークを検出するカメラ２２ａ、２２ｂが固定され、他方の側部には、基板Ｆに対して画像を露光記録する複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊが位置決め保持されたスキャナ２６が固定される。なお、露光ヘッド２４ａ〜２４ｊは、基板Ｆの走査方向（露光ステージ１８の移動方向）と直交する方向に２列で千鳥状に配列される。   A gate-shaped column 20 is installed at the center of the surface plate 14 so as to straddle the guide rail 16. Cameras 22a and 22b for detecting alignment marks recorded on the substrate F are fixed to one side of the column 20, and a plurality of exposures for exposing and recording images on the substrate F are fixed to the other side. The scanner 26 in which the heads 24a to 24j are positioned and held is fixed. The exposure heads 24a to 24j are arranged in a staggered pattern in two rows in a direction orthogonal to the scanning direction of the substrate F (the moving direction of the exposure stage 18).

図２は、各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊの構成を示す。露光ヘッド２４ａ〜２４ｊには、例えば、光源ユニット２８を構成する複数の半導体レーザから出力されたレーザビームＬが合波され光ファイバ３０を介して導入される。レーザビームＬが導入された光ファイバ３０の出射端には、ロッドレンズ３２、反射ミラー３４、及びデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６が順に配列される。   FIG. 2 shows the configuration of each of the exposure heads 24a to 24j. For example, laser beams L output from a plurality of semiconductor lasers constituting the light source unit 28 are combined and introduced into the exposure heads 24 a to 24 j via the optical fiber 30. A rod lens 32, a reflection mirror 34, and a digital micromirror device (DMD) 36 are arranged in order at the exit end of the optical fiber 30 into which the laser beam L is introduced.

ここで、ＤＭＤ３６は、ＳＲＡＭセル（メモリセル）の上に格子状に配列された多数のマイクロミラーを揺動可能な状態で配置したものであり、各マイクロミラーの表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。ＳＲＡＭセルにＤＭＤ制御ユニット４２から描画データに従ったデジタル信号が書き込まれると、その信号に応じて各マイクロミラーが所定方向に傾斜し、その傾斜状態に従ってレーザビームＬのオンオフ状態が実現される。   Here, the DMD 36 includes a plurality of micromirrors arranged in a lattice shape on an SRAM cell (memory cell) in a swingable state. The surface of each micromirror reflects aluminum or the like. High rate material is deposited. When a digital signal according to the drawing data is written from the DMD control unit 42 to the SRAM cell, each micromirror is tilted in a predetermined direction according to the signal, and the on / off state of the laser beam L is realized according to the tilted state.

オンオフ状態が制御されたＤＭＤ３６によって反射されたレーザビームＬの射出方向には、拡大光学系である第１結像光学レンズ４４、４６、ＤＭＤ３６の各マイクロミラーに対応して多数のレンズを配設したマイクロレンズアレー４８、ズーム光学系である第２結像光学レンズ５０、５２が順に配列される。なお、マイクロレンズアレー４８の前後には、迷光を除去するとともに、レーザビームＬを所定の径に調整するためのマイクロアパーチャアレー５４、５６が配設される。   In the emission direction of the laser beam L reflected by the DMD 36 whose on / off state is controlled, a large number of lenses are arranged corresponding to the first imaging optical lenses 44 and 46 that are the magnifying optical system and the micromirrors of the DMD 36. The microlens array 48 and the second imaging optical lenses 50 and 52 that are zoom optical systems are arranged in this order. Before and after the micro lens array 48, micro aperture arrays 54 and 56 for removing stray light and adjusting the laser beam L to a predetermined diameter are disposed.

図３は、基板Ｆを位置決め保持する露光ステージ１８の構成図である。露光ステージ１８は、ガイドレール１６に沿って移動する基台５８と、基台５８上にねじ止めされ、基板Ｆを支持する支持プレート６０とから構成される。   FIG. 3 is a configuration diagram of the exposure stage 18 that positions and holds the substrate F. The exposure stage 18 includes a base 58 that moves along the guide rail 16 and a support plate 60 that is screwed onto the base 58 and supports the substrate F.

支持プレート６０の上面部には、多数の孔部６２が縦横に配列して形成される。また、支持プレート６０の周縁部及び内部の所定部位には、支持プレート６０を基台５８にねじ止めするためにねじ孔６６が形成される。   A large number of holes 62 are formed on the upper surface of the support plate 60 so as to be arranged vertically and horizontally. Further, a screw hole 66 is formed in a peripheral portion of the support plate 60 and a predetermined portion inside thereof in order to screw the support plate 60 to the base 58.

基台５８の上面部には、支持プレート６０に位置決め保持される基板Ｆの各サイズに略対応するように、凸状のパーティション６８によって複数の領域に区分けされた凹部７０ａ、７０ｂが形成される。凹部７０ａには、支持プレート６０の孔部６２に連通する吸気孔７２が形成される。また、基台５８の中央部及び前後の所定部位に形成されるパーティション６８の間の凹部７０ｂには、支持プレート６０の孔部６２に連通する排気孔７４が形成される。さらに、支持プレート６０のねじ孔６６に対応する部位には、ねじ孔７５が形成される。   Concave portions 70 a and 70 b divided into a plurality of regions by convex partitions 68 are formed on the upper surface of the base 58 so as to substantially correspond to each size of the substrate F positioned and held on the support plate 60. . An intake hole 72 that communicates with the hole 62 of the support plate 60 is formed in the recess 70a. In addition, an exhaust hole 74 communicating with the hole 62 of the support plate 60 is formed in the recess 70b between the partitions 68 formed at the central portion of the base 58 and the front and rear predetermined portions. Further, a screw hole 75 is formed at a portion corresponding to the screw hole 66 of the support plate 60.

図４は、基板Ｆが装着された露光ステージ１８の一部断面図を示す。凹部７０ａに形成される吸気孔７２と、凹部７０ｂに形成される排気孔７４とは、パーティション６８によって隔絶される。吸気孔７２には、電磁弁７６を介して真空吸引源７８（流体吸引源）が接続される。また、排気孔７４には、電磁弁８０を介して圧縮空気供給源８２（流体供給源）が接続される。なお、電磁弁７６、８０は、バルブ制御ユニット８４によって制御される。   FIG. 4 shows a partial sectional view of the exposure stage 18 on which the substrate F is mounted. The intake hole 72 formed in the recess 70 a and the exhaust hole 74 formed in the recess 70 b are isolated by the partition 68. A vacuum suction source 78 (fluid suction source) is connected to the suction hole 72 via an electromagnetic valve 76. Further, a compressed air supply source 82 (fluid supply source) is connected to the exhaust hole 74 via an electromagnetic valve 80. The electromagnetic valves 76 and 80 are controlled by a valve control unit 84.

本実施形態の露光装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次に、その動作について説明する。   The exposure apparatus 10 of the present embodiment is basically configured as described above. Next, the operation thereof will be described.

先ず、露光ステージ１８に基板Ｆを載置する場合について説明する。   First, the case where the substrate F is placed on the exposure stage 18 will be described.

バルブ制御ユニット８４は、基台５８の吸気孔７２に連通する電磁弁７６をオフ状態に設定する一方、基台５８の排気孔７４に連通する電磁弁８０をオン状態に設定し、排気孔７４に圧縮空気供給源８２から電磁弁８０を介して圧縮空気を供給する。排気孔７４に供給された圧縮空気は、支持プレート６０の孔部６２から上部に排出される。この状態において、支持プレート６０上に配設された図示しない位置決め部材を基準として基板Ｆを載置する。なお、孔部６２から排出される圧縮空気の量は、載置する基板Ｆが浮き上がらない程度に設定しておくと好適である。この場合、位置決め作業を行う際に、圧縮空気を支持プレート６０を介して供給することにより、支持プレート６０と基板Ｆとの間の摩擦力が低減し、基板Ｆを支持プレート６０に摺接させて裏面を損傷してしまう事態を回避することができる。   The valve control unit 84 sets the electromagnetic valve 76 communicating with the intake hole 72 of the base 58 to an OFF state, while setting the electromagnetic valve 80 communicating with the exhaust hole 74 of the base 58 to an ON state. Compressed air is supplied from a compressed air supply source 82 via a solenoid valve 80. The compressed air supplied to the exhaust hole 74 is exhausted upward from the hole 62 of the support plate 60. In this state, the substrate F is placed with reference to a positioning member (not shown) disposed on the support plate 60. Note that the amount of compressed air discharged from the hole 62 is preferably set to such an extent that the substrate F to be placed does not float. In this case, when performing the positioning operation, by supplying compressed air through the support plate 60, the frictional force between the support plate 60 and the substrate F is reduced, and the substrate F is brought into sliding contact with the support plate 60. It is possible to avoid a situation where the back surface is damaged.

次に、基板Ｆが支持プレート６０上の所定位置に載置されたことを確認した後、バルブ制御ユニット８４は、排気孔７４に連通する電磁弁８０をオフ状態に設定する一方、吸気孔７２に連通する電磁弁７６をオン状態に設定し、真空吸引源７８により吸気孔７２から空気を吸引する。このとき、基板Ｆは、孔部６２から吸引される空気によって支持プレート６０の所定位置に吸着保持される。   Next, after confirming that the substrate F is placed at a predetermined position on the support plate 60, the valve control unit 84 sets the electromagnetic valve 80 communicating with the exhaust hole 74 to the OFF state, while the intake hole 72. The electromagnetic valve 76 communicating with the valve is set to an on state, and air is sucked from the suction hole 72 by the vacuum suction source 78. At this time, the substrate F is sucked and held at a predetermined position of the support plate 60 by the air sucked from the hole 62.

以上のようにして基板Ｆを露光ステージ１８に位置決め保持させた後、露光処理が開始される。   After the substrate F is positioned and held on the exposure stage 18 as described above, the exposure process is started.

露光ステージ１８は、定盤１４のガイドレール１６に沿って一方の方向に移動する。露光ステージ１８がコラム２０間を通過する際、カメラ２２ａ、２２ｂが基板Ｆの所定位置に記録されているアライメントマークを読み取る。読み取られたアライメントマークの位置データは、基板Ｆの位置補正データとして利用される。   The exposure stage 18 moves in one direction along the guide rail 16 of the surface plate 14. When the exposure stage 18 passes between the columns 20, the cameras 22a and 22b read the alignment marks recorded at predetermined positions on the substrate F. The read position data of the alignment mark is used as position correction data of the substrate F.

位置補正データが算出された後、露光ステージ１８は、他方の方向に移動し、スキャナ２６により基板Ｆに対する画像の露光処理が開始される。   After the position correction data is calculated, the exposure stage 18 moves in the other direction, and the scanner 26 starts image exposure processing on the substrate F.

すなわち、光源ユニット２８から出力されたレーザビームＬは、光ファイバ３０を介して各露光ヘッド２４ａ〜２４ｊに導入される。導入されたレーザビームＬは、ロッドレンズ３２から反射ミラー３４を介してＤＭＤ３６に入射する。   That is, the laser beam L output from the light source unit 28 is introduced into the exposure heads 24 a to 24 j via the optical fiber 30. The introduced laser beam L enters the DMD 36 from the rod lens 32 via the reflection mirror 34.

一方、描画データは、前記位置補正データにより補正されてＤＭＤ３６に供給され、ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラーがオンオフ制御される。ＤＭＤ３６を構成する各マイクロミラー４０により所望の方向に選択的に反射されたレーザビームＬは、第１結像光学レンズ４４、４６によって拡大された後、マイクロアパーチャアレー５４、マイクロレンズアレー４８及びマイクロアパーチャアレー５６を介して所定の径に調整され、次いで、第２結像光学レンズ５０、５２により所定の倍率に調整されて基板Ｆに導かれる。この場合、露光ステージ１８は、定盤１４に沿って移動し、基板Ｆには、露光ステージ１８の移動方向と直交する方向に配列される複数の露光ヘッド２４ａ〜２４ｊにより所望の二次元画像が露光記録される。   On the other hand, the drawing data is corrected by the position correction data and supplied to the DMD 36, and each micromirror constituting the DMD 36 is on / off controlled. The laser beam L selectively reflected in a desired direction by the respective micromirrors 40 constituting the DMD 36 is expanded by the first imaging optical lenses 44 and 46, and then the microaperture array 54, the microlens array 48, and the microlens. It is adjusted to a predetermined diameter via the aperture array 56, and then adjusted to a predetermined magnification by the second imaging optical lenses 50 and 52 and guided to the substrate F. In this case, the exposure stage 18 moves along the surface plate 14, and a desired two-dimensional image is formed on the substrate F by a plurality of exposure heads 24a to 24j arranged in a direction orthogonal to the moving direction of the exposure stage 18. The exposure is recorded.

露光記録処理が終了すると、基板Ｆが露光ステージ１８から取り外される。すなわち、バルブ制御ユニット８４は、再び、基台５８の吸気孔７２に連通する電磁弁７６をオフ状態に設定する一方、基台５８の排気孔７４に連通する電磁弁８０をオン状態に設定し、排気孔７４に圧縮空気供給源８２から電磁弁８０を介して圧縮空気を供給する。排気孔７４に供給された圧縮空気は、支持プレート６０の孔部６２から基板Ｆの裏面に供給される。この結果、支持プレート６０に吸着保持されていた基板Ｆの吸着状態が解除されるため、基板Ｆを支持プレート６０から容易に離脱させることができる。   When the exposure recording process is completed, the substrate F is removed from the exposure stage 18. That is, the valve control unit 84 sets the electromagnetic valve 76 communicating with the intake hole 72 of the base 58 to the OFF state again, while setting the electromagnetic valve 80 communicating with the exhaust hole 74 of the base 58 to the ON state. The compressed air is supplied to the exhaust hole 74 from the compressed air supply source 82 via the electromagnetic valve 80. The compressed air supplied to the exhaust holes 74 is supplied to the back surface of the substrate F from the holes 62 of the support plate 60. As a result, since the suction state of the substrate F held by the support plate 60 is released, the substrate F can be easily detached from the support plate 60.

なお、バルブ制御ユニット８４は、支持プレート６０に載置される基板Ｆのサイズに対応する範囲の吸気孔７２又は排気孔７４に対してのみ真空吸引源７８を接続し、又は、圧縮空気供給源８２を接続するよう、電磁弁７６、電磁弁８０を選択的にオンオフ制御することにより、必要最小限のエネルギで基板Ｆの吸着、離脱処理を遂行することができる。また、基板Ｆを吸引するための吸気孔７２と、基板Ｆを剥離するための排気孔７４とが独立に構成されているため、例えば、吸気孔７２から空気とともに塵埃を吸引したとしても、排気時に吸気孔７２から塵埃が基板Ｆ側に導出されてしまう事態が生じることはない。従って、空気の吸引、排気に伴う塵埃の移動によって基板Ｆが損傷するおそれがなく、基板Ｆを良好な状態に維持することができる。   The valve control unit 84 connects the vacuum suction source 78 only to the intake hole 72 or the exhaust hole 74 in the range corresponding to the size of the substrate F placed on the support plate 60, or the compressed air supply source. By selectively controlling on / off of the solenoid valve 76 and the solenoid valve 80 so as to connect 82, the adsorption / desorption processing of the substrate F can be performed with the minimum necessary energy. Further, since the intake hole 72 for sucking the substrate F and the exhaust hole 74 for separating the substrate F are configured independently, for example, even if dust is sucked together with air from the intake hole 72, the exhaust hole 72 is exhausted. There is no case where dust is led out from the air intake hole 72 to the substrate F side. Therefore, there is no possibility that the substrate F is damaged by the movement of dust accompanying air suction and exhaust, and the substrate F can be maintained in a good state.

上述した露光装置１０は、例えば、プリント配線基板（ＰＷＢ：Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｗｉｒｉｎｇ Ｂｏａｒｄ）の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト（ＤＦＲ：Ｄｒｙ Ｆｉｌｍ Ｒｅｓｉｓｔ）の露光、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に好適に用いることができる。また、本発明では、露光装置に限らず、たとえばインクジェット記録ヘッドを備えた描画装置にも同様して適用することが可能である。   The exposure apparatus 10 described above includes, for example, exposure of a dry film resist (DFR) in a manufacturing process of a printed wiring board (PWB) and a color filter in a manufacturing process of a liquid crystal display device (LCD). Can be suitably used for applications such as formation of DFT, exposure of DFR in a TFT manufacturing process, and exposure of DFR in a plasma display panel (PDP) manufacturing process. Further, the present invention is not limited to the exposure apparatus, and can be similarly applied to, for example, a drawing apparatus provided with an ink jet recording head.

本実施形態の露光装置の外観斜視図である。It is an external appearance perspective view of the exposure apparatus of this embodiment. 本実施形態の露光装置における露光ヘッドの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the exposure head in the exposure apparatus of this embodiment. 本実施形態の露光装置における露光ステージの分解構成図である。It is an exploded block diagram of the exposure stage in the exposure apparatus of this embodiment. 本実施形態の露光装置における露光ステージの吸排気構造の説明図である。It is explanatory drawing of the intake-exhaust structure of the exposure stage in the exposure apparatus of this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

１０…露光装置 １８…露光ステージ
２４ａ〜２４ｊ…露光ヘッド ５８…基台
６０…支持プレート ６８…パーティション
７２…吸気孔 ７４…排気孔
７６、８０…電磁弁 ７８…真空吸引源
８２…圧縮空気供給源 ８４…バルブ制御ユニット
Ｆ…基板 Ｌ…レーザビーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Exposure apparatus 18 ... Exposure stage 24a-24j ... Exposure head 58 ... Base 60 ... Support plate 68 ... Partition 72 ... Intake hole 74 ... Exhaust hole 76, 80 ... Solenoid valve 78 ... Vacuum suction source 82 ... Compressed air supply source 84 ... Valve control unit F ... Substrate L ... Laser beam

Claims (6)

ステージの所定位置にシート体を位置決め保持するシート体位置決め保持機構において、
前記ステージは、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の吸気孔と、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の排気孔とを備え、
前記吸気孔を介した吸気作用により前記シート体を前記ステージに吸着保持する一方、前記排気孔を介した排気作用により前記シート体の吸着状態を解除することを特徴とするシート体位置決め保持機構。 In the sheet body positioning and holding mechanism for positioning and holding the sheet body at a predetermined position of the stage,
The stage is
A plurality of intake holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body;
A plurality of exhaust holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body,
A sheet body positioning and holding mechanism, wherein the sheet body is sucked and held on the stage by an intake action through the intake hole, and the suction state of the sheet body is released by an exhaust action through the exhaust hole. 請求項１記載の機構において、
前記ステージは、
前記吸気孔及び前記排気孔が形成され、パーティションによって前記吸気孔及び前記排気孔が相互に隔絶されて構成される基台と、
前記吸気孔及び前記排気孔に連通する多数の孔部を有し、前記基台上に装着されて前記シート体を支持する支持プレートと、
から構成されることを特徴とするシート体位置決め保持機構。 The mechanism of claim 1, wherein
The stage is
A base configured to form the intake hole and the exhaust hole, and the intake hole and the exhaust hole are isolated from each other by a partition;
A plurality of holes communicating with the intake holes and the exhaust holes, and a support plate mounted on the base and supporting the sheet body;
A sheet body positioning and holding mechanism comprising: 請求項１記載の機構において、
前記吸気孔には、流体吸引源が接続され、前記排気孔には、流体供給源が接続されることを特徴とするシート体位置決め保持機構。 The mechanism of claim 1, wherein
A sheet body positioning and holding mechanism, wherein a fluid suction source is connected to the intake hole, and a fluid supply source is connected to the exhaust hole. ステージの所定位置にシート体を位置決め保持するシート体位置決め保持方法において、
前記ステージに形成された排気孔を介して気体を排気させた状態で、前記ステージの所定位置に前記シート体を載置するステップと、
前記ステージに前記シート体が載置された後、前記ステージに形成された吸気孔を介して吸気し、前記シート体を前記ステージに吸着保持させるステップと、
からなることを特徴とするシート体位置決め保持方法。 In the sheet body positioning and holding method for positioning and holding the sheet body at a predetermined position of the stage,
Placing the sheet body at a predetermined position of the stage in a state where the gas is exhausted through an exhaust hole formed in the stage;
After the sheet body is placed on the stage, sucking air through an intake hole formed in the stage, and sucking and holding the sheet body on the stage;
A sheet body positioning and holding method comprising: 請求項４記載の方法において、
前記排気孔を介して気体を排気させることにより、前記ステージに吸着保持された前記シート体の吸着状態を解除するステップを有することを特徴とするシート体位置決め保持方法。 The method of claim 4, wherein
A sheet body positioning and holding method comprising: releasing a suction state of the sheet body sucked and held on the stage by exhausting gas through the exhaust hole. ステージの所定位置に位置決め保持されたシート体に対して描画を行う描画装置において、
前記ステージは、
前記ステージは、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の吸気孔と、
前記シート体に対応した所定個所に形成される複数の排気孔とを備え、
前記吸気孔を介した吸気作用により前記シート体を前記ステージに吸着保持する一方、前記排気孔を介した排気作用により前記シート体の吸着状態を解除することを特徴とする描画装置。 In a drawing apparatus that draws on a sheet body that is positioned and held at a predetermined position of the stage,
The stage is
The stage is
A plurality of intake holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body;
A plurality of exhaust holes formed at predetermined locations corresponding to the sheet body,
The drawing apparatus, wherein the sheet body is sucked and held on the stage by an intake action through the intake hole, and the suction state of the sheet body is released by an exhaust action through the exhaust hole.
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