JP2006226995A - 光学的異方性パラメータ測定方法及び測定装置 - Google Patents
光学的異方性パラメータ測定方法及び測定装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006226995A JP2006226995A JP2006004751A JP2006004751A JP2006226995A JP 2006226995 A JP2006226995 A JP 2006226995A JP 2006004751 A JP2006004751 A JP 2006004751A JP 2006004751 A JP2006004751 A JP 2006004751A JP 2006226995 A JP2006226995 A JP 2006226995A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- incident
- maximum
- light
- peak
- minimum value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本発明は、光学的異方性薄膜の光学軸の方向と大きさ、および膜厚を高速、高精度に測定し、さらに二次元受光素子による分布測定を可能とする手法と装置を提供する。
【手段】
測定点(M)に立てられた法線(Z)を中心として所定角度間隔で設定された複数の入射方向からP偏光の単色光を所定の入射角度で照射させ、その反射光に含まれるS偏光の反射光強度を入射方向に応じて検出し、反射光強度の極小値を示す入射方向のうち、最大ピークとなる二つの極大値(Λ1、Λ2)に挟まれた極小値(V1)が測定された入射方向(ν1)に基づいて測定点Mにおける光学軸(OX)の方位角方向(ΦA)を決定し、最大ピークとなる極大値(Λ1)とこれに隣接する中間ピークとなる極大値(Λ3)に挟まれた極小値(V3)が測定された入射方向に基づいて極角方向(θ)を決定するようにした。
【選択図】図1
Description
この配向膜が液晶分子を整列させることができるのは、一軸性光学的異方性を有しているからであり、配向膜がその全面にわたって均一な一軸性光学的異方性を有していれば液晶ディスプレイに欠陥を生じにくく、光学的異方性の不均一な部分が存在すれば液晶分子の方向が乱れるため液晶ディスプレイが不良品となる。
すなわち、配向膜の品質はそのまま液晶ディスプレイの品質に影響し、配向膜に欠陥があれば液晶分子の方向性が乱れるため、液晶ディスプレイにも欠陥を生ずることになる。
このため従来より、配向膜について、異方性パラメータとなる光学軸の方位角方向、極角方向、膜厚等を測定し、その配向膜の光学的異方性を評価することにより、欠陥の有無を検査する方法が提案されている。
また、測定は反射光強度の絶対量を必要とするため、受光素子の感度の線形性、ダイナミックレンジなどの外的要因による影響により測定精度が左右され、誤差が大きくなる可能性が高く、測定精度の向上が難しいという問題がある。
さらに、非線形最小二乗法により主誘電率の軸の方向と大きさ、膜の厚さ、および規格化定数の6つ以上のパラメータを同時に算出する必要があるため、ローカルミニマムで収束した解を算出してしまう可能性があるだけでなく、計算に膨大な時間を必要とするといった問題がある。
入射方向を0〜360°の間で変化させたときに、光学異方性を有する薄膜試料の反射光強度の測定値は、最大ピークとなる二つの極大値が隣接すると共に、中間ピークとなる二つの極大値が隣接し、夫々の極大値の間に四つの極小値を有する波形となる。
なお、この方向は、中間ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が測定される方向から180°ずれているので、中間ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が測定される方向からも特定できる。
ここで、式(2)(3)中、極角方向の角度θ以外の変数は、すべて既知もしくは測定値であるから、式(2)によるときは、最大ピークとなる極大値と中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値が測定される角度を検出することにより、また、式(3)によるときは、最大ピークとなる極大値が測定される角度を検出することにより算定できる。
ΦB:最大ピークとなる極大値と中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向
ΦC:最大ピークとなる極大値が測定された入射方向
ΦD:最大ピークとなる極大値が測定された入射方向
θ :基板平面からの光学軸の極角方向の角度(傾斜角)
μ :+/−(S偏光入射に対するP偏光の反射強度のとき「+」、P偏光入射に対するS偏光の反射強度のとき「−」)
φ0:薄膜への入射角度
φ2:基板へ抜けた時の光の角度
N2:基板の屈折率
ε0:薄膜試料の常光誘電率
また、反射光強度が最大ピーク又は中間ピークとなる極大値が存在する角度(方向)は、極角方向に依存し、液晶配向膜を製造する場合、ラビング強度(圧力)によって経験的におおよその極角方向をコントロールしているので、その極角方向に基づき式(3)より特定可能である。
したがって、ラビング方向とこれに直交する方向を中心に例えば所定の角度範囲において光を入射させたり、ラビング方向と反射光強度が最大ピークとなる極大値が存在すると予想される角度(方向)を中心に所定の角度範囲において光を入射させることにより、測定範囲を絞ることができる。
なお、この角度範囲は、液晶配向膜の製造ラインなどにおいては、経験的に測定された方位角方向等の統計上のバラツキに基づき、バラツキが少なければ±20°程度の限定された範囲で足り、ばらつきが多い場合は±45°程度と範囲を広げればよい。
なお、ステージ2の上方には、ステージ2のあおり量を光学的に測定するオートコリメータ7が配されており、その測定結果に基づき、あおり量の調整を行う。
なお、検光子24を2個使用することにより、純粋なS偏光のみを光電子倍増管26で検出しうるようになっている。
光学異方性を有する薄膜試料3について入射方向を0〜360°まで変化させたときに検出される反射光強度変化は、一般に、図3のグラフG1に示すように、最大ピークとなる二つの極大値Λ1、Λ2と、中間ピークとなる二つの極大値Λ3、Λ4と、夫々の間に、四つの極小値V1〜V4を有する波形となる。
すなわち、図2に示すように、平面図でみて光学軸OXの長手方向から入射されたときに最小値V1、V2が測定され、光学軸OXを含む縦断面において光学軸に対して直交する方向から入射されたときに極小値V3、V4が測定される。
次いで、反射光強度が最大ピークとなる極大値Λ1とこれに隣接する中間ピークとなる極大値Λ3に挟まれた極小値V3が測定された入射方向ν3、反射光強度が最大ピークとなる極大値Λ2とこれに隣接する中間ピークとなる極大値Λ4に挟まれた極小値V4が測定された入射方向ν4、もしくは、最大ピークとなる極大値Λ1又はΛ2が測定された入射方向λ1又はλ2に基づいてその測定点における光学軸の極角方向θが決定される。
この場合、式(2)に基づいて算出する場合は、
ΦB=ν3−ν1=ν4−ν1
とし、式(3)に基づいて算出する場合は、
|ΦC|=|ΦD|=|λ1−λ2|/2=|λ3−λ4|/2
とすればよい。
その後、薄膜試料3の光学軸OXの方位角方向ΦA、極角方向θが既知となるので、任意の2方向からエリプソメータ、あるいはリフレクトメータで測定を行なえば、薄膜試料の主誘電率の大きさ及び厚さを求めることができる。
ラビング前の薄膜の膜厚T=80nm、誘電率ε=3.00であった。
ラビング後の試料3を従来公知の手法により予め測定したところ、ラビング方向を0°としたときに光学軸OXの方位角方向ν1=0.7°、極角方向θ=24.2°、常光誘電率ε0=2.83、異常光誘電率εe=3.43、異方性層の膜厚t=12nmであった。このときの測定時間は一測定点で約60秒であった。
試料3のあおり、高さの調整後、回転テーブル13を回転させ、入射方向に対するS偏光の反射光強度を測定した。
ラビングされた薄膜試料3は、方位角方向ΦAがそのラビング方向(X方向)と略平行であると予想でき、極角方向θがこれと略直交する位置にあると予想できるので、本例では、ラビング方向を中心に±20°、これと直交する方向(Y方向)を中心に±20°の範囲で2°間隔で反射光強度を測定した。
なお、この測定範囲は、光学軸の予想し得る方位角方向と、経験的に測定されている実際の方位角方向のずれを勘案して、例えば、±45°、±30°など任意の角度範囲に設定すればよい。
この測定データから、光学軸OXの方位角方向ΦA、極角方向θを求めた。
傾斜角θを求める際、式(2)の常光誘電率はラビング前のポリイミド膜の誘電率ε0=3.00と設定した。
グラフG2の測定結果に対してフィッティング計算を行い、受光強度が極小となる方位ν1を算出したところ、ν1=0.4°であった。したがって、光学軸OXの方位角方向ΦAはY軸から0.4°傾いていることがわかる。
また、グラフG3の測定結果に対してフィッティング計算を行い、受光強度が極小となる方位ν3を算出し、ΦB=ν3−ν1、常光誘電率ε0=3.00(ラビング前のポリイミド膜の誘電率)として式(2)に基づいて傾斜角θを算出したところθ=22.5°であった。
なお、このときの一測定点の測定時間は約2秒であった。
このとき、エリプソメータで測定する時間を入れても、測定時間は一測定点あたり約4秒であり、従来手法と同等の結果を高速に測定することができた。
本例の光学的異方性パラメータ測定装置31において、発光光学系4は、キセノンランプ32が配され、その照射光軸LIRに沿って、反射鏡33の集光点にピンホールスリット34、その透過光を平行化するコリメートレンズ35、干渉フィルタ36、P偏光を透過させる偏光子22が配されている。
このとき、干渉フィルタ35は中心波長450nm、半値全幅2nmに選定され、薄膜試料3に照射されるビーム径は10mm2、入射角度はブリュースター角付近である60°となるように設定した。
これにより、試料3に照射された10mm2の測定エリアAに含まれる複数の測定点Mijからの反射光強度を同時に測定することができる。
この試料3の傾斜角θを従来方法で10×10=100ポイントを測定したところ、右側が30〜34°、左側が27〜29°の分布であった。
また、測定時間は100ポイントで約100分であった。
図5(a)は回転前の測定エリアA内の測定点Mij(i,j=1〜10)を示す。
図5(b)は回転テーブル13の回転に伴い回転した画像を示すもので,各測定点Mijを極座標Mij=(rn,αm)で表わせば、回転テーブル13が角度γだけ回転したときのMijの位置はMij=(rn,αm+γ)で表わされる。
したがって、Mij=(rn,αm+γ)に対応するCCDカメラ39の画素領域で反射光強度を測定すればよい。
図6は、測定された常光誘電率ε0の値から再計算された傾斜角θの分布を示す。
これによれば、右側が30〜34°、左側が27〜29°の分布であり、従来方法で測定したのと同様の結果が得られた。
このとき、エリプソメータで測定する時間を入れても100ポイントの測定点についての測定時間は約6秒であり、従来手法と同等の結果を極めて高速に測定することができた。
本例の光学的異方性パラメータ測定装置41は、試料3を回転させることなく、光学異方性パラメータを測定するものである。
各照射光軸LIRには、波長780nm、光強度20mWの半導体レーザ42、P偏光を透過させる偏光子22が配されている。
ラビング前の薄膜の膜厚T=93nm、誘電率ε=2.98であった。
ラビング後の試料3を従来公知の手法により予め測定したところ、ラビング方向を0°としたときに光学軸OXの方位角方向ν1=1.5°、極角方向θ=20.4°、常光誘電率ε0=2.78、異常光誘電率εe=3.32、異方性層の膜厚t=12nmであった。このときの測定時間は一測定点で約60秒であった。
図8及び図9は、それぞれX方向(180°)及びY方向(90°)を中心とした±20°の角度範囲における測定データである。
図8の測定結果に対してフィッティング計算を行い、受光強度が極小となる方位ν1を算出したところ、ν1=1.8°であった。したがって、光学軸OXの方位角方向ΦAはY軸から1.8°傾いていることがわかる。
また、図9の測定結果に対してフィッティング計算を行い、受光強度が極小となる方位ν3を算出し、ΦB=ν3−ν1、常光誘電率ε0=2.98(ラビング前のポリイミド膜の誘電率)として式(2)に基づいて傾斜角θを算出したところθ=19.0°であった。
なお、このときの一測定点の測定時間は約0.5秒であった。
このとき、エリプソメータで測定する時間を入れても、測定時間は一測定点あたり約2秒であり、従来手法と同等の結果を高速に測定することができた。
2 ステージ
3 薄膜試料
OX 光学軸
ΦA 方位角方向
θ 極角方向
M 測定点
Z 法線
4 発光光学系
5 受光光学系
6 演算処理装置
Claims (13)
- 薄膜試料の異方性パラメータとなる光学軸の方位角方向と極角方向を測定する光学的異方性パラメータ測定方法であって、
薄膜試料上の測定点に立てられた法線を中心として所定角度間隔で設定された複数の入射方向から前記測定点に対してP偏光又はS偏光の単色光を所定の入射角度で照射させ、
その反射光に含まれる偏光成分の内、照射光の偏光方向に直交する偏光成分の反射光強度を入射方向に応じて検出し、
前記反射光強度の極小値を示す入射方向のうち、最大ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値又は中間ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向に基づいて測定点における光学軸の方位角方向を決定し、
前記反射光強度が最大ピークとなる極大値とこれに隣接する中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向、もしくは、最大ピークとなる極大値が測定された入射方向に基づいてその測定点における光学軸の極角方向を決定することを特徴とする光学的異方性パラメータ測定方法。 - 前記法線を中心として試料を回転させることにより複数の入射方向から前記測定点に対してP偏光又はS偏光の単色光を所定の入射角度で照射させる請求項1記載の光学的異方性パラメータ測定方法。
- 前記法線を中心として、その周囲に所定角度間隔で配された複数の発光部から前記P偏光又はS偏光の単色光を照射させる請求項1記載の光学的異方性パラメータ測定方法。
- 薄膜試料を移動させることにより、複数の測定点について光学軸の異方性を測定する請求項1乃至3記載の光学的異方性パラメータ測定方法。
- 前記法線を中心として所定角度間隔で入射されるP偏光又はS偏光の単色光の入射方向が、最大ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が存在すると予想される第一の角度と、最大ピークとなる極大値と中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値、最大ピークとなる極大値、あるいは中間ピークとなる極大値が存在すると予想される第二の角度を中心として、それぞれ所定の角度範囲で、所定角度間隔で複数設定されてなる請求項1記載の光学的異方性パラメータ測定方法。
- 薄膜試料の異方性パラメータとなる光学軸の方位角方向と極角方向を測定する光学的異方性パラメータ測定方法であって、
薄膜試料上の測定エリアの中心に立てられた法線を中心として所定角度間隔で設定された複数の入射方向から前記測定エリアに対して、P偏光又はS偏光の単色光を所定の入射角度で照射させ、
その反射光に含まれる偏光成分の内、照射光の偏光方向に直交する偏光成分の反射光強度分布を検出することにより、測定エリア内に存する各測定点についてそれぞれの反射光強度を入射方向に応じて二次元的に検出し、
各測定点について前記反射光強度が極小値を示す入射方向のうち、最大ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値または中間ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向に基づいてその測定点における光学軸の方位角方向を決定し、
前記反射光強度が最大ピークとなる極大値とこれに隣接する中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向、もしくは、最大ピークとなる極大値が測定された入射方向に基づいてその測定点における光学軸の極角方向を決定することを特徴とする光学的異方性パラメータ測定方法。 - 決定された方位角方向に基づき、少なくとも任意の2方向からエリプソメータあるいはリフレクトメータで測定を行ない、光学的異方性パラメータとなる異方性薄膜の主誘電率、膜の厚さを求める請求項1記載の光学的異方性パラメータ測定方法。
- 薄膜試料の異方性パラメータとなる光学軸の方位角方向と極角方向を測定する光学的異方性パラメータ測定装置であって、
薄膜試料上の測定点に立てられた法線を中心として所定角度間隔で設定された複数の入射方向から前記測定点に対してP偏光又はS偏光の単色光を所定の入射角度で照射させる発光光学系と、
その反射光に含まれる偏光成分の内、照射光の偏光方向に直交する偏光成分の反射光強度を入射方向に応じて検出する受光光学系と、
前記反射光強度が極小値を示す入射方向のうち、最大ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値または中間ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向に基づいてその測定点における光学軸の方位角方向を決定すると共に、
前記反射光強度が最大ピークとなる極大値とこれに隣接する中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向、もしくは、最大ピークとなる極大値が測定された入射方向に基づいてその測定点における光学軸の極角方向を決定する演算処理装置を備えたことを特徴とする光学的異方性パラメータ測定装置。 - 前記試料が前記法線を中心として回転可能に配された請求項8記載の光学的異方性パラメータ測定装置。
- 前記発光光学系及び受光光学系が、前記法線を中心としてその周囲に所定角度間隔で複数組配された請求項8記載の光学的異方性パラメータ測定装置。
- 複数の測定点について光学軸の異方性を測定するために薄膜試料を移動させるテーブルを備えた請求項8記載の光学的異方性パラメータ測定装置。
- 前記法線を中心として所定角度間隔で入射されるP偏光又はS偏光の単色光の入射方向が、最大ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が存在すると予想される第一の角度と、最大ピークとなる極大値と中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値、最大ピークとなる極大値、あるいは中間ピークとなる極大値のいずれかが存在すると予想される第二の角度を中心として、それぞれ所定の角度範囲で、所定角度間隔で複数設定されてなる請求項8記載の光学的異方性パラメータ測定装置。
- 薄膜試料の異方性パラメータとなる光学軸の方位角方向と極角方向を測定する光学的異方性パラメータ測定装置であって、
薄膜試料上の測定エリアの中心に立てられた法線を中心として所定角度間隔で設定された複数の入射方向から前記測定エリアに対して、P偏光又はS偏光の単色光を所定の入射角度で照射させる発光光学系と、
その反射光に含まれる偏光成分の内、照射光の偏光方向に直交する偏光成分の反射光強度分布を測定することにより、測定エリア内に存する各測定点についてそれぞれの反射光強度を入射方向に応じて検出する二次元受光素子を有する受光光学系と、
各測定点について前記反射光強度が極小値を示す入射方向のうち、最大ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値または中間ピークとなる二つの極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向に基づいてその測定点における光学軸の方位角方向を決定すると共に、前記反射光強度が最大ピークとなる極大値とこれに隣接する中間ピークとなる極大値に挟まれた極小値が測定された入射方向、もしくは、最大ピークとなる極大値が測定された入射方向に基づいてその測定点における光学軸の極角方向を決定する演算処理装置を備えたことを特徴とする光学的異方性パラメータ測定装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006004751A JP4663529B2 (ja) | 2005-01-24 | 2006-01-12 | 光学的異方性パラメータ測定方法及び測定装置 |
TW095102013A TWI384213B (zh) | 2005-01-24 | 2006-01-19 | 光學異向性參數測量方法及測量裝置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005015017 | 2005-01-24 | ||
JP2006004751A JP4663529B2 (ja) | 2005-01-24 | 2006-01-12 | 光学的異方性パラメータ測定方法及び測定装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006226995A true JP2006226995A (ja) | 2006-08-31 |
JP4663529B2 JP4663529B2 (ja) | 2011-04-06 |
Family
ID=36988474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006004751A Expired - Fee Related JP4663529B2 (ja) | 2005-01-24 | 2006-01-12 | 光学的異方性パラメータ測定方法及び測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4663529B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008076324A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Moritex Corp | 光学異方性パラメータ測定装置 |
WO2012141061A2 (ja) * | 2011-04-11 | 2012-10-18 | 株式会社モリテックス | 光学異方性パラメータ測定装置、測定方法及び測定用プログラム |
CN103552225A (zh) * | 2013-10-28 | 2014-02-05 | 郑州大学 | 透明制品注射压缩成型过程内应力分布实时检测方法 |
US8780346B2 (en) | 2012-07-02 | 2014-07-15 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic image capturing apparatus |
TWI577983B (zh) * | 2013-07-05 | 2017-04-11 | 茉麗特股份有限公司 | 光學異向性參數測量裝置、測量方法及測量用電腦程式產品 |
EP3052908A4 (en) * | 2013-10-04 | 2017-05-31 | Axometrics, Inc. | Method and apparatus for measuring parameters of optical anisotropy |
CN112066896A (zh) * | 2020-07-22 | 2020-12-11 | 北京量拓科技有限公司 | 曲面样品顶点定位方法、装置和椭偏仪 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190041163A (ko) | 2017-10-12 | 2019-04-22 | 삼성전자주식회사 | 광학 검사 시스템, 광학 검사 방법 및 이들을 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272308A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Nec Corp | 異方性多層薄膜構造体の評価法及び評価装置 |
-
2006
- 2006-01-12 JP JP2006004751A patent/JP4663529B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001272308A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Nec Corp | 異方性多層薄膜構造体の評価法及び評価装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008076324A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Moritex Corp | 光学異方性パラメータ測定装置 |
TWI421486B (zh) * | 2006-09-25 | 2014-01-01 | Schott Moritex Corp | 光學異方性參數測定方法及測定裝置 |
KR101441876B1 (ko) * | 2006-09-25 | 2014-09-19 | 숏토 모리텍스 가부시키가이샤 | 광학이방성 패러미터 측정 방법 및 측정 장치 |
WO2012141061A2 (ja) * | 2011-04-11 | 2012-10-18 | 株式会社モリテックス | 光学異方性パラメータ測定装置、測定方法及び測定用プログラム |
JP2012220381A (ja) * | 2011-04-11 | 2012-11-12 | Moritex Corp | 光学異方性パラメータ測定装置、測定方法及び測定用プログラム |
WO2012141061A3 (ja) * | 2011-04-11 | 2012-12-06 | 株式会社モリテックス | 光学異方性パラメータ測定装置、測定方法及び測定用プログラム |
US8780346B2 (en) | 2012-07-02 | 2014-07-15 | Seiko Epson Corporation | Spectroscopic image capturing apparatus |
TWI577983B (zh) * | 2013-07-05 | 2017-04-11 | 茉麗特股份有限公司 | 光學異向性參數測量裝置、測量方法及測量用電腦程式產品 |
EP3052908A4 (en) * | 2013-10-04 | 2017-05-31 | Axometrics, Inc. | Method and apparatus for measuring parameters of optical anisotropy |
US9989454B2 (en) | 2013-10-04 | 2018-06-05 | Axometrics, Inc. | Method and apparatus for measuring parameters of optical anisotropy |
CN103552225A (zh) * | 2013-10-28 | 2014-02-05 | 郑州大学 | 透明制品注射压缩成型过程内应力分布实时检测方法 |
CN103552225B (zh) * | 2013-10-28 | 2015-11-25 | 郑州大学 | 透明制品注射压缩成型过程内应力分布实时检测方法 |
CN112066896A (zh) * | 2020-07-22 | 2020-12-11 | 北京量拓科技有限公司 | 曲面样品顶点定位方法、装置和椭偏仪 |
CN112066896B (zh) * | 2020-07-22 | 2021-12-10 | 北京量拓科技有限公司 | 曲面样品顶点定位方法、装置和椭偏仪 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4663529B2 (ja) | 2011-04-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI384213B (zh) | 光學異向性參數測量方法及測量裝置 | |
JP4921090B2 (ja) | 光学異方性パラメータ測定方法及び測定装置 | |
JP4663529B2 (ja) | 光学的異方性パラメータ測定方法及び測定装置 | |
US8009292B2 (en) | Single polarizer focused-beam ellipsometer | |
JP4960026B2 (ja) | フイルムの欠陥検査装置及びフイルムの製造方法 | |
KR101594982B1 (ko) | 광학 이방성 파라미터 측정 장치, 측정 방법 및 측정용 프로그램 | |
JP2010060352A (ja) | 光学異方性パラメータ測定方法及び測定装置 | |
JP2016535281A (ja) | 光学的異方性のパラメータを測定する方法と装置 | |
JPH10332533A (ja) | 複屈折評価装置 | |
JP3425923B2 (ja) | 異方性多層薄膜構造体の評価法及び評価装置 | |
JP4728830B2 (ja) | 光学的異方性パラメータ測定方法及び測定装置 | |
US20110122409A1 (en) | Object characteristic measurement method and system | |
TWI437220B (zh) | 液晶預傾角量測系統與方法 | |
TWI814412B (zh) | 多方向物件失效檢查系統及其方法 | |
JP3338157B2 (ja) | 配向膜評価装置 | |
JP2005283552A (ja) | 複屈折測定装置および複屈折測定方法 | |
JP3142804B2 (ja) | 2次元液晶セルパラメータ検出方法及び装置 | |
JP2009025593A (ja) | 光学補償板の検査方法 | |
JP2001083042A (ja) | 光学的異方性の測定方法、測定装置及び測定方法を記録した記録媒体 | |
JP2002162344A (ja) | 異方性薄膜評価方法および装置 | |
JP2000121496A (ja) | 配向膜評価方法及び装置並びに配向膜評価プログラムを記録した記録媒体 | |
KR100663540B1 (ko) | Lcd 패널을 자동으로 교정하기 위한 장치 및 방법 | |
JP2007285926A (ja) | 光学系、異方性薄膜評価装置および異方性薄膜評価方法 | |
TWI387745B (zh) | 液晶單元之光學特性量測系統及其方法 | |
JPH09325087A (ja) | 光学的異方性測定装置及びそれを用いた光学的異方性測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080421 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101005 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101207 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110105 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4663529 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |