JP2006215014A - スケール防止剤濃度測定方法および装置 - Google Patents
スケール防止剤濃度測定方法および装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006215014A JP2006215014A JP2005211167A JP2005211167A JP2006215014A JP 2006215014 A JP2006215014 A JP 2006215014A JP 2005211167 A JP2005211167 A JP 2005211167A JP 2005211167 A JP2005211167 A JP 2005211167A JP 2006215014 A JP2006215014 A JP 2006215014A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- scale inhibitor
- electrode
- inhibitor concentration
- sample solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Abstract
【解決手段】試料溶液中に含まれるスケール防止剤濃度を金属イオン電極を用いて測定することを特徴とするスケール防止剤濃度測定方法、および測定装置。
【選択図】図2
Description
本発明におけるスケールとは、水中に溶解または懸濁している物質が金属表面に析出する現象であり、冷却水、ボイラー水等の多くの工業用水系において、熱交換面、配管、壁面等に付着し、熱交換率低下、装置の破損、ポンプ差圧上昇等の障害を引き起こす。したがってスケール障害を未然に防止することは産業上極めて重要であり、その手段として水中にスケール防止剤を添加する方法が広く行われている。
実施例1
以下のような手順でスケール防止剤の一種であるポリアクリル酸濃度の測定を行った。装置:
・Cuイオン選択性電極:東亜ディーケーケー株式会社製、型番7144L(硫化物系難溶性塩固体膜型)
・参照電極:東亜ディーケーケー株式会社製、型番HS−205C
・直流電位差計:東亜ディーケーケー株式会社製、型番IM−55G
・攪拌機:スターラー
測定手順:
(1)所定量のポリアクリル酸を含む試料溶液に緩衝剤(MOPS〔3−モルホリノプロパンスルホン酸〕)を加えpH7.0に調整。
(2)プローブ金属イオンとしてCuイオンを10-5Mとなるように添加。
(3)Cuイオン電極を浸漬させ応答電位を測定。
測定手順:
(1)所定量のリン酸または炭酸を含む試料溶液に緩衝剤(MOPS)を加えpH7.0に調整。
(2)プローブ金属イオンとしてCuイオンを10-5Mとなるように添加。
(3)Cuイオン電極を浸漬させ応答電位を測定。
以下のような手順でスケール防止剤の一種であるポリアクリル酸濃度の測定を行った。測定手順:
(1)ポリアクリル酸を10mg/dm3 (10-3.9mol/dm3 )含む試料溶液に緩衝剤(MOPS)を加えpH7.0に調整。
(2)プローブ金属イオンとしてCuイオンを10-5Mとなるように添加。
(3)Cuイオン電極を浸漬させCaイオンを所定ずつ添加しながら応答電位を測定。
測定手順:
(1)ポリアクリル酸を含まない試料溶液に緩衝剤(MOPS)を加えpH7.0に調整。
(2)プローブ金属イオンとしてCuイオンを10-5Mとなるように添加。
(3)Cuイオン電極を浸漬させCaイオンを所定ずつ添加しながら応答電位を測定。
以下のような手順でスケール防止剤の一種であるポリアクリル酸濃度の測定を行った。測定手順:
(1)ポリアクリル酸を所定量含む試料溶液に緩衝剤を加えpH6.0〜8.0に調整。(2)プローブ金属イオンとしてCuイオンを10-5Mとなるように添加。
(3)Cuイオン電極を浸漬させ応答電位を測定。
以下のような手順でスケール防止剤の一種であるポリアクリル酸濃度の測定を行った。測定手順:
(1)ポリアクリル酸を所定量含む試料溶液に緩衝剤(MOPS)を加えpH7.0に調整。
(2)Cuイオン電極を浸漬させCaイオンを所定ずつ添加しながら応答電位を測定。
Ag2S(固体)+M2+⇔2Ag+ +MS(固体)
という平衡反応が成立しており(Mは金属イオン)、試料溶液中に金属イオンが存在しない場合でも、金属イオンが感応膜から溶出する。プローブ金属イオンを添加しない場合でもスケール防止剤濃度が測定できるのは、この金属イオン電極の感応部表面から溶出する金属イオンがプローブ金属イオンの役割を果たしているためであると考えられる。
以下のような手順でスケール防止剤の一種であるポリアクリル酸濃度の測定を行った。装置:
・酸化還元電極:白金ワイヤー電極(自作)
・参照電極:東亜ディーケーケー株式会社製、型番HS−205C
・直流電位差計:東亜ディーケーケー株式会社製、型番IM−55G
・攪拌機:スターラー
測定手順:
(1)ポリアクリル酸を所定量含む試料溶液を塩酸または水酸化ナトリウム溶液を用い所定のpHに調整。
(2)プローブ金属イオンとしてFe2+イオンおよびFe3+イオンをそれぞれ5×10-6Mとなるように添加(全Feイオン濃度は10-5M)。
(3)白金電極(ワイヤー)および参照電極を浸漬させ応答電位を測定。
2 参照電極
3 pH電極
4 金属イオン選択性電極
10 直流電位差計
11 測定部
12 演算部
13 pH測定部
14 制御部
15 記録部
16 表示部
20 試料溶液
21 緩衝剤およびプローブ金属イオン混合溶液タンク
30 測定セル
31 攪拌機
32 試料溶液送液ポンプ
33 測定セル
34 スケール防止剤注入ポンプ
35 緩衝剤およびプローブ金属イオン混合溶液注入ポンプ
Claims (24)
- 試料溶液中に含まれるスケール防止剤濃度を金属イオン電極を用いて測定することを特徴とするスケール防止剤濃度測定方法。
- 予め試料溶液にプローブ金属イオンを添加することを特徴とする、請求項1に記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 予め試料溶液を所定のpHに調整することを特徴とする、請求項1または2に記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 試料溶液のpHを測定することを特徴とする、請求項1または2に記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 添加するプローブ金属イオンがCuイオン、Agイオン、Pbイオン、Cdイオンのいずれかであることを特徴とする、請求項2〜4のいずれかに記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 金属イオン電極がCuイオン選択性電極、Agイオン選択性電極、Pbイオン選択性電極、Cdイオン選択性電極のいずれかからなる金属イオン選択性電極と参照電極との組合せからなることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 金属イオン選択性電極が硫化物系難溶性塩固体膜型であることを特徴とする、請求項6に記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 金属イオン電極と、該金属イオン電極が生じる応答電位を測定する測定部と、応答電位の測定値からスケール防止剤濃度に換算する演算部とを有することを特徴とするスケール防止剤濃度測定装置。
- 試料溶液にプローブ金属イオンを加える添加部を有することを特徴とする、請求項8に記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 試料溶液のpHを調整するpH調整部を有することを特徴とする、請求項8または9に記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 試料溶液のpHを測定するpH測定部を有することを特徴とする、請求項8または9に記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 添加するプローブ金属イオンがCuイオン、Agイオン、Pbイオン、Cdイオンのいずれかであることを特徴とする、請求項9〜11のいずれかに記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 金属イオン電極がCuイオン選択性電極、Agイオン選択性電極、Pbイオン選択性電極、Cdイオン選択性電極のいずれかからなる金属イオン選択性電極と参照電極との組合せからなることを特徴とする、請求項8〜12のいずれかに記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 金属イオン選択性電極が硫化物系難溶性塩固体膜型であることを特徴とする、請求項13に記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 試料溶液中に含まれるスケール防止剤濃度を、予め試料溶液を所定のpHに調整した上でプローブ金属イオンおよびプローブ陰イオンを添加し、陰イオン電極を用いて該プローブ陰イオン濃度を測定することにより求めることを特徴とするスケール防止剤濃度測定方法。
- プローブ金属イオンが2価および/または3価の金属イオンであり、プローブ陰イオンがフッ化物イオン、塩化物イオン、硫化物イオン、ヨウ化物イオン、臭化物イオン、チオシアン酸イオンのいずれかであることを特徴とする、請求項15に記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 陰イオン電極がフッ化物イオン選択性電極、塩化物イオン選択性電極、硫化物イオン選択性電極、ヨウ化物イオン選択性電極、臭化物イオン選択性電極、チオシアン酸イオン選択性電極のいずれかと参照電極との組合せからなることを特徴とする、請求項15または16に記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 試料溶液のpHを調整するpH調整部と、試料溶液にプローブ金属イオンおよびプローブ陰イオンを加える添加部と、陰イオン電極と、陰イオン電極が生じる応答電位を測定する測定部と、応答電位の測定値からスケール防止剤濃度に換算する演算部とを有することを特徴とするスケール防止剤濃度測定装置。
- 添加するプローブ金属イオンが2価および/または3価の金属イオンであり、添加するプローブ陰イオンがフッ化物イオン、塩化物イオン、硫化物イオン、ヨウ化物イオン、臭化物イオン、チオシアン酸イオンのいずれかであることを特徴とする、請求項18に記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 陰イオン電極がフッ化物イオン選択性電極、塩化物イオン選択性電極、硫化物イオン選択性電極、ヨウ化物イオン選択性電極、臭化物イオン選択性電極、チオシアン酸イオン選択性電極のいずれかと参照電極との組合せからなることを特徴とする、請求項18または19に記載のスケール防止剤濃度測定装置。
- 試料溶液中に含まれるスケール防止剤濃度を、予め試料溶液を所定のpHに調整した上でプローブ金属イオンとしてFe2+イオンおよびFe3+イオンを加え、酸化還元電極を用いFe2+イオンとFe3+イオンの濃度比を測定することにより求めることを特徴とするスケール防止剤濃度測定方法。
- 酸化還元電極が白金電極であることを特徴とする、請求項21に記載のスケール防止剤濃度測定方法。
- 試料溶液のpHを調整するpH調整部と、試料溶液にFe2+イオンおよびFe3+イオンを加える添加部と、酸化還元電極と、酸化還元電極が生じる応答電位を測定する測定部と、応答電位の測定値からスケール防止剤濃度に換算する演算部とを有することを特徴とするスケール防止剤濃度測定装置。
- 酸化還元電極が白金電極であることを特徴とする、請求項23に記載のスケール防止剤濃度測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005211167A JP4672473B2 (ja) | 2004-07-23 | 2005-07-21 | スケール防止剤濃度測定方法および装置 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004216529 | 2004-07-23 | ||
JP2005001102 | 2005-01-06 | ||
JP2005211167A JP4672473B2 (ja) | 2004-07-23 | 2005-07-21 | スケール防止剤濃度測定方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006215014A true JP2006215014A (ja) | 2006-08-17 |
JP4672473B2 JP4672473B2 (ja) | 2011-04-20 |
Family
ID=36978352
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005211167A Expired - Fee Related JP4672473B2 (ja) | 2004-07-23 | 2005-07-21 | スケール防止剤濃度測定方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4672473B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009058349A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Nagoya Institute Of Technology | 高分子電解質濃度の測定方法及び測定装置 |
JP2010117269A (ja) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Japan Organo Co Ltd | スケール防止剤濃度の測定方法及び測定装置 |
WO2019025276A1 (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Basf Se | METHOD FOR DETERMINING CONCENTRATION OF TARTER INHIBITOR IN SALTWATER USING CALONIUM / MAGNESIUM IONOSELECTIVE ELECTRODE |
RU2789763C2 (ru) * | 2017-08-04 | 2023-02-09 | Соленис Текнолоджиз Кеймэн, Л.П. | Способ определения концентрации ингибитора образования отложений в минерализованной воде с помощью электрода, селективного по отношению к ионам кальция/магния |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51111388A (en) * | 1975-03-26 | 1976-10-01 | Kurita Water Ind Ltd | Method for control of concentration of added chemicals |
JPS61220793A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-10-01 | Sasakura Eng Co Ltd | 水質監視方法及び水質制御方法 |
JPH04296651A (ja) * | 1991-03-26 | 1992-10-21 | Japan Organo Co Ltd | 工業用水中の添加薬品の濃度管理方法 |
JPH07109587A (ja) * | 1993-10-07 | 1995-04-25 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理用ポリマー及び水処理用ポリマーの製造方法 |
JPH11337491A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-10 | Japan Organo Co Ltd | カルボン酸基含有水溶性ポリマーの定量方法 |
JP2001179264A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-03 | Nissan Chem Ind Ltd | プール水の残留塩素濃度の自動制御方法 |
JP2003022128A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Touzai Kagaku Sangyo Kk | 水処理設備の監視方法及び監視システム |
JP2004004045A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-01-08 | Japan Organo Co Ltd | 水処理用薬品の濃度管理方法及び濃度管理装置 |
JP2004077169A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Ebara Corp | 液体中の残留物質算出方法とそれを用いる処理方法及び薬剤注入制御装置 |
JP2004113981A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Katayama Chem Works Co Ltd | 循環水系の水処理方法および水処理システム |
-
2005
- 2005-07-21 JP JP2005211167A patent/JP4672473B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51111388A (en) * | 1975-03-26 | 1976-10-01 | Kurita Water Ind Ltd | Method for control of concentration of added chemicals |
JPS61220793A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-10-01 | Sasakura Eng Co Ltd | 水質監視方法及び水質制御方法 |
JPH04296651A (ja) * | 1991-03-26 | 1992-10-21 | Japan Organo Co Ltd | 工業用水中の添加薬品の濃度管理方法 |
JPH07109587A (ja) * | 1993-10-07 | 1995-04-25 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理用ポリマー及び水処理用ポリマーの製造方法 |
JPH11337491A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-10 | Japan Organo Co Ltd | カルボン酸基含有水溶性ポリマーの定量方法 |
JP2001179264A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-03 | Nissan Chem Ind Ltd | プール水の残留塩素濃度の自動制御方法 |
JP2003022128A (ja) * | 2001-07-10 | 2003-01-24 | Touzai Kagaku Sangyo Kk | 水処理設備の監視方法及び監視システム |
JP2004004045A (ja) * | 2002-04-23 | 2004-01-08 | Japan Organo Co Ltd | 水処理用薬品の濃度管理方法及び濃度管理装置 |
JP2004077169A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Ebara Corp | 液体中の残留物質算出方法とそれを用いる処理方法及び薬剤注入制御装置 |
JP2004113981A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Katayama Chem Works Co Ltd | 循環水系の水処理方法および水処理システム |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009058349A (ja) * | 2007-08-31 | 2009-03-19 | Nagoya Institute Of Technology | 高分子電解質濃度の測定方法及び測定装置 |
JP2010117269A (ja) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Japan Organo Co Ltd | スケール防止剤濃度の測定方法及び測定装置 |
WO2019025276A1 (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Basf Se | METHOD FOR DETERMINING CONCENTRATION OF TARTER INHIBITOR IN SALTWATER USING CALONIUM / MAGNESIUM IONOSELECTIVE ELECTRODE |
CN113260856A (zh) * | 2017-08-04 | 2021-08-13 | 索理思科技开曼公司 | 用钙/镁离子选择性电极测定盐水中的阻垢剂浓度的方法 |
RU2789763C2 (ru) * | 2017-08-04 | 2023-02-09 | Соленис Текнолоджиз Кеймэн, Л.П. | Способ определения концентрации ингибитора образования отложений в минерализованной воде с помощью электрода, селективного по отношению к ионам кальция/магния |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4672473B2 (ja) | 2011-04-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4049382A (en) | Total residual chlorine | |
Pinheiro et al. | Scanned stripping chronopotentiometry of metal complexes: lability diagnosis and stability computation | |
EP2980576A1 (en) | Electrochemical sensor system and sensing method | |
Sokalski et al. | Determination of true selectivity coefficients of neutral carrier calcium selective electrode | |
JP4672473B2 (ja) | スケール防止剤濃度測定方法および装置 | |
Ciobanu et al. | Miniaturized reference electrodes based on Ag/AgiX internal reference elements. I. Manufacturing and performance | |
Capewell et al. | Association constants for the NaSO4− ion pair in concentrated cesium chloride solutions | |
JPS6145185B2 (ja) | ||
do Nascimento et al. | Determination of cadmium, lead and thallium in highly saline hemodialysis solutions by potentiometric stripping analysis (PSA) | |
WO2019010152A1 (en) | SENSOR FOR ANALYTES | |
US8117003B2 (en) | Method of monitoring an electrochemical half-cell | |
EP3472597B1 (en) | A method for measuring the concentration of a chemical species using a reagent baseline | |
Martı́nez-Barrachina et al. | All-solid-state potentiometric sensors sensitive to nonionic surfactants based on ionophores containing ethoxylate units | |
JP4012169B2 (ja) | 複数種のイオン測定用器具 | |
WO1999005515A1 (en) | Low detection limit ion selective membrane electrodes | |
JP2010117269A (ja) | スケール防止剤濃度の測定方法及び測定装置 | |
US3551350A (en) | Reagent solutions for use in serum bicarbonate and chloride analysis | |
JPH01313754A (ja) | 塩素濃度の測定方法 | |
JP4904475B2 (ja) | 高分子電解質濃度の測定方法及び測定装置 | |
JP2024075998A (ja) | イオン濃度測定方法 | |
JPS63179248A (ja) | 塩素イオン濃度の測定方法 | |
JPH05322842A (ja) | イオン電極法による体液試料中クロルイオンの高選択的測定方法 | |
Akhter et al. | Potentiometry | |
SU1097055A1 (ru) | Способ оценки способности веществ к предотвращению образовани накипи | |
CN114910531A (zh) | 基于氯离子传感器的浓缩倍率在线检测系统以及检测方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080207 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100917 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101108 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110114 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110119 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140128 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |