JP2006213964A - スパッタリングターゲット並びに光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 46
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 30
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 8
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 abstract description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 35
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 25
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 17
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 13
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 10
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 241001025261 Neoraja caerulea Species 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
【課題】膜の非晶質性が安定であり、成膜速度が速く、記録層との密着性、機械特性に優れ、且つ透過率が高く、非硫化物系で構成することにより、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難い光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法並びにこれらに適用できるパッタリングターゲットに関するものであり、これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善することを目的とする。
【解決手段】SnO2を主成分とするIn2O3-ZnO-ZrO2-SnO2系複合酸化物に、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を添加した材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。該スパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成することを特徴とする光情報記録媒体及びその製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】SnO2を主成分とするIn2O3-ZnO-ZrO2-SnO2系複合酸化物に、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を添加した材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。該スパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成することを特徴とする光情報記録媒体及びその製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、スパッタ膜の非晶質性が安定であり、成膜速度が速く、記録層との密着性、機械特性に優れ、かつ透過率が高く、非硫化物系で構成されているため、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難い光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法並びにこれらに適用できるパッタリングターゲットに関する。
従来、主として相変化型の光情報記録媒体の保護層に一般的に使用されるZnS−SiO2は、光学特性、熱特性、記録層との密着性等において、優れた特性を有し、広く使用されている。
しかし、今日Blue-Rayに代表される書き換え型DVDは、さらに書き換え回数の増加、大容量化、高速記録化が強く求められている。
しかし、今日Blue-Rayに代表される書き換え型DVDは、さらに書き換え回数の増加、大容量化、高速記録化が強く求められている。
光情報記録媒体の書き換え回数等が劣化する原因の一つとして、保護層ZnS−SiO2に挟まれるように配置された記録層材への、ZnS−SiO2からの硫黄成分の拡散が挙げられる。
また、大容量化、高速記録化のため高反射率で高熱伝導特性を有する純AgまたはAg合金が反射層材に使用されるようになったが、このような反射層も保護層材であるZnS−SiO2と接するように配置されている。
したがって、この場合も同様に、ZnS−SiO2からの硫黄成分の拡散により、純AgまたはAg合金反射層材も腐食劣化して、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こす要因となっていた。
また、大容量化、高速記録化のため高反射率で高熱伝導特性を有する純AgまたはAg合金が反射層材に使用されるようになったが、このような反射層も保護層材であるZnS−SiO2と接するように配置されている。
したがって、この場合も同様に、ZnS−SiO2からの硫黄成分の拡散により、純AgまたはAg合金反射層材も腐食劣化して、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こす要因となっていた。
これら硫黄成分の拡散防止対策として、反射層と保護層、記録層と保護層の間に、窒化物や炭化物を主成分とした中間層を設けた構成にすることも行なわれている。しかし、これは積層数の増加となり、スループット低下、コスト増加になるという問題を発生している。
上記のような問題を解決するため、保護層材に硫化物を含まない酸化物のみの材料へと置き換え、ZnS−SiO2と同等以上の光学特性、非晶質安定性を有する材料系を見出すことが急務となっていた。
上記のような問題を解決するため、保護層材に硫化物を含まない酸化物のみの材料へと置き換え、ZnS−SiO2と同等以上の光学特性、非晶質安定性を有する材料系を見出すことが急務となっていた。
また、ZnS−SiO2等のセラミックスターゲットは、バルク抵抗値が高いため、直流スパッタリング装置により成膜することができず、通常高周波スパッタリング（ＲＦ）装置が使用されている。
ところが、この高周波スパッタリング（ＲＦ）装置は、装置自体が高価であるばかりでなく、スパッタリング効率が悪く、電力消費量が大きく、制御が複雑であり、成膜速度も遅いという多くの欠点がある。
また、成膜速度を上げるため、高電力を加えた場合、基板温度が上昇し、ポリカーボネート製基板の変形を生ずるという問題がある。また、ＺｎＳ−ＳｉＯ２は膜厚が厚いために起因するスループット低下やコスト増も問題となっていた。
ところが、この高周波スパッタリング（ＲＦ）装置は、装置自体が高価であるばかりでなく、スパッタリング効率が悪く、電力消費量が大きく、制御が複雑であり、成膜速度も遅いという多くの欠点がある。
また、成膜速度を上げるため、高電力を加えた場合、基板温度が上昇し、ポリカーボネート製基板の変形を生ずるという問題がある。また、ＺｎＳ−ＳｉＯ２は膜厚が厚いために起因するスループット低下やコスト増も問題となっていた。
以上のようなことから、ZnSの使用すなわち硫黄成分を含有しない透明導電材料が提案されている（特許文献１及び２参照）。
しかし、特許文献１は、光学特性及び非晶質性が劣る領域を含む問題があり、また特許文献２は、十分な成膜速度が得られず、非晶質性に劣る領域を含むという問題があった。
本発明者らは、ZnSを使用せず、透過率、屈折率、非晶質性大きく改善した光情報記録媒体及びその製造方法並びにスパッタリングターゲットに関する発明を行った（特許文献３参照）。この発明は極めて有効であるが、本願発明は特許文献３に示す発明を基礎に、青色レーザーに対する405nmでの透過率をさらに改善するものである。
特開２０００−２５６０５９号公報
特開２０００−２５６０６１号公報
特願２００４−０３９１４５号公報
しかし、特許文献１は、光学特性及び非晶質性が劣る領域を含む問題があり、また特許文献２は、十分な成膜速度が得られず、非晶質性に劣る領域を含むという問題があった。
本発明者らは、ZnSを使用せず、透過率、屈折率、非晶質性大きく改善した光情報記録媒体及びその製造方法並びにスパッタリングターゲットに関する発明を行った（特許文献３参照）。この発明は極めて有効であるが、本願発明は特許文献３に示す発明を基礎に、青色レーザーに対する405nmでの透過率をさらに改善するものである。
本発明は、膜の非晶質性が安定であり、成膜速度が速く、記録層との密着性、機械特性に優れ、且つ透過率が高く、非硫化物系で構成することにより、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難い光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法並びにこれらに適用できるパッタリングターゲットに関するものであり、これによって、光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究を行った結果、従来の保護層材ZnS−SiO2を、下記に提示する硫化物を含まない酸化物のみの材料へと置き換え、かつZnS−SiO2と同等の光学特性及び非晶質安定性を確保し、さらに高速成膜が可能であり、光情報記録媒体の特性改善、生産性向上が可能であるとの知見を得た。
本発明はこの知見に基づき、１）SnO2を主成分とするIn2O3-ZnO-ZrO2-SnO2系複合酸化物に、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を添加した材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット、２）Ta、Yの何れか１種又は２種の元素をAとしたとき、それぞれの元素比がIn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.005〜0.41、Zn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.03〜0.45、Sn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.13〜0.82、Zr/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.02〜0.40、A/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.02〜0.30、で構成される酸化物であることを特徴とする上記１）記載のスパッタリングターゲット、３）Ta、Yの何れか１種又は２種の元素をAとしたとき、(Sn+A)/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.45〜0.92、で構成される酸化物であることを特徴とする上記１）又は２）記載のスパッタリングターゲット。
を提供する。
を提供する。
また、本発明は、４）相対密度が90%以上であることを特徴とする１〜３のいずれかに記載のスパッタリングターゲット、５）上記１〜４のいずれかに記載のスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成することを特徴とする光情報記録媒体及びその製造方法、６）上記１〜５のいずれかに記載のスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体の構造の一部を形成し、且つ記録層又は反射層と隣接して配置されていることを特徴とする光情報記録媒体及びその製造方法を提供する。
上記によって、保護層材ZnS−SiO2を、硫化物を含まない酸化物のみの材料へと置き換えることによって、隣接する反射層、記録層等への硫黄による劣化を抑制すると共に、ZnS−SiO2と同等又はそれ以上の光学特性及び非晶質安定性を備え、高速成膜が可能であり、記録層との密着性、機械特性に優れ、且つ透過率が高いという優れた特性を持つ光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法並びにこれらに適用できるパッタリングターゲットを提供できる。
特に、本願発明においては、青色レーザーに対する405nmでの透過率を大きく改善できる効果を有する。また、本材料系を使用することにより、光情報記録媒体の特性改善、生産性の大幅な向上が可能となるという優れた効果を有する。
特に、本願発明においては、青色レーザーに対する405nmでの透過率を大きく改善できる効果を有する。また、本材料系を使用することにより、光情報記録媒体の特性改善、生産性の大幅な向上が可能となるという優れた効果を有する。
上記に示す通り、ZnSを使用せず、透過率、屈折率、非晶質性大きく改善した光情報記録媒体及びその製造方法並びにスパッタリングターゲットに関する発明を行い、すでに特許出願したが（特許文献３参照）、本願発明はこの特許文献３に示す発明を基礎にして、青色レーザーに対する405nmでの透過率をさらに改善したものである。
本発明のスパッタリングターゲットは、SnO2を主成分とするIn2O3-ZnO-ZrO2-SnO2系複合酸化物に、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を添加した材料を基本とするものである。
この材料は、光学特性及び膜の非晶質性が安定しており、相変化型光記録媒体の保護層材に適しており、スパッタ成膜速度も速いことが判った。
本材料系にさらにTa2O5、Y2O3を適量添加することにより、より非晶質性が安定し、透過率を向上させることが出来るため、書換え速度の速い相変化記録媒体や青色レーザー系の相変化記録媒体用保護層材に適する。
本発明のスパッタリングターゲットは、SnO2を主成分とするIn2O3-ZnO-ZrO2-SnO2系複合酸化物に、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を添加した材料を基本とするものである。
この材料は、光学特性及び膜の非晶質性が安定しており、相変化型光記録媒体の保護層材に適しており、スパッタ成膜速度も速いことが判った。
本材料系にさらにTa2O5、Y2O3を適量添加することにより、より非晶質性が安定し、透過率を向上させることが出来るため、書換え速度の速い相変化記録媒体や青色レーザー系の相変化記録媒体用保護層材に適する。
また、特に本発明のスパッタリングターゲットは、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素をAとしたとき、それぞれの元素比がIn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.005〜0.41、Zn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.03〜0.45、Sn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.13〜0.82、Zr/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.02〜0.40、A/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.02〜0.30、で構成される酸化物であることが望ましい。これは、非晶質安定性を維持し且つ光学特性の良好な範囲を有するからである。上記数値範囲を逸脱する場合には、上記特性が悪くなる傾向がある。
さらに、本発明のスパッタリングターゲットは、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素をAとしたとき、(Sn+A)/(In+Zn+Sn+A)=0.45〜0.92、で構成される酸化物である材料から構成することもできる。これによって、光学特性及び成膜速度をさらに改善することができる。
さらに、本発明のスパッタリングターゲットは、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素をAとしたとき、(Sn+A)/(In+Zn+Sn+A)=0.45〜0.92、で構成される酸化物である材料から構成することもできる。これによって、光学特性及び成膜速度をさらに改善することができる。
また、本発明のスパッタリングターゲットは、相対密度が90%以上とすることが可能である。密度の向上は、スパッタ膜の均一性を高め、またスパッタリング時のパーティクルの発生を抑制できる効果を有する。
上記に述べるスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成する光情報記録媒体を提供することができる。さらに、上記スパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体の構造の一部を形成し、且つ記録層又は反射層と隣接して配置されている光情報記録媒体を作製することができる。
上記に述べるスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成する光情報記録媒体を提供することができる。さらに、上記スパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体の構造の一部を形成し、且つ記録層又は反射層と隣接して配置されている光情報記録媒体を作製することができる。
本発明は、このようにIn2O3とZnOとZrO2とSnO2の酸化物で構成されるSnO2を主成分とする材料とすることにより、導電性を保有させることができ、これによって、直流スパッタ（DCスパッタ）によって薄膜を形成することも、選択される材料によって可能となる。
DCスパッタリングはRFスパッタリングに比べ、成膜速度が速く、スパッタリング効率が良いという点で優れている。また、DCスパッタリング装置は価格が安く、制御が容易であり、電力の消費量も少なくて済むという利点がある。
また、保護膜自体の膜厚を薄くすることも可能となるため、生産性向上、基板加熱防止効果をさらに発揮できる。また、特にZrO2を添加すると青色レーザーに対する405nmでの透過率をさらに改善することができる。
DCスパッタリングはRFスパッタリングに比べ、成膜速度が速く、スパッタリング効率が良いという点で優れている。また、DCスパッタリング装置は価格が安く、制御が容易であり、電力の消費量も少なくて済むという利点がある。
また、保護膜自体の膜厚を薄くすることも可能となるため、生産性向上、基板加熱防止効果をさらに発揮できる。また、特にZrO2を添加すると青色レーザーに対する405nmでの透過率をさらに改善することができる。
さらに、本発明のスパッタリングターゲットを使用して形成された薄膜は、光情報記録媒体の構造の一部を形成し、記録層又は反射層と隣接して配置されるが、上記の通り、ZnSを使用していないので、Sによる汚染がなく、保護層に挟まれるように配置された記録層材への硫黄成分の拡散がなくなり、これによる記録層の劣化がなくなるという著しい効果がある。
また、大容量化、高速記録化のため、高反射率で高熱伝導特性を有する純ＡｇまたはＡｇ合金が反射層材に使用されるようになったが、この隣接する反射層への硫黄成分の拡散も無くなり、同様に反射層材が腐食劣化して、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こす原因が一掃されるという優れた効果を有する。
また、大容量化、高速記録化のため、高反射率で高熱伝導特性を有する純ＡｇまたはＡｇ合金が反射層材に使用されるようになったが、この隣接する反射層への硫黄成分の拡散も無くなり、同様に反射層材が腐食劣化して、光情報記録媒体の反射率等の特性劣化を引き起こす原因が一掃されるという優れた効果を有する。
本発明のスパッタリングターゲットは、平均粒径が5μm以下である各構成元素の酸化物粉末を、常圧焼結又は高温加圧焼結することによって製造することができる。これによって、相対密度が90％以上を有するスパッタリングターゲットが得られる。この場合、焼結前に酸化スズを主成分とした酸化物粉末を、800〜1300°Cで仮焼することが望ましい。この仮焼後、3μm以下に粉砕して焼結用の原料とする。
さらに、本発明のスパッタリングターゲットを使用することにより、生産性が向上し、品質の優れた材料を得ることができ、光ディスク保護膜をもつ光記録媒体を低コストで安定して製造できるという著しい効果がある。
本発明のスパッタリングターゲットの密度向上は、空孔を減少させ結晶粒を微細化し、ターゲットのスパッタ面を均一かつ平滑にすることができるので、スパッタリング時のパーティクルやノジュールを低減させ、さらにターゲットライフも長くすることができるという著しい効果を有し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができる。
本発明のスパッタリングターゲットの密度向上は、空孔を減少させ結晶粒を微細化し、ターゲットのスパッタ面を均一かつ平滑にすることができるので、スパッタリング時のパーティクルやノジュールを低減させ、さらにターゲットライフも長くすることができるという著しい効果を有し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができる。
以下、実施例および比較例に基づいて説明する。なお、本実施例はあくまで一例であり、この例によって何ら制限されるものではない。すなわち、本発明は特許請求の範囲によってのみ制限されるものであり、本発明に含まれる実施例以外の種々の変形を包含するものである。
（実施例１−３）
4N相当で5μm以下のIn2O3粉、SnO2粉、ZrO2粉、Ta2O5粉、Y2O3粉、及び4N相当で平均粒径5μm以下のZnO粉を準備し、表１に示す組成となるように調合して、湿式混合し、乾燥後、1100°Cで仮焼した。
さらに、この仮焼粉を平均粒径1μm相当まで湿式微粉砕した後、バインダーを添加してスプレードライヤーで造粒した。この造粒粉を冷間で加圧成形し、酸素雰囲気、1300°Cで常圧焼結し、この焼結材を機械加工でターゲット形状に仕上げた。このターゲットの構成成分、組成比（In/(In+Zn+Zr+Sn+A)、Zn/(In+Zn+Zr+Sn+A)、Sn/(In+Zn+Zr+Sn+A)、Zr/(In+Zn+Zr+Sn+A)、 A/(In+Zn+Zr+Sn+A)）を表１に示す。
なお、表１における非晶質性は、アニール（600°C、Ar雰囲気、30min）を施した成膜サンプルのXRD測定における2θ=20-60°の範囲の未成膜ガラス基板に対する最大ピーク強度比で表した。
4N相当で5μm以下のIn2O3粉、SnO2粉、ZrO2粉、Ta2O5粉、Y2O3粉、及び4N相当で平均粒径5μm以下のZnO粉を準備し、表１に示す組成となるように調合して、湿式混合し、乾燥後、1100°Cで仮焼した。
さらに、この仮焼粉を平均粒径1μm相当まで湿式微粉砕した後、バインダーを添加してスプレードライヤーで造粒した。この造粒粉を冷間で加圧成形し、酸素雰囲気、1300°Cで常圧焼結し、この焼結材を機械加工でターゲット形状に仕上げた。このターゲットの構成成分、組成比（In/(In+Zn+Zr+Sn+A)、Zn/(In+Zn+Zr+Sn+A)、Sn/(In+Zn+Zr+Sn+A)、Zr/(In+Zn+Zr+Sn+A)、 A/(In+Zn+Zr+Sn+A)）を表１に示す。
なお、表１における非晶質性は、アニール（600°C、Ar雰囲気、30min）を施した成膜サンプルのXRD測定における2θ=20-60°の範囲の未成膜ガラス基板に対する最大ピーク強度比で表した。
上記の仕上げ加工した6インチφサイズのターゲットを使用して、スパッタリングを行った。スパッタ条件は、DCスパッタ、RFスパッタ、スパッタパワー1000W、Arガス圧0．5Paとし、目標膜厚1500Åで成膜した。
成膜サンプルの透過率（波長405nm）%、屈折率（波長633nm）、非晶質性（成膜サンプルのアニール処理（600°C×30min、Ar雰囲気）を施した、XRD（Cu−Kα、40kV、30mA）による測定における2θ=20−60°の範囲の未成膜ガラス基板に対する最大ピーク強度で表した）、さらにスパッタ方式及び成膜速度（Å/sec）の測定した結果等を表１に示す。
成膜サンプルの透過率（波長405nm）%、屈折率（波長633nm）、非晶質性（成膜サンプルのアニール処理（600°C×30min、Ar雰囲気）を施した、XRD（Cu−Kα、40kV、30mA）による測定における2θ=20−60°の範囲の未成膜ガラス基板に対する最大ピーク強度で表した）、さらにスパッタ方式及び成膜速度（Å/sec）の測定した結果等を表１に示す。
以上の結果、実施例１−３のスパッタリングターゲットは相対密度が90〜98%に達し、安定したDC又はRFスパッタができた。そして、成膜速度が0．8〜3．7Å/secが達成され、極めて良好なスパッタ性を有した。
また、スパッタ膜の透過率は、75〜84％（405nm）に達し、屈折率は2．0〜2.1であり、また特定の結晶ピークは見られず、安定した非晶質性（1.0〜1.3）を有していた。
本実施例のターゲットは、ZnSを使用していないので、硫黄の拡散・汚染による光情報記録媒体の特性劣化は生じない。また、後述する比較例に比べて、成膜サンプルの透過率、屈折率、非晶質の安定性、ターゲット密度、成膜速度がいずれも良好な値を示し、選択される成分組成によっては、DCスパッタも可能であった。
また、スパッタ膜の透過率は、75〜84％（405nm）に達し、屈折率は2．0〜2.1であり、また特定の結晶ピークは見られず、安定した非晶質性（1.0〜1.3）を有していた。
本実施例のターゲットは、ZnSを使用していないので、硫黄の拡散・汚染による光情報記録媒体の特性劣化は生じない。また、後述する比較例に比べて、成膜サンプルの透過率、屈折率、非晶質の安定性、ターゲット密度、成膜速度がいずれも良好な値を示し、選択される成分組成によっては、DCスパッタも可能であった。
（比較例１−５）
表１に示すように、本発明者らが、先に出願した特許文献３に記載する発明の範囲内であり、本願発明の条件とは異なる原料粉の成分及び組成比の材料、すなわちZrO2粉を含有しない原料粉を準備した。これを実施例と同様の条件で、ターゲットを作製し、かつこのターゲットを用いてスパッタ膜を形成した。この結果を、同様に表１に示す。
表１に示すように、本発明者らが、先に出願した特許文献３に記載する発明の範囲内であり、本願発明の条件とは異なる原料粉の成分及び組成比の材料、すなわちZrO2粉を含有しない原料粉を準備した。これを実施例と同様の条件で、ターゲットを作製し、かつこのターゲットを用いてスパッタ膜を形成した。この結果を、同様に表１に示す。
比較例１〜５においても、透過率、屈折率、非晶質性、成膜速度はいずれも良好であるが、透過率（波長405nm）のみは68〜71%の範囲にあり、本願発明の実施例１〜３に比べてやや劣っている。すなわち、本願発明は青色レーザーに対する透過率（波長405nm）が75〜84%となり、著しく改善されているのが分る。
本発明のスパッタリングターゲットを使用して形成された薄膜は、光情報記録媒体の構造の一部を形成し、ZnSを使用していないので、記録層材への硫黄成分の拡散がなくなり、これによる記録層の劣化がなくなるという著しい効果がある。また、隣接する高反射率で高熱伝導特性を有する純AgまたはAg合金を反射層に用いた場合には、該反射層への硫黄成分の拡散も無くなり、反射層が腐食劣化して特性劣化を引き起こす原因が一掃されるという優れた効果を有する。
さらに、非晶質性が安定化するとともにターゲットに導電性が付与され、相対密度を90％以上の高密度化によって、材料によっては安定したDCスパッタを可能とする。そして、このDCスパッタリングの特徴である、スパッタの制御性を容易にし、成膜速度を上げ、スパッタリング効率を向上させることができるという著しい効果がある。さらにまた、成膜の際にスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、光ディスク保護膜をもつ光記録媒体を低コストで安定して製造できるという著しい効果がある。特に、本願発明においては、青色レーザーに対する透過率を大きく改善できる効果を有する。したがって、光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法並びにこれらに適用できるパッタリングターゲットとして極めて有用である。
さらに、非晶質性が安定化するとともにターゲットに導電性が付与され、相対密度を90％以上の高密度化によって、材料によっては安定したDCスパッタを可能とする。そして、このDCスパッタリングの特徴である、スパッタの制御性を容易にし、成膜速度を上げ、スパッタリング効率を向上させることができるという著しい効果がある。さらにまた、成膜の際にスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減し、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、光ディスク保護膜をもつ光記録媒体を低コストで安定して製造できるという著しい効果がある。特に、本願発明においては、青色レーザーに対する透過率を大きく改善できる効果を有する。したがって、光情報記録媒体用薄膜（特に保護膜としての使用）及びその製造方法並びにこれらに適用できるパッタリングターゲットとして極めて有用である。
Claims (6)
- SnO2を主成分とするIn2O3-ZnO-ZrO2-SnO2系複合酸化物に、Ta、Yの何れか１種又は２種の元素の酸化物を添加した材料から成ることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- Ta、Yの何れか１種又は２種の元素をAとしたとき、それぞれの元素比がIn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.005〜0.41、Zn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.03〜0.45、Sn/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.13〜0.82、Zr/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.02〜0.40、A/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.02〜0.30、で構成される酸化物であることを特徴とする請求項１記載のスパッタリングターゲット。
- Ta、Yの何れか１種又は２種の元素をAとしたとき、
(Sn+A)/(In+Zn+Zr+Sn+A)=0.45〜0.92、で構成される酸化物であることを特徴とする請求項１又は２記載のスパッタリングターゲット。 - 相対密度が90%以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
- 請求項１〜４のいずれかに記載のスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体構造の一部を形成することを特徴とする光情報記録媒体及びその製造方法。
- 請求項１〜５のいずれかに記載のスパッタリングターゲットを使用して、少なくとも薄膜として光情報記録媒体の構造の一部を形成し、且つ記録層又は反射層と隣接して配置されていることを特徴とする光情報記録媒体及びその製造方法。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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