JP2006186287A - レベルセンサ、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このレベルセンサは、送信器10および受信器11を含み、この送信器は、基板Wと投影システムPSとの間に基板表面の所定の位置へ向けて圧力波100を放出し、この圧力波の少なくとも一部を基板Wが反射するように構成してあり、受信器は、この反射波の少なくとも一部を受信するように構成してある。このレベルセンサは、この放出し且つ受信した圧力波に基づいて、基板Wの表面の高さを決めるように構成してある。このレベルセンサは、圧力波を使うので、浸漬法にも使え、迅速で、プロセス依存性が少ない。
【選択図】図2
Description
− このエミッタは、基板の表面上の所定の位置へ向けて信号を放出し、この信号の少なくとも一部を基板が反射するように構成してあり、
− 受信器は、反射信号の少なくとも一部を受信するように構成してあり、および
− このレベルセンサは、この放出し且つ受信した信号に基づいて、このレベルセンサに関する基板の表面の高さを決めるように構成してあるレベルセンサに関する。
この発明は、更に、リソグラフィ投影装置およびデバイス製造方法に関する。
− 放射線ビームB(例えば、UV放射線またはEUV放射線)を調整するように構成した照明システム(照明器)IL;
− パターニング装置(例えば、マスク)MAを支持するように構築し、且つこのパターニング装置をあるパラメータに従って正確に位置決めするように構成した第1位置決め装置PMに結合した支持構造体(例えば、マスクテーブル)MT;
− 基板(例えば、レジストを塗被したウエハ)Wを保持するように構築し、且つこの基板をあるパラメータに従って正確に位置決めするように構成した第2位置決め装置PWに結合した基板テーブル(例えば、ウエハテーブル)WT;および
− パターニング装置MAによって放射線ビームBに与えたパターンを基板Wの目標部分C(例えば、一つ以上のダイを含む)上に投影するように構成した投影システム(例えば、屈折性投影レンズシステム)PSを含む。
1.ステップモードでは、放射線ビームに与えた全パターンを目標部分C上に一度に(即ち、単一静的露出で)投影しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを本質的に固定して保持する。次に基板テーブルWTをXおよび/またはY方向に移動して異なる目標部分Cを露出できるようにする。ステップモードでは、露出領域の最大サイズが単一静的露出で結像する目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードでは、放射線ビームの与えたパターンを目標部分C上に投影(即ち、単一動的露出)しながら、マスクテーブルMTおよび基板テーブルWTを同期して走査する。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮)倍率および像反転特性によって決る。走査モードでは、露出領域の最大サイズが単一動的露出での目標部分の(非走査方向の)幅を制限し、一方走査運動の長さが目標部分の(走査方向の)高さを決める。
3.もう一つのモードでは、プログラム可能パターニング装置を保持するマスクテーブルMTを本質的に固定し、放射線ビームに与えた全パターンを目標部分C上に投影しながら、基板テーブルWTを動かしまたは走査する。このモードでは、一般的にパルス化した放射線源を使用し、プログラム可能パターニング装置を基板テーブルWTの各運動後または走査中の連続する放射線パルスの間に必要に応じて更新する。この作動モードは、上に言及した型式のプログラム可能ミラーアレイのような、プログラム可能パターニング装置を利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用できる。
上に説明した使用モードの組合せおよび/または変形または全く異なった使用モードも使ってよい。
プロセッサ20は、送信器10が信号を出す時刻と受信器11がこの信号を受ける時刻を測定する。プロセッサ20は、クロック22を使って時刻t0およびt1を決める。Δt=t1−t0が投影システムPSと基板Wの間の距離Δzの目安であることが分るだろう。一旦移動時間Δtが分ると、この圧力波の移動速度が分っているので、移動距離を計算できる。圧力波100を基板Wの表面に関して放出した角度と組合わせて初歩的角度測定を使って、距離Δzを計算できる。プロセッサ20は、Δzの決定した値をメモリ装置21に記憶する。
−“湾曲した、マイクロ加工した超音波変換器”K.A.ワング、S.パンダおよびI.ラダバウム著、米国94577 カリフォルニア州サンリアンドロ市、ドゥーリトル大通り14470センサント社(http://www.sensant.com/diagImag_recPubs.htm)。
− S.パンダ、C.ダフト、P.ワグナー、I.ラダバウム、“微細加工した超音波変換器(cMUT)プローブ:PZTプローブに優る結像利点”、AIUM発表、2003年5月。
11 受信器
12 変換器、エミッタ
13 ミラー
14 プローブ
15 プローブ
20 プロセッサ
22 クロック
30 レベルセンサ
40 変換器
50 レーザ源
60 ミラー
100 信号、圧力波
300 信号、圧力波
B 放射線ビーム
C 目標部分
IL 照明システム
MA パターニング手段
MT 支持体
PS 投影システム
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (17)
- 基板の表面の高さを決めるためにリソグラフィ装置で使用するためのレベルセンサであって、エミッタおよび受信器を含み、
エミッタは、基板の表面上の所定の位置へ向けて信号を放出し、該信号の少なくとも一部をこの基板が反射して反射信号を返すように構成してあり、
受信器は、反射信号の少なくとも一部を受信するように構成してあり、
レベルセンサは、放出し且つ受信した信号に基づいて、レベルセンサに関する基板の表面の高さを決めるように構成してあり、
信号が圧力波であるレベルセンサ。 - 前記信号が超音波圧力波である請求項1に記載されたレベルセンサ。
- プロセッサおよびクロックを含み、プロセッサがクロックと連絡するように構成してあり、プロセッサがクロックを使って前記エミッタが前記信号を出す時刻t0および前記反射信号を受信する時刻t1を決め、並びに第1時刻t0と第2時刻t1との間の差に基づいて前記高さを計算するように構成してある請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 前記放出した信号の一部と前記反射信号の少なくとも一部から干渉縞を創出しおよび位相シフトを使ってこの創出した干渉縞に基づいて上記高さを決めるように構成してある請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 使用中、前記信号を前記受信器が受信する前に、それを投影システムの一つおよび前記リソグラフィ装置が含む超音波ミラーによって少なくとも一度反射するように、前記信号を出すように構成してある請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 複数のエミッタおよび複数の対応する受信器を含む請求項1に記載されたレベルセンサ。
- ゼルニケ多項式を使って、プロセッサによって上記複数のエミッタおよび受信器の測定値に基づいて異なる高さを決める請求項6に記載されたレベルセンサ。
- 前記エミッタおよび前記受信器が第1変換器および第2変換器によって形成され、該第1および第2変換器は、反射信号を受信し且つ反射信号を受けると、前記基板の高さの依る周波数を有する信号を出して電気機械的発振器を作成するように構成してあり、前記レベルセンサは、電気機械的発振器の測定した周波数に基づいて前記基板の表面の高さを計算するように構成してある請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 前記放出した圧力波を前記エミッタから上記基板へおよび上記基板から前記受信器へ案内するためのプローブをさらに含む請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 前記エミッタは、前記基板へ向けてレーザパルスを出すと、前記基板が前記受信器の受信できる圧力波を出すように構成してあるレーザ源である請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 前記エミッタおよび前記受信器の両方として作動する変換器を含む請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 前記エミッタがマイクロ電気機械システムセンサである請求項1に記載されたレベルセンサ。
- 各々少なくとも一つの受信器およびエミッタとして使用できる、複数のマイクロ電気機械的システムセンサを含む請求項10に記載されたレベルセンサ。
- 放射線ビームを調整するように構成した照明システム、
パターン化した放射線ビームを作るためにこの放射線ビームの断面にパターンを与えることができるパターニング装置を支持するように構築した支持体、
基板(W)を保持するように構築した基板テーブル、および
このパターン化した放射線ビームを基板の目標部分上に投影するように構成した投影システムを含み、
更に請求項1に記載されたレベルセンサを含むリソグラフィ装置。 - パターンをパターニング装置から基板上に投影するように構成したリソグラフィ投影装置に於いて、請求項1に記載されたレベルセンサを含む投影装置。
- 放射線のパターン化したビームを基板上に投影する工程を含むデバイス製造方法に於いて、
請求項1に記載されたレベルセンサを使って基板の表面の高さを決める工程を含む方法。 - レベルセンサを使って基板の表面の高さを決めるための方法であって、前記センサがエミッタおよび受信器を含み、
基板の表面上の所定の位置へ向けて信号を放出し、該信号の少なくとも一部を基板が反射して反射信号を返すようにする工程、
反射信号の少なくとも一部を受信する工程、および
放出し且つ受信した信号に基づいて、レベルセンサに関する基板の表面の高さを計算する工程を含み、
この信号が圧力波である方法。
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