JP2006185790A - Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device - Google Patents

Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device Download PDF

Info

Publication number
JP2006185790A
JP2006185790A JP2004379214A JP2004379214A JP2006185790A JP 2006185790 A JP2006185790 A JP 2006185790A JP 2004379214 A JP2004379214 A JP 2004379214A JP 2004379214 A JP2004379214 A JP 2004379214A JP 2006185790 A JP2006185790 A JP 2006185790A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixel
pixels
sub
electro
optical device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2004379214A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taku Hiraiwa
卓 平岩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2004379214A priority Critical patent/JP2006185790A/en
Publication of JP2006185790A publication Critical patent/JP2006185790A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electro-optical device allowing a pixel constituent element having a certain thickness to be formed in each pixel regardless of a planar shape of the pixel. <P>SOLUTION: When an organic EL display device is manufactured, a single pixel 515 is divided into a plurality of sub-pixels 515a, 515b and 515c by barrier ribs 505. Then, in the sub-pixels 515a, 515b and 515c, a dimensional ratio in two directions perpendicular to each other is close to 1:1 relative to the pixel 515. A hole injection layer and a luminescent layer are formed in each of the sub-pixels 515a, 515b and 515c by jetting droplets MO of a liquid substance such as a hole injection layer formation material or a luminescent layer formation material from a droplet jetting head to the center of each of the sub-pixels 515a, 515b and 515c. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、多数の画素がマトリクス状に形成された電気光学装置、この電気光学装置を備えた電子機器、および電気光学装置の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、吐出ヘッドのノズル開口から液滴を吐出して画素構成要素を形成するための成膜技術に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device in which a large number of pixels are formed in a matrix, an electronic apparatus including the electro-optical device, and a method for manufacturing the electro-optical device. More specifically, the present invention relates to a film forming technique for forming a pixel component by discharging a droplet from a nozzle opening of an ejection head.

携帯電話機、パーソナルコンピュータやPDA(Personal Digital Assistants)などの電子機器に使用される表示装置としては、液晶装置や有機エレクトロルミネッセンス(EL/Electroluminescence)装置などの電気光学装置がある。また、これらの電気光学装置を製造するにあたって、その液晶装置のカラーフィルタや、有機EL装置の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層や発光層などの形成を、インクジェットプリンタなどで採用されているインクジェット方式で行うことが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Examples of display devices used in electronic devices such as mobile phones, personal computers, and PDAs (Personal Digital Assistants) include liquid crystal devices and electro-optical devices such as organic electroluminescence (EL / Electroluminescence) devices. In manufacturing these electro-optical devices, the formation of the color filter of the liquid crystal device, the hole injection layer, the hole transport layer, the electron injection layer, the electron transport layer, the light emitting layer, etc. It has been proposed to use the ink jet method employed in printers (see, for example, Patent Document 1).

このような電気光学装置において、各画素の平面形状は、実際には、画面の形状や、画面の縦方向および横方向における画素の数によって決定され、例えば、有機EL装置では、図11(A)、(B)に示すように、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層や発光層を形成すべき領域(画素515)が細長い長方形であることが多い。一方、インクジェット方式では、吐出ヘッドのノズル開口から液滴M0を吐出して基板上に着弾させるため、その形状は略円形である。従って、吐出ヘッドから画素515内に複数の液滴M0をそれらの着弾位置をずらして吐出し、液滴M0を画素515内で流動させて広げ、画素515全体に正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層や発光層などの画素構成要素を形成するようにしている。
特開2000−353594号公報
In such an electro-optical device, the planar shape of each pixel is actually determined by the shape of the screen and the number of pixels in the vertical and horizontal directions of the screen. For example, in an organic EL device, FIG. ) And (B), the region (pixel 515) where the hole injection layer, the hole transport layer, the electron injection layer, the electron transport layer and the light emitting layer are to be formed is often an elongated rectangle. On the other hand, in the ink jet method, the droplet M0 is ejected from the nozzle opening of the ejection head and landed on the substrate, so that the shape is substantially circular. Accordingly, a plurality of droplets M0 are ejected from the ejection head into the pixel 515 by shifting their landing positions, and the droplet M0 is caused to flow and spread in the pixel 515, so that a hole injection layer and a hole transport are formed throughout the pixel 515. Pixel components such as a layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and a light emitting layer are formed.
JP 2000-353594 A

しかしながら、細長い領域に液滴を吐出して領域全体に広げる構成では、流動する方向によって流動距離が大きく相違するため、液滴の着弾位置がわずかにずれただけでも、液滴が均等に流動せず、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層や発光層などの膜厚にばらつきが発生するという問題点がある。このようなばらつきは、画素毎に輝度がばらついて画像の品位を低下させるため、好ましくない。   However, in a configuration in which droplets are ejected into an elongated region and spread over the entire region, the flow distance varies greatly depending on the direction of flow, so even if the landing position of the droplet is slightly shifted, the droplet can flow evenly. However, there is a problem that variations occur in the film thickness of the hole injection layer, the hole transport layer, the electron injection layer, the electron transport layer, the light emitting layer, and the like. Such variation is not preferable because luminance varies from pixel to pixel and image quality is degraded.

以上の問題点に鑑みて、画素の平面形状にかかわらず、各画素に一定厚の画素構成要素を成膜可能な電気光学装置およびその製造方法を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an electro-optical device capable of forming a pixel component having a certain thickness on each pixel regardless of the planar shape of the pixel, and a manufacturing method thereof.

上記課題を解決するために、本発明では、複数の画素構成要素によって多数の画素がマトリクス状に形成された電気光学装置において、前記画素は、直交する2方向における寸法比が当該画素よりも1:1に近い平面形状を備えた複数のサブ画素に分割され、前記複数の画素構成要素のうちの少なくとも1つは、前記複数のサブ画素の各々に分割された状態でサブ画素全体に形成されていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, according to the present invention, in an electro-optical device in which a large number of pixels are formed in a matrix by a plurality of pixel components, the pixel has a dimensional ratio in two orthogonal directions that is 1 than that of the pixel. Is divided into a plurality of sub-pixels having a planar shape close to 1 and at least one of the plurality of pixel components is formed over the sub-pixels in a state of being divided into each of the plurality of sub-pixels. It is characterized by.

本発明において、前記多数の画素は、例えば、各々が長方形、長丸あるいは楕円形の平面形状を有している。   In the present invention, each of the plurality of pixels has a planar shape of, for example, a rectangle, an oval, or an ellipse.

本発明において、前記サブ画素は各々、概ね、正多角形あるいは円形の平面形状を有していることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that each of the sub-pixels has a regular polygonal shape or a circular planar shape.

本発明において、前記画素は、当該画素の周りおよび当該画素内の隔壁によって前記複数のサブ画素に分割されていることが好ましい。   In the present invention, it is preferable that the pixel is divided into the plurality of sub-pixels around the pixel and by partition walls in the pixel.

本発明において、電気光学装置は、例えばカラーEL表示装置であり、この場合、前記多数の画素は各々、所定の色に対応している。このようなカラーEL表示装置に本発明を適用する場合、前記複数の画素構成要素のうち、前記サブ画素の各々に分割して形成された画素構成要素は、例えば、自発光素子の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層あるいは発光層である。   In the present invention, the electro-optical device is, for example, a color EL display device. In this case, each of the plurality of pixels corresponds to a predetermined color. When the present invention is applied to such a color EL display device, among the plurality of pixel components, the pixel component formed by being divided into each of the sub-pixels is, for example, hole injection of a self-luminous element. A layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, or a light emitting layer.

本発明において、電気光学装置は、例えばカラー液晶装置であり、この場合、前記多数の画素は各々、所定の色に対応している。このようなカラー液晶装置に本発明を適用する場合、前記複数の画素構成要素のうち、前記サブ画素の各々に分割して形成された画素構成要素は、例えば、カラーフィルタである。   In the present invention, the electro-optical device is, for example, a color liquid crystal device. In this case, each of the plurality of pixels corresponds to a predetermined color. In the case where the present invention is applied to such a color liquid crystal device, among the plurality of pixel components, the pixel component formed by being divided into each of the sub-pixels is, for example, a color filter.

本発明において、前記多数の画素は各色でサイズが等しく、前記画素の前記サブ画素への分割数が各色で等しい構成を採用できるが、前記多数の画素が色毎にサイズが相違しており、前記画素の前記サブ画素への分割数が少なくとも2つの色間で相違している構成を採用してもよい。   In the present invention, the large number of pixels may have the same size for each color, and the number of divisions of the pixel into the sub-pixels may be the same for each color, but the large number of pixels have different sizes for each color, A configuration in which the number of divisions of the pixel into the sub-pixels is different between at least two colors may be employed.

本発明では、吐出ヘッドのノズル開口から液滴を吐出して電気光学装置用基板上にマトリクス状に構成される多数の画素の各々に少なくとも1つの画素構成要素を形成する液滴吐出工程を有する電気光学装置の製造方法において、前記液滴吐出工程を行う前に、前記画素を、直交する2方向における寸法比が前記画素よりも1:1に近い平面形状の複数のサブ画素に分割する分割工程を有し、前記液滴吐出工程では、前記複数のサブ画素の各々に対して前記ノズル開口から液滴を吐出することを特徴とする。   The present invention includes a droplet discharge step of discharging droplets from the nozzle openings of the discharge head to form at least one pixel component in each of a large number of pixels configured in a matrix on the electro-optical device substrate. In the electro-optical device manufacturing method, before performing the liquid droplet ejection step, the pixel is divided into a plurality of planar sub-pixels whose dimensional ratios in two orthogonal directions are closer to 1: 1 than the pixels. A step of discharging a droplet from the nozzle opening to each of the plurality of sub-pixels.

本発明において、前記分割工程では、前記画素の周りおよび当該画素内に、前記液滴のサブ画素外への流出を防止可能な隔壁を形成して前記画素を前記複数のサブ画素に分割することが好ましい。   In the present invention, in the dividing step, a partition that can prevent the liquid droplet from flowing out of the sub-pixel is formed around the pixel and in the pixel to divide the pixel into the plurality of sub-pixels. Is preferred.

本発明を適用した電気光学装置は、携帯電話機、パーソナルコンピュータやPDAなどなどの電子機器に用いられる。   An electro-optical device to which the present invention is applied is used in an electronic apparatus such as a mobile phone, a personal computer, or a PDA.

以下に、図面を参照して、本発明の実施に用いる液滴吐出装置の一例、電気光学装置の一例としての有機EL表示装置、および有機EL表示装置の製造方法を説明する。   Hereinafter, an example of a droplet discharge device, an organic EL display device as an example of an electro-optical device, and a method for manufacturing the organic EL display device will be described with reference to the drawings.

(液滴吐出装置の全体構成)
図1は、本発明で用いる液滴吐出装置の全体構成を示す斜視図である。なお、液滴吐出装置によってカラー印刷やカラーの表示装置を製造する場合、通常、R、G、Bの3色の絵素を形成する必要がある。従って、液滴吐出装置については、1台で各色に対応する液滴を吐出可能に構成するか、所定の色に対応するものを複数台、準備することになるが、以下の説明では、後者において複数、準備した液滴吐出装置のうちの1台を説明する。
(Overall configuration of droplet discharge device)
FIG. 1 is a perspective view showing the overall configuration of a droplet discharge apparatus used in the present invention. Note that when color printing or a color display device is manufactured by a droplet discharge device, it is usually necessary to form three color R, G, and B picture elements. Accordingly, with regard to the droplet discharge device, one unit can be configured to discharge droplets corresponding to each color, or a plurality of units corresponding to a predetermined color are prepared. One of the plurality of prepared droplet discharge devices will be described.

図1において、液滴吐出装置10は、各種の液状物を基板などのワーク上の所望位置に液滴として吐出するものであり、液状物を各種ワーク上に液滴として吐出するノズルを備える複数の液滴吐出ヘッド22と、これらの液滴吐出ヘッド22を保持する共通のキャリッジ26とを有している。また、液滴吐出装置10は、液滴吐出ヘッド22の位置を制御するヘッド位置制御装置17と、ワークとしての基板12の位置を制御する基板位置制御装置18と、液滴吐出ヘッド22を基板12に対して主走査移動させる主走査駆動手段としての主走査駆動装置19と、液滴吐出ヘッド22を基板12に対して副走査移動させる副走査駆動手段としての副走査駆動装置21と、基板12を液滴吐出装置10内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置23と、液滴吐出装置10の全般の制御を司るコントロール装置24とを有しており、ヘッド位置制御装置17、基板位置制御装置18、主走査駆動装置19、および副走査駆動装置21によって、液滴吐出ヘッド22(キャリッジ26)と基板12とを相対移動させる移動手段が構成されている。ヘッド位置制御装置17、基板位置制御装置18、主走査駆動装置19、および副走査駆動装置21はベース9の上に設置され、それらの各装置は必要に応じてカバー14によって覆われる。   In FIG. 1, a droplet discharge device 10 discharges various liquid materials as droplets to desired positions on a workpiece such as a substrate, and includes a plurality of nozzles that discharge liquid materials as droplets onto various workpieces. Liquid droplet ejection heads 22 and a common carriage 26 for holding these liquid droplet ejection heads 22. The droplet discharge device 10 includes a head position control device 17 that controls the position of the droplet discharge head 22, a substrate position control device 18 that controls the position of the substrate 12 as a workpiece, and the droplet discharge head 22 as a substrate. A main scanning drive unit 19 as a main scanning driving unit for main scanning movement with respect to 12, a sub scanning driving unit 21 as a sub scanning driving unit for moving the droplet discharge head 22 with respect to the substrate 12, and a substrate 12 is provided with a substrate supply device 23 for supplying 12 to a predetermined work position in the droplet discharge device 10 and a control device 24 for controlling the droplet discharge device 10 in general. The position control device 18, the main scanning drive device 19, and the sub-scanning drive device 21 constitute moving means for relatively moving the droplet discharge head 22 (carriage 26) and the substrate 12. There. The head position control device 17, the substrate position control device 18, the main scanning drive device 19, and the sub-scanning drive device 21 are installed on the base 9, and each of these devices is covered with a cover 14 as necessary.

ヘッド位置制御装置17は、液滴吐出ヘッド22を面内回転させるαモータ(図示せず)と、液滴吐出ヘッド22を副走査方向Yと平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ(図示せず)と、液滴吐出ヘッド22を主走査方向と平行な軸線回りに揺動回転させるγモータ(図示せず)と、そして液滴吐出ヘッド22を上下方向へ平行移動させるZモータ(図示せず)とを備えている。基板位置制御装置18は、基板12を載せるテーブル49と、そのテーブル49を面内回転させるθモータ(図示せず)とを備えている。主走査駆動装置19は、主走査方向Xへ延びるXガイドレール52と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したXスライダ53とを備えている。Xスライダ53は、内蔵するリニアモータが作動するときにXガイドレール52に沿って主走査方向へ平行移動する。副走査駆動装置21は、副走査方向Yへ延びるYガイドレール(図示せず)と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したYスライダ56とを備えている。Yスライダ56は、内蔵するリニアモータが作動するときにYガイドレールに沿って副走査方向Yへ平行移動する。Xスライダ53およびYスライダ56内においてパルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うことができ、従って、Xスライダ53に支持された液滴吐出ヘッド22の主走査方向X上の位置やテーブル49の副走査方向Y上の位置などを高精細に制御できる。なお、液滴吐出ヘッド22やテーブル49の位置制御は、パルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボモータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制御方法によって実現することもできる。   The head position control device 17 includes an α motor (not shown) that rotates the droplet discharge head 22 in-plane, and a β motor that swings and rotates the droplet discharge head 22 about an axis parallel to the sub-scanning direction Y (see FIG. A γ motor (not shown) that swings and rotates the droplet discharge head 22 about an axis parallel to the main scanning direction, and a Z motor that translates the droplet discharge head 22 in the vertical direction (not shown). Not shown). The substrate position control device 18 includes a table 49 on which the substrate 12 is placed, and a θ motor (not shown) that rotates the table 49 in-plane. The main scanning drive device 19 includes an X guide rail 52 extending in the main scanning direction X, and an X slider 53 incorporating a pulse-driven linear motor. The X slider 53 translates in the main scanning direction along the X guide rail 52 when the built-in linear motor operates. The sub-scanning driving device 21 includes a Y guide rail (not shown) extending in the sub-scanning direction Y and a Y slider 56 incorporating a pulse-driven linear motor. The Y slider 56 translates in the sub-scanning direction Y along the Y guide rail when the built-in linear motor operates. The linear motor that is pulse-driven in the X slider 53 and the Y slider 56 can finely control the rotation angle of the output shaft by the pulse signal supplied to the motor. Therefore, the droplet supported by the X slider 53 The position of the ejection head 22 in the main scanning direction X and the position of the table 49 in the sub-scanning direction Y can be controlled with high definition. The position control of the droplet discharge head 22 and the table 49 is not limited to the position control using the pulse motor, and can be realized by feedback control using a servo motor or any other control method.

基板供給装置23は、基板12を収容する基板収容部57と、基板12を搬送するロボット58とを備えている。ロボット58は、床、地面などといった設置面に置かれる基台59と、基台59に対して昇降移動する昇降軸61と、昇降軸61を中心として回転する第1アーム62と、第1アーム62に対して回転する第2アーム63と、第2アーム63の先端下面に設けられた吸着パッド64とを備えており、吸着パッド64は、空気吸引などによって基板12を吸着できる。   The substrate supply device 23 includes a substrate accommodating portion 57 that accommodates the substrate 12 and a robot 58 that conveys the substrate 12. The robot 58 includes a base 59 placed on an installation surface such as a floor, the ground, a lift shaft 61 that moves up and down relative to the base 59, a first arm 62 that rotates about the lift shaft 61, and a first arm. A second arm 63 that rotates with respect to 62 and a suction pad 64 provided on the lower surface of the front end of the second arm 63 are provided. The suction pad 64 can suck the substrate 12 by air suction or the like.

また、液滴吐出ヘッド22の近傍には、その液滴吐出ヘッド22と一体に移動するヘッド用カメラ79が配置されている。なお、ベース9上に設けた支持装置(図示せず)には基板用カメラ(図示せず)が配置され、基板用カメラは、基板12を撮影可能である。   A head camera 79 that moves integrally with the droplet discharge head 22 is disposed in the vicinity of the droplet discharge head 22. A support device (not shown) provided on the base 9 is provided with a substrate camera (not shown), and the substrate camera can photograph the substrate 12.

ここで、主走査駆動装置19によって駆動されて主走査移動する液滴吐出ヘッド22の軌跡下であって副走査駆動装置21の一方の脇位置には、キャッピング機構76およびクリーニング機構77が配置され、キャッピング機構76は、液滴吐出ヘッド22が待機状態にあるときにノズルの乾燥を防止するための機構である。クリーニング機構77は、液滴吐出ヘッド22を洗浄するための機構である。また、副走査駆動装置21の他方の脇位置には、液滴吐出ヘッド22内の個々のノズル27から吐出される液滴の重量を測定する電子天秤78が配置されている。   Here, a capping mechanism 76 and a cleaning mechanism 77 are arranged under the trajectory of the droplet discharge head 22 that is driven by the main scanning driving device 19 and moves in the main scanning direction, at one side of the sub-scanning driving device 21. The capping mechanism 76 is a mechanism for preventing the nozzle from drying when the droplet discharge head 22 is in a standby state. The cleaning mechanism 77 is a mechanism for cleaning the droplet discharge head 22. In addition, an electronic balance 78 for measuring the weight of droplets ejected from the individual nozzles 27 in the droplet ejection head 22 is disposed at the other side position of the sub-scanning drive device 21.

(液滴吐出ヘッドの構成)
図2(A)、(B)、(C)、(D)はそれぞれ、液滴吐出ヘッド22の構成を示す説明図、液滴吐出ヘッド22の内部構造を模式的に示す説明図、撓み振動モードの圧力発生素子の説明図、および縦振動モードの圧力発生素子の説明図である。なお、液滴吐出ヘッド22は、共通のキャリッジ26に複数、保持されているが、それらは基本的に同一構成であるので、その1つを例に挙げて説明する。
(Configuration of droplet discharge head)
2A, 2 </ b> B, 2 </ b> C, and 2 </ b> D are explanatory diagrams showing the configuration of the droplet discharge head 22, explanatory diagrams schematically showing the internal structure of the droplet discharge head 22, and flexural vibration, respectively. It is explanatory drawing of the pressure generating element of mode, and explanatory drawing of the pressure generating element of longitudinal vibration mode. Note that a plurality of droplet discharge heads 22 are held by a common carriage 26, but since they basically have the same configuration, one of them will be described as an example.

図2(A)に示すように、液滴吐出ヘッド22は、多数のノズル開口27を列状に並べることによって形成されたノズル列28を備えている。ノズル開口27の数は、例えば180個であり、ノズル開口27の穴径は例えば28μmであり、ノズル開口27間のノズルピッチは例えば141μmである。なお、液滴吐出ヘッド22の基板12に対する主走査方向Xおよびそれに直交する副走査方向Yは図示の通りである。すなわち、液滴吐出ヘッド22は、そのノズル列28が主走査方向Xと交差する方向へ延びるように位置設定され、この主走査方向Xへ平行移動する間に、液状物を複数のノズル開口27から選択的に吐出することにより、基板12内の所定位置に液滴を着弾させる。また、液滴吐出ヘッド22は副走査方向Yへ所定距離だけ平行移動することにより、液滴吐出ヘッド22による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。   As shown in FIG. 2A, the droplet discharge head 22 includes a nozzle row 28 formed by arranging a large number of nozzle openings 27 in a row. The number of nozzle openings 27 is, for example, 180, the hole diameter of the nozzle openings 27 is, for example, 28 μm, and the nozzle pitch between the nozzle openings 27 is, for example, 141 μm. The main scanning direction X of the droplet discharge head 22 with respect to the substrate 12 and the sub-scanning direction Y orthogonal thereto are as illustrated. That is, the droplet discharge head 22 is positioned so that the nozzle row 28 extends in a direction intersecting with the main scanning direction X, and the liquid material is transferred to the plurality of nozzle openings 27 while moving in parallel in the main scanning direction X. The liquid droplets are made to land at a predetermined position in the substrate 12 by selectively ejecting them. Further, the droplet discharge head 22 can be moved in parallel in the sub-scanning direction Y by a predetermined distance, so that the main scanning position by the droplet discharge head 22 can be shifted at a predetermined interval.

図2(B)、(C)に示すように、液滴吐出ヘッド22は、例えば、ステンレス製のノズルプレート29と、それに対向する弾性板31と、それらを互いに接合する複数の仕切部材32とを有している。ノズルプレート29と弾性板31との間には、仕切部材32によって複数の圧力発生室33、および液溜り34が形成され、複数の圧力発生室33と液溜り34とは液状物流入口38を介して互いに連通している。弾性板31の適所には液状物供給穴36が形成され、この液状物供給穴36に液状物供給装置37が接続される。この液状物供給装置37は吐出されることとなる液状物Mを液状物供給穴36へ供給する。供給された液状物Mは液溜り34に充満し、さらに液状物流入口38を通って圧力発生室33に充満する。   As shown in FIGS. 2B and 2C, the droplet discharge head 22 includes, for example, a stainless steel nozzle plate 29, an elastic plate 31 opposed thereto, and a plurality of partition members 32 that join them together. have. A plurality of pressure generating chambers 33 and a liquid reservoir 34 are formed between the nozzle plate 29 and the elastic plate 31 by the partition member 32, and the plurality of pressure generating chambers 33 and the liquid reservoir 34 are connected via a liquid flow inlet 38. Communicate with each other. A liquid material supply hole 36 is formed at an appropriate position of the elastic plate 31, and a liquid material supply device 37 is connected to the liquid material supply hole 36. The liquid material supply device 37 supplies the liquid material M to be discharged to the liquid material supply hole 36. The supplied liquid material M fills the liquid reservoir 34, and further fills the pressure generating chamber 33 through the liquid flow inlet 38.

ノズルプレート29には、圧力発生室33から液状物Mを液滴M0として噴射するためのノズル開口27が設けられており、そのノズル開口27が開口しているノズル形成面271は平坦面とされている。弾性板31の圧力発生室33を形成する面の裏面には、この圧力発生室33に対応させて圧力発生素子39が取り付けられている。この圧力発生素子39は、圧電素子41、およびこの圧電素子11を挟持する一対の電極42a、42bを備えたたわみ振動モードの圧電素子である。その振動方向を矢印Cで示す。   The nozzle plate 29 is provided with a nozzle opening 27 for ejecting the liquid M from the pressure generating chamber 33 as a droplet M0, and the nozzle forming surface 271 where the nozzle opening 27 is open is a flat surface. ing. A pressure generating element 39 is attached to the back surface of the surface of the elastic plate 31 forming the pressure generating chamber 33 so as to correspond to the pressure generating chamber 33. The pressure generating element 39 is a piezoelectric element in a flexural vibration mode including a piezoelectric element 41 and a pair of electrodes 42 a and 42 b that sandwich the piezoelectric element 11. The vibration direction is indicated by an arrow C.

また、図2(D)に示すように、圧力発生素子39としては、縦振動モードの圧電素子を用いてもよい。この縦振動モードの圧電素子(圧力発生素子39)では、伸長方向に平行に圧電材料と導電材料を交互に積層して構成されており、その先端は弾性板31に固定され、他端は基台20に固定されている。このような圧力発生素子39では、充電状態では導電層の積層方向と直角な方向に収縮し、また充電状態が解かれると、導電層と直角な方向に伸長する。   As shown in FIG. 2D, the pressure generating element 39 may be a longitudinal vibration mode piezoelectric element. This longitudinal vibration mode piezoelectric element (pressure generating element 39) is configured by alternately laminating piezoelectric materials and conductive materials in parallel to the extension direction, with the tip fixed to the elastic plate 31 and the other end based on the base. It is fixed to the base 20. Such a pressure generating element 39 contracts in a direction perpendicular to the stacking direction of the conductive layers in a charged state, and extends in a direction perpendicular to the conductive layer when the charged state is released.

いずれの圧電素子を用いた場合も、電極間に印加される駆動信号によって変形し、圧力発生室33を膨張、収縮させる。なお、ノズル開口27の周辺部には、液滴M0の飛行曲がりやノズル開口27の穴詰まりなどを防止するために、例えばNi−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥液状物層43が設けられる。   When any piezoelectric element is used, it is deformed by a drive signal applied between the electrodes, and the pressure generating chamber 33 is expanded and contracted. In addition, a liquid repellent layer 43 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided around the nozzle opening 27 in order to prevent the flying of the droplet M0 and the clogging of the nozzle opening 27. It is done.

[電気光学装置の構成、および製造方法の概要]
電気光学装置の一例として、有機EL表示装置の構成およびその製造工程を説明する。図3は、電気光学物質として電荷注入型の有機薄膜を用いたEL素子を備えた有機EL表示装置の電気的構成を示すブロック図である。図4は、有機EL表示装置の製造工程の手順を示す製造工程断面図であり、有機EL表示装置の1画素分の断面に相当する。
[Configuration of electro-optical device and outline of manufacturing method]
As an example of an electro-optical device, a configuration of an organic EL display device and a manufacturing process thereof will be described. FIG. 3 is a block diagram showing an electrical configuration of an organic EL display device including an EL element using a charge injection type organic thin film as an electro-optical material. FIG. 4 is a manufacturing process cross-sectional view showing the steps of the manufacturing process of the organic EL display device, and corresponds to a cross section of one pixel of the organic EL display device.

図3において、有機EL表示装置500は、有機半導体膜に駆動電流が流れることによって発光するEL素子をTFTで駆動制御する表示装置であり、このタイプの表示装置に用いられる発光素子はいずれも自己発光するため、バックライトを必要とせず、また、視野角依存性が少ないなどの利点がある。ここに示す電気光学装置500では、複数の走査線563と、この走査線563の延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線564と、これらのデータ線564に並列する複数の共通給電線505と、データ線564と走査線563との交差点に対応する画素515とが構成され、画素515は、画像表示領域にマトリクス状に配置されている。データ線564に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ線駆動回路551が構成されている。走査線563に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査線駆動回路554が構成されている。また、画素515の各々には、走査線563を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ509と、このスイッチング薄膜トランジスタ509を介してデータ線564から供給される画像信号を保持する保持容量533と、この保持容量533によって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ510と、カレント薄膜トランジスタ510を介して共通給電線505に電気的に接続したときに共通給電線505から駆動電流が流れ込む発光素子513とが構成されている。発光素子513は、画素電極の上層側には、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、有機EL材料層としての有機半導体膜、リチウム含有アルミニウム、カルシウムなどの金属膜からなる対向電極が積層された構成になっており、対向電極は、データ線564などを跨いで複数の画素515にわたって形成されている。ここで、有機EL表示装置500でカラー表示を行う場合には、各画素515を赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応させることになる。   In FIG. 3, an organic EL display device 500 is a display device that drives and controls an EL element that emits light when a drive current flows through an organic semiconductor film, and any of the light-emitting elements used in this type of display device is self. Since it emits light, there is an advantage that a backlight is not required and the viewing angle dependency is small. In the electro-optical device 500 shown here, a plurality of scanning lines 563, a plurality of data lines 564 extending in a direction intersecting the extending direction of the scanning lines 563, and the data lines 564 are arranged in parallel. A plurality of common power supply lines 505 and pixels 515 corresponding to the intersections of the data lines 564 and the scanning lines 563 are configured, and the pixels 515 are arranged in a matrix in the image display area. A data line driving circuit 551 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is configured for the data line 564. A scanning line driving circuit 554 including a shift register and a level shifter is configured for the scanning line 563. Each pixel 515 includes a switching thin film transistor 509 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode through the scanning line 563 and a storage capacitor for holding an image signal supplied from the data line 564 through the switching thin film transistor 509. 533, a current thin film transistor 510 to which an image signal held by the storage capacitor 533 is supplied to the gate electrode, and a drive current from the common power supply line 505 when electrically connected to the common power supply line 505 via the current thin film transistor 510. The light emitting element 513 into which the liquid flows is configured. The light-emitting element 513 includes a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, an organic semiconductor film as an organic EL material layer, a metal film such as lithium-containing aluminum and calcium on the upper side of the pixel electrode. The counter electrode is made up of a plurality of pixels 515 across the data line 564 and the like. Here, when performing color display on the organic EL display device 500, each pixel 515 is made to correspond to red (R), green (G), and blue (B).

このような構成の有機EL表示装置500を製造するには、基板を用意する。ここで、有機EL表示装置500では、後述する発光層による発光光を基板側から取り出すことも可能であり、また基板と反対側から取り出す構成とすることも可能である。発光光を基板側から取り出す構成とする場合、基板材料としてはガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明なものが用いられるが、特にガラスが好適に用いられる。また、基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよい。なお、基板と反対側から発光光を取り出す構成の場合、基板は不透明であってもよく、その場合、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。   In order to manufacture the organic EL display device 500 having such a configuration, a substrate is prepared. Here, in the organic EL display device 500, light emitted from a light emitting layer to be described later can be extracted from the substrate side, and can be configured to be extracted from the side opposite to the substrate. In the case where the emitted light is extracted from the substrate side, a transparent or translucent material such as glass, quartz, or resin is used as the substrate material, and glass is particularly preferably used. Alternatively, a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent material, or a dielectric reflection film may be disposed on the substrate to control the emission color. In the case where the emitted light is extracted from the side opposite to the substrate, the substrate may be opaque. In that case, a ceramic sheet such as alumina, a metal sheet such as stainless steel that has been subjected to an insulation treatment such as surface oxidation, A curable resin, a thermoplastic resin, or the like can be used.

本例では、図4(A)に示すように、基板としてガラスからなる透明基板502(図1に示す基板12に相当する)を用意し、透明基板502に対して、必要に応じてTEOS(テトラエトキシシラン)や酸素ガスなどを原料としてプラズマCVD法により厚さ約200〜500nmのシリコン酸化膜からなる下地保護膜(図示せず)を形成する。   In this example, as shown in FIG. 4A, a transparent substrate 502 made of glass (corresponding to the substrate 12 shown in FIG. 1) is prepared as a substrate, and TEOS (corresponding to the transparent substrate 502 as needed). A base protective film (not shown) made of a silicon oxide film having a thickness of about 200 to 500 nm is formed by a plasma CVD method using tetraethoxysilane) or oxygen gas as a raw material.

次に、透明基板502の温度を約350℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマCVD法により厚さ約30〜70nmのアモルファスシリコン膜からなる半導体膜520aを形成する。次に、半導体膜520aに対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜520aをポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が400mmのラインビームを用い、その出力強度は、例えば200mJ/cmとする。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の90%に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。 Next, the temperature of the transparent substrate 502 is set to about 350 ° C., and a semiconductor film 520a made of an amorphous silicon film having a thickness of about 30 to 70 nm is formed on the surface of the base protective film by plasma CVD. Next, a crystallization process such as laser annealing or solid phase growth is performed on the semiconductor film 520a to crystallize the semiconductor film 520a into a polysilicon film. In the laser annealing method, a line beam having a beam length of 400 mm is used with, for example, an excimer laser, and the output intensity is set to, for example, 200 mJ / cm 2 . With respect to the line beam, the line beam is scanned so that a portion corresponding to 90% of the peak value of the laser intensity in the short dimension direction overlaps each region.

次に、図4(B)に示すように、半導体膜(ポリシリコン膜)520aをパターニングして島状の半導体膜520bとし、その表面に対して、TEOSや酸素ガスなどを原料としてプラズマCVD法により厚さ約60〜150nmのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜521aを形成する。なお、半導体膜520bは、図3に示したカレント薄膜トランジスタ510のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ509のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる半導体膜も形成されている。つまり、有機EL表示装置500では、二種類のトランジスタ509、510が同時、あるいは異なる層間に形成されるが、同じ手順で作られるため、以下の説明ではトランジスタに関しては、カレント薄膜トランジスタ510についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタ509についてはその説明を省略する。   Next, as shown in FIG. 4B, the semiconductor film (polysilicon film) 520a is patterned to form an island-shaped semiconductor film 520b, and a plasma CVD method using TEOS, oxygen gas, or the like as a raw material on the surface thereof. As a result, a gate insulating film 521a made of a silicon oxide film or a nitride film having a thickness of about 60 to 150 nm is formed. Note that the semiconductor film 520b serves as a channel region and a source / drain region of the current thin film transistor 510 illustrated in FIG. 3, but a semiconductor film serving as a channel region and a source / drain region of the switching thin film transistor 509 at different cross-sectional positions. Is also formed. That is, in the organic EL display device 500, two types of transistors 509 and 510 are formed at the same time or between different layers, but are manufactured in the same procedure. Therefore, in the following description, only the current thin film transistor 510 will be described. Description of the switching thin film transistor 509 is omitted.

次に、図4(C)に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜からなる導電膜をスパッタ法により形成した後、これをパターニングし、ゲート電極510gを形成する。次に、この状態で高濃度のリンイオンを打ち込み、半導体膜520bに、ゲート電極510gに対して自己整合的にソース・ドレイン領域510a、510bを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域510cとなる。   Next, as shown in FIG. 4C, after a conductive film made of a metal film such as aluminum, tantalum, molybdenum, titanium, or tungsten is formed by sputtering, this is patterned to form a gate electrode 510g. Next, high-concentration phosphorus ions are implanted in this state, and source / drain regions 510a and 510b are formed in the semiconductor film 520b in a self-aligned manner with respect to the gate electrode 510g. Note that a portion where impurities are not introduced becomes a channel region 510c.

次に、図4(D)に示すように、層間絶縁膜522を形成した後、コンタクトホール523、524を形成し、これらコンタクトホール523、524内に中継電極526、527を埋め込む。次に、層間絶縁膜522上に信号線、共通給電線及び走査線(図示せず)を形成する。ここで、中継電極527と各配線とは、同一工程で形成してもよく、その場合、中継電極526は、後述するITO膜で形成されることになる。   Next, as illustrated in FIG. 4D, after an interlayer insulating film 522 is formed, contact holes 523 and 524 are formed, and relay electrodes 526 and 527 are embedded in the contact holes 523 and 524. Next, a signal line, a common power supply line, and a scanning line (not shown) are formed over the interlayer insulating film 522. Here, the relay electrode 527 and each wiring may be formed in the same process, and in this case, the relay electrode 526 is formed of an ITO film described later.

次に、図4(E)に示すように、各配線の上面を覆うように層間絶縁膜530を形成した後、層間絶縁膜530に対して中継電極526に対応する位置にコンタクトホール532を形成する。   Next, as illustrated in FIG. 4E, an interlayer insulating film 530 is formed so as to cover the upper surface of each wiring, and then a contact hole 532 is formed in the interlayer insulating film 530 at a position corresponding to the relay electrode 526. To do.

次に、画素電極形成工程において、コンタクトホール532を埋めるようにITO膜を形成し、さらにそのITO膜をパターニングして、信号線、共通給電線及び走査線に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域510aに電気的に接続する画素電極511を形成する。ここで、信号線及び共通給電線、さらには走査線に挟まれた部分が、後述する正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層や発光層の形成場所となる。   Next, in the pixel electrode forming step, an ITO film is formed so as to fill the contact hole 532, and the ITO film is patterned, and a source / source line is formed at a predetermined position surrounded by the signal line, the common power supply line, and the scanning line. A pixel electrode 511 that is electrically connected to the drain region 510a is formed. Here, a portion sandwiched between the signal line, the common power supply line, and the scanning line is a place where a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and a light emitting layer, which will be described later, are formed.

次に、図4(F)に示す隔壁形成工程において、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層や発光層の形成場所を囲むように隔壁505を形成する。この隔壁505は、仕切り部材として機能するものであり、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の絶縁性有機材料、あるいはポリシラザン等の絶縁性無機材料で形成する。隔壁505の膜厚については、例えば1〜2μmの高さとなるように形成する。また、隔壁505は、上述した液滴吐出ヘッド22から吐出される液状物に対して撥液性を示すものが好ましい。   Next, in the partition formation step illustrated in FIG. 4F, the partition 505 is formed so as to surround a formation place of the hole injection layer, the hole transport layer, the electron injection layer, the electron transport layer, and the light emitting layer. The partition 505 functions as a partition member, and is formed of, for example, an insulating organic material such as acrylic resin or polyimide resin, or an insulating inorganic material such as polysilazane. About the film thickness of the partition 505, it forms so that it may become the height of 1-2 micrometers, for example. Further, the partition wall 505 is preferably one that exhibits liquid repellency with respect to the liquid material discharged from the droplet discharge head 22 described above.

隔壁505に撥液性を発現させるためには、例えば隔壁505の表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばCF4、SF5、CHF3などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、UV照射処理などが挙げられる。このようにして、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層や発光層の形成場所、すなわち、これらの形成材料の塗布位置とその周囲の隔壁505との間には、十分な高さの段差535が形成される。   In order to make the partition 505 exhibit liquid repellency, for example, a method of treating the surface of the partition 505 with a fluorine compound or the like is employed. Examples of the fluorine compound include CF4, SF5, and CHF3. Examples of the surface treatment include plasma treatment and UV irradiation treatment. In this way, the hole injection layer, the hole transport layer, the electron injection layer, the electron transport layer and the light emitting layer are formed at a place, that is, between the application position of these forming materials and the surrounding partition 505. A sufficiently high step 535 is formed.

次に、図4(G)に示す第1の液滴吐出工程においては、透明基板502の上面を上に向けた状態で、正孔注入層形成材料540aを、上述した液滴吐出装置10の液滴吐出ヘッド22より、前記隔壁505に囲まれた塗布位置、すなわち隔壁505内に選択的に塗布する。その際、正孔注入層形成材料540aは、流動性が高いため水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んで隔壁505が形成されているので、正孔注入層形成材料540aは隔壁505を越えてその外側に広がることがない。ここで、正孔注入層形成材料540aとしては、例えば、ポリオレフィン誘導体である3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)を正孔注入材料として用い、これを有機溶剤を主溶媒として分散させてなる分散液が好適に用いられる。但し、正孔注入材料としては、前記のものに限定されることなく、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−N、N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサン、トリス(8−ヒドロキシキノリノール)アルミニウム等を用いることもできる。   Next, in the first droplet discharge step shown in FIG. 4G, with the upper surface of the transparent substrate 502 facing upward, the hole injection layer forming material 540a is removed from the droplet discharge device 10 described above. From the droplet discharge head 22, the liquid is selectively applied to an application position surrounded by the partition 505, that is, in the partition 505. At that time, the hole injection layer forming material 540a tends to spread in the horizontal direction because of its high fluidity, but since the partition wall 505 is formed surrounding the applied position, the hole injection layer forming material 540a It does not extend beyond the partition wall 505. Here, as the hole injection layer forming material 540a, for example, 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS), which is a polyolefin derivative, is used as a hole injection material, and this is mainly composed of an organic solvent. A dispersion liquid dispersed as a solvent is preferably used. However, the hole injecting material is not limited to those described above, but polyphenylene vinylene whose polymer precursor is polytetrahydrothiophenylphenylene, 1,1-bis- (4-N, N-ditolylaminophenyl) ) Cyclohexane, tris (8-hydroxyquinolinol) aluminum and the like can also be used.

このようにして正孔注入層形成材料540aを液滴吐出ヘッド34から吐出して所定位置に配置した後、液状の正孔注入層形成材料540aに対して乾燥処理を行い、正孔注入層形成材料540a中の分散媒を蒸発させる。その結果、図4(H)に示すように、画素電極511上に固形の正孔注入層513a(画素構成要素)が形成される。   In this way, after the hole injection layer forming material 540a is discharged from the droplet discharge head 34 and disposed at a predetermined position, the liquid hole injection layer forming material 540a is dried to form the hole injection layer. The dispersion medium in the material 540a is evaporated. As a result, as shown in FIG. 4H, a solid hole injection layer 513a (pixel constituent element) is formed over the pixel electrode 511.

次に、図4(I)に示す第2の液滴吐出工程においては、透明基板502の上面を上に向けた状態で、上述した液滴吐出装置10の液滴吐出ヘッド22より液状物として発光層形成材料540bを、前記隔壁505内の正孔注入層513a上に選択的に塗布する。発光材料としては、例えば分子量が1000以上の高分子材料が用いられる。具体的には、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープしたものが用いられる。なお、このような高分子材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平11−40358号公報に示される有機EL素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも1種の蛍光色素とを含んでなる有機EL素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。このような発光材料を溶解あるいは分散する有機溶媒としては、非極性溶媒が好適とされ、特に発光層が正孔注入層513aの上に形成されることから、この正孔注入層513aに対して不溶なものが用いられる。具体的には、キシレン、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼン等が好適に用いられる。なお、発光層形成材料540bの吐出による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層の形成材料、緑色の発色光を発光する発光層の形成材料、青色の発色光を発光する発光層の形成材料を、それぞれ対応する画素に吐出し塗布することによって行う。また、各色に対応する画素は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。   Next, in the second droplet discharge process shown in FIG. 4I, the liquid droplet is discharged from the droplet discharge head 22 of the droplet discharge apparatus 10 described above with the upper surface of the transparent substrate 502 facing upward. A light emitting layer forming material 540 b is selectively applied on the hole injection layer 513 a in the partition 505. As the light emitting material, for example, a polymer material having a molecular weight of 1000 or more is used. Specifically, a polyfluorene derivative, a polyphenylene derivative, a polyvinyl carbazole, a polythiophene derivative, or a polymer material thereof, a perylene dye, a coumarin dye, a rhodamine dye such as rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, What doped tetraphenyl butadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone, etc. is used. As such a polymer material, a π-conjugated polymer material in which π electrons of a double bond are non-polarized on a polymer chain is also a conductive polymer, and thus has excellent light emitting performance. Preferably used. In particular, a compound having a fluorene skeleton in the molecule, that is, a polyfluorene compound is more preferably used. In addition to such materials, for example, a composition for an organic EL device disclosed in JP-A-11-40358, that is, a precursor of a conjugated polymer organic compound, and at least one kind for changing light emission characteristics A composition for an organic EL device comprising the above fluorescent dye can also be used as a light emitting layer forming material. As an organic solvent for dissolving or dispersing such a light emitting material, a nonpolar solvent is preferable. In particular, since the light emitting layer is formed on the hole injection layer 513a, Insoluble materials are used. Specifically, xylene, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene and the like are preferably used. Note that the formation of the light emitting layer by discharging the light emitting layer forming material 540b includes a light emitting layer forming material that emits red colored light, a light emitting layer forming material that emits green colored light, and a light emitting that emits blue colored light. The layer forming material is discharged and applied to the corresponding pixels. Further, the pixels corresponding to the respective colors are determined in advance so that they are regularly arranged.

このようにして各色の発光層形成材料540bを吐出した後、液状の発光層形成材料540bに対して乾燥処理を行い、発光層形成材料540b中の分散媒を蒸発させる。その結果、図4(J)に示すように、正孔注入層513a上に固形の発光層513b(画素構成要素)が形成される。これにより、正孔注入層513aと発光層513bとからなる発光素子513を得る。   After discharging the light emitting layer forming material 540b of each color in this way, the liquid light emitting layer forming material 540b is dried to evaporate the dispersion medium in the light emitting layer forming material 540b. As a result, as shown in FIG. 4J, a solid light-emitting layer 513b (pixel constituent element) is formed over the hole injection layer 513a. Thus, a light emitting element 513 including the hole injection layer 513a and the light emitting layer 513b is obtained.

なお、形成材料540bの乾燥処理については、形成材料540bのガラス転移点未満の温度、例えば100°未満の温度で加熱することにより、乾燥するのが好ましい。このような温度で乾燥することにより、形成材料540b中の溶剤の蒸発速度を比較的低く抑えることができるとともに、形成材料540bの液状化による流動も抑えることができ、その結果、得られる発光層513bについても十分に平坦化することができる。また、発光層形成の際の乾燥処理によって生じる熱的ダメージが、発光層513bだけでなく正孔注入層513aに対しても小さくなり、初期輝度の低下などによる表示性能の低下が抑制される。ここで、正孔注入層513aと発光層513bの他、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層を形成する場合には、同様な方法で形成することができるので、それらの説明を省略する。   In addition, about the drying process of the forming material 540b, it is preferable to dry by heating at the temperature below the glass transition point of the forming material 540b, for example, the temperature of less than 100 degrees. By drying at such a temperature, the evaporation rate of the solvent in the forming material 540b can be kept relatively low, and the flow due to liquefaction of the forming material 540b can also be suppressed. As a result, the resulting light emitting layer 513b can also be sufficiently flattened. In addition, thermal damage caused by the drying process during the formation of the light emitting layer is reduced not only for the light emitting layer 513b but also for the hole injection layer 513a, so that a decrease in display performance due to a decrease in initial luminance or the like is suppressed. Here, in the case where a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer are formed in addition to the hole injection layer 513a and the light emitting layer 513b, they can be formed by the same method, and thus description thereof is omitted. To do.

次に、図4(K)に示すように透明基板502の表面全体に、あるいはストライプ状に、LiF/Al(LiFとAlとの積層膜)やMgAg、あるいはLiF/Ca/Al(LiFとCaとAlとの積層膜)を蒸着法等によって成膜し、対向電極512を形成する。その後、封止を行った後、さらに配線等の各種要素を形成することにより、有機EL素子を備えた有機EL表示装置500(電気光学装置)を製造する。   Next, as shown in FIG. 4 (K), LiF / Al (a laminated film of LiF and Al), MgAg, or LiF / Ca / Al (LiF and Ca) are formed on the entire surface of the transparent substrate 502 or in the form of stripes. A counter electrode 512 is formed by depositing a film of Al and Al) by a vapor deposition method or the like. Then, after sealing, the organic EL display apparatus 500 (electro-optical apparatus) provided with the organic EL element is manufactured by further forming various elements such as wiring.

(サブ画素の構成)
図5(A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における画素電極形成工程を示す斜視図および平面図である。図6(A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における隔壁形成工程(分割工程)を示す斜視図および平面図である。図7(A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における第1の液滴吐出工程を示す斜視図および平面図である。図8(A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における第2の液滴吐出工程を示す斜視図および平面図である。
(Sub-pixel configuration)
5A and 5B are a perspective view and a plan view, respectively, showing a pixel electrode forming step in the organic EL display device to which the present invention is applied. 6A and 6B are a perspective view and a plan view, respectively, showing a partition wall forming step (dividing step) in the organic EL display device to which the present invention is applied. 7A and 7B are a perspective view and a plan view, respectively, showing a first droplet discharge process in the organic EL display device to which the present invention is applied. 8A and 8B are a perspective view and a plan view, respectively, showing a second droplet discharge process in the organic EL display device to which the present invention is applied.

本形態では、有機EL表示装置500を製造するにあたって、まず、図4(E)に示す画素電極形成工程では、図5(A)、(B)に示すように、画素515の略全体に、平面形状が細長い長方形の画素電極511をマトリクス状に形成する。従って、有機EL表示装置500では、平面形状が細長い画素515が形成されることになる。   In this embodiment, when manufacturing the organic EL display device 500, first, in the pixel electrode formation step shown in FIG. 4E, as shown in FIGS. The rectangular pixel electrodes 511 whose planar shape is elongated are formed in a matrix. Therefore, in the organic EL display device 500, the pixel 515 having a long and narrow planar shape is formed.

そして、図4(G)に示す第1の液滴吐出工程、および図4(H)に示す第2の液滴吐出工程を行う前の隔壁形成工程(図4(F)参照)は、分割工程として、図6(A)、(B)に示すように、画素515を囲むように隔壁505を形成するとともに、画素515内にも隔壁505を形成し、1つの画素515を複数のサブ画素、本形態では3つのサブ画素515a、515b、515cに分割する。   Then, the first droplet discharge step shown in FIG. 4G and the partition formation step before the second droplet discharge step shown in FIG. 4H (see FIG. 4F) are divided. As a process, as illustrated in FIGS. 6A and 6B, a partition 505 is formed so as to surround the pixel 515, and the partition 505 is also formed in the pixel 515, so that one pixel 515 includes a plurality of subpixels. In this embodiment, the pixel is divided into three sub-pixels 515a, 515b, and 515c.

ここで、画素515は細長い長方形の平面形状を有するが、サブ画素515a、515b、515cは、概ね、正方形の平面形状を有しており、サブ画素515a、515b、515cでは、直交する2方向(例えば、図6(A)、(B)に矢印Aで示す方向、および矢印Bで示す方向)における寸法比が画素515よりも1:1に近い。なお、サブ画素515a、515b、515cの平面形状については、正方形に限らず、正六角形あるいは正八角形などといった正多角形であってもよい。また、直交する2方向における寸法比を1:1に近づけるという観点からすれば、正多角形であることが好ましいが、直交する2方向における寸法が画素515よりも1:1に近ければ、各辺の長さが相違する多角形であってもよい。なお、サブ画素515a,515b,515cのサイズは、液滴吐出ヘッド22から吐出される液滴M0のサイズにより最適なサイズに設定すればよく、本形態では、1辺が1μm〜1mmに設定されている。   Here, the pixel 515 has an elongated rectangular planar shape, but the sub-pixels 515a, 515b, and 515c generally have a square planar shape, and the sub-pixels 515a, 515b and 515c have two orthogonal directions ( For example, the dimensional ratio in the directions indicated by arrows A and B in FIGS. 6A and 6B is closer to 1: 1 than the pixels 515. Note that the planar shape of the sub-pixels 515a, 515b, and 515c is not limited to a square, and may be a regular polygon such as a regular hexagon or a regular octagon. From the viewpoint of bringing the dimensional ratio in the two orthogonal directions closer to 1: 1, it is preferably a regular polygon, but if the dimension in the two orthogonal directions is closer to 1: 1 than the pixel 515, each Polygons with different side lengths may be used. Note that the size of the sub-pixels 515a, 515b, and 515c may be set to an optimum size depending on the size of the droplet M0 ejected from the droplet ejection head 22, and in this embodiment, one side is set to 1 μm to 1 mm. ing.

このようにして画素515を複数のサブ画素515a、515b、515cに分割した後、図4(G)に示す第1の液滴吐出工程では、正孔注入層形成材料540aを、上述した液滴吐出装置10の液滴吐出ヘッド22より、図6(B)に液滴M0を一点鎖線の円で示すように、隔壁505に囲まれた各サブ画素515a、515b、515cの中心位置に吐出する。その結果、正孔注入層形成材料540aは、図7(A)、(B)に示すように、サブ画素515a、515b、515cの隅々まで広がる。従って、乾燥処理によって、形成材料540a中の分散媒を蒸発させると、各サブ画素515a、515b、515c内には、画素電極511上に正孔注入層513a(画素構成要素)を一定の厚さで形成することができる。   After the pixel 515 is divided into a plurality of sub-pixels 515a, 515b, and 515c in this manner, in the first droplet discharge step shown in FIG. 4G, the hole injection layer forming material 540a is used as the above-described droplet. The droplet M0 is ejected from the droplet ejection head 22 of the ejection apparatus 10 to the center position of each of the sub-pixels 515a, 515b, and 515c surrounded by the partition 505, as shown by a one-dot chain line circle in FIG. . As a result, the hole injection layer forming material 540a extends to every corner of the sub-pixels 515a, 515b, and 515c, as shown in FIGS. Therefore, when the dispersion medium in the forming material 540a is evaporated by the drying process, the hole injection layer 513a (pixel constituent element) is formed on the pixel electrode 511 in a certain thickness in each of the subpixels 515a, 515b, and 515c. Can be formed.

次に、図4(H)に示す第2の液滴吐出工程では、発光層形成材料540bを、上述した液滴吐出装置10の液滴吐出ヘッド22より、図6(B)に液滴M0を一点鎖線の円で示すように、隔壁505に囲まれた各サブ画素515a、515b、515cの中心位置に吐出する。その結果、発光層形成材料540bは、図8(A)、(B)に示すように、サブ画素515a、515b、515cの隅々まで広がる。従って、乾燥処理によって、発光層形成材料540b中の分散媒を蒸発させると、各サブ画素515a、515b、515cには、正孔注入層513a上に発光層513b(画素構成要素)を一定の厚さで形成することができる。   Next, in the second droplet discharge step shown in FIG. 4H, the light emitting layer forming material 540b is transferred from the droplet discharge head 22 of the droplet discharge device 10 to the droplet M0 shown in FIG. Is ejected to the center position of each of the sub-pixels 515a, 515b, and 515c surrounded by the partition 505, as indicated by a dashed-dotted circle. As a result, the light emitting layer forming material 540b extends to every corner of the sub-pixels 515a, 515b, and 515c, as shown in FIGS. Therefore, when the dispersion medium in the light emitting layer forming material 540b is evaporated by the drying process, the light emitting layer 513b (pixel constituent element) is formed on the hole injection layer 513a to have a certain thickness in each of the sub pixels 515a, 515b, and 515c. It can be formed.

なお、正孔注入層513aと発光層513bの他、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層を形成する場合には、同様な方法で形成することができるので、それらの説明を省略する。   Note that in the case of forming a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer in addition to the hole injection layer 513a and the light-emitting layer 513b, the description can be omitted because they can be formed by the same method. .

しかる後には、図4(K)を参照して説明したように、透明基板502の表面全体に、あるいはストライプ状に、LiF/Al(LiFとAlとの積層膜)やMgAg、あるいはLiF/Ca/Al(LiFとCaとAlとの積層膜)を蒸着法等によって成膜し、対向電極512を形成する。その後、封止を行った後、さらに配線等の各種要素を形成することにより、有機EL素子を備えた有機EL表示装置500(電気光学装置)を製造する。   Thereafter, as described with reference to FIG. 4K, LiF / Al (a laminated film of LiF and Al), MgAg, or LiF / Ca is formed on the entire surface of the transparent substrate 502 or in the form of stripes. / Al (a laminated film of LiF, Ca, and Al) is formed by a vapor deposition method or the like, and the counter electrode 512 is formed. Then, after sealing, the organic EL display apparatus 500 (electro-optical apparatus) provided with the organic EL element is manufactured by further forming various elements such as wiring.

従って、本形態の有機EL表示装置500では、1つの画素515には、カレント薄膜トランジスタ510、スイッチング薄膜トランジスタ509、画素電極511および対向電極512などを共用する3つのサブ画素515a、515b、515cが形成され、いずれのサブ画素515a、515b、515cにも、正孔注入層513aおよび発光層513bを備えた発光素子513が形成されている。   Accordingly, in the organic EL display device 500 of this embodiment, one pixel 515 is formed with three sub-pixels 515a, 515b, and 515c that share the current thin film transistor 510, the switching thin film transistor 509, the pixel electrode 511, the counter electrode 512, and the like. Each of the subpixels 515a, 515b, and 515c has a light emitting element 513 provided with a hole injection layer 513a and a light emitting layer 513b.

(本形態の主な効果)
このように構成した有機EL表示装置500において、サブ画素515a、515b、515cでは、直交する2方向(例えば、図6(A)、(B)に矢印Aで示す方向、および矢印Bで示す方向)における寸法比が画素515よりも1:1に近い。このため、第1の液滴吐出工程で吐出した正孔注入層形成材料540a、および第2の液滴吐出工程で吐出した発光層形成材料540bは、サブ画素515a、515b、515c内で流動して広がる際、流動距離がいずれの方向でも略同等である。それ故、正孔注入層形成材料540aのサブ画素515a、515b、515c内における着弾位置、あるいは発光層形成材料540bのサブ画素515a、515b、515c内における着弾位置が多少ずれても、正孔注入層形成材料540aおよび発光層形成材料540bは、サブ画素515a、515b、515c内の隅々まで均一な厚さで広がるので、いずれのサブ画素515a、515b、515cでも、サブ画素内における正孔注入層513aの厚さばらつき、およびサブ画素内における発光層513bの厚さばらつきがほとんどない。それ故、いずれのサブ画素515a、515b、515cでも、サブ画素内における輝度ばらつきがなく、画素511内における輝度ばらつきもない。それ故、全ての画素515から所定輝度の光が出射されるので、品位の高い画像を表示することができる。
(Main effects of this form)
In the organic EL display device 500 configured as described above, the subpixels 515a, 515b, and 515c have two orthogonal directions (for example, the direction indicated by the arrow A in FIGS. 6A and 6B and the direction indicated by the arrow B). ) Is closer to 1: 1 than the pixel 515. Therefore, the hole injection layer forming material 540a discharged in the first droplet discharging step and the light emitting layer forming material 540b discharged in the second droplet discharging step flow in the subpixels 515a, 515b, and 515c. The flow distance is almost the same in any direction. Therefore, even if the landing position of the hole injection layer forming material 540a in the sub-pixels 515a, 515b and 515c or the landing position of the light-emitting layer forming material 540b in the sub-pixels 515a, 515b and 515c is slightly shifted, hole injection is performed. Since the layer forming material 540a and the light emitting layer forming material 540b spread with a uniform thickness to every corner in the sub-pixels 515a, 515b, and 515c, in any of the sub-pixels 515a, 515b, and 515c, hole injection in the sub-pixels is performed. There is almost no variation in the thickness of the layer 513a and the variation in the thickness of the light emitting layer 513b in the sub-pixel. Therefore, in any of the subpixels 515a, 515b, and 515c, there is no luminance variation within the subpixel, and there is no luminance variation within the pixel 511. Therefore, since light having a predetermined luminance is emitted from all the pixels 515, a high-quality image can be displayed.

また、本形態によれば、隔壁形成工程での隔壁505の形成パターンを変えるだけであり、かつ、吐出ヘッド22は元々、任意の位置に液滴M0を吐出できるので、画素515を複数のサブ画素515a、515b、515cに分割した場合でも、製造工程数が増えることがない。   Further, according to the present embodiment, only the formation pattern of the partition 505 in the partition formation process is changed, and the ejection head 22 can originally eject the droplet M0 to an arbitrary position. Even when the pixels are divided into the pixels 515a, 515b, and 515c, the number of manufacturing steps does not increase.

(変形例1)
上記形態では、隔壁505によって平面形状が細長い画素515を平面形状が正方形のサブ画素515a、515b、515cに分割したが、図9に示すように、平面形状が細長い画素電極511を形成する一方、隔壁505によって、画素515を平面形状が円形のサブ画素515a、515b、515cに分割してもよい。
(Modification 1)
In the above embodiment, the pixel 515 having a long planar shape is divided into the sub-pixels 515a, 515b, and 515c having a square planar shape by the partition wall 505. However, as shown in FIG. The partition 505 may divide the pixel 515 into sub-pixels 515a, 515b, and 515c having a circular planar shape.

このように構成した場合には、サブ画素515a、515b、515cでは、直交する2方向(例えば、図9に矢印Aで示す方向、および矢印Bで示す方向)における寸法比が完全に1:1である。このため、第1の液滴吐出工程で吐出した正孔注入層形成材料540a(図4(G)参照)、および第2の液滴吐出工程でサブ画素515a、515b、515cの中央位置に吐出した発光層形成材料540b(図4(I)参照)は、サブ画素515a、515b、515c内で流動して広がる際、流動距離がいずれの方向でも略同等である。それ故、正孔注入層形成材料540aのサブ画素515a、515b、515c内における着弾位置、あるいは発光層形成材料540bのサブ画素515a、515b、515c内における着弾位置が多少ずれても、正孔注入層形成材料540aおよび発光層形成材料540bは、サブ画素515a、515b、515c内に隅々まで均一な厚さで塗布された状態になる。   In such a configuration, the subpixels 515a, 515b, and 515c have a completely dimensional ratio of 1: 1 in two orthogonal directions (for example, the direction indicated by arrow A and the direction indicated by arrow B in FIG. 9). It is. Therefore, the hole injection layer forming material 540a (see FIG. 4G) discharged in the first droplet discharge process and the sub-pixels 515a, 515b, and 515c are discharged in the center position in the second droplet discharge process. When the light emitting layer forming material 540b (see FIG. 4I) flows and spreads in the sub-pixels 515a, 515b, and 515c, the flow distance is substantially the same in any direction. Therefore, even if the landing position of the hole injection layer forming material 540a in the subpixels 515a, 515b, and 515c or the landing position of the light emitting layer forming material 540b in the subpixels 515a, 515b and 515c is slightly shifted, the hole injection is performed. The layer forming material 540a and the light emitting layer forming material 540b are applied to the subpixels 515a, 515b, and 515c with a uniform thickness all the way.

(変形例2)
上記形態では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応する画素515は、いずれも面積が等しく、かつ、分割数も等しい例を説明したが、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応する画素515の面積が色間で相違する場合に本発明を適用してもよい。例えば、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)において、緑色(G)の視感度が最も高いので、図10に示すように、緑色(R)に対応する画素515(R)を、赤色(R)や青色(B)に対応する画素515(R)、515(B)よりも幅を狭くすることがある。このような場合には、例えば、赤色(R)や青色(B)に対応する画素515(R)、515(B)については隔壁505によって正方形の3つのサブ画素515a、515b、515cに分割し、緑色(R)に対応する画素515(R)については隔壁505によって正方形の4つのサブ画素515a′、515b′、515c′、515d′に分割してもよい。
(Modification 2)
In the above embodiment, the example in which the pixels 515 corresponding to red (R), green (G), and blue (B) have the same area and the same number of divisions has been described, but red (R), green ( The present invention may be applied when the areas of the pixels 515 corresponding to G) and blue (B) are different between colors. For example, since red (R), green (G), and blue (B) have the highest visibility of green (G), as shown in FIG. 10, a pixel 515 (R) corresponding to green (R) is added. , The width may be narrower than the pixels 515 (R) and 515 (B) corresponding to red (R) and blue (B). In such a case, for example, the pixels 515 (R) and 515 (B) corresponding to red (R) and blue (B) are divided into three square sub-pixels 515 a, 515 b and 515 c by the partition 505. The pixel 515 (R) corresponding to green (R) may be divided into four square sub-pixels 515 a ′, 515 b ′, 515 c ′ and 515 d ′ by the partition 505.

また、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応する各発光素子513において発光強度が相違するため、画素511の面積を2色間、あるいは3色間で相違させる場合があるが、このような場合にも、図10を参照して説明したように、分割数を色間で相違させて、いずれの色についても、直交する2方向(例えば、図10に矢印Aで示す方向、および矢印Bで示す方向)における寸法比が1:1に近いサブ画素を構成すればよい。   In addition, since the light emission intensity is different in each light emitting element 513 corresponding to red (R), green (G), and blue (B), the area of the pixel 511 may be different between two colors or three colors. However, even in such a case, as described with reference to FIG. 10, the number of divisions is different between colors, and each color has two orthogonal directions (for example, indicated by an arrow A in FIG. 10). It is only necessary to form sub-pixels having a dimensional ratio close to 1: 1 in the direction and the direction indicated by arrow B).

(その他の適用例)
なお、上記形態では、多数の画素は各々、長方形の平面形状を有していたが、長丸あるいは楕円形の平面形状を有している場合に本発明を適用してもよい。また、上記形態は、本発明を有機EL表示装置に適用した例であったが、無機EL表示装置に本発明を適用してもよい。さらに、カラー液晶装置に本発明を適用してもよい。このような液晶装置については、図示を省略するが、液晶を保持する一対の基板のうちの一方にカラーフィルタ(画素構成要素)がマトリクス状に形成される。従って、カラーフィルタを形成する際、上述した液滴吐出装置10の液滴吐出ヘッド22より、所定色の顔料や染料が配合されたカラーフィルタ形成材料を液滴として吐出すればよい。その際、液晶装置でも画素は長方形に形成される場合が多いので、このような画素についても、図6、図9あるいは図10を参照して説明したように、隔壁によって複数のサブ画素に分割すればよい。
(Other application examples)
In the above embodiment, each of the large number of pixels has a rectangular planar shape. However, the present invention may be applied to a case where the pixel has an elliptical or elliptical planar shape. Moreover, although the said form was an example which applied this invention to the organic electroluminescence display, you may apply this invention to an inorganic electroluminescence display. Furthermore, the present invention may be applied to a color liquid crystal device. Such a liquid crystal device is not shown, but a color filter (pixel constituent element) is formed in a matrix on one of a pair of substrates that hold liquid crystal. Therefore, when forming a color filter, the color filter forming material containing a predetermined color pigment or dye may be discharged as droplets from the droplet discharge head 22 of the droplet discharge device 10 described above. At that time, since the pixels are often formed in a rectangle in the liquid crystal device, such pixels are also divided into a plurality of sub-pixels by the partition walls as described with reference to FIG. 6, FIG. 9 or FIG. do it.

また、上記形態では、画素を複数のサブ画素に分割するにあたって、隔壁を利用したが、例えば、1つの画素内を線状の撥液領域で複数のサブ画素に分割してもよい。このように構成すると、複数のサブ画素の中心位置に液滴を吐出した際、液滴は、撥液領域を乗り越えて隣接するサブ画素に広がることがない。従って、各サブ画素に着弾した液滴は、対応するサブ画素内のみで流動して広がるので、隔壁と同様な作用を発揮する。   In the above embodiment, the partition is used to divide the pixel into a plurality of sub-pixels. However, for example, one pixel may be divided into a plurality of sub-pixels by a linear liquid repellent region. With this configuration, when a droplet is ejected to the center position of the plurality of sub-pixels, the droplet does not get over the liquid-repellent region and spread to adjacent sub-pixels. Accordingly, the liquid droplets that have landed on each sub-pixel flow and spread only within the corresponding sub-pixel, so that the same effect as a partition is exhibited.

さらに、上記形態では、同じ画素に属するサブ画素は、同一の条件で駆動すればよいので、1つの画素に対して1つの画素電極を形成してサブ画素間で画素電極を共用したが、サブ画素毎に画素電極が形成された構成を採用してもよい。この場合、1つの画素に属するサブ画素は、同一の条件で駆動すればよいので、1つの画素に属する複数の画素電極に共通の画素スイチング素子を設けてもよいし、画素電極毎に画素スイッチング素子を設けてもよい。   Furthermore, in the above embodiment, since subpixels belonging to the same pixel may be driven under the same conditions, one pixel electrode is formed for one pixel and the pixel electrode is shared between subpixels. A configuration in which a pixel electrode is formed for each pixel may be employed. In this case, since the subpixels belonging to one pixel may be driven under the same conditions, a common pixel switching element may be provided for a plurality of pixel electrodes belonging to one pixel, and pixel switching is performed for each pixel electrode. An element may be provided.

また、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などは一例に過ぎず、適宜変更が可能である。従って、EL表示装置や液晶装置の他、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display及びSurface‐Conduction Electron‐Emitter Display等)などの各種電気光学装置に本発明を適用してもよい。また、本発明を適用した電気光学装置については、携帯電話機、パーソナルコンピュータやPDAなど、様々な電子機器において表示装置として用いることができる。   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, and the specific materials and configurations described in the embodiment are included. These are merely examples, and can be changed as appropriate. Therefore, the present invention is applied to various electro-optical devices such as plasma display devices, electrophoretic display devices, devices using electron-emitting devices (Field Emission Display, Surface-Conduction Electron-Emitter Display, etc.) in addition to EL display devices and liquid crystal devices May be applied. In addition, the electro-optical device to which the present invention is applied can be used as a display device in various electronic devices such as a mobile phone, a personal computer, and a PDA.

本発明で用いた液滴吐出装置の全体構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the whole structure of the droplet discharge apparatus used by this invention. (A)、(B)、(C)、(D)はそれぞれ、図1に示す液滴吐出装置に用いた液滴吐出ヘッドの構成を示す説明図、液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、撓み振動モードの圧力発生素子の説明図、および縦振動モードの圧力発生素子の説明図である。(A), (B), (C), and (D) are explanatory views showing the configuration of the droplet discharge head used in the droplet discharge apparatus shown in FIG. 1, respectively, and schematically show the internal structure of the droplet discharge head. FIG. 2 is an explanatory diagram of a pressure generating element in a flexural vibration mode, and an explanatory diagram of a pressure generating element in a longitudinal vibration mode. 有機EL表示装置の電気的構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the electric constitution of an organic electroluminescence display. 有機EL表示装置の製造工程の手順を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the procedure of the manufacturing process of an organic electroluminescence display. (A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における画素電極形成工程を示す斜視図および平面図である。(A), (B) is the perspective view and top view which respectively show the pixel electrode formation process in the organic electroluminescence display to which this invention is applied. (A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における隔壁形成工程(分割工程)を示す斜視図および平面図である。(A), (B) is the perspective view and top view which respectively show the partition formation process (division | segmentation process) in the organic electroluminescence display to which this invention is applied. (A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における第1の液滴吐出工程を示す斜視図および平面図である。(A) and (B) are a perspective view and a plan view, respectively, showing a first droplet discharge step in an organic EL display device to which the present invention is applied. (A)、(B)はそれぞれ、本発明を適用した有機EL表示装置における第2の液滴吐出工程を示す斜視図および平面図である。(A) and (B) are a perspective view and a plan view, respectively, showing a second droplet discharge step in the organic EL display device to which the present invention is applied. 本発明の変形例1に係る有機EL表示装置において画素を複数のサブ画素に分割した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which divided | segmented the pixel into the several sub pixel in the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the modification 1 of this invention. 本発明の変形例2に係る有機EL表示装置において画素を複数のサブ画素に分割した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which divided | segmented the pixel into the several sub pixel in the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the modification 2 of this invention. 従来の有機EL表示装置の画素構成を示す斜視図および平面図である。It is the perspective view and top view which show the pixel structure of the conventional organic electroluminescence display.

符号の説明Explanation of symbols

10 液滴吐出装置、22 液滴吐出ヘッド、27 ノズル開口、500 有機EL表示装置、505 隔壁、511 画素電極、513a 正孔注入層、513b 発光層、513 発光素子、515 画素、515a、515b、515c サブ画素 10 droplet ejection device, 22 droplet ejection head, 27 nozzle opening, 500 organic EL display device, 505 partition, 511 pixel electrode, 513a hole injection layer, 513b light emitting layer, 513 light emitting element, 515 pixel, 515a, 515b, 515c subpixel

Claims (10)

複数の画素構成要素によって多数の画素がマトリクス状に形成された電気光学装置において、
前記画素は、直交する2方向における寸法比が当該画素よりも1:1に近い平面形状を備えた複数のサブ画素に分割され、
前記複数の画素構成要素のうちの少なくとも1つは、前記複数のサブ画素の各々に分割された状態でサブ画素全体に形成されていることを特徴とする電気光学装置。
In an electro-optical device in which a large number of pixels are formed in a matrix by a plurality of pixel components,
The pixel is divided into a plurality of sub-pixels having a planar shape whose dimensional ratio in two orthogonal directions is closer to 1: 1 than the pixel,
An electro-optical device, wherein at least one of the plurality of pixel components is formed on the entire sub-pixel in a state of being divided into each of the plurality of sub-pixels.
請求項1において、前記多数の画素は各々、長方形、長丸あるいは楕円形の平面形状を有していることを特徴とする電気光学装置。   2. The electro-optical device according to claim 1, wherein each of the plurality of pixels has a rectangular, oval or elliptical planar shape. 請求項1または2において、前記サブ画素は各々、概ね、正多角形あるいは円形の平面形状を有していることを特徴とする電気光学装置。   3. The electro-optical device according to claim 1, wherein each of the sub-pixels has a substantially polygonal or circular planar shape. 請求項1ないし3のいずれかにおいて、前記画素は、当該画素の周りおよび当該画素内の隔壁によって前記複数のサブ画素に分割されていることを特徴とする電気光学装置。   4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the pixel is divided into the plurality of sub-pixels around the pixel and by a partition in the pixel. 請求項1ないし4のいずれかにおいて、前記多数の画素は各々、所定の色に対応しており、前記複数の画素構成要素のうち、前記サブ画素の各々に分割して形成された画素構成要素は、エレクトロルミネッセンス表示装置用のエレクトロルミネッセンス素子の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層および発光層のうちの少なくとも一つの層であることを特徴とする電気光学装置。   5. The pixel component according to claim 1, wherein each of the plurality of pixels corresponds to a predetermined color, and is divided into each of the sub-pixels among the plurality of pixel components. Is an electro-optical device that is at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and a light-emitting layer of an electroluminescence element for an electroluminescence display device. 請求項1ないし4のいずれかにおいて、前記多数の画素は各々、所定の色に対応しており、前記複数の画素構成要素のうち、前記サブ画素の各々に分割して形成された画素構成要素は、前記サブ画素の各々に分割して形成された液晶装置用のカラーフィルタであることを特徴とする電気光学装置。   5. The pixel component according to claim 1, wherein each of the plurality of pixels corresponds to a predetermined color, and is divided into each of the sub-pixels among the plurality of pixel components. Is a color filter for a liquid crystal device formed by being divided into each of the sub-pixels. 請求項5または6において、前記多数の画素は、少なくとも2色間でサイズが相違し、
前記画素の前記サブ画素への分割数は、少なくとも前記2色間で相違していることを特徴とする電気光学装置。
7. The number of pixels according to claim 5, wherein the plurality of pixels have different sizes between at least two colors.
An electro-optical device, wherein the number of divisions of the pixel into the sub-pixels is different between at least the two colors.
請求項1ないし7のいずれかに規定する電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device defined in any one of claims 1 to 7. 吐出ヘッドのノズル開口から液滴を吐出して電気光学装置用基板上にマトリクス状に構成される多数の画素の各々に少なくとも1つの画素構成要素を形成する液滴吐出工程を有する電気光学装置の製造方法において、
前記液滴吐出工程を行う前に、前記画素を、直交する2方向における寸法比が前記画素よりも1:1に近い平面形状の複数のサブ画素に分割する分割工程を有し、
前記液滴吐出工程では、前記複数のサブ画素の各々に対して前記ノズル開口から液滴を吐出することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
An electro-optic device having a droplet ejection step of ejecting droplets from a nozzle opening of an ejection head to form at least one pixel component in each of a large number of pixels configured in a matrix on an electro-optic device substrate In the manufacturing method,
Before performing the droplet discharge step, the pixel has a dividing step of dividing the pixel into a plurality of sub-pixels having a planar shape whose dimensional ratio in two orthogonal directions is closer to 1: 1 than the pixel;
In the droplet discharging step, a droplet is discharged from the nozzle opening to each of the plurality of sub-pixels.
請求項9において、前記分割工程では、前記画素の周りおよび当該画素内に、前記液滴のサブ画素外への流出を防止可能な隔壁を形成して前記画素を前記複数のサブ画素に分割することを特徴とする電気光学装置の製造方法。   10. The dividing step according to claim 9, wherein in the dividing step, a partition capable of preventing the liquid droplet from flowing out of the sub-pixel is formed around and within the pixel to divide the pixel into the plurality of sub-pixels. A method of manufacturing an electro-optical device.
JP2004379214A 2004-12-28 2004-12-28 Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device Withdrawn JP2006185790A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004379214A JP2006185790A (en) 2004-12-28 2004-12-28 Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004379214A JP2006185790A (en) 2004-12-28 2004-12-28 Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006185790A true JP2006185790A (en) 2006-07-13

Family

ID=36738741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004379214A Withdrawn JP2006185790A (en) 2004-12-28 2004-12-28 Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2006185790A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015114942A1 (en) * 2014-01-31 2015-08-06 ソニー株式会社 Organic electroluminescence device and electronic apparatus

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004209409A (en) * 2003-01-06 2004-07-29 Seiko Epson Corp Method for producing substrate, droplet discharging device, organic electroluminescence display, and electronic equipment
JP2004335180A (en) * 2003-05-01 2004-11-25 Seiko Epson Corp Electro-optical device, base plate for electro-optical device, and manufacturing method of electro-optical device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004209409A (en) * 2003-01-06 2004-07-29 Seiko Epson Corp Method for producing substrate, droplet discharging device, organic electroluminescence display, and electronic equipment
JP2004335180A (en) * 2003-05-01 2004-11-25 Seiko Epson Corp Electro-optical device, base plate for electro-optical device, and manufacturing method of electro-optical device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015114942A1 (en) * 2014-01-31 2015-08-06 ソニー株式会社 Organic electroluminescence device and electronic apparatus
US10229955B2 (en) 2014-01-31 2019-03-12 Sony Corporation Organic electroluminescence device and electronic apparatus
US10644076B2 (en) 2014-01-31 2020-05-05 Sony Corporation Organic electroluminescence device and electronic apparatus
US11069748B2 (en) 2014-01-31 2021-07-20 Sony Corporation Organic electroluminescence device and electronic apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI261480B (en) Display device, manufacturing method for display device, and electronic apparatus
KR100490195B1 (en) Droplet discharging device and method of driving the same, film forming device and method of forming film, method of manufacturing color filter, method of manufacturing organic el device, and electronic equipment
JP2007103349A (en) Method of forming film pattern, and manufacturing method for organic electroluminescent device, color filter substrate and liquid crystal display device
JP6599306B2 (en) Organic light emitting diode display
JP2007080603A (en) Method for forming film pattern, method for manufacturing device, and organic electroluminescence device
JP2007227127A (en) Light-emitting device and manufacturing method therefor
JP2006237038A (en) Light emitting device and its fabrication process
KR20060049804A (en) Display device and electronic apparatus
JP4770557B2 (en) LIGHT EMITTING ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, AND LIGHT EMITTING DEVICE
JP5076295B2 (en) Film pattern forming method, device manufacturing method, organic electroluminescence apparatus
JP4788144B2 (en) Method for manufacturing light emitting device
JP2006313657A (en) Electro-optical device, electronic apparatus, and manufacturing method of electro-optical device
JP2009259570A (en) Organic electroluminescent device and electronic equipment
JP4552804B2 (en) Droplet ejection method
JP2006221960A (en) Light emitting device and manufacturing method of light emitting device
JP4556692B2 (en) Electro-optical device manufacturing method and droplet discharge device
JP2006185790A (en) Electro-optical device, electronic apparatus and manufacturing method of electro-optical device
JP4678264B2 (en) Pattern formation method, organic electroluminescence device and manufacturing method thereof, electro-optical device and manufacturing method thereof, semiconductor device and manufacturing method thereof
JP2007225856A (en) Manufacturing method for electrooptical device and electrooptical device
JP2006269325A (en) Droplet discharging head, manufacturing method of electro-optic device, and electro-optic device
JP2006015693A (en) Method of measuring liquid droplet discharge characteristic, liquid droplet discharge characteristic measuring apparatus, liquid droplet discharging apparatus, and manufacturing method for electro-optic apparatus
JP4626196B2 (en) Droplet discharge device and method of manufacturing electro-optical device
JP2006168296A (en) Liquid-droplet ejection device, head driving method and manufacturing method of electro-optics apparatus
JP2006236596A (en) Manufacturing method for composition, manufacturing method for light emitting device and droplet discharge device
JP2007207593A (en) Method of manufacturing light-emitting device

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20070404

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070914

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20101207

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20110127