JP2007227127A - Light-emitting device and manufacturing method therefor - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device in which the fluctuations of intra-pixel and inter-pixel thickness of organic functional layer can be suppressed, even when the discharge rate of a liquid composition from a nozzle opening fluctuates, and to provide a manufacturing method of the light emitting device. <P>SOLUTION: In the light-emitting device, in which a plurality of pixels 115 provided with an organic electroluminescent elements 110 are formed in linear shape on a substrate with respect to respective corresponding colors (R), (G), and (B), a first barrier rib 105a, continuously extending along a first boundary region 116a between the pixels of different corresponding colors is formed; and in a second boundary region 116b between the pixels of the same corresponding color, a second barrier rib 105b for partly partitioning between the pixels is formed. In forming the organic functional layer of the organic electroluminescent element 110, the liquid composition is filled into a recess part 150, formed by the first barrier rib 105a and the second barrier rib 105b, and is solidified. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(Electroluminescence)素子を備えた発光装置、およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a light emitting device including an organic electroluminescence element and a method for manufacturing the same.

有機エレクトロルミネッセンス装置は、第1電極層、有機機能層および第2電極層がこの順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた画素が基板上にマトリクス状に形成されている。このような有機エレクトロルミネッセンス素子を製造するにあたって、有機機能層を形成する方法としては、高分子材料からなる有機機能材料を溶媒(分散媒を含む)に溶解あるいは分散した液状組成物を液滴吐出ヘッドのノズル開口から基板上にドット状に吐出して液状膜を配置した後、液状膜から溶媒を乾燥させることにより基板上に有機機能材料を定着させる方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In the organic electroluminescence device, pixels including an organic electroluminescence element in which a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are stacked in this order are formed in a matrix on a substrate. In producing such an organic electroluminescence device, the organic functional layer is formed by discharging a liquid composition obtained by dissolving or dispersing an organic functional material made of a polymer material in a solvent (including a dispersion medium). There has been proposed a method of fixing an organic functional material on a substrate by discharging a liquid film from a nozzle opening of a head onto a substrate to dispose a liquid film and then drying the solvent from the liquid film (for example, Patent Documents). 1).

このような方法で発光装置を製造するにあたって、従来は、画素駆動用の薄膜トランジスタや第1電極層としての画素電極(陽極層)を形成した後、隣接する画素間の境界領域に沿って隔壁を形成し、この隔壁により完全に囲まれた凹部内に液状組成物を吐出していく。ここで、画素電極に親液性を付与する一方、隔壁に撥水性を付与しておくことにより、液状組成物が凹部内からはみ出すことを防止している。
特開2000−323276号公報
In manufacturing a light emitting device by such a method, conventionally, after forming a pixel driving thin film transistor and a pixel electrode (anode layer) as a first electrode layer, partition walls are formed along a boundary region between adjacent pixels. Then, the liquid composition is discharged into a recess completely surrounded by the partition wall. Here, while imparting lyophilicity to the pixel electrode and imparting water repellency to the partition walls, the liquid composition is prevented from protruding from the recess.
JP 2000-323276 A

しかしながら、隔壁により完全に囲まれた凹部内に液状組成物を充填する方法では、液滴吐出ヘッドのノズル開口からの液滴の吐出量がばらついた場合には、そのばらつき量がそのまま、画素間および画素内での有機機能層の厚さばらつきになってしまい、画素間での輝度ばらつきが発生するという問題点がある。   However, in the method in which the liquid composition is filled in the recess completely surrounded by the partition walls, when the amount of droplets discharged from the nozzle openings of the droplet discharge head varies, the variation amount remains as it is between pixels. In addition, there is a problem that the thickness of the organic functional layer in the pixel varies and luminance variation occurs between pixels.

以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、ノズル開口からの液状組成物の吐出量がばらついた場合でも、画素間および画素内での有機機能層の厚さばらつきを抑えることのできる発光装置、および発光装置の製造方法を提供することにある。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide light emission that can suppress variation in the thickness of the organic functional layer between pixels and within the pixels even when the discharge amount of the liquid composition from the nozzle openings varies. An object of the present invention is to provide a device and a method for manufacturing a light emitting device.

上記課題を解決するために、本発明では、第1電極層、有機機能層および第2電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置において、対応する色が相違する画素間の第1の境界領域には、当該第1の境界領域に沿って連続して延びた第1の隔壁が形成され、対応する色が同一の画素間の第2の境界領域には、当該画素間を部分的に仕切る第2の隔壁が形成され、前記有機機能層は、前記第1の隔壁および前記第2の隔壁により形成された凹部内に形成されているとともに、前記第2の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が前記第2の隔壁の非形成領域で繋がっていることを特徴とする。   In order to solve the above-described problem, in the present invention, a plurality of pixels including an organic electroluminescence element in which a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are sequentially stacked are linearly provided for each corresponding color. In a light emitting device arranged on a substrate, a first partition wall extending continuously along the first boundary region is formed in a first boundary region between pixels having different colors corresponding to the first boundary region. In the second boundary region between pixels having the same color, a second partition that partially partitions the pixels is formed, and the organic functional layer is formed by the first partition and the second partition. In the second boundary region, the organic functional layers formed in adjacent pixels are connected to each other in a region where the second partition wall is not formed. .

また、本発明では、第1電極層、有機機能層および第2電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置の製造方法において、前記第1電極層を形成した後、前記有機機能層を形成する前に、対応する色が相違する画素間の第1の境界領域には、当該第1の境界領域に沿って連続して延びる第1の隔壁を形成するとともに、対応する色が同一の画素間の第2の境界領域には、当該画素間を分的に仕切る第2の隔壁を形成する隔壁形成工程と、液滴吐出ヘッドのノズル開口から前記第1の隔壁および前記第2の隔壁により形成された凹部内に液状組成物を吐出した後、当該液状組成物を固化させて前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程とを有することを特徴とする。   In the present invention, a plurality of pixels including an organic electroluminescence element in which a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are sequentially stacked are linearly arranged on the substrate for each corresponding color. In the method for manufacturing a light emitting device, after forming the first electrode layer and before forming the organic functional layer, a first boundary region between pixels having different colors is included in the first boundary region. Forming a first partition wall that extends continuously along the line, and forming a second partition wall that separates the pixels in a second boundary region between pixels having the same color corresponding to each other. And a step of discharging a liquid composition into a recess formed by the first partition and the second partition from a nozzle opening of a droplet discharge head, and then solidifying the liquid composition to form the organic functional layer. An organic functional layer forming step to form And wherein the door.

本発明では、対応する色が同一の画素間の第2の境界領域に形成された第2の隔壁は、画素間を部分的に仕切っているため、第2の境界領域を挟む画素間では、凹部内に充填された有機機能層形成用の液状組成物が第2の隔壁の非形成領域で繋がり、画素間でのレベリングが発生する。このため、第2の境界領域を挟む画素に充填された液状組成物の量に差があっても、画素間では有機機能層の膜厚ばらつきが発生しない。また、第2の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が繋がっているとしても、第2の隔壁の非形成領域で繋がっているだけであるため、対応する色が同一の画素間でのクロストークが問題とならない。   In the present invention, since the second partition formed in the second boundary region between pixels having the same corresponding color partially partitions the pixels, between the pixels sandwiching the second boundary region, The liquid composition for forming the organic functional layer filled in the recesses is connected in the non-formation region of the second partition, and leveling occurs between the pixels. For this reason, even if there is a difference in the amount of the liquid composition filled in the pixels sandwiching the second boundary region, there is no variation in the thickness of the organic functional layer between the pixels. In the second boundary region, even if the organic functional layers formed in adjacent pixels are connected to each other, they are only connected in the region where the second partition wall is not formed. Crosstalk between pixels is not a problem.

本発明に係る発光装置において、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁とは、同一の材料からなることが好ましい。すなわち、本発明に係る発光装置の製造方法において、前記隔壁形成工程では、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁とを同一の材料によって同時形成することが好ましい。   In the light emitting device according to the present invention, it is preferable that the first partition and the second partition are made of the same material. That is, in the method for manufacturing a light emitting device according to the present invention, it is preferable that in the partition formation step, the first partition and the second partition are simultaneously formed of the same material.

本発明に係る発光装置において、前記第2の隔壁はそれ自身が途切れ部分を備えている構成、あるいは前記第1の隔壁との間に所定の距離を隔てた位置に形成された構成を採用することができる。これらの構成のうち、後者の場合には、第2の隔壁の非形成領域が凹部の隅部分に位置することになるので、画素間での液状組成物のレベリングを凹部の隅部分を介して行うことができ、画素間および画素内での有機機能層の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。本発明において、第2の隔壁の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うという観点からすれば、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁との離間距離が15μm以上であることが好ましい。   In the light emitting device according to the present invention, the second partition wall itself has a discontinuous portion or a structure formed at a predetermined distance from the first partition wall. be able to. Of these configurations, in the latter case, the non-formation region of the second partition wall is located at the corner of the recess, so that the leveling of the liquid composition between the pixels is performed via the corner of the recess. This can be performed, and variations in the thickness of the organic functional layer between pixels and within the pixels can be effectively suppressed. In the present invention, from the viewpoint of effectively leveling the liquid composition between the pixels through the non-formation region of the second partition, the separation distance between the first partition and the second partition. Is preferably 15 μm or more.

本発明に係る発光装置において、前記有機機能層は、少なくとも、正孔注入層と、該正孔注入層上に積層された発光層とを備えている構成を採用することができる。この場合、発光装置の製造方法において、前記有機機能層形成工程では、少なくとも、前記有機機能層に含まれる正孔注入層を形成する正孔注入層形成工程と、前記有機機能層に含まれる発光層を前記正孔注入層上に積層する発光層形成工程とを行い、前記発光層形成工程では、前記正孔注入層に対して非溶解性の溶媒(正孔注入層に対する溶解性の低い溶媒も含む)に発光層形成材料を配合した液状組成物を用いることが好ましい。このように構成すると、正孔注入層を形成した後、発光層を形成する際、発光層を形成するための液状組成物の溶媒で正孔注入層が劣化することを防止できる。但し、この場合には、正孔注入層は、発光層を形成するための液状組成物に対する親液性が低いので、液状組成物の下地への濡れ性が悪いが、その場合でも、本発明では、第2の境界領域では、第2の隔壁の非形成領域によって画素間での液状組成物のレベリングを行い、かつ、第2の隔壁の非形成領域あるいはその近傍への液状組成物の吐出により画素内での液状組成物のレベリングを行うため、発光層の膜厚ばらつきを防止することができる。   In the light emitting device according to the present invention, the organic functional layer may employ a configuration including at least a hole injection layer and a light emitting layer laminated on the hole injection layer. In this case, in the method for manufacturing a light emitting device, in the organic functional layer forming step, at least a hole injection layer forming step for forming a hole injection layer included in the organic functional layer, and a light emission included in the organic functional layer A light emitting layer forming step of laminating a layer on the hole injection layer, and in the light emitting layer forming step, a solvent insoluble in the hole injection layer (a solvent having low solubility in the hole injection layer) It is preferable to use a liquid composition in which the light emitting layer forming material is blended. If comprised in this way, when forming a light emitting layer after forming a hole injection layer, it can prevent that a hole injection layer deteriorates with the solvent of the liquid composition for forming a light emitting layer. However, in this case, since the hole injection layer has low lyophilicity with respect to the liquid composition for forming the light emitting layer, the wettability of the liquid composition to the base is poor. Then, in the second boundary region, the liquid composition is leveled between the pixels by the non-formation region of the second partition, and the liquid composition is discharged to or near the non-formation region of the second partition. As a result, the liquid composition is leveled in the pixel, so that variations in the thickness of the light emitting layer can be prevented.

本発明に係る発光装置の製造方法おいて、前記第1の隔壁および前記第2の隔壁の表面は、前記液状組成物に対する撥液性を備えていることが好ましい。このように構成すると、液状組成物が凹部の外側にはみ出ることを防止することができる。   In the method for manufacturing a light emitting device according to the present invention, it is preferable that the surfaces of the first partition and the second partition have liquid repellency with respect to the liquid composition. If comprised in this way, it can prevent that a liquid composition protrudes outside the recessed part.

この場合、前記液状組成物を吐出する際に、当該液状組成物の一部を前記第2の隔壁の端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、第2の隔壁の非形成領域近傍に液状組成物が吐出されるので、第2の隔壁の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うことができる。   In this case, when discharging the liquid composition, it is preferable to discharge a part of the liquid composition to a position overlapping with an end of the second partition wall. With this configuration, since the liquid composition is discharged in the vicinity of the non-formation region of the second partition wall, the liquid composition is effectively leveled between the pixels through the non-formation region of the second partition wall. be able to.

本発明において、前記液状組成物を吐出する際に、当該液状組成物の一部を前記第1の隔壁の端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、凹部の隅部分に液状組成物を吐出できるので、画素内での有機機能層の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。   In the present invention, when discharging the liquid composition, it is preferable to discharge a part of the liquid composition to a position overlapping with an end of the first partition wall. If comprised in this way, since a liquid composition can be discharged to the corner part of a recessed part, the film thickness variation of the organic functional layer in a pixel can be suppressed effectively.

本発明において、前記液滴吐出ヘッドのノズル形成面では、前記ノズル開口が複数、整列してノズル列を構成している場合、前記有機機能層形成工程では、対向する色が同一の画素の配列方向、あるいは当該配列方向に対して斜め方向に前記ノズル列を向けた状態で前記液滴吐出ヘッドを前記基板に対して前記配列方向と直交する方向に相対移動させることが好ましい。   In the present invention, when a plurality of nozzle openings are aligned to form a nozzle row on the nozzle forming surface of the droplet discharge head, in the organic functional layer forming step, an array of pixels having the same opposing color is arranged. It is preferable to move the droplet discharge head relative to the substrate in a direction perpendicular to the arrangement direction in a state where the nozzle row is directed in a direction or an oblique direction with respect to the arrangement direction.

本発明に係る発光装置は、携帯電話機、テレビ、車載パネル、パーソナルコンピュータやPDAなどの電子機器においてフルカラー表示装置として用いることができる。   The light-emitting device according to the present invention can be used as a full-color display device in electronic devices such as a mobile phone, a television, a vehicle-mounted panel, a personal computer, and a PDA.

以下に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明に用いた各図では、各層や各部材を図面上で認識可能とするため、各層や各部材毎に縮尺を相違させてある。また、薄膜トランジシスタや配線など、本発明と直接、関係しない構成要素については、その形成位置をずらすことにより、その構成を図面上で認識しやすくしてある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing used in the following description, the scales are different for each layer and each member so that each layer and each member can be recognized on the drawing. In addition, components that are not directly related to the present invention, such as thin-film transistors and wiring, are easily recognized on the drawings by shifting their formation positions.

(発光装置の全体構成)
図1は、本発明が適用される発光装置の電気的構成を示すブロック図である。なお、図1において各画素が赤色(R)、緑色(G)および青色(B)のいずれの色に対応するかは、(R)、(G)、(B)を付すことにより表わしてある。
(Whole structure of light emitting device)
FIG. 1 is a block diagram showing an electrical configuration of a light emitting device to which the present invention is applied. In FIG. 1, whether each pixel corresponds to red (R), green (G), or blue (B) is represented by adding (R), (G), or (B). .

図1に示す発光装置100は、駆動電流が流れることによって発光する有機エレクトロルミネッセンス素子を薄膜トランジスタで駆動制御する装置であり、このタイプの発光装置100では、有機エレクトロルミネッセンス素子が自己発光するため、バックライトを必要とせず、また、視野角依存性が少ないなどの利点がある。   A light-emitting device 100 shown in FIG. 1 is a device that drives and controls an organic electroluminescence element that emits light when a driving current flows, and in this type of light-emitting device 100, the organic electroluminescence element self-emits. There are advantages such as not requiring a light and less viewing angle dependency.

本形態の発光装置100では、複数の走査線163と、この走査線163の延設方向に対して交差する方向に延設された複数のデータ線164と、これらのデータ線164に並列する複数の共通給電線165と、データ線164と走査線163との交差点に対応する画素115とが構成され、画素115は、画像表示領域にマトリクス状に配置されている。データ線164に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ線駆動回路151が構成されている。走査線163に対しては、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査線駆動回路154が構成されている。また、複数の画素115の各々には、走査線163を介して走査信号がゲート電極に供給される画素スイッチング用の薄膜トランジスタ106と、この薄膜トランジスタ106を介してデータ線164から供給される画像信号を保持する保持容量133と、この保持容量133によって保持された画像信号がゲート電極に供給される電流制御用の薄膜トランジスタ107と、薄膜トランジスタ107を介して共通給電線165に電気的に接続したときに共通給電線165から駆動電流が流れ込む有機エレクトロルミネッセンス素子110とが構成されている。   In the light emitting device 100 of this embodiment, a plurality of scanning lines 163, a plurality of data lines 164 extending in a direction intersecting with the extending direction of the scanning lines 163, and a plurality of data lines 164 arranged in parallel with these data lines 164. The common power supply line 165 and the pixel 115 corresponding to the intersection of the data line 164 and the scanning line 163 are configured, and the pixels 115 are arranged in a matrix in the image display area. For the data line 164, a data line driving circuit 151 including a shift register, a level shifter, a video line, and an analog switch is configured. A scanning line driving circuit 154 including a shift register and a level shifter is configured for the scanning line 163. Each of the plurality of pixels 115 receives a pixel switching thin film transistor 106 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode through the scanning line 163 and an image signal supplied from the data line 164 through the thin film transistor 106. Common when a storage capacitor 133 to be held, a current control thin film transistor 107 to which an image signal held by the storage capacitor 133 is supplied to the gate electrode, and the common power supply line 165 through the thin film transistor 107 are electrically connected An organic electroluminescence element 110 into which a driving current flows from the feeder line 165 is configured.

(画素構成)
図2は、本発明を適用した発光装置の画素複数個分の平面図である。図3(A)、(B)は各々、本発明を適用した発光装置の1画素分の平面図および断面図である。図4は、本発明を適用した発光装置の各色に対応する3つの画素(1ドット分)の断面図である。
(Pixel configuration)
FIG. 2 is a plan view of a plurality of pixels of a light emitting device to which the present invention is applied. 3A and 3B are a plan view and a cross-sectional view, respectively, for one pixel of a light emitting device to which the present invention is applied. FIG. 4 is a cross-sectional view of three pixels (one dot) corresponding to each color of the light emitting device to which the present invention is applied.

図1および図2に示すように、本形態の発光装置100は、カラー表示装置であるため、各画素115は各々、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応し、本形態では、複数の画素115が、対応する色(R)、(G)、(B)毎に直線的に配列されたストライプ配列が採用されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, since the light emitting device 100 of this embodiment is a color display device, each pixel 115 corresponds to red (R), green (G), and blue (B). In the embodiment, a stripe arrangement in which a plurality of pixels 115 are linearly arranged for the corresponding colors (R), (G), and (B) is employed.

図2、図3(A)、(B)および図4に示すように、本形態の発光装置100を構成するにあたって、より具体的には、素子基板を構成するガラス基板などからなる基板120(発光装置用基板)上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜(図示せず)が形成され、この下地保護膜上に、薄膜トランジスタ107などを構成するためのポリシリコン膜からなる半導体膜109aが島状に形成されている。半導体膜109aには不純物の導入によってソース・ドレイン領域109b、109cが形成され、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域109dとなっている。下地保護膜および半導体膜109aの上層側にはゲート絶縁膜121が形成され、ゲート絶縁膜121上にはアルミニウム(Al)、モリブデン(Mo)、タンタル(Ta)、チタン(Ti)、タングステン(W)などからなる走査線163およびゲート電極143が形成されている。走査線163、ゲート電極143およびゲート絶縁膜121の上層側には、第1層間絶縁膜122と第2層間絶縁膜123とがこの順に積層されている。ここで、第1層間絶縁膜122および第2層間絶縁膜123は、シリコン酸化物(SiO2)、チタン酸化物(TiO2)などの無機絶縁膜から構成されている。 As shown in FIG. 2, FIG. 3A, FIG. 3B, and FIG. 4, in constructing the light emitting device 100 of this embodiment, more specifically, a substrate 120 (including a glass substrate constituting an element substrate). A base protective film (not shown) made of a silicon oxide film is formed on the substrate for the light emitting device, and a semiconductor film 109a made of a polysilicon film for forming the thin film transistor 107 and the like is formed in an island shape on the base protective film. Is formed. Source / drain regions 109b and 109c are formed in the semiconductor film 109a by introducing impurities, and a portion where no impurities are introduced becomes a channel region 109d. A gate insulating film 121 is formed on an upper layer side of the base protective film and the semiconductor film 109a. On the gate insulating film 121, aluminum (Al), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), titanium (Ti), tungsten (W A scanning line 163 and a gate electrode 143 are formed. On the upper layer side of the scanning line 163, the gate electrode 143, and the gate insulating film 121, a first interlayer insulating film 122 and a second interlayer insulating film 123 are stacked in this order. Here, the first interlayer insulating film 122 and the second interlayer insulating film 123 are made of an inorganic insulating film such as silicon oxide (SiO 2 ) or titanium oxide (TiO 2 ).

第1層間絶縁膜122の上層には、第1層間絶縁膜122およびゲート絶縁膜121のコンタクトホールを介してソース・ドレイン領域109b、109cにそれぞれ接続するソース・ドレイン電極126および共通給電線165が形成されている。また、第1層間絶縁膜122の上層にはデータ線164も形成されている。   A source / drain electrode 126 and a common feed line 165 are connected to the source / drain regions 109b and 109c through contact holes of the first interlayer insulating film 122 and the gate insulating film 121, respectively, on the first interlayer insulating film 122. Is formed. A data line 164 is also formed in the upper layer of the first interlayer insulating film 122.

第2層間絶縁膜123上には、ITO(酸化インジウム−スズ/Indium Tin Oxide)層からなる光透過性の画素電極111が形成され、この画素電極111は、第2層間絶縁膜123のコンタクトホールを介してソース・ドレイン電極126に電気的に接続している。従って、画素電極111は、薄膜トランジスタ107を介して共通給電線165に電気的に接続したとき、共通給電線165から駆動電流が流れ込む。   A light transmissive pixel electrode 111 made of an ITO (Indium Tin Oxide / Indium Tin Oxide) layer is formed on the second interlayer insulating film 123, and the pixel electrode 111 is a contact hole of the second interlayer insulating film 123. The electrode is electrically connected to the source / drain electrode 126. Accordingly, when the pixel electrode 111 is electrically connected to the common power supply line 165 via the thin film transistor 107, a drive current flows from the common power supply line 165.

各画素115には、陽極層(第1電極層)としての画素電極111と、有機機能層113と、陰極層(第2電極層)としての対向電極112がこの順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子110が形成されている。有機機能層113は、画素電極111上に積層された正孔注入層113aと、この正孔注入層113aの上層側に形成された発光層113bとを備えている。発光層113bは、正孔注入層113aの側から注入される正孔と、対向電極112の側から注入される電子とが結合して発光する領域としての機能を担っており、各画素115が赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれの色に対応するかは、発光層113bを構成する有機材料の種類によって規定されている。発光層113bの膜厚は、例えば約80〜150nmである。本形態では、正孔注入層113aが、正孔を発光層113bに輸送する正孔輸送層としての機能も担っており、正孔注入層113aの膜厚は、例えば約10〜100nmである。   In each pixel 115, an organic electroluminescence element in which a pixel electrode 111 as an anode layer (first electrode layer), an organic functional layer 113, and a counter electrode 112 as a cathode layer (second electrode layer) are laminated in this order. 110 is formed. The organic functional layer 113 includes a hole injection layer 113a stacked on the pixel electrode 111 and a light emitting layer 113b formed on the upper layer side of the hole injection layer 113a. The light emitting layer 113b functions as a region that emits light by combining holes injected from the hole injection layer 113a and electrons injected from the counter electrode 112 side. Whether the color corresponds to red (R), green (G), or blue (B) is defined by the type of the organic material constituting the light emitting layer 113b. The film thickness of the light emitting layer 113b is, for example, about 80 to 150 nm. In this embodiment, the hole injection layer 113a also functions as a hole transport layer that transports holes to the light emitting layer 113b, and the thickness of the hole injection layer 113a is, for example, about 10 to 100 nm.

なお、各画素115は赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応しているが、各色の画素115において、有機エレクトロルミネッセンス素子110を構成する発光層113bの組成のみが相違し、その他の構成は共通である。   Note that each pixel 115 corresponds to red (R), green (G), and blue (B), but only the composition of the light emitting layer 113b constituting the organic electroluminescence element 110 is different in each color pixel 115. Other configurations are common.

本形態の発光装置100は、基板側に向けて表示光を出射するボトムエミッション型であり、対向電極112は、薄いカルシウム層やアルミニウム膜などといった光反射性の導電膜により構成されている。なお、発光装置100が、基板とは反対側に向けて表示光を出射するトップエミッション型である場合、対向電極112は、例えば、薄いカルシウム層と、ITO層などからなる光透過性陰極層とから構成され、画素電極111の下層側には、画素電極111の略全体と重なるようにアルミニウム膜などからなる光反射層が形成される。なお、基板120の素子形成面側には、水や酸素の侵入を防ぐことによって、陰極層あるいは機能層の酸化を防止する封止樹脂(図示せず)が形成され、さらに封止基板(図示せず)が貼られることがある。   The light emitting device 100 of this embodiment is a bottom emission type that emits display light toward the substrate side, and the counter electrode 112 is formed of a light reflective conductive film such as a thin calcium layer or an aluminum film. When the light emitting device 100 is a top emission type that emits display light toward the side opposite to the substrate, the counter electrode 112 includes, for example, a thin calcium layer and a light-transmitting cathode layer made of an ITO layer or the like. A light reflection layer made of an aluminum film or the like is formed on the lower layer side of the pixel electrode 111 so as to overlap substantially the entire pixel electrode 111. Note that a sealing resin (not shown) that prevents oxidation of the cathode layer or the functional layer by preventing intrusion of water or oxygen is formed on the element forming surface side of the substrate 120, and further, a sealing substrate (see FIG. (Not shown) may be affixed.

(隔壁の構成)
本形態では、隣接する画素115の境界領域には、画素電極111の周縁部を取り囲むように、感光性樹脂からなる隔壁(図2、図3(A)で右上がりの斜線で示す領域)が形成されており、対応する色が相違する画素間の第1の境界領域116aには、第1の境界領域116aに沿って延びた第1の隔壁105aが形成され、対応する色が同一の画素間の第2の境界領域116bには、第2の境界領域116bに沿って延びた第2の隔壁105bが形成されている。
(Structure of the partition wall)
In this embodiment, a partition made of a photosensitive resin (a region indicated by a diagonal line rising to the right in FIGS. 2 and 3A) is provided in a boundary region between adjacent pixels 115 so as to surround a peripheral portion of the pixel electrode 111. In the first boundary region 116a between the formed pixels having different colors, a first partition wall 105a extending along the first boundary region 116a is formed, and the corresponding color is the same pixel. A second partition wall 105b extending along the second boundary region 116b is formed in the second boundary region 116b therebetween.

第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bは、いずれも同一材料により形成され、本形態では、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bは感光性のアクリル樹脂から形成されている。   The first partition 105a and the second partition 105b are both formed of the same material. In this embodiment, the first partition 105a and the second partition 105b are formed of a photosensitive acrylic resin.

ここで、第1の隔壁105aは、第1の境界領域116aに沿って連続的に延びている。これに対して、第2の隔壁105bは、両端部が第1の隔壁105aとの間に隙間105c(第2の隔壁105bの非形成領域)を介するように形成され、第2の隔壁105bを挟む画素115の間を部分的に仕切っている。本形態において、隙間105cの寸法Lb(第1の隔壁105aと第2の隔壁105bとの離間距離)は、15μm以上に設定されている。   Here, the first partition wall 105a continuously extends along the first boundary region 116a. On the other hand, the second partition wall 105b is formed so that both ends thereof are interposed between the first partition wall 105a and a gap 105c (a region where the second partition wall 105b is not formed). The intervening pixels 115 are partially partitioned. In this embodiment, the dimension Lb of the gap 105c (the separation distance between the first partition wall 105a and the second partition wall 105b) is set to 15 μm or more.

このように構成した第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bは、有機機能層113(正孔注入層113aおよび発光層113b)を形成するのにインクジェット法(液体吐出法)を用いるとき、塗布される液状組成物の塗布領域を規定するものであり、有機機能層113は、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bにより形成された凹部150内に形成されている。   The first partition wall 105a and the second partition wall 105b configured as described above are applied when the ink jet method (liquid ejection method) is used to form the organic functional layer 113 (the hole injection layer 113a and the light emitting layer 113b). The organic functional layer 113 is formed in a recess 150 formed by the first partition wall 105a and the second partition wall 105b.

但し、本形態では、第1の隔壁105aと第2の隔壁105bとの間には隙間105cがあるため、第2の隔壁105bを挟む画素115に形成された有機機能層113同士が隙間105cで繋がっている。   However, in this embodiment, since there is a gap 105c between the first partition 105a and the second partition 105b, the organic functional layers 113 formed in the pixels 115 sandwiching the second partition 105b are separated by a gap 105c. It is connected.

また、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bはいずれも表面に、有機機能層113を形成する際に用いる液状組成物に対する撥液性が付与されており、液状組成物の表面張力によって、有機機能層113を凹部150から外側にはみ出すことを防止し、かつ、有機機能層113の膜厚ばらつきを防止している。なお、インクジェット式の液滴吐出装置としては、後述するように、圧電振動子の体積変化により液状組成物を吐出させるピエゾジェットの液滴吐出装置や、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた液滴吐出装置などが採用される。ここで、液状組成物は、水性であると油性であるとを問わない。また、液状組成物については、流動性を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。また、液体材料に含まれる固体物質は融点以上に加熱されて溶解されたものでも、溶媒中に微粒子として分散させたものでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料を添加したものであってもよい。   Further, both the first partition wall 105a and the second partition wall 105b are provided with liquid repellency to the liquid composition used when forming the organic functional layer 113 on the surface, and the surface tension of the liquid composition The organic functional layer 113 is prevented from protruding from the recess 150 to the outside, and variations in the film thickness of the organic functional layer 113 are prevented. As will be described later, an ink jet type droplet discharge device uses a piezoelectric jet droplet discharge device that discharges a liquid composition by volume change of a piezoelectric vibrator, or an electrothermal transducer as an energy generating element. A droplet discharge device or the like is employed. Here, it does not matter whether the liquid composition is aqueous or oily. Moreover, about a liquid composition, it is enough if it has fluidity | liquidity, and even if a solid substance is mixed, it should just be a fluid as a whole. In addition, the solid material contained in the liquid material may be dissolved by being heated to a temperature higher than the melting point, or may be dispersed as fine particles in a solvent, and a dye, pigment or other functional material added in addition to the solvent It may be.

(発光装置100の動作)
このように構成した発光装置100において、走査線163が駆動されて薄膜トランジスタ106がオン状態になると、そのときの信号線164の電位が保持容量133に保持され、この保持容量133の状態に応じて薄膜トランジスタ107の導通状態が制御される。また、薄膜トランジスタ107がオン状態になったとき、薄膜トランジスタ107を介して共通給電線165から画素電極111に電流が流れ、有機エレクトロルミネッセンス素子110では、有機機能層113を通じて対向電極112に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて発光層113bが発光する。その結果、ボトムエミッション型の場合、発光層113bから画素電極111および基板120に向けて出射された光は、画素電極111および基板120を透過して出射される一方、対向電極112に向かう光は、対向電極112で反射した後、画素電極111および基板120を透過して出射される。これに対して、トップエミッション型の場合、対向電極112を透過して、観測者側に出射される一方、発光層113bから基板120に向けて出射された光は、画素電極111の下層に形成された光反射層によって反射され、対向電極112を透過して観測者側に出射される。
(Operation of Light Emitting Device 100)
In the light emitting device 100 configured as described above, when the scanning line 163 is driven and the thin film transistor 106 is turned on, the potential of the signal line 164 at that time is held in the holding capacitor 133, and according to the state of the holding capacitor 133. The conduction state of the thin film transistor 107 is controlled. Further, when the thin film transistor 107 is turned on, a current flows from the common power supply line 165 to the pixel electrode 111 through the thin film transistor 107, and in the organic electroluminescence element 110, a current flows to the counter electrode 112 through the organic functional layer 113. The light emitting layer 113b emits light according to the amount of current at this time. As a result, in the case of the bottom emission type, the light emitted from the light emitting layer 113b toward the pixel electrode 111 and the substrate 120 is emitted through the pixel electrode 111 and the substrate 120, while the light directed toward the counter electrode 112 is emitted. After being reflected by the counter electrode 112, the light passes through the pixel electrode 111 and the substrate 120 and is emitted. On the other hand, in the case of the top emission type, the light emitted from the light emitting layer 113b toward the substrate 120 is formed in the lower layer of the pixel electrode 111 while being transmitted through the counter electrode 112 and emitted to the observer side. The light is reflected by the light reflecting layer, passes through the counter electrode 112, and is emitted to the observer side.

(液滴吐出ヘッドの構成)
図5(A)〜(D)はそれぞれ、本形態の発光装置100を製造する際に使用する液滴吐出ヘッドのノズル形成面の説明図、液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、液滴吐出ヘッドに用いた圧力発生素子の説明図、および別の圧力発生素子の説明図である。
(Configuration of droplet discharge head)
5A to 5D are explanatory diagrams of the nozzle formation surface of the droplet discharge head used when manufacturing the light emitting device 100 of this embodiment, respectively, and an explanation schematically showing the internal structure of the droplet discharge head. FIG. 6 is an explanatory diagram of a pressure generating element used in a droplet discharge head, and an explanatory diagram of another pressure generating element.

図5(A)に示すように、液滴吐出ヘッド22は、そのノズル形成面271に、複数のノズル開口27を列状に並べることによって形成されたノズル列28を備えている。ノズル開口27の数は、例えば180個であり、ノズル開口27の穴径は例えば28μmであり、ノズル開口27間のノズルピッチは例えば141μmである。なお、液滴吐出ヘッド22の基板に対する主走査方向Xおよびそれに直交する副走査方向Yは図示の通りである。すなわち、液滴吐出ヘッド22は、そのノズル列28が主走査方向Xと交差する方向(副走査方向Y)へ延びるように位置設定され、この主走査方向Xへ平行移動する間に、液状組成物を複数のノズル開口27から選択的に吐出することにより、基板内の所定位置に液滴を着弾させる。また、液滴吐出ヘッド22は副走査方向Yへ所定距離だけ平行移動することにより、液滴吐出ヘッド22による主走査位置を所定の間隔でずらせることができる。   As shown in FIG. 5A, the droplet discharge head 22 includes a nozzle row 28 formed by arranging a plurality of nozzle openings 27 in a row on the nozzle forming surface 271 thereof. The number of nozzle openings 27 is, for example, 180, the hole diameter of the nozzle openings 27 is, for example, 28 μm, and the nozzle pitch between the nozzle openings 27 is, for example, 141 μm. The main scanning direction X and the sub-scanning direction Y perpendicular to the substrate of the droplet discharge head 22 are as illustrated. That is, the droplet discharge head 22 is positioned so that the nozzle row 28 extends in a direction (sub-scanning direction Y) intersecting the main scanning direction X, and the liquid composition is moved while moving in parallel in the main scanning direction X. By selectively ejecting objects from the plurality of nozzle openings 27, droplets are landed at predetermined positions in the substrate. Further, the droplet discharge head 22 can be moved in parallel in the sub-scanning direction Y by a predetermined distance, so that the main scanning position by the droplet discharge head 22 can be shifted at a predetermined interval.

図5(B)、(C)に示すように、液滴吐出ヘッド22は、例えば、ステンレス製のノズルプレート29と、それに対向する振動板31と、それらを互いに接合する複数の仕切部材32とを有している。ノズルプレート29と振動板31との間には、仕切部材32によって複数の圧力発生室33と、液溜り34とが形成されている。複数の圧力発生室33と液溜り34とは通路38を介して互いに連通している。振動板31の適所には液状組成物供給穴36が形成され、この液状組成物供給穴36に液状組成物供給装置37が接続される。この液状組成物供給装置37は、吐出されることとなる液状組成物Mを液状組成物供給穴36へ供給する。供給された液状組成物Mは、液溜り34に充満し、さらに通路38を通って圧力発生室33に充満する。   As shown in FIGS. 5B and 5C, the droplet discharge head 22 includes, for example, a stainless steel nozzle plate 29, a diaphragm 31 facing the nozzle plate 29, and a plurality of partition members 32 that join them together. have. A plurality of pressure generating chambers 33 and liquid reservoirs 34 are formed between the nozzle plate 29 and the diaphragm 31 by the partition member 32. The plurality of pressure generating chambers 33 and the liquid reservoir 34 communicate with each other through a passage 38. A liquid composition supply hole 36 is formed at an appropriate position of the diaphragm 31, and a liquid composition supply device 37 is connected to the liquid composition supply hole 36. The liquid composition supply device 37 supplies the liquid composition M to be discharged to the liquid composition supply hole 36. The supplied liquid composition M fills the liquid reservoir 34 and further fills the pressure generating chamber 33 through the passage 38.

ノズルプレート29には、圧力発生室33から液状組成物Mをジェット状(液滴M0)に吐出するためのノズル開口27が設けられており、そのノズル開口27が開口しているノズル形成面271は平坦面とされている。振動板31の圧力発生室33を形成する面の裏面には、この圧力発生室33に対応させて圧電振動子39(圧力発生素子)が取り付けられている。この圧電振動子39は、例えば、圧電素子41ならびにこれを挟持する一対の電極42aおよび42bを備えている。圧電素子41は電極42a、42bへの通電によって矢印Cで示す外側へ突出するように撓み変形し、これにより圧力発生室33の容積が増大する。すると、増大した容積分に相当する液状組成物Mが液溜り34から通路38を通って圧力発生室33へ流入する。   The nozzle plate 29 is provided with a nozzle opening 27 for discharging the liquid composition M from the pressure generating chamber 33 in the form of a jet (droplet M0), and the nozzle forming surface 271 on which the nozzle opening 27 is open. Is a flat surface. A piezoelectric vibrator 39 (pressure generating element) is attached to the back surface of the surface of the vibration plate 31 forming the pressure generating chamber 33 so as to correspond to the pressure generating chamber 33. The piezoelectric vibrator 39 includes, for example, a piezoelectric element 41 and a pair of electrodes 42a and 42b that sandwich the piezoelectric element 41. The piezoelectric element 41 is bent and deformed so as to protrude outward as indicated by an arrow C by energization of the electrodes 42a and 42b, thereby increasing the volume of the pressure generating chamber 33. Then, the liquid composition M corresponding to the increased volume flows from the liquid reservoir 34 through the passage 38 into the pressure generating chamber 33.

次に、圧電素子41への通電を解除すると、この圧電素子41と振動板31とは共に元の形状へ戻る。これにより、圧力発生室33も元の容積に戻るため、圧力発生室33の内部にある液状組成物Mの圧力が上昇し、ノズル開口27から基板120へ向けて液状組成物Mが液滴M0となって噴出する。   Next, when energization to the piezoelectric element 41 is released, both the piezoelectric element 41 and the diaphragm 31 return to their original shapes. As a result, the pressure generating chamber 33 also returns to its original volume, so that the pressure of the liquid composition M inside the pressure generating chamber 33 rises, and the liquid composition M drops from the nozzle opening 27 toward the substrate 120. And erupts.

なお、図5(D)に示すように、圧電振動子39としては、縦振動モードの圧電素子を用いてもよい。この縦振動モードの圧電振動子39では、伸長方向に平行に圧電材料と導電材料を交互に積層して構成されており、その先端は振動板31に固定され、他端は基台20に固定されている。このような圧電振動子39では、充電状態では導電層の積層方向と直角な方向に収縮し、また充電状態が解かれると、導電層と直角な方向に伸長する。   As shown in FIG. 5D, as the piezoelectric vibrator 39, a longitudinal vibration mode piezoelectric element may be used. The piezoelectric vibrator 39 in the longitudinal vibration mode is configured by alternately laminating piezoelectric materials and conductive materials in parallel to the extension direction, and the tip is fixed to the vibration plate 31 and the other end is fixed to the base 20. Has been. Such a piezoelectric vibrator 39 contracts in a direction perpendicular to the stacking direction of the conductive layers in a charged state, and extends in a direction perpendicular to the conductive layers when the charged state is released.

いずれの圧電振動子39を用いた場合も、電極間に印加される駆動信号によって変形し、圧力発生室33を膨張、収縮させる。なお、ノズル開口27の周辺部には、液滴M0の飛行曲がりやノズル開口27の穴詰まりなどを防止するために、例えばNi−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥液状組成物層43が設けられる。   Any of the piezoelectric vibrators 39 is deformed by a drive signal applied between the electrodes, and the pressure generating chamber 33 is expanded and contracted. In addition, a liquid repellent composition layer 43 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided around the nozzle opening 27 in order to prevent the flying of the droplet M0 and the clogging of the nozzle opening 27. Provided.

(発光装置の製造方法)
図6〜図8は、本形態の発光装置100を製造する方法を示す工程断面図である。図9、図10および図11は各々、本形態の発光装置100の製造工程において、画素電極までを形成した状態を示す平面図、隔壁を形成した状態を示す平面図、および有機機能層を形成する方法を示す平面図である。
(Method for manufacturing light emitting device)
6-8 is process sectional drawing which shows the method of manufacturing the light-emitting device 100 of this form. 9, FIG. 10 and FIG. 11 are respectively a plan view showing a state where up to pixel electrodes are formed, a plan view showing a state where barrier ribs are formed, and an organic functional layer in the manufacturing process of the light emitting device 100 of this embodiment. It is a top view which shows the method to do.

本形態の発光装置100を製造するには、まず、図6(A)に示すように、基板120(発光装置用基板)を用意する。ここで、発光装置100がボトムエミッション型である場合、基板120としてはガラスや石英、樹脂などの透明ないし半透明なものが用いられるが、特にガラスが好適に用いられる。また、基板120に色フィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよい。これに対して、発光装置100がトップエミッション型である場合、基板120は不透明であってもよく、その場合、アルミナなどのセラミックス、ステンレスなどの金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。   In order to manufacture the light emitting device 100 of this embodiment, first, as shown in FIG. 6A, a substrate 120 (light emitting device substrate) is prepared. Here, when the light emitting device 100 is a bottom emission type, a transparent or translucent material such as glass, quartz, or resin is used as the substrate 120, and glass is particularly preferably used. Further, a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent material, or a dielectric reflection film may be disposed on the substrate 120 to control the emission color. On the other hand, when the light emitting device 100 is a top emission type, the substrate 120 may be opaque. In this case, a ceramic sheet such as alumina or a metal sheet such as stainless steel is subjected to an insulation treatment such as surface oxidation. A thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like can be used.

次に、基板120に対して、必要に応じてTEOS(テトラエトキシシラン)や酸素ガスなどを原料としてプラズマCVD法により厚さ約200〜500nmのシリコン酸化膜からなる下地保護膜(図示せず)を形成する。次に、基板120の温度を約350℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマCVD法により厚さ約30〜70nmのアモルファスシリコン膜からなる半導体膜109を形成する。次に、半導体膜109に対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜109をポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が400mmのラインビームを用い、その出力強度は、例えば200mJ/cm2とする。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の90%に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。 Next, a base protective film (not shown) made of a silicon oxide film having a thickness of about 200 to 500 nm is formed on the substrate 120 by plasma CVD using TEOS (tetraethoxysilane) or oxygen gas as a raw material if necessary. Form. Next, the temperature of the substrate 120 is set to about 350 ° C., and a semiconductor film 109 made of an amorphous silicon film having a thickness of about 30 to 70 nm is formed on the surface of the base protective film by plasma CVD. Next, a crystallization process such as laser annealing or solid phase growth is performed on the semiconductor film 109 to crystallize the semiconductor film 109 into a polysilicon film. In the laser annealing method, for example, a line beam having a long beam length of 400 mm is used with an excimer laser, and the output intensity is set to 200 mJ / cm 2 , for example. With respect to the line beam, the line beam is scanned so that a portion corresponding to 90% of the peak value of the laser intensity in the short dimension direction overlaps each region.

次に、図6(B)に示すように、半導体膜(ポリシリコン膜)109をパターニングして島状の半導体膜109aとし、その表面に対して、TEOSや酸素ガスなどを原料としてプラズマCVD法により厚さ約60〜150nmのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜121を形成する。なお、半導体膜109aは、図3に示す薄膜トランジスタ107のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においては薄膜トランジスタ106のチャネル領域およびソース・ドレイン領域となる半導体膜も形成されている。すなわち、発光装置100では、二種類のトランジスタ106、107が同一の層間、あるいは異なる層間に形成されるが、概ね同一の手順で形成されるため、以下の説明では、薄膜トランジスタ107についてのみ説明し、薄膜トランジスタ106についてはその説明を省略する。   Next, as shown in FIG. 6B, the semiconductor film (polysilicon film) 109 is patterned to form an island-shaped semiconductor film 109a, and the surface is plasma CVD using TEOS, oxygen gas, or the like as a raw material. Thus, a gate insulating film 121 made of a silicon oxide film or a nitride film having a thickness of about 60 to 150 nm is formed. Note that the semiconductor film 109a serves as a channel region and a source / drain region of the thin film transistor 107 shown in FIG. 3, but semiconductor films serving as a channel region and a source / drain region of the thin film transistor 106 are also formed at different cross-sectional positions. ing. That is, in the light emitting device 100, the two types of transistors 106 and 107 are formed in the same layer or in different layers, but are formed in substantially the same procedure. Therefore, in the following description, only the thin film transistor 107 is described. The description of the thin film transistor 106 is omitted.

次に、図6(C)に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜からなる導電膜をスパッタ法により形成した後、これをパターニングし、ゲート電極143などを形成する。次に、この状態でリンなどの不純物を打ち込み、半導体膜109aに、ゲート電極143に対して自己整合的にソース・ドレイン領域109b、109cを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域109dとなる。   Next, as shown in FIG. 6C, a conductive film made of a metal film such as aluminum, tantalum, molybdenum, titanium, or tungsten is formed by sputtering, and then patterned to form a gate electrode 143 or the like. . Next, an impurity such as phosphorus is implanted in this state to form source / drain regions 109b and 109c in the semiconductor film 109a in a self-aligned manner with respect to the gate electrode 143. Note that a portion where no impurity is introduced becomes the channel region 109d.

次に、図6(D)に示すように、第1層間絶縁膜122を形成した後、コンタクトホールを形成し、これらのコンタクトホールを介してソース・ドレイン領域109b、109cに電気的に接続するソース・ドレイン電極126および共通給電線165を形成する。その際、データ線164なども形成する。   Next, as shown in FIG. 6D, after the first interlayer insulating film 122 is formed, contact holes are formed and electrically connected to the source / drain regions 109b and 109c through these contact holes. A source / drain electrode 126 and a common feed line 165 are formed. At that time, a data line 164 and the like are also formed.

次に、図6(E)に示すように、各配線の上面を覆うように、SiO2、TiO2などの無機絶縁膜からなる第2層間絶縁膜123を形成した後、第2層間絶縁膜123に対してソース・ドレイン電極126に対応する位置にコンタクトホールを形成する。 Next, as shown in FIG. 6E, after forming a second interlayer insulating film 123 made of an inorganic insulating film such as SiO 2 or TiO 2 so as to cover the upper surface of each wiring, the second interlayer insulating film A contact hole is formed at a position corresponding to the source / drain electrode 126 with respect to 123.

次に、画素電極形成工程において、第2層間絶縁膜123の上層にITO膜を形成した後、ITO膜をパターニングして、図9に示すように、データ線164、走査線163および共通給電線165に囲まれた所定位置に画素電極111を形成する。   Next, in the pixel electrode forming step, an ITO film is formed on the second interlayer insulating film 123, and then the ITO film is patterned to form data lines 164, scanning lines 163, and common power supply lines as shown in FIG. A pixel electrode 111 is formed at a predetermined position surrounded by 165.

次に、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理(O2プラズマ処理)を行い、画素電極111、および第2層間絶縁膜123のうち、画素電極111から露出している部分に親液性を付与する。 Next, plasma processing (O 2 plasma processing) using oxygen as a processing gas in an air atmosphere is performed, and a portion of the pixel electrode 111 and the second interlayer insulating film 123 exposed from the pixel electrode 111 is lyophilic. Gives sex.

次に、図6(F)に示す隔壁形成工程において、図2、図3および図4を参照して説明した有機機能層113の形成場所を囲むように、感光性のアクリル樹脂により、高さが例えば1〜2μmの隔壁を形成する。具体的には、図10に示すように、対応する色が相違する画素間の第1の境界領域116aには、第1の境界領域116aに沿って延びた第1の隔壁105aを形成し、対応する色が同一の画素間の第2の境界領域116bには、第2の境界領域116bに沿って延びた第2の隔壁105bを形成する。その際、第1の隔壁105aについては、第1の境界領域116aに沿って連続的に延びるように形成する。これに対して、第2の隔壁105bについては、両端部が第1の隔壁105aとの間に隙間105c(第2の隔壁105bの非形成領域)を介するように形成し、第2の隔壁105bによって、第2の隔壁105bを挟む画素115の間を部分的に仕切る。その際、隙間105cの寸法Lb(第1の隔壁105aと第2の隔壁105bとの離間距離)は、15μm以上に設定する。その結果、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bで区画された領域は凹部150となる。なお、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bについては、アクリル樹脂の他、ポリイミド樹脂などの絶縁性有機材料で形成してもよく、ポリシラザンなどの絶縁性無機材料で形成してもよい。   Next, in the partition formation step shown in FIG. 6F, the height is increased by a photosensitive acrylic resin so as to surround the formation place of the organic functional layer 113 described with reference to FIGS. For example, a partition wall of 1 to 2 μm is formed. Specifically, as shown in FIG. 10, a first partition wall 105a extending along the first boundary region 116a is formed in the first boundary region 116a between pixels having different colors corresponding to each other, A second partition wall 105b extending along the second boundary region 116b is formed in the second boundary region 116b between pixels having the same corresponding color. At this time, the first partition wall 105a is formed so as to continuously extend along the first boundary region 116a. On the other hand, the second partition wall 105b is formed such that both ends thereof are interposed between the first partition wall 105a and a gap 105c (a region where the second partition wall 105b is not formed), and the second partition wall 105b. Thus, the pixels 115 sandwiching the second partition wall 105b are partially partitioned. At that time, the dimension Lb of the gap 105c (the separation distance between the first partition wall 105a and the second partition wall 105b) is set to 15 μm or more. As a result, a region defined by the first partition wall 105a and the second partition wall 105b becomes a recess 150. Note that the first partition wall 105a and the second partition wall 105b may be formed of an insulating organic material such as polyimide resin in addition to an acrylic resin, or may be formed of an insulating inorganic material such as polysilazane.

次に、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bの表面に対して撥液化処理を行い、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bの表面に対して、有機機能層113を形成するための液状組成物に対する撥液性を付与する。このような撥液性を付与するためには、例えば、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bの表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばCF4、SF5、CHF3などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、UV照射処理などが挙げられる。 Next, the surface of the first partition wall 105a and the second partition wall 105b is subjected to a liquid repellency treatment to form the organic functional layer 113 on the surface of the first partition wall 105a and the second partition wall 105b. Imparts liquid repellency to the liquid composition. In order to impart such liquid repellency, for example, a method of surface-treating the surfaces of the first partition wall 105a and the second partition wall 105b with a fluorine-based compound or the like is employed. Examples of the fluorine compound include CF 4 , SF 5 , and CHF 3. Examples of the surface treatment include plasma treatment and UV irradiation treatment.

次に、有機機能層形成工程を行う。それには、まず、正孔注入層形成工程において、図7(A)に示す吐出工程では、基板120の上面を上に向けた状態で、図5を参照して説明した液滴吐出ヘッド22から正孔注入層形成液(液状組成物)の液滴Maを、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bで囲まれた凹部150内に吐出する。その際、図5および図11に示すように、対向する色が同一の画素115の配列方向にノズル列28を向けた状態で、液滴吐出ヘッド22を基板120に対して、対向する色が同一の画素115の配列方向と直交する方向(主走査方向X)に相対移動させる。また、図11に示すように、正孔注入層形成液の液滴Maの一部を第2の隔壁105bの端部と重なる位置に吐出する。ここで、第2の隔壁105b上に吐出された正孔注入層形成液は、第2の隔壁105bに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部150内に充填される。   Next, an organic functional layer formation process is performed. First, in the hole injection layer forming step, in the discharge step shown in FIG. 7A, the droplet discharge head 22 described with reference to FIG. 5 is used with the upper surface of the substrate 120 facing upward. A droplet Ma of the hole injection layer forming liquid (liquid composition) is discharged into the recess 150 surrounded by the first partition 105a and the second partition 105b. At this time, as shown in FIG. 5 and FIG. 11, when the nozzle row 28 is directed in the arrangement direction of the pixels 115 having the same facing color, the color facing the droplet discharge head 22 with respect to the substrate 120 is changed. Relative movement is performed in a direction (main scanning direction X) orthogonal to the arrangement direction of the same pixels 115. Further, as shown in FIG. 11, a part of the droplet Ma of the hole injection layer forming liquid is discharged to a position overlapping with the end of the second partition wall 105b. Here, the hole injection layer forming liquid ejected on the second partition 105b is repelled by the water repellency applied to the second partition 105b, and is thus filled in the recess 150.

その結果、凹部150内に吐出された正孔注入層形成液は、凹部150内で広がり、画素内でのレベリングが発生する。また、同一の色に対応する画素115の第2の境界領域116bでは、第1の隔壁105aと第2の隔壁105bとの間に隙間105cがあるので、第2の境界領域116bを挟んで隣り合う画素115の間では、隙間105cを介して正孔注入層形成液のレベリングが起こる。   As a result, the hole injection layer forming liquid discharged into the recess 150 spreads in the recess 150, and leveling occurs in the pixel. Further, in the second boundary region 116b of the pixel 115 corresponding to the same color, there is a gap 105c between the first partition wall 105a and the second partition wall 105b, so that the second boundary region 116b is adjacent to the second boundary region 116b. Between the matching pixels 115, the hole injection layer forming liquid is leveled through the gap 105c.

従って、図7(B)に示すように、凹部150内には膜厚が一定の液状膜Faが配置される。なお、正孔注入層形成液としては、例えば、ポリオレフィン誘導体である3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン(導電性高分子材料)と、ポリスチレンスルホン酸(ドーパント)とを溶媒に分散させた溶液を用いる。このような正孔注入層形成液としては、溶媒として水単独を用い、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸を水に分散させたものを用いる。但し、正孔注入層形成液の液滴Maをノズル開口から安定した状態に吐出するために、正孔注入層形成液の粘度などを調整する必要がある場合には、ポリスチレンスルホン酸および3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させる溶媒として、水に有機溶剤を配合した混合溶媒を用い、有機溶剤により正孔注入層形成液の性質を最適化する。このような混合溶媒に使用可能な有機溶剤としては、アルコール類、エーテル類、グリコールモノエーテル類、ラクトン類、オキサゾリジノン類、カーボネート類、ニトリル類、アミド類、スルホン類などが挙げられる。   Accordingly, as shown in FIG. 7B, a liquid film Fa having a constant film thickness is disposed in the recess 150. As the hole injection layer forming liquid, for example, a solution in which 3,4-polyethylenedioxythiophene (conductive polymer material), which is a polyolefin derivative, and polystyrene sulfonic acid (dopant) are dispersed in a solvent is used. . As such a hole injection layer forming liquid, water alone is used as a solvent and 3,4-polyethylenedioxythiophene and polystyrenesulfonic acid are dispersed in water. However, when it is necessary to adjust the viscosity of the hole injection layer forming liquid in order to discharge the droplet Ma of the hole injection layer forming liquid in a stable state from the nozzle opening, polystyrenesulfonic acid and 3, As a solvent for dispersing 4-polyethylenedioxythiophene, a mixed solvent in which an organic solvent is mixed with water is used, and the properties of the hole injection layer forming liquid are optimized by the organic solvent. Examples of the organic solvent that can be used for such a mixed solvent include alcohols, ethers, glycol monoethers, lactones, oxazolidinones, carbonates, nitriles, amides, sulfones, and the like.

次に、本形態では、液状膜Faに対する乾燥工程において、大気圧以下、例えば10-4〜10-6パスカル(Pa)程度の減圧雰囲気中で減圧乾燥を行い、液状膜Faから正孔注入層形成材料中の溶媒を蒸発させる。その結果、図7(C)に示すように、画素電極111上に、正孔注入層113aが約10〜100nmの膜厚で形成される。なお、この乾燥工程では、40〜200℃程度で加熱して正孔輸送層形成液中の溶媒を蒸発させてもよい。 Next, in the present embodiment, in the drying step for the liquid film Fa, drying under reduced pressure is performed in a reduced pressure atmosphere at a pressure equal to or lower than atmospheric pressure, for example, about 10 −4 to 10 −6 Pascal (Pa). The solvent in the forming material is evaporated. As a result, as shown in FIG. 7C, the hole injection layer 113a is formed on the pixel electrode 111 with a thickness of about 10 to 100 nm. In this drying step, the solvent in the hole transport layer forming liquid may be evaporated by heating at about 40 to 200 ° C.

次に、発光層形成工程では、まず、図8(A)に示す吐出工程において、基板120の上面を上に向けた状態で、図5を参照して説明した液滴吐出ヘッド22から発光層形成液(液状組成物)の液滴Mbを、第1の隔壁105aおよび第2の隔壁105bで囲まれた凹部150内に吐出する。その際、図5および図11に示すように、対向する色が同一の画素115の配列方向にノズル列28を向けた状態で、液滴吐出ヘッド22を基板120に対して、対向する色が同一の画素115の配列方向と直交する方向(主走査方向X)に相対移動させる。また、図11に示すように、発光層形成液の液滴Mbの一部を第2の隔壁105bの端部と重なる位置に吐出する。ここで、第2の隔壁105b上に吐出された発光層形成液は、第2の隔壁105bに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部150内に充填される。   Next, in the light emitting layer forming step, first, in the discharge step shown in FIG. 8A, the light emitting layer is formed from the droplet discharge head 22 described with reference to FIG. 5 with the upper surface of the substrate 120 facing upward. A droplet Mb of the forming liquid (liquid composition) is discharged into a recess 150 surrounded by the first partition wall 105a and the second partition wall 105b. At this time, as shown in FIG. 5 and FIG. 11, when the nozzle row 28 is directed in the arrangement direction of the pixels 115 having the same facing color, the color facing the droplet discharge head 22 with respect to the substrate 120 is changed. Relative movement is performed in a direction (main scanning direction X) orthogonal to the arrangement direction of the same pixels 115. In addition, as shown in FIG. 11, a part of the droplet Mb of the light emitting layer forming liquid is discharged to a position overlapping the end of the second partition wall 105b. Here, the light emitting layer forming liquid discharged onto the second partition wall 105b is repelled by the water repellency applied to the second partition wall 105b, so that the recess 150 is filled.

その結果、凹部150内に吐出された発光層形成液は、凹部150内で広がり、画素内でのレベリングが発生する。また、同一の色に対応する画素115の第2の境界領域116bでは、第1の隔壁105aと第2の隔壁105bとの間に隙間105cがあるので、第2の境界領域116bを挟んで隣り合う画素115の間では、隙間105cを介して発光層形成液のレベリングが起こる。   As a result, the light emitting layer forming liquid discharged into the recess 150 spreads in the recess 150 and leveling occurs in the pixel. Further, in the second boundary region 116b of the pixel 115 corresponding to the same color, there is a gap 105c between the first partition wall 105a and the second partition wall 105b, so that the second boundary region 116b is adjacent to the second boundary region 116b. Between the matching pixels 115, the light emitting layer forming liquid is leveled through the gap 105c.

従って、図8(B)に示すように、凹部150内には膜厚が一定の液状膜Fbが配置される。なお、発光材料としては、例えば分子量が1000以上の高分子材料が用いられる。具体的には、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドンなどをドープしたものが用いられる。このような高分子材料としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、例えば特開平11−40358号公報に示される有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物、すなわち共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも1種の蛍光色素とを含んでなる有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物も、発光層形成材料として使用可能である。   Therefore, as shown in FIG. 8B, a liquid film Fb having a constant film thickness is disposed in the recess 150. As the light emitting material, for example, a polymer material having a molecular weight of 1000 or more is used. Specifically, a polyfluorene derivative, a polyphenylene derivative, a polyvinyl carbazole, a polythiophene derivative, or a polymer material thereof, a perylene dye, a coumarin dye, a rhodamine dye such as rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, What doped tetraphenyl butadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone, etc. is used. As such a polymer material, a π-conjugated polymer material in which π electrons of a double bond are non-polarized on the polymer chain is also a conductive polymer, and thus has excellent light emitting performance. Used. In particular, a compound having a fluorene skeleton in the molecule, that is, a polyfluorene compound is more preferably used. In addition to such materials, for example, a composition for an organic electroluminescence device disclosed in JP-A-11-40358, that is, a precursor of a conjugated polymer organic compound, and at least one for changing the light emission characteristics A composition for an organic electroluminescence device comprising a seed fluorescent dye can also be used as a light emitting layer forming material.

このような発光材料を溶解あるいは分散する有機溶媒としては、非極性溶媒が好適とされ、特に発光層113bが正孔注入層113aの上に形成されることから、この正孔注入層113aに対して不溶なものが用いられることが好ましい。具体的には、キシレン、シクロへキシルベンゼン、ジハイドロベンゾフラン、トリメチルベンゼン、テトラメチルベンゼンなどが好適に用いられる。なお、発光層形成液の吐出による発光層113bの形成は、赤色の発色光を発光する発光層113b(R)の形成材料、緑色の発色光を発光する発光層113b(G)の形成材料、青色の発色光を発光する発光層113(R)の形成材料を、それぞれ対応する画素115に吐出し塗布することによって行う。   As an organic solvent for dissolving or dispersing such a light emitting material, a nonpolar solvent is preferable. In particular, the light emitting layer 113b is formed on the hole injection layer 113a. It is preferable to use an insoluble material. Specifically, xylene, cyclohexylbenzene, dihydrobenzofuran, trimethylbenzene, tetramethylbenzene and the like are preferably used. Note that the formation of the light emitting layer 113b by discharging the light emitting layer forming liquid is performed by forming a light emitting layer 113b (R) that emits red colored light, a material forming a light emitting layer 113b (G) that emits green colored light, A material for forming the light emitting layer 113 (R) that emits blue colored light is discharged and applied to the corresponding pixel 115.

次に、液状膜Fbに対する乾燥工程では、大気圧以下、例えば10-4〜10-6パスカル(Pa)程度の減圧雰囲気中で減圧乾燥を行い、液状膜Fbから発光層形成材料中の溶媒を蒸発させる。その結果、図8(C)に示すように、正孔注入層113a上に固形の発光層113bが形成される。これにより、正孔注入層113aおよび発光層113bからなる有機機能層113が形成される。なお、乾燥工程では、40〜200℃程度で加熱して発光層形成液中の溶媒を蒸発させてもよい。 Next, in the drying step for the liquid film Fb, vacuum drying is performed in a reduced-pressure atmosphere at atmospheric pressure or less, for example, about 10 −4 to 10 −6 Pascal (Pa), and the solvent in the light emitting layer forming material is removed from the liquid film Fb. Evaporate. As a result, as shown in FIG. 8C, a solid light emitting layer 113b is formed over the hole injection layer 113a. Thereby, the organic functional layer 113 composed of the hole injection layer 113a and the light emitting layer 113b is formed. In the drying step, the solvent in the light emitting layer forming liquid may be evaporated by heating at about 40 to 200 ° C.

次に、図3および図4に示すように、基板120の表面全体に、あるいはストライプ状に、LiF/Al(LiFとAlとの積層膜)やMgAg、あるいはLiF/Ca/Al(LiFとCaとAlとの積層膜)を蒸着法などによって成膜し、対向電極112を形成する。その後、封止を行った後、さらに配線などの各種要素を形成することにより、有機エレクトロルミネッセンス素子110を各画素115に備えた発光装置100を製造することができる。   Next, as shown in FIGS. 3 and 4, LiF / Al (a laminated film of LiF and Al), MgAg, or LiF / Ca / Al (LiF and Ca) are formed on the entire surface of the substrate 120 or in a stripe shape. A counter electrode 112 is formed by depositing a film of Al and Al) by an evaporation method or the like. Then, after sealing, the light-emitting device 100 provided with the organic electroluminescent element 110 in each pixel 115 can be manufactured by further forming various elements such as wiring.

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態では、対応する色が同一の画素間の第2の境界領域116bに形成された第2の隔壁105bは、画素間を部分的に仕切っているため、第2の境界領域116bを挟む画素間では、凹部150内に充填された有機機能層形成用の液状組成物(正孔注入層形成液および発光層形成液)が第2の隔壁105bの非形成領域(隙間105c)で繋がり、画素間でのレベリングが発生する。このため、第2の境界領域116bを挟む画素115に充填された液状組成物の量に差があっても、画素間では有機機能層の膜厚ばらつきが発生しない。また、隣接する画素115に形成された有機機能層113同士が第2の境界領域116bで繋がっているとしても、第2の隔壁105bの非形成領域(隙間105c)で繋がっているだけであるため、対応する色が同一の画素間でのクロストークが問題とならない。
(Main effects of this form)
As described above, in this embodiment, since the second partition wall 105b formed in the second boundary region 116b between pixels having the same corresponding color partially partitions the pixels, Between the pixels sandwiching the boundary region 116b, the liquid composition (hole injection layer forming liquid and light emitting layer forming liquid) for forming the organic functional layer filled in the recess 150 is not formed in the second partition 105b non-forming region (gap). 105c) and leveling occurs between pixels. For this reason, even if there is a difference in the amount of the liquid composition filled in the pixels 115 sandwiching the second boundary region 116b, there is no variation in the thickness of the organic functional layer between the pixels. Further, even if the organic functional layers 113 formed in the adjacent pixels 115 are connected by the second boundary region 116b, they are only connected by the non-formation region (gap 105c) of the second partition wall 105b. , Crosstalk between pixels having the same corresponding color is not a problem.

また、本形態では、第2の隔壁105bの両端部と第1の隔壁105aとの間に隙間105cがあって、この隙間105cにより第2の隔壁105bの非形成領域が構成されている。このため、第2の隔壁105bの非形成領域は、凹部150の隅部分に位置することになるので、画素間での液状組成物のレベリングを凹部150の隅部分を介して行うことができ、画素間および画素内での有機機能層113の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。   In this embodiment, there is a gap 105c between both ends of the second partition 105b and the first partition 105a, and the gap 105c forms a non-formation region of the second partition 105b. For this reason, since the non-formation region of the second partition wall 105b is located in the corner portion of the recess 150, the liquid composition can be leveled between the pixels through the corner portion of the recess 150, Variations in the thickness of the organic functional layer 113 between and within the pixels can be effectively suppressed.

さらに、本形態では、図11を参照して説明したように、液状組成物(正孔注入層形成液および発光層形成液)を吐出する際に、液状組成物の一部を第2の隔壁105bの端部と重なる位置に吐出する。このため、第2の隔壁105bの非形成領域近傍に液状組成物が吐出される。従って、第2の隔壁105の非形成領域を介しての画素間での液状組成物の繋がりを確実に発生させることができるので、第2の隔壁105の非形成領域を介して画素間での液状組成物のレベリングを効果的に行うことができる。   Furthermore, in this embodiment, as described with reference to FIG. 11, when the liquid composition (hole injection layer forming liquid and light emitting layer forming liquid) is discharged, a part of the liquid composition is removed from the second partition. It discharges to the position which overlaps with the edge part of 105b. For this reason, the liquid composition is discharged in the vicinity of the non-formation region of the second partition wall 105b. Accordingly, since the liquid composition can be reliably connected between the pixels through the non-formation region of the second partition wall 105, the connection between the pixels can be performed through the non-formation region of the second partition wall 105. Leveling of the liquid composition can be performed effectively.

特に本形態において、発光層形成工程では、正孔注入層113aに対して非溶解性の溶媒(正孔注入層に対する溶解性の低い溶媒も含む)に発光層形成材料を配合した発光層形成液を用いたため、発光層113bを形成する際の正孔注入層113aの劣化を防止することができる一方、正孔注入層113aは、発光層形成液に対する親液性が低く、発光層形成液の下地への濡れ性が悪い。それでも、本形態では、第2の境界領域116bでは、第2の隔壁105bの非形成領域によって画素間での液状組成物のレベリングを行い、かつ、第2の隔壁105bの非形成領域を介しての発光層形成液のレベリングを行うため、発光層113bの膜厚ばらつきを防止することができる。   In particular, in this embodiment, in the light emitting layer forming step, a light emitting layer forming liquid in which a light emitting layer forming material is blended with a solvent insoluble in the hole injection layer 113a (including a solvent having low solubility in the hole injection layer). Therefore, deterioration of the hole injection layer 113a when forming the light emitting layer 113b can be prevented, while the hole injection layer 113a has low lyophilicity with respect to the light emitting layer forming liquid, and Poor wettability to the ground. Nevertheless, in the present embodiment, in the second boundary region 116b, the liquid composition is leveled between the pixels by the non-formation region of the second partition wall 105b, and through the non-formation region of the second partition wall 105b. Since the light emitting layer forming liquid is leveled, variations in the film thickness of the light emitting layer 113b can be prevented.

[その他の実施の形態]
上記形態では、液状組成物(正孔注入層形成液および発光層形成液)を第1の隔壁105aで挟まれた領域の略中央に吐出したが、図12に示すように、液状組成物の一部を第1の隔壁105aの端部と重なる位置に吐出することが好ましい。このように構成すると、第1の隔壁105a上に吐出された液状組成物は、第1の隔壁105aに付与した撥水性により、はじかれるので、凹部150内に充填される。その結果、凹部150の隅部分にも液状組成物が行き渡るので、画素内での有機機能層113(正孔注入層113aおよび発光層113b)の膜厚ばらつきを効果的に抑えることができる。この場合も、図12に示すように、液状組成物の一部を第2の隔壁105bの端部と重なる位置に吐出することが好ましい。
[Other embodiments]
In the above embodiment, the liquid composition (the hole injection layer forming liquid and the light emitting layer forming liquid) is discharged to the approximate center of the region sandwiched between the first partition walls 105a, but as shown in FIG. It is preferable to discharge a part of the first partition 105a at a position overlapping with the end of the first partition 105a. With this configuration, the liquid composition discharged onto the first partition wall 105a is repelled by the water repellency imparted to the first partition wall 105a, so that the recess 150 is filled. As a result, the liquid composition spreads to the corners of the recesses 150, so that variations in the film thickness of the organic functional layer 113 (the hole injection layer 113a and the light emitting layer 113b) in the pixel can be effectively suppressed. Also in this case, as shown in FIG. 12, it is preferable to discharge a part of the liquid composition to a position overlapping with the end of the second partition wall 105b.

なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などは一例に過ぎず、適宜変更が可能である。例えば、上記形態では、正孔注入層113aとして、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンを用いたが、その他のポリアルキルチオフェン誘導体や、ポリピロール誘導体を用いてもよい。また、正孔注入層113aとしては、ポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、1,1−ビス−(4−N,N−ジトリルアミノフェニル)シクロヘキサンなどを高分子前駆体として形成した層を用いた場合に本発明を適用してもよい。   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, and the specific materials and configurations described in the embodiment. These are merely examples, and can be changed as appropriate. For example, in the above embodiment, 3,4-polyethylenedioxythiophene is used as the hole injection layer 113a, but other polyalkylthiophene derivatives or polypyrrole derivatives may be used. In addition, as the hole injection layer 113a, a layer formed using polytetrahydrothiophenylphenylene, polyphenylene vinylene, 1,1-bis- (4-N, N-ditolylaminophenyl) cyclohexane, or the like as a polymer precursor. The present invention may be applied when used.

なお、上記形態では、対応する色が相違する画素間で異なる組成の発光層113bを形成する構成であったが、いずれの画素に対しても、白色光を出射する発光層113bを形成し、この白色光にカラーフィルタによって着色し、カラー表示を行う発光装置に本発明を適用してもよい。また、いずれの画素に対しても、同一の色光を出射する発光層113bを形成し、この光を光を通して各色の光を出射することにより、カラー表示を行う発光装置に本発明を適用してもよい。これらいずれの場合でも、対応する色が同一の画素間で液状組成物のレベリングを行えば、液状組成物の膜厚ばらつきを防止できるとともに、対応する色が同一の画素間で液状組成物が部分的に繋がっているのであれば、クロストークによる画像品質の低下を防止することができる。   In the above embodiment, the light-emitting layer 113b having a different composition is formed between pixels having different colors, but the light-emitting layer 113b that emits white light is formed for each pixel. The present invention may be applied to a light-emitting device that performs color display by coloring the white light with a color filter. In addition, the present invention is applied to a light emitting device that performs color display by forming a light emitting layer 113b that emits the same color light for any pixel and emitting light of each color through this light. Also good. In any of these cases, if the liquid composition is leveled between pixels having the same corresponding color, variation in the film thickness of the liquid composition can be prevented, and the liquid composition can be partially applied between pixels having the same corresponding color. Therefore, it is possible to prevent the image quality from being deteriorated due to crosstalk.

[電子機器への適用]
本発明に係る発光装置100は、携帯電話機、テレビ、車載パネル、パーソナルコンピュータやPDAなどの電子機器においてフルカラー表示装置や、各種光源として用いることができる。
[Application to electronic devices]
The light-emitting device 100 according to the present invention can be used as a full-color display device or various light sources in electronic devices such as a mobile phone, a television, an in-vehicle panel, a personal computer, and a PDA.

本発明が適用される発光装置の電気的構成を示すブロック図である。発光装置のブロック図である。It is a block diagram which shows the electrical constitution of the light-emitting device to which this invention is applied. It is a block diagram of a light-emitting device. 本発明を適用した発光装置の画素複数個分の平面図である。It is a top view for several pixels of the light-emitting device to which this invention is applied. (A)、(B)は各々、本発明を適用した発光装置の1画素分の平面図および断面図である。(A) and (B) are respectively a plan view and a cross-sectional view of one pixel of a light emitting device to which the present invention is applied. 本発明を適用した発光装置の各色に対応する3つの画素(1ドット分)の断面図である。It is sectional drawing of three pixels (for 1 dot) corresponding to each color of the light-emitting device to which this invention is applied. (A)〜(D)は、図1に示す液滴吐出装置に用いた液滴吐出ヘッドのノズル形成面の説明図、液滴吐出ヘッドの内部構造を模式的に示す説明図、液滴吐出ヘッドに用いた圧力発生素子の説明図、および別の圧力発生素子の説明図である。1A to 1D are explanatory diagrams of a nozzle forming surface of a droplet discharge head used in the droplet discharge apparatus shown in FIG. 1, an explanatory diagram schematically showing the internal structure of the droplet discharge head, and droplet discharge It is explanatory drawing of the pressure generating element used for the head, and explanatory drawing of another pressure generating element. 本発明を適用して発光装置の薄膜トランジスタなどを形成する方法を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows the method of forming the thin-film transistor etc. of a light-emitting device by applying this invention. 本発明を適用して発光装置の正孔注入層を形成する方法を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows the method of forming the hole injection layer of a light-emitting device by applying this invention. 本発明を適用して発光装置の発光層を形成する方法を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows the method of forming the light emitting layer of a light-emitting device by applying this invention. 本発明に係る発光装置の製造工程において、画素電極までを形成した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state which formed even the pixel electrode in the manufacturing process of the light-emitting device which concerns on this invention. 本発明に係る発光装置の製造工程において、隔壁を形成した状態を示す平面図である。It is a top view which shows the state in which the partition was formed in the manufacturing process of the light-emitting device which concerns on this invention. 本発明に係る発光装置の製造工程において、有機機能層を形成する方法を示す平面図である。It is a top view which shows the method of forming an organic functional layer in the manufacturing process of the light-emitting device which concerns on this invention. 本発明に係る発光装置の製造工程において、有機機能層を形成する別の方法を示す平面図である。It is a top view which shows another method of forming an organic functional layer in the manufacturing process of the light-emitting device which concerns on this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10・・液滴吐出装置、12・・基板(発光装置用基板)、22・・液滴吐出ヘッド、27・・ノズル開口、28・・ノズル列、100・・発光装置(発光装置)、105a・・第1の隔壁、105b・・第2の隔壁、110・・有機エレクトロルミネッセンス素子、111・・画素電極(第1電極層)、112・・対向電極(第2電極層)、113・・有機機能層、113a・・正孔注入層、113b・・発光層、115・・画素、116a・・第1の境界領域、116b・・第2の境界領域、120・・基板、Fa、Fb・・液状膜、M・・液状組成物、M0、Ma、Mb・・液滴 10 .... Droplet ejection device, 12 .... Substrate (light emitting device substrate), 22 .... Droplet ejection head, 27 ... Nozzle opening, 28 ... Nozzle row, 100 ... Light emitting device (light emitting device), 105a ..First partition 105b ..Second partition 110 ..Organic electroluminescence element 111 ..Pixel electrode (first electrode layer) 112 ..Counter electrode (second electrode layer) 113. Organic functional layer, 113a ... hole injection layer, 113b ... light emitting layer, 115 ... pixel, 116a ... first boundary region, 116b ... second boundary region, 120 ... substrate, Fa, Fb ...・ Liquid film, M ・ ・ Liquid composition, M0, Ma, Mb ・ ・ Drop

Claims (12)

第1電極層、有機機能層および第2電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置において、
対応する色が相違する画素間の第1の境界領域には、当該第1の境界領域に沿って連続して延びた第1の隔壁が形成され、
対応する色が同一の画素間の第2の境界領域には、当該画素間を部分的に仕切る第2の隔壁が形成され、
前記有機機能層は、前記第1の隔壁および前記第2の隔壁により形成された凹部内に形成されているとともに、前記第2の境界領域では、隣接する画素に形成された有機機能層同士が前記第2の隔壁の非形成領域で繋がっていることを特徴とする発光装置。
In a light emitting device in which a plurality of pixels including an organic electroluminescence element in which a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are sequentially laminated are arranged on a substrate for each corresponding color,
In the first boundary region between pixels corresponding to different colors, a first partition wall extending continuously along the first boundary region is formed,
In the second boundary region between pixels having the same corresponding color, a second partition that partially partitions the pixels is formed,
The organic functional layer is formed in a recess formed by the first partition and the second partition, and in the second boundary region, the organic functional layers formed in adjacent pixels are A light-emitting device connected by a non-formation region of the second partition.
前記第1の隔壁と前記第2の隔壁とは、同一の材料からなることを特徴とする請求項1に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 1, wherein the first partition and the second partition are made of the same material. 前記第2の隔壁は、前記第1の隔壁との間に所定の距離を隔てた位置に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の発光装置。   3. The light emitting device according to claim 1, wherein the second partition is formed at a position spaced apart from the first partition by a predetermined distance. 前記第1の隔壁と前記第2の隔壁との離間距離が15μm以上であることを特徴とする請求項3に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 3, wherein a distance between the first partition and the second partition is 15 μm or more. 前記有機機能層は、正孔注入層と、該正孔注入層上に積層された発光層とを備えていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の発光装置。   The light emitting device according to any one of claims 1 to 4, wherein the organic functional layer includes a hole injection layer and a light emitting layer laminated on the hole injection layer. 第1電極層、有機機能層および第2電極層が順に積層された有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた複数の画素が、対応する色毎に直線的に基板上に配列された発光装置の製造方法において、
前記第1電極層を形成した後、前記有機機能層を形成する前に、対応する色が相違する画素間の第1の境界領域には、当該第1の境界領域に沿って連続して延びる第1の隔壁を形成するとともに、対応する色が同一の画素間の第2の境界領域には、当該画素間を分的に仕切る第2の隔壁を形成する隔壁形成工程と、
液滴吐出ヘッドのノズル開口から前記第1の隔壁および前記第2の隔壁により形成された凹部内に液状組成物を吐出した後、当該液状組成物を固化させて前記有機機能層を形成する有機機能層形成工程と
を有することを特徴とする発光装置の製造方法。
In a method for manufacturing a light emitting device, in which a plurality of pixels including an organic electroluminescence element in which a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are sequentially stacked are arranged linearly on a substrate for each corresponding color ,
After forming the first electrode layer and before forming the organic functional layer, a first boundary region between pixels corresponding to different colors extends continuously along the first boundary region. A partition formation step of forming a first partition and forming a second partition between the pixels having the same corresponding color in the second boundary region to partition the pixels separately;
An organic material that discharges a liquid composition from a nozzle opening of a droplet discharge head into a recess formed by the first partition and the second partition, and then solidifies the liquid composition to form the organic functional layer. A method for producing a light emitting device, comprising: a functional layer forming step.
前記隔壁形成工程では、前記第1の隔壁と前記第2の隔壁とを同一の材料によって同時形成することを特徴とする請求項6に記載の発光装置の製造方法。   The method for manufacturing a light emitting device according to claim 6, wherein in the partition formation step, the first partition and the second partition are simultaneously formed of the same material. 前記有機機能層形成工程では、少なくとも、前記有機機能層に含まれる正孔注入層を形成する正孔注入層形成工程と、前記有機機能層に含まれる発光層を前記正孔注入層上に積層する発光層形成工程とを行い、
前記発光層形成工程では、前記正孔注入層に対して非溶解性の溶媒に発光層形成材料を配合した液状組成物を用いることを特徴とする請求項6または7に記載の発光装置の製造方法。
In the organic functional layer forming step, at least a hole injection layer forming step for forming a hole injection layer included in the organic functional layer and a light emitting layer included in the organic functional layer are stacked on the hole injection layer. Performing a light emitting layer forming step,
The light emitting device manufacturing method according to claim 6 or 7, wherein in the light emitting layer forming step, a liquid composition in which a light emitting layer forming material is blended in a solvent insoluble in the hole injection layer is used. Method.
前記第1の隔壁および前記第2の隔壁の表面は、前記液状組成物に対する撥液性を備えていることを特徴とする請求項6乃至8の何れか一項に記載の発光装置の製造方法。   The method for manufacturing a light emitting device according to claim 6, wherein surfaces of the first partition and the second partition have liquid repellency with respect to the liquid composition. . 前記液状組成物を吐出する際、当該液状組成物の一部を前記第2の隔壁の端部と重なる位置に吐出することを特徴とする請求項9に記載の発光装置の製造方法。   The method for manufacturing a light emitting device according to claim 9, wherein when the liquid composition is discharged, a part of the liquid composition is discharged to a position overlapping with an end of the second partition. 前記液状組成物を吐出する際、当該液状組成物の一部を前記第1の隔壁の端部と重なる位置に吐出することを特徴とする請求項9または10に記載の発光装置の製造方法。   11. The method for manufacturing a light emitting device according to claim 9, wherein when the liquid composition is discharged, a part of the liquid composition is discharged to a position overlapping with an end portion of the first partition. 前記液滴吐出ヘッドのノズル形成面では、前記ノズル開口が複数、整列してノズル列を構成しており、
前記有機機能層形成工程では、対向する色が同一の画素の配列方向、あるいは当該配列方向に対して斜め方向に前記ノズル列を向けた状態で前記液滴吐出ヘッドを前記基板に対して前記配列方向と直交する方向に相対移動させることを特徴とする請求項6乃至11の何れか一項に記載の発光装置の製造方法。
On the nozzle forming surface of the droplet discharge head, a plurality of the nozzle openings are aligned to form a nozzle row,
In the organic functional layer forming step, the liquid droplet ejection heads are arranged with respect to the substrate in a state in which the nozzle rows are directed in the arrangement direction of pixels having the same opposing color or in an oblique direction with respect to the arrangement direction. The method for manufacturing a light-emitting device according to claim 6, wherein the light-emitting device is relatively moved in a direction orthogonal to the direction.
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