JP2006184803A

JP2006184803A - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置

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Publication number: JP2006184803A
Application number: JP2004381111A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Iwasaki; 真宏岩崎; Katsumi Nukada; 克己額田
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 2004-12-28
Filing date: 2004-12-28
Publication date: 2006-07-13
Anticipated expiration: 2024-12-28
Also published as: JP4453548B2

Abstract

【課題】長期に亘って高画質を維持できる電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。
【解決手段】上記課題を解決する電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた感光層とを備え、感光層が導電性基体から最も遠い側に、架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層を有し、且つ、樹脂が、オキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂である。
【選択図】図１

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。

いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置は電子写真感光体、帯電装置、露光装置、現像装置及び転写装置を備え、それらを用いた電子写真プロセスにより画像形成を行う。

近年、ゼログラフィー方式の画像形成装置は、各部材、システムの技術進展により、一層の高速化、長寿命化が図られている。これに伴い、各サブシステムの高速対応性、高信頼性に対する要求は従来に増して高くなっている。特に、画像書き込みに使用される感光体やその感光体をクリーニングするクリーニング部材には、高速対応性、高信頼性に対する要求が一層強い。また、感光体及びクリーニング部材は、それら相互の摺動により他の部材に比べてストレスを多く受ける。そのため、画像欠陥を防止するためには、感光体の傷や磨耗の発生を抑制することが望ましい。

そこで、従来の電子写真感光体では機械強度の高い樹脂の使用により長寿命化が図られている。かかる樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂がある（例えば、特許文献１及び２参照）。

特開昭５６−５１７４９号公報特開８−２７８６４５号公報

しかしながら、上記特許文献１及び２に記載の感光体であっても、傷や磨耗を十分に抑制できず、長期に亘って良好な画質を得ることは困難であった。

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、長期に亘って高画質を維持できる電子写真感光体、並びにそれを用いたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明の電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた感光層とを備え、感光層が導電性基体から最も遠い側に、架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層を有し、且つ、樹脂が、オキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂であることを特徴とする。

本発明の電子写真感光体によれば、上記最表面層を有することにより、長期に亘って高画質を維持できる画像形成装置が有効に実現可能となる。なお、本発明により上記の効果が得られる理由は必ずしも明確ではないが、本発明者らは以下のように推察する。

通常、画像形成装置内では、電子写真プロセスに伴い、ＮＯ_ｘやオゾンガスなどの放電生成物が生成する。この放電生成物は感光層表面に付着するだけでなく、感光層内部に浸透すると考えられる。そして、上記従来の感光体では、放電生成物をはじめとする帯電ストレス等によりエポキシ樹脂中に存在する未反応の水酸基から酸化物が生成され、これが電荷輸送を妨げるキャリアトラップとなって電気特性に悪影響を及ぼすとともに樹脂の劣化の要因となりエポキシ樹脂の機械的強度を低下させていたと推察される。これに対して、本発明の電子写真感光体は、オキセタン樹脂を含む最表面層が架橋密度の高い硬化膜となり得ること、及び、エポキシ樹脂と比較して樹脂中に存在する未反応の水酸基密度をより小さくできることによって、感光層内部への放電生成物の浸透を十分抑制できるとともに酸化物の発生が著しく低減され、耐摩耗性を長期に亘って十分維持できるものと推察される。

また、本発明の電子写真感光体において、上記最表面層が、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、オキセタン基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種の官能基を有する電荷輸送材料をさらに含むことが好ましい。なお、これらの電荷輸送材料は、上記オキセタン化合物又は上記オキセタン樹脂と反応して樹脂中に組み込まれていてもよい。このような電子写真感光体は、長期に亘って高画質を維持できる画像形成装置をより確実に実現可能とするものである。

このような効果は、上記電荷輸送材料の官能基が最表面層の形成過程においてオキセタン樹脂の未反応の水酸基と反応することによって残存水酸基の十分少ないオキセタン樹脂が形成可能となるとともに、上記電荷輸送材料とオキセタン化合物との組み合わせによってオキセタン樹脂の架橋密度がさらに高まり耐磨耗性がより向上し、さらには上記電荷輸送材料とオキセタン化合物との組み合わせによって優れた電気特性が発揮されたことにより得られたものと考えられる。

また、本発明の電子写真感光体は、電荷輸送性及び機械強度をさらに向上させる観点から、上記電荷輸送材料が下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で示される化合物から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
Ｆ−［（Ｘ^１）_ｍ１−（Ｒ^１）_ｍ２−Ｙ］_ｍ３（Ｉ）
式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ^１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ^１はアルキレン基を、Ｙは水酸基、カルボキシル基、チオール基又はアミノ基を示し、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に０又は１を、ｍ３は１〜４の整数を示す。
Ｆ−［（Ｘ^２）_ｎ１−（Ｒ^２）_ｎ２−（Ｚ）_ｎ３Ｇ］_ｎ４（ＩＩ）
式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ^２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ^２はアルキレン基を、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基又はオキセタン基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ４は１〜４の整数を示す。
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ^３）_{（３−ａ）}Ｑ_ａ］_ｂ（ＩＩＩ）
式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ^３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を、ｂは１〜４の整数を示す。

また、本発明の電子写真感光体において、上記オキセタン樹脂は、エポキシ化合物を樹脂成分としてさらに含むことが好ましい。これにより、感光体の耐摩耗性をさらに向上させることが可能となる。

さらに、上記オキセタン樹脂は、メチロール基を有するフェノール誘導体を樹脂成分としてさらに含むことが好ましい。これにより、感光体の耐摩耗性をさらに向上させることが可能となるとともに、最表面層のクリーニング性が向上し、放電生成物による感光層の劣化を抑制する効果が向上され、高画質化の維持がさらに確実にできる。

従来、フェノール樹脂を含有する保護層は、酸化により着色されやすいことや水分子が残留し易いことなどにより電気特性が低下する傾向にあった。また、フェノール誘導体とエポキシ化合物とを組み合わせたフェノール−エポキシ樹脂が硬化樹脂として知られているが、これを電子写真感光体に適用した場合には、電荷輸送材料との相溶性、電気特性、耐摩耗性が不十分であり、未だ高画質化が達成されていなかった。これに対して、本発明の電子写真感光体は、オキセタン化合物とメチロール基を有するフェノール誘導体とを組み合わせることにより、酸化防止能が向上するとともに耐摩耗性が向上することでさらに優れたクリーニング性を得ることが可能となり、高画質化がより確実に達成されると考えられる。

また、本発明の画像形成装置は、上記本発明の電子写真感光体のいずれかと、電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、帯電した電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、トナー像を被転写体に転写する転写装置とを備えることを特徴とする。

また、本発明のプロセスカートリッジは、上記本発明の電子写真感光体のいずれかと、電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種とを備えることを特徴とする。

本発明の画像形成装置及びプロセスカートリッジでは、上記本発明の電子写真感光体を備えることから長期に亘って高画質を提供することができる。

本発明よれば、長期に亘って高画質を維持できる電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することができる。

以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。

＜電子写真感光体＞
図１は、本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図１に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２と、感光層３とから構成されている。感光層３は、導電性支持体２上に、下引層４、電荷発生層５及び電荷輸送層６がこの順序で積層された構造を有している。図１に示す電子写真感光体１では、電荷輸送層６が架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層であり、かかる樹脂としてオキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂を含む。

また、図２〜５はそれぞれ本発明の電子写真感光体の他の好適な実施形態を示す模式断面図である。図２〜３に示す電子写真感光体は、図１に示す電子写真感光体と同様に電荷発生層５と電荷輸送層６とに機能が分離された感光層３を備えるものである。また、図４〜５は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層８）に含有するものである。

図２に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６及び保護層７が順次積層された構造を有するものである。また、図３に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４、電荷輸送層６、電荷発生層５、保護層７が順次積層された構造を有するものである。図２及び３に示す電子写真感光体１において、保護層７が架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層であり、かかる樹脂としてオキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂を含む。

また、図４に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４、単層型感光層８が順次積層された構造を有するものであり、単層型感光層８が架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層であり、かかる樹脂としてオキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂を含む。

また、図５に示す電子写真感光体１は、導電性支持体２上に下引層４、単層型感光層８、保護層７が順次積層された構造を有するものであり、保護層７が架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層であり、かかる樹脂としてオキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂を含む。なお、電子写真感光体１においては、下引層４は必ずしも設けられなくともよい。

上記のように、本発明の電子写真感光体が備える感光層は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層に含有する単層型感光層、又は電荷発生材料を含有する層（電荷発生層）と電荷輸送材料を含有する層（電荷輸送層）とを別個に設けた機能分離型感光層のいずれであってもよい。機能分離型感光層の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれが上層であってもよい。なお、機能分離型感光層の場合、それぞれの層がそれぞれの機能を満たせばよいという機能分離ができるため、より高い機能を実現できる。

以下、代表例として図２に示す電子写真感光体１に基づいて、各要素について説明する。

導電性支持体２としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、金属ベルト等が挙げられる。また、導電性支持体２としては、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等も使用できる。

導電性支持体２の表面は、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ〜０．５μｍに粗面化することが好ましい。導電性支持体２の表面のＲａが０．０４μｍ未満であると、鏡面に近くなるので干渉防止効果が不十分となる傾向がある。他方、Ｒａが０．５μｍを越えると、被膜を形成しても画質が不十分となる傾向がある。非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性支持体２表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。

粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、又は回転する砥石に支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が好ましい。

粗面化の方法としては、導電性支持体２表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる微粒子により粗面化する方法も好ましく用いられる。

上記陽極酸化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、そのままの多孔質陽極酸化膜は、化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行う。

陽極酸化膜の膜厚については、０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。

また、導電性支持体２には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。リン酸、クロム酸及びフッ酸からなる酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調整する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が１０〜１１質量％の範囲、クロム酸が３〜５質量％の範囲、フッ酸が０．５〜２質量％の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５〜１８質量％の範囲が好ましい。処理温度は４２〜４８℃が好ましいが、処理温度を高く保つことにより、一層速く、かつ厚い被膜を形成することができる。被膜の膜厚は、０．３〜１５μｍが好ましい。０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。

ベーマイト処理は、９０〜１００℃の純水中に５〜６０分間浸漬すること、又は９０〜１２０℃の加熱水蒸気に５〜６０分間接触させることにより行うことができる。被膜の膜厚は、０．１〜５μｍが好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。

下引層４は、導電性支持体２上に形成される。下引層４は、有機金属化合物及び／又は結着樹脂を含有して構成される。

有機金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物のほか、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物等が挙げられる。

有機金属化合物としては、残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため、特に有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物が好ましく使用される。

結着樹脂としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の公知のものが挙げられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて適宜設定することができる。

また、下引層４には、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を含有させてもよい。

また、下引層４中には、低残留電位化や環境安定性の観点から、電子輸送性顔料を混合／分散して使用することもできる。電子輸送性顔料としては、特開昭４７−３０３３０号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料、また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。

これらの顔料の中では、ペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、酸化亜鉛又は酸化チタンが、電子移動性が高いので好ましく使用される。

また、これらの顔料の表面は、分散性、電荷輸送性を制御する目的で上記カップリング剤や、結着樹脂等で表面処理してもよい。

電子輸送性顔料は多すぎると下引層４の強度を低下させ、塗膜欠陥の原因となるため、下引層４の固形分全量を基準として好ましくは９５質量％以下、より好ましくは９０質量％以下で使用される。

また、下引層４には、電気特性の向上や光散乱性の向上等の目的により、各種の有機化合物の微粉末若しくは無機化合物の微粉末を添加することが好ましい。特に、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等の白色顔料やアルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の体質顔料としての無機顔料やポリテトラフルオロエチレン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子等が有効である。

添加微粉末の粒径は、０．０１〜２μｍのものが好ましい。微粉末は必要に応じて添加されるが、その添加量は下引層４の固形分全量を基準として、１０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８０質量％であることがより好ましい。

下引層４は上述した各構成材料を含有する下引層形成用塗布液を用いて形成される。下引層形成用塗布液に使用される有機溶剤としては、有機金属化合物や結着樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合及び／又は分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであればよい。

有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常のものが挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

各構成材料の混合及び／又は分散方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、振動ボールミル、コロイドミル、ペイントシェーカー超音波等を用いる常法が適用される。混合及び／又は分散は有機溶剤中で行われる。

下引層４を形成する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。

乾燥は、通常、溶剤を蒸発させ、成膜可能な温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った導電性支持体２は、基材の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引層４を形成することが好ましい。

下引層４の膜厚は、好ましくは０．０１〜３０μｍ、より好ましくは０．０５〜３０μｍ、さらに好ましくは０．１〜３０μｍ、特に好ましくは０．２〜２５μｍである。

電荷発生層５は、電荷発生材料、さらには必要に応じて結着樹脂を含んで構成される。

電荷発生材料は、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料等の有機顔料や三方晶セレン、酸化亜鉛等の無機顔料等公知のものを使用することができる。電荷発生材料としては、特に、３８０〜５００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料、三方晶セレン、ジブロモアントアントロン等が好ましい。その中でも、特開平５−２６３００７号公報及び特開平５−２７９５９１号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報及び特開平５−１４０４７３号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報及び特開平５−４３８１３号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。

結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択することができる。また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。

結着樹脂としては、好ましくは、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

電荷発生層５は、電荷発生材料を蒸着により、又は電荷発生材料及び結着樹脂を含有する電荷発生層形成用塗布液により形成される。電荷発生層５を電荷発生層形成用塗布液を用いて形成する場合、電荷発生材料と結着樹脂の配合比（質量比）は、１０：１〜１：１０の範囲が好ましい。

電荷発生層形成用塗布液に、上記各構成材料を分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いることができる。この際、分散によって顔料の結晶型が変化しない条件が必要とされる。さらにこの分散の際、粒子を好ましくは０．５μｍ以下、より好ましくは０．３μｍ以下、さらに好ましくは０．１５μｍ以下の粒子サイズにすることが有効である。

分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

電荷発生層形成用塗布液を用いて電荷発生層５を形成する際には、塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。

電荷発生層５の膜厚は、好ましくは０．１〜５μｍ、より好ましくは０．２〜２．０μｍである。

電荷輸送層６は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して構成される。

電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物が挙げられるが、特にこれらに限定されない。これらの電荷輸送材料は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。

また、電荷輸送材料としては、モビリティーの観点から、下記一般式（Ｖ−１）、（Ｖ−２）又は（Ｖ−３）で示される化合物が好ましい。

ここで、上記式（Ｖ−１）中、Ｒ^１４は、水素原子又はメチル基を、ｋは１又は２を、Ａｒ^６及びＡｒ^７はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^１８）＝Ｃ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）、又は−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）_２を表し、置換基としてはハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、又は炭素数１〜３のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。また、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。

ここで、上記式（Ｖ−２）中、Ｒ^１５及びＲ^１５’はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアルコキシ基を、Ｒ^１６、Ｒ^１６’、Ｒ^１７及びＲ^１７’はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^１８）＝Ｃ（Ｒ^１９）（Ｒ^２０）、又は、−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）_２を、Ｒ^１８、Ｒ^１９及びＲ^２０はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ａｒは置換又は未置換のアリール基を示す。ｍ及びｎはそれぞれ独立に０〜２の整数を示す。

ここで、上記式（Ｖ−３）中、Ｒ^２１は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、置換若しくは未置換のアリール基、又は、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ａｒ）_２を示す。Ａｒは、置換又は未置換のアリール基を示す。Ｒ^２２、Ｒ^２２’、Ｒ^２３’、及びＲ^２３はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換されたアミノ基、又は置換若しくは未置換のアリール基を示す。

電荷輸送層６に用いる結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（質量比）は、１０：１〜１：５が好ましい。

高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものを用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、高い電荷輸送性を有しており、特に好ましいものである。

高分子電荷輸送材はそれだけでも電荷輸送層６の構成材料として使用可能であるが、上記結着樹脂と混合して成膜してもよい。

電荷輸送層６は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。

電荷輸送層形成用塗布液の溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状若しくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。

電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。

電荷輸送層６の膜厚は、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜３０μｍである。

感光層３には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加することができる。

酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等が挙げられる。光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。

また、感光層３には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質を含有させることができる。

電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸等を挙げることができる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ_２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好ましい。

保護層７は、本実施形態の電子写真感光体では、架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層である。更に、かかる樹脂は、オキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂であることが必要である。

上記のオキセタン化合物としては、例えば、下記一般式（ＶＩ）及び下記一般式（ＶＩＩ）で示される化合物を挙げることができる。

ここで、式（ＶＩ）中、Ｒ^３１は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基若しくはブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基を示し、Ｒ^３２は、メチル基、エチル基、プロピル基若しくはブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基或いは３?ブテニル基等の炭素数２〜６のアルケニル基、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基若しくはフェノキシエチル基等の芳香環を有する基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基若しくはブチルカルボニル基等の炭素数２〜６のアルキルカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基若しくはブトキシカルボニル基等の炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、トリメトキシシリル基、メチルジメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、エチルジエトキシシリル基、トリメトキシシリルメチル基及びトリエトキシシリルプロピル基などのアルコキシルシリルを有する基、又は、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基若しくはペンチルカルバモイル基等の炭素数２〜６のＮ−アルキルカルバモイル基等を示す。

ここで、式（ＶＩＩ）中、Ｒ^３３は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基若しくはブチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基を示し、ｋ１は０又は１以上の整数を示し、Ｒ^３４は、エチレン基、プロピレン基若しくはブチレン基等の直鎖状若しくは分枝状アルキレン基、ポリ（エチレンオキシ）基若しくはポリ（プロピレンオキシ）基等の直鎖状若しくは分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、プロペニレン基、メチルプロペニレン基若しくはブテニレン基等の直鎖状若しくは分枝状不飽和炭化水素基、カルボニル基、カルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基、下記一般式（ＶＩＩＩ）で示される２価の基、下記一般式（ＩＸ）で示される２価の基、又は、下記一般式（Ｘ）で示される２価の基を示す。

ここで、式（ＶＩＩＩ）中、Ｒ^３５は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基若しくはブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基若しくはブトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基、塩素原子若しくは臭素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、又はカルバモイル基を示す。また、式（ＩＸ）中、Ｒ^３６は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ_２、Ｃ（ＣＦ_３）_２、又はＣ（ＣＨ_３）_２を示す。また、式（Ｘ）中、Ｒ^３７、Ｒ^３８及びＲ^３９はそれぞれ独立に、メチル基、エチル基、プロピル基若しくはブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、又はアリール基を示し、ｋ２は、０〜２０００の整数を示す。

上記一般式（ＶＩ）で示されるオキセタン化合物の好適なものとしては、例えば、下記式（ＶＩ−１）〜（ＶＩ−１３）で示されるオキセタン化合物が挙げられる。

上記一般式（ＶＩＩ）で示されるオキセタン化合物の好適なものとしては、例えば、下記式（ＶＩＩ−１）〜（ＶＩＩ−３）で示されるオキセタン化合物が挙げられる。

上記したオキセタン化合物は、公知の方法によって合成可能である。例えば、１，３−ジオール誘導体の水酸基を塩化水素などによりハロゲン化あるいはｐ−トルエンスルホン酸クロリドなどを用いてトシル基を導入した後、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムなどのアルカリによって脱離環化させる方法や、１，３−ジオール誘導体と、炭酸ジフェニル、炭酸ジエチルなどのアルキルカーボネート化合物とをアルカリ条件下で反応させた後、脱炭酸を行って環化させる方法などにより合成することが可能である。また、ビスオキセタン化合物を得る場合は、ヒドロキシル基を有する化合物とハロゲン化物とをアルカリ条件下でエーテル化することにより合成することが可能である。

オキセタン樹脂は、エポキシ基を有するエポキシ化合物を樹脂成分としてさらに含有することが好ましい。これにより、保護層の耐久性をより向上させることが可能となる。

エポキシ化合物としては、例えば、エポキシ基を１個有するエポキシ化合物として、フェニルグリシジルエーテル及びブチルグリシジルエーテル等が挙げられ、エポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物として、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル及びノボラック型エポキシ化合物等が挙げられる。この場合、エポキシ基を有する化合物の配合割合としては、オキセタン環を有する化合物とエポキシ基を有する化合物の合計量１００重量部に対して、５〜９５重量部が好ましい。

エポキシ化合物の含有量は、オキセタン化合物とエポキシ化合物の合計量に対して、０．１〜２０質量％の割合とすることが好ましく、０．１〜１０質量％とすることがより好ましい。かかる含有量が、０．１質量％未満であると、保護層の耐久性を向上させる効果が得られ難くなる傾向にあり、他方、２０質量％を越えると、電気特性に悪影響を与えたり、光透過性が不良となったり、均一な硬化膜が形成されなかったり、保護層表面の平滑性が失われる傾向にある。

また、オキセタン樹脂は、メチロール基を有するフェノール誘導体を樹脂成分としてさらに含有することが好ましい。これにより、保護層のクリーニング性が向上するとともに放電生成物による保護層の劣化を抑制する効果が向上し、高画質維持の点で有利となる。このような効果は、オキセタン化合物とメチロール基を有するフェノール誘導体とを組み合わせることにより、酸化防止能が向上するとともに耐摩耗性が向上することによるものと考えられる。

上記メチロール基を有するフェノール誘導体としては、モノメチロールフェノール類、ジメチロールフェノール類若しくはトリメチロールフェノール類のモノマー、それらの混合物、それらがオリゴマー化されたもの、又はそれらモノマーとオリゴマーの混合物が挙げられる。このようなメチロール基を有するフェノール誘導体は、レゾルシン、ビスフェノール等、フェノール、クレゾール、キシレノール、パラアルキルフェノール、パラフェニルフェノール等の水酸基を１個含む置換フェノール類、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等の水酸基を２個含む置換フェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等のビスフェノール類、ビフェノール類等、フェノール構造を有する化合物と、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド等とを、酸触媒又はアルカリ触媒下で反応させることにより得られるもので、一般にフェノール樹脂として市販されているものも使用できる。なお、本明細書では、分子の構造単位の繰り返しが２〜２０程度の比較的大きな分子をオリゴマーといい、それ以下のものをモノマーという。上記酸触媒としては、硫酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸等が用いられる。また、アルカリ触媒としては、ＮａＯＨ、ＫＯＨ、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｂａ（ＯＨ）_２等のアルカリ金属及びアルカリ土類金属の水酸化物やアミン系触媒が用いられる。アミン系触媒としては、アンモニア、ヘキサメチレンテトラミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。塩基性触媒を使用した場合には、残留する触媒によりキャリアが著しくトラップされ、電子写真特性を悪化させる傾向がある。そのため、酸で中和するか、シリカゲル等の吸着剤や、イオン交換樹脂等と接触させることにより不活性化又は除去することが好ましい。

また、上記のメチロール基を有するフェノール誘導体のうち、フェノール樹脂が好ましく、レゾール型フェノール樹脂がより好ましい。メチロール基を有するフェノール誘導体の分子量は、特に限定されないが、溶解性や塗膜性の点から、レゾールモノマーの分子量以上、重量平均分子量１万以下が好ましい。

メチロール基を有するフェノール誘導体の含有量は、オキセタン化合物とメチロール基を有するフェノール誘導体の合計量に対して、１０〜９０質量％の割合とすることが好ましく、３０〜６０質量％とすることがより好ましい。かかる含有量が、１０質量％未満であると、保護層のクリーニング性を向上させる効果及び放電生成物による保護層の劣化を抑制する効果が得られ難くなる傾向にあり、他方、９０質量％を越えると、残留電位などの電気特性が悪化する傾向にある。

また、オキセタン樹脂を含有する層である保護層が、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、オキセタン基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種の官能基を有する電荷輸送材料をさらに含むことが好ましい。なお、これらの電荷輸送材料は、上記オキセタン化合物又は上記オキセタン樹脂と反応して樹脂中に組み込まれていてもよい。

水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、オキセタン基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種の官能基を有する電荷輸送材料としては、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。

Ｆ−［（Ｘ^１）_ｍ１−（Ｒ^１）_ｍ２−Ｙ］_ｍ３（Ｉ）
ここで、式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ^１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ^１はアルキレン基を、Ｙは水酸基、カルボキシル基、チオール基又はアミノ基を示し、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に０又は１を、ｍ３は１〜４の整数を示す。

Ｆ−［（Ｘ^２）_ｎ１−（Ｒ^２）_ｎ２−（Ｚ）_ｎ３Ｇ］_ｎ４（ＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ^２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ^２はアルキレン基を、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基又はオキセタン基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ４は１〜４の整数を示す。

Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ^３）_{（３−ａ）}Ｑ_ａ］_ｂ（ＩＩＩ）
ここで、式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ^３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を、ｂは１〜４の整数を示す。

また、上記可とう性を有する２価の基Ｄとしては、具体的には、光電特性を付与するためのＦの部位と、３次元的な無機ガラス質ネットワークの構築に寄与する置換ケイ素基とを結びつける働きを担う２価の基である。また、Ｄは、堅い反面もろさも有する無機ガラス質ネットワークの部分に適度な可とう性を付与し、膜としての機械的強靱さを向上させる働きを担う有機基構造を表す。Ｄとして具体的には、−Ｃ_αＨ_２α−、−Ｃ_βＨ_２β−２−、−Ｃ_γＨ_２γ−４−で表わされる２価の炭化水素基（ここで、αは１〜１５の整数を表し、βは２〜１５の整数を表し、γは３〜１５の整数を表す）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ_２−Ｃ_６Ｈ_４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−（Ｃ_６Ｈ_４）−（Ｃ_６Ｈ_４）−、及び、これらの特性基を任意に組み合わせた構造を有する特性基、更にはこれらの特性基の構成原子を他の置換基と置換したもの等が挙げられる。また、上記加水分解性基Ｑとしては、アルコキシ基が好ましく、炭素数１〜１５のアルコキシ基がより好ましい。

上記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で示される化合物における正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基Ｆとしては、下記一般式（ＸＩ）で示される化合物が好ましい。

ここで、上記式（ＸＩ）中、Ａｒ^１、Ａｒ^２、Ａｒ^３及びＡｒ^４はそれぞれ独立に置換又は未置換のアリール基を示し、Ａｒ^５は置換若しくは未置換のアリール基又はアリーレン基を示し、且つＡｒ^１〜Ａｒ^５のうち１〜４個は、上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）で示される化合物における−［（Ｘ^１）_ｍ１−（Ｒ^１）_ｍ２−Ｙ］、−［（Ｘ^２）_ｎ１−（Ｒ^２）_ｎ２−（Ｚ）_ｎ３Ｇ］、又は−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ^３）_{（３−ａ）}Ｑ_ａ］で示される部位と結合手を有する。

一般式（ＸＩ）で示される化合物におけるＡｒ^１〜Ａｒ^４で示される置換又は未置換のアリール基としては、具体的には、下記式（ＸＩ−１）〜（ＸＩ−７）に示されるアリール基が好ましい。

上記式（ＸＩ−７）で示されるアリール基におけるＡｒとしては、下記式（ＸＩ−８）又は（ＸＩ−９）で示されるアリール基が好ましい。

また、上記式（ＸＩ−７）で示されるアリール基におけるＺとしては、下記式（ＸＩ−１０）〜（ＸＩ−１７）で示される２価の基が好ましい。

ここで、上記式（ＸＩ−１）〜（ＸＩ−１７）中、Ｒ^６は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数７〜１０のアラルキル基を、Ｒ^７〜Ｒ^１３はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、それらで置換されたフェニル基若しくは未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はハロゲン原子を、ｍ及びｓはそれぞれ独立に０又は１を、ｑ及びｒはそれぞれ独立に１〜１０の整数を、ｔはそれぞれ独立に１〜３の整数を示す。

また、上記式（ＸＩ−１）〜（ＸＩ−７）中、Ｘは上記式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＩＩ）で示される化合物における−［（Ｘ^１）_ｍ１−（Ｒ^１）_ｍ２−Ｙ］、−［（Ｘ^２）_ｎ１−（Ｒ^２）_ｎ２−（Ｚ）_ｎ３Ｇ］、又は−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ^３）_{（３−ａ）}Ｑ_ａ］で示される部位と結合手を有する。

また、上記式（ＸＩ−１６）〜（ＸＩ−１７）中、Ｗは下記式（ＸＩ−１８）〜（ＸＩ−２６）で示される２価の基を示す。なお、式（ＸＩ−２５）中、ｕは０〜３の整数を示す。

また、上記一般式（ＸＩ）におけるＡｒ^５の具体的構造としては、ｋ＝０の時は上記Ａｒ^１〜Ａｒ^４の具体的構造におけるｍ＝１の構造が、ｋ＝１の時は上記Ａｒ^１〜Ａｒ^４の具体的構造におけるｍ＝０の構造が挙げられる。

上記一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、下記化合物（Ｉ−１）〜（Ｉ−３６）を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。

上記一般式（ＩＩ）で示される化合物の具体例としては、下記化合物（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−６１）を挙げることができる。なお、下記表中、Ｍｅ又は結合手は記載されているが置換基が記載されていないものはメチル基を、Ｅｔはエチル基を示す。

上述の上記一般式（Ｉ）で示される化合物及び上記一般式（ＩＩ）で示される化合物は、公知の合成方法により合成したものを使用できる。また、上記一般式（ＩＩ−４８）〜（ＩＩ−６１）で示される化合物は、例えば、電荷輸送性の構造を有するアリールアミン化合物と、下記一般式（ＯＸ−１）で示されるハロゲン化合物とを反応させることにより得られたものや、下記一般式（ＯＸ−２）で示されるヒドロキシル基を有するオキセタン化合物と、ハロゲン化アルキル基を有する電荷輸送性化合物とを反応させることにより得られたものを使用できる。なお、下記一般式（ＯＸ−１）で示されるハロゲン化物は、例えば、トリメチロール誘導体の２つの水酸基をハロゲン化したのち、環化することで合成可能である。

ここで、式（ＯＸ−１）中、Ｒ^５０は、水素又は炭素数１〜８の分岐があってもよいアルキル基を示し、式（ＯＸ−２）中、Ｒ^５１は、水素又は炭素数１〜８の分岐があってもよいアルキル基を示す。

また、上記一般式（ＩＩＩ）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６１）が挙げられる。なお、下記化合物（ＩＩＩ−１）〜（ＩＩＩ−６１）は、一般式（ＸＩ）で示される化合物のＡｒ^１〜Ａｒ^５及びｋを下記の表に示されるように組み合わせ、且つ、アルコキシシリル基（ｓ）を下記の表に示される特定のものとしたものである。

また、保護層７には、残留電位を下げるために導電性粒子を添加してもよい。導電性粒子としては、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの中でも、金属又は金属酸化物がより好ましい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ、及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いることもできる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は保護層７の透明性の観点から、０．３μｍ以下が好ましく、０．１μｍ以下が特に好ましい。

また、保護層７には、保護層７の強度、膜抵抗等の種々の物性をコントロールするために、下記一般式（ＸＩＩ−１）で示される化合物を添加することもできる。
Ｓｉ（Ｒ^４０）_{（４−ｃ）}Ｑ_ｃ（ＸＩＩ−１）
ここで、式（ＸＩＩ−１）中、Ｒ^４０は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ｃは１〜４の整数を示す。

上記一般式（ＸＩＩ−１）で示される化合物の具体例としては、以下のようなシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等の四官能性アルコキシシラン（ｃ＝４）；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン等の三官能性アルコキシシラン（ｃ＝３）；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等の二官能性アルコキシシラン（ｃ＝２）；トリメチルメトキシシラン等の１官能アルコキシシラン（ｃ＝１）等を挙げることができる。膜の強度を向上させるためには３及び４官能のアルコキシシランが好ましく、可とう性、成膜性を向上させるためには１及び２官能のアルコキシシランが好ましい。

また、主にこれらのカップリング剤より作製されるシリコン系ハードコート剤も用いることができる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−４０−２２３９（以上、信越シリコーン社製）、及びＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等を用いることができる。

また、保護層７には、その強度を高めるために、一般式（ＸＩＩ−２）に示すような２つ以上のケイ素原子を有する化合物を用いることも好ましい。
Ｂ−（Ｓｉ（Ｒ^４１）_{（３−ｄ）}Ｑ_ｄ）_２（ＸＩＩ−２）
ここで、式（ＶＩＩ−２）中、Ｂは２価の有機基を、Ｒ^４１は水素原子、アルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を示す。

上記一般式（ＸＩＩ−２）で示される化合物としては、より具体的には、下記化合物（ＸＩＩ−２−１）〜（ＸＩＩ−２−１６）が好ましいものとして挙げることができる。

また、保護層７には、ポットライフの延長、膜特性のコントロール、トルク低減、塗布膜表面の均一性向上のため、下記一般式（ＸＩＩ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物、若しくはその化合物からの誘導体を含有させることもできる。

ここで、式（ＸＩＩ−３）中、Ａ^１及びＡ^２は、それぞれ独立に一価の有機基を示す。

上記一般式（ＸＩＩ−３）で示される繰り返し構造単位を持つ環状化合物としては、市販の環状シロキサンを挙げることができる。具体的には、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類、１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類、ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類、３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素原子含有シクロシロキサン類、メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類、ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等の環状のシロキサン等を挙げることができる。これらの環状シロキサン化合物は１種を単独で用いてもよいが、２種以上を混合して用いてもよい。

更に、電子写真感光体表面の耐汚染物付着性、潤滑性、硬度等を制御するために、各種微粒子を添加することもできる。それらは、単独で用いることもできるが、２種以上を併用してもよい。

微粒子の一例として、ケイ素原子含有微粒子を挙げることができる。ケイ素原子含有微粒子とは、構成元素にケイ素を含む微粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン微粒子等が挙げられる。ケイ素原子含有微粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒子径が好ましくは１〜１００ｎｍ、より好ましくは１０〜３０ｎｍであり、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、或いはアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。保護層７中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、成膜性、電気特性、強度の面から保護層７の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜５０質量％の範囲、より好ましくは０．１〜３０質量％の範囲で用いられる。

ケイ素原子含有微粒子として用いられるシリコーン微粒子は、球状で、平均粒子径が好ましくは１〜５００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍであり、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子及びシリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用することができる。

シリコーン微粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状を改善することができる。即ち、強固な架橋構造中に均一に取り込まれた状態で、電子写真感光体表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期間にわたって良好な耐摩耗性、耐汚染物付着性を維持することができる。保護層７中のシリコーン微粒子の含有量は、保護層７の固形分全量を基準として好ましくは０．１〜３０質量％の範囲であり、より好ましくは０．５〜１０質量％の範囲である。

また、その他の微粒子としては、４弗化エチレン、３弗化エチレン、６弗化プロピレン、弗化ビニル、弗化ビニリデン等のフッ素系微粒子や”第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集ｐ８９”に示される様な、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる微粒子、ＺｎＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２−Ｓｂ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２、ＺｎＯ−ＴｉＯ_２、ＭｇＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＦｅＯ−ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物を挙げることができる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加することもできる。

シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル、アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル等を挙げることができる。これらは、保護層形成用塗布液に予め添加してもよいし、感光体を作製後、減圧、或いは加圧下等で含浸処理してもよい。

また、可塑剤、表面改質剤、酸化防止剤、光劣化防止剤等の添加剤を使用することもできる。可塑剤としては、例えば、ビフェニル、塩化ビフェニル、ターフェニル、ジブチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、ジオクチルフタレート、トリフェニル燐酸、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、塩素化パラフィン、ポリプロピレン、ポリスチレン、各種フルオロ炭化水素等が挙げられる。保護層７にはヒンダートフェノール、ヒンダートアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。

酸化防止剤としては以下のような化合物が挙げられる。例えば、ヒンダートフェノール系としては、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＨＴ−Ｒ」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＭＤＰ−Ｓ」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＢＭ−Ｓ」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＷＸ−Ｒ」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＮＷ」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＰ−７６」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＢＰ−１０１」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ−８０」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ」、「ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ」以上住友化学社製、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２４５」、「ＩＲＧＡＮＯＸ２５９」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４」、「ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７」、「ＩＲＧＡＮＯＸ５６５」以上チバスペシャリティーケミカルズ社製、「アデカスタブＡＯ−２０」、「アデカスタブＡＯ−３０」、「アデカスタブＡＯ−４０」、「アデカスタブＡＯ−５０」、「アデカスタブＡＯ−６０」、「アデカスタブＡＯ−７０」、「アデカスタブＡＯ−８０」、「アデカスタブＡＯ−３３０」以上旭電化製。ヒンダートアミン系としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」、「スミライザーＴＰＳ」、チオエーテル系としては、「スミライザーＴＰ−Ｄ」、ホスファイト系としては、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ・８」、「マークＰＥＰ・２４Ｇ」、「マークＰＥＰ・３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ・１０」が挙げられ、特にヒンダートフェノール、ヒンダートアミン系酸化防止剤が好ましい。さらに、これらは架橋膜を形成する材料と架橋反応可能な例えばアルコキシシリル基等の置換基で変性してもよい。

また、保護層７には、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノールＡとフタル酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂を含有させてもよい。この場合、絶縁性樹脂は、所望の割合で添加することができ、これにより、電荷輸送層６との接着性、ハジキによる塗布膜欠陥等を抑制することができる。

保護層７は、上述した構成材料を含有する保護層形成用塗布液を、電荷輸送層６上に塗布して硬化させることで形成される。以下、保護層７の形成方法について説明する。

上記に挙げたオキセタン化合物を硬化する場合は、熱のほかに、一般的なカチオン重合開始剤を用いることができる。これらの開始剤として好ましいものとしては、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の光カチオン重合開始剤が挙げられる。

光カチオン重合開始剤の、より具体的なものとしては、下記一般式（Ｃ−１）〜（Ｃ−４）で示される化合物が挙げられる。

ここで、式（Ｃ−１）〜（Ｃ−４）中、Ｍは、アンチモン、ヒ素、リン又はホウ素を示し、これらのうちＭはリンであることが好ましい。また、式（Ｃ−１）〜（Ｃ−４）中、Ｘは、ハロゲンを示し、Ｘはフッ素であることが好ましい。また、式（Ｃ−１）〜（Ｃ−４）中、ｅはＭの価数を示し、例えば、Ｍがアンチモン、ヒ素、又はリンの場合はｅが５、Ｍがホウ素の場合はｅが３を意味する。また、式（Ｃ−１）中、Ｒ^４０は、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基を示す。また、式（Ｃ−２）中、Ｒ^４１は、水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、又は炭素数１〜１８のアルコキシ基を示す。また、式（Ｃ−４）中、Ｒ^４２は、水素原子、ヒドロキシアルキル基、又はヒドロキシアルコキシ基を示し、これらのうちＲ^４２はヒドロキシエトキシ基であることが好ましい。

保護層形成用塗布液に含有させる上記光カチオン重合開始剤は、オキセタン化合物に対して０．１〜２０質量％の割合とすることが好ましく、０．１〜１０質量％とすることがより好ましい。

また、保護層には上記した電荷輸送材料を含有させることが好ましいことから、保護層形成用塗布液に触媒を添加すること、又は保護層形成用塗布液作製時に触媒を用いることが好ましい。用いられる触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、硫酸等の無機酸、蟻酸、プロピオン酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸等の有機酸；ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩などのカチオンラジカル開始剤；水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、アンモニア、トリエチルアミン等のアルカリ触媒が挙げられる。さらに、系に不溶な固体触媒を用いることもできる。これらの触媒は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることが可能である。

また、保護層形成用塗布液にメチロール基を有するフェノール誘導体を添加する場合は、フェノール誘導体合成時の触媒を除去するために、予め、フェノール誘導体をメタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル等の適当な溶剤に溶解させ、水洗、貧溶剤を用いた再沈殿等の処理を行うか、イオン交換樹脂、又は無機固体を用いて処理を行うことが好ましい。

イオン交換樹脂としては、例えば、アンバーライト１５、アンバーライト２００Ｃ、アンバーリスト１５Ｅ（以上、ローム・アンド・ハース社製）；ダウエックスＭＷＣ−１−Ｈ、ダウエックス８８、ダウエックスＨＣＲ−Ｗ２（以上、ダウ・ケミカル社製）；レバチットＳＰＣ−１０８、レバチットＳＰＣ−１１８（以上、バイエル社製）；ダイヤイオンＲＣＰ−１５０Ｈ（三菱化成社製）；スミカイオンＫＣ−４７０、デュオライトＣ２６−Ｃ、デュオライトＣ−４３３、デュオライト−４６４（以上、住友化学工業社製）；ナフィオン−Ｈ（デュポン社製）等の陽イオン交換樹脂；アンバーライトＩＲＡ−４００、アンバーライトＩＲＡ−４５（以上、ローム・アンド・ハース社製）等の陰イオン交換樹脂が挙げられる。

無機固体としては、例えば、Ｚｒ（Ｏ_３ＰＣＨ_２ＣＨ_２ＳＯ_３Ｈ）_２，Ｔｈ（Ｏ_３ＰＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯＨ）_２等のプロトン酸基を含有する基が表面に結合されている無機固体；スルホン酸基を有するポリオルガノシロキサン等のプロトン酸基を含有するポリオルガノシロキサン；コバルトタングステン酸、リンモリブデン酸等のヘテロポリ酸；ニオブ酸、タンタル酸、モリブデン酸等のイソポリ酸；シリカゲル、アルミナ、クロミア、ジルコニア、ＣａＯ、ＭｇＯ等の単元系金属酸化物；シリカ−アルミナ、シリカ−マグネシア、シリカ−ジルコニア、ゼオライト類等複合系金属酸化物；酸性白土、活性白土、モンモリロナイト、カオリナイト等の粘土鉱物；ＬｉＳＯ_４，ＭｇＳＯ_４等の金属硫酸塩；リン酸ジルコニア、リン酸ランタン等の金属リン酸塩；ＬｉＮＯ_３，Ｍｎ（ＮＯ_３）_２等の金属硝酸塩；シリカゲル上にアミノプロピルトリエトキシシランを反応させて得られた固体等のアミノ基を含有する基が表面に結合されている無機固体；アミノ変性シリコーン樹脂等のアミノ基を含有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。

保護層形成用塗布液には、必要に応じて、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の他、種々の溶剤を含有させることができる。なお、電子写真感光体の生産に一般的に使用されるディップコーティング法を適用するためには、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましい。また、使用される溶剤の沸点は５０〜１５０℃のものが好ましく、それらを任意に混合して使用することができる。

なお、用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、又はそれらの混合系溶剤が好ましいことから、保護層７に含まれる電荷輸送材料としては、それらの溶剤に可溶であることが好ましい。

保護層形成用塗布液に含まれる溶剤の量は、任意に設定できるが、少なすぎると構成材料が析出しやすくなるため、保護層形成用塗布液中に含まれる固形分の合計１質量部に対して、０．５〜３０質量部とすることが好ましく、１〜２０質量部とすることがより好ましい。

また、保護層７の硬度、接着性、可とう性などの膜特性の調整のために、保護形成用塗布液に、テレフタル酸、マレイン酸、ピロメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸等、又は、それらの無水物をさらに添加してもよい。これらの添加量としては、電気特性への影響が十分に小さい範囲であることが好ましく、具体的には、電荷輸送材料１質量部に対して、０．０５〜１質量部が好ましく、０．１〜０．７質量部がより好ましい。

保護形成用塗布液にフェノール樹脂を混合する場合には、フェノール樹脂の硬化触媒をも添加するのが好ましい。その際の硬化触媒としては、例えば、ビス（イソプロピルスルホニル）ジアゾメタンのようなビススルホニルジアゾメタン類、メチルスルホニルｐ−トルエンスルホニルメタンのようなビススルホニルメタン類、シクロヘキシルスルホニルシクロヘキシルカルボニルジアゾメタンのようなスルホニルカルボニルジアゾメタン類、２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）プロピオフェノンのようなスルホニルカルボニルアルカン類、２−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートのようなニトロベンジルスルホネート類、ピロガロールトリスメタンスルホネートのようなアルキル及びアリールスルホネート類（ｇ）ベンゾイントシレートのようなベンゾインスルホネート類、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミドのようなＮ−スルホニルオキシイミド類、（４−フルオロベンゼンスルホニルオキシ）−３，４，６−トリメチル−２−ピリドンのようなピリドン類、２，２，２−トリフルオロ−１−トリフルオロメチル−１−（３−ビニルフェニル）−エチル−４−クロロベンゼンスルホネートのようなスルホン酸エステル類、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネートのようなオニウム塩類等の光酸発生剤や、プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物、ルイス酸とトリアルキルホスフェートの混合物、スルホン酸エステル類、リン酸エステル類、オニウム化合物、無水カルボン酸化合物等が挙げられる。

プロトン酸或いはルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、ハロゲノカルボン酸類、スルホン酸類、硫酸モノエステル類、リン酸モノ及びジエステル類、ポリリン酸エステル類、ホウ酸モノ及びジエステル類等を、アンモニア、モノエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピペリジン、アニリン、モルホリン、シクロヘキシルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の各種アミン若しくはトリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン、トリアルキルホスファイト、トリアリールホスファイトで中和した化合物、さらには酸−塩基ブロック化触媒として市販されているネイキュア２５００Ｘ、４１６７、Ｘ−４７−１１０、３５２５、５２２５（商品名、キングインダストリー社製）等が挙げられる。また、ルイス酸をルイス塩基で中和した化合物としては、例えば、ＢＦ_３、ＦｅＣｌ_３、ＳｎＣｌ_４、ＡｌＣｌ_３、ＺｎＣｌ_２等のルイス酸を上記のルイス塩基で中和した化合物が挙げられる。

オニウム化合物としては、トリフェニルスルホニウムメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート等が挙げられる。

無水カルボン酸化合物としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ラウリン酸、無水オレイン酸、無水ステアリン酸、無水ｎ−カプロン酸、無水ｎ−カプリル酸、無水ｎ−カプリン酸、無水パルミチン酸、無水ミリスチン酸、無水トリクロロ酢酸、無水ジクロロ酢酸、無水モノクロロ酢酸、無水トリフルオロ酢酸、無水ヘプタフルオロ酪酸等が挙げられる。

ルイス酸としては、例えば、三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウム、塩化第一チタン、塩化第二チタン、塩化第一鉄、塩化第二鉄、塩化亜鉛、臭化亜鉛、塩化第一スズ、塩化第二スズ、臭化第一スズ、臭化第二スズ等の金属ハロゲン化物、トリアルキルホウ素、トリアルキルアルミニウム、ジアルキルハロゲン化アルミニウム、モノアルキルハロゲン化アルミニウム、テトラアルキルスズ等の有機金属化合物、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、ジイソプロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナト）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジブチル・ビス（アセチルアセトナト）スズ、トリス（アセチルアセトナト）鉄、トリス（アセチルアセトナト）ロジウム、ビス（アセチルアセトナト）亜鉛、トリス（アセチルアセトナト）コバルト等の金属キレート化合物、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズエステルマレート、ナフテン酸マグネシウム、ナフテン酸カルシウム、ナフテン酸マンガン、ナフテン酸鉄、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸銅、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ナフテン酸鉛、オクチル酸カルシウム、オクチル酸マンガン、オクチル酸鉄、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸スズ、オクチル酸鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸鉛等の金属石鹸が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。有機金属化合物の中では、特にアルミニウム金属化合物が、オキセタン化合物やエポキシ樹脂に対しても効果がありより好ましい。

上記のフェノール樹脂の硬化触媒の使用量は特に制限されないが、保護層形成用塗布液に含まれる固形分の合計１００質量部に対して０．１〜２０質量部が好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。

また、保護層７を形成する際に、有機金属化合物を触媒として用いる場合には、ポットライフ、硬化効率の面から、多座配位子を添加することが好ましい。このような多座配位子としては、以下に示すようなもの及びそれらから誘導されるものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

具体的には、アセチルアセトン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジピバロイルメチルアセトン等のβ−ジケトン類；アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のアセト酢酸エステル類；ビピリジン及びその誘導体；グリシン及びその誘導体；エチレンジアミン及びその誘導体；８−オキシキノリン及びその誘導体；サリチルアルデヒド及びその誘導体；カテコール及びその誘導体；２−オキシアゾ化合物等の２座配位子；ジエチルトリアミン及びその誘導体；ニトリロトリ酢酸及びその誘導体等の３座配位子；エチレンジアミンテトラ酢酸（ＥＤＴＡ）及びその誘導体等の６座配位子；等を挙げることができる。さらに、上記のような有機系配位子の他、ピロリン酸、トリリン酸等の無機系の配位子を挙げることができる。多座配位子としては、特に２座配位子が好ましく、具体例としては、上記の他、下記一般式（ＸＩＩ−４）で示される２座配位子が挙げられる。

式（ＸＩＩ−４）中、Ｒ^４３及びＲ^４４はそれぞれ独立に、炭素数１〜１０のアルキル基、フッ化アルキル基、又は炭素数１〜１０のアルコキシ基を示す。

多座配位子としては、上記一般式（ＸＩＩ−４）で示される２座配位子を用いることが好ましく、上記一般式（ＸＩＩ−４）中のＲ^４３とＲ^４４とが同一のものが特に好ましい。Ｒ^４３とＲ^４４とを同一にすることで、室温付近での配位子の配位力が強くなり、保護層形成用塗布液のさらなる安定化を図ることができる。

保護層形成用塗布液を用いて保護層７を形成する際の塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いることができる。ただし、１回の塗布により必要な膜厚が得られない場合、複数回重ね塗布することにより必要な膜厚を得ることができる。なお、複数回の重ね塗布を行なう場合、加熱処理は塗布の度に行なってもよいし、複数回重ね塗布した後でもよい。

電荷輸送層６上に保護層形成用塗布液を塗布した後、加熱により塗工膜から溶媒を除去する。加熱の条件としては、例えば、５０〜１７０℃、３０分〜２時間が挙げられる。

続いて、塗工膜に対して硬化処理をさらに行う。硬化処理としては、熱架橋反応若しくは光架橋反応を利用する方法、又はこれらの併用が挙げられる。

熱架橋反応により硬化を行う場合は、通常、塗工膜の架橋反応を促進させて保護層７の機械強度を上げるために、硬化温度は高く、硬化時間長いほど好ましい。ただし、感光体の変質等を避けるため、硬化温度、硬化時間、架橋雰囲気又は硬化触媒で適宜制御することが好ましい。

硬化温度としては、１００〜１７０℃が好ましく、１００〜１５０℃がより好ましく、１００〜１４０℃が更に好ましい。また、硬化時間は、３０分〜２時間が好ましく、３０分〜１時間がより好ましい。また、硬化は、空気雰囲気下でも窒素雰囲気下でも行うことができる。

また、光架橋反応により硬化を行う場合は、光照射時間が長いほど好ましいが、電荷輸送材料が酸化分解しない程度に、熱架橋反応と併用することが好ましい。光照射の方法としては、例えば、水銀アークランプ、キセノンアークランプ、蛍光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲンランプなどの光源を使用した紫外線照射が挙げられる。

また、紫外線照射により硬化を行う場合は、ピレン、ぺリレン、アクリジンオレンジ、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、ベンゾフラビンなどの典型的な光増感剤を用いることが可能である。その際の光増感剤の添加量は、オキセタン化合物１質量部に対して、０．０５〜１質量部が好ましく、０．１〜０．７質量部がより好ましい。

光照射強度は、０．０１Ｗ／ｃｍ^２以上であることが好ましく、光照射時間は、１〜３００秒であることが好ましく、５〜１００秒であることがより好ましい。また、電子線を用いる場合は、通常、３００ｅＶ以下のエネルギーで硬化させることが可能であるが、瞬時硬化させる場合は、１Ｍｒａｄ〜５Ｍｒａｄで行うことも可能である。

上記した硬化処理は、空気雰囲気下でも窒素雰囲気下でも行うことができる。一般的なエポキシ樹脂のみの硬化反応では、両環境で硬化速度に差がないが、本発明に係るオキセタン化合物を含む保護層形成用塗布液を用いる場合、窒素雰囲気下での硬化処理が、エポキシ樹脂単独での硬化速度に比べて卓越した硬化速度を得ることができるのでより好ましい。

本実施形態においては、保護層の硬化を十分なものとする観点から、保護層形成用塗布液の塗工膜から溶剤を除去した後、紫外線照射による光架橋反応と、加熱による熱架橋反応とをこの順に行うことが好ましい。

保護層７の膜厚は、０．５〜１５μｍが好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましく、１〜５μｍがより好ましい。

なお、本実施形態において、本発明に係る架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層は、例えば、図１に示す電子写真感光体においては電荷輸送層６とすることもできる。

また、単層型感光層を構成する場合、単層型感光層は、電荷発生材料と結着樹脂を含有して形成される。電荷発生材料としては機能分離型感光層における電荷発生層に使用されるものと同様のものを、結着樹脂としては機能分離型感光層における電荷発生層及び電荷輸送層に用いられる結着樹脂と同様のものを用いることができる。単層型感光層中の電荷発生材料の含有量は、単層型感光層における固形分全量を基準として好ましくは１０〜８５質量％、より好ましくは２０〜５０質量％である。単層型感光層には、光電特性を改善する等の目的で電荷輸送材料や高分子電荷輸送材料を添加してもよい。その添加量は単層型感光層における固形分全量を基準として５〜５０質量％とすることが好ましい。また、塗布に用いる溶剤や塗布方法は、上記各層と同様のものを用いることができる。単層型感光層の膜厚は、５〜５０μｍ程度が好ましく、１０〜４０μｍとすることがさらに好ましい。

また、図４に示される電子写真感光体１のように単層型感光層８が最表面層となる場合、この層に架橋構造を有する上記オキセタン樹脂が含まれる。この単層型感光層８は、電荷発生材料、電荷輸送材料、オキセタン化合物、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、オキセタン基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種の官能基を有する上記電荷輸送材料、及び必要に応じその他の材料を含有する塗布液を用い、図２に示される電子写真感光体１の保護層７と同様にして形成することができる。

（画像形成装置）
図６は、本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。図６に示す画像形成装置１００は、画像形成装置本体（図示せず）に、電子写真感光体１を備えるプロセスカートリッジ２０と、露光装置３０と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置３０はプロセスカートリッジ２０の開口部から電子写真感光体１に露光可能な位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体１に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体１に当接可能に配置されている。

プロセスカートリッジ２０は、ケース内に電子写真感光体１とともに帯電装置２１、現像装置２５、クリーニング装置２７及び繊維状部材（歯ブラシ形状）２９を、取り付けレールにより組み合わせて一体化したものである。なお、ケースには、露光のための開口部が設けられている。

ここで、帯電装置２１は、電子写感光体１を接触方式により帯電させるものである。また、現像装置２５は、電子写真感光体１上の静電潜像を現像してトナー像を形成するものである。

以下、現像装置２５に使用されるトナーについて説明する。かかるトナーとしては、平均形状係数（ＭＬ^２／Ａ）が１００〜１５０であることが好ましく、１００〜１４０であることがより好ましい。さらに、トナーとしては、平均粒子径が２〜１２μｍであることが好ましく、３〜１２μｍであることがより好ましく、３〜９μｍであることがさらに好ましい。このような平均形状係数及び平均粒子径を満たすトナーを用いることにより、高い現像、転写性、及び高画質の画像を得ることができる。

トナーは、上記平均形状係数及び平均粒子径を満足する範囲のものであれば特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力又は熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤及び離型剤、必要に応じて帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。

また、上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法を使用することができる。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が好ましく、乳化重合凝集法が特に好ましい。

トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤及び離型剤からなり、必要であれば、シリカや帯電制御剤を含有して構成される。

トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体及び共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。

特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等を挙げることができる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等を挙げることもできる。

また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示することができる。

離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示することができる。

また、帯電制御剤としては、公知のものを使用することができるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤を用いることができる。湿式製法でトナーを製造する場合、イオン強度の制御と廃水汚染の低減の点で水に溶解しにくい素材を使用することが好ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナー及び磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。

現像装置２５に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子及び上記外添剤をヘンシェルミキサー又はＶブレンダー等で混合することによって製造することができる。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添することも可能である。

現像装置２５に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等のような脂肪族アミド類やカルナウバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等のような植物系ワックス、ミツロウのような動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等のような鉱物、石油系ワックス、及びそれらの変性物が使用できる。これらは、１種を単独で、又は２種以上を併用して使用できる。但し、平均粒径としては０．１〜１０μｍの範囲が好ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は好ましくは０．０５〜２．０質量％、より好ましくは０．１〜１．５質量％の範囲である。

現像装置２５に用いるトナーには、電子写真感光体表面の付着物、劣化物除去の目的等で、無機微粒子、有機微粒子、該有機微粒子に無機微粒子を付着させた複合微粒子等を加えることができる。

無機微粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。

また、上記無機微粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも好ましく使用される。

有機微粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等を挙げることができる。

粒子径としては、平均粒子径で好ましくは５ｎｍ〜１０００ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜８００ｎｍ、さらに好ましくは５ｎｍ〜７００ｎｍでのものが使用される。平均粒子径が、上記下限値未満であると、研磨能力に欠ける傾向があり、他方、上記上限値を超えると、電子写真感光体表面に傷を発生しやすくなる傾向がある。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが好ましい。

トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、粉体流動性、帯電制御等の為、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更に付着力低減や帯電制御の為、それより大径の無機酸化物を添加することが好ましい。これらの無機酸化物微粒子は公知のものを使用できるが、精密な帯電制御を行う為にはシリカと酸化チタンを併用することが好ましい。また、小径無機微粒子については表面処理することにより、分散性が高くなり、粉体流動性を上げる効果が大きくなる。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも放電精製物を除去するために好ましい。

また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉又はそれ等の表面に樹脂コーティングを施したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、適宜設定することができる。

クリーニング装置２７は、繊維状部材（ロール形状）２７ａと、クリーニングブレード２７ｂとを備える。

クリーニング装置２７は、繊維状部材２７ａ及びクリーニングブレード２７ｂが設けられているが、クリーニング装置としてはどちらか一方を備えるものでもよい。繊維状部材２７ａとしては、ロール形状の他に歯ブラシ状としてもよい。また、繊維状部材２７ａは、クリーニング装置本体に固定してもよく、回転可能に支持されていてもよく、さらに感光体軸方向にオシレーション可能に支持されていてもよい。繊維状部材２７ａとしては、ポリエステル、ナイロン、アクリル等や、トレシー（東レ社製）等の極細繊維からなる布状のもの、ナイロン、アクリル、ポリオレフィン、ポリエステル等の樹脂繊維を基材状又は絨毯状に植毛したブラシ状のもの等を挙げることができる。また、繊維状部材２７ａとしては、上述したものに、導電性粉末やイオン導電剤を配合して導電性を付与したり、繊維一本一本の内部又は外部に導電層が形成されたもの等を用いることもできる。導電性を付与した場合、その抵抗値としては繊維単体で１０^２〜１０^９Ωのものが好ましい。また、繊維状部材２７ａの繊維の太さは、好ましくは３０ｄ（デニール）以下、より好ましくは２０ｄ以下であり、繊維の密度は好ましくは２万本／ｉｎｃｈ^２以上、より好ましくは３万本／ｉｎｃｈ^２以上である。

クリーニング装置２７には、クリーニングブレード、クリーニングブラシで感光体表面の付着物（例えば、放電生成物）を除去することが求められる。この目的を長期に渡って達成すると共にクリーニング部材の機能を安定化させるために、クリーニング部材には、金属石鹸、高級アルコール、ワックス、シリコーンオイルなどの潤滑性物質（潤滑成分）を供給することが好ましい。

例えば、繊維状部材２７ａとしてロール状のものを用いる場合、金属石鹸、ワックス等の潤滑性物質と接触させ、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することが好ましい。クリーニングブレード２７ｂとしては、通常のゴムブレードが用いられる。このようにクリーニングブレード２７ｂとしてゴムブレードを使用する場合には、電子写真感光体表面に潤滑成分を供給することは、ブレードの欠けや磨耗を抑制することに特に効果的である。

以上説明したプロセスカートリッジ２０は、画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。

露光装置３０としては、帯電した電子写真感光体１を露光して静電潜像を形成させるものであればよい。また、露光装置３０の光源としては、マルチビーム方式の面発光レーザーを用いることが好ましい。

転写装置４０としては、電子写真感光体１上のトナー像を被転写媒体（中間転写体５０）に転写するものであればよく、例えば、ロール形状の通常使用されるものが使用される。

中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いることもできる。

なお、本発明の電子写真感光体を使用する際には、プリント用紙からの紙粉やタルク等が発生し、それが電子写真感光体へ付着しやすく、また本発明の電子写真感光体は耐磨耗性が高いため、紙粉やタルク等の除去が困難である。したがって、紙粉やタルク等の付着を防止し、安定した画像を得るために、中間転写体５０を用いることが好ましい。

なお、本発明でいう被転写媒体とは、電子写真感光体１上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。例えば、電子写真感光体１から直接、紙等に転写する場合は紙等が被転写媒体であり、また、中間転写体５０を用いる場合には中間転写体が被転写媒体になる。

図７は、本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。図７に示す画像形成装置１１０は、電子写真感光体１が画像形成装置本体に固定され、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されており、それぞれ帯電カートリッジ、現像カートリッジ、クリーニングカートリッジとして独立して備えられている。なお、帯電装置２２は、コロナ放電方式により帯電させる帯電装置を備えている。

画像形成装置１１０においては、電子写真感光体１とそれ以外の各装置が分離されており、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７が画像形成装置本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能である。

本発明の電子写真感光体は耐磨耗性に優れるため、カートリッジ化することが不要となる場合がある。したがって、帯電装置２２、現像装置２５又はクリーニング装置２７をそれぞれ本体にビス、かしめ、接着又は溶接により固定されることなく、引き出し、押しこみによる操作にて脱着可能な構成とすることで、１プリント当りの部材コストを低減することができる。また、これらの装置のうち２つ以上を一体化したカートリッジとして着脱可能とすることもでき、それにより１プリント当りの部材コストをさらに低減することができる。

なお、画像形成装置１１０は、帯電装置２２、現像装置２５及びクリーニング装置２７がそれぞれカートリッジ化されている以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。

図８は、本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ２０を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ２０がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用できる構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。

タンデム方式の画像形成装置１２０では、各色の使用割合により各電子写真感光体の磨耗量が異なってくるために、各電子写真感光体の電気特性が異なってくる傾向がある。これに伴い、トナー現像特性が初期の状態から除々に変化してプリント画像の色合いが変化し、安定な画像を得ることができなくなる傾向にある。特に、画像形成装置を小型化するために、小径の電子写真感光体が使用される傾向にあり、３０ｍｍΦ以下のものを用いたときにはこの傾向が顕著になる。ここで、電子写真感光体に、本発明の電子写真感光体の構成を採用すると、その直径を３０ｍｍΦ以下とした場合にもその表面の磨耗が十分に抑制される。したがって、本発明の電子写真感光体は、タンデム方式の画像形成装置に対して特に有効である。

図９は、本発明の画像形成装置の他の実施形態を示す模式図である。図９に示した画像形成装置１３０は、１つの電子写真感光体で複数の色のトナー画像を形成させる、所謂４サイクル方式の画像形成装置である。画像形成装置１３０は、駆動装置（図示せず）により所定の回転速度で図中の矢印Ａの方向に回転される感光体ドラム１を備えており、感光体ドラム１の上方には、感光体ドラム１の外周面を帯電させる帯電装置２２が設けられている。

また、帯電装置２２の上方には面発光レーザーアレイを露光光源として備える露光装置３０が配置されている。露光装置３０は、光源から射出される複数本のレーザービームを、形成すべき画像に応じて変調すると共に、主走査方向に偏向し、感光体ドラム１の外周面上を感光体ドラム１の軸線と平行に走査させる。これにより、帯電した感光体ドラム１の外周面上に静電潜像が形成される。

感光体ドラム１の側方には現像装置２５が配置されている。現像装置２５は回転可能に配置されたローラ状の収容体を備えている。この収容体の内部には４個の収容部が形成されており、各収容部には現像器２５Ｙ，２５Ｍ，２５Ｃ，２５Ｋが設けられている。現像器２５Ｙ，２５Ｍ，２５Ｃ，２５Ｋは各々現像ローラ２６を備え、内部に各々Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋの色のトナーを貯留している。

画像形成装置１３０でのフルカラーの画像の形成は、感光体ドラム１が４回転する間に行われる。すなわち、感光体ドラム１が４回転する間、帯電装置２２は感光体ドラム１の外周面の帯電、露光装置２０は、形成すべきカラー画像を表すＹ，Ｍ，Ｃ，Ｋの画像データのうちの何れかに応じて変調したレーザービームを感光体ドラム１の外周面上で走査させることを、感光体ドラム１が１回転する毎にレーザービームの変調に用いる画像データを切替えながら繰り返す。また現像装置２５は、現像器２５Ｙ，２５Ｍ，２５Ｃ，２５Ｋの何れかの現像ローラ２６が感光体ドラム１の外周面に対応している状態で、外周面に対応している現像器を作動させ、感光体ドラム１の外周面に形成された静電潜像を特定の色に現像し、感光体ドラム１の外周面上に特定色のトナー像を形成させることを、感光体ドラム１が１回転する毎に、静電潜像の現像に用いる現像器が切り替わるように収容体を回転させながら繰り返す。これにより、感光体ドラム１が１回転する毎に、感光体ドラム１の外周面上には、Ｙ，Ｍ，Ｃ，Ｋのトナー像が互いに重なるように順次形成されることになり、感光体ドラム１が４回転した時点で感光体ドラム１の外周面上にフルカラーのトナー像が形成されることになる。

また、感光体ドラム１の略下方には無端の中間転写ベルト５０が配設されている。中間転写ベルト５０はローラ５１，５３，５５に巻掛けられており、外周面が感光体ドラム１の外周面に接触するように配置されている。ローラ５１，５３，５５は図示しないモータの駆動力が伝達されて回転し、中間転写ベルト５０を図１矢印Ｂ方向に回転させる。

中間転写ベルト５０を挟んで感光体ドラム１の反対側には転写装置（転写器）４０が配置されており、感光体ドラム１の外周面上に形成されたトナー像は転写装置４０によって中間転写ベルト５０の画像形成面に転写される。

また、感光体ドラム１を挟んで現像装置２５の反対側には、感光体ドラム１の外周面に潤滑剤供給装置２９及びクリーニング装置２７が配置されている。感光体ドラム１２の外周面上に形成されたトナー像が中間転写ベルト５０に転写されると、潤滑剤供給装置２９により感光体ドラム１の外周面に潤滑剤が供給され、当該外周面のうち転写されたトナー像を担持していた領域がクリーニング装置２７により清浄化される。

中間転写ベルト５０よりも下方側にはトレイ６０が配置されており、トレイ６０内には記録材料としての用紙Ｐが多数枚積層された状態で収容されている。トレイ６０の左斜め上方には取り出しローラ６１が配置されており、取り出しローラ６１による用紙Ｐの取り出し方向下流側にはローラ対６３、ローラ６５が順に配置されている。積層状態で最も上方に位置している記録紙は、取り出しローラ６１が回転されることによりトレイ６０から取り出され、ローラ対６３、ローラ６５によって搬送される。

また、中間転写ベルト５０を挟んでローラ５５の反対側には転写装置４２が配置されている。ローラ対６３、ローラ６５によって搬送された用紙Ｐは、中間転写ベルト５０と転写器４２の間に送り込まれ、中間転写ベルト５０の画像形成面に形成されたトナー像が転写装置４２によって転写される。転写装置４２よりも用紙Ｐの搬送方向下流側には、定着ローラ対を備えた定着装置４４が配置されており、トナー像が転写された用紙Ｐは、転写されたトナー像が定着装置４４によって溶融定着された後に画像形成装置１３０の機体外へ排出され、排紙トレイ（図示せず）上に載置される。

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例において「部」は質量部を意味する。

＜感光体の作製＞
（感光体１）
先ず、３０ｍｍφの円筒状アルミニウム基材を準備した。このアルミニウム基材をセンタレス研磨装置により研磨し、表面粗さをＲｚ＝０．６μｍとした。このセンタレス研磨処理が施されたアルミニウム基材を洗浄するために、脱脂処理、２ｗｔ％水酸化ナトリウム溶液で１分間エッチング処理、中和処理及び純水洗浄をこの順に行った。次に、アルミニウム基材に対して、１０ｗｔ％硫酸溶液によりその表面に陽極酸化膜（電流密度１．０Ａ／ｄｍ^２）を形成した。水洗後、８０℃の１ｗｔ％酢酸ニッケル溶液に２０分間浸漬して封孔処理を行った。更に、純水洗浄、乾燥処理を行った。このようにして、表面に７μｍの陽極酸化膜を形成されたアルミニウム基材を得た。

次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニンを１部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を１部、及び酢酸ｎ−ブチルを１００部混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させ、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を、得られたアルミニウム基材上に浸漬コートして１００℃で１０分間加熱乾燥し、膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。

次に、下記式（ＸＩＩＩ−１）で示されるベンジジン化合物を２．５部、下記式（ＸＩＩＩ−２）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量３９，０００）を３部及びクロロベンゼンを２０部混合し溶解させ、電荷輸送層形成用塗布液を得た。

ＣＴ−１

この塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、１１５℃で４０分の加熱を行ない、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。このように、陽極酸化膜を形成されたアルミニウム基材上に、電荷発生層及び電荷輸送層が形成された感光体を「感光体１」とした。

（感光体２）
先ず、ホーニング処理を施した３０ｍｍφの円筒状アルミニウム基材を準備した。次に、ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、マツモト製薬社製）を１００部、シラン化合物（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー社製）を１０部、イソプロパノールを４００部、及びブタノールを２００部混合し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液をアルミニウム基材上に浸漬塗布し、１５０℃で８分間加熱乾燥し、膜厚０．１μｍの下引層を形成した。

次に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニンを１部、ポリビニルブチラール（エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）を１部、及び酢酸ｎ−ブチルを１００部混合し、さらにガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散し、電荷発生層形成用塗布液を得た。この塗布液を下引層上に浸漬塗布し１００℃で１０分間加熱乾燥し、膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を形成した。

次に、下記式（ＸＩＩＩ−３）で示される電荷輸送材料を２部、上記式（ＸＩＩＩ−２）で示される構造単位を有する高分子化合物（粘度平均分子量５０，０００）を３部、及びクロロベンゼンを２０部混合し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。

この塗布液を、上記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布して１１５℃で４０分加熱し、膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。このように、ホーニング処理が施されたアルミニウム基材上に、下引層、電荷発生層及び電荷輸送層が形成された感光体を「感光体２」とした。

（上記式（ＩＩＩ−１７）で示される電荷輸送材料の合成）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ヒト゛ロキシフェニル）−（１，１’−ビスフェノール）−４，４’−ジアミンを１０部、トルエンを５０部、水酸化ナトリウム粉末を２．０部、及びトリエチルアミンを１部混合し、１時間撹拌した。これに、３−クロロメチル−３−エチルオキセタン２０部を１時間かけて添加し、室温で８時間撹拌した後、５０℃で１時間加熱し反応を行った。得られた反応物を水洗いした後、シリカゲルクロマトグラフィーにより分離精製し、上記式（ＩＩＩ−１７）で示される電荷輸送材料を５．６ｇ得た。この電荷輸送材料のＩＲスペクトルを図１０に示す。

（実施例１）
下記式（ＶＩＩ−１）で示されるオキセタン化合物（東亜合成社製、商品名「ＯＸＴ−２２１」）を７部、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルフォニウムアンチモネートを０．２部、上記式（ＩＩ−２３）で示される電荷輸送材料を５部、及びイソプロピルアルコールを１５部混合し、保護層形成用塗布液を得た。

この塗布液を、感光体１の電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、窒素雰囲気下、８０℃で１５分間乾燥させ、膜厚３μｍの塗工膜を形成した。次いで、この塗工膜に、窒素雰囲気下で、照射強度２５ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を４０秒間照射し、続いて１３０℃で１時間加熱して硬化させることにより保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−１とした。

（実施例２）
下記式（ＶＩ−１）で示される３−エチル−３−オキセタンメタノールを２部、レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）を６部、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルフォニウムアンチモネートを０．２部、メチルフェニルポリシロキサンを０．０３部、上記式（Ｉ−２）で示される電荷輸送材料を５部、及びイソプロピルアルコールを１５部混合し、保護層形成用塗布液を得た。

この塗布液を、感光体１の電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、窒素雰囲気下、８０℃で１５分間乾燥させ、膜厚３μｍの塗工膜を形成した。次いで、この塗工膜に、窒素雰囲気下で、照射強度２５ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を４０秒間照射し、続いて１３０℃で１時間加熱して硬化させることにより保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−２とした。

（実施例３）
下記式（ＶＩ−５）のオキセタン化合物（東亜合成社製、商品名「ＯＸＴ−２１１」）を５部、下記式（ＸＩＩＩ−４）で示されるエポキシ化合物を２部、上記式（ＩＩ−５８）で示される電荷輸送材料を５部、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルフォニウムアンチモネートを０．２部、及びイソプロピルアルコールを１５部混合し、保護層形成用塗布液を得た。

この塗布液を、感光体１の電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、窒素雰囲気下、８０℃で１５分間乾燥させ、膜厚３μｍの塗工膜を形成した。次いで、この塗工膜に、窒素雰囲気下で、照射強度２５ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を４０秒間照射し、続いて１３０℃で１時間加熱して硬化させることにより保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−３とした。

（実施例４）
下記式（ＶＩ−１２）で示されるオキセタン化合物（東亜合成社製、商品名「ＯＸＴ−６１０」）を５部、上記式（ＩＩＩ−１７）で示される電荷輸送材料を５部、イソプロピルアルコールを１５部、テトラヒドロフランを９部、及び蒸留水を０．９部混合し溶解させた。この溶液にイオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．５部を加え、室温で攪拌することにより１時間加水分解を行った。

加水分解後の反応混合物からイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）３）０．１部、アセチルアセトナート０．１部、下記式（ＸＩＩＩ−５）で示されるエポキシ化合物、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルフォニウムアンチモネートを０．２部混合し、保護層形成用塗布液を得た。

この塗布液を、感光体１の電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、窒素雰囲気下、８０℃で１５分間乾燥させ、膜厚３μｍの塗工膜を形成した。次いで、この塗工膜に、窒素雰囲気下で、照射強度２５ｍＷ／ｃｍ^２の紫外線を４０秒間照射し、続いて１３０℃で１時間加熱して硬化させることにより保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−４とした。

（実施例５）
感光体１の代わりに感光体２を用いたこと以外は実施例１と同様にして、保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−５とした。

（実施例６）
感光体１の代わりに感光体２を用いたこと以外は実施例２と同様にして、保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−６とした。

（実施例７）
感光体１の代わりに感光体２を用いたこと以外は実施例３と同様にして、保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−７とした。

（実施例８）
感光体１の代わりに感光体２を用いたこと以外は実施例４と同様にして、保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−８とした。

（実施例９）
実施例１の保護層形成用塗布液において、上記式（ＶＩＩ−１）で示されるオキセタン化合物の配合量を５部とし、さらにビスグリシジルビスフェノールＡを２部加えたこと以外は実施例１と同様にして、保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−９とした。

（比較例１）
レゾール型フェノール樹脂（ＰＬ−４８５２、群栄化学社製）を８部、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルフォニウムアンチモネートを０．２部、メチルフェニルポリシロキサンを０．０３部、上記式（Ｉ−２）で示される電荷輸送材料を５部、及びイソプロピルアルコールを１５部混合し、保護層形成用塗布液を得た。

この塗布液を、感光体１の電荷輸送層上に浸漬コーティング法で塗布し、窒素雰囲気下、１４０℃で４０分間乾燥させ、膜厚３μｍの保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−１０とした。

（比較例２）
実施例３の保護層形成用塗布液において、上記式（ＶＩ−５）で示されるオキセタン化合物の代わりに、下記式（ＸＩＩＩ−６）で示されるエポキシ化合物を配合したこと以外は実施例３と同様にして、保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−１１とした。

（比較例３）
実施例３の保護層形成用塗布液において、上記式（ＶＩ−５）で示されるオキセタン化合物の代わりに、上記式（ＸＩＩＩ−４）で示されるエポキシ化合物を配合したこと以外は実施例３と同様にして、保護層を形成した。得られた感光体をＰＲ−１２とした。

＜画像形成試験＞
感光体（ＰＲ−１）〜（ＰＲ−１２）を画像形成装置（富士ゼロックス社製、ＤｏｃｕＣｅｎｔｅｒＣｏｌｏｒ４００ＣＰ）を用いて、画像形成テストを行った。すなわち、先ず、低温低湿（１０℃、２０％ＲＨ）の環境下にて１万枚の画像形成テストを行い、次に、高温高湿（２８℃、７５％ＲＨ）の環境下で１万枚の画像形成テストを行った。その後、感光体上への付着物、クリーニング性、磨耗率、さらには画質に関して評価した。得られた結果を表４８に示す。

なお、付着物に関しては、目視にて、Ａ：付着無し、Ｂ：部分的（全体の３０％程度以下）に付着あり、Ｃ：付着あり、の基準で判定して評価した。また、クリーニング性に関しては、目視にて、Ａ：良好、Ｂ：部分的（全体の１０％程度以下）にスジ等の画質欠陥あり、Ｃ：広範に画質欠陥あり、の基準で判定して評価した。また、磨耗率に関しては、感光体の磨耗量を測定し、１０００回転当りの磨耗率として計算した。また、画質に関しては、合計２万プリント後のプリント画質を目視にて、Ａ：良好、Ｃ１：著しく低画像濃度、Ｃ２：スジ状の欠陥、の基準で判定して評価した。

表４８に示す結果から、実施例の感光体は、電気特性に優れ、また長期使用時にも表面付着が残らないことが確認され、実施例の感光体を用いた画像形成装置は高画質及び長寿命を実現できることが確認された。

本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。本発明の電子写真感光体の好適な他の実施形態を示す模式断面図である。本発明の画像形成装置の好適な一実施形態を示す模式図である。本発明の画像形成装置の好適な他の実施形態を示す模式図である。本発明の画像形成装置の好適な他の実施形態を示す模式図である。本発明の画像形成装置の好適な他の実施形態を示す模式図である。実施例で用いた一般式（ＩＩＩ−１７）で示される電荷輸送材料のＩＲスペクトルである。

符号の説明

１…電子写真感光体、２…導電性支持体、３…感光層、４…下引層、５…電荷発生層、６…電荷輸送層、７…保護層、８…単層型感光層、２０…プロセスカートリッジ、１００，１１０，１２０，１３０…画像形成装置。

Claims

導電性基体と、該導電性基体上に設けられた感光層とを備え、
前記感光層が前記導電性基体から最も遠い側に、架橋構造を有する樹脂を含有する最表面層を有し、且つ、
前記樹脂が、オキセタン化合物を樹脂成分として含むオキセタン樹脂であることを特徴とする電子写真感光体。
前記最表面層が、水酸基、カルボキシル基、アルコキシシリル基、エポキシ基、オキセタン基、チオール基及びアミノ基から選択される少なくとも１種の官能基を有する電荷輸送材料をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
前記電荷輸送材料が、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）で示される化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体。
Ｆ−［（Ｘ^１）_ｍ１−（Ｒ^１）_ｍ２−Ｙ］_ｍ３（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ^１は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ^１はアルキレン基を、Ｙは水酸基、カルボキシル基、チオール基又はアミノ基を示し、ｍ１及びｍ２はそれぞれ独立に０又は１を、ｍ３は１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［（Ｘ^２）_ｎ１−（Ｒ^２）_ｎ２−（Ｚ）_ｎ３Ｇ］_ｎ４（ＩＩ）
［式（ＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｘ^２は酸素原子又は硫黄原子を、Ｒ^２はアルキレン基を、Ｚは酸素原子、硫黄原子、ＮＨ又はＣＯＯを、Ｇはエポキシ基又はオキセタン基を、ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ独立に０又は１を、ｎ４は１〜４の整数を示す。］
Ｆ−［Ｄ−Ｓｉ（Ｒ^３）_{（３−ａ）}Ｑ_ａ］_ｂ（ＩＩＩ）
［式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｄは可とう性を有する２価の基を、Ｒ^３は水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基又は置換若しくは未置換のアリール基を、Ｑは加水分解性基を、ａは１〜３の整数を、ｂは１〜４の整数を示す。］
前記オキセタン樹脂が、エポキシ化合物を樹脂成分としてさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
前記オキセタン樹脂が、メチロール基を有するフェノール誘導体を樹脂成分としてさらに含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置と、
帯電した前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、
前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写体に転写する転写装置と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電させる帯電装置、露光により形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、前記電子写真感光体上に残存するトナーを除去するクリーニング装置から選ばれる少なくとも１種と、
を備えることを特徴とするプロセスカートリッジ。