JP2006184563A - 光偏向装置、光走査装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数段の回転多面鏡からなる光ビーム偏向装置であって、各段の偏向反射面と回転多面鏡の回転軸とのなす角が異なることを特徴とする光偏向装置を主たる構成にする。
【選択図】 図2
Description
しかし、従来のように、各被走査面に夫々対応して設けられた複数の光源毎に光学系を形成していては、走査結像光学系の部品点数の増加を招くことになる。その場合、個々の部品の取り付け誤差が積み上がり、各ステーションでも倍率誤差や走査線傾きを招くこととなる。また、タンデム方式では各ステーション間での位置関係のずれにより、色ずれや走査線ピッチずれが生じる。
また、複数の光源を共通の光学系により偏向走査しようとすると、偏向器や走査光学系の副走査方向の厚さが大きくなり、装置の大型化や製造コストの上昇、また、偏向器の電力消費の増大を招く。また、複数のビーム光束を各ステーションに分離する手段を設けなければならないという問題も生じる。
共通の偏向器で副走査方向に角度の異なる偏向反射面を有する2段以上の複数段からなるポリゴンミラーを設ければ、複数の光束が副走査方向に隣接していても、各ビーム光束に対応した各々のポリゴンミラーの段から分離することができる。これにより、複数のビーム光束を各々の走査結像光学系に分離しつつ、被走査面に走査することができる。また、分離手段が不要となるので、副走査方向のビーム光束の間隔を従来よりも狭ピッチにすることができ、偏向器を薄くでき軽量化による消費電力の低減さらなる高速化が可能となる。また、光学素子の薄肉化により製造コストを下げることができ、部品点数も削減することができる。
2段以上の回転多面鏡からなる偏向器を用いることによって、副走査方向の光源の間隔を狭ピッチにすることも可能になり、また、複数の光源を交差させたり、偏向反射面への入射角等のビーム光束の光路のレイアウト構成に自由度を持たせることによって、装置の小型化や高速化を図ることができる。
また、ビーム光束の光強度や分布の変動による被走査面上での光スポット位置ずれおよびビームスポット形状の変化が生じたときに、偏向器の各段の回転軸あるいは回転軸方向に対する偏向反射面のなす角度を、1段の反射面内部で、適宜変えた偏向器を用いることによって補正することができる。
斯かる走査結像光学系および光走査装置については種々の改善方法が提案されており(例えば、特許文献1参照)、又、2光束ピラミダル偏向素子についても提案がなされている(例えば、特許文献2参照)。
しかし、現状では、マルチビーム化に対応しつつ更なる大型化を防止することは容易でなく、またビームスポット位置ずれやビーム径の変動の少ない光走査光学系の実現が更に求められている。また、ジッターや位置ずれがより少ない画像を得ることや、各光学素子を更に小型化薄肉化し、偏向装置の消費電力を更に軽減し、各光学素子の更なる小型化や部品点数の減少によりコスト削減を図ることが求められている。
請求項2の発明は、請求項1記載の光偏向装置において、少なくとも1つの段の偏向反射面が、前記回転軸と平行であることを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1記載の光偏向装置において、前記各段の偏向反射面が前記回転軸との間で形成する角度は、各偏向反射面間に位置し且つ前記回転軸と直交する平面に対して対称となることを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項1、2、又は3に記載された回転多面鏡を、複数個積層したことを特徴とする。対称となる偏向反射面の組合せが1以上あり、複数の組合せも可能であることを意味する。
請求項5の発明は、複数の光源からの各光ビームを、請求項1乃至4の何れか一項に記載の光偏向装置の回転多面鏡によって偏向し、該各偏向された光ビームを、走査結像光学系により各段の偏向反射面にそれぞれに対応した複数の被走査面に走査させるようにしたことを特徴とする。
請求項6の発明は、請求項5記載の光走査装置において、前記光偏向器の各偏向反射面に対して、各光源からの光ビームを、被走査面の副走査方向に平行に入射させることを特徴とする。
請求項7の発明は、請求項5又は6記載の光走査装置において、上記偏向反射面の各々により偏向された各光ビームの入射角の差が2度以下であることを特徴とする。
請求項9の発明は、請求項5乃至8のいずれか一項に記載の光走査装置において、上記偏向反射面に対し、少なくとも主走査方向において偏向反射面よりも大きい光束幅の光ビームを入射させることを特徴とする。
請求項10の発明は、請求項5乃至8のいずれか一項に記載の光走査装置において、前記光源を共通の支持部材によって支持するとともに、各光源からの光ビームを上記各偏向面に振り分けることを特徴とする。
請求項11の発明は、請求項10記載の光走査装置において、前記光源が複数の発光源を有するLDアレイであるとともに、各発光源からの光ビームを上記各偏向面に振り分けることを特徴とする。
請求項12の発明は、請求項5記載の光走査装置において、前記各偏向面で偏向された各光ビームを受ける前記走査結像光学系を構成する光学素子のうち、少なくとも前記光偏向装置に最も近い光学素子を複数の光ビームにより共用することを特徴とする。
請求項13の発明は、請求項12記載の光走査装置において、前記光学素子は、主走査方向にのみパワーを有することを特徴とする。
請求項14の発明は、請求項5乃至13のいずれか一項に記載の光走査装置を備え、複数の像担持体(感光体ドラム、感光体ベルト、転写ベルト等)を同時に走査するようにしたことを特徴とする。
図1は本発明の一実施形態に係る光偏向装置の斜視図、図2はその正面図である。
この光偏向装置は、2段以上の偏向反射面1a、1bを有する回転多面鏡1を備え、回転軸Aに対して各々の偏向反射面1a、1bが異なる角度を有する偏向装置としては、例えば、図1に示すように、上段の偏向反射面1aと下段の偏向反射面1bとが副走査方向に回転軸Aに対して異なる傾きを有するとき、入射したビーム光束Lは、反射面の傾きに応じて、点線の方向から実線の方向に反射偏向され、反射方向を変えることができる。なお、回転軸Aは、各偏向反射面1a、1bに共通する回転軸である。
回転軸Aに対して副走査方向(回転軸Aと平行な方向)に異なる傾きを有した複数段の偏向反射面をもった回転多面鏡1を備えた偏向装置によって、光スポットが被走査面に走査されかつ副走査方向に別々に同時照射することが可能となる。
このようにすることにより、複数のビーム光束による副走査方向間隔の狭ピッチ化にも対応することができ、回転軸との角度の違いにより各被走査面に別々に同時照射することが容易になる。
図2は本発明の一実施形態に係る回転多面鏡の正面図であり、同図に示すように、2段の偏向反射面1a、1bのうちの一方の偏向反射面1aを回転軸Aに対して所定の傾斜角βを有した反射面とする一方で、他方の偏向反射面1bを回転軸Aと平行な反射面を持つように構成することにより、反射光や反射面を利用した位置決め方法によって取り付けを行う工程での位置合わせを容易にすることができる。また、装置稼働時においても回転多面鏡の回転による軸ずれ、面倒れの影響を評価する基準とすることができ、偏向器の回転状態を逐次計測することができ、光学素子の位置制御やLD発光制御等によって、取り付け工程、稼動状態を補正することができる。
また、各段の偏向反射面1a、1b’を、回転軸Aに対して対称な反射面を複数並べた構成とすることによって、同一被走査面に複数のビーム光束によって書込を行うようなマルチビーム光学系において、偏向装置から各々の被走査面に一定の間隔で光ビームを偏向することできる。
回転多面鏡1’の構成を、回転軸Aに対する角度の異なる2段以上の偏向反射面1a、1b’を有した構成とすることにより、副走査方向に狭ピッチな複数の光源を、各々の被走査面への走査結像光学系に偏向分離することができる。
図3(b)は図3(a)の回転多面鏡1’を共通の回転軸Aを有するように複数個積層一体化した構成を備えている。この例では、回転多面鏡1’を2段重ねした例を示したが、3段重ね以上としても良いし、最上部、又は最下部の偏向反射面1aを省略して、偏向反射面を3段構造としてもよい。
図4は図2の回転多面鏡の特性を示す図であり、上段の偏向反射面1aにて反射した光束は、上下の偏向反射面1a、1bの反射面の角度差β(上段の偏向反射面1aの回転軸Aに対する傾きβ)の2倍角分の反射角度2βで照射方向変換がなされることになり、反射面の角度が異なる偏向反射面1a、1bを一体型の偏向器とすることで偏向器も装置全体も小型化することができる。
複数の光ビームの各偏向反射面への入射角度を一定範囲内にすることによって、反射による光束断面の拡大化を抑制し、各々の被走査面上毎の被走査面上でのビームスポット強度分布を一定に保つことができ、色ずれ等を軽減することができる。
また、このチルト調整手段41は、偏向反射面1a、1bでの反射の違いによる各光ビームのビーム強度分布の違いを、走査光学系のミラー等のチルト角を調整することにより補正する。
この光走査装置によれば、反射面の角度が異なる各段の偏向反射面1a、1bを用いることにより、副走査方向に角度を持たせて偏向反射面の各反射面に光ビームを入射させることによって、回転多面鏡の回転軸Aに対して、光源と走査結像光学系を同一側に立体的に配置することができ、装置の小型化を図ることができる。つまり、反射面の角度が夫々異なる複数段の回転多面鏡は、入射光ビーム間で2βの角度を持つので、光源側のコリメートレンズ等の配置に余裕をもつことができ、光束間での反射角の違いはチルト調整手段によって補正することができる。尚、図5において、符号10は光源、15はカップリングレンズ、20はアパーチャ、25はシリンドリカルレンズである。
図6に示す走査装置は、個々の反射面よりも大きい光束を入射させるオーバーフィールド系の走査方式である。この光走査装置の回転多面鏡1では、偏向反射面1aを構成する反射面1a’の数を増やすことにより、回転数を変えずに多くの偏向を行うことができ、高速化を実現できる。また、図6(a)のように反射面1a’に照射される光ビームBのうちの中心部分Mのみが反射面1a’によって反射されるので、光強度分布の比較的安定的な範囲のみを偏向走査させることが可能となる。しかし、いわゆるオーバーフィールド光学系では、偏向反射面の回転に伴って、図6(b)に示すように反射後の光ビーム光束の光強度分布がB1’、B2’のように大きく変化するためこれらに対する光学素子の位置制御や光源のパルス制御等の補正方法が必要である。
図7(b)に示すような複数の光源10を用いた構成よりもLDアレイ11を用いることにより、光源をアレイ上に実装することにより光源間の間隔が一意的に決定し、副走査方向に狭ピッチな構成が可能となるので、偏向装置を薄肉化することができ、各被走査面へ各光ビームを分離することが可能となる。
また、共用の光学素子を複数の光ビームが通過するときに各々の光ビームの通過する領域が、前記光学素子の副走査方向に幅を持って並ぶことになるので、副走査方向にパワーを持たないことにより、各光ビーム間における光路や透過率やビームスポットの光強度分布の変化を抑えることができる。
2段以上の偏向反射面を有する光偏向装置を用いることによって、偏向を行いつつ、反射後の光ビームを分離することが可能となり、光ビームを分離する光学素子等が不要となり、部品点数の削減を行うことができる。また、複数の偏向反射面は、同一の共通回転軸Aを有しているので回転軸の影響がほぼ同じ傾向で発生し、各被走査面への分離光学系ごとの取り付け誤差等からも影響を受けなくなる。また、偏向反射面への入射条件を可変することによって、光ビームの強度分布変動を抑えることが可能となる。近接した光源の配置となっても、交差させることにより、偏向反射後、光束間の距離を大きく分離することができる。
図8(a)、(b)に示した光走査装置は、例えば複写機、プリンタ、ファクシミリ装置などの電子写真式画像形成装置の書込光学系として使用される。複数の光源1〜4からの発散角を持つ光束をカップリングレンズ15によって平行光束とし、弱発散性あるいは弱い集光性をもつ光束となる。カップリングされた光束は、次に図示しないアパーチャを通過することによって光束周辺部分の遮光により除去されてビーム整形される。ビーム整形された光束は副走査方向にのみ正のパワーを持つ図示しないシリンドリカルレンズを透過し、同レンズの作用によって副走査方向に集光し、光ビーム光束として、回転多面鏡1の回転軸Aに対して傾きの異なる各偏向反射面1a、1bにそれぞれ入射し、各偏向反射面1a、1bの近傍に主走査対応方向に長い線像として結像する。偏向反射面1a、1bにより反射されたそれぞれの光束は各々の走査結像光学系45に向けて入射し、走査結像系45の作用によってそれぞれの感光体50の被走査面上に光スポットとして集光する。
各感光体50の周囲に配置される帯電チャージャーと画像書込ユニットからのレーザ光の照射部とブラック(K)、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)からなるカラー現像部およびドラムクリーニング部を用いて、各光源11〜4によって各感光体50上に静電潜像を形成し、形成された静電潜像をカラー現像部によって現像してトナー像を形成する。中間転写ベルトとテンションローラおよびクリーニング部を有し、各感光体1〜4に形成されたトナー像を中間転写ベルトに重ね転写をおこなう。転写されたトナー像を定着部によって定着をおこなう。
各偏向反射面にて反射した光束はそれぞれ偏向器の等速回転により偏向され、図4に示すように角偏向反射面1a、1bの回転軸Aに対する副走査方向の傾きβの2倍の角度2βで分岐される。副走査方向の傾きによる光ビームの主走査方向両端での副走査位置ずれについては、走査結像光学系を構成する光学素子により補正することができる。また、副走査方向にも傾斜を有する偏向反射面に対応する光ビームに対しては光源である光学素子の半導体レーザに印加する制御データを調整することによって、補正することも可能である。
分離光学系を形成する必要がなく、また、副走査方向に狭ピッチな光源で構成されるようなマルチビーム光学系においても、本発明を適用することにより偏向装置を薄肉化することができ消費電力を低減できる。
図8(a)は主走査断面を示し、便宜上、折返しミラーは全て省略し、これらにより走査ビームの光路が変更されない状態に展開して示す。図8(b)は副走査断面を示し、回転多面鏡1から感光体被走査面501〜504までの光路を折返しミラーを含めて示す。図8(a)に示すが如く、各色に対応する光源装置(副走査方向に沿って平行に配列)から射出された光ビームの光束は、カップリング光学系によりそれぞれ平行光束(弱い収束もしくは発散光束でも良い)にそれぞれカップリングされる。この時、カップリング光学系によりカップリングされた各光ビームのビーム形態は同じビーム形態である。このビーム形態は平行ビームとなることも、収束性もしくは発散性のビームとなることもできる。それぞれの光ビームの光束は、被走査面上で所望のビームスポット径を得るための開口絞りを通過後、第1光学系を通過し、偏向反射面近傍で主走査方向に長い線像を形成する。
本発明においては、光源装置を副走査方向に平行配置しているが、光走査装置のレイアウト上、折返しミラーなどで折返し、複数の光源装置を主走査方向に距離を持って配置してもよい。
また、回転多面鏡1の回転軸Aに直交する平面に対し所定の角度を有する光ビームに対しては、所望の角度に光源装置、カップリング光学系、第1光学系を傾けて配置しても良いし、前記折返しミラーを用いて角度をつけても良い。
最も回転多面鏡に近い走査レンズ41は、異なる被走査面に向かう複数の光ビームが通過する構成となっているため、異なる被走査面間での色ずれや色味による画像劣化を抑制可能である。
さらに、偏向手段としての回転多面鏡は、ポリゴンモーター部、回路基板からの発熱が大きい。回路基板に関しては、光学箱外に配置するなどして、光学箱内の温度変動を低減することができるが、ポリゴンモーター部の発熱による温度上昇は発生する。この温度変動による熱が、そのままでは光学箱内を伝搬し走査レンズ、特に、回転多面鏡に最も近い走査レンズに温度分布を生じさせる。この温度分布は、特に回転多面鏡による光学箱内の気流、走査レンズの形状等により、走査レンズ内で一様な温度変化が生じないために発生する。この結果、異なる走査光学素子を各被走査面に向うビームが通過する対向走査方式のタンデム方式カラー機などにおいては、連続プリント時に各被走査面での相対的な主走査方向のビームスポット位置が変動し、色味が変化してしまう。
しかしながら、本発明の光走査装置においては、回転多面鏡に最も近い走査レンズL1は異なる被走査面に向かう複数の光束を通過させているため、走査レンズL1が主走査方向に温度分布を持った場合においても、主走査方向のビームスポット位置ずれは、異なる被走査面でほぼ同一となり、連続プリント時の色味の変化、色ずれの発生を抑制することができる。
また、本発明の回転多面鏡では、光軸中心に対称な偏向反射面を形成することにより、各々の偏向反射面と各光ビームとの反射角をほぼ等しいものとし、光ビームの形状や被走査面上のビームスポット位置や強度分布を安定させ、色ずれや走査線曲がり、縦線ゆらぎをなくすこととする。
さらに、安定した光ビームの被走査面上でのスポット位置や強度分布により、色ずれや、走査線ピッチずれなどの画像悪化を回避し、良質な出力画像を得ることができる。
また、光軸中心に対して略平行に入射させることによって、光強度を最大限に反射させることができ、被走査面上での十分な光量分布を得ることができる。光源のアレイは2次元配列の場合、平行入射とした方が光量を有効に活用でき、設計や取り付け工数の面でも、略平行入射の方が扱いやすい。光学素子に取り付け誤差や位置ずれが生じても、角度による影響が鈍角の方が鋭角のときよりも影響を受けにくい。また、光学素子を薄肉化することができ、偏向器の軽量化により消費電力を削減できる。
各偏向反射面に対する光ビーム間の入射角差を2度とすれば、ビーム形状の変動を円形の場合にはほぼ0.1%以下に抑えることができるので、反射に伴う光ビーム光量の減少やビーム形状の変動を補正せずとも、安定な被走査面への光走査を行うことができる。
偏向器によって同時に副走査方向への分離も行ったことによる光ビームの被走査面上での位置ずれを光学素子のチルト角を制御することによって補正できる。光源や走査結像光学系や反射ミラー等の位置制御を行い、被走査面でのビームスポット位置ずれを補正することができる。
光源をLDアレイ化することによって、多数の光源を狭ピッチな間隔で実装できるとともに駆動回路を共通化でき、光源1つ当たりの単価を削減することができる。安価にマルチビーム光学系を構成でき、従来困難だった狭ピッチな光ビームの各被走査面上への分岐光学系の役割を、各偏向反射面の回転軸方向に対する異なる傾きで行っているので、分岐光学系が不要となりさらに安価にかつ小型化を図ることができる。
被走査結像光学系のうち、少なくとも、回転多面鏡に最も近い光学素子を共用することにより、光源毎に個別に走査結像系を設ける場合に比べて、取り付け位置誤差の相対的な削減や、装置内の温度差による各被走査面に対応する光学素子間での温度変動や湿度の違いによって、光学素子間に歪みや屈折率分布や位置ずれの傾向が異なる場合に、色ずれや縦線ゆらぎ、走査線ピッチずれを生じる。光学素子を最も影響を受けると思われる走査結像光学系の偏向器に近い光学素子を共用することによって、各光ビームは同一の光学素子を通過し、影響を同等のものとすることができる。
Claims (14)
- 複数段の偏向反射面を備え且つ各偏向反射面に共通の回転軸にて回転する回転多面鏡を備えた光偏向装置であって、各段の偏向反射面と前記回転軸とのなす角度が異なることを特徴とする光偏向装置。
- 請求項1記載の光偏向装置において、少なくとも1つの段の偏向反射面が、前記回転軸と平行であることを特徴とする光偏向装置。
- 請求項1記載の光偏向装置において、前記各段の偏向反射面が前記回転軸との間で形成する角度は、各偏向反射面間に位置し且つ前記回転軸と直交する平面に対して対称となることを特徴とする光偏向装置。
- 請求項1、2、又は3に記載された回転多面鏡を、複数個積層したことを特徴とする光偏向装置。
- 複数の光源からの各光ビームを、請求項1乃至4の何れか一項に記載の光偏向装置の回転多面鏡によって偏向し、該各偏向された光ビームを、走査結像光学系により各段の偏向反射面にそれぞれに対応した複数の被走査面に走査させるようにしたことを特徴とする光走査装置。
- 請求項5記載の光走査装置において、前記光偏向器の各偏向反射面に対して、各光源からの光ビームを、被走査面の副走査方向に平行に入射させることを特徴とする光走査装置。
- 請求項5、又は6記載の光走査装置において、上記偏向反射面の各々により偏向された各光ビームの入射角の差が2度以下であることを特徴とする光走査装置。
- 請求項5、6、又は7記載の光走査装置において、前記走査結像光学系を構成する少なくとも1つの光学素子について、副走査断面内でのチルト量を調整するチルト調整手段を設けたことを特徴とする光走査装置。
- 請求項5乃至8のいずれか一項に記載の光走査装置において、上記偏向反射面に対し、少なくとも主走査方向において偏向反射面よりも大きい光束幅の光ビームを入射させることを特徴とする光走査装置。
- 請求項5乃至8のいずれか一項に記載の光走査装置において、前記光源を共通の支持部材によって支持するとともに、各光源からの光ビームを上記各偏向面に振り分けることを特徴とする光走査装置。
- 請求項10記載の光走査装置において、前記光源が複数の発光源を有するLDアレイであるとともに、各発光源からの光ビームを上記各偏向面に振り分けることを特徴とする光走査装置。
- 請求項5記載の光走査装置において、前記各偏向面で偏向された各光ビームを受ける前記走査結像光学系を構成する光学素子のうち、少なくとも前記光偏向装置に最も近い光学素子を複数の光ビームにより共用することを特徴とする光走査装置。
- 請求項12記載の光走査装置において、前記光学素子は、主走査方向にのみパワーを有することを特徴とする光走査装置。
- 請求項5乃至13のいずれか一項に記載の光走査装置を備え、複数の像担持体を同時に走査するようにしたことを特徴とする画像形成装置。
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