JP2006179932A - 複数のレーザ活性媒質を有するレーザ増幅器およびレーザ共振器 - Google Patents

複数のレーザ活性媒質を有するレーザ増幅器およびレーザ共振器 Download PDF

Info

Publication number
JP2006179932A
JP2006179932A JP2005369817A JP2005369817A JP2006179932A JP 2006179932 A JP2006179932 A JP 2006179932A JP 2005369817 A JP2005369817 A JP 2005369817A JP 2005369817 A JP2005369817 A JP 2005369817A JP 2006179932 A JP2006179932 A JP 2006179932A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
resonator
optical element
amplifier
focusing optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005369817A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5124092B2 (ja
Inventor
Christian Schmitz
シュミッツ クリスティアン
Andreas Voss
フォス アンドレアス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Trumpf Laser GmbH
Original Assignee
Trumpf Laser GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Trumpf Laser GmbH filed Critical Trumpf Laser GmbH
Publication of JP2006179932A publication Critical patent/JP2006179932A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5124092B2 publication Critical patent/JP5124092B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/07Construction or shape of active medium consisting of a plurality of parts, e.g. segments
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/005Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/04Arrangements for thermal management
    • H01S3/042Arrangements for thermal management for solid state lasers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/06Construction or shape of active medium
    • H01S3/0602Crystal lasers or glass lasers
    • H01S3/0604Crystal lasers or glass lasers in the form of a plate or disc
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08018Mode suppression
    • H01S3/0804Transverse or lateral modes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08072Thermal lensing or thermally induced birefringence; Compensation thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/081Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
    • H01S3/0813Configuration of resonator
    • H01S3/0816Configuration of resonator having 4 reflectors, e.g. Z-shaped resonators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/094084Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light with pump light recycling, i.e. with reinjection of the unused pump light, e.g. by reflectors or circulators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • H01S3/09415Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • H01S3/1618Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth ytterbium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/163Solid materials characterised by a crystal matrix
    • H01S3/164Solid materials characterised by a crystal matrix garnet
    • H01S3/1643YAG

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

【課題】レーザ活性媒質がハードな開口をレーザビーム領域に対して形成しない、冒頭に記載した形式のレーザ共振器または増幅器を、共振器ないしは増幅器の効率、ひいては結果として生じるビーム品質へ与えられる静的な波面変形の影響、殊に熱的に誘起される回折損失の影響が、レーザビーム領域内にハードなしぼりを設けることなく、最小化されるように改善すること。
【解決手段】レーザビーム領域内に少なくとも1つの焦点合わせ光学素子が、隣り合う2つのレーザ活性媒質の間に配置されており、焦点合わせ光学素子の焦点距離および、隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面ないし主平面からの距離はそれぞれ、レーザ活性媒質の表面ないし主平面が近似的に光学的に相互に共役であるように選択されている、固体レーザ増幅器または固体レーザ共振器。
【選択図】図1

Description

本発明は、共通のレーザビーム領域内に少なくとも2つのレーザ活性媒質を有する固体レーザ増幅器ないし固体レーザ共振器に関する。ここでレーザ活性媒質は、レーザビーム領域に対してハードな開口(harte Apertur)を構成しない。
DE19835108A1号には、冒頭に記載した形式のレーザ共振器が記載されている。ここでは複数のディスクレーザ結晶が1つの共通の共振器内に配置されている。レーザビーム領域はこれらのレーザ結晶を通る。この共振器は、レーザビーム領域を構成するために、2つの終端ミラーと、ディスクレーザ結晶間に付加的に配置された偏向ミラー(平面鏡)を有している。
高出力固体レーザ用の共振器の設計時には、変化する動作パラメータのもとで、目標、すなわち共振器の高い安定性と一定の放射特性が達成されるべきである。従来の高出力ロッドレーザに対して、高出力ディスクレーザでは、その上に固定されたレーザ活性媒質を安定させるために充分に剛性の高いヒートシンクまたは透明な防御体を使用する場合に、レーザ活性媒質を共振器ビームが通過する時の、共振器ビーム領域の熱的に誘起された球面波面変形(熱レンズ)は、共振器の安定性に対する支配的な要因ではない。従って高出力ディスクレーザは次のように設計されるべきである。すなわち、共振器が全体的なポンピング出力領域において、安定性ダイヤグラム(g−ダイヤグラム)によって記載されているような、動的な安定領域の臨界的な点ないしは境界から離れているように設計されるべきである。これは、レーザ活性媒質(ディスクレーザ結晶)が共振器内に複数個ある場合にもあてはまる。
ディスクレーザ共振器ないしはディスクレーザ増幅器の場合、2つの異なる作用が、レーザビーム領域の特性へ格段に大きい影響を有する。すなわち、一方ではレーザ活性媒質をレーザビーム領域が通過する時に生じる静的な波面変形であり、他方では熱的に誘起された屈折損失である。
レーザビーム領域の静的波面変形は、レーザ活性媒質がその理想形から偏差することによって生じる。これは殊に製造許容誤差が原因で生じる。静的波面変形は、球面成分および不均衡(非球面)成分から成る。球面成分は、所望の半径からレーザ活性媒質が偏差することから結果として生じる。球面成分は、レーザ活性媒質の目標屈折度と実際屈折度との差から生じ、これは(静的な)屈折度エラー(Brechkraftfehler)とも称される。静的な屈折度エラーは、−高出力ディスクレーザの場合にも存在する−、動的な熱レンズに加わり、むしろこれを上回る。ディスクレーザ共振器ないし増幅器内の複数の結晶の屈折度エラーは、共振器または増幅器の設計時に考慮されなければならない。典型的な設計では、−屈折度が同じであると仮定して−、異なる結晶上にレーザビーム領域の同じ直径が設定される。しかし結晶の異なる屈折度によって、多かれ少なかれ、結晶上の異なるビーム直径が生じてしまう。これによって以下に記載する問題が生じる:拡大されたビーム直径を伴う結晶上で、レーザビーム領域の外部領域が増幅されるのではなく、部分的に吸収されてしまう。これに対して、縮小されたビーム直径を有する結晶では、ポンピングスポットの外部領域内で使用可能なパワーがもはや呼び出されない。後者は不利な場合には、局部的な結晶の過度加熱および結晶の破壊につながってしまう。それぞれの場合において、効率の低下が生じる。
熱的に誘起された、ディスクレーザ共振器ないし増幅器内の回折損失は、レーザビーム領域の不均衡な波面変形によって、熱的に負荷されたレーザ活性媒質の通過時に呼び起こされる。ディスクレーザの場合には、波面変形がポンピングスポットの縁部領域内で支配的である。すなわち、高温の、ポンピング結晶領域から、低温の非ポンピング外部領域への移行部において波面変形が支配的である。付加的に、変動する、熱的に異なって負荷された領域が原因で生じるポンピング光分布における不均一性並びにレーザビーム領域のひずみがレーザ活性媒質内で作用する。波面のひずみによって、共振器内で共振器モード間のエネルギーが再分配される。これによって、共振器内で十分には増幅されないモード(リークモード)におけるエネルギー伝送も生じる。ディスクレーザは、自身の増幅が僅かであるので、この種の損失に特に敏感に反応する。損失は、共振器の設計およびここでは殊にレーザ出力ビームの必要とされるビーム品質に依存する。ディスクレーザ増幅器内では熱的に誘起された回折力が、増幅段間のフィルタリングが不十分な場合に、放射経過特性において連続的に増大するビーム品質の悪化を生じさせる。その後、ビーム品質がハードな絞り(harte Blenden)によって再び形成される場合には、これは場合によっては甚大な出力損失ないし効率損失を意味する。
ディスクレーザ共振器ないしディスクレーザ増幅器のビーム品質に対する要求が高くなればなるほど、回折作用はより強く効率に作用する。同じように、感度は動的および静的な屈折度エラーに対する特性を有する:ポンピングスポット直径が大きくなればなるほど、要求されるビーム品質が高くなればなるほど、動的な安定領域、すなわちレーザ活性媒質の屈折度の許容範囲が狭くなる。
静的な屈折度エラーの影響も、熱的に誘起された回折損失の影響も、共振器循環間のないしは増幅器ループ内での、レーザビーム領域のレーザ活性媒質通過数とともに増大する。どれくらい強く通過数が作用するかは、実質的に、共振器ないし増幅器の構成に依存する。
静的な屈折度エラーおよび熱誘起回折損失は、共振器または増幅器内に複数のロッドを有する高出力ロッドレーザの場合にも、効率および共振器安定性に影響を与える。この影響は殊に、ビーム品質への要求が高い場合、ビーム断面が大きい場合、レーザ結晶を通過する毎の増幅が低い場合およびハードな絞りが欠如する場合(例えばロッド套面)に顕著になる。強い熱レンズおよび高い増幅で動的に安定してロッドレーザシステムが設計されている場合(例えば1064nmでNd:YAGまたはNd:YVO)、ビーム品質は熱レンズによって制限され、回折損失は典型的にハードな開口によって支配されるので、熱によって誘起される回折損失はバックグラウンド内に生じる。制限された動的な安定領域(すなわちほぼ一定なポンピングパワー)およびハードな開口の欠如を伴うロッドレーザシステムの場合、並びに有利には僅かな増幅を伴うレーザ活性媒質の場合(例えばYb:YAG)、熱的に誘起される回折損失は効率に基本的な影響を及ぼす。
ディスクレーザの場合には、ハードな、直接的にアクティブ容積に接する絞りの欠如はレーザの特徴的な特性である。ディスクレーザの場合、放射パラメータ積を固定するためにハードな開口を使用する必要はなく、一般的に有意義でもない。なぜなら、絞りでの回折損失はディスクレーザ共振器の効率を著しく低減させ、絞りは非常に正確に中心に合わせられ、直径において注意深く共振器モードに整合され、(少なくともレーザ出力が高い場合には)冷却されなければならないからである。ポンピングされないレーザ結晶ディスクの外側領域は、三準位レーザシステムでは、ディスクレーザに対して通常のイッテルビウム・ドウプ・レーザ材料(Yb:YAG等)のように、レーザビームに対する吸収を有しているので、これはポンピング部分領域と結合して、「ソフトな」増幅−/損失−絞り(英語ではgain aperture:ゲインアパーチャ)を形成する:レーザ結晶のポンピング内部領域内ではレーザビームの増幅が行われ、ポンピングされない外部領域ではレーザビームは吸収される。このような「ソフトな」絞りは、同時に回折損失が著しく低減される場合、ハードな絞りの機能を担う。欠点は、増幅−/損失−絞りのポジションが共振器内で、レーザ結晶の軸方向ポジションによって固定的に設定されてしまうことである。
ロッドレーザでは、ロッド套面が開口として作用しない場合、レーザビーム領域内のハードな絞りは回避される。これは例えば軸方向の場合は、中央の部分容積内でのみポンピングされるロッドの場合である。ハードな絞りを回避するための他の方法は、結合されたロッドである。このロッドは集中的にアクティブ容量のまわりで屈折率に整合したパッシブ(透過性または弱吸収性の)容量を有している。両者の場合において、ディスクレーザ結晶と同じように、「ソフトな」増幅−/損失−絞りがポンピング結晶容量から非ポンピング結晶容量への移行部において得られる。
独国特許出願公開第19835108号明細書
本発明の課題は、レーザ活性媒質がハードな開口(すなわち、設計に従ったビーム断面を有効にトリミングするないし制限する、シャープな縁部を有している絞り)をレーザビーム領域に対して形成しない、冒頭に記載した形式のレーザ共振器または増幅器を次のように改善することである。すなわち、共振器ないしは増幅器の効率、ひいては結果として生じるビーム品質へ与えられる(静的な屈折度エラーの)静的な波面変形の影響、殊に熱的に誘起される回折損失の影響が、レーザビーム領域内にハードな絞りを設けることなく、最小化されるように改善することである。
上述の課題は、本発明では、固体レーザ増幅器または固体レーザ共振器であって、少なくとも2つのレーザ活性媒質を共通のレーザビーム領域内に有しており、当該レーザ活性媒質は前記レーザビーム領域に対してハードな開口を構成しない形式のものにおいて、前記レーザビーム領域内に少なくとも1つの焦点合わせ光学素子が、隣り合う2つのレーザ活性媒質の間に配置されており、当該焦点合わせ光学素子の焦点距離と、前記隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面ないし主平面からの距離はそれぞれ、前記レーザ活性媒質の表面ないし主平面が近似的に光学的に相互に共役であるように選択されている、ことを特徴とする固体レーザ増幅器または固体レーザ共振器によって解決される。
前述の課題は、本発明と相応に次のことによって解決される。すなわち、レーザビーム領域内で、隣り合う2つのレーザ活性媒質間に、少なくとも1つの焦点合わせ光学素子を配置することによって解決される。この光学素子の焦点距離および、隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面ないし主平面からのその距離は次のように選択される。すなわちレーザ活性媒質の表面ないし主平面が近似的に光学的に相互に共役であるように選択される。すなわち、近視野−遠視野−変換(Nahfeld-Fernfeld-Transformation)(フーリエ変換)によって相互に移行可能であるように選択される。
結合されたレーザ活性媒質間の近視野−遠視野変換によって、レーザビーム領域の熱的に誘起された回折成分のフィルタリング除去が、ハードな絞りなしに実現される。等しくない、ディスクレーザ結晶の表面ないしレーザロッドの主平面によって構成された、レーザ放射経過内の2つの面は、レーザ結晶のポンピング領域の増幅−/損失−絞りによってフィルタリングされる。2つの面は、相互に(近似的に)共役である。すなわち、1つの面は、一方はそれぞれ他方の面の遠視野をあらわしている。増幅されるべきビームの光学路長はレーザロッド内で、ディスクレーザ結晶とは異なり、典型的には無視できるほど短くないので、レーザロッドの結合時には、近視野−遠視野−変換は、ロッド内の選択された点に対してのみ実施可能である。従って相互に属する近視野ないし遠視野はロッドの主平面内に位置する。
本発明のレーザ共振器またはレーザ増幅器の有利な実施形態では、近視野−遠視野−変換のための焦点合わせ光学素子は、ポジティブな焦点距離を有するレンズである。これは約、2つのディスクレーザ結晶の表面から、または2つのレーザロッドの隣接する主平面から焦点距離間隔で配置されている。レンズは、第1の結晶に由来する各回折成分に対する自身の焦点面において、各回折角度に対して比例する、放射軸からの間隔で回折像を形成する。焦点面には、第2の、結合されたディスクレーザ結晶ないしは第2の、結合されたレーザロッドの主平面が存在する。その「ソフトな」増幅−/損失−絞りでは、過度に大きい(すなわち要求された放射質と一致しない回折角)を伴うビーム成分がフィルタリング除去される。レーザ結晶の逆の順序では、レンズが同じように作用する。
別の有利な実施形態では、近視野−遠視野−変換のための焦点合わせ光学素子は、球面凹面鏡である。この凹面鏡は、ほぼ、2つのディスクレーザ結晶の表面ないしは2つのレーザロッドの隣り合う主平面から半分の曲率半径の距離で配置される。2つのレーザ結晶ないしはその隣り合う主平面はそれぞれ近似的に、ミラーの焦点面内に位置する。この配置は、焦点合わせ素子として1つのレンズを使用する場合とは異なって、次のような利点をもたらす。すなわち、凹面鏡がレーザビーム領域によって通過されないという利点をもたらす。従って焦点合わせ素子内での熱的ノイズが回避され、有利には誘電的に高反射性に構成された鏡層が適切に設計されている場合には、焦点合わせ光学系での最小損失が実現される。択一的な構成では、球面凹面鏡の代わりに、パラボラミラーまたは環状鏡が使用される。
本発明のレーザ共振器またはレーザ増幅器の発展形態では、屈折度エラーの影響が、共通の共振器または増幅器内で複数のレーザ結晶が駆動される場合、次のような配置構成によって低減される。この配置構成では、少なくとも1つの付加的な焦点合わせ光学素子が、(それぞれ)隣り合う2つの、共振器内に配置されたレーザ結晶間に挿入される。この付加的な焦点合わせ光学素子は、結晶ないし結晶主平面の結像、ひいてはポンピングされる部分領域(ポンピングスポット)並びに結晶上ないしは結晶主平面内のレーザビーム領域の重なり合った結像を生じさせる。この結像によって、2つの結晶ないし結晶主平面上でのレーザビーム領域の直径の割合が、その屈折度に依存しないで、結像縮尺のみによって定められる。
本発明のレーザ共振器またはレーザ増幅器の有利な実施形態では、結像のための付加的な焦点合わせ光学素子は次のように構成され、レーザビーム領域内に配置されている。すなわち、2つのディスクレーザ結晶の表面ないしは2つのレーザロッドの隣り合う主平面が1対1の縮尺で重なり合って(aufeinander)結像されるように構成および配置されている。1:1の結像の場合には、場合によって生じうる屈折度差には依存しないで、2つのディスクレーザ結晶上にないしはレーザロッドの隣り合う主平面内にレーザビーム領域の同じ直径が生じる。このような結像縮尺は、次のような場合には常に有意義である。すなわち、−多くの場合において通常であり有利であるように−、2つのレーザ結晶が、同じポンピングスポット直径を有する同一のポンピングビーム装置によってポンピングされる場合には常に有意義である。共振器の場合には、2つのレーザ結晶は、この結像によって近似的に、個々の屈折度の合計に相当する屈折度を伴う個別のレーザ結晶になる。
1つの実施形態では、結像のための付加的な焦点合わせ光学素子はポジティブな焦点距離を有するレンズから成る。このレンズはほぼ、2つのディスクレーザ結晶の表面ないし2つのレーザロッドの隣り合う主平面から、2倍の焦点距離間隔で配置されている。従って、自動的にディスクレーザ結晶ないしは主平面の1:1結像が重なり合って生じる。
別の有利な実施形態では、結像のための付加的な焦点合わせ光学素子は、球面凹面鏡である。この球面鏡はほぼ、2つのディスクレーザ結晶の表面ないしは2つのレーザロッドの隣り合う主平面から自身の半径の距離で配置されている。この様な配置構成は、焦点合わせ素子として1つのレンズを使用する場合とは異なって次のような利点をもたらす。すなわち、凹面鏡がレーザビーム領域によって通過されないという利点をもたらす。これによって光学素子内での熱的ノイズが回避され、適切な、高反射性ミラー層によって損失が最小化される。択一的な構成では球面凹面鏡の代わりに、パラボラミラーまたは環状鏡が使用される。
別の、特に有利な実施形態では、結像のための付加的な焦点合わせ光学素子が、2つの有利には同一の凹面鏡またはレンズから成るテレスコープ装置によって構成される。個々のミラーまたは個々のレンズによる結像は、2つのレーザ結晶および結像素子から成るユニットの余剰屈折度につながる。その値は、レンズの焦点距離ないしはミラーの半径に対して逆比例である。別の共振器構成のために、この余剰屈折度を低く保つことが必要である場合には、レンズの焦点距離ないし鏡の半径は非常に大きく選択されなければならない。このような欠点はテレスコープの使用によって回避可能であり、このテレスコープは、同じ半径を有する2つの凹面鏡または同じ焦点距離を有する2つのレンズから成る。ここでミラーはそれぞれほぼ、半分の半径の距離で配置されており、レンズは同じように、2つのレーザ結晶のうちのそれぞれ1つから焦点距離の間隔で配置されている。余剰屈折度なしに結像が実現されるべき場合には2つの鏡の間の間隔は半径と同じであり、同じようにレンズ間隔は2倍の焦点距離と同じである。ミラーないしレンズ間隔を変えることによって所期のように、ポジティブな余剰屈折度もネガティブな余剰屈折度も生成される。これは例えば、重なり合って結像される2つのレーザ結晶の総屈折度における許容公差の補償を可能にする。
2つより多いレーザ活性媒質が1つのレーザ共振器またはレーザ増幅器内に配置される場合、有利には、2つの結晶表面ないしは主平面の重なり合った結像も、近視野−遠視野変換もレーザビーム領域に影響を与えるために使用可能である。しかし通常はレーザ結晶の同じ対でではない。しかし次のことも可能である。すなわち、例えば偏向ミラーをビーム路内に取り付けることによって、増幅器または共振器内のビーム領域が幾重にも同じレーザ結晶を介して進むことも可能である。このような実施形態では同一のレーザ結晶対での結像と、近視野−遠視野−変換を組み合わせることも可能である。
ディスクレーザ共振器の殊に有利な実施形態では、少なくとも2つのディスクレーザ結晶対が共振器のビーム領域内に配置され、ここで各対のディスクレーザ結晶の表面はそれぞれ第1の焦点合わせ光学素子によって重なり合って結像され、第2の焦点合わせ光学素子はレーザビーム領域内に、これらの対の間に配置され、一方の対のディスクレーザ結晶の表面と、他方の対のディスクレーザ結晶の表面が光学的に相互に共役である。このような配置構成によって個々のレーザ結晶の屈折度エラーが補償され、さらにレーザビーム領域の不所望な熱的に誘起される回折成分もフィルタリング除去される。このように構成されたレーザ共振器は、一定の放射特性を伴う大きい安定領域を有する。しかも付加的なハードな絞りがレーザビーム領域内に取り付けられることはない。
本発明のさらなる利点を明細書および図面に記載する。同じように上述した特徴およびさらに記載される特徴を、それ自体で、または複数の、任意の組み合わせにおいて使用することが可能である。図示されたおよび記載された実施形態は、単なる列挙として理解されるべきではなく、むしろ本発明を記述するための例示的な特性を有している。
図1に示されたレーザ共振器1は、第1のディスクレーザ結晶2と、第2のディスクレーザ結晶3を有している。これらは終端ミラー5と取り出しミラー6の間に、共通のレーザビーム領域4内のレーザ活性媒質として配置されている。2つのディスクレーザ結晶2,3は以降に記載するポンピングおよび冷却のための装置と同じように、同一の形状を有している。
ディスクレーザ結晶2,3は、2つの平面を有するディスクとして構成されている。ディスクレーザ結晶2,3はその下方平面でヒートシンク7,8に取り付けられている。上方平面(以下ではディスクレーザ結晶2,3の表面9,10と称される)には、破線で示された2つのポンピングビーム領域11,12が入射する。これらのポンピングビーム領域は、2つのポンピングモジュール13,14によって生成される。これは、ポンピングビームを生成する図示されていないポンピング装置の一部である。ポンピングビーム領域11,12は、パラボラミラー装置15,16によって、ディスクレーザ結晶2,3の表面9,10上に、ポンピング光スポットとして焦点合わせされる。パラボラミラー装置15,16はそれぞれ中央の開口部を有している。この開口部を通って、レーザビーム領域4はディスクレーザ結晶2,3に達し、このディスクレーザ結晶内のレーザアクティブ固体容積内に侵入することができる。開口部はここでは充分な大きさに構成されるので、この開口部はレーザビーム領域4に対する絞り作用を有していない。ディスクレーザ結晶2,3は自身の下方平面で、ポンピングビームのために、またレーザビームのために反射性に積層されている。
球面の凹面鏡17はレーザビーム領域4内に、第1のディスクレーザ結晶2と第2のディスクレーザ結晶3の間で、第1のディスクレーザ結晶2からも、第2のディスクレーザ結晶3の表面10からも、約自身の半分の半径Rの距離で離れて配置されている。球面凹面鏡17によって、ディスクレーザ結晶3の表面10およびディスクレーザ結晶2の表面9は光学的に相互に共役になる。すなわち、近視野−遠視野−変換(フーリエ変換)を介して相互に移行可能である。表面9および10上のポンピング光スポットの縁部領域は、レーザビーム領域4に対するソフトな絞りとして作用する。
図2に示されたレーザ共振器1' は2つのディスクレーザ結晶2,3を有している。これらのディスクレーザ結晶の表面9,10は焦点距離fを有する集光レンズ18を介して結合されている。集光レンズ18は、第1の表面9からも第2の表面10からも距離fで離れて配置されている。これによってディスクレーザ結晶3の表面10およびディスクレーザ結晶2の表面9は光学的に相互に共役になる。すなわち、これらは近視野−遠視野−変換(フーリエ変換)を介して相互に移行可能である。従って、レーザ結晶2および3の表面9および10上のポンピング光スポットの縁部領域は、レーザビーム領域4に対するソフトな絞りとして作用する。レーザ共振器1' は、その他の点では自身の構成において、図1に記載されたレーザ共振器1に相応しているので、詳細には記載しない。
近視野−遠視野−変換によって、共振器の残りの部分には依存しないで、レーザビームの最大の放射パラメータ積w・θが定められる:焦点合わせ光学素子として凹面鏡17を有する装置の場合には、
w・θ≦2(w・w)/R
が生じる(w,w:2つのディスクレーザ結晶上のレーザビーム領域の直径;θ:ビームの開き,R:凹面鏡17の半径)。
なぜならこの条件を満たすレーザビーム領域の一部しか、ディスクレーザ結晶2,3の「ソフトな」増幅−/損失−絞りでフィルタリングされない。凹面鏡17が、焦点距離fを有するレンズ18によって置き換えられる同様の装置に対しては、最大の放射パラメータ積:w・θ≦(w・w)/fが生じる。
レーザ共振器1,1' は有利には、少なくともこの放射パラメータ積を許容するように設計されている。レーザ共振器のエンドアームの設計によって定められたビーム品質が、近視野−遠視野−変換によって定められた上限にちょうど一致する場合、有利な特別のケースが存在する。第1のエンドアームの長さは、終端ミラー5からディスクレーザ結晶2の表面9の距離によってあらわされ、第2のエンドアームの長さは、取り出しミラー6からディスクレーザ結晶3の表面10の距離によってあらわされる。
図3には、レーザ共振器1'''が示されている。このレーザ共振器は2つのロッド型レーザ結晶2',3'をレーザビーム領域4内に有している。これらのレーザ結晶は近視野−遠視野−変換を介して結合されている。レーザ結晶2',3'は、それぞれ第1の主平面H,H'と第2の主平面H,H'を有している。レーザ結晶2',3'は軸方向で、中央の部分容積内でのみポンピングされる。これらのレーザ結晶は低い増幅度を有する材料から成る。これは例えばYb:YAGである。図示された実施例では、レーザ活性媒質内でのハードな開口の出現は、ポンピングモジュール13,14としての(ファイバー結合された)レーザダイオードによる中央の軸方向部分領域のポンピングによって実現される。ポンピング光ビーム11,12は、終端ミラー5ないし取り出しミラー6としての2つのダイクロック共振器ミラー並びに別の、共振器外のダイクロック分割ミラー22を介して、軸方向でロッド型レーザ結晶2',3'内に放射される。ここでこの分割ミラーは発生したレーザビームをポンピング光と分ける。近視野−遠視野−変換の最適な機能のために、熱レンズの動的な領域はレーザ共振器1'''の動作条件が変化する場合、g−ダイヤグラムの安定領域の境界まで延在するべきではない。有利には、ロッドレーザは(実質的に)一定のポンピング出力で作動される。これによって熱レンズの影響が僅かに保たれ、高いビーム品質が可能になる。場合によっては、付加的に、例えば中心に配置された90°ローターによる熱的に誘起される複屈折の補償が必要である。ビーム断面が大きく、かつビーム品質が高い場合にのみ、ソフトな開口による近視野および遠視野におけるフィルタリングが有意義にレーザ作用角度に作用する。ロッド型レーザ結晶2',3'間にはポジティブな焦点距離fを有するレンズ18が配置されている。2つのレーザロッドの隣り合う主平面HおよびH' からのその距離は、それぞれほぼその焦点距離fに相当する。従って左側のロッドの主平面Hに属する遠視野は、焦点距離fの距離で、レンズの右側に位置する;ここには、右側のロッドの主平面H'が配置されている。近視野−遠視野−変換は近似的にレーザロッドの軸方向領域内で有効である。ここでは、フレネル数F=a/(λ・L)は1より格段に大きい(F>>1)。ここでaは回折構造体の横断方向伸張であり、λはレーザビームの波長であり、Lは精密な変換面からの軸方向間隔である。回折構造体が充分に大きく、レーザロッドが長すぎない場合には、近視野−遠視野−変換によって回折損失が著しく低減される。
図4にはレーザ共振器1''''が示されている。このレーザ共振器はディスクレーザ結晶2a,2bの第1の対19とディスクレーザ結晶3a,3bの第2の対20を有している。第1の対19の2つのレーザ結晶2a,2bの表面9a,9bは重なり合って、結像光学素子として用いられる球面凹面鏡21aによって縮尺1:1で結像される。この球面凹面鏡は、ディスクレーザ結晶2a,2bの表面9a,9bに対して自身の半径Rの距離で配置されている。同じように、第2の対20の2つのディスクレーザ結晶3a,3bの表面10a,10bは重なり合って、球面凹面鏡21bによって結像される。凹面鏡17は、第1の対19のディスクレーザ結晶2bの表面9bと、第2の対20のディスクレーザ結晶3aの表面10aとの間に、自身の半径Rの距離で配置されている。球面凹面鏡17は、2つの対19,20を次のように結合させる。すなわち、2つの共通のレーザビーム領域4が生じるように結合させる。これによって、第1の対19のディスクレーザ結晶2bの表面9bと、第2の対20のディスクレーザ結晶3aの表面10aは光学的に相互に共役になる。すなわち、近視野−遠視野−変換(フーリエ変換)を介して相互に移行可能である。表面9bおよび10a上のポンピング光スポットの縁部領域は、レーザビーム領域4に対するソフトな絞りとして作用する。
図5には、レーザ共振器またはレーザ増幅器1'''''の部分が示されている。ここでは2つのディスクレーザ結晶2,3の間に、レーザ結晶の相互結像のための焦点合わせ光学素子としての2つの球面凹面鏡23a,23bから成るテレスコープが配置されている。凹面鏡23a,23bは同一の曲率半径Rを有しており、隣り合うレーザ結晶2,3から、自身の半分の半径Rで配置されている。結像が屈折度余剰分なしで得られるべき場合、2つの凹面鏡23a,23b間の間隔は、ミラー半径Rと同じである。凹面鏡23a,23bの相互の間隔を、RからR+dへ変えることによって、所期のようにポジティブ(d>0)な余剰屈折度もネガティブ(d<0)な余剰屈折度も形成される。
図6には、レーザビーム領域4内に2つのディスクレーザ結晶2,3を有するレーザ共振器1''''''が示されている。ここでは近視野−遠視野−変換も、ディスクレーザ結晶2,3の重なり合った結像も、ディスクレーザ結晶2,3の同じ対で使用される。レーザビーム領域4の経路は共振器内で、終端ミラー5からレーザ結晶3へ延在し、レーザ結晶3から、球面凹面鏡17を介してレーザ結晶2へ延在し、引き続き2つの平坦な偏向ミラー24a,24bを介してレーザ結晶2へ戻り、レーザ結晶2から別の球面凹面鏡21を介して再びレーザ結晶3まで延在し、最終的に取り出しミラーへ延在する。球面凹面鏡17によって、ディスクレーザ結晶3の表面10とディスクレーザ結晶2の表面9が光学的に相互に共役になる。すなわち、近視野−遠視野−変換(フーリエ変換)を介して相互に移行可能である。このために凹面鏡17はそれぞれ近似的に、自身の半分の半径Rの距離で、ディスクレーザ結晶2,3に対して配置されている。別の球面凹面鏡21によって、ディスクレーザ結晶2および3の表面9および10は重なり合って、有利には縮尺1:1で結像される。このために、別の凹面鏡21はそれぞれ近似して、自身の半径Rの距離で、ディスクレーザ結晶2,3に対して配置されている。
2つのディスクレーザ結晶と、近視野−遠視野−変換用の焦点合わせ光学素子としての1つの球面凹面鏡とを有する本発明によるレーザ共振器の第1の実施形態を概略的に示した図。 2つのディスクレーザ結晶と、近視野−遠視野−変換用の焦点合わせ光学素子としての1つの集光レンズとを有する本発明によるレーザ共振器の第2の実施形態を概略的に示した図。 2つのレーザロッドと、近視野−遠視野−変換用の焦点合わせ光学素子としての1つの集光レンズとを有する本発明によるレーザ共振器の第3の実施形態を概略的に示した図。 ディスクレーザの2つの結晶対と、近視野−遠視野−変換および結像用の焦点合わせ光学素子としての球面凹面鏡とを有する本発明によるレーザ共振器の第4の実施形態を概略的に示した図。 2つのディスクレーザ結晶と、レーザ結晶の重なり合った結像用の焦点合わせ光学素子としての2つの球面凹面鏡から成るテレスコープを有する本発明によるレーザ共振器またはレーザ増幅器の第5の実施形態の細部を概略的に示した図。 2つのディスクレーザ結晶と、近視野−遠視野−変換および結像用の焦点合わせ光学素子としての球面凹面鏡とを有する本発明によるレーザ共振器の第6の実施形態を概略的に示した図。
符号の説明
1 レーザ増幅器、 2,3 ディスクレーザ結晶、 2',3' ロッド型レーザ結晶、 4 レーザビーム領域、 5 終端ミラー、 6 取り出しミラー、 7,8 ヒートシンク、 9,10 ディスクレーザ結晶の表面、 11,12 ポンピングビーム領域、 13,14 ポンピングモジュール、 15,16 パラボラミラー装置、 17,21,23 球面凹面鏡、 18 集光レンズ、 19,20 ディスクレーザ結晶の対、 22 ダイクロック分割ミラー、 24 偏向ミラー

Claims (9)

  1. 固体レーザ増幅器または固体レーザ共振器(1;1';1''';1'''';1''''';1'''''')であって、
    少なくとも2つのレーザ活性媒質を共通のレーザビーム領域(4)内に有しており、
    当該レーザ活性媒質は前記レーザビーム領域(4)に対してハードな開口を構成しない形式のものにおいて、
    前記レーザビーム領域(4)内に少なくとも1つの焦点合わせ光学素子(17,18)が、隣り合う2つのレーザ活性媒質の間に配置されており、
    当該焦点合わせ光学素子の焦点距離および、前記隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面(9,10;9b,10a)ないし主平面(H,H')からの距離はそれぞれ、前記レーザ活性媒質の表面(9,10;9b,10a)ないし主平面(H,H')が近似的に光学的に相互に共役であるように選択されている、
    ことを特徴とする固体レーザ増幅器または固体レーザ共振器。
  2. 前記少なくとも1つの焦点合わせ光学素子はポジティブな焦点距離(f)を有するレンズ(18)であって、
    当該レンズはおおよそ、前記隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面(9,10)ないし主平面から焦点距離間隔でレーザビーム領域(4)内に配置されている、請求項1記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
  3. 前記少なくとも1つの焦点合わせ光学素子は球面凹面鏡(17)であって、
    当該球面凹面鏡はおおよそ、前記隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面(9,10;9b,10a)ないし主平面から半分の曲率半径(R)の間隔でレーザビーム領域(4)内に配置されている、請求項1または2記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
  4. 少なくとも1つの付加的な焦点合わせ光学素子がレーザビーム領域(4)内に配置されており、
    当該焦点合わせ光学素子の焦点距離および、隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面(9a,9b,10a;10b)ないし主平面への距離は、当該表面ないし主平面が近似的に重なり合って結像されるように選択されている、請求項1から3までのいずれか1項記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
  5. 前記少なくとも1つの付加的な焦点合わせ光学素子は結像素子であり、
    当該結像素子は、前記隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面(9,10;9a,9b,10a,10b)ないし主平面を縮尺1対1で重なり合って結像する、請求項4記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
  6. 前記少なくとも1つの付加的な焦点合わせ光学素子はポジティブな焦点距離を有するレンズであって、
    当該レンズはおおよそ、前記隣り合う2つのレーザ活性媒質の表面ないし主平面から2倍の焦点距離間隔で配置されている、請求項4または5記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
  7. 前記少なくとも1つの付加的な焦点合わせ光学素子は球面凹面鏡(21;21a,21b)であって、
    当該球面凹面鏡はおおよそ、2つのレーザ活性媒質(2,3;2a,2b;3a,3b)の隣り合う表面(9,10;9a,9b,10a,10b)から自身の半径(R)の間隔で配置されている、請求項4から6までのいずれか1項記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
  8. 前記少なくとも1つの付加的な焦点合わせ光学素子は、2つの有利には同一の凹面鏡(23a,23b)またはレンズから成るテレスコープ装置によって構成されている、請求項4から7までのいずれか1項記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
  9. ディスクレーザ結晶(2a,2b,3a,3b)の少なくとも2つの対(19,20)がレーザビーム領域(4)内に配置されており、
    当該各対(19,20)のディスクレーザ結晶(2a,2b,3a,3b)の表面(9a,9b,10a,10b)はそれぞれ第1の焦点合わせ光学素子(21a,21b)によって重なり合って結像され、
    レーザビーム領域(4)内に、前記対(19,20)の間に、第2の焦点合わせ光学素子(17)が配置されており、
    当該焦点合わせ光学素子は1つの対(19)のディスクレーザ結晶(2b)の表面(9)および別の対(20)のディスクレーザ結晶(3a)の表面(10a)を光学的に相互に共役にする、請求項1から8までのいずれか1項記載のレーザ増幅器またはレーザ共振器。
JP2005369817A 2004-12-23 2005-12-22 複数のレーザ活性媒質を有するレーザ増幅器およびレーザ共振器 Expired - Fee Related JP5124092B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP04030553.4 2004-12-23
EP04030553A EP1677394B1 (de) 2004-12-23 2004-12-23 Laserverstärker und Laserresonator mit mehreren laseraktiven Medien

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006179932A true JP2006179932A (ja) 2006-07-06
JP5124092B2 JP5124092B2 (ja) 2013-01-23

Family

ID=34927937

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005369817A Expired - Fee Related JP5124092B2 (ja) 2004-12-23 2005-12-22 複数のレーザ活性媒質を有するレーザ増幅器およびレーザ共振器

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7711025B2 (ja)
EP (1) EP1677394B1 (ja)
JP (1) JP5124092B2 (ja)
CN (1) CN1794523B (ja)
AT (1) ATE350789T1 (ja)
DE (1) DE502004002586D1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014509079A (ja) * 2011-02-16 2014-04-10 トルンプフ レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト ディスクレーザ用ポンプ光装置
JP2016503957A (ja) * 2012-12-11 2016-02-08 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 自己配置励起光学系及び高利得を具備する光励起固体レーザ装置

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007002888A1 (de) * 2006-10-20 2008-04-24 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Anordnung mit einem feststehenden Festkörpermedium
CN101414728B (zh) * 2008-07-25 2010-06-02 华中科技大学 一种碟片固体激光器
US7885301B2 (en) * 2009-03-13 2011-02-08 The Boeing Company Laser safety system
DE102009020768A1 (de) * 2009-04-30 2010-11-11 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Laserverstärkersystem
US20110150013A1 (en) * 2009-12-17 2011-06-23 Coherent, Inc. Resonant pumping of thin-disk laser with an optically pumped external-cavity surface-emitting semiconductor laser
EP2562892A4 (en) * 2010-04-19 2017-11-22 Huazhong University of Science and Technology Disc-shaped solid laser
DE102012000510A1 (de) 2012-01-13 2013-07-18 Neolase Gmbh Nichtregenerativer optischer Verstärker
CN104247170B (zh) * 2012-04-26 2017-07-18 皇家飞利浦有限公司 具有自对准泵浦光学器件的光学泵浦的固态激光器设备
DE102012214971A1 (de) * 2012-08-23 2014-02-27 Trumpf Laser Gmbh + Co. Kg Festkörperlaseranordnung und Verfahren zu deren Herstellung
DE102012111978A1 (de) 2012-12-07 2014-03-20 Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. Optisches Energieübertragungssystem
CN104009390A (zh) * 2014-06-13 2014-08-27 中国科学院福建物质结构研究所 一种镱激活硼酸镧钙超快激光晶体
US9728932B2 (en) 2015-03-18 2017-08-08 Advanced Optowave Corporation Fiber coupled modular laser system
DE102015114263A1 (de) 2015-08-27 2017-03-02 Trumpf Laser Gmbh Verspannungsoptimiertes Laserscheibenträgersystem
CN110402522B (zh) * 2017-02-03 2021-06-18 Eo科技股份有限公司 薄碟激光装置
CN111585156A (zh) * 2020-05-18 2020-08-25 罗根激光科技(武汉)有限公司 一种纳秒级高功率红外脉冲固体激光器

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0388379A (ja) * 1989-08-31 1991-04-12 Hoya Corp レーザ装置
US5926494A (en) * 1997-04-11 1999-07-20 Hughes Electronics Corporation Laser systems with improved performance and reduced parasitics and method
WO2000025394A1 (fr) * 1998-10-27 2000-05-04 Thomson-Csf Laser solide pompe par diode laser
JP2000174369A (ja) * 1993-07-28 2000-06-23 Mitsubishi Electric Corp 往復型光増幅器
JP2001007427A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 固体レーザ光伝搬装置
JP2001007421A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 固体レーザ光伝搬装置
JP2002524838A (ja) * 1998-08-04 2002-08-06 ウニベルシテト シュトゥットガルト インスティテュト フュア シュトラールベルクツォイゲ レーザ増幅システム
JP2003502850A (ja) * 1999-06-14 2003-01-21 ロフィン−ジナール レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 固体レーザ

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1987005160A1 (en) * 1986-02-21 1987-08-27 Advanced Lasers Ltd. High power continuous wave multi-slab laser oscillator
US5386426A (en) * 1992-09-10 1995-01-31 Hughes Aircraft Company Narrow bandwidth laser array system
US5864430A (en) * 1996-09-10 1999-01-26 Sandia Corporation Gaussian beam profile shaping apparatus, method therefor and evaluation thereof
US5953354A (en) * 1998-02-03 1999-09-14 General Electric Co. Laser resonator optical alignment
US6987789B2 (en) * 2002-11-14 2006-01-17 Hrl Laboratories, Llc Multiple-disk laser system

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0388379A (ja) * 1989-08-31 1991-04-12 Hoya Corp レーザ装置
JP2000174369A (ja) * 1993-07-28 2000-06-23 Mitsubishi Electric Corp 往復型光増幅器
US5926494A (en) * 1997-04-11 1999-07-20 Hughes Electronics Corporation Laser systems with improved performance and reduced parasitics and method
JP2002524838A (ja) * 1998-08-04 2002-08-06 ウニベルシテト シュトゥットガルト インスティテュト フュア シュトラールベルクツォイゲ レーザ増幅システム
WO2000025394A1 (fr) * 1998-10-27 2000-05-04 Thomson-Csf Laser solide pompe par diode laser
JP2003502850A (ja) * 1999-06-14 2003-01-21 ロフィン−ジナール レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 固体レーザ
JP2001007427A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 固体レーザ光伝搬装置
JP2001007421A (ja) * 1999-06-18 2001-01-12 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd 固体レーザ光伝搬装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014509079A (ja) * 2011-02-16 2014-04-10 トルンプフ レーザー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト ディスクレーザ用ポンプ光装置
JP2016503957A (ja) * 2012-12-11 2016-02-08 コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. 自己配置励起光学系及び高利得を具備する光励起固体レーザ装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN1794523B (zh) 2012-03-28
EP1677394A1 (de) 2006-07-05
JP5124092B2 (ja) 2013-01-23
CN1794523A (zh) 2006-06-28
ATE350789T1 (de) 2007-01-15
US7711025B2 (en) 2010-05-04
EP1677394B1 (de) 2007-01-03
DE502004002586D1 (de) 2007-02-15
US20060140241A1 (en) 2006-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5124092B2 (ja) 複数のレーザ活性媒質を有するレーザ増幅器およびレーザ共振器
US6327291B1 (en) Fiber stub end-pumped laser
US5410559A (en) Diode pumped laser with strong thermal lens crystal
US8165182B2 (en) Solid-state laser
JP2015072955A (ja) スペクトルビーム結合ファイバレーザ装置
Zimer et al. Grazing-incidence YVO 4–Nd: YVO 4 composite thin slab laser with low thermo-optic aberrations
US11431145B2 (en) Solid-state laser gain medium with inclined reflective planes for pump and seed radiation confinement
JP2001077449A (ja) モード同期固体レーザ
US6944196B2 (en) Solid state laser amplifier
US20060182162A1 (en) Solid laser exciting module and laser oscillator
JP2725648B2 (ja) 固体レーザ励起方法及び固体レーザ装置
JP3197820B2 (ja) 固体レーザ装置
JPH03233986A (ja) 端面励起型固体レーザー発振器
JPH07508140A (ja) エンド・ポンプド・ソリッドステート・レーザにおける熱誘起収差の補正方法
US8599896B2 (en) Laser amplifier system
JPH1168197A (ja) 半導体レーザ励起固体レーザ装置
JPH05145151A (ja) 固体レーザ
JP4910698B2 (ja) ロッド型固体レーザ装置
JP3391235B2 (ja) 半導体レーザ励起固体レーザ増幅装置
JP2760116B2 (ja) 固体レーザ装置
US20230120953A1 (en) Laser system for harmonic generation without intracavity astigmatism
TWI479759B (zh) 雷射裝置
JP2000091685A (ja) 連続同調可能青色マイクロチップ・レーザ
US7349455B2 (en) Solid-state laser with compensation for thermooptical effects
CN115733043A (zh) 一种激光器及产生激光的方法和充电系统

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080905

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20101228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110615

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110623

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111013

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121005

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121029

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151102

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 5124092

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees