JP2006165574A - 表示装置用基板の製造方法および表示装置用基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に金属固着促進因子層を塗布するステップと、フルオロ化前駆体層を塗布するステップと、複数の導電性ラインを塗布するステップと、を含む複数の導電性ラインを有する表示装置用基板の製造方法である。
【選択図】図1
Description
前記化学式(1)のR、および、前記化学式(3)のR’’におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、iso−アミル基、ヘキシル基などが挙げられる。
2・・・金属固着促進因子シラン
3・・・フルオロ化前駆体
4・・・導電性ライン/金属ナノ粒子
5・・・重合HMDS層
6・・・フルオロ化前駆体層
7・・・金属固着促進因子シラン層
8・・・金属固着促進因子シランおよびフルオロ化前駆体層
Claims (26)
- 複数の導電性ラインを有する表示装置用基板の製造方法であって、
基板上に金属固着促進因子層を塗布するステップと、
フルオロ化前駆体層を塗布するステップと、
複数の導電性ラインを塗布するステップと、を含む表示装置用基板の製造方法。 - 前記金属固着促進因子層は、
NH3、H2Sおよび/またはPH3のプラズマ処理、または
下記化学式(1)の物質のプラズマ処理、または
下記化学式(2)のシラン化合物によるシランのプラズマ重合、によって塗布されることを特徴とする請求項1記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記有機基が、アミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン、第1級アミン、第2級アミン、第3級アミン、ポリアミン、アミド、ポリアミド、ヒドラジン、ピリジン、イミダゾール、チオフェン、カルボン酸、カルボン酸ハロゲン化物、硫化物、二硫化物、三硫化物、四硫化物、ポリスルフィド、スルホン酸、スルホン酸ハロゲン化物、リン酸、ホスホン酸エステル、エポキシド、フェノールおよびポリエーテルよりなる群から選択される少なくとも一種の化合物の残基を含むことを特徴とする請求項3に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記金属固着促進因子層は、湿式化学工程によって塗布されることを特徴とする請求項3または4に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記金属固着促進因子層は、前記基板を前記化学式(4)の物質を含む溶液内に浸漬することによって塗布されることを特徴とする請求項5に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記フルオロ化前駆体層を塗布するために、フルオロ化有機分子が使われることを特徴とする請求項1に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記フルオロ化有機分子は、アミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン、ポリアミン、ピリジン、イミダゾール、カルボン酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸エステルおよび、フェノールよりなる群から選択される少なくとも一種の化合物の作用基を有することを特徴とする請求項7に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記フルオロ化前駆体層は、湿式化学工程によって塗布されることを特徴とする請求項7または8に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記フルオロ化前駆体層は、前記基板を前記フルオロ化有機分子を含む溶液内に浸漬することによって塗布されることを特徴とする請求項9に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記溶液は、前記化学式(4)の物質を10−1ないし10−5mol/lの濃度で含むことを特徴とする請求項6に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記溶液は、前記フルオロ化有機分子を10−1ないし10−5mol/lの濃度で含むことを特徴とする請求項10に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記基板上に金属固着促進因子層を塗布するステップ、および、前記フルオロ化前駆体層を塗布するステップが同時に行われることを特徴とする請求項1に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記基板上に金属固着促進因子層を塗布するステップ、および、前記フルオロ化前駆体層を塗布するステップは、基板を溶液内に浸漬することによって行われ、
前記溶液は、下記化学式(4)の物質、および、アミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン、ポリアミン、ピリジン、イミダゾール、カルボン酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、およびフェノールよりなる群から選択される少なくとも一種の化合物の作用基を有するフルオロ化有機分子を含むことを特徴とする請求項13に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記金属固着促進因子層および前記フルオロ化前駆体層は、単層または複層であり、および/または、1nmないし10nmの厚さに塗布されることを特徴とする請求項1に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記基板は、平坦であり、および/または、可撓性のガラス基板、インジウムスズ酸化物がコーティングされたガラス基板、もしくは重合体基板である特徴とする請求項1または15に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記複数の導電性ラインは、インクジェット印刷によって塗布されることを特徴とする請求項1または15に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記インクジェット印刷において、金属ナノ粉末および/または金属ナノ化合物の液体分散溶液と、溶媒と、を含むインクが使われることを特徴とする請求項17に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記金属ナノ粉末および/または前記金属ナノ化合物は、金、銀、白金、パラジウムまたは銅を含むことを特徴とする請求項18に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 前記インクは、金属安定化有機重合体からなる添加剤を含むことを特徴とする請求項18に記載の表示装置用基板の製造方法。
- 複数の導電性ラインを有する基板を備えた表示装置用基板であって、
金属固着促進因子層およびフルオロ化前駆体層を前記基板と前記導電性ラインとの間に有することを特徴とする表示装置用基板。 - 前記導電性ラインは、粒径が1nmないし100nmである金属ナノ粉末を含むことを特徴とする請求項21に記載の表示装置用基板。
- 前記金属固着促進因子層は、下記化学式(1)の物質、下記化学式(2)のシラン化合物、または、下記化学式(4)の物質が架橋結合されてなることを特徴とする請求項21に記載の表示装置用基板。
- 前記フルオロ化前駆体層は、アミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン、ポリアミン、ピリジン、イミダゾール、カルボン酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸エステル、およびフェノールよりなる群から選択される少なくとも一種の化合物の作用基を有するフルオロ化有機分子が架橋結合されてなることを特徴とする請求項21に記載の表示装置用基板。
- 前記金属固着促進因子層および前記フルオロ化前駆体層は、順次に配置されることを特徴とする請求項21ないし24のうち何れか1項に記載の表示装置用基板。
- 前記金属固着促進因子層および前記フルオロ化前駆体層は、
下記化学式(1)の物質、下記化学式(2)のシラン化合物、または下記化学式(4)の物質と、
アミン、ジアミン、トリアミン、テトラアミン、ポリアミン、ピリジン、イミダゾール、カルボン酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸エステル、およびフェノールよりなる群から選択される少なくとも一種の化合物の作用基を有するフルオロ化有機分子と、が架橋結合され、並列に配置されてなる一つの層で形成されることを特徴とする請求項21に記載の表示装置用基板。
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