KR100613000B1 - 표시장치용 기판의 제조 방법 및 표시장치용 기판 - Google Patents

표시장치용 기판의 제조 방법 및 표시장치용 기판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 다수의 잉크젯 인쇄형 도전성 라인(4)을 가지는 표시장치용 기판 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 어드레스 전극 및 버스 전극용의 다수의 잉크젯 인쇄형 도전성 라인(4)을 가지는 PDP용 기판에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 기저 기판(1) 상의 잉크젯 인쇄형 도전성 라인(4), 예컨대 잉크젯 인쇄형 어드레스 전극 및 버스 전극의 고착을 개선하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 상기 기저 기판(1) 상에 고해상도의 표시가 가능하도록 잉크젯 인쇄형 도전성 라인(4)을 개선하는 것이다.
본 발명은,
- 기저 기판(1) 상에 금속 고착 촉진자층(7)을 도포하는 단계,
- 플루오르화 전구체 층(6)을 도포하는 단계 및
- 다수의 도전성 라인(4)을 도포하는 단계를 포함하는, 다수의 도전성 라인(4)을 가지는 표시장치용 기판을 제조하는 방법을 제공한다.

Description

표시장치용 기판의 제조 방법 및 표시장치용 기판{Substrate for a display and method for manufacturing the same}
도 1 및 도 2는 금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층이 차례로 배치된 본 발명의 실시예에 따른 표시장치용 기판을 제조하는 방법의 필수적 단계의 단면도이다.
도 3은 금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층이 동시에 도포된 본 발명의 실시예에 따른 표시장치용 기판을 제조하는 방법의 필수적 단계의 단면도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 기저 기판 2 : 금속 고착 촉진자 실란
3 : 플루오르화 전구체 4 : 도전성 라인/나노 입자
5 : 중합 헥사메틸디실라잔 층
6 : 플루오르화 전구체 층
7 : 금속 고착 촉진자 실란 층
8 : 금속 고착 촉진자 실란 및 플루오르화 전구체 층
본 발명은 다수의 잉크젯 인쇄형 도전성 라인을 가지는 표시장치용 기판 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 본 발명은 다수의 어드레스 전극 및 버스 전극용의 잉크젯 인쇄형 도전성 라인을 가지는 PDP용 기판에 관한 것이다.
PDP에서의 잉크젯 인쇄형 버스 전극 및 어드레스 전극은 나노입자 잉크를 사용하여 인쇄된다. 은 나노입자 잉크는 개별적으로 분산된 금속 나노입자, 계면활성제 및 유기 입자로 구성된다(유럽특허 제1349135A1호, 미국특허출원 제20040043691A1호, 알박).
미국특허출원 제20040038616A1호(후지츠)는, 서브트랙티브 공정에 의해 플로우트유리 기판의 저면에 다수의 그루브를 형성하여 각각의 그루브 사이에 존재하는 돌출부를 포함하는 격벽을 형성하는 단계와, 그 후 잉크젯 공정 또는 분배 공정에 의해 그루브의 저면 상에 전극을 형성하는 단계를 포함하는, 평판 표시장치용 기판을 제조하는 방법을 기술한다. 나노입자 잉크를 사용하여 유리 또는 ITO 표면 상에 협소한 금속 라인을 형성하는 다른 공정에는 기판을 중간 정도로 처리하여 나노입자 잉크에 대하여 60°의 접촉각을 갖게 하는 것이 있다(미국특허출원 제20030083203A호, 세이코 엡슨; 엠. 후루사와 등, SID 02 Digest, 753 - 755). CF4, C2F6, C3F8 또는 플루오르알킬 관능화 실란으로 플루오르화하는 것과 같은 종래의 표면처리 방법에서는, 20° 내지 60°의 접촉각이 달성될 수 있지만, 인쇄되어 경화 된 금속 라인의 고착 감손이 결점이 된다.
대한민국 등록특허공보 제0229232호(캐논)는 소수화된 기판 상의 액적 부착을 기술한다. 소수화는 HMDS, PHAMS, AMP 또는 PES와 같은 실란 화합물에 의해 실현되며, PDP(Plasma display Panel)에 응용될 수 있다.
또한, 대한민국 공개특허공보 제2003-0084608호(세이코 엡슨 코퍼레이션)는 금속 입자를 함유한 유체가 기판의 표면 상에 부착되어 제어되는 것을 개시한다. 유체 재료의 중간막은 전기 접점으로서 입증되었다. 여기서는 플루오르알킬화된 실란이 자기조립 단분자층(self-assembled monolayer; SAM)을 형성하도록 사용된다. 이 발명은 전계방출 표시장치(FED)의 제조를 기술한다. 한 쌍의 전극은 기판 상의 도전성 박막과 접촉하게된다. 이 막은 금속을 기초로 한 유체를 사용하는 “액적 방법”(대한민국 등록특허공보 제0229232호(캐논))에 의해 실현된다. 기판 상에 금속 입자를 함유한 유체를 방출함으로써, 도전성의 구조화된 박막이 형성된다. 중간 유체의 방출이 기판 상에 중간 박막을 발생시키며, 이것이 기판과 도전성 막 사이의 고착을 개선한다(대한민국 공개특허공보 제2003-0084608호(세이코 엡슨)).
유기 유체가 박막의 패터닝된 층을 산출하도록 사용된다(미국 특허 제6,677,238호(세이코 엡슨)).
그러므로, 본 발명의 목적은 기저 기판 상의 잉크젯 인쇄형 도전성 라인, 예컨대 잉크젯 인쇄형 어드레스 전극 및 버스 전극의 고착을 개선하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 상기 기저 기판 상에 고해상도의 표시장치가 가능하도록 잉크젯 인쇄형 도전성 라인의 접촉각을 개선하는 것이다.
본 발명은,
- 기저 기판 상에 금속 고착 촉진차층을 도포하는 단계,
- 플루오르화 전구체 층을 도포하는 단계 및
- 다수의 도전성 라인을 도포하는 단계를 포함하는, 다수의 도전성 라인을 가지는 표시장치용 기판을 제조하는 방법을 제공한다.
기저 기판 상의 잉크젯 인쇄형 도전성 라인의 고착과 접촉각을 개선하기 위해, 본 발명은 기저 기판과 도전성 라인 사이에 적어도 하나의 중간층을 도입하는 것을 제안한다. 금속 고착 촉진자 층 및 플루오르화 전구체 층은 차례로 도포되어 2개의 중간층을 발생시킬 수 있다. 변형예로서, 금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체층을 동시에 도포하여 금속 고착 촉진자 실란 및 플루오르화 전구체 양자를 포함하는 하나의 층을 발생시키는 것이 가능하다. 이러한 층은 플루오르화 전구체의 존재 내에서 금속 고착 촉진자 실란의 자기조립(self-assembly)에 의해 제조될 수 있다.
바람직하게는, 적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 피리딘, 이미다졸, 카복실산, 술폰산, 포스페이트, 포스포네이트 및/또는 페놀을 포함하는 작용기를 가지는 플루오르화 유기 분자가 플루오르화 전구체로서 사용된다. 바람직하게는, 플루오르화 전구체는 습식 화학 공정에 의해 도포된다.
바람직하게는, 금속 고착 촉진자층은,
a) NH3, H2S 및/또는 PH3의 플라즈마 처리, 또는
b) 화학식 1의 물질의 플라즈마 처리, 또는
c) 화학식 2에 의한 실란의 플라즈마 중합, 또는
d) 화학식 4의 물질과의 습식 화학 공정에 의해 도포되며,
Figure 112005031910216-pat00001
여기서, Y는 N원자, S원자 또는 P원자이고 R은 H원자 및/또는 적어도 하나의 알킬기이며,
Figure 112005031910216-pat00002
여기서, Z는 N원자, S원자 또는 P원자이고
Figure 112005031910216-pat00003
은 H원자 및/또는 화학식 3의 적어도 하나의 실란기이며,
Figure 112005031910216-pat00004
여기서,
Figure 112005031910216-pat00005
은 동일하거나 상이할 수 있는 알킬기이며,
Figure 112005031910216-pat00006
여기서,
Figure 112005031910216-pat00007
은 H원자, OH기, Cl원자 및/또는 알콕시기이고, X는 각각 독립적으로 H원자, OH기, Cl원자, 알콕시기, 알킬기 및/또는 유기기이며, 상기 유기기는 적어도 하나의 금속 결합기를 포함한다.
바람직하게는, 적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 아미드, 폴리아미드, 하이드라진, 피리딘, 이미다졸, 티오펜, 카복실산, 카복실산 할로게니드, 설파이드, 디설파이드, 트리설파이드, 테트라설파이드, 폴리설파이드, 술폰산, 술폰산 할로게니드, 포스페이트, 포스포네이트, 에폭사이드, 페놀 및/또는 폴리에테르를 포함하는 유기기가 상기 유기기로서 사용된다.
플라즈마 중합은 헥사메틸디실라잔의 중합인 것이 바람직하다.
본 발명에 의하면, 2개의 중간층(금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층)의 경우, 금속 고착 촉진자층이 먼저 도포되고 플루오르화 전구체 층이 그 후 도포되는 것이 제안된다.
기술된 방법은, 최종 해상도에 중요한 기판 상의 잉크 액적의 접촉각의 개선과 경화된 도전성 라인, 예컨대 금속 라인의 개선된 고착 양자의 개선을 나타내는 잉크젯 인쇄형 도전성 라인이 되는 중간층을 발생시킨다. 그러므로, 잉크젯 인쇄형 어드레스 전극 및 버스 전극의 기저 기판 상이 고착이 매우 향상되더 PDP 제조의 공정 요건을 충족한다.
바람직하게는, 금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층은 단층(monolayer) 또는 복층(dilayer)으로서 그리고/또는 1㎚ 내지 10㎚의 두께로 도포된다. 이 경우 금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층은, 화학식 4의 분자 또는 화학식 3의 분자(예컨대 헥사메틸디실라잔) 및 교차결합되어 나란히 배치되는 적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 피리딘, 이미다졸, 카복실산, 술폰산, 포스페이트, 포스포네이트 및/또는 페놀을 포함하는 작용기를 가지는 유기 분자를 포함하는 하나의 중간층으로서 형성되며, 이 (중간)층은 1㎚ 내지 10㎚의 두께를 포함할 수 있다.
기저 기판은 평평하고 그리고/또는 가요성의 유리 기판, 인듐 주석 산화물(ITO) 코팅된 유리 기판 또는 중합체 기판이 될 수 있다. 다수의 도전성 라인은 잉크젯 인쇄에 의해 도포되는 것이 바람직하다. 잉크는 금속 나노 분말이 분산된 액체 용액과 용제로 구성될 수 있다. 금속은 은, 금, 백금, 팔라듐 또는 구리일 수 있다. 잉크는 금속 안정화 유기 중합체로 이루어진 첨가제를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 기판은 다수의 도전성 라인을 가지는 기저 기판을 포함하며, 금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층이 상기 기저 기판과 상기 도전성 라인 사이에 배치된다. 도전성 라인은 금속 크기가 1㎚ 내지 10㎚인 금속 나노 분말을 포함할 수 있다. 금속 고착 촉진자층은 화학식 3의 교차결합 분자 또는 화학식 4의 교차결합 실란(예컨대, 헥사메틸디실라잔)을 포함할 수 있다. 플루오르화 전구체 층은 교차결합 플루오르화 유기 분자를 포함할 수 있다.
금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층은 차례로 배치될 수도 있고 또 는 금속 고착 촉진자층 및 플루오르화 전구체 층은 화학식 3의 교차결합 분자 또는 화학식 1의 교차결합 분자(예컨대, 헥사메틸디실라잔)와 교차결합 유기 분자를 포함하는 하나의 층으로 형성된다. 이 경우, 분자들(화학식 3 또는 화학식 4의 실란(예컨대, 헥사메틸디실라잔)과 유기 분자)은 나란히 배치된다.
이하, 본 발명에 대하여 첨부한 도면을 참조하여 예를 들어 설명한다.
본 발명에 따른 고착 촉진 및 선폭 위치선정 중간층의 대표적 제조 공정에 대하여 도 1을 참조하여 설명한다.
ITO 코팅된 유리 기저 기판(1)에는 두 단계의 자기조립 공정이 수행된다. 제1 단계에서, 기판은 (3-아미노프로필)트리에톡시실란인 금속 고착 촉진자 실란(2)의 10-1 내지 10-5 mol/ℓ 용액 내로 10 내지 90초 동안 침지되고, 1 내지 60분 동안 50 내지 200℃에서 건조된 후 실온(room temperature)으로 냉각된다. 이에 의해 금속 고착 촉진자 실란의 층(7)이 얻어진다. 제2 단계에서, 기판은 플루오르화 전구체(3)(4-하이드록시벤조트리플루오라이드)의 10-1 내지 10-5 mol/ℓ 용액 내로 10 내지 90초 동안 침지되고, 1 내지 60분 동안 50 내지 200℃에서 건조된다. 이에 의해 플루오르화 전구체 층(6)이 얻어진다. 플루오르화 전구체(3)로 표면 에너지를 감소시킴으로써 잉크젯 인쇄형의 도전성 어드레스 전극 및 버스 전극(예컨대, 도전성 라인(4))의 최종 해상도가 제어될 수 있다. 이 표면 처리가 또한 잉크젯 인쇄형 금속 나노입자(4)(은 나노입자)가 아미노기와 같은 특정한 금속 고착 촉진 작용기에 교차결합하는 것을 가능하게 한다. 플루오르화 전구체(3)가 특정한 라인 해상도를 확보하도록 표면 에너지를 감소시킨다. 마지막으로, 은 나노입자(4)를 포함하는 은 나노 잉크가 다중노즐 잉크젯 프린터를 사용하여 잉크젯 인쇄된다. 잉크젯 인쇄된 기판을 건조한 후 20분 동안 250℃에서 열처리되어, 잉크젯 인쇄된 라인(4)은 도전성을 갖게 된다.
본 발명에 따른 고착 촉진 및 선폭 위치선정 중간층의 유사한 제조 공정에 대하여 도 2를 참조하여 설명한다. 금속 고착 촉진자 실란(2) 대신 중합 헥사메틸디실라잔(hexamethyldisilazane: HMDS)이 중합화 헥사메틸디실라잔의 층(5)을 발생시키는 금속 고착 촉진자로서 플라즈마 증강 화학 기상 증착(plasma enhanced chemical vapour deposition: PECVD)에 의해 도포된다.
금속 고착 촉진자 실란 및 플루오르화 전구체의 두 단계의 자기조립(도 1 및 도 2) 또는 두 단계의 HMDS/플루오르화 전구체 처리뿐만 아니라, 중간층은 또한 플루오르화 전구체(3)의 존재 내에서 금속 고착 촉진자 실란(2)의 자기조립 공정에 의해 도입될 수 있다(도 3 참조). 이에 의해 금속 고착 촉진자 실란 및 플루오르화 전구체 층(8)이 얻어진다. 혼합형 자기조립 단분자층(mixed self-assembly monolayer: MSAM)이 기판의 표면 에너지를 조정하는 동시에 개선된 고착을 확보함으로써 잉크젯 인쇄형 어드레스 전극 및 버스 전극(예컨대, 라인(4))의 최종 해상도를 실현한다.
대체로, Si-C-Si, Si-N, Si-N-C 및 C-N-C 결합(HMDS의 경우와 유사함)을 기초로 한 교차결합 고분자 구조 또는 C-N, C-O, C-S, C-P, Si-N, Si-O, Si-S 및 Si-P를 기초로 한 금속 고착 촉진 유기 작용기의 존재는, ESCA(전자분광화학분석법, Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) 및 ATR-FTIR(감쇄전반사 푸리에변환적외선분광법, Attenuated Total Reflectance Fourier Transform Infrared Spectroscopy)에 의해 검출될 수 있다.
마지막으로, 은 나노입자(4)를 포함하는 은 나노 잉크가 다중노즐 잉크젯 프린터를 사용하여 층(8) 상에 잉크젯 인쇄된다. 잉크를 건조시킨 후 인쇄된 기판은 20분 동안 150℃ 내지 250℃로 열처리되어, 잉크젯 인쇄된 라인(4)은 도전성을 갖게 된다. 기판(상측 및 하측 기판)은 이제 PDP(플라즈마 디스플레이 패널) 제조를 위한 후속 공정 단계를 위해 사용될 수 있다.
본 발명이 그 특정 실시예에 관련하여 설명되었지만, 당해분야의 통상의 지식을 가진 자들에게는 다수의 변형, 개조 및 변경이 가능함은 명백하다. 따라서, 본원에 개시된 바와 같은 본 발명의 바람직한 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 의도된다. 이하의 특허청구범위에 한정된 바와 같이 본 발명의 정신으로부터 벗어나지 않고 다양한 변경이 행해질 수 있다.
위에서 설명한 바와 같이 본 발명의 표시장치용 기판의 제조 방법 및 표시장치용 기판에 의하면, 기저 기판 상에 잉크젯 인쇄형 어드레스 전극 및 버스 전극과 같은 잉크젯 인쇄형 도전성 라인을 고착시키는 것이 개선되고, 고해상도의 표시장치가 가능한 잉크젯 인쇄형 도전성 라인이 기저 기판 상에 제공된다.

Claims (26)

  1. 다수의 도전성 라인(4)을 가지는 표시장치용 기판을 제조하는 방법으로서,
    기저 기판(1) 상에 금속 고착 촉진자 층(5, 7)을 도포하는 단계;
    플루오르화 전구체 층(6)을 도포하는 단계; 및
    다수의 도전성 라인(4)을 도포하는 단계;를 포함하는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7)은,
    NH3, H2S 및/또는 PH3의 플라즈마 처리, 또는
    화학식 1의 물질의 플라즈마 처리, 또는
    화학식 2에 의한 실란의 플라즈마 중합에 의해 도포되며,
    [화학식 1]
    Figure 112005031910216-pat00008
    여기서, Y는 N원자, S원자 또는 P원자이고 R은 H원자 및/또는 적어도 하나의 알킬기이고,
    [화학식 2]
    Figure 112005031910216-pat00009
    여기서, Z는 N원자, S원자 또는 P원자이고
    Figure 112005031910216-pat00010
    은 H원자 및/또는 화학식 3에 의한 적어도 하나의 실란기이며,
    [화학식 3]
    Figure 112005031910216-pat00011
    여기서,
    Figure 112005031910216-pat00012
    은 동일하거나 상이할 수 있는 알킬기인 플라즈마 기판의 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    화학식 4의 물질이 금속 고착 촉진자층(5, 7)의 도포를 위해 사용되며,
    [화학식 4]
    Figure 112005031910216-pat00013
    여기서, R은 H원자, OH기, Cl원자 및/또는 알콕시기이고, X는 각각 개별적으로 H원자, OH기, Cl원자, 알콕시기, 알킬기 및/또는 유기기이며, 상기 유기기는 적어도 하나의 금속 결합기를 포함하는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  4. 제 3 항에 있어서,
    적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 아미드, 폴리아미드, 하이드라진, 피리딘, 이미다졸, 티오펜, 카복실산, 카복실산 할로게나이드, 설파이드, 디설파이드, 트리설파이드, 테트라설파이드, 폴리설파이드, 술폰산, 술폰 산 할로게나이드, 포스페이트, 포스포네이트, 에폭사이드, 페놀 및/또는 폴리에테르를 포함하는 유기기가 상기 유기기로서 사용되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7)은 습식 화학 공정에 의해 도포되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7)은 기저 기판(1)을 화학식 1의 물질의 용액 내에 침지함으로써 도포되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    플루오르화 유기 분자가 플루오르화 전구체 층(6)의 도포를 위해 사용되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 피리딘, 이미다졸, 카복실산, 술폰산, 포스페이트, 포스포네이트 및/또는 페놀을 포함하는 작용기를 가지는 플루오르화 유기 분자가 상기 플루오르화 유기 분자로서 사용되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  9. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    플루오르화 전구체 층(6)은 습식 화학 공정에 의해 도포되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  10. 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
    플루오르화 전구체 층(6)은 기저 기판(1)을 적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 피리딘, 이미다졸, 카복실산, 술폰산, 포스페이트, 포스포네이트 및/또는 페놀을 포함하는 작용기를 가지는 플루오르화 유기 분자의 용액 내로 침지함으로써 도포되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  11. 제 5 항에 있어서,
    용액은 10-1 내지 10-5 mol/ℓ의 농도를 포함하는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  12. 제 9 항에 있어서,
    용액은 10-1 내지 10-5 mol/ℓ의 농도를 포함하는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7) 및 플루오르화 전구체 층(6)의 도포 단계가 동시에 수행되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7) 및 플루오르화 전구체 층(6)의 도포 단계는 기저 기판(1)을 용액 내로 침지함으로써 실행되며,
    상기 용액은 상기 화학식 4의 물질 및 적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 피리딘, 이미다졸, 카복실산, 술폰산, 포스페이트, 포스포네이트 및/또는 페놀을 포함하는 작용기를 가지는 플루오르화 유기 분자 양자를 포함하는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  15. 제 1 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7) 및 플루오르화 전구체 층(6)은 단층 또는 복층으로서 그리고/또는 1㎚ 내지 10㎚의 두께로 도포되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  16. 제 1 항 또는 제15 항에 있어서,
    평평하고 그리고/또는 가요성의 유리 기판, 인듐 주석 산화물 코팅된 유리 기판 또는 중합체 기판이 기저 기판(1)으로서 사용되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  17. 제 1 항 또는 제 15 항에 있어서,
    다수의 도전성 라인(4)은 잉크젯 인쇄에 의해 도포되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  18. 제 17 항에 있어서,
    분산된 금속 나노 분말 및/또는 분산된 금속 나노화합물의 액체 용액 및 용제로 이루어진 잉크가 사용되는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    금속은 금, 은, 백금, 팔라듐 또는 구리인 표시장치용 기판의 제조 방법.
  20. 제 18 항에 있어서,
    잉크는 금속 안정화 유기 중합체로 이루어진 첨가제를 포함하는 표시장치용 기판의 제조 방법.
  21. 다수의 도전성 라인(4)을 가지는 기저 기판(1)을 구비한 표시장치용 기판으로서, 금속 고착 촉진자층(5, 7) 및 플루오르화 전구체 층(6)이 상기 기저 기판(1) 과 상기 도전성 라인(4) 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 표시장치용 기판.
  22. 제 21 항에 있어서,
    도전성 라인(4)은 금속 나노 입자의 크기가 1㎚ 내지 100㎚인 소결 금속 나노 분말을 포함하는 표시장치용 기판.
  23. 제 21 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7)은 화학식 1의 교차결합된 분자, 화학식 2의 교차결합된 분자 또는 화학식 4의 교차결합된 분자를 포함하는 표시장치용 기판.
  24. 제 21 항에 있어서,
    플루오르화 전구체 층(6)은 적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 피리딘, 이미다졸, 카복실산, 술폰산, 포스페이트, 포스포네이트 및/또는 페놀을 포함하는 작용기를 가지는 교차결합된 플루오르화 유기 분자를 포함하는 표시장치용 기판.
  25. 제 21 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7) 및 플루오르화 전구체 층(6)은 차례로 배치되는 표시장치용 기판.
  26. 제 21 항에 있어서,
    금속 고착 촉진자층(5, 7) 및 플루오르화 전구체 층(6)은,
    화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 4의 분자; 및
    교차결합되어 나란히 배치된 적어도 아민, 디아민, 트리아민, 테트라아민, 폴리아민, 피리딘, 이미다졸, 카복실산, 술폰산, 포스페이트, 포스포네이트 및/또는 페놀을 포함하는 작용기를 가지는 플루오르화 유기 분자;를 포함하는 하나의 층(8)으로 형성되는 표시장치용 기판.
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