JP2006165561A - リソグラフィ装置、レチクル交換ユニットおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レチクルの表面は、ガス浸透性ペリクル・フレームによりレチクルに取り付けられているペリクルにより保護されている。このレチクル交換ユニットは、レチクル準備チャンバ、ペリクル・フレームの複数の露光したガス浸透部分をレチクル準備チャンバの内部に向けるように配置されているレチクル移送ユニット、および前記レチクル準備チャンバと結合していて、ガスがペリクル・フレームを通して、ペリクルとレチクルとの間のペリクル空間内に/から交互に流れるように、ペリクル・フレームの露光したガス浸透部分が、レチクル準備チャンバの内部の方を向いている場合に、レチクル準備チャンバにパージガス圧およびパージガス圧より低い排気圧を交互に供給するように配置されているパージガス圧および排気圧供給装置を含む。
【選択図】図2
Description
1.ステップ・モードの場合には、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTは本質的に固定されていて、一方、投影ビームに与えられた全パターンが一度で(すなわち、1回の静的露光で)目標部分C上に投影される。基板テーブルWTは、次に、Xおよび/またはY方向にシフトされ、そのため異なる目標部分Cを露光することができる。ステップ・モードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより1回の静的露光で画像形成される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モードの場合、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTは同期状態で走査され、一方、投影ビームに与えられたパターンが、目標部分C上に投影される(すなわち、1回の動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、拡大(縮小)および投影システムPSの像倒立特性により決定される。走査モードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより1回の動的露光の際の目標部分の(走査方向でない方向の)幅が制限され、一方、走査運動の長さにより目標部分の(走査方向の)高さが決まる。
3.他のモードの場合、マスク・テーブルMTは、プログラマブル・パターニング・デバイスを保持する本質的に固定状態に維持され、基板テーブルWTは、投影ビームに与えられたパターンの形が目標部分C上に投影されている間に移動または走査される。このモードの場合、一般的に、パルス放射線源が使用され、プログラマブル・パターニング・デバイスが、基板テーブルWTの各運動の後で、または走査中の連続放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、プログラマブル・ミラー・アレイのようなプログラマブル・パターニング・デバイスを使用し、マスクを使用しないリソグラフィに容易に適用することができる。
IL 照明システム(照明装置)
MA パターニング・デバイス
MT マスク・テーブル
PS 投影システム
PM 第1の位置決め装置
W 基板
WT 基板テーブル
PW 第2の位置決め装置
C 目標部分
SO 放射線源
BD ビーム供給システム
AD 調整装置
IN インテグレータ
CO コンデンサ
M1,M2 マスク整合マーク
20,22,24 ステーション
26 レチクル移送ユニット
28 レチクル準備チャンバ
280 真空源
282 パージガス源
32 ペリクル
34 ペリクル・フレーム
40 障害物
41 センサ
42,44 接続部
46,48 制御可能な弁
49 制御回路
50 ダミー・ペリクル
52 ダミー・レチクル
Claims (20)
- リソグラフィ装置であって、
放射線ビームを調整するための照明システムと、
前記放射線ビームの断面にパターンを与える働きをするレチクルを支持するための支持体であって、前記レチクルの表面が、ガス浸透ペリクル・フレームによりレチクルに取り付けられているペリクルにより保護されている支持体と、
レチクル交換ユニットとを備え、前記レチクル交換ユニットが、
レチクル準備チャンバと、
前記レチクルを前記支持体に移動する前に、前記ペリクル・フレームの複数の露出したガス浸透部分を、前記レチクル準備チャンバの内部に向けるように構成されているレチクル移送ユニットと、
前記ペリクル・フレームの前記露出したガス浸透部分が、前記レチクル準備チャンバの内部の方を向いている時に、ガスが、前記ペリクル・フレームを通して、前記ペリクルと前記レチクルとの間のペリクル空間内に/から交互に流れるように、前記レチクル準備チャンバにパージガス圧および前記パージガス圧より低い排気圧を交互に供給するように構成されているパージガス圧および排気圧供給装置とを備えるリソグラフィ装置。 - 前記レチクル準備チャンバが、前記レチクルの反対方向を向いている前記ペリクルの露出した面に隣接する前記レチクル準備チャンバ内の空間へおよび/からのガスの流れを妨害するように構成されている流れ低減装置を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 選択したレチクルに対して前記流れ低減装置として機能するように、前記ペリクルの前記露出した面に少なくとも平行な方向に、前記レチクルの前記ペリクルのサイズおよび形状に一致する交換可能なダミー・ペリクルをさらに備える、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記流れ低減装置が、前記レチクルの前記表面にほぼ垂直に、前記レチクル準備チャンバの壁部から延びる、請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記排気圧がかかっている間に、ペリクルの変形および/または前記レチクル準備チャンバ内の圧力を測定するためのセンサと、前記測定したペリクルの変形および/または圧力に基づいて、前記レチクル準備チャンバの排気を制御するように構成されている制御回路とをさらに備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記パージガス圧および排気圧供給装置が、所定の流速および/または持続期間以下に、前記レチクル準備チャンバの排気の流速および/または持続時間を規制するように構成されている制御回路を備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記レチクル交換ユニットが、先行レチクルが前記支持体上に位置している間に、レチクルを前記レチクル準備チャンバの方向に移動するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
放射線ビームを調整するステップと、
前記放射線ビームの断面にパターンを与えるためのある位置にレチクルを移動するステップであって、前記レチクルが、ガス浸透性ペリクル・フレームにより前記レチクルに取り付けられているペリクルにより保護されている表面を有するステップと、
基板の目標部分上に前記パターンを与えられた放射線ビームを投影するステップと、
前記レチクルが、前記放射線ビームに前記パターンを与える前記位置に移動する前に、前記ペリクル・フレームの複数の露出したガス浸透性部分が、前記レチクル準備チャンバの内部の方を向くように、前記レチクルをレチクル準備チャンバに対して設置するステップと、
前記ペリクル・フレームの前記露出したガス浸透性部分が、前記レチクル準備チャンバの前記内部の方を向いている時に、ガスが前記ペリクル・フレームを通して、前記ペリクルと前記レチクルとの間のペリクル空間内に/から交互に流れるように、前記レチクル準備チャンバにパージガス圧および前記パージガス圧より低い排気圧を交互に供給するステップとを含むデバイス製造方法。 - 前記ペリクルと前記レチクルとの間のペリクル空間に対向する側面上の前記ペリクルに隣接する空間へおよび/からのガスの流れを妨害するために動作することができる流れ低減装置を前記レチクル準備チャンバ内に設置するステップをさらに含む、請求項8に記載のデバイス製造方法。
- パージングされる次のレチクルに基づいて、複数の流れ低減装置から選択したもう1つの流れ制限装置により、連続しているレチクルのパージング間に前記流れ制限装置を交換するステップをさらに含む、請求項9に記載のデバイス製造方法。
- 前記レチクル準備チャンバの排気中に、前記レチクル準備チャンバ内のペリクルの変形および/または圧力を測定するステップと、測定したペリクルの変形および/または圧力に基づいて前記排気を制御するステップとをさらに含む、請求項8に記載のデバイス製造方法。
- 所定の流速および/または持続時間以下に、前記レチクル準備チャンバの排気の流速および/または持続時間を規制するステップをさらに含む、請求項8に記載のデバイス製造方法。
- 前記第1のレチクルがレチクル準備チャンバ内に位置しているか、または前記レチクル準備チャンバに接している間に、前記放射線ビームの断面にパターンを与えるために、先行レチクルを使用するステップをさらに含む、請求項8に記載のデバイス製造方法。
- リソグラフィ装置内でレチクルを移動するためのレチクル交換ユニットであって、前記レチクルの表面がガス浸透性ペリクル・フレームによりレチクルに取り付けられているペリクルにより保護され、
レチクル準備チャンバと、
前記ペリクル・フレームの複数の露出したガス浸透部分を、前記レチクル準備チャンバの内部に向けるように構成されているレチクル移送ユニットと、
前記レチクル準備チャンバと結合していて、ガスが前記ペリクル・フレームを通して、前記ペリクルと前記レチクルとの間のペリクル空間内に/から交互に流れるように、前記ペリクル・フレームの前記露出したガス浸透部分が、前記レチクル準備チャンバの内部の方を向いている時に、前記レチクル準備チャンバにパージガス圧および前記パージガス圧より低い排気圧を交互に供給するように構成されているパージガス圧および排気圧供給装置とを備えるレチクル交換ユニット。 - 前記レチクル準備チャンバが、前記レチクルの反対方向を向いている前記ペリクルの露出した面に隣接する前記レチクル準備チャンバ内の空間へおよび/からのガスの流れを妨害するように配置されている流れ低減装置を備える、請求項14に記載のレチクル交換ユニット。
- 選択したレチクルに対して前記流れ低減装置として機能するように、前記ペリクルの前記露出した面に少なくとも平行な方向に、前記レチクルの前記ペリクルのサイズおよび形状に一致する交換可能なダミー・ペリクルをさらに備える、請求項15に記載のレチクル交換ユニット。
- 前記流れ低減装置が、前記レチクルの露出した表面にほぼ垂直に前記レチクル準備チャンバの壁部から延びる、請求項15に記載のレチクル交換ユニット。
- 排気圧力がかかっている間に、ペリクルの変形および/または前記レチクル準備チャンバ内の圧力を測定するためのセンサと、前記測定したペリクルの変形および/または圧力に基づいて、前記レチクル準備チャンバの排気を制御するように構成されている制御回路とをさらに備える、請求項14に記載のレチクル交換ユニット。
- 前記パージガス圧および排気圧供給装置が、所定の流速および/または持続期間以下に、前記レチクル準備チャンバの排気の流速および/または持続時間を規制するように構成されている制御回路を備える、請求項14に記載のレチクル交換ユニット。
- 前記レチクル交換ユニットが、先行レチクルが前記支持体上に位置している間に、前記レチクルを前記レチクル準備チャンバに移動するように構成される、請求項14に記載のレチクル交換ユニット。
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