JP2006162243A - Gaseous hydrogen removing device - Google Patents
Gaseous hydrogen removing device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006162243A JP2006162243A JP2005325002A JP2005325002A JP2006162243A JP 2006162243 A JP2006162243 A JP 2006162243A JP 2005325002 A JP2005325002 A JP 2005325002A JP 2005325002 A JP2005325002 A JP 2005325002A JP 2006162243 A JP2006162243 A JP 2006162243A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen gas
- sintered body
- porous sintered
- metal oxide
- gas removal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B43/00—Arrangements for separating or purifying gases or liquids; Arrangements for vaporising the residuum of liquid refrigerant, e.g. by heat
- F25B43/04—Arrangements for separating or purifying gases or liquids; Arrangements for vaporising the residuum of liquid refrigerant, e.g. by heat for withdrawing non-condensible gases
- F25B43/046—Arrangements for separating or purifying gases or liquids; Arrangements for vaporising the residuum of liquid refrigerant, e.g. by heat for withdrawing non-condensible gases for sorption type systems
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Description
本発明は、水素ガス除去対象装置の装置内にて発生する水素ガスを金属酸化物を含む酸化部にて酸化して除去するように構成された水素ガス除去装置に関する。 The present invention relates to a hydrogen gas removal apparatus configured to oxidize and remove hydrogen gas generated in an apparatus of a hydrogen gas removal target apparatus in an oxidation unit containing a metal oxide.
かかる水素ガス除去装置は、吸収式冷凍機等の水素ガス除去対象装置の装置内で発生する水素ガスを酸化部にて酸化して凝縮可能な状態にすることで、水素ガスを除去するように構成したものである。
つまり、水素ガス除去対象装置の一例としての吸収式冷凍機では、再生器、凝縮器、吸収器及び蒸発器、並びに、それらを接続する配管等を構成する装置構成材として、一般に鉄やステンレス鋼等の金属が用いられ、冷媒と吸収剤の組み合わせとして、水と臭化リチウムの組み合わせやアンモニアと水の組み合わせ等が用いられるものであり、その装置構成材の鉄やステンレス鋼が冷媒や吸収剤溶液と反応して水素ガスが発生する。この水素ガスは吸収式冷凍機内においては凝縮することがなく、蒸発器や吸収器等の気相部に滞留して、低圧が要求される蒸発器や吸収器等の器内圧力が次第に上昇することになるので、吸収式冷凍機の能力が低下することになる。
そこで、水素ガス除去装置を設けて、吸収式冷凍機内の水素ガスを除去するようにして、吸収式冷凍機の能力低下を抑制するようになっている。
Such a hydrogen gas removing device removes the hydrogen gas by oxidizing the hydrogen gas generated in the device of the hydrogen gas removing target device such as an absorption refrigeration machine in an oxidizing portion so that the hydrogen gas can be condensed. It is composed.
That is, in an absorption refrigerator as an example of an apparatus for removing hydrogen gas, as a device constituent material that constitutes a regenerator, a condenser, an absorber and an evaporator, and pipes connecting them, generally iron or stainless steel The combination of water and lithium bromide, or the combination of ammonia and water, etc. is used as the combination of refrigerant and absorbent. Reaction with the solution generates hydrogen gas. This hydrogen gas does not condense in the absorption refrigerator, but stays in the vapor phase of the evaporator or absorber, and the internal pressure of the evaporator or absorber that requires a low pressure gradually increases. As a result, the capacity of the absorption refrigerator is reduced.
Therefore, a hydrogen gas removing device is provided to remove the hydrogen gas in the absorption chiller so as to suppress a reduction in the capacity of the absorption chiller.
このような水素ガス除去装置において、従来では、酸化部を、金属酸化物を担持させた多孔質球状アルミナにて構成していた。
ちなみに、銅イオンを含む水溶液に多孔質球状アルミナを浸漬して、多孔質球状アルミナに銅イオンを含浸し、これを高温で酸化させることにより、多孔質球状アルミナに金属酸化物としての酸化銅を担持させる(例えば、特許文献1参照。)。
In such a hydrogen gas removal apparatus, conventionally, the oxidation part has been composed of porous spherical alumina carrying a metal oxide.
By the way, porous spherical alumina is immersed in an aqueous solution containing copper ions, impregnated with porous spherical alumina with copper ions, and oxidized at a high temperature, so that copper oxide as a metal oxide is added to porous spherical alumina. (See, for example, Patent Document 1).
ところで、このような水素ガス除去装置は、水素ガス除去対象装置の装置内にて発生する水素ガスを酸化部の金属酸化物にて酸化することにより、換言すれば、水素ガス除去対象装置の装置内にて発生する水素ガスにて酸化部の金属酸化物を還元させることにより、水蒸気を発生させて水素ガスを除去するものである。従って、水素ガスによる酸化部の金属酸化物の還元が進行して、酸化部における金属酸化物の含有量が少なくなると、水素ガス除去能力が低下するので、酸化部を金属酸化物の含有量が多い状態にする水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスが必要である。この水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスでは、例えば、金属酸化物の還元が進行した酸化部を水素ガス除去対象装置から取り出して酸素含有雰囲気中で加熱することにより、金属を酸化させて金属酸化物の含有量を多くして、そのように金属酸化物の含有量を多くした酸化部を水素ガス除去対象装置に装填することになる。 By the way, such a hydrogen gas removal apparatus oxidizes the hydrogen gas generated in the apparatus of the hydrogen gas removal target apparatus with the metal oxide of the oxidation part, in other words, the apparatus of the hydrogen gas removal target apparatus. By reducing the metal oxide in the oxidation part with hydrogen gas generated inside, water vapor is generated to remove the hydrogen gas. Accordingly, when the reduction of the metal oxide in the oxidized portion by hydrogen gas proceeds and the content of the metal oxide in the oxidized portion decreases, the hydrogen gas removal capability decreases, so the content of the metal oxide in the oxidized portion is reduced. Maintenance is required to restore the hydrogen gas removal capacity to a high level. In the maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability, for example, the oxidized portion where the reduction of the metal oxide has progressed is removed from the hydrogen gas removal target device and heated in an oxygen-containing atmosphere to oxidize the metal and thereby oxidize the metal. By increasing the content of the product, the oxidized portion with the increased content of the metal oxide is loaded into the apparatus for removing hydrogen gas.
そして、内部が満たされた状態と仮定したときの酸化部全体の体積に対する金属酸化物の体積の比率(以下、金属酸化物の体積効率と記載する場合がある)を大きくするほど、酸化部における金属酸化物の含有量が水素ガス除去能力に影響が現れる程度に少なくなるまでの時間を長くすることが可能となって、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度を低くすることが可能となる。 Then, the larger the ratio of the volume of the metal oxide to the volume of the entire oxidized portion when it is assumed that the inside is filled (hereinafter sometimes referred to as the volume efficiency of the metal oxide), the larger the portion in the oxidized portion. It is possible to lengthen the time until the metal oxide content decreases to such an extent that the hydrogen gas removal capacity is affected, and the maintenance frequency for recovering the hydrogen gas removal capacity can be reduced. Become.
しかしながら、上記従来の水素ガス除去装置では、酸化部を、金属酸化物を担持させた多孔質球状アルミナにて構成することから、酸化部に多孔質球状アルミナが存在する分、金属酸化物の体積効率を大きくし難い。
従って、従来では、酸化部における金属酸化物の体積効率を大きくし難いため、酸化部における金属酸化物の含有量が水素ガス除去能力に影響が現れる程度に少なくなるまでの時間が短いので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度を高くする必要があり、そのメンテナンスにかかわる負担が大きいものとなっていた。
However, in the conventional hydrogen gas removal apparatus, since the oxidation part is composed of porous spherical alumina supporting a metal oxide, the volume of the metal oxide is equivalent to the presence of porous spherical alumina in the oxidation part. It is difficult to increase efficiency.
Therefore, conventionally, since it is difficult to increase the volumetric efficiency of the metal oxide in the oxidation portion, the time until the content of the metal oxide in the oxidation portion is reduced to such an extent that the hydrogen gas removal ability is affected is short. It is necessary to increase the frequency of maintenance for recovering the gas removal capacity, and the burden on the maintenance has been large.
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減し得る水素ガス除去装置を提供することにある。 This invention is made | formed in view of this situation, The objective is to provide the hydrogen gas removal apparatus which can reduce the burden concerning the maintenance for hydrogen gas removal capability recovery.
本発明の水素ガス除去装置は、水素ガス除去対象装置の装置内にて発生する水素ガスを金属酸化物を含む酸化部にて酸化して除去するように構成されたものであって、
第1特徴構成は、前記酸化部が、金属酸化物の多孔状焼結体にて構成されている点を特徴とする。
The hydrogen gas removal device of the present invention is configured to oxidize and remove the hydrogen gas generated in the device of the hydrogen gas removal target device in an oxidation part containing a metal oxide,
The first characteristic configuration is characterized in that the oxidation part is formed of a porous sintered body of metal oxide.
即ち、酸化部が、金属酸化物の多孔状焼結体(以下、単に多孔状焼結体と称する場合がある)にて構成されており、その多孔状焼結体は、金属酸化物のみにて構成するようにしたり、あるいは、金属酸化物以外の構成物の量を極力少なくする状態で構成するようにすることが可能であるので、酸化部における金属酸化物の体積効率を大きくすることが可能となる。
そして、酸化部における金属酸化物の体積効率を大きくすることが可能となることから、酸化部における金属酸化物の含有量が水素ガス除去能力に影響が現れる程度に少なくなるまでの時間を長くすることが可能となるので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度を低くすることが可能となる。
従って、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減し得る水素ガス除去装置を提供することができるようになった。
That is, the oxidation part is composed of a metal oxide porous sintered body (hereinafter sometimes simply referred to as a porous sintered body), and the porous sintered body is made only of metal oxide. Or the volume efficiency of the metal oxide in the oxidation part can be increased because the amount of the components other than the metal oxide can be reduced as much as possible. It becomes possible.
And since it becomes possible to increase the volumetric efficiency of the metal oxide in the oxidation part, the time until the content of the metal oxide in the oxidation part is reduced to such an extent that the hydrogen gas removal ability is affected is lengthened. Therefore, the frequency of maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability can be reduced.
Therefore, it has become possible to provide a hydrogen gas removing device that can reduce the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removing ability.
第2特徴構成は、上記第1特徴構成に加えて、
前記多孔状焼結体が、金属酸化物の粉末とその金属酸化物よりも沸点が低いバインダーとの混合物をそのバインダーの沸点よりも高温に加熱して前記金属酸化物の粉末を多孔状に焼結させて形成される点を特徴とする。
In addition to the first feature configuration, the second feature configuration is
In the porous sintered body, a mixture of a metal oxide powder and a binder having a boiling point lower than that of the metal oxide is heated to a temperature higher than the boiling point of the binder to sinter the metal oxide powder into a porous form. It is characterized by being formed by bonding.
即ち、金属酸化物の粉末とその金属酸化物よりも沸点が低いバインダーとの混合物をそのバインダーの沸点よりも高温に加熱すると、バインダーが気化して混合物から抜けてその抜けた部分が細孔となる状態で金属酸化物の粉末が焼結することになって、金属酸化物の粉末が多孔状に焼結するので、多孔状焼結体が形成される。
ちなみに、金属の粉末とバインダーとの混合物を加熱して、その加熱過程で金属を酸化させながら焼結させて、多孔状焼結体を形成したり、あるいは、金属の粉末とバインダーとの混合物を加熱して金属の粉末を焼結させて、その焼結後に金属を酸化させて、多孔状焼結体を形成する場合が考えられるが、これらの場合は、多孔状焼結体中に酸化されていない金属部分が残る虞があり、金属酸化物の体積効率を大きくする上で、多少不利となる。
これに対して、金属酸化物そのものの粉末とバインダーとの混合物を加熱して、多孔状焼結体を形成するようにすると、金属酸化物の体積効率を大きくする上で好ましい。
従って、金属酸化物の体積効率を一層大きくして、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を一層軽減するようにする上で好適な手段を提供することができるようになった。
That is, when a mixture of a metal oxide powder and a binder having a boiling point lower than that of the metal oxide is heated to a temperature higher than the boiling point of the binder, the binder evaporates and escapes from the mixture, and the removed portion becomes pores. In this state, the metal oxide powder is sintered, and the metal oxide powder is sintered in a porous state, so that a porous sintered body is formed.
By the way, a mixture of metal powder and binder is heated and sintered while oxidizing the metal during the heating process to form a porous sintered body, or a mixture of metal powder and binder is used. It may be possible to sinter metal powder by heating and oxidize the metal after the sintering to form a porous sintered body. In these cases, the metal powder is oxidized in the porous sintered body. There is a possibility that a metal portion that is not left will remain, which is somewhat disadvantageous in increasing the volumetric efficiency of the metal oxide.
On the other hand, it is preferable to increase the volume efficiency of the metal oxide by heating the mixture of the metal oxide powder itself and the binder to form a porous sintered body.
Accordingly, it is possible to provide a suitable means for further increasing the volumetric efficiency of the metal oxide and further reducing the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability.
第3特徴構成は、上記第1又は第2特徴構成に加えて、
前記金属酸化物が酸化第2銅(CuO)であり、その酸化第2銅の多孔状焼結体の密度が4.0g/cm3以上である点を特徴とする。
In addition to the first or second feature configuration, the third feature configuration is
The metal oxide is cupric oxide (CuO), and the density of the porous sintered body of cupric oxide is 4.0 g / cm 3 or more.
即ち、本願発明の発明者らは、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減すべく鋭意研究し、上記第1又は第2特徴構成を備えたものにおいて、金属酸化物として酸化第2銅を用い、その酸化第2銅の多孔状焼結体の密度を4.0g/cm3以上に設定すると、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減するようにする上で好ましいことを見出した。 That is, the inventors of the present invention have eagerly studied to further reduce the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability, and in the one having the first or second characteristic configuration described above, as a metal oxide When cupric oxide is used and the density of the porous sintered body of cupric oxide is set to 4.0 g / cm 3 or more, the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability is further reduced. It was found that this is preferable.
つまり、酸化第2銅は酸化力が強いので、金属酸化物として酸化第2銅を用いることにより、水素ガス除去能力を一層向上させることができ、更に、その酸化第2銅の多孔状焼結体の密度を4.0g/cm3以上に設定して、金属酸化物の体積効率を大きくすることにより、酸化第2銅の多孔状焼結体に水素ガスを浸透させ、その水素ガスにて金属酸化物を還元させて水素ガスを除去するようにするに当たって、水素ガス除去能力を高くすることができることを見出した。 In other words, since cupric oxide has a strong oxidizing power, the use of cupric oxide as a metal oxide can further improve the hydrogen gas removal capability, and further, the porous sintering of the cupric oxide is porous. By setting the density of the body to 4.0 g / cm 3 or more and increasing the volumetric efficiency of the metal oxide, hydrogen gas is infiltrated into the porous sintered body of cupric oxide, and the hydrogen gas In reducing the metal oxide to remove the hydrogen gas, it was found that the hydrogen gas removal ability can be increased.
ちなみに、外部から酸化第2銅の多孔状焼結体を還元反応に好適な温度に加熱して、水素ガス除去を行わせる場合があり、このような場合に、多孔状焼結体の密度を高くすると、多孔状焼結体の熱伝導が大きくなって、多孔状焼結体全体にわたって温度分布を小さくすることができて、多孔状焼結体全体にわたって還元反応に適した温度に維持することができるので、この点からも水素ガス除去能力を高くすることができる。
従って、金属酸化物として酸化第2銅を用い、その酸化第2銅の多孔状焼結体の密度を4.0g/cm3以上に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができるので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減することができるようになった。
By the way, there is a case where the porous sintered body of cupric oxide is heated from the outside to a temperature suitable for the reduction reaction to remove hydrogen gas. In such a case, the density of the porous sintered body is reduced. If it is increased, the heat conduction of the porous sintered body increases, the temperature distribution can be reduced over the entire porous sintered body, and the temperature suitable for the reduction reaction is maintained over the entire porous sintered body. Therefore, the hydrogen gas removal capability can be increased from this point.
Therefore, by using cupric oxide as the metal oxide and setting the density of the porous sintered body of cupric oxide to 4.0 g / cm 3 or more, the hydrogen gas removal capability can be improved. As a result, the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability can be further reduced.
第4特徴構成は、上記第1又は第2特徴構成に加えて、
前記金属酸化物が一酸化ニッケル(NiO)であり、その一酸化ニッケルの多孔状焼結体の密度が5.0〜6.5g/cm3の範囲である点を特徴とする。
In addition to the first or second feature configuration, the fourth feature configuration is
The metal oxide is nickel monoxide (NiO), and the density of the porous sintered body of nickel monoxide is in the range of 5.0 to 6.5 g / cm 3 .
即ち、本願発明の発明者らは、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減すべく鋭意研究し、上記第1又は第2特徴構成を備えたものにおいて、金属酸化物として一酸化ニッケルを用い、その一酸化ニッケルの多孔状焼結体の密度を5.0〜6.5g/cm3の範囲に設定すると、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減すると共に、水素ガス除去能力を向上させるようにする上で好ましいことを見出した。 That is, the inventors of the present invention have eagerly studied to further reduce the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability, and in the one having the first or second characteristic configuration described above, as a metal oxide When nickel monoxide is used and the density of the porous sintered body of nickel monoxide is set in the range of 5.0 to 6.5 g / cm 3 , the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability is reduced. At the same time, the present inventors have found that it is preferable to improve the hydrogen gas removal capability.
つまり、一酸化ニッケルは酸化力が強いので、金属酸化物として一酸化ニッケルを用いることにより、水素ガス除去能力を一層向上させることができる。
そして、その多孔状焼結体の密度を5.0g/cm3よりも小さく設定すると、金属酸化物の体積効率が小さくなるので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度が高くなる傾向となり、多孔状焼結体の密度を6.5g/cm3よりも大きく設定すると、金属酸化物の体積効率が大きくなって、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度を低くすることが可能となるものの、多孔状焼結体の細孔が微細過ぎて水素ガスが多孔状焼結体内に浸透し難くなるので、水素ガス除去能力が低くなり易い。
そして、その一酸化ニッケルの多孔状焼結体の密度を5.0〜6.5g/cm3の範囲に設定することにより、金属酸化物の体積効率を大きくしながら、水素ガスが多孔状焼結体内に浸透し易いようにすることが可能となって、水素ガス除去能力を高くすることができるのである。
従って、金属酸化物として一酸化ニッケルを用い、その一酸化ニッケルの多孔状焼結体の密度を5.0〜6.5g/cm3の範囲に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができるので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減することができるようになった。
That is, since nickel monoxide has a strong oxidizing power, the ability to remove hydrogen gas can be further improved by using nickel monoxide as the metal oxide.
And if the density of the porous sintered body is set to be smaller than 5.0 g / cm 3 , the volume efficiency of the metal oxide becomes small, so the frequency of maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability tends to increase. If the density of the porous sintered body is set to be larger than 6.5 g / cm 3 , the volume efficiency of the metal oxide increases, and the frequency of maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability can be reduced. However, since the pores of the porous sintered body are too fine and hydrogen gas hardly penetrates into the porous sintered body, the hydrogen gas removing ability tends to be low.
Then, by setting the density of the porous sintered body of nickel monoxide in the range of 5.0 to 6.5 g / cm 3 , the hydrogen gas is porous sintered while increasing the volume efficiency of the metal oxide. It becomes possible to make it easy to penetrate into the body, and the hydrogen gas removing ability can be increased.
Therefore, by using nickel monoxide as the metal oxide and setting the density of the porous sintered body of nickel monoxide in the range of 5.0 to 6.5 g / cm 3 , the hydrogen gas removal capability is improved. As a result, the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability can be further reduced.
第5特徴構成は、上記第1又は第2特徴構成に加えて、
前記金属酸化物が一酸化コバルト(CoO)であり、その一酸化コバルトの多孔状焼結体の密度が4.0〜6.2g/cm3の範囲である点を特徴とする。
In addition to the first or second feature configuration, the fifth feature configuration includes:
The metal oxide is cobalt monoxide (CoO), and the density of the porous sintered body of cobalt monoxide is in the range of 4.0 to 6.2 g / cm 3 .
即ち、本願発明の発明者らは、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減すべく鋭意研究し、上記第1又は第2特徴構成を備えたものにおいて、金属酸化物として一酸化コバルトを用い、その一酸化コバルトの多孔状焼結体の密度を4.0〜6.2g/cm3の範囲に設定すると、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減すると共に、水素ガス除去能力を向上させるようにする上で好ましいことを見出した。 That is, the inventors of the present invention have eagerly studied to further reduce the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability, and in the one having the first or second characteristic configuration described above, as a metal oxide When cobalt monoxide is used and the density of the porous sintered body of cobalt monoxide is set in the range of 4.0 to 6.2 g / cm 3 , the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability is reduced. At the same time, the present inventors have found that it is preferable to improve the hydrogen gas removal capability.
つまり、一酸化コバルトは酸化力が強いので、金属酸化物として一酸化コバルトを用いることにより、水素ガス除去能力を一層向上させることができる。
そして、その一酸化コバルトの多孔状焼結体の密度を4.0〜6.2g/cm3の範囲に設定することにより、先に第4特徴構成について説明したのと同様に、金属酸化物の体積効率を大きくしながら、水素ガスが多孔状焼結体内に浸透し易いようにすることが可能となって、水素ガス除去能力を高くすることができるのである。
従って、金属酸化物として一酸化コバルトを用い、その一酸化コバルトの多孔状焼結体の密度を4.0〜6.2g/cm3の範囲に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができるので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減することができるようになった。
That is, since cobalt monoxide has a strong oxidizing power, the ability to remove hydrogen gas can be further improved by using cobalt monoxide as the metal oxide.
Then, by setting the density of the porous sintered body of cobalt monoxide in the range of 4.0 to 6.2 g / cm 3 , the metal oxide is the same as described for the fourth characteristic configuration. While increasing the volumetric efficiency, it is possible to make hydrogen gas easily permeate into the porous sintered body, thereby increasing the hydrogen gas removal capability.
Therefore, by using cobalt monoxide as the metal oxide and setting the density of the porous sintered body of cobalt monoxide in the range of 4.0 to 6.2 g / cm 3 , the hydrogen gas removal capability is improved. As a result, the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability can be further reduced.
第6特徴構成は、上記第1又は第2特徴構成に加えて、
前記多孔状焼結体の平均細孔半径が300〜3000nmの範囲である点を特徴とする。
In addition to the first or second feature configuration, the sixth feature configuration is
An average pore radius of the porous sintered body is in a range of 300 to 3000 nm.
即ち、本願発明の発明者らは、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減すべく鋭意研究し、上記第1又は第2特徴構成を備えたものにおいて、多孔状焼結体の平均細孔半径を300〜3000nmの範囲に設定すると、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減すると共に、水素ガス除去能力を向上させるようにする上で好ましいことを見出した。 That is, the inventors of the present invention have intensively studied to further reduce the burden related to maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability, and in the one having the first or second characteristic configuration described above, porous sintering It was found that setting the average pore radius of the body in the range of 300 to 3000 nm is preferable in reducing the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability and improving the hydrogen gas removal capability. .
つまり、多孔状焼結体の平均細孔半径を3000nmよりも大きく設定すると、金属酸化物の体積効率が小さくなるので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度が高くなる傾向となり、多孔状焼結体の平均細孔半径を300nmよりも小さく設定すると、金属酸化物の体積効率が大きくなって、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度を低くすることが可能となるものの、多孔状焼結体の細孔が微細過ぎて水素ガスが多孔状焼結体内に浸透し難くなるので、水素ガス除去能力が低くなり易い。 In other words, if the average pore radius of the porous sintered body is set to be larger than 3000 nm, the volume efficiency of the metal oxide is reduced, so that the frequency of maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability tends to increase, If the average pore radius of the sintered body is set to be smaller than 300 nm, the volume efficiency of the metal oxide increases, and the frequency of maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability can be reduced. Since the pores of the sintered body are too fine and it is difficult for hydrogen gas to penetrate into the porous sintered body, the hydrogen gas removal capability tends to be low.
そして、多孔状焼結体の平均細孔半径を300〜3000nmの範囲に設定すると、金属酸化物の体積効率を大きくしながら、水素ガスが多孔状焼結体内に浸透し易いようにすることが可能となって、水素ガス除去能力を高くすることができるのである。
従って、多孔状焼結体の平均細孔半径を300〜3000nmの範囲に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができるので、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担をより一層軽減することができるようになった。
When the average pore radius of the porous sintered body is set in the range of 300 to 3000 nm, the volume efficiency of the metal oxide is increased, and the hydrogen gas can easily penetrate into the porous sintered body. This makes it possible to increase the hydrogen gas removal capability.
Therefore, by setting the average pore radius of the porous sintered body in the range of 300 to 3000 nm, the hydrogen gas removal capability can be improved, so that the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability is further increased. It can be further reduced.
第7特徴構成は、上記第1〜第6特徴構成のいずれかに加えて
前記多孔状焼結体を形成する前記金属酸化物の原料粉末の大部分の粒径が、0.1〜10μmの範囲である点を特徴とする。
In addition to any one of the first to sixth characteristic configurations, the seventh characteristic configuration is that the particle size of most of the raw material powder of the metal oxide forming the porous sintered body is 0.1 to 10 μm. It is characterized by a range.
即ち、本願発明の発明者らは、装置の低廉化を図りながら、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減すべく鋭意研究し、上記第1〜第6特徴構成のいずれかを備えたものにおいて、多孔状焼結体を形成する金属酸化物の原料粉末の大部分の粒径を0.1〜10μmの範囲に設定すると、装置の低廉化を図りながら、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減する上で好ましいことを見出した。 That is, the inventors of the present invention have intensively studied to reduce the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability while reducing the cost of the apparatus, and any one of the first to sixth feature configurations described above. If the particle size of most of the metal oxide raw material powder forming the porous sintered body is set in the range of 0.1 to 10 μm, the hydrogen gas removal ability is recovered while reducing the cost of the apparatus. We found that it is preferable in reducing the burden on maintenance for
つまり、多孔状焼結体を形成する金属酸化物の原料粉末のうち、粒径が0.1μmよりも小さいものが多くなるほど、多孔状焼結体の密度を大きくすることができるものの、原料粉末の価格が高騰化して装置が高騰化することになり、多孔状焼結体を形成する金属酸化物の原料粉末のうち、粒径が10μmよりも大きいものが多くなるほど、多孔状焼結体の密度が小さくなって水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度が高くなる傾向となる。
そして、多孔状焼結体を形成する金属酸化物の原料粉末の大部分の粒径を0.1〜10μmの範囲に設定すると、装置の低廉化を図りながら、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減することが可能となることを見出したのである。
従って、多孔状焼結体を形成する金属酸化物の原料粉末の大部分の粒径を0.1〜10μmの範囲に設定することにより、装置の低廉化を図りながら、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減することができるようになった。
That is, among the metal oxide raw material powders forming the porous sintered body, the larger the particle size is smaller than 0.1 μm, the higher the density of the porous sintered body can be. As the price of the material increases, the apparatus becomes more expensive, and among the metal oxide raw material powders forming the porous sintered body, the larger the particle size is larger than 10 μm, the more the porous sintered body becomes As the density decreases, the frequency of maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability tends to increase.
When the particle size of most of the raw material powder of the metal oxide forming the porous sintered body is set in the range of 0.1 to 10 μm, it is possible to recover the hydrogen gas removal capability while reducing the cost of the apparatus. They found that the burden on maintenance could be reduced.
Therefore, by setting the particle size of most of the metal oxide raw material powder forming the porous sintered body in the range of 0.1 to 10 μm, the hydrogen gas removal ability can be recovered while reducing the cost of the apparatus. The burden on maintenance can be reduced.
第8特徴構成は、上記第1〜第7徴構成のいずれかに加えて、
前記水素ガス除去対象装置が吸収式冷凍機である点を特徴とする。
In addition to any of the first to seventh features described above, the eighth characteristic configuration is
The hydrogen gas removal target device is an absorption refrigerator.
即ち、吸収式冷凍機内において上述のように発生する水素ガスが、酸化部の金属酸化物にて酸化されて凝縮可能な状態の水蒸気となって、水素ガスが除去される。
そして、酸化部を金属酸化物の多孔状焼結体にて構成することにより、金属酸化物の体積効率を大きくして、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度を低くすることが可能となるのである。
従って、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減し得る吸収式冷凍機用の水素ガス除去装置を提供することができるようになった。
That is, the hydrogen gas generated in the absorption refrigerator as described above is oxidized by the metal oxide in the oxidation portion to become water vapor in a condensable state, and the hydrogen gas is removed.
And, it is possible to increase the volume efficiency of the metal oxide and reduce the frequency of maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability by configuring the oxidized portion with a porous sintered body of the metal oxide. It becomes.
Therefore, it has become possible to provide a hydrogen gas removal device for an absorption refrigeration machine that can reduce the burden on maintenance for recovering the hydrogen gas removal capability.
以下、図面に基づいて、本発明を吸収式冷凍機用の水素ガス除去装置に適用した場合の第1実施形態を説明する。
先ず、図1に基づいて、水素ガス除去装置Eを備えた二重効用の吸収式冷凍機について説明する。
この吸収式冷凍機は、冷媒として水を用い、吸収剤として臭化リチウムを用いるものであり、冷媒液を蒸発させる蒸発器1、その蒸発器1で発生した冷媒蒸気を吸収剤の水溶液である吸収液に吸収させる吸収器2、その吸収器2にて冷媒蒸気を吸収した低濃度の吸収液(以下、希液と称する場合がある)を加熱して希液から冷媒蒸気を発生させる高温再生器3、その高温再生器3による冷媒蒸気の発生で中濃度になった吸収液(以下、中液と称する場合がある)を高温再生器3にて発生した冷媒蒸気にて加熱して冷媒蒸気を更に発生させる低温再生器4、高温再生器3及び低温再生器4で発生された冷媒蒸気を凝縮させる凝縮器5、及び、吸収式冷凍機内で発生した水素ガスを除去する水素ガス除去装置E等を設けて構成し、吸収器2には、低温再生器4による冷媒蒸気の発生で高濃度になった吸収液(以下、濃液と称する場合がある)を供給するようになっている。
Hereinafter, a first embodiment in the case where the present invention is applied to a hydrogen gas removing device for an absorption refrigerator will be described with reference to the drawings.
First, a double-effect absorption refrigerator equipped with a hydrogen gas removing device E will be described with reference to FIG.
This absorption refrigerator uses water as a refrigerant and uses lithium bromide as an absorbent. The evaporator 1 evaporates the refrigerant liquid, and the refrigerant vapor generated in the evaporator 1 is an aqueous solution of the absorbent. Absorber 2 to be absorbed by the absorbing liquid, and high-temperature regeneration that generates the refrigerant vapor from the diluted liquid by heating the low-concentration absorbing liquid (hereinafter sometimes referred to as a diluted liquid) that has absorbed the refrigerant vapor by the absorber 2 Refrigerant vapor is heated by the refrigerant vapor generated in the high-temperature regenerator 3, and the absorbing liquid having a medium concentration due to the generation of refrigerant vapor by the high-temperature regenerator 3 (hereinafter, sometimes referred to as intermediate liquid). A low-
以下、吸収式冷凍機の各部について説明を加える。
蒸発器1と吸収器2は、容器6を用いて一体的に構成してある。つまり、容器内6を通気自在な状態で仕切り体7にて横方向に仕切り、その容器6内の一方側に、冷媒液を散布する冷媒散布具8と、その冷媒散布具8にて冷媒液が散布される蒸発器コイル9と、冷媒散布具8から散布された冷媒液を溜める蒸発器液溜部10とを配設して、蒸発器1を構成し、又、容器6内の他方側に、濃液を散布する吸収液散布具11と、その吸収液散布具11にて濃液が散布される吸収器コイル12とを配設すると共に、蒸発器1にて発生した冷媒蒸気を吸収した希液を貯留する吸収器液溜部13を容器6の底部に形成して、吸収器2を構成してある。
Hereinafter, each part of the absorption chiller will be described.
The evaporator 1 and the absorber 2 are integrally configured using a
蒸発器液溜部10には、後述する凝縮器5の凝縮器液溜部14から冷媒液を冷媒液供給路15を通じて供給し、その蒸発器液溜部10の冷媒液を冷媒ポンプ16により冷媒液循環路17を通じて冷媒散布具8に圧送するようにしてある。
吸収液散布具11には、後述する低温再生器4の低温再生器液溜部18から濃液を濃液路19を通じて供給するようにしてある。
The
A concentrated liquid is supplied to the absorbing
そして、蒸発器コイル9には冷水取り出し用の冷水路20を通じて冷水を通流させ、吸収器コイル12には冷却水路21を通じて冷却水を通流させている。尚、この冷却水路21は、吸収器コイル12、後述する凝縮器5の凝縮器コイル22の順に冷却水を通流させるように配管してある。
The
吸収器液溜部13の希液を吸収液ポンプ23にて希液路24を通じて高温再生器3に供給し、その高温再生器3において、ガスバーナ25の燃焼により吸収液を加熱して冷媒蒸気を発生させる。
図中の26は、高温再生器3で発生した冷媒蒸気から吸収液を分離する分離器であり、その分離器26にて吸収液を分離した冷媒蒸気を、冷媒蒸気路27を通じて、後述する低温再生器4の低温再生器コイル28を通過させた後、凝縮器5内に供給するようにしてある。
この分離器26には、冷媒蒸気に随伴する液滴状の吸収液を分離する分離具26aを内装してある。
The dilute liquid in the
The
又、図中の29は、温水取り出し用の温水器であり、この温水器29は、冷媒蒸気取り出し路30を通じて高温再生器3から取り出した冷媒蒸気と温水路31を通流する湯水とを熱交換させて、冷媒蒸気の顕熱と凝縮潜熱により湯水を加熱して、温水路31を通じて湯を取り出すように構成してある。
低温再生器4と凝縮器5は、容器32を用いて一体的に構成してある。つまり、容器32内を通気自在な状態で仕切り体33にて横方向に仕切り、その容器32内の一方側に、中液路34を通じて高温再生器3から中液が供給される前記低温再生器液溜部18と、冷媒蒸気路27を通じて高温再生器3から冷媒蒸気が供給される前記低温再生器コイル28とを設けて、低温再生器4を構成し、又、容器32内の他方側に、前記凝縮器液溜部14と、前記冷却水路21を通じて冷却水が供給される前記凝縮器コイル22とを設けて、凝縮器5を構成してある。
The low-
そして、低温再生器4において、低温再生器コイル28を通流する冷媒蒸気にて低温再生器液溜部18の吸収液を加熱して冷媒蒸気を発生させて吸収液を濃縮し、そのように濃縮した濃液を前記濃液路19を通じて吸収器2の吸収液散布具11に供給するようになっている。
凝縮器5において、冷媒蒸気路27を通じて高温再生器3から供給される冷媒蒸気、及び、仕切り体33を通過して低温再生器4から供給される冷媒蒸気を凝縮器コイル22を通流する冷却水にて冷却して凝縮させて、その冷媒液を凝縮器液溜部14に溜め、その凝縮器液溜部14の冷媒液を冷媒液供給路15を通じて蒸発器1の蒸発器液溜部10に供給するようになっている。
Then, in the
In the
又、中液路34を通流する中液により希液路24を通流する希液を加熱する高温熱交換器35、及び、濃液路19を通流する濃液により希液路24を通流する希液を加熱する低温熱交換器36を設けてある。
Further, the high
この吸収式冷凍機は、冷水路20を通じて冷水を取り出す冷房運転と、温水路31を通じて温水を取り出す暖房運転とに切り換え自在なように構成してあり、その冷暖切換用として、希液路24に希液路開閉弁37を、中液路34に中液路開閉弁38をそれぞれ設けると共に、冷媒蒸気路27に、冷媒蒸気路開閉弁39を分離器26と低温再生器コイル28との間、及び、その低温再生器コイル28と凝縮器5との間のそれぞれに位置させて設けてある。
そして、冷房運転を実行するときは、吸収液ポンプ23及び冷媒ポンプ16を作動させ、且つ、希液路開閉弁37、中液路開閉弁38及び2個の冷媒蒸気路開閉弁39を全て開弁し、暖房運転を実行するときは、吸収液ポンプ23及び冷媒ポンプ16を停止させ、且つ、希液路開閉弁37、中液路開閉弁38及び2個の冷媒蒸気路開閉弁39を全て閉弁することになる。
This absorption refrigerator is configured to be switchable between a cooling operation in which cold water is taken out through the
When the cooling operation is executed, the
つまり、冷房運転においては、高温再生器3及び低温再生器4にて発生した冷媒蒸気を凝縮器5に供給して、その冷媒蒸気を凝縮器コイル22の作用により凝縮させて、冷媒液を凝縮器液溜部14に貯留し、その凝縮器液溜部14の冷媒液を蒸発器液溜部10に供給する。そして、その蒸発器液溜部10の冷媒液を冷媒ポンプ16により冷媒散布具8から蒸発器1内に散布し、その散布冷媒液を蒸発器コイル9の作用にて蒸発させて、その蒸発による気化熱奪取により、蒸発器コイル9を通流する冷水を冷却して、冷水路20を通じて冷水を取り出すようになっている。
一方、低温再生器4からの吸収液を吸収液散布具11から吸収器2内に散布して、その散布吸収液に蒸発器1にて発生した冷媒蒸気を吸収させ、その冷媒蒸気の吸収により濃度が低くなった吸収液を高温再生器3、低温再生器4を順次経由させて通流させて、高温再生器3及び低温再生器4のそれぞれにおいて吸収液から冷媒蒸気を発生させて吸収液を濃縮し、濃縮した吸収液を前述のように吸収液散布具11から吸収器2内に散布するようになっている。
又、吸収器2にて濃液が冷媒蒸気を吸収することにより生じた吸収熱を吸収器コイル12を通流する冷却水に与え、凝縮器5にて冷媒蒸気が凝縮することにより発生する凝縮熱を凝縮器コイル22を通流する冷却水に与えて、吸収熱及び凝縮熱を冷却水を通じて外部に取り出すようになっている。
That is, in the cooling operation, the refrigerant vapor generated in the high temperature regenerator 3 and the
On the other hand, the absorbing liquid from the
Further, the heat generated by the concentrated liquid absorbing the refrigerant vapor in the absorber 2 is given to the cooling water flowing through the
更に、この吸収式冷凍機には、吸収液や冷媒の循環系における低圧部(例えば、蒸発器1又は吸収器2)に吸引作用する吸引部41、及び、その吸引部41にて吸引された水素ガスを貯留する貯留タンク42を設け、前記水素ガス除去装置Eをその貯留タンク42に設けることにより、吸収式冷凍機の機内で発生した水素ガスを貯留タンク42において水素ガス除去装置Eにて除去することで、水素ガス発生による機内の圧力上昇(特に、低圧が要求される蒸発器1や吸収器2における器内圧力の上昇)を防止して吸収式冷凍機の能力低下を防止するようにしてある。
Furthermore, in this absorption refrigerator, the
前記吸引部41は、エジェクタ44を用いて、吸収液ポンプ23にて送出される希液の一部を駆動流体として容器6内における吸収器構成空間、即ち吸収器2に吸引路46を通じて吸引作用する構成であり、吸収液ポンプ23にて送出される希液の一部を駆動流体として希液分岐路45にてエジェクタ44に導いて、その希液の高速流動により吸引路46を通じて吸収器2に吸引作用して、吸収器2の器内気体(冷媒蒸気及び水素ガスを含む)を吸入するように構成してある。ちなみに、上述のように蒸発器1と吸収器2は、容器6内に互いに連通状態に構成してあるので、蒸発器1の器内気体(冷媒蒸気及び水素ガスを含む)をも、吸引路46を通じて吸引する。
The
貯留タンク42は、U字状の噴出路47にてエジェクタ44の噴出口に接続した状態で配置し、エジェクタ44から噴出された希液と器内気体との混合流体を噴出路47を通じて貯留タンク42内にその底部から供給して、貯留タンク42内において希液と不凝縮性の水素ガスとを気液分離状態にて貯留するように構成してある。
噴出路47には、貯留タンク42からエジェクタ44への流体の逆流を阻止するチェックバルブ48を設けてある。
又、貯留タンク42と吸収器2とをU字状の希液戻し路49にて接続してあり、その希液戻し路49を通じて、貯留タンク42にて水素ガスと分離した希液を吸収器2の吸収器液溜部13に戻すように構成してある。
The
The
The
次に、図2に基づいて、水素ガス除去装置Eについて説明を加える。
この水素ガス除去装置Eは、金属酸化物(この実施形態では酸化第2銅(CuO))を含む酸化部Oxと、その酸化部Oxを加熱する加熱手段としての電気ヒータ52と、それら酸化部Ox及び電気ヒータ52を装着する耐食金属製の装置ブロック53とを備えており、貯留タンク42内の水素ガスを金属酸化物にて酸化させて凝縮可能な状態(水蒸気)にすることで、機内の水素ガスを除去するように構成してある。
また、電気ヒータ52により酸化部Oxを加熱して酸化反応を促進することで効率的に機内の水素ガスを除去するようにしてある。
Next, the hydrogen gas removing device E will be described based on FIG.
This hydrogen gas removing device E includes an oxidized portion Ox containing a metal oxide (in this embodiment, cupric oxide (CuO)), an
Further, the oxidation part Ox is heated by the
前記酸化部Oxは、金属酸化物の多孔状焼結体51にて構成してある。
The oxidized portion Ox is composed of a metal oxide porous
次に、水素ガス除去装置Eを貯留タンク42に取り付ける取り付け構成について説明する。
貯留タンク42を形成する器壁における貯留タンク42の気相部を囲繞する器壁42a(この実施形態では上壁)には水素ガス除去装置Eの取付口42bを形成してあり、多孔状焼結体51及び電気ヒータ52を装着した装置ブロック53を貯留タンク42の外部から上記取付口42bに挿入した状態で器壁42aに対し連結固定することにより、水素ガス除去装置Eを貯留タンク42に取り付ける。
Next, an attachment configuration for attaching the hydrogen gas removing device E to the
An
また、この取り付けにおいて、装置ブロック53は貯留タンク42の内部と外部とに跨らせた状態でボルトなどの連結及び連結解除操作が自在な連結手段により器壁42aに連結固定し、装置ブロック53と器壁42aとの間はシール手段によりシールする。
Further, in this attachment, the device block 53 is connected and fixed to the
すなわち、水素ガス除去装置Eは、それが貯留タンク42の器壁の一部(換言すれば、取付口42bに対する蓋)を形成する状態にして貯留タンク42の器壁42aに対し着脱自在に取り付けてあり、これにより、製作時における水素ガス除去装置Eの組み付けやその後における水素ガス除去装置Eのメンテナンス等を容易にする。
That is, the hydrogen gas removing device E is detachably attached to the
装置ブロック53には、それを器壁42aに取り付けた状態において貯留タンク42の気相部に開口させる酸化部収容孔53aと貯留タンク42の外部に開口させるヒータ挿入孔53bを形成してあり、多孔状焼結体51は酸化部収用孔53aに収容して装置ブロック53に装着し、電気ヒータ52はヒータ挿入孔53bに対し嵌入状に挿入して装置ブロック53に装着してある。
すなわち、貯留タンク42内の水素ガスをフィルタ54を通じ酸化部収容孔53aに流入させることで、その水素ガスを酸化部収容孔53a内において電気ヒータ52による加熱下で多孔状焼結体51と反応させるように、また、電気ヒータ52はメンテナンス時などにおいて貯留タンク42の気密を破ることなく装置ブロック53から取り外せるようにしてある。
The apparatus block 53 is formed with an oxidation
That is, the hydrogen gas in the
又、水素ガスにより多孔状焼結体51の金属酸化物の還元が進行して、金属酸化物の含有量が少なくなって、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスが必要となると、水素ガス除去装置Eを貯留タンク42から取り外して、多孔状焼結体51を酸化部収容孔53aから取り出す。そして、取り出した多孔状焼結体51を酸化雰囲気にて加熱して金属(この実施形態では銅)を酸化させて、水素ガス除去能力を回復させる。
Moreover, when the reduction of the metal oxide of the porous
又、水素ガス除去装置Eには、多孔状焼結体51の温度を検出する加熱温度センサ57を装備してある。
そして、吸収式冷凍機の運転制御を司る制御器55は、前記加熱温度センサ57の検出温度が設定温度になるように電気ヒータ52の出力を調整する酸化部温度制御を実行するように構成してある。前記設定温度は120〜250°Cの範囲内に設定して、制御器55に記憶させてある。
Further, the hydrogen gas removing device E is equipped with a
The
前記多孔状焼結体51の製作方法について説明を加える。
この多孔状焼結体51は、金属酸化物(この実施形態では酸化第2銅)の粉末とその金属酸化物よりも沸点が低いバインダー(この実施形態ではポリビニールアルコール)との混合物をそのバインダーの沸点よりも高温に加熱して、金属酸化物の粉末を多孔状に焼結させて形成する。
そして、酸化第2銅の多孔状焼結体51の密度は、4.0g/cm3以上に設定するのが好ましい。
但し、酸化第2銅の結晶の比重は、6.4であるので、酸化第2銅の多孔状焼結体51の密度は、6.4g/cm3よりも小さいものとなる。
A method for manufacturing the porous
This porous
The density of the cuprous oxide porous
However, since the specific gravity of the cupric oxide crystal is 6.4, the density of the porous
更に説明を加えると、金属酸化物とバインダーとの混合物を所定の形状(円柱状、球状、立方体状、直方体状等)に加圧成形して、そのように加圧成形した金属酸化物とバインダーとの混合物をバインダーの沸点よりも高温に加熱してバインダーを気化させて、金属酸化物の粉末を多孔状に焼結させて、多孔状焼結体51を形成する。
金属酸化物とバインダーとの混合物を所定の形状に加圧成形するに当たっては、極力大きい形状に成形して、多孔状焼結体51を極力大きく形成するようにして、酸化部収容孔53aに収容する多孔状焼結体51の個数を極力少なくする(例えば、2〜5個程度)ようにしてある。ちなみに、この実施形態では、前記混合物を円柱状に成形することにより、多孔状焼結体51を円柱状に形成し、その円柱状の多孔状焼結体51の複数個を積み重ねて、全体として、酸化部収用孔53aに収容可能な円柱状となるようにしてある。
More specifically, a mixture of a metal oxide and a binder is pressure-molded into a predetermined shape (cylindrical shape, spherical shape, cubic shape, rectangular parallelepiped shape, etc.), and the pressure-formed metal oxide and binder are so shaped. The mixture is heated to a temperature higher than the boiling point of the binder to evaporate the binder, and the metal oxide powder is sintered in a porous shape to form the porous
In pressing the mixture of the metal oxide and the binder into a predetermined shape, the mixture is formed in a shape as large as possible to form the porous
つまり、酸化部Oxを構成する多孔状焼結体51の個数を少なくすることにより、多孔状焼結体51の取扱いを容易にして、製作時における水素ガス除去装置Eの組み付けや、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスを一層簡略化している。
That is, by reducing the number of the porous
以下、前記多孔状焼結体51の製作条件について説明する。
即ち、多孔状焼結体51の製作条件である金属酸化物の原料粉末の粒径、バインダーの量、金属酸化物の粉末とバインダーとの混合物の成形圧力、焼成温度及び焼成時間夫々は、以下に記載する範囲内で所定の値に設定する。
Hereinafter, manufacturing conditions of the porous
That is, the particle size of the metal oxide raw material powder, the amount of the binder, the molding pressure of the mixture of the metal oxide powder and the binder, the firing temperature and the firing time, which are the production conditions of the porous
金属酸化物の原料粉末の大部分(例えば80wt%以上)の粒径:0.05〜30μm、好ましくは、0.1〜10μm
バインダーの量:0.1〜10wt%、好ましくは、1〜5wt%
成形圧力:2.5〜147MPa、好ましくは、4.9〜98MPa
焼成温度:400〜1100°C、好ましくは、500〜1000°C
焼成時間:0.2〜6h、好ましくは、0.5〜5h
Particle size of most of the metal oxide raw material powder (for example, 80 wt% or more): 0.05 to 30 μm, preferably 0.1 to 10 μm
Amount of binder: 0.1 to 10 wt%, preferably 1 to 5 wt%
Molding pressure: 2.5 to 147 MPa, preferably 4.9 to 98 MPa
Firing temperature: 400 to 1100 ° C, preferably 500 to 1000 ° C
Firing time: 0.2-6h, preferably 0.5-5h
図3に、多孔状焼結体51を形成する金属酸化物(酸化第2銅)の原料粉末の粒径の分布の一例を示す。この図3に示す例では、多孔状焼結体51を形成する金属酸化物(酸化第2銅)の原料粉末のうちの約95wt%の粒径が、0.1〜10μmの範囲である。
FIG. 3 shows an example of the particle size distribution of the raw material powder of the metal oxide (cupric oxide) that forms the porous
次に、多孔状焼結体51の密度を4.0g/cm3以上に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができることを検証した結果を説明する。
この検証試験では、吸収液ポンプ23を一時的に停止させて貯留タンク42への水素ガスの導入を停止した状態で、多孔状焼結体51による水素ガスの除去により、貯留タンク42内の圧力が上位圧力(例えば12kPa)から下位圧力(例えば9.33kPa)にまで低下するのに要する時間(以下、圧力低下所要時間と称する場合がある)を測定して、その測定した圧力低下所要時間を比較することにより、水素ガス除去能力を比較した。
Next, the result of verifying that the hydrogen gas removal capability can be improved by setting the density of the porous
In this verification test, the pressure in the
密度が4.0g/cm3の多孔状焼結体51の場合、前記圧力低下所要時間は4.5時間であり、密度が6.2g/cm3の多孔状焼結体51の場合、前記圧力低下所要時間は4〜5時間であった。記載は省略するが、密度が4.0、6.2g/cm3以外の4.0g/cm3以上の多孔状焼結体51でも、前記圧力低下所要時間は、密度が4.0g/cm3の多孔状焼結体51と略同等であった。
又、密度が3.0g/cm3の多孔状焼結体51の場合は、貯留タンク42内の圧力を9.80kPaにまでしか低下させることができなかった。
In the case of the porous
Further, in the case of the porous
つまり、密度が4.0g/cm3よりも小さい3.0g/cm3の多孔状焼結体51では、金属酸化物の体積効率が小さいので、貯留タンク42内の水素ガスを十分に除去するまでに、金属酸化物の含有量が少なくなって、水素ガス除去能力が低下するので、貯留タンク42内の圧力を9.80kPaにまでしか低下させることができないのである。
In other words, the density is in the porous
次に、多孔状焼結体51の密度を4.0g/cm3以上に設定することにより水素ガス除去能力を向上させることができることを、1時間当たりの水素ガス除去量(cm3/h)を比較することにより検証した結果を説明する。
この検証試験では、密度が異なる多孔状焼結体51夫々について、多孔状焼結体51の加熱温度が180°Cのとき及び210〜230°Cのときの夫々において、1時間当たりの水素ガス除去量を測定して、その測定した1時間当たりの水素ガス除去量を比較することにより、水素ガス除去能力を比較した。
Next, the hydrogen gas removal capacity (cm 3 / h) per hour indicates that the hydrogen gas removal capability can be improved by setting the density of the porous
In this verification test, for each of the porous
図4に、多孔状焼結体51の密度と1時間当たりの水素ガス除去量との関係を示す。ちなみに、図4は、密度が3.5〜6.2g/cm3の多孔状焼結体51夫々について1時間当たりの水素ガス除去量を測定し、その測定データから、密度が3.5〜6.2g/cm3における多孔状焼結体51の密度と1時間当たりの水素ガス除去量との関係を求めたものであり、この関係から、密度が3.5〜6.2g/cm3以外の多孔状焼結体51の1時間当たりの水素ガス除去量を推測することができる。
ちなみに、従来の水素ガス除去装置における標準的な1時間当たりの水素ガス除去量は、45cm3/hである。
FIG. 4 shows the relationship between the density of the porous
Incidentally, the standard hydrogen gas removal amount per hour in the conventional hydrogen gas removal apparatus is 45 cm 3 / h.
図4から、多孔状焼結体51の密度を4.0g/cm3以上に設定すると、金属酸化物の体積効率を大きくして、1時間当たりの水素ガス除去量を多くすることができることが分かる。
又、多孔状焼結体51の加熱温度が180°Cのときよりも210〜230°Cのときの方が1時間当たりの水素ガス除去量が多いことが分かる。
From FIG. 4, when the density of the porous
It can also be seen that the amount of hydrogen gas removed per hour is larger when the heating temperature of the porous
つまり、密度が4.0g/cm3よりも小さい多孔状焼結体51では、酸化第2銅の体積効率が小さいので、1時間当たりの水素ガス除去量が低くなり、一方、密度が4.0g/cm3以上の多孔状焼結体51では、酸化第2銅の体積効率が大きくなるので、1時間当たりの水素ガス除去量が高くなるのである。
更に、多孔状焼結体51の密度を4.0g/cm3以上にすることにより、多孔状焼結体51の熱伝導が大きくなるので、上述のように電気ヒータ52にて多孔状焼結体51を前記設定温度に加熱して水素ガス除去を行わせる場合に、多孔状焼結体51全体にわたって温度分布を小さくして、多孔状焼結体51全体にわたって還元反応に適した温度に維持することができるので、このことによっても1時間当たりの水素ガス除去量が多くなる。
That is, in the porous
Furthermore, since the heat conduction of the porous
そして、前記圧力低下所要時間が短いということは、即ち、1時間当たりの水素ガス除去量が多いということであり、上述のように、圧力低下所要時間を比較することにより水素ガス除去能力を比較する場合に、圧力低下所要時間が短いということ、及び、1時間当たりの水素ガス除去量を比較することにより水素ガス除去能力を比較する場合に、1時間当たりの水素ガス除去量が多いということは、いずれも、酸化第2銅の多孔状焼結体51における単位体積当たりの水素ガス除去量が多い、即ち、水素ガス除去能力が高いということになる。
つまり、上記の2種類の検証試験により、多孔状焼結体51の密度を4.0g/cm3以上に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができることを検証することができた。
The short time required for the pressure drop means that the amount of hydrogen gas removed per hour is large. As described above, the hydrogen gas removal capacity is compared by comparing the time required for pressure drop. The time required for pressure drop is short, and the amount of hydrogen gas removed per hour is large when comparing the hydrogen gas removal capacity by comparing the amount of hydrogen gas removed per hour In any case, the removal amount of hydrogen gas per unit volume in the porous
That is, it was verified that the hydrogen gas removal ability can be improved by setting the density of the porous
又、酸化第2銅の多孔状焼結体51の密度が大きくなって、酸化第2銅の結晶の比重に相当する6.4g/cm3に近づくほど、多孔状焼結体51の細孔が微細になる傾向となる。
そして、酸化第2銅の多孔状焼結体51の密度が6.3g/cm3以下では、酸化第2銅の多孔状焼結体51に水素ガスを十分に浸透させることができて、高い水素ガス除去能力が得られることが推測できる。
つまり、水素ガス除去能力をより一層高くするには、酸化第2銅の多孔状焼結体51の密度を、4.0〜6.3g/cm3の範囲に設定するのが好ましい。
Further, as the density of the cupric oxide porous
When the density of the cupric oxide porous
That is, in order to further increase the hydrogen gas removal capability, it is preferable to set the density of the cupric oxide porous
上述のように、酸化第2銅の多孔状焼結体51の密度を4.0g/cm3以上に設定して、水素ガス除去能力を高くすることにより、多孔状焼結体51の体積を大きくするのを回避しながら、例えば、単位時間当たりに所定量ずつ発生する水素ガスを多孔状焼結体51にて除去できる時間を長くすることができることになる。
つまり、酸化第2銅の多孔状焼結体51の密度を4.0g/cm3以上に設定することにより、水素ガス除去装置を小型化しながら、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスの頻度を低くすることができて、そのメンテナンスにかかわる負担を軽減することができるのである。
As described above, by setting the density of the cuprous oxide porous
In other words, by setting the density of the cupric oxide porous
例えば、吸収式冷凍機の運転時間がメンテナンス用設定時間に達する毎に、あるいは、高温再生器3のガスバーナ25の積算燃焼量がメンテナンス用設定積算燃焼量に達する毎に、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスを行うことになり、本発明の水素ガス除去装置によれば、前記メンテナンス用設定時間を長く設定する、あるいは、前記メンテナンス用設定積算燃焼量を多く設定することが可能となって、水素ガス除去能力回復のためのメンテナンスにかかわる負担を軽減することができるのである。
For example, every time the operation time of the absorption chiller reaches the set time for maintenance, or every time the accumulated combustion amount of the
〔第2実施形態〕
以下、本発明の第2実施形態を説明するが、この第2実施形態では、多孔状焼結体51が異なる以外は、第1実施形態と同様に構成してあるので、第1実施形態と同じ構成要素や同じ作用を有する構成要素については説明を省略し、主として、多孔状焼結体51について説明する。
即ち、図1に示すように、水素ガス除去装置Eを備えた二重効用の吸収式冷凍機は、第1実施形態と同様の構成であり、図2に示すように、水素ガス除去装置Eは、貯留タンク42に第1実施形態と同様の構成にて取り付けてある。
[Second Embodiment]
Hereinafter, although 2nd Embodiment of this invention is described, in this 2nd Embodiment, since the porous sintered compact 51 differs, it has comprised similarly to 1st Embodiment, Therefore 1st Embodiment and Description of the same components and components having the same action is omitted, and the porous
That is, as shown in FIG. 1, the double-effect absorption refrigerator having the hydrogen gas removing device E has the same configuration as that of the first embodiment, and as shown in FIG. 2, the hydrogen gas removing device E Is attached to the
前記多孔状焼結体51は、第1実施形態と同様に、金属酸化物(この実施形態では酸化第2銅)の粉末とその金属酸化物よりも沸点が低いバインダー(この実施形態ではポリビニールアルコール)との混合物をそのバインダーの沸点よりも高温に加熱して金属酸化物の粉末を多孔状に焼結させて形成するが、その多孔状焼結体51の平均細孔半径を、300〜3000nmの範囲に設定してある。
As in the first embodiment, the porous
多孔状焼結体51の平均細孔半径は、水銀圧入法、ガス吸着法等の種々の測定法による細孔分布測定装置を用いて測定した値であり、この実施形態では、株式会社島津製作所製の水銀圧入法によるオートポア9220型の細孔分布測定装置を用いて測定した値である。
The average pore radius of the porous
更に説明を加えると、第1実施形態と同様に、金属酸化物とバインダーとの混合物を、極力大きい形状に成形して、多孔状焼結体51を極力大きく形成するようにして、酸化部収容孔53aに収容する多孔状焼結体51の個数を極力少なくする(例えば、2〜5個程度)ようにしてある。
More specifically, as in the first embodiment, the mixture of the metal oxide and the binder is formed into a shape that is as large as possible, and the porous
前記多孔状焼結体51の製作条件、即ち、金属酸化物の粉末の粒径、バインダーの量、金属酸化物の粉末とバインダーとの混合物の成形圧力、焼成温度及び焼成時間夫々は、多孔状焼結体51の平均細孔半径を300〜3000nmの範囲内の所定の値に設定すべく、上記の第1実施形態において説明したのと同様の範囲内で所定の値に設定する。
The production conditions of the porous
次に、多孔状焼結体51の平均細孔半径を300〜3000nmの範囲に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができることを検証した結果を説明する。
この検証試験では、第1実施形態と同様に、圧力低下所要時間を比較することにより、水素ガス除去能力を比較した。
Next, the result of verifying that the hydrogen gas removal capability can be improved by setting the average pore radius of the porous
In this verification test, the hydrogen gas removal capability was compared by comparing the time required for pressure drop, as in the first embodiment.
平均細孔半径が1500nmの多孔状焼結体51の場合、前記圧力低下所要時間は6.2時間であった。記載は省略するが、平均細孔半径が1500nm以外の300〜3000nmの範囲の多孔状焼結体51でも、前記圧力低下所要時間は、平均細孔半径が1500nmの多孔状焼結体51と略同等であった。
又、平均細孔半径が4400nmの多孔状焼結体51の場合、貯留タンク42内の圧力を10.1kPaにまでしか低下させることができず、平均細孔半径が130nmの多孔状焼結体51の場合は、貯留タンク42内の圧力を11.3kPaにまでしか低下させることができなかった。
In the case of the porous
In the case of the porous
つまり、平均細孔半径が300〜3000nmの範囲よりも大きい4400nmの多孔状焼結体51では、金属酸化物の体積効率が小さいので、貯留タンク42内の水素ガスを十分に除去するまでに、金属酸化物の含有量が少なくなって、水素ガス除去能力が低下してしまい、一方、平均細孔半径が300〜3000nmの範囲よりも小さい130nmの多孔状焼結体51では、多孔状焼結体51の細孔が微細過ぎて水素ガスが多孔状焼結体51内に浸透し難いので、水素ガス除去能力が低く、貯留タンク42内の水素ガスを十分に除去することができないのである。
従って、多孔状焼結体51の平均細孔半径を300〜3000nmの範囲に設定することにより、水素ガス除去能力を向上させることができることを検証することができた。
That is, in the porous
Therefore, it was verified that the hydrogen gas removal ability can be improved by setting the average pore radius of the porous
〔別実施形態〕
次に別実施形態を説明する。
(イ) 水素ガス除去装置Eの設置箇所は、上記の各実施形態において例示した貯留タンク42に限定されるものではない。
例えば、図5に示すように、上記の各実施形態において設置した吸引部41及び貯留タンク42を省略して、水素ガス除去装置Eを分離器26に設けたり、図6に示すように、更に、分離器26を省略して、高温再生器3の気相部に設けても良い。
これらの場合、前記吸引部41及び貯留タンク4を省略することができるので、構造を簡略化して低廉化を図ることが可能となる。
水素ガス除去装置Eを高温再生器3に設ける場合、図6に示すように、高温再生器3の気相部に設けられる内装分離具26aよりも冷媒蒸気通流方向における下流側の部分に設けるのが望ましい。
又、水素ガス除去装置Eを分離器26や高温再生器3に設ける場合、上記の各実施形態と同様に、水素ガス除去装置E(具体的には装着ブロック53)をそれが器壁の一部を形成する状態にして分離器26や高温再生器3の器壁に対し着脱自在に連結固定する構造、及び、水素ガス除去装置Eを分離器26や高温再生器3の器壁に取り付けた状態において電気ヒータ52を分離器26や高温再生器3の気密性を破ることなく分離器26や高温再生器3の外部から取り外し可能な構造にするのが望ましい。
[Another embodiment]
Next, another embodiment will be described.
(A) The installation location of the hydrogen gas removing device E is not limited to the
For example, as shown in FIG. 5, the
In these cases, since the
When the hydrogen gas removing device E is provided in the high temperature regenerator 3, as shown in FIG. 6, it is provided in a portion on the downstream side in the refrigerant vapor flow direction from the
Further, when the hydrogen gas removing device E is provided in the
又、例えば、上記の各実施形態において、水素ガス除去装置Eを貯留タンク42に加えて、分離器26や高温再生器3に設ける等、水素ガス除去装置Eを複数箇所に設けても良い。
Further, for example, in each of the above embodiments, the hydrogen gas removing device E may be provided at a plurality of locations, such as by adding the hydrogen gas removing device E to the
(ロ) 上記の実施形態では、多孔状焼結体51を、その密度が4.0g/cm3以上になること及びその平均細孔半径が300〜3000nmの範囲になることのいずれか一方を満足させるように形成する場合について例示したが、多孔状焼結体51を、その密度が4.0g/cm3以上になること及びその平均細孔半径が300〜3000nmの範囲になることの両方を満足するように形成しても良い。
(B) In the above-described embodiment, the porous
(ハ) 多孔状焼結体51の製作方法は、上記の各実施形態において例示した方法、即ち、金属酸化物の粉末とバインダーとの混合物をそのバインダーの沸点よりも高温に加熱する方法に限定されるものではなく、種々の方法が可能である。
例えば、金属の粉末とバインダーとの混合物をバインダーの沸点よりも高温に加熱して、その加熱過程で金属を酸化させながら焼結させる方法、あるいは、金属の粉末とバインダーとの混合物をバインダーの沸点よりも高温に加熱して金属の粉末を焼結させて、その焼結後に金属を酸化させる方法が可能である。
(C) The manufacturing method of the porous
For example, a method in which a mixture of a metal powder and a binder is heated to a temperature higher than the boiling point of the binder and the metal is oxidized during the heating process, or a mixture of the metal powder and the binder is heated to the boiling point of the binder. It is possible to sinter metal powder by heating to a higher temperature and oxidize the metal after the sintering.
(ニ) 上記の各実施形態では、前記酸化部Oxを複数個の多孔状焼結体51にて構成する場合について例示したが、酸化部Oxを1個の多孔状焼結体51にて構成しても良い。この場合は、金属酸化物とバインダーとの混合物を、酸化部収容孔53aよりもやや小さい形状に加圧成形して、それを加熱することにより、多孔状焼結体51を酸化部収容孔53aに収容可能な形状に形成するようにして、酸化部Oxを1個の多孔状焼結体51にて構成する。
(D) In each of the above embodiments, the case where the oxidized portion Ox is constituted by a plurality of porous
(ホ) 上記の各実施形態においては、多孔状焼結体51を金属酸化物のみを多孔状に焼結させて形成する場合について例示したが、金属酸化物以外のものを含む状態で金属酸化物を多孔状に焼結させて形成しても良い。但し、多孔状焼結体51に金属酸化物以外のものを含ませると、金属酸化物の体積効率が小さくなるので、金属酸化物以外のものの含有率を極力小さくするのが望ましい。
(E) In each of the above embodiments, the porous
(ヘ) 酸化部Oxとしての多孔状焼結体51を加熱する加熱手段の具体構成としては、上記の各実施形態において例示した電気ヒータ52を熱源とする構成に限定されるものではなく、例えば、高温再生器3のガスバーナ25の燃焼排ガスを熱源とする構成等、種々の構成が可能である。
(F) The specific configuration of the heating means for heating the porous
(ト) 多孔状焼結体51を形成する金属酸化物としては、上記の各実施形態において例示した酸化第2銅に限定されるものではなく、一酸化ニッケル(NiO)、一酸化コバルト(CoO)、酸化クロム、酸化鉄、酸化モリブデン、酸化鉛、酸化マンガン、酸化アルミ等、還元反応により水素ガスを酸化させて凝縮可能な状態にし得るものであれば、どのような金属酸化物でも良い。
尚、多孔状焼結体51を形成する金属酸化物として、一酸化ニッケルを用いる場合、その一酸化ニッケルの多孔状焼結体51の密度は、5.0〜6.5g/cm3の範囲が好ましく、又、多孔状焼結体51を形成する金属酸化物として、一酸化コバルトを用いる場合、その一酸化コバルトの多孔状焼結体の密度は、4.0〜6.2g/cm3の範囲が好ましい。
又、多孔状焼結体51を形成するために金属酸化物の粉末に混合させるバインダーとしては、上記の各実施形態において例示したポリビニールアルコールに限定されるものではなく、例えば、サリチル酸、樟脳(C10H16O、二環式飽和テルペンケトン)、ステアリン酸等の金属塩を用いることが可能である。
(G) The metal oxide that forms the porous
In addition, when using nickel monoxide as a metal oxide which forms the porous sintered compact 51, the density of the porous sintered compact 51 of the nickel monoxide is the range of 5.0-6.5 g / cm < 3 >. In addition, when cobalt monoxide is used as the metal oxide forming the porous
In addition, the binder to be mixed with the metal oxide powder to form the porous
(チ) 水素ガス除去対象装置の具体例は、上記の実施形態において例示した如き二重効用の吸収式冷凍機に限定されるものではない。
例えば、水素ガス除去対象装置を吸収式冷凍機とする場合、上記の実施形態の如き二重効用のもの以外に、単効用や三重効用のものでも良い。又、冷媒と吸収剤の組み合わせは、上記の実施形態の如き水と臭化リチウムの組み合わせ以外に、アンモニアと水の組み合わせ等、種々の冷媒と吸収剤の組み合わせのものが可能である。
又、吸収式冷凍機以外に、装置内にて水素ガスを発生する種々の装置を本発明の水素ガス除去装置による水素ガス除去対象とすることができる。
(H) The specific example of the apparatus for removing hydrogen gas is not limited to the double-effect absorption refrigerator as exemplified in the above embodiment.
For example, when the hydrogen gas removal target device is an absorption refrigerator, a single effect or triple effect may be used in addition to the double effect as in the above embodiment. In addition to the combination of water and lithium bromide as in the above embodiment, various combinations of refrigerant and absorbent, such as a combination of ammonia and water, are possible as the combination of the refrigerant and the absorbent.
In addition to the absorption refrigerator, various devices that generate hydrogen gas in the device can be targeted for hydrogen gas removal by the hydrogen gas removal device of the present invention.
51 多孔状焼結体
Ox 酸化部
51 Oxidation part of porous sintered body Ox
Claims (8)
前記酸化部が、金属酸化物の多孔状焼結体にて構成されている水素ガス除去装置。 A hydrogen gas removing device configured to oxidize and remove hydrogen gas generated in a device of a hydrogen gas removal target device in an oxidation unit containing a metal oxide,
The hydrogen gas removal apparatus in which the said oxidation part is comprised with the porous sintered compact of the metal oxide.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005325002A JP2006162243A (en) | 2004-11-10 | 2005-11-09 | Gaseous hydrogen removing device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004326361 | 2004-11-10 | ||
JP2005325002A JP2006162243A (en) | 2004-11-10 | 2005-11-09 | Gaseous hydrogen removing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006162243A true JP2006162243A (en) | 2006-06-22 |
Family
ID=36664450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005325002A Pending JP2006162243A (en) | 2004-11-10 | 2005-11-09 | Gaseous hydrogen removing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006162243A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008261569A (en) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Osaka Gas Co Ltd | Absorption-type refrigerating device |
JP2008261570A (en) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Osaka Gas Co Ltd | Hydrogen gas treatment device in absorption-type refrigerating device |
KR101729891B1 (en) * | 2016-03-14 | 2017-04-24 | 엘지전자 주식회사 | Absorption refigerating regenerator |
WO2017154137A1 (en) * | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 株式会社 東芝 | Container for solid oxide electrolysis cell stacks, hydrogen production system and electrical energy storage system |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57105665A (en) * | 1980-12-22 | 1982-07-01 | Hitachi Ltd | Closed circulation type absorption refrigerating machine |
JPS57169970U (en) * | 1981-04-22 | 1982-10-26 | ||
JPH03501998A (en) * | 1988-10-19 | 1991-05-09 | エービービー エア プレヒーター インコーポレーテッド | Heat pipes using hydrogen oxidation means |
JPH05195110A (en) * | 1991-09-04 | 1993-08-03 | Nippon Millipore Kogyo Kk | Production of porous metal body |
JP2000034136A (en) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Glass ceramic sintered compact, its production and glass ceramic wiring board using the same sintered compact and its production |
JP2000088798A (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Tdk Corp | Carbon dioxide sensor and measuring method for concentration thereof |
JP2000130892A (en) * | 1998-10-27 | 2000-05-12 | Honda Motor Co Ltd | Absorption refrigerating machine |
JP2001208454A (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-03 | Honda Motor Co Ltd | Absorption refrigerating machine |
JP2001235261A (en) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Honda Motor Co Ltd | Absorption refrigeration system |
JP2001293345A (en) * | 2000-04-12 | 2001-10-23 | Sunstar Inc | Multilayer channel structural body |
-
2005
- 2005-11-09 JP JP2005325002A patent/JP2006162243A/en active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57105665A (en) * | 1980-12-22 | 1982-07-01 | Hitachi Ltd | Closed circulation type absorption refrigerating machine |
JPS57169970U (en) * | 1981-04-22 | 1982-10-26 | ||
JPH03501998A (en) * | 1988-10-19 | 1991-05-09 | エービービー エア プレヒーター インコーポレーテッド | Heat pipes using hydrogen oxidation means |
JPH05195110A (en) * | 1991-09-04 | 1993-08-03 | Nippon Millipore Kogyo Kk | Production of porous metal body |
JP2000034136A (en) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Glass ceramic sintered compact, its production and glass ceramic wiring board using the same sintered compact and its production |
JP2000088798A (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-31 | Tdk Corp | Carbon dioxide sensor and measuring method for concentration thereof |
JP2000130892A (en) * | 1998-10-27 | 2000-05-12 | Honda Motor Co Ltd | Absorption refrigerating machine |
JP2001208454A (en) * | 2000-01-28 | 2001-08-03 | Honda Motor Co Ltd | Absorption refrigerating machine |
JP2001235261A (en) * | 2000-02-22 | 2001-08-31 | Honda Motor Co Ltd | Absorption refrigeration system |
JP2001293345A (en) * | 2000-04-12 | 2001-10-23 | Sunstar Inc | Multilayer channel structural body |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008261569A (en) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Osaka Gas Co Ltd | Absorption-type refrigerating device |
JP2008261570A (en) * | 2007-04-12 | 2008-10-30 | Osaka Gas Co Ltd | Hydrogen gas treatment device in absorption-type refrigerating device |
WO2017154137A1 (en) * | 2016-03-09 | 2017-09-14 | 株式会社 東芝 | Container for solid oxide electrolysis cell stacks, hydrogen production system and electrical energy storage system |
JPWO2017154137A1 (en) * | 2016-03-09 | 2019-02-14 | 株式会社東芝 | Container for solid oxide electrolytic cell stack, hydrogen production system, power storage system |
KR101729891B1 (en) * | 2016-03-14 | 2017-04-24 | 엘지전자 주식회사 | Absorption refigerating regenerator |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2861919B1 (en) | Refrigeration system with purge using enrivonmentally-suitable chiller refrigerant | |
TWI413544B (en) | Gas - like hydrocarbon recovery device and method | |
US9631851B2 (en) | Vacuum container for removing foreign gases from an adsorption refrigeration machine | |
JP2006162243A (en) | Gaseous hydrogen removing device | |
JP6015132B2 (en) | Combined absorption heat pump device | |
JP2004028525A (en) | Accumulator and refrigeration cycle using the same | |
JP2009019866A (en) | Chemical heat accumulating device | |
US5092135A (en) | Air conditioning system | |
JP4362435B2 (en) | Hydrogen gas removal device | |
US5174126A (en) | Air conditioning system | |
JP2019009025A (en) | Energy conversion system | |
CA2997001A1 (en) | Exhaust-gas treatment equipment and gas-capture-material deterioration-state estimating method | |
JP4926794B2 (en) | Absorption refrigeration system | |
JP2011075208A (en) | Bleed air recovery device, method for operating the bleed air recovery device, and turbo refrigerator including the bleed air recovery device | |
US8438873B2 (en) | Methods for separating a fluid, and devices capable of separating a fluid | |
JP5075346B2 (en) | Absorption refrigerator | |
WO2016047121A1 (en) | Heat storage material, catalytic unit, and heat storage system | |
JP2011133191A (en) | Refrigerant adsorbent charging container, and bleed air recovering device for turbo refrigerating machine, turbo refrigerating machine and refrigerant recovering device, including the same | |
JP2003227663A (en) | Absorptive refrigerating unit | |
JP2006214597A (en) | Regenerator in ammonia absorption type refrigerator | |
CN114191937B (en) | Water making machine, air water making system and circulating air water making system | |
JP2010286168A (en) | Heat storage system | |
JP2005055097A (en) | Adsorber for adsorption type refrigerating machine | |
JP4039601B2 (en) | Absorption refrigeration system | |
JP2558853Y2 (en) | Bleeding device for absorption refrigerator |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080422 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100527 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20100930 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |