JP2006156509A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 第1の平均欠陥密度を有する結晶からなる第1の領域3中に第1の平均欠陥密度より高い第2の平均欠陥密度を有する第2の領域2を有する窒化物系III−V族化合物半導体基板1上に素子構造を形成する窒化物系III−V族化合物半導体層4、5、6が成長された半導体装置であって、第1の領域3を活性領域に用い、第2の領域2を電極配線領域または排熱構造領域に用いる。半導体装置は半導体レーザ、発光ダイオード、トランジスタなどである。
【選択図】 図1
Description
結晶成長膜と同じ材料系の基板である高品質GaN基板が得られれば、最も望ましいことは言うまでもないが、実際はGaN基板の作製が難しく、基板全面に亘り高品質(例えば、結晶欠陥密度が105 (cm-2)以下)なGaN基板はいまだ開発途上にある。
2002年頃、GaN基板のバルク成長時の結晶欠陥を局在させることで、周期的に低欠陥密度領域と高欠陥密度領域とを持つGaN基板が開発された(特許文献1)。
高欠陥密度領域を素子の有効領域に用いると、結晶欠陥による信頼性の問題(レーザ寿命)発生以前に、pn接合部の結晶構造不良による素子の短絡不良やリーク電流の増大、基板の凹凸によるパターン崩れ(リソグラフィーなどでの不具合)などが起こり得る。結晶成長設計どおりの構造に作製できないことで、その不具合の程度も制御しにくい。
高欠陥密度領域の活用法として、その位置の基板裏面の一部にエッチング穴を設けるなどして別の用途に使用する提案(特許文献7〜9)があるが、これらはこの発明の目的とは全く異なるものである。
図10に示すように、このGaN系LEDにおいては、n型GaN基板101の一辺の近傍にこの一辺に沿って高欠陥密度領域102が形成され、その他の部分は低欠陥密度領域103である。このn型GaN基板101上にn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106が順次積層されている。これらのn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106のうち、高欠陥密度領域102上の部分には結晶成長の際にこの高欠陥密度領域102から伝播した結晶欠陥が存在する高欠陥密度領域(この高欠陥密度領域とn型GaN基板101中の高欠陥密度領域102との全体をあらためて符号102で示す)が形成され、低欠陥密度領域103上の部分には同じく低欠陥密度領域(この低欠陥密度領域とn型GaN基板101中の低欠陥密度領域103との全体をあらためて符号103で示す)が形成されている。低欠陥密度領域103の部分におけるn型GaN系半導体層104の上層部、活性層105およびp型GaN系半導体層106はメサ形状にパターニングされている。そして、各メサ部のp型GaN系半導体層106上にp側電極107がこのp型GaN系半導体層106とオーミック接触して形成されている。メサ部の平面形状はこのp側電極107と同じである。また、メサ部の間の溝の底部の低欠陥密度領域103におけるn型GaN系半導体層104上に、高欠陥密度領域102を避けるように、くし型のn側電極108がこのn型GaN系半導体層104とオーミック接触して形成されている。
図11に示すように、このGaN系LEDにおいては、n型GaN基板101の一辺の近傍にこの一辺に沿って高欠陥密度領域102が形成され、その他の部分は低欠陥密度領域103である。このn型GaN基板101上にn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106が順次積層されている。これらのn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106のうち、高欠陥密度領域102上の部分には結晶成長の際にこの高欠陥密度領域102から伝播した結晶欠陥が存在する高欠陥密度領域(この高欠陥密度領域とn型GaN基板101中の高欠陥密度領域102との全体をあらためて符号102で示す)が形成され、低欠陥密度領域103上の部分には同じく低欠陥密度領域(この低欠陥密度領域とn型GaN基板101中の低欠陥密度領域103との全体をあらためて符号103で示す)が形成されている。低欠陥密度領域103の部分におけるn型GaN系半導体層104の上層部、活性層105およびp型GaN系半導体層106はメサ形状にパターニングされている。そして、各メサ部のp型GaN系半導体層106上にp側電極107がこのp型GaN系半導体層106とオーミック接触して形成されている。メサ部の平面形状はこのp側電極107と同じである。また、メサ部の両側の低欠陥密度領域103におけるn型GaN系半導体層104上にこのメサ部を囲むように、かつ高欠陥密度領域102を避けるようにn側電極108がこのn型GaN系半導体層104とオーミック接触して形成されている。
図12に示すように、このGaN系半導体レーザにおいては、n型GaN基板101の一辺の近傍にこの一辺に沿って高欠陥密度領域102が形成され、その他の部分は低欠陥密度領域103である。このn型GaN基板101上にn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106が順次積層されている。これらのn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106のうち、高欠陥密度領域102上の部分には結晶成長の際にこの高欠陥密度領域102から伝播した結晶欠陥が存在する高欠陥密度領域(この高欠陥密度領域とn型GaN基板101中の高欠陥密度領域102との全体をあらためて符号102で示す)が形成され、低欠陥密度領域103上の部分には同じく低欠陥密度領域(この低欠陥密度領域とn型GaN基板101中の低欠陥密度領域103との全体をあらためて符号103で示す)が形成されている。低欠陥密度領域103の部分におけるn型GaN系半導体層104の上層部、活性層105およびp型GaN系半導体層106はメサ形状にパターニングされている。このメサ部のp型GaN系半導体層106には一方向に延在するレーザストライプ109が形成されている。そして、このレーザストライプ109を覆うようにp側電極107がp型GaN系半導体層106とオーミック接触して形成されている。メサ部の平面形状はこのp側電極107と同じである。また、メサ部の片側の低欠陥密度領域103におけるn型GaN系半導体層104上に、高欠陥密度領域102を避けるように、n側電極108がこのn型GaN系半導体層104とオーミック接触して形成されている。
図13に示すように、このGaN系半導体レーザにおいては、n型GaN基板101の一辺の近傍にこの一辺に沿って高欠陥密度領域102が形成され、その他の部分は低欠陥密度領域103である。このn型GaN基板101上にn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106が順次積層されている。p型GaN系半導体層106の上層部にレーザストライプ109が形成されている。このレーザストライプ109の両側の部分に電流狭窄層110が埋め込まれている。これらのn型GaN系半導体層104、活性層105、p型GaN系半導体層106および電流狭窄層110のうち、高欠陥密度領域102上の部分にはこの高欠陥密度領域102から伝播した結晶欠陥が存在する高欠陥密度領域(この高欠陥密度領域とn型GaN基板101中の高欠陥密度領域102との全体をあらためて符号102で示す)が形成され、低欠陥密度領域103上の部分には同じく低欠陥密度領域(この低欠陥密度領域とn型GaN基板101中の低欠陥密度領域103との全体をあらためて符号103で示す)が形成されている。レーザストライプ109上には、電流狭窄層110にまたがって、p側電極107がp型GaN系半導体層106とオーミック接触して形成されている。一方、n型GaN基板101の裏面にn側電極108がこのn型GaN基板101とオーミック接触して形成されている。
図14に示すように、このGaN系半導体レーザにおいては、n型GaN基板101の一辺の近傍にこの一辺に沿って高欠陥密度領域102が形成され、その他の部分は低欠陥密度領域103である。このn型GaN基板101上にn型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106が順次積層されている。p型GaN系半導体層106の上層部にレーザストライプ109が形成されている。このレーザストライプ109の片側の部分のp型GaN系半導体層106上に絶縁膜111が設けられている。さらに、このレーザストライプ109の両側の部分に電流狭窄層110が埋め込まれている。n型GaN系半導体層104、活性層105およびp型GaN系半導体層106のうち、高欠陥密度領域102上の部分にはこの高欠陥密度領域102から伝播した結晶欠陥が存在する高欠陥密度領域(この高欠陥密度領域とn型GaN基板101中の高欠陥密度領域102との全体をあらためて符号102で示す)が形成され、低欠陥密度領域103上の部分には同じく低欠陥密度領域(この低欠陥密度領域とn型GaN基板101中の低欠陥密度領域103との全体をあらためて符号103で示す)が形成されている。絶縁膜111により上層への結晶欠陥の伝播が防止されるため、電流狭窄層110には高欠陥密度領域102は形成されていない。レーザストライプ109上には、電流狭窄層110にまたがって、p側電極107がp型GaN系半導体層106とオーミック接触して形成されている。一方、n型GaN基板101の裏面にn側電極108がこのn型GaN基板101とオーミック接触して形成されている。
そこで、この発明が解決しようとする課題は、低欠陥密度領域と高欠陥密度領域とを有する窒化物系III−V族化合物半導体層を用いて半導体発光素子や電子走行素子を形成する場合に、その高欠陥密度領域の有効利用を図り、これらの素子全体の構造の最適化を図ることができる半導体装置を提供することである。
既に述べたように、現在の技術では、素子構造を形成する窒化物系III−V族化合物半導体層に低欠陥密度領域に加えて高欠陥密度領域が存在することは避けられないが、このことは欠点ばかりを伴うものではない。この高欠陥密度領域は、素子の活性領域(例えば、LEDの発光領域)に用いるには望ましくないのは当然であるが、一方では欠陥密度が高いことによりキャリア密度の増大があり、この部分の電気抵抗率が低い場合もある。また、低欠陥密度領域と高欠陥密度領域とを有する基板上に窒化物系III−V族化合物半導体層を成長させる場合に、この高欠陥密度領域では、結晶方位の乱れなどが理由で厚さが小さくなり成長面の凹凸を形成する条件があるため、これを積極的に素子形成に利用することもできる。
この発明は、以上の検討に基づいて案出されたものである。
第1の平均欠陥密度を有する結晶からなる第1の領域中に第1の平均欠陥密度より高い第2の平均欠陥密度を有する第2の領域を有する窒化物系III−V族化合物半導体基板上に素子構造を形成する窒化物系III−V族化合物半導体層が成長された半導体装置であって、
第1の領域を活性領域に用い、第2の領域を電極配線領域または排熱構造領域に用いる
ことを特徴とするものである。
窒化物系III−V族化合物半導体基板の主面は、典型的にはC面であるが、このC面にはこれに対して5〜6°程度までオフしていて実質的にC面とみなすことができる結晶面も含むものとする。窒化物系III−V族化合物半導体基板の主面はC面以外のものであってもよい。
窒化物系III−V族化合物半導体層の成長方法としては、有機金属化学気相成長(MOCVD)、ハイドライド気相エピタキシャル成長またはハライド気相エピタキシャル成長(HVPE)、分子線エピタキシー(MBE)などを用いることができる。
半導体装置は、半導体レーザや発光ダイオードなどの半導体発光素子あるいは各種トランジスタ(電界効果トランジスタ(FET)やヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBT)などの電子走行素子である。半導体発光素子においては活性領域は発光領域であり、電子走行素子においては活性領域は電子走行領域である。
上述のように構成されたこの発明においては、高欠陥密度領域である第2の領域は高欠陥密度であるがゆえに低抵抗となることから、電極配線や排熱構造を形成する領域として積極的に利用することができる。
図1はこの発明の第1の実施形態によるGaN系LEDを示し、図1Aは上面図、図1Bは断面図である。このGaN系LEDは大面積の高輝度LEDに用いて好適なものである。
図1に示すように、このGaN系LEDにおいては、n型GaN基板1中に、一方向に延在する高欠陥密度領域2と低欠陥密度領域3とが交互に形成されている。ここで、高欠陥密度領域2の転位密度は例えば2×106 cm-2以下、低欠陥密度領域3の転位密度は例えば108 cm-2台である。このn型GaN基板1上にn型GaN系半導体層4、活性層5およびp型GaN系半導体層6が順次積層されている。これらのn型GaN系半導体層4、活性層5およびp型GaN系半導体層6のうち、高欠陥密度領域2上の部分には結晶成長の際にこの高欠陥密度領域2から伝播した結晶欠陥が存在する高欠陥密度領域(この高欠陥密度領域とn型GaN基板1中の高欠陥密度領域2との全体をあらためて符号2で示す)が形成され、低欠陥密度領域3上の部分には同じく低欠陥密度領域(この低欠陥密度領域とn型GaN基板1中の低欠陥密度領域3との全体をあらためて符号3で示す)が形成されている。ここで、n型GaN系半導体層4中の高欠陥密度領域2は、n型GaN基板1中の高欠陥密度領域2から結晶欠陥が伝播する際にこの結晶欠陥を介したキャリア取り込みが起こり易いなどの理由で、低欠陥密度領域3よりも低抵抗になっている。低欠陥密度領域3の部分におけるn型GaN系半導体層4の上層部、活性層5およびp型GaN系半導体層6はメサ形状にパターニングされている。そして、各メサ部のp型GaN系半導体層6上にp側電極7がこのp型GaN系半導体層6とオーミック接触して形成されている。メサ部の平面形状はこのp側電極7と同じである。この場合、このp側電極7の周期は高欠陥密度領域2の周期と一致している。また、メサ部の間の溝の底部のn型の高欠陥密度領域2上にくし型のn側電極8がこの高欠陥密度領域2とオーミック接触して形成されている。
この第1の実施形態によれば、次のような利点を得ることができる。すなわち、高欠陥密度領域2を避けてメサ部を配置し、このメサ部のp型GaN系半導体層6上にp側電極7を形成しているため、高欠陥密度領域2は発光領域にあたるこのp側電極7の領域を通過しない。このため、この高欠陥密度領域2に起因する短絡不良など、素子特性への悪影響がない。一方、n型GaN系半導体層4中の高欠陥密度領域2は低抵抗のn型であるため、このn型GaN系半導体層4中に高欠陥密度領域2がない場合に比べてn側電極8に接続する直列抵抗が小さくなり、その分だけGaN系LEDの動作電圧の低減を図ることができる。
図3に示すように、このGaN系LEDにおいては、各発光領域毎にn側電極8が分割されて形成されている。その他のことは第1の実施形態と同様である。
この第2の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図4に示すように、このGaN系LEDにおいては、隣接する高欠陥密度領域2の間に二つのメサ部が形成されている。その他のことは第1の実施形態と実質的に同様である。
この第3の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図5に示すように、このGaN系LEDにおいては、隣接する高欠陥密度領域2の間に二つのメサ部が形成されていることは第3の実施形態と同様であるが、この場合、高欠陥密度領域2の間隔がより大きく、メサ部の幅もより大きい。その他のことは第1の実施形態と実質的に同様である。
この第4の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図6に示すように、このGaN系LEDにおいては、n型GaN基板1に一本の高欠陥密度領域2が形成され、この高欠陥密度領域2の片側の低欠陥密度領域3に幅広のメサ部が形成されている。そして、このメサ部を囲むように、かつ高欠陥密度領域2およびその両側の低欠陥密度領域3にまたがってn側電極8がn型GaN系半導体層4とオーミック接触して形成されている。その他のことは第1の実施形態と実質的に同様である。
この第5の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図7に示すように、このGaN系半導体レーザにおいては、n型GaN基板1をほぼ二分割するように高欠陥密度領域2が形成されている。この高欠陥密度領域2の片側の低欠陥密度領域3にメサ部が形成され、このメサ部のp型GaN系半導体層6にレーザストライプ9が形成されている。そして、このレーザストライプ9を覆うようにp側電極7がp型GaN系半導体層6とオーミック接触して形成されている。また、このメサ部の片側の高欠陥密度領域2および低欠陥密度領域3にまたがってn側電極8がn型GaN系半導体層4とオーミック接触して形成されている。その他のことは第1の実施形態と実質的に同様である。
この第6の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図8に示すように、このGaN系HBTにおいては、高欠陥密度領域2と低欠陥密度領域3とを有するn型GaN基板1上に、n型GaN系コレクタ層10、p型GaN系ベース層11およびn型GaN系エミッタ層12が順次積層されている。n型GaN系エミッタ層12は長方形状の平面形状を有し、その上にエミッタ電極13が形成されている。p型GaN系ベース層11はその両端部の厚さが中央部に比べて小さくなっており、その上に一対のベース電極14、15が形成されている。さらに、n型GaN系コレクタ層10およびp型GaN系ベース層11には一対の凹部16、17が形成されており、これらの凹部16、17のn型GaN系コレクタ層10上にコレクタ電極18、19が形成されている。ここで重要なことは、高欠陥密度領域2は、コレクタ電極18に対応する部分にのみ位置し、n型GaN系エミッタ層12、p型GaN系ベース層11およびその下部のn型GaN系コレクタ層10はいずれも低欠陥密度領域3に形成されていることである。
この第7の実施形態によれば、GaN系HBTにおいて、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
図9に示すように、このGaN系LEDにおいては、高密度欠陥領域2が六方格子状配置で点状に形成されている。その他のことは第1の実施形態と同様である。
この第8の実施形態によれば、第1の実施形態と同様な利点を得ることができる。
例えば、上述の実施形態において挙げた数値、材料、構造、形状、基板などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じて、これらと異なる数値、材料、構造、形状、基板などを用いてもよい。
具体的には、必要に応じて、上述の第1〜第8の実施形態において、p型とn型とを置換してもよい。
Claims (12)
- 第1の平均欠陥密度を有する結晶からなる第1の領域中に上記第1の平均欠陥密度より高い第2の平均欠陥密度を有する第2の領域を有する窒化物系III−V族化合物半導体基板上に素子構造を形成する窒化物系III−V族化合物半導体層が成長された半導体装置であって、
上記第1の領域を活性領域に用い、上記第2の領域を電極配線領域または排熱構造領域に用いる
ことを特徴とする半導体装置。 - 上記第1の平均欠陥密度が2×106 cm-2以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記第1の平均欠陥密度が1×106 cm-2以下であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記第2の平均欠陥密度が1×108 cm-2以上であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記第2の領域が直線状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記第2の領域が点状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記窒化物系III−V族化合物半導体基板がGaN基板であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記半導体装置が半導体発光素子であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記半導体発光素子が半導体レーザまたは発光ダイオードであることを特徴とする請求項8記載の半導体装置。
- 上記活性領域が発光領域であることを特徴とする請求項8記載の半導体装置。
- 上記半導体装置が電子走行素子であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 上記活性領域が電子走行領域であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
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