JP2006154599A - Liquid crystal display device, manufacturing method for liquid crystal display device, and electronic equipment - Google Patents

Liquid crystal display device, manufacturing method for liquid crystal display device, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal display device which has less display defects due to a multi-gap step, a manufacturing method for a liquid crystal display device, and electronic equipment. <P>SOLUTION: A transflective type liquid crystal display device having a display region including a plurality of pixels having reflection region and transmission regions, is characterized in that: the reflection regions and transmission regions are arranged in stripes across pixel arrays of pixels arrayed in the display region in one direction; a 1st substrate has thick layer portions arranged in the reflection regions and thin layer portions arranged in the transmission regions, and also has step portions formed having oblique surfaces on borders between the thick layer portions and thin layer portions in the display region and layer thickness regulating layers having specified relaxation portions outside the display region; and 1st electrodes are formed on the layer thickness regulating layers and extended to outside the display regions respectively, and at least, 1st electrodes formed in reflection regions and transmission regions of the same pixel array are connected on relaxation portions. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び電子機器に関する。特に、マ
ルチギャップ段差に起因した表示不良を少なくした液晶表示装置、液晶表示装置の製造方
法、及びそのような液晶表示装置を備えた電子機器に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display device, a method for manufacturing a liquid crystal display device, and an electronic apparatus. In particular, the present invention relates to a liquid crystal display device in which display defects due to multi-gap steps are reduced, a method for manufacturing the liquid crystal display device, and an electronic apparatus including such a liquid crystal display device.

従来、画像表示装置として、それぞれ電極が形成された一対の基板を対向配置するとと
もに、それぞれの電極の交差領域である複数の画素に印加する電圧を選択的にオン、オフ
させることによって、当該画素領域の液晶材料を通過する光を変調させ、画像や文字等の
像を表示させる、液晶表示装置が多用されている。
かかる液晶表示装置として、反射型表示及び透過型表示が可能な半透過反射型の液晶表
示装置がある。すなわち、透過領域においては、基板の背面側に配置されたバックライト
から照射された光が、液晶パネルに入射するとともに、液晶材料層を通過して外部に視認
される。一方、反射領域においては、外部から液晶パネルに入射した外光が、液晶材料層
を通過した後、光反射膜によって反射され、再度液晶材料層を通過して外部に視認される
。このような透過領域及び反射領域を備えることにより、昼間や明るい場所においては、
太陽光等の外光を利用して画像表示を認識させることができるために、消費電力の削減を
図ることができるとともに、夜間等の比較的暗い場所においても、バックライトによって
画像表示を認識させることができる。
Conventionally, as an image display device, a pair of substrates each having an electrode formed thereon are arranged opposite to each other, and a voltage applied to a plurality of pixels that are intersecting regions of the respective electrodes is selectively turned on and off, whereby the pixel A liquid crystal display device that modulates light passing through a liquid crystal material in a region and displays an image such as an image or a character is often used.
As such a liquid crystal display device, there is a transflective liquid crystal display device capable of reflective display and transmissive display. That is, in the transmissive region, the light emitted from the backlight disposed on the back side of the substrate enters the liquid crystal panel and passes through the liquid crystal material layer and is visually recognized outside. On the other hand, in the reflection region, external light incident on the liquid crystal panel from the outside passes through the liquid crystal material layer, is reflected by the light reflecting film, and passes through the liquid crystal material layer again to be visually recognized outside. By providing such a transmissive region and a reflective region, in the daytime and bright places,
Since the image display can be recognized by using outside light such as sunlight, the power consumption can be reduced, and the image display can be recognized by the backlight even in a relatively dark place such as at night. be able to.

かかる半透過反射型の液晶表示装置において、反射型表示及び透過型表示それぞれにお
ける発色性を向上させ、かつリタデーションの最適化を図るために、いわゆるマルチギャ
ップを設けた液晶表示装置が提案されている。より具体的には、図23に示すように、画
素603には、反射領域631及び透過領域632を規定する光反射層604が形成され
、その上層側には、透過領域632に相当する領域が開口となっている層厚調整層606
が形成された半透過反射型の液晶表示装置である(例えば、特許文献1参照)。
特開2003−270627号公報 (特許請求の範囲、図1)
In such a transflective liquid crystal display device, a liquid crystal display device provided with a so-called multi-gap has been proposed in order to improve color development in each of the reflective display and the transmissive display and to optimize the retardation. . More specifically, as shown in FIG. 23, a light reflection layer 604 that defines a reflection region 631 and a transmission region 632 is formed in the pixel 603, and an area corresponding to the transmission region 632 is formed on the upper layer side thereof. Layer thickness adjusting layer 606 serving as an opening
Is a transflective liquid crystal display device (see, for example, Patent Document 1).
JP 2003-270627 A (Claims, FIG. 1)

しかしながら、特許文献1に記載されたマルチギャップを設けた液晶表示装置において
、反射領域と透過領域の境界部分に相当する、層厚調整層の段差部分は、反射領域及び透
過領域のいずれにおいてもリタデーションが異なっているために、表示不良が発生する原
因となっていた。
また、当該段差部分の段差壁は、基板面とのなす角度を急峻にするほど、段差部分に形
成される電極等の密着性が低下するために、一般に、傾斜面とされていた。したがって、
基板面を垂直方向から見た場合に、当該段差部分に所定の幅があり、当該段差部分に相当
する領域が表示不良領域となって、結果的に、コントラスト等の表示特性が低下するとい
う問題が見られた。
However, in the liquid crystal display device provided with the multi-gap described in Patent Document 1, the step portion of the layer thickness adjusting layer corresponding to the boundary portion between the reflective region and the transmissive region is retardation in both the reflective region and the transmissive region. Because of the difference, it was a cause of display failure.
In addition, the stepped wall of the stepped portion is generally an inclined surface because the steeper angle formed with the substrate surface decreases the adhesion of electrodes and the like formed on the stepped portion. Therefore,
When the substrate surface is viewed from the vertical direction, the step portion has a predetermined width, and the region corresponding to the step portion becomes a display failure region, and as a result, display characteristics such as contrast deteriorate. It was observed.

そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、マルチギャップタイプの液晶表示装置におい
て、反射領域及び透過領域における液晶材料層の層厚を異ならせるための層厚調整層を、
表示領域内で所定方向にストライプ状に形成し、当該層厚調整層の上層に形成される電極
を表示領域内で確実に導通性を確保することにより、このような問題を解決できることを
見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、表示領域内において、反射領域と透過領域の境界の段差を急峻に
形成するとともに、表示領域外において、電極の電気的導通性を確保することにより、一
画素における反射領域及び透過領域に形成された電極の導通性を確保しつつ、表示不良領
域の面積を小さくして、表示特性を向上させた液晶表示装置を提供することを目的とする
。また、本発明の別の目的は、そのような液晶表示装置の製造方法、さらに、そのような
液晶表示装置を備えた電子機器を提供することである。
Accordingly, the inventors of the present invention have made diligent efforts, and in the multi-gap type liquid crystal display device, a layer thickness adjusting layer for making the thickness of the liquid crystal material layer different in the reflective region and the transmissive region,
It is found that such problems can be solved by forming a stripe shape in a predetermined direction in the display region, and ensuring the conductivity in the display region with the electrode formed in the upper layer of the layer thickness adjusting layer, The present invention has been completed.
That is, the present invention forms a steep step at the boundary between the reflective region and the transmissive region in the display region, and secures electrical continuity of the electrodes outside the display region, so that the reflective region in one pixel and An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which display characteristics are improved by reducing the area of a display defect region while ensuring the conductivity of electrodes formed in a transmissive region. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing such a liquid crystal display device and an electronic apparatus including such a liquid crystal display device.

本発明によれば、第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第2の基板と
、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それ
ぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液
晶表示装置であって、
反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列
にまたがってストライプ状に配置され、
第1の基板は、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射
領域に配置された層厚部と、透過領域に配置された層薄部と、を有する層厚調整層であっ
て、表示領域内においては、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差
部分を有するとともに、表示領域外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和さ
せるための緩和部を有する層厚調整層を備え、
第1の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、それ
ぞれ表示領域外まで延設してあり、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域
に形成された第1の電極が緩和部上でつながっていることを特徴とする液晶表示装置が提
供され、上述した問題を解決することができる。
すなわち、表示領域内においては、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を急峻に形成して
、基板面に垂直に見た場合の層厚部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくすることにより
、表示不良領域の面積を小さくすることができる。また、表示領域外においては、層厚部
及び層薄部の境界の段差に起因した第1の電極の断線を防止して、同じ画素列における反
射領域及び透過領域に形成された第1の電極の電気的導通性を確保することができる。し
たがって、表示領域内における、段差部分に起因した第1の電極の断線等の有無に拘わら
ず、一つの画素に存在する第1の電極の導通性を確保しつつ、表示不良領域の面積を小さ
くして、表示特性を向上させた液晶表示装置を効率的に提供することができる。
According to the present invention, a first substrate having a first electrode, a second substrate having a second electrode, and a liquid crystal sandwiched between the first substrate and the second substrate. A transflective liquid crystal display device including a display region including a plurality of pixels each having a reflective region and a transmissive region.
The reflective region and the transmissive region are arranged in a stripe shape across a pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region,
The first substrate is a layer thickness adjusting layer having a layer thickness portion disposed in the reflection region and a thin layer portion disposed in the transmission region in order to adjust retardation in the reflection region and the transmission region. In the display area, it has a stepped part in which the inclined surface of the boundary between the layer thick part and the layer thin part is formed in the vertical direction, and outside the display area, the step at the boundary between the layer thick part and the layer thin part is reduced. A layer thickness adjusting layer having a relaxation portion for
The first electrode is formed in the upper layer of the layer thickness adjustment layer so as to extend over the pixel columns, and extends to the outside of the display region, and is formed in at least the reflection region and the transmission region in the same pixel column. A liquid crystal display device characterized in that the first electrode is connected on the relaxation portion can solve the above-described problems.
That is, in the display area, the inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed steeply, and the width of the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion when viewed perpendicular to the substrate surface is set. By reducing the size, the area of the display defect region can be reduced. In addition, outside the display region, the first electrode formed in the reflective region and the transmissive region in the same pixel column is prevented by preventing disconnection of the first electrode due to the step between the layer thickness portion and the layer thin portion. The electrical continuity of can be ensured. Therefore, the area of the display defect region is reduced while ensuring the conductivity of the first electrode existing in one pixel regardless of whether the first electrode is disconnected or the like due to the step portion in the display region. Thus, a liquid crystal display device with improved display characteristics can be provided efficiently.

また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、表示領域内における傾斜面を第1の
傾斜面としたときに、緩和部が、第1の傾斜面と基板面とのなす角度よりも緩やかな第2
の傾斜面を含むことが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内においては、基板面に垂直に見た場合の層
厚部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくして、表示不良領域の面積を小さくすることが
できるとともに、表示領域外においては、緩和部における傾斜面上に形成される第1の電
極の断線を有効に防止して、電気的導通性を確保することができる。
なお、傾斜面と基板面とのなす角度とは、図8に示す傾斜面と基板面とのなす二つの角
度θA、θBのうち、0〜90°の範囲内で定められる角度をいう。したがって、図8(
a)においては、θBを意味し、図8(b)においては、θAを意味する。
In configuring the liquid crystal display device of the present invention, when the inclined surface in the display area is the first inclined surface, the relaxing portion is gentler than the angle formed by the first inclined surface and the substrate surface. Second
It is preferable that the inclined surface is included.
By configuring in this way, in the display area, the width of the step at the boundary between the layer thickness part and the layer thin part when viewed perpendicularly to the substrate surface is reduced, and the area of the display defect area is reduced. In addition, outside the display region, it is possible to effectively prevent disconnection of the first electrode formed on the inclined surface in the relaxing portion, and to ensure electrical conductivity.
The angle formed between the inclined surface and the substrate surface refers to an angle determined within a range of 0 to 90 ° out of two angles θA and θB formed between the inclined surface and the substrate surface shown in FIG. Therefore, FIG.
In a), it means θB, and in FIG. 8B, it means θA.

また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、緩和部が、層厚部及び層薄部をつな
ぐ複数の段差を含むことが好ましい。
このように構成することにより、緩和部に含まれるそれぞれの段差の高さを低くするこ
とができ、緩和部上に形成される第1の電極の断線を有効に防止することができる。
Further, in configuring the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that the relaxing portion includes a plurality of steps connecting the layer thickness portion and the layer thin portion.
With this configuration, the height of each step included in the relaxing portion can be reduced, and disconnection of the first electrode formed on the relaxing portion can be effectively prevented.

また、本発明の別の態様は、第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第
2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとと
もに、それぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過
反射型の液晶表示装置であって、
反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列
にまたがってストライプ状に配置され、
第1の基板は、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射
領域に配置された層厚部と、透過領域に配置された層薄部と、を有する層厚調整層であっ
て、表示領域内における層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分
を含む層厚調整層を備え、
第1の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、それ
ぞれ表示領域外まで延設してあり、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第1の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置してあることを特徴とする液晶
表示装置である。
すなわち、表示領域内においては、基板面に垂直に見た場合の層厚部及び層薄部の境界
の段差の幅を小さくすることにより、表示不良領域の面積を小さくすることができる。ま
た、表示領域外においては、延設された第1の電極上にまたがって配置された所定の導通
部材によって、同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成された第1の電極の電気
的導通性を確保することができる。したがって、表示領域内における、段差部分に起因し
た第1の電極の断線の有無に拘わらず、一画素における第1の電極の導通性を確保しつつ
、表示不良領域の面積を小さくした液晶表示装置を効率的に提供することができる。
Another embodiment of the present invention includes a first substrate including a first electrode, a second substrate including a second electrode, and a gap between the first substrate and the second substrate. A transflective liquid crystal display device including a display region including a plurality of pixels each having a reflective region and a transmissive region.
The reflective region and the transmissive region are arranged in a stripe shape across a pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region,
The first substrate is a layer thickness adjusting layer having a layer thickness portion disposed in the reflection region and a thin layer portion disposed in the transmission region in order to adjust retardation in the reflection region and the transmission region. A layer thickness adjusting layer including a stepped portion formed in a vertical direction with an inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion in the display region,
The first electrode is formed on the upper layer thickness adjustment layer so as to straddle the pixel columns, and extends to the outside of the display area,
A liquid crystal display device, wherein a conductive member is disposed across a portion of the first electrode formed in at least the reflective region and the transmissive region of the same pixel column and extending beyond the display region. .
That is, in the display area, the area of the display defect area can be reduced by reducing the width of the step at the boundary between the layer thickness part and the layer thin part when viewed perpendicularly to the substrate surface. In addition, outside the display region, electrical conduction between the first electrodes formed in the reflective region and the transmissive region in the same pixel row is performed by a predetermined conductive member disposed over the extended first electrode. Sex can be secured. Therefore, a liquid crystal display device in which the area of the display failure region is reduced while ensuring the conductivity of the first electrode in one pixel regardless of whether or not the first electrode is disconnected due to the stepped portion in the display region. Can be provided efficiently.

また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、表示領域内における、傾斜面と基板
面とのなす角度を60〜90°の範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内において、基板面に垂直に見た場合の層厚
部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくすることができ、表示不良領域の面積を小さくす
ることができる。
Further, in configuring the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that the angle formed between the inclined surface and the substrate surface in the display region is set to a value in the range of 60 to 90 °.
With this configuration, the width of the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion when viewed perpendicularly to the substrate surface in the display region can be reduced, and the area of the display failure region can be reduced. be able to.

また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、反射領域及び透過領域の第1の電極
を、表示領域の両側で導通してあることが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内において、一方向に配列された画素からな
る画素列にまたがって形成される、反射領域及び透過領域の第1の電極の電気的導通性を
より確実に確保することができる。
In configuring the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that the first electrode in the reflective region and the transmissive region are electrically connected on both sides of the display region.
With this configuration, the electrical continuity of the first electrode in the reflective region and the transmissive region formed across the pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region is more reliably ensured. Can be secured.

また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、第1の電極において、画素内におけ
る段差部分に相当する箇所にスリットが設けてあることが好ましい。
このように構成することにより、表示領域内における層厚部及び層薄部の境界の段差部
分を非電界領域にして、表示不良の発生をより確実に防止することができる。
In configuring the liquid crystal display device of the present invention, it is preferable that a slit is provided at a position corresponding to a step portion in the pixel in the first electrode.
With such a configuration, the step portion at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion in the display region can be made a non-electric field region, and display defects can be prevented more reliably.

また、本発明の液晶表示装置を構成するにあたり、第2の基板は、TFD素子又はTF
T素子を備えた素子基板であることが好ましい。
このように構成することにより、いずれのスイッチング素子を備えた液晶表示装置であ
っても、表示領域内の一画素における反射領域及び透過領域に形成された第1の電極の導
通性を確保しつつ、対向基板に形成したマルチギャップによる表示不良領域の面積を小さ
くした液晶表示装置とすることができる。
In configuring the liquid crystal display device of the present invention, the second substrate is a TFD element or TF.
An element substrate provided with a T element is preferable.
With this configuration, in any liquid crystal display device including any switching element, the conductivity of the first electrode formed in the reflective region and the transmissive region in one pixel in the display region is ensured. Thus, a liquid crystal display device in which the area of a display defect region due to a multi-gap formed on the counter substrate is reduced can be obtained.

また、本発明の別の態様は、第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第
2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとと
もに、それぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備え、反射領
域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列にまたが
ってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法であって、
第1の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示領域
外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調
整層を形成する工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して配置さ
れる第1の電極であって、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成さ
れる当該反射領域及び透過領域における第1の電極が緩和部上でつながるように、第1の
電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
すなわち、マルチギャップを形成するための層厚部及び層薄部を備えた層厚調整層を形
成する際に、表示領域内においては、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成
することにより、表示不良領域の面積を小さくすることができる。また、かかる層厚調整
層を形成する際に、表示領域外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させる
緩和部を形成することにより、層厚部上の電極と層薄部上の電極との電気的導通性を確保
することができる。したがって、断線等による動作不良を防止しつつ、表示特性に優れた
液晶表示装置を効率的に製造することができる。
Another embodiment of the present invention includes a first substrate including a first electrode, a second substrate including a second electrode, and a gap between the first substrate and the second substrate. A display region including a plurality of pixels each having a reflective region and a transmissive region, and the reflective region and the transmissive region are pixels composed of pixels arranged in one direction in the display region. A method of manufacturing a liquid crystal display device arranged in stripes across columns,
Forming a photosensitive resin material layer on the first substrate;
In order to adjust the retardation in the reflective region and the transmissive region, a layer thickness adjusting layer in which a layer thickness portion is disposed in the reflective region and a thin layer portion is disposed in the transmissive region. A layer thickness adjusting layer having a step portion in which the inclined surface at the boundary of the thin layer portion is formed in the vertical direction and having a relaxation portion for relaxing the step difference at the boundary between the layer thickness portion and the thin layer portion outside the display region Forming a step;
A first electrode that extends over the pixel column and extends to the outside of the display region on the upper layer of the layer thickness adjusting layer, and is formed in at least the reflective region and the transmissive region in the same pixel column Forming a first electrode so that the first electrode in the reflective region and the transmissive region is connected on the relaxation portion;
A method for manufacturing a liquid crystal display device.
That is, when forming a layer thickness adjusting layer having a layer thickness portion and a layer thin portion for forming a multi-gap, the inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is set in the vertical direction in the display region. Thus, the area of the display defect region can be reduced. In addition, when the layer thickness adjusting layer is formed, outside the display region, by forming a relaxation portion that relaxes the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion, the electrode on the layer thickness portion and the layer thickness are reduced. Electrical continuity with the electrode on the part can be ensured. Therefore, it is possible to efficiently manufacture a liquid crystal display device having excellent display characteristics while preventing malfunction due to disconnection or the like.

また、本発明の別の態様は、第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第
2の基板と、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとと
もに、それぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備え、反射領
域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列にまたが
ってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法であって、
第1の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有する層厚調整層を形成す
る工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して、第1
の電極を形成する工程と、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第1の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法である。
すなわち、マルチギャップを形成するための層厚部及び層薄部を備えた層厚調整層を形
成する際に、表示領域内において、層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成す
ることにより、表示不良領域の面積を小さくすることができる。また、表示領域外におい
て、所定の導通部材を配置することにより、それらの電極の電気的導通性を確保すること
ができる。したがって、断線等による動作不良を防止しつつ、表示特性に優れた液晶表示
装置を効率的に製造することができる。
Another embodiment of the present invention includes a first substrate including a first electrode, a second substrate including a second electrode, and a gap between the first substrate and the second substrate. A display region including a plurality of pixels each having a reflective region and a transmissive region, and the reflective region and the transmissive region are pixels composed of pixels arranged in one direction in the display region. A method of manufacturing a liquid crystal display device arranged in stripes across columns,
Forming a photosensitive resin material layer on the first substrate;
In order to adjust the retardation in the reflective region and the transmissive region, a layer thickness adjustment layer in which a layer thickness portion is disposed in the reflective region and a thin layer portion is disposed in the transmissive region. Forming a layer thickness adjusting layer having a stepped portion in which the inclined surface of the boundary of the thin layer portion is formed in the vertical direction;
The upper layer thickness adjustment layer extends over the pixel column and extends to the outside of the display area.
Forming an electrode of
A step of disposing a conductive member across a portion extending to the outside of the display region in the first electrode formed in the reflective region and the transmissive region of at least the same pixel row;
A method for manufacturing a liquid crystal display device.
That is, when forming a layer thickness adjustment layer having a layer thickness portion and a layer thin portion for forming a multi-gap, an inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in the vertical direction in the display region. By forming, the area of the display defect region can be reduced. Further, by disposing a predetermined conducting member outside the display area, it is possible to ensure the electrical continuity of these electrodes. Therefore, it is possible to efficiently manufacture a liquid crystal display device having excellent display characteristics while preventing malfunction due to disconnection or the like.

また、本発明のさらに別の態様は、上述したいずれかの液晶表示装置を備えた電子機器
である。
すなわち、一画素における反射領域及び透過領域に形成された第1の電極の導通性を確
保しつつ、表示不良領域を小さくした液晶表示装置を備えるために、表示特性の向上を図
った電子機器を効率的に提供することができる。
Still another embodiment of the present invention is an electronic apparatus including any one of the liquid crystal display devices described above.
In other words, an electronic device with improved display characteristics is provided in order to provide a liquid crystal display device in which the display defect area is reduced while ensuring the conductivity of the first electrode formed in the reflective area and the transmissive area in one pixel. Can be provided efficiently.

以下、図面を参照して、本発明の液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、及び液晶表
示装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。ただし、かかる実施
形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の
範囲内で任意に変更することが可能である。
Hereinafter, with reference to the drawings, embodiments of the liquid crystal display device of the present invention, a method for manufacturing the liquid crystal display device, and an electronic apparatus including the liquid crystal display device will be specifically described. However, this embodiment shows one aspect of the present invention and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention.

[第1実施形態]
第1実施形態は、第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第2の基板と
、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それ
ぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液
晶表示装置である。
そして、反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からな
る画素列にまたがってストライプ状に配置され、第1の基板は、反射領域及び透過領域に
おけるリタデーションを調整するために、反射領域に配置された層厚部と、透過領域に配
置された層薄部と、を有する層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚部及び層
薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示領域外におい
ては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調整層を備
え、第1の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、そ
れぞれ表示領域外まで延設してあり、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領
域に形成された第1の電極が緩和部上でつながっていることを特徴とする。
以下、図1〜図14を適宜参照しながら、本発明の第1実施形態の液晶表示装置につい
て、所定の層厚調整層を備えたカラーフィルタ基板、及びスイッチング素子としてのTF
D素子(Thin Film Diode)を備えた素子基板を含む液晶表示装置を例に採って説明する
。なお、それぞれの図において、同じ符号を付したものは同一の部材を示しており、適宜
説明を省略する。
[First Embodiment]
In the first embodiment, a first substrate having a first electrode, a second substrate having a second electrode, and a liquid crystal sandwiched between the first substrate and the second substrate A transflective liquid crystal display device including a display region including a plurality of pixels each having a reflective region and a transmissive region.
The reflective region and the transmissive region are arranged in a stripe shape across a pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region, and the first substrate adjusts retardation in the reflective region and the transmissive region. And a layer thickness adjusting layer having a layer thickness portion disposed in the reflection region and a layer thin portion disposed in the transmission region, wherein the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is present in the display region. A step portion having an inclined surface formed in a vertical direction, and a layer thickness adjusting layer having a relaxation portion for relaxing a step at a boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion outside the display region, The electrodes are formed on the upper layer of the layer thickness adjusting layer so as to extend over the pixel columns, and extend to the outside of the display region, respectively, and are formed at least in the reflection region and the transmission region in the same pixel column. The electrode is loose Characterized in that connected on the parts.
Hereinafter, with reference to FIGS. 1 to 14 as appropriate, for the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, a color filter substrate having a predetermined layer thickness adjusting layer and TF as a switching element.
A liquid crystal display device including an element substrate provided with a D element (Thin Film Diode) will be described as an example. In addition, in each figure, what attached | subjected the same code | symbol has shown the same member, and abbreviate | omits description suitably.

1.液晶表示装置の基本構造
まず、図1及び図2を参照して、本発明に係る第1実施形態の液晶表示装置としての液
晶表示装置10の基本構造、すなわち、セル構造や配線等について具体的に説明する。こ
こで、図1は、本実施形態に係る液晶表示装置10の概略斜視図であり、図2は、図1中
のEE断面を矢印方向に見た概略断面図である。
かかる液晶表示装置10は、スイッチング素子として、二端子型非線形素子であるTF
D素子69を用いたアクティブマトリクス型構造を有する素子基板60を備えた液晶表示
装置10であって、図示しないものの、バックライトやフロントライト等の照明装置やケ
ース体などを、必要に応じて適宜取付けられて使用される。
また、液晶表示装置10は、ガラス基板等を基体61とする素子基板60と、同様にガ
ラス基板等を基体31とするカラーフィルタ基板30と、が対向配置されるとともに接着
剤等のシール材23を介して貼り合わせられている。また、素子基板60と、カラーフィ
ルタ基板30とが形成する空間であって、シール材23の内側部分に対して、開口部23
aを介して液晶材料21を注入した後、封止材25にて封止されてなるセル構造を備えて
いる。すなわち、素子基板60と、カラーフィルタ基板30との間に液晶材料21が充填
されている。
1. Basic Structure of Liquid Crystal Display First, referring to FIG. 1 and FIG. 2, the basic structure of the liquid crystal display device 10 as the liquid crystal display device of the first embodiment according to the present invention, that is, the cell structure, wiring, etc. are specifically described. Explained. Here, FIG. 1 is a schematic perspective view of the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the EE cross section in FIG.
The liquid crystal display device 10 includes a TF that is a two-terminal nonlinear element as a switching element.
Although it is the liquid crystal display device 10 provided with the element substrate 60 which has the active matrix type structure using the D element 69, and is not shown in figure, illumination apparatuses, a case body, etc., such as a backlight and a front light, are suitably used as needed. Installed and used.
Further, in the liquid crystal display device 10, an element substrate 60 having a glass substrate or the like as a base 61 and a color filter substrate 30 similarly having a glass substrate or the like as a base 31 are disposed opposite to each other and a sealing material 23 such as an adhesive. It is pasted through. Further, it is a space formed by the element substrate 60 and the color filter substrate 30, and has an opening 23 with respect to the inner portion of the sealing material 23.
After the liquid crystal material 21 is injected through a, a cell structure is provided that is sealed with a sealing material 25. That is, the liquid crystal material 21 is filled between the element substrate 60 and the color filter substrate 30.

また、素子基板60における基体61の内面、すなわち、カラーフィルタ基板30に対
向する表面上に、マトリクス状に配置された複数の画素電極63が形成され、カラーフィ
ルタ基板30における基体31の内面、すなわち、素子基板60に対向する表面上には、
ストライプ状に配置された複数の走査電極33が形成されている。また、画素電極63は
、スイッチング素子としてのTFD素子69を介してデータ線65に対して電気的に接続
されるとともに、もう一方の走査電極33は、導電性粒子を含むシール材23を介して素
子基板60上の引回し配線66に対して電気的に接続されている。このように構成された
画素電極63と走査電極33との交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素(以下
、画素領域と称する場合がある。)を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として表
示領域を構成することになる。したがって、所望の画素に対して電圧を印加することによ
り、当該画素の液晶材料21に電界を発生させ、表示領域全体として文字、図形等の画像
を表示させることができる。
Further, a plurality of pixel electrodes 63 arranged in a matrix are formed on the inner surface of the base 61 in the element substrate 60, that is, the surface facing the color filter substrate 30, and the inner surface of the base 31 in the color filter substrate 30, On the surface facing the element substrate 60,
A plurality of scanning electrodes 33 arranged in a stripe shape are formed. The pixel electrode 63 is electrically connected to the data line 65 via a TFD element 69 as a switching element, and the other scanning electrode 33 is connected via a sealing material 23 containing conductive particles. It is electrically connected to the lead wiring 66 on the element substrate 60. The pixel electrode 63 and the scanning electrode 33 configured in this way constitute a large number of pixels (hereinafter sometimes referred to as a pixel region) in which the intersecting regions of the scanning electrodes 33 are arranged in a matrix, and the array of the large number of pixels is The display area is configured as a whole. Therefore, by applying a voltage to a desired pixel, an electric field can be generated in the liquid crystal material 21 of the pixel, and an image such as characters and figures can be displayed over the entire display region.

また、素子基板60は、カラーフィルタ基板30の外形よりも外側に張り出してなる基
板張出部60Tを有し、この基板張出部60T上には、データ線65の一部、引回し配線
66の一部及び、独立して形成された複数の配線からなる外部接続用端子67が形成され
ている。
そして、データ線65又は引回し配線66の端部には、液晶駆動回路等を内蔵した駆動
用半導体素子(駆動用IC)91が実装されている。さらに、外部接続用端子67のうち
の表示領域側の端部にも、駆動用半導体素子(駆動用IC)91が実装されているととも
に、他方の端部には、フレキシブル回路基板93が実装されている。
The element substrate 60 has a substrate overhanging portion 60T that projects outward from the outer shape of the color filter substrate 30, and a part of the data line 65 and the routing wiring 66 are formed on the substrate overhanging portion 60T. And an external connection terminal 67 made up of a plurality of wirings formed independently.
A driving semiconductor element (driving IC) 91 incorporating a liquid crystal driving circuit or the like is mounted at the end of the data line 65 or the routing wiring 66. Furthermore, a driving semiconductor element (driving IC) 91 is mounted on the end of the external connection terminal 67 on the display area side, and a flexible circuit board 93 is mounted on the other end. ing.

2.反射領域及び透過領域
また、本発明に係る液晶表示装置は半透過反射型の液晶表示装置であって、反射領域及
び透過領域が、表示領域内において一方向に配列された画素からなる画素列にまたがって
、ストライプ状に配置されている。すなわち、本実施形態に係るTFD素子を備えた液晶
表示装置の場合、図3(a)〜(b)に示すように、素子基板上のデータ線と直交する方
向(X方向)に沿って配列された画素Gからなる複数の画素列ごとに、それぞれ反射領域
R及び透過領域Tが交互にストライプ状に配置されている。なお、図3及び図4は、液晶
表示装置を表示面に対して垂直方向に眺めた場合の部分拡大図である。
ここで、図3(a)は、それぞれの画素Gにおいて、上半分に透過領域Tを配置し、下
半分に反射領域Rを配置して、全体として、透過領域T及び反射領域Rがストライプ状に
配置されている。また、図3(b)は、それぞれの画素Gにおいて、上部及び下部に反射
領域Rを配置し、当該反射領域Rに挟まれるように中央部に透過領域Tを配置して、全体
として、透過領域T及び反射領域Rがストライプ状に配置されている。
かかる反射領域R及び透過領域Tの配置は、カラーフィルタ基板又は素子基板のいずれ
かにおいて、透過領域Tに対応させて開口部を形成した光反射膜を備えることにより、所
望の領域に配置することができる。なお、本実施形態で説明する液晶表示装置は、カラー
フィルタ基板側に光反射膜を形成した液晶表示装置である。
2. Reflective region and transmissive region Further, the liquid crystal display device according to the present invention is a transflective liquid crystal display device, and the reflective region and the transmissive region are arranged in a pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region. It is arranged in a striped manner. That is, in the case of the liquid crystal display device including the TFD element according to this embodiment, as shown in FIGS. 3A to 3B, the liquid crystal display device is arranged along the direction (X direction) orthogonal to the data line on the element substrate. The reflective regions R and the transmissive regions T are alternately arranged in a stripe pattern for each of a plurality of pixel columns including the pixels G. 3 and 4 are partially enlarged views when the liquid crystal display device is viewed in a direction perpendicular to the display surface.
Here, in FIG. 3A, in each pixel G, the transmissive region T is disposed in the upper half and the reflective region R is disposed in the lower half, so that the transmissive region T and the reflective region R are striped as a whole. Is arranged. Further, in FIG. 3B, in each pixel G, a reflective region R is disposed at the upper and lower portions, and a transmissive region T is disposed at the center so as to be sandwiched between the reflective regions R. The region T and the reflection region R are arranged in a stripe shape.
The reflection region R and the transmission region T are arranged in a desired region by providing a light reflection film having an opening corresponding to the transmission region T in either the color filter substrate or the element substrate. Can do. Note that the liquid crystal display device described in this embodiment is a liquid crystal display device in which a light reflecting film is formed on the color filter substrate side.

また、反射領域及び透過領域を配置するにあたり、図4に示すように、隣接する画素G
における互いに対向する辺側に反射領域Rを配置することが好ましい。例えば、図4(a
)においては、上半分に透過領域Tを配置し、下半分に反射領域Rを配置した画素Gと、
上半分に反射領域Rを配置し、下半分に透過領域Tを配置した画素Gと、が一行毎に交互
に配列されている。
この理由は、マルチギャップを形成した場合であっても、一つの画素内における、表示
不良の原因となる段差を少なくすることができるためである。
Further, in arranging the reflective region and the transmissive region, as shown in FIG.
It is preferable to arrange the reflection region R on the sides facing each other. For example, FIG.
), A pixel G in which a transmission region T is arranged in the upper half and a reflection region R is arranged in the lower half;
The pixels G in which the reflection regions R are arranged in the upper half and the transmission regions T are arranged in the lower half are alternately arranged for each row.
This is because even when a multi-gap is formed, a step that causes a display defect in one pixel can be reduced.

3.カラーフィルタ基板
(1)基本構成
次に、図5〜図13を適宜参照しつつ、本実施形態の液晶表示装置10に使用されるカ
ラーフィルタ基板30について、さらに詳細に説明する。
まず、図5(a)にカラーフィルタ基板30の平面図を、図5(b)に図5(a)中の
PP断面を矢印方向に見た断面図を、図5(c)に図5(a)中のOO断面を矢印方向に
見た断面図を示す。かかるカラーフィルタ基板30は、基本的に、図5(b)に示すよう
に、ガラス基板等からなる基体31上に、光反射膜35と、遮光膜39と、着色層37と
、層厚調整層40と、走査電極33と、が順次積層されて構成されている。また、走査電
極33上には、液晶材料の配向性を制御するための配向膜45を備えるとともに、走査電
極33等が形成されている面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位
相差板(1/4波長板)47及び偏光板49が配置されている。
3. Color Filter Substrate (1) Basic Configuration Next, the color filter substrate 30 used in the liquid crystal display device 10 of the present embodiment will be described in more detail with reference to FIGS.
5A is a plan view of the color filter substrate 30, FIG. 5B is a cross-sectional view of the PP cross section in FIG. 5A in the direction of the arrow, and FIG. Sectional drawing which looked at OO cross section in (a) in the arrow direction is shown. As shown in FIG. 5B, the color filter substrate 30 basically has a light reflecting film 35, a light shielding film 39, a colored layer 37, and a layer thickness adjustment on a base 31 made of a glass substrate or the like. The layer 40 and the scanning electrode 33 are sequentially stacked. Further, an alignment film 45 for controlling the orientation of the liquid crystal material is provided on the scan electrode 33, and a clear image display is recognized on the surface opposite to the surface on which the scan electrode 33 and the like are formed. A retardation plate (¼ wavelength plate) 47 and a polarizing plate 49 are arranged so as to be able to do so.

(2)光反射膜
また、カラーフィルタ基板30に形成された光反射膜35は、例えば、アルミニウム等
の金属材料からなり、透過領域Tに対応した開口部35aが形成されている一方で、反射
領域Rにおいては、太陽光等の外光を反射させて、反射型表示を可能にするための部材で
ある。本発明の液晶表示装置においては、表示領域内で一方向に配列された画素からなる
画素列にまたがって反射領域Rが配置されていることから、光反射膜35は、例えば、図
6(a)〜(c)に示すようにパターニングされている。
なお、図6(a)は、図3(a)に示すように反射領域R及び透過領域Tが配置された
カラーフィルタ基板における光反射膜35を、図6(b)は、図3(b)に示すように反
射領域R及び透過領域Tが配置されたカラーフィルタ基板における光反射膜35を、図6
(c)は、図4に示すように反射領域R及び透過領域Tが配置されたカラーフィルタ基板
における光反射膜35をそれぞれ示している。
(2) Light Reflecting Film Further, the light reflecting film 35 formed on the color filter substrate 30 is made of, for example, a metal material such as aluminum, and has an opening 35a corresponding to the transmission region T. In the region R, it is a member for reflecting external light such as sunlight to enable reflective display. In the liquid crystal display device of the present invention, since the reflection region R is arranged across the pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region, the light reflection film 35 is formed, for example, as shown in FIG. ) To (c).
6A shows the light reflecting film 35 in the color filter substrate in which the reflection region R and the transmission region T are arranged as shown in FIG. 3A, and FIG. 6B shows the light reflection film 35 in FIG. As shown in FIG. 6, the light reflecting film 35 in the color filter substrate on which the reflective region R and the transmissive region T are arranged is shown in FIG.
FIG. 4C shows the light reflecting film 35 on the color filter substrate on which the reflective region R and the transmissive region T are arranged as shown in FIG.

(3)遮光膜
また、遮光膜39は、隣接する画素G間において色材が混色することを防止して、コン
トラストに優れた画像表示を得るための膜である。このような遮光膜39としては、例え
ば、クロム(Cr)やモリブテン(Mo)等の金属膜を遮光膜39として使用したり、あ
るいは、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散
させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものなど
を用いたりすることができる。さらに、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色材を
重ね合わせることにより、遮光膜を形成することもできる。
(3) Light-shielding film The light-shielding film 39 is a film for preventing color materials from being mixed between adjacent pixels G and obtaining an image display with excellent contrast. As such a light shielding film 39, for example, a metal film such as chromium (Cr) or molybdenum (Mo) is used as the light shielding film 39, or R (red), G (green), and B (blue). A material in which three colorants are dispersed in a resin or other base material, or a material in which a colorant such as a black pigment or dye is dispersed in a resin or other base material can be used. Further, the light shielding film can be formed by superposing three colorants of R (red), G (green), and B (blue).

(4)着色層
また、着色層37は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色
調を呈するものとされている。着色層37の色調の一例としては原色系フィルタとしてR
(赤)、G(緑)、B(青)の3色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるも
のではなく、Y(イエロー)、M(マゼンダ)、C(シアン)等の補色系や、その他の種
々の色調で形成することができる。
また、着色層37の配列パターンとしては、ストライプ配列を採用することが多いが、
このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列や、デルタ配列等の種々のパターン形状を
採用することができる。
(4) Colored layer In addition, the colored layer 37 is usually configured to exhibit a predetermined color tone by dispersing a coloring material such as a pigment or a dye in a transparent resin. An example of the color tone of the colored layer 37 is R as a primary color filter.
(Red), G (Green), and B (Blue) are composed of a combination of three colors, but are not limited to this, such as Y (Yellow), M (Magenta), C (Cyan), etc. A complementary color system or other various color tones can be formed.
Further, as the arrangement pattern of the colored layer 37, a stripe arrangement is often adopted,
In addition to the stripe arrangement, various pattern shapes such as an oblique mosaic arrangement and a delta arrangement can be employed.

(5)層厚調整層
また、本実施形態に係る液晶表示装置10においては、カラーフィルタ基板30上に、
アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機性の感光性樹脂材料や、SiNやSiO2などの
無機材料からなる層厚調整層40が形成されている。そして、図5(b)〜(c)に示す
ように、かかる層厚調整層40が、反射領域Rに配置された層厚部40aと、透過領域T
に配置された層薄部40bと、を有する層厚調整層40であって、表示領域A内において
は、層厚部40a及び層薄部40bの境界の段差における傾斜面40cを垂直方向に形成
した段差部分を有するとともに、表示領域外においては、層厚部40a及び層薄部40b
の境界の段差を緩和させる緩和部11を有すること特徴とする。
すなわち、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを最適化するために、液晶材
料層における反射領域の層厚を相対的に薄くし、透過領域の層厚を厚くしたマルチギャッ
プ構造の液晶表示装置において、表示領域内では、基板面に垂直方向から見た、層厚調整
層の層厚部と層薄部との境界の段差の幅を小さくするように構成されている。一方、表示
領域外では、層厚調整層の層厚部と層薄部との境界の段差上に形成される走査電極の断線
を防止するための緩和部を形成して、一つの画素における反射領域及び透過領域に形成さ
れた走査電極の電気的導通性を確保するように構成されている。
したがって、走査電極の断線による動作不良を防止するとともに、段差に起因する表示
不良領域の面積を小さくしつつ、反射領域及び透過領域それぞれにおけるリタデーション
を最適化でき、表示特性に優れた液晶表示装置とすることができる。
(5) Layer Thickness Adjustment Layer In the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment, on the color filter substrate 30,
A layer thickness adjusting layer 40 made of an organic photosensitive resin material such as an acrylic resin or an epoxy resin, or an inorganic material such as SiN or SiO 2 is formed. Then, as shown in FIGS. 5B to 5C, the layer thickness adjusting layer 40 includes a layer thickness portion 40 a disposed in the reflection region R, and a transmission region T.
In the display region A, the inclined surface 40c is formed in the vertical direction at the step at the boundary between the layer thickness portion 40a and the layer thin portion 40b. And the layer thickness portion 40a and the layer thin portion 40b outside the display area.
It has the relief | moderation part 11 which eases the level | step difference of a boundary of this.
That is, in order to optimize the retardation in the reflective region and the transmissive region, a liquid crystal display device having a multi-gap structure in which the thickness of the reflective region in the liquid crystal material layer is relatively thin and the layer thickness of the transmissive region is large is displayed. In the region, the width of the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion of the layer thickness adjusting layer as viewed from the direction perpendicular to the substrate surface is reduced. On the other hand, outside the display area, a relaxation portion is formed to prevent disconnection of the scan electrode formed on the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion of the layer thickness adjusting layer, and reflection in one pixel is performed. The scanning electrode formed in the region and the transmission region is configured to ensure electrical continuity.
Accordingly, a liquid crystal display device having excellent display characteristics, which can prevent malfunction due to disconnection of the scan electrode and can optimize the retardation in each of the reflective region and the transmissive region while reducing the area of the display defective region due to the step. can do.

より具体的には、マルチギャップを構成するための従来の層厚調整層は、図23(b)
に示すように、表示領域内における、反射領域Rに配置された層厚部と、透過領域Tに配
置された層薄部との境界の段差660における傾斜角を比較的緩やかにして形成される。
これは、かかる段差における傾斜面が垂直に形成されていると、当該段差部分上に形成さ
れる走査電極の形成不良が生じ、断線のおそれがあるためである。ただし、段差部分は反
射領域及び透過領域のいずれにおいてもリタデーションが適合しないために、この場合に
は、図7(a)に示すように、基板面に垂直方向から見て視認される傾斜面に相当する領
域の面積が相対的に大きく、表示不良領域13の面積が大きくなる。
一方、本発明に係る液晶表示装置においては、表示領域内における、層厚部及び層薄部
の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成してあるために、図7(b)に示すように
、基板面に垂直方向から見て視認される傾斜面に相当する領域の面積が相対的に小さくな
り、表示不良領域13の面積を小さくすることができる。
More specifically, a conventional layer thickness adjusting layer for forming a multi-gap is shown in FIG.
As shown in FIG. 6, the inclination angle at the step 660 at the boundary between the layer thickness portion disposed in the reflection region R and the layer thin portion disposed in the transmission region T in the display region is formed to be relatively gentle. .
This is because if the inclined surface at such a step is formed vertically, a scan electrode formed on the step portion may be poorly formed and disconnection may occur. However, since the stepped portion does not match the retardation in any of the reflective region and the transmissive region, in this case, as shown in FIG. The area of the corresponding region is relatively large, and the area of the display defect region 13 is large.
On the other hand, in the liquid crystal display device according to the present invention, as shown in FIG. 7B, the inclined surface at the step between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in the vertical direction in the display region. In addition, the area of the region corresponding to the inclined surface viewed from the direction perpendicular to the substrate surface is relatively small, and the area of the display defect region 13 can be reduced.

このように基板面に垂直方向から見た、層厚部及び層薄部の境界の段差の幅を小さくす
るためには、当該段差における傾斜面と基板面とのなす角度を60〜90°の範囲内の値
とすることが好ましい。
この理由は、かかる角度が60°未満の値となると、層厚調整層の膜厚にもよるが、基
板面に垂直方向から見た際の傾斜面の幅が相対的に大きくなり、表示不良領域の面積が大
きくなってしまう場合があるからである。一方、かかる角度が垂直(90°)であれば、
基板面に垂直方向から見た傾斜面の幅を0とすることができるため、表示不良領域の面積
を最も小さくすることができるためである。ただし、かかる段差は、一般的に、感光性樹
脂材料に対する多重露光あるいはハーフトーン露光により形成され、フォトマスクを通過
する光の多少の回り込みがあることから、再現性に乏しい場合がある。
したがって、層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面と、基板面とのなす角度を
70〜88°の範囲内の値とすることがより好ましく、80〜85°の範囲内の値とする
ことがさらに好ましい。
なお、傾斜面と基板面とのなす角度とは、図8に示す傾斜面と基板面とのなす二つの角
度θA、θBのうち、0〜90°の範囲内で定められる角度をいう。したがって、図8(
a)においては、θBを意味し、図8(b)においては、θAを意味する。
Thus, in order to reduce the width of the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion as viewed from the direction perpendicular to the substrate surface, the angle between the inclined surface and the substrate surface in the step is set to 60 to 90 °. A value within the range is preferable.
The reason for this is that when the angle is less than 60 °, although depending on the thickness of the layer thickness adjusting layer, the width of the inclined surface when viewed from the direction perpendicular to the substrate surface becomes relatively large, resulting in poor display This is because the area of the region may increase. On the other hand, if this angle is vertical (90 °),
This is because the width of the inclined surface viewed from the direction perpendicular to the substrate surface can be set to 0, so that the area of the display defect region can be minimized. However, such a step is generally formed by multiple exposure or halftone exposure of the photosensitive resin material, and there is a slight wraparound of the light passing through the photomask, so the reproducibility may be poor.
Therefore, it is more preferable that the angle formed between the inclined surface at the step between the layer thickness portion and the layer thin portion and the substrate surface is a value within a range of 70 to 88 °, and a value within a range of 80 to 85 °. More preferably.
The angle formed between the inclined surface and the substrate surface refers to an angle determined within a range of 0 to 90 ° out of two angles θA and θB formed between the inclined surface and the substrate surface shown in FIG. Therefore, FIG.
In a), it means θB, and in FIG. 8B, it means θA.

ただし、層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成した場合には
、製造段階において、層厚調整層の上層に走査電極を形成した場合に、かかる段差部分に
電極が均一に形成されない場合がある。この場合には、例えば、一つの画素における反射
領域の走査電極と透過領域の走査電極とが非連続状態となって、電気的導通性が確保でき
ず、動作不良の原因となってしまう。
そこで、図5(a)に示すように、表示領域A外において、層厚部40a及び層薄部4
0bの境界の段差を緩和させる緩和部11を形成することにより、一つの画素における反
射領域の走査電極33aと透過領域の走査電極33bとの電気的導通性を当該緩和部11
で確保することができ、走査電極33の断線による動作不良を防止することができる。す
なわち、一つの画素内において、例えば、反射領域の走査電極と透過領域の走査電極とが
全くつながっていない場合であっても、表示領域外では当該反射領域と透過領域の走査電
極の電気的導通性が確保されているために、一つの画素内の反射領域及び透過領域それぞ
れにおいて電圧を印加することができる。
However, when the inclined surface at the step of the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in the vertical direction, when the scanning electrode is formed in the upper layer of the layer thickness adjustment layer in the manufacturing stage, the electrode is applied to the step portion. May not be formed uniformly. In this case, for example, the scanning electrode in the reflection region and the scanning electrode in the transmission region in one pixel are in a discontinuous state, and electrical continuity cannot be ensured, resulting in malfunction.
Therefore, as shown in FIG. 5A, outside the display area A, the layer thickness portion 40a and the layer thin portion 4
By forming the relaxing portion 11 that relaxes the step difference at the boundary of 0b, the electrical continuity between the scanning electrode 33a in the reflective region and the scanning electrode 33b in the transmissive region in one pixel is reduced.
Therefore, it is possible to prevent malfunction due to disconnection of the scanning electrode 33. That is, in one pixel, for example, even when the scan electrode in the reflective region and the scan electrode in the transmissive region are not connected at all, the electrical continuity between the scan electrode in the reflective region and the transmissive region is outside the display region. Therefore, a voltage can be applied to each of the reflective region and the transmissive region in one pixel.

かかる緩和部としては、例えば、図9(a)に示すように、表示領域A内における傾斜
面を第1の傾斜面17としたときに、第1の傾斜面17と基板面とのなす角度θ2よりも
緩やかな第2の傾斜面18を含む緩和部11とすることができる。すなわち、層厚部と層
薄部との境界の段差における傾斜面が急峻になるにしたがって、当該段差部分に形成する
透明電極が形成不良を生じ、断線が生じやすくなる。そこで、表示領域外における層厚部
と層薄部との境界の段差における傾斜面を、表示領域内の段差よりも緩やかに形成するこ
とにより、一つの画素における反射領域及び透過領域に形成された電極の電気的導通性を
、表示領域外で確保することができる。
ただし、かかる傾斜面が過度に緩やかになると、表示領域外のいわゆる額縁領域の面積
がおおきくなってしまう場合がある。したがって、表示領域外の層厚部及び層薄部の境界
の段差における傾斜面と、基板面とのなす角度を、30〜60°未満の範囲内の値とする
ことが好ましく、40〜50°の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
As such a relaxing portion, for example, as shown in FIG. 9A, when the inclined surface in the display area A is the first inclined surface 17, the angle formed by the first inclined surface 17 and the substrate surface. The relaxing part 11 can include the second inclined surface 18 that is gentler than θ2. That is, as the inclined surface at the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion becomes steeper, the transparent electrode formed at the step portion is poorly formed, and disconnection is likely to occur. Therefore, the inclined surface at the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion outside the display region is formed more gently than the step in the display region, thereby forming the reflection region and the transmission region in one pixel. The electrical continuity of the electrode can be ensured outside the display area.
However, if the inclined surface becomes excessively gentle, the area of a so-called frame region outside the display region may be increased. Therefore, it is preferable that the angle formed between the inclined surface at the step between the layer thickness portion and the layer thin portion outside the display region and the substrate surface is a value within a range of less than 30 to 60 °, and 40 to 50 °. It is more preferable to set the value within the range.

また、かかる緩和部の別の例としては、例えば、図9(b)に示すように、層厚部40
a及び層薄部40bをつなぐ複数の段差12を含む緩和部11とすることができる。すな
わち、表示領域外の層厚部及び層薄部の境界の段差の高低差が、電極の膜厚の値よりも大
きい場合には、当該段差部分に電極を形成した場合に形成不良を生じて、断線する可能性
が高くなる。そこで、表示領域外の層厚部及び層薄部の境界の段差を、複数の段差を含む
ように構成することにより、一つ一つの段差の高低差を小さくして、電極の断線を防止す
ることができる。
したがって、例えば、走査電極の膜厚が約50nmである場合に、表示領域外の層厚部
及び層薄部の境界の段差を緩和させる緩和部に含まれる複数の段差のそれぞれの高低差を
、30〜60nmの範囲内の値とすることが好ましい。
Moreover, as another example of the relaxation portion, for example, as shown in FIG.
It can be set as the relaxation part 11 containing the several level | step difference 12 which connects a and the layer thin part 40b. That is, if the difference in level of the step between the layer thickness part and the layer thin part outside the display area is larger than the value of the film thickness of the electrode, formation failure occurs when the electrode is formed in the step part. The possibility of disconnection increases. Therefore, by forming the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion outside the display area so as to include a plurality of steps, the height difference of each step is reduced and the disconnection of the electrode is prevented. be able to.
Therefore, for example, when the film thickness of the scan electrode is about 50 nm, the height difference of each of the plurality of steps included in the relaxing portion that relaxes the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion outside the display region is A value in the range of 30 to 60 nm is preferable.

また、図10(a)に示すように、緩和部11を表示領域Aのいずれか一方の外側に、
例えば、素子基板上の引回し配線と導通をとる側に形成して、層厚調整層40の層厚部4
0a上の走査電極33a及び層薄部40b上の走査電極33bの電気的導通性をとってあ
ることにより、一応の電気的導通性を確保することができる。ただし、より確実に走査電
極33a、33bの電気的導通性を確保できることから、図10(b)に示すように、表
示領域Aの両側に、かかる緩和部11を形成してあることが好ましい。
Further, as shown in FIG. 10A, the relaxing part 11 is placed outside one of the display areas A,
For example, the layer thickness portion 4 of the layer thickness adjusting layer 40 is formed on the side that is electrically connected to the lead wiring on the element substrate.
Since the scanning electrode 33a on 0a and the scanning electrode 33b on the thin layer portion 40b have electrical continuity, temporary electrical continuity can be ensured. However, since the electrical continuity of the scanning electrodes 33a and 33b can be ensured more reliably, it is preferable that the relaxing portions 11 are formed on both sides of the display area A as shown in FIG.

なお、リタデーションを最適化するために、液晶材料層において反射領域を透過領域よ
りも薄く構成するためには、上述のように、反射領域に対応する層厚部と透過領域に対応
する層薄部とから構成する場合に限られず、図12に示すように、反射領域Rにのみ対応
させて層厚調整層40を形成することによっても構成することができる。この場合には、
層厚調整層40の端部に相当する段差における傾斜面15に関して、表示領域A内におい
ては垂直方向に形成するとともに、例えば、表示領域A外においては表示領域A内の傾斜
面15と基板面とのなす角度よりも緩やかな傾斜面18を含む緩和部11を設けることと
なる。
また、緩和部の例としては、上述した態様に限られることなく、層厚部上の走査電極と
、層薄部上の走査電極との電気的導通性を確保できる手段であれば、他の態様であっても
構わない。
In order to optimize the retardation, in order to make the reflective region thinner than the transmissive region in the liquid crystal material layer, as described above, the layer thickness portion corresponding to the reflective region and the layer thin portion corresponding to the transmissive region are used. 12, the layer thickness adjusting layer 40 can be formed only corresponding to the reflective region R as shown in FIG. In this case,
The inclined surface 15 at the level difference corresponding to the end of the layer thickness adjusting layer 40 is formed in the vertical direction in the display area A. For example, the inclined surface 15 in the display area A and the substrate surface outside the display area A. Therefore, the relaxing part 11 including the inclined surface 18 that is gentler than the angle between the two and the like is provided.
Further, examples of the relaxing portion are not limited to the above-described embodiment, and any other means can be used as long as it can secure electrical conductivity between the scanning electrode on the layer thickness portion and the scanning electrode on the layer thin portion. It may be an aspect.

(6)走査電極
また、層厚調整層40の上には、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体から
なる走査電極33が形成されている。かかる走査電極33は、一方向に配列された画素か
らなる画素列毎に、複数の透明電極33が並列したストライプ状に構成されている。
ここで、本実施形態の液晶表示装置においては、表示領域A内において、反射領域Rと
透過領域Tに対応して形成された層厚調整層40の層厚部40a及び層厚部40bの境界
の段差における傾斜面が垂直方向に形成されている。したがって、一つの画素内における
反射領域Rの走査電極33aと透過領域Tの走査電極33bとが、連続して形成されない
場合がある。
ただし、表示領域外においては、同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成され
る走査電極を延設させて、層厚部及び層薄部の境界の段差の緩和部上で、反射領域及び透
過領域の走査電極をつなげてあるために、一つの画素内で走査電極が非連続状態となる場
合であっても、電気的導通性は確保されている。
したがって、表示領域内での垂直方向に形成された傾斜面を含む段差上に走査電極を形
成する場合であっても、断線等による動作不良の発生を防止することができる。
(6) Scan Electrode Further, a scan electrode 33 made of a transparent conductor such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed on the layer thickness adjusting layer 40. The scanning electrode 33 is formed in a stripe shape in which a plurality of transparent electrodes 33 are arranged in parallel for each pixel column composed of pixels arranged in one direction.
Here, in the liquid crystal display device of the present embodiment, the boundary between the layer thickness portion 40 a and the layer thickness portion 40 b of the layer thickness adjusting layer 40 formed corresponding to the reflective region R and the transmissive region T in the display region A. The inclined surfaces at the steps are formed in the vertical direction. Therefore, the scanning electrode 33a in the reflection region R and the scanning electrode 33b in the transmission region T in one pixel may not be formed continuously.
However, outside the display area, scanning electrodes formed in the reflective area and the transmissive area in the same pixel column are extended so that the reflective area and the transmissive area are on the relief portion of the step between the layer thickness part and the layer thin part. Since the scan electrodes in the region are connected, electrical continuity is ensured even when the scan electrodes are discontinuous in one pixel.
Therefore, even when the scan electrode is formed on the step including the inclined surface formed in the vertical direction in the display region, it is possible to prevent the occurrence of malfunction due to disconnection or the like.

また、一つの画素における反射領域及び透過領域の走査電極を、表示領域外で電気的導
通性を確保するにあたり、表示領域のいずれか一方の側、例えば、素子基板上の引回し配
線と導通をとる側において、層厚調整層の層厚部上及び層薄部上の走査電極の電気的導通
性をとってあることにより、一応の電気的導通性を確保することができる。ただし、より
確実に走査電極の電気的導通性を確保できることから、表示領域の両側で、層厚調整層の
層厚部上及び層薄部上の走査電極の電気的導通性をとってあることが好ましい。
Further, in order to ensure the electrical continuity of the scanning electrodes in the reflective region and the transmissive region in one pixel outside the display region, the conductive electrode is electrically connected to one side of the display region, for example, the lead wiring on the element substrate. On the other hand, the electrical conductivity of the scanning electrodes on the layer thickness portion and the layer thin portion of the layer thickness adjusting layer is ensured, so that a temporary electrical conductivity can be ensured. However, since the electrical conductivity of the scan electrode can be ensured more reliably, the electrical conductivity of the scan electrode on the layer thickness adjustment layer and the layer thin portion of the layer thickness adjusting layer is taken on both sides of the display region. Is preferred.

また、図13に示すように、走査電極33において、表示領域A内のそれぞれの画素に
おける、層厚調整層40の層厚部40a及び層薄部40bの境界の段差(第1の傾斜面1
7)に相当する箇所に、スリット34を設けてあることが好ましい。
この理由は、表示不良の原因となる傾斜面に走査電極を形成せず、非電界領域とするこ
とにより、当該部分に光を透過させないで、表示不良の発生をより少なくすることができ
るためである。
そして、本実施形態の液晶表示装置であれば、一つの画素における反射領域及び透過領
域の走査電極が、表示領域外で電気的導通性を確保してあるために、このようなスリット
を設けた場合であっても動作不良を生じることがない。
Further, as shown in FIG. 13, in the scanning electrode 33, in each pixel in the display area A, a step at the boundary between the layer thickness portion 40a and the layer thin portion 40b of the layer thickness adjusting layer 40 (first inclined surface 1).
It is preferable that a slit 34 is provided at a position corresponding to 7).
The reason for this is that by forming the non-electric field region without forming the scanning electrode on the inclined surface that causes display failure, it is possible to reduce the occurrence of display failure without transmitting light to the portion. is there.
In the liquid crystal display device according to the present embodiment, since the scanning electrodes in the reflective region and the transmissive region in one pixel ensure electrical conductivity outside the display region, such slits are provided. Even in this case, no malfunction occurs.

(7)配向膜
また、走査電極33の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜45が全面的に形成さ
れている。かかる配向膜は、ラビング処理をする等して、液晶材料の配向性を制御するた
めの部材である。
(7) Alignment Film An alignment film 45 made of polyimide resin or the like is formed on the entire surface of the scan electrode 33. Such an alignment film is a member for controlling the alignment of the liquid crystal material by performing a rubbing process or the like.

4.素子基板
(1)基本構成
また、素子基板60は、図14(a)〜(b)に示すように、基本的に、ガラス基板等
からなる基体61と、データ線65と、スイッチング素子としてのTFD素子69と、画
素電極63と、から構成されている。また、画素電極63上には、ポリイミド樹脂等から
なる配向膜75が形成されている。さらに、基体61の外面には、位相差板(1/4波長
板)77及び偏光板79が配置されている。
なお、図14(a)は、素子基板60の概略平面図であり、図14(b)は、素子基板
60の概略断面図である。また、配向膜や偏光板等についてはそれぞれ適宜省略されてい
る。
4). Element Substrate (1) Basic Configuration In addition, as shown in FIGS. 14A to 14B, the element substrate 60 basically includes a base 61 made of a glass substrate, a data line 65, and a switching element. A TFD element 69 and a pixel electrode 63 are included. In addition, an alignment film 75 made of polyimide resin or the like is formed on the pixel electrode 63. Further, a retardation plate (¼ wavelength plate) 77 and a polarizing plate 79 are disposed on the outer surface of the base 61.
14A is a schematic plan view of the element substrate 60, and FIG. 14B is a schematic cross-sectional view of the element substrate 60. Further, the alignment film, the polarizing plate and the like are omitted as appropriate.

(2)データ線及び引回し配線
素子基板60上のデータ線65は、複数の配線が並列したストライプ状に構成されてい
る。また、図示しないが、ドライバ等の実装領域側の辺に対して垂直方向に延びる辺側に
は、導電性粒子を含むシール材を介してカラーフィルタ基板30上の走査電極33と電気
的に接続される引回し配線が設けられている。
かかるデータ線65や引回し配線は、製造工程の簡略化及び電気抵抗の低下の観点から
、後述する二端子型非線型素子の形成と同時に形成されるため、例えば、タンタル層、酸
化タンタル層、及びクロム層が順次形成されて構成されている。
(2) Data line and routing wiring The data line 65 on the element substrate 60 is formed in a stripe shape in which a plurality of wirings are arranged in parallel. Although not shown, the side extending in the direction perpendicular to the side on the mounting area side of the driver or the like is electrically connected to the scanning electrode 33 on the color filter substrate 30 via a sealing material containing conductive particles. Routed wiring is provided.
Since the data line 65 and the lead wiring are formed simultaneously with the formation of a two-terminal non-linear element described later from the viewpoint of simplifying the manufacturing process and lowering the electrical resistance, for example, a tantalum layer, a tantalum oxide layer, And a chrome layer are sequentially formed.

(3)画素電極
また、それぞれのデータ線65には、スイッチング素子69を介して画素電極63が電
気的に接続されている。また、画素電極63は、それぞれのデータ線65の間にマトリク
ス状に配置されている。
かかる画素電極63は、ITO(インジウムスズ酸化物)やIZO(インジウム亜鉛酸
化物)等の透明導電材料を用いて形成することができる。
(3) Pixel Electrode Further, the pixel electrode 63 is electrically connected to each data line 65 via the switching element 69. The pixel electrodes 63 are arranged in a matrix between the data lines 65.
The pixel electrode 63 can be formed using a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) or IZO (indium zinc oxide).

(4)スイッチング素子
また、素子基板60上には、データ線65と画素電極63とを電気的に接続するスイッ
チング素子69としてのTFD素子69が形成されている。かかるTFD素子69は、一
般的に、タンタル(Ta)合金からなる素子第1電極71、酸化タンタル(Ta25)か
らなる絶縁膜72、及びクロム(Cr)からなる素子第2電極73、74が順次積層され
たサンドイッチ構造を有している。そして、正負方向のダイオードスイッチング特性を示
し、しきい値以上の電圧が、素子第1電極71及び素子第2電極73、74の両端子間に
印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
(4) Switching Element A TFD element 69 as a switching element 69 that electrically connects the data line 65 and the pixel electrode 63 is formed on the element substrate 60. The TFD element 69 generally includes an element first electrode 71 made of a tantalum (Ta) alloy, an insulating film 72 made of tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), and an element second electrode 73 made of chromium (Cr). 74 has a sandwich structure in which layers are sequentially stacked. The active element exhibits diode switching characteristics in the positive and negative directions and becomes conductive when a voltage equal to or higher than a threshold is applied between both terminals of the element first electrode 71 and the element second electrodes 73 and 74.

また、二個のTFD素子69a、69bは、データ線65と、画素電極63との間に介
在するように形成され、反対のダイオード特性を有する第1のTFD素子69a及び第2
のTFD素子69bから構成してあることが好ましい。
この理由は、このように構成することにより、印加する電圧波形として、正負対称なパ
ルス波形を使用することができ、液晶表示装置等における液晶材料の劣化を防止すること
ができるためである。すなわち、液晶材料の劣化を防止するために、ダイオードスイッチ
ング特性が、正負方向において対称的であることが望まれ、二個のTFD素子69a、6
9bを逆向きに直列接続することにより、正負対称なパルス波形を使用することができる
ためである。
The two TFD elements 69a and 69b are formed so as to be interposed between the data line 65 and the pixel electrode 63, and have the first TFD element 69a and the second TFD element 69a having opposite diode characteristics.
The TFD element 69b is preferably used.
The reason for this is that with this configuration, a positive / negative symmetrical pulse waveform can be used as the voltage waveform to be applied, and deterioration of the liquid crystal material in a liquid crystal display device or the like can be prevented. That is, in order to prevent deterioration of the liquid crystal material, it is desired that the diode switching characteristics be symmetrical in the positive and negative directions, and the two TFD elements 69a, 6 are required.
This is because a positive and negative symmetrical pulse waveform can be used by connecting 9b in series in the reverse direction.

[第2実施形態]
本発明の第2実施形態は、第1実施形態の液晶表示装置の製造方法であって、
第1の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示領域
外においては、層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調
整層を形成する工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して配置さ
れる第1の電極であって、少なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成さ
れる当該反射領域及び透過領域における第1の電極が緩和部上でつながるように、第1の
電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
以下、第2実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例として、第1実施形態の液晶
表示装置を製造する方法を例に採って、図15〜図17を適宜参照しながら説明する。
[Second Embodiment]
The second embodiment of the present invention is a method of manufacturing the liquid crystal display device of the first embodiment,
Forming a photosensitive resin material layer on the first substrate;
In order to adjust the retardation in the reflective region and the transmissive region, a layer thickness adjusting layer in which a layer thickness portion is disposed in the reflective region and a thin layer portion is disposed in the transmissive region. A layer thickness adjusting layer having a step portion in which the inclined surface at the boundary of the thin layer portion is formed in the vertical direction and having a relaxation portion for relaxing the step difference at the boundary between the layer thickness portion and the thin layer portion outside the display region Forming a step;
A first electrode that extends over the pixel column and extends to the outside of the display region on the upper layer of the layer thickness adjusting layer, and is formed in at least the reflective region and the transmissive region in the same pixel column Forming a first electrode so that the first electrode in the reflective region and the transmissive region is connected on the relaxation portion;
It is characterized by including.
Hereinafter, as an example of the method for manufacturing the liquid crystal display device according to the second embodiment, the method for manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment will be described as an example with reference to FIGS. 15 to 17 as appropriate.

1.カラーフィルタ基板の製造工程
(1)光反射膜の形成
まず、図15(a)に示すように、第1の基板の基材としてのガラス基板31上に、反
射領域を形成するための反射膜35を形成する。かかる反射膜は、蒸着法やスパッタリン
グ法にてアルミニウム等の金属材料を母基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ方を
用いてパターニングすることにより形成することができる。
また、半透過反射型のカラーフィルタ基板を製造する場合には、それぞれの画素に対応
させて、透過領域を形成する開口部35aを備えた反射膜35を形成する。
1. Manufacturing Process of Color Filter Substrate (1) Formation of Light Reflective Film First, as shown in FIG. 15A, a reflective film for forming a reflective region on a glass substrate 31 as a base material of the first substrate. 35 is formed. Such a reflective film can be formed by depositing a metal material such as aluminum on a mother substrate by vapor deposition or sputtering, and then patterning using a photolithography method.
In the case of manufacturing a transflective color filter substrate, a reflective film 35 having an opening 35a for forming a transmissive region is formed corresponding to each pixel.

(2)着色層の形成
次いで、図15(b)に示すように、それぞれの画素に対応して、R、G、Bのうちの
いずれか一色の着色層37を形成する。かかる着色層は、顔料や染料等の着色材を分散さ
せた透明樹脂等からなる感光性樹脂を母基板上に塗布し、当該感光性樹脂に対してパター
ン露光及び現像処理を順次施すことにより形成することができる。なお、かかる露光及び
現像処理は、R、G、Bそれぞれの色毎に繰り返すことになる。
(2) Formation of colored layer Next, as shown in FIG. 15B, a colored layer 37 of any one color of R, G, and B is formed corresponding to each pixel. Such a colored layer is formed by applying a photosensitive resin made of a transparent resin or the like in which a coloring material such as pigment or dye is dispersed on a mother substrate, and sequentially performing pattern exposure and development processing on the photosensitive resin. can do. Such exposure and development processing is repeated for each of R, G, and B colors.

(3)遮光膜の形成
次いで、図15(c)に示すように、それぞれの画素間領域に遮光膜39を形成する。
かかる遮光膜としては、例えば、クロム(Cr)やモリブテン(Mo)等の金属膜を遮光
膜として使用したり、あるいは、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色材を共に樹
脂その他の基材中に分散させたものや、黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材
中に分散させたものなどを用いたりすることができる。
例えば、金属膜を用いて遮光膜を形成する場合には、クロム(Cr)等の金属材料を蒸
着法等によりガラス基板上に積層した後、所定のパターンに合わせてエッチング処理する
ことにより形成することができる。
(3) Formation of light shielding film Next, as shown in FIG. 15C, a light shielding film 39 is formed in each inter-pixel region.
As such a light-shielding film, for example, a metal film such as chromium (Cr) or molybdenum (Mo) is used as the light-shielding film, or three colors of R (red), G (green), and B (blue) are colored. A material in which both materials are dispersed in a resin or other base material, or a material in which a coloring material such as a black pigment or dye is dispersed in a resin or other base material can be used.
For example, when a light shielding film is formed using a metal film, a metal material such as chromium (Cr) is stacked on a glass substrate by a vapor deposition method or the like, and is then etched according to a predetermined pattern. be able to.

(4)層厚調整層の形成
次いで、図15(d)に示すように、感光性樹脂材料を、例えば、スピンコーター等の
塗布装置を用いて基板上に均一に塗布して、感光性樹脂材料層40´を形成する。このと
き、例えば、スピンコーターを用いた場合、600〜2,000rpmの回転数で、5〜
20秒の塗布時間として、厚さ1〜10μmの層厚調整層を形成することができる。
ここで、層厚調整層を構成する感光性樹脂材料の種類は特に制限されるものではないが
、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、オ
キセタン系樹脂等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。また、精度良く凹
凸パターンが形成できるように、感光性樹脂材料中に、シリカ粒子、酸化チタン、酸化ジ
ルコニア、酸化アルミニウム等の無機フィラーを添加しておくこともできる。
また、感光性樹脂材料としては、光透過部を透過した光が照射された箇所が光分解して
、現像剤に対して可溶化するポジ型と、光透過部を透過した光が照射された箇所が硬化し
、現像剤に対して不溶化するネガ型とがあるが、いずれも好適に使用することができる。
なお、本実施形態においては、ポジ型の感光性樹脂材料を使用した場合を例に採って説
明する。
(4) Formation of Layer Thickness Adjustment Layer Next, as shown in FIG. 15 (d), a photosensitive resin material is uniformly applied on the substrate using a coating device such as a spin coater, for example. A material layer 40 'is formed. At this time, for example, when a spin coater is used, at a rotational speed of 600 to 2,000 rpm,
As the coating time of 20 seconds, a layer thickness adjusting layer having a thickness of 1 to 10 μm can be formed.
Here, the type of the photosensitive resin material constituting the layer thickness adjusting layer is not particularly limited, but for example, a kind of acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, phenolic resin, oxetane resin, etc. Single or 2 or more types of combinations are mentioned. In addition, an inorganic filler such as silica particles, titanium oxide, zirconia oxide, or aluminum oxide can be added to the photosensitive resin material so that the uneven pattern can be formed with high accuracy.
Moreover, as the photosensitive resin material, the positive type that is photodegraded and solubilized in the developer by the portion irradiated with the light transmitted through the light transmitting portion and the light transmitted through the light transmitting portion are irradiated. Although there is a negative type in which the portion is cured and insolubilized in the developer, any of them can be suitably used.
In the present embodiment, a case where a positive photosensitive resin material is used will be described as an example.

次いで、図16(a)〜(c)に示すように、反射領域及び透過領域におけるリタデー
ションを調整するために、反射領域に層厚部40aを配置し、透過領域に層薄部40bを
配置した層厚調整層40であって、表示領域A内においては、層厚部40a及び層薄部4
0bの境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、表示
領域A外においては、層厚部40a及び層薄部40bの境界の段差を緩和させる緩和部1
1を有する層厚調整層を形成する。
より具体的には、例えば、ステッパーステージ上に基板を載置するとともに、図16(
a)に示すように、第1のフォトマスク111を配置した後、記号Lで示されるi線等の
エネルギー線を照射して、均一に塗布された感光性樹脂材料層40´に対してパターン露
光(第1の露光)を実施する。
次いで、基板を、例えば、ステッパーステージ上から一括露光用の露光装置上に移動し
た後、第2のフォトマスク121を配置し、図16(b)に示すように、同様にエネルギ
ー線を照射して、層厚調整層に対してパターン露光(第2の露光)を実施する。
次いで、例えば、図16(c)に示すように、基板31上の感光性樹脂材料層40´を
、現像液を用いて現像することにより、第1及び第2のフォトマスクの光透過部を透過し
た光が照射された部分が現像され、反射領域に対応した層厚部40aと、透過領域に対応
した層薄部40bとを含む層厚調整層40を形成することができる。
Next, as shown in FIGS. 16A to 16C, in order to adjust the retardation in the reflection region and the transmission region, the layer thickness portion 40a is disposed in the reflection region, and the layer thin portion 40b is disposed in the transmission region. In the display area A, the layer thickness adjustment layer 40 and the layer thickness portion 40a and the layer thin portion 4 are provided.
A relaxing portion 1 that has a step portion in which an inclined surface at a step at the boundary of 0b is formed in the vertical direction and relaxes the step at the boundary between the layer thickness portion 40a and the layer thin portion 40b outside the display area A.
1 is formed.
More specifically, for example, a substrate is placed on a stepper stage, and FIG.
As shown to a), after arrange | positioning the 1st photomask 111, energy rays, such as i line | wire shown by the symbol L, are irradiated, A pattern is applied with respect to the photosensitive resin material layer 40 'uniformly apply | coated. An exposure (first exposure) is performed.
Next, after the substrate is moved from, for example, a stepper stage onto an exposure apparatus for batch exposure, a second photomask 121 is arranged, and energy rays are similarly irradiated as shown in FIG. Then, pattern exposure (second exposure) is performed on the layer thickness adjusting layer.
Next, as shown in FIG. 16C, for example, the photosensitive resin material layer 40 ′ on the substrate 31 is developed using a developer, so that the light transmitting portions of the first and second photomasks are formed. The portion irradiated with the transmitted light is developed, and the layer thickness adjusting layer 40 including the layer thickness portion 40a corresponding to the reflection region and the layer thin portion 40b corresponding to the transmission region can be formed.

このとき、表示領域外においては、第1のフォトマスク111と第2のフォトマスク1
13とのマスクパターンを異ならせることにより、所望の傾斜面を備えた段差部分を形成
することができる。一方、表示領域内においては、第1の露光又は第2の露光のいずれか
一回の露光をするか、あるいは、第1のフォトマスク111と第2のフォトマスク113
とのマスクパターンを同一のパターンとすることにより、段差部分に極力テーパーができ
ないように、傾斜面を垂直方向に形成することができる。したがって、表示領域A内では
、層厚部40aと層薄部40bとの境界の段差における傾斜面(第1の傾斜面17)を垂
直方向に形成し、表示領域A外では、層厚部40aと層薄部40bとの境界の段差におけ
る傾斜面(第2の傾斜面18)を、表示領域A内の第1の傾斜面17と基板面とのなす角
度よりも緩やかにした層厚調整層40が形成される。
At this time, the first photomask 111 and the second photomask 1 are outside the display area.
By making the mask pattern different from 13, a step portion having a desired inclined surface can be formed. On the other hand, in the display area, either one of the first exposure and the second exposure is performed, or the first photomask 111 and the second photomask 113 are used.
By using the same mask pattern, the inclined surface can be formed in the vertical direction so that the stepped portion cannot be tapered as much as possible. Therefore, in the display area A, the inclined surface (first inclined surface 17) at the step at the boundary between the layer thickness part 40a and the layer thin part 40b is formed in the vertical direction, and outside the display area A, the layer thickness part 40a. Thickness adjustment layer in which the inclined surface (second inclined surface 18) at the step of the boundary between the thin film portion 40b and the thin layer portion 40b is made gentler than the angle formed by the first inclined surface 17 in the display area A and the substrate surface. 40 is formed.

なお、上述した層厚調整層の層厚部や層薄部、傾斜面等の形成方法は、いわゆる異なる
パターンの複数のフォトマスクを用いた多重露光によるものである。ただし、これ以外に
も、部分的に光の透過率を異ならせたハーフトーンマスクを用いたハーフトーン露光によ
っても層厚部や層薄部、傾斜面等を備えた層厚調整層を形成することができる。
In addition, the formation method of the layer thickness part of the layer thickness adjustment layer mentioned above, a layer thin part, an inclined surface, etc. is based on the multiple exposure using several photomasks of what is called a different pattern. However, in addition to this, a layer thickness adjusting layer having a layer thickness portion, a layer thin portion, an inclined surface, or the like is also formed by halftone exposure using a halftone mask with partially different light transmittances. be able to.

(5)走査電極及び配向膜の形成
次いで、図16(d)に示すように、層厚部及び層薄部を含む層厚調整層上に、全面的
にITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電材料からなる透明導電層を、例えば、ス
パッタリング法により形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを施し、
所定のパターン形状の電極33を形成する。
例えば、製造するカラーフィルタ基板が、パッシブマトリクス型の液晶表示装置や、T
FD素子(Thin Film Diode)を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置に使用さ
れるカラーフィルタ基板である場合には、複数の透明電極が並列したストライプ状にパタ
ーニングされる。また、製造するカラーフィルタ基板が、TFT素子(Thin Film Transi
stor)を備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板
である場合には、それぞれのセル領域に対応した面状電極としてパターニングされる。
このとき、表示領域内においては、層厚調整層の層厚部及び層薄部の境界の段差が垂直
方向に形成されているために、当該段差部分の走査電極は形成不良を生じやすいが、表示
領域外における層厚調整層には緩和部が形成されており、一つの画素内における反射領域
及び透過領域の走査電極が緩和部で確実につながるように形成できるために、電気的導通
性を確保することができる。したがって、断線等による動作不良の発生を防止しつつ、表
示不良領域の面積を小さくした液晶表示装置を製造することができる。
(5) Formation of Scan Electrode and Alignment Film Next, as shown in FIG. 16 (d), the entire surface of the layer thickness adjusting layer including the layer thickness portion and the layer thin portion is made of ITO (indium tin oxide) or the like. After forming a transparent conductive layer made of a transparent conductive material, for example, by sputtering, patterning is performed using a photolithography method,
An electrode 33 having a predetermined pattern shape is formed.
For example, if the color filter substrate to be manufactured is a passive matrix type liquid crystal display device or T
In the case of a color filter substrate used in an active matrix type liquid crystal display device including an FD element (Thin Film Diode), a plurality of transparent electrodes are patterned in a parallel stripe shape. In addition, the color filter substrate to be manufactured is a TFT element (Thin Film Transi
In the case of a color filter substrate used in an active matrix type liquid crystal display device having a stor), it is patterned as a planar electrode corresponding to each cell region.
At this time, in the display region, since the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion of the layer thickness adjustment layer is formed in the vertical direction, the scan electrode of the step portion is likely to be poorly formed. A relaxation portion is formed in the layer thickness adjustment layer outside the display region, and the reflection electrode and the transmission region in one pixel can be formed so that the scan electrodes are securely connected by the relaxation portion. Can be secured. Accordingly, it is possible to manufacture a liquid crystal display device in which the area of the display failure region is reduced while preventing the occurrence of malfunction due to disconnection or the like.

次いで、図16(e)に示すように、透明電極33が形成された基板上において、それ
ぞれのセル領域毎に、ポリイミド樹脂等からなる配向膜45を形成することにより、カラ
ーフィルタ基板30を製造することができる。
Next, as shown in FIG. 16E, the color filter substrate 30 is manufactured by forming an alignment film 45 made of polyimide resin or the like for each cell region on the substrate on which the transparent electrode 33 is formed. can do.

2.素子基板の製造工程
(1)素子第1電極の形成
素子基板60は、まず、図17(a)に示すように、ガラス基板からなる基体61上に
、素子第1電極71を形成する。この素子第1電極71は、例えば、タンタル合金から構
成されており、スパッタリング法や電子ビーム蒸着法を用いて形成することができる。こ
のとき、素子第1電極71の形成前に、第2のガラス基板61に対する素子第1電極71
の密着力を著しく向上させることができるとともに、第2のガラス基板61から素子第1
電極71への不純物の拡散を効率的に抑制することができることから、基体61上に酸化
タンタル(Ta25)等からなる絶縁膜を形成することも好ましい。
このとき、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法においては、素子第1電極71を
、データ線65に沿って隣接するか、又はデータ線65に沿って斜め方向に隣接する、二
つの画素電極63に対応したTFD素子69に共有させるために、隣接する二つの画素G
にまたがって形成することが好ましい。この理由は、TFD素子69の形成領域を小さく
する一方、画素電極63を大きくすることができるため、それぞれの画素面積を拡大して
、コントラスト等の表示特性を向上させた液晶表示装置を効率的に製造することができる
ためである。
2. Element Substrate Manufacturing Process (1) Formation of Element First Electrode As shown in FIG. 17A, the element substrate 60 first forms an element first electrode 71 on a base 61 made of a glass substrate. The element first electrode 71 is made of, for example, a tantalum alloy and can be formed by using a sputtering method or an electron beam evaporation method. At this time, the element first electrode 71 with respect to the second glass substrate 61 is formed before the element first electrode 71 is formed.
Can be remarkably improved, and the second glass substrate 61 can be used for the first element.
It is also preferable to form an insulating film made of tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) or the like on the base 61 because the diffusion of impurities into the electrode 71 can be efficiently suppressed.
At this time, in the method for manufacturing the liquid crystal display device according to the present embodiment, the element first electrode 71 is adjacent to the two pixels along the data line 65 or obliquely along the data line 65. In order to share the TFD element 69 corresponding to the electrode 63, two adjacent pixels G
It is preferable to form over. This is because the formation area of the TFD element 69 can be reduced while the pixel electrode 63 can be enlarged, so that the liquid crystal display device in which each pixel area is enlarged and display characteristics such as contrast are improved can be efficiently performed. This is because it can be manufactured.

次いで、図17(b)に示すように、素子第1電極71の表面を陽極酸化法によって酸
化させることにより、酸化膜72を形成する。より具体的には、素子第1電極71が形成
された基板を、クエン酸溶液等の電解液中に浸漬した後、かかる電解液と、素子第1電極
71との間に所定電圧を印加して、素子第1電極71の表面を酸化させることができる。
Next, as shown in FIG. 17B, an oxide film 72 is formed by oxidizing the surface of the element first electrode 71 by an anodic oxidation method. More specifically, after the substrate on which the element first electrode 71 is formed is immersed in an electrolytic solution such as a citric acid solution, a predetermined voltage is applied between the electrolytic solution and the element first electrode 71. Thus, the surface of the element first electrode 71 can be oxidized.

(2)素子第2電極及びデータ線の形成
次いで、再び、スパッタリング法等により、素子第1電極71を含む基板上に、全面的
に金属膜を形成し、それをフォトリソグラフィ法によって、パターニングすることにより
、図17(c)に示すように、素子第2電極73、74及びデータ線65を形成する。こ
のようにして、TFD素子69及びデータ線65を形成することができる。
(2) Formation of Element Second Electrode and Data Line Next, again, a metal film is formed on the entire surface including the element first electrode 71 by sputtering or the like, and patterned by photolithography. Thus, as shown in FIG. 17C, the element second electrodes 73 and 74 and the data line 65 are formed. In this way, the TFD element 69 and the data line 65 can be formed.

(3)画素電極の形成
次いで、図17(d)に示すように、スパッタリング法等により、ITO(インジウム
スズ酸化物等)等の透明導電体材料からなる透明導電層を形成した後、フォトリソグラフ
ィ法を用いてパターニングすることにより、TFD素子69と電気的に接続された画素電
極63を形成する。
(3) Formation of Pixel Electrode Next, as shown in FIG. 17D, after forming a transparent conductive layer made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide, etc.) by sputtering or the like, photolithography is performed. By patterning using a method, the pixel electrode 63 electrically connected to the TFD element 69 is formed.

(4)配向膜の形成
次いで、図17(e)に示すように、画素電極63等が形成された素子基板60上に、
ポリイミド樹脂等からなる配向膜75を形成することにより、素子基板60を製造するこ
とができる。
(4) Formation of Alignment Film Next, as shown in FIG.
The element substrate 60 can be manufactured by forming the alignment film 75 made of polyimide resin or the like.

3.貼り合わせ工程
次いで、図示しないものの、カラーフィルタ基板30又は素子基板60のいずれか一方
において、表示領域を囲むようにしてシール材23を積層した後、他方の基板を重ね合わ
せて、加熱圧着することにより、カラーフィルタ基板30及び素子基板60を貼り合わせ
て、セル構造を形成する。
3. Bonding Step Next, although not shown in the drawings, in either one of the color filter substrate 30 and the element substrate 60, after laminating the sealing material 23 so as to surround the display region, the other substrate is overlapped and thermocompression bonded. The color filter substrate 30 and the element substrate 60 are bonded together to form a cell structure.

4.組立工程等
次いで、セル内に、シール材の一部に設けられた注入口から液晶材料を注入した後、封
止材等により封止する。
さらに、カラーフィルタ基板30及び素子基板60それぞれの外面に、位相差板(1/
4λ板)及び偏光板を配置したり、ドライバを実装したりするとともに、バックライト等
とともに筐体に組み込むことにより、液晶表示装置を製造することができる。
4). Next, after injecting a liquid crystal material into the cell from an injection port provided in a part of the sealing material, the cell is sealed with a sealing material or the like.
Further, on the outer surfaces of the color filter substrate 30 and the element substrate 60, retardation plates (1 /
4λ plate) and a polarizing plate are disposed, a driver is mounted, and a liquid crystal display device can be manufactured by being incorporated in a housing together with a backlight or the like.

[第3実施形態]
第3実施形態は、第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第2の基板と
、当該第1の基板及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それ
ぞれ反射領域及び透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液
晶表示装置である。
そして、反射領域及び透過領域は、表示領域内において一方向に配列された画素からな
る画素列にまたがってストライプ状に配置され、
第1の基板は、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射
領域に配置された層厚部と、透過領域に配置された層薄部と、を有する層厚調整層であっ
て、表示領域内における層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分
を含む層厚調整層を備え、
第1の電極は、層厚調整層の上層に、画素列にまたがって形成してあるとともに、それ
ぞれ表示領域外まで延設してあり、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第1の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置してあることを特徴とする。
以下、図18〜図19を適宜参照しながら、本発明の第3実施形態の液晶表示装置につ
いて、第1実施形態の液晶表示装置と異なるカラーフィルタ基板の構成を中心に説明し、
共通する点については適宜説明を省略する。
[Third Embodiment]
In the third embodiment, a first substrate having a first electrode, a second substrate having a second electrode, and a liquid crystal sandwiched between the first substrate and the second substrate. A transflective liquid crystal display device including a display region including a plurality of pixels each having a reflective region and a transmissive region.
The reflective region and the transmissive region are arranged in a stripe shape across a pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region,
The first substrate is a layer thickness adjusting layer having a layer thickness portion disposed in the reflection region and a thin layer portion disposed in the transmission region in order to adjust retardation in the reflection region and the transmission region. A layer thickness adjusting layer including a stepped portion formed in a vertical direction with an inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion in the display region,
The first electrode is formed on the upper layer thickness adjustment layer so as to straddle the pixel columns, and extends to the outside of the display area,
It is characterized in that a conducting member is disposed across a portion extending to the outside of the display region in the first electrode formed in at least the reflective region and the transmissive region of the same pixel column.
Hereinafter, the liquid crystal display device of the third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 18 to 19 as appropriate, focusing on the configuration of the color filter substrate different from the liquid crystal display device of the first embodiment.
Description of common points will be omitted as appropriate.

1.カラーフィルタ基板
(1)基本構成
本実施形態の液晶表示装置10に使用されるカラーフィルタ基板30は、基本的には、
図18に示すように、第1実施形態のカラーフィルタ基板と同様に、ガラス基板等からな
る基体31上に、光反射膜35と、遮光膜39と、着色層37と、層厚調整層40と、走
査電極33と、が順次積層されて構成されている。また、走査電極33上には、液晶材料
の配向性を制御するための配向膜45を備えるとともに、走査電極33等が形成されてい
る面とは反対側の面に、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板(1/4波長板)
47及び偏光板49が配置されている。
また、光反射膜35、遮光膜39、着色層37、配向膜45等については、第1実施形
態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板と同様とすることができるために、こ
こでの説明は省略する。
1. Color Filter Substrate (1) Basic Configuration The color filter substrate 30 used in the liquid crystal display device 10 of the present embodiment is basically
As shown in FIG. 18, similarly to the color filter substrate of the first embodiment, a light reflecting film 35, a light shielding film 39, a colored layer 37, and a layer thickness adjusting layer 40 are formed on a base 31 made of a glass substrate or the like. And the scanning electrode 33 are sequentially stacked. Further, an alignment film 45 for controlling the orientation of the liquid crystal material is provided on the scan electrode 33, and a clear image display is recognized on the surface opposite to the surface on which the scan electrode 33 and the like are formed. Retardation plate (1/4 wavelength plate)
47 and a polarizing plate 49 are arranged.
Further, the light reflecting film 35, the light shielding film 39, the colored layer 37, the alignment film 45, and the like can be the same as the color filter substrate used in the liquid crystal display device of the first embodiment. Description is omitted.

(2)層厚調整層
また、本実施形態に係る液晶表示装置10においては、カラーフィルタ基板30上に、
アクリル樹脂やエポキシ樹脂などの感光性樹脂材料からなる層厚調整層40が形成されて
いる。そして、かかる層厚調整層40が、反射領域に配置された層厚部40aと、透過領
域に配置された層薄部40bと、を有する層厚調整層40であって、表示領域A内におい
ては、層厚部40a及び層薄部40bの境界の段差における傾斜面17を垂直方向に形成
した段差部分を備えること特徴とする。
すなわち、反射領域及び透過領域におけるリタデーションを最適化するために、液晶材
料層における反射領域の層厚を相対的に薄くし、透過領域の層厚を厚くしたマルチギャッ
プ構造の液晶表示装置において、表示領域内では、基板面に垂直方向から見た、層厚調整
層の層厚部と層薄部との境界の段差の幅を小さくするように構成されている。
したがって、第1実施形態で説明したとおり、段差に起因する表示不良領域の面積を小
さくして、反射領域及び透過領域それぞれにおけるリタデーションを最適化でき、表示特
性に優れた液晶表示装置とすることができる。
(2) Layer Thickness Adjustment Layer In the liquid crystal display device 10 according to the present embodiment, on the color filter substrate 30,
A layer thickness adjusting layer 40 made of a photosensitive resin material such as an acrylic resin or an epoxy resin is formed. The layer thickness adjusting layer 40 is a layer thickness adjusting layer 40 having a layer thickness portion 40a disposed in the reflective region and a layer thin portion 40b disposed in the transmissive region. Is provided with a stepped portion in which the inclined surface 17 is formed in the vertical direction at the step at the boundary between the layer thick portion 40a and the layer thin portion 40b.
That is, in order to optimize the retardation in the reflective region and the transmissive region, a liquid crystal display device having a multi-gap structure in which the thickness of the reflective region in the liquid crystal material layer is relatively thin and the layer thickness of the transmissive region is large is displayed. In the region, the width of the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion of the layer thickness adjusting layer as viewed from the direction perpendicular to the substrate surface is reduced.
Therefore, as described in the first embodiment, it is possible to reduce the area of the display defect region due to the step, optimize the retardation in each of the reflective region and the transmissive region, and obtain a liquid crystal display device having excellent display characteristics. it can.

ただし、層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成した場合には
、製造段階において、当該層厚調整層上に走査電極を形成した場合に、当該段差部分に電
極が均一に形成されない場合がある。この場合には、一つの画素における反射領域の走査
電極と、透過領域の走査電極との電気的導通性が低下し、動作不良の原因となってしまう

したがって、本実施形態の液晶表示装置においては、第1実施形態における緩和部と異
なり、後述するように、表示領域外で、導通部材を用いて、一つの画素における反射領域
及び透過領域の走査電極の電気的導通性を確保してある。
However, when the inclined surface at the step of the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in the vertical direction, when the scan electrode is formed on the layer thickness adjustment layer in the manufacturing stage, the electrode is formed on the step portion. May not be formed uniformly. In this case, the electrical continuity between the scan electrode in the reflective region and the scan electrode in the transmissive region in one pixel is lowered, causing a malfunction.
Therefore, in the liquid crystal display device of the present embodiment, unlike the relaxation portion in the first embodiment, as will be described later, the scanning electrode in the reflective region and the transmissive region in one pixel is used outside the display region using a conductive member. This ensures electrical continuity.

(3)走査電極及び導通部材
また、層厚調整層40の上には、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体から
なる走査電極33が形成されている。かかる走査電極33は、一方向に配列された画素か
らなる画素列毎に、複数の透明電極が並列したストライプ状に構成されている。
ここで、本実施形態の液晶表示装置においては、表示領域内において、反射領域と透過
領域に対応して形成された層厚調整層の層厚部及び層厚部の境界の段差における傾斜面が
垂直方向に形成されている。したがって、一つの画素内における反射領域の走査電極と透
過領域の走査電極が、非連続状態となる場合がある。
そこで、本実施形態の液晶表示装置においては、一つの画素における層厚部40a上の
走査電極33a及び層薄部40b上の走査電極33bは、表示領域A外まで延設され、少
なくとも同じ画素列における反射領域及び透過領域に形成された走査電極33を、表示領
域A外まで延設された箇所の走査電極33にまたがって配置された導通部材140を用い
て導通している。したがって、一つの画素内で反射領域の走査電極33aと透過領域の走
査電極33bとが連続していない場合であっても、電気的導通性は確保され、一つの画素
内の反射領域及び透過領域それぞれにおいて電圧を印加することができる。
よって、表示領域内の層厚調整層において、垂直方向に形成された傾斜面を含む段差部
分上に走査電極が形成されているにもかかわらず、断線等による動作不良の発生を防止す
ることができる。
(3) Scan Electrode and Conducting Member A scan electrode 33 made of a transparent conductor such as ITO (Indium Tin Oxide) is formed on the layer thickness adjusting layer 40. The scanning electrode 33 is formed in a stripe shape in which a plurality of transparent electrodes are arranged in parallel for each pixel column composed of pixels arranged in one direction.
Here, in the liquid crystal display device of the present embodiment, the inclined surface at the step of the layer thickness adjustment layer formed between the reflection region and the transmission region and the boundary between the layer thickness portions is formed in the display region. It is formed in the vertical direction. Therefore, the scanning electrode in the reflection region and the scanning electrode in the transmission region in one pixel may be in a discontinuous state.
Therefore, in the liquid crystal display device of the present embodiment, the scanning electrode 33a on the layer thickness portion 40a and the scanning electrode 33b on the layer thin portion 40b in one pixel extend to the outside of the display area A, and at least the same pixel column. The scanning electrodes 33 formed in the reflective region and the transmissive region are electrically connected by using a conductive member 140 disposed across the scanning electrode 33 at a portion extending to the outside of the display region A. Therefore, even when the scanning electrode 33a in the reflective region and the scanning electrode 33b in the transmissive region are not continuous in one pixel, electrical continuity is ensured, and the reflective region and transmissive region in one pixel are secured. A voltage can be applied in each.
Therefore, in the layer thickness adjusting layer in the display region, it is possible to prevent the occurrence of malfunction due to disconnection or the like even though the scan electrode is formed on the step portion including the inclined surface formed in the vertical direction. it can.

このような導通部材の例としては、図18に示すように、層厚部40a及び層薄部40
bの境界の段差の高低差以上の膜厚の導電性材料140を用いることができる。すなわち
、層厚調整層40の層厚部40a上の走査電極33a及び層薄部40b上の走査電極33
bが表示領域外まで延設された箇所にまたがるように、所定の膜厚の導電性材料140を
配置若しくは形成することにより、当該段差部分における断線や形成不良を考慮すること
なく、層厚部40a上の走査電極と層薄部40b上の走査電極33bとを電気的導通性を
確保することができる。
かかる導電性材料としては、例えば、Al(アルミニウム)、Ta(タンタル)、Cr
(クロム)、Ag(銀)、ITO(インジウムスズ酸化物)、IZO(インジウム亜鉛酸
化物)等が挙げられる。ただし、これらに制限されることはなく、液晶パネルのセルギャ
ップに影響を与えない程度に膜厚や厚さを制御して基板上に配置又は形成することができ
るものであれば、好適に使用することができる。
As an example of such a conducting member, as shown in FIG. 18, the layer thickness portion 40a and the layer thin portion 40
A conductive material 140 having a film thickness equal to or higher than the level difference of the step at the boundary of b can be used. That is, the scanning electrode 33a on the layer thickness portion 40a of the layer thickness adjusting layer 40 and the scanning electrode 33 on the layer thin portion 40b.
By arranging or forming the conductive material 140 having a predetermined film thickness so that b extends beyond the display area, the layer thickness portion can be obtained without considering disconnection or formation failure in the stepped portion. It is possible to ensure electrical continuity between the scan electrode on 40a and the scan electrode 33b on the thin layer portion 40b.
Examples of such conductive materials include Al (aluminum), Ta (tantalum), and Cr.
(Chromium), Ag (silver), ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), etc. are mentioned. However, it is not limited to these, and it can be suitably used as long as it can be arranged or formed on the substrate by controlling the film thickness and thickness so as not to affect the cell gap of the liquid crystal panel. can do.

その他、表示領域の両側で、走査電極の両端部の導通をとる点や、表示領域内における
層厚部及び層薄部の境界の段差(第1の傾斜面)に相当する箇所に、スリットを設ける点
については、第1実施形態と同様とすることができる。
In addition, slits are provided at points corresponding to the step (first inclined surface) at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion in the display region, on both sides of the display region, where the both ends of the scanning electrode are conductive. The points to be provided can be the same as in the first embodiment.

[第4実施形態]
本発明の第4実施形態は、第3実施形態の液晶表示装置の製造方法であって、
第1の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、反射領域に層厚部を
配置し、透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、表示領域内においては、層厚
部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有する層厚調整層を形成す
る工程と、
層厚調整層の上層に、画素列にまたがらせるとともに、表示領域外まで延設して、第1
の電極を形成する工程と、
少なくとも同じ画素列の反射領域及び透過領域に形成された第1の電極における、表示
領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置する工程と、
を含むことを特徴とする。
以下、第4実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の一例について、第2実施形態と異
なるカラーフィルタ基板の製造工程を中心に、図19を適宜参照しながら説明し、共通す
る点については適宜説明を省略する。
[Fourth Embodiment]
4th Embodiment of this invention is a manufacturing method of the liquid crystal display device of 3rd Embodiment,
Forming a photosensitive resin material layer on the first substrate;
In order to adjust the retardation in the reflective region and the transmissive region, a layer thickness adjustment layer in which a layer thickness portion is disposed in the reflective region and a thin layer portion is disposed in the transmissive region. Forming a layer thickness adjusting layer having a stepped portion in which the inclined surface of the boundary of the thin layer portion is formed in the vertical direction;
The upper layer thickness adjustment layer extends over the pixel column and extends to the outside of the display area.
Forming an electrode of
A step of disposing a conductive member across a portion extending to the outside of the display region in the first electrode formed in the reflective region and the transmissive region of at least the same pixel row;
It is characterized by including.
Hereinafter, an example of a manufacturing method of the liquid crystal display device according to the fourth embodiment will be described with reference to FIG. 19 as appropriate, focusing on the manufacturing process of the color filter substrate different from that of the second embodiment. Description is omitted.

1.カラーフィルタ基板の製造工程
(1)光反射膜、着色層、及び遮光膜の形成
まず、図19(a)に示すように、第2次実施形態と同様の方法により、ガラス基板3
1上に、光反射膜35、着色層37、及び遮光膜39を形成する。
1. Manufacturing Process of Color Filter Substrate (1) Formation of Light Reflecting Film, Colored Layer, and Light-shielding Film First, as shown in FIG. 19A, the glass substrate 3 is formed by the same method as in the second embodiment.
1, a light reflection film 35, a colored layer 37, and a light shielding film 39 are formed.

(2)層厚調整層の形成
次いで、図19(b)に示すように、第2実施形態と同様に、異なるパターンの複数の
フォトマスクを用いた多重露光、あるいは、部分的に光の透過率の異なるハーフトーンマ
スクを用いたハーフトーン露光をした後、現像液を用いて現像することにより、反射領域
に対応した層厚部40a及び透過領域に対応した層薄部40bを含む層厚調整層40を形
成する。
そして、層厚部と層薄部との境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成しているため
に、基板面に垂直方向から見た、当該段差部分の幅を小さくし、表示不良領域の面積を小
さくすることができる。したがって、製造される液晶表示装置において、コントラスト等
の表示特性を向上させることができる。
(2) Formation of Layer Thickness Adjustment Layer Next, as shown in FIG. 19B, similarly to the second embodiment, multiple exposure using a plurality of photomasks with different patterns, or partial light transmission After halftone exposure using halftone masks having different rates, development is performed using a developer, thereby adjusting the layer thickness including the layer thickness portion 40a corresponding to the reflection region and the layer thin portion 40b corresponding to the transmission region. Layer 40 is formed.
Since the inclined surface at the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in the vertical direction, the width of the step portion viewed from the direction perpendicular to the substrate surface is reduced, and The area can be reduced. Accordingly, display characteristics such as contrast can be improved in the manufactured liquid crystal display device.

(3)走査電極及び導通部材の形成
次いで、図19(c)に示すように、第2実施形態と同様に、層厚調整層の層厚部40
a上及び層薄部40b上に走査電極33を形成する。
その後、図19(d)に示すように、表示領域A外において、層厚部40a上の走査電
極33aと層薄部40b上の走査電極33bとを、表示領域外で電気的に導通させるため
の導通部材としての導電性材料140を配置する。例えば、導通部材として、アルミニウ
ム膜を使用する場合には、上述の反射膜の形成方法と同様にして形成することができる。
(3) Formation of Scan Electrode and Conducting Member Next, as shown in FIG. 19C, the layer thickness portion 40 of the layer thickness adjusting layer is the same as in the second embodiment.
The scanning electrode 33 is formed on a and the layer thin part 40b.
Thereafter, as shown in FIG. 19D, outside the display region A, the scanning electrode 33a on the layer thickness portion 40a and the scanning electrode 33b on the layer thin portion 40b are electrically connected outside the display region. A conductive material 140 as a conductive member is disposed. For example, when an aluminum film is used as the conductive member, it can be formed in the same manner as the above-described reflective film forming method.

2.その他の工程
その他の素子基板の製造工程、貼り合わせ工程、液晶材料注入工程等については、第2
実施形態と同様とすることができるために、ここでの説明を省略する。
2. Other processes For other element substrate manufacturing processes, bonding processes, liquid crystal material injection processes, etc.
Since it can be the same as that of the embodiment, the description is omitted here.

[第5実施形態]
第5実施形態は、第1実施形態の半透過反射型の液晶表示装置を、スイッチング素子と
して三端子型の能動素子であるTFT素子(Thin Film Transistor)を用いたアクティブ
マトリクス方式の液晶表示装置に適用したものである。
[Fifth Embodiment]
In the fifth embodiment, the transflective liquid crystal display device of the first embodiment is replaced with an active matrix liquid crystal display device using a TFT element (Thin Film Transistor) which is a three-terminal active element as a switching element. It is applied.

図20(a)に第5実施形態に係る液晶表示装置210の断面図を示し、図20(b)
に液晶表示装置210の平面図を示す。かかる図20(a)に示すように、液晶表示装置
210は、対向基板230と素子基板260とが、それらの周辺部においてシール材によ
って貼り合わせられ、さらに、対向基板230、素子基板260及びシール材によって囲
まれる間隙内に液晶材料を封入して形成されている。
FIG. 20A shows a cross-sectional view of the liquid crystal display device 210 according to the fifth embodiment, and FIG.
FIG. 2 shows a plan view of the liquid crystal display device 210. As shown in FIG. 20A, in the liquid crystal display device 210, the counter substrate 230 and the element substrate 260 are bonded to each other by a sealing material at the periphery thereof, and the counter substrate 230, the element substrate 260, and the seal A liquid crystal material is enclosed in a gap surrounded by the material.

また、対向基板230は、ガラス、プラスチック等によって形成され、当該対向基板2
30上には、カラーフィルタすなわち着色層237と、その着色層237の上に形成され
た対向電極233と、その対向電極233の上に形成された配向膜245とを備えている
。また、反射領域Rにおける着色層237と対向電極233との間には、リタデーション
を最適化するための層厚調整層240を備えている。
ここで、対向電極233は、ITO等によって対向基板230の表面全域に形成された
面状電極である。また、着色層237は、素子基板260側の画素電極263に対向する
位置にR(赤)、G(緑)、B(青)又はC(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー
)等といった各色のいずれかの色フィルタエレメントを備えている。そして、着色層23
7の隣であって、画素電極263に対向しない位置にブラックマスク又はブラックマトリ
クスすなわち遮光膜239が設けられている。
The counter substrate 230 is formed of glass, plastic, or the like, and the counter substrate 2
30 is provided with a color filter, that is, a colored layer 237, a counter electrode 233 formed on the colored layer 237, and an alignment film 245 formed on the counter electrode 233. In addition, a layer thickness adjusting layer 240 for optimizing retardation is provided between the colored layer 237 and the counter electrode 233 in the reflective region R.
Here, the counter electrode 233 is a planar electrode formed over the entire surface of the counter substrate 230 by ITO or the like. In addition, the colored layer 237 has R (red), G (green), B (blue) or C (cyan), M (magenta), Y (yellow), and the like at positions facing the pixel electrode 263 on the element substrate 260 side. Each color filter element is provided. And the colored layer 23
7, a black mask or a black matrix, that is, a light shielding film 239 is provided at a position not facing the pixel electrode 263.

また、対向基板230に対向する素子基板260は、ガラス、プラスチック等によって
形成され、当該素子基板260上には、スイッチング素子として機能するアクティブ素子
としてのTFT素子269と、透明な絶縁膜280を挟んでTFT素子269の上層に形
成された画素電極263と、を備えている。
ここで、画素電極263は、反射領域Rにおいては反射表示を行うための光反射膜29
5(263a)を兼ねて形成されるとともに、透過領域Tにおいては、ITOなどにより
透明電極263bとして形成される。また、画素電極263aとしての光反射膜295は
、例えばAl(アルミニウム)、Ag(銀)等といった光反射性材料によって形成される
。そして、画素電極263の上には配向膜285が形成されるとともに、この配向膜28
5に対して、配向処理としてのラビング処理が施される。
The element substrate 260 facing the counter substrate 230 is formed of glass, plastic, or the like, and a TFT element 269 serving as an active element functioning as a switching element and a transparent insulating film 280 are sandwiched between the element substrate 260 and the element substrate 260. And a pixel electrode 263 formed in the upper layer of the TFT element 269.
Here, the pixel electrode 263 has a light reflection film 29 for performing reflection display in the reflection region R.
5 (263a) and the transparent region T is formed as a transparent electrode 263b using ITO or the like. The light reflection film 295 as the pixel electrode 263a is formed of a light reflective material such as Al (aluminum), Ag (silver), or the like. An alignment film 285 is formed on the pixel electrode 263 and the alignment film 28 is also formed.
5 is subjected to a rubbing process as an alignment process.

また、対向基板230の外側(すなわち、図21の上側)表面には、位相差板247が
形成され、さらにその上に偏光板249が形成されている。同様に、素子基板260の外
側(すなわち、図21の下側)表面には、位相差板287が形成され、さらにその下に偏
光板289が形成されている。さらに、素子基板260の下方にはバックライトユニット
(図示せず)が配置される。
Further, a phase difference plate 247 is formed on the outer surface of the counter substrate 230 (that is, the upper side in FIG. 21), and a polarizing plate 249 is further formed thereon. Similarly, a phase difference plate 287 is formed on the outer surface of the element substrate 260 (that is, the lower side in FIG. 21), and a polarizing plate 289 is further formed thereunder. Further, a backlight unit (not shown) is disposed below the element substrate 260.

また、TFT素子269は、素子基板260上に形成されたゲート電極271と、この
ゲート電極271の上で素子基板260の全域に形成されたゲート絶縁膜272と、この
ゲート絶縁膜272を挟んでゲート電極271の上方位置に形成された半導体層291と
、その半導体層291の一方の側にコンタクト電極277を介して形成されたソース電極
273と、さらに半導体層291の他方の側にコンタクト電極277を介して形成された
ドレイン電極266とを有する。
また、ゲート電極271はゲートバス配線(図示せず)から延びており、ソース電極2
73はソースバス配線(図示せず)から延びている。また、ゲートバス配線は第2の基板
260の横方向に延びていて縦方向へ等間隔で平行に複数本形成されるとともに、ソース
バス配線はゲート絶縁膜272を挟んでゲートバス配線と交差するように縦方向へ延びて
いて横方向へ等間隔で平行に複数本形成される。
かかるゲートバス配線は液晶駆動用IC(図示せず)に接続されて例えば走査線として
作用し、他方、ソースバス配線は他の駆動用IC(図示せず)に接続されて例えば信号線
として作用する。
また、画素電極263は、互いに交差するゲートバス配線とソースバス配線とによって
区画される方形領域のうちTFT素子269に対応する部分を除いた領域に形成されてい
る。
The TFT element 269 includes a gate electrode 271 formed on the element substrate 260, a gate insulating film 272 formed on the entire area of the element substrate 260 on the gate electrode 271, and the gate insulating film 272 interposed therebetween. A semiconductor layer 291 formed above the gate electrode 271, a source electrode 273 formed on one side of the semiconductor layer 291 via a contact electrode 277, and a contact electrode 277 on the other side of the semiconductor layer 291. And a drain electrode 266 formed via the electrode.
The gate electrode 271 extends from a gate bus wiring (not shown), and the source electrode 2
Reference numeral 73 denotes a source bus wiring (not shown). A plurality of gate bus lines extend in the horizontal direction of the second substrate 260 and are formed in parallel in the vertical direction at equal intervals, and the source bus lines cross the gate bus lines with the gate insulating film 272 interposed therebetween. Thus, a plurality of lines are formed in parallel in the horizontal direction at equal intervals.
The gate bus wiring is connected to a liquid crystal driving IC (not shown) and functions as, for example, a scanning line, while the source bus wiring is connected to another driving IC (not shown) and functions as, for example, a signal line. To do.
The pixel electrode 263 is formed in a region excluding a portion corresponding to the TFT element 269 in a rectangular region defined by the gate bus wiring and the source bus wiring intersecting each other.

ここで、ゲートバス配線及びゲート電極は、例えばクロム、タンタル等によって形成す
ることができる。また、ゲート絶縁膜272は、例えば窒化シリコン(SiNx)、酸化
シリコン(SiOx)等によって形成される。半導体層291は、例えばドープトa−S
i、多結晶シリコン、CdSe等によって形成することができる。さらに、コンタクト電
極277は、例えばa−Si等によって形成することができ、ソース電極273及びそれ
と一体なソースバス配線並びにドレイン電極266は、例えばチタン、モリブデン、アル
ミニウム等によって形成することができる。
Here, the gate bus wiring and the gate electrode can be formed of chromium, tantalum, or the like, for example. The gate insulating film 272 is formed of, for example, silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiOx), or the like. The semiconductor layer 291 is, for example, doped a-S.
i, polycrystalline silicon, CdSe, or the like. Furthermore, the contact electrode 277 can be formed of, for example, a-Si, and the source electrode 273, the source bus wiring integrated therewith, and the drain electrode 266 can be formed of, for example, titanium, molybdenum, aluminum, or the like.

また、有機絶縁膜280は、ゲートバス配線、ソースバス配線及びTFT素子269を
覆って第2の基板260上の全域に形成されている。但し、有機絶縁膜280のドレイン
電極266に対応する部分にはコンタクトホール283が形成され、このコンタクトホー
ル283の所で画素電極263とTFT素子269のドレイン電極266との導通がなさ
れている。
また、かかる有機絶縁膜280には、反射領域Rに対応する領域に、散乱形状として、
山部と谷部との規則的な又は不規則的な繰り返しパターンから成る凹凸パターンを有する
層厚調整層が形成されている。この結果、有機絶縁膜280の上に積層される光反射膜2
95(263a)も同様にして凹凸パターンから成る光反射パターンを有することになる
。但し、この凹凸パターンは、透過領域Tには形成されていない。
The organic insulating film 280 is formed over the entire area of the second substrate 260 so as to cover the gate bus wiring, the source bus wiring, and the TFT element 269. However, a contact hole 283 is formed in a portion corresponding to the drain electrode 266 of the organic insulating film 280, and the pixel electrode 263 and the drain electrode 266 of the TFT element 269 are electrically connected at the contact hole 283.
In addition, the organic insulating film 280 has a scattering shape in a region corresponding to the reflection region R,
A layer thickness adjusting layer having a concavo-convex pattern composed of a regular or irregular repetitive pattern of peaks and valleys is formed. As a result, the light reflecting film 2 laminated on the organic insulating film 280.
Similarly, 95 (263a) also has a light reflection pattern composed of an uneven pattern. However, this uneven pattern is not formed in the transmission region T.

以上のような構造を有する液晶表示装置210において、反射表示の際には、太陽光や
室内照明光などの外光が、第1の基板230側から液晶表示装置210に入射するととも
に、着色層237や液晶材料221などを通過して光反射膜295に至り、そこで反射さ
れて再度液晶材料221や着色層237などを通過して、液晶表示装置210から外部へ
出ることにより、反射表示が行われる。
一方、透過表示の際にはバックライトユニット(図示せず)が点灯されるとともに、バ
ックライトユニットから出射された光が、透光性の透明電極263b部分を通過し、着色
層237、液晶材料221などを通過して液晶表示パネル220の外部へ出ることにより
、透過表示が行われる。
In the liquid crystal display device 210 having the above-described structure, during reflective display, external light such as sunlight or indoor illumination light enters the liquid crystal display device 210 from the first substrate 230 side, and a colored layer. 237, the liquid crystal material 221 and the like pass to the light reflecting film 295, where the light is reflected, passes through the liquid crystal material 221 and the colored layer 237 again, and exits from the liquid crystal display device 210 to perform reflection display. Is called.
On the other hand, during transmissive display, a backlight unit (not shown) is turned on, and light emitted from the backlight unit passes through the transparent transparent electrode 263b portion to form a colored layer 237, a liquid crystal material. By passing through 221 and the like and going out of the liquid crystal display panel 220, transmissive display is performed.

また、本実施形態の液晶表示装置210は、図20(a)に示すように、反射領域R及
び透過領域Tが、表示領域内において一方向において配列された画素からなる画素列にま
たがってストライプ状に配置され、対向基板には、反射領域及び透過領域におけるリタデ
ーションを調整するために、反射領域に配置された層厚部240aと、透過領域に配置さ
れた層薄部240aと、を有する層厚調整層240を有している。
そして、層厚調整層240は、表示領域内においては、層厚部240aと層薄部240
bとの境界の段差における傾斜面217を垂直方向に形成した段差部分を有していること
により、基板面に垂直方向から見た場合の当該段差部分の幅を小さくして、表示不良領域
の面積を小さくすることができる。
また、表示領域外においては、図21(a)〜(b)に示すように、層厚部240a及
び層薄部240bの境界の段差を緩和させる緩和部211を有し、当該緩和部211上に
おいて層厚部240a上の電極233aと層薄部240b上の電極230bとがつながっ
ているために、電気的導通性が確保されているか、あるいは、層厚部上の電極と層薄部上
の電極とを表示領域外まで延設し、それらの電極にまたがるように導通部材を配置して、
電気的導通性を確保している。したがって、表示領域内で、層厚部及び層薄部の境界の段
差を急峻にして、電極の形成不良が発生するおそれがあっても、表示領域外では、電極の
電気的導通性を確保できるために、断線等による動作不良の発生を防止することができる

よって、表示不良領域の面積を小さくしつつ、リタデーションの最適化を図った、表示
特性に優れた液晶表示装置とすることができる。
Further, as shown in FIG. 20A, the liquid crystal display device 210 according to the present embodiment stripes a reflective region R and a transmissive region T across a pixel column composed of pixels arranged in one direction in the display region. In order to adjust retardation in the reflective region and the transmissive region, the counter substrate has a layer thickness portion 240a disposed in the reflective region and a thin layer portion 240a disposed in the transmissive region. A thickness adjusting layer 240 is provided.
The layer thickness adjusting layer 240 includes a layer thickness portion 240a and a layer thin portion 240 in the display area.
By having a step portion in which the inclined surface 217 at the step at the boundary with b is formed in the vertical direction, the width of the step portion when viewed from the direction perpendicular to the substrate surface is reduced, and the display defect region The area can be reduced.
Further, outside the display area, as shown in FIGS. 21A and 21B, a relaxation portion 211 that relaxes the step at the boundary between the layer thickness portion 240a and the layer thin portion 240b is provided. In this case, since the electrode 233a on the layer thickness portion 240a and the electrode 230b on the layer thin portion 240b are connected to each other, electrical conductivity is secured, or the electrode on the layer thickness portion and the layer thin portion on the layer thin portion are secured. Extend the electrode to the outside of the display area, arrange the conductive member so as to straddle those electrodes,
Ensures electrical continuity. Therefore, even if there is a risk that a step difference at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is steep in the display region and an electrode formation failure may occur, the electrical conductivity of the electrode can be secured outside the display region. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of malfunction due to disconnection or the like.
Therefore, it is possible to obtain a liquid crystal display device with excellent display characteristics in which the retardation is optimized while reducing the area of the display failure region.

以上のように構成した対向基板の平面図及び断面図を図21(a)〜(b)に示す。本
実施形態の液晶表示装置における対向基板230は、面状電極233が、上述した層厚調
整層240上に配置されており、表示領域内においては、層厚調整層240の層厚部24
0aと層薄部240bとの境界の段差において、断線等の形成不良が生じる場合がある。
しかし、表示領域外においては、上述の緩和部211や、導通部材によって、面状電極2
33全体としての電気的導通性が確保されているために、断線等による動作不良の発生を
防止しつつ、層厚部及び層薄部の境界の段差に起因する表示不良領域の面積を小さくする
ことができる。
したがって、TFT素子を備えた液晶表示装置においても、表示特性を向上させること
ができる。
A plan view and a cross-sectional view of the counter substrate configured as described above are shown in FIGS. In the counter substrate 230 in the liquid crystal display device of the present embodiment, the planar electrode 233 is disposed on the layer thickness adjusting layer 240 described above, and the layer thickness portion 24 of the layer thickness adjusting layer 240 is present in the display area.
In the step at the boundary between 0a and the thin layer portion 240b, a formation failure such as disconnection may occur.
However, outside the display area, the planar electrode 2 is formed by the above-described relaxation portion 211 or the conductive member.
Since the electrical continuity as a whole is ensured, the area of the display failure region due to the step difference between the layer thickness portion and the layer thin portion is reduced while preventing the occurrence of malfunction due to disconnection or the like. be able to.
Therefore, even in a liquid crystal display device including a TFT element, display characteristics can be improved.

[第6実施形態]
本発明に係る第6実施形態として、第1、第3、及び第5実施形態のうちのいずれかの
液晶表示装置を備えた電子機器について具体的に説明する。
[Sixth Embodiment]
As a sixth embodiment according to the present invention, an electronic apparatus including the liquid crystal display device according to any one of the first, third, and fifth embodiments will be specifically described.

図22は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は
、液晶表示装置に備えられた液晶パネル20と、これを制御するための制御手段200と
を有している。また、図22中では、液晶パネル20を、パネル構造体20aと、半導体
素子(IC)等で構成される駆動回路20bと、に概念的に分けて描いてある。また、制
御手段200は、表示情報出力源201と、表示処理回路202と、電源回路203と、
タイミングジェネレータ204とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源201は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Acces
s Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレー
ジユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレ
ータ204によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像
信号等の形で表示情報を表示処理回路202に供給するように構成されていることが好ま
しい。
FIG. 22 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of the electronic apparatus of the present embodiment. This electronic apparatus has a liquid crystal panel 20 provided in a liquid crystal display device and a control means 200 for controlling the liquid crystal panel 20. In FIG. 22, the liquid crystal panel 20 is conceptually divided into a panel structure 20a and a drive circuit 20b composed of a semiconductor element (IC) or the like. The control means 200 includes a display information output source 201, a display processing circuit 202, a power supply circuit 203,
It is preferable to have a timing generator 204.
The display information output source 201 includes a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Acces).
s Memory), a storage unit composed of a magnetic recording disk, an optical recording disk, and the like, and a tuning circuit that tunes and outputs a digital image signal, based on various clock signals generated by the timing generator 204 The display information is preferably supplied to the display processing circuit 202 in the form of a predetermined format image signal or the like.

また、表示処理回路202は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテ
ーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示
情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路20bへ供給
することが好ましい。さらに、駆動回路20bは、第1の電極駆動回路、第2の電極駆動
回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路203は、上述の各構成要素に
それぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、表示領域内においてはマルチギャップを構成
するための層厚部及び層薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成するとともに
、表示領域外において、層厚部及び層薄部上の電極の電気的導通性を確保してある液晶表
示装置を備えるために、表示特性に優れた画像表示を実現できる電子機器とすることがで
きる。
The display processing circuit 202 includes various well-known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information to display the image. Information is preferably supplied to the drive circuit 20b together with the clock signal CLK. Furthermore, the drive circuit 20b preferably includes a first electrode drive circuit, a second electrode drive circuit, and an inspection circuit. Further, the power supply circuit 203 has a function of supplying a predetermined voltage to each of the above-described components.
In the electronic device according to the present embodiment, in the display area, the inclined surface at the step of the boundary between the layer thickness part and the layer thin part for forming the multi-gap is formed in the vertical direction, and outside the display area. In addition, since the liquid crystal display device in which the electrical continuity of the electrodes on the layer thickness part and the layer thin part is ensured is provided, it is possible to provide an electronic apparatus that can realize image display with excellent display characteristics.

本発明によれば、表示領域内においてはマルチギャップを構成するための層厚部及び層
薄部の境界の段差における傾斜面を垂直方向に形成するとともに、表示領域外において、
層厚部及び層薄部上の電極の電気的導通性を確保してあることにより、動作不良を少なく
しつつ、表示不良領域の面積を小さくて、表示特性を向上させた液晶表示装置とすること
ができる。したがって、液晶表示装置や電子機器、例えば、携帯電話機やパーソナルコン
ピュータ等をはじめとして、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテ
ープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ
、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた電子機器などに
適用することができる。
According to the present invention, in the display region, the inclined surface at the step of the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion for forming the multi-gap is formed in the vertical direction, and outside the display region,
By ensuring the electrical continuity of the electrodes on the layer thickness part and the layer thin part, the liquid crystal display device has improved display characteristics by reducing the area of the display defect area while reducing the malfunction. be able to. Therefore, liquid crystal display devices and electronic devices such as mobile phones and personal computers, liquid crystal televisions, viewfinder type / monitor direct view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, work The present invention can be applied to electronic devices equipped with stations, videophones, POS terminals, touch panels, and the like.

第1実施形態の液晶表示装置の概略斜視図である。It is a schematic perspective view of the liquid crystal display device of 1st Embodiment. 第1実施形態の液晶表示装置の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the liquid crystal display device of 1st Embodiment. (a)〜(b)は、それぞれ反射領域の配置について説明するために供する図である。(A)-(b) is a figure provided in order to demonstrate arrangement | positioning of a reflective area | region, respectively. 反射領域の配置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of arrangement | positioning of a reflective area | region. (a)〜(c)は、それぞれ第1実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の平面図及び断面図である。(A)-(c) is the top view and sectional drawing of a color filter substrate which are used for the liquid crystal display device of 1st Embodiment, respectively. (a)〜(b)は、それぞれ光反射膜の平面形状について説明するために供する図である。(A)-(b) is a figure provided in order to demonstrate the planar shape of a light reflection film, respectively. (a)は、従来の液晶表示装置における表示不良領域を示す図であり、(b)は、第1実施形態の液晶表示装置における表示不良領域を示す図である。(A) is a figure which shows the display defect area | region in the conventional liquid crystal display device, (b) is a figure which shows the display defect area | region in the liquid crystal display device of 1st Embodiment. (a)〜(b)は、それぞれ傾斜面と基板面とのなす角度について説明するために供する図である。(A)-(b) is a figure provided in order to demonstrate the angle which an inclined surface and a board | substrate surface each make. 所定の傾斜面を含む緩和部を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the relaxation part containing a predetermined inclined surface. 複数の段差を含む緩和部を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the relaxation part containing a several level | step difference. (a)は、表示領域の一方の外側に緩和部を設けたカラーフィルタ基板を示す図であり、(b)は、表示領域の両側に緩和部を設けたカラーフィルタ基板を示す図である。(A) is a figure which shows the color filter substrate which provided the relaxation part in one outer side of a display area, (b) is a figure which shows the color filter substrate which provided the relaxation part on both sides of the display area. (a)〜(c)は、それぞれ反射領域にのみ層厚調整層を設けたカラーフィルタ基板を示す平面図及び断面図である。(A)-(c) is the top view and sectional drawing which show the color filter board | substrate which provided the layer thickness adjustment layer only in the reflection area, respectively. (a)〜(c)は、それぞれ電極にスリットを形成したカラーフィルタ基板を示す平面図及び断面図である。(A)-(c) is the top view and sectional drawing which show the color filter board | substrate which formed the slit in the electrode, respectively. (a)〜(b)は、それぞれ素子基板を説明するために供する平面図及び断面図である。(A)-(b) is the top view and sectional drawing which are provided in order to demonstrate an element substrate, respectively. (a)〜(d)は、第1実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である(その1)。(A)-(d) is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of the color filter substrate used for the liquid crystal display device of 1st Embodiment (the 1). (a)〜(e)は、第1実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である(その2)。(A)-(e) is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of the color filter board | substrate used for the liquid crystal display device of 1st Embodiment (the 2). (a)〜(e)は、素子基板の製造方法を説明するために供する図である。(A)-(e) is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of an element substrate. 第3実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板における導通部材を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the conduction | electrical_connection member in the color filter substrate used for the liquid crystal display device of 3rd Embodiment. 第3実施形態の液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ基板の製造方法を説明するために供する図である。It is a figure provided in order to demonstrate the manufacturing method of the color filter substrate used for the liquid crystal display device of 3rd Embodiment. (a)〜(b)は、それぞれ第5実施形態の液晶表示装置を示す断面図及び平面図である。(A)-(b) is sectional drawing and the top view which show the liquid crystal display device of 5th Embodiment, respectively. (a)〜(b)は、それぞれ第5実施形態の液晶表示装置に使用される対抗基板の平面図及び断面図である。(A)-(b) is the top view and sectional drawing of the opposing board | substrate which are used for the liquid crystal display device of 5th Embodiment, respectively. 第6実施形態の電子機器の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the electronic device of 6th Embodiment. (A)〜(C)は、それぞれ従来のマルチギャップ構造の液晶表示装置の構成を説明する図である。(A)-(C) is a figure explaining the structure of the liquid crystal display device of the conventional multigap structure, respectively.

符号の説明Explanation of symbols

10:液晶表示装置、11:緩和部、12:段差、13:表示不良領域、15:傾斜面、
17:第1の傾斜面、18:第2の傾斜面、23:シール材、30:カラーフィルタ基板
、31:ガラス基板、33:走査電極、33a:層厚部の走査電極、33b:層薄部の走
査電極、35:光反射膜、35a:開口部、40:層厚調整層、40a:厚肉部、40b
:薄肉部、40´:感光性樹脂材料層、45:配向膜、60:素子基板、61:ガラス基
板、63:画素電極、65:データ線、69:TFD素子、75:配向膜、140:導通
部材、210:液晶表示装置、233:面状電極、233a:層厚部上の面状電極、23
3b:層薄部上の面状電極、240:層厚調整層、240a:層厚部、240b:層薄部
、269:TFT素子
10: Liquid crystal display device, 11: Relaxation part, 12: Step, 13: Display defect area, 15: Inclined surface,
17: 1st inclined surface, 18: 2nd inclined surface, 23: Seal material, 30: Color filter substrate, 31: Glass substrate, 33: Scan electrode, 33a: Scan electrode of layer thickness part, 33b: Layer thin Scanning electrode, 35: light reflecting film, 35a: opening, 40: layer thickness adjusting layer, 40a: thick part, 40b
: Thin-walled portion, 40 ': photosensitive resin material layer, 45: alignment film, 60: element substrate, 61: glass substrate, 63: pixel electrode, 65: data line, 69: TFD element, 75: alignment film, 140: Conductive member, 210: liquid crystal display device, 233: planar electrode, 233a: planar electrode on layer thickness part, 23
3b: planar electrode on the thin layer portion, 240: layer thickness adjusting layer, 240a: layer thick portion, 240b: thin layer portion, 269: TFT element

Claims (11)

第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第2の基板と、当該第1の基板
及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置におい
て、
前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素か
らなる画素列にまたがってストライプ状に配置され、
前記第1の基板は、前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するため
に、前記反射領域に配置された層厚部と、前記透過領域に配置された層薄部と、を有する
層厚調整層であって、前記表示領域内においては、前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面
を垂直方向に形成した段差部分を有するとともに、前記表示領域外においては、前記層厚
部及び層薄部の境界の段差を緩和させるための緩和部を有する層厚調整層を備え、
前記第1の電極は、前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがって形成してあると
ともに、それぞれ前記表示領域外まで延設してあり、少なくとも同じ前記画素列における
反射領域及び透過領域に形成された第1の電極が前記緩和部上でつながっていることを特
徴とする液晶表示装置。
A first substrate provided with a first electrode, a second substrate provided with a second electrode, and a liquid crystal material sandwiched between the first substrate and the second substrate. In a transflective liquid crystal display device having a display area including a plurality of pixels each having a reflective area and a transmissive area,
The reflective region and the transmissive region are arranged in a stripe shape across a pixel column composed of the pixels arranged in one direction in the display region,
The first substrate includes a layer thickness part disposed in the reflection region and a layer thin part disposed in the transmission region in order to adjust retardation in the reflection region and the transmission region. A layer having a stepped portion in which an inclined surface at a boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in a vertical direction within the display region, and the layer thickness portion and the layer outside the display region; A layer thickness adjusting layer having a relaxing part for relaxing the step at the boundary of the thin part,
The first electrode is formed on the upper layer thickness adjustment layer so as to extend over the pixel column, and extends to the outside of the display region, and includes at least a reflection region and a transmission region in the same pixel column. A liquid crystal display device, wherein a first electrode formed in a region is connected on the relaxation portion.
前記表示領域内における傾斜面を第1の傾斜面としたときに、前記緩和部が、前記第1
の傾斜面と基板面とのなす角度よりも緩やかな第2の傾斜面を含むことを特徴とする請求
項1に記載の液晶表示装置。
When the inclined surface in the display area is the first inclined surface, the relaxing portion is the first inclined surface.
The liquid crystal display device according to claim 1, further comprising a second inclined surface that is gentler than an angle formed between the inclined surface and the substrate surface.
前記緩和部が、前記層厚部及び層薄部をつなぐ複数の段差を含むことを特徴とする請求
項1に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the relaxing portion includes a plurality of steps connecting the layer thickness portion and the layer thin portion.
第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第2の基板と、当該第1の基板
及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置におい
て、
前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素か
らなる画素列にまたがってストライプ状に配置され、
前記第1の基板は、前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するため
に、前記反射領域に配置された層厚部と、前記透過領域に配置された層薄部と、を有する
層厚調整層であって、前記表示領域内における前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂
直方向に形成した段差部分を含む層厚調整層を備え、
前記第1の電極は、前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがって形成してあると
ともに、それぞれ前記表示領域外まで延設してあり、
少なくとも同じ前記画素列の反射領域及び透過領域に形成された前記第1の電極におけ
る、前記表示領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置してあることを特
徴とする液晶表示装置。
A first substrate provided with a first electrode, a second substrate provided with a second electrode, and a liquid crystal material sandwiched between the first substrate and the second substrate. In a transflective liquid crystal display device having a display area including a plurality of pixels each having a reflective area and a transmissive area,
The reflective region and the transmissive region are arranged in a stripe shape across a pixel column composed of the pixels arranged in one direction in the display region,
The first substrate includes a layer thickness part disposed in the reflection region and a layer thin part disposed in the transmission region in order to adjust retardation in the reflection region and the transmission region. A layer thickness adjusting layer including a step portion formed in a vertical direction with an inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion in the display region,
The first electrode is formed over the pixel column on the layer thickness adjustment layer, and extends to the outside of the display area.
A liquid crystal display characterized in that a conductive member is arranged across a portion of the first electrode formed in at least the same reflective region and transmissive region of the pixel row that extends beyond the display region. apparatus.
前記表示領域内における、前記傾斜面と基板面とのなす角度を60〜90°の範囲内の
値とすることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
5. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein an angle formed between the inclined surface and the substrate surface in the display region is set to a value within a range of 60 to 90 °.
前記反射領域及び透過領域の第1の電極を、前記表示領域の両側で導通してあることを
特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the first electrode in the reflective region and the transmissive region are electrically connected on both sides of the display region.
前記第1の電極において、前記画素内における前記段差部分に相当する箇所にスリット
が設けてあることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a slit is provided in a portion corresponding to the stepped portion in the pixel in the first electrode.
前記第2の基板は、TFD素子又はTFT素子を備えた素子基板であることを特徴とす
る請求項1〜7のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second substrate is an element substrate including a TFD element or a TFT element.
第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第2の基板と、当該第1の基板
及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置であっ
て、前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素
からなる画素列にまたがってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法において

前記第1の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、前記反射領域に
層厚部を配置し、前記透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、前記表示領域内
においては、前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有す
るとともに、前記表示領域外においては、前記層厚部及び層薄部の境界の段差を緩和させ
るための緩和部を有する層厚調整層を形成する工程と、
前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがらせるとともに、前記表示領域外まで延
設して配置される第1の電極であって、少なくとも同じ前記画素列における反射領域及び
透過領域に形成される当該反射領域及び透過領域における第1の電極が前記緩和部上でつ
ながるように、前記第1の電極を形成する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A first substrate provided with a first electrode, a second substrate provided with a second electrode, and a liquid crystal material sandwiched between the first substrate and the second substrate. A transflective liquid crystal display device having a display area including a plurality of pixels each having a reflective area and a transmissive area, wherein the reflective area and the transmissive area are arranged in one direction within the display area In a method of manufacturing a liquid crystal display device arranged in a stripe shape across a pixel column composed of the pixels,
Forming a photosensitive resin material layer on the first substrate;
In order to adjust the retardation in the reflective region and the transmissive region, a layer thickness adjusting layer in which a layer thickness portion is disposed in the reflective region and a thin layer portion is disposed in the transmissive region, and in the display region, The step has a step portion in which an inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in a vertical direction, and is relaxed to reduce the step at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion outside the display area. Forming a layer thickness adjusting layer having a portion;
A first electrode disposed on the upper layer thickness adjustment layer so as to extend over the pixel column and to extend outside the display region, at least in the reflective region and the transmissive region in the same pixel column; Forming the first electrode such that the first electrode in the reflection region and the transmission region to be formed is connected on the relaxation portion;
A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising:
第1の電極を備えた第1の基板と、第2の電極を備えた第2の基板と、当該第1の基板
及び第2の基板の間に狭持された液晶材料と、を備えるとともに、それぞれ反射領域及び
透過領域を有する複数の画素を含む表示領域を備えた半透過反射型の液晶表示装置であっ
て、前記反射領域及び透過領域は、前記表示領域内において一方向に配列された前記画素
からなる画素列にまたがってストライプ状に配置された液晶表示装置の製造方法において

前記第1の基板上に、感光性樹脂材料層を形成する工程と、
前記反射領域及び透過領域におけるリタデーションを調整するために、前記反射領域に
層厚部を配置し、前記透過領域に層薄部を配置した層厚調整層であって、前記表示領域内
においては、前記層厚部及び層薄部の境界の傾斜面を垂直方向に形成した段差部分を有す
る層厚調整層を形成する工程と、
前記層厚調整層の上層に、前記画素列にまたがらせるとともに、前記表示領域外まで延
設して、前記第1の電極を形成する工程と、
少なくとも同じ前記画素列の反射領域及び透過領域に形成された前記第1の電極におけ
る、前記表示領域外まで延設された箇所にまたがって、導通部材を配置する工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
A first substrate provided with a first electrode, a second substrate provided with a second electrode, and a liquid crystal material sandwiched between the first substrate and the second substrate. A transflective liquid crystal display device having a display area including a plurality of pixels each having a reflective area and a transmissive area, wherein the reflective area and the transmissive area are arranged in one direction within the display area In a method of manufacturing a liquid crystal display device arranged in a stripe shape across a pixel column composed of the pixels,
Forming a photosensitive resin material layer on the first substrate;
In order to adjust retardation in the reflective region and the transmissive region, a layer thickness portion is disposed in the reflective region, and a thin layer portion is disposed in the transmissive region, and in the display region, Forming a layer thickness adjusting layer having a step portion in which an inclined surface at the boundary between the layer thickness portion and the layer thin portion is formed in a vertical direction;
Forming the first electrode on the upper layer thickness adjusting layer so as to extend over the pixel column and extend outside the display area;
A step of disposing a conductive member across a portion extending to the outside of the display region in the first electrode formed in the reflection region and the transmission region of at least the same pixel row;
A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising:
請求項1〜8に記載されたいずれかの液晶表示装置を備えることを特徴とする電子機器
An electronic apparatus comprising the liquid crystal display device according to claim 1.
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