JP2004109815A - Electro-optical device, manufacturing method of electro-optical device, and electronic device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。
特に、配線検査に使用した配線検査用パターンの残部を有するものの、ショート等の不具合が発生しない電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および、電気光学装置を含む電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、互いに対向する一対の基板の一方に形成した走査線電極と、他方の基板に形成したデータ線電極とを、ドットマトリクス状の複数の点で交差させることによって画素を形成し、それらの画素に印加する電圧を選択的に変化させることによって、当該画素に含まれる液晶物質を通過する光を変調させ、文字等の像を表示する液晶表示装置が多用されている。
このような液晶表示装置においては、走査線電極やデータ線電極、およびそれらの電極につながる配線パターンのいずれかに断線等といった欠陥が存在していると、所望の鮮明な像を表示することができないという問題がある。したがって、このような液晶表示装置を製造する際には、一対の基板において、各電極や配線パターンに欠陥がなく、正常に形成されているかどうかを検査する必要がある。
【0003】
そこで、例えば、それぞれ微細ピッチの検査に対応した検査電極を有する配線回路基板がある。
より具体的には、図13に示すように、配線回路に接続された検査電極であって、検査電極の形状が電極先端部に向かうほど、表面積が小さくなっており、かつ、電極先端部が平坦になっている配線回路基板である。また、図14に示すのは、配線回路に接続された検査電極であって、検査電極の形状が電極先端部に向かうほど、表面積が大きくなっており、かつ、電極先端部が平坦になっている配線回路基板である。
また、チップオングラス方式の実装構造に関して、半導体素子(ICチップ)の実装領域の周辺部分の面積が狭い場合であっても、信頼性の高い検査を行うことができる液晶表示装置がある(例えば、特許文献1参照)。
より具体的には、図15に示すように、基板張り出し部に形成される配線パターンは、半導体素子側端子と導電接続する部分を越えて、半導体素子が実装される領域である実装領域の内部へ延びる延在部分を有し、それらの延在部分は少なくとも2つの群に分離して形成してある基板を利用した液晶表示装置である。
【0004】
【特許文献1】
特開2001−5016号公報(第4頁−第5頁、図1−図3)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図13や図14に示した検査電極は、使用後にそのまま残されるため、当該検査電極に起因して、コロージョンが促進されたり、さらには、金属フレームや異物が接触してショートが発生したりするという問題が見られた。また、検査電極のスペースが必要であるため、配線回路基板が大型化しやすいという問題も見られた。
また、特許文献1に記載の検査パターンは、半導体素子の実装密度が高まるにつれ、検査用接触コネクターを接触させることが困難になったり、信頼性の高い検査を行うことが困難になったりするという問題が見られた。
一方、検査パターンのピッチを広くしようとすると、基板自体に検査パターン用の大きなスペースを設けなければならないという問題が見られた。
【0006】
そこで、本発明の発明者らは鋭意努力し、電気光学装置を基板の状態で配線検査した後に、配線検査に使用した配線検査用パターンの一部を残して除去するとともに、配線検査に使用した配線検査用パターンの端部処理を施すことにより、このような問題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
すなわち、本発明は、電気光学装置自体の検査が容易である一方、電気光学装置の大きさを小さくすることができ、しかも信頼性に優れた電気光学装置を提供することを目的とする。
また、本発明の別の目的は、このような電気光学装置の効率的な製造方法を提供することであり、さらに別の目的は、このような電気光学装置を含む電子機器を効率的に提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、シール材を介して相互に対向して配置される第1の基板と、第2の基板と、その間に電気光学的物質と、を含む電気光学装置において、第1の基板および第2の基板のいずれか一方が、信号電極としての第1の配線パターンを有し、もう一方の基板が、走査電極としての第2の配線パターンを有しており、第1の基板および第2の基板のうち少なくとも一方に、第1の配線パターンまたは第2の配線パターンに延設された配線検査用パターンの残部を有するとともに、第1の基板および第2の基板の接合部における端部に段差が設けてあり、かつ、シール材の外側に位置する配線検査用パターンの残部が、樹脂封止してあるか、または被覆材により覆ってあることを特徴とする電気光学装置が提供され、上述した問題点を解決することができる。
すなわち、このように構成されているため、配線検査に使用した配線検査用パターンの端部処理を施すことにより、配線検査用パターンが外部に露呈しないため、コロージョンが促進されたり、さらには、金属フレームや異物が接触してショートが発生したりすることがなくなる。
また、電気光学装置を基板の状態で配線検査した後に、配線検査に使用した配線検査用パターンの大部分を除去することにより、配線回路基板の小型化を図ることができる。
さらに、検査パターンのピッチを広くすることができるため、半導体素子の実装密度が高い場合にも、検査用接触コネクターを接触させることや、信頼性の高い検査を簡単に行うことができる。
【0008】
なお、本発明をパッシブ型の液晶装置用基板として用いる場合には、本発明にかかる第1の配線パターンおよび第2の配線パターンは、少なくともその一部が液晶層に電界を与えるための表示用電極としても機能する。
また、本発明をTFDを用いたアクティブ型の液晶装置に用いる場合には、本発明にかかる第1の配線パターンは、少なくともその一部が画素電極に信号電位を供給するための配線として機能し、本発明にかかる第2の配線パターンは、少なくともその一部が、走査電位を供給するための配線として、あるいは、液晶層に電界を与えるための表示用電極として機能する。
さらに、本発明をTFTを用いたアクティブ型の液晶装置に用いる場合には、本発明にかかる第1の配線パターンは、画素電極に信号電位を供給するための信号線として機能する。
【0009】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第1の基板および第2の基板、あるいはいずれか一方の基板の端部に、段差、窪み、穴部、または凹凸を設けることが好ましい。
このように構成されているため、少なくとも一方の基板の端部を広い表面積とすることができ、樹脂封止する領域あるいは被覆材により覆う領域を広い領域とすることができる。
【0010】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第1の基板および第2の基盤の接合部における端部の段差幅を0.001〜0.5mmの範囲内の値とすることが好ましい。
このように構成されているため、配線検査用パターンの残部を樹脂封止する領域あるいは被覆材により覆う領域を十分に確保することができるとともに、基板全体の大型化を阻止することができる。
この場合、基板の段差の幅が0.001mmより小さいと、配線検査用パターンの残部を樹脂封止する領域あるいは被覆材により覆う領域を十分に確保することができない場合がある。一方、基板の段差の幅が0.5mmより大きいと、基板全体の大型化が阻止することができない場合がある。
【0011】
また、本発明の電気光学装置を構成するにあたり、第1の配線パターンおよび第2の配線パターンが、二重マトリクスを構成していることが好ましい。
このように構成されているため、電気光学装置用基板の配線パターンが二重マトリクス用配線パターンである場合にも、信頼性の高い検査を確実に行うことができる。
【0012】
また、本発明の別の態様は、シール材を介して相互に対向して配置される第1の基板と、第2の基板と、その間に電気光学的物質と、を備えるとともに、第1の基板および第2の基板のいずれか一方が、信号電極としての第1の配線パターンを有し、もう一方の基板が、走査電極としての第2の配線パターンを有しており、かつ、第1の基板および第2の基板のうち少なくとも一方に、第1の配線パターンまたは第2の配線パターンに延設された配線検査用パターンの残部を有する電気光学装置の製造方法であって、
(1)配線検査用パターンを用いて、配線パターンの検査をする工程と、
(2)第1の基板と第2の基板とを、シール材により貼り合わせる工程と、
(3)第1の基板および第2の基板、並びに配線検査用パターンの一部を切断し、第1の基板および第2の基板の接合部における端部に段差を設ける工程と、
(4)シール材の外側に位置する配線検査用パターンの残部を樹脂封止するか、または被覆材により覆う工程と、を含む電気光学装置の製造方法である。
このような方法であるため、コロージョンが促進されたり、さらには、金属フレームや異物が接触してショートが発生したりすることがない電気光学装置を得ることができる。
また、配線検査に使用した配線検査用パターンの大部分を除去することにより、小型化が図れる電気光学装置を得ることができる。
さらに、半導体素子の実装密度が高い場合にも、検査用接触コネクターの接触や信頼性の高い検査が簡単に行える電気光学装置を得ることができる。
【0013】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、配線検査用パターンの残部が、配線パターンの外部回路に接続される側の端部とは反対側に設けてあることが好ましい。
このような方法であるため、半導体素子の実装密度が高い場合にも、検査用接触コネクターの接触や信頼性の高い検査が簡単に行える電気光学装置を得ることができる。
【0014】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、第1の基板および第2の基板、並びに配線検査用パターンの一部を切断し、第1の基板および第2の基板の接合部における端部に段差を設ける工程において、第1の基板および第2の基板の切断線の位置をそれぞれずらした状態で切断することにより段差を設けることが好ましい。
このような方法であるため、基板切断時に第1の基板と第2の基板との間に容易に段差を形成することができる。
【0015】
また、本発明の電気光学装置の製造方法を実施するにあたり、第1の基板および第2の基板の端部、あるいはいずれか一方の基板の端部に、段差、窪み、穴部、または凹凸を設ける工程を含むことが好ましい。
このような方法であるため、配線検査用パターンの残部を樹脂封止するための領域あるいは被覆材により被覆するための領域を確保することができる。
【0016】
また、本発明の別の態様は、上述したいずれかの電気光学装置と、当該電気光学装置を制御するための制御手段と、を備えることを特徴とする電子機器である。
このような電子機器によれば、配線検査に使用した配線検査用パターンの端部処理を施すことにより、配線検査用パターンが外部に露呈しないため、コロージョンの発生を防止し、さらには、金属フレームや異物が接触してショートが発生することがなくなる。
また、電気光学装置を基板の状態で検査した後に、配線検査に使用した配線検査用パターンの大部分を除去することにより、配線回路基板の小型化を図ることができる。
さらに、検査パターンのピッチを広くすることができるため、半導体素子の実装密度が高い場合にも、検査用接触コネクターを接触させることや、信頼性の高い検査を簡単に行うことができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電気光学装置を含む電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【0018】
[第1実施形態]
第1実施形態は、図1に例示するように、シール材を介して相互に対向して配置される第1の基板と、第2の基板と、その間に電気光学的物質と、を含む電気光学装置であって、第1の基板および第2の基板のいずれか一方が、信号電極としての第1の配線パターンを有し、もう一方の基板が、走査電極としての第2の配線パターンを有しており、第1の基板および第2の基板のうち少なくとも一方に、第1の配線パターンまたは第2の配線パターンに延設された配線検査用パターンの残部を有するとともに、第1の基板および第2の基板の接合部における端部に段差が設けてあり、かつ、シール材の外側に位置する配線検査用パターンの残部が、樹脂封止してあるか、または被覆材により覆ってある電気光学装置である。
以下、図1〜図3を適宜参照しながら、本発明の第1実施形態の電気光学装置について、カラーフィルタ基板およびそれを用いた液晶パネルを例に採って説明する。
なお、図1は、本発明に係る第1実施形態の電気光学装置の要部を概略して示す断面図であり、図2は、本発明に係る第1実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネル200の外観を示す概略斜視図であり、図3(a)は、液晶パネル200の模式的な概略断面図、図3(b)は、液晶パネル200を構成するカラーフィルタ基板210の部分拡大平面図である。
【0019】
1.液晶パネルの基本構造
図2に示される電気光学装置を構成する液晶パネル200は、いわゆる反射半透過方式のパッシブマトリクス型構造を有する液晶パネル200であって、図示しないもののバックライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付けることが好ましい。
また、当該液晶パネル200は、用途に応じて、パッシブマトリクス型構造のかわりに、反射半透過方式のアクティブマトリクス型構造、例えば、TFD(Thin Film Diode)やTFT(Thin Film Transistor)等のアクティブ素子(能動素子)を用いた液晶パネルであっても良い。
【0020】
(1)セル構造
図2に示すように、液晶パネル200は、ガラス板や合成樹脂板等からなる透明な第1の基板211を基体とする電気光学装置用基板、すなわち、カラーフィルタ基板210と、これに対向して、実質的に同様の構成を有する第2の基板221を基体とする対向基板220とが、接着剤等のシール材230を介して貼り合わせられていることが好ましい。
そして、図3に示すように、カラーフィルタ基板210と、対向基板220とが形成する空間であって、シール材230の内側部分に対して、開口部230aを介して液晶材料232を注入した後、封止材231にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
【0021】
(2)配線
▲1▼マトリクス
第1の基板211の内面(第2の基板221に対向する表面)上に、並列した複数のストライプ状の透明電極216を形成し、第2の基板221の内面上には、当該透明電極216に直交する方向に並列した、複数のストライプ状の透明電極222を形成することが好ましい。また、透明電極216を、配線218Aに対して導電接続するとともに、もう一方の透明電極222を、配線228に対して導電接続することが好ましい。
そして、透明電極216と透明電極222とは相互に直交するため、その交差領域がマトリクス状に配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として二重マトリクス方式による液晶表示領域Aを構成することになる。
【0022】
ここで、二重マトリクス方式による配線パターンにつき、かかる配線パターンを示す平面図である図4を用いて説明する。
かかる配線パターンは、一つの走査電極に2行のピクセル群が対応しており、信号線と平行な方向の1列のピクセル群は2本の信号電極で構成されている。すなわち、1本の走査電極には、2本の信号電極が別々に接続されている一つずつのピクセルが対応するようになっている。
【0023】
そして、X方向には、透明導電材であるITO(Indium Tin Oxide)からなる走査電極222が棒状に形成されている。Y方向には、同じく透明導電材であるITOからなる信号電極216が形成されており、一列の信号線に対して2本の電極が対応している。例えば、n番目の列のピクセル領域を形成するのに、na,nb2本の電極を用いて、2つおきに2つずつのピクセルに接続している。図中ピクセル領域P1、P2はna電極に接続し、ピクセル領域P3、P4はnb電極に接続している。そして、各a電極およびb電極に別々に接続された、隣り合うピクセル領域2つに重なるように1つの走査電極が形成されている。すなわち、走査電極222aはP2とP3のピクセルに重なるように形成されている。
【0024】
このような構成にすると、例えばピクセルP2またはP3を点灯表示させたい場合、na電極、nb電極のどちらかの信号電極を選択して電圧を供給すれば、どちらも一つの走査電極222aから電圧を供給することで対応可能となる。すなわち、単純マトリクス構造と同数の走査電極数であれば、2倍のピクセル数に対応できることになる。言い換えると、デューティー数を半分にしてオン・オフ比を大きくすることが可能になり、コントラストが向上する。
【0025】
なお、本発明をパッシブ型の液晶装置用基板として用いる場合には、本発明にかかる第1の配線パターンおよび第2の配線パターンは、少なくともその一部が液晶層に電界を与えるための表示用電極としても機能する。
また、本発明をTFDを用いたアクティブ型の液晶装置に用いる場合には、本発明にかかる第1の配線パターンは、少なくともその一部が画素電極に信号電位を供給するための配線として機能し、本発明にかかる第2の配線パターンは、少なくともその一部が、走査電位を供給するための配線として、あるいは、液晶層に電界を与えるための表示用電極として機能する。
さらに、本発明をTFTを用いたアクティブ型の液晶装置に用いる場合には、本発明にかかる第1の配線パターンは、画素電極に信号電位を供給するための信号線として機能する。
【0026】
▲2▼入力端子部
また、第1の基板211は、第2の基板221の外形よりも外側に張り出してなる基板張出部210Tを有し、この基板張出部210T上には、配線218A、配線228に対して、シール材230の一部で構成される上下導通部を介して導電接続された配線218B、および、独立して形成された複数の配線パターンからなる入力端子部219が形成されていることが好ましい。
また、基板張出部210T上には、これら配線218A、218Bおよび入力端子部219に対して導電接続されるように、液晶駆動回路等を内蔵した半導体素子(ICチップ)261が実装されていることが好ましい。
さらに、基板張出部210Tの端部には、入力端子部219に導電接続されるように、フレキシブル配線基板263が実装されていることが好ましい。
【0027】
(3)位相差板および偏光板
図2に示される液晶パネル200において、図3に示すように、第1の基板211の外面の所定位置に、位相差板(1/4波長板)240および偏光板241が配置されていることが好ましい。
そして、第2の基板221の外面においても、鮮明な画像表示が認識できるように、位相差板(1/4波長板)250および偏光板251が配置されていることが好ましい。
【0028】
2.カラーフィルタ基板
(1)基板
図3に示すように、カラーフィルタ基板210における第1の基板211上に、反射部212r、開口部212aおよび非開口部212tを備えた反射層212が形成され、この反射層212上に着色層214が形成されている。この着色層214は、反射層212の反射部212r、開口部212aおよび非開口部212tをそれぞれ実質的に覆うように配置されている。
また、着色層214は、反射層212の開口部212aと重なる領域において、他の領域よりも厚く形成した厚肉部233を備えている。
【0029】
図2に示すように、第1の基板211の基板張出部210T上に延在して形成された配線218Bの端部には、半導体素子261がバンプ(図示せず)を介して電気接続されている。
基板張出部210Tの表面に液晶駆動用の半導体素子261を直接実装される構造の液晶パネル200は、COG(Chip On Glass)方式の液晶パネルと呼ばれている。
このような実装構造をもつ液晶パネルにおいて、配線パターン等の断線によって所望の鮮明な液晶表示を行うことができないため、通常、液晶装置を製造する際には断線の有無を検査する必要がある。このため、カラーフィルタ基板210においては、半導体素子261の実装領域以外の領域(例えば実装領域と反対側の基板端部)において形成される配線検査用パターン(後述)に検査用プローブ等を接触させて走査電極222および信号電極216に検査用信号を供給して液晶表示領域に像を表示し、この像を観察することにより検査をすることが好ましい。
【0030】
(2)反射層
図2および図3に示すように、第1の基板211の表面には、反射層212が形成されている。この反射層212は、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム、クロム合金、銀、銀合金などからなる金属薄膜と、反射基部とから構成することが好ましい。また、反射層212には、画素毎に、反射面を有する反射部212rと、開口部212aとが設けられていることが好ましい。
そして、反射層212の上には、画素毎に着色層214が形成され、その上をアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの透明樹脂からなる表面保護層(オーバーコート層)315が被覆していることが好ましい。この着色層214と表面保護層315とによってカラーフィルタが形成されることになる。
【0031】
また、反射層は、基材の表面に独立して形成された複数の凸部を有する第1の反射基部と、その上に形成された比較的なだらかな表面状態を有する連続層からなる第2の反射基部と、さらにその上に形成された金属薄膜からなる反射膜と、を含むことが好ましい。
【0032】
(3)着色層
▲1▼構成
また、図2および図3に示す着色層214は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてR(赤)、G(緑)、B(青)の3色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるものではなく、Y(イエロー)、M(マゼンダ)、C(シアン)等の補色系や、その他の種々の色調で形成することができる。
通常、基板表面上に顔料や染料等の着色材を含む感光性樹脂からなる着色レジストを塗布し、フォトリソグラフィ法によって不要部分を除去することによって、所定のカラーパターンを有する着色層を形成する。ここで、複数の色調の着色層を形成する場合には上記工程を繰り返すことになる。
【0033】
▲2▼遮光膜
また、図3に示すように、画素毎に形成された着色層214の間の画素間領域に、黒色遮光膜(ブラックマトリクス或いはブラックマスク)214BMが形成してあることが好ましい。
この黒色遮光膜214BMとしては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材中に分散させたものや、R(赤)、G(緑)、B(青)の3色の着色材を共に樹脂その他の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
【0034】
▲3▼配列パターン
また、着色層の配列パターンとして、ストライプ配列や、斜めモザイク配列、あるいは、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【0035】
(5)表面保護層
図3に示すように、着色層214上に、表面保護層215が設けてあることが好ましい。このように表面保護層215を設けることにより、着色層214自体、ひいては着色層214を含むカラーフィルタ基板210の耐久性や耐熱性等を著しく向上させることができる。
また、画素毎に、反射層212の開口部212aの直上領域(開口部212aと平面的に重なる領域)に、表面保護層215の開口部215aが形成されていることが好ましい。この理由は、このように表面保護層315を構成することにより、透過光の吸収を効果的に防止し、十分な光量を確保することができるためである。
したがって、表面保護層215の開口部215aが形成されている場合には、着色層214の表面が、その開口部215aを通して、上層構造に対して露出した状態となっている。
【0036】
(6)透明電極および配向膜
図2および図3に示すように、表面保護層215の上には、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる透明電極216を形成することが好ましい。かかる透明電極216は、図3(b)において、上下方向に伸びる帯状に形成されているが、複数の透明電極216が並列したストライプ状に構成されていることが好ましい。
また、透明電極216の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜217が形成されていることが好ましい。
この理由は、このように配向膜217を設けることにより、カラーフィルタ基板210を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料の電圧駆動を容易に実施することができるためである。
【0037】
(7)配線検査用パターンの残部
▲1▼長さ
図1に示すように、液晶パネル200の製造時に第1の基板211と第2の基板221との貼り合わせ基板を切断することにより、配線218Aおよび配線228(共に図2に図示)に延在する配線検査用パターン100の残部100aが外部に突出して形成されていることが好ましい。そして、その残部100aの長さは0.001〜5mmの範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、かかる残部の長さが0.001mm未満の値となると、基板を正確に切断することが困難になる場合があるためである。一方、かかる残部の長さが5mmを越えると、得られる電気光学装置が大型化してしまう場合があるためである。また、かかる残部の長さが5mmを越えると、コロージョンが生じやすくなる場合があるためである。
【0038】
▲2▼形状
配線検査用パターン100は、液晶パネル200における半導体素子261の実装領域とは反対側の端部に配置され、全体が配線218Aおよび配線228(共に図2に図示)に延在してストライプ状のパターンによって形成されていることが好ましい。
【0039】
▲3▼絶縁処理および端部形状
配線検査用パターン100の残部100aが配線検査後にそのまま残ると、コロージョンが促進されたり、金属フレームや異物の接触によってショートが発生したりするため、残部100aにはモールド樹脂,絶縁キャップ等の絶縁材あるいはこれら組み合わせによって被覆処理が施されている。
また、モールド樹脂によって被覆処理を施す場合は、図1に示すように第2の基板221の端部に段差221aを設け、この段差221aの部分にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。この段差221aの幅Wを0.001〜0.5mmの範囲内の値とすることが好ましい。なお、段差の幅Wとは、例えば図1に示すように、第1の基板または第2の基板のうち、いずれか一方の基板の端部における突出した部分の長さを意味する。
このように構成されているため、配線検査用パターン100の残部100aを樹脂封止する領域あるいは被覆材により覆う領域を十分に確保することができるとともに、基板全体の大型化を阻止することができる。
この場合、基板の段差の幅が0.001mmより小さいと、配線検査用パターンの残部を樹脂封止する領域あるいは被覆材により覆う領域を十分に確保することができない。一方、基板の段差の幅が0.5mmより大きいと、基板全体の大型化を阻止することができない。
【0040】
モールド樹脂による被覆処理は、図5(a)〜(c)に示すような形態も採用し得る。
図5(a)に示す被覆処理は、第1の基板211の端部に段差211aを設け、この段差211aの部分にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
図5(b)に示す被覆処理は、第1の基板211および第2の基板221の各端部に段差211b,221bを設け、この段差211b,221bの部分にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
図5(c)に示す被覆処理は、第1基板211の端部において、配線検査用パターン100に向かって窪み211cを設け、この窪み211cの部分にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
図5(d)に示す被覆処理は、第1の基板211および第2の基板221の各端部に複数の段差211d,221dを設け、この段差211d,221dの部分にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
【0041】
このようなモールド樹脂による被覆処理は、図6(a)〜(d)に示すような基板の端部形状にして施せば、より強固に行うことができる。
図6(a)に示す被覆処理は、第2の基板221の端部に段差221aを設けるとともに、この段差221aを覆う絶縁キャップcを装着し、この絶縁キャップc内にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
図6(b)に示す被覆処理は、第1の基板211の端部に段差211bを設けるとともに、この段差211bを覆う絶縁キャップcを装着し、この絶縁キャップc内にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
図6(c)に示す被覆処理は、第1の基板211および第2の基板221の端部に段差211c、221cを設けるとともに、これら段差211c,221cを覆う絶縁キャップcを装着し、この絶縁キャップc内にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
図6(d)に示す被覆処理は、第1の基板211および第2の基板221の各端部に複数の段差211d,221dを設けるとともに、これら段差211d,221dを覆う絶縁キャップcを装着し、この絶縁キャップc内にモールド樹脂mを付着させることにより行われる。
【0042】
この他、配線検査用パターン100の残部100aは、図7(a)および(b)に示すように絶縁キャップcによって直接覆うこともできる。
また、図8に示すように液晶パネル200の端部を絶縁キャップcで覆うとともに、モールド樹脂mによって封止してもよい。
なお、モールド樹脂あるいは絶縁キャップは、電気抵抗が1012〜1015Ω・mの値をもつガラス、ゴム、磁器等の絶縁材が使用される。
【0043】
(8)対向基板
また、図3(b)に示すカラーフィルタ基板210と対向する対向基板220は、ガラス等からなる第2の基板221上に、第1の基板と同様の透明電極222、SiO2やTiO2などからなる硬質保護膜223や配向膜224を順次積層させたものであることが好ましい。
なお、このカラーフィルタ基板210の例では、着色層が第1の基板に設けてあるが、着色層を、かかる対向基板220の第2の基板221上に設けることも好ましい。
【0044】
(9)液晶層
図3(b)に示すように、上記のように構成されたカラーフィルタ基板210と対向基板220との間に液晶材料232が充填されている。このとき、カラーフィルタ基板210の内面上には画素毎に凹部が形成されているので、液晶材料232は、この凹部内に入り込んだ状態(すなわち、上記表面保護層215の開口部215aの内側に入り込んだ状態)に構成される。
このため、液晶層232の厚さは、表面保護層215の開口部215aの形成された領域(すなわち、反射層212の開口部212aの形成された領域)において、それ以外の領域(すなわち反射部212rの形成された領域)に較べて厚く構成されることとなる。
【0045】
[第2実施形態]
第2実施形態は、シール材を介して相互に対向して配置される第1の基板と、第2の基板と、その間に電気光学的物質と、を備えるとともに、第1の基板および第2の基板のいずれか一方が、信号電極としての第1の配線パターンを有し、もう一方の基板が、走査電極としての第2の配線パターンを有しており、かつ、第1の基板および第2の基板のうち少なくとも一方に、第1の配線パターンまたは第2の配線パターンに延設された配線検査用パターンの残部を有する電気光学装置の製造方法であって、
(1)配線検査用パターンを用いて、配線パターンの検査をする工程と、
(2)第1の基板と第2の基板とを、シール材により貼り合わせる工程と、
(3)第1の基板および第2の基板、並びに配線検査用パターンの一部を切断し、第1の基板および第2の基板の接合部における端部に段差を設ける工程と、
(4)シール材の外側に位置する配線検査用パターンの残部を樹脂封止するか、または被覆材により覆う工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法である。
以下、図9〜図10を参照しながら、本発明に係る電気光学装置の製造方法の実施形態について詳細に説明する。
【0046】
1.構成
製造対象の電気光学装置用基板として、カラーフィルタ基板およびその対向基板を例にとって説明するが、カラーフィルタ基板およびその対向基板の構成については、第1の実施形態と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【0047】
2.製造工程
図9(a)〜(c)、および図3(a)、(b)は、図2に示す液晶パネルおよびこれを構成するカラーフィルタ基板210,対向基板220を形成するための製造工程を示す。
【0048】
(1)マザー基板の準備
まず、図9(a)に示すように、縦横に並列する多数の第1の基板211および第2の基板221を形成するためのマザー基板A、Bを準備する。
【0049】
(2)カラーフィルタ基板の形成
▲1▼着色層の形成
次いで、各第1の基板211上には、図2に示す液晶表示領域Aに相当する領域に、上記の反射層212、黒色遮光層214BM、および着色層214を順次形成することが好ましい。
ここで、開口部212aを備えた反射層212は、蒸着法やスパッタリング法にて金属材料等を基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングすることにより形成される。また、黒色遮光層214BMは、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成することが好ましい。
また、着色層214についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を、反射層212等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施すことによって形成することができる。
なお、複数の色の着色層214を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すことになる。
【0050】
▲2▼透光保護層の形成
次に、第1基板211上に全面的に透光保護層を形成することが好ましい。この透光保護層は、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法などを用いることができる。
【0051】
次に、上記透光保護層にフォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、液晶表示領域Aに限定された表面保護層215を形成することが好ましい。このとき、これと同時に表面保護層215には開口部215aが形成される。この工程によって、透光保護層から液晶表示領域A以外の領域B、すなわち、図3に示すシール材230の外側に配置される領域(基板張出部210Tを含む。)とほぼ同じ領域上から透光性素材が除去される。
【0052】
▲3▼透明導電層の形成
次に、基板上に全面的にITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる透明導電層を形成することが好ましい。この透明導電層は、スパッタリング法により成膜できる。そして、この透明導電層に対してフォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、透明電極216、配線218A、配線検査用パターン(図示せず)、入力端子部219を一度に形成することが好ましい。
また、図2に示す配線218Bも上記工程にて同時に形成することが好ましい。
しかる後、図9(b)に示すように、第1の基板211の実装領域に半導体素子261を配置する。この場合、半導体素子261が実装領域に実装すると、半導体素子261のバンプが配線218Bに接続することができる。
【0053】
(3)対向基板の形成
各第2の基板221上に、全面的に形成されたITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる透明導電層を、スパッタリング法等を用いて形成した後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング法を用いてパターニングを施し、透明電極222、配線、および入力端子部を一度に形成することが好ましい。
次いで、透明電極222上に、SiO2やTiO2等からなる硬質保護膜223や配向膜224を順次積層し、対向基板を形成することができる。
【0054】
(4)検査工程
検査工程は、図1に示す配線検査用パターン100に検査用プローブ等を接触させることにより実施することができる。
すなわち、検査用プローブを介して信号電極216および走査電極222に検査用信号を供給し、例えば全点灯状態の像を表示し、この全点灯像を目視や画像認識等によって観察することが好ましい。
【0055】
(5)中間基板の準備(基板の切断工程)
図9(b)に示すように、マザー基板Aを所定の大きさに切断することにより、複数の第1の基板211を形成することができる。また、同様に、マザー基板Bを切断することにより、複数の第2の基板221を形成することが好ましい。
また、この段階で、図1に示す配線検査用パターン100を可及的に小さく切断することが好ましい。この理由は、かかる配線検査用パターンの残部が大きいと、液晶表示装置等を構成した場合に、小型化が困難となったり、ショートが発生しやすくなったりする場合があるためである。
さらに、図9(b)に示す中間基板は、一単位の配線パターンが形成されているが、数単位の配線パターンが形成してあっても良い。その場合には、後述する貼り合わせ工程の後、再度一単位の配線パターンごとに切断すれば良い。
なお、切断方法は特に制限されるものでなく、ダイヤモンドカッターや衝撃式切断器等を好適に使用することができる。
【0056】
(6)貼り合わせ工程
次いで、貼り合わせ工程において、図9に示すように、第1の基板211と第2の基板221とを対向させた状態で、シール材(図示せず)によって貼り合わせるとともに、これら両基板211、221内に液晶材料232を注入することが好ましい。
なお、この貼り合わせ工程において、シール材の一部を利用して、配線検査用パターンの残部を予め絶縁処理することも好ましい。
【0057】
(7)切断工程
次いで、切断工程において、図10(a)に実線で示すように、第1の基板211および第2の基板221、場合によっては、配線検査用パターン100の一部をさらに切断して除去することが好ましい。
かかる切断の際、各基板211、221に対する厚さ方向の切断線の位置を水平方向にそれぞれずらした状態で切断することにより、両基板211、221の端部に段差221aを形成することが好ましい。すなわち、図11(a)に示すように第1の基板211において2点鎖線a1の部分を除去し、これを上下反転させた後、図11(b)に示すように第2の基板211において2点鎖線a2の部分を除去することが好ましい。このように実施すると、後述する被覆工程の処理が極めて容易になるとともに、被覆処理の耐久性も著しく向上する。
【0058】
また、かかる段差221aの幅を0.001〜0.5mmの範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、配線検査用パターンの残部を樹脂封止する領域あるいは被覆材により覆う領域を十分に確保することができるとともに、基板全体の大型化を阻止することができるためである。
すなわち、基板の段差の幅が0.001mmより小さいと、配線検査用パターンの残部を樹脂封止する領域あるいは被覆材により覆う領域を十分に確保することができない場合があるためである。一方、基板の段差の幅が0.5mmより大きいと、基板全体の大型化が阻止することができない場合があるためである。
なお、図11では段差を設ける例を挙げたが、これに限らず、窪み、穴部または凹凸等を設けることも好ましい。
【0059】
(8)被覆工程
次いで、基板等の切断後に配線検査用パターン100の残部100aが残るため、この残部100aに対して、図10(b)に示すように、モールド樹脂mによって被覆処理を施すことが好ましい。
この場合、絶縁キャップあるいはモールド樹脂・絶縁キャップの組み合わせによって被覆処理を施してもよい。また、電極においてコロージョンが促進されたり、金属フレームや異物の接触によってショートが発生したりすることがなくなる。そして、このようにして、液晶パネルを形成することができる。
【0060】
[第3実施形態]
本発明に係る第3実施形態としての電気光学装置を、電子機器における表示装置として用いた場合について具体的に説明する。
【0061】
(1)電子機器の概要
図12は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は、液晶パネル180と、これを制御するための制御手段190とを有している。また、図12中では、液晶パネル180を、パネル構造体180Aと、半導体IC等で構成される駆動回路180Bと、に概念的に分けて描いてある。また、制御手段190は、表示情報出力源191と、表示処理回路192と、電源回路193と、タイミングジェネレータ194とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源192は、ROM(Read Only Memory)やRAM(Random Access Memory)等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ194によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路192に供給するように構成されていることが好ましい。
【0062】
また、表示情報処理回路192は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号CLKと共に駆動回路180Bへ供給することが好ましい。そして、駆動回路180Bは、走査線駆動回路、データ線駆動回路および検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路193は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
【0063】
(2)電子機器
本発明に係る電気光学装置としての液晶表示装置を適用可能な電子機器としては、モバイル型のパーソナルコンピュータ(いわゆる携帯型パーソナルコンピュータ)、携帯電話機、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた電子機器などが挙げられる。
【0064】
さらに、本発明の電気光学装置および電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の電気光学装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂COGタイプの構造を有しているが、ICチップを直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシブル配線基板やTAB基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
さらに、液晶表示装置だけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動表示装置、電界放出表示装置、およびLED(ライトミッティングダイオード)表示装置のように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。
【0065】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器によれば、配線検査に使用した配線検査用パターンの残部の端部処理を施すことにより、配線検査用パターンが外部に露呈していないため、コロージョンが促進されたり、さらには、金属フレームや異物が接触してショートが発生したりすることが少なくなった。
また、本発明の電気光学装置等によれば、電気光学装置を基板の状態で検査した後に、配線検査に使用した配線検査用パターンの大部分を除去することにより、配線回路基板の小型化を図ることができるようになった。
さらに、本発明の電気光学装置等によれば、検査パターンのピッチを比較的広くすることができるため、二重マトリクス配線パターンを有する基板であっても、あるいは、半導体素子の実装密度が高い場合や実装箇所が制限される場合であっても、検査用接触コネクターを接触させることが容易に実施することができるようになった。よって、信頼性の高い検査を簡単に行うことができるようになった。
【0066】
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る第1実施形態の電気光学装置用基板の要部を概略して示す断面図である。
【図2】本発明に係る第1実施形態の電気光学装置を構成する液晶パネルの外観を示す概略斜視図である。
【図3】(a)は、液晶パネルを模式的に示す断面図であり、(b)は、液晶パネルを構成するカラーフィルタ基板を拡大して示す平面図である。
【図4】二重マトリクス方式の電極パターンを示す平面図である。
【図5】(a)〜(d)は、配線検査用パターンの端部処理を説明するために示す断面図である(その1)。
【図6】(a)〜(d)は、配線検査用パターンの端部処理を説明するために示す断面図である(その2)。
【図7】(a)および(b)は、配線検査用パターンの端部処理を説明するために示す斜視図である(その3)。
【図8】配線検査用パターンの端部処理を説明するために示す斜視図である(その4)。
【図9】(a)〜(c)は、液晶パネルを形成するための製造工程を示す斜視図である(その1)。
【図10】(a)および(b)は、液晶パネルを形成するための製造工程を示す断面図である(その2)。
【図11】(a)および(b)は、液晶パネルを形成するための製造工程を示す断面図である(その3)。
【図12】本発明に係る電子機器の実施形態の概略構成を示すブロック図である。
【図13】従来の配線回路基板の構成を示す断面図である(その1)。
【図14】従来の配線回路基板の構成を示す断面図である(その2)。
【図15】従来における液晶装置の半導体素子の実装領域に形成される配線パターンを拡大して示す平面図である。
【0067】
【符号の説明】
100:配線検査用パターン
100a:残部
104:シール材
200:液晶パネル
210:カラーフィルタ基板
211:第1の基板
211a:段差
212:反射層
212a:開口部
212r:反射部
212t:非開口部
214:着色層
216:透明電極
220:対向基板
221:第2の基板
221a:段差
222:透明電極
230:シール材
240・250:偏光板
315:表面保護層[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an electro-optical device, a method for manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus including the electro-optical device.
In particular, the present invention relates to an electro-optical device, a method for manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus including the electro-optical device, which have a remaining portion of a wiring test pattern used for a wiring test, but do not cause a problem such as a short circuit.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a pixel is formed by intersecting a scanning line electrode formed on one of a pair of substrates facing each other with a data line electrode formed on the other substrate at a plurality of points in a dot matrix, and the pixels are formed. A liquid crystal display device that displays an image such as a character by modulating light passing through a liquid crystal substance included in the pixel by selectively changing a voltage applied to the pixel is often used.
In such a liquid crystal display device, if a scanning line electrode, a data line electrode, or a wiring pattern connected to those electrodes has a defect such as a disconnection, a desired clear image can be displayed. There is a problem that can not be. Therefore, when manufacturing such a liquid crystal display device, it is necessary to inspect whether or not each of the electrodes and the wiring patterns on the pair of substrates are normal without defects.
[0003]
Therefore, for example, there is a printed circuit board having test electrodes each corresponding to a fine pitch test.
More specifically, as shown in FIG. 13, in the test electrode connected to the wiring circuit, the surface area decreases as the shape of the test electrode approaches the electrode tip, and the electrode tip is The printed circuit board is flat. FIG. 14 shows an inspection electrode connected to a wiring circuit. As the shape of the inspection electrode approaches the tip of the electrode, the surface area increases, and the tip of the electrode becomes flat. Wiring circuit board.
Further, with respect to the chip-on-glass mounting structure, there is a liquid crystal display device that can perform a highly reliable inspection even when the area around the mounting region of the semiconductor element (IC chip) is small (for example, And Patent Document 1).
More specifically, as shown in FIG. 15, the wiring pattern formed on the substrate overhang portion extends beyond the portion that is conductively connected to the semiconductor element side terminal, inside the mounting area where the semiconductor element is mounted. The liquid crystal display device has a plurality of extended portions, and the extended portions use substrates that are separately formed in at least two groups.
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-2001-5016 (Pages 4 to 5, FIGS. 1 to 3)
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, since the test electrodes shown in FIGS. 13 and 14 are left as they are after use, corrosion is promoted by the test electrodes, and furthermore, a short circuit occurs due to contact with a metal frame or foreign matter. Problem was seen. In addition, there is also a problem that the size of the printed circuit board is easily increased because a space for the inspection electrode is required.
Further, with the test pattern described in
On the other hand, when trying to widen the pitch of the inspection pattern, there is a problem that a large space for the inspection pattern must be provided on the substrate itself.
[0006]
Therefore, the inventors of the present invention worked diligently to inspect the wiring of the electro-optical device in the state of the substrate, and then remove and remove a part of the wiring inspection pattern used for the wiring inspection, and used the wiring inspection. It has been found that such a problem can be solved by performing the edge processing of the wiring inspection pattern, and the present invention has been completed.
That is, it is an object of the present invention to provide an electro-optical device that can easily inspect the electro-optical device itself, can reduce the size of the electro-optical device, and is excellent in reliability.
Further, another object of the present invention is to provide an efficient manufacturing method of such an electro-optical device, and still another object is to efficiently provide an electronic apparatus including such an electro-optical device. Is to do.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
According to the present invention, in an electro-optical device including a first substrate, a second substrate, and an electro-optical material interposed therebetween, the first substrate is disposed between the first substrate and the second substrate. One of the first substrate and the second substrate has a first wiring pattern as a signal electrode, and the other substrate has a second wiring pattern as a scanning electrode; At least one of the second substrates has a first wiring pattern or a remaining portion of the wiring inspection pattern extended from the second wiring pattern, and has an end at a joint between the first substrate and the second substrate. An electro-optical device, wherein a step is provided in the portion, and the remaining portion of the wiring inspection pattern located outside the sealing material is sealed with a resin or covered with a coating material. Solves the problems described above. It can be.
That is, since the wiring inspection pattern used in the wiring inspection is subjected to the edge processing, the wiring inspection pattern is not exposed to the outside because of this configuration, the corrosion is promoted, and furthermore, the metal inspection is performed. The occurrence of short circuit due to contact with the frame or foreign matter is eliminated.
Further, after the wiring inspection of the electro-optical device in the state of the substrate, most of the wiring inspection pattern used for the wiring inspection is removed, so that the size of the printed circuit board can be reduced.
Furthermore, since the pitch of the test pattern can be widened, even when the mounting density of the semiconductor elements is high, the test contact connector can be brought into contact, and a highly reliable test can be easily performed.
[0008]
Note that when the present invention is used as a passive type liquid crystal device substrate, at least a part of the first wiring pattern and the second wiring pattern according to the present invention is used for display for applying an electric field to the liquid crystal layer. Also functions as an electrode.
When the present invention is used for an active liquid crystal device using a TFD, at least a part of the first wiring pattern according to the present invention functions as a wiring for supplying a signal potential to a pixel electrode. At least a part of the second wiring pattern according to the present invention functions as a wiring for supplying a scanning potential or as a display electrode for applying an electric field to the liquid crystal layer.
Further, when the present invention is used for an active liquid crystal device using a TFT, the first wiring pattern according to the present invention functions as a signal line for supplying a signal potential to a pixel electrode.
[0009]
In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable to provide a step, a dent, a hole, or an uneven portion at an end of the first substrate, the second substrate, or one of the substrates.
With such a configuration, at least one end of the substrate can have a large surface area, and a region to be sealed with a resin or a region to be covered with a covering material can be a large region.
[0010]
Further, in configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable that a step width of an end portion at a joint portion between the first substrate and the second substrate is set to a value within a range of 0.001 to 0.5 mm.
With this configuration, it is possible to sufficiently secure a region for sealing the remaining portion of the wiring inspection pattern with the resin or a region for covering with the covering material, and to prevent the entire substrate from being enlarged.
In this case, if the width of the step of the substrate is smaller than 0.001 mm, it may not be possible to sufficiently secure a region for sealing the remaining portion of the wiring inspection pattern with the resin or a region for covering with the covering material. On the other hand, if the width of the step of the substrate is larger than 0.5 mm, the size of the entire substrate may not be prevented from increasing.
[0011]
In configuring the electro-optical device of the present invention, it is preferable that the first wiring pattern and the second wiring pattern form a double matrix.
With this configuration, even when the wiring pattern of the electro-optical device substrate is a double matrix wiring pattern, a highly reliable inspection can be reliably performed.
[0012]
Further, another embodiment of the present invention includes a first substrate, a second substrate, and an electro-optical substance therebetween, which are disposed to face each other with a sealant interposed therebetween. One of the substrate and the second substrate has a first wiring pattern as a signal electrode, and the other substrate has a second wiring pattern as a scanning electrode; A method for manufacturing an electro-optical device, comprising at least one of a substrate and a second substrate having a remaining portion of a wiring inspection pattern extended to the first wiring pattern or the second wiring pattern,
(1) a step of inspecting a wiring pattern using the wiring inspection pattern;
(2) a step of bonding the first substrate and the second substrate with a sealant;
(3) cutting the first substrate, the second substrate, and a part of the wiring inspection pattern to provide a step at an end portion of a joint portion between the first substrate and the second substrate;
(4) A method of manufacturing an electro-optical device, which includes a step of resin-sealing or covering a remaining portion of the wiring inspection pattern located outside the sealing material with a coating material.
With such a method, it is possible to obtain an electro-optical device in which corrosion is not promoted, and furthermore, a short circuit does not occur due to contact with a metal frame or foreign matter.
Also, by removing most of the wiring inspection patterns used for wiring inspection, an electro-optical device that can be downsized can be obtained.
Further, even when the mounting density of the semiconductor elements is high, it is possible to obtain an electro-optical device capable of easily performing contact with the contact connector for inspection and highly reliable inspection.
[0013]
In carrying out the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, it is preferable that the remaining part of the wiring inspection pattern is provided on the side opposite to the end of the wiring pattern connected to the external circuit.
With such a method, it is possible to obtain an electro-optical device that can easily perform contact with the inspection contact connector and highly reliable inspection even when the mounting density of the semiconductor elements is high.
[0014]
In carrying out the method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention, the first substrate, the second substrate, and a part of the wiring inspection pattern are cut, and a joint between the first substrate and the second substrate is cut. In the step of providing a step at the end of the step, it is preferable to provide a step by cutting the first substrate and the second substrate while shifting the positions of the cutting lines.
With such a method, a step can be easily formed between the first substrate and the second substrate when the substrate is cut.
[0015]
In performing the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, a step, a dent, a hole, or an uneven portion is formed at an end of the first substrate and the end of the second substrate, or at an end of one of the substrates. It is preferable to include a providing step.
With such a method, it is possible to secure a region for sealing the remaining portion of the wiring inspection pattern with a resin or a region for covering with a coating material.
[0016]
Another embodiment of the present invention is an electronic apparatus including: any one of the above-described electro-optical devices; and control means for controlling the electro-optical device.
According to such an electronic device, by performing the end treatment of the wiring inspection pattern used for the wiring inspection, the wiring inspection pattern is not exposed to the outside, so that the occurrence of corrosion is prevented. And short-circuiting caused by contact of the object and foreign matter is eliminated.
Further, after inspecting the electro-optical device in the state of the substrate, by removing most of the wiring inspection pattern used for the wiring inspection, the size of the printed circuit board can be reduced.
Furthermore, since the pitch of the test pattern can be widened, even when the mounting density of the semiconductor elements is high, the test contact connector can be brought into contact, and a highly reliable test can be easily performed.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of an electro-optical device, a method of manufacturing an electro-optical device, and an electronic apparatus including the electro-optical device according to the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
However, such an embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the present invention.
[0018]
[First Embodiment]
In the first embodiment, as illustrated in FIG. 1, an electric device including a first substrate, a second substrate, and an electro-optical material interposed therebetween, which are disposed to face each other with a sealing material interposed therebetween. In an optical device, one of a first substrate and a second substrate has a first wiring pattern as a signal electrode, and the other substrate has a second wiring pattern as a scanning electrode. A first substrate and / or a second substrate, wherein at least one of the first substrate and the second substrate has a remaining portion of the wiring inspection pattern extended from the first wiring pattern or the second wiring pattern; In addition, a step is provided at the end of the joint portion of the second substrate, and the remaining part of the wiring inspection pattern located outside the sealant is sealed with a resin or covered with a coating material. It is an electro-optical device.
Hereinafter, an electro-optical device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3 taking a color filter substrate and a liquid crystal panel using the same as examples.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a main part of an electro-optical device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a diagram illustrating an electro-optical device according to the first embodiment of the present invention. 3A is a schematic perspective view showing the appearance of the
[0019]
1. Basic structure of liquid crystal panel
The
In addition, the
[0020]
(1) Cell structure
As shown in FIG. 2, the
Then, as shown in FIG. 3, the
[0021]
(2) Wiring
(1) Matrix
A plurality of parallel stripe-shaped
Since the
[0022]
Here, the wiring pattern of the double matrix system will be described with reference to FIG. 4 which is a plan view showing such a wiring pattern.
In such a wiring pattern, two rows of pixel groups correspond to one scanning electrode, and one column of pixel groups in a direction parallel to the signal lines is formed of two signal electrodes. In other words, one scanning electrode corresponds to one pixel to which two signal electrodes are separately connected.
[0023]
In the X direction, a
[0024]
With such a configuration, for example, when the pixel P2 or P3 is to be lighted and displayed, if either the na electrode or the nb electrode is selected and a voltage is supplied, the voltage is supplied from one scanning electrode 222a. It becomes possible to respond by supplying. That is, if the number of scanning electrodes is the same as that of the simple matrix structure, the number of pixels can be doubled. In other words, it is possible to increase the on / off ratio by halving the duty number, thereby improving the contrast.
[0025]
Note that when the present invention is used as a passive type liquid crystal device substrate, at least a part of the first wiring pattern and the second wiring pattern according to the present invention is used for display for applying an electric field to the liquid crystal layer. Also functions as an electrode.
When the present invention is used for an active liquid crystal device using a TFD, at least a part of the first wiring pattern according to the present invention functions as a wiring for supplying a signal potential to a pixel electrode. At least a part of the second wiring pattern according to the present invention functions as a wiring for supplying a scanning potential or as a display electrode for applying an electric field to the liquid crystal layer.
Further, when the present invention is used for an active liquid crystal device using a TFT, the first wiring pattern according to the present invention functions as a signal line for supplying a signal potential to a pixel electrode.
[0026]
(2) Input terminal section
Further, the
A semiconductor element (IC chip) 261 containing a liquid crystal drive circuit and the like is mounted on the
Further, it is preferable that a
[0027]
(3) retardation plate and polarizing plate
In the
It is preferable that a retardation plate (1/4 wavelength plate) 250 and a
[0028]
2. Color filter substrate
(1) Substrate
As shown in FIG. 3, on a
The
[0029]
As shown in FIG. 2, a
The
In a liquid crystal panel having such a mounting structure, a desired clear liquid crystal display cannot be performed due to disconnection of a wiring pattern or the like. Therefore, it is usually necessary to inspect for disconnection when manufacturing a liquid crystal device. For this reason, in the
[0030]
(2) Reflective layer
As shown in FIGS. 2 and 3, a
A
[0031]
Further, the reflection layer is composed of a first reflection base having a plurality of projections independently formed on the surface of the base material, and a second reflection layer formed on the first reflection base and having a relatively gentle surface state. And a reflective film formed of a metal thin film formed thereon.
[0032]
(3) Color layer
(1) Configuration
The
Usually, a colored resist having a predetermined color pattern is formed by applying a colored resist made of a photosensitive resin containing a coloring material such as a pigment or a dye on the surface of the substrate and removing unnecessary portions by a photolithography method. Here, when forming a colored layer of a plurality of colors, the above steps are repeated.
[0033]
(2) Light shielding film
Further, as shown in FIG. 3, it is preferable that a black light-shielding film (black matrix or black mask) 214BM is formed in a region between pixels between the coloring layers 214 formed for each pixel.
As the black light-shielding film 214BM, for example, a colorant such as a black pigment or dye dispersed in a resin or other base material, or three colors of R (red), G (green), and B (blue) are used. A material in which a coloring material is dispersed in a resin or other base material can be used.
[0034]
(3) Array pattern
In addition, various pattern shapes such as a stripe arrangement, an oblique mosaic arrangement, or a delta arrangement can be adopted as the arrangement pattern of the colored layers.
[0035]
(5) Surface protective layer
As shown in FIG. 3, a surface protective layer 215 is preferably provided over the
In addition, it is preferable that an opening 215a of the surface protection layer 215 is formed in a region immediately above the
Therefore, when the opening 215a of the surface protection layer 215 is formed, the surface of the
[0036]
(6) Transparent electrode and alignment film
As shown in FIGS. 2 and 3, it is preferable to form a
Further, it is preferable that an
The reason for this is that by providing the
[0037]
(7) Rest of wiring inspection pattern
▲ 1 ▼ Length
As shown in FIG. 1, by cutting the bonded substrate of the
The reason is that if the length of the remaining portion is less than 0.001 mm, it may be difficult to cut the substrate accurately. On the other hand, if the length of the remaining portion exceeds 5 mm, the obtained electro-optical device may be large. Also, if the length of the remaining portion exceeds 5 mm, corrosion may easily occur.
[0038]
▲ 2 ▼ Shape
The
[0039]
(3) Insulation treatment and end shape
If the remaining
In the case of performing the coating process with the mold resin, as shown in FIG. 1, a
With such a configuration, it is possible to sufficiently secure a region for sealing the remaining
In this case, if the width of the step of the substrate is smaller than 0.001 mm, it is not possible to sufficiently secure a region for sealing the remaining portion of the wiring inspection pattern with the resin or a region for covering with the covering material. On the other hand, if the width of the step of the substrate is larger than 0.5 mm, it is impossible to prevent the entire substrate from being enlarged.
[0040]
The coating treatment with the mold resin can also adopt the forms shown in FIGS. 5 (a) to 5 (c).
The coating process shown in FIG. 5A is performed by providing a
In the coating process shown in FIG. 5B, steps 211b and 221b are provided at each end of the
The coating process shown in FIG. 5C is performed by providing a
In the coating process shown in FIG. 5D, a plurality of
[0041]
Such a coating treatment with a mold resin can be performed more firmly if it is formed into an end shape of the substrate as shown in FIGS. 6 (a) to 6 (d).
In the coating process shown in FIG. 6A, a
In the coating process shown in FIG. 6B, a
6C, the
In the coating process shown in FIG. 6D, a plurality of
[0042]
In addition, the remaining
Further, as shown in FIG. 8, the end of the
Incidentally, the molding resin or the insulating cap has an electric resistance of 10 12 -10 Fifteen An insulating material such as glass, rubber, and porcelain having a value of Ω · m is used.
[0043]
(8) Counter substrate
In addition, an opposing
In the example of the
[0044]
(9) Liquid crystal layer
As shown in FIG. 3B, a
For this reason, the thickness of the
[0045]
[Second embodiment]
The second embodiment includes a first substrate, a second substrate, and an electro-optical material between the first substrate and the second substrate, which are disposed to face each other with a sealing material interposed therebetween. One of the substrates has a first wiring pattern as a signal electrode, the other substrate has a second wiring pattern as a scanning electrode, and the first and second substrates have a first wiring pattern. A method for manufacturing an electro-optical device, comprising at least one of the two substrates having a remaining portion of a wiring inspection pattern extended from the first wiring pattern or the second wiring pattern,
(1) a step of inspecting a wiring pattern using the wiring inspection pattern;
(2) a step of bonding the first substrate and the second substrate with a sealant;
(3) cutting the first substrate, the second substrate, and a part of the wiring inspection pattern to provide a step at an end portion of a joint portion between the first substrate and the second substrate;
(4) a step of resin-sealing or covering the remaining part of the wiring inspection pattern located outside the sealing material with a coating material.
Hereinafter, an embodiment of a method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS.
[0046]
1. Constitution
As a substrate for an electro-optical device to be manufactured, a color filter substrate and a counter substrate thereof will be described as an example. However, since the configurations of the color filter substrate and the counter substrate are the same as in the first embodiment, they are not described here. Description is omitted.
[0047]
2. Manufacturing process
FIGS. 9A to 9C and FIGS. 3A and 3B show a manufacturing process for forming the liquid crystal panel shown in FIG. 2 and the
[0048]
(1) Preparation of mother board
First, as shown in FIG. 9A, mother substrates A and B for forming a large number of
[0049]
(2) Formation of color filter substrate
(1) Formation of colored layer
Next, on each of the
Here, the
Also, as for the
When the
[0050]
{Circle around (2)} Formation of a light-transmitting protective layer
Next, a light-transmitting protective layer is preferably formed over the entire surface of the
[0051]
Next, it is preferable that the light-transmitting protective layer is patterned by using a photolithography technique and an etching method to form a surface protective layer 215 limited to the liquid crystal display region A. At this time, an opening 215a is formed in the surface protection layer 215 at the same time. By this step, from the light-transmitting protective layer to a region B other than the liquid crystal display region A, that is, a region substantially the same as the region (including the
[0052]
(3) Formation of transparent conductive layer
Next, it is preferable to form a transparent conductive layer made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) over the entire surface of the substrate. This transparent conductive layer can be formed by a sputtering method. Then, patterning is performed on the transparent conductive layer using a photolithography technique and an etching method, and the
Further, it is preferable that the wiring 218B shown in FIG.
After that, as shown in FIG. 9B, the
[0053]
(3) Formation of counter substrate
After forming a transparent conductive layer made of a transparent conductive material such as ITO (indium tin oxide) over the entire surface of each
Next, on the
[0054]
(4) Inspection process
The inspection step can be performed by bringing an inspection probe or the like into contact with the
That is, it is preferable to supply an inspection signal to the
[0055]
(5) Preparation of intermediate substrate (substrate cutting process)
As shown in FIG. 9B, a plurality of
At this stage, it is preferable to cut the
Further, in the intermediate substrate shown in FIG. 9B, one unit of wiring pattern is formed, but several units of wiring pattern may be formed. In that case, after the laminating step described later, cutting may be performed again for each wiring pattern of one unit.
The cutting method is not particularly limited, and a diamond cutter, an impact-type cutter, or the like can be suitably used.
[0056]
(6) Lamination process
Next, in a bonding step, as shown in FIG. 9, in a state where the
In this bonding step, it is also preferable to use a part of the sealing material to insulate the remaining portion of the wiring inspection pattern in advance.
[0057]
(7) Cutting process
Next, in the cutting step, as shown by a solid line in FIG. 10A, the
At the time of such cutting, it is preferable to form the
[0058]
Further, it is preferable that the width of the
That is, if the width of the step of the substrate is smaller than 0.001 mm, it may not be possible to sufficiently secure a region for sealing the remaining portion of the wiring inspection pattern with the resin or a region for covering with the covering material. On the other hand, if the width of the step of the substrate is larger than 0.5 mm, the size of the entire substrate may not be prevented from being increased.
Although an example in which a step is provided is shown in FIG. 11, the present invention is not limited to this, and it is also preferable to provide a depression, a hole, or unevenness.
[0059]
(8) Coating process
Next, since the remaining
In this case, the coating process may be performed using an insulating cap or a combination of a mold resin and an insulating cap. In addition, corrosion is not promoted in the electrodes, and short-circuiting due to contact with a metal frame or foreign matter does not occur. Then, a liquid crystal panel can be formed in this manner.
[0060]
[Third embodiment]
A case in which the electro-optical device according to the third embodiment of the present invention is used as a display device in an electronic device will be specifically described.
[0061]
(1) Overview of electronic devices
FIG. 12 is a schematic configuration diagram illustrating the overall configuration of the electronic device of the present embodiment. This electronic device has a liquid crystal panel 180 and control means 190 for controlling the liquid crystal panel 180. In FIG. 12, the liquid crystal panel 180 is conceptually divided into a panel structure 180A and a driving circuit 180B including a semiconductor IC or the like. Preferably, the control means 190 includes a display information output source 191, a display processing circuit 192, a power supply circuit 193, and a timing generator 194.
The display information output source 192 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) and a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk and an optical recording disk, and a tuning unit for synchronizing and outputting a digital image signal. And a circuit for supplying display information to the display information processing circuit 192 in the form of an image signal in a predetermined format based on various clock signals generated by the timing generator 194.
[0062]
The display information processing circuit 192 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit, and executes processing of input display information. It is preferable that the image information be supplied to the drive circuit 180B together with the clock signal CLK. The driving circuit 180B preferably includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 193 has a function of supplying a predetermined voltage to each of the above-described components.
[0063]
(2) Electronic equipment
Electronic devices to which a liquid crystal display device as an electro-optical device according to the present invention can be applied include a mobile personal computer (so-called portable personal computer), a mobile phone, a liquid crystal television, a viewfinder type and a monitor direct-view video tape. Examples include a recorder, a car navigation device, a pager, an electrophoresis device, an electronic organizer, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and an electronic device equipped with a touch panel.
[0064]
Further, the electro-optical device and the electronic apparatus according to the present invention are not limited to the illustrated examples described above, and it is needless to say that various changes can be made without departing from the gist of the present invention. For example, the liquid crystal panel shown in each of the above embodiments has a simple matrix type structure, but an active matrix type electro-optical device using an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) or TFD (thin film diode). Can also be applied.
Although the liquid crystal panel of the above embodiment has a so-called COG type structure, the liquid crystal panel does not have a structure in which an IC chip is directly mounted. For example, the liquid crystal panel is configured to connect a flexible wiring substrate or a TAB substrate to the liquid crystal panel. May be used.
Further, not only a liquid crystal display device but also a plurality of pixels such as an electroluminescence device, an inorganic electroluminescence device, a plasma display device, an electrophoretic display device, a field emission display device, and an LED (light emitting diode) display device. The present invention can be similarly applied to various electro-optical devices whose display state can be controlled.
[0065]
【The invention's effect】
As described above, according to the electro-optical device, the manufacturing method of the electro-optical device, and the electronic apparatus of the present invention, by performing the end processing of the remaining portion of the wiring inspection pattern used for the wiring inspection, Since the pattern is not exposed to the outside, corrosion is promoted, and furthermore, the occurrence of short-circuit due to contact with a metal frame or foreign matter is reduced.
Further, according to the electro-optical device of the present invention, the size of the printed circuit board can be reduced by removing most of the wiring inspection pattern used for the wiring inspection after inspecting the electro-optical device in the state of the substrate. You can now plan.
Further, according to the electro-optical device or the like of the present invention, the pitch of the inspection pattern can be made relatively wide, so that even if the substrate has a double matrix wiring pattern or the mounting density of semiconductor elements is high. Even when the mounting location is limited, it is possible to easily implement the contact connector for inspection. Therefore, a highly reliable inspection can be easily performed.
[0066]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a main part of an electro-optical device substrate according to a first embodiment of the invention.
FIG. 2 is a schematic perspective view illustrating an appearance of a liquid crystal panel included in the electro-optical device according to the first embodiment of the invention.
FIG. 3A is a cross-sectional view schematically illustrating a liquid crystal panel, and FIG. 3B is an enlarged plan view illustrating a color filter substrate included in the liquid crystal panel.
FIG. 4 is a plan view showing an electrode pattern of a double matrix system.
FIGS. 5A to 5D are cross-sectional views illustrating an edge processing of a wiring inspection pattern (part 1).
FIGS. 6A to 6D are cross-sectional views illustrating an edge processing of a wiring inspection pattern (part 2).
FIGS. 7A and 7B are perspective views illustrating an edge processing of a wiring inspection pattern (part 3); FIGS.
FIG. 8 is a perspective view for explaining end processing of a wiring inspection pattern (part 4);
FIGS. 9A to 9C are perspective views showing a manufacturing process for forming a liquid crystal panel (part 1).
FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process for forming a liquid crystal panel (part 2).
FIGS. 11A and 11B are cross-sectional views illustrating a manufacturing process for forming a liquid crystal panel (part 3).
FIG. 12 is a block diagram illustrating a schematic configuration of an electronic device according to an embodiment of the invention.
FIG. 13 is a sectional view showing a configuration of a conventional wired circuit board (part 1).
FIG. 14 is a sectional view showing the configuration of a conventional wired circuit board (part 2).
FIG. 15 is an enlarged plan view showing a wiring pattern formed in a mounting region of a semiconductor element of a conventional liquid crystal device.
[0067]
[Explanation of symbols]
100: Wiring inspection pattern
100a: remainder
104: sealing material
200: LCD panel
210: Color filter substrate
211: first substrate
211a: step
212: reflective layer
212a: opening
212r: reflective part
212t: non-opening
214: coloring layer
216: Transparent electrode
220: counter substrate
221: Second substrate
221a: Step
222: transparent electrode
230: Sealing material
240/250: Polarizing plate
315: Surface protective layer
Claims (9)
前記第1の基板および第2の基板のいずれか一方が、信号電極としての第1の配線パターンを有し、もう一方の基板が、走査電極としての第2の配線パターンを有しており、
前記第1の基板および第2の基板のうち少なくとも一方に、第1の配線パターンまたは第2の配線パターンに延設された配線検査用パターンの残部を有するとともに、前記第1の基板および第2の基板の接合部における端部に段差が設けてあり、かつ、前記シール材の外側に位置する配線検査用パターンの残部が、樹脂封止してあるか、または被覆材により覆ってあることを特徴とする電気光学装置。In an electro-optical device including a first substrate, a second substrate, and an electro-optical substance between the first substrate and the second substrate, which are disposed to face each other with a sealing material interposed therebetween.
One of the first substrate and the second substrate has a first wiring pattern as a signal electrode, and the other substrate has a second wiring pattern as a scanning electrode,
At least one of the first substrate and the second substrate has a remaining portion of the wiring inspection pattern extended from the first wiring pattern or the second wiring pattern, and the first substrate and the second substrate have the same structure. A step is provided at the end of the joint portion of the substrate, and the remaining portion of the wiring inspection pattern located outside the sealing material is sealed with a resin or covered with a coating material. Electro-optical device characterized by the following.
(1)前記配線検査用パターンを用いて、前記配線パターンの検査をする工程と、
(2)前記第1の基板と第2の基板とを、前記シール材により貼り合わせる工程と、
(3)前記第1の基板および第2の基板、並びに配線検査用パターンの一部を切断し、当該第1の基板および第2の基板の接合部における端部に段差を設ける工程と、
(4)前記シール材の外側に位置する配線検査用パターンの残部を樹脂封止するか、または被覆材により覆う工程と、を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。A first substrate, a second substrate, and an electro-optical material interposed between the first substrate and the second substrate, wherein one of the first substrate and the second substrate is provided; One has a first wiring pattern as a signal electrode, the other substrate has a second wiring pattern as a scanning electrode, and one of the first substrate and the second substrate A method of manufacturing an electro-optical device having at least one of the remaining wiring inspection patterns extended from the first wiring pattern or the second wiring pattern,
(1) a step of inspecting the wiring pattern using the wiring inspection pattern;
(2) a step of bonding the first substrate and the second substrate with the sealant;
(3) cutting the first substrate and the second substrate, and part of the wiring inspection pattern, and providing a step at an end portion at a joint portion between the first substrate and the second substrate;
(4) a step of resin-sealing or covering the remaining part of the wiring inspection pattern located outside the sealing material with a coating material.
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2002
- 2002-09-20 JP JP2002275182A patent/JP2004109815A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060110 |