JP2006154388A - 光学デバイス及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】二つ以上の光学素子を接着剤を用いて接着させる際に、接着不良を生じさせないと共に接着剤が波面収差特性に影響を与えることを阻止した光学デバイスとその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ダイクロイックミラー6は、第一のプリズム(第一の光学素子)7と、第二のプリズム(第二の光学素子)8とを接着剤9を用いて貼り合せた構造であり、第一のプリズム7の斜面には多層膜からなるミラーコート10が形成され、第二のプリズム8の斜面にはSiO2コート11を形成する。このように、二つ以上の光学素子を接着する場合、接着面にSiO2コートを形成することにより、接着不良を生じさせないと共に接着剤が波面収差特性に影響を与えることを防ぐことが可能となる。
【選択図】 図1
【解決手段】ダイクロイックミラー6は、第一のプリズム(第一の光学素子)7と、第二のプリズム(第二の光学素子)8とを接着剤9を用いて貼り合せた構造であり、第一のプリズム7の斜面には多層膜からなるミラーコート10が形成され、第二のプリズム8の斜面にはSiO2コート11を形成する。このように、二つ以上の光学素子を接着する場合、接着面にSiO2コートを形成することにより、接着不良を生じさせないと共に接着剤が波面収差特性に影響を与えることを防ぐことが可能となる。
【選択図】 図1
Description
本発明は光学デバイスの接着面に起因する波面収差の改良方法に関し、特に、例えば、蒸着膜を有するプリズムと他のプリズムとを接着剤を用いて接着する際、接着不良を生じさせないと共に接着剤が波面収差特性に影響を与えることを防止した光学デバイスとその製造方法に関するものである。
周知のように、光学デバイスとして、二つ以上の光学素子を接着剤により接着して所望の光学特性を得るものが多く使用されている。例えば、ダイクロイックミラー等の光分離デバイスは、一方の三角プリズムの斜面にミラーコート(ダイクロコート)を形成し、他方の三角プリズムの斜面に接着剤を塗布して二つの三角プリズムの斜面同志を貼り合せた構造である。
図4は、従来のダイクロイックミラーの構造を示す外観例である。ダイクロイックミラー1は、第一のプリズム2と、第二のプリズム3とを接着剤4を用いて貼り合せた構造であり、第一のプリズム2の斜面にはミラーコート5が形成されている。又、接着剤としては、アクリル系のUV接着剤や、エポキシ系の接着剤等が用いられる。この様な構造のダイクロイックミラー1は、A面に入射した光線L1に含まれる波長成分L2は前記ミラーコート5面を透過してB面より出射し、光線L1に含まれる波長成分L3は前記ミラーコート5面で反射してC面から出射すると共に、B面に入射した光線L4に含まれる波長成分L5は前記ミラーコート5面を透過してA面から出射し、光線L4に含まれる波長成分L6は前記ミラーコート5面で反射してD面から出射するよう機能する。
特開2000−329985号公報
しかしながら、従来のダイクロイックミラーにおいては、第一のプリズムに形成したミラーコートや第二のプリズムの斜面に対する接着剤の濡れ性が悪いため、接着剤の塗りむらが生じて当該塗りむらに起因する接着剤の光学特性が、ダイクロイックミラーの光学特性、特に波面収差特性に悪影響を及ぼしていた。
従来のダイクロイックミラーの波面収差特性について、幾つかのサンプルを元にミラーコートの厚みを変化させながら測定したところ次のような結果を得た。
従来のダイクロイックミラーの波面収差特性について、幾つかのサンプルを元にミラーコートの厚みを変化させながら測定したところ次のような結果を得た。
ミラーコートの厚み1.5μmの時、波面収差の平均値28.7rms(mλ)
ミラーコートの厚み1.7μmの時、波面収差の平均値31.3rms(mλ)
ミラーコートの厚み3.5μmの時、波面収差の平均値50.5rms(mλ)
通常、波面収差の規格としては、30rms(mλ)程度が要求されることが多く、従来のダイクロイックミラーでは波面収差の規格を満足することは困難であった。
ミラーコートの厚み1.7μmの時、波面収差の平均値31.3rms(mλ)
ミラーコートの厚み3.5μmの時、波面収差の平均値50.5rms(mλ)
通常、波面収差の規格としては、30rms(mλ)程度が要求されることが多く、従来のダイクロイックミラーでは波面収差の規格を満足することは困難であった。
特開2000-329985号公報には、二つ以上の光学素子を接着剤を用いて接着する際に、接着剤の濡れ性を良くして接着剤の塗りむらを改善する方法が開示されている。即ち、二つ以上の光学素子を接着する際に、接着剤塗布面に酸化チタン(TiO2)膜をコーティングすることにより親水性処理を施すことで、一様な接着剤の膜を形成して接着剤の塗りむらを改善するのである。
しかし、この様な接着剤塗布面にTiO2膜をコーティングする手法を、例えば、ダイクロイックミラーの接着面に応用すると、TiO2膜の屈折率は、プリズムや接着剤の屈折率と異なるので、ダイクロイックミラーの光学特性、特に波面収差に悪影響を与えるという問題を生じていた。
本発明は上述したような問題を解決するためになされたものであって、二つ以上の光学素子を接着剤を用いて接着させる際に、接着不良を生じさせないと共に接着剤が波面収差特性に影響を与えることを防止した光学デバイスとその製造方法を提供することを目的とする。
本発明は上述したような問題を解決するためになされたものであって、二つ以上の光学素子を接着剤を用いて接着させる際に、接着不良を生じさせないと共に接着剤が波面収差特性に影響を与えることを防止した光学デバイスとその製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために本発明に係わる光学デバイスとその製造方法は、以下の構成をとる。
請求項1に記載の光学デバイスは、第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを接着剤を介して接合した構造の光学デバイスであって、少なくとも一方の光学素子の平坦面の最上面にはSiO2を主成分とするコーティングが施されるよう構成する。
請求項1に記載の光学デバイスは、第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを接着剤を介して接合した構造の光学デバイスであって、少なくとも一方の光学素子の平坦面の最上面にはSiO2を主成分とするコーティングが施されるよう構成する。
請求項2に記載の光学デバイスは、何れかの光学素子の平坦面にはミラーコートが形成されており、ダイクロイックミラーとして機能するよう構成する。
請求項3に記載の光学デバイスは、前記接着剤がエポキシ系の接着剤であるよう構成する。
請求項4に記載の光学デバイスの製造方法は、第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを接着剤を介して接合した構造の光学デバイスを製造するための製造方法であって、第二の光学素子の平坦面の最上面にSiO2を主成分とするコーティングを施す工程と、第二の光学素子の平坦面の最上面に接着剤を塗布する工程と、第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを貼りあわせる工程と、前記接着剤を硬化する工程とを備えるよう構成する。
請求項5に記載の光学デバイスの製造方法は、第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを接着剤を介して接合した構造の光学デバイスを製造するための製造方法であって、何れかの光学素子の平坦面にミラーコートを形成する工程と、第二の光学素子の平坦面の最上面にSiO2を主成分とするコーティングを施す工程と、第二の光学素子の平坦面の最上面に接着剤を塗布する工程と、第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを貼りあわせる工程と、前記接着剤を硬化する工程とを備えるよう構成する。
請求項6に記載の光学デバイスの製造方法は、前記第一の光学素子の平坦面の最上面に塗布する接着剤として、エポキシ系の接着剤を用いるよう構成する。
請求項1乃至6に記載の発明は、少なくとも二つの光学素子を接着して所定の機能を有する光学デバイスにおいて、一方の光学素子の接着面に、SiO2コートを形成したので、接着剤の濡れ性が向上し、二つの光学素子を接着した際に塗りむらが生じることを防止し、光学デバイスの波面収差を改善することから、光学デバイスを使用する上で大きな効果を発揮することが出来る。
以下、図示した実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。
本願発明者は、接着剤の濡れ性が良好であって、接着剤の屈折率とほぼ同等レベルの屈折率を有する酸化ケイ素(SiO2)に着目し、ダイクロイックミラーの接着面に、蒸着装置やスパッタ装置等を用いてSiO2コートを形成し、波面収差の評価実験を行った。
本願発明者は、接着剤の濡れ性が良好であって、接着剤の屈折率とほぼ同等レベルの屈折率を有する酸化ケイ素(SiO2)に着目し、ダイクロイックミラーの接着面に、蒸着装置やスパッタ装置等を用いてSiO2コートを形成し、波面収差の評価実験を行った。
図1は、本発明に係るダイクロイックミラーの実施例を示す構造図である。ダイクロイックミラー6は、第一のプリズム(第一の光学素子)7と、第二のプリズム(第二の光学素子)8とを接着剤9を用いて貼り合せた構造であり、第一のプリズム7の斜面には多層膜からなるミラーコート10が形成され、第二のプリズム8の斜面にはSiO2コート11を形成している。
そこで先ず、光学デバイスの接着面にSiO2を主成分とするSiO2コートを形成した際に、接着剤の濡れ性がどの程度向上するかの評価実験を行った。
そこで先ず、光学デバイスの接着面にSiO2を主成分とするSiO2コートを形成した際に、接着剤の濡れ性がどの程度向上するかの評価実験を行った。
図2は、光学デバイス接着面の濡れ性の評価実験の結果である。図2(a)は、光学デバイスの接着面にSiO2コートを形成してない状態で、接着剤を滴下した場合を示し、図2(b)は、光学デバイスの接着面にSiO2コートを形成した状態で、接着剤を滴下した場合を示し、図2(c)は、滴下した接着剤の接触角の定義を示す。図2により明らかなように、光学デバイス12の接着面13にSiO2コートを形成してない状態で接着剤14を滴下した場合に比べ、光学デバイス12の接着面13にSiO2コート15を形成した状態で接着剤14を滴下した場合が、光学デバイスの接着面に対して接着剤14の濡れ性が優れている。
ここで、図2(c)に示したように、光学デバイスの接着面に滴下した接着剤14の高さをhとし、接着剤14の端部からhの高さである接着剤14の頂点とを結ぶ線と水平面との角度をθ1とし、接触角θを、θ=2×θ1と定義すると、光学デバイスの接着面にSiO2コートを形成してない状態で接着剤14を滴下した場合の接触角はθ=54.1°であるのに対し、光学デバイスの接着面にSiO2コートを形成した状態で接着剤14を滴下した場合の接触角はθ=29.1°となり、接着剤14の濡れ性は、光学デバイスの接着面にSiO2コートを形成した状態で接着剤を滴下した場合が優れていることがわかる。尚、使用した接着剤は、エポキシ系の接着剤である。
次に、ダイクロイックミラーの接着面にSiO2コートを形成して行った波面収差の評価実験について説明する。
評価実験の条件として、ミラーコートの厚みを、1.5μm、1.7μm、3.5μmの3条件とし、夫々の条件で光学デバイスの接着面にSiO2コートを形成した場合としない場合のダイクロイックミラーを製作し、波面収差を測定した。一方、接着剤としてはエポキシ系接着剤を用い、プリズムの接着面にディスペンサーを使用して、圧力を0.5kgf/cm2、ショットタイムを0.1secの条件で4点滴下し、所定の温度で数時間加熱処理を行って第一のプリズムと第二のプリズムとを接着した。
評価実験の条件として、ミラーコートの厚みを、1.5μm、1.7μm、3.5μmの3条件とし、夫々の条件で光学デバイスの接着面にSiO2コートを形成した場合としない場合のダイクロイックミラーを製作し、波面収差を測定した。一方、接着剤としてはエポキシ系接着剤を用い、プリズムの接着面にディスペンサーを使用して、圧力を0.5kgf/cm2、ショットタイムを0.1secの条件で4点滴下し、所定の温度で数時間加熱処理を行って第一のプリズムと第二のプリズムとを接着した。
図3に、本発明に係るダイクロイックミラーの波面収差の評価結果を示す。図3に示すように、ミラーコートの厚み1.5μmについては、SiO2コートを形成した場合と、SiO2コートを形成しない場合とについて夫々9個のサンプルについて波面収差の測定を行い、ミラーコートの厚み1.7μmについては、SiO2コートを形成した場合と、SiO2コートを形成しない場合とについて夫々6個のサンプルについて波面収差の測定を行い、ミラーコートの厚み3.5μmについては、SiO2コートを形成した場合と、SiO2コートを形成しない場合とについて夫々3個及び6個のサンプルについて波面収差の測定を行った。
その結果、ミラーコートの厚さ1.5μm、1.7μm、3.5μmの何れの条件についても、SiO2コートを形成した場合が、SiO2コートを形成しない場合に比べて波面収差が改善されていることが判明した。その中でも、ミラーコートの厚みを1.5μmとし、SiO2コートを形成して製作したダイクロイックミラーの場合が、波面収差平均値で19.4λ(rms)となり、最も波面収差が改善され、従来のミラーコートの厚みを3.5μmとしてSiO2コートの形成無しの場合の波面収差平均値50.5λ(rms)に比べて格段の改善である。従って、二つ以上の光学素子を接着する場合、接着面にSiO2コートを形成することにより、接着不良を生じさせないと共に接着剤が波面収差特性に影響を与えることを防ぐことが可能となった。
尚、ミラーコートを薄く成膜すると波面収差の数値が改善されているが、この様なミラーコートの厚みが波面収差に与える影響として考えられることは、ミラーコートの厚みが薄くなると、ミラーコートの平面度が向上することが原因であると判断される。
以上実施例についてダイクロイックミラーにおける波面収差の改良方法について説明したが、本発明はこれに限るものではなく、一般的な接着面に蒸着膜等が形成された光学素子同士の接着方法においても適応可能である。
1・・ダイクロイックミラー、 2・・第一のプリズム、
3・・第二のプリズム、 4・・接着剤、
5・・ミラーコート、 6・・ダイクロイックミラー、
7・・第一のプリズム、 8・・第二のプリズム、
9・・接着剤、 10・・ミラーコート、
11・・SiO2コート、 12・・接着面、
13・・接着剤、 14・・SiO2コート
3・・第二のプリズム、 4・・接着剤、
5・・ミラーコート、 6・・ダイクロイックミラー、
7・・第一のプリズム、 8・・第二のプリズム、
9・・接着剤、 10・・ミラーコート、
11・・SiO2コート、 12・・接着面、
13・・接着剤、 14・・SiO2コート
Claims (6)
- 第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを接着剤を介して接合した構造の光学デバイスであって、
少なくとも一方の光学素子の平坦面の最上面にはSiO2を主成分とするコーティングが施されていることを特徴とする光学デバイス。 - 何れかの光学素子の平坦面にはミラーコートが形成されており、ダイクロイックミラーとして機能することを特徴とする請求項1に記載の光学デバイス。
- 前記接着剤は、エポキシ系の接着剤であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学デバイス。
- 第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを接着剤を介して接合した構造の光学デバイスを製造するための製造方法であって、
第二の光学素子の平坦面の最上面にSiO2を主成分とするコーティングを施す工程と、
第二の光学素子の平坦面の最上面に接着剤を塗布する工程と、
第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを貼りあわせる工程と、
前記接着剤を硬化する工程とを備えたことを特長とする光学デバイスの製造方法。 - 第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを接着剤を介して接合した構造の光学デバイスを製造するための製造方法であって、
何れかの光学素子の平坦面にミラーコートを形成する工程と、
第二の光学素子の平坦面の最上面にSiO2を主成分とするコーティングを施す工程と、
第二の光学素子の平坦面の最上面に接着剤を塗布する工程と、
第一の光学素子の平坦面と第二の光学素子の平坦面とを貼りあわせる工程と、
前記接着剤を硬化する工程とを備えたことを特長とする光学デバイスの製造方法。 - 前記第一の光学素子の平坦面の最上面に塗布する接着剤として、エポキシ系の接着剤を用いたことを特徴とする請求項4又は5に記載の光学デバイスの製造方法。
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US20140334009A1 (en) * | 2013-05-13 | 2014-11-13 | Seiko Epson Corporation | Optical element, display apparatus, and method for manufacturing optical element |
WO2016035710A1 (ja) * | 2014-09-02 | 2016-03-10 | コニカミノルタ株式会社 | プリズムユニット及びプロジェクター |
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2004
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JP2014222260A (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-27 | セイコーエプソン株式会社 | 光学素子、表示装置、および光学素子の製造方法 |
US9116352B2 (en) | 2013-05-13 | 2015-08-25 | Seiko Epson Corporation | Optical element, display apparatus, and method for manufacturing optical element |
WO2016035710A1 (ja) * | 2014-09-02 | 2016-03-10 | コニカミノルタ株式会社 | プリズムユニット及びプロジェクター |
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