JP2006152377A - めっき装置及びめっき方法 - Google Patents
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Abstract
本発明の目的は、深い穴や深い溝又はアスペクト比の高い穴や溝を有する被めっき物表面に新しいめっき液を供給し易くし、高速でめっきができるめっき装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、めっき槽と、該めっき槽に配設した陽極板と、該陽極板に対向して配設する被めっき物を保持する保持手段とを有するめっき装置において、前記めっき槽はめっき液を一方向に流すめっき液流路を形成する流路壁を有し、該流路壁は前記被めっき物のめっきしたい被めっき物表面に対応した開口部を有することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
又、めっき槽1内のめっき液面がめっき液循環流路13よりもわずか高く保持され、このわずかな隙間から空気が巻き込まれないようにめっき液の循環を調整することにより、空気が巻き込まれることが防止される。めっき槽1内にある空気が自動的に排出できる構造を有する。
Claims (20)
- めっき槽と、該めっき槽に配設した陽極板と、該陽極板に対向して配設する被めっき物を保持する保持手段とを有するめっき装置において、前記めっき槽はめっき液を一方向に流すめっき液流路を形成する流路壁を有し、前記めっき液流路に前記被めっき物のめっきしたい被めっき物表面に対応した開口部を有することを特徴とするめっき装置。
- 請求項1において、前記陽極板及び被めっき物は、前記めっき槽に対して互いに垂設又は水平に配設する配設構造を有することを特徴とするめっき装置。
- 請求項1又は2において、前記保持手段は、前記開口部に前記被めっき物を押圧する押圧装置に結合されていることを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜3のいずれかにおいて、前記流路壁によって形成されるめっき液流路の厚さは前記被めっき物表面において一様であり、前記被めっき物表面において一様な流速分布が形成されることを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜4のいずれかにおいて、前記めっき液に渦流を発生させる渦発生器と、該渦発生器に前記めっき液を送る循環ポンプとを有し、前記渦発生器と循環ポンプとによって前記めっき液を前記めっき槽の下部より前記めっき液流路に供給し、前記めっき槽の下部より排出させる循環経路を有することを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜5のいずれかにおいて、前記めっき槽は、前記循環ポンプから吐き出される前記めっき液の量と同じその量の前記めっき液が吸引されるように循環する前記循環経路を含めほぼ密閉構造を有することを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜6のいずれかにおいて、前記めっき液流路における前記めっき液の流量を可変とする制御手段を有することを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜7のいずれかにおいて、前記めっき液流路は前記開口部において前記厚さが最も小さくなっていることを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜8のいずれかにおいて、前記めっき液流路は、前記渦発生器の部分からその厚さが順次小さくなり、前記被めっき物表面以降の厚さが順次大きくなることを特徴とするめっき装置。
- 請求項5〜9のいずれかにおいて、前記渦発生器によって形成された前記渦の向きを前記めっき液流路に沿う方向とし、前記循環ポンプからの垂直方向の流れを水平方向に沿う方向にするディフューザを有することを特徴とするめっき装置。
- 請求項10において、前記ディフューザは、複数個有し、それらの各々の高さ方向の位置が可変であり、各々の高さ位置を調整することにより、前記渦の流れを調節できることを特徴とするめっき装置。
- 請求項7において、前記制御手段が周波数制御によるインバータであることを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜12のいずれかにおいて、前記流路壁は、前記陽極板又は前記めっき液が通過しないセラミック多孔質板からなることを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜13のいずれかにおいて、前記めっき槽内に配置した堰の高さにより前記めっき槽内のめっき液面が前記循環経路におけるめっき液面よりもわずか高く保持され、このわずかな隙間から空気が巻き込まれないことを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜14のいずれかにおいて、前記めっき槽に新たなめっき液を供給するめっき液貯槽と、前記めっき槽とめっき液貯槽とを繋ぐ配管とを有し、前記めっき槽内のめっき液を常時更新できることを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜15のいずれかにおいて、前記めっき液流路の断面積を可変できる構造を有し、前記被めっき物表面における前記めっき液流の流速をより高速化できることを特徴とするめっき装置。
- 請求項1〜16のいずれかにおいて、前記めっき液流路の入口側に前記めっき液流の障害となる障害物が複数配置され、該傷害物によって前記めっき液流にカルマン渦を発生させ、前記被めっき物表面に複雑なめっき液流の乱れを形成することを特徴とするめっき装置。
- めっき槽に配設した陽極板に対向して配設した被めっき物にめっきを形成するめっき方法において、前記めっき槽内に形成された所定の通路を通してめっき液を一方向に流れるめっき液流路を形成し、該めっき液流路の前記めっき液に前記被めっき物のめっきしたい被めっき物表面を接触させて前記めっきを行うことを特徴とするめっき方法。
- 請求項18において、前記めっき液流路において前記めっき液の流れが乱流領域にある高速液流を形成しながら前記めっきを行うことを特徴とするめっき方法。
- 請求項18又は19において、前記めっきしたい被めっき物表面の全面において前記めっき液が一様な流速分布を有することを特徴とするめっき方法。
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