CN218928150U - 一种匀浆装置和淋釉器 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种匀浆装置，包括用于容置釉浆的釉槽、用于匀化釉浆的匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；其中，所述匀浆辊内设有釉浆流通通道，所述匀浆辊的表面设有与所述釉浆流通通道连通的匀浆孔。相应地，本实用新型还公开了一种采用上述匀浆装置的淋釉器。采用本实用新型，结构简单、匀浆效果好且可对釉浆液面的平稳性的影响小，且能有效防止釉浆凝结。

Description

一种匀浆装置和淋釉器

技术领域

本实用新型涉及陶瓷生产技术领域，尤其涉及一种匀浆装置和淋釉器。

背景技术

釉浆属于易于凝结物，特别是，静止状态或流动过慢的釉浆特别容易凝结。因此，现有淋釉设备的储蓄槽往往会设有搅拌装置，以避免釉浆粘结的产生。

但对高要求的瓷砖来说，现有搅拌装置的搅拌力度过大，容易在釉浆的液面产生波纹，而影响釉浆上辊的均匀程度，从而影响瓷砖的上釉效果。特别是，采用螺旋叶片式的搅拌装置，会使储蓄槽内的釉浆产生来回的震荡。

实用新型内容

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种匀浆装置，结构简单、匀浆效果好且可对釉浆液面的平稳性的影响小。

本实用新型实施例所要解决的技术问题在于，提供一种淋釉器，淋釉稳定均匀，而且能有效防止釉浆的凝结。

为了解决上述技术问题，本实用新型实施例提供了一种匀浆装置，包括用于容置釉浆的釉槽、用于匀化釉浆的匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；

其中，所述匀浆辊内设有釉浆流通通道，所述匀浆辊的表面设有与所述釉浆流通通道连通的匀浆孔。

作为上述方案的改进，所述匀浆辊呈中空结构，所述匀浆辊的表面均匀分布有多个所述匀浆孔。

作为上述方案的改进，所述匀浆孔至少设有2个，所述匀浆孔在所述匀浆辊的表面上呈螺旋状分布。

一种淋釉器，包括上述的匀浆装置、用于导出釉浆的淋釉板和与所述淋釉板对应设置的载釉滚筒，所述釉槽内的釉浆通过粘附转动的载釉滚筒，移至所述淋釉板处；

其中，所述釉槽设有与所述釉槽连通的进釉管，所述匀浆辊位于所述载釉滚筒的下方。

作为上述方案的改进，所述进釉管与所述匀浆辊相对应设置，以供釉浆流向所述匀浆辊。

作为上述方案的改进，所述进釉管设有一段用于与外部供釉设备连通的输釉管，所述输釉管设有与所述输釉管连通的排气阀。

作为上述方案的改进，所述釉槽的侧壁开设有用于控制液面高度的溢流口。

作为上述方案的改进，还包括位于所述淋釉板下方的接釉槽，所述釉槽的底部设有用排釉管，所述排釉管与接釉槽之间设有导流槽，以将所述排釉管流出的釉浆引入所述接釉槽。

作为上述方案的改进，所述淋釉板的两侧设有用于稳定釉幕流动状态的稳流板；

所述淋釉板的上下两边分别为接釉边和出釉边，所述接釉边与所述载釉滚筒之间留有预设间距的载釉缝隙，所述稳流板设于所述出釉边的两侧。

作为上述方案的改进，还包括振动器，所述振动器设于所述釉槽上。

实施本实用新型，具有如下有益效果：

本实用新型实施例公开了一种匀浆装置，包括用于容置釉浆的釉槽、匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；

其中，所述匀浆辊内设有釉浆流通通道，所述匀浆辊的表面设有与所述釉浆流通通道连通的匀浆孔，因此，会釉浆通过所述匀浆孔进入所述釉浆流通通道，而釉浆具有一定的粘稠性，故在所述匀浆辊的转动过程中，会牵引匀浆辊表面的釉浆随着匀浆辊转动，从而达到搅拌釉浆、防止釉浆凝结的效果同时，而釉浆的匀化力度主要因素基于釉浆的粘稠性，该作用力小且不会对釉浆产生较大的横向波动，即对整体釉浆的液面波动影响小。

相应地，本实用新型还公开了一种采用上述匀浆装置的淋釉器，淋釉稳定均匀，而且能有效防止釉浆的凝结。

附图说明

图1是本实用新型匀浆装置的结构示意图；

图2是本实用新型淋釉器的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述。

参见图1，本实用新型实施例提供一种匀浆装置，包括用于容置釉浆的釉槽1、用于匀化釉浆的匀浆辊2和用于驱动所述匀浆辊2转动的驱动机构3，所述匀浆辊2设于所述釉槽1内；

其中，所述匀浆辊2内设有釉浆流通通道21，所述匀浆辊2的表面设有与所述釉浆流通通道21连通的匀浆孔22。

具体地，所述匀浆辊2呈中空结构，所述匀浆辊2的表面均匀分布有多个所述匀浆孔22，以适当提高所述匀浆辊2的匀浆性能。故可根据所述匀浆辊2的使用环境参数，调整所述匀浆辊2的直径以及匀浆孔22的数量和孔径。如釉浆量越大或匀浆辊2距离釉浆液面的落差越大，所述匀浆辊2的直径尺寸和匀浆孔22的数量及其尺寸可相应地进行适当增多或增大。

进一步地，所述匀浆孔22至少设有2个，所述匀浆孔22在所述匀浆辊2的表面上呈螺旋状分布，故所述匀浆孔22的螺旋状分布，可在匀浆辊2大量设置所述匀浆孔22的情况下，提高对釉浆均化的顺滑性，以减少釉浆液面出现波动的情况。

对于所述驱动机构3，可为电机，如伺服电机或同步电机等。

参见图1和图2，本实用新型还公开了一种淋釉器，包括匀浆装置4、用于导出釉浆的淋釉板5和与所述淋釉板5对应设置的载釉滚筒6，所述釉槽1内的釉浆通过粘附转动的载釉滚筒6，移至所述淋釉板5处；所述淋釉板5的设置能避免钟罩式圆弧边线的淋釉不均匀，而且通过粘附于载釉滚筒6的送釉方式，能使釉浆更为平稳地运至所述淋釉板5上，以缩短釉浆在淋釉板5上匀化和稳定流动的时间，以避免釉浆的凝结。而且，由于釉浆粘附于载釉滚筒6表面的釉浆量的波动范围极小，因此本实用新型可通过控制所述载釉滚筒6的转速的方式，实现对淋釉量的精准控制。相应地，所述载釉滚筒6可由伺服电机驱动。所述淋釉板5的两侧边设有挡釉板52，以限制釉浆侧向流出。

其中，所述釉槽1设有与所述釉槽1连通的进釉管11，所述匀浆辊2位于所述载釉滚筒6的下方。以使所述载釉滚筒6所运载的釉浆能基本得到所述匀浆辊2的匀化处理。

而且所述进釉管11与所述匀浆辊2相对应设置，以供釉浆流向所述匀浆辊2。从而使进入所述釉槽1内的釉浆尽可能地受到所述匀浆辊2的匀化处理。所述进釉管11优选设于所述釉槽1的底部。

进一步地，由于釉浆在运输的过程中会有产生汽包或空腔的情况出现，故为了解决气泡的问题，所述进釉管11设有一段用于与外部供釉设备连通的输釉管12，所述输釉管12设有与所述输釉管12连通的排气阀13。

而且，所述淋釉器还包括振动器7，所述振动器7设于所述釉槽1上，以消除釉槽1内釉浆中的气泡。

为了维持所述釉槽1的液面高度，以稳定所述载釉滚筒6和釉浆之间接触情况，从而利于控制淋釉量，所述釉槽1的侧壁开设有用于控制液面高度的溢流口a。

为了方便回收处理釉浆，所述淋釉器还包括位于所述淋釉板5下方的接釉槽8，所述釉槽1的底部设有用排釉管14，所述排釉管与接釉槽8之间设有导流槽81，以将所述排釉管14流出的釉浆引入所述接釉槽8。同时也方便清洗釉槽1。相应地，所述排釉管14设有控制管道流通的开关阀。所述开关阀为现有技术，在此不一一赘述其结构原理。

由于釉浆经所述淋釉板5落下，会形成釉幕，以使穿过所述釉幕的砖胚得到淋釉的处理。而釉幕的两侧边缘会收到空气阻碍而形成一小段飘动的湍流釉幕，从而缩小了釉幕的最佳有效淋釉范围，同时还增加了釉幕的不稳定因素。故所述淋釉板5的两侧设有用于稳定釉幕流动状态的稳流板51，以引导淋釉板5两侧釉浆的下落。所述淋釉板5的上下两边分别为接釉边5a和出釉边5b，所述接釉边5a与所述载釉滚筒6之间留有预设间距的载釉缝隙，所述稳流板51设于所述出釉边5b的两侧。

优选地，所述淋釉板5为弧形板且表面光滑平整，所述弧形板的弧形结构设置，可提高淋釉板5的结构强度，以避免淋釉板5过宽过重而导致其表面发生弯曲，影响其表面的平整度。

以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种匀浆装置，其特征在于，包括用于容置釉浆的釉槽、用于匀化釉浆的匀浆辊和用于驱动所述匀浆辊转动的驱动机构，所述匀浆辊设于所述釉槽内；

其中，所述匀浆辊内设有釉浆流通通道，所述匀浆辊的表面设有与所述釉浆流通通道连通的匀浆孔。

2.如权利要求1所述的匀浆装置，其特征在于，所述匀浆辊呈中空结构，所述匀浆辊的表面均匀分布有多个所述匀浆孔。

3.如权利要求1所述的匀浆装置，其特征在于，所述匀浆孔至少设有2个，所述匀浆孔在所述匀浆辊的表面上呈螺旋状分布。

4.一种淋釉器，其特征在于，包括权利要求1至3任意一项的匀浆装置、用于导出釉浆的淋釉板和与所述淋釉板对应设置的载釉滚筒，所述釉槽内的釉浆通过粘附转动的载釉滚筒，移至所述淋釉板处；

其中，所述釉槽设有与所述釉槽连通的进釉管，所述匀浆辊位于所述载釉滚筒的下方。

5.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述进釉管与所述匀浆辊相对应设置，以供釉浆流向所述匀浆辊。

6.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述进釉管设有一段用于与外部供釉设备连通的输釉管，所述输釉管设有与所述输釉管连通的排气阀。

7.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述釉槽的侧壁开设有用于控制液面高度的溢流口。

8.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，还包括位于所述淋釉板下方的接釉槽，所述釉槽的底部设有用排釉管，所述排釉管与接釉槽之间设有导流槽，以将所述排釉管流出的釉浆引入所述接釉槽。

9.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，所述淋釉板的两侧设有用于稳定釉幕流动状态的稳流板；

所述淋釉板的上下两边分别为接釉边和出釉边，所述接釉边与所述载釉滚筒之间留有预设间距的载釉缝隙，所述稳流板设于所述出釉边的两侧。

10.如权利要求4所述的淋釉器，其特征在于，还包括振动器，所述振动器设于所述釉槽上。

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