JP2006150349A - Method for manufacturing filter - Google Patents

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<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a filter capable of easily manufacturing the filter having both excellent anti-corrosion properties and abrasion resistant properties. <P>SOLUTION: A metal substrate 52 having a plurality of holes 52a is manufactured, a ceramic layer 61 is formed by depositing very small particles of ceramic materials and a filter 43 having a plurality of holes 43a can be obtained on a surface of one side of the substrate 52. Thus, a filter 43 with a thin filter having both excellent anti-corrosion properties and abrasion resistant properties which is made by ceramic materials can easily be manufactured. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、流体中に含まれる塵を除去するフィルタを製造する方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a filter for removing dust contained in a fluid.

流体を通す多数の孔を有するフィルタは、流体中に含まれる塵を除去することを目的として、種々の分野で広く使用されている。例えば、径の小さなノズルからインクを噴射するインクジェットヘッドには、ノズルに塵が詰まってインクを吐出できなくなってしまうのを防止するために、ノズル径よりも径の小さい孔を有するフィルタが設けられているのが一般的である(例えば、特許文献1参照)。この特許文献1のインクジェットヘッドのフィルタは電鋳により形成されている。即ち、導電性の基材の表面に多数の孔に対応するレジストパターンを形成してから、この基材のレジストパターンが形成されていない部分に、電気めっきによりニッケルや銅などの金属を析出させて薄い金属膜を形成し、最後に、金属膜から基材を除去してフィルタを得る。   A filter having a large number of holes through which a fluid passes is widely used in various fields for the purpose of removing dust contained in the fluid. For example, an inkjet head that ejects ink from a nozzle having a small diameter is provided with a filter having a hole having a diameter smaller than the nozzle diameter in order to prevent the nozzle from being clogged with dust and being unable to eject ink. It is common (for example, refer patent document 1). The filter of the inkjet head of Patent Document 1 is formed by electroforming. That is, after a resist pattern corresponding to a large number of holes is formed on the surface of a conductive substrate, a metal such as nickel or copper is deposited on the portion of the substrate where the resist pattern is not formed by electroplating. A thin metal film is formed, and finally the substrate is removed from the metal film to obtain a filter.

特開2004−268454号公報(図1)JP 2004-268454 A (FIG. 1)

しかし、電鋳によりフィルタを形成する場合には、フィルタの材質はニッケルや銅等の耐食性の低い金属材料に限られる。そのため、インク等の腐食性の流体中にフィルタが設けられている場合には、腐食によりフィルタの孔の径が徐々に大きくなってしまい、フィルタの塵除去機能が低下する。   However, when the filter is formed by electroforming, the material of the filter is limited to a metal material having low corrosion resistance such as nickel or copper. Therefore, when the filter is provided in a corrosive fluid such as ink, the diameter of the filter hole gradually increases due to the corrosion, and the dust removing function of the filter deteriorates.

一方、電鋳以外の方法でもフィルタを形成することは一応可能である。しかし、例えば、耐食性の高いステンレス鋼製の基材に、マイクロパンチング加工やドリル加工等の機械加工で孔を形成する場合には、基材に、ノズルの径よりも小さい径(例えば、10μm以下)の孔を多数形成することは困難である。また、合成樹脂材料からなる基材に、レーザー加工で孔を形成する場合には、微細な孔を有するフィルタを形成することは可能であるが、基材となる合成樹脂の耐食性及び耐摩耗性は低いため、腐食性流体による腐食や摩耗によりフィルタの孔が徐々に大きくなってしまう。   On the other hand, it is possible to form the filter by a method other than electroforming. However, for example, when a hole is formed in a stainless steel substrate having high corrosion resistance by machining such as micro punching or drilling, the substrate has a diameter smaller than the diameter of the nozzle (for example, 10 μm or less). It is difficult to form a large number of holes. In addition, when holes are formed in a base material made of a synthetic resin material by laser processing, it is possible to form a filter having fine holes, but the corrosion resistance and wear resistance of the synthetic resin used as the base material Therefore, the pores of the filter gradually increase due to corrosion and wear by the corrosive fluid.

本発明の目的は、耐食性と耐摩耗性の両方に優れたフィルタを容易に製造することが可能な製造方法を提供することである。   The objective of this invention is providing the manufacturing method which can manufacture easily the filter excellent in both corrosion resistance and abrasion resistance.

課題を解決するための手段及び発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

本発明は、フィルタの製造方法をして具現化される。本発明のフィルタの製造方法は、複数の孔を有する金属製の基材を作製する工程と、前記基材の一方の表面にセラミックス材料の粒子を堆積させて、前記複数の孔を備えるセラミックス層を形成する工程とを備えている。この製造方法では、基材の一方の面にセラミックス層を形成する。基材には複数の孔が設けられており、上記の方法で形成されるセラミックス層は基材と同じように複数の孔を備えている。そして、このセラミックス層をフィルタとして利用することができる。   The present invention is embodied as a filter manufacturing method. The method for producing a filter of the present invention includes a step of producing a metal substrate having a plurality of holes, and a ceramic layer having the plurality of holes by depositing ceramic material particles on one surface of the substrate. Forming a step. In this manufacturing method, a ceramic layer is formed on one surface of the substrate. The base material is provided with a plurality of holes, and the ceramic layer formed by the above method has a plurality of holes as in the base material. And this ceramic layer can be utilized as a filter.

一般的に、フィルタの使用に伴って、流体が孔を通過するときの摩耗、あるいは、腐食性の流体による腐食により、フィルタの孔は大きくなり、その塵除去機能は徐々に低下していく。しかし、本発明のフィルタの製造方法によれば、耐摩耗製及び耐食性が高いセラミックス層を有するフィルタを製造できる。そのため、摩耗や腐食によりフィルタの孔が小さくなりにくく、塵除去機能の低下度合が小さくなり、フィルタの寿命が長くなる。また、フィルタの耐食性が高いことから、腐食性の流体を含む様々な流体を使用する種々の装置にこのフィルタを適用でき、フィルタの使用範囲が広がる。つまり、塵除去機能が低下しにくい長寿命のフィルタを製造することができる。   In general, with the use of a filter, the pores of the filter become larger due to wear when the fluid passes through the holes or due to corrosion by a corrosive fluid, and its dust removing function gradually decreases. However, according to the filter manufacturing method of the present invention, a filter having a ceramic layer having high wear resistance and high corrosion resistance can be manufactured. Therefore, the pores of the filter are not easily reduced due to wear and corrosion, the degree of reduction in the dust removal function is reduced, and the life of the filter is extended. Further, since the filter has high corrosion resistance, the filter can be applied to various devices using various fluids including corrosive fluids, and the use range of the filter is expanded. That is, it is possible to manufacture a long-life filter in which the dust removal function is unlikely to deteriorate.

また、セラミックス材料は硬度が高いため、このセラミックス材料に機械加工によって複数の孔を精度よく形成することは極めて困難である。しかしながら、上記の製造方法のように、多数の孔を備える基材上にセラミックス層を形成することによって、精度良く形成された複数の孔を備えるセラミックス層を得ることができる。   In addition, since the ceramic material has high hardness, it is extremely difficult to accurately form a plurality of holes in the ceramic material by machining. However, a ceramic layer having a plurality of holes formed with high accuracy can be obtained by forming a ceramic layer on a substrate having a large number of holes as in the above manufacturing method.

上記の製造方法において、セラミックス層は、エアロゾルデポジション法、スパッタ法、又は、化学蒸着法の何れかにより形成されるのが好ましい。これらの手法によれば、複数の孔を備える基材の一方の面に対して容易にセラミックス材料の粒子を堆積させてセラミックス層を形成することができる。そして、セラミックス層を形成するだけで、基板側の孔と対応する孔を有し、且つ、耐摩耗性及び耐食性に優れたフィルタを容易に製造することができ、フィルタの製造工程を簡素化して製造コストを低減できる。また、エアロゾルデポジション法、スパッタ法、又は、化学蒸着法の何れかを用いることにより、非常に薄いセラミックス層を容易に形成することができるため、フィルタ全体の厚さを薄くして、流体がフィルタを通過するときの流動抵抗(圧力損失)を小さくすることができる。   In the above manufacturing method, the ceramic layer is preferably formed by any one of an aerosol deposition method, a sputtering method, and a chemical vapor deposition method. According to these methods, a ceramic layer can be formed by easily depositing ceramic material particles on one surface of a substrate having a plurality of holes. By simply forming a ceramic layer, it is possible to easily manufacture a filter having holes corresponding to the holes on the substrate side and having excellent wear resistance and corrosion resistance, and simplifying the filter manufacturing process. Manufacturing cost can be reduced. In addition, by using any one of the aerosol deposition method, sputtering method, and chemical vapor deposition method, a very thin ceramic layer can be easily formed. The flow resistance (pressure loss) when passing through the filter can be reduced.

上記したフィルタの製造方法において、前記基材作製工程は、基板に前記複数の孔に対応するレジストパターンを形成してから、前記基板の前記レジストパターンが形成されていない部分に電気めっきにより金属層を形成した後に、この金属層から前記基板を剥離することにより、前記基材を作製するのが好ましい。製造されるフィルタの孔の形状は、基材の孔の形状によって定まる。従って、基材の孔を精度良く形成することができれば、製造されるフィルタの孔も精度良く形成することができる。この基材作製工程によれば、径の小さな孔を複数有する基材を容易に精度良く形成することができ、ひいては、製造されるフィルタの孔形状の精度を確保することができる。

あるいは、上記したフィルタの製造方法は、前記セラミックス層形成工程において、前記基材の他方の面にもセラミックス材料の粒子を堆積させて、さらにセラミックス層を形成する工程を備えることが好ましい。強度の高い金属製の基材の全体が、耐摩耗性及び耐食性の高いセラミックス層でコーティングされるため、優れた耐摩耗性及び耐食性と、高い強度とを兼ね備えたフィルタを製造することができる。
In the above-described filter manufacturing method, the base material manufacturing step includes forming a resist pattern corresponding to the plurality of holes on the substrate, and then electroplating a metal layer on a portion of the substrate where the resist pattern is not formed. After forming the substrate, it is preferable to produce the substrate by peeling the substrate from the metal layer. The shape of the hole of the manufactured filter is determined by the shape of the hole of the base material. Therefore, if the hole of the substrate can be formed with high accuracy, the hole of the manufactured filter can also be formed with high accuracy. According to this base material production process, a base material having a plurality of holes with small diameters can be easily formed with high accuracy, and as a result, the accuracy of the hole shape of the manufactured filter can be ensured.

Alternatively, the above-described filter manufacturing method preferably includes a step of depositing ceramic material particles on the other surface of the base material and further forming a ceramic layer in the ceramic layer forming step. Since the entire metal substrate having high strength is coated with a ceramic layer having high wear resistance and corrosion resistance, a filter having both excellent wear resistance and corrosion resistance and high strength can be produced.

上記したフィルタの製造方法は、前記セラミックス層形成工程の後に、前記基材を前記セラミックス層から除去する基材除去工程を備えることが好ましい。このように、セラミックス層から基材を除去することにより、フィルタ全体の厚さをより薄くすることができ、フィルタによる流体の流動抵抗(圧力損失)をさらに小さく抑えることができる。   The above-described filter manufacturing method preferably includes a base material removing step of removing the base material from the ceramic layer after the ceramic layer forming step. Thus, by removing the substrate from the ceramic layer, the thickness of the entire filter can be further reduced, and the flow resistance (pressure loss) of the fluid caused by the filter can be further reduced.

上述した製造方法では、前記基材をセラミックス層から除去する工程において、基材の中央部のみをセラミックス層から除去し、基材の周縁部分をセラミックス層から除去しないことが好ましい。基材の周縁部分をセラミックス層に残すことで、セラミックス層の周囲を剛性の高い金属性の枠で補強したフィルタを得ることができる。剛性の高い金属性の枠で周囲を補強されているから、この様なフィルタは破損しにくく、組み付け時等における取り扱いが容易である。   In the manufacturing method described above, in the step of removing the base material from the ceramic layer, it is preferable that only the central portion of the base material is removed from the ceramic layer and the peripheral portion of the base material is not removed from the ceramic layer. By leaving the peripheral portion of the substrate in the ceramic layer, a filter in which the periphery of the ceramic layer is reinforced with a highly rigid metallic frame can be obtained. Since the periphery is reinforced with a highly rigid metal frame, such a filter is not easily damaged and can be easily handled during assembly.

更に、上記した製造方法において、前記基材をセラミックス層から除去する工程は、基材の他方の面に前記周縁部分に対応するマスクを形成する工程と、エッチングにより第1基板の中央部分をセラミックス層から除去する工程と、を備えることが好ましい。この様な方法を採ることにより、基材の中央部のみをセラミックス層から容易に除去することができる。   Furthermore, in the above-described manufacturing method, the step of removing the base material from the ceramic layer includes the step of forming a mask corresponding to the peripheral portion on the other surface of the base material, and the step of removing the central portion of the first substrate by etching. And removing from the layer. By adopting such a method, only the central part of the substrate can be easily removed from the ceramic layer.

以下、本発明を具現化した実施例について図面を参照して説明する。本実施形態は、記録用紙に対してインクを吐出するインクジェットヘッドのフィルタに本発明を適用した一例である。   Hereinafter, embodiments embodying the present invention will be described with reference to the drawings. This embodiment is an example in which the present invention is applied to a filter of an inkjet head that ejects ink onto a recording sheet.

まず、インクジェットヘッド1を備えたインクジェットプリンタ100について簡単に説明する。図1に示すように、インクジェットプリンタ100は、図1の左右方向(=走査方向)に移動可能なキャリッジ101と、このキャリッジ101に設けられて記録用紙Pに対してインクを噴射するシリアル式のインクジェットヘッド1と、記録用紙Pを図1の前方(=紙送り方法)へ搬送する搬送ローラ102等を備えている。インクジェットヘッド1は、キャリッジ101と一体的に走査方向へ移動して、その下面のインク吐出面に形成されたノズル20(図2〜図4参照)の出射口から記録用紙Pに対してインクを噴射する。そして、インクジェットヘッド1により記録された記録用紙Pは、搬送ローラ102により紙送り方向へ排出される。   First, the ink jet printer 100 including the ink jet head 1 will be briefly described. As shown in FIG. 1, an inkjet printer 100 includes a carriage 101 that can move in the left-right direction (= scanning direction) in FIG. 1 and a serial type that is provided on the carriage 101 and ejects ink onto recording paper P. The inkjet head 1 and the conveyance roller 102 etc. which convey the recording paper P to the front (= paper feeding method) of FIG. 1 are provided. The ink jet head 1 moves in the scanning direction integrally with the carriage 101, and applies ink to the recording paper P from the emission port of the nozzle 20 (see FIGS. 2 to 4) formed on the ink ejection surface on the lower surface thereof. Spray. Then, the recording paper P recorded by the inkjet head 1 is discharged in the paper feeding direction by the transport roller 102.

次に、インクジェットヘッド1について図2〜図4を参照して説明する。   Next, the inkjet head 1 will be described with reference to FIGS.

図2〜図4に示すように、インクジェットヘッド1は、インクタンク(図示省略)とインク供給チューブ(図示省略)を介して接続される筒状の接続部材42と、圧力室14を含む個別インク流路21(図4参照)がその内部に形成された流路ユニット2と、この流路ユニット2の上面に積層された圧電アクチュエータ3とを備えている。接続部材42から供給されたインクは、流路ユニット2の下部に設けられた複数のノズル20から噴射される。

まず、流路ユニット2について説明する。図3、図4に示すように、流路ユニット2はキャビティプレート10、ベースプレート11、マニホールドプレート12、及びノズルプレート13を備えており、これら4枚のプレート10〜13が上から順に積層されて接着されている。また、圧電アクチュエータ3は振動板30を備えており、振動板30は流路ユニット2のキャビティユニット10の上部に積層されて接合されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, the inkjet head 1 includes an individual ink including a pressure connection 14 and a cylindrical connection member 42 connected via an ink tank (not shown) and an ink supply tube (not shown). A flow path 21 (see FIG. 4) includes a flow path unit 2 formed therein, and a piezoelectric actuator 3 stacked on the upper surface of the flow path unit 2. The ink supplied from the connection member 42 is ejected from a plurality of nozzles 20 provided in the lower part of the flow path unit 2.

First, the flow path unit 2 will be described. As shown in FIGS. 3 and 4, the flow path unit 2 includes a cavity plate 10, a base plate 11, a manifold plate 12, and a nozzle plate 13, and these four plates 10 to 13 are stacked in order from the top. It is glued. In addition, the piezoelectric actuator 3 includes a vibration plate 30, and the vibration plate 30 is laminated and joined to the upper part of the cavity unit 10 of the flow path unit 2.

図2、図3に示すように、キャビティプレート10には、平面に沿って配列された複数の圧力室14が形成されており、これら複数の圧力室14は、後述の振動板30側(図4の上方)へ開口している。各圧力室14は、平面視で走査方向(図2の左右方向)に長い、略楕円形状に形成されている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the cavity plate 10 is formed with a plurality of pressure chambers 14 arranged along a plane, and these pressure chambers 14 are arranged on the diaphragm 30 side (see FIG. (Above 4). Each pressure chamber 14 is formed in a substantially elliptical shape that is long in the scanning direction (left-right direction in FIG. 2) in plan view.

図3、図4に示すように、ベースプレート11の平面視で圧力室14の長手方向両端部に重なる位置には、夫々連通孔15,16が形成されている。また、マニホールドプレート12には、紙送り方向(図2の上下方向)に延び、平面視で圧力室14の図2における左右何れか一方の端部と重なるマニホールド17が形成されている。また、平面視で圧力室14のマニホールド17と反対側の端部と重なる位置には、連通孔19が形成されている。さらに、ノズルプレート13には、平面視で複数の連通孔19に夫々重なる位置に、複数のノズル20が夫々形成されている。   As shown in FIGS. 3 and 4, communication holes 15 and 16 are formed at positions overlapping the both ends in the longitudinal direction of the pressure chamber 14 in plan view of the base plate 11, respectively. Further, the manifold plate 12 is formed with a manifold 17 that extends in the paper feeding direction (vertical direction in FIG. 2) and overlaps either one of the right and left ends of the pressure chamber 14 in FIG. A communication hole 19 is formed at a position overlapping the end of the pressure chamber 14 opposite to the manifold 17 in plan view. Further, the nozzle plate 13 is formed with a plurality of nozzles 20 at positions overlapping with the plurality of communication holes 19 in plan view.

また、図3に示すように、キャビティプレート10及びベースプレート11には、マニホールド17に連通する連通孔40,41が形成されている。また、キャビティプレート10の上面に接合されている、圧電アクチュエータ3の振動板30には連通孔40に連なるインク供給口18が形成されている。さらに、振動板30の上面の、インク供給口18と対応する位置には、前出の、インクタンク(図示省略)に接続されたインク供給チューブ(図示省略)が接続される筒状の接続部材42が接着剤などで固定されている。そして、マニホールド17には、インクタンクから、インク供給チューブ、接続部材42、インク供給口18、連通孔40,41を介して、インクが供給される。   As shown in FIG. 3, communication holes 40 and 41 communicating with the manifold 17 are formed in the cavity plate 10 and the base plate 11. An ink supply port 18 connected to the communication hole 40 is formed in the vibration plate 30 of the piezoelectric actuator 3 joined to the upper surface of the cavity plate 10. Further, a cylindrical connection member to which the above-described ink supply tube (not shown) connected to the ink tank (not shown) is connected to a position corresponding to the ink supply port 18 on the upper surface of the vibration plate 30. 42 is fixed with an adhesive or the like. Ink is supplied to the manifold 17 from the ink tank through the ink supply tube, the connection member 42, the ink supply port 18, and the communication holes 40 and 41.

また、振動板30と接続部材42との間には、アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、炭化ケイ素などのセラミックス材料からなり、厚さが非常に薄い(例えば、5〜10μm程度)フィルタ43が介在している。このフィルタ43はインクが通過する多数の孔43aを有し、これら多数の孔43aの径は、インクを吐出するノズル20の径(例えば、20μm程度)よりも小さくなっている(例えば、10μm程度)。そのため、インクタンクからマニホールド17に供給されるインク中に含まれる塵が、フィルタ43により確実に除去されるため、塵がノズル20に詰まってノズル20からインクを吐出できなくなるのを防止できる。ここで、インクジェットヘッド1の使用に伴って、インクが孔43aを通過するときの摩耗、あるいは、インクによる腐食により孔43aが大きくなっていき、フィルタ43の塵除去機能が徐々に低下していく。しかし、このフィルタ43は、耐摩耗性及び耐食性が高いセラミックス材料で形成されている。そのため、摩耗や腐食により孔43aが大きくなりにくいため、塵除去機能の低下度合が小さくなり、フィルタ43の寿命が長い。このフィルタ43を製造する方法については後ほど詳しく述べる。   A filter 43 made of a ceramic material such as alumina, zirconia, silicon nitride, or silicon carbide and having a very thin thickness (for example, about 5 to 10 μm) is interposed between the diaphragm 30 and the connection member 42. ing. The filter 43 has a large number of holes 43a through which ink passes, and the diameter of the large number of holes 43a is smaller than the diameter (for example, about 20 μm) of the nozzle 20 that ejects ink (for example, about 10 μm). ). Therefore, the dust contained in the ink supplied from the ink tank to the manifold 17 is surely removed by the filter 43, so that it is possible to prevent the dust from being clogged and becoming unable to eject ink from the nozzle 20. Here, as the ink jet head 1 is used, the hole 43a becomes larger due to wear when the ink passes through the hole 43a or corrosion due to the ink, and the dust removing function of the filter 43 gradually decreases. . However, the filter 43 is made of a ceramic material having high wear resistance and corrosion resistance. Therefore, since the hole 43a is not easily increased due to wear or corrosion, the degree of decrease in the dust removal function is reduced, and the life of the filter 43 is extended. A method for manufacturing the filter 43 will be described in detail later.

図4に示すように、マニホールド17は連通孔15を介して圧力室14に連通し、さらに、圧力室14は、連通孔16,19を介してノズル20に連通している。このように、流路ユニット2内には、マニホールド17から圧力室14を経てノズル20に至る個別インク流路21が形成されている。   As shown in FIG. 4, the manifold 17 communicates with the pressure chamber 14 through the communication hole 15, and the pressure chamber 14 communicates with the nozzle 20 through the communication holes 16 and 19. In this way, the individual ink flow path 21 extending from the manifold 17 to the nozzle 20 through the pressure chamber 14 is formed in the flow path unit 2.

次に、圧電アクチュエータ3について説明する。図3、図4に示すように、圧電アクチュエータ3は、流路ユニット2の上面に配置された金属製の振動板30と、この振動板30の上面に形成された圧電層31と、この圧電層31の上面に複数の圧力室14に夫々対応して形成された複数の個別電極32とを備えている。   Next, the piezoelectric actuator 3 will be described. As shown in FIGS. 3 and 4, the piezoelectric actuator 3 includes a metal vibration plate 30 disposed on the upper surface of the flow path unit 2, a piezoelectric layer 31 formed on the upper surface of the vibration plate 30, and the piezoelectric actuator 3. A plurality of individual electrodes 32 formed respectively corresponding to the plurality of pressure chambers 14 are provided on the upper surface of the layer 31.

振動板30は、複数の圧力室14を覆うようにキャビティプレート10の上面に積層されて接合されている。また、この振動板30は、複数の個別電極32に対向して個別電極32と振動板30との間の圧電層31に電界を作用させる共通電極を兼ねており、振動板30は接地されてグランド電位に保持されている。この振動板30の上面には、チタン酸鉛とジルコン酸鉛との固溶体であり強誘電体であるチタン酸ジルコン酸鉛(PZT)を主成分とする圧電層31が形成されている。   The diaphragm 30 is laminated and joined to the upper surface of the cavity plate 10 so as to cover the plurality of pressure chambers 14. The diaphragm 30 also serves as a common electrode that opposes the plurality of individual electrodes 32 and applies an electric field to the piezoelectric layer 31 between the individual electrodes 32 and the diaphragm 30, and the diaphragm 30 is grounded. It is held at ground potential. On the upper surface of the vibration plate 30, a piezoelectric layer 31 mainly composed of lead zirconate titanate (PZT), which is a solid solution and is a ferroelectric substance, is formed of lead titanate and lead zirconate.

圧電層31の上面には、圧力室14よりも一回り小さい楕円形の平面形状を有し、導電性材料からなる複数の個別電極32が形成されている。これら複数の個別電極32は、平面視で、対応する圧力室14の中央部と対向する領域に夫々配置されている。さらに、圧電層31の上面には、複数の個別電極32のマニホールド17側の端部から夫々走査方向に延びる複数の端子部35も形成されている。図4に示すように、これら複数の端子部35は、フレキシブルプリント配線板等の可撓性を有する配線部材(図示省略)を介してドライバIC37と電気的に接続されており、ドライバIC37から端子部35を介して複数の個別電極32に対して選択的に駆動電圧が供給される。   On the upper surface of the piezoelectric layer 31, a plurality of individual electrodes 32 having an elliptical planar shape that is slightly smaller than the pressure chamber 14 and made of a conductive material are formed. The plurality of individual electrodes 32 are respectively disposed in regions facing the central portion of the corresponding pressure chamber 14 in plan view. Further, on the upper surface of the piezoelectric layer 31, a plurality of terminal portions 35 extending in the scanning direction from the end portions on the manifold 17 side of the plurality of individual electrodes 32 are also formed. As shown in FIG. 4, the plurality of terminal portions 35 are electrically connected to the driver IC 37 through flexible wiring members (not shown) such as flexible printed wiring boards. A drive voltage is selectively supplied to the plurality of individual electrodes 32 via the unit 35.

次に、圧電アクチュエータ3の作用について説明する。   Next, the operation of the piezoelectric actuator 3 will be described.

複数の個別電極32に対してドライバIC37から選択的に駆動電圧が印加されると、駆動電圧が供給された圧電層31上側の個別電極32とグランド電位に保持されている圧電層31下側の共通電極としての振動板30の電位が異なる状態となり、個別電極32と振動板30の間に挟まれた圧電層31の部分に上下方向の電界が生じる。すると、駆動電圧が印加された個別電極32の直下の圧電層31の部分が分極方向である上下方向と直交する水平方向に収縮する。このとき、この圧電層31の収縮に伴って振動板30が圧力室14側に凸となるように変形するため、圧力室14内の容積が減少して圧力室14内のインクに圧力が付与され、圧力室14に連通するノズル20からインクの液滴が吐出される。

次に、前述のセラミックス製のフィルタ43を製造する方法について説明する。
When a driving voltage is selectively applied to the plurality of individual electrodes 32 from the driver IC 37, the individual electrodes 32 on the upper side of the piezoelectric layer 31 to which the driving voltage is supplied and the lower side of the piezoelectric layer 31 held at the ground potential. The potentials of the diaphragm 30 as the common electrode are in different states, and an electric field in the vertical direction is generated in the portion of the piezoelectric layer 31 sandwiched between the individual electrode 32 and the diaphragm 30. Then, the portion of the piezoelectric layer 31 directly below the individual electrode 32 to which the drive voltage is applied contracts in the horizontal direction orthogonal to the vertical direction that is the polarization direction. At this time, the diaphragm 30 is deformed so as to protrude toward the pressure chamber 14 as the piezoelectric layer 31 contracts, so that the volume in the pressure chamber 14 decreases and pressure is applied to the ink in the pressure chamber 14. Ink droplets are ejected from the nozzle 20 communicating with the pressure chamber 14.

Next, a method for manufacturing the ceramic filter 43 will be described.

まず、フィルタ43の多数の孔43aに対応する多数の孔52aを有する基材52を作製する(基材作製工程)。図5(a)に示すように、ステンレス鋼、あるいは、シリコンウェハー等からなる基板50の、導電性を有する平滑面に、基材52の多数の孔52aに対応するフォトレジストパターン51を形成する。次に、図5(b)に示すように、基板50に電気めっきを施して、基板50のフォトレジストパターン51が形成されていない部分にニッケルや銅などの金属を析出させて、多数の孔52aを有する基材52となる金属層60を形成する。尚、図5(b)に示すように、金属層60を形成するニッケルや銅などの金属は、レジストパターン51が形成されていない部分においてやや丸みを帯びた形状で析出される。そして、図5(c)に示すように、金属層60から基板50及びレジストパターン51を剥離して、多数の孔52aを有する基材52を得る。尚、このようにレジストパターンと電気めっきとを用いることにより、非常に小さな径(例えば、10μm程度)の孔52aを有する金属製の基材52を容易に作製することが可能である。   First, the base material 52 having a large number of holes 52a corresponding to the large number of holes 43a of the filter 43 is manufactured (base material manufacturing step). As shown in FIG. 5A, a photoresist pattern 51 corresponding to a large number of holes 52a of the base material 52 is formed on a conductive smooth surface of a substrate 50 made of stainless steel, silicon wafer, or the like. . Next, as shown in FIG. 5B, electroplating is performed on the substrate 50 to deposit a metal such as nickel or copper on the portion of the substrate 50 where the photoresist pattern 51 is not formed. A metal layer 60 to be the base material 52 having 52a is formed. As shown in FIG. 5B, the metal such as nickel or copper forming the metal layer 60 is deposited in a slightly rounded shape in the portion where the resist pattern 51 is not formed. Then, as shown in FIG. 5C, the substrate 50 and the resist pattern 51 are peeled from the metal layer 60 to obtain a base material 52 having a large number of holes 52a. In addition, by using a resist pattern and electroplating in this way, it is possible to easily produce a metal substrate 52 having a hole 52a having a very small diameter (for example, about 10 μm).

次に、図5(d)に示すように、基材52の、基板50に付着していた平滑な面(図5(d)の下面)に、アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素、あるいは、炭化ケイ素などのセラミックス材料の粒子を堆積させることにより、フィルタ43となる、非常に薄いセラミックス層61(例えば、5〜10μm程度)を形成する(セラミックス層形成工程)。ここで、非常に小さなセラミック材料の粒子をキャリアガスと混合させた状態で基材52に吹き付けて高速で衝突させ、基材52に堆積させるエアロゾルデポジション法(AD法)によりセラミックス層61を形成することができる。あるいは、スパッタ法や化学蒸着法(CVD法)を用いてセラミックス層61を形成してもよい。尚、基材52にセラミックス材料の粒子を堆積させたときには、基材52の多数の孔52aが形成されている位置にはセラミックス層61が形成されない。従って、基材52にセラミックス層61を形成したときに、同時に、このセラミックス層61に基材52側の孔52aと対応する孔43aが形成されることになる。   Next, as shown in FIG. 5 (d), alumina, zirconia, silicon nitride, or silicon carbide is applied to the smooth surface (the lower surface of FIG. 5 (d)) of the base material 52 attached to the substrate 50. A very thin ceramic layer 61 (for example, about 5 to 10 μm) that becomes the filter 43 is formed by depositing particles of a ceramic material such as (ceramic layer forming step). Here, a ceramic layer 61 is formed by an aerosol deposition method (AD method) in which particles of a very small ceramic material are mixed with a carrier gas and sprayed onto the base material 52 to be collided at high speed and deposited on the base material 52. can do. Alternatively, the ceramic layer 61 may be formed using a sputtering method or a chemical vapor deposition method (CVD method). When the ceramic material particles are deposited on the base material 52, the ceramic layer 61 is not formed at the position where the numerous holes 52a of the base material 52 are formed. Therefore, when the ceramic layer 61 is formed on the base material 52, simultaneously, a hole 43a corresponding to the hole 52a on the base material 52 side is formed in the ceramic layer 61.

最後に、図5(e)に示すように、塩酸などを用いたエッチングにより、セラミックス層61から金属製の基材52を除去し(基材除去工程)、セラミックス製のフィルタ43を得る。   Finally, as shown in FIG. 5E, the metal substrate 52 is removed from the ceramic layer 61 by etching using hydrochloric acid or the like (substrate removal step), and the ceramic filter 43 is obtained.

このフィルタ43の製造方法によれば、セラミックス材料からなり、耐摩耗性と耐食性の両方に優れるフィルタ43が得られる。そのため、摩耗や腐食によりフィルタ43の孔43aが大きくなりにくく、フィルタ43の塵除去機能の低下度合が小さくなるため、フィルタ43の寿命が長くなる。また、ノズル20の径よりも小さな径の多数の孔43aを有し、且つ、耐摩耗性と耐食性の両方に優れるフィルタ43を容易に製造することができ、製造コストを低減できる。   According to the manufacturing method of this filter 43, the filter 43 which consists of ceramic material and is excellent in both abrasion resistance and corrosion resistance is obtained. Therefore, the hole 43a of the filter 43 is not easily increased due to wear and corrosion, and the degree of decrease in the dust removal function of the filter 43 is reduced, so that the life of the filter 43 is extended. Further, the filter 43 having a large number of holes 43a having a diameter smaller than the diameter of the nozzle 20 and excellent in both wear resistance and corrosion resistance can be easily manufactured, and the manufacturing cost can be reduced.

また、AD法、スパッタ法、あるいは、CVD法によりセラミックス層61を形成することにより、多数の孔43aを有するセラミックス層61を容易に形成することができる。セラミックス材料は硬度が高いため、セラミックス材料の板材にドリル加工等の機械加工を施して孔43aを形成することは極めて困難であるが、多数の孔52aを有する金属製の基材52の平滑な面に、AD法等の、セラミックス材料の粒子(分子)を積層させる方法で、セラミックス層61を形成することで、多数の孔43aを有するセラミックス層61であっても容易に形成することが可能になる。   Moreover, the ceramic layer 61 having a large number of holes 43a can be easily formed by forming the ceramic layer 61 by the AD method, the sputtering method, or the CVD method. Since the ceramic material has high hardness, it is extremely difficult to form a hole 43a by subjecting a ceramic material plate to machining such as drilling. However, the smoothness of the metal base 52 having a large number of holes 52a is difficult. It is possible to easily form even the ceramic layer 61 having a large number of holes 43a by forming the ceramic layer 61 by a method of laminating particles (molecules) of ceramic material such as AD method on the surface. become.

また、AD法、スパッタ法、あるいは、CVD法を用いることにより、非常に薄いセラミックス層61を基材52に容易に形成することができる。さらに、基材52にセラミックス層61を形成した後に、セラミックス層61から基材52を除去することにより、フィルタ43の全体の厚さをさらに薄くすることができる。このようにして、フィルタ43の厚さを薄くすることにより、インクがフィルタ43を通過する際の流動抵抗(圧力損失)を極力小さくすることができる。特に、圧力室14を含む個別インク流路21(図4参照)内に、インクの吐出動作に悪影響を及ぼす気泡が混入したときには、強制的にインクを加圧してノズル20から気泡とともにインクを排出する、いわゆる、パージ動作を行う必要があるが、フィルタ43におけるインクの圧力損失が小さいと、その分、ノズル20から排出されるインクの速度が大きくなるため、気泡を排出しやすくなる。   In addition, a very thin ceramic layer 61 can be easily formed on the substrate 52 by using an AD method, a sputtering method, or a CVD method. Furthermore, the overall thickness of the filter 43 can be further reduced by removing the base material 52 from the ceramic layer 61 after forming the ceramic layer 61 on the base material 52. In this way, by reducing the thickness of the filter 43, the flow resistance (pressure loss) when ink passes through the filter 43 can be minimized. In particular, when bubbles that adversely affect the ink ejection operation are mixed in the individual ink flow path 21 including the pressure chamber 14 (see FIG. 4), the ink is forcibly pressurized and discharged from the nozzle 20 together with the bubbles. In other words, a so-called purge operation needs to be performed. However, if the pressure loss of the ink in the filter 43 is small, the speed of the ink discharged from the nozzle 20 increases correspondingly, and bubbles are easily discharged.

次に、前記実施形態に種々の変更を加えた変更形態について説明する。但し、前記実施形態と同様の構成を有するものについては、同じ符号を付して適宜その説明を省略する。
(変形例1)
前期実施形態では、基材52(金属層60)を利用してセラミックス層61を形成した後に、セラミックス層61から基材52の全体を除去しているが、このときに基材52の周縁部分はそのまま残しておいて、基材52の中央部分のみを除去してもよい。具体的には、図5(d)に示すように、基材52の平滑な面(下面)にセラミックス層61を形成した後に、図7(a)に示すように、基材52の他方の面(上面)にマスク72を形成する。次に図7(b)に示すように、基材52にエッチング施す。マスク72が形成されていない基材52の中央部分がセラミックス層61から除去される。この場合には、周縁部分が剛性の高い金属性の枠で補強されたフィルタ73を得ることができる。フィルタ73は破損しにくく、インクジェットヘッド1に組み付ける際の取り扱いが容易である。なお、基材52の中央部分をセラミックス層61から除去した後に、図7(c)に示すように、薬剤等による洗浄によってマスク72を除去してもよい。
(変形例2)
前記実施形態では、基材52にセラミックス層61を形成した後に、セラミックス層61から基材52を除去しているが、この基材52を除去する工程を省略してもよい。この場合には、基材52が存在する分、フィルタ全体の厚さは厚くなる。しかし、一般的に靭性が低く破損しやすいセラミックス材料の層が、ニッケルや銅等の金属材料からなる基材52により補強されることになり、フィルタの強度が高まる。
(変形例3)
図6(a)に示すように、基材52の平滑な面(下面)にセラミックス層70を形成した後、図6(b)に示すように、やや丸みを帯びた面(上面)及び孔52aの内面にもセラミックス材料を堆積させることにより、基材52の全体をセラミックス層70でコーティングしてもよい。この場合には、強度の高い金属製の基材52の全体が耐摩耗性及び耐食性の高いセラミックス層70でコーティングされるため、優れた耐摩耗性及び耐食性と、高い強度とを兼ね備えたフィルタ43Aを得ることができる。
(変形例4)
前記実施形態は、インクジェットヘッドのフィルタに本発明を適用した一例であるが、本発明のフィルタの耐食性は高いことから、インク以外の、腐食性の流体を含む様々な流体(水などの液体のみならず、空気などの気体も含む)を使用する種々の装置にこのフィルタを適用できる。
Next, modified embodiments in which various modifications are made to the embodiment will be described. However, components having the same configuration as in the above embodiment are given the same reference numerals and description thereof is omitted as appropriate.
(Modification 1)
In the first embodiment, after the ceramic layer 61 is formed using the substrate 52 (metal layer 60), the entire substrate 52 is removed from the ceramic layer 61. At this time, the peripheral portion of the substrate 52 is removed. May be left as it is, and only the central portion of the substrate 52 may be removed. Specifically, as shown in FIG. 5 (d), after the ceramic layer 61 is formed on the smooth surface (lower surface) of the base 52, the other of the base 52 is shown in FIG. 7 (a). A mask 72 is formed on the surface (upper surface). Next, as shown in FIG. 7B, the base material 52 is etched. The central portion of the base material 52 where the mask 72 is not formed is removed from the ceramic layer 61. In this case, it is possible to obtain the filter 73 whose peripheral portion is reinforced with a highly rigid metal frame. The filter 73 is not easily damaged and is easy to handle when assembled to the inkjet head 1. In addition, after removing the center part of the base material 52 from the ceramic layer 61, as shown in FIG.7 (c), you may remove the mask 72 by washing | cleaning by a chemical | medical agent etc. FIG.
(Modification 2)
In the embodiment, after the ceramic layer 61 is formed on the base material 52, the base material 52 is removed from the ceramic layer 61. However, the step of removing the base material 52 may be omitted. In this case, the thickness of the entire filter is increased by the presence of the base material 52. However, a layer of a ceramic material that is generally low in toughness and easily damaged is reinforced by a base material 52 made of a metal material such as nickel or copper, thereby increasing the strength of the filter.
(Modification 3)
As shown in FIG. 6A, after the ceramic layer 70 is formed on the smooth surface (lower surface) of the substrate 52, a slightly rounded surface (upper surface) and holes are formed as shown in FIG. 6B. The entire substrate 52 may be coated with the ceramic layer 70 by depositing a ceramic material on the inner surface of the 52a. In this case, since the entire metal base 52 having high strength is coated with the ceramic layer 70 having high wear resistance and high corrosion resistance, the filter 43A having both excellent wear resistance and corrosion resistance and high strength. Can be obtained.
(Modification 4)
The above embodiment is an example in which the present invention is applied to a filter of an inkjet head. However, since the filter of the present invention has high corrosion resistance, various fluids including corrosive fluids other than ink (only liquids such as water are used). In addition, the filter can be applied to various apparatuses using a gas (such as air).

本発明の実施形態に係るインクジェットプリンタの概略斜視図である。1 is a schematic perspective view of an ink jet printer according to an embodiment of the present invention. インクジェットヘッドの平面図である。It is a top view of an inkjet head. 図2のIII-III線断面図である。It is the III-III sectional view taken on the line of FIG. 図2のIV-IV線断面図である。It is the IV-IV sectional view taken on the line of FIG. フィルタの製造工程を示す図であり、(a)はレジストパターン形成工程、(b)は電気めっき工程、(c)は基板剥離工程、(d)はセラミックス層形成工程、(e)は基材除去工程を夫々示す。It is a figure which shows the manufacturing process of a filter, (a) is a resist pattern formation process, (b) is an electroplating process, (c) is a board | substrate peeling process, (d) is a ceramic layer formation process, (e) is a base material The removal process is shown respectively. 変更形態のフィルタの製造工程の一部を示す図であり、(a)は基材の一方の面にセラミックス層を形成する工程、(b)は基材の他方の面にセラミックス層を形成する工程を夫々示す。It is a figure which shows a part of manufacturing process of the filter of a modified form, (a) forms the ceramic layer in one surface of a base material, (b) forms a ceramic layer in the other surface of a base material. Each process is shown. 他の変更形態のフィルタの製造工程の一部を示す図であり、(a)はマスクを形成する工程、(b)はエッチングを施す工程、(c)はマスクを除去する工程を夫々示す。It is a figure which shows a part of manufacturing process of the filter of another modification, (a) shows the process of forming a mask, (b) shows the process of performing an etching, (c) shows the process of removing a mask, respectively.

符号の説明Explanation of symbols

43,43A フィルタ
43a 孔
50 基板
51 レジストパターン
52 基材
52a 孔
60 金属層
61 セラミックス層
70 セラミックス層

43, 43A Filter 43a Hole 50 Substrate 51 Resist pattern 52 Base 52a Hole 60 Metal layer 61 Ceramic layer 70 Ceramic layer

Claims (7)

複数の孔を有する金属製の基材を作製する基材作製工程と、
前記基材の一方の表面にセラミックス材料の粒子を堆積させて、前記複数の孔を備えるセラミックス層を形成するセラミックス層形成工程と、
を備えたことを特徴とするフィルタの製造方法。
A base material production step for producing a metal base material having a plurality of holes;
A ceramic layer forming step of depositing ceramic material particles on one surface of the base material to form a ceramic layer having the plurality of holes;
A method for manufacturing a filter, comprising:
前記セラミックス層は、エアロゾルデポジション法、スパッタ法、又は、化学蒸着法の何れかによって形成されることを特徴とする請求項1に記載のフィルタの製造方法。   The method for manufacturing a filter according to claim 1, wherein the ceramic layer is formed by any one of an aerosol deposition method, a sputtering method, and a chemical vapor deposition method. 前記基材作製工程において、基板に前記複数の孔に対応するレジストパターンを形成してから、前記基板の前記レジストパターンが形成されていない部分に電気めっきにより金属層を形成した後に、この金属層から前記基板を剥離することにより、前記基材を作製することを特徴とする請求項1に記載のフィルタの製造方法。   In the base material manufacturing step, after forming a resist pattern corresponding to the plurality of holes on the substrate, and forming a metal layer on the portion of the substrate where the resist pattern is not formed by electroplating, the metal layer The method for producing a filter according to claim 1, wherein the base material is prepared by peeling the substrate from the substrate. 前記セラミックス層形成工程において、前記基材の他方の面にも、セラミックス材料の粒子を堆積させて、さらにセラミックス層を形成して、前記基材の全体を前記セラミックス層でコーティングすることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のフィルタの製造方法。   In the ceramic layer forming step, a ceramic material particle is deposited on the other surface of the base material to further form a ceramic layer, and the whole base material is coated with the ceramic layer. The manufacturing method of the filter in any one of Claims 1-3 to do. 前記セラミックス層形成工程の後に、前記基材を前記セラミックス層から除去する基材除去工程を備えたことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のフィルタの製造方法。   The method for manufacturing a filter according to any one of claims 1 to 3, further comprising a substrate removing step of removing the substrate from the ceramic layer after the ceramic layer forming step. 前記基材をセラミックス層から除去する工程において、基材の中央部のみをセラミックス層から除去し、基材の周縁部分をセラミックス層から除去しないことを特徴とする請求項5に記載のフィルタ製造方法。   6. The method for producing a filter according to claim 5, wherein, in the step of removing the base material from the ceramic layer, only a central portion of the base material is removed from the ceramic layer, and a peripheral portion of the base material is not removed from the ceramic layer. . 前記基材をセラミックス層から除去する工程は、基材の他方の面に前記周縁部分に対応するマスクを形成する工程と、エッチングにより第1基板の中央部分をセラミックス層から除去する工程と、を備えることを特徴とする請求項6に記載のフィルタの製造方法。
The step of removing the base material from the ceramic layer includes a step of forming a mask corresponding to the peripheral portion on the other surface of the base material, and a step of removing the central portion of the first substrate from the ceramic layer by etching. The filter manufacturing method according to claim 6, further comprising:
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