JP2006150300A - 疎水性有機物含有ゾル溶液、およびその製造方法 - Google Patents
疎水性有機物含有ゾル溶液、およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006150300A JP2006150300A JP2004348023A JP2004348023A JP2006150300A JP 2006150300 A JP2006150300 A JP 2006150300A JP 2004348023 A JP2004348023 A JP 2004348023A JP 2004348023 A JP2004348023 A JP 2004348023A JP 2006150300 A JP2006150300 A JP 2006150300A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrophobic organic
- organic substance
- sol solution
- metal compound
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Colloid Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本発明の目的は、疎水性有機物がゾル溶液中に凝集や析出することなく溶解してなる疎水性有機物含有ゾル溶液と、その製造方法とを提供することにある。そして、その疎水性有機物含有ゾル溶液を用いて製造される物品を提供することにある。
【解決手段】
加水分解可能な金属化合物に、触媒と水とを加え、加水分解反応を起こさせて、少なくとも1種類の金属化合物ゾル溶液を調製し、ここで、前記水の量を前記金属原子の価数に対応した所定範囲量とすることで、前記金属化合物ゾル溶液に、少なくとも1種類の疎水性有機物を混合して溶解するようにしたこと、を特徴とする。
【選択図】 図1
Description
請求項1に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法は、加水分解可能な金属化合物に、触媒と水とを加え、加水分解反応を起こさせて、少なくとも1種類の金属化合物ゾル溶液を調製し、ここで、前記水の量を前記金属原子の価数に対応した所定範囲量とすることで、前記金属化合物ゾル溶液に、少なくとも1種類の疎水性有機物を混合して溶解するようにしたこと、を特徴とする。
ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程、
ステップS102:疎水性有機物溶解溶液の調製工程、
ステップS103:疎水性有機物含有ゾル溶液の調製工程、
を含んでなる。
ステップS201:疎水性有機物含有ゾル溶液の塗布工程、
ステップS202:塗布層の乾燥工程、
を含んでなる。
まず、加水分解可能な金属化合物に、触媒と金属原子の価数に対応する所定範囲量の水とを加え、加水分解反応、あるいは加水分解反応と脱水縮重合反応とを起こさせることにより、少なくとも1種類の金属化合物ゾル溶液を調製する。必要に応じて、2種類以上の金属化合物ゾル溶液を配合してもよい。例えば、屈折率の異なる複数の金属化合物ゾル溶液を配合することにより、任意の屈折率を持つ金属化合物ゾル溶液を調製することができる。
ケトン類としては、アセトン、アセチルアセトン等を用いることができる。
エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル等を用いることができる。
セロソルブ類としては、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等を用いることができる。
グリコール類としては、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等を用いることができる。
次に、疎水性有機物を溶媒(第二溶媒)に溶解させて、疎水性有機物溶解溶液を調製する。この工程で、予め疎水性有機物を第二溶媒に溶解させておく理由は、疎水性有機物の固体をゾル溶液に直接溶解させるために、長時間を要する場合があるためである。しかし、疎水性有機物は、前述の金属化合物ゾル溶液に、少量ずつ直接溶解させてもかまわない。
次に、前述の金属化合物ゾル溶液と疎水性有機物溶解溶液とを混合して、疎水性有機物含有ゾル溶液を調製する。
次に、疎水性有機物含有ゾル溶液(塗布液)を、基材表面に塗布することにより、塗布層を形成する。
次に、塗布層の乾燥を行い、塗布膜を形成する。この乾燥の前に、必要に応じて塗布層を均すためのレベリング時間をとってもよい。
本実施の形態では、密閉型の熱風循環式乾燥機(タバイエスペック株式会社製、クリーンオーブン PVHC−210)を用いて乾燥を行った。乾燥機内部の中央付近に付属の棚を設置して、その棚の中央付近に、塗布層が形成されたガラス基板を水平に置いて、以下のような手順で乾燥を行う。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
テトラメトキシシラン(n=4である金属アルコキシド) 52gに、第一溶媒であるイソプロピルアルコール 16gを混合した。この混合液を攪拌しながら、触媒として、0.1mol/L(0.1規定)の硝酸 12.3gを少量ずつ滴下した。この硝酸に含まれる水は、テトラメトキシシラン1モル当たり2当量であった。硝酸の滴下が終了した後も、混合液を攪拌しながら加水分解反応と脱水縮重合反応とを起こさせ、硝酸を滴下し始めてから24時間かけて金属化合物ゾル溶液を調製した。
有機物色素であるDR 2gを第二溶媒であるジオキサン 98gに溶解させて疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
前述の金属化合物ゾル溶液 38.5gと、疎水性有機物溶解溶液 25gと、第三溶媒としてジオキサン 36.5gとを混合して、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この第三溶媒は、第二溶媒と同じ溶媒である。この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
この疎水性有機物含有ゾル溶液(塗布液)を、大きさ 100×100mm、厚み 0.5mmのソーダライムガラス基板(以下、単にガラス基板と記述する)表面に、スピンコータを用いて、16.7回転/秒(1,000rpm)の回転数で塗布し、塗布層を形成した。
次いで、塗布層が形成されたガラス基板を、塗布後 30秒後に、前述の熱風循環式乾燥機を用いて、200℃の温度で、5分間乾燥させた。そして、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有膜(塗布膜)を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在は見られなかった。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
実施例1と同様にして、水分含有率 1質量%の金属酸化物ゾル溶液を調製した。
第二溶媒には、実施例1で用いたジオキサンに代えて、ジエチルホルムアミドを用いた。そして、実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
第三溶媒には、第二溶媒と同じジエチルホルムアミドを用いた。そして、実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
実施例1と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在は見られなかった。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
テトラメトキシシラン 52gに、第一溶媒であるイソプロピルアルコール 4gを混合した。この混合液を攪拌しながら、触媒として、0.1mol/L(0.1規定)の硝酸 24.6gを少量ずつ滴下した。この硝酸に含まれる水は、テトラメトキシシラン1モル当たり4当量であった。硝酸の滴下が終了した後も、混合液を攪拌しながら加水分解反応と脱水縮重合反応とを起こさせ、硝酸を滴下し始めてから24時間かけて金属化合物ゾル溶液を調製した。
実施例1と同様にして、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。
実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。しかし、この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、DRの凝集や析出が見られた。
実施例1と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在が見られた。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
実施例1と同様にして、水分含有率 1質量%の金属酸化物ゾル溶液を調製した。
第二溶媒には、実施例1で用いたジオキサンに代えて、エチルアルコール(水分含有率0.4質量%以下)を用いた。そして、実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
第三溶媒には、第二溶媒と同じエチルアルコールを用いた。そして、実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
実施例1と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在が見られた。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
実施例1と同様にして、水分含有率 1質量%の金属酸化物ゾル溶液を調製した。
疎水性有機物として、DRに代えて、ピレンを用いた。そして、実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
実施例1と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在は見られなかった。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
実施例1と同様にして、水分含有率 1質量%の金属酸化物ゾル溶液を調製した。
第二溶媒には、実施例3で用いたジオキサンに代えて、ジエチルホルムアミドを用いた。そして、実施例3と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
第三溶媒には、第二溶媒と同じジエチルホルムアミドを用いた。そして、実施例3と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
実施例3と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在は見られなかった。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
比較例1と同様にして、水分含有率 12質量%の金属化合物ゾル溶液を調製した。
実施例3と同様にして、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。
実施例3と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。しかし、この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、ピレンの凝集や析出が見られた。
実施例3と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在が見られた。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
実施例1と同様にして、水分含有率 1質量%の金属酸化物ゾル溶液を調製した。
第二溶媒には、実施例3で用いたジオキサンに代えて、エチルアルコール(水分含有率0.4質量%以下)を用いた。そして、実施例3と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
第三溶媒には、第二溶媒と同じエチルアルコールを用いた。そして、実施例3と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
実施例3と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在が見られた。乾燥過程において、ピレンの凝集や析出が起きたことが考えられる。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
実施例1と同様にして、水分含有率 1質量%の金属酸化物ゾル溶液を調製した。
第二溶媒には、実施例1で用いたジオキサンに代えて、トルエンを用いた。そして、実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
第三溶媒には、第二溶媒と同じトルエンを用いた。このトルエンと前述の調製工程(ステップS101)にて調製した金属酸化物ゾル溶液とは、相溶性が低いことを確認している。そして、実施例1と同様の混合比で、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、DRの凝集や析出は見られなかった。
実施例1と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてDRを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在は見られなかった。
(ステップS101:金属化合物ゾル溶液の調製工程)
実施例1と同様にして、水分含有率 1質量%の金属酸化物ゾル溶液を調製した。
第二溶媒には、実施例3で用いたジオキサンに代えて、トルエンを用いた。そして、実施例3と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物溶解溶液を調製した。この疎水性有機物溶解溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
第三溶媒には、第二溶媒と同じトルエンを用いた。このトルエンと前述の調製工程(ステップS101)にて調製した金属酸化物ゾル溶液とは、相溶性が低いことを確認している。そして、実施例3と同様の混合比で、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有ゾル溶液を調製した。この疎水性有機物含有ゾル溶液中に、ピレンの凝集や析出は見られなかった。
実施例3と同様の塗布および乾燥条件により、疎水性有機物としてピレンを含有する疎水性有機物含有膜を得た。疎水性有機物含有膜中に、外観上、色素の偏在は見られなかった。
前述の表1および表2を参照しながら説明する。全ての実施例と比較例において、それぞれの塗布液および塗布膜に含まれる疎水性有機物の含有率は、それぞれ0.5および4.8質量%であった。実施例1〜4と比較例1〜4とは、平滑な塗布膜の例であり、実施例5と実施例6とは、凹凸状の塗布膜の例である。
実施例1〜6において、水分含有率は、全て0.4質量%であった。このとき、疎水性有機物含有ゾル溶液中には、疎水性有機物の凝集や析出は見られなかった。
実施例1〜4に用いたジオキサン(環状エーテル系溶媒)またはジエチルホルムアミド(ホルムアミド系溶媒)の含有率は、全て61質量%であった。これらの実施例1〜4では、乾燥後の塗布膜に、外観上、色素の偏在は見られなかった。塗布膜の表面を顕微鏡で確認したところ、平滑な塗布膜であった。塗布膜のヘーズ率は、0.0〜0.2であり、散乱のないことが分かる。
実施例5および実施例6において、第二溶媒(第三溶媒と同一)にはトルエンを用いた。実施例5は実施例1および実施例2に対応し、実施例6は実施例3および実施例4に対応している。実施例5および実施例6における疎水性有機物含有ゾル溶液(塗布液)中のトルエンの含有率は、実施例1〜4におけるジオキサン(環状エーテル系溶媒)あるいはジエチルホルムアミド(ホルムアミド系溶媒)と同じく、どちらも61質量%であった。
Claims (15)
- 加水分解可能な金属化合物に、触媒と水とを加え、加水分解反応を起こさせて、少なくとも1種類の金属化合物ゾル溶液を調製し、
ここで、前記水の量を前記金属原子の価数に対応した所定範囲量とすることで、
前記金属化合物ゾル溶液に、少なくとも1種類の疎水性有機物を混合して溶解するようにしたことを特徴とする疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。 - 前記金属化合物を予め第一溶媒と混合した請求項1に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 前記疎水性有機物を予め第二溶媒に混合して溶解した請求項1または2に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 前記疎水性有機物含有ゾル溶液を第三溶媒と混合した請求項1〜3のいずれか1項に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 前記金属化合物を、一般式、M(OR)nで表される金属アルコキシド(式中、Mは金属原子、Rはアルキル基、フェニル基、アセチル基、エーテル基、nは前記金属原子の酸化数である)とした請求項1〜4のいずれか1項に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 前記水の量を前記金属アルコキシド1モル当たりn/2当量を中心に0.75〜1.25倍の範囲量とした請求項5に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 前記水の量を前記nが4である金属アルコキシド1モル当たり1.5〜2.5当量とすることで、前記金属化合物ゾル溶液中に含まれる水分含有率を2.5質量%以下とした請求項6に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 前記水の量を1.8〜2.1当量とすることで、前記水分含有率を1質量%以下とした請求項7に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 前記疎水性有機物の水に対する溶解率を0.1質量%以下とした請求項1〜8のいずれか1項に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液の製造方法。
- 加水分解可能な金属化合物に、触媒と水とが加えられ、加水分解反応により、少なくとも1種類の金属化合物ゾル溶液が調製され、ここで、前記水の量が前記金属原子の価数に対応する所定範囲量とされたことによって、前記金属化合物ゾル溶液に、少なくとも1種類の疎水性有機物が混合溶解されてなる疎水性有機物含有ゾル溶液であって、
前記疎水性有機物含有ゾル溶液中の水分含有率が、2.5質量%以下であることを特徴とする疎水性有機物含有ゾル溶液。 - 前記疎水性有機物含有ゾル溶液中の水分含有率が、1質量%以下である請求項10に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液。
- 前記疎水性有機物含有ゾル溶液は、環状エーテル系溶媒またはホルムアミド系溶媒を含み、前記溶媒の含有率が50質量%以上である請求項10または11に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液。
- 前記疎水性有機物の含有率が0.1〜1.8質量%である請求項10〜12のいずれか1項に記載の疎水性有機物含有ゾル溶液。
- 加水分解可能な金属化合物に、触媒と水とを加え、加水分解反応を起こさせて、少なくとも1種類の金属化合物ゾル溶液を調製し、
ここで、前記水の量を前記金属原子の価数に対応した所定範囲量とすることで、
前記金属化合物ゾル溶液に、少なくとも1種類の疎水性有機物を混合溶解して疎水性有機物含有ゾル溶液を調製し、
前記疎水性有機物含有ゾル溶液を皮膜状に乾燥させてなる疎水性有機物含有物品の製造方法であって、
前記疎水性有機物含有物品中に含まれる前記疎水性有機物の含有率を0.01〜15質量%としたことを特徴とする疎水性有機物含有物品の製造方法。 - 前記疎水性有機物含有物品を粉砕して鱗片状とした請求項14に記載の疎水性有機物含有物品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004348023A JP4641412B2 (ja) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | 疎水性有機物含有ゾル溶液、およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004348023A JP4641412B2 (ja) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | 疎水性有機物含有ゾル溶液、およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006150300A true JP2006150300A (ja) | 2006-06-15 |
JP4641412B2 JP4641412B2 (ja) | 2011-03-02 |
Family
ID=36629209
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004348023A Expired - Fee Related JP4641412B2 (ja) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | 疎水性有機物含有ゾル溶液、およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4641412B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004091220A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Fuso Chemical Co Ltd | 高純度親水性有機溶媒分散シリカゾルの製造方法及びその方法で得られる高純度親水性有機溶媒分散シリカゾル並びに高純度有機溶媒分散シリカゾルの製造方法及びその方法で得られる高純度有機溶媒分散シリカゾル |
JP2004203719A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Hitachi Cable Ltd | オルガノシリカゾル |
JP2005314197A (ja) * | 2003-05-21 | 2005-11-10 | Fuso Chemical Co Ltd | 高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾル及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-12-01 JP JP2004348023A patent/JP4641412B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004091220A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Fuso Chemical Co Ltd | 高純度親水性有機溶媒分散シリカゾルの製造方法及びその方法で得られる高純度親水性有機溶媒分散シリカゾル並びに高純度有機溶媒分散シリカゾルの製造方法及びその方法で得られる高純度有機溶媒分散シリカゾル |
JP2004203719A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Hitachi Cable Ltd | オルガノシリカゾル |
JP2005314197A (ja) * | 2003-05-21 | 2005-11-10 | Fuso Chemical Co Ltd | 高純度疎水性有機溶媒分散シリカゾル及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4641412B2 (ja) | 2011-03-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1734016B1 (en) | Silica and silica-like films and method of production | |
CN101184695B (zh) | 中空状SiO2微粒分散液的制造方法、涂料组合物及带防反射涂膜的基材 | |
AU2011267007B2 (en) | Inorganic oxide coating | |
CN102713736B (zh) | 电极保护膜形成剂 | |
JP2009526881A (ja) | 反射防止コーティング | |
TW201016603A (en) | Hollow particle, method for producing the same, coating composition and article | |
JP6329959B2 (ja) | シロキサン化合物を含む超親水性反射防止コーティング組成物、それを用いた超親水性反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
JP2015536477A (ja) | シロキサン化合物を含む反射防止コーティング組成物、それを用いて表面エネルギーが調節された反射防止フィルム | |
US20090004482A1 (en) | Method of making a stabilized colloidal silica, compositions comprising the same, and coated articles including the same | |
CN109096766A (zh) | 一种金纳米粒子复合有机硅树脂的制备方法 | |
KR20200005924A (ko) | 무기불연 세라믹 바인더 제조방법 | |
CN105273622B (zh) | 低折射率膜形成用组合物及其制法、低折射率膜的形成法 | |
JP4641412B2 (ja) | 疎水性有機物含有ゾル溶液、およびその製造方法 | |
KR20050115905A (ko) | 유기-무기 하이브리드 글라스상 물질과 그 제조 방법 | |
KR101970934B1 (ko) | 스프레이 도포용의 피막 형성용 도포액 및 피막 | |
EP3141533A1 (en) | Glass article | |
KR101981127B1 (ko) | 스크린 프린팅이 가능한 반사방지 코팅 조성물 및 이를 이용한 반사방지막의 제조방법 | |
JPH06299091A (ja) | 反射防止膜形成用コーティング組成物 | |
US20190202732A1 (en) | Method for the production of a layer or a pattern for coating the inner surface of a receptacle, and receptacle obtained by a method of said type | |
JP6451424B2 (ja) | 高耐久性低屈折率膜 | |
JP2009209250A (ja) | 光触媒塗膜形成用組成物、光触媒塗膜および光触媒塗膜の形成方法 | |
KR102019052B1 (ko) | 스크린 프린팅이 가능한 반사방지 코팅 조성물을 이용한 대면적 반사방지 유리의 제조방법 | |
JP7083342B2 (ja) | 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法 | |
JPH09279096A (ja) | 被膜形成用組成物及びその製造方法 | |
JPH0971438A (ja) | 被膜形成用組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070829 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Effective date: 20080411 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100831 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101028 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Effective date: 20101028 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20101124 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101129 |
|
R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |