JP2006145484A - 外観検査装置、外観検査方法およびコンピュータを外観検査装置として機能させるためのプログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板の外観検査装置を実現する演算部130は、複数の解像度の画像を生成する多重解像度画像作成部131と、予め定められたバンドパスフィルタ処理を実行する前処理部132と、ゾーベルフィルタ処理を実行して濃淡勾配画像データを生成する濃淡勾配算出部133と、ラベリング処理を実行して領域を特定する2値化ラベリング部134と、領域の特徴量を算出する特徴量算出部135と、特徴量に基づいてデント欠陥の有無を判断するデント欠陥判定部136と、デント欠陥の強度を算出する強度算出部137と、被検査基板の修正が必要であるか否かを判定する基板判定部139とを含む。
【選択図】 図4
Description
Claims (10)
- 被検査物の撮影により生成された撮影画像データに対して予め定められたフィルタリング処理を実行することにより、前記撮影画像データから、濃淡が反映された濃淡勾配画像データを取得する取得手段と、
予め定められた第1の閾値に基づいて、前記濃淡勾配画像データにより特定される領域を識別する識別データを生成するためのラベリング処理を実行するラベリング手段と、
前記領域について、予め定められた粒子解析のための計測値を算出する計測値算出手段と、
前記領域の重心の近傍における濃淡勾配値を算出する勾配値算出手段と、
前記領域の濃淡勾配値の分散と、前記領域から予め定められた範囲内に含まれる周辺領域の濃淡勾配値の分散との比である分散比を算出する分散比算出手段と、
前記計測値と前記濃淡勾配値と前記分散比とに基づいて、前記ラベリング処理により特定された領域の特徴量を算出する特徴量算出手段と、
前記被検査物の表面における欠陥を検出するために予め定められた基準値と、前記特徴量とに基づいて、前記被検査物の表面における欠陥を検出する検出手段とを備える、外観検査装置。 - 前記取得手段は、解像度の異なる複数の撮影画像データに基づいて、複数の濃淡勾配画像データを取得する、請求項1に記載の外観検査装置。
- 前記外観検査装置は、
前記検出手段により検出された欠陥の大きさを表わすための欠陥強度を算出する強度算出手段と、
前記欠陥強度と予め定められた第2の閾値とに基づいて、前記被検査物が不良品であるか否かを判定する判定手段とをさらに備える、請求項1に記載の外観検査装置。 - 前記取得手段は、予め定められた圧縮率に基づいて前記撮影画像データを圧縮することにより、前記濃淡勾配画像データを取得し、
前記強度算出手段は、前記圧縮率と前記特徴量とに基づいて前記欠陥強度を算出する、請求項3に記載の外観検査装置。 - 前記外観検査装置は、
前記濃淡勾配画像データに基づいて、前記領域に外接する第1の矩形を特定するための第1の矩形データを算出する第1の矩形データ算出手段と、
前記濃淡勾配画像データと予め定められた第1のデータとに基づいて、前記第1の矩形よりも小さく、かつ前記領域の重心を含む第2の矩形を特定するための第2の矩形データを算出する第2の矩形データ算出手段とをさらに備え、
前記勾配値算出手段は、前記第2の矩形における濃淡勾配値の最大値を、前記領域の重心の近傍における濃淡勾配値として算出する、請求項1に記載の外観検査装置。 - 前記第2の矩形における4つの端点と前記領域の重心との位置関係は、前記第1の矩形における4つの端点と前記領域の重心との位置関係と相似である、請求項5に記載の外観検査装置。
- 前記外観検査装置は、
前記濃淡勾配画像データと予め定められた第2のデータとに基づいて、前記領域を囲む第3の矩形を特定するための第3の矩形データを算出する第3の矩形データ算出手段と、
前記第3の矩形データに基づいて、前記第3の矩形と同一の大きさであり前記第3の矩形に隣接する複数の第4の矩形の各々を特定するための各々の第4の矩形データを算出する第4の矩形データ算出手段と、
前記第3の矩形における濃淡勾配値の分散を算出する分散算出手段と、
前記複数の第4の矩形の各々における濃淡勾配値の分散の平均値を算出する平均値算出手段とをさらに備え、
前記分散比算出手段は、前記第3の矩形における濃淡勾配値の分散を前記平均値で除した値を、前記分散比として算出する、請求項5に記載の外観検査装置。 - 前記第3の矩形における4つの端点と前記領域の重心との位置関係は、前記第1の矩形における4つの端点と前記領域の重心との位置関係と相似である、請求項7に記載の外観検査装置。
- 被検査物の撮影により生成された撮影画像データに対して予め定められたフィルタリング処理を実行することにより、前記撮影画像データから、濃淡が反映された濃淡勾配画像データを取得する取得ステップと、
予め定められた第1の閾値に基づいて、前記濃淡勾配画像データにより特定される領域を識別する識別データを生成するためのラベリング処理を実行するラベリングステップと、
前記領域について、予め定められた粒子解析のための計測値を算出する計測値算出ステップと、
前記領域の重心の近傍における濃淡勾配値を算出する勾配値算出ステップと、
前記領域の濃淡勾配値の分散と、前記領域から予め定められた範囲内に含まれる周辺領域の濃淡勾配値の分散との比である分散比を算出する分散比算出ステップと、
前記計測値と前記濃淡勾配値と前記分散比とに基づいて、前記ラベリング処理により特定された領域の特徴量を算出する特徴量算出ステップと、
前記被検査物の表面における欠陥を検出するために予め定められた基準値と、前記特徴量とに基づいて、前記被検査物の表面における欠陥を検出する検出ステップとを備える、外観検査方法。 - コンピュータを外観検査装置として機能させるためのプログラムであって、前記プログラムは、前記コンピュータに、
被検査物の撮影により生成された撮影画像データに対して予め定められたフィルタリング処理を実行することにより、前記撮影画像データから、濃淡が反映された濃淡勾配画像データを取得する取得ステップと、
予め定められた第1の閾値に基づいて、前記濃淡勾配画像データにより特定される領域を識別する識別データを生成するためのラベリング処理を実行するラベリングステップと、
前記領域について、予め定められた粒子解析のための計測値を算出する計測値算出ステップと、
前記領域の重心の近傍における濃淡勾配値を算出する勾配値算出ステップと、
前記領域の濃淡勾配値の分散と、前記領域から予め定められた範囲内に含まれる周辺領域の濃淡勾配値の分散との比である分散比を算出する分散比算出ステップと、
前記計測値と前記濃淡勾配値と前記分散比とに基づいて、前記ラベリング処理により特定された領域の特徴量を算出する特徴量算出ステップと、
前記被検査物の表面における欠陥を検出するために予め定められた基準値と、前記特徴量とに基づいて、前記被検査物の表面における欠陥を検出する検出ステップとを実行させる、プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004339156A JP4550559B2 (ja) | 2004-11-24 | 2004-11-24 | 外観検査装置、外観検査方法およびコンピュータを外観検査装置として機能させるためのプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006145484A true JP2006145484A (ja) | 2006-06-08 |
JP4550559B2 JP4550559B2 (ja) | 2010-09-22 |
Family
ID=36625339
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004339156A Active JP4550559B2 (ja) | 2004-11-24 | 2004-11-24 | 外観検査装置、外観検査方法およびコンピュータを外観検査装置として機能させるためのプログラム |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4550559B2 (ja) |
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