JP2000329538A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置Info
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Abstract
検査する欠陥検出性能に優れる表面検査装置を提供す
る。 【解決手段】平らな物品の表面における欠陥を検査する
表面検査装置であって、撮像手段とA/D変換手段と微
分手段と2値化閾値演算手段と2値化手段と良否判定手
段とを有し、前記撮像手段は前記平らな物品の表面を撮
像して撮像信号を生成し、前記A/D変換手段は前記撮
像信号を入力してディジタルデータに変換し撮像画像を
生成し、前記微分手段は前記撮像信号を微分して微分画
像を生成し、前記2値化閾値演算手段は前記撮像画像に
基づいて所定の領域ごとの2値化閾値を算出し、前記2
値化手段は前記所定の領域ごとの2値化閾値を用いて前
記所定の領域ごとに前記微分画像を2値化した2値化画
像を生成し、前記良否判定手段は前記2値化画像に基づ
いて前記平らな物品の良否判定を行うようにした表面検
査装置。
Description
る技術分野に属する。特に、平らな物品の表面における
キズ(疵)やヘコミ(凹み)等の欠陥を検査する表面検
査装置に関する。
ードを挙げる。プラスチックカードはキャッシュカー
ド、クレジットカード、会員証、等で使用される。プラ
スチックカードは、プラスチックシートを積層した構成
を有する。たとえば、白色プラスチックシート(白色塩
化ビニールシート)の表面に印刷が施された2層のコア
と、そのコアの両側の表面に設けられた透明プラスチッ
クシート(透明塩化ビニールシート)の表面から構成さ
れる。プラスチックカードのその表面にキズやヘコミ等
の欠陥が存在する場合がある。この欠陥には、素材とし
ての透明プラスチックシートにもともと存在するもの
や、製造工程において発生するものがある。
プラスチックカードが製品に混入して出荷されないよう
に、製品の出荷検査のための専任者を置いてプラスチッ
クカードの目視検査を行うことも行われている。しか
し、人間が行うことである以上、検査基準のバラツキや
不良の見落としを避けることができない。また、プラス
チックカードの検査が可能な自動検査装置の提案はある
が、従来の自動検査装置においては必要とされる欠陥検
出性能が得られていない。
の欠陥を製造工程等において検査する欠陥検出性能に優
れる表面検査装置を提供することにある。
明によって達成される。すなわち、本発明の請求項1に
係る表面検査装置は、平らな物品の表面における欠陥を
検査する表面検査装置であって、撮像手段とA/D変換
手段と微分手段と2値化閾値演算手段と2値化手段と良
否判定手段とを有し、前記撮像手段は前記平らな物品の
表面を撮像して撮像信号を生成し、前記A/D変換手段
は前記撮像信号を入力してディジタルデータに変換し撮
像画像を生成し、前記微分手段は前記撮像画像を微分し
て微分画像を生成し、前記2値化閾値演算手段は前記撮
像画像に基づいて所定の領域ごとの2値化閾値を算出
し、前記2値化手段は前記所定の領域ごとの2値化閾値
を用いて前記所定の領域ごとに前記微分画像を2値化し
た2値化画像を生成し、前記良否判定手段は前記2値化
画像に基づいて前記平らな物品の良否判定を行うように
したものである。
品の表面が撮像され撮像信号が生成され、A/D変換手
段により撮像信号が入力されディジタルデータに変換さ
れ撮像画像が生成され、微分手段により撮像画像が微分
され微分画像が生成され、2値化閾値演算手段により撮
像画像に基づいて所定の領域ごとの2値化閾値が算出さ
れ、2値化手段により所定の領域ごとの2値化閾値が用
いられ所定の領域ごとに微分画像を2値化した2値化画
像が生成され、良否判定手段により2値化画像に基づい
て平らな物品の良否判定が行われる。すなわち、2値化
閾値演算手段により所定の領域の欠陥検出に最適化され
た2値化閾値を算出することができる。したがって、平
らな物品の表面の欠陥を製造工程等において検査する欠
陥検出性能に優れる表面検査装置を提供することにあ
る。
は、請求項1に係る表面検査装置において、2値化閾値
演算手段は撮像画像の所定の領域ごとの平均画素値を算
出し、その平均画素値に1以下の所定の係数またはその
平均画素値をパラメータとする関数値を乗算して2値化
閾値を算出するようにしたものである。本発明によれ
ば、最適化された2値化閾値として2値化閾値演算手段
により撮像画像の所定の領域ごとの平均画素値に1以下
の所定の係数またはその平均画素値をパラメータとする
関数値を乗算した2値化閾値が算出される。
は、請求項1または2に係る表面検査装置において、所
定の領域は、mとnを正の整数として撮像画像の天地を
m分割、左右をn分割して得られるm×nの領域である
ようにしたものである。本発明によれば、撮像画像のm
×nの各領域に対して2値化閾値が算出される。
は、請求項1〜3のいずれかに係る表面検査装置におい
て、平らな物品の表面における照明の光軸が撮像手段の
撮像の光軸と一致する光線により平らな物品の表面を照
明する照明手段を有するようにしたものである。本発明
によれば、照明の光軸が撮像手段の撮像の光軸と一致す
る光線により照明された平らな物品の表面が撮像され
る。
により説明する。本発明の表面検査装置におけるデータ
処理の過程の一例をフロー図として図1に示す。また、
本発明の表面検査装置におけるデータ処理の過程におい
て生成する画像を絵図として図2に示す。また、本発明
の表面検査装置において2値化閾値を算出する過程を図
表として図3に示す。また、本発明の表面検査装置にお
ける撮像系の構成の一例を図4に示す。また、本発明の
表面検査装置における撮像系の構成の別の一例を図5に
示す。また、本発明における2値化閾値を用いないで画
像を2値化した比較例(従来技術)を図6に示す。
22は微分画像、23,24は2値化画像、31は平均
画素値テーブル、32は2値化閾値テーブル、101
a,101b,101c,101d,101e,101
fは画像に現れた平らな物品のキズ(疵)、102a,
102b,102c,102d,102e,102f,
103a,103b,103c,103d,103eは
画像に現れた平らな物品のヘコミ(凹み)である。ま
た、図4,5において、1はエリアセンサカメラ、3は
LED面光源、4はミラー、5はハーフミラー、6は電
源、7は光源、8は光ファイバ、10は結像レンズ、1
1は平らな物品の一例としてのプラスチックカードであ
る。以下、図1〜図6に基づいて、本発明について説明
する。
を説明して本発明の特徴点を明らかにする。その他の構
成については詳細を後述するものとする。まず、図1の
ステップS1の撮像過程において、平らな物品の一例で
あるプラスチックカード11の表面を撮像し撮像信号を
得る。この撮像は撮像手段と照明手段とからなる撮像系
(図4,5参照)において行われる。次に、ステップS
2のA/D(analog-to-digital )変換過程において、
A/D変換手段は得られた撮像信号を入力してディジタ
ルデータに変換することによって撮像画像21(図2参
照)を生成する。その撮像画像21は表面検査装置のデ
ータ処理系(後述する)の記憶装置に記憶される。この
後の処理は表面検査装置のデータ処理系において行われ
る。
にはプラスチックカード11の表面に存在する欠陥であ
るキズ101a、ヘコミ102a,103aが現れてい
る。また、撮像画像21には撮像する領域における不均
一性が画像の明暗として現れている。すなわち、撮像画
像の中心部において画像が明るく、撮像画像の周辺部に
おいて画像が暗く撮像されている。この原因としては、
照明手段の照明に撮像する領域における照度不均一性
が存在する、結像光学系を含む撮像手段に撮像する領
域における感度不均一性が存在する、プラスチックカ
ード11の表面そのものに光学的な特性不均一性が存在
する、等が挙げられる。プラスチックカード11に存在
する光学的な特性不均一性は欠陥とは限らない。すなわ
ち、印刷絵柄やその他の加工によるものも含まれてい
る。詳細を後述するが、この不均一性に起因する欠陥検
出性能の悪化を本発明においては回避することができ
る。
プS3の微分過程において、微分手段は撮像画像21を
微分して微分画像22を生成する。微分手段は、たとえ
ば、ディジタル画像に対する線型の微分オペレータであ
るディジタル・ラプラシアンを撮像画像21に作用させ
て(数1参照)微分画像22を生成する。
h01=1、h11=−4、h21=1、h02=0、h12=
1、h22=0、の3×3個の要素からなる配列であると
する。ディジタル・ラプラシアン∇2 を撮像画像gに作
用させることは、撮像画像gとこの配列Hとをたたみ込
むことと同じである。ディジタル画像処理については周
知の技術であるから、ここでは説明の詳細は省略する。
本発明においては、このディジタル・ラプラシアン∇2
に限定されず任意の微分オペレータを微分手段の微分に
適用することができる。
その画像における特定の画素に着目して、その画素とそ
の近傍の画素との間で、重み付けを行った上で差分を演
算することである。上述の「たたみ込み」は同様の演算
である。したがって、微分によって欠陥を検出する場合
は、欠陥の画素値と、その近傍の画素値とに大きな差異
があれば差分が大きくなり、欠陥は強調されることとな
る。逆に、欠陥の画素値と、その近傍の画素値とに大き
な差異がなければ差分は小さくなり、欠陥はあまり強調
されないこととなる。
キズ101aは周辺部から中心部において現れている。
このキズ101aとその近傍の画素値との差異は周辺部
において小さく中心部において大きい。したがって、微
分画像22においてキズ101bは周辺部においては強
調されず中心部において強調される。同様に、撮像画像
21においてヘコミ102aは中心部において現れてい
る。このヘコミ102aとその近傍の画素値との差異は
大きい。したがって、微分画像22においてヘコミ10
2bは強調される。同様に、撮像画像21においてヘコ
ミ103aは周辺部において現れている。このヘコミ1
03aとその近傍の画素値との差異は小さい。したがっ
て、微分画像22においてヘコミ103bは周辺部にあ
まり強調されない。
プS4の2値化閾値演算過程において、2値化閾値演算
手段は撮像画像21に基づいて所定の領域ごとの2値化
閾値を算出する。たとえば、2値化閾値演算手段は撮像
画像21の所定の領域ごとの平均画素値を算出し、その
平均画素値に1以下の所定の係数を乗算して2値化閾値
を算出する。たとえば、所定の領域とは、mとnを正の
整数として撮像画像21の天地をm分割、左右をn分割
して得られるm×nの領域のことである。
5によって分割し4×5=20の領域が得られる。2値
化閾値演算手段が演算したその所定の領域における平均
画素値を表として示したものが、平均画素値テーブル3
1である。平均画素値テーブル31における数字の配列
は撮像画像21における領域と位置的に対応している。
この平均画素値テーブル31は、画素値を8ビットすな
わち0〜255で表現した場合の平均画素値の表であ
る。平均画素値テーブル31の周辺部分の平均画素値は
周辺左上の領域から、時計回りに拾って、80,12
0,130,120,80,100,100,80,1
20,130,120,80,100,100となって
いる。また、平均画素値テーブル31の中心部分の平均
画素値は中心左上の領域から、時計回りに拾って、15
0,180,150,150,180,150となって
いる。周辺部分における平均画素値と中心部分における
平均画素値を比較すると、(周辺部分における平均画素
値)<(中心部分における平均画素値)の傾向が明らか
に見られる。
ーブル31に記述されている平均画素値に1以下の所定
の係数を乗算して2値化閾値を算出し2値化閾値テーブ
ル32を生成する。図3に示す一例においては、所定の
係数を1/2として、その係数1/2が一律に各領域に
適用されている。すなわち、2値化閾値テーブル32の
周辺部分の2値化閾値は周辺左上の領域から、時計回り
に拾って、40,60,65,60,40,50,5
0,40,60,65,60,40,50,50となっ
ている。また、2値化閾値テーブル32の中心部分の2
値化閾値は中心左上の領域から、時計回りに拾って、7
5,90,75,75,90,75となっている。平均
画素値テーブル31と同様に、2値化閾値テーブル32
における数字の配列も撮像画像21における領域と位置
的に対応している。
領域に適用されているが、本発明は、同一の係数を適用
するには限定されない。たとえば、a,bを所定の定数
として、数式;(係数)=a×(平均画素値)+bによ
って係数を演算するように構成することができる。ま
た、F()を関数として一般に、数式;(係数)=F
((平均画素値))によって係数を演算するように構成
することができる。
プS5の2値化過程において、2値化手段は、所定の領
域ごとの2値化閾値を用いて所定の領域ごとに微分画像
を2値化した2値化画像を生成する。すなわち、図2に
示す微分画像22から図2に示す2値化画像23が生成
される。勿論、このとき所定の領域ごとの2値化閾値と
しては、前述の図3に示す2値化閾値テーブル32に記
述されている所定の領域ごとの2値化閾値が用いられ
る。
れたキズ101c,ヘコミ102c,ヘコミ103cが
表れている。この2値化画像23は、撮像画像21に表
れているプラスチックカード11の表面に存在する欠陥
であるキズ101a、ヘコミ102a,103aと、プ
ラスチックカード11の表面の欠陥ではない他の部分と
を区別した画像と見做すことができる。すなわち、この
2値化によってプラスチックカード11の表面に存在す
る欠陥を抽出したことになる。
て、良否判定手段は2値化画像23に基づいて、プラス
チックカード11の良否判定を行う。良否判定は、僅
かな欠陥であっても抽出されれば“不良”と判定する方
法、抽出された欠陥について特徴パラメータ(たとえ
ば、数、位置、面積)を算出した上で、所定の条件と比
較し良否判定を行う、等の方法を適用することができ
る。どのような良否判定方法を適用するかは、検査対象
物品に要求される外観上の仕様によって決定されるべき
ものである。次に、ステップS7において、表面検査を
継続するか終了するかの判定が行われ継続する場合には
ステップS1にもどって、上述の過程を繰り返す。一
方、終了する場合には終了とする。
を用いないで画像を2値化した比較例(従来技術)につ
いて説明する。図6に示す比較例において、撮像画像2
1と微分画像22を得る過程は、上述の本発明と類似の
過程である。しかし、微分画像22から2値化画像を得
る過程は根本的に異なっている。比較例においては、2
値化閾値として常用される固定閾値が用いられる。
(図2参照)と比較例において得られる2値化画像24
(図6参照)とを比較する。撮像画像21に現れるヘコ
ミ103aが2値化画像23においてはヘコミ103c
として抽出される。一方、撮像画像21に表れるヘコミ
103dが2値化画像24においては全く消失してしま
う。また、撮像画像21に現れるキズ101aが2値化
画像23においてはキズ101cとして抽出される。一
方、撮像画像21に現れるキズ101dが2値化画像2
4においてはキズ101fとして抽出され、キズ101
dの一部は抽出されないことが判る。
の全体において欠陥を抽出する性能を均一で高いものと
することができる。一方、比較例においては、撮像画像
の領域によって、すなわち周辺部分と中心部分とでは欠
陥を抽出する性能が異なったものとなる。
るデータ処理の過程の説明を終了する。次に、前述にお
いて詳細を説明しなかったその他の構成について説明す
る。まず、図4に示す本発明の表面検査装置における撮
像系の構成について説明する。エリアセンサカメラ1は
2次元に配列した受光素子(画素)によって構成される
CCD(charge coupled device )等のエリアセンサを
有する撮像手段である。エリアセンサカメラ1はハーフ
ミラー5を通過する光線を受光して平らな物品であるプ
ラスチックカード11を撮像する。撮像によりエリアセ
ンサに結像した光学像は時系列の電気信号に変換され、
撮像信号として出力される。
emitting diode)を発光させるための電力を供給する。
電源6としては、安定した所定の輝度が得られるよう
に、通常は直流安定化電源が用いられる。
数個を二次元に配置して成る面光源である。発光ダイオ
ードとしては、赤色発光、緑色発光、青色発光、等の発
光色を有するものが知られている。本発明においては、
発光色について特に限定はない。LED面光源3はそれ
らのいずれかの単独の発光色またはそれらを組み合わせ
た発光色の発光ダイオードによって構成することができ
る。また、半導体のエリアセンサには赤色波長帯におい
て強い感度を有するものが存在する。一般的に、エリア
センサの感度と発光色とを一致させることにより、照明
光の利用効率を高めることができる。
発光ダイオードが配置されており、2次元の広がりを有
する領域から光が放出される。したがって、LED面光
源3の前面に拡散板を有する場合は勿論のこと、拡散板
を有しない場合においてもLED面光源3は拡散光源と
して特性を有する。また、一般の発光ダイオードはレン
ズの作用を有する光放射表面を有し、方向による光放射
の強度は設計された所定の指向性を有する。強い指向性
を有する発光ダイオードを用いたLED面光源3は拡散
光源としての性質が弱まり、強い指向性を有する非拡散
光源(光ビーム)としての性質が強まる。撮像系全体の
構成に適合するように、このような発光ダイオードの指
向性を適宜選定することにより、図4に示す撮像系の構
成においてキズやヘコミを強調した撮像信号を得ること
ができる。
源3の放射光線をハーフミラー5の方向に反射する。ハ
ーフミラー5は光軸変換手段である。ハーフミラー5は
エリアセンサカメラ1とLED面光源3の光軸をプラス
チックカード11の側において一致させるとともにその
反対側において分離させる。このハーフミラー5によ
り、エリアセンサカメラ1とLED面光源3の設計や設
置における制約が少なく、また、プラスチックカード1
1の表面における照明の光軸はエリアセンサカメラ1の
撮像の光軸と一致させることができる。
おける撮像系の構成の別の一例について説明する。エリ
アセンサカメラ1はハーフミラー5を通過する光線を結
像レンズ2によって受光して平らな物品であるプラスチ
ックカード11を撮像する。結像レンズ2によりエリア
センサに結像した光学像は時系列の電気信号に変換さ
れ、撮像信号として出力される。
トリック光学系としたレンズを用いる。言い換えると、
結像レンズ10を用いて、テレセントリック光学系を構
成している。すなわち、平らな物品の表面から反射する
方向が完全に一致する条件の揃った光線によって撮像を
行うことができ、しかも、その条件を満たす撮像範囲が
広い。したがって、平らな物品の表面の全範囲において
完全に均一、かつ、欠陥検出に合致する条件で撮像を行
うことができる。
学系においては、プラスチックカード11の位置変動等
により結像位置が変動すると、エリアセンサカメラ1の
エリアセンサ表面上でピントがずれると同時に光学像の
大きさ(倍率)が変動する。しかし、テレセントリック
である光学系においては、ピントはずれるが光学像の大
きさ(倍率)の変動を最小限度に押さえることができ
る。すなわち、エリアセンサカメラ1とプラスチックカ
ード11の距離の変動、プラスチックカード11の厚み
の差異、等にともなって変動するエリアセンサカメラ1
に結像するプラスチックカード11の光学像の寸法変動
を実質的に無くすことができる。
像データとを画素単位で比較して検査を行う検査方法に
おいては、検査対象画像データと基準画像データとにお
ける画像間の位置合わせ、および、拡大縮小等による幾
何学的歪みを無くすことが重要である。表面検査装置に
おける検査アルゴリズムとしてこの検査方法が行われる
場合においては、上述のテレセントリックである光学系
を用いることにより、その検査方法を好適に実施するた
めの条件を容易に満たすことが可能である。
ず、検査対象画像データから欠陥を抽出して検査を行う
検査方法、検査対象画像データと基準画像データとを
画素単位で比較して検査を行う検査方法のいずれかに限
定されるものではなく、いずれの方法においても適用す
ることができる。
よれば、平らな物品の表面の欠陥を製造工程等において
検査する欠陥検出性能に優れる表面検査装置が提供され
る。また本発明の請求項2に係る表面検査装置によれ
ば、最適化された2値化閾値として2値化閾値演算手段
により撮像画像の所定の領域ごとの平均画素値に1以下
の所定の係数またはその平均画素値をパラメータとする
関数値を乗算した2値化閾値が算出される。また本発明
の請求項3に係る表面検査装置によれば、撮像画像のm
×nの各領域に対して2値化閾値が算出される。また本
発明の請求項4に係る表面検査装置によれば、照明の光
軸が撮像手段の撮像の光軸と一致する光線により照明さ
れた平らな物品の表面が撮像される。
程の一例を示すフロー図である。
程において生成する画像を示す絵図である。
出する過程を図表として示す図である。
一例を示す図である。
別の一例を示す図である。
2値化した比較例(従来技術)を示す図である。
101f 画像に現れた平らな物品のキズ(疵) 102a,102b,102c,102d,102e,
102f,103a,103b,103c,103d,
103e 画像に現れた平らな物品のヘコミ(凹み)
Claims (4)
- 【請求項1】平らな物品の表面における欠陥を検査する
表面検査装置であって、撮像手段とA/D変換手段と微
分手段と2値化閾値演算手段と2値化手段と良否判定手
段とを有し、 前記撮像手段は前記平らな物品の表面を撮像して撮像信
号を生成し、 前記A/D変換手段は前記撮像信号を入力してディジタ
ルデータに変換し撮像画像を生成し、 前記微分手段は前記撮像画像を微分して微分画像を生成
し、 前記2値化閾値演算手段は前記撮像画像に基づいて所定
の領域ごとの2値化閾値を算出し、 前記2値化手段は前記所定の領域ごとの2値化閾値を用
いて前記所定の領域ごとに前記微分画像を2値化した2
値化画像を生成し、 前記良否判定手段は前記2値化画像に基づいて前記平ら
な物品の良否判定を行う、 ことを特徴とする表面検査装置。 - 【請求項2】請求項1記載の表面検査装置において、前
記2値化閾値演算手段は前記撮像画像の所定の領域ごと
の平均画素値を算出し、その平均画素値に1以下の所定
の係数またはその平均画素値をパラメータとする関数値
を乗算して2値化閾値を算出することを特徴とする表面
検査装置。 - 【請求項3】請求項1または2記載の表面検査装置にお
いて、前記所定の領域は、mとnを正の整数として前記
撮像画像の天地をm分割、左右をn分割して得られるm
×nの領域であることを特徴とする表面検査装置。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれか記載の表面検査装
置において、前記平らな物品の表面における照明の光軸
が前記撮像手段の撮像の光軸と一致する光線により前記
平らな物品の表面を照明する照明手段を有することを特
徴とする表面検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11142811A JP2000329538A (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11142811A JP2000329538A (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 表面検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000329538A true JP2000329538A (ja) | 2000-11-30 |
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ID=15324189
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11142811A Pending JP2000329538A (ja) | 1999-05-24 | 1999-05-24 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP2000329538A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1999-05-24 JP JP11142811A patent/JP2000329538A/ja active Pending
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