JP2006133020A - レーザ光線射出装置 - Google Patents

レーザ光線射出装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006133020A
JP2006133020A JP2004320692A JP2004320692A JP2006133020A JP 2006133020 A JP2006133020 A JP 2006133020A JP 2004320692 A JP2004320692 A JP 2004320692A JP 2004320692 A JP2004320692 A JP 2004320692A JP 2006133020 A JP2006133020 A JP 2006133020A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
wavelength selection
wavelength
selection film
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004320692A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4614737B2 (ja
Inventor
Michiyo Saito
路世 斎藤
Kunihiro Hayashi
邦広 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Topcon Corp filed Critical Topcon Corp
Priority to JP2004320692A priority Critical patent/JP4614737B2/ja
Priority to US11/244,848 priority patent/US20060093013A1/en
Priority to CN2005101201579A priority patent/CN1769840B/zh
Publication of JP2006133020A publication Critical patent/JP2006133020A/ja
Priority to US12/157,773 priority patent/US7554650B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4614737B2 publication Critical patent/JP4614737B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938Using specific optical elements
    • G02B27/095Refractive optical elements
    • G02B27/0972Prisms
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C15/00Surveying instruments or accessories not provided for in groups G01C1/00 - G01C13/00
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/481Constructional features, e.g. arrangements of optical elements
    • G01S7/4811Constructional features, e.g. arrangements of optical elements common to transmitter and receiver
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0004Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed
    • G02B19/0009Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only
    • G02B19/0014Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the optical means employed having refractive surfaces only at least one surface having optical power
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G02B19/0052Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/108Scanning systems having one or more prisms as scanning elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/005Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
    • H01S5/0071Optical components external to the laser cavity, specially adapted therefor, e.g. for homogenisation or merging of the beams or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping for beam steering, e.g. using a mirror outside the cavity to change the beam direction

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

【課題】
偏光板を個別に設けることなく、戻り光を遮断できる様にし、レーザ光線射出装置の構成を簡略化する。
【解決手段】
レーザ光源1から発せられたレーザ光線5を波長選択膜11を通して射出するレーザ光線射出装置に於いて、前記波長選択膜より射出側の光軸6上に複屈折光学部材8を配設し、前記波長選択膜を前記レーザ光線の入射角が45°〜80°となる様に傾斜させた。
【選択図】 図1

Description

本発明は、レーザ光源から発せられたレーザ光線の戻り光を遮断する構成を具備するレーザ光線射出装置に関するものである。
レーザ光線を発するレーザ光源は、戻り光があると出力が低下することが知られており、レーザ光線を利用した測量装置では戻り光を遮断する構成を有している。
図7は、戻り光を遮断する作用を有する従来のレーザ光線射出装置の光学系の概略を示している。
図7中、1は半導体レーザを示し、2は集光レンズ、3は光束断面の2方向で収束角の異なる2枚の楔状プリズム4a,4bによって構成されるアナモルフィックプリズムを示している。該アナモルフィックプリズム3を透過したレーザ光線5は射出光軸6上に射出され、該射出光軸6上にはP偏光を透過する偏光板7、1/4λ板(複屈折光学部材)8が配設されている。尚、9は前記レーザ光線5を反射する光学部品であり、例えば反射プリズムである。
前記半導体レーザ1から射出された前記レーザ光線5は、例えばP偏光の直線偏光であり、該レーザ光線5の光束断面は楕円形をしている。前記集光レンズ2により平行光束とされた前記レーザ光線5は、前記アナモルフィックプリズム3の2枚の楔状プリズム4a,4bにより、前記レーザ光線5の光束断面の短軸方向が拡大され、光束断面が円形となる様ビーム整形される。
前記アナモルフィックプリズム3を透過し、光束が円形状となったレーザ光線5は、前記偏光板7を透過し、前記1/4λ板8で円偏光に変換されて照射される。
前記光学部品9で反射された円偏光の反射レーザ光線5′は、前記1/4λ板8を透過することで直線偏光に偏光状態が変換され、更に変換された直線偏光の前記反射レーザ光線5′は射出された前記レーザ光線5に対して90°偏光方向が異なり、S偏光となっている。前記偏光板7はP偏光を透過する様に配置されているので、該偏光板7によりS偏光の前記反射レーザ光線5′は遮断され前記半導体レーザ1には到達しない。
上記した従来のレーザ光線射出装置では、前記射出光軸6に設けられた前記偏光板7と前記1/4λ板8の組合わせで前記反射レーザ光線5′の戻りを遮断しているので、前記射出光軸6上に前記偏光板7が必要である。この為、光学系の構成が複雑となっていたと共に、前記偏光板7が設けられることで該偏光板7の両面での反射が生じ、レーザ光線の損失が生じていた。
本発明は斯かる実情に鑑み、偏光板を個別に設けることなく、戻り光を遮断できる様にし、レーザ光線射出装置の構成を簡略化するものである。
本発明は、レーザ光源から発せられたレーザ光線を波長選択膜を通して射出するレーザ光線射出装置に於いて、前記波長選択膜より射出側の光軸上に複屈折光学部材を配設し、前記波長選択膜を前記レーザ光線の入射角が45°〜80°となる様に傾斜させたレーザ光線射出装置に係り、又前記レーザ光線射出装置がアナモルフィックプリズムを具備し、前記波長選択膜は前記アナモルフィックプリズムを構成する楔状プリズムの一面に形成されたレーザ光線射出装置に係り、又前記アナモルフィックプリズムの入射レーザ光線に対して45°〜80°となる入射面に前記波長選択膜が形成されるレーザ光線射出装置に係り、又前記波長選択膜は、レーザ光線の入射角が60°〜70°の範囲で傾斜されるレーザ光線射出装置に係り、又前記波長選択膜は、レーザ光線の波長と入射角に応じて決定されるレーザ光線射出装置に係り、更に又前記波長選択膜は、前記ロングパスフィルタ又はショートパスフィルタであるレーザ光線射出装置に係るものである。
本発明によれば、レーザ光源から発せられたレーザ光線を波長選択膜を通して射出するレーザ光線射出装置に於いて、前記波長選択膜より射出側の光軸上に複屈折光学部材を配設し、前記波長選択膜を前記レーザ光線の入射角が45°〜80°となる様に傾斜させたので、前記波長選択膜はP偏光成分とS偏光成分を透過する透過特性に差異を生じ、該波長選択膜が偏光板としての作用を発揮するので、別途偏光板を設けなくても戻り光を遮断でき、光学系の構成が簡略化できる。
又、本発明によれば、前記レーザ光線射出装置がアナモルフィックプリズムを具備し、前記波長選択膜は前記アナモルフィックプリズムを構成する楔状プリズムの一面に形成されたので、別途偏光板を設けなくても戻り光を遮断でき、光学系の構成が簡略化できるという優れた効果を発揮する。
以下、図面を参照しつつ本発明を実施する為の最良の形態を説明する。
先ず、図1に於いてレーザ光線射出装置の光学系の基本構成を説明する。尚、図1中、図7中で示したものと同等のものには同符号を付してある。
半導体レーザ1からのレーザ光線5はアナモルフィックプリズム3によりビーム整形されて射出され、前記レーザ光線5の射出光軸6上には1/4λ板8が設けられている。
前記アナモルフィックプリズム3を構成する楔状プリズム4a,4bの少なくとも1面、例えば前記楔状プリズム4aの前記半導体レーザ1に対向する面に、波長選択膜11を形成する。該波長選択膜11はレーザ光線の入射軸に対して45°以上の傾きとなる面に形成することによりビームスプリッタとして機能をする。
次に、前記波長選択膜11の特性について図2(A)、図2(B)、図2(C)、図3(A)、図3(B)、図3(C)に於いて説明する。
図2(A)、図2(B)、図2(C)は透明板12に前記波長選択膜11(ロングパスフィルタ又はショートパスフィルタ)を形成し、前記透明板12に前記レーザ光線5を入射させ、入射角を0°、45°、60°と変化させた場合を示し、図3(A)、図3(B)、図3(C)は、その時のP偏光成分、S偏光成分の透過率の変化を示すものである。図3(B)、図3(C)中、PがP偏光成分の透過率曲線、SがS偏光成分の透過率曲線を示している。
前記透明板12、即ち前記波長選択膜11に、図2(A)に示す様に、前記レーザ光線5が0°の入射角、即ち直角に入射した場合、図3(A)に示される様に、P偏光成分、S偏光成分共に前記レーザ光線5の波長に対する透過率の状態は同じであり、波長λA で透過率が略90%を越える。この場合、前記波長選択膜11は単なる波長選択膜である。
次に、前記波長選択膜11に、図2(B)に示す様に、前記レーザ光線5が45°の入射角で入射した場合、図3(B)に示される様に、P偏光成分、S偏光成分共に前記レーザ光線5の透過波長は短波長側に変移し、P偏光成分はλB 、S偏光成分はλB ′で透過率が略90%を越える様になる。更に、変移量はP偏光成分の方が大きく、P偏光成分は透過するが、S偏光成分は遮断する領域13(図3(B)中斜線で示す)が生じる。従って、前記波長選択膜11は前記領域13に含まれる波長に対しては偏光板と同等の機能を有することになる。
更に、前記波長選択膜11に、図2(C)に示す様に、前記レーザ光線5が60°の入射角で入射した場合、図3(C)に示される様に、P偏光成分、S偏光成分共に前記レーザ光線5の透過波長は更に短波長側に変移し、P偏光成分はλC 、S偏光成分はλC ′で透過率が略90%を越える様になる。又、P偏光成分とS偏光成分の変移量の差は更に大きくなり、P偏光成分は透過するが、S偏光成分は遮断する領域13(図3(C)中斜線で示す)は入射角が45°の時より大きくなる。入射角60°の場合も、前記波長選択膜11は前記領域13に含まれる波長に対しては偏光板と同等の機能を有することになる。
而して、図2(C)、図3(C)に示される様に、前記波長選択膜11を入射角に対して60°傾斜させ、前記領域13に含まれる波長の前記レーザ光線5を使用した場合は、前記波長選択膜11はP偏光成分は透過するが、S偏光成分は遮断する偏光板として使用することができる。
上記した波長選択膜11の特性を利用し、前記楔状プリズム4a,4bの少なくとも一面に前記波長選択膜11を形成し、該波長選択膜11を前記レーザ光線5に対して所要角度、例えば60°傾斜させる。
前記半導体レーザ1から射出されるP偏光のレーザ光線5は、前記領域13に含まれる波長を有している。前記レーザ光線5は前記集光レンズ2で平行光束とされ、P偏光のレーザ光線5は前記波長選択膜11を透過し、前記アナモルフィックプリズム3の楔状プリズム4a,4bにより光束断面が円形にビーム整形される。前記アナモルフィックプリズム3を透過した前記レーザ光線5は、前記1/4λ板8で円偏光に変換され、前記光学部品9に照射される。該光学部品9で反射された反射レーザ光線5′が再び前記1/4λ板8を透過することで、S偏光に変換される。S偏光の反射レーザ光線5′は前記波長選択膜11に遮断され、前記半導体レーザ1には到達しない。
前記波長選択膜11の傾斜角は、P偏光成分とS偏光成分の透過特性に差異を生じさせ、前記領域13が得られればよく、例えば45°〜80°、好ましくは60°〜70°の傾斜角が選択される。LDの波長のバラツキ、膜のバラツキ等を考えると偏光ビームスプリッタとして使用できる波長帯域は広い方が良く、60°以上の入射角が好ましい。然し入射角を大きくするということは部品を傾けることなので、あまり大きくするとスペース的にも大きな空間が必要となり好ましくなく、60°〜70°が好ましい。
而して、本発明によれば、偏光板を別途設けることなく、戻り光を遮断することができる。
図4〜図6に於いて、本発明に係るレーザ光線射出装置を具備する測量装置の一例を説明する。尚、図4〜図6中、図1中で示したものと同等のものには同符号を付してある。
該測量装置は、レーザ光線を水平方向に回転照射して水平基準面を形成するレーザ回転照射装置であり、主にレーザ光線射出装置15、傾斜補正系16、照射光学系17、回転照射部18、受光系19を具備している。
前記半導体レーザ1から射出されたレーザ光線5は、前記傾斜補正系16で光軸の傾き補正がなされ、前記照射光学系17によって鉛直光軸上に投射される。前記回転照射部18は前記レーザ光線5を水平方向に偏向すると共に回転照射する。照射されたレーザ光線5は水平基準面を形成すると共に対象反射体20を横切ることで、該対象反射体20によって反射される。反射レーザ光線5′は、前記回転照射部18を経て前記受光系19で受光検出され、該受光系19で前記対象反射体20の位置、方向等が検出される。
前記半導体レーザ1は、図6に示される様にLD駆動部21によって発光が駆動制御される。前記半導体レーザ1から射出される前記レーザ光線5の一部が分割され、フォトダイオード等の受光素子22で受光検出され、受光結果は出力電流制御回路23にフィードバックされ、該出力電流制御回路23は受光信号に基づき、例えば前記レーザ光線5が一定の光強度となる為の制御信号を半導体レーザ駆動回路24に送出し、該半導体レーザ駆動回路24は制御信号に基づき前記半導体レーザ1を駆動する。
前記傾斜補正系16は、自由液面25を有し、前記半導体レーザ1から照射された前記レーザ光線5が前記自由液面25で反射されることで、レーザ回転照射装置が傾いて設置されていた場合にも、前記照射光学系17の投射光軸を鉛直に補償し、傾き補正を行うものである。
前記傾斜補正系16から前記照射光学系17に至る射出光軸6上には、アナモルフィックプリズム3が設けられており、該アナモルフィックプリズム3を構成する楔状プリズム4a,4bの一面は前記射出光軸6に対して所要角度傾いている。例えば、図1で示された様に前記楔状プリズム4aの入射面は、前記射出光軸6に対して60°傾斜しており、前記楔状プリズム4aの入射面には波長選択膜11が形成されている。
前記照射光学系17は前記アナモルフィックプリズム3を透過した前記レーザ光線5を鉛直方向に偏向する反射鏡26、該反射鏡26の反射光軸上に前記レーザ光線5の光束径を拡大するビームエキスパンダ27、孔明き反射鏡28、前記レーザ光線射出装置15の構成要素でもある1/4λ板8が設けられている。
前記回転照射部18は前記孔明き反射鏡28の孔29、前記1/4λ板8を透過した前記レーザ光線5を水平方向に偏向するペンタプリズム31を具備し、該ペンタプリズム31は中空形状の回転ホルダ32に設けられ、該回転ホルダ32が回転モータ33によって回転されることで、前記回転ホルダ32から射出される前記レーザ光線5が回転照射される様になっている。
前記対象反射体20で反射された反射レーザ光線5′は前記回転照射部18より入射され、前記孔明き反射鏡28によって前記受光系19に向けて偏向される。
該受光系19は集光レンズ34、偏光板35、ピンホール板36、受光素子37を具備し、前記対象反射体20からの前記反射レーザ光線5′を受光可能となっており、前記偏光板35はS偏光成分を透過する様に配設されている。
前記受光素子37からの受光信号は、制御部38に送出され、該制御部38は前記受光信号に基づき前記回転モータ33の回転を制御、例えば前記対象反射体20を中心に所要角で往復走査する等の制御を行う。
以下、上記レーザ回転照射装置のレーザ光線5、反射レーザ光線5′に関する作用について説明する。
前記半導体レーザ1からは、前記領域13の波長を有するP偏光の直線レーザ光線5が射出される。前記自由液面25で反射されたレーザ光線5は、前記波長選択膜11を透過し、前記アナモルフィックプリズム3でビーム整形され、前記反射鏡26で鉛直方向に偏向されると共に所要のビーム径に拡大される。前記孔29を通過し、更に前記1/4λ板8を透過することで円偏光に変換され、前記回転照射部18で水平方向に偏向されると共に回転照射される。
前記対象反射体20で反射された反射レーザ光線5′は前記回転照射部18より入射し、前記1/4λ板8を再び透過することで、S偏光の直線偏光に変換される。
前記反射レーザ光線5′は前記孔29により前記受光系19に向けて反射され、前記集光レンズ34により前記受光素子37の受光面に集光され、前記偏光板35はS偏光成分のみを透過し、その他の外乱光を遮断する。又、前記ピンホール板36は光軸上の限られた光束を透過させ、他の外乱光を遮断して、前記対象反射体20からの前記反射レーザ光線5′のみが前記受光素子37に受光される様にする。
前記1/4λ板8を透過した前記反射レーザ光線5′の一部は前記孔29を通過して、前記レーザ光線射出装置15に戻り光として入射する。前記波長選択膜11は、P偏光を透過する様に傾斜されているので、S偏光である前記反射レーザ光線5′は前記波長選択膜11で遮断され、前記半導体レーザ1には入射しない。従って、該半導体レーザ1の出力の低下が防止され、該半導体レーザ1からは安定した前記レーザ光線5が射出される。
尚、前記反射レーザ光線5′には前記対象反射体20からの他に、図5に示される様に前記ペンタプリズム31等の光学部材の表面からの反射も含まれるが、同様に前記1/4λ板8を往路、復路で透過することで、S偏光に変換され、前記波長選択膜11によって遮断される。
又、1/4λ板は前記レーザ光線射出装置15、及び前記受光系19それぞれに個別に設けてもよい。例えば、前記アナモルフィックプリズム3と前記反射鏡26との間及び前記孔明き反射鏡28と前記集光レンズ34との間にそれぞれ1/4λ板が設けられてもよい。
又、本発明がレーザ回転照射装置に設けられた場合を説明したが、光波測距装置等に設けられてもよい等、戻り光の影響を除去する必要がある光学装置に同様に実施可能である。
本発明の実施の形態を示す概略構成図である。 (A)(B)(C)は透明板に形成された波長選択膜とレーザ光線の入射角との関係を示す説明図であり、(A)は入射角が0°、(B)は入射角が45°、(C)は入射角が60°の場合を示している。 (A)(B)(C)は波長選択膜に対するレーザ光線の入射角と透過率との関係を示す説明図であり、(A)は入射角が0°、(B)は入射角が45°、(C)は入射角が60°の場合を示している。 本発明が実施されるレーザ回転照射装置の概略構成図である。 該レーザ回転照射装置の光学系の要部を示す説明図である。 該レーザ回転照射装置のLD駆動部のブロック図である。 従来のレーザ光線射出装置を示す概略構成図である。
符号の説明
1 半導体レーザ
2 集光レンズ
3 アナモルフィックプリズム
4a,4b 楔状プリズム
5 レーザ光線
6 射出光軸
8 1/4λ板
9 光学部品
11 波長選択膜
13 領域
15 レーザ光線射出装置
16 傾斜補正系
17 照射光学系
18 回転照射部
19 受光系

Claims (6)

  1. レーザ光源から発せられたレーザ光線を波長選択膜を通して射出するレーザ光線射出装置に於いて、前記波長選択膜より射出側の光軸上に複屈折光学部材を配設し、前記波長選択膜を前記レーザ光線の入射角が45°〜80°となる様に傾斜させたことを特徴とするレーザ光線射出装置。
  2. 前記レーザ光線射出装置がアナモルフィックプリズムを具備し、前記波長選択膜は前記アナモルフィックプリズムを構成する楔状プリズムの一面に形成された請求項1のレーザ光線射出装置。
  3. 前記アナモルフィックプリズムの入射レーザ光線に対して45°〜80°となる入射面に前記波長選択膜が形成される請求項2のレーザ光線射出装置。
  4. 前記波長選択膜は、レーザ光線の入射角が60°〜70°の範囲で傾斜される請求項1及び請求項3のレーザ光線射出装置。
  5. 前記波長選択膜は、レーザ光線の波長と入射角に応じて決定される請求項1及び請求項3のレーザ光線射出装置。
  6. 前記波長選択膜は、ロングパスフィルタ又はショートパスフィルタである請求項1及び請求項2のレーザ光線射出装置。
JP2004320692A 2004-11-04 2004-11-04 レーザ光線射出装置 Active JP4614737B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004320692A JP4614737B2 (ja) 2004-11-04 2004-11-04 レーザ光線射出装置
US11/244,848 US20060093013A1 (en) 2004-11-04 2005-10-06 Laser beam projecting device
CN2005101201579A CN1769840B (zh) 2004-11-04 2005-11-04 激光光线出射装置
US12/157,773 US7554650B2 (en) 2004-11-04 2008-06-13 Laser beam projecting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004320692A JP4614737B2 (ja) 2004-11-04 2004-11-04 レーザ光線射出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006133020A true JP2006133020A (ja) 2006-05-25
JP4614737B2 JP4614737B2 (ja) 2011-01-19

Family

ID=36261823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004320692A Active JP4614737B2 (ja) 2004-11-04 2004-11-04 レーザ光線射出装置

Country Status (3)

Country Link
US (2) US20060093013A1 (ja)
JP (1) JP4614737B2 (ja)
CN (1) CN1769840B (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7646546B1 (en) * 2005-06-10 2010-01-12 Cvi Laser, Llc Anamorphic optical system providing a highly polarized laser output
CN101644883A (zh) * 2008-08-08 2010-02-10 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 车用投影系统
EP2789973B1 (de) * 2013-04-12 2017-11-22 Hexagon Technology Center GmbH Rotationslaser mit durch Aktuatoren gezielt verformbarer Linse
KR20160000988A (ko) * 2014-06-25 2016-01-06 한국전자통신연구원 영상 획득 장치 및 영상 획득 방법
US10481101B2 (en) * 2017-01-23 2019-11-19 Applied Materials Israel Ltd. Asymmetrical magnification inspection system and illumination module
CN108309559A (zh) * 2018-02-05 2018-07-24 苏州宣嘉光电科技有限公司 诱导视网膜产生和释放多巴胺并激活多巴胺受体d1的方法及眼科治疗仪器
CN109974677A (zh) * 2019-04-19 2019-07-05 常州华达科捷光电仪器有限公司 一种光路结构和使用该光路结构的激光投线仪
WO2022100278A1 (zh) * 2020-11-11 2022-05-19 青岛海信宽带多媒体技术有限公司 一种光模块

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6379003A (ja) * 1986-09-22 1988-04-09 Mitsutoyo Corp 形状測定用光プロ−ブ
JPH0886651A (ja) * 1994-09-19 1996-04-02 Asahi Optical Co Ltd レーザ測量装置
JP2001317938A (ja) * 2000-05-01 2001-11-16 Asahi Optical Co Ltd 光波距離計を有する測量機
JP2004053525A (ja) * 2002-07-23 2004-02-19 Ricoh Opt Ind Co Ltd 集光レーザ光束測定方法および装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5157459A (en) * 1989-08-29 1992-10-20 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Wave front aberration measuring apparatus
JP3168770B2 (ja) * 1993-06-03 2001-05-21 松下電器産業株式会社 偏光装置および該偏光装置を用いた投写型表示装置
US5825555A (en) * 1994-09-19 1998-10-20 Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha Beam projecting apparatus
US6728488B1 (en) * 2001-01-26 2004-04-27 Avanex Corporation Optical systems employing anamorphic beams and diffraction gratings
US6704339B2 (en) * 2001-01-29 2004-03-09 Cymer, Inc. Lithography laser with beam delivery and beam pointing control
US6609795B2 (en) * 2001-06-11 2003-08-26 3M Innovative Properties Company Polarizing beam splitter
JP4574439B2 (ja) * 2004-08-09 2010-11-04 キヤノン株式会社 偏光分離素子及びそれを有する投影装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6379003A (ja) * 1986-09-22 1988-04-09 Mitsutoyo Corp 形状測定用光プロ−ブ
JPH0886651A (ja) * 1994-09-19 1996-04-02 Asahi Optical Co Ltd レーザ測量装置
JP2001317938A (ja) * 2000-05-01 2001-11-16 Asahi Optical Co Ltd 光波距離計を有する測量機
JP2004053525A (ja) * 2002-07-23 2004-02-19 Ricoh Opt Ind Co Ltd 集光レーザ光束測定方法および装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20080252875A1 (en) 2008-10-16
US20060093013A1 (en) 2006-05-04
CN1769840A (zh) 2006-05-10
CN1769840B (zh) 2010-06-09
JP4614737B2 (ja) 2011-01-19
US7554650B2 (en) 2009-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7554650B2 (en) Laser beam projecting device
US9918055B2 (en) Polarization converting element, light source device, lighting device, and projector
JP4936818B2 (ja) ダイクロイックプリズムによる光分割した測量機
JP2022000659A (ja) 計測装置
JP2020013697A5 (ja)
US7092076B2 (en) Surveying instrument
JPH10132557A (ja) レーザセオドライト
JP6859762B2 (ja) 照明装置およびプロジェクター
JP3681198B2 (ja) レーザ測量機
JPS63271313A (ja) 偏光器
JP3672438B2 (ja) 光学式エンコーダ装置
JP2939413B2 (ja) 対象反射物体検出装置
JP2005099459A (ja) 光束径変換素子およびこれを用いたレーザ光送受光装置
JP2004163164A (ja) 自動視準機能と測距機能を有する測量機
JPS60149985A (ja) 光波測距装置
JP2017224679A (ja) レーザ発振器、及び、エラー検知方法
JP2006091377A (ja) インナードラム露光装置
JP2591421B2 (ja) 投射型液晶表示装置
KR920010908B1 (ko) 거울기검출헤드
JPH05341234A (ja) 偏光光学系および液晶プロジェクタ装置
JP3640360B2 (ja) 偏光方向整列素子
JPH0298618A (ja) 位置決め検出器
JP2003185836A (ja) 偏光ビームスプリッタ及び光アイソレータ光学系
KR100219640B1 (ko) 반사형 액정 프로젝트 장치
JPH0996767A (ja) 空間光通信装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071101

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20071101

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100513

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100518

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100525

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101012

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101019

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4614737

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131029

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250