JP2006131443A - 脆性材料の割断方法とその装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レーザ発振器4から照射されたレーザ光Lは、反射ミラー7によって反射した後、集光手段5により集光され、板状の脆性材料2の内部に集光部Cが形成される。
上記集光手段5は振動手段6によって脆性材料の板厚方向に振動し、さらに脆性材料を加工テーブル3によって移動させることで、上記集光部は割断予定線Qに沿って移動しながら板厚方向に往復動し、脆性材料の内部には板厚方向に波形の軌跡で改質領域Tが形成される。
そして改質領域から脆性材料の表面にクラックを進展させることで、脆性材料を割断することができる。
【効果】 板厚の厚い脆性材料であっても、高精度かつ短時間に割断することができる。
【選択図】 図2
上記集光手段5は振動手段6によって脆性材料の板厚方向に振動し、さらに脆性材料を加工テーブル3によって移動させることで、上記集光部は割断予定線Qに沿って移動しながら板厚方向に往復動し、脆性材料の内部には板厚方向に波形の軌跡で改質領域Tが形成される。
そして改質領域から脆性材料の表面にクラックを進展させることで、脆性材料を割断することができる。
【効果】 板厚の厚い脆性材料であっても、高精度かつ短時間に割断することができる。
【選択図】 図2
Description
本発明は脆性材料の割断方法とその装置に関し、脆性材料にレーザ光を照射して所要の形状に割断するようにした割断方法とその装置に関する。
従来、ガラスや半導体材料などの板状の脆性材料を所要の割断予定線に従って割断するため、レーザ光を集光して上記脆性材料に照射し、該レーザ光を上記割断予定線に沿って移動させる方法が知られている。(特許文献1〜3)
これらの特許文献では、上記脆性材料の内部に、レーザ光を集光させて集光部を形成し、この集光部の部分で多光子吸収を発生させることで、その部分をクラック領域や溶融処理領域などの改質領域に変質させる。
そして上記集光部を割断予定線に沿って移動させることで、上記改質領域が割断予定線に沿って形成され、その後、脆性材料に人為的な力を印加したり、またはそのまま放置することで、上記改質領域を基点に脆性材料の表面までクラックが進展し、脆性材料を割断予定線で分離させることができる。
特に特許文献3の割断方法は、上記集光部を板厚方向に順次移動させ、上記改質領域を脆性材料のレーザ光の入射方向に複数形成する割断方法であって、当該方法により板厚の厚い脆性材料であっても割断可能となっている。
特開2003−19582号公報
特開2003−236688号公報
特開2002―205180号公報
これらの特許文献では、上記脆性材料の内部に、レーザ光を集光させて集光部を形成し、この集光部の部分で多光子吸収を発生させることで、その部分をクラック領域や溶融処理領域などの改質領域に変質させる。
そして上記集光部を割断予定線に沿って移動させることで、上記改質領域が割断予定線に沿って形成され、その後、脆性材料に人為的な力を印加したり、またはそのまま放置することで、上記改質領域を基点に脆性材料の表面までクラックが進展し、脆性材料を割断予定線で分離させることができる。
特に特許文献3の割断方法は、上記集光部を板厚方向に順次移動させ、上記改質領域を脆性材料のレーザ光の入射方向に複数形成する割断方法であって、当該方法により板厚の厚い脆性材料であっても割断可能となっている。
上記特許文献1、2の場合、板厚の厚い脆性材料を割断するには、改質領域を形成した後、大きな力を脆性材料に印加させるか、レーザ光の出力を上げて集光部を中心に広範囲な改質領域を形成させ、当該改質領域を板厚方向に拡大させる必要がある。
しかしながら、大きな力を脆性材料に印加する際、改質領域と脆性材料の表面までの距離が離れていると、改質領域からのクラックが割断予定線に沿って進展せず、精度良く割断できないという問題がある。
また広範囲に改質領域を形成してしまうと、改質領域は脆性材料の厚さ方向だけではなく、割断予定線の幅方向にも拡大してしまうため、改質領域の幅内で割断した面がゆがみ、精度良く割断できないという問題がある。
さらに、上記特許文献3の場合、レーザ光の屈折等を防止するため、改質領域を脆性材料の板厚方向に複数形成する際、改質領域を脆性材料の裏面側に形成してから、表面側に形成する必要がある。
このため、割断予定線の同じ位置に、改質領域を板厚方向に複数形成しなければならず、また集光部を移動させる経路が限定されてしまうので、割断に時間がかかってしまう。
このような問題を解決するため、本発明は板厚の厚い脆性材料であっても、高精度でかつ短時間に割断することの可能な脆性材料の割断方法及びその装置を提供するものである。
しかしながら、大きな力を脆性材料に印加する際、改質領域と脆性材料の表面までの距離が離れていると、改質領域からのクラックが割断予定線に沿って進展せず、精度良く割断できないという問題がある。
また広範囲に改質領域を形成してしまうと、改質領域は脆性材料の厚さ方向だけではなく、割断予定線の幅方向にも拡大してしまうため、改質領域の幅内で割断した面がゆがみ、精度良く割断できないという問題がある。
さらに、上記特許文献3の場合、レーザ光の屈折等を防止するため、改質領域を脆性材料の板厚方向に複数形成する際、改質領域を脆性材料の裏面側に形成してから、表面側に形成する必要がある。
このため、割断予定線の同じ位置に、改質領域を板厚方向に複数形成しなければならず、また集光部を移動させる経路が限定されてしまうので、割断に時間がかかってしまう。
このような問題を解決するため、本発明は板厚の厚い脆性材料であっても、高精度でかつ短時間に割断することの可能な脆性材料の割断方法及びその装置を提供するものである。
すなわち、本発明に係る脆性材料の割断方法は、レーザ光を集光して集光部を形成し、当該集光部を板状の脆性材料の割断予定線に沿って移動させて、当該脆性材料の割断を行う脆性材料の割断方法において、
上記集光部を脆性材料の内部でその板厚方向に振動させながら、割断予定線に沿って移動させることを特徴としている。
上記集光部を脆性材料の内部でその板厚方向に振動させながら、割断予定線に沿って移動させることを特徴としている。
また、本発明に係る脆性材料の割断装置は、レーザ光を発振するレーザ発振器と、上記レーザ光を集光して集光部を形成する集光手段と、板状の脆性材料と集光手段とを相対移動させる移動手段とを備え、上記集光部を上記脆性材料の割断予定線に沿って移動させて、当該脆性材料の割断を行う脆性材料の割断装置において、
上記集光部を脆性材料の板厚方向に振動させる振動手段を設け、この振動手段により上記集光部を脆性材料の内部でその板厚方向に振動させながら、上記移動手段により該集光部を割断予定線に沿って移動させることを特徴としている。
上記集光部を脆性材料の板厚方向に振動させる振動手段を設け、この振動手段により上記集光部を脆性材料の内部でその板厚方向に振動させながら、上記移動手段により該集光部を割断予定線に沿って移動させることを特徴としている。
上記割断方法及びその装置によれば、集光部を割断予定線に沿って移動させると共に、脆性材料の内部で集光部を板厚方向に振動させているので、脆性材料の内部には板厚方向に略波形の軌跡を描く改質領域が形成されることとなる。
その結果、上記改質領域における波形の頂点に位置する部分を、脆性材料の表面に接近させることができるので、クラックが脆性材料の表面に進展しやすく、また割断予定線の幅方向に改質領域が広がらないので、割断予定線に沿って高精度に割断を行うことができる。
さらに、上記集光部を振動させながら割断予定線に沿って移動させればよいので、改質領域を裏面側に形成してから表面側に形成するといったことを行う必要がなく、短時間に割断を行うことができる。
その結果、上記改質領域における波形の頂点に位置する部分を、脆性材料の表面に接近させることができるので、クラックが脆性材料の表面に進展しやすく、また割断予定線の幅方向に改質領域が広がらないので、割断予定線に沿って高精度に割断を行うことができる。
さらに、上記集光部を振動させながら割断予定線に沿って移動させればよいので、改質領域を裏面側に形成してから表面側に形成するといったことを行う必要がなく、短時間に割断を行うことができる。
以下図示実施例について説明すると、図1は本発明に係る割断装置1を示し、この割断装置1により、透明な液晶ガラス基板等の脆性材料2を割断予定線Qに沿って割断するようになっている。
この割断装置1は、板状の脆性材料2を支持する移動手段としての加工テーブル3と、レーザ光Lを照射するレーザ発振器4と、レーザ発振器4からのレーザ光Lを上記加工テーブル3上の脆性材料2に集光させる集光手段5と、当該集光手段5を振動させる振動手段6とを備えている。
上記脆性材料2として、上述した液晶ガラス基板の他、半導体用のウェハなどの板状の脆性材料2を割断できるようになっており、本実施例の割断装置1によれば、上記脆性材料2の板厚が1000μmを越えていても、高精度で短時間に割断することが可能となっている。
加工テーブル3は工場内等の所定位置に固定されており、脆性材料2を下面から吸着保持して、脆性材料2が加工テーブル3上でずれないようにすると共に、脆性材料2を水平方向に移動させるようになっている。
この割断装置1は、板状の脆性材料2を支持する移動手段としての加工テーブル3と、レーザ光Lを照射するレーザ発振器4と、レーザ発振器4からのレーザ光Lを上記加工テーブル3上の脆性材料2に集光させる集光手段5と、当該集光手段5を振動させる振動手段6とを備えている。
上記脆性材料2として、上述した液晶ガラス基板の他、半導体用のウェハなどの板状の脆性材料2を割断できるようになっており、本実施例の割断装置1によれば、上記脆性材料2の板厚が1000μmを越えていても、高精度で短時間に割断することが可能となっている。
加工テーブル3は工場内等の所定位置に固定されており、脆性材料2を下面から吸着保持して、脆性材料2が加工テーブル3上でずれないようにすると共に、脆性材料2を水平方向に移動させるようになっている。
図2は上記割断装置1を側面から見た図であり、上記レーザ発振器4、集光手段5、振動手段6はそれぞれ割断装置1に固定されている。
レーザ発振器4はレーザ光Lを水平方向に発振するようになっており、このレーザ光の光路上には反射ミラー7が設けられ、レーザ光Lを脆性材料2の板厚方向となる垂直方向に反射させるようになっている。
上記レーザ発振器4は、短パルスUVレーザ光を発振し、本実施例では波長を紫外領域とし、パルス幅10ナノ秒以下、繰り返し周波数10kHz以上、平均出力2W以上の範囲で調節してレーザ光Lを発振するようになっている。
次に、上記集光手段5は図示しない複数の集光レンズから構成されており、上記反射ミラー7によって反射されたレーザ光Lの光路上に位置し、脆性材料2の内部にレーザ光Lを集光させて集光点とし、当該部分に集光部Cを形成するようになっている。
レーザ発振器4はレーザ光Lを水平方向に発振するようになっており、このレーザ光の光路上には反射ミラー7が設けられ、レーザ光Lを脆性材料2の板厚方向となる垂直方向に反射させるようになっている。
上記レーザ発振器4は、短パルスUVレーザ光を発振し、本実施例では波長を紫外領域とし、パルス幅10ナノ秒以下、繰り返し周波数10kHz以上、平均出力2W以上の範囲で調節してレーザ光Lを発振するようになっている。
次に、上記集光手段5は図示しない複数の集光レンズから構成されており、上記反射ミラー7によって反射されたレーザ光Lの光路上に位置し、脆性材料2の内部にレーザ光Lを集光させて集光点とし、当該部分に集光部Cを形成するようになっている。
そして上記振動手段6について説明すると、振動手段6は割断装置1の本体部に固定された支持部11と、当該支持部11に設けられたモータ12と、モータ12の回転を垂直方向及び水平方向への移動に分離するカム機構13と、集光手段5を保持するとともに上記カム機構13によって垂直方向に往復動する保持部材14とを備えている。
上記モータ12の回転軸12aは水平方向に設けられており、この回転軸12aには上記カム機構13を構成する偏心カム15が設けられている。この偏心カム15は回転軸12aと中心を共にする円柱状の小径部15aと、中心を異にする円柱状の大径部15bとを備えている。
上記大径部15bの外周には軸受16を介してホルダ17が回転自在に設けられており、このホルダ17における偏心カム15の反対側には、後述する第1レール20と摺動可能に嵌合する第1スライド部材18が設けられている。
さらに、カム機構13は上記支持部11に垂直方向に固定された第2レール19を備えている。
そして、上記保持部材14は上記集光手段5を保持すると共に、水平方向に設けられて上記第1スライド部材18が摺動可能に嵌合する第1レール20と、垂直方向に設けられて上記第2レール19と摺動可能に嵌合する第2スライド部材21とを備えている。
以上の構成により、モータ12が回転すると、偏心カム15が回転し、これに伴ってホルダ17が旋回する。このとき第1スライド部材18と第1レール20とが嵌合し、第2レール19が第2スライド部材21と嵌合しているので、第1スライド部材18が水平方向に往復動するものの、保持部材14は水平方向には移動せずに垂直方向に往復動するようになる。
そして上記カム機構13による保持部材14の往復動の距離は、上記偏心カム15における小径部15aと大径部15bの中心位置の間隔の2倍となる。
上記モータ12の回転軸12aは水平方向に設けられており、この回転軸12aには上記カム機構13を構成する偏心カム15が設けられている。この偏心カム15は回転軸12aと中心を共にする円柱状の小径部15aと、中心を異にする円柱状の大径部15bとを備えている。
上記大径部15bの外周には軸受16を介してホルダ17が回転自在に設けられており、このホルダ17における偏心カム15の反対側には、後述する第1レール20と摺動可能に嵌合する第1スライド部材18が設けられている。
さらに、カム機構13は上記支持部11に垂直方向に固定された第2レール19を備えている。
そして、上記保持部材14は上記集光手段5を保持すると共に、水平方向に設けられて上記第1スライド部材18が摺動可能に嵌合する第1レール20と、垂直方向に設けられて上記第2レール19と摺動可能に嵌合する第2スライド部材21とを備えている。
以上の構成により、モータ12が回転すると、偏心カム15が回転し、これに伴ってホルダ17が旋回する。このとき第1スライド部材18と第1レール20とが嵌合し、第2レール19が第2スライド部材21と嵌合しているので、第1スライド部材18が水平方向に往復動するものの、保持部材14は水平方向には移動せずに垂直方向に往復動するようになる。
そして上記カム機構13による保持部材14の往復動の距離は、上記偏心カム15における小径部15aと大径部15bの中心位置の間隔の2倍となる。
以上の構成を有する割断装置1の動作について説明すると、最初に、割断する脆性材料2の板厚から、上記振動手段6による集光手段5を振動させる振幅の設定を行う。
本実施例では、上記集光手段5によって形成されるレーザ光Lの集光部Cが、脆性材料2の略中央で板厚の半分以上、板厚以下の範囲で振動するよう、上記偏心カム15における小径部15aと大径部15bの中心位置の間隔が設定されている。
そして、加工テーブル3は脆性材料2の割断予定線Qの始点となる位置にレーザ光Lの集光部Cが形成される位置を移動させ、さらに振動手段6は集光部Cが最も脆性材料2の下面側に接近するよう、集光手段5を下死点の位置で停止させている。
この状態から割断装置1を作動させると、レーザ発振器4からレーザ光Lが発振され、加工テーブル3は脆性材料2を割断予定線Qに従って移動させ、これと共に上記振動手段6によって集光手段5が垂直方向に振動する。
そしてレーザ発振器4から発振されたレーザ光Lは、反射ミラー7で反射して集光手段5に入射し、レーザ光Lは当該集光手段5によって集光され、脆性材料2の内部には集光部Cが形成される。
上記集光部Cの位置では多光子吸収が発生し、当該位置に改質領域Tが形成され、改質領域Tと非改質領域との境界がクラックとなる。
本実施例では、上記振動手段5による振動と、加工テーブル3による脆性材料2の移動とによって、集光部Cが通過した軌跡、すなわち振動手段6による集光手段5の振幅で、波形の改質領域Tが形成される。
上記波形の周波数は脆性材料2の送り速度や、上記モータ12の回転数によって変更可能であり、また波形の振幅は上述したように振動手段6におけるカム機構13の偏心カム15を交換することで変更可能となっている。なお、多少集光部Cの位置が脆性材料2の外部に外れてしまっても問題はない。
本実施例では、上記集光手段5によって形成されるレーザ光Lの集光部Cが、脆性材料2の略中央で板厚の半分以上、板厚以下の範囲で振動するよう、上記偏心カム15における小径部15aと大径部15bの中心位置の間隔が設定されている。
そして、加工テーブル3は脆性材料2の割断予定線Qの始点となる位置にレーザ光Lの集光部Cが形成される位置を移動させ、さらに振動手段6は集光部Cが最も脆性材料2の下面側に接近するよう、集光手段5を下死点の位置で停止させている。
この状態から割断装置1を作動させると、レーザ発振器4からレーザ光Lが発振され、加工テーブル3は脆性材料2を割断予定線Qに従って移動させ、これと共に上記振動手段6によって集光手段5が垂直方向に振動する。
そしてレーザ発振器4から発振されたレーザ光Lは、反射ミラー7で反射して集光手段5に入射し、レーザ光Lは当該集光手段5によって集光され、脆性材料2の内部には集光部Cが形成される。
上記集光部Cの位置では多光子吸収が発生し、当該位置に改質領域Tが形成され、改質領域Tと非改質領域との境界がクラックとなる。
本実施例では、上記振動手段5による振動と、加工テーブル3による脆性材料2の移動とによって、集光部Cが通過した軌跡、すなわち振動手段6による集光手段5の振幅で、波形の改質領域Tが形成される。
上記波形の周波数は脆性材料2の送り速度や、上記モータ12の回転数によって変更可能であり、また波形の振幅は上述したように振動手段6におけるカム機構13の偏心カム15を交換することで変更可能となっている。なお、多少集光部Cの位置が脆性材料2の外部に外れてしまっても問題はない。
このように、脆性材料2の内部には割断予定線Qに沿って板厚方向に波形の改質領域Tが形成されると、自然に、もしくは脆性材料2に力を印加することで、改質領域Tからクラックが進展し、隣接するクラック同志がつながっていく。
このとき、改質領域Tの波形の頂点近傍は、脆性材料2の上面及び下面に接近しているので、当該位置から進展するクラックは脆性材料2の上面及び下面に達しやすくなっている。
このため、改質領域Tにおける隣接する波形の頂点よりクラックが割断予定線Qの全体に達することで、脆性材料2は当該割断予定線Qに沿って割断されることとなる。
本実施例の場合、加工テーブル3の相対移動速度を50mm/sec以上、振動の周波数を100Hz以上、振動の中心を脆性材料2の中心として振幅を板厚の半分以上としたとき、良好に脆性材料2の割断を行うことができた。
このとき、改質領域Tの波形の頂点近傍は、脆性材料2の上面及び下面に接近しているので、当該位置から進展するクラックは脆性材料2の上面及び下面に達しやすくなっている。
このため、改質領域Tにおける隣接する波形の頂点よりクラックが割断予定線Qの全体に達することで、脆性材料2は当該割断予定線Qに沿って割断されることとなる。
本実施例の場合、加工テーブル3の相対移動速度を50mm/sec以上、振動の周波数を100Hz以上、振動の中心を脆性材料2の中心として振幅を板厚の半分以上としたとき、良好に脆性材料2の割断を行うことができた。
このように、本実施例によれば、上記集光手段5によってレーザ光Lの集光部Cを脆性材料2の板厚方向に振動させながら移動させることで、自然に、若しくは少ない力で脆性材料2を割断予定線Qに沿って割断することができる。
このとき、隣接する改質領域Tの頂点となる位置から脆性材料2の上面及び下面までの距離が近いので、クラックは割断予定線Qからそれずに脆性材料2の上面及び下面に達するので、精度良く脆性材料2を割断することができる。
また、本実施例では板厚方向に集光部Cを振動させて改質領域Tを形成しているので、改質領域Tは割断予定線Qの幅方向に広がって形成されることはなく、クラックは改質領域Tの幅内で生成されるので、精度良く脆性材料2を割断することができる。
さらに、上記集光部Cを振動させながら割断予定線Qに沿って移動させれば良いので、上記特許文献3のように集光部Cを脆性材料の下面側で割断予定線Qに沿って移動させ、その後改めて集光部Cを脆性材料の上面側で割断予定線Qに沿って移動させる必要がなく、短時間に脆性材料2の割断を行うことができる。
なお、集光手段5を振動させる振動手段6として、上記カム機構13を使用したものの他、ピエゾアクチュエータなど、他の構成を利用して集光手段5を振動させるようにしてもよい。
このとき、隣接する改質領域Tの頂点となる位置から脆性材料2の上面及び下面までの距離が近いので、クラックは割断予定線Qからそれずに脆性材料2の上面及び下面に達するので、精度良く脆性材料2を割断することができる。
また、本実施例では板厚方向に集光部Cを振動させて改質領域Tを形成しているので、改質領域Tは割断予定線Qの幅方向に広がって形成されることはなく、クラックは改質領域Tの幅内で生成されるので、精度良く脆性材料2を割断することができる。
さらに、上記集光部Cを振動させながら割断予定線Qに沿って移動させれば良いので、上記特許文献3のように集光部Cを脆性材料の下面側で割断予定線Qに沿って移動させ、その後改めて集光部Cを脆性材料の上面側で割断予定線Qに沿って移動させる必要がなく、短時間に脆性材料2の割断を行うことができる。
なお、集光手段5を振動させる振動手段6として、上記カム機構13を使用したものの他、ピエゾアクチュエータなど、他の構成を利用して集光手段5を振動させるようにしてもよい。
次に、図4は本発明の第2の実施例にかかる割断装置1の断面図を示している。
本実施例は、上記第1の実施例における集光手段5及び振動手段6の構成を異ならせたものとなっており、それ以外の構成はほぼ上記第1の実施例における割断装置1と同一となっている。
本実施例の集光手段は、レーザ光Lの反射面31aの曲率を任意に変更可能な曲率可変ミラー31と、当該曲率可変ミラー31によって反射されたレーザ光を集光する集光レンズ32とを備えている。
そして本実施例の振動手段は、上記曲率可変ミラー31をその裏面側より加圧してこれを変形させる加圧手段33となっており、上記曲率可変ミラー31及び加圧手段33は割断装置1の本体部に固定されたホルダ34によって保持されている。
上記曲率可変ミラー31はレーザ発振器4が発振した水平方向のレーザ光Lを脆性材料2の板厚方向である垂直方向に反射させるように配置され、反射したレーザ光は上記集光レンズ32によって集光されて、加工テーブル3上の脆性材料2の内部にレーザ光Lの集光部Cを形成するようになっている。
上記加圧手段33は曲率可変ミラー31を加圧して当該曲率可変ミラー31を変形させ、反射面31aの曲率を変化させることで反射するレーザ光Lの発散角が変化し、集光部Cを脆性材料2の板厚方向に移動させるようになっている。
そして、上記加圧手段33による圧力を所定の周期で繰り返し変化させることで、集光部Cの位置を所定の振幅で振動させることができる。
なお、上記曲率可変ミラー31および加圧手段33については特開平9−293915号公報等に開示されているので、その構成及び動作についての詳細な説明は省略する。
本実施例は、上記第1の実施例における集光手段5及び振動手段6の構成を異ならせたものとなっており、それ以外の構成はほぼ上記第1の実施例における割断装置1と同一となっている。
本実施例の集光手段は、レーザ光Lの反射面31aの曲率を任意に変更可能な曲率可変ミラー31と、当該曲率可変ミラー31によって反射されたレーザ光を集光する集光レンズ32とを備えている。
そして本実施例の振動手段は、上記曲率可変ミラー31をその裏面側より加圧してこれを変形させる加圧手段33となっており、上記曲率可変ミラー31及び加圧手段33は割断装置1の本体部に固定されたホルダ34によって保持されている。
上記曲率可変ミラー31はレーザ発振器4が発振した水平方向のレーザ光Lを脆性材料2の板厚方向である垂直方向に反射させるように配置され、反射したレーザ光は上記集光レンズ32によって集光されて、加工テーブル3上の脆性材料2の内部にレーザ光Lの集光部Cを形成するようになっている。
上記加圧手段33は曲率可変ミラー31を加圧して当該曲率可変ミラー31を変形させ、反射面31aの曲率を変化させることで反射するレーザ光Lの発散角が変化し、集光部Cを脆性材料2の板厚方向に移動させるようになっている。
そして、上記加圧手段33による圧力を所定の周期で繰り返し変化させることで、集光部Cの位置を所定の振幅で振動させることができる。
なお、上記曲率可変ミラー31および加圧手段33については特開平9−293915号公報等に開示されているので、その構成及び動作についての詳細な説明は省略する。
以上のように、集光手段5として上記曲率可変ミラー31および加圧手段33を用い、曲率可変ミラー31の反射面31aの曲率を変化させながら、脆性材料2を加工テーブル3により移動させることで、上記第1の実施例と同様、脆性材料2の内部に波形の軌跡で改質領域Tが形成されるので、容易に脆性材料2の割断を行うことができる。
特に本実施例の場合、加圧手段33による曲率可変ミラー31への加圧力を変更すれば、反射面31aの曲率を調整し、反射するレーザ光の発散角を可変することができるので、集光部Cの振幅を任意に変更することが可能となり、板厚の異なる脆性材料2を割断する場合であっても、柔軟な対応が可能となっている。
特に本実施例の場合、加圧手段33による曲率可変ミラー31への加圧力を変更すれば、反射面31aの曲率を調整し、反射するレーザ光の発散角を可変することができるので、集光部Cの振幅を任意に変更することが可能となり、板厚の異なる脆性材料2を割断する場合であっても、柔軟な対応が可能となっている。
なお、上記第1,第2の実施例において、脆性材料2を加工テーブル3によって移動させるようにしていたが、脆性材料を固定して上記集光手段や振動手段を移動させても良く、また双方を移動させても良い。
さらに、上記集光部Cは上記集光手段によって板厚方向に伸びる線状の集光線であっても良い。例えば、従来公知のアキシコンレンズを用いることで、上記板厚方向に伸びる集光部Cを形成することができ、この集光部Cを振動させながら移動させれば、板厚方向に幅のある波形の軌跡で改質領域Tを形成することができる。
さらに、上記集光部Cは上記集光手段によって板厚方向に伸びる線状の集光線であっても良い。例えば、従来公知のアキシコンレンズを用いることで、上記板厚方向に伸びる集光部Cを形成することができ、この集光部Cを振動させながら移動させれば、板厚方向に幅のある波形の軌跡で改質領域Tを形成することができる。
1 割断装置 2 脆性材料
4 レーザ発振器4 5 集光手段
6 振動手段 23 カム機構
31 曲率可変ミラー 33 加圧手段
C 集光部 L レーザ光
Q 割断予定線 T 改質領域
4 レーザ発振器4 5 集光手段
6 振動手段 23 カム機構
31 曲率可変ミラー 33 加圧手段
C 集光部 L レーザ光
Q 割断予定線 T 改質領域
Claims (6)
- レーザ光を集光して集光部を形成し、当該集光部を板状の脆性材料の割断予定線に沿って移動させて、当該脆性材料の割断を行う脆性材料の割断方法において、
上記集光部を脆性材料の内部でその板厚方向に振動させながら、割断予定線に沿って移動させることを特徴とする脆性材料の割断方法。 - 上記集光部を振動させる振幅を、脆性材料の板厚の半分以上とすることを特徴とする脆性材料の割断方法。
- レーザ光を発振するレーザ発振器と、上記レーザ光を集光して集光部を形成する集光手段と、板状の脆性材料と集光手段とを相対移動させる移動手段とを備え、上記集光部を上記脆性材料の割断予定線に沿って移動させて、当該脆性材料の割断を行う脆性材料の割断装置において、
上記集光部を脆性材料の板厚方向に振動させる振動手段を設け、
この振動手段により上記集光部を脆性材料の内部でその板厚方向に振動させながら、上記移動手段により該集光部を割断予定線に沿って移動させることを特徴とする脆性材料の割断装置。 - 上記集光手段は、レーザ光を集光する集光レンズを備え、また振動手段は集光レンズを往復動させることにより、集光部を脆性材料の板厚方向に振動させることを特徴とする請求項3に記載の脆性材料の割断装置。
- 上記集光手段は反射面の曲率を変更可能とする曲率可変ミラーを備え、また振動手段は上記曲率可変ミラーの反射面の曲率を変化させることで、反射したレーザ光の集光部を脆性材料の板厚方向に振動させることを特徴とする請求項3に記載の脆性材料の割断装置。
- 上記集光手段はレーザ光の集光部を脆性材料の板厚の半分以上の振幅で振動させることを特徴とする請求項3ないし請求項5のいずれかに記載の脆性材料の割断装置。
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- 2004-11-04 JP JP2004320830A patent/JP2006131443A/ja active Pending
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