JP2006128099A - 表示装置及びその作製方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上記課題を解決することが出来る本発明の表示装置は、基板上に形成された絶縁表面上に薄膜トランジスタと、発光素子とを有し、発光素子は第1の電極と第2の電極との間に発光積層体を挟んでなっており、第1の電極は薄膜トランジスタ上に形成された第1の絶縁膜上に形成され、第1の電極と絶縁膜との間には第1の電極に対応して平坦化膜が形成されていることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
本発明の表示装置の作製方法について図1〜図4を参照しながら説明する。
実施の形態1とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図5、図6を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態1と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態1を参照されたい。図5(A)は図2(B)に相当する。
実施の形態1及び実施の形態2とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図7、図8を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態1と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態1を参照されたい。図7(A)は図2(B)に相当する。
実施の形態1乃至実施の形態3とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図9、図10を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態1と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態1を参照されたい。図7(A)は図2(B)に相当する。
実施の形態1乃至実施の形態4とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図11、図12を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態1と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態1を参照されたい。図11(A)は図3(A)に相当する。
実施の形態1乃至実施の形態5とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図13、図14を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態1と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態1を参照されたい。図13(A)は図2(D)に相当する。
実施の形態1乃至実施の形態6とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図15、図16を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態1と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態1を参照されたい。図15(A)は図2(D)に相当する。
実施の形態1乃至実施の形態7とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図17、図18を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態7と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態7を参照されたい。図17(A)は図15(B)に相当する。
実施の形態1乃至実施の形態8とは異なる本発明の表示装置の作製方法について図19、図20を参照しながら説明する。工程の途中までは実施の形態1と同様であるので説明及び図示を省略する。実施の形態1を参照されたい。図19(A)は図2(D)に相当する。
本実施の形態では、実施の形態1乃至実施の形態4のいずれかを適用して作製された発光装置のパネルの外観について図23を用いて説明する。図23は基板上に形成されたトランジスタおよび発光素子を対向基板4006との間に形成したシール材によって封止したパネルの上面図であり、図23(B)は図23(A)の断面図に相応する。
実施の形態10にその一例を示したようなモジュールを搭載した本発明を用いて作製された電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオコンポ等)、コンピュータ、ゲーム機器、携帯情報端末(モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍等)、記録媒体を備えた画像再生装置(具体的にはDigital Versatile Disc(DVD)等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを備えた装置)などが挙げられる。それらの電子機器の具体例を図24に示す。
(実施の形態12)
Claims (34)
- 基板上の絶縁表面上に薄膜トランジスタと発光素子とを有する画素を有し、
前記発光素子は第1の電極、第2の電極及び前記第1の電極と第2の電極との間に挟まれた発光積層体を有し、
前記第1の電極は前記薄膜トランジスタ上に形成された絶縁膜上に形成され、
少なくとも前記第1の電極と前記絶縁膜との間には前記第1の電極の平坦化膜が配置されている表示装置。 - 基板上の絶縁表面上に薄膜トランジスタと発光素子を有する画素、及び前記薄膜トランジスタと発光素子を包囲するシール材とを有し、
前記発光素子は第1の電極、第2の電極及び前記第1の電極と第2の電極との間に挟まれた発光積層体を有し、
前記第1の電極は前記薄膜トランジスタ上に形成された絶縁膜上に形成され、
少なくとも前記第1の電極と前記絶縁膜との間には前記第1の電極の平坦化膜が配置されており、
前記基板上において前記シール材より外側に前記平坦化膜が形成されていない表示装置。 - 基板上の絶縁表面上に薄膜トランジスタ、発光素子及び前記薄膜トランジスタと発光素子を包囲するシール材を有する画素を有し、
前記発光素子は第1の電極、第2の電極及び前記第1の電極と第2の電極との間に挟まれた発光積層体を有し、
前記第1の電極は前記薄膜トランジスタ上に形成された絶縁膜上に形成され、
少なくとも前記第1の電極と前記絶縁膜との間には前記第1の電極の平坦化膜が配置されており、
前記絶縁膜と前記シール材とは重畳する表示装置。 - 基板上の絶縁表面上に薄膜トランジスタと発光素子を有する画素、及び前記薄膜トランジスタと発光素子を包囲するシール材とを有し、
前記発光素子は第1の電極、第2の電極及び前記第1の電極と第2の電極との間に挟まれた発光積層体を有し、
前記第1の電極は前記薄膜トランジスタ上に形成された絶縁膜上に形成され、
少なくとも前記第1の電極と前記絶縁膜との間には前記第1の電極の平坦化膜が配置されており、
前記絶縁膜と前記シール材とは重畳し、
前記基板上において前記シール材より外側に前記平坦化膜が形成されていないことを特徴とする表示装置。 - 請求項1乃至請求項4において、前記平坦化膜は前記画素電極と重畳する領域内にのみ形成されている表示装置。
- 請求項1乃至請求項4において、前記平坦化膜は前記画素電極及び前記薄膜トランジスタのソース電極とドレイン電極と重畳する領域内にのみ形成されている表示装置。
- 請求項1乃至請求項4において、前記平坦化膜は自己平坦性を有する材料により形成されている表示装置。
- 請求項1乃至請求項4において、前記平坦化膜はアクリル、ポリイミド及びシロキサンから選ばれる1種である表示装置。
- 請求項1乃至請求項4において、前記画素内での前記第1の電極のP−V値は30nm以下である表示装置。
- 請求項1乃至請求項4において、前記画素内での前記第1の電極のP−V値は15nm以下である表示装置。
- 請求項1乃至請求項4において、前記画素内での前記第1の電極のP−V値は10nm以下である表示装置。
- 請求項9において、前記画素電極はP−V値が30nm以下である10μm四方の領域を有する表示装置。
- 請求項10において、前記画素電極はP−V値が15nm以下である10μm四方の領域を有する表示装置。
- 請求項11において、前記画素電極はP−V値が10nm以下である10μm四方の領域を有する表示装置。
- 請求項1乃至請求項4において、
前記第1の電極と前記発光積層体との間にバッファ層を有することを特徴とする表示装置。 - 請求項15において、
前記バッファ層の膜厚をdとしたとき、
前記画素内での前記第1の電極のP−V値は30nm+0.2dnm以下であることを特徴とする表示装置。 - 請求項16において、
前記バッファ層の膜厚をdとしたとき、
前記画素内での前記第1の電極のP−V値は15nm+0.2dnm以下であることを特徴とする表示装置。 - 請求項17において、
前記バッファ層の膜厚をdとしたとき、
前記画素内での前記第1の電極のP−V値は15nm+0.2dnm以下であることを特徴とする表示装置。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか一項において、
前記絶縁膜は無機系の材料を有する表示装置。 - 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上に絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜及び前記絶縁膜をエッチングして前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する導電膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜及び前記絶縁膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜をエッチングし前記導電膜の少なくとも一部を露出させ、
前記導電膜と電気的に接続する画素電極を形成し、
前記画素電極をマスクとして前記画素電極に覆われていない領域の前記平坦化膜をエッチングにより除去し、
前記画素電極を一方の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆ってゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記前記ゲート電極を覆って絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜上に画素電極を形成し、
前記画素電極をマスクとして前記画素電極に覆われていない領域の前記平坦化膜をエッチングにより除去し、
前記絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜に、前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する配線を形成し、
前記配線の一部は前記画素電極とも電気的に接続しており、
前記画素電極を一方の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆ってゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極を覆って絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜上に画素電極を形成し、
前記平坦化膜、前記第1の絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜に、前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記平坦化膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する導電膜を形成し、
前記導電膜及び前記画素電極をマスクとして前記導電膜及び前記画素電極に覆われていない領域の前記平坦化膜をエッチングにより除去し、
前記導電膜の一部は前記画素電極とも電気的に接続しており、
前記画素電極を第1の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆ってゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極を覆って絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜、前記絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜に、前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記平坦化膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する導電膜を形成し、
前記平坦化膜上に前記導電膜と少なくとも一部重なるように画素電極を形成し、
前記画素電極を一方の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 基板上の絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上に第1の絶縁膜を形成し、
前記第ゲート絶縁膜及び前記1の絶縁膜をエッチングして前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記第1の絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する導電膜を形成し、
前記第1の絶縁膜を覆って、平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜をエッチングして前記導電膜の少なくとも一部を露出させ、
前記平坦化膜及び前記導電膜の露出部を覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記第2の絶縁膜にマスクを形成し、エッチングすることにより前記導電膜に達するコンタクトホールを形成すると共に前記基板の端部における前記平坦化膜を除去し、
前記コンタクトホールを介して前記導電膜と電気的に接続する画素電極を形成し、
前記画素電極を一方の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 請求項20乃至請求項24のいずれか一項において、前記平坦化膜は塗布法により形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
- 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜上にゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上に第1の絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜及び前記第1の絶縁膜をエッチングして前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記第1の絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する第1の導電膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記第1の導電膜を覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記第2の絶縁膜をエッチングすることにより前記第1の導電膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記第1の導電膜に電気的に接続する第2の導電膜を形成し、
前記第2の絶縁膜及び前記第2の導電膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜をエッチングして前記第2の導電膜の少なくとも一部を露出させ、
前記第2の導電膜及び前記平坦化膜上に第3の導電膜を形成し、
前記第3の導電膜上にマスクを形成し、
前記マスクを用いて前記第3の導電膜をエッチングし、前記第2の導電膜と電気的に接続する画素電極を形成し、
前記マスク及び前記画素電極をマスクとして前記マスク及び前記画素電極に覆われていない領域の前記平坦化膜をエッチングにより除去し、
前記画素電極を一方の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆ってゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜及上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極を覆って第1の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜に、前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記第1の絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する第1の導電膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記第1の導電膜を覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記第2の絶縁膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜上に第2の導電膜を形成し、
前記第2の導電膜上にマスクを形成し、
前記マスクを用いて前記第2の導電膜をエッチングして画素電極を形成し、
前記マスク及び前記画素電極をマスクとしてエッチングにより前記マスク及び前記画素電極に覆われていない領域の前記平坦化膜を除去し、
前記第2の絶縁膜に、前記第1の導電膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記第2の絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記第1の導電膜に電気的に接続する第2の導電膜を形成し、
前記第2の導電膜の一部は前記画素電極とも電気的に接続しており、
前記画素電極を第1の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆ってゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極を覆って第1の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜に、前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記第1の絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する第1の導電膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記第1の導電膜を覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記第2の絶縁膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜上に第2の導電膜を形成し、
前記第2の導電膜上にマスクを形成し、
前記マスクを用いて前記第2の導電膜をエッチングして画素電極を形成し、
前記平坦化膜及び前記第2の絶縁膜に、前記第1の導電膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記平坦化膜上に前記コンタクトホールを介して第1の導電膜に電気的に接続する第3の導電膜を形成し、
前記画素電極及び前記第3の導電膜をマスクとして前記画素電極及び前記第3の導電膜に覆われていない領域の前記平坦化膜を除去し、
前記画素電極を第1の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 絶縁表面上に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆ってゲート絶縁膜を形成し、
前記ゲート絶縁膜及び前記半導体膜上にゲート電極を形成し、
前記ゲート絶縁膜及び前記ゲート電極を覆って第1の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜に、前記半導体膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記第1の絶縁膜上に前記コンタクトホールを介して前記半導体膜に電気的に接続する第1の導電膜を形成し、
前記第1の絶縁膜及び前記第1の導電膜を覆って第2の絶縁膜を形成し、
前記第2の絶縁膜を覆って平坦化膜を形成し、
前記平坦化膜及び前記第2の絶縁膜に、前記第1の導電膜に達するコンタクトホールを形成し、
前記平坦化膜上に前記コンタクトホールを介して第1の導電膜に電気的に接続する第2の導電膜を形成し、
前記第2の導電膜の一部は前記画素電極とも電気的に接続しており、
前記画素電極を第1の電極とする発光素子を形成することを特徴とする発光装置の作製方法。 - 請求項26乃至請求項29のいずれか一項において、前記平坦化膜は塗布法により形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
- 請求項26乃至請求項29のいずれか一項において、前記平坦化膜は自己平坦性を有する材料により形成されることを特徴とする発光装置の作製方法。
- 請求項26乃至請求項29のいずれか一項において、前記第2の絶縁膜は無機絶縁膜であることを特徴とする発光装置の作製方法。
- 請求項20乃至請求項24及び請求項26乃至請求項29のいずれか一項において、前記第1の絶縁膜は各々異なる絶縁材料で形成された2層構造であることを特徴とする発光装置の作製方法。
- 請求項20乃至請求項24及び請求項26乃至請求項29のいずれか一項において、前記第1の絶縁膜及び前記ゲート絶縁膜は無機絶縁膜であることを特徴とする発光装置の作製方法。
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