JP2006117611A - 遺体化粧メーキング剤及びその用途 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有する除菌・消臭組成物が配合されてなる遺体化粧メーキング剤、遺体化粧メーキング剤からなる遺体化粧メーキングセット、並びに、遺体化粧メーキング剤を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをすることを特徴とする遺体の化粧メーキング方法。
【選択図】 なし
Description
一般には、棺桶にドライアイスを入れて低温に保つなどの処理が行われているが、必ずしも充分な効果が得られなかった。また、火葬の際にドライアイスが棺内に残っている場合には、温度が充分に上昇せずダイオキシンの発生原因となり、環境汚染を引き起こすことにもなりかねない。
また、故人が生前、寝たきり状態、延命治療等で長期間病床にあった場合は、生前から体内に細菌や真菌等の病原微生物が多数保有されている場合もあり、これらの病原微生物の中には、抗酸菌(結核菌)、大腸菌等の各種細菌、カンジダ等の真菌、インフルエンザウイルス等のウイルスも含まれている。低温保持だけではこれらの微生物の増殖に対応することはできず、特に、夏場など高温高湿の条件下では腐敗や変性を留めることは困難であった。そのため、遺族等の関係者が故人との別れに際して遺体の顔や手などに触れると、感染のおそれが高いと言う問題があった。
本発明は、このような従来の問題を解決し、遺族等の関係者による故人との別れの際や、遺体化粧メーキングにおいて、遺体に接触する人を感染の危険性から充分に守ることのできる遺体化粧メーキング剤を提供することを目的とする。
光触媒は、抗菌性に優れた物質として注目されており、徹底した衛生管理が要求される病院の内装や、カビなどが生えやすい風呂場のタイル等に使用されている。特に、特開平11−349423号公報には、代表的な光触媒である酸化チタン粒子に、金属銀を分散付着させてなる抗菌・脱臭材料が、より優れた光触媒機能を有することが示されている。
しかしながら、光触媒の抗菌機能は、光を当てて初めて発揮されるものであり、棺桶の中、すなわち暗黒又は微弱光下に安置される遺体には適用できないものと考えられた。
本発明は、係る知見に基くものである。
請求項2記載の本発明は、除菌・消臭組成物が、平均粒径0.5μm以下の二酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる光触媒機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤である。
請求項3記載の本発明は、除菌・消臭組成物が、平均粒径10μm以下の二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、及びケイ藻土から選ばれる吸着機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤である。
請求項5記載の本発明は、除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションである請求項1〜3のいずれかに記載の遺体化粧メーキング剤である。
請求項7記載の本発明は、請求項4記載の遺体化粧メーキング剤を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをすることを特徴とする遺体の化粧メーキング方法である。
また、本発明の遺体化粧メーキングセットによれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮するスプレー型化粧水とパウダー及び/又は油性ファンデーションを組み合わせて遺体化粧メーキングを微生物への感染の危険なしに安全に行うことができる。
更に、本発明の化粧メーキング方法によれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮する遺体化粧メーキング剤を用いて、遺体化粧メーキングを安全に行うことができる。
従って、本発明によれば、遺体に接触する人を感染の危険性から充分に守ることができる。
また、機能性セラミックス成分とは、光触媒や吸着能を初めとする除菌・消臭機能を有するセラミックスを意味する。具体的には、二酸化チタン、酸化亜鉛、二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、ケイ藻土、リン酸ジルコニウム等を挙げることができ、中でも、二酸化チタン、酸化亜鉛、二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、及びケイ藻土のいずれかが好ましい。二酸化チタンの場合は、その結晶構造がルチル型とアナターゼ型のものとがあるが、光を受けて物質を酸化分解することによる自己浄化作用(セルフ・クリーニング作用)を持ち、より光触媒機能に優れる点で、アタナーゼ型のものが好ましい。
一般には、二酸化チタンや酸化亜鉛の場合は、粒径を小さくした方が、表面積を拡大して光触媒機能を十分に発揮させることができることから、平均粒径0.5μm以下、好ましくは0.04μm以下、より好ましくは0.02μm以下のものが好ましい。一方、二酸化珪素やゼオライトの場合は、吸着能を発揮させるためには光触媒ほど表面積を拡大させる必要はないが、大きすぎると遺体化粧メーキング後の仕上がり風合いが悪くなることから、平均粒径10μm以下、好ましくは5μm以下、より好ましくは0.005〜1μmのものが好ましい。
尚、銀成分の機能性セラミックス成分への付着は、付着後の銀成分が非イオン状態となるように行うことが好ましい。イオン状態とした場合、ポテンシャルエネルギーが高く酸化物や硫化物を容易に形成してしまうため、除菌・消臭効果を長期間持続できず着色を生ずるおそれがあるが、非イオン状態とすることにより、このようなおそれを払拭し、除菌・消臭効果の安定性や着色のおそれをなくすことができる。
まず、硝酸銀等の銀を含有する化合物のアンモニア錯体を得て、該アンモニア錯体を機能性セラミックスと共に純水中で攪拌・分散させる。この分散液に、ブドウ糖溶液等の還元剤を添加した後30〜50℃に加熱して、機能性セラミックスの表面に銀を析出させる。ついで、デカンテーションで分離し、水洗及び乾燥して、機能性セラミックス成分に銀成分が分散付着してなる除菌・消臭組成物を得ることができる。
除菌・消臭組成物の配合割合は、除菌・消臭効果を失わない範囲で適宜定められるものであり、遺体化粧メーキング剤を、特に化粧水、油性(リキッド)ファンデーション、パウダーファンデーション、乳液、口紅などどのような態様として用いるかや、上記した溶媒により相違するので一義的に規定することは困難であるが、一般には、0.01〜10質量%の範囲で適宜定めることができる。
本発明の遺体化粧メーキング剤は、除菌・消臭効果を失わない範囲で、保存料、着色料、香料、油剤、界面活性剤等他の成分を配合することができる。
本発明の遺体化粧メーキング剤の適用対象については、遺体であれば特に限定されないが、顔のみならず全身とすることにより、遺体の腐敗や変性を防止し、特に、抗酸菌(結核菌)、大腸菌等の各種細菌、カンジダ等の真菌、インフルエンザウイルス等のウイルス等の病原性微生物の増殖を抑えることができるので、好ましい。また、エンバーミング処理の施された遺体は、ホルマリン臭が問題となるが、本発明の遺体化粧メーキング剤を適用することにより効率的に消臭し、不快感をなくすことができる。
化粧水の製造条件、手順は特に限定されず、上記除菌・消臭組成物を所定の溶媒に均一に分散配合されるように攪拌して容器(スプレー型化粧水の場合は、エアーブラシなど噴霧容器)に充填し、製品とすることができる。
パウダーファンデーションや油性ファンデーションの製造条件、手順は、特に限定されない。パウダーファンデーションの場合、上記除菌・消臭組成物を、タルク、シリカ、マイカ、HDI/トリメチロールヘキシルラクトンクロスポリマー、酸化チタン、酸化鉄等を所定濃度で分散配合させることにより得ることができる。一方、油性ファンデーションの場合は、上記除菌・消臭組成物を、グリセリン等の多価アルコール、エタノール、ペンチレングリコール等のアルコール、ヒアルロン酸ナトリウム、グリチルリチン酸ジカリウム、キサンタンガム、酸化チタン、酸化鉄、タルク等と所定濃度で分散配合させることにより得ることができる。
ここで、請求項4及び5記載の遺体化粧メーキング剤とは、上記した除菌・消臭組成物が、溶媒中に0.06〜0.7質量%の割合で分散配合されてなるスプレー型化粧水、及び、上記した除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションとを意味する。
このような遺体化粧メーキング方法の好ましい手順としては、請求項7に記載するように、請求項4記載の遺体化粧メーキング剤、すなわち、除菌・消臭組成物が、溶媒中に0.06〜0.7質量%の割合で分散配合されてなるスプレー型化粧水を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをする方法が挙げられる。すなわち、少なくともスプレー型化粧水を噴霧すれば、微生物の危険性は最低限回避することができる。
パウダーファンデーション及び油性ファンデーションとしては、特に制限なく遺体用以外のものも用いることができるが、本発明の遺体化粧メーキング剤としてのパウダーファンデーション又は油性ファンデーション、すなわち、上記した除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションを好ましく用いることができる。
具体的には、エアーブラシなどに充填したスプレー型化粧水を遺体化粧メーキングの対象である部分の皮膚表面にまんべんなく噴霧した後、油性ファンデーションをパフ等で塗って下地仕上げをし、その上にパウダーファンデーションを伸ばして最終仕上げすることにより行う。その後、必要に応じてカラーパウダーや口紅などで更に仕上げることも可能である。
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるものを用いて、各種細菌に対する最小発育阻止濃度(MIC)を測定し、抗菌性(除菌性能)の確認を行った。
すなわち、まず、各試験菌株をMHB培地に入れ、37℃で16時間培養した。培養後の培地を3000rpmで10分間遠心して沈さにMHB培地を加えて原液とした。次いで、原液をMHB培地で希釈し、1.0〜5.0×104個/mlの接種菌液を調製し、初期菌数算定のため、接種菌液を更に30〜300個/mlまで希釈し、標準寒天培地にて37℃、24時間混釈培養を行った。培養後、コロニー数を算定し、初期菌数とした。
一方、L字型試験管にMHB培地を10ml分注し、121℃で15分間オートクレーブにかけた。この培地に検体を100μg/mlを基準として2倍量ずつ添加して系列を調整し、この2倍系列培地に上述の接種菌液を0.1ml添加し、試験用培地とした。
この試験用培地の培養試料が均一に混合されるような条件で浸透しながら、35〜37℃で24時間培養した。
培養後、肉眼観察により、発育が阻止された最低濃度をもって、試験菌に対する試料の最小発育阻止濃度(MIC)とした。各種試験菌株に対するMICを、表1に示す。
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が1質量%の割合で分散付着させてなるもの(以下、検体試料と呼称する。)を用いて、脱臭効果を、下記の評価装置を用いてガスクロマトグラフィーにより測定した。
その後、ガス注入採取口より悪臭ガスとして紫煙をガラス容器内に注入し、悪臭ガスの初期濃度を100ppmに調整し、その後、UV光源から、シャーレ上の検体試料の表面における紫外線強度が1mW/cm2となるよう調整して、無風状態で60分間紫外線を照射して、ガラス容器中のアセトアルデヒド濃度(ppm)を測定した。
コントロールとして、検体試料の代わりに、酸化チタン粒子単体(金属銀を付着しないもの)を用いて同様に測定した。
各試料におけるアセトアルデヒド濃度の経時的変化を図1に示す。
このことから、二酸化チタンに対し金属銀を本発明の条件で分散付着させてなる成分は、優れた脱臭効果を有することが明らかである。
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるものについて、電子スピン共鳴装置(ESR)を用いた室内消灯時における活性酸素発生量(OHラジカル)を調べた。
検体は、以下の手順で作成した。硝酸銀(銀含有量:62%)にアンモニアを作用させてアンモニア錯体を得た。この硝酸銀アンモニア錯体を、平均粒径0.02μmの二酸化チタンと共に純水中で攪拌・分散させた。この分散液に、還元剤としてのブドウ糖溶液を添加した後、30〜50℃に加熱して、機能性セラミックスの表面に銀を析出させた。ついで、デカンテーションで分離し、水洗及び乾燥して、機能性セラミックス成分に銀成分が分散付着してなる除菌・消臭組成物(粉末)を得た。
この除菌・消臭組成物の粉末10mgを1ml純水に懸濁させた液を、50μl細孔ガラス管に入れ、活性酸素測定検体とした。
一方、コントロール検体として、上記検体の変わりに、二酸化チタンそのもの(銀成分を分散付着させないもの)を用いて、同様に活性酸素発生量とMICを調べた。
結果を表2に示す。
このことから、本発明で用いる抗菌・消臭組成物は、室内消灯時の微弱なUV光下でも優れた抗菌性を発揮することが明らかとなった。
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるものを、精製水に0.05、0.1、0.5、0.7及び1.0質量%の各濃度で溶解させ化粧水を作成した。尚、二酸化チタンへの金属銀の分散付着は、参考例1に準じて行った。
一方、JIS Z 2801の抗菌性試験法により抗菌性を試験した。すなわち、化粧水をスプレー容器に入れて、滅菌された90φシャーレ内面に3秒間むらなくスプレーし、室温で24時間乾燥した。このようにして抗菌処理されたシャーレとスプレーを施さなかった滅菌シャーレ(ブランク)を試験片として用意した。大腸菌(ATCC25922)を培養し、1/500に希釈した普通ブイヨン培地中に均一に分散させ、試験菌液とした。試験片上に試験菌液を0.5ml滴下し、5×5cmの滅菌済みポリエチレンフィルムを静かに被せ、シャーレの蓋をした後、30℃、湿度90%以上に保持した。24時間後、菌液のついたシャーレ及びポリエチレンフィルムをSCDLP培地10mlで洗い出し、静菌数を測定した。ブランクについても同様に試験菌液で処理し生菌数を測定した。下記の式に示すように、ブランクの静菌数を、スプレーした場合の生菌数で割り、その対数を算出した。その結果、log2以上のものを○、log2未満のものを△と評価した。
結果を表3に示す。
log(24時間後の生菌数(ブランク)/24時間後の生菌数(スプレー))
このことから、本発明において、遺体化粧メーキング剤をスプレー型化粧品とした場合、除菌・消臭組成物の量を0.1〜0.5質量%とすることが好ましいことが実際に明らかにされた。
検体として、平均粒径0.03μmの二酸化珪素に対し、平均粒径8nmの金属銀を5質量%の割合で分散付着させてなるものを、精製水に0.05、0.1、0.5、0.7及び1.0質量%の各濃度で溶解させ化粧水を作成した。尚、二酸化チタンへの金属銀の分散付着は、参考例1に準じて行った。
一方、JIS Z 2801の抗菌性試験法により抗菌性を試験した。JIS Z 2801の抗菌性試験法については、実施例1で説明した通りである。
結果を表4に示す。
このことから、本発明において、除菌・消臭組成物として吸着性能を有するセラミックスである二酸化珪素を用いてスプレー型化粧品としての遺体化粧メーキング剤を作成した場合も、除菌消臭組成物の割合は0.1〜0.5質量%とすることが好ましいことが、実際に明らかにされた。
下記の表5に示す処方により、実施例1の検体試料(すなわち、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるもの)の配合割合を、0.05、0.1、0.3、0.5、1、1.3、及び1.5%のいずれかとして、遺体メーキング用パウダーファンデーションを作成した。
波動測定は、測定装置PIA(富士技研株式会社)を用いて、特開平9−168522号公報記載の方法に準じて行った。すなわち、被検査品であるパウダーファンデーションを試験者の手近においた状況で、試験者の身体にプローブを接触させて微弱電圧を加えた際に出力される電圧波形を、−20〜20の40段階で評価した。10以上を○、5〜10を△、5未満を×として集計した。結果を表6に示す。
このことから、本発明において、遺体化粧メーキング剤をパウダーファンデーションとした場合の除菌・消臭組成物の量は、0.1〜1.3質量%とすることが好ましいことが明らかとなった。
下記の表7に示す処方により、実施例1の検体試料の配合割合を0.05、0.1、0.3、0.5、1、1.3、及び1.5%のいずれかとして、遺体メーキング用リキッドファンデーションを作成した。
このことから、本発明において、遺体化粧メーキング剤を油性ファンデーションとした場合の除菌・消臭組成物の量は、0.1〜1.3質量%とすることが好ましいことが明らかとなった。
また、本発明の遺体化粧メーキングセットによれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮するスプレー型化粧水とパウダー及び/又は油性ファンデーションを組み合わせて遺体化粧メーキングを微生物への感染の危険なしに安全に行うことができる。
更に、本発明の化粧メーキング方法によれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮する遺体化粧メーキング剤を用いて、遺体化粧メーキングを安全に行うことができる。
従って、本発明によれば、遺体に接触する人を感染の危険性から充分に守ることができる。
Claims (7)
- 金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有する除菌・消臭組成物が配合されてなる遺体化粧メーキング剤。
- 除菌・消臭組成物が、平均粒径0.5μm以下の二酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる光触媒機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤。
- 除菌・消臭組成物が、平均粒径10μm以下の二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、及びケイ藻土から選ばれる吸着機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤。
- 除菌・消臭組成物が、溶媒中に0.06〜0.7質量%の割合で分散配合されてなるスプレー型化粧水である請求項1〜3のいずれかに記載の遺体化粧メーキング剤。
- 除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションである請求項1〜3のいずれかに記載の遺体化粧メーキング剤。
- 請求項4及び5記載の遺体化粧メーキング剤からなる遺体化粧メーキングセット。
- 請求項4記載の遺体化粧メーキング剤を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをすることを特徴とする遺体の化粧メーキング方法。
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Date | Code | Title | Description |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060612 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070814 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090304 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100827 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100827 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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