JP2006117611A - 遺体化粧メーキング剤及びその用途 - Google Patents

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Abstract

【課題】 遺族等の関係者による故人との別れの際や、遺体化粧メーキングにおいて、遺体に接触する人を感染の危険性から充分に守ることのできる遺体化粧メーキング剤を提供すること。
【解決手段】 金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有する除菌・消臭組成物が配合されてなる遺体化粧メーキング剤、遺体化粧メーキング剤からなる遺体化粧メーキングセット、並びに、遺体化粧メーキング剤を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをすることを特徴とする遺体の化粧メーキング方法。
【選択図】 なし

Description

本発明は、遺体化粧メーキングに関する除菌・消臭方法に関し、詳しくは、遺体化粧メーキング剤、遺体化粧メーキングセット及び遺体の化粧メーキング方法に関する。
遺体は、死後埋葬されるまでの間数日間を要するのが通常であり、その間に腐敗や変性が進まないような対策を行う必要がある。
一般には、棺桶にドライアイスを入れて低温に保つなどの処理が行われているが、必ずしも充分な効果が得られなかった。また、火葬の際にドライアイスが棺内に残っている場合には、温度が充分に上昇せずダイオキシンの発生原因となり、環境汚染を引き起こすことにもなりかねない。
また、故人が生前、寝たきり状態、延命治療等で長期間病床にあった場合は、生前から体内に細菌や真菌等の病原微生物が多数保有されている場合もあり、これらの病原微生物の中には、抗酸菌(結核菌)、大腸菌等の各種細菌、カンジダ等の真菌、インフルエンザウイルス等のウイルスも含まれている。低温保持だけではこれらの微生物の増殖に対応することはできず、特に、夏場など高温高湿の条件下では腐敗や変性を留めることは困難であった。そのため、遺族等の関係者が故人との別れに際して遺体の顔や手などに触れると、感染のおそれが高いと言う問題があった。
一方、遺体に事故などでできたキズ、黄疽、変色などを目立たなくさせて、より美しい姿で見送るために遺体に施す、いわゆる遺体化粧メーキングが行われる場合がある。その際、生前故人が使用していた化粧品や、葬儀会社の担当者、看護師などが自分の化粧品を持ち出して行われることが多かった。また、近年、遺体の肌に使用した場合のムラを防止しきれいに化粧を施すことができる遺体専用の化粧セットが開発されている(特許文献1及び特許文献2参照)。
特開2000−80022号公報 特開2000−83730号公報
しかし、遺体化粧メーキングを施すに当たっては、前記したような遺体の腐敗や変性が問題となる。すなわち、メーク担当者が遺体に接触せざるを得ないので、遺体からの感染の危険性が非常に高まる。特に、看護師などが自分の化粧品を持ち出す場合は、遺体化粧メーキングの後、パフ、スポンジ、ブラシ等を繰り返し使用することによる感染症の危険性が更に上昇する。上記特許文献1及び特許文献2の遺体専用の化粧セットについても、遺体からの感染の危険性に関しては全く考慮されていなかった。
本発明は、このような従来の問題を解決し、遺族等の関係者による故人との別れの際や、遺体化粧メーキングにおいて、遺体に接触する人を感染の危険性から充分に守ることのできる遺体化粧メーキング剤を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく、種々の除菌・消臭剤の有効性について検討を重ね、その過程で光触媒に着目した。
光触媒は、抗菌性に優れた物質として注目されており、徹底した衛生管理が要求される病院の内装や、カビなどが生えやすい風呂場のタイル等に使用されている。特に、特開平11−349423号公報には、代表的な光触媒である酸化チタン粒子に、金属銀を分散付着させてなる抗菌・脱臭材料が、より優れた光触媒機能を有することが示されている。
しかしながら、光触媒の抗菌機能は、光を当てて初めて発揮されるものであり、棺桶の中、すなわち暗黒又は微弱光下に安置される遺体には適用できないものと考えられた。
しかしながら、本発明者らは、金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有する除菌・消臭組成物が、室内消灯時の微弱光の下でも、十分に除菌・防臭効果を発揮することを見出した。そして、係る除菌・消臭組成物を分散配合してなる遺体化粧メーキング剤は、遺体に対し優れた除菌・防臭効果を発揮することを見出した。
本発明は、係る知見に基くものである。
請求項1記載の本発明は、金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有する除菌・消臭組成物が配合されてなる遺体化粧メーキング剤である。
請求項2記載の本発明は、除菌・消臭組成物が、平均粒径0.5μm以下の二酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる光触媒機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤である。
請求項3記載の本発明は、除菌・消臭組成物が、平均粒径10μm以下の二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、及びケイ藻土から選ばれる吸着機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤である。
請求項4記載の本発明は、除菌・消臭組成物が、溶媒中に0.06〜0.7質量%の割合で分散配合されてなるスプレー型化粧水である請求項1〜3のいずれかに記載の遺体化粧メーキング剤である。
請求項5記載の本発明は、除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションである請求項1〜3のいずれかに記載の遺体化粧メーキング剤である。
請求項6記載の本発明は、請求項4及び5記載の遺体化粧メーキング剤からなる遺体化粧メーキングセットである。
請求項7記載の本発明は、請求項4記載の遺体化粧メーキング剤を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをすることを特徴とする遺体の化粧メーキング方法である。
本発明の遺体化粧メーキング剤によれば、遺族等の関係者による故人との別れの際や、遺体化粧メーキングにおいて遺体の顔の他身体全体に適用することにより、遺体の腐敗・変性を防ぐと共に病原微生物を除菌し、また、悪臭を抑え消臭効果を得ることができる。特に、エンバーミング処理の施された遺体は、ホルマリン臭が問題となるが、本発明の遺体化粧メーキング剤を適用することにより効率的に消臭し、不快感をなくすことができる。
また、本発明の遺体化粧メーキングセットによれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮するスプレー型化粧水とパウダー及び/又は油性ファンデーションを組み合わせて遺体化粧メーキングを微生物への感染の危険なしに安全に行うことができる。
更に、本発明の化粧メーキング方法によれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮する遺体化粧メーキング剤を用いて、遺体化粧メーキングを安全に行うことができる。
従って、本発明によれば、遺体に接触する人を感染の危険性から充分に守ることができる。
本発明の遺体化粧メーキング剤は、請求項1に記載するように、金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有する除菌・消臭組成物が配合されてなることを特徴とする。
請求項1に係る本発明の遺体化粧メーキング剤において用いる除菌・消臭組成物は、金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有するものである。
ここで、金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分としては、ナノサイズの金属銀、例えば平均粒径10nm以下、好ましくは4nm以下、より好ましくは2nm以下の金属銀は、比表面積が拡大することから、少量でも大きな除菌・消臭効果を発揮することができ、好ましく用いることができる。
また、機能性セラミックス成分とは、光触媒や吸着能を初めとする除菌・消臭機能を有するセラミックスを意味する。具体的には、二酸化チタン、酸化亜鉛、二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、ケイ藻土、リン酸ジルコニウム等を挙げることができ、中でも、二酸化チタン、酸化亜鉛、二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、及びケイ藻土のいずれかが好ましい。二酸化チタンの場合は、その結晶構造がルチル型とアナターゼ型のものとがあるが、光を受けて物質を酸化分解することによる自己浄化作用(セルフ・クリーニング作用)を持ち、より光触媒機能に優れる点で、アタナーゼ型のものが好ましい。
機能性セラミックス成分は、粒子状のものが好ましく、そのサイズについては、除菌・消臭性能に影響しない限度において、機能性セラミックス成分の種類、銀成分のサイズ、両成分の含有形態等を考慮して、適宜定めることができる。
一般には、二酸化チタンや酸化亜鉛の場合は、粒径を小さくした方が、表面積を拡大して光触媒機能を十分に発揮させることができることから、平均粒径0.5μm以下、好ましくは0.04μm以下、より好ましくは0.02μm以下のものが好ましい。一方、二酸化珪素やゼオライトの場合は、吸着能を発揮させるためには光触媒ほど表面積を拡大させる必要はないが、大きすぎると遺体化粧メーキング後の仕上がり風合いが悪くなることから、平均粒径10μm以下、好ましくは5μm以下、より好ましくは0.005〜1μmのものが好ましい。
除菌・消臭組成物は、上記したような銀成分と機能性セラミックス成分とを含有するものであれば、各成分の存在形態は問わないが、特に、機能性セラミックス成分に銀成分が付着、好ましくは分散状態で付着してなるものであることが望ましい。この場合に、銀成分の機能性セラミックス成分への付着量は、一般には、0.05〜15質量%、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%とする。銀成分の分散付着量が少ないと除菌・消臭性能が不十分となり、また、銀成分の分散付着量が多すぎると、機能性セラミックスの表面を覆う割合が増加してやはり除菌・消臭性能が不十分となる。
尚、銀成分の機能性セラミックス成分への付着は、付着後の銀成分が非イオン状態となるように行うことが好ましい。イオン状態とした場合、ポテンシャルエネルギーが高く酸化物や硫化物を容易に形成してしまうため、除菌・消臭効果を長期間持続できず着色を生ずるおそれがあるが、非イオン状態とすることにより、このようなおそれを払拭し、除菌・消臭効果の安定性や着色のおそれをなくすことができる。
このような除菌・消臭組成物としては、請求項2に記載されるように、平均粒径0.5μm以下、好ましくは0.04μm以下、より好ましくは、0.02μm以下の二酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる光触媒機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下、好ましくは4nm以下、より好ましくは2nm以下の金属銀が0.05〜15質量%、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%の割合で分散付着させてなるものが好ましく用いられる。セラミックスの平均粒径が0.5μmを超えると、光触媒機能が十分に発揮されなくなり、また、セラミックスに対する金属銀の割合が0.05〜15質量%を逸脱すると除菌・消臭性能が不十分となり、継続的に発揮されなくなるおそれがあるので好ましくない。
また、請求項2に記載される除菌・消臭組成物の他に、請求項3に記載されるように、平均粒径10μm以下、好ましくは5μm以下、より好ましくは0.005〜1μmの二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、及びケイ藻土から選ばれる吸着機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下、好ましくは4nm以下、より好ましくは2nm以下の金属銀が0.05〜15質量%、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%の割合で分散付着させてなるものも、好ましく用いられる。セラミックスの平均粒径が10μmを超えると、遺体化粧メーキング後の仕上がり風合いが悪くなり、また、セラミックスに対する金属銀の割合が0.05〜15質量%を逸脱すると除菌・消臭性能が不十分となり、継続的に発揮されなくなるおそれがあるので好ましくない。
このような除菌・消臭組成物の製造手順及び条件は、例えば以下の通りである。
まず、硝酸銀等の銀を含有する化合物のアンモニア錯体を得て、該アンモニア錯体を機能性セラミックスと共に純水中で攪拌・分散させる。この分散液に、ブドウ糖溶液等の還元剤を添加した後30〜50℃に加熱して、機能性セラミックスの表面に銀を析出させる。ついで、デカンテーションで分離し、水洗及び乾燥して、機能性セラミックス成分に銀成分が分散付着してなる除菌・消臭組成物を得ることができる。
本発明の遺体化粧メーキング剤は、上記したような除菌・消臭組成物が、適当な溶媒や分散媒、例えば水溶液、樹脂混合物、粉体混合物等に配合、好ましくは分散状態で配合されてなるものである。溶媒や分散媒については、遺体化粧メーキング剤の用途、態様により適宜選択することができる。
除菌・消臭組成物の配合割合は、除菌・消臭効果を失わない範囲で適宜定められるものであり、遺体化粧メーキング剤を、特に化粧水、油性(リキッド)ファンデーション、パウダーファンデーション、乳液、口紅などどのような態様として用いるかや、上記した溶媒により相違するので一義的に規定することは困難であるが、一般には、0.01〜10質量%の範囲で適宜定めることができる。
本発明の遺体化粧メーキング剤は、除菌・消臭効果を失わない範囲で、保存料、着色料、香料、油剤、界面活性剤等他の成分を配合することができる。
本発明の遺体化粧メーキング剤の適用対象については、遺体であれば特に限定されないが、顔のみならず全身とすることにより、遺体の腐敗や変性を防止し、特に、抗酸菌(結核菌)、大腸菌等の各種細菌、カンジダ等の真菌、インフルエンザウイルス等のウイルス等の病原性微生物の増殖を抑えることができるので、好ましい。また、エンバーミング処理の施された遺体は、ホルマリン臭が問題となるが、本発明の遺体化粧メーキング剤を適用することにより効率的に消臭し、不快感をなくすことができる。
本発明の遺体化粧メーキング剤を化粧水の態様で用いる場合は、スプレー型化粧水とすると、メーク担当者が遺体に直接触れることなく適用することができるので好ましい。スプレー型化粧水の場合は、請求項3に記載するように、除菌・消臭組成物が、水(蒸留水、精製水等)、水溶液等の溶媒中に0.06〜0.7質量%、好ましくは0.1〜0.5重量%の割合で分散配合されてなることが好ましい。0.06質量%未満であると除菌・消臭効果が不十分となり、一方、0.7質量%を超えると、着色が問題となる。
化粧水の製造条件、手順は特に限定されず、上記除菌・消臭組成物を所定の溶媒に均一に分散配合されるように攪拌して容器(スプレー型化粧水の場合は、エアーブラシなど噴霧容器)に充填し、製品とすることができる。
また、本発明の遺体化粧メーキング剤をパウダー及び/又は油性ファンデーションとする場合は、請求項4に記載するように、除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%、好ましくは0.3〜1質量%の割合で分散配合されてなることが好ましい。
パウダーファンデーションや油性ファンデーションの製造条件、手順は、特に限定されない。パウダーファンデーションの場合、上記除菌・消臭組成物を、タルク、シリカ、マイカ、HDI/トリメチロールヘキシルラクトンクロスポリマー、酸化チタン、酸化鉄等を所定濃度で分散配合させることにより得ることができる。一方、油性ファンデーションの場合は、上記除菌・消臭組成物を、グリセリン等の多価アルコール、エタノール、ペンチレングリコール等のアルコール、ヒアルロン酸ナトリウム、グリチルリチン酸ジカリウム、キサンタンガム、酸化チタン、酸化鉄、タルク等と所定濃度で分散配合させることにより得ることができる。
このような本発明の遺体化粧メーキング剤は、スキンケアー、ベースメイク、ファンデーション、コンシーラー、アイブローカラー、アイカラー、チークカラー、リップカラー、メイクアップブラシなど各種態様としたものを一つのセットとすることにより、遺体化粧メーキングを完璧に施し、より美しい姿で故人を見送ることができるので、好ましい。特に、請求項6に記載するように、請求項4及び5記載の遺体化粧メーキング剤からなる遺体化粧メーキングセットとすることが好ましい。
ここで、請求項4及び5記載の遺体化粧メーキング剤とは、上記した除菌・消臭組成物が、溶媒中に0.06〜0.7質量%の割合で分散配合されてなるスプレー型化粧水、及び、上記した除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションとを意味する。
本発明の遺体化粧メーキング剤は、遺体化粧メーキングに用いられることにより、微生物の危険性を回避し、安全に行うことができる。
このような遺体化粧メーキング方法の好ましい手順としては、請求項7に記載するように、請求項4記載の遺体化粧メーキング剤、すなわち、除菌・消臭組成物が、溶媒中に0.06〜0.7質量%の割合で分散配合されてなるスプレー型化粧水を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをする方法が挙げられる。すなわち、少なくともスプレー型化粧水を噴霧すれば、微生物の危険性は最低限回避することができる。
パウダーファンデーション及び油性ファンデーションとしては、特に制限なく遺体用以外のものも用いることができるが、本発明の遺体化粧メーキング剤としてのパウダーファンデーション又は油性ファンデーション、すなわち、上記した除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションを好ましく用いることができる。
具体的には、エアーブラシなどに充填したスプレー型化粧水を遺体化粧メーキングの対象である部分の皮膚表面にまんべんなく噴霧した後、油性ファンデーションをパフ等で塗って下地仕上げをし、その上にパウダーファンデーションを伸ばして最終仕上げすることにより行う。その後、必要に応じてカラーパウダーや口紅などで更に仕上げることも可能である。
参考例1〔細菌及び真菌に対するMICの測定〕
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるものを用いて、各種細菌に対する最小発育阻止濃度(MIC)を測定し、抗菌性(除菌性能)の確認を行った。
試験菌株としては、スタフィロコッカス・アウレウス(Staphylococcus aureus)MCMR9901株(メチシリン耐性黄色ブドウ球菌:MRSA))、シュードモナス・アエルギノーサ(Pseudomonas aeruginosa:緑膿菌)NEPA0015株、エシェリヒア・コリ(Escherichia coli:病原性大腸菌)ENEC001株、及びサルモネラ・ティピムリウム(Salmonella typhimurium:サルモネラ菌)の各種細菌を用いた。
試験方法は、抗菌製品技術協議会 試験法「抗菌剤の抗菌力評価試験法 最小発育阻止濃度測定法I(1988年改訂版)液体培地希釈法によるMIC測定法によった。
すなわち、まず、各試験菌株をMHB培地に入れ、37℃で16時間培養した。培養後の培地を3000rpmで10分間遠心して沈さにMHB培地を加えて原液とした。次いで、原液をMHB培地で希釈し、1.0〜5.0×10個/mlの接種菌液を調製し、初期菌数算定のため、接種菌液を更に30〜300個/mlまで希釈し、標準寒天培地にて37℃、24時間混釈培養を行った。培養後、コロニー数を算定し、初期菌数とした。
一方、L字型試験管にMHB培地を10ml分注し、121℃で15分間オートクレーブにかけた。この培地に検体を100μg/mlを基準として2倍量ずつ添加して系列を調整し、この2倍系列培地に上述の接種菌液を0.1ml添加し、試験用培地とした。
この試験用培地の培養試料が均一に混合されるような条件で浸透しながら、35〜37℃で24時間培養した。
培養後、肉眼観察により、発育が阻止された最低濃度をもって、試験菌に対する試料の最小発育阻止濃度(MIC)とした。各種試験菌株に対するMICを、表1に示す。
Figure 2006117611
一般に、MICが600μg/ml以下であると抗菌性があるとされていることを考慮すると、表1の結果から、二酸化チタンに対し金属銀を本発明の条件で分散付着させてなる成分は、多くの細菌や真菌に対し、高い抗菌性(除菌性能)を示すことが明らかとなった。
参考例2〔脱臭効果〕
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が1質量%の割合で分散付着させてなるもの(以下、検体試料と呼称する。)を用いて、脱臭効果を、下記の評価装置を用いてガスクロマトグラフィーにより測定した。
まず、評価装置中の0.005リューベの空間を有するガラス容器内のUV光源を10分以上点灯して安定させた後、いったんUV照射を中止してから、ガラス容器内に配置された直径90φのシャーレに0.1gの検体試料を載せた。次に、評価装置のガラス容器の蓋に備えられた脱気口から真空ポンプで容器内の気体を排出し、容器内部を減圧させた後、ガラス容器の空気入口から空気を入れ、容器内部の気体を置換した。この空気置換操作を3回繰り返した。
その後、ガス注入採取口より悪臭ガスとして紫煙をガラス容器内に注入し、悪臭ガスの初期濃度を100ppmに調整し、その後、UV光源から、シャーレ上の検体試料の表面における紫外線強度が1mW/cmとなるよう調整して、無風状態で60分間紫外線を照射して、ガラス容器中のアセトアルデヒド濃度(ppm)を測定した。
コントロールとして、検体試料の代わりに、酸化チタン粒子単体(金属銀を付着しないもの)を用いて同様に測定した。
各試料におけるアセトアルデヒド濃度の経時的変化を図1に示す。
図1に示すように、酸化チタン粒子単体の場合と比較して、検体試料の場合は、アセトアルデヒド濃度が速やかに低下していた。
このことから、二酸化チタンに対し金属銀を本発明の条件で分散付着させてなる成分は、優れた脱臭効果を有することが明らかである。
参考例3〔室内消灯時における活性酸素発生量〕
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるものについて、電子スピン共鳴装置(ESR)を用いた室内消灯時における活性酸素発生量(OHラジカル)を調べた。
検体は、以下の手順で作成した。硝酸銀(銀含有量:62%)にアンモニアを作用させてアンモニア錯体を得た。この硝酸銀アンモニア錯体を、平均粒径0.02μmの二酸化チタンと共に純水中で攪拌・分散させた。この分散液に、還元剤としてのブドウ糖溶液を添加した後、30〜50℃に加熱して、機能性セラミックスの表面に銀を析出させた。ついで、デカンテーションで分離し、水洗及び乾燥して、機能性セラミックス成分に銀成分が分散付着してなる除菌・消臭組成物(粉末)を得た。
この除菌・消臭組成物の粉末10mgを1ml純水に懸濁させた液を、50μl細孔ガラス管に入れ、活性酸素測定検体とした。
ESR測定は、中心磁場336.3mT、処理時間4分とし、UV照射をしない条件で実施した。この時、室内消灯とし、その時のUV強度は3μW/cmであった。また、ESR測定に使用した除菌・消臭組成物(粉末)のMICを、参考例1に準じて測定した。
一方、コントロール検体として、上記検体の変わりに、二酸化チタンそのもの(銀成分を分散付着させないもの)を用いて、同様に活性酸素発生量とMICを調べた。
結果を表2に示す。
Figure 2006117611
表2から明らかなように、銀成分を付着させていない二酸化チタンそのものは、室内消灯時の微弱なUV条件においてOHラジカルをほとんど発せず、大腸菌に対する抗菌性もほとんど示さなかったのに対し、二酸化チタンに対し金属銀を付着させてなる検体は、OHラジカルを発すると共に、大腸菌に対するMICも600μg/mlを大幅に下回る数値を得た。
このことから、本発明で用いる抗菌・消臭組成物は、室内消灯時の微弱なUV光下でも優れた抗菌性を発揮することが明らかとなった。
実施例1〔スプレー型化粧水の着色性及び抗菌性〕
検体として、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるものを、精製水に0.05、0.1、0.5、0.7及び1.0質量%の各濃度で溶解させ化粧水を作成した。尚、二酸化チタンへの金属銀の分散付着は、参考例1に準じて行った。
この化粧水をスプレー容器に入れて、90φシャーレ内に3秒間噴霧し、3週間後の着色など外観の変化を肉眼で観察した。すなわち、着色がないものを○、やや着色していたものを△、着色があったものを×と評価した。
一方、JIS Z 2801の抗菌性試験法により抗菌性を試験した。すなわち、化粧水をスプレー容器に入れて、滅菌された90φシャーレ内面に3秒間むらなくスプレーし、室温で24時間乾燥した。このようにして抗菌処理されたシャーレとスプレーを施さなかった滅菌シャーレ(ブランク)を試験片として用意した。大腸菌(ATCC25922)を培養し、1/500に希釈した普通ブイヨン培地中に均一に分散させ、試験菌液とした。試験片上に試験菌液を0.5ml滴下し、5×5cmの滅菌済みポリエチレンフィルムを静かに被せ、シャーレの蓋をした後、30℃、湿度90%以上に保持した。24時間後、菌液のついたシャーレ及びポリエチレンフィルムをSCDLP培地10mlで洗い出し、静菌数を測定した。ブランクについても同様に試験菌液で処理し生菌数を測定した。下記の式に示すように、ブランクの静菌数を、スプレーした場合の生菌数で割り、その対数を算出した。その結果、log2以上のものを○、log2未満のものを△と評価した。
結果を表3に示す。
〔数1〕
log(24時間後の生菌数(ブランク)/24時間後の生菌数(スプレー))
Figure 2006117611
表3から、まず、外観については、除菌・消臭組成物の量が0.7質量%を超えると、着色が見られてしまうが、0.5質量%以下では外観に全く変化が見られないことが分かる。また、抗菌性については、0.05質量%の場合には少々劣る結果であったが、0.1質量%以上では充分な抗菌性が示された。
このことから、本発明において、遺体化粧メーキング剤をスプレー型化粧品とした場合、除菌・消臭組成物の量を0.1〜0.5質量%とすることが好ましいことが実際に明らかにされた。
実施例2〔スプレー型化粧水の着色性及び抗菌性〕
検体として、平均粒径0.03μmの二酸化珪素に対し、平均粒径8nmの金属銀を5質量%の割合で分散付着させてなるものを、精製水に0.05、0.1、0.5、0.7及び1.0質量%の各濃度で溶解させ化粧水を作成した。尚、二酸化チタンへの金属銀の分散付着は、参考例1に準じて行った。
この化粧水をスプレー容器に入れて、実施例1の場合と同様に、90φシャーレ内に3秒間噴霧し、3週間後の着色など外観の変化を肉眼で観察して評価した。
一方、JIS Z 2801の抗菌性試験法により抗菌性を試験した。JIS Z 2801の抗菌性試験法については、実施例1で説明した通りである。
結果を表4に示す。
Figure 2006117611
表4から、まず、外観については、除菌・消臭組成物の量が0.7質量%を超えると、着色が見られてしまうが、0.5質量%以下では外観に全く変化が見られないことが分かる。また、抗菌性については、0.05質量%の場合には少々劣る結果であったが、0.1質量%以上では充分な抗菌性が示された。
このことから、本発明において、除菌・消臭組成物として吸着性能を有するセラミックスである二酸化珪素を用いてスプレー型化粧品としての遺体化粧メーキング剤を作成した場合も、除菌消臭組成物の割合は0.1〜0.5質量%とすることが好ましいことが、実際に明らかにされた。
実施例3〔パウダーファンデーションの処方〕
下記の表5に示す処方により、実施例1の検体試料(すなわち、平均粒径0.02μmの二酸化チタンに対し、平均粒径4nmの金属銀が5質量%の割合で分散付着させてなるもの)の配合割合を、0.05、0.1、0.3、0.5、1、1.3、及び1.5%のいずれかとして、遺体メーキング用パウダーファンデーションを作成した。
Figure 2006117611
上記パウダーファンデーションの着色など外観及び抗菌性について、波動測定により評価した。
波動測定は、測定装置PIA(富士技研株式会社)を用いて、特開平9−168522号公報記載の方法に準じて行った。すなわち、被検査品であるパウダーファンデーションを試験者の手近においた状況で、試験者の身体にプローブを接触させて微弱電圧を加えた際に出力される電圧波形を、−20〜20の40段階で評価した。10以上を○、5〜10を△、5未満を×として集計した。結果を表6に示す。
Figure 2006117611
表6から明らかなように、まず、外観については、除菌・消臭組成物の配合割合が1.5質量%の場合は着色が見られてしまうが、1.3質量%以下では外観に全く変化が見られないことが分かる。また、抗菌性は、0.3〜1.3質量%の範囲で充分であった。
このことから、本発明において、遺体化粧メーキング剤をパウダーファンデーションとした場合の除菌・消臭組成物の量は、0.1〜1.3質量%とすることが好ましいことが明らかとなった。
実施例4〔油性ファンデーションの処方〕
下記の表7に示す処方により、実施例1の検体試料の配合割合を0.05、0.1、0.3、0.5、1、1.3、及び1.5%のいずれかとして、遺体メーキング用リキッドファンデーションを作成した。
Figure 2006117611
上記リキッドファンデーションの着色など外観及び抗菌性について、実施例3と同様にして波動測定による評価を行った。結果を表8に示す。
Figure 2006117611
表8から明らかなように、まず、外観については、除菌・消臭組成物の配合割合が1.5質量%の場合は着色が見られてしまうが、1.3質量%以下では外観に全く変化が見られないことが分かる。また、抗菌性は、0.3〜1.3質量%の範囲で充分であった。
このことから、本発明において、遺体化粧メーキング剤を油性ファンデーションとした場合の除菌・消臭組成物の量は、0.1〜1.3質量%とすることが好ましいことが明らかとなった。
本発明の遺体化粧メーキング剤によれば、遺族等の関係者による故人との別れの際や、遺体化粧メーキングにおいて遺体の顔の他身体全体に適用することにより、遺体の腐敗・変性を防ぐと共に病原微生物を除菌し、また、悪臭を抑え消臭効果を得ることができる。特に、エンバーミング処理の施された遺体は、ホルマリン臭が問題となるが、本発明の遺体化粧メーキング剤を適用することにより効率的に消臭し、不快感をなくすことができる。
また、本発明の遺体化粧メーキングセットによれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮するスプレー型化粧水とパウダー及び/又は油性ファンデーションを組み合わせて遺体化粧メーキングを微生物への感染の危険なしに安全に行うことができる。
更に、本発明の化粧メーキング方法によれば、上記したような優れた除菌・消臭効果を発揮する遺体化粧メーキング剤を用いて、遺体化粧メーキングを安全に行うことができる。
従って、本発明によれば、遺体に接触する人を感染の危険性から充分に守ることができる。
参考例2におけるアセトアルデヒド濃度の経時的変化を示す図である。

Claims (7)

  1. 金属銀、銀イオン及び銀化合物の群から選ばれる銀成分と、機能性セラミックス成分とを含有する除菌・消臭組成物が配合されてなる遺体化粧メーキング剤。
  2. 除菌・消臭組成物が、平均粒径0.5μm以下の二酸化チタン及び酸化亜鉛から選ばれる光触媒機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤。
  3. 除菌・消臭組成物が、平均粒径10μm以下の二酸化珪素、ゼオライト、アパタイト、及びケイ藻土から選ばれる吸着機能を有するセラミックスに対し、平均粒径10nm以下の金属銀が0.05〜15質量%の割合で分散付着させてなるものであることを特徴とする請求項1記載の遺体化粧メーキング剤。
  4. 除菌・消臭組成物が、溶媒中に0.06〜0.7質量%の割合で分散配合されてなるスプレー型化粧水である請求項1〜3のいずれかに記載の遺体化粧メーキング剤。
  5. 除菌・消臭組成物が、分散媒中に0.1〜1.3質量%の割合で分散配合されてなるパウダー及び/又は油性ファンデーションである請求項1〜3のいずれかに記載の遺体化粧メーキング剤。
  6. 請求項4及び5記載の遺体化粧メーキング剤からなる遺体化粧メーキングセット。
  7. 請求項4記載の遺体化粧メーキング剤を噴霧した後、油性ファンデーションで下地処理をし、パウダーファンデーションで最終仕上げをすることを特徴とする遺体の化粧メーキング方法。
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07101821A (ja) * 1993-10-04 1995-04-18 Sangi Co Ltd 抗菌性化粧料
JPH0826956A (ja) * 1994-07-19 1996-01-30 Shinagawa Fuel Co Ltd 防臭化粧料
JPH09239012A (ja) * 1996-03-07 1997-09-16 Bio Medeiku Kenkyusho:Kk 防臭組成物及び消臭抗菌剤
JPH11349423A (ja) * 1998-02-19 1999-12-21 Daido Steel Co Ltd 抗菌・脱臭材料およびその製造方法
JP2000080022A (ja) * 1998-09-02 2000-03-21 Kanebo Ltd 葬装用化粧下地料
JP2000083730A (ja) * 1998-09-11 2000-03-28 Kanebo Ltd 葬装用化粧セット
JP2002087902A (ja) * 2001-07-25 2002-03-27 Kankyo Kihon Keikaku:Kk 遺体の保存処置方法
JP2002530313A (ja) * 1998-11-23 2002-09-17 ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー 皮膚消臭及び衛生化組成物
JP2003095801A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Tenju:Kk 遺体の保存方法および遺体の保存用具
JP2003213565A (ja) * 2002-01-21 2003-07-30 Daido Steel Co Ltd 難燃抗菌性繊維製品及びその製造方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07101821A (ja) * 1993-10-04 1995-04-18 Sangi Co Ltd 抗菌性化粧料
JPH0826956A (ja) * 1994-07-19 1996-01-30 Shinagawa Fuel Co Ltd 防臭化粧料
JPH09239012A (ja) * 1996-03-07 1997-09-16 Bio Medeiku Kenkyusho:Kk 防臭組成物及び消臭抗菌剤
JPH11349423A (ja) * 1998-02-19 1999-12-21 Daido Steel Co Ltd 抗菌・脱臭材料およびその製造方法
JP2000080022A (ja) * 1998-09-02 2000-03-21 Kanebo Ltd 葬装用化粧下地料
JP2000083730A (ja) * 1998-09-11 2000-03-28 Kanebo Ltd 葬装用化粧セット
JP2002530313A (ja) * 1998-11-23 2002-09-17 ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー 皮膚消臭及び衛生化組成物
JP2002087902A (ja) * 2001-07-25 2002-03-27 Kankyo Kihon Keikaku:Kk 遺体の保存処置方法
JP2003095801A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Tenju:Kk 遺体の保存方法および遺体の保存用具
JP2003213565A (ja) * 2002-01-21 2003-07-30 Daido Steel Co Ltd 難燃抗菌性繊維製品及びその製造方法

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