JP2006116731A - Barrier film and laminated material using it - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、バリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 The present invention relates to a barrier film and a laminated material using the same.
従来、飲食品、化成品、雑貨品、その他等を充填包装する包装用材料としては、充填包装する内容物の変質、変色、その他等を防止するために、酸素ガス、水蒸気等の透過を遮断、阻止する、種々の形態からなるバリア性基材が開発され、提案されている。
その最も代表的なものとしては、例えば、アルミニウム箔ないしその蒸着膜が、提案されているが、このものは、極めて安定したガスバリア性を発揮するものの、使用後、ゴミとして焼却処理する場合、その焼却適性に劣り、使用後の廃棄処理が容易でないという問題点があり、また、透明性に欠けるという問題点もある。
Conventionally, as packaging materials for filling and packaging foods, beverages, chemicals, miscellaneous goods, etc., the permeation of oxygen gas, water vapor, etc. is blocked in order to prevent deterioration, discoloration, etc. of the contents to be filled and packaged. Barrier substrates having various forms have been developed and proposed.
For example, an aluminum foil or a vapor-deposited film thereof has been proposed as the most typical one, but this one exhibits an extremely stable gas barrier property. There is a problem that it is inferior to incineration, and disposal processing after use is not easy, and there is also a problem that transparency is lacking.
これに対処するために、例えば、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体、その他等からなる酸素ガス、水蒸気等の透過を遮断、阻止するバリア性樹脂フィルムを使用することが試みられている。
しかし、ポリ塩化ビニリデン系樹脂は、その構造中に塩素原子を含有することから、使用後、ゴミとして焼却処理する場合、有害な塩素ガスが発生し、環境衛生上好ましくないという問題点がある。
一方、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体は、酸素透過性が低く、かつ、香味成分の吸着性が低いという長所を有するものの、水蒸気に接触するとガスバリア性が、著しく低下してしまうという問題がある。
このため、バリア性基材としてのエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体を水蒸気から遮断するために複雑な積層構造とする必要があり、製造コストの増大を来しているというのが実状である。
In order to cope with this, for example, it is attempted to use a barrier resin film that blocks or prevents permeation of oxygen gas, water vapor, and the like made of polyvinylidene chloride resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer, etc. It has been.
However, since the polyvinylidene chloride resin contains chlorine atoms in its structure, when it is incinerated as waste after use, harmful chlorine gas is generated, which is unfavorable for environmental hygiene.
On the other hand, the ethylene-vinyl alcohol copolymer has the advantages that the oxygen permeability is low and the adsorptivity of the flavor component is low, but there is a problem that the gas barrier property is remarkably lowered when it comes into contact with water vapor. .
For this reason, in order to block the ethylene-vinyl alcohol copolymer as a barrier base material from water vapor, it is necessary to make it a complicated laminated structure, and the fact is that the manufacturing cost is increasing.
そこで、近年、高いガスバリア性と保香性を安定して発揮し、かつ、透明性を有するバリア性基材として、珪素酸化物、酸化アルミニウム等の無機酸化物の薄膜からなるバリア層を備えたバリア性基材が開発され、提案されている。
而して、上記のバリア性基材は、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、あるいは、ポリプロピレン系樹脂等の樹脂フィルムからなる基材フィルムの一方の面に、珪素酸化物、酸化アルミニウム等の無機酸化物を真空蒸着により付着させて、その無機酸化物の薄膜を設けることにより製造さている。
このものは、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れていると共に透明性に優れ、また、使用後においては焼却廃棄処理する際に有害物質等を発生することなく、廃棄処理適性、環境適性等に優れているものであり、その用途が、多方面に展開され、その需要量が、拡大しているものである。
例えば、厚さ５〜３００μのフレキシブルプラスチックフィルムの少なくとも片面に一般式ＳｉxＯy（ｘ＝１、２、ｙ＝０、１、２、３）なる組成の珪素化合物の厚さ１００〜３０００Åの透明薄膜層を設けた高度の耐透気性と耐透湿性を有する透明フレキシブルプラスチックフィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、プラスチック基材と、該プラスチック基材の片面に設けられた、ケイ素原子と酸素原子の比が１：０．３〜２であるケイ素酸化物の透明薄膜層とからなるバリヤ−性を有する透明なレトルト食品よう包装材料も提案されている（例えば、特許文献２参照。）。 更に、無機物質の薄膜層を形成したバリヤ−フィルム、およびシ−ラント層を含む積層材料であって、シ−ラント層が、１２０℃、２０分間加熱時の収縮率が、縦方向および横方向それぞれ０．５％以下で、かつ、ゴム成分を含まない無延伸ポリプロピレンであることを特徴とする、透明なレトルト殺菌よう包装材料も提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
Thus, the above-mentioned barrier base material is made of, for example, silicon oxide, aluminum oxide or the like on one surface of a base film made of a resin film such as a polyester resin, a polyamide resin, or a polypropylene resin. It is manufactured by depositing an inorganic oxide by vacuum deposition and providing a thin film of the inorganic oxide.
This product has excellent gas barrier properties that prevent the permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and has excellent transparency. Also, after use, it is suitable for disposal without generating harmful substances during incineration disposal. It is excellent in environmental suitability and the like, and its use is developed in various fields, and the demand is expanding.
For example, the thickness of a silicon compound having a composition of the general formula Si x O y (x = 1, 2, y = 0, 1, 2, 3) is 100 to 3000 mm on at least one surface of a flexible plastic film having a thickness of 5 to 300 μm. A transparent flexible plastic film having a high degree of air resistance and moisture resistance provided with a transparent thin film layer has been proposed (for example, see Patent Document 1).
Moreover, it has a barrier property comprising a plastic substrate and a transparent thin film layer of silicon oxide having a silicon atom to oxygen atom ratio of 1: 0.3 to 2 provided on one surface of the plastic substrate. A packaging material such as a transparent retort food has also been proposed (see, for example, Patent Document 2). Furthermore, it is a laminated material including a barrier film in which a thin film layer of an inorganic substance is formed and a sealant layer, and the shrinkage rate when the sealant layer is heated at 120 ° C. for 20 minutes has a longitudinal direction and a transverse direction A packaging material for transparent retort sterilization, which is characterized by being unstretched polypropylene each containing 0.5% or less and containing no rubber component, has also been proposed (for example, see Patent Document 3).
しかしなが、上記の特許文献１〜３で提案されているバリア性基材について、例えば、これを使用して積層材を製造し、更に、これを製袋して包装用袋を製造し、しかる後、その包装用袋内に内容物を充填包装して、種々の形態からなる包装製品を製造することを試みたが、該包装製品においては、バリア性基材を構成する基材フィルムと無機酸化物からなる蒸着層との間における接着強度に問題点があり、しばしば、層間剥離（デラミ）を生じ、十分に満足し得る包装製品を製造することは極めて困難である。
特に、包装用袋内に内容物を充填包装して包装半製品を製造し、しかる後、その包装半製品をボイル処理、もしくは、レトルト処理によって熱水により殺菌処理を行って包装製品を製造する場合には、上記のバリア性基材は、特に、水蒸気バリア性に劣り、処理時にガスバリア性が著しく劣化し、更に、接着強度等も低下し、層間剥離（デラミ）等の発生が著しく、また、その機械的強度の劣化等も引き起こし、上記のような殺菌処理方法には適さないものであるというのが実状である。
そこで、本発明は、透明性に優れ、かつ、高いガスバリア性を有すると共にボイルやレトルト等の高温熱水殺菌処理適性に優れ、バリア性の劣化、層間剥離（デラミ）等の発生がないボイル耐性、レトルト耐性を有する実用性の高いバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
However, for the barrier substrate proposed in
In particular, the packaging bag is filled and packaged with the contents to produce a packaging semi-finished product, and then the packaging semi-finished product is boiled or sterilized with hot water by retorting to produce the packaging product. In this case, the above-mentioned barrier base material is particularly inferior in water vapor barrier property, gas barrier property is remarkably deteriorated during processing, adhesive strength and the like are lowered, delamination and the like are remarkably generated, The actual condition is that the mechanical strength is deteriorated and is not suitable for the sterilization method as described above.
Therefore, the present invention is excellent in transparency, has a high gas barrier property, is excellent in high-temperature hot water sterilization treatment such as boil and retort, and has no boil resistance without causing deterioration of barrier properties, delamination, etc. An object of the present invention is to provide a highly practical barrier film having retort resistance and a laminate using the same.
本発明者は、上記のような問題点を解決すべく種々検討した結果、基材フィルムの一方の面に、密接着性を改良するアンカ−コ−ト剤層を設けることに着目し、而して、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物からなるアンカ−コ−ト剤を使用し、基材フィルムの一方の面に、上記のその構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物によるアンカ−コ−ト剤層を設け、次に、該アンカ−コ−ト剤層の上に、無機酸化物からなる蒸着層を設け、更には、該無機酸化物からなる蒸着層の上に、ポリエチレンイミン系化合物とシランカップリング剤と有機シラン化合物とを含むガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けてバリア性フィルムを製造し、次いで、該バリア性フィルムを使用し、その無機酸化物からなる蒸着層の面に、または、そのガスバリア性塗布膜の面に、例えば、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層を積層して積層材を製造し、しかる後、該積層材を使用し、これを製袋して包装用袋を製造し、次いで、該包装用袋内に内容物を充填包装して種々の形態からなる包装製品を製造したところ、基材フィルムと無機酸化物からなる蒸着層との層間の密接着性に極めて優れ、その層間において層間剥離（デラミ）等の減少は全く認められず、更に、透明性に優れ、かつ、高いガスバリア性を有すると共にボイルやレトルト等の高温熱水殺菌処理適性に優れ、バリア性の劣化、層間剥離（デラミ）等の発生がないボイル耐性、レトルト耐性を有する実用性の高いバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を製造し得ることを見出して本発明を完成したものである。 As a result of various studies to solve the above problems, the present inventor paid attention to providing an anchor coating agent layer for improving the tight adhesion on one surface of the base film. And using an anchor coating agent comprising a resin composition containing a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in its structure and a curing agent, on one side of the base film An anchor coating agent layer made of a resin composition containing a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in its structure and a curing agent is provided, and then the anchor coating is provided. A gas barrier including a polyethyleneimine compound, a silane coupling agent, and an organic silane compound provided on the vapor deposition layer made of an inorganic oxide on the vapor deposition layer made of the inorganic oxide; Sex composition A gas barrier coating film is provided to produce a barrier film, and then the barrier film is used on the surface of the vapor-deposited layer made of the inorganic oxide or on the surface of the gas barrier coating film. At least a heat-sealable resin layer is laminated to produce a laminated material, and then the laminated material is used, and this is made into a bag to produce a packaging bag, and then inside the packaging bag When packaging products of various forms were manufactured by filling and packaging the contents, it was extremely excellent in the tight adhesion between the base film and the vapor-deposited layer made of inorganic oxide, and delamination occurred between the layers. In addition, it has excellent transparency, high gas barrier properties and excellent suitability for high-temperature hot water sterilization treatment such as boiling and retort, deterioration of barrier properties, delamination, etc. Boy without any occurrence Resistant, and completed the present invention have found that it is possible to produce a practical high barrier film with and laminated material using it with a retort resistance.
すなわち、本発明は、基材フィルムの一方の面に、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物によるアンカ−コ−ト剤層を設け、更に、該アンカ−コ−ト剤層の上に、無機酸化物からなる蒸着層を設けることを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 That is, the present invention provides an anchor coating agent comprising a resin composition comprising a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in its structure on one surface of a base film and a curing agent. The present invention relates to a barrier film characterized in that a layer is provided and a vapor deposition layer made of an inorganic oxide is further provided on the anchor coating agent layer, and a laminate using the barrier film.
本発明は、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物からなるアンカ−コ−ト剤を使用することにより、基材フィルムと無機酸化物からなる蒸着層との層間の密着強度を著しく向上させることができ、その両者間の密接着性に極めて優れ、その層間において層間剥離（デラミ）等の減少は全く認められないものである。
これにより、本発明においては、透明性に優れ、かつ、高いガスバリア性を有すると共にボイルやレトルト等の高温熱水殺菌処理適性に優れ、バリア性の劣化、層間剥離（デラミ）等の発生がないボイル耐性、レトルト耐性を有する実用性の高いバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を製造し得るという利点を有するものである。
By using an anchor coating agent comprising a resin composition containing a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in its structure and a curing agent, the present invention The adhesion strength between the deposited layers of inorganic oxides can be remarkably improved, and the close adhesion between the two is extremely excellent, and there is no decrease in delamination between the layers. is there.
Thereby, in this invention, it is excellent in transparency, and has high gas barrier property, and is excellent in high temperature hot water sterilization treatment such as boil and retort, and does not cause deterioration of barrier properties, delamination, etc. It has an advantage that a highly practical barrier film having boil resistance and retort resistance and a laminate using the same can be produced.
本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材について以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。
図１および図２は、本発明に係るバリア性フィルムについてその層構成の一二例を示す概略的断面図であり、図３、図４および図５は、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材についてその層構成の二三例を示す概略断面図であり、図６および図７は、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材を使用して製袋した包装用袋についてその構成の一例を示す概略的斜視図である。
The barrier film according to the present invention and a laminate using the same will be described in more detail below with reference to the drawings.
1 and 2 are schematic cross-sectional views showing one example of the layer structure of the barrier film according to the present invention, and FIGS. 3, 4 and 5 use the barrier film according to the present invention. Fig. 6 and Fig. 7 are schematic cross-sectional views showing a few examples of the layer structure of the laminated material, and Figs. It is a schematic perspective view which shows an example of a structure.
まず、本発明に係るバリア性フィルムＡは、図１に示すように、基材フィルム１の一方の面に、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物によるアンカ−コ−ト剤層２を設け、更に、該アンカ−コ−ト剤層２の上に、無機酸化物からなる蒸着層３を設ける構成からなることを基本構造とするものである。
First, as shown in FIG. 1, the barrier film A according to the present invention is cured with a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in its structure on one surface of a
而して、本発明に係るバリア性フィルムについて具体例を例示すると、図２に示すように、基材フィルム１の一方の面に、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物によるアンカ−コ−ト剤層２を設け、更に、該アンカ−コ−ト剤層２の上に、無機酸化物からなる蒸着層３を設け、更に、該無機酸化物からなる蒸着層３の上に、ポリエチレンイミン系化合物とシランカップリング剤と有機シラン化合物とを含むガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜４を設ける構成からなるバリア性フィルムＡ1 を例示することができる。
Thus, as a specific example of the barrier film according to the present invention, as shown in FIG. 2, on one surface of the
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材について、上記の図１に示す本発明に係るバリア性フィルムＡを使用する積層材の場合を例示して説明すると、図３に示すように、上記の図１に示す本発明に係るバリア性フィルムＡを構成する無機酸化物からなる蒸着層３の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂層１１を積層した構成からなる本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材Ｂ、あるいは、図４に示すように、上記の図１に示す本発明に係るバリア性フィルムＡを構成する無機酸化物からなる蒸着層３の面に、中間基材１２を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層１１を積層した構成からなる本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材Ｂ1 、更に、図５に示すように、上記の図１に示す本発明に係るバリア性フィルムＡを構成する基材フィルム１の他方の面に、更に、プラスチック基材１３を積層し、また、本発明に係るバリア性フィルムＡを構成する無機酸化物からなる蒸着層３の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂層１１を積層した構成からなる本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材Ｂ2 等を例示することができる。
なお、上記の図４、図５および図６において、符号１、２、３等は、前述の図１に示す符号１、２、３等と同じ意味である。
勿論、本発明においては、図示しないが、上記の図２に示す本発明に係るバリア性フィルムを使用し、上記と同様にして、上記と同様に、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材を製造し得ることがでるものである。
Next, in the present invention, the laminated material using the barrier film according to the present invention will be described by exemplifying the case of the laminated material using the barrier film A according to the present invention shown in FIG. As shown in FIG. 3, the heat
In FIGS. 4, 5, and 6,
Of course, in the present invention, although not shown, the barrier film according to the present invention shown in FIG. 2 is used, and in the same manner as described above, the laminate using the barrier film according to the present invention is used in the same manner as described above. The material can be manufactured.
更に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を使用して製袋した包装用袋についてその一例を挙げれば、かかる本発明に係る包装用袋としては、例えば、上記の図３に示す積層材Ｂを使用して製袋した包装用袋を例示して説明すると、図６に示すように、上記の積層材Ｂ、Ｂを２枚用意し、その最内層に位置するヒ−トシ−ル性樹脂層１１、１１の面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルしてヒ−トシ−ル部１５、１５、１５を形成すると共にその上方に開口部１６を形成して、本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を使用して製袋した本発明に係る三方シ−ル型の包装用袋Ｃを製造することができる。
Furthermore, in this invention, if the example is given about the packaging bag which made a bag using the barrier film which concerns on this invention, and the laminated material using it, as this packaging bag concerning this invention, for example, When illustrating and explaining a packaging bag made using the laminated material B shown in FIG. 3, two laminated materials B and B are prepared as shown in FIG. The heat-
而して、本発明においては、図７に示すように、上記で製造した本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を使用して製袋した本発明に係る三方シ−ル型の包装用袋Ｃを使用し、その開口部１６から、例えば、飲食品等の内容物１７を充填し、次いで、上方の開口部１６をヒ−トシ−ルして上方のシ−ル部１８等を形成して、種々の形態からなる包装製品Ｄを製造することができる。
なお、本発明において、図示しないが、上記で製造した本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を使用して製袋した本発明に係る三方シ−ル型の包装用袋を使用し、その開口部から、例えば、例えば、カレ−、シチュ−、ス−プ、ミ−トソ−ス、ハンバ−グ、ミ−トボ−ル、しゅうまい、おでん、その他等の所望の飲食品等の内容物を充填し、次いで、上方の開口部をヒ−トシ−ルして上方のシ−ル部等を形成して包装半製品を製造し、しかる後、該包装半製品を、例えば、温度、１１０℃〜１３０℃位、圧力、１〜３Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ位で２０〜６０分間程度加圧加熱殺菌処理等のレトルト処理等を施して、種々の形態からなるレトルト包装製品を製造することができるものである。
なお、本発明においては、上記のようなレトルト処理に代えて、例えば、９０℃位で３０分間位煮沸して加熱殺菌処理等を施して、殺菌処理包装製品を製造することもできるものである。
更に、本発明においては、図示しないが、上記の図４および図５に示す本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材を使用し、上記と同様にして、上記と同様に、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材を使用して製袋した包装用袋、包装製品等を製造し得ることがでるものである。
なお、本発明において、本発明に係る包装用袋、包装製品等としては、上記に図示した例示の包装用袋の形状に限定されるものでないことは言うまでもないことであり、その目的、用途等により、四方シ−ル型、自立性型、ガゼット型、角底型、ピロ−型、その他等の種々の形態からなる包装用袋を製造することができるものである。
Thus, in the present invention, as shown in FIG. 7, the three-sided seal type according to the present invention produced by using the barrier film according to the present invention produced above and the laminated material using the same is produced. The packaging bag C is filled with the
In the present invention, although not shown in the drawings, the barrier film according to the present invention produced above and the three-sided seal type packaging bag according to the present invention produced using the laminated material using the same are used. From the opening, for example, desired food and drink such as curry, stew, soup, meat sauce, hamburger, meatball, sushi, oden, etc. Fill the contents, then heat seal the upper opening to form an upper seal or the like to produce a packaged semi-finished product, after which the packaged semi-finished product, for example, temperature , 110 ° C to 130 ° C, pressure, 1 to 3 kgf /
In addition, in this invention, it replaces with the above retort processes, for example, it can boil for about 30 minutes at about 90 degreeC, and can also heat-sterilize, etc., and can also manufacture a bactericidal treatment packaging product. .
Further, in the present invention, although not shown in the drawings, a laminated material using the barrier film according to the present invention shown in FIG. 4 and FIG. 5 is used. It is possible to manufacture packaging bags, packaging products, and the like that are made using the laminated material that uses such a barrier film.
In the present invention, it is needless to say that the packaging bag, packaged product and the like according to the present invention are not limited to the shape of the illustrated packaging bag illustrated above, and its purpose, use, etc. Thus, packaging bags having various forms such as a four-side seal type, a self-supporting type, a gusset type, a square bottom type, a pillow type, and the like can be manufactured.
上記の例示は、本発明に係るバリア性フィルム、それを使用した積層材、および、積層材を使用して製袋した包装用袋、包装製品等について、その一二例を例示したものであり、本発明はこれらによって限定されるものではないものである。
例えば、本発明においては、図示しないが、更に、その使用目的、用途等によって、他の素材等を任意に使用し、種々の形態からなるバリア性フィルム、それを使用した積層材、および、積層材を使用して製袋した包装用袋、包装製品等を設計して製造することができるものである。
また、例えば、図示しないが、本発明においては、無機酸化物からなる蒸着層としては、無機酸化物からなる蒸着層の１層からなる単層膜のみならず無機酸化物からなる蒸着層の２層以上からなる多層膜等から構成することもできるものである。
更に、例えば、図示しないが、本発明においては、ガスバリア性塗布膜としては、１層のみならず２層以上の多層に設けることもできるものである。
なお、本発明において、上記のような本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材を積層する方法としては、図示しないが、例えば、アンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層、ポリオレフィン系樹脂等を溶融押出した溶融押出樹脂層等を介して積層する溶融押出ラミネ−ト法、あるいは、例えば、ラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層等をを介して積層するドライラミネ−ト法、その他等により積層することができる。
The above examples illustrate one or two examples of the barrier film according to the present invention, a laminated material using the barrier film, a packaging bag made using the laminated material, a packaged product, and the like. However, the present invention is not limited to these.
For example, in the present invention, although not shown in the drawings, other materials and the like are arbitrarily used depending on the purpose of use, application, etc., barrier films having various forms, laminates using the same, and lamination It is possible to design and manufacture packaging bags, packaging products and the like that are made using materials.
Further, for example, although not shown in the drawings, in the present invention, the vapor deposition layer made of an inorganic oxide is not limited to a single layer film made of one of the vapor deposition layers made of an inorganic oxide, but also a vapor deposition layer made of an inorganic oxide. It can also be composed of a multilayer film composed of more than one layer.
Further, for example, although not shown, in the present invention, the gas barrier coating film can be provided not only in one layer but also in two or more layers.
In the present invention, as a method of laminating a laminate using the barrier film according to the present invention as described above, although not shown, for example, an anchor coat agent layer by an anchor coat agent, Lamination is performed via a melt extrusion laminating method in which a polyolefin resin or the like is laminated through a melt extruded resin layer or the like, or laminating adhesive layer by a laminating adhesive, for example. Lamination can be performed by a dry lamination method or the like.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルム、積層材、包装用袋、包装製品等を構成する材料、製造法等について説明すると、まず、本発明に係るバリア性フィルムを構成する基材フィルムについて説明すると、かかる基材フィルムとしては、これが、本発明に係るバリア性フィルム、積層材、包装用袋等を構成する基本素材となること、更に、アンカ−コ−ト剤層、無機酸化物からなる蒸着層、あるいは、ガスバリア性塗布膜等を保持する基材であること等から、まず、それらの形成、加工等の条件に耐え、かつ、その特性を損なうことなくそれらを良好に保持し得ることができること、更に、包装用袋の製袋に際し、加工作業性、耐熱性、滑り性、耐ピンホ−ル性、その他等の諸物性に優れ、更に、その他等の条件を充足し得る樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。 本発明において、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリルル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン樹脂等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
Next, in the present invention, the material constituting the barrier film, the laminated material, the packaging bag, the packaged product, etc. according to the present invention, the production method, etc. will be described. First, the base constituting the barrier film according to the present invention. The material film will be described. As such a base film, this is a basic material constituting the barrier film, laminated material, packaging bag and the like according to the present invention, and further, an anchor coating agent layer, inorganic Because it is a base material that holds a vapor-deposited layer made of oxide or a gas barrier coating film, etc., first, withstand the conditions of their formation, processing, etc., and improve them without impairing their properties In addition, it is excellent in various work properties such as workability, heat resistance, slipperiness, pinhole resistance, etc., and other conditions are satisfied. Gain Resin film or sheet - may be used and. In the present invention, specific examples of the resin film or sheet include polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, and acrylonitrile-styrene copolymer. Polyester such as coalescence (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate Films or sheets of various resins such as polyamide resins, polyamide resins such as various nylon resins, polyurethane resins, acetal resins, cellulose resins, and the like can be used.
In the present invention, it is particularly preferable to use a polyester resin, a polyolefin resin, or a polyamide resin film or sheet among the resin films or sheets.
本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレ−ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、２種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して１軸ないし２軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの膜厚としては、６〜２００μｍ位、より好ましくは、９〜１００μｍ位が望ましい。
In the present invention, as the above-mentioned various resin films or sheets, for example, one or more of the above-mentioned various resins are used, and an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, an inflation method are used. -A method of forming the above-mentioned various resins independently using a film-forming method such as an ionization method or the like, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more types of various resins In addition, by using two or more kinds of resins, various film or sheet of resin is manufactured by a method of mixing and forming before forming a film, and if necessary, for example, Various resin films or sheets formed by stretching in a uniaxial or biaxial direction using a tenter system, a tuber system, or the like can be used.
In the present invention, the film thickness of various resin films or sheets is preferably about 6 to 200 μm, more preferably about 9 to 100 μm.
なお、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十％まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。 It should be noted that one or more of the above-mentioned various resins are used, and in forming the film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying mold release properties, flame retardancy, antifungal properties, electrical properties, strength, etc. Can be optionally added from a very small amount to several tens of percent depending on the purpose. In the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, an antistatic agent, a pigment, and the like can be used. Furthermore, a modifying resin or the like can be used.
次に、本発明に係るバリア性フィルムを構成するアンカ−コ−ト剤層について説明すると、かかるアンカ−コ−ト剤層は、基材フィルムと無機酸化物からなる蒸着層との密接着性を向上させ、その両者の層間の層間剥離（デラミ）の発生を防止するものである。
而して、本発明において、アンカ−コ−ト剤層を構成する樹脂組成物を形成するその構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂としては、ポリアクリル系またはポリメタクリル系高分子を基本骨格とし、その主鎖、側鎖、あるいは、末端等に２以上のヒドロキシル基を有し、後述する硬化剤と反応し得るポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂を使用することができる。
上記のポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂としては、具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、３−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ジ−２−ヒドロキシエチルフマレート、モノ−２−ヒドロキシエチル−モノブチルフマレートまたはポリエチレングリコールモノアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシブチルメタクリレート、３−ヒドロキシブチルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ジ−２−ヒドロキシエチルフマレート、モノ−２−ヒドロキシエチル−モノブチルフマレートまたはポリエチレングリコールモノメタアクリレート等のα、β−エチレン性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステルモノマ−の単独重合体ないし他のモノマ−との共重合体等を使用することができる。
あるいは、本発明において、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂としては、例えば、ポリアクリル系樹脂またはポリメタクリル系樹脂を、例えば、ポリエステル系樹脂等で変性し、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有する変性ポリアクリル系樹脂またはポリメタクリル系樹脂等も使用することができる。
Next, the anchor coat agent layer constituting the barrier film according to the present invention will be described. The anchor coat agent layer is a close adhesive property between a base film and a vapor deposition layer made of an inorganic oxide. In order to prevent the occurrence of delamination between the two layers.
Thus, in the present invention, the polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure forming the resin composition constituting the anchor coating agent layer includes a polyacrylic or polyacrylic resin. A polyacrylic polymer or polymethacrylic resin having a polymethacrylic polymer as a basic skeleton and having two or more hydroxyl groups at its main chain, side chain, terminal, etc. and capable of reacting with a curing agent described later is used. be able to.
Specific examples of the polyacrylic or polymethacrylic resin include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl acrylate, di-2-hydroxyethyl fumarate, mono-2-hydroxyethyl-monobutyl fumarate or polyethylene glycol monoacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2- Hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl Α, β-ethylenically unsaturated carboxylic acids such as tacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, di-2-hydroxyethyl fumarate, mono-2-hydroxyethyl-monobutyl fumarate or polyethylene glycol monomethacrylate A homopolymer of a hydroxyalkyl ester monomer or a copolymer with another monomer can be used.
Alternatively, in the present invention, as the polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure, for example, a polyacrylic resin or a polymethacrylic resin is modified with, for example, a polyester resin or the like. A modified polyacrylic resin or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure can also be used.
上記において、他のモノマ−としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸もしくはシトラコン酸のような不飽和モノ−もしくはジカルボン酸類、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｉ−プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ペンチルアクリレート、ヘプチルアクリレート、オクチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、ｉ−プロピルメタアクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ペンチルメタクリレート、ヘプチルメタクリレート、オクチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の（メタ）アクリレートアルキルエステル類、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、（β−メチル）グリシジルアクリレート、（β−メチル）グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、メタクリルグリシジルエーテ等のエポキシ基を有するモノマ−、アクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、ジメチルメタクリルアミド等のアミド基を含有するモノマ−、スチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニルまたはフッ化ビニリデン、エチレン、プロピレン、その他等のモノマ−を使用することができる。
また、上記において、ポリエステル系樹脂としては、例えば、ジカルボン酸成分とグリコ−ル成分とを反応させて得られる各種のポリエステル系樹脂を使用することができる。
In the above, other monomers include, for example, acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, unsaturated mono- or dicarboxylic acids such as itaconic acid or citraconic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, n -Propyl acrylate, i-propyl acrylate, butyl acrylate, hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, pentyl acrylate, heptyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, cyclohexyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl meta Acrylate, butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, pentyl methacrylate, (Meth) acrylate alkyl esters such as butyl methacrylate, octyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, (β-methyl) glycidyl acrylate, (β-methyl) glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, methacryl glycidyl ether Monomers having epoxy groups such as, monomers containing amide groups such as acrylamide, methacrylamide, dimethylacrylamide, dimethylmethacrylamide, styrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, vinyl chloride, vinylidene chloride, vinyl fluoride Alternatively, monomers such as vinylidene fluoride, ethylene, propylene, and the like can be used.
In the above, as the polyester resin, for example, various polyester resins obtained by reacting a dicarboxylic acid component and a glycol component can be used.
次に、本発明において、アンカ−コ−ト剤層を構成する樹脂組成物を形成する硬化剤としては、上記のその構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と反応してできるウレタン結合により、基材フィルムと無機酸化物からなる蒸着層との密接着性を高めるために添加されるもので、主に架橋剤もしくは硬化剤として作用するものである。
而して、上記の硬化剤としては、具体的には、例えば、芳香族系のトリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、メチレン・ビス（ｐ−フェニレンジイソシアネ−ト）、１−クロロフェニル−２、４−ジイソシアネ−ト、１、５−ナフチレンジイソシアネ−ト、エチルベンゼン−２、４−ジイソシアネ−ト、２、４−トリレンジイソシアネ−ト二重体、４、４’、４”トリフェニルメタントリイソシアネ−ト、トリス（４−フェニルイソシアネ−ト）チオフォスフェ−ト、キシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）等、脂肪族系のヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネートヘキサントリオ−ルの附加体、チオジプロピルジイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト化合物、あるいは、その初期縮合物もしくは誘導体の１種またはこれらの２種以上を用いることができる。
Next, in the present invention, the curing agent for forming the resin composition constituting the anchor coating agent layer is a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure. It is added in order to improve the close adhesion between the base film and the vapor deposition layer made of an inorganic oxide by a urethane bond formed by reaction, and mainly acts as a crosslinking agent or a curing agent.
Thus, specific examples of the curing agent include aromatic tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), methylene bis (p-phenylene diisocyanate), 1 -Chlorophenyl-2,4-diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, ethylbenzene-2,4-diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate duplex, 4, 4 ', 4 "triphenylmethane triisocyanate, tris (4-phenylisocyanate) thiophosphate, xylene diisocyanate (XDI), aliphatic hexamethylene diisocyanate (HMDI), isophorone diisocyanate (IPDI), hexa Adduct of methylene diisocyanate hexane triol, thiodipropyldi It is possible to use an isocyanate compound such as isocyanate, or one or more of these initial condensates or derivatives.
本発明において、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤としてのイソシアネート化合物の配合比は、特に制限されるのもではないが、イソシアネート化合物が少なすぎると硬化不良になる場合があり、またそれが多すぎるとブロッキング等が発生し加工上問題がある。
本発明において、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤としてのイソシアネート化合物との配合比としては、イソシアネート化合物由来のＮＣＯ基が、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂由来のＯＨ基の５０倍以下であることが好ましく、特に好ましいのは、ＮＣＯ基とＯＨ基が当量で配合される場合が望ましいものである。
In the present invention, the mixing ratio of the polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure and the isocyanate compound as the curing agent is not particularly limited, but the isocyanate compound is too small. If the amount is too large, blocking or the like occurs and there is a problem in processing.
In the present invention, the compounding ratio of the polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure and the isocyanate compound as the curing agent is an NCO group derived from an isocyanate compound having 2 in the structure. It is preferably 50 times or less of the OH group derived from the above polyacrylic or polymethacrylic resin having a hydroxyl group, and particularly preferred is the case where the NCO group and the OH group are mixed in an equivalent amount. .
なお、本発明においては、上記のようなその構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤としてのイソシアネート化合物との他に、例えば、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂またはポリエステル系樹脂の１種ないしそれ以上を添加し、被膜の強度等を補強することができるものである。 In the present invention, in addition to a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure as described above and an isocyanate compound as a curing agent, for example, a vinyl resin or an epoxy resin One or more resins, urethane resins, or polyester resins can be added to reinforce the strength of the coating.
本発明においては、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂とその他の所要の添加剤を加え、更に、溶媒、希釈剤を加え十分に混合して、任意の濃度に希釈した後、硬化剤としてのイソシアネート化合物と混合して、アンカ−コ−ト剤層を構成する樹脂組成物を調整する。
なお、本発明において、各種の添加剤、例えば、３級アミン、イミダゾール誘導体、カルボン酸の金属塩化合物、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩等の硬化促進剤や、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の酸化防止剤、レベリング剤、流動調整剤、触媒、架橋反応促進剤、充填剤等を添加することができるものである。
而して、本発明においては、上記のように調整した樹脂組成物を使用し、これを、例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、シルクスクリーン印刷等の印刷方式や、ロールコート、ナイフエッジコート、グラビアコート、キスコ−ト、スピンコ−ト、その他等の塗布方式を用いて、基材フィルムの上に印刷、塗布ないしコーティングし、その後、その印刷膜ないしコーティング膜を乾燥し溶媒等を除去し硬化させることによって、本発明に係るアンカ−コ−ト剤層を形成することができる。
上記のアンカ−コ−ト剤層の膜厚としては、０．０５〜１０ｇ／ｍ2（乾燥状態）位が好ましいものである。
In the present invention, a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure and other necessary additives are added, and further, a solvent and a diluent are added and mixed well, and an arbitrary After diluting to a concentration, the resin composition constituting the anchor coat agent layer is prepared by mixing with an isocyanate compound as a curing agent.
In the present invention, various additives such as curing accelerators such as tertiary amines, imidazole derivatives, carboxylic acid metal salt compounds, quaternary ammonium salts, and quaternary phosphonium salts, phenols, sulfurs, phosphines, and the like. An antioxidant such as a phyto-based agent, a leveling agent, a flow regulator, a catalyst, a crosslinking reaction accelerator, a filler and the like can be added.
Thus, in the present invention, the resin composition prepared as described above is used, and this is applied to a printing method such as offset printing, gravure printing, silk screen printing, roll coating, knife edge coating, gravure, etc. Using a coating method such as coating, kiss coating, spin coating, etc., printing, coating or coating on the base film, and then drying the printed film or coating film to remove the solvent and curing. Thus, the anchor coating agent layer according to the present invention can be formed.
As a film thickness of said anchor coating agent layer, 0.05-10 g / m < 2 > (dry state) rank is preferable.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを構成する基材フィルムの一方の面に設ける無機酸化物からなる蒸着層について説明すると、かかる無機酸化物からなる蒸着層としては、例えば、化学気相成長法、または、物理気相成長法、あるいは、その両者を併用して、無機酸化物からなる蒸着層の１層からなる単層膜あるいは２層以上からなる多層膜または複合膜を形成して製造することができるものである。 Next, in the present invention, the vapor deposition layer made of an inorganic oxide provided on one surface of the base film constituting the barrier film according to the present invention will be described. As the vapor deposition layer made of such an inorganic oxide, for example, A chemical vapor deposition method, a physical vapor deposition method, or a combination of both, to form a single layer film consisting of one layer of an inorganic oxide vapor deposition layer, or a multilayer film or a composite film consisting of two or more layers It can be formed and manufactured.
本発明において、上記の化学気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層について更に詳しく説明すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて無機酸化物からなる蒸着層を形成することができる。
本発明においては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
In the present invention, the vapor deposition layer made of the inorganic oxide by the chemical vapor deposition method will be described in more detail. As the vapor deposition layer made of the inorganic oxide by the chemical vapor deposition method, for example, a plasma chemical vapor deposition method can be used. A vapor deposition layer made of an inorganic oxide can be formed using a chemical vapor deposition method (Chemical Vapor Deposition method, CVD method) such as a thermal chemical vapor deposition method or a photochemical vapor deposition method.
In the present invention, specifically, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound is used as a raw material on one surface of a base film, and an inert gas such as argon gas or helium gas is used as a carrier gas. Furthermore, an oxygen gas or the like is used as an oxygen supply gas, and a vapor deposition layer made of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed using a low temperature plasma chemical vapor deposition method using a low temperature plasma generator or the like. it can.
In the above, for example, high-frequency plasma, pulse wave plasma, microwave plasma, or the like can be used as the low-temperature plasma generator. Thus, in the present invention, highly active and stable plasma is obtained. Therefore, it is desirable to use a high-frequency plasma generator.
具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層の形成法についてその一例を例示して説明すると、図８は、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層の形成法についてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
本発明においては、図８に示すように、プラズマ化学気相成長装置２１の真空チャンバ−２２内に配置された巻き出しロ−ル２３から基材フィルム１を繰り出し、更に、該基材フィルム１を、補助ロ−ル２４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム２５周面上に搬送する。
而して、本発明においては、ガス供給装置２６、２７および、原料揮発供給装置２８等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル２９を通して真空チャンバ−２２内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム２５周面上に搬送された、基材フィルム１の一方の面に、グロ−放電プラズマ３０によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層を製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム２５は、真空チャンバ−２２の外に配置されている電源３１から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム２５の近傍には、マグネット３２を配置してプラズマの発生が促進されている。
次いで、上記で基材フィルム１の一方の面に、酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層を形成した後、その基材フィルム１は、無機酸化物からなる蒸着層を保持した状態で、補助ロ−ル３３を介して巻き取りロ−ル３４に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層を形成することができるものである。
なお、図中、３５は、真空ポンプを表す。
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
図示しないが、本発明においては、無機酸化物からなる蒸着層としては、無機酸化物からなる蒸着層の１層だけではなく、２層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよく、また、使用する材料も１種または２種以上の混合物で使用し、また、異種の材質で混合した無機酸化物からなる蒸着層を構成することもできる。
Specifically, an example of the method for forming a vapor deposition layer made of an inorganic oxide by the low temperature plasma chemical vapor deposition method will be described. FIG. 8 shows an inorganic oxide by the plasma chemical vapor deposition method described above. It is a schematic block diagram of the low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus which shows the outline | summary about the formation method of the vapor deposition layer which consists of.
In the present invention, as shown in FIG. 8, the
Thus, in the present invention, oxygen gas, inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound, and the like are supplied from the
In the present invention, at that time, the cooling /
Subsequently, after forming the vapor deposition layer which consists of inorganic oxides, such as a silicon oxide, on the one surface of the
In the figure, 35 represents a vacuum pump.
The above exemplification is an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby.
Although not shown, in the present invention, the vapor deposition layer made of an inorganic oxide may be not only one vapor deposition layer made of an inorganic oxide but also a multilayer film in which two or more layers are laminated, The material to be used can also be used by 1 type, or 2 or more types of mixtures, and can also comprise the vapor deposition layer which consists of an inorganic oxide mixed with a different kind of material.
上記において、真空チャンバ−内を真空ポンプにより減圧し、真空度１×１０-1〜１×１０-8Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０-3〜１×１０-7Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましいものである。
また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物を揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、この混合ガスを原料供給ノズルを介して真空チャンバ−内に導入されるものである。
この場合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は、１〜４０％位、酸素ガスの含有量は、１０〜７０％位、不活性ガスの含有量は、１０〜６０％位の範囲とすることができ、例えば、有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比を１：６：５〜１：１７：１４程度とすることができる。
一方、冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、真空チャンバ−内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロ−放電プラズマが生成され、このグロ−放電プラズマは、混合ガスなかの１つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、基材フィルムを一定速度で搬送させ、グロ−放電プラブマによって、冷却・電極ドラム周面上の二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムの面に、酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層を形成することができるものである。
なお、このときの真空チャンバ−内の真空度は、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０-1〜１×１０-2Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましく、また、基材フィルムの搬送速度は、１０〜３００ｍ／分位、好ましくは、５０〜１５０ｍ／分位に調製することが望ましいものである。
In the above, the inside of the vacuum chamber is depressurized by a vacuum pump and adjusted to a vacuum degree of 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 Torr, preferably a vacuum degree of 1 × 10 −3 to 1 × 10 −7 Torr It is desirable to do.
In the raw material volatilization supply device, the organic silicon compound as the raw material is volatilized and mixed with oxygen gas, inert gas, etc. supplied from the gas supply device, and this mixed gas is supplied to the vacuum chamber through the raw material supply nozzle. It is introduced in the inside.
In this case, the content of the organosilicon compound in the mixed gas is about 1 to 40%, the content of oxygen gas is about 10 to 70%, and the content of inert gas is about 10 to 60%. For example, the mixing ratio of the organosilicon compound, oxygen gas, and inert gas can be about 1: 6: 5 to 1:17:14.
On the other hand, since a predetermined voltage is applied to the cooling / electrode drum from the power source, glow discharge plasma is generated in the vicinity of the opening of the raw material supply nozzle in the vacuum chamber and the cooling / electrode drum. The glow discharge plasma is derived from one or more gas components in the mixed gas. In this state, the base film is transported at a constant speed, and the glow discharge plasma is used to cool the electrode drum peripheral surface. A vapor deposition layer made of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed on the surface of the upper biaxially stretched polyester resin film.
At this time, the degree of vacuum in the vacuum chamber should be adjusted to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −2 Torr. In addition, it is desirable that the conveying speed of the base film is adjusted to about 10 to 300 m / min, preferably about 50 to 150 m / min.
また、上記のプラズマ化学気相成長装置において、酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層の形成は、基材フィルムの一方の面に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらＳｉＯX の形で薄膜状に形成されるので、当該形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となるものであり、従って、酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層のバリア性は、従来の真空蒸着法等によって形成される酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層と比較してはるかに高いものとなり、薄い膜厚で十分なガスバリア性を得ることができるものである。
また、本発明においては、ＳｉＯX プラズマにより基材フィルムの表面が、清浄化され、基材フィルムの表面に、極性基やフリ−ラジカル等が発生するので、形成される酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層と基材フィルムの表面との密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。
更に、上記のように酸化珪素等の無機酸化物からなる連続膜の形成時の真空度は、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、１×１０-1〜１×１０-2Ｔｏｒｒ位に調製することから、従来の真空蒸着法により酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層を形成する時の真空度、１×１０-4〜１×１０-5Ｔｏｒｒ位に比較して低真空度であることから、基材フィルムを原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度を安定しやすく、製膜プロセスが安定するものである。
In addition, in the plasma chemical vapor deposition apparatus described above, the vapor deposition layer made of an inorganic oxide such as silicon oxide is formed on one surface of the base film by oxidizing the plasma source gas with oxygen gas while oxidizing the SiO x Therefore, the formed vapor-deposited film of inorganic oxide such as silicon oxide is a continuous layer having high density, few gaps, and high flexibility. The barrier property of a vapor deposition layer made of an inorganic oxide such as silicon is much higher than that of a vapor deposition layer made of an inorganic oxide such as silicon oxide formed by a conventional vacuum vapor deposition method. A sufficient gas barrier property can be obtained.
In the present invention, the surface of the base film is cleaned by SiO x plasma, and polar groups and free radicals are generated on the surface of the base film. It has the advantage that the tight adhesion between the vapor-deposited layer made of the product and the surface of the substrate film is high.
Furthermore, the degree of vacuum during the formation of a continuous film of an inorganic oxide such as silicon oxide as described above, 1 × 10 -1 ~1 × 10 -4 Torr level, preferably, 1 × 10 -1 ~1 × Since the pressure is adjusted to 10 −2 Torr, the degree of vacuum is 1 × 10 −4 to 1 × 10 −5 Torr when a vapor deposition layer made of an inorganic oxide such as silicon oxide is formed by a conventional vacuum vapor deposition method. Since the degree of vacuum is lower than that of the base film, it is possible to shorten the time for setting the vacuum state at the time of replacing the original film, to easily stabilize the degree of vacuum, and to stabilize the film forming process.
本発明において、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスを使用して形成される酸化珪素からなる蒸着層は、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、基材フィルムの一方の面と密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式ＳｉＯX （ただし、Ｘは、０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体とする連続状の薄膜である。
而して、上記の酸化珪素からなる蒸着層としては、透明性、バリア性等の点から、一般式ＳｉＯX （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表される酸化珪素からなる蒸着層を主体とする薄膜であることが好ましいものである。
上記において、Ｘの値は、蒸着モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
In the present invention, a vapor deposition layer made of silicon oxide formed using a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound chemically reacts with a vapor deposition monomer gas such as an organic silicon compound and oxygen gas. The object is closely bonded to one surface of the base film to form a dense, flexible thin film, and is generally represented by the general formula SiO x (where X represents a number from 0 to 2). It is a continuous thin film mainly composed of silicon oxide.
Thus, the vapor deposition layer made of silicon oxide is represented by the general formula SiO x (where X represents a number of 1.3 to 1.9) in terms of transparency, barrier properties, and the like. A thin film mainly composed of a deposited layer made of silicon oxide is preferable.
In the above, the value of X varies depending on the molar ratio of the vapor-deposited monomer gas and oxygen gas, the energy of the plasma, etc. Generally, the gas permeability decreases as the value of X decreases, but the film itself Becomes yellowish and the transparency is poor.
また、上記の酸化珪素からなる蒸着層は、酸化珪素を主体とし、これに、更に、炭素、水素、珪素または酸素の１種類、または、その２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類を化学結合等により含有する蒸着膜からなることを特徴とするものである。
例えば、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｈ結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラ−レン状等になっている場合、更に、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。
具体例を挙げると、ＣＨ3 部位を持つハイドロカ−ボン、ＳｉＨ3 シリル、ＳｉＨ2 シリレン等のハイドロシリカ、ＳｉＨ2 ＯＨシラノ−ル等の水酸基誘導体等を挙げることができる。
上記以外でも、蒸着過程の条件等を変化させることにより、酸化珪素の蒸着膜中に含有される化合物の種類、量等を変化させることができる。
而して、上記の化合物が、酸化珪素の蒸着膜中に含有する含有量としては、０．１〜５０％位、好ましくは、５〜２０％位が望ましいものである。
上記において、含有率が、０．１％未満であると、酸化珪素からなる蒸着層の耐衝撃性、延展性、柔軟性等が不十分となり、曲げなとにより、擦り傷、クラック等が発生し易く、高いバリア性を安定して維持することが困難になり、また、５０％を越えると、バリア性が低下して好ましくないものである。
更に、本発明においては、酸化珪素からなる蒸着層において、上記の化合物の含有量が、酸化珪素からなる蒸着層の表面から深さ方向に向かって減少させることが好ましく、これにより、酸化珪素からなる蒸着層の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められ、他方、基材フィルムの面との界面においては、上記の化合物の含有量が少ないために、基材フィルムと酸化珪素からなる蒸着層との密接着性が強固なものとなるという利点を有するものである。
The vapor deposition layer made of silicon oxide is mainly composed of silicon oxide, and further contains at least one kind of compound of carbon, hydrogen, silicon or oxygen, or two or more elements thereof. It consists of a vapor-deposited film contained by chemical bonding or the like.
For example, when a compound having a C—H bond, a compound having a Si—H bond, or a carbon unit is in the form of graphite, diamond, fullerene, etc. A derivative may be contained by a chemical bond or the like.
Specific examples include hydrocarbons having a CH 3 site, hydrosilica such as SiH 3 silyl, SiH 2 silylene, and hydroxyl derivatives such as SiH 2 OH silanol.
In addition to the above, the type, amount, etc., of the compound contained in the deposited film of silicon oxide can be changed by changing the conditions of the vapor deposition process.
Thus, the content of the above compound in the deposited film of silicon oxide is about 0.1 to 50%, preferably about 5 to 20%.
In the above, if the content is less than 0.1%, the impact resistance, spreadability, flexibility, etc. of the deposited layer made of silicon oxide become insufficient, and scratches, cracks, etc. occur due to bending. It is easy to maintain a high barrier property stably, and if it exceeds 50%, the barrier property is lowered, which is not preferable.
Furthermore, in the present invention, in the vapor deposition layer made of silicon oxide, the content of the above compound is preferably decreased in the depth direction from the surface of the vapor deposition layer made of silicon oxide. On the surface of the deposited layer, the impact resistance and the like can be enhanced by the above-mentioned compound, etc. This has the advantage that the tight adhesion to the vapor deposition layer made of silicon is strong.
而して、本発明において、上記の酸化珪素からなる蒸着層について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、酸化珪素からなる蒸着層の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。
また、本発明において、上記の酸化珪素からなる蒸着層の膜厚としては、膜厚５０Å〜４０００Å位であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、１００〜１０００Å位が望ましく、而して、上記において、１０００Å、更には、４０００Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、１００Å、更には、５０Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光Ｘ線分析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。 また、上記において、上記の酸化珪素からなる蒸着層の膜厚を変更する手段としては、蒸着層の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことができる。
Thus, in the present invention, the above-described vapor deposition layer made of silicon oxide, for example, the surface of an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron Spectroscopy, XPS), a secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spectroscopy, SIMS) or the like. The physical properties as described above can be confirmed by performing an elemental analysis of the vapor deposition layer made of silicon oxide using an analysis apparatus and a method of analyzing by ion etching in the depth direction.
In the present invention, the thickness of the vapor deposition layer made of silicon oxide is preferably about 50 mm to 4000 mm, and specifically, the film thickness is preferably about 100 to 1000 mm, Therefore, in the above, if it is thicker than 1000 mm, and more than 4000 mm, it is not preferable because cracks and the like are likely to occur in the film, and if it is less than 100 mm, further less than 50 mm, there is a barrier effect. This is undesirable because it becomes difficult.
In the above, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name, RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. Moreover, in the above, as means for changing the film thickness of the vapor deposition layer made of silicon oxide, a method of increasing the volume velocity of the vapor deposition layer, that is, a method of increasing the amount of monomer gas and oxygen gas, or the vapor deposition rate. This can be done by a method of slowing down.
次に、上記において、酸化珪素等の無機酸化物からなる蒸着層を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
Next, as a monomer gas for vapor deposition of an organic silicon compound or the like for forming a vapor deposition layer made of an inorganic oxide such as silicon oxide in the above, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyl Disiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, Phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc. can be used.
In the present invention, among the organic silicon compounds as described above, use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is easy to handle and formed continuous film. In view of the above characteristics and the like, it is a particularly preferable raw material.
Moreover, in the above, as an inert gas, argon gas, helium gas, etc. can be used, for example.
次に、本発明において、上記の物理気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層について更に詳しく説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて無機酸化物からなる蒸着層を形成することができる。
本発明において、具体的には、金属または金属の酸化物を原料とし、これを加熱して蒸気化し、これを、基材フィルムの一方の面に蒸着する真空蒸着法、あるいは、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて、基材フィルムの一方の面に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着層を形成することができる。
上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができる。
Next, in the present invention, the vapor deposition layer made of the inorganic oxide by the physical vapor deposition method will be described in more detail. As the vapor deposition layer made of the inorganic oxide by the physical vapor deposition method, for example, a vacuum vapor deposition method is used. A vapor deposition layer made of an inorganic oxide can be formed using a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as sputtering, ion plating, or ion cluster beam method.
In the present invention, specifically, a metal or a metal oxide is used as a raw material, this is heated and vaporized, and this is vapor-deposited on one surface of a base film, or a raw material is a metal or metal An oxidation reaction deposition method that uses metal oxide, oxidizes by introducing oxygen and deposits on one side of the base film, and further plasma-assisted oxidation reaction deposition method that assists the oxidation reaction with plasma. Can be used to form a deposited layer.
In the above, as a heating method for the vapor deposition material, for example, a resistance heating method, a high frequency induction heating method, an electron beam heating method (EB), or the like can be used.
本発明において、物理気相成長法による無機酸化物からなる薄膜層を形成する方法について、その具体例を挙げると、図９は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
図９に示すように、巻き取り式真空蒸着装置４１の真空チャンバ−４２の中で、巻き出しロ−ル４３から繰り出す、基材フィルム１は、ガイドロ−ル４４、４５を介して、冷却したコ−ティングドラム４６に案内される。
而して、上記の冷却したコ−ティングドラム４６上に案内された、基材フィルム１の一方の面に、るつぼ４７で熱せられた蒸着源４８、例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口４９より酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク５０、５０を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物からなる蒸着層を成膜化し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物からなる蒸着層を形成した基材フィルム１を、ガイドロ−ル５１、５２を介して送り出し、巻き取りロ−ル５３に巻き取ることによって、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物からなる蒸着層を形成することができる。
なお、本発明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第１層の無機酸化物からなる蒸着層を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物からなる蒸着層の上に、更に、無機酸化物からなる蒸着層を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを２連に連接し、連続的に、無機酸化物からなる蒸着層を形成することにより、２層以上の多層膜からなる無機酸化物からなる蒸着層を形成することができる。
In the present invention, a specific example of a method for forming a thin film layer made of an inorganic oxide by physical vapor deposition will be described. FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing an example of a take-up vacuum deposition apparatus. .
As shown in FIG. 9, the
Thus, the
In the present invention, first, a vapor deposition layer composed of the inorganic oxide of the first layer is formed using the above-described winding type vacuum vapor deposition apparatus, and then, similarly, the vapor deposition layer is composed of the inorganic oxide. A vapor deposition layer made of an inorganic oxide is further formed on the vapor deposition layer, or these are connected in series using a take-up vacuum vapor deposition apparatus as described above, and are continuously oxidized by inorganic oxidation. By forming a vapor deposition layer made of a material, a vapor deposition layer made of an inorganic oxide consisting of two or more multilayer films can be formed.
上記において、無機酸化物からなる蒸着層としては、基本的には、金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸化物の蒸着膜を使用することができる。
而して、好ましいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
また、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例えば、ＳｉＯX 、ＡｌＯX 、ＭｇＯX 等のようにＭＯX （ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表される。
上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の値をとることができる。
また、上記において、Ｘ＝０の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使用することができない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケイ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用することができる。
本発明において、上記のような無機酸化物からなる蒸着層の膜厚としては、使用する金属、または、金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２０００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
また、本発明においては、無機酸化物からなる蒸着層としては、使用する金属または金属の酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物からなる蒸着層を構成することもできる。
In the above, as the vapor deposition layer made of an inorganic oxide, basically, any thin film on which a metal oxide is vapor-deposited can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg) Of metals such as calcium (Ca), potassium (K), tin (Sn), sodium (Na), boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), yttrium (Y) It is possible to use a deposited film of a product.
Thus, preferable examples include vapor-deposited films of metal oxides such as silicon (Si) and aluminum (Al).
The metal oxide vapor deposition film can be referred to as a metal oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, etc., and the notation thereof is, for example, SiO x , AlO x , MgO. MO X (in the formula, M represents a metal element, the value of X is in the range respectively of a metal element different.) as X, etc. represented by.
As the range of the value of X, 0 to 2 for silicon (Si), 0 to 1.5 for aluminum (Al), 0 to 1 for magnesium (Mg), 0 to 1 for calcium (Ca). 1, 0 to 0.5 for potassium (K), 0 to 2 for tin (Sn), 0 to 0.5 for sodium (Na), 0 to 1, 5 for boron (B), titanium ( Ti) can be 0 to 2, lead (Pb) is 0 to 1, zirconium (Zr) is 0 to 2, and yttrium (Y) is 0 to 1.5.
In the above, when X = 0, it is a complete metal and is not transparent and cannot be used at all. The upper limit of the range of X is a completely oxidized value.
In the present invention, generally, examples other than silicon (Si) and aluminum (Al) are scarce, silicon (Si) is 1.0 to 2.0, and aluminum (Al) is 0.5. A value in the range of -1.5 can be used.
In the present invention, the film thickness of the vapor-deposited layer composed of the inorganic oxide as described above varies depending on the metal used or the kind of the metal oxide, but is, for example, about 50 to 2000 mm, preferably 100 to It is desirable to select and form arbitrarily within the range of about 1000 mm.
Moreover, in this invention, as a vapor deposition layer which consists of inorganic oxides, as a metal to be used or a metal oxide, it is used by 1 type, or 2 or more types of mixtures, and from the inorganic oxide mixed by the dissimilar material. It is also possible to constitute a deposited layer.
而して、本発明において、上記の物理気相成長法による無機酸化物からなる薄膜層において、酸化アルミニウムからなる蒸着層としては、酸化度が高すぎると、形成される膜質が硬くなることからクラックが入り易くなり、また、酸化度が低すぎると、透明性が低下することから、蒸着中ないし、蒸着直後の紫外線（波長３６６ｎｍ）透過率が８５〜９６％の範囲、より好ましくは、８７〜９４％の範囲内であり、かつ、膜厚が、後加工適性を考慮して、１５０〜６００Åの範囲内である酸化アルミニウムの蒸着膜からなるものを使用することが好ましいものであり、また、酸化珪素からなる蒸着層としては、一酸化珪素と珪素との混合物を原料とし、膜厚が、後加工適性を考慮して、５０〜３００Åの範囲内である物理気相成長法による酸化珪素の蒸着膜を使用することが好ましいものである。 Thus, in the present invention, in the thin film layer made of an inorganic oxide by the physical vapor deposition method described above, as the vapor deposition layer made of aluminum oxide, if the degree of oxidation is too high, the formed film quality becomes hard. Since cracks are easily generated and transparency is lowered when the degree of oxidation is too low, the transmittance of ultraviolet rays (wavelength 366 nm) during or immediately after deposition is in the range of 85 to 96%, more preferably 87. It is preferable to use an aluminum oxide vapor-deposited film having a thickness in the range of ~ 94% and a film thickness in the range of 150 to 600 mm in consideration of post-processing suitability. The vapor deposition layer made of silicon oxide is formed by a physical vapor deposition method using a mixture of silicon monoxide and silicon as a raw material and a film thickness in the range of 50 to 300 mm in consideration of post-processing suitability. Those it is preferable to use a deposited film of silicon.
ところで、本発明に係るバリア性フィルムにおいて、上記のように二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムの一方の面に設けた無機酸化物からなる蒸着層の面には、該無機酸化物からなる蒸着層の上に設けるガスバリア性塗布膜との密接着性等を向上させ 終局的には、それらの両者を強固に密着させて、その層間剥離（デラミ）等の発生を防止するために、酸素ガスによるプラズマ処理面を形成することが好ましいものである。
而して、本発明において、酸素ガスによるプラズマ処理面としては、前述の不活性ガスによるプラズマ処理面と同様に形成することができる。
すなわち、本発明において、酸素ガスによるプラズマ処理面としては、気体をア−ク放電により電離させることにより生じるプラズマガスを利用して表面改質を行うプラズマ表面処理法等を利用して、酸素ガスによるプラズマ処理面を形成することがてきる。
而して、本発明において、プラズマガスとしては、酸素ガス、または、酸素ガスと窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、その他等の不活性ガスとの混合ガス等を使用するプラズマ表面処理法でプラズマ処理を行うことにより、酸素ガスによるプラズマ処理面を形成することができる。
なお、本発明において、酸素ガスによるプラズマ処理面を形成する場合、無機酸化物からなる蒸着層を形成した後、その直後に、該無機酸化物からなる蒸着層に、インラインで酸素ガスによるプラズマ放電処理を行うことにより、酸素ガスによるプラズマ処理面を形成することができるものである。
更に、本発明において、上記のプラズマ処理としては、プラズマ出力、プラズマガスの種類、プラズマガスの供給量、処理時間、その他等の条件を考慮してプラズマ放電処理をおこなうことが好ましいものである。
また、本発明において、プラズマを発生させる方法としては、例えば、直流グロ−放電、高周波放電、マイクロ波放電、その他等の装置を利用して行うことができる。
勿論、本発明において、大気圧プラズマ処理法によってもプラズマ処理面を形成することができるものである。
By the way, in the barrier film according to the present invention, the surface of the vapor deposition layer made of an inorganic oxide provided on one surface of the biaxially stretched polyester resin film as described above has a vapor deposition layer made of the inorganic oxide. In order to improve the tight adhesion with the gas barrier coating film provided on the top and eventually make them firmly adhere to each other and prevent the occurrence of delamination, plasma with oxygen gas It is preferable to form a treatment surface.
Thus, in the present invention, the plasma-treated surface with oxygen gas can be formed in the same manner as the plasma-treated surface with the aforementioned inert gas.
That is, in the present invention, the oxygen-treated plasma treatment surface is a plasma surface treatment method in which surface modification is performed using a plasma gas generated by ionizing a gas by arc discharge. It is possible to form a plasma-treated surface.
Thus, in the present invention, the plasma gas is a plasma surface treatment method using oxygen gas or a mixed gas of oxygen gas and inert gas such as nitrogen gas, argon gas, helium gas, or the like. By performing the treatment, a plasma treatment surface with oxygen gas can be formed.
In the present invention, when forming a plasma-treated surface with oxygen gas, after forming a vapor deposition layer made of inorganic oxide, immediately after that, a plasma discharge with oxygen gas is performed inline on the vapor deposition layer made of inorganic oxide. By performing the treatment, a plasma treatment surface by oxygen gas can be formed.
Further, in the present invention, it is preferable to perform the plasma discharge treatment in consideration of conditions such as plasma output, plasma gas type, plasma gas supply amount, treatment time, and the like.
In the present invention, as a method for generating plasma, for example, a direct current glow discharge, a high frequency discharge, a microwave discharge, or the like can be used.
Of course, in the present invention, the plasma processing surface can be formed also by the atmospheric pressure plasma processing method.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを構成するガスバリア性塗布膜について説明すると、かかるガスバリア性塗布膜としては、無機酸化物からなる蒸着層の上に設け、透明性、可撓性等に優れ、更に、それ自身、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れた被膜を形成し、かつ、上記の無機酸化物からなる蒸着層と強固に密接着し、その無機酸化物からなる蒸着層とガスバリア性塗布膜との２層からなる複合バリア層を構成し、その両者の相乗効果により、極めて優れたガスバリア性を奏するものである。
而して、本発明において、上記のガスバリア性塗布膜を構成するガスバリア性組成物を形成するポリエチレンイミン系化合物としては、例えば、ポリエチレンイミン類（株式会社日本触媒製、商品名、エポミンＳＰ−００３、エポミンＳＰ−００６、エポミンＳＰ−０１２、エポミンＳＰ−０１８、エポミンＳＰ−１０３、エポミンＳＰ−１１０、エポミンＳＰ−２００、エポミンＳＰ−３００、エポミンＳＰ−１０００、エポミンＳＰ−１０２０等）、ポリアリルアミン類（日東紡績株式会社製、商品名、ＰＡＡ−Ｌ、ＰＡＡ−Ｈ等）、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートやジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート等のアミノ基含有（メタ）アクリレートのホモポリマー、前記アミノ基含有（メタ）アクリレートと他の（メタ）アクリレート類や（メタ）アクリル酸とのコポリマー、ポリオキシエチレンアルキルアミン類等を使用することができる。
上記のポリエチレンイミン系化合物を使用すると、ガスバリア性組成物の成膜性が良好になり、更に、その組成物の安定性や得られ、ガスバリア性塗布膜のガスバリア性が良好になるものである。
Next, in the present invention, the gas barrier coating film constituting the barrier film according to the present invention will be described. The gas barrier coating film is provided on a vapor deposition layer made of an inorganic oxide, and is transparent and flexible. In addition, it forms a film with excellent gas barrier properties that prevents permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and is firmly adhered to the vapor-deposited layer made of the above-mentioned inorganic oxide, and its inorganic A composite barrier layer composed of two layers of a vapor-deposited layer made of an oxide and a gas barrier coating film is formed, and an extremely excellent gas barrier property is achieved by a synergistic effect of the two.
Thus, in the present invention, polyethyleneimine compounds forming the gas barrier composition constituting the gas barrier coating film include, for example, polyethyleneimines (trade name, Epomin SP-003, manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.). , Epomin SP-006, Epomin SP-012, Epomin SP-018, Epomin SP-103, Epomin SP-110, Epomin SP-200, Epomin SP-300, Epomin SP-1000, Epomin SP-1020, etc.), polyallylamine (Nittobo Co., Ltd., trade name, PAA-L, PAA-H, etc.), homopolymers of amino group-containing (meth) acrylates such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate and diethylaminoethyl (meth) acrylate, the amino Group-containing (meth) acrylate and other (meta) Copolymers of acrylates or (meth) acrylic acid, polyoxyethylene alkylamines, and the like can be used.
When the above polyethyleneimine compound is used, the film-forming property of the gas barrier composition is improved, the stability of the composition is obtained, and the gas barrier property of the gas-barrier coating film is improved.
次に、本発明において、上記のガスバリア性塗布膜を構成するガスバリア性組成物を形成するシランカップリング剤としては、上記のポリエチレンイミン系化合物と後述する有機シラン化合物と反応し得るものであり、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−イソシアノプロピルトリメトキシシラン、γ−イソシアノプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−イソシアノプロピルメチルジエトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリイソプロポキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、その他等の１種または２種以上を用いることができる。 Next, in the present invention, the silane coupling agent that forms the gas barrier composition constituting the gas barrier coating film can react with the polyethyleneimine compound and the organic silane compound described below, For example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl Methyldiethoxysilane, γ-isocyanopropyltrimethoxysilane, γ-isocyanopropyltriethoxysilane, γ-isocyanopropylmethyldimethoxysilane, γ-isocyanopropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxy (Cyclohexyl) ethyltrimethoxy Lan, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriisopropoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldimethoxysilane, β- One or more of (3,4-epoxycyclohexyl) ethylmethyldiethoxysilane and others can be used.
更に、本発明において、上記のガスバリア性塗布膜を構成するガスバリア性組成物を形成する有機シラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のアルコキシシラン類、またこれらの錯体化合物、メチルトリアセトキシシラン、トリメチルシラノール等、または、これらの化合物の加水分解縮合物等を使用することができ、その１種または２種以上を用いることができる。
特に、本発明において、形成されたガスバリア性塗布膜が、良好な耐湿性を示す点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランを使用することが好ましいものである。
Further, in the present invention, examples of the organic silane compound that forms the gas barrier composition constituting the gas barrier coating film include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, and methyltrimethoxy. Silane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltributoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethyldi Isopropoxysilane, dimethyldibutoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethyldiisopropoxysilane, diethyldibutoxysilane, vinyltrimeth Sisilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltributoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxy Alkoxysilanes such as silane, complex compounds thereof, methyltriacetoxysilane, trimethylsilanol, etc., or hydrolyzed condensates of these compounds can be used, and one or more of them can be used. Can do.
In particular, in the present invention, it is preferable to use tetramethoxysilane or tetraethoxysilane from the viewpoint that the formed gas barrier coating film exhibits good moisture resistance.
而して、本発明においては、上記のようなポリエチレンイミン系化合物とシランカップリング剤と有機シラン化合物とを使用し、例えば、溶媒としてアルコ−ル系溶媒を使用し、予め、ポリエチレンイミン系化合物とシランカップリング剤とを反応させてから、有機シラン化合物を加えて調製する方法、あるいは、ポリエチレンイミン系化合物の存在下、シランカップリング剤と有機シラン化合物を加えて、例えば、加水分解縮合させながら調製する方法、その他等の調製方法により、ガスバリア性塗布膜を構成するガスバリア性組成物を調製することができる。
なお、その際に、本発明の効果を損なわない範囲で、硬化触媒、濡れ性改良剤、可塑剤、消泡剤、増粘剤、その他等の種々の無機、有機系の各種の添加剤を必要に応じて添加することもできる。
Thus, in the present invention, the polyethyleneimine compound, the silane coupling agent and the organic silane compound as described above are used. For example, an alcohol solvent is used as the solvent, and the polyethyleneimine compound is previously used. A method in which an organic silane compound is added after reacting with a silane coupling agent, or by adding a silane coupling agent and an organic silane compound in the presence of a polyethyleneimine compound, for example, hydrolytic condensation. However, the gas barrier composition constituting the gas barrier coating film can be prepared by a preparation method such as the above and other preparation methods.
At that time, various inorganic and organic additives such as a curing catalyst, a wettability improver, a plasticizer, an antifoaming agent, a thickener, and the like are added as long as the effects of the present invention are not impaired. It can also be added as necessary.
上記のガスバリア性塗布膜を構成するガスバリア性組成物において、ポリエチレンイミン系化合物とシランカップリング剤と有機シラン化合物との配合割合としては、各成分の合計量（すなわち組成物の固形分に相当する）を１００重量％としたとき、ポリエチレンイミン系化合物としては、１〜４０重量％位、より好ましくは、５〜３０重量％位の範囲、さらに好ましくは、５〜２０重量％位の範囲である。
また、上記のシランカップリング剤としては、０．５〜３０重量％位が好ましく、より好ましくは、１〜２０重量％の範囲位であり、さらに好ましくは、１〜１０重量％位である。
更に、上記の有機シラン化合物としては、５〜９０重量％位が好ましく、より好ましくは、１０〜９０重量％位の範囲であり、さらに好ましくは、３０〜８０重量％位である。 上記において、ポリエチレンイミン系化合物が、１重量％より少ないと、ガスバリア性塗布膜のガスバリア性が不充分であり、また、そのガスバリア性塗布膜の被膜の可撓性が低下し、また、４０重量％より多いと、ガスバリア性塗布膜の被膜の耐水性が劣ることがあることから好ましくないものである。
次に、シランカップリング剤が、０．５重量％より少ないと、ポリエチレンイミン系化合物と有機シラン化合物を相溶化させることができないことから、ガスバリア性塗布膜の被膜の物性が劣り、３０重量％より多いと、ガスバリア性組成物の安定性が悪化することから好ましくないものである。
更に、有機シラン化合物が、５重量％より少ないと、ガスバリア性塗布膜の被膜の耐湿性が不足し、また、９０重量％を超えて使用すると、ガスバリア性塗布膜の被膜の可撓性が低下することから好ましくないものである。
In the gas barrier composition constituting the gas barrier coating film, the blending ratio of the polyethyleneimine compound, the silane coupling agent, and the organic silane compound corresponds to the total amount of each component (that is, the solid content of the composition). ) Is 100% by weight, the polyethyleneimine compound is about 1 to 40% by weight, more preferably about 5 to 30% by weight, and still more preferably about 5 to 20% by weight. .
Moreover, as said silane coupling agent, about 0.5-30 weight% is preferable, More preferably, it is the range position of 1-20 weight%, More preferably, it is about 1-10 weight%.
Furthermore, as said organosilane compound, about 5-90 weight% is preferable, More preferably, it is the range of about 10-90 weight%, More preferably, it is about 30-80 weight%. In the above, when the polyethyleneimine compound is less than 1% by weight, the gas barrier coating film has insufficient gas barrier properties, and the flexibility of the coating film of the gas barrier coating film is reduced. If it is more than%, the water resistance of the gas barrier coating film may be inferior, which is not preferable.
Next, when the silane coupling agent is less than 0.5% by weight, the polyethyleneimine compound and the organic silane compound cannot be compatibilized. If it is more, it is not preferable because the stability of the gas barrier composition deteriorates.
Furthermore, when the organosilane compound is less than 5% by weight, the moisture resistance of the coating film of the gas barrier coating film is insufficient, and when it exceeds 90% by weight, the flexibility of the coating film of the gas barrier coating film is lowered. Therefore, it is not preferable.
次に、本発明において、上記のガスバリア性組成物を調製する溶媒としては、例えば、アルコ−ル系溶媒を使用することが好ましいものである。
本発明においては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類を使用することができる。
また、本発明においては、これらのアルコール類に、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、その他、テトラヒドロフラン、プロピルエーテル、水等の１種または２種以上を混合して使用することもできる。
Next, in the present invention, as a solvent for preparing the gas barrier composition, it is preferable to use, for example, an alcohol solvent.
In the present invention, for example, alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, butanol, and ethylene glycol can be used.
In the present invention, these alcohols include, for example, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbons such as toluene, benzene, and xylene, and hydrocarbons such as hexane, heptane, and octane. In addition, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, and one or more of tetrahydrofuran, propyl ether, water and the like can be used in combination.
而して、本発明においては、上記のように調整したガスバリア性組成物を使用し、これを、例えば、オフセット印刷、グラビア印刷、シルクスクリーン印刷等の印刷方式や、ロールコート、ナイフエッジコート、グラビアコート、キスコ−ト、スピンコ−ト、その他等の塗布方式を用いて、基材フィルムの上に設けた無機酸化物からなる蒸着層の上に、印刷、塗布ないしコーティングし、その後、その印刷膜ないしコーティング膜を乾燥し溶媒等を除去し硬化させることによって、本発明に係るガスバリア性塗布膜を形成することができる。
なお、本発明において、上記のガスバリア性塗布膜の膜厚としては、０．０５〜１０ｇ／ｍ2（乾燥状態）位が好ましいものである。
Thus, in the present invention, the gas barrier composition prepared as described above is used, and for example, a printing method such as offset printing, gravure printing, silk screen printing, roll coating, knife edge coating, Using a coating method such as gravure coating, kiss coating, spin coating, etc., printing, coating or coating is performed on the deposited layer made of an inorganic oxide on the base film, and then the printing is performed. The gas barrier coating film according to the present invention can be formed by drying the film or coating film, removing the solvent, and curing the film.
In the present invention, the thickness of the gas barrier coating film is preferably about 0.05 to 10 g / m 2 (dry state).
以上において説明したように、本発明に係るバリア性フィルムは、基材フィルムの一方の面に、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物によるアンカ−コ−ト剤層を設け、次に、該アンカ−コ−ト剤層の上に、無機酸化物からなる蒸着層を設け、更には、該無機酸化物からなる蒸着層の上に、要すれば、酸素ガスによるプラズマ処理面を介して、ポリエチレンイミン系化合物とシランカップリング剤と有機シラン化合物とを含むガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けることを特徴とするバリア性フィルムに係るものである。
而して、本発明に係るバリア性フィルムは、基材フィルムと無機酸化物からなる蒸着層との良好な密接着性を有し、更に、高いガスバリア性を安定して維持すると共に良好な透明性、及び、対熱水性、耐衝撃性等を備え、包装用袋等を構成するガスバリア性素材として極めて有用なものであり、これに、例えば、ヒ−トシ−ル性樹脂層、中間基材、プラスチック基材、その他等を任意に積層して、種々の層構成からなる包装用材料としての積層材を製造し、次いで、これを使用し、製袋して、種々の形態からなる包装用袋、包装製品を製造し得るものである。
As described above, the barrier film according to the present invention includes a polyacrylic or polymethacrylic resin having two or more hydroxyl groups in the structure and a curing agent on one surface of the base film. An anchor coating agent layer made of a resin composition is provided, and then a deposition layer made of an inorganic oxide is provided on the anchor coating agent layer, and further, a deposition layer made of the inorganic oxide. If necessary, a gas barrier coating film made of a gas barrier composition containing a polyethyleneimine compound, a silane coupling agent, and an organic silane compound is provided through a plasma-treated surface with oxygen gas. It relates to a barrier film.
Thus, the barrier film according to the present invention has a good tight adhesion between the base film and the vapor-deposited layer made of an inorganic oxide, and further stably maintains a high gas barrier property and has a good transparency. It is extremely useful as a gas barrier material comprising a packaging bag, etc., and has, for example, a heat-sealable resin layer, an intermediate group, and the like. Materials, plastic base materials, etc. are arbitrarily laminated to produce laminated materials as packaging materials consisting of various layers, and then used to form bags and packaging in various forms Bags and packaging products can be manufactured.
次に、本発明において、本発明に係る積層材を構成するヒ−トシ−ル性樹脂層について説明すると、かかるヒ−トシ−ル性樹脂層としては、熱によって溶融し相互に融着し得るものであればよく、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、その他等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂、その他等の樹脂の１種ないしそれ以上からなる樹脂のフィルムないしシ−トあるいはその塗布膜等を使用することができる。
上記の樹脂のフィルムないしシ−トは、単層ないし多層で使用することができ、また、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの厚さとしては、５μｍ〜３００μｍ位、好ましくは、１０μｍ〜１１０μｍ位が望ましい。
更に、本発明において、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの厚さとしては、本発明に係る積層材を使用し、包装用袋の製袋時において、バリア性フィルムを構成する無機酸化物からなる蒸着層に、擦り傷、あるいは、クラック等を発生するすることを防止するために、比較的に、その膜厚を厚くすることが好ましく、具体的には、４０μｍ〜１１０μｍ位、望ましくは、５０μｍ〜１００μｍ位であることが好ましいものである。
而して、本発明においては、上記のような樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、厚さ５０μｍ〜１００μｍ位の無延伸ポリプロピレンフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
Next, in the present invention, the heat-seal resin layer constituting the laminated material according to the present invention will be described. The heat-seal resin layer can be melted by heat and fused to each other. For example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate Polyolefin resin such as copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polyethylene or polypropylene, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride Acid-modified polyolefin resin modified with unsaturated carboxylic acid such as fumaric acid, etc. , One or a film of a resin or sheet consisting of more resins other like - can be used bets or a coating film.
The resin film or sheet can be used in a single layer or multiple layers, and the thickness of the resin film or sheet is about 5 μm to 300 μm, preferably 10 μm to 110 μm. The position is desirable.
Furthermore, in the present invention, the thickness of the resin film or sheet is from the inorganic oxide that constitutes the barrier film at the time of making a packaging bag, using the laminated material according to the present invention. In order to prevent generation of scratches or cracks in the deposited layer, it is preferable to relatively increase the film thickness, specifically, about 40 μm to 110 μm, preferably 50 μm. It is preferable that it is about ~ 100 μm.
Thus, in the present invention, among the resin films or sheets as described above, it is particularly preferable to use an unstretched polypropylene film or sheet having a thickness of about 50 μm to 100 μm.
次にまた、本発明において、本発明に係る積層材を構成する中間基材としては、これが前述の基材フィルムと同様に、本発明に係る包装用袋を構成する基本ないし補助素材となることから、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた性質を有し、その強度に優れ、更に、耐熱性、防湿性、耐ピンホ−ル性、耐突き刺し性、透明性、その他等に優れた樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靱な樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、未延伸フィルム、あるいは、一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。
また、本発明において、その樹脂のフィルムないしシ−トの厚さとしては、強度、耐突き刺し性、剛性、その他等について必要最低限に保持され得る厚さであればよく、厚すぎると、コストを上昇するとい欠点もあり、逆に、薄すぎると、強度、耐突き刺し性、剛性、その他等が低下して好ましくないものである。
本発明においては、上記のような理由から、約１０μｍないし１００μｍ位、好ましくは、約１２μｍないし５０μｍ位が最も望ましい。
而して、本発明においては、上記のような樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、厚さ１５μｍ〜３０μｍ位の２軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムを使用することが好ましいものである。
Next, in the present invention, as an intermediate substrate constituting the laminated material according to the present invention, this is the basic or auxiliary material constituting the packaging bag according to the present invention, as with the aforementioned base film. From mechanical properties, physical properties, chemical properties, etc., excellent strength, excellent strength, heat resistance, moisture resistance, pinhole resistance, puncture resistance, transparency, etc. An excellent resin film or sheet can be used.
Specifically, for example, a film of tough resin such as polyester resin, polyamide resin, polyaramid resin, polypropylene resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, fluorine resin, or the like. A sheet can be used.
Thus, as the resin film or sheet, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.
In the present invention, the thickness of the resin film or sheet may be a thickness that can be kept to the minimum necessary for strength, puncture resistance, rigidity, and the like. On the other hand, if it is too thin, the strength, puncture resistance, rigidity, etc. are lowered, which is not preferable.
In the present invention, for the reasons described above, about 10 μm to 100 μm, preferably about 12 μm to 50 μm is most desirable.
Thus, in the present invention, among the resin films or sheets as described above, it is particularly preferable to use a biaxially stretched polyamide resin film having a thickness of about 15 μm to 30 μm.
次に、本発明において、本発明に係る積層材を構成するプラスチック基材について説明すると、かかるプラスチック基材としては、これが、本発明に係る包装用袋を構成する基本素材ないし補助素材となることから、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた強度を有し、更に、耐突き刺し性等に優れ、その他、耐熱性、防湿性、耐ピンホール性、透明性、その他等に優れた樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン樹脂等のポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靭な樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
上記において、上記の樹脂のフィルムないしシートとしては、未延伸フィルム、あるいは一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。
また、本発明において、その樹脂のフィルムないしシートの厚さとしては、強度、耐突き刺し性、その他等について、必要最低限に保持され得る厚さであればよく、厚すぎると、コストを上昇するとい欠点もあり、逆に、薄すぎると、強度、耐突き刺し性、その他等が低下して好ましくないものである。
本発明においては、上記のような理由から、約９μm ないし１００μm 位、好ましくは、約１２μm ないし５０μm 位が最も望ましい。
なお、本発明において、上記のプラスチック基材の表面および／または裏面には、所望の印刷模様層等を設けることができるものである。
Next, in the present invention, the plastic substrate constituting the laminated material according to the present invention will be described. As such a plastic substrate, this is the basic material or auxiliary material constituting the packaging bag according to the present invention. Excellent mechanical, physical, chemical, etc. In addition, it has excellent puncture resistance, etc., as well as excellent heat resistance, moisture resistance, pinhole resistance, transparency, etc. Resin films or sheets can be used.
Specifically, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as various nylon resins, polyaramid resins, polypropylene resins, polyethylene resins, polycarbonate resins, polyacetal resins, fluorine A film or sheet of a tough resin such as a resin or the like can be used.
In the above, as the resin film or sheet, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.
In the present invention, the thickness of the resin film or sheet may be a thickness that can be kept to the minimum necessary for strength, puncture resistance, and the like. If it is too thick, the cost increases. On the other hand, if it is too thin, the strength, puncture resistance, and the like are undesirably lowered.
In the present invention, about 9 μm to 100 μm, preferably about 12 μm to 50 μm is the most desirable for the reasons described above.
In the present invention, a desired printed pattern layer or the like can be provided on the front surface and / or the back surface of the plastic substrate.
ところで、通常、包装用袋は、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、包装用袋を構成する積層材には、厳しい包装適性が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために、本発明においては、上記のような材料の他に、上記のような諸条件を充足するその他の材料を任意に使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トを任意に選択して使用することができる。
その他、例えば、合成紙等も使用することができる。
本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
By the way, since packaging bags are usually subjected to severe physical and chemical conditions, the laminated materials constituting the packaging bags are required to have strict packaging suitability, deformation prevention strength, drop impact. Various conditions such as strength, pinhole resistance, heat resistance, sealability, quality maintenance, workability, hygiene, etc. are required. For this reason, in the present invention, in addition to the above materials, In addition, other materials that satisfy the above-mentioned conditions can be arbitrarily used. Specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, Ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, Ten polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene Resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin , Saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, etc. Can be used.
In addition, for example, synthetic paper or the like can be used.
In the present invention, the above-described film or sheet may be any of unstretched, uniaxially or biaxially stretched.
The thickness is arbitrary, but can be selected from a range of several μm to 300 μm.
Furthermore, in the present invention, the film or sheet may be a film having any property such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.
特に、本発明において、その他の基材としては、例えば、水蒸気、水等の透過を阻止するバリア性を有する低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシ−ト、樹脂に顔料等の着色剤を、その他、所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシ−ト等を使用することができる。
これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。
また、上記のフィルムないしシ−トの厚さとしては、任意であるが、通常、５μｍないし３００μｍ位、更には、１０μｍないし１００μｍ位が望ましい。
In particular, in the present invention, the other base material includes, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene having a barrier property that prevents permeation of water vapor, water, and the like. -Films or sheets of resin such as propylene copolymer, and various colored resin films having light-shielding properties formed by adding a colorant such as a pigment to the resin and kneading the resin with a desired additive. Or a sheet or the like can be used.
These materials can be used alone or in combination.
The thickness of the film or sheet is arbitrary, but is usually about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.
なお、本発明において、本発明に係るバリア性フィルム、積層材等を構成する上記のような基材のいずれかの片面あるいは両面には、例えば、文字、図形、記号、模様、その他等からなる所望の印刷模様を印刷して、印刷模様層を形成することができるものである。 上記の印刷模様層としては、通常のインキビヒクルの１種ないし２種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤、その他等の添加剤の１種ないし２種以上を任意に添加し、更に、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調整し、次いで、該インキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリ−ン印刷、転写印刷、フレキソ印刷、その他等の印刷方式を使用し、上記の基材フィルムの片面に、文字、図形、記号、模様、その他等からなる所望の印刷模様を印刷して、本発明にかかる印刷模様層を形成することができるものである。 In the present invention, on one side or both sides of the above-mentioned base material constituting the barrier film, laminated material or the like according to the present invention, for example, it consists of characters, figures, symbols, patterns, etc. A desired printed pattern can be printed to form a printed pattern layer. The printed pattern layer is mainly composed of one or more ordinary ink vehicles, and if necessary, a plasticizer, a stabilizer, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a curing agent. One or more additives such as additives, crosslinking agents, lubricants, antistatic agents, fillers, etc. are optionally added, and colorants such as dyes and pigments are added, and solvents, diluents, etc. Kneaded sufficiently to prepare an ink composition, and then the ink composition is used. For example, gravure printing, offset printing, letterpress printing, screen printing, transfer printing, flexographic printing, etc. Can be used to form a printed pattern layer according to the present invention by printing a desired printed pattern consisting of characters, figures, symbols, patterns, etc. on one side of the base film. .
上記において、インキビヒクルとしては、公知のもの、例えば、あまに油、きり油、大豆油、炭化水素油、ロジン、ロジンエステル、ロジン変性樹脂、シェラック、アルキッド樹脂、フェノ−ル系樹脂、マレイン酸樹脂、天然樹脂、炭化水素樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、アクリルまたはメタクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アミノアルキッド系樹脂、ニトロセルロ−ス、エチルセルロ−ス、塩化ゴム、環化ゴム、その他等の１種ないし２種以上を使用することができる。 In the above, as the ink vehicle, known ones such as sesame oil, drill oil, soybean oil, hydrocarbon oil, rosin, rosin ester, rosin modified resin, shellac, alkyd resin, phenolic resin, maleic acid Resin, natural resin, hydrocarbon resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, acrylic or methacrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polyurethane resin, One or more of epoxy resins, urea resins, melamine resins, aminoalkyd resins, nitrocellulose, ethyl cellulose, chlorinated rubber, cyclized rubber, etc. can be used.
また、本発明において、本発明に係る積層材を形成するラミネート用接着剤層を構成するラミネート用接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2 −エチルヘキシルエステル等のホモポリマー、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマーとの共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロース系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型（メタ）アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレンーブタジェンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコーン系接着剤、アルカリ金属シリケート、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。
上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シート状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。
而して、本発明においては、積層する両者の一方の面に、上記のラミネート用接着剤を、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法、その他等のコート法、あるいは、印刷法等によって施し、次いで、溶剤等を乾燥させてラミネート用接着剤層を形成すことができ、そのコーティングないし印刷量としては、０．１〜１０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）位が望ましい。
In the present invention, examples of the laminating adhesive constituting the laminating adhesive layer forming the laminate according to the present invention include, for example, polyvinyl acetate adhesives, ethyl butyl acrylate, 2-ethylhexyl ester Homopolymers such as these, or polyacrylic acid ester adhesives, cyanoacrylate adhesives, ethylene and vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, and the like, and their copolymers with methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc. , Ethylene copolymer adhesives composed of copolymers with monomers such as methacrylic acid, cellulose adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimide adhesives, amino acids composed of urea resins or melamine resins, etc. Resin adhesive, phenol resin adhesive, epoxy adhesive, Urethane adhesives, reactive (meth) acrylic adhesives, chloroprene rubber, nitrile rubber, rubber adhesives made of styrene-butadiene rubber, silicone adhesives, alkali metal silicates, inorganics made of low melting glass, etc. Adhesives such as system adhesives and others can be used.
The composition system of the above-mentioned adhesive may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the property is any of film / sheet form, powder form, solid form, etc. Further, the bonding mechanism may be any of a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, a hot pressure type, and the like.
Thus, in the present invention, the above laminating adhesive is applied to one side of both of the laminated layers, for example, a coating method such as a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, or the like, or a printing method. Then, the solvent or the like is dried to form an adhesive layer for laminating, and the coating or printing amount is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).
また、本発明において、本発明に係る積層材を形成するアンカ−コ−ト剤層を構成するアンカ−コ−ト剤としては、例えば、イソシアネ−ト系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系、その他等のアンカ−コ−ティング剤を使用することができる。
更に、本発明において、溶融押出ラミネ−ト法における溶融押出樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、メタロセン系触媒を使用して重合したエチレンーα・オレフイン共重合体、ポリプロピレン、エチレンー酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレンーアクリル酸エチル共重合体、エチレンーアクリル酸共重合体、エチレンーメタクリル酸共重合体、エチレンープロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマール酸、その他等の不飽和カルポン酸で変性した酸変性ポリオレフイン系樹脂、その他等を使用することができる。
なお、本発明において、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、積層する基材等の表面に、例えば、コロナ処理、オゾン処理、フレーム処理等の前処理を任意に施すことができる。
In the present invention, examples of the anchor coating agent constituting the anchor coating agent layer forming the laminated material according to the present invention include isocyanate (urethane), polyethyleneimine, and polybutadiene. Anchor coating agents such as those based on organic, organic titanium, etc. can be used.
Furthermore, in the present invention, as the melt-extruded resin in the melt-extrusion laminating method, for example, a low density polyethylene, a medium density polyethylene, a high density polyethylene, a linear (linear) low density polyethylene, or a metallocene catalyst is used. Polymerized ethylene-α-olefin copolymer, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene- Acid-modified polyolefin resins such as propylene copolymer, methylpentene polymer, polyethylene, polypropylene, etc. modified with unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc., etc. Can be used.
In the present invention, when performing the above lamination, if necessary, for example, pretreatment such as corona treatment, ozone treatment, frame treatment, etc. can be optionally applied to the surface of the substrate to be laminated. .
ところで、本発明において、上記のようなアンカ−コ−ト剤層を形成するアンカ−コ−ト剤、および、ラミネ−ト用接着剤層を形成するラミネ−ト用接着剤としては、例えば、トリレンジイソシアナ−ト、ジフェニルメタンジイソシアナ−ト、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナ−ト等の芳香族ポリイソシアナ−ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、キシリレンジイソシアナ−ト等の脂肪族ポリイソシアナ−ト等の多官能イソシアネ−トと、ポリエ−テル系ポリオ−ル、ポリエステル系ポリオ−ル、ポリアクリレ−トポリオ−ル等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリエ−テルポリウレタン系樹脂、ポリエステル系ポリウレタン系樹脂、または、ポリアクリレ−トポリウレタン系樹脂を主成分とするアンカ−コ−ト剤、あるいは、ラミネ−ト用接着剤を使用することが望ましいものである。
而して、上記のようなアンカ−コ−ト剤、あるいは、ラミネ−ト用接着剤を使用して形成してなるアンカ−コ−ト剤層、あるいは、ラミネ−ト用接着剤層は、柔らかく、柔軟性に富み、かつ、屈曲性に富む薄膜を形成することができ、その引っ張り伸長度を向上させ、無機酸化物からなる蒸着層に対し柔軟性、屈曲性等を有する被膜として作用し、例えば、ラミネ−ト加工、印刷加工、あるいは、製袋加工等の後加工時における無機酸化物からなる蒸着層の後加工適性を向上させ、後加工時における無機酸化物からなる蒸着層へのクラック等の発生等を防止するものである。
ちなみに、本発明において、上記のようなアンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層および／またはラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層は、ＪＩＳ規格Ｋ７１１３に基づいて、１００〜３００％の範囲からなる引っ張り伸度を有するものである。
而して、本発明においては、上記のようなアンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層および／またはラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層の引っ張り伸度、その他により、バリア性フィルムと、ヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性を向上させ、これにより、無機酸化物からなる蒸着層へのクラック等の発生を防止し、そのラミネ−ト強度等を高めるものである。
上記において、引っ張り伸度が、１００％未満であると、積層材としての柔軟性がなくなり、無機酸化物の蒸着膜へのクラック等が発生し易くなることから好ましくなく、また、引っ張り伸度が、３００％を越えると、アンカ−コ−ト剤、あるいは、ラミネ−ト用接着剤等としての接着性の強度が十分でなく、要求されるラミネ−ト強度が発現されにくくなることから好ましくないものである。
By the way, in the present invention, as the anchor coat agent for forming the anchor coat layer as described above and the adhesive for laminate forming the laminate adhesive layer, for example, Aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, or aliphatics such as hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate A polyether polyurethane resin obtained by reacting a polyfunctional isocyanate such as a polyisocyanate with a hydroxyl group-containing compound such as a polyether polyol, a polyester polyol or a polyacrylate polyol, Mainly polyester-based polyurethane resin or polyacrylate polyurethane-based resin Lanka - co - DOO agents, or laminating - those it is desirable to use the preparative adhesive.
Thus, the anchor coat agent layer or the laminate adhesive layer formed by using the anchor coat agent or the laminating adhesive as described above, A thin film that is soft, flexible, and flexible can be formed, improves its tensile elongation, and acts as a film having flexibility, flexibility, etc. on the vapor deposition layer made of inorganic oxide. , For example, improving the post-processing suitability of the vapor deposition layer composed of inorganic oxide at the time of post-processing such as laminating, printing, or bag making, and applying the vapor deposition layer composed of inorganic oxide at the time of post-processing It prevents the occurrence of cracks and the like.
Incidentally, in the present invention, the anchor coat layer by the anchor coat agent and / or the laminate adhesive layer by the laminate adhesive as described above are based on JIS standard K7113. It has a tensile elongation of 100 to 300%.
Thus, in the present invention, the tensile elongation of the anchor coating layer by the anchor coating agent and / or the laminating adhesive layer by the laminating adhesive as described above, etc. Improves the tight adhesion between the barrier film and the heat-seal resin layer, thereby preventing the occurrence of cracks in the vapor deposition layer made of inorganic oxide, and the laminating strength, etc. Is to increase.
In the above, it is not preferable that the tensile elongation is less than 100%, because the flexibility as a laminated material is lost, and cracks and the like in the deposited film of the inorganic oxide are likely to occur, and the tensile elongation is not preferable. If it exceeds 300%, the adhesive strength as an anchor coating agent or a laminating adhesive is not sufficient, and the required laminating strength becomes difficult to be expressed. Is.
次に、上記の本発明において、本発明に係る積層材を製造する方法について更に詳しく説明すると、かかる方法としては、通常の包装材料を製造するときに使用する積層法、例えば、ウエットラミネ−ション法、ドライラミネ−ション法、無溶剤ラミネ−ション法、押出ラミネ−ション法、共押出ラミネ−ション法、インフレ−ション法、その他の方法等で行うことができる。
而して、本発明においては、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、その積層する基材の表面に、コロナ処理、オゾン処理、フレ−ム処理等の前処理を任意に施すことができる。
また、上記において、押出ラミネ−トするときには、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、その他等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂等を溶融押出ラミネ−ト用樹脂として使用することができる。
その際に、接着助剤として、例えば、イソシアネ−ト系、ポリエチレンイミン系、その他等のアンカ−コ−ト剤等を任意に使用することができる。
また、本発明においては、ドライラミネ−トするときには、例えば、ビニル系、アクリル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポリエステル系、エポキシ系、その他等をビヒクルの主成分とする溶剤型、水性型、エマルジョン型、その他等のラミネ−ト用接着剤等を使用することができる。
Next, in the present invention described above, the method for producing the laminated material according to the present invention will be described in more detail. As such a method, for example, a lamination method used when producing a normal packaging material, for example, wet lamination. , Dry lamination method, solvent-free lamination method, extrusion lamination method, coextrusion lamination method, inflation method, and other methods.
Thus, in the present invention, when performing the above-described lamination, if necessary, for example, pretreatment such as corona treatment, ozone treatment, or frame treatment is optionally applied to the surface of the substrate to be laminated. be able to.
In the above, when extrusion lamination is performed, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin. , A polyolefin resin such as ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polyethylene or polypropylene with acrylic acid, Acid-modified polyolefin resins modified with unsaturated carboxylic acids such as methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc. can be used as the resin for melt extrusion lamination.
At that time, as an adhesion assistant, for example, an anchor coating agent such as isocyanate, polyethyleneimine, or the like can be arbitrarily used.
In the present invention, when dry lamination is performed, for example, a solvent type, an aqueous type, an emulsion type having a vehicle as a main component such as vinyl, acrylic, polyurethane, polyamide, polyester, epoxy, etc. Other adhesives for laminating, etc. can be used.
次に、本発明において、上記の積層材を使用して製造する本発明に係る包装用袋について説明すると、かかる包装用袋は、上記のような積層材を使用し、そのヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向して重ね合わせ、しかる後、その周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成して、上端部に開口部を有する包装用袋を製袋することができる。
而して、その製袋方法としては、上記のような積層材を、折り曲げるかあるいは重ね合わせて、その内層の面を対向させ、更にその周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型（ピロ−シ−ル型）、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、ガゼット型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、上端部に開口部を有する種々の形態からなる包装用袋を製造することができる。
その他、包装用袋としては、例えば、自立性包装用袋（スタンディングパウチ）等も可能である。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
Next, in the present invention, the packaging bag according to the present invention manufactured using the above laminated material will be described. The packaging bag uses the above laminated material, and its heat seal. The surfaces of the conductive resin layers are overlapped with each other, and then the peripheral end portion is heat sealed to form a seal portion, and a packaging bag having an opening at the upper end portion is formed. be able to.
Thus, as the bag making method, the above-mentioned laminated material is folded or overlapped so that the inner layer faces each other, and the peripheral edge thereof is, for example, a side seal type, two-layer type. Square seal type, three-way seal type, four-side seal type, envelope-attached seal type, jointed seal type (pill seal type), pleated seal type, flat bottom seal Heat-sealing in the form of a heat seal such as a shell type, square bottom seal type, gusset type, etc., and manufacturing packaging bags having various forms having an opening at the upper end. Can do.
In addition, as the packaging bag, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) can be used.
In the above, as the heat seal method, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal and the like are known. It can be done by the method.
次に、本発明において、上記で製造した包装用袋の開口部から内容物を充填し、次いで、その上端部に開口部をヒ−トシ−ル等により密閉することによって、本発明に係る種々の形態からなる包装製品を製造することができる。
なお、本発明において、上記で製造した包装用袋の開口部から内容物を充填し、次いで、その上端部に開口部をヒ−トシ−ル等により密閉することによって、本発明にかかるレトルト用パウチを使用した包装半製品を製造し、しかる後、該包装半製品を、レトルト処理あるいはボイル処理等の加熱処理を施すことによって、本発明にかかるレトルト用パウチを使用したレトルト包装食品を製造することができるものである。
上記において、レトルト処理あるいはボイル処理する方法としては、例えば、通常のレトルト釜を使用し、温度、１１０〜１３０℃位、好ましくは、１２０℃前後位、圧力、１〜３Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、好ましくは、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ前後位、時間、２０〜６０分間位、好ましくは、３０分間前後で加熱加圧処理する方法、あるいは、温度、９０〜１００℃、好ましくは、９０℃前後位、時間、５〜２０分間位、好ましくは、１０分間前後位でボイル処理する方法等により行うことができる。
而して、本発明においては、上記のようなレトルト処理あるいはボイル処理により、内容物を加熱殺菌、あるいは、加熱殺菌調理等を行うことができるものである。
Next, in the present invention, various contents according to the present invention are filled by filling the contents from the opening of the packaging bag produced above, and then sealing the opening at the upper end with a heat seal or the like. A packaged product having the form of can be produced.
In the present invention, the contents are filled from the opening of the packaging bag produced above, and then the opening is sealed with a heat seal or the like at the upper end of the bag for retort according to the present invention. A semifinished packaging product using a pouch is manufactured, and then the semifinished packaging product is subjected to a heat treatment such as a retort treatment or a boil treatment, thereby producing a retort packaged food using the retort pouch according to the present invention. It is something that can be done.
In the above, as a method for retorting or boiling, for example, a normal retort kettle is used, and the temperature is about 110 to 130 ° C., preferably about 120 ° C., pressure, 1 to 3 kgf / cm 2 · G, Preferably, a method of heating and pressurizing at about 2.1 kgf / cm 2 · G, about 20 to 60 minutes, preferably about 30 minutes, or temperature, 90 to 100 ° C., preferably 90 ° C. It can be carried out by a method of performing a boil treatment in about front and rear, time, about 5 to 20 minutes, preferably about 10 minutes.
Thus, in the present invention, the contents can be subjected to heat sterilization, heat sterilization cooking, or the like by retort processing or boil processing as described above.
次に、本発明において、本発明に係る包装用袋内に充填包装する内容物としては、例えば、調理食品、水産練り製品、冷凍食品、煮物、餅、液体ス−プ、調味料、飲料水、その他等の各種の飲食品、具体的には、例えば、カレ−、シチュ−、ス−プ、ミ−トソ−ス、ハンバ−グ、ミ−トボ−ル、しゅうまい、おでん、お粥等の流動食品、ゼリ−状食品、調味料、水、その他等の各種の飲食品等を挙げることができる。
而して、本発明において、本発明に係る包装用袋は、耐熱性、耐圧性、耐水性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、耐突き刺し性、密接着性、その他等の諸物性に優れ、特に、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性、透明性等に優れ、かつ、レトルト処理等の加工に伴う熱処理に耐え、更に、容器・包装ごみの軽量化、減量化等を図ると共にその製造工程の短縮化によりその製造コストの低減化を図ることができ、内容物の充填包装適性、品質保全性等に優れているものである。
Next, in the present invention, the contents to be filled and packaged in the packaging bag according to the present invention include, for example, cooked food, marine product, frozen food, boiled food, simmered food, liquid soup, seasoning, drinking water, Other foods and drinks, such as curry, stew, soup, meat sauce, hamburger, meatball, sweet potato, oden, rice cake etc. Various foods and beverages such as foods, jelly-like foods, seasonings, water, etc. can be mentioned.
Thus, in the present invention, the packaging bag according to the present invention has heat resistance, pressure resistance, water resistance, heat seal resistance, pin hole resistance, puncture resistance, tight adhesion, etc. Excellent physical properties, especially barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, etc., transparency, withstands heat treatment associated with retort processing, etc., and further reduces weight and weight of containers and packaging waste In addition, the manufacturing cost can be reduced by shortening the manufacturing process, and the contents can be packed and packaged and the quality is excellent.
具体的には、本発明においては、基材フィルムとして、例えば、ポリエステル系樹脂フィルムを使用する場合には、特に、熱的寸法安定性、耐熱性、耐屈曲性等の物性に優れた包装用袋を製造することができ、また、中間基材として、例えば、ポリアミド系樹脂（ナイロン）フィルムを使用する場合には、特に、耐ピンホ−ル性等に優れた包装用袋を製造することができるものである。
また、本発明においては、無機酸化物からなる蒸着層、および、ガスバリア性塗布膜は、各々、透明性を有し、かつ、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性を有するものであり、それらにより、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性等の作用効果を発揮し、終極的には、それらの相乗的な効果により、バリア性等の作用効果を発揮し、アルミニウム箔等の金属箔とほぼ同等のバリア性等の作用効果を発揮すると共にアルミニウム箔等の金属箔と異なり、透明性に優れ、内容物等の視認性等に優れているものであり、更に、金属探知機等による金属探知テストを可能とするものである。
更に、本発明においては、無機酸化物からなる蒸着層等は、その膜厚は、数十Å〜数千Åからなるものであり、また、ガスバリア性複合ポリマ−層の膜厚も０．１ｇ／ｍ2 〜２．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）程度のものであり、例えば、膜厚が５〜２０μｍ前後からなるアルミニウム箔等の金属箔等と比較して、その膜厚を著しく薄膜化し、軽量化することができ、また、その重量を著しく低減化し、容器・包装ごみの軽量化、減量化等を図ることができるものである。
更にまた、本発明においては、有機珪素化合物を蒸着用モノマ−ガスとして使用し、プラズマ化学気相成長法を用いて製膜化してなる酸化珪素からなる蒸着層を、バリア性層を構成する無機酸化物からなる蒸着層として使用すると、該酸化珪素からなる蒸着層が、柔軟性に富み、耐屈曲性等を有することから、酸化珪素からなる蒸着層にクラック等を生じてバリア性等を低下するということがないという利点を有するものである。
次に、上記の本発明について実施例を挙げて更に具体的に説明する。
Specifically, in the present invention, for example, when a polyester-based resin film is used as the base film, particularly for packaging excellent in physical properties such as thermal dimensional stability, heat resistance, and bending resistance. A bag can be manufactured, and when a polyamide-based resin (nylon) film is used as an intermediate substrate, for example, a packaging bag excellent in pinhole resistance can be manufactured. It can be done.
In the present invention, the vapor-deposited layer made of an inorganic oxide and the gas barrier coating film each have transparency and barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, and the like. , Thereby exhibiting operational effects such as barrier properties that prevent the permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and ultimately exhibiting operational effects such as barrier properties due to their synergistic effects, such as aluminum foil Unlike metal foil such as aluminum foil, it has excellent transparency and excellent visibility of contents, etc. This makes it possible to perform a metal detection test using a machine.
Further, in the present invention, the vapor deposition layer or the like made of an inorganic oxide has a film thickness of several tens to several thousand mm, and the gas barrier composite polymer layer also has a film thickness of 0.1 g. / M 2 to 2.0 g / m 2 (dry state), for example, the film thickness is significantly reduced compared to metal foils such as aluminum foil having a film thickness of about 5 to 20 μm. Thus, the weight can be reduced and the weight can be remarkably reduced to reduce the weight and weight of the container / packaging waste.
Furthermore, in the present invention, an organic silicon compound is used as a vapor deposition monomer gas, and a vapor deposition layer made of silicon oxide formed into a film by plasma chemical vapor deposition is used as an inorganic material constituting the barrier layer. When used as a vapor deposition layer made of an oxide, the vapor deposition layer made of silicon oxide is flexible and has bending resistance. It has the advantage that there is nothing to do.
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
（１）．基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した。
まず、硝化綿１重量部に対してアクリル系ポリオ−ル樹脂５重量部を加え、これらを、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）／酢酸エチル１：１の希釈溶剤中で混合攪拌して主剤Ａを得た。
次いで、硬化剤として、イソホロンジイソシアネ−ト（ＩＰＤＩ）を主剤ＡのＯＨ基に対してＮＣＯ基が等量となるように加えてアンカ−コ−ト剤を得た。
次に、上記のアンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記の厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、乾燥し、しかる後、４０℃で４８時間エ−ジング処理を行って、膜厚０．３μｍ（乾燥状態）のアンカ−コ−ト剤層を形成した。
（２）．次に、上記の（１）でアンカ−コ−ト剤層を形成した厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのアンカ−コ−ト剤層の面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
・蒸着方法；物理気相成長法（ＰＶＤ）
・蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
・巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
・電子ビーム電力；２５ｋＷ
・冷却ドラム温度；−１５℃
・フィルムの搬送速度；５４０ｍ／分
・蒸着面；コロナ処理面
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 ６．０×１０-2ｍｂａｒ、処理速度 ２００ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化アルミニウムの蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
（３）．他方、ポリエチレンイミン６．９８ｇ、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン９．２５ｇ、メタノ−ル２５．１ｇを混合して、６５℃で窒素雰囲気下で３時間攪拌した。
上記の反応溶液に、テトラメトキシシラン７２．０ｇとメタノ−ル１１．１ｇの混合液を加え１時間攪拌して、ガスバリア性組成物を調製した。
次に、上記の（２）で形成した酸素ガスによるプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、乾燥し、更に、５５℃で４８時間エ−ジング処理を行い、厚さ０．３μｍ（乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明に係るバリア性フィルムを製造した。
（４）．次に、上記の（３）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ６０μｍの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その低密度ポリエチレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水２００ｃｃを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品を温度、９５℃で６０分間からなるボイル処理条件でボイル処理を行い、本発明にかかるボイル処理包装食品を製造した。
上記で製造したボイル処理包装食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。 （５）．次にまた、上記の（３）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水２００ｃｃを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１３５℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、６０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、本発明にかかるレトルト包装食品を製造した。
上記で製造したレトルト包装食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as the base film.
First, 5 parts by weight of acrylic polyol resin was added to 1 part by weight of nitrified cotton, and these were mixed and stirred in a dilute solvent of methyl ethyl ketone (MEK) / ethyl acetate 1: 1 to obtain a main agent A.
Next, as a curing agent, isophorone diisocyanate (IPDI) was added so that the NCO group was equivalent to the OH group of the main agent A to obtain an anchor coating agent.
Next, the above-mentioned anchor coating agent was used, and this was coated on the corona-treated surface of the above biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm by using a gravure roll coating method. Then, after aging, an aging treatment was performed at 40 ° C. for 48 hours to form an anchor coating agent layer having a film thickness of 0.3 μm (dry state).
(2). Next, the 12 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film in which the anchor coating agent layer is formed in the above (1) is used, and this is mounted on the take-up roll of the take-up type vacuum deposition apparatus. Then, this was fed out, and the electron beam (EB) heating was performed while supplying oxygen gas to the surface of the anchor coating agent layer of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film using aluminum as a deposition source. A 20 nm-thick aluminum oxide vapor deposition film was formed by the following vacuum deposition method under the following vapor deposition conditions.
(Deposition conditions)
・ Vapor deposition method: Physical vapor deposition (PVD)
・ Vacuum degree in the evaporation chamber; 2 × 10 -4 mbar
・ Vacuum degree in the take-up chamber; 2 × 10 -2 mbar
・ Electron beam power: 25kW
-Cooling drum temperature: -15 ° C
-Film conveyance speed: 540 m / min-Vapor deposition surface: Corona-treated surface Next, immediately after forming a 20 nm thick aluminum oxide vapor deposition film, a glow discharge plasma generator is formed on the aluminum oxide vapor deposition film surface. , Power 9 kw, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) mixed gas, mixed gas pressure 6.0 × 10 −2 Oxygen / argon mixed gas plasma treatment was performed at mbar and a treatment speed of 200 m / min to form a plasma treatment surface in which the surface tension of the aluminum oxide vapor deposition film surface was improved by 54 dyne / cm or more.
(3). On the other hand, 6.98 g of polyethyleneimine, 9.25 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 25.1 g of methanol were mixed and stirred at 65 ° C. in a nitrogen atmosphere for 3 hours.
A mixed liquid of 72.0 g of tetramethoxysilane and 11.1 g of methanol was added to the above reaction solution and stirred for 1 hour to prepare a gas barrier composition.
Next, the gas barrier composition produced above is used for the plasma-treated surface with oxygen gas formed in (2) above, and this is coated by the gravure roll coating method, then dried, and further 55 A gas barrier coating film having a thickness of 0.3 μm (in a dry operation state) was formed at 48 ° C. for 48 hours to produce a barrier film according to the present invention.
(4). Next, after forming a desired printed pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (3), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printed pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating On the surface of the agent layer, a low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm was laminated by dry lamination to produce a laminated material according to the present invention.
Next, two sheets of the laminated material produced as described above are prepared, the surfaces of the low density polyethylene film are opposed to each other, and then, the end portion around the outer periphery is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
The three-side seal type soft packaging bag manufactured above is filled and packaged with 200 cc of water from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. Then, the packaged semi-finished product was then boiled under the boil treatment conditions consisting of 60 minutes at a temperature of 95 ° C. to produce the boiled packaged food according to the present invention.
The boiled packaged food produced above has excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pin hole resistance, piercing properties, transparency, etc. Furthermore, it has excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., no bag breakage or leakage of contents, etc., and functions as a food container, for example, filling and packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc. It was. (5). Next, after forming a desired printed pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (3), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printed pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then used for the lamination A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was laminated on the surface of the adhesive layer with the corona-treated surfaces facing each other, and then both were laminated by dry lamination.
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched nylon 6 film laminated as described above, a laminating adhesive layer is formed on the corona treatment surface in the same manner as described above, and thereafter The laminate material according to the present invention was manufactured by dry laminating and laminating an unstretched polypropylene film having a thickness of 60 μm on the laminating adhesive layer surface.
Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
The three-side seal type soft packaging bag manufactured above is filled and packaged with 200 cc of water from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. Then, the packaged semi-finished product is manufactured, and then the packaged semi-finished product is put into a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 135 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 60 minutes. The retort packaged food according to the present invention was manufactured.
The retort packaged food manufactured above has excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pin hole resistance, piercing properties, transparency, etc. Excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., with no bag breakage or leakage of contents, etc., and functions as a food container, such as content filling and packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc. .
（１）．基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用した。
まず、硝化綿１重量部に対してアクリル系ポリオ−ル樹脂５重量部を加え、これらを、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）／酢酸エチル１：１の希釈溶剤中で混合攪拌して主剤Ａを得た。
次いで、硬化剤として、イソホロンジイソシアネ−ト（ＩＰＤＩ）を主剤ＡのＯＨ基に対してＮＣＯ基が等量となるように加えてアンカ−コ−ト剤を得た。
次に、上記のアンカ−コ−ト剤を使用し、これを、上記の厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いてコ−ティングし、乾燥し、しかる後、４０℃で４８時間エ−ジング処理を行って、膜厚０．３μｍ（乾燥状態）のアンカ−コ−ト剤層を形成した。
（２）．次に、上記の（１）でアンカ−コ−ト剤層を形成した厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、プラズマ化学蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのアンカ−コ−ト剤層の面に、下記に示す蒸着条件により、膜厚１０ｎｍの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
・蒸着方法；プラズマ化学気相成長法（ＣＶＤ法）
・蒸着原料；ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、酸素ガス（Ｏ2 ）、ヘリウム ガス（Ｈｅ）
・第１室の原料組成比；ＨＭＤＳＯ：Ｏ2 ：Ｈｅ＝１：０：１
・第２室の原料組成比；ＨＭＤＳＯ：Ｏ2 ：Ｈｅ＝１：１０：１
・第３室の原料組成比；なし
・チヤンバー内真空度；４．０×１０-2Ｐａ
・フィルム搬送速度；２００ｍ／ｍｉｎ
・蒸着面；コロナ処理面
次に、上記で厚さ１０ｎｍの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜の面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 ６．０×１０-2ｍｂａｒ、処理速度 ２００ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化珪素の蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
（３）．他方、ポリエチレンイミン６．９８ｇ、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン９．２５ｇ、メタノ−ル２５．１ｇを混合して、６５℃で窒素雰囲気下で３時間攪拌した。
上記の反応溶液に、テトラメトキシシラン７２．０ｇとメタノ−ル１１．１ｇの混合液を加え１時間攪拌して、ガスバリア性組成物を調製した。
次に、上記の（２）で形成した酸素ガスによるプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、乾燥し、更に、５５℃で４８時間エ−ジング処理を行い、厚さ０．３μｍ（乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明に係るバリア性フィルムを製造した。
（４）．次に、上記の（３）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ６０μｍの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その低密度ポリエチレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水２００ｃｃを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品を温度、９５℃で６０分間からなるボイル処理条件でボイル処理を行い、本発明にかかるボイル処理包装食品を製造した。
上記で製造したボイル処理包装食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。 （５）．次にまた、上記の（３）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水を２００ｃｃ充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１３５℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、６０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、本発明にかかるレトルト包装食品を製造した。
上記で製造したレトルト包装食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as the base film.
First, 5 parts by weight of acrylic polyol resin was added to 1 part by weight of nitrified cotton, and these were mixed and stirred in a dilute solvent of methyl ethyl ketone (MEK) / ethyl acetate 1: 1 to obtain a main agent A.
Next, as a curing agent, isophorone diisocyanate (IPDI) was added so that the NCO group was equivalent to the OH group of the main agent A to obtain an anchor coating agent.
Next, the above-mentioned anchor coating agent was used, and this was coated on the corona-treated surface of the above biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm by using a gravure roll coating method. Then, after aging, an aging treatment was performed at 40 ° C. for 48 hours to form an anchor coating agent layer having a film thickness of 0.3 μm (dry state).
(2). Next, the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm in which the anchor coating agent layer was formed in the above (1) was used, and this was mounted on the delivery roll of the plasma chemical vapor deposition apparatus, This was drawn out, and a 10 nm-thick silicon oxide vapor deposition film was formed on the surface of the anchor coating agent layer of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film under the following vapor deposition conditions.
(Deposition conditions)
・ Vapor deposition method; Plasma chemical vapor deposition (CVD method)
・ Vapor deposition raw materials: hexamethyldisiloxane (HMDSO), oxygen gas (O 2 ), helium gas (He)
-Raw material composition ratio in the first chamber; HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1
Raw material composition ratio in second chamber; HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1
・ Raw material composition ratio in third chamber: None ・ Vacuum degree in chamber: 4.0 × 10 −2 Pa
-Film transport speed: 200 m / min
-Vapor deposition surface: Corona-treated surface Next, immediately after forming the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 10 nm as described above, a glow discharge plasma generator was used on the surface of the silicon oxide vapor deposition film, and the power was 9 kw, oxygen Gas (O 2 ): Argon gas (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) is used, and the mixed gas pressure is 6.0 × 10 −2 mbar and the processing speed is 200 m / min. Oxygen / argon mixed gas plasma treatment was performed to form a plasma-treated surface in which the surface tension of the deposited silicon oxide film surface was improved by 54 dyne / cm or more.
(3). On the other hand, 6.98 g of polyethyleneimine, 9.25 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 25.1 g of methanol were mixed and stirred at 65 ° C. in a nitrogen atmosphere for 3 hours.
A mixed liquid of 72.0 g of tetramethoxysilane and 11.1 g of methanol was added to the above reaction solution and stirred for 1 hour to prepare a gas barrier composition.
Next, the gas barrier composition produced above is used for the plasma-treated surface with oxygen gas formed in (2) above, and this is coated by the gravure roll coating method, then dried, and further 55 A gas barrier coating film having a thickness of 0.3 μm (in a dry operation state) was formed at 48 ° C. for 48 hours to produce a barrier film according to the present invention.
(4). Next, after forming a desired printed pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (3), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printed pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating On the surface of the agent layer, a low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm was laminated by dry lamination to produce a laminated material according to the present invention.
Next, two sheets of the laminated material produced as described above are prepared, the surfaces of the low density polyethylene film are opposed to each other, and then, the end portion around the outer periphery is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
The three-side seal type soft packaging bag manufactured above is filled and packaged with 200 cc of water from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. Then, the packaged semi-finished product was then boiled under the boil treatment conditions consisting of 60 minutes at a temperature of 95 ° C. to produce the boiled packaged food according to the present invention.
The boiled packaged food produced above has excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pin hole resistance, piercing properties, transparency, etc. Furthermore, it has excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., no bag breakage or leakage of contents, etc., and functions as a food container, for example, filling and packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc. It was. (5). Next, after forming a desired printed pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (3), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printed pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then used for the lamination A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was laminated on the surface of the adhesive layer with the corona-treated surfaces facing each other, and then both were laminated by dry lamination.
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched nylon 6 film laminated as described above, a laminating adhesive layer is formed on the corona treatment surface in the same manner as described above, and thereafter The laminate material according to the present invention was manufactured by dry laminating and laminating an unstretched polypropylene film having a thickness of 60 μm on the laminating adhesive layer surface.
Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
In the three-sided seal type soft packaging bag manufactured above, 200 cc of water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form an upper seal. The packaged semi-finished product is then manufactured, and then the packaged semi-finished product is put into a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of retort treatment consisting of temperature, 135 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 60 minutes. The retort packaged food according to the present invention was manufactured.
The retort packaged food manufactured above has excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pin hole resistance, piercing properties, transparency, etc. Excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., with no bag breakage or leakage of contents, etc., and functions as a food container, such as content filling and packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc. .
〔比較例１〕
（１）．基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面の面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
・蒸着方法；物理気相成長法（ＰＶＤ）
・蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
・巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
・電子ビーム電力；２５ｋＷ
・冷却ドラム温度；−１５℃
・フィルムの搬送速度；５４０ｍ／分
・蒸着面；コロナ処理面
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 ６．０×１０-2ｍｂａｒ、処理速度 ２００ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化アルミニウムの蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
（２）．他方、ポリエチレンイミン６．９８ｇ、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン９．２５ｇ、メタノ−ル２５．１ｇを混合して、６５℃で窒素雰囲気下で３時間攪拌した。
上記の反応溶液に、テトラメトキシシラン７２．０ｇとメタノ−ル１１．１ｇの混合液を加え１時間攪拌して、ガスバリア性組成物を調製した。
次に、上記の（１）で形成した酸素ガスによるプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、乾燥し、更に、５５℃で４８時間エ−ジング処理を行い、厚さ０．３μｍ（乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。
（３）．次に、上記の（２）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ６０μｍの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その低密度ポリエチレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水２００ｃｃを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品を温度、９５℃で６０分間からなるボイル処理条件でボイル処理を行い、ボイル処理包装食品を製造した。
（４）．次にまた、上記の（２）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水２００ｃｃを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１３５℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、６０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、レトルト包装食品を製造した。
[Comparative Example 1]
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as a base film, and this was mounted on a feed roll of a wind-up type vacuum evaporation apparatus, and then fed out, and the biaxially stretched polyethylene terephthalate film was fed. An oxidation film having a film thickness of 20 nm is formed on the corona-treated surface of the turret film by a vacuum deposition method using an electron beam (EB) heating method while supplying oxygen gas using aluminum as a deposition source under the following deposition conditions. An aluminum deposited film was formed.
(Deposition conditions)
・ Vapor deposition method: Physical vapor deposition (PVD)
・ Vacuum degree in the evaporation chamber; 2 × 10 -4 mbar
・ Vacuum degree in the take-up chamber; 2 × 10 -2 mbar
・ Electron beam power: 25kW
-Cooling drum temperature: -15 ° C
-Film conveyance speed: 540 m / min-Vapor deposition surface: Corona-treated surface Next, immediately after forming a 20 nm thick aluminum oxide vapor deposition film, a glow discharge plasma generator is formed on the aluminum oxide vapor deposition film surface. , Power 9 kw, oxygen gas (O 2 ): argon gas (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) mixed gas, mixed gas pressure 6.0 × 10 −2 Oxygen / argon mixed gas plasma treatment was performed at mbar and a treatment speed of 200 m / min to form a plasma treatment surface in which the surface tension of the aluminum oxide vapor deposition film surface was improved by 54 dyne / cm or more.
(2). On the other hand, 6.98 g of polyethyleneimine, 9.25 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 25.1 g of methanol were mixed and stirred at 65 ° C. in a nitrogen atmosphere for 3 hours.
A mixed liquid of 72.0 g of tetramethoxysilane and 11.1 g of methanol was added to the above reaction solution and stirred for 1 hour to prepare a gas barrier composition.
Next, the gas barrier composition produced above is used on the plasma-treated surface with oxygen gas formed in the above (1), and this is coated by a gravure roll coat method, then dried, and further 55 An aging treatment was performed at a temperature of 48 ° C. to form a gas barrier coating film having a thickness of 0.3 μm (in a dry operation state) to produce a barrier film.
(3). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (2), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating On the surface of the agent layer, a low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm was laminated by dry lamination to produce a laminated material.
Next, two sheets of the laminated material produced as described above are prepared, the surfaces of the low density polyethylene film are opposed to each other, and then, the end portion around the outer periphery is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
In the three-sided seal type soft packaging bag manufactured above, 200 cc of water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form an upper seal. Then, the packaged semi-finished product was manufactured, and then the packaged semi-finished product was boiled at a temperature of 95 ° C. for 60 minutes under a boil treatment condition to produce a boiled packaged food.
(4). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (2), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then used for the lamination A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was laminated on the surface of the adhesive layer with the corona-treated surfaces facing each other, and then both were laminated by dry lamination.
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched nylon 6 film laminated as described above, a laminating adhesive layer is formed on the corona treatment surface in the same manner as described above, and thereafter A laminated material was produced by dry laminating and laminating an unstretched polypropylene film having a thickness of 60 μm on the surface of the adhesive layer for laminating.
Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
The three-side seal type soft packaging bag manufactured above is filled and packaged with 200 cc of water from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. Then, the packaged semi-finished product is manufactured, and then the packaged semi-finished product is put into a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 135 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 60 minutes. To produce a retort packaged food.
〔比較例２〕
（１）．基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、プラズマ化学蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面の面に、下記に示す蒸着条件により、膜厚１０ｎｍの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
・蒸着方法；プラズマ化学気相成長法（ＣＶＤ法）
・蒸着原料；ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、酸素ガス（Ｏ2 ）、ヘリウム ガス（Ｈｅ）
・第１室の原料組成比；ＨＭＤＳＯ：Ｏ2 ：Ｈｅ＝１：０：１
・第２室の原料組成比；ＨＭＤＳＯ：Ｏ2 ：Ｈｅ＝１：１０：１
・第３室の原料組成比；なし
・チヤンバー内真空度；４．０×１０-2Ｐａ
・フィルム搬送速度；２００ｍ／ｍｉｎ
・蒸着面；コロナ処理面
次に、上記で厚さ１０ｎｍの酸化珪素の蒸着膜を形成した直後に、その酸化珪素の蒸着膜の面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 ６．０×１０-2ｍｂａｒ、処理速度 ２００ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化珪素の蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
（２）．他方、ポリエチレンイミン６．９８ｇ、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン９．２５ｇ、メタノ−ル２５．１ｇを混合して、６５℃で窒素雰囲気下で３時間攪拌した。
上記の反応溶液に、テトラメトキシシラン７２．０ｇとメタノ−ル１１．１ｇの混合液を加え１時間攪拌して、ガスバリア性組成物を調製した。
次に、上記の（１）で形成した酸素ガスによるプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、乾燥し、更に、５５℃で４８時間エ−ジング処理を行い、厚さ０．３μｍ（乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。
（３）．次に、上記の（２）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ６０μｍの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その低密度ポリエチレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水２００ｃｃを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品を温度、９５℃で６０分間からなるボイル処理条件でボイル処理を行い、ボイル処理包装食品を製造した。
（４）．次にまた、上記の（２）で製造したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、積層材を製造した。
次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水２００ｃｃを充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１３５℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、６０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、レトルト包装食品を製造した。
[Comparative Example 2]
(1). A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as a base film, and this was mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and then fed out, and the biaxially stretched polyethylene terephthalate film. On the surface of the corona-treated surface, a silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 10 nm was formed under the following vapor deposition conditions.
(Deposition conditions)
・ Vapor deposition method; Plasma chemical vapor deposition (CVD method)
・ Vapor deposition raw materials: hexamethyldisiloxane (HMDSO), oxygen gas (O 2 ), helium gas (He)
-Raw material composition ratio in the first chamber; HMDSO: O 2 : He = 1: 0: 1
Raw material composition ratio in second chamber; HMDSO: O 2 : He = 1: 10: 1
・ Raw material composition ratio in third chamber: None ・ Vacuum degree in chamber: 4.0 × 10 −2 Pa
-Film transport speed: 200 m / min
-Vapor deposition surface: Corona-treated surface Next, immediately after forming the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 10 nm as described above, a glow discharge plasma generator was used on the surface of the silicon oxide vapor deposition film, and the power was 9 kw, oxygen Gas (O 2 ): Argon gas (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) is used, and the mixed gas pressure is 6.0 × 10 −2 mbar and the processing speed is 200 m / min. Oxygen / argon mixed gas plasma treatment was performed to form a plasma-treated surface in which the surface tension of the deposited silicon oxide film surface was improved by 54 dyne / cm or more.
(2). On the other hand, 6.98 g of polyethyleneimine, 9.25 g of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 25.1 g of methanol were mixed and stirred at 65 ° C. in a nitrogen atmosphere for 3 hours.
A mixed liquid of 72.0 g of tetramethoxysilane and 11.1 g of methanol was added to the above reaction solution and stirred for 1 hour to prepare a gas barrier composition.
Next, the gas barrier composition produced above is used on the plasma-treated surface with oxygen gas formed in the above (1), and this is coated by a gravure roll coat method, then dried, and further 55 An aging treatment was performed at a temperature of 48 ° C. to form a gas barrier coating film having a thickness of 0.3 μm (in a dry operation state) to produce a barrier film.
(3). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (2), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating On the surface of the agent layer, a low-density polyethylene film having a thickness of 60 μm was laminated by dry lamination to produce a laminated material.
Next, two sheets of the laminated material produced as described above are prepared, the surfaces of the low density polyethylene film are opposed to each other, and then, the end portion around the outer periphery is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
In the three-sided seal type soft packaging bag manufactured above, 200 cc of water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form an upper seal. Then, the packaged semi-finished product was manufactured, and then the packaged semi-finished product was boiled at a temperature of 95 ° C. for 60 minutes under a boil treatment condition to produce a boiled packaged food.
(4). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film produced in the above (2), a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then used for the lamination A biaxially stretched nylon 6 film having a thickness of 15 μm was laminated on the surface of the adhesive layer with the corona-treated surfaces facing each other, and then both were laminated by dry lamination.
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched nylon 6 film laminated as described above, a laminating adhesive layer is formed on the corona treatment surface in the same manner as described above, and thereafter A laminated material was produced by dry laminating and laminating an unstretched polypropylene film having a thickness of 60 μm on the surface of the adhesive layer for laminating.
Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured.
The three-side seal type soft packaging bag manufactured above is filled and packaged with 200 cc of water from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. Then, the packaged semi-finished product is manufactured, and then the packaged semi-finished product is put into a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 135 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 60 minutes. To produce a retort packaged food.
〔実験例１〕
上記の実施例１〜２、および、比較例１〜２において製造したバリア性フィルム使用して製造した積層材を製袋して製造した包装用袋について、ボイル処理前後、および、レトルト処理前後の酸素透過度、および、ラミネ−ト強度（剥離強度）を測定して評価し、更に、ボイル処理後、および、レトルト処理後の外観を測定した。
（１）．酸素透過度の測定
これは、温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０）〕にて測定した。
（２）．ラミネ−ト強度（剥離強度）の測定
ラミネ−ト強度は、テンシロン測定器を使用し、試験片１５ｍｍ幅、Ｔ字剥離、剥離速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定した。
（３）．外観の評価
これは、上記の実施例１〜２、および、比較例１〜２において、パウチに水２００ｃｃを充填包装する代わりに、パウチに水１００ｃｃを充填包装し、次いで、パウチに罫線をつけて１８０°に折り曲げてクリップにて固定し、次いで、その状態でボイル処理、および、レトルト処理を上記と同様な条件で実施し、しかる後、デラミネ−ションの発生の有無を確認し、デラミネ−ションが発生した場合、×、デラミネ−ションが発生しない場合、◎として、その外観を評価した。
上記の測定結果について、下記の表１、表２に示す。
[Experimental Example 1]
About the packaging bag manufactured by bag-making and manufacturing the laminated material manufactured using the barrier film manufactured in Examples 1-2 above and Comparative Examples 1-2, before and after the boil treatment and before and after the retort treatment Oxygen permeability and laminating strength (peeling strength) were measured and evaluated, and the appearance after the boil treatment and after the retort treatment was measured.
(1). Measurement of Oxygen Permeability This was measured with a measuring instrument (model name, OX-
(2). Measurement of Laminate Strength (Peeling Strength) Laminate strength was measured using a Tensilon measuring instrument under the conditions of a
(3). Appearance evaluation In Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 above, instead of filling and packaging 200 cc of water in a pouch, 100 cc of water was packed in the pouch, and then the pouch was ruled. Then, it is bent at 180 ° and fixed with a clip. Then, in this state, boil treatment and retort treatment are carried out under the same conditions as above, and then the presence or absence of delamination is confirmed. The appearance was evaluated as ◎ when the occurrence occurred, and when the delamination did not occur as ◎.
The measurement results are shown in Tables 1 and 2 below.
（表１） ボイル処理の評価結果
┌────┬───────────┬───────────┬──┐ │ │ ボイル前 │ ボイル後 │ │ │ ├─────┬─────┼─────┬─────┤外観│ │ │酸素透過度│剥離強度 │酸素透過度│剥離強度 │ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │実施例１│０．３２ │ ４７０ │０．３４ │ ４２０ │◎ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │実施例２│０．２８ │ ５２０ │０．３０ │ ４６０ │◎ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │比較例１│０．３３ │ ４６０ │０．９７ │ ９０ │× │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │比較例２│０．３０ │ ５１０ │０．８４ │ １８０ │× │ └────┴─────┴─────┴─────┴─────┴──┘
(Table 1) Evaluation results of boil treatment ┌────┬───────────┬───────────┬──┐ │ │ Before boil │ After boil │ │ │ ├─────┬─────┼─────┬─────┤Appearance│ │ │Oxygen permeability │Peel strength │Oxygen permeability │Peel strength │ │ ──── ─┼─────┼─────┼─────┼────┼──┤ │Example 1│0.32 │ 470 │0.34 │ 420 │ ◎ │ ├─ ───┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │Example 2│0.28 │ 520 │0.30 │ 460 │ ◎ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │Comparative Example 1│0.33 │ 460 │0.97 │ 90 │ × │ ├────┼─────┼─────┼─────┼───── ──┤ │Comparative Example 2│0.30 │ 510 │0.84 │ 180 │ × │ └────┴─────┴─────┴─────┴──── ─┴──┘
（表２） レトルト処理の評価結果
┌────┬───────────┬───────────┬──┐ │ │ レトルト前 │ レトルト後 │ │ │ ├─────┬─────┼─────┬─────┤外観│ │ │酸素透過度│剥離強度 │酸素透過度│剥離強度 │ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │実施例１│０．３０ │ ４６０ │０．４２ │ ４３０ │◎ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │実施例２│０．２８ │ ５３０ │０．３６ │ ４６０ │◎ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │比較例１│０．３１ │ ４７０ │１．５６ │ ６０ │× │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │比較例２│０．３０ │ ５００ │１．４２ │ １２０ │× │ └────┴─────┴─────┴─────┴─────┴──┘ 上記の表１、および、表２において、酸素透過度の単位は、〔ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ／ａｔｍ・ ２３℃・９０％ＲＨ〕であり、ラミネ−ト強度（剥離強度）の単位は、［ｇｆ／１５ｍｍ］である。
(Table 2) Evaluation results of retort treatment ┌────┬───────────┬──────────┬──┐ │ │ Before retort │ After retort │ │ │ ├─────┬─────┼─────┬─────┤Appearance│ │ │Oxygen permeability │Peel strength │Oxygen permeability │Peel strength │ │ ──── ─┼─────┼─────┼────┼┼────┼──┤ │Example 1│0.30 │ 460 │0.42 │ 430 │ ◎ │ ├─ ───┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │Example 2│0.28 │ 530 │0.36 │ 460 │ ◎ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┼──┤ │Comparative Example 1│0.31 │ 470 │1.56 │ 60 │ × │ ├────┼─────┼─────┼─────┼── ──┼──┤ │Comparative Example 2│0.30 │ 500 │1.42 │ 120 │ × │ └────┴─────┴─────┴─────┴── ────┴──┘ In Tables 1 and 2 above, the unit of oxygen permeability is [cc / m 2 / day / atm · 23 ° C · 90% RH], and the laminating strength The unit of (peel strength) is [gf / 15 mm].
上記の表１および表２に示す測定結果から明らかなように、実施例１〜２にかかるものは、酸素透過度および水蒸気透過度において十分に実用性を有するものであることが確認され、また、ラミネ−ト強度等においても優れ、更に、透明性を有し、内容物の視認性に優れているものであった。 As apparent from the measurement results shown in Table 1 and Table 2 above, it was confirmed that the samples according to Examples 1 and 2 were sufficiently practical in terms of oxygen permeability and water vapor permeability. In addition, the laminate strength was excellent, the transparency was further improved, and the contents were highly visible.
〔実験例２〕
上記の実施例１〜２、および、比較例１〜２において製造したバリア性フィルム使用して製造した積層材を製袋して製造した包装用袋について、ボイル処理後の耐水ラミネ−ト強度（剥離強度）を測定した。
（１）．耐水ラミネ−ト強度（剥離強度）の測定
耐水ラミネ−ト強度（剥離強度）は、テンシロン測定器を使用し、剥離界面に水を垂らしながら、試験片１５ｍｍ幅、Ｔ字剥離、剥離速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定した。
上記の測定結果について、下記の表３に示す。
[Experimental example 2]
About the packaging bag manufactured by bag-making the laminated material manufactured using the barrier film manufactured in Examples 1-2 above and Comparative Examples 1-2, the water-resistant laminating strength after boil treatment ( Peel strength) was measured.
(1). Measurement of water-resistant laminating strength (peeling strength) Water-resistant laminating strength (peeling strength) is measured using a Tensilon measuring instrument, while dropping water on the peeling interface, with a 15 mm wide test piece, T-shaped peeling, and peeling speed of 50 mm / Measurement was performed under the condition of min.
The measurement results are shown in Table 3 below.
（表３）
┌────┬─────────┬───────────┐ │ │ ラミネ−ト強度 │ 耐水ラミネ−ト強度 │ ├────┼─────────┼───────────┤ │実施例１│ ４７０ │ ４２０ │ ├────┼─────────┼───────────┤ │実施例２│ ５２０ │ ４７０ │ ├────┼─────────┼───────────┤ │比較例１│ ４６０ │ ４０ │ ├────┼─────────┼───────────┤ │比較例２│ ５１０ │ １２０ │ └────┴─────────┴───────────┘ 上記の表３において、耐水ラミネ−ト強度（剥離強度）の単位は、［ｇｆ／１５ｍｍ］である。
(Table 3)
┌────┬─────────┬───────────┐ │ │ Laminate Strength │ Water-resistant Laminate Strength │ ├────┼─── ──────┼───────────┤ │Example 1│ 470 │ 420 │ ├────┼─────────┼─────── ─────┤ │Example 2│ 520 │ 470 │ ├────┼─────────┼───────────┤ │Comparative Example 1 460 │ 40 │ ├────┼─────────┼───────────┤ │Comparative Example 2 │ 510 │ 120 │ └────────── ────┴───────────┘ In Table 3 above, the unit of water-resistant laminating strength (peeling strength) is [gf / 15 mm].
上記の表３に示す測定結果から明らかなように、実施例１〜２にかかるものは、耐水ラミネ−ト強度（剥離強度）においても優れているものであった。 As is apparent from the measurement results shown in Table 3, the samples according to Examples 1 and 2 were excellent in water-resistant laminating strength (peeling strength).
本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材、更に、それを使用して製袋した包装用袋は、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性、更に、積層材の密着性に優れ、例えば、ボイル処理、レトルト処理等の加工に伴う熱処理に耐え、更に、容器・包装ごみの軽量化、減量化等を図ると共にその製造工捏の短縮化によりその製造コストの低減化を図り、例えば、調理食品、水産練り製品、冷凍食品、煮物、餅、液体スープ、調味料、飲料水、その他等の各種の飲食品を充填包装するに有用であり、かつ、その内容物の充填包装適性、品質保全性等に優れているものである。 The barrier film according to the present invention and a laminated material using the same, and a packaging bag made using the same are barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, and the like, and adhesion of the laminated material For example, it can withstand heat treatments associated with processing such as boil processing and retort processing, and further reduce the manufacturing cost by reducing the weight and weight of containers and packaging waste and shortening the manufacturing process. For example, it is useful for filling and packaging various foods and beverages such as cooked foods, fish paste products, frozen foods, boiled foods, rice cakes, liquid soups, seasonings, drinking water, etc. It has excellent aptitude and quality maintenance.
Ａ Ａ1 バリア性フィルム
Ｂ、Ｂ1 、Ｂ2 積層材
Ｃ 包装用袋
Ｄ 包装製品
１ 基材フィルム
２ アンカ−コ−ト剤層
３ 無機酸化物からなる蒸着層
４ ガスバリア性塗布膜
１１ ヒ−トシ−ル性樹脂層
１２ 中間基材
１３ プラスチック基材
１５ ヒ−トシ−ル部
１６ 開口部
１７ 内容物
１８ 上方のシ−ル部
A A 1 Barrier film B, B 1 , B 2 Laminate C Packaging bag
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