JP4857522B2 - Barrier film and laminated material using the same - Google Patents
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Description
本発明は、バリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関し、更に詳しくは、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れ、更に、透明性を備え、かつ、耐衝撃性、耐熱水性等に優れたガスバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 The present invention relates to a barrier film and a laminate using the same, and more specifically, has excellent gas barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, and the like, and further has transparency, impact resistance, and hot water resistance. The present invention relates to a gas barrier film excellent in the above and a laminated material using the same.
従来、飲食品、化成品、雑貨品、その他等を充填包装する包装用材料としては、充填包装する内容物の変質、変色、その他等を防止するために、酸素ガス、水蒸気等の透過を遮断、阻止する、種々の形態からなるバリア性基材が開発され、提案されている。
その最も代表的なものとしては、例えば、アルミニウム箔ないしその蒸着膜が、提案されているが、このものは、極めて安定したガスバリア性を発揮するものの、使用後、ゴミとして焼却処理する場合、その焼却適性に劣り、使用後の廃棄処理が容易であいという問題点があり、また、透明性に欠けるという問題点もある。
Conventionally, as packaging materials for filling and packaging foods, beverages, chemicals, miscellaneous goods, etc., the permeation of oxygen gas, water vapor, etc. is blocked in order to prevent deterioration, discoloration, etc. of the contents to be filled and packaged. Barrier substrates of various forms have been developed and proposed.
For example, an aluminum foil or a vapor-deposited film thereof has been proposed as the most typical one, but this one exhibits an extremely stable gas barrier property. There is a problem that it is inferior in incineration and is easy to dispose after use, and there is also a problem that transparency is lacking.
これに対処するために、例えば、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体、その他等からなる酸素、水蒸気等の透過を遮断、阻止するバリア性樹脂フィルムを使用することが試みられている。
しかし、ポリ塩化ビニリデン系樹脂は、その構造中に塩素原子を含有することから、使用後、ゴミとして焼却処理する場合、有害な塩素ガスが発生し、環境衛生上好ましくないという問題点がある。
一方、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体は、酸素透過性が低く、かつ、香味成分の吸着性が低いという長所を有するものの、水蒸気に接触するとガスバリア性が、著しく低下してしまうという問題がある。
このため、バリア性基材としてのエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体を水蒸気から遮断するために複雑な積層構造とする必要があり、製造コストの増大を来しているというのが実状である。
In order to cope with this, for example, it is attempted to use a barrier resin film that blocks or prevents permeation of oxygen, water vapor, and the like made of polyvinylidene chloride resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer, and the like. ing.
However, since the polyvinylidene chloride resin contains chlorine atoms in its structure, when it is incinerated as waste after use, harmful chlorine gas is generated, which is unfavorable for environmental hygiene.
On the other hand, the ethylene-vinyl alcohol copolymer has the advantages that the oxygen permeability is low and the adsorptivity of the flavor component is low, but there is a problem that the gas barrier property is remarkably lowered when it comes into contact with water vapor. .
For this reason, in order to block the ethylene-vinyl alcohol copolymer as a barrier base material from water vapor, it is necessary to make it a complicated laminated structure, and the fact is that the manufacturing cost is increasing.
そこで、近年、高いガスバリア性と保香性を安定して発揮し、かつ、透明性を有するバリア性基材として、珪素酸化物、酸化アルミニウム等の無機酸化物の薄膜からなるバリア層を備えたバリア性基材が開発され、提案されている。
而して、上記のバリア性基材は、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、あるいは、ポリプロピレン系樹脂等の樹脂フィルムからなる基材フィルムの一方の面に、珪素酸化物、酸化アルミニウム等の無機酸化物を真空蒸着により付着させて、その無機酸化物の薄膜を設けることにより製造さている。
このものは、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れていると共に透明性に優れ、また、使用後においては焼却廃棄処理する際に有害物質等を発生することなく、廃棄処理適性、環境適性等に優れているものであり、その用途が、多方面に展開され、その需要量が、拡大しているものである。
しかしながら、上記の珪素酸化物、酸化アルミニウム等の無機酸化物の薄膜からなるバリア層は、単に、無機酸化物を加熱し、蒸気化し、その粒子を基材フィルムの上に蒸着、付着させたものであるため、無機酸化物の粒子間に結晶粒界という隙間が存在しており、ガスバリア性に優れているとは言え、充分に満足し得るガスバリア性を有するものであるとは言えないものであるというのが実状である。
このため、例えば、その膜厚を厚く（５００〜１０００Å）すること、あるいは、無機酸化物の薄膜中の酸素原子割合を小さくして、そのガスバリア性を向上させること、その他等の改良案が提案さているが、反面、例えば、膜厚を厚くすると、その透明性が低下すること、また、膜厚を厚くすることにより無機酸化物の薄膜が、伸縮性、延展性等に劣り、クラック等が生じやすいこと、基材フィルムと無機酸化物の薄膜を構成する粒子との密着力が弱いこと等の種々の問題がある。
Therefore, in recent years, a barrier layer made of a thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide has been provided as a barrier material that exhibits high gas barrier properties and fragrance stability stably and has transparency. Barrier substrates have been developed and proposed.
Thus, the above-mentioned barrier base material is made of, for example, silicon oxide, aluminum oxide or the like on one surface of a base film made of a resin film such as a polyester resin, a polyamide resin, or a polypropylene resin. It is manufactured by depositing an inorganic oxide by vacuum deposition and providing a thin film of the inorganic oxide.
This product has excellent gas barrier properties that prevent the permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and has excellent transparency. Also, after use, it is suitable for disposal without generating harmful substances during incineration disposal. It is excellent in environmental suitability and the like, and its uses are developed in various fields, and the demand is expanding.
However, the barrier layer made of a thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide is simply obtained by heating and vaporizing the inorganic oxide to deposit and deposit the particles on the base film. Therefore, there is a gap called a grain boundary between the inorganic oxide particles, and although it has excellent gas barrier properties, it cannot be said to have sufficiently satisfactory gas barrier properties. The fact is that there is.
For this reason, for example, an improvement proposal such as increasing the film thickness (500 to 1000 mm) or decreasing the oxygen atom ratio in the inorganic oxide thin film to improve the gas barrier property is proposed. However, on the other hand, for example, when the film thickness is increased, the transparency is lowered, and by increasing the film thickness, the thin film of the inorganic oxide is inferior in stretchability, spreadability, etc., and cracks etc. There are various problems such as being easy to occur and poor adhesion between the substrate film and the particles constituting the inorganic oxide thin film.
そこで、上記のような珪素酸化物、酸化アルミニウム等の無機酸化物の薄膜からなるバリア層を備えたバリア性基材の問題点を解決し、そのガスバリア性能を向上させるために、例えば、プラスチック基材の表面に形成された金属又は金属酸化物の薄膜の上に、厚さが少なくとも１μｍのオレフィン−酢酸ビニル共重合体鹸化物樹脂層が積層されてなる多層積層体からなるバリア性基材が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、プラスチック基材の表面に形成された金属又は金属酸化物の薄膜の上に、厚さが少なくとも３μｍのポリビニルアルコ−ル系樹脂層が積層されてなる多層積層体からなるバリア性基材も提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
更に、基材フィルム層（１）の少なくとも一方の面が、透明性を有する無機物質（２）を介して、バリア性樹脂コ−ティング層（３）で被覆されているガスバリア性フィルムからなるバリア性基材も提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
Therefore, in order to solve the problems of the barrier base material having a barrier layer made of a thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide and aluminum oxide as described above, and improve its gas barrier performance, for example, a plastic substrate A barrier substrate comprising a multilayer laminate in which an olefin-vinyl acetate copolymer saponified resin layer having a thickness of at least 1 μm is laminated on a metal or metal oxide thin film formed on the surface of the material. It has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
Also, a barrier substrate made of a multilayer laminate in which a polyvinyl alcohol-based resin layer having a thickness of at least 3 μm is laminated on a metal or metal oxide thin film formed on the surface of a plastic substrate. It has been proposed (see, for example, Patent Document 2).
Further, a barrier made of a gas barrier film in which at least one surface of the base film layer (1) is coated with a barrier resin coating layer (3) via an inorganic substance (2) having transparency. Also proposed is a conductive substrate (see, for example, Patent Document 3).
また、例えば、高分子樹脂組成物からなる基材上に、無機化合物からなる蒸着層を第１層とし、水溶性高分子と、（ａ）１種以上のアルコキシドまたは／およびその加水分解物または（ｂ）塩化錫の少なくともいずれか１つを含む水溶液、或いは水／アルコ−ル混合溶液を主剤とするコ−ティング剤を塗布し、加熱乾燥してなるガスバリア性被膜を第２層として積層してなることを特徴とするガスバリア性積層フィルムも提案されている（例えば、特許文献４参照。）。
また、透明高分子フィルムの少なくとも片面上に金属酸化物層を有する透明ガスバリア−性積層フィルムにおいて、該金属酸化物に接してその外側に、下記一般式（１）で示されるアルコキシシランの（部分）加水分解物、その（部分）縮合物若しくはそれらの混合物により架橋されたポリビニルアルコ−ルを含む硬化被膜が積層されていることを特徴とする透明ガスバリア−性積層フィルム。
Ｒ1 n −Ｓｉ（ＯＲ2 ）4-n ・・・・（１）
（ここで、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基；ビニル基；又はメタクリロキシ基、エポキシ基およびメルカプト基からなる群から選ばれる１以上の基を有する有機基であり、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０〜２の整数である。）も提案されたいる（例えば、特許文献５参照。）。
Further, in the transparent gas barrier laminate film having a metal oxide layer on at least one surface of the transparent polymer film, the portion of the alkoxysilane represented by the following general formula (1) is in contact with the metal oxide on the outside (part) A transparent gas barrier laminate film comprising a cured film containing a polyvinyl alcohol crosslinked with a hydrolyzate, its (partial) condensate or a mixture thereof.
R 1 n —Si (OR 2 ) 4-n (1)
(Where R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms; vinyl group; or an organic group having one or more groups selected from the group consisting of a methacryloxy group, an epoxy group, and a mercapto group, and R 2 is a carbon number. 1 to 4 alkyl groups and n is an integer of 0 to 2) has also been proposed (see, for example, Patent Document 5).
しかしなが、上記の特許文献１〜３で提案されているバリア性基材においては、例えば、オレフィン−酢酸ビニル共重合体鹸化物樹脂層、あるいは、ポリビニルアルコ−ル系樹脂層中の水酸基やアミド基等の極性基は、水分子と結合しやすく、このため、そのガスバリア性は、環境湿度が高くなるにつれて低下するという問題点がある。
すなわち、充填包装する内容物として、例えば、水分等を含む液体、あるいは、水分を含む飲食品等を充填包装する場合は、内容物の水分蒸気等の影響によりガスバリア性が低下し、保存中に内容物の品質の劣化、変質等をもたらすという問題点がある。
また、充填包装する飲食品によっては、それを充填包装後、ボイル処理、もしくは、レトルト処理によって熱水により殺菌処理を行って包装製品を製造する場合があり、この場合には、上記のバリア性基材は、処理時にガスバリア性が著しく劣化し、更に、接着強度等も低下し、その機械的強度の劣化を引き起こし、上記のような殺菌処理方法には適さないものであるという問題点もある。
また、上記の特許文献４〜５で提案されているバリア性基材においては、高いガスバリア性を得ることができ、酸素バリア性については十分な性能を有しているが、水蒸気バリア性については十分であるとは言えず、例えば、上記と同様に、飲食品を充填包装後、ボイル処理、もしくは、レトルト処理によって熱水により殺菌処理を行って包装製品を製造する場合、上記のバリア性基材は、水蒸気バリア性に劣り、処理時にガスバリア性が著しく劣化し、更に、接着強度等も低下し、層間剥離（デラミ）等を起こし、また、その機械的強度の劣化等も引き起こし、上記のような殺菌処理方法には適さないものであるというのが実状である。
そこで、本発明は、上記のような事情に鑑みて、高いガスバリア性を安定して維持すると共に、特に、水蒸気バリア性を向上させ、かつ、良好な透明性、および、耐衝撃性、耐熱水性等を備えたバリア性フィルムおよびその製造法を提供することを目的とするものである。
However, in the barrier base material proposed in the
That is, as the contents to be filled and packaged, for example, when filling and packaging a liquid containing moisture, or a food or drink containing moisture, the gas barrier property is reduced due to the moisture vapor etc. of the contents, and during storage There is a problem that the quality of the contents deteriorates and changes.
In addition, depending on the food and drink to be filled and packaged, the packaged product may be manufactured by sterilizing with hot water by boil treatment or retort treatment after filling and packaging. The substrate has a problem that the gas barrier property is remarkably deteriorated during the treatment, and further, the adhesive strength and the like are lowered, the mechanical strength is deteriorated, and is not suitable for the sterilization treatment method as described above. .
Moreover, in the barrier base material proposed in the
Therefore, in view of the circumstances as described above, the present invention stably maintains high gas barrier properties, particularly improves water vapor barrier properties, and has good transparency, impact resistance, and hot water resistance. It aims at providing the barrier film provided with the above, and its manufacturing method.
本発明者は、上記のような課題を解決すべく種々検討の結果、まず、基材フィルムの一方の面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を設け、更に、該密着助剤層の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設け、他方、一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m （ただし、式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルーゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾルゲル法によって重縮合するガスバリア性組成物を調製し、次いで、上記の基材フィルムの一方の面に密着助剤層を介して設けた無機酸化物の蒸着膜の上に、上記のゾルゲル法によって重縮合するガスバリア性組成物を塗工して塗工膜を設け、しかる後、上記の塗工膜を設けた基材フィルムを、２０℃〜１８０℃で、かつ、上記の基材フィルムの融点以下の温度で１０秒〜１０分間加熱処理して、上記の基材フィルムの一方の面に密着助剤層を介して設けた無機酸化物の蒸着膜の上に、上記のガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を１層ないしそれ以上を形成したところ、極めて高いガスバリア性を安定して維持すると共に、良好な透明性、および、耐衝撃性、耐熱水性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を製造し得ることを見出して本発明を完成したものである。 As a result of various studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor first provided an adhesion assistant layer made of a vapor-deposited inorganic oxide film by chemical vapor deposition on one surface of the base film. Further, an inorganic oxide vapor-deposited film formed by physical vapor deposition is provided on the adhesion assistant layer. On the other hand, the general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 , R 2 represents an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents the valence of M. At least one alkoxide represented by the formula (1)), a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and a sol-gel catalyst, acid, water, and organic A gas barrier composition that is polycondensed by a sol-gel method in the presence of a solvent is prepared, A coating film obtained by applying the gas barrier composition polycondensed by the sol-gel method on the inorganic oxide vapor-deposited film provided on one surface of the base film via an adhesion aid layer. After that, the base film provided with the coating film is heat-treated at a temperature of 20 ° C. to 180 ° C. and a temperature not higher than the melting point of the base film for 10 seconds to 10 minutes. When one or more gas barrier coating films of the above gas barrier composition were formed on the inorganic oxide vapor-deposited film provided on one surface of the base film through an adhesion aid layer, The present invention finds that a barrier film having excellent transparency, impact resistance, hot water resistance, etc. and a laminate using the same can be produced while maintaining extremely high gas barrier properties stably. It has been completed.
すなわち、本発明は、基材フィルムの一方の面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を設け、次に、該密着助剤層の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の面上に、一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m （ただし、式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を１層ないしそれ以上設けることを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 That is, in the present invention, an adhesion assistant layer comprising an inorganic oxide vapor-deposited film formed by chemical vapor deposition is provided on one surface of a substrate film, and then a physical vapor is formed on the adhesion assistant layer. An inorganic oxide vapor-deposited film is provided by a phase growth method, and the general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 are Represents an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M. And a gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method, containing at least one alkoxide represented by formula (II)), a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer. A barrier property characterized by providing one or more gas barrier coating films by The present invention relates to a film and a laminated material using the film.
上記の本発明によれば、基材フィルムの一方の面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を介して、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設けるので、基材フィルムと物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜との密着は、極めて強固なものであり、その両者の密着性は、著しく向上し、その両者間での層間剥離（デラミ）等の現象は、全く認められないものである。
また、上記の本発明によれば、ガスバリア性塗布膜は、ポリビニルアルコール系樹脂又はエチレン・ビニルアルコール共重合体と１種以上のアルコキシドとが、相互に化学的に反応して、極めて強固な三次元網状複合ポリマ−層を構成し、而して、それと無機酸化物の蒸着膜とが相乗し、極めて高いガスバリア性を安定して維持するとともに、良好な透明性、および、耐衝撃性、耐熱水性等を備えたバリア性フィルムを製造し得ることができるものである。
特に、本発明においては、ポリビニルアルコール系樹脂とエチレン・ビニルアルコール共重合体とを併用する場合には、ポリビニルアルコール系樹脂と１種以上のアルコキシド、エチレン・ビニルアルコール共重合体と１種以上のアルコキシド、および、ポリビニルアルコール系樹脂とエチレン・ビニルアルコール共重合体との両者と１種以上のアルコキシドとが各々組み合わされて、極めて複雑なハイブリット状の強固な三次元網状複合ポリマ−層を構成し、而して、それらと無機酸化物の蒸着膜とが相乗して、更に極めて高いガスバリア性を安定して維持し、特に、酸素ガスバリア性と共に水蒸気バリア性が著しく向上し、かつ、良好な透明性、および、耐衝撃性、耐熱水性等を備えたバリア性フィルムを製造し得ることができるものである。
また、本発明において、ガスバリア性塗布膜を２層以上重層する場合には、無機酸化物の蒸着膜と２層以上のガスバリア性塗布膜からなる複合ポリマ−層とにより、上記と同様に、それらが相乗し、極めて高いガスバリア性を安定して維持するとともに、良好な透明性、および、耐衝撃性、耐熱水性等を備えたバリア性フィルムを製造し得ることができるものである。
According to the present invention, the inorganic oxide is deposited by physical vapor deposition on one surface of the base film through the adhesion aid layer composed of the inorganic oxide deposited film by chemical vapor deposition. Since the film is provided, the adhesion between the base film and the vapor-deposited film of the inorganic oxide by physical vapor deposition is extremely strong, and the adhesion between the two is remarkably improved, and the interlayer between the two is improved. Phenomena such as peeling (delamination) are not recognized at all.
In addition, according to the present invention, the gas barrier coating film has an extremely strong tertiary because a polyvinyl alcohol resin or ethylene / vinyl alcohol copolymer and one or more alkoxides chemically react with each other. The original network composite polymer layer is composed, and it is synergistic with the deposited film of inorganic oxide, maintaining a very high gas barrier property, and having good transparency, impact resistance and heat resistance. A barrier film having aqueous properties and the like can be produced.
In particular, in the present invention, when a polyvinyl alcohol-based resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer are used in combination, the polyvinyl alcohol-based resin and at least one alkoxide, the ethylene / vinyl alcohol copolymer, and at least one or more types are used. An alkoxide, a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and one or more alkoxides are combined to form an extremely complex, hybrid, strong three-dimensional network composite polymer layer. Therefore, they and the vapor-deposited films of inorganic oxides synergistically maintain an extremely high gas barrier property, and in particular, the oxygen gas barrier property and the water vapor barrier property are remarkably improved, and good transparency is achieved. Which can produce a barrier film having the property, impact resistance, hot water resistance, etc. That.
Further, in the present invention, when two or more gas barrier coating films are stacked, in the same manner as described above, an inorganic oxide vapor deposition film and a composite polymer layer comprising two or more gas barrier coating films are used. Synergistically, stably maintaining extremely high gas barrier properties, and capable of producing a barrier film having good transparency, impact resistance, hot water resistance, and the like.
本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材について以下に図面等を用いて更に詳しく説明する。
図１は、本発明に係るバリア性フィルムについてその層構成の一例を示す概略的断面図であり、図２、図３、および、図４は、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材についてその層構成の二三例を示す概略断面図である。
The barrier film and the laminate using the same according to the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of the barrier film according to the present invention, and FIGS. 2, 3, and 4 are laminated materials using the barrier film according to the present invention. It is a schematic sectional drawing which shows a few examples of the layer structure about.
まず、本発明に係るバリア性フィルムＡは、図１に示すように、基材フィルム１の一方の面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層２を設け、次に、該密着助剤層２の上に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜３を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜３の面上に、一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m （ただし、式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜４を１層ないしそれ以上設けた構成からなることを基本構造とするものである。
First, as shown in FIG. 1, the barrier film A according to the present invention is provided with an
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材についてその二三例を例示すると、まず、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材としては、図２に示すように、上記の図１に示す本発明に係るバリア性フィルムＡを構成するガスバリア性塗布膜４の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂層５とを積層した構成からなる本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材Ｂを例示することができる。
あるいは、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材としては、図３に示すように、上記の図１に示す本発明に係るバリア性フィルムＡを構成するガスバリア性塗布膜４の面に、中間基材６を介して、ヒ−トシ−ル性樹脂層５を積層した構成からなる本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材Ｂ1 を例示することができる。
更に、本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材としては、図４に示すように、上記の図１に示す本発明に係るバリア性フィルムＡを構成する基材フィルム１の他方の面に、更に、プラスチック基材７を積層し、また、本発明に係るバリア性フィルムＡを構成するガスバリア性塗布膜４の面に、ヒ−トシ−ル性樹脂層５を積層した構成からなる本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材Ｂ2 を例示することができる。
なお、上記の図２、図３、および、図４において、符号１、２、３、４、５等は、前述の図１に示す符号１、２、３、４、５等と同じ意味である。
Next, in the present invention, a few examples of the laminated material using the barrier film according to the present invention will be illustrated. First, as the laminated material using the barrier film according to the present invention, as shown in FIG. Further, the barrier property according to the present invention is constituted by laminating a heat
Alternatively, as a laminate using the barrier film according to the present invention, as shown in FIG. 3, on the surface of the gas
Furthermore, as a laminated material using the barrier film according to the present invention, as shown in FIG. 4, on the other surface of the
In FIGS. 2, 3, and 4, the
上記の例示は、本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材について、その二三例を例示したものであり、本発明はこれによって限定されるものではないものである。
例えば、本発明においては、図示しないが、更に、その使用目的、用途等によって、他の基材を任意に積層して、種々の形態からなる積層材を設計して製造することができるものである。
また、例えば、図示しないが、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、無機酸化物の蒸着膜の一層からなる単層膜のみならず無機酸化物の蒸着膜の２層以上からなる多層膜等から構成することもできるものである。
なお、本発明において、上記のような本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材を積層する方法としては、図示しないが、例えば、例えば、アンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層、ポリオレフィン系樹脂等を溶融押出した溶融押出樹脂層等を介して積層する溶融押出ラミネ−ト法、あるいは、例えば、ラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層等をを介して積層するドライラミネ−ト法、その他等により積層することができる。
The above examples illustrate a few examples of the barrier film according to the present invention and the laminated material using the same, and the present invention is not limited thereto.
For example, in the present invention, although not shown in the drawings, it is possible to design and manufacture laminated materials having various forms by arbitrarily laminating other base materials depending on the purpose of use and application. is there.
Further, for example, although not illustrated, in the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited film includes not only a single-layer film composed of one inorganic oxide vapor-deposited film but also two or more layers of inorganic oxide vapor-deposited films. It can also be composed of a multilayer film or the like.
In the present invention, as a method of laminating the laminate using the barrier film according to the present invention as described above, although not shown, for example, an anchor coat agent using an anchor coat agent is used. Layer, a melt extrusion laminating method in which a polyolefin resin is melt-extruded, a melt-extruded resin layer, or a laminating adhesive layer with a laminating adhesive layer, for example. Lamination can be performed by a dry lamination method or the like.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を使用して製袋した包装用袋についてその一例を挙げれば、かかる本発明に係る包装用袋としては、例えば、上記の図２に示す積層材Ｂを使用して製袋した包装用袋を例示して説明すると、図５に示すように、上記の積層材Ｂ、Ｂを２枚用意し、その最内層に位置するヒ−トシ−ル性樹脂層５、５の面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部の三方をヒ−トシ−ルしてヒ−トシ−ル部１１、１１、１１を形成すると共に開口部１２を形成して、本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を使用して製袋した本発明に係る三方シ−ル型の包装用袋Ｃを製造することができる。
Next, in the present invention, if one example is given of the packaging bag made using the barrier film according to the present invention and the laminate material using the barrier film, the packaging bag according to the present invention is, for example, An example of a packaging bag made using the laminated material B shown in FIG. 2 will be described. As shown in FIG. 5, two laminated materials B and B are prepared, and the innermost layer thereof is prepared. The heat-
而して、本発明においては、図６に示すように、上記で製造した本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を使用して製袋した本発明に係る三方シ−ル型の包装用袋Ｃを使用し、その開口部１２から、例えば、例えば、カレ−、シチュ−、ス−プ、ミ−トソ−ス、ハンバ−グ、ミ−トボ−ル、しゅうまい、おでん、その他等の所望の飲食品等の内容物１３を充填し、次いで、上方の開口部１２をヒ−トシ−ルして上方のシ−ル部１４等を形成して包装半製品Ｄを製造し、しかる後、該包装半製品Ｄを、例えば、温度、１１０℃〜１３０℃位、圧力、１〜３Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ位で２０〜６０分間程度加圧加熱殺菌処理等のレトルト処理等を施して、種々の形態からなるレトルト包装製品Ｅを製造することができるものである。
なお、本発明においては、上記のようなレトルト処理に代えて、例えば、９０℃位で３０分間位煮沸して加熱殺菌処理等を施して、殺菌処理包装製品を製造することもできるものである。
上記の例示は、本発明に係る包装用袋、それを使用した包装製品等についてその一例を例示したものであり、本発明は、これによって限定されるものではないものである。
例えば、本発明においては、本発明に係る包装用袋としては、上記に図示した例示の包装用袋の形状に限定されるものでないことは言うまでもないことであり、その目的、用途等により、四方シ−ル型、自立性型、ガゼット型、角底型、ピロ−型、その他等の種々の形態からなる包装用袋を製造することができるものである。
また、本発明においては、上記の図３、図４等に示す本発明に係るバリア性フィルムを使用した積層材を使用し、上記と同様にして、本発明に係る包装用袋、包装製品等を製造し得ることができるものである。
Thus, in the present invention, as shown in FIG. 6, the three-sided seal type according to the present invention produced by using the barrier film according to the present invention produced above and the laminate material using the same is produced. For example, curry, stew, soup, meat sauce, hamburger, meatball, sweet potato, oden, etc. Filling the
In addition, in this invention, it replaces with the above retort processes, for example, it can boil for about 30 minutes at about 90 degreeC, and can perform a heat sterilization process etc., and can also manufacture a sterilization treatment packaged product. .
The above illustration is an example of the packaging bag according to the present invention, a packaged product using the same, and the present invention is not limited thereto.
For example, in the present invention, it is needless to say that the packaging bag according to the present invention is not limited to the shape of the illustrated packaging bag illustrated above. A packaging bag having various forms such as a seal type, a self-supporting type, a gusset type, a square bottom type, a pillow type, and the like can be manufactured.
Further, in the present invention, a laminated material using the barrier film according to the present invention shown in FIGS. 3 and 4 is used, and in the same manner as described above, the packaging bag, the packaged product, and the like according to the present invention are used. Can be manufactured.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルム、積層材、包装用袋、包装製品等を構成する材料、製造法等について説明すると、まず、本発明に係るバリア性フィルムを構成する基材フィルムについて説明すると、かかる基材フィルムとしては、これが、本発明に係るバリア性フィルム構成する基本素材となること、更に、密着助剤層、無機酸化物の蒸着膜、あるいは、ガスバリア性塗布膜等を保持する基材であること等から、まず、それらの形成、加工等の条件に耐え、かつ、その特性を損なうことなくそれらを良好に保持し得ることができること、更に、包装用袋の製袋に際し、加工作業性、耐熱性、滑り性、耐ピンホ−ル性、その他等の諸物性に優れ、更に、その他等の条件を充足し得る樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリルル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン樹脂等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタ−ル系樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明においては、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
Next, in the present invention, the material constituting the barrier film, the laminated material, the packaging bag, the packaged product, etc. according to the present invention, the production method, etc. will be described. First, the base constituting the barrier film according to the present invention. The material film will be described. As such a base film, this is a basic material constituting the barrier film according to the present invention, and further, an adhesion aid layer, an inorganic oxide vapor deposition film, or a gas barrier coating film. Since it is a base material that holds etc., it can withstand the conditions of their formation, processing, etc., and can hold them well without impairing their properties. When making bags, use a resin film or sheet that excels in physical properties such as workability, heat resistance, slipperiness, pinhole resistance, etc., and that satisfies other conditions. It is possible.
In the present invention, specific examples of the resin film or sheet include polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins, cyclic polyolefin resins, polystyrene resins, acrylonitrile-styrene copolymer. Polyester such as coalescence (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), poly (meth) acrylic resin, polycarbonate resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate Films or sheets of various resins such as polyamide resins, polyamide resins such as various nylon resins, polyurethane resins, acetal resins, cellulose resins, and the like can be used.
In the present invention, it is particularly preferable to use a polyester resin, a polyolefin resin, or a polyamide resin film or sheet among the resin films or sheets.
本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、例えば、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、押し出し法、キャスト成形法、Ｔダイ法、切削法、インフレ−ション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、２種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、２種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、要すれば、例えば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利用して１軸ないし２軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの膜厚としては、６〜２００μｍ位、より好ましくは、９〜１００μｍ位が望ましい。
In the present invention, as the above-mentioned various resin films or sheets, for example, one or more of the above-mentioned various resins are used, and an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, an inflation method are used. -A method of forming the above-mentioned various resins independently using a film-forming method such as an ionization method or the like, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more types of various resins In addition, by using two or more kinds of resins, a film or sheet of various resins is manufactured by a method of mixing and forming before forming a film, and if necessary, for example, Various resin films or sheets formed by stretching in a uniaxial or biaxial direction using a tenter system, a tubular system, or the like can be used.
In the present invention, the film thickness of various resin films or sheets is preferably about 6 to 200 μm, more preferably about 9 to 100 μm.
なお、上記の各種の樹脂の１種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十％まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することがてきる。 It should be noted that one or more of the above-mentioned various resins are used, and in forming the film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying mold release properties, flame retardancy, antifungal properties, electrical properties, strength, etc. Can be optionally added from a very small amount to several tens of percent depending on the purpose. In the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, an antistatic agent, a pigment, and the like can be used. Furthermore, a modifying resin or the like can be used.
また、本発明において、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの表面は、無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を向上させるために、必要に応じて、予め、所望の表面処理層を設けることができるものである。
本発明において、上記の表面処理層としては、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理を任意に施し、例えば、コロナ処理層、オゾン処理層、プラズマ処理層、酸化処理層、その他等を形成して設けることができる。
上記の表面前処理は、各種の樹脂のフィルムないしシ−トと無機酸化物の蒸着膜との密接着性等を改善するための方法として実施するものであるが、上記の密接着性を改善する方法として、その他、例えば、各種の樹脂のフィルムないしシ−トの表面に、予め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、アンカ−コ−ト剤層、接着剤層、あるいは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成して、表面処理層とすることもできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンアルイハポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロ−ス系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。
In addition, in the present invention, the surface of various resin films or sheets may be coated with a desired surface treatment layer in advance, if necessary, in order to improve close adhesion with an inorganic oxide vapor deposition film. It can be provided.
In the present invention, as the surface treatment layer, for example, corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc., For example, a corona treatment layer, an ozone treatment layer, a plasma treatment layer, an oxidation treatment layer, or the like can be formed and provided by optionally performing other pretreatments.
The above-mentioned surface pretreatment is carried out as a method for improving the close adhesion between various resin films or sheets and the inorganic oxide vapor deposition film. In addition, for example, on the surface of various resin films or sheets, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, an anchor coat agent layer, an adhesive layer in advance. Alternatively, a surface treatment layer can be formed by arbitrarily forming a deposition anchor coating agent layer or the like. Examples of the pretreatment coating agent layer include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl acetate resins, A resin composition comprising a polyolefin resin such as polyethylene aly polypropylene or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like as a main component of the vehicle can be used.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを形成する化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層について説明すると、かかる密着助剤層としては、上記の基材フィルムの一方の面に設け、基材フィルムと後述する物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜との密着性を向上させるものであり、基材フィルムへの密着性と、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜への密着性等に優れ、終局的には、その両者を強固に密着させて、その層間剥離（デラミ）等の発生を防止するものである。 Next, in the present invention, a description will be given of an adhesion assistant layer comprising an inorganic oxide vapor-deposited film formed by a chemical vapor deposition method for forming the barrier film according to the present invention. It is provided on one surface of the material film to improve the adhesion between the substrate film and the inorganic oxide vapor-deposited film by physical vapor deposition described later. It is excellent in adhesion of the inorganic oxide to the vapor deposition film by the growth method, and finally, the two are firmly adhered to each other to prevent the occurrence of delamination or the like.
本発明において、上記の化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層について更に説明すると、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＣＶＤ法）等を用いて形成することができる。
本発明においては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスを原料とし、キャリヤ−ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。
In the present invention, the adhesion assistant layer comprising an inorganic oxide vapor deposition film formed by the chemical vapor deposition method will be further described. For example, it can be formed using a chemical vapor deposition method (chemical vapor deposition method, CVD method) such as a plasma chemical vapor deposition method, a thermal chemical vapor deposition method, a photochemical vapor deposition method, or the like.
In the present invention, specifically, a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound is used as a raw material on one surface of a base film, and an inert gas such as argon gas or helium gas is used as a carrier gas. Furthermore, an adhesion assistant layer made of a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide using a low-temperature plasma chemical vapor deposition method using oxygen gas or the like as an oxygen supply gas and utilizing a low-temperature plasma generator or the like Can be formed.
In the above, for example, a high-frequency plasma, a pulse wave plasma, a microwave plasma, or the like can be used as the low-temperature plasma generator. Thus, in the present invention, a highly active and stable plasma is obtained. For this purpose, it is desirable to use a high-frequency plasma generator.
具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層の形成法についてその一例を例示して説明すると、図７は、上記のプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層の形成法についてその概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である。
本発明においては、図７に示すように、プラズマ化学気相成長装置２１の真空チャンバ−２２内に配置された巻き出しロ−ル２３から基材フィルム１を繰り出し、更に、該基材フィルム１を、補助ロ−ル２４を介して所定の速度で冷却・電極ドラム２５周面上に搬送する。
而して、本発明においては、ガス供給装置２６、および、原料揮発供給装置２７等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス組成物を調整しなから原料供給ノズル２８を通して真空チャンバ−２２内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム２５周面上に搬送された基材フィルム１の上に、グロ−放電プラズマ２９によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を製膜化する。
本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム２５は、真空チャンバ−２２の外に配置されている電源（図示せず）から所定の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム２５の近傍には、マグネット３０を配置してプラズマの発生が促進されている。
次いで、上記で酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した基材フィルム１は、補助ロ−ル３１を介して巻き取りロ−ル３２に巻き取って、本発明にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を形成することができるものである。
なお、図示しないが、プラズマ化学気相成長装置２１には、真空ポンプ等が装着され、真空チャンバ−内の真空度が保持されるものである。
上記の例示は、その一例を例示するものであり、これによって本発明は限定されるものではないことは言うまでもないことである。
Specifically, an example of the method for forming an adhesion assistant layer made of an inorganic oxide vapor-deposited film by the low temperature plasma chemical vapor deposition method will be described. FIG. 7 shows the plasma chemical vapor deposition method described above. It is a schematic block diagram of the low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus which shows the outline | summary about the formation method of the adhesion | attachment adjuvant layer which consists of a vapor deposition film | membrane of an inorganic oxide by the method.
In the present invention, as shown in FIG. 7, the
Thus, in the present invention, oxygen gas, inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound, and the like are supplied from the
In the present invention, at that time, the cooling /
Next, the
Although not shown, the plasma chemical
The above exemplification is an example, and it is needless to say that the present invention is not limited thereby.
上記において、真空チャンバ−内を真空ポンプにより減圧し、真空度１×１０-1〜１×１０-8Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０-3〜１×１０-7Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましいものである。
また、原料揮発供給装置においては、原料である有機珪素化合物を揮発させ、ガス供給装置から供給される酸素ガス、不活性ガス等と混合させ、この混合ガスを原料供給ノズルを介して真空チャンバ−内に導入されるものである。
この場合、混合ガス中の有機珪素化合物の含有量は、１〜４０％位、酸素ガスの含有量は、１０〜７０％位、不活性ガスの含有量は、１０〜６０％位の範囲とすることができ、例えば、有機珪素化合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比を１：６：５〜１：１７：１４程度とすることができる。
一方、冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、真空チャンバ−内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロ−放電プラズマが生成され、このグロ−放電プラズマは、混合ガスなかの１つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態において、基材フィルムを一定速度で搬送させ、グロ−放電プラブマによって、冷却・電極ドラム周面上の基材フィルムの上に、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を形成することができるものである。
なお、このときの真空チャンバ−内の真空度は、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、真空度１×１０-1〜１×１０-2Ｔｏｒｒ位に調製することが望ましく、また、基材フィルムの搬送速度は、１０〜３００ｍ／分位、好ましくは、５０〜１５０ｍ／分位に調製することが望ましいものである。
In the above, the inside of the vacuum chamber is depressurized by a vacuum pump and adjusted to a vacuum degree of 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 Torr, preferably a vacuum degree of 1 × 10 −3 to 1 × 10 −7 Torr. It is desirable to do.
In the raw material volatilization supply device, the organic silicon compound as the raw material is volatilized and mixed with oxygen gas, inert gas, etc. supplied from the gas supply device, and this mixed gas is supplied to the vacuum chamber through the raw material supply nozzle. It is introduced in the inside.
In this case, the content of the organosilicon compound in the mixed gas is about 1 to 40%, the content of oxygen gas is about 10 to 70%, and the content of inert gas is about 10 to 60%. For example, the mixing ratio of the organosilicon compound, oxygen gas, and inert gas can be about 1: 6: 5 to 1:17:14.
On the other hand, since a predetermined voltage is applied to the cooling / electrode drum from the power source, glow discharge plasma is generated in the vicinity of the opening of the raw material supply nozzle in the vacuum chamber and the cooling / electrode drum. The glow discharge plasma is derived from one or more gas components in the mixed gas. In this state, the substrate film is conveyed at a constant speed, and the glow discharge plasma is used to cool the electrode drum peripheral surface. On the upper base film, an adhesion assistant layer made of a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed.
At this time, the degree of vacuum in the vacuum chamber should be adjusted to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −2 Torr. In addition, it is desirable that the conveying speed of the base film is adjusted to about 10 to 300 m / min, preferably about 50 to 150 m / min.
また、上記のプラズマ化学気相成長装置において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層の形成は、基材フィルムの上に、プラズマ化した原料ガスを酸素ガスで酸化しながらＳｉＯX の形で薄膜状に形成されるので、当該形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連続層となるものであり、従って、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜は、基材フィルムとの密着性にすぐれているものである。
また、本発明においては、ＳｉＯX プラズマにより基材フィルムの表面が、清浄化され、基材フィルムの表面に、極性基やフリ−ラジカル等が発生するので、形成される酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜と基材フィルムとの密接着性が高いものとなるという利点を有するものである。
更に、上記のように酸化珪素等の無機酸化物の連続膜の形成時の真空度は、１×１０-1〜１×１０-4Ｔｏｒｒ位、好ましくは、１×１０-1〜１×１０-2Ｔｏｒｒ位に調製することから、従来の真空蒸着法により酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜を形成する時の真空度、１×１０-4〜１×１０-5Ｔｏｒｒ位に比較して低真空度であることから、基材フィルムを原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度を安定しやすく、製膜プロセスが安定するものである。
In addition, in the plasma chemical vapor deposition apparatus described above, the formation of an adhesion assistant layer made of a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide is performed by oxidizing a plasma source gas with oxygen gas on a base film. However, since it is formed in a thin film shape in the form of SiO x , the formed deposited film of inorganic oxide such as silicon oxide is a dense, flexible continuous layer having few gaps, Therefore, a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide has excellent adhesion to the base film.
In the present invention, the surface of the base film is cleaned by SiO x plasma, and polar groups and free radicals are generated on the surface of the base film. This has the advantage that the tight adhesion between the deposited film of the product and the substrate film is high.
Furthermore, as described above, the degree of vacuum when forming a continuous film of an inorganic oxide such as silicon oxide is about 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably 1 × 10 −1 to 1 × 10. -2 Since it is prepared at the Torr position, the degree of vacuum when forming a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide by the conventional vacuum evaporation method is compared with the 1 × 10 −4 to 1 × 10 −5 Torr position. Since the degree of vacuum is low, it is possible to shorten the time for setting the vacuum state at the time of exchanging the base film, to easily stabilize the degree of vacuum, and to stabilize the film forming process.
本発明において、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスを使用して形成される酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層は、有機珪素化合物等の蒸着モノマ−ガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、基材フィルムの一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式ＳｉＯX （ただし、Ｘは、０〜２の数を表す）で表される酸化珪素を主体とする連続状の薄膜である。
而して、上記の酸化珪素の蒸着膜としては、透明性、密着性等の点から、一般式ＳｉＯX （ただし、Ｘは、１．３〜１．９の数を表す。）で表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましいものである。
なお、上記において、Ｘの値は、蒸着モノマ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等により変化するが、一般的に、Ｘの値が小さくなればガス透過度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。
In the present invention, the adhesion assistant layer composed of a vapor deposition film of silicon oxide formed using a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound is a chemical reaction between the vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound and oxygen gas. The reaction product is closely adhered to one surface of the base film to form a dense thin film having high flexibility, and is generally represented by the general formula SiO x (where X is 0 to 0). 2 is a continuous thin film mainly composed of silicon oxide.
Thus, the silicon oxide vapor-deposited film is represented by the general formula SiO x (where X represents a number from 1.3 to 1.9) in terms of transparency, adhesion, and the like. A thin film mainly composed of a deposited silicon oxide film is preferable.
In the above, the value of X varies depending on the molar ratio of vapor deposition monomer gas and oxygen gas, the energy of plasma, etc. In general, the gas permeability decreases as the value of X decreases, The film itself is yellowish and the transparency is poor.
また、上記の酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層は、酸化珪素を主体とし、これに、更に、炭素、水素、珪素または酸素の１種類、または、その２種類以上の元素からなる化合物を少なくとも１種類を化学結合等により含有する蒸着膜からなることを特徴とするものである。
例えば、Ｃ−Ｈ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｈ結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラ−レン状等になっている場合、更に、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。
具体例を挙げると、ＣＨ3 部位を持つハイドロカ−ボン、ＳｉＨ3 シリル、ＳｉＨ2 シリレン等のハイドロシリカ、ＳｉＨ2 ＯＨシラノ−ル等の水酸基誘導体等を挙げることができる。
上記以外でも、蒸着過程の条件等を変化させることにより、酸化珪素の蒸着膜中に含有される化合物の種類、量等を変化させることができる。
而して、上記の化合物が、酸化珪素の蒸着膜中に含有する含有量としては、０．１〜５０％位、好ましくは、５〜２０％位が望ましいものである。
上記において、含有率が、０．１％未満であると、酸化珪素の蒸着膜の耐衝撃性、延展性、柔軟性、密着性等が不十分となり、曲げなとにより、擦り傷、クラック等が発生し易く、高い密着性を安定して維持することが困難になり、また、５０％を越えると、酸化珪素の蒸着膜に副次的に期待するガスバリア性が低下して好ましくないものである。
更に、本発明においては、酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層において、上記の化合物の含有量が、酸化珪素の蒸着膜の表面から深さ方向に向かって増加させることが好ましく、これにより、酸化珪素の蒸着膜の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められると共に後述する物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜との親和性等が増してその密着性が高められ、他方、基材フィルムとの界面においては、上記の化合物の含有量が多いために、基材フィルムと酸化珪素の蒸着膜との密接着性が強固なものとなるという利点を有するものである。
In addition, the adhesion assistant layer composed of the above-described deposited film of silicon oxide is mainly composed of silicon oxide, and further, one kind of carbon, hydrogen, silicon or oxygen, or a compound comprising two or more kinds of elements thereof. It consists of the vapor deposition film | membrane which contains at least 1 type by a chemical bond etc.
For example, when a compound having a C—H bond, a compound having a Si—H bond, or a carbon unit is in the form of graphite, diamond, fullerene, etc. A derivative may be contained by a chemical bond or the like.
Specific examples include hydrocarbons having a CH 3 site, hydrosilica such as SiH 3 silyl, SiH 2 silylene, and hydroxyl derivatives such as SiH 2 OH silanol.
In addition to the above, the type, amount, etc., of the compound contained in the deposited film of silicon oxide can be changed by changing the conditions of the vapor deposition process.
Thus, the content of the above compound in the deposited film of silicon oxide is about 0.1 to 50%, preferably about 5 to 20%.
In the above, if the content is less than 0.1%, the impact resistance, spreadability, flexibility, adhesion, etc. of the deposited silicon oxide film are insufficient, and scratches, cracks, etc. are caused by bending. It tends to occur and it is difficult to stably maintain high adhesion, and if it exceeds 50%, the gas barrier property expected secondary to the deposited film of silicon oxide is undesirably lowered. .
Furthermore, in the present invention, it is preferable that the content of the above-mentioned compound is increased in the depth direction from the surface of the silicon oxide vapor deposition film in the adhesion aid layer composed of the silicon oxide vapor deposition film. On the surface of the silicon oxide vapor deposition film, the impact resistance and the like can be enhanced by the above-mentioned compounds and the like, and the affinity with the inorganic oxide vapor deposition film by the physical vapor deposition method, which will be described later, is increased and the adhesion is improved. On the other hand, at the interface with the base film, since the content of the above-mentioned compound is large, it has the advantage that the tight adhesion between the base film and the deposited silicon oxide film becomes strong It is.
而して、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜について、例えば、Ｘ線光電子分光装置（Ｘｒａｙ Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＸＰＳ）、二次イオン質量分析装置（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ Ｉｏｎ Ｍａｓｓ Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ、ＳＩＭＳ）等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を利用して、酸化珪素の蒸着膜の元素分析を行うことより、上記のような物性を確認することができる。
また、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚としては、膜厚３ｎｍ〜１０ｎｍ位であることが望ましく、具体的には、その膜厚としては、４ｎｍ〜８ｎｍ位が望ましく、而して、上記において、１０ｎｍ、更には、８ｎｍより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くなるので好ましくなく、また、４ｎｍ、更には、３ｎｍ未満であると、基材フィルムとの密着性等の効果を奏することが困難になることから好ましくないものである。
上記のおいて、その膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光Ｘ線分析装置（機種名、ＲＩＸ２０００型）を用いて、ファンダメンタルパラメ−タ−法で測定することができる。 また、上記において、上記の酸化珪素の蒸着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことができる。
Thus, in the present invention, the above-described deposited film of silicon oxide is subjected to surface analysis such as, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray), secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spectroscopy, SIMS), or the like. The physical properties as described above can be confirmed by conducting an elemental analysis of the deposited film of silicon oxide using a method of analyzing by ion etching in the depth direction using an apparatus.
In the present invention, the film thickness of the above-mentioned silicon oxide vapor deposition film is preferably about 3 nm to 10 nm, and specifically, the film thickness is preferably about 4 nm to 8 nm. In the above, if it is thicker than 10 nm, and more than 8 nm, it is not preferable because cracks and the like are likely to occur in the film. It is not preferable because it is difficult to achieve the above effects.
In the above, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name, RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. In the above, as means for changing the film thickness of the silicon oxide vapor deposition film, the volume velocity of the vapor deposition film is increased, that is, the method of increasing the amount of monomer gas and oxygen gas and the vapor deposition rate. This can be done by a method of slowing down.
次に、上記において、酸化珪素等の無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガスとしては、例えば、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。
本発明において、上記のような有機珪素化合物の中でも、１．１．３．３−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に、好ましい原料である。
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。
Next, in the above, as a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound for forming an adhesion assistant layer made of a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide, for example, 1.1.3.3-tetramethyl Disiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane , Tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc. can be used.
In the present invention, among the organic silicon compounds as described above, use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is easy to handle and formed continuous film. In view of the above characteristics and the like, it is a particularly preferable raw material.
Moreover, in the above, as an inert gas, argon gas, helium gas, etc. can be used, for example.
次に、本発明において、上記の物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜について更に詳しく説明すると、かかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンクラスタ−ビ−ム法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法、ＰＶＤ法）を用いて無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
本発明において、具体的には、金属または金属の酸化物を原料とし、これを加熱して蒸気化し、これを基材フィルムの一方の上に設けた化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層の上に蒸着する真空蒸着法、または、原料として金属または金属の酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フィルムの一方の上に設けた化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層の上に蒸着する酸化反応蒸着法、更に酸化反応をプラズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法等を用いて蒸着膜を形成することができる。
上記において、蒸着材料の加熱方式としては、例えば、抵抗加熱方式、高周波誘導加熱方式、エレクトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等にて行うことができる。
Next, in the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited film by the physical vapor deposition method will be described in more detail. Examples of the inorganic oxide vapor-deposited film by the physical vapor deposition method include, for example, vacuum vapor deposition and sputtering. A vapor deposition film of an inorganic oxide can be formed using a physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method, PVD method) such as a method, an ion plating method, or an ion cluster beam method.
In the present invention, specifically, vapor deposition of an inorganic oxide by chemical vapor deposition using a metal or a metal oxide as a raw material, heating and vaporizing it, and providing this on one of the base films A vacuum vapor deposition method that deposits on an adhesion aid layer consisting of a film, or a chemical vapor formed on one side of a base film by using a metal or metal oxide as a raw material and introducing oxygen to oxidize it. Vapor deposition film is formed using an oxidation reaction deposition method that deposits on the adhesion aid layer consisting of a vapor deposition film of inorganic oxide by phase growth method, and a plasma assisted oxidation reaction deposition method that further assists the oxidation reaction with plasma. can do.
In the above, as a heating method of the vapor deposition material, for example, a resistance heating method, a high frequency induction heating method, an electron beam heating method (EB), or the like can be used.
本発明において、物理気相成長法による無機酸化物の薄膜膜を形成する方法について、その具体例を挙げると、図８は、巻き取り式真空蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。
図８に示すように、巻き取り式真空蒸着装置４１の真空チャンバ−４２の中で、巻き出しロ−ル４３から繰り出す、前述のその一方の上に化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層を設けた基材フィルム１は、ガイドロ−ル４４を介して、冷却したコ−ティングドラム４５に案内される。
而して、上記の冷却したコ−ティングドラム４５上に案内された基材フィルム１の上にに設けた化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層の上に、るつぼ４６で熱せられた蒸着源４７、例えば、金属アルミニウム、あるいは、酸化アルミニウム等を蒸発させ、更に、必要ならば、酸素ガス吹出口４８より酸素ガス等を噴出し、これを供給しながら、マスク４９を介して、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を成膜化し、次いで、上記において、例えば、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜と密着助剤層とを形成した基材フィルム１を、ガイドロ−ル５０を介して送り出し、巻き取りロ−ル５１に巻き取ることによって、本発明にかかる物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
なお、上記において、蒸着源４７は、エレクトロンビ−ム銃５２等により電子線を照射するエレクトロンビ−ム加熱方式（ＥＢ）等により加熱される。
また、本発明においては、例えば、マグネトロンスパッタリング装置５３、５３等を配設し、これにより、例えば、基材フィルム１の一方の上に設けた化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層の面に、プラズマ処理を施してプラズマ処理面を形成し、その密着助剤層と酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜との密着性を向上させることができ、あるいは、蒸着後、更に、蒸着して製膜化した酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜の面に、プラズマ処理等を施してプラズマ処理面を形成し、後述するガスバリア性塗布膜との密着性を向上させることもできるものである。
なお、本発明においては、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、まず、第１層の無機酸化物の蒸着膜を形成し、次いで、同様にして、該無機酸化物の蒸着膜の上に、更に、無機酸化物の蒸着膜を形成するか、あるいは、上記のような巻き取り式真空蒸着装置を用いて、これを２連に連接し、連続的に、無機酸化物の蒸着膜を形成することにより、２層以上の多層膜からなる無機酸化物の蒸着膜を形成することができる。
而して、本発明においては、前述のように、化学気相成長法による酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層において、上記の有機系炭素化合物の含有量が、酸化珪素の蒸着膜の表面から深さ方向に向かって増加させることにより、酸化珪素の蒸着膜の表面においては、上記の化合物等により耐衝撃性等を高められると共に後述する物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜との親和性等が増してその密着性が高められ、他方、基材フィルムとの界面においては、上記の化合物の含有量が多いために、基材フィルムと酸化珪素の蒸着膜との密接着性が強固なものとなるという利点を有するものである。
In the present invention, a specific example of a method for forming a thin film of an inorganic oxide by physical vapor deposition will be described. FIG. 8 is a schematic configuration diagram showing an example of a take-up vacuum deposition apparatus.
As shown in FIG. 8, the inorganic oxide is deposited by chemical vapor deposition on one of the above-mentioned ones, which is fed out from the unwinding roll 43 in the vacuum chamber 42 of the wind-up type vacuum deposition apparatus 41. The
Thus, on the adhesion assistant layer made of the vapor-deposited film of the inorganic oxide by the chemical vapor deposition method provided on the
In the above, the vapor deposition source 47 is heated by an electron beam heating method (EB) or the like in which an electron beam is irradiated by an electron beam gun 52 or the like.
Further, in the present invention, for example, magnetron sputtering devices 53 and 53 are disposed, and thereby, for example, from an inorganic oxide vapor deposition film formed on one side of the
In the present invention, the first-layer inorganic oxide vapor deposition film is first formed using the above-described take-up vacuum vapor deposition apparatus, and then the inorganic oxide vapor deposition film is formed in the same manner. Further, an inorganic oxide vapor deposition film is formed on the substrate, or by using the above-described take-up vacuum vapor deposition apparatus, these are connected in series, and the inorganic oxide vapor deposition is continuously performed. By forming the film, it is possible to form an inorganic oxide vapor-deposited film composed of two or more multilayer films.
Thus, in the present invention, as described above, in the adhesion assistant layer composed of the silicon oxide vapor-deposited film by chemical vapor deposition, the content of the organic carbon compound is the same as that of the silicon oxide vapor-deposited film. By increasing the depth from the surface in the depth direction, the impact resistance and the like can be enhanced by the above-mentioned compounds on the surface of the silicon oxide vapor deposition film, and an inorganic oxide vapor deposition film by physical vapor deposition described later. The adhesion between the base film and the deposited film of silicon oxide is increased due to the high content of the above compound at the interface with the base film. It has the advantage that the property becomes strong.
上記において、金属または無機酸化物の蒸着膜としては、基本的には、金属の酸化物を蒸着した薄膜であれば使用可能であり、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、カリウム（Ｋ）、スズ（Ｓｎ）、ナトリウム（Ｎａ）、ホウ素（Ｂ）、チタン（Ｔｉ）、鉛（Ｐｂ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）等の金属の酸化物の蒸着膜を使用することができる。
而して、好ましいものとしては、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）等の金属の酸化物の蒸着膜を挙げることができる。
また、上記の金属の酸化物の蒸着膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシウム酸化物等のように金属酸化物として呼ぶことができ、その表記は、例えば、ＳｉＯX 、ＡｌＯX 、ＭｇＯX 等のようにＭＯX （ただし、式中、Ｍは、金属元素を表し、Ｘの値は、金属元素によってそれぞれ範囲がことなる。）で表される。
上記のＸの値の範囲としては、ケイ素（Ｓｉ）は、０〜２、アルミニウム（Ａｌ）は、０〜１．５、マグネシウム（Ｍｇ）は、０〜１、カルシウム（Ｃａ）は、０〜１、カリウム（Ｋ）は、０〜０．５、スズ（Ｓｎ）は、０〜２、ナトリウム（Ｎａ）は、０〜０．５、ホウ素（Ｂ）は、０〜１、５、チタン（Ｔｉ）は、０〜２、鉛（Ｐｂ）は、０〜１、ジルコニウム（Ｚｒ）は０〜２、イットリウム（Ｙ）は、０〜１．５の範囲の値をとることができる。
また、上記において、Ｘ＝０の場合、完全な金属であり、透明ではなく全く使用することができない、また、Ｘの範囲の上限は、完全に酸化した値である。
本発明において、一般的に、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）以外は、使用される例に乏しく、ケイ素（Ｓｉ）は、１．０〜２．０、アルミニウム（Ａｌ）は、０．５〜１．５の範囲の値のものを使用することができる。
本発明において、上記のような無機酸化物の蒸着膜の膜厚としては、使用する金属、または、金属の酸化物の種類等によって異なるが、例えば、５０〜２０００Å位、好ましくは、１００〜１０００Å位の範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
また、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜としては、使用する金属または金属の酸化物としては、１種または２種以上の混合物で使用し、異種の材質で混合した無機酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
In the above, as the deposited film of metal or inorganic oxide, basically, any thin film on which a metal oxide is deposited can be used. For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg ), Calcium (Ca), potassium (K), tin (Sn), sodium (Na), boron (B), titanium (Ti), lead (Pb), zirconium (Zr), yttrium (Y), etc. Oxide deposited films can be used.
Thus, preferable examples include vapor-deposited films of metal oxides such as silicon (Si) and aluminum (Al).
The metal oxide vapor deposition film can be referred to as a metal oxide such as silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, etc., and the notation thereof is, for example, SiO x , AlO x , MgO. MO X (in the formula, M represents a metal element, the value of X is in the range respectively of a metal element different.) as X, etc. represented by.
As the range of the value of X, 0 to 2 for silicon (Si), 0 to 1.5 for aluminum (Al), 0 to 1 for magnesium (Mg), 0 to 1 for calcium (Ca). 1, 0 to 0.5 for potassium (K), 0 to 2 for tin (Sn), 0 to 0.5 for sodium (Na), 0 to 1, 5 for boron (B), titanium ( Ti) can be 0 to 2, lead (Pb) is 0 to 1, zirconium (Zr) is 0 to 2, and yttrium (Y) is 0 to 1.5.
In the above, when X = 0, it is a complete metal and is not transparent and cannot be used at all. The upper limit of the range of X is a completely oxidized value.
In the present invention, generally, examples other than silicon (Si) and aluminum (Al) are scarcely used. Silicon (Si) is 1.0 to 2.0, and aluminum (Al) is 0.5. Those with values in the range of -1.5 can be used.
In the present invention, the film thickness of the inorganic oxide vapor-deposited film as described above varies depending on the metal used or the type of metal oxide, but is, for example, about 50 to 2000 mm, preferably 100 to 1000 mm. It is desirable to select and form arbitrarily within the range.
Moreover, in this invention, as a vapor deposition film of an inorganic oxide, as a metal or metal oxide to be used, it is used by 1 type, or 2 or more types of mixtures, and vapor deposition of the inorganic oxide mixed by the dissimilar material A membrane can also be constructed.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを形成するガスバリア性塗布膜について説明すると、かかるガスバリア性塗布膜としては、一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m （ただし、式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルーゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾルゲル法によって重縮合するガスバリア性組成物を調製する工程、上記の基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に、上記のゾルゲル法によって重縮合するガスバリア性組成物を塗工して塗工膜を設ける工程、上記の塗工膜を設けた基材フィルムを、２０℃〜１８０℃で、かつ、上記の基材フィルムの融点以下の温度で１０秒〜１０分間加熱処理して、上記の基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に、上記のガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を形成する工程等を包含する製造工程により製造することができる。 Next, in the present invention, the gas barrier coating film forming the barrier film according to the present invention will be described. As the gas barrier coating film, the general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein, R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents M At least one alkoxide represented by the formula (1)), a polyvinyl alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and a sol-gel catalyst, acid, water And a step of preparing a gas barrier composition that is polycondensed by a sol-gel method in the presence of an organic solvent, an adhesion assistant layer provided on one surface of the base film and an inorganic oxide vapor deposition film The above sol-gel method is used. The step of applying a gas barrier composition that undergoes polycondensation to provide a coating film, and the base film provided with the above-described coating film at 20 ° C. to 180 ° C. and below the melting point of the base film Gas barrier property by the above gas barrier property composition on the adhesion aid layer provided on one surface of the above base film and the vapor deposition film of the inorganic oxide by heating at a temperature of 10 seconds to 10 minutes. It can be manufactured by a manufacturing process including a process of forming a coating film.
あるいは、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを形成するガスバリア性塗布膜としては、一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m （ただし、式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルーゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾルゲル法によって重縮合するガスバリア性組成物を調製する工程、上記の基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に、上記のゾルゲル法によって重縮合するガスバリア性組成物を塗工して塗工膜を２層以上重層する工程、上記の２層以上重層した塗工膜を設けた基材フィルムを、２０℃〜１８０℃で、かつ、上記の基材フィルムの融点以下の温度で１０秒〜１０分間加熱処理して、上記の基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に、上記のガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を２層以上重層した複合ポリマ−層を形成する工程等を包含する製造工程により製造することができる。 Alternatively, in the present invention, the gas barrier coating film for forming the barrier film according to the present invention may be represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 have 1 carbon atom) -8 represents an organic group, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M. In the presence of a sol-gel catalyst, an acid, water, and an organic solvent, and at least one alkoxide, a polyvinyl alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer. Step of preparing a gas barrier composition that undergoes polycondensation by the sol-gel method, polycondensation by the above-mentioned sol-gel method on the adhesion aid layer provided on one surface of the above-mentioned base film and an inorganic oxide vapor-deposited film Apply a gas barrier composition The step of laminating two or more coating films, a base film provided with the above-mentioned two or more layers of coating films is 10 to 180 ° C. and a temperature not higher than the melting point of the base film. A gas barrier coating film made of the above gas barrier composition is applied onto the adhesion aid layer provided on one surface of the above base film and the vapor deposition film of the inorganic oxide by heating for 2 to 10 minutes. It can be produced by a production process including a process of forming a composite polymer layer in which more than one layer is laminated.
上記において、本発明にかかるガスバリア性フィルムを構成するガスバリア性塗布膜を形成する一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドとしては、アルコキシドの部分加水分解物、アルコキシドの加水分解縮合物の少なくとも1 種以上を使用することができ、また、上記のアルコキシドの部分加水分解物としては、アルコキシ基のすべてが加水分解されている必要はなく、１個以上が加水分解されているもの、および、その混合物であってもよく更に、加水分解の縮合物としては、部分加水分解アルコキシドの２量体以上のもの、具体的には、２〜６量体のものを使用される。 In the above, as the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m for forming the gas barrier coating film constituting the gas barrier film according to the present invention, a partial hydrolyzate of alkoxide, hydrolysis of alkoxide At least one kind of condensate can be used, and as the partial hydrolyzate of the above alkoxide, it is not necessary that all alkoxy groups are hydrolyzed, and at least one is hydrolyzed. In addition, the hydrolysis condensate may be a dimer or more of a partially hydrolyzed alkoxide, specifically, a 2 to 6 mer.
上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドにおいて、Ｍで表される金属原子としては、ケイ素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、その他等を使用することができる。
而して、本発明において、好ましい金属としては、例えば、ケイ素を挙げることができる。
また、本発明において、アルコキシドの用い方としては、単独又は２種以上の異なる金属原子のアルコキシドを同一溶液中に混合して使うこともできる。
In the alkoxide represented by the above general formula R 1 n M (OR 2 ) m , silicon, zirconium, titanium, aluminum, and the like can be used as the metal atom represented by M.
Thus, in the present invention, examples of a preferable metal include silicon.
In the present invention, the alkoxide can be used alone or in combination of two or more different metal atom alkoxides in the same solution.
また、上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドにおいて、Ｒ1 で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、その他等のアルキル基を挙げることができる。
また、上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドにおいて、Ｒ2 で表される有機基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、その他等を挙げることができる。
なお、本発明において、同一分子中にこれらのアルキル基は同一であっても、異なってもよい。
In the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , specific examples of the organic group represented by R 1 include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, i Examples thereof include alkyl groups such as -propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, n-octyl group and others.
In the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , specific examples of the organic group represented by R 2 include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, i -Propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, and the like.
In the present invention, these alkyl groups may be the same or different in the same molecule.
而して、本発明において、上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドとしては、例えば、ＭがＳｉであるアルコキシシランを使用することが好ましいものである。
上記のアルコキシシランとしては、一般式Ｓｉ（ＯＲa ）4 （ただし、式中、Ｒａは、低級アルキル基を表す。）で表されるものである。
上記において、Ｒａとしては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、その他等が用いられる。
上記のアルコキシシランの具体例としては、例えば、テトラメトキシシラン Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）4 、テトラエトキシシラン Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、テトラプロポキシシラン Ｓｉ（０Ｃ 3Ｈ7 ）4 、テトラブトキシシラン Ｓｉ（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、その他等を使用することができる。
Thus, in the present invention, as the alkoxide represented by the above general formula R 1 n M (OR 2 ) m , for example, it is preferable to use an alkoxysilane in which M is Si.
The alkoxysilane is represented by the general formula Si (ORa) 4 (wherein Ra represents a lower alkyl group).
In the above, Ra includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and the like.
Specific examples of the above alkoxysilane include, for example, tetramethoxysilane Si (OCH 3 ) 4 , tetraethoxysilane Si (OC 2 H 5 ) 4 , tetrapropoxysilane Si (0C 3 H 7 ) 4 , tetrabutoxysilane Si (OC 4 H 9 ) 4 , etc. can be used.
また、本発明において、上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドとしては、例えば、一般式Ｒｂn Ｓｉ（ＯＲｃ）4-m （ただし、式中、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１、２、３の整数を表し、Ｒｂ、Ｒｃは、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、その他を表わす。）で表されるアルキルアルコキシシランを使用することができる。
上記のアルキルアルコキシシランの具体例としては、例えば、メチルトリメトキシシラン ＣＨ3 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）3 、メチルトリエトキシシラン ＣＨ3 Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）3 、ジメチルジメトキシシラン （ＣＨ3 ）2 Ｓｉ（ＯＣＨ3 ）2 、ジメチルジエトキシシラン （ＣＨ3 ）2 Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 、その他等を使用することができる。
上記のアルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン等は、単独又は２種以上を混合しても用いることができる。
また、本発明において、上記のアルコキシシランの縮重合物も使用することができ、具体的には、例えば、ポリテトラメトキシシラン、ポリテトラエメトキシシラン、その他等を使用することができる。
In the present invention, examples of the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m include, for example, the general formula Rb n Si (ORc) 4-m (where n is 0 The above-mentioned integer is represented, m represents an integer of 1, 2, and 3, and Rb and Rc represent a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and the like. Alkoxysilanes can be used.
Specific examples of the above-mentioned alkylalkoxysilane include, for example, methyltrimethoxysilane CH 3 Si (OCH 3 ) 3 , methyltriethoxysilane CH 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , dimethyldimethoxysilane (CH 3 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , dimethyldiethoxysilane (CH 3 ) 2 Si (OC 2 H 5 ) 2 , etc. can be used.
Said alkoxysilane, alkylalkoxysilane, etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types.
In the present invention, a polycondensation product of the above alkoxysilane can also be used, and specifically, for example, polytetramethoxysilane, polytetraemethoxysilane, and the like can be used.
次に、本発明において、上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドとしては、例えば、ＭがＺｒであるジルコニウムアルコキシドを使用することができる。
上記のジルコニウムアルコキシドの具体例としては、例えば、テトラメトキシジルコニウム Ｚｒ（ＯＣＨ3 ）4 、テトラエトキシジルコニウム Ｚｒ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、テトラｉプロポキシジルコニウム Ｚｒ（ｉｓ０−０Ｃ 3Ｈ7 ）4 、テトラｎブトキシジルコニウム Ｚｒ（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、その他等を使用することができる。
Next, in the present invention, as the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , for example, a zirconium alkoxide in which M is Zr can be used.
Specific examples of the zirconium alkoxide include, for example, tetramethoxyzirconium Zr (OCH 3 ) 4 , tetraethoxyzirconium Zr (OC 2 H 5 ) 4 , tetra ipropoxyzirconium Zr (is0-0C 3 H 7 ) 4 , tetra n-Butoxyzirconium Zr (OC 4 H 9 ) 4 , etc. can be used.
また、本発明において、上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドとしては、例えば、ＭがＴｉであるチタニウムアルコキシドを使用することができる。
上記のチタニウムアルコキシドの具体例としては、例えば、テトラメトキシチタニウム Ｔｉ（ＯＣＨ3 ）4 、テトラエトキシチタニウム Ｔｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、テトライソプロポキシチタニウム Ｔｉ（ｉｓ０−０Ｃ 3Ｈ7 ）4 、テトラｎブトキシチタニウム Ｔｉ（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、その他等を使用することができる。
In the present invention, as the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , for example, a titanium alkoxide in which M is Ti can be used.
Specific examples of the titanium alkoxide include, for example, tetramethoxytitanium Ti (OCH 3 ) 4 , tetraethoxytitanium Ti (OC 2 H 5 ) 4 , tetraisopropoxytitanium Ti (is0-0C 3 H 7 ) 4 , tetra n-butoxy titanium Ti (OC 4 H 9 ) 4 , etc. can be used.
更に、本発明において、上記の一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m で表されるアルコキシドとしては、例えば、ＭがＡｌであるアルミニウムアルコキシドを使用することができる。
上記のアルミニウムアルコキシドの具体例としては、例えば、テトラメトキシアルミニウム Ａｌ（ＯＣＨ3 ）4 、テトラエトキシアルミニウム Ａｌ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 、テトライソプロポキシアルミニウム Ａｌ（ｉｓ０−０Ｃ 3Ｈ7 ）4 、テトラｎブトキシアルミニウム Ａｌ（ＯＣ4 Ｈ9 ）4 、その他等を使用することができる。
Furthermore, in the present invention, as the alkoxide represented by the above general formula R 1 n M (OR 2 ) m , for example, an aluminum alkoxide in which M is Al can be used.
Specific examples of the aluminum alkoxide include, for example, tetramethoxyaluminum Al (OCH 3 ) 4 , tetraethoxyaluminum Al (OC 2 H 5 ) 4 , tetraisopropoxyaluminum Al (is0-0C 3 H 7 ) 4 , tetra nButoxyaluminum Al (OC 4 H 9 ) 4 , etc. can be used.
なお、本発明においては、上記のようなアルコキシドは、その２種以上を混合して用いてもよいものである。
而して、本発明において、特に、アルコキシシランとジルコニウムアルコキシドを混合して用いることによって、得られるガスバリア性積層フィルムの靭性、耐熱性等を向上させることができ、また、延伸時のフィルムの耐レトルト性などの低下が回避されるものである。
上記のジルコニウムアルコキシドの使用量は、上記のアルコキシシラン１００重量部に対して１０重量部以下の範囲であり、好ましくは、約５重量部位が好ましいものである。 上記において、１０重量部を越えると、形成されるガスバリア性塗布膜が、ゲル化し易くなり、また、その膜の脆性が大きくなり、基材フィルムを被覆した際にガスバリア性塗布膜が剥離し易くなる傾向にあることから好ましくないものである。
In the present invention, the above alkoxides may be used as a mixture of two or more thereof.
Thus, in the present invention, in particular, by using a mixture of alkoxysilane and zirconium alkoxide, it is possible to improve the toughness, heat resistance, etc. of the resulting gas barrier laminate film, and to improve the resistance of the film during stretching. A decrease in retort property is avoided.
The amount of the zirconium alkoxide used is in the range of 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the alkoxysilane, preferably about 5 parts by weight. In the above, when the amount exceeds 10 parts by weight, the formed gas barrier coating film is easily gelled, and the brittleness of the film is increased, so that the gas barrier coating film is easily peeled off when the base film is coated. This is not preferable.
また、本発明において、特に、アルコキシシランとチタニウムアルコキシドを混合して用いることによって、得られるガスバリア性塗布膜の熱伝導率が低くなり、ガスバリア性積層フィルムの耐熱性が著しく向上するという利点がある。
上記において、チタニウムアルコキシドの使用量は、上記のアルコキシシラン１００重量部に対して５重量部以下の範囲であり、好ましくは、約３重量部位が好ましいものである。
上記において、５重量部を越えると、形成されるガスバリア性塗布膜の脆性が大きくなり、基材フィルムを被覆した際に、ガスバリア性塗布膜が剥離し易くなる傾向にあることから好ましくないものである。
In the present invention, in particular, by using a mixture of alkoxysilane and titanium alkoxide, there is an advantage that the heat conductivity of the obtained gas barrier coating film is lowered and the heat resistance of the gas barrier laminated film is remarkably improved. .
In the above, the amount of titanium alkoxide used is in the range of 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the alkoxysilane, and preferably about 3 parts by weight.
In the above, if it exceeds 5 parts by weight, the gas barrier coating film to be formed becomes more brittle, and when the base film is coated, the gas barrier coating film tends to peel off, which is not preferable. is there.
次に、本発明に係るバリア性フィルムを構成するガスバリア性塗布膜を形成するポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体としては、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、または、エチレン・ビニルアルコ一ル共重合体を単独で各々使用することができ、あるいは、ポリビニルアルコ一ル系樹脂およびエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを組み合わせて使用することができ、而して、本発明において、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体を使用することにより、ガスバリア性塗布膜のガスバリア性、耐水性、耐候性、その他等の物性を著しく向上させることができるものである。
特に、本発明において、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて使用することにより、上記のガスバリア性、耐水性、および耐候性等の物性に加えて、耐熱水性および熱水処理後のガスバリア性等に著しく優れたガスバリア性塗布膜を形成することができるものである。
Next, as the polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer forming the gas barrier coating film constituting the barrier film according to the present invention, polyvinyl alcohol resin or ethylene The vinyl alcohol copolymer can be used alone, or a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer can be used in combination. In the above, by using a polyvinyl alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, the physical properties such as gas barrier properties, water resistance, weather resistance, and the like of the gas barrier coating film can be remarkably improved. Is.
In particular, in the present invention, by using a combination of a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer, in addition to the above physical properties such as gas barrier properties, water resistance, and weather resistance, hot water resistance and hot water A gas barrier coating film remarkably excellent in gas barrier properties after the treatment can be formed.
本発明において、ポリビニルアルコ一ル系樹脂およびエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを組み合わせて使用する場合、それぞれの配合割合としては、重量比で、ポリビニルアルコ一ル系樹脂：エチレン・ビニルアルコ−ル共重合体＝10：０. ０５〜10：6 位であることが好ましく、更には、約10：1 位の配合割合で使用することが更に好ましいものである。 In the present invention, when a polyvinyl alcohol-based resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer are used in combination, the blending ratio of each is polyvinyl alcohol resin: ethylene / vinyl alcohol by weight ratio. The copolymer is preferably in the 10: 0.05 to 10: 6 position, and more preferably in a blending ratio of about 10: 1.
また、本発明において、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体との含有量は、上記のアルコキシドの合計量１００重量部に対して５〜５００重量部の範囲であり、好ましくは、約２０〜２００重量部位の配合割合でガスバリア性組成物を調製することが好ましいものである。
上記において、５００重量部を越えると、ガスバリア性塗布膜の脆性が大きくなり、得られるガスバリア性積層フィルムの耐水性および耐候性等も低下する傾向にあることから好ましくなく、更に、５重量部を下回るとガスバリア性が低下することから好ましくないものである。
In the present invention, the content of the polyvinyl alcohol-based resin and / or the ethylene / vinyl alcohol copolymer is in the range of 5 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the alkoxide, Preferably, it is preferable to prepare the gas barrier composition at a blending ratio of about 20 to 200 parts by weight.
In the above, if it exceeds 500 parts by weight, the brittleness of the gas barrier coating film is increased, and the water resistance and weather resistance of the resulting gas barrier laminated film tend to be lowered, which is not preferable. If it is below, the gas barrier property is lowered, which is not preferable.
本発明において、ポリビニルアルコ一ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体としては、まず、ポリビニルアルコ一ル系樹脂としては、一般に、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られるものを使用することができる。
上記のポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸基が数十％残存している部分ケン化ポリビニルアルコール系樹脂でも、もしくは、酢酸基が残存しない完全ケン化ポリビニルアルコールでも、あるいは、ＯＨ基が変性された変性ポリビニルアルコール系樹脂でもよく、特に限定されるものではない。
上記ポリビニルアルコール系樹脂の具体例としては、株式会社クラレ製のＲＳポリマーであるＲＳ−１１０（ケン化度＝９９％、重合度＝１，０００）、同社製のクラレポバールＬＭ−２０ＳＯ（ケン化度＝４０％、重合度＝２，０００）、日本合成化学工業株式会社製のゴーセノールＮＭ−１４（ケン化度＝９９％、重合度＝１，４００）等を使用することができる。
In the present invention, as the polyvinyl alcohol-based resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer, first, as the polyvinyl alcohol-based resin, generally obtained by saponifying polyvinyl acetate is used. be able to.
As the above-mentioned polyvinyl alcohol-based resin, partially saponified polyvinyl alcohol resin in which several tens of percent of acetic acid groups remain, or completely saponified polyvinyl alcohol in which acetic acid groups do not remain, or OH groups have been modified. A modified polyvinyl alcohol resin may be used and is not particularly limited.
Specific examples of the polyvinyl alcohol resin include RS-110 (saponification degree = 99%, polymerization degree = 1,000), an RS polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Kuraray Poval LM-20SO (saponification) manufactured by the same company. Degree = 40%, degree of polymerization = 2,000), Gohsenol NM-14 (degree of saponification = 99%, degree of polymerization = 1,400) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. can be used.
また、本発明において、エチレン・ビニルアルコール共重合体としては、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体のケン化物、すなわち、エチレン−酢酸ビニルランダム共重合体をケン化して得られるものを使用することができる。
具体的には、酢酸基が数十モル％残存している部分ケン化物から、酢酸基が数モル％しか残存していないかまたは酢酸基が残存しない完全ケン化物まで含み、特に限定されるものではないが、ガスバリア性の観点から好ましいケン化度は、８０モル％以上、より好ましくは、９０モル％以上、さらに好ましくは、９５モル％以上であるものを使用することが望ましいものである
また、上記のエチレン・ビニルアルコール共重合体中のエチレンに由来する繰り返し単位の含量（以下「エチレン含量」ともいう）は、通常、０〜５０モル％、好ましくは、２０〜４５モル％であるものを使用することが好ましいものである。
上記のエチレン・ビニルアルコール共重合体の具体例としては、株式会社クラレ製、エバールＥＰ−Ｆ１０１（エチレン含量；３２モル％）、日本合成化学工業株式会社製、ソアノールＤ２９０８（エチレン含量；２９モル％）等を使用することができる。
In the present invention, as the ethylene-vinyl alcohol copolymer, a saponified product of a copolymer of ethylene and vinyl acetate, that is, a product obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate random copolymer should be used. Can do.
Specific examples include partial saponification products in which several tens mol% of acetic acid groups remain to complete saponification products in which acetic acid groups remain only a few mol% or no acetic acid groups remain. However, it is desirable to use a saponification degree that is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and still more preferably 95 mol% or more from the viewpoint of gas barrier properties. The content of repeating units derived from ethylene in the ethylene / vinyl alcohol copolymer (hereinafter also referred to as “ethylene content”) is usually 0 to 50 mol%, preferably 20 to 45 mol%. Is preferably used.
Specific examples of the ethylene / vinyl alcohol copolymer include Kuraray Co., Ltd., Eval EP-F101 (ethylene content: 32 mol%), Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Soarnol D2908 (ethylene content: 29 mol%). ) Etc. can be used.
次に、本発明において、本発明に係るバリア性フィルムを構成するガスバリア性塗布膜を形成するガスバリア性組成物について説明すると、かかるガスバリア性組成物としては、前述のような一般式Ｒ1 n Ｍ（ＯＲ2 ）m （ただし、式中、Ｒ1 、Ｒ2 は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、上記のようなポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルーゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾルゲル法によって重縮合するガスバリア性組成物を調製するものである。 Next, in the present invention, the gas barrier composition for forming the gas barrier coating film constituting the barrier film according to the present invention will be described. As the gas barrier composition, the general formula R 1 n M as described above is used. (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, and m represents An integer of 1 or more, and n + m represents the valence of M.) and at least one alkoxide represented by the following formula: polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer In addition, a gas barrier composition which contains a coal and is polycondensed by a sol-gel method in the presence of a sol-gel method catalyst, an acid, water, and an organic solvent is prepared.
上記のガスバリア性組成物を調製するに際し、例えば、シランカップリング剤等も添加することができるものである。
而して、上記のシランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができる。
本発明においては、特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好適であり、それには、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、あるいは、β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を使用することができる。
上記のようなシランカップリング剤は、１種ないし２種以上を混合して用いてもよい。 本発明において、上記のようなシランカップリング剤の使用量は、上記のアルコキシシラン１００重量部に対して１〜２０重量部位の範囲内で使用することができる。
上記において、２０重量部以上を使用すると、形成されるガスバリア性塗布膜の剛性と脆性とが大きくなり、また、ガスバリア性塗布膜の絶縁性および加工性が低下する傾向にあることから好ましくないものである。
In preparing the gas barrier composition, for example, a silane coupling agent or the like can be added.
Thus, as the silane coupling agent, known organic reactive group-containing organoalkoxysilanes can be used.
In the present invention, an organoalkoxysilane having an epoxy group is particularly suitable. For example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, or β- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane or the like can be used.
The above silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more. In this invention, the usage-amount of the above silane coupling agents can be used within the range of 1-20 weight part with respect to 100 weight part of said alkoxysilane.
In the above, use of 20 parts by weight or more is not preferable because the gas barrier coating film to be formed has increased rigidity and brittleness, and the insulating property and workability of the gas barrier coating film tend to be lowered. It is.
次に、上記のガスバリア性組成物において用いられる、ゾルーゲル法触媒、主として、重縮合触媒としては、水に実質的に不溶であり、かつ有機溶媒に可溶な第三アミンが用いられる。
具体的には、例えば、Ｎ、Ｎ−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、その他等を使用することができる。
本発明においては、特に、Ｎ、Ｎ−ジメチルべンジルアミンが好適である。
その使用量は、アルコキシド、および、シランカップリング剤の合計量１００重量部当り、０．０１〜１．０重量部、好ましくは、約０．０３重量部位使用することが好ましいものである。
また、上記のガスバリア性組成物において用いられる、酸としては、上記ゾルーゲル法の触媒、主として、アルコキシドやシランカップリング剤などの加水分解のための触媒として用いられる。
上記の酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸などの鉱酸、ならびに、酢酸、酒石酸な等の有機酸、その他等を使用することができる。
上記の酸の使用量は、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分（例えばシリケート部分）の総モル量に対し０．００１〜０．０５モル位、好ましくは、約０．０１モル位を使用することが好ましいものである。
Next, as a sol-gel method catalyst, mainly a polycondensation catalyst, used in the gas barrier composition, a tertiary amine that is substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent is used.
Specifically, for example, N, N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, and the like can be used.
In the present invention, N, N-dimethylbenzylamine is particularly preferred.
The amount used is 0.01 to 1.0 part by weight, preferably about 0.03 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of alkoxide and silane coupling agent.
The acid used in the gas barrier composition is used as a catalyst for the sol-gel method, mainly as a catalyst for hydrolysis of an alkoxide, a silane coupling agent, or the like.
Examples of the acid include mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, organic acids such as acetic acid and tartaric acid, and the like.
The amount of the acid used is about 0.001 to 0.05 mol, preferably about 0.01 mol, relative to the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide content of the silane coupling agent (for example, silicate moiety). Is preferred.
更に、上記のガスバリア性組成物においては、上記のアルコキシドの合計モル量１モルに対して０．１〜１００モル、好ましくは、０．８から２モルの割合の水をもちいることができる。
上記の水の量が、２モルを越えると、上記のアルコキシシランと金属アルコキシドとから得られるポリマーが球状粒子となり、更に、この球状粒子同士が３次元的に架橋し、密度の低い、多孔性のポリマーとなり、而して、そのような多孔性のポリマーは、ガスバリア性積層フィルムのガスバリア性を改善することができなくなることから好ましくないものである。
また、上記の水の量が０．８モルを下回ると、加水分解反応が進行しにくくなる傾向にあることから好ましくないものである。
Furthermore, in the gas barrier composition, water can be used in a proportion of 0.1 to 100 mol, preferably 0.8 to 2 mol, relative to 1 mol of the total molar amount of the alkoxide.
When the amount of the water exceeds 2 mol, the polymer obtained from the alkoxysilane and the metal alkoxide becomes spherical particles, and the spherical particles are three-dimensionally cross-linked to form a porous material having a low density. Therefore, such a porous polymer is not preferable because the gas barrier property of the gas barrier laminate film cannot be improved.
On the other hand, if the amount of water is less than 0.8 mol, the hydrolysis reaction tends to hardly proceed, which is not preferable.
更にまた、上記のガスバリア性組成物において用いられる、有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、その他等を用いることができる。
更に、上記のガスバリア性組成物において、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体は、上記のアルコキシドやシランカップリング剤などを含む塗工液中で溶解した状態であることが好ましく、そのため上記の有機溶媒の種類が適宜選択されるものである。
ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて使用する場合には、ｎ−ブタノールを使用することが好ましい。
本発明において、溶媒中に可溶化されたエチレン・ビニルアルコール共重合体は、例えば、ソアノール（商品名）として市販されているものを使用することができる。
上記の有機溶媒の使用量は、通常、上記のアルコキシド、シランカップリング剤、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び/ 又はエチレン・ビニルアルコール共重合体、酸およびゾルーゲル法触媒の合計量１００重量部当り３０〜５００重量部位である。
Furthermore, as the organic solvent used in the gas barrier composition, for example, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, and the like can be used.
Furthermore, in the gas barrier composition, the polyvinyl alcohol-based resin and / or the ethylene / vinyl alcohol copolymer is in a state of being dissolved in a coating solution containing the alkoxide or the silane coupling agent. Therefore, the type of the organic solvent is appropriately selected.
In the case of using a combination of a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer, it is preferable to use n-butanol.
In the present invention, as the ethylene / vinyl alcohol copolymer solubilized in a solvent, for example, those commercially available as Soarnol (trade name) can be used.
The amount of the organic solvent used is usually 30 per 100 parts by weight of the total amount of the alkoxide, silane coupling agent, polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer, acid and sol-gel catalyst. ~ 500 parts by weight.
次に、本発明においては、本発明に係るバリア性フィルムは、具体的には、例えば、以下のようにして製造される。
まず、上記のアルコキシシラン等のアルコキシド、シランカップリング剤、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び/ 又はエチレン・ビニルアルコール共重合体、ゾルーゲル法触媒、酸、水、有機溶媒、および、必要に応じて、金属アルコキシド等を混合してガスバリア性組成物（塗工液）を調製する。
次に、上記のガスバリア性組成物（塗工液）中では次第に重縮合反応が進行する。
次いで、基材フィルムの一方の面に形成した密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に、常法により、上記のガスバリア性組成物（塗工液）を通常の方法で塗布し、乾燥する。 而して、上記の乾燥により、上記のアルコキシシラン等のアルコキシド、金属アルコキシド、シランカップリング剤およびポリビニルアルコール系樹脂及び/ 又はエチレン・ビニルアルコール共重合体等の重縮合が進行し、塗工膜が形成される。
更に、好ましくは、上記の塗布操作を繰り返して、２層以上からなる複数の塗工膜を積層する。
最後に、上記の塗工液を塗布した基材フィルムを２０℃〜１８０℃位で、かつ、基材フィルムの融点以下の温度、好ましくは、約５０℃〜１６０℃位の範囲の温度で、１０秒〜１０分間加熱処理して、基材フィルムの一方の面に形成した密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に、上記のガスバリア性組成物（塗工液）によるガスバリア性塗布膜を１層ないし２層以上形成して、本発明に係るバリア性フィルムを製造することができる。
このようにして得られた本発明に係るバリア性フィルムは、ガスバリア性に優れているものである。
Next, in the present invention, the barrier film according to the present invention is specifically produced as follows, for example.
First, an alkoxide such as alkoxysilane, a silane coupling agent, a polyvinyl alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, a sol-gel catalyst, an acid, water, an organic solvent, and, if necessary, A metal alkoxide or the like is mixed to prepare a gas barrier composition (coating liquid).
Next, a polycondensation reaction gradually proceeds in the gas barrier composition (coating liquid).
Next, the above gas barrier composition (coating liquid) is applied by a usual method on the adhesion aid layer formed on one surface of the base film and the inorganic oxide vapor-deposited film by a conventional method. ,dry. Thus, by the above drying, polycondensation of the alkoxide such as alkoxysilane, metal alkoxide, silane coupling agent, polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer proceeds, and the coating film Is formed.
Further, preferably, the above coating operation is repeated to laminate a plurality of coating films composed of two or more layers.
Finally, the base film coated with the above coating liquid is at a temperature of about 20 ° C. to 180 ° C. and a temperature below the melting point of the base film, preferably at a temperature in the range of about 50 ° C. to 160 ° C. Gas barrier property by the above gas barrier property composition (coating liquid) on the adhesion aid layer formed on one surface of the base film and the deposited film of the inorganic oxide by heat treatment for 10 seconds to 10 minutes. The barrier film according to the present invention can be produced by forming one or more coating films.
The barrier film according to the present invention thus obtained is excellent in gas barrier properties.
なお、本発明において、ポリビニルアルコール系樹脂の代わりに、エチレン・ビニルアルコール共重合体、あるいは、ポリビニルアルコール系樹脂とエチレン・ビニルアルコール共重合体との両者を用いて、上記と同様に、塗工、乾燥および加熱処理を行うことにより製造される本発明に係るバリア性フィルムにおいては、ボイル処理、レトルト処理等の熱水処理後のガスバリア性が更に向上するという利点を有するものである。 In the present invention, in place of the polyvinyl alcohol resin, an ethylene / vinyl alcohol copolymer, or both a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer are used in the same manner as described above. The barrier film according to the present invention produced by drying and heat treatment has an advantage that the gas barrier property after hot water treatment such as boil treatment and retort treatment is further improved.
更に、本発明においては、上記のようにエチレン・ビニルアルコール共重合体、あるいは、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて使用しない場合、すなわち、ポリビニルアルコール系樹脂のみを使用して、本発明に係るバリア性フィルムを製造する場合には、熱水処理後のガスバリアー性を向上させるために、例えば、予め、ポリビニルアルコール系樹脂を使用したガスバリア性組成物を塗工して第１の塗工層を形成し、次いで、その塗工層の上に、エチレン・ビニルアルコール共重合体を含有するガスバリア性組成物を塗工して第２の塗工層を形成し、それらの複合層を形成することにより、本発明に係るバリア性フィルムのガスバリア性を向上させることを可能とするものである。 Furthermore, in the present invention, as described above, when ethylene vinyl alcohol copolymer or polyvinyl alcohol resin and ethylene vinyl alcohol copolymer are not used in combination, that is, only polyvinyl alcohol resin is used. And when manufacturing the barrier film which concerns on this invention, in order to improve the gas barrier property after a hot-water process, for example, the gas barrier composition which used the polyvinyl alcohol-type resin beforehand is applied. Forming a first coating layer, and then coating a gas barrier composition containing an ethylene / vinyl alcohol copolymer on the coating layer to form a second coating layer, By forming these composite layers, the gas barrier property of the barrier film according to the present invention can be improved.
更にまた、上記のエチレン・ビニルアルコール共重合体を含有するガスバリア性組成物により形成される塗工層、または、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて含有するガスバリア性組成物により形成される塗工層を、複数層重層して形成することによっても、本発明に係るバリア性フィルムのガスバリア性の向上に有効な手段となるものである。 Furthermore, the coating layer formed by the gas barrier composition containing the above-mentioned ethylene / vinyl alcohol copolymer, or the gas barrier composition containing a combination of a polyvinyl alcohol-based resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer. Forming a plurality of coating layers formed of an object as a plurality of layers is also an effective means for improving the gas barrier properties of the barrier film according to the present invention.
次に、本発明に係るバリア性フィルムの製造法について、アルコキシドとして、アルコキシシランをする場合を事例としてその作用を説明すると、まず、アルコキシシランおよび金属アルコキシドは、添加された水によって、加水分解される。
その際、酸が加水分解の触媒となる。
次いで、ゾルーゲル法触媒の働きによって、生じた水酸基からプロトンが奪取され、加水分解生成物同士が脱水重縮合する。
このとき、酸触媒により同時にシランカップリング剤も加水分解されて、アルコキシ基が水酸基となる。
また、塩基触媒の働きにより、エポキシ基の開環も起こり、水酸基が生じる。
加水分解されたシランカップリング剤と加水分解されたアルコキシドとの重縮合反応も進行する。
さらに、反応系にはポリビニルアルコール系樹脂、または、エチレン・ビニルアルコール共重合体、または、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とが存在するため、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体が有する水酸基との反応も生じる。
生成する重縮合物は、例えば、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ、Ｓｉ−Ｏ−Ｚｒ、Ｓｉ−Ｏ−Ｔｉ、その他等の結合からなる無機質部分と、シランカップリング剤に起因する有機部分とを含有する複合ポリマーを構成する
上記の反応においては、例えば、下記の式（ＩＩＩ）に示される部分構造式を有し、更に、シランカップリング剤に起因する部分を有する直鎖状のポリマーがまず生成する。
このポリマーは、ＯＲ基（エトキシ基などのアルコキシ基）が、直鎖状のポリマーから分岐した形で有する。
このＯＲ基は、存在する酸が触媒となって加水分解されてＯＨ基となり、ゾルーゲル法触媒（塩基触媒）の働きにより、まず、ＯＨ基が、脱プロトン化し、次いで、重縮合が進行する。
すなわち、このＯＨ基が、下記の式（Ｉ）に示されるポリビニルアルコール系樹脂、または、下記の式（ＩＩ））に示されるエチレン・ビニルアルコール共重合体と重縮合反応し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を有する、例えば、下記の式（ＩＶ）に示される複合ポリマー、あるいは、下記の式（Ｖ）及び（ＶＩ）に示される共重合した複合ポリマーが生じると考えられるものである。
Next, the operation of the barrier film production method according to the present invention will be described with reference to the case of using alkoxysilane as an alkoxide. First, alkoxysilane and metal alkoxide are hydrolyzed by added water. The
At that time, the acid serves as a catalyst for hydrolysis.
Next, protons are taken from the generated hydroxyl groups by the action of the sol-gel method catalyst, and hydrolyzed products are dehydrated and polycondensed.
At this time, the silane coupling agent is simultaneously hydrolyzed by the acid catalyst, and the alkoxy group becomes a hydroxyl group.
In addition, due to the action of the base catalyst, ring opening of the epoxy group also occurs and a hydroxyl group is generated.
A polycondensation reaction between the hydrolyzed silane coupling agent and the hydrolyzed alkoxide also proceeds.
Furthermore, since the reaction system includes a polyvinyl alcohol resin, an ethylene / vinyl alcohol copolymer, or a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer, the polyvinyl alcohol resin and the ethylene / vinyl alcohol Reaction with the hydroxyl group of the copolymer also occurs.
The resulting polycondensate contains, for example, an inorganic part composed of bonds such as Si—O—Si, Si—O—Zr, Si—O—Ti, and the like, and an organic part derived from the silane coupling agent. In the above reaction constituting the composite polymer, for example, a linear polymer having a partial structural formula represented by the following formula (III) and further having a portion derived from the silane coupling agent is first formed. .
This polymer has an OR group (an alkoxy group such as an ethoxy group) branched from a linear polymer.
This OR group is hydrolyzed to become an OH group using an existing acid as a catalyst, and the OH group is first deprotonated by the action of a sol-gel method catalyst (base catalyst), and then polycondensation proceeds.
That is, this OH group undergoes a polycondensation reaction with a polyvinyl alcohol-based resin represented by the following formula (I) or an ethylene / vinyl alcohol copolymer represented by the following formula (II)), and Si—O— For example, it is considered that a composite polymer having a Si bond, for example, represented by the following formula (IV) or a copolymerized composite polymer represented by the following formulas (V) and (VI) is formed.
上記の反応は常温で進行し、ガスバリア性組成物（塗工液）は、調製中に粘度が増加する。
このガスバリア性組成物（塗工液）を、基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に塗布し、加熱して溶媒および重縮合反応により生成したアルコールを除去すると、重縮合反応が完結し、基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との上に透明な塗工層が形成される。
上記の塗工層を複数層積層する場合には、層間の塗工層中の複合ポリマー同士も縮合し、層と層との間が強固に結合する。
更に、シランカップリング剤の有機反応性基や、加水分解によって生じた水酸基が基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との表面の水酸基等と結合するため、基材フィルムの一方の面に設けた密着助剤層と無機酸化物の蒸着膜との表面と、塗工層との密着性、接着性等も良好なものとなるものである。
The above reaction proceeds at room temperature, and the viscosity of the gas barrier composition (coating liquid) increases during preparation.
This gas barrier composition (coating solution) is applied on the adhesion aid layer provided on one side of the base film and the inorganic oxide vapor deposition film, heated and produced by solvent and polycondensation reaction When the alcohol is removed, the polycondensation reaction is completed, and a transparent coating layer is formed on the adhesion aid layer provided on one surface of the base film and the inorganic oxide vapor deposition film.
In the case of laminating a plurality of the above-mentioned coating layers, the composite polymers in the coating layers between layers are also condensed, and the layers are firmly bonded to each other.
Furthermore, the organic reactive group of the silane coupling agent and the hydroxyl group generated by hydrolysis bind to the hydroxyl group on the surface of the adhesion aid layer provided on one surface of the base film and the inorganic oxide vapor deposition film. Therefore, adhesion between the surface of the adhesion assistant layer provided on one surface of the substrate film and the vapor deposition film of the inorganic oxide and the coating layer, adhesion, and the like are also good.
本発明の方法においては、添加される水の量が、アルコキシド類１モルに対して0.8 〜2 モル、好ましくは、1 ．5 モルに調節されているため、上記の直鎖状のポリマーが形成される。
このような直鎖状ポリマーは、結晶性を有し、非晶質部分の中に多数の微小の結晶が埋包された構造をとる。
このような結晶構造は、結晶性有機ポリマー（例えば、塩化ビニリデンやポリビニルアルコール）と同様であり、さらに極性基（OH基）が部分的に分子内に存在し、分子の凝集エネルギーが高く分子鎖剛性も高いため良好なガスバリアー性を示す。
In the method of the present invention, the amount of water added is 0.8 to 2 mol, preferably 1. Since it is adjusted to 5 moles, the above linear polymer is formed.
Such a linear polymer has crystallinity and has a structure in which a large number of minute crystals are embedded in an amorphous part.
Such a crystal structure is the same as that of a crystalline organic polymer (for example, vinylidene chloride or polyvinyl alcohol), and a polar group (OH group) is partially present in the molecule, and the molecular aggregation energy is high. Excellent gas barrier properties due to high rigidity.
本発明に係るバリア性フィルムは、上記のような優れた特性を有するので、包装材料として有用であり、特に、ガスバリア性（Ｏ2 、Ｎ2 、Ｈ2 Ｏ、ＣＯ2 、その他等の透過を遮断、阻止する）に優れるため、食品包装用フィルムを構成するバリア性基材として、好適に使用されるものである。
特に、Ｎ2 あるいは、ＣＯ2 ガス等を充填した、いわゆる、ガス充填包装に用いた場合には、その優れたガスバリア性が、充填ガスの保持に極めて有効となる。
更に、本発明に係るバリア性フィルムは、熱水処理、特に、高圧熱水処理（レトルト処理）に優れ、極めて優れたガスバリア性特性を示すものである。
Since the barrier film according to the present invention has the above-described excellent characteristics, it is useful as a packaging material. In particular, the barrier film (permeation of gas barrier properties (O 2 , N 2 , H 2 O, CO 2 , etc.) Therefore, it is preferably used as a barrier substrate constituting a food packaging film.
In particular, when used in so-called gas-filled packaging filled with N 2 or CO 2 gas, the excellent gas barrier property is extremely effective for holding the filled gas.
Furthermore, the barrier film according to the present invention is excellent in hot water treatment, particularly high-pressure hot water treatment (retort treatment), and exhibits extremely excellent gas barrier properties.
本発明においては、無機酸化物の蒸着膜とガスバリア性塗布膜とが、例えば、加水分解・共縮合反応による化学結合、水素結合、あるいは、配位結合などを形成し、無機酸化物の蒸着膜とガスバリア性塗布膜との密着性が向上し、その２層の相乗効果により、より良好なガスバリア性の効果を発揮し得るものである。
上記の本発明のガスバリア性組成物を塗布する方法としては、例えば、グラビアロ−ルコーターなどのロールコート、スプレーコート、スピンコ−ト、デイツピング、刷毛、バーコード、アプリケータ等の塗布手段により、１回あるいは複数回の塗布で、乾燥膜厚が、０．０１〜３０μｍ、好ましくは、０．１〜１０μｍ位の塗工膜を形成することができ、更に、通常の環境下、５０〜３００℃、好ましくは、７０〜２００℃の温度で、０．００５〜６０分間、好ましくは、０．０１〜１０分間、加熱・乾操することにより、縮合が行われ、本発明のガスバリア性塗布膜を形成することができる。
また、必要ならば、本発明のガスバリア性組成物を塗布する際に、予め、無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマー剤等を塗布することもできるものであり、また、コロナ放電処理あるいはプラズマ処理、その他等の前処理を任意に施すことができるものである。
In the present invention, the inorganic oxide vapor-deposited film and the gas barrier coating film form, for example, a chemical bond, a hydrogen bond, or a coordinate bond by hydrolysis / co-condensation reaction, and the like. And the gas barrier coating film can be improved, and the synergistic effect of the two layers can provide a better gas barrier effect.
As a method of applying the gas barrier composition of the present invention, for example, a roll coating such as a gravure roll coater, a spray coating, a spin coating, a dipping, a brush, a barcode, an applicator, etc. Alternatively, a coating film having a dry film thickness of 0.01 to 30 μm, preferably about 0.1 to 10 μm, can be formed by applying a plurality of times, and further, under a normal environment, 50 to 300 ° C., Preferably, condensation is performed by heating and drying at a temperature of 70 to 200 ° C. for 0.005 to 60 minutes, preferably 0.01 to 10 minutes, and the gas barrier coating film of the present invention is formed. can do.
If necessary, when applying the gas barrier composition of the present invention, a primer agent or the like can be applied on the inorganic oxide vapor-deposited film in advance, and corona discharge treatment or A pretreatment such as plasma treatment or the like can be optionally performed.
本発明は、以上において説明したように、例えば、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム等の基体フィルム、該基体フィルムの上に、密着助剤層、無機酸化物の蒸着膜、アルコキシシラン、ポリビニルアルコ−ル及び/ 又はエチレンビニルアルコ−ルコポリマ−、必要に応じてシランカップリング剤の添加からなるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜等を順次に設けて、本発明に係るバリア性フィルムを製造することができるものである。 In the present invention, as described above, for example, a base film such as a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, an adhesion aid layer, an inorganic oxide vapor deposition film, an alkoxysilane, A barrier film according to the present invention is provided by sequentially providing a polyvinyl alcohol and / or an ethylene vinyl alcohol polymer, and if necessary, a gas barrier coating film by a gas barrier composition comprising a silane coupling agent. It can be manufactured.
次に、本発明において、本発明に係る積層材を構成するヒ−トシ−ル性樹脂層について説明すると、かかるヒ−トシ−ル性樹脂層としては、熱によって溶融し相互に融着し得るものであればよく、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、その他等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂、その他等の樹脂の１種ないしそれ以上からなる樹脂のフィルムないしシ−トあるいはその塗布膜等を使用することができる。
上記の樹脂のフィルムないしシ−トは、単層ないし多層で使用することができ、また、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの厚さとしては、５μｍ〜３００μｍ位、好ましくは、１０μｍ〜１１０μｍ位が望ましい。
更に、本発明において、上記の樹脂のフィルムないしシ−トの厚さとしては、本発明に係る積層材を使用し、包装用袋の製袋時において、バリア性フィルムを構成する無機酸化物の蒸着膜に、擦り傷、あるいは、クラック等を発生するすることを防止するために、比較的に、その膜厚を厚くすることが好ましく、具体的には、４０μｍ〜１１０μｍ位、望ましくは、５０μｍ〜１００μｍ位であることが好ましいものである。
而して、本発明においては、上記のような樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、厚さ５０μｍ〜１００μｍ位の無延伸ポリプロピレンフィルムないしシ−トを使用することが好ましいものである。
Next, in the present invention, the heat-seal resin layer constituting the laminated material according to the present invention will be described. The heat-seal resin layer can be melted by heat and fused to each other. For example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate Polyolefin resin such as copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polyethylene or polypropylene, acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride Acid-modified polyolefin resin modified with unsaturated carboxylic acid such as fumaric acid, etc. , One or a film of a resin or sheet consisting of more resins other like - can be used bets or a coating film.
The resin film or sheet can be used in a single layer or multiple layers, and the thickness of the resin film or sheet is about 5 μm to 300 μm, preferably 10 μm to 110 μm. The position is desirable.
Furthermore, in the present invention, the thickness of the above-described resin film or sheet uses the laminated material according to the present invention, and the inorganic oxide constituting the barrier film at the time of making a packaging bag. In order to prevent the deposited film from being scratched or cracked, it is preferable to relatively increase its film thickness. Specifically, it is preferably about 40 μm to 110 μm, preferably 50 μm to A thickness of about 100 μm is preferable.
Thus, in the present invention, among the resin films or sheets as described above, it is particularly preferable to use an unstretched polypropylene film or sheet having a thickness of about 50 μm to 100 μm.
次にまた、本発明において、本発明に係る積層材を構成する中間基材としては、これが前述の基材フィルムと同様に、本発明に係る包装用袋を構成する基本ないし補助素材となることから、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた性質を有し、その強度に優れ、更に、耐熱性、防湿性、耐ピンホ−ル性、耐突き刺し性、透明性、その他等に優れた樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靱な樹脂のフィルムないしシ−トを使用することができる。
而して、上記の樹脂のフィルムないしシ−トとしては、未延伸フィルム、あるいは、一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。
また、本発明において、その樹脂のフィルムないしシ−トの厚さとしては、強度、耐突き刺し性、剛性、その他等について必要最低限に保持され得る厚さであればよく、厚すぎると、コストを上昇するとい欠点もあり、逆に、薄すぎると、強度、耐突き刺し性、剛性、その他等が低下して好ましくないものである。
本発明においては、上記のような理由から、約１０μｍないし１００μｍ位、好ましくは、約１２μｍないし５０μｍ位が最も望ましい。
而して、本発明においては、上記のような樹脂のフィルムないしシ−トの中でも、特に、厚さ１５μｍ〜３０μｍ位の２軸延伸ポリアミド系樹脂フィルムを使用することが好ましいものである。
Next, in the present invention, as an intermediate substrate constituting the laminated material according to the present invention, this is the basic or auxiliary material constituting the packaging bag according to the present invention, as with the aforementioned base film. From mechanical properties, physical properties, chemical properties, etc., excellent strength, excellent strength, heat resistance, moisture resistance, pinhole resistance, puncture resistance, transparency, etc. An excellent resin film or sheet can be used.
Specifically, for example, a film of tough resin such as polyester resin, polyamide resin, polyaramid resin, polypropylene resin, polycarbonate resin, polyacetal resin, fluorine resin, or the like. A sheet can be used.
Thus, as the resin film or sheet, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.
In the present invention, the thickness of the resin film or sheet may be a thickness that can be kept to the minimum necessary for strength, puncture resistance, rigidity, and the like. On the other hand, if it is too thin, the strength, puncture resistance, rigidity, etc. are lowered, which is not preferable.
In the present invention, for the reasons described above, about 10 μm to 100 μm, preferably about 12 μm to 50 μm is most desirable.
Thus, in the present invention, among the resin films or sheets as described above, it is particularly preferable to use a biaxially stretched polyamide resin film having a thickness of about 15 μm to 30 μm.
次に、本発明において、本発明に係る積層材を構成するプラスチック基材について説明すると、かかるプラスチック基材としては、これが、本発明に係る包装用袋を構成する基本素材ないし補助素材となることから、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた強度を有し、更に、耐突き刺し性等に優れ、その他、耐熱性、防湿性、耐ピンホール性、透明性、その他等に優れた樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン樹脂等のポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靭な樹脂のフィルムないしシートを使用することができる。
上記において、上記の樹脂のフィルムないしシートとしては、未延伸フィルム、あるいは一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。
また、本発明において、その樹脂のフィルムないしシートの厚さとしては、強度、耐突き刺し性、その他等について、必要最低限に保持され得る厚さであればよく、厚すぎると、コストを上昇するとい欠点もあり、逆に、薄すぎると、強度、耐突き刺し性、その他等が低下して好ましくないものである。
本発明においては、上記のような理由から、約９μm ないし１００μm 位、好ましくは、約１２μm ないし５０μm 位が最も望ましい。
なお、本発明において、上記のプラスチック基材の表面および／または裏面には、所望の印刷模様層等を設けることができるものである。
Next, in the present invention, the plastic substrate constituting the laminated material according to the present invention will be described. As such a plastic substrate, this is the basic material or auxiliary material constituting the packaging bag according to the present invention. Excellent mechanical, physical, chemical, etc. In addition, it has excellent puncture resistance, etc., as well as excellent heat resistance, moisture resistance, pinhole resistance, transparency, etc. Resin films or sheets can be used.
Specifically, for example, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyamide resins such as various nylon resins, polyaramid resins, polypropylene resins, polyethylene resins, polycarbonate resins, polyacetal resins, fluorine A film or sheet of a tough resin such as a resin or the like can be used.
In the above, as the resin film or sheet, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.
In the present invention, the thickness of the resin film or sheet may be a thickness that can be kept to the minimum necessary for strength, puncture resistance, and the like. If it is too thick, the cost increases. On the other hand, if it is too thin, the strength, puncture resistance, and the like are undesirably lowered.
In the present invention, about 9 μm to 100 μm, preferably about 12 μm to 50 μm is the most desirable for the reasons described above.
In the present invention, a desired printed pattern layer or the like can be provided on the front surface and / or back surface of the plastic substrate.
ところで、通常、包装用袋は、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、包装用袋を構成する積層材には、厳しい包装適性が要求され、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために、本発明においては、上記のような材料の他に、上記のような諸条件を充足するその他の材料を任意に使用することができ、具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ系樹脂）、アクリロニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体（ＡＢＳ系樹脂）、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセタ−ル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロ−ス、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシ−トを任意に選択して使用することができる。
その他、例えば、合成紙等も使用することができる。
本発明において、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。
また、その厚さは、任意であるが、数μｍから３００μｍ位の範囲から選択して使用することができる。
更に、本発明においては、フィルムないしシ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
By the way, since packaging bags are usually subjected to severe physical and chemical conditions, the laminated materials constituting the packaging bags are required to have strict packaging suitability, deformation prevention strength, drop impact. Various conditions such as strength, pinhole resistance, heat resistance, sealability, quality maintenance, workability, hygiene, etc. are required. For this reason, in the present invention, in addition to the above materials, In addition, other materials satisfying the above-mentioned conditions can be arbitrarily used. Specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, Ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, Ten polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene Resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin , Saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, etc. Can be used.
In addition, for example, synthetic paper or the like can also be used.
In the present invention, the above-described film or sheet may be any of unstretched, uniaxially or biaxially stretched.
The thickness is arbitrary, but can be selected from a range of several μm to 300 μm.
Furthermore, in the present invention, the film or sheet may be a film having any property such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.
特に、本発明において、その他の基材としては、例えば、水蒸気、水等の透過を阻止するバリア性を有する低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシ−ト、樹脂に顔料等の着色剤を、その他、所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシ−ト等を使用することができる。
これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。
また、上記のフィルムないしシ−トの厚さとしては、任意であるが、通常、５μｍないし３００μｍ位、更には、１０μｍないし１００μｍ位が望ましい。
In particular, in the present invention, as other base materials, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene having a barrier property to prevent permeation of water vapor, water, etc. -Films or sheets of resins such as propylene copolymers, and various colored resin films having light-shielding properties obtained by adding a colorant such as a pigment to the resin and kneading the resin with a desired additive. Or a sheet or the like can be used.
These materials can be used alone or in combination.
The thickness of the film or sheet is arbitrary, but is usually about 5 μm to 300 μm, more preferably about 10 μm to 100 μm.
なお、本発明において、本発明に係るバリア性フィルム、積層材等を構成する上記のような基材のいずれかの片面あるいは両面には、例えば、文字、図形、記号、模様、その他等からなる所望の印刷模様を印刷して、印刷模様層を形成することができるものである。 上記の印刷模様層としては、通常のインキビヒクルの１種ないし２種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤、その他等の添加剤の１種ないし２種以上を任意に添加し、更に、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調整し、次いで、該インキ組成物を使用し、例えば、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷、スクリ−ン印刷、転写印刷、フレキソ印刷、その他等の印刷方式を使用し、上記の基材フィルムの片面に、文字、図形、記号、模様、その他等からなる所望の印刷模様を印刷して、本発明にかかる印刷模様層を形成することができるものである。 In the present invention, on one side or both sides of the above-mentioned base material constituting the barrier film, laminated material or the like according to the present invention, for example, it consists of characters, figures, symbols, patterns, etc. A desired printed pattern can be printed to form a printed pattern layer. The printed pattern layer is mainly composed of one or more ordinary ink vehicles, and if necessary, a plasticizer, a stabilizer, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a curing agent. One or more additives such as additives, crosslinking agents, lubricants, antistatic agents, fillers, etc. are optionally added, and colorants such as dyes and pigments are added, and solvents, diluents, etc. Kneaded sufficiently to prepare an ink composition, and then the ink composition is used. For example, gravure printing, offset printing, letterpress printing, screen printing, transfer printing, flexographic printing, etc. Can be used to form a printed pattern layer according to the present invention by printing a desired printed pattern consisting of characters, figures, symbols, patterns, etc. on one side of the base film. .
上記において、インキビヒクルとしては、公知のもの、例えば、あまに油、きり油、大豆油、炭化水素油、ロジン、ロジンエステル、ロジン変性樹脂、シェラック、アルキッド樹脂、フェノ−ル系樹脂、マレイン酸樹脂、天然樹脂、炭化水素樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂、アクリルまたはメタクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アミノアルキッド系樹脂、ニトロセルロ−ス、エチルセルロ−ス、塩化ゴム、環化ゴム、その他等の１種ないし２種以上を使用することができる。 In the above, as the ink vehicle, known ones such as sesame oil, drill oil, soybean oil, hydrocarbon oil, rosin, rosin ester, rosin modified resin, shellac, alkyd resin, phenolic resin, maleic acid Resin, natural resin, hydrocarbon resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, acrylic or methacrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polyurethane resin, One or more of epoxy resins, urea resins, melamine resins, aminoalkyd resins, nitrocellulose, ethyl cellulose, chlorinated rubber, cyclized rubber, etc. can be used.
また、本発明において、本発明に係る積層材を形成するラミネート用接着剤層を構成するラミネート用接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2 −エチルヘキシルエステル等のホモポリマー、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマーとの共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロース系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型（メタ）アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレンーブタジェンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコーン系接着剤、アルカリ金属シリケート、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することがてきる。
上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シート状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。
而して、本発明においては、積層する両者の一方の面に、上記のラミネート用接着剤を、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法、その他等のコート法、あるいは、印刷法等によって施し、次いで、溶剤等を乾燥させてラミネート用接着剤層を形成すことができ、そのコーティングないし印刷量としては、０．１〜１０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）位が望ましい。
In the present invention, examples of the laminating adhesive constituting the laminating adhesive layer forming the laminated material according to the present invention include, for example, polyvinyl acetate adhesive, ethyl acrylate, butyl, 2-ethylhexyl ester Homopolymers such as these, or polyacrylate adhesives, cyanoacrylate adhesives, ethylene and vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, and the like, and copolymers thereof with methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc. , Ethylene copolymer adhesives composed of copolymers with monomers such as methacrylic acid, cellulose adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, polyimide adhesives, amino acids composed of urea resins or melamine resins, etc. Resin adhesives, phenol resin adhesives, epoxy adhesives, Urethane adhesive, reactive (meth) acrylic adhesive, chloroprene rubber, nitrile rubber, rubber adhesive made of styrene-butadiene rubber, silicone adhesive, alkali metal silicate, low melting glass, etc. Adhesives such as system adhesives and others can be used.
The composition system of the above-mentioned adhesive may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the property is any of film / sheet form, powder form, solid form, etc. Further, the bonding mechanism may be any of a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, and a hot pressure type.
Thus, in the present invention, the above laminating adhesive is applied to one side of both of the laminated layers, for example, a coating method such as a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, or the like, or a printing method. Then, the solvent or the like is dried to form an adhesive layer for laminating, and the coating or printing amount is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).
また、本発明において、本発明に係る積層材を形成するアンカ−コ−ト剤層を構成するアンカ−コ−ト剤としては、例えば、イソシアネ−ト系（ウレタン系）、ポリエチレンイミン系、ポリブタジェン系、有機チタン系、その他等のアンカ−コ−ティング剤を使用することができる。
更に、本発明において、溶融押出ラミネ−ト法における溶融押出樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、メタロセン系触媒を使用して重合したエチレンーα・オレフイン共重合体、ポリプロピレン、エチレンー酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレンーアクリル酸エチル共重合体、エチレンーアクリル酸共重合体、エチレンーメタクリル酸共重合体、エチレンープロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフイン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマール酸、その他等の不飽和カルポン酸で変性した酸変性ポリオレフイン系樹脂、その他等を使用することができる。
なお、本発明において、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、積層する基材等の表面に、例えば、コロナ処理、オゾン処理、フレーム処理等の前処理を任意に施すことができる。
In the present invention, examples of the anchor coating agent constituting the anchor coating agent layer forming the laminated material according to the present invention include isocyanate (urethane), polyethyleneimine, and polybutadiene. Anchor coating agents such as those based on organic, organic titanium, etc. can be used.
Furthermore, in the present invention, as the melt-extruded resin in the melt-extrusion laminating method, for example, a low density polyethylene, a medium density polyethylene, a high density polyethylene, a linear (linear) low density polyethylene, or a metallocene catalyst is used. Polymerized ethylene-α-olefin copolymer, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene- Acid-modified polyolefin resins such as propylene copolymer, methylpentene polymer, polyethylene, polypropylene, etc. modified with unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc., etc. Can be used.
In the present invention, when performing the above lamination, if necessary, for example, pretreatment such as corona treatment, ozone treatment, frame treatment, etc. can be optionally applied to the surface of the substrate to be laminated. .
ところで、本発明において、上記のようなアンカ−コ−ト剤層を形成するアンカ−コ−ト剤、および、ラミネ−ト用接着剤層を形成するラミネ−ト用接着剤としては、例えば、トリレンジイソシアナ−ト、ジフェニルメタンジイソシアナ−ト、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナ−ト等の芳香族ポリイソシアナ−ト、あるいは、ヘキサメチレンジイソシアナ−ト、キシリレンジイソシアナ−ト等の脂肪族ポリイソシアナ−ト等の多官能イソシアネ−トと、ポリエ−テル系ポリオ−ル、ポリエステル系ポリオ−ル、ポリアクリレ−トポリオ−ル等のヒドロキシル基含有化合物との反応により得られるポリエ−テルポリウレタン系樹脂、ポリエステル系ポリウレタン系樹脂、または、ポリアクリレ−トポリウレタン系樹脂を主成分とするアンカ−コ−ト剤、あるいは、ラミネ−ト用接着剤を使用することが望ましいものである。
而して、上記のようなアンカ−コ−ト剤、あるいは、ラミネ−ト用接着剤を使用して形成してなるアンカ−コ−ト剤層、あるいは、ラミネ−ト用接着剤層は、柔らかく、柔軟性に富み、かつ、屈曲性に富む薄膜を形成することができ、その引っ張り伸長度を向上させ、無機酸化物の蒸着膜に対し柔軟性、屈曲性等を有する被膜として作用し、例えば、ラミネ−ト加工、印刷加工、あるいは、製袋加工等の後加工時における無機酸化物の蒸着膜の後加工適性を向上させ、後加工時における無機酸化物の蒸着膜へのクラック等の発生等を防止するものである。
ちなみに、本発明において、上記のようなアンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層および／またはラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層は、ＪＩＳ規格Ｋ７１１３に基づいて、１００〜３００％の範囲からなる引っ張り伸度を有するものである。
而して、本発明においては、上記のようなアンカ−コ−ト剤によるアンカ−コ−ト剤層および／またはラミネ−ト用接着剤によるラミネ−ト用接着剤層の引っ張り伸度、その他により、バリア性フィルムと、ヒ−トシ−ル性樹脂層との密接着性を向上させ、これにより、無機酸化物の蒸着膜へのクラック等の発生を防止し、そのラミネ−ト強度等を高めるものである。
上記において、引っ張り伸度が、１００％未満であると、積層材としての柔軟性がなくなり、無機酸化物の蒸着膜へのクラック等が発生し易くなることから好ましくなく、また、引っ張り伸度が、３００％を越えると、アンカ−コ−ト剤、あるいは、ラミネ−ト用接着剤等としての接着性の強度が十分でなく、要求されるラミネ−ト強度が発現されにくくなることから好ましくないものである。
By the way, in the present invention, as the anchor coat agent for forming the anchor coat layer as described above and the adhesive for laminate forming the laminate adhesive layer, for example, Aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, or aliphatic such as hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate A polyether polyurethane resin obtained by reacting a polyfunctional isocyanate such as polyisocyanate with a hydroxyl group-containing compound such as polyether polyol, polyester polyol or polyacrylate polyol, Mainly polyester-based polyurethane resin or polyacrylate polyurethane-based resin Lanka - co - DOO agents, or laminating - those it is desirable to use the preparative adhesive.
Thus, the anchor coat agent layer or the laminate adhesive layer formed by using the anchor coat agent or the laminating adhesive as described above, A soft, flexible and flexible thin film can be formed, its tensile elongation is improved, and it acts as a film having flexibility, flexibility, etc. on the inorganic oxide deposited film, For example, improving the post-processing suitability of the inorganic oxide vapor-deposited film at the time of post-processing such as laminating, printing or bag making, and cracking of the inorganic oxide vapor-deposited film at the post-processing This is to prevent generation and the like.
Incidentally, in the present invention, the anchor coat layer by the anchor coat agent and / or the laminate adhesive layer by the laminate adhesive as described above are based on JIS standard K7113. It has a tensile elongation of 100 to 300%.
Thus, in the present invention, the tensile elongation of the anchor coating layer by the anchor coating agent and / or the laminating adhesive layer by the laminating adhesive as described above, etc. This improves the tight adhesion between the barrier film and the heat seal resin layer, thereby preventing the occurrence of cracks in the vapor-deposited film of the inorganic oxide, the laminating strength, etc. It is something to enhance.
In the above, it is not preferable that the tensile elongation is less than 100%, because the flexibility as a laminated material is lost, and cracks and the like in the deposited film of the inorganic oxide are likely to occur. If it exceeds 300%, the adhesive strength as an anchor coating agent or a laminating adhesive is not sufficient, and the required laminating strength becomes difficult to be expressed. Is.
次に、上記の本発明において、本発明に係る積層材を製造する方法について更に詳しく説明すると、かかる方法としては、通常の包装材料を製造するときに使用する積層法、例えば、ウエットラミネ−ション法、ドライラミネ−ション法、無溶剤ラミネ−ション法、押出ラミネ−ション法、共押出ラミネ−ション法、インフレ−ション法、その他の方法等で行うことができる。
而して、本発明においては、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、その積層する基材の表面に、コロナ処理、オゾン処理、フレ−ム処理等の前処理を任意に施すことができる。
また、上記において、押出ラミネ−トするときには、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマ−、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、その他等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂等を溶融押出ラミネ−ト用樹脂として使用することができる。
その際に、接着助剤として、例えば、イソシアネ−ト系、ポリエチレンイミン系、その他等のアンカ−コ−ト剤等を任意に使用することができる。
また、本発明においては、ドライラミネ−トするときには、例えば、ビニル系、アクリル系、ポリウレタン系、ポリアミド系、ポリエステル系、エポキシ系、その他等をビヒクルの主成分とする溶剤型、水性型、エマルジョン型、その他等のラミネ−ト用接着剤等を使用することができる。
Next, in the present invention described above, the method for producing the laminated material according to the present invention will be described in more detail. As such a method, for example, a lamination method used when producing a normal packaging material, for example, wet lamination. , Dry lamination method, solvent-free lamination method, extrusion lamination method, coextrusion lamination method, inflation method, and other methods.
Thus, in the present invention, when performing the above-described lamination, if necessary, for example, pretreatment such as corona treatment, ozone treatment, or frame treatment is optionally applied to the surface of the substrate to be laminated. be able to.
In the above, when extrusion lamination is performed, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin. , A polyolefin resin such as ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polyethylene or polypropylene with acrylic acid, Acid-modified polyolefin resins modified with unsaturated carboxylic acids such as methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc. can be used as the resin for melt extrusion lamination.
At that time, as an adhesion assistant, for example, an anchor coating agent such as isocyanate, polyethyleneimine, or the like can be arbitrarily used.
In the present invention, when dry lamination is performed, for example, a solvent type, an aqueous type, an emulsion type having a vehicle as a main component such as vinyl, acrylic, polyurethane, polyamide, polyester, epoxy, etc. Other adhesives for laminating, etc. can be used.
次に、本発明において、上記の積層材を使用して製造する本発明に係る包装用袋について説明すると、かかる包装用袋は、上記のような積層材を使用し、そのヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向して重ね合わせ、しかる後、その周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成して、上端部に開口部を有する包装用袋を製袋することができる。
而して、その製袋方法としては、上記のような積層材を、折り曲げるかあるいは重ね合わせて、その内層の面を対向させ、更にその周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−ル型、合掌貼りシ−ル型（ピロ−シ−ル型）、ひだ付シ−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、ガゼット型、その他等のヒ−トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、上端部に開口部を有する種々の形態からなる包装用袋を製造することができる。
その他、包装用袋としては、例えば、自立性包装用袋（スタンディングパウチ）等も可能である。
上記において、ヒ−トシ−ルの方法としては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルトシ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−ル等の公知の方法で行うことができる。
Next, in the present invention, the packaging bag according to the present invention manufactured using the above laminated material will be described. The packaging bag uses the above laminated material, and its heat seal. The surfaces of the photosensitive resin layers are overlapped to face each other, and then the peripheral end portion is heat sealed to form a seal portion, and a packaging bag having an opening at the upper end portion is formed. be able to.
Thus, as the bag making method, the above-mentioned laminated material is folded or overlapped so that the inner layer faces each other, and the peripheral edge thereof is, for example, a side seal type, two Square seal type, three-way seal type, four-side seal type, envelope-attached seal type, jointed seal type (pill seal type), pleated seal type, flat bottom seal Heat-sealing in the form of heat seals such as a shell type, square bottom seal type, gusset type, etc., and manufacturing packaging bags having various forms having an opening at the upper end. Can do.
In addition, as the packaging bag, for example, a self-supporting packaging bag (standing pouch) can be used.
In the above, as the heat seal method, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal and the like are known. It can be done by the method.
次に、本発明において、上記で製造した包装用袋の開口部から内容物を充填し、次いで、その上端部に開口部をヒ−トシ−ル等により密閉することによって、本発明にかかるレトルト用パウチを使用した包装半製品を製造し、しかる後、該包装半製品を、レトルト処理あるいはボイル処理等の加熱処理を施すことによって、本発明にかかるレトルト用パウチを使用したレトルト包装食品を製造することができるものである。
上記において、レトルト処理あるいはボイル処理する方法としては、例えば、通常のレトルト釜を使用し、温度、１１０〜１３０℃位、好ましくは、１２０℃前後位、圧力、１〜３Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、好ましくは、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ前後位、時間、２０〜６０分間位、好ましくは、３０分間前後で加熱加圧処理する方法、あるいは、温度、９０〜１００℃、好ましくは、９０℃前後位、時間、５〜２０分間位、好ましくは、１０分間前後位でボイル処理する方法等により行うことができる。
而して、本発明においては、上記のようなレトルト処理あるいはボイル処理により、内容物を加熱殺菌、あるいは、加熱殺菌調理等を行うことができるものである。
Next, in the present invention, the retort according to the present invention is filled by filling the contents from the opening of the packaging bag produced above, and then sealing the opening at the upper end with a heat seal or the like. Manufacturing a semi-wrapped product using a pouch for a container, and then subjecting the semi-packaged product to a heat treatment such as a retort treatment or a boil treatment to produce a retort packaged food using the pouch for retort according to the present invention. Is something that can be done.
In the above, as a method for retorting or boiling, for example, a normal retort kettle is used, and the temperature is about 110 to 130 ° C., preferably about 120 ° C., pressure, 1 to 3 kgf / cm 2 · G, Preferably, a method of heating and pressurizing at about 2.1 kgf / cm 2 · G, about 20 to 60 minutes, preferably about 30 minutes, or temperature, 90 to 100 ° C., preferably 90 ° C. It can be carried out by a method of performing a boil treatment in about front and rear, time, about 5 to 20 minutes, preferably about 10 minutes.
Thus, in the present invention, the contents can be subjected to heat sterilization, heat sterilization cooking, or the like by retort processing or boil processing as described above.
次に、本発明において、本発明に係る包装用袋内に充填包装する内容物としては、例えば、調理食品、水産練り製品、冷凍食品、煮物、餅、液体ス−プ、調味料、飲料水、その他等の各種の飲食品、具体的には、例えば、カレ−、シチュ−、ス−プ、ミ−トソ−ス、ハンバ−グ、ミ−トボ−ル、しゅうまい、おでん、お粥等の流動食品、ゼリ−状食品、調味料、水、その他等の各種の飲食品等を挙げることができる。
而して、本発明において、本発明に係る包装用袋は、耐熱性、耐圧性、耐水性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、耐突き刺し性、その他等の諸物性に優れ、特に、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性、透明性等に優れ、かつ、レトルト処理等の加工に伴う熱処理に耐え、更に、容器・包装ごみの軽量化、減量化等を図ると共にその製造工程の短縮化によりその製造コストの低減化を図ることができ、内容物の充填包装適性、品質保全性等に優れているものである。
Next, in the present invention, the contents to be filled and packaged in the packaging bag according to the present invention include, for example, cooked food, fishery paste product, frozen food, boiled food, rice cake, liquid soup, seasoning, drinking water, Other foods and drinks, such as curry, stew, soup, meat sauce, hamburger, meatball, sweet potato, oden, rice cake etc. Various foods and beverages such as food, jelly-like food, seasoning, water, etc. can be mentioned.
Thus, in the present invention, the packaging bag according to the present invention is excellent in various physical properties such as heat resistance, pressure resistance, water resistance, heat seal resistance, pin hole resistance, puncture resistance, and the like. In particular, it has excellent barrier properties, transparency, etc. that prevent the permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and withstands heat treatment associated with processing such as retort treatment, and further reduces the weight and weight of containers and packaging waste. At the same time, the manufacturing process can be shortened by shortening the manufacturing process, and the contents can be packed and packaged and the quality is excellent.
具体的には、本発明においては、基材フィルムとして、例えば、ポリエステル系樹脂フィルムを使用する場合には、特に、耐熱性、耐屈曲性等の物性に優れた包装用袋を製造することができ、また、中間基材として、例えば、ポリアミド系樹脂（ナイロン）フィルムを使用する場合には、特に、耐ピンホ−ル性等に優れた包装用袋を製造することができるものである。
また、本発明においては、密着助剤層、無機酸化物の蒸着膜、および、ガスバリア性塗布膜は、各々、透明性を有し、かつ、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性を有するものであり、その３層により、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性等の作用効果を発揮し、終極的には、その３者の相乗的な効果により、バリア性等の作用効果を発揮し、アルミニウム箔等の金属箔とほぼ同等のバリア性等の作用効果を発揮すると共にアルミニウム箔等の金属箔と異なり、透明性に優れ、内容物等の視認性等に優れているものであり、更に、金属探知機等による金属探知テストを可能とするものである。
更に、本発明においては、無機酸化物の蒸着膜等は、その膜厚は、数十Å〜数千Åからなるものであり、また、ガスバリア性塗布膜の膜厚も０．１ｇ／ｍ2 〜２．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）程度のものであり、例えば、膜厚が５〜２０μｍ前後からなるアルミニウム箔等の金属箔等と比較して、その膜厚を著しく薄膜化し、軽量化することができ、また、その重量を著しく低減化し、容器・包装ごみの軽量化、減量化等を図ることができるものである。
更にまた、本発明においては、有機珪素化合物を蒸着用モノマ−ガスとして使用し、プラズマ化学気相成長法を用いて製膜化してなる酸化珪素の蒸着膜を、バリア性層を構成する無機酸化物の蒸着膜として使用すると、該酸化珪素の蒸着膜が、柔軟性に富み、耐屈曲性等を有することから、酸化珪素の蒸着膜にクラック等を生じてバリア性等を低下するということがないという利点を有するものである。
次に、上記の本発明について実施例を挙げて更に具体的に説明する。
Specifically, in the present invention, for example, when a polyester-based resin film is used as the base film, a packaging bag having excellent physical properties such as heat resistance and bending resistance can be produced. In addition, for example, when a polyamide-based resin (nylon) film is used as the intermediate substrate, a packaging bag excellent in pinhole resistance and the like can be manufactured.
In the present invention, the adhesion assistant layer, the inorganic oxide vapor-deposited film, and the gas barrier coating film each have transparency and barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, and the like. The three layers exhibit the effects such as barrier properties that prevent the permeation of oxygen gas, water vapor, etc., and ultimately the effects of the barrier properties due to the synergistic effects of the three. Demonstrates the effects and effects, such as barrier properties, which are almost the same as those of metal foils such as aluminum foils. Unlike metal foils such as aluminum foils, it has excellent transparency and visibility of contents and the like. Furthermore, a metal detection test using a metal detector or the like is possible.
Further, in the present invention, the vapor deposition film of the inorganic oxide has a film thickness of several tens to several thousand mm, and the film thickness of the gas barrier coating film is also 0.1 g / m 2. ~ 2.0 g / m 2 (dry state), for example, compared with metal foils such as aluminum foils with a film thickness of around 5-20 μm. In addition, the weight of the container / packaging waste can be reduced and the weight thereof can be reduced.
Furthermore, in the present invention, an organic silicon compound is used as a vapor deposition monomer gas, and a silicon oxide vapor deposition film formed by plasma chemical vapor deposition is used as an inorganic oxide constituting the barrier layer. When used as a vapor deposition film of an object, the vapor deposition film of silicon oxide is rich in flexibility and has bending resistance, etc., so that a crack or the like is generated in the vapor deposition film of silicon oxide and the barrier property is lowered. It has the advantage of not.
Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
（１）．まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、図７に示すプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記に示す条件で、上記の二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、厚さ５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した。
（蒸着条件）
反応ガス混合比；へキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１．２：５．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）
到達圧力；５．０×１０-5ｍｂａｒ
製膜圧力；７．０×１０-2ｍｂａｒ
ライン速度；３００ｍ／ｍｉｎ
パワー；３５ｋＷ
（２）．次に、上記で厚さ５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、図８に示す巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの厚さ５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層の面に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成し、次いで、そのプラズマ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力；２５ｋｗ
フィルムの搬送速度；６００ｍ／ｍｉｎ
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 ６．０×１０-2ｍｂａｒ、処理速度 ６００ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化アルミニウムの蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
（３）．他方、下記の表１に示す組成に従って、組成ａ．ＥＶＯＨ（エチレン共重合比率２９％）をイソプロピルアルコールおよびイオン交換水の混合溶媒にて溶解したＥＶＯＨ溶液に、予め調製した組成ｂ．のエチルシリケート４０、イソプロピルアルコール、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を加えて攪拌、更に予め調製した組成ｃ．のポリビニルアルコール水溶液、シランカップリング剤（エポキシシリカＳＨ６０４０) 、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液を加えて攪拌し、無色透明のバリアー塗工液を得た。
（表１）
ａ ＥＶＯＨ（エチレン共重合率２９％） ０．６１０（ｗｔ％）
イソプロピルアルコール ３．２９４
Ｈ2 Ｏ ２．１９６
ｂ エチルシリケート４０ １１．４６０
イソプロピルアルコール １７．６６２
アルミニウムアセチルアセトン ０．０２０
Ｈ2 Ｏ １３．７５２
ｃ ポリビニルアルコール １．５２０
シランカップリング剤 ０．０５０
イソプロピルアルコール １３．８４４
Ｈ2 Ｏ ３５．４６２
酢酸 ０．１３０
合 計 １００．０００（ｗｔ％）
次に、上記の（２）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、１００℃で３０秒間、加熱処理して、厚さ０．４ｇ／ｍ2 （乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明に係るバリア性フィルムを製造した。
（４）．次に、上記の（３）で形成したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
（５）．次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。 上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１２０℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、３０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、本発明にかかるレトルト包装食品を製造した。
上記で製造したレトルト食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。
(1). First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm is used as a base film, and this is mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus shown in FIG. On the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, an adhesion assistant layer made of a 5 nm thick deposited silicon oxide film was formed.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1.2: 5.0: 2.5 (Unit: Slm)
Ultimate pressure: 5.0 × 10 -5 mbar
Film forming pressure: 7.0 × 10 −2 mbar
Line speed: 300m / min
Power: 35kW
(2). Next, the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the adhesion assistant layer made of the silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 5 nm is formed as described above is used for the winding type vacuum vapor deposition apparatus shown in FIG. Attaching to a delivery roll, then feeding it out, using a magnetron sputtering device on the surface of the adhesion assistant layer consisting of a 5 nm thick silicon oxide deposited film of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the line speed Conveyed at 600 m / min, introduced argon gas 500 sccm, performed plasma treatment at an output of 20 kW to form a plasma treated surface, and then deposited aluminum oxygen on the plasma treated surface using aluminum as a deposition source. Using the vacuum vapor deposition method with an electron beam (EB) heating method while supplying oxygen gas to the source, the following The deposition conditions to form a deposited film of aluminum oxide having a thickness of 20 nm.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber; 2 × 10 -4 mbar
Degree of vacuum in winding chamber; 2 × 10 -2 mbar
Electron beam power: 25 kW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming a 20 nm-thick aluminum oxide vapor deposition film as described above, a glow discharge plasma generator is used on the aluminum oxide vapor deposition film surface, and the power is 9 kW, oxygen gas (O 2 ): argon gas. (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) is used, oxygen / argon mixed gas plasma treatment is performed at a mixed gas pressure of 6.0 × 10 −2 mbar and a processing speed of 600 m / min. As a result, a plasma-treated surface was formed in which the surface tension of the vapor deposition film surface of aluminum oxide was improved by 54 dyne / cm or more.
(3). On the other hand, according to the composition shown in Table 1 below, the composition a. Composition prepared in advance in EVOH solution in which EVOH (
(Table 1)
a EVOH (
Isopropyl alcohol 3.294
H 2 O 2.196
b Ethyl silicate 40 11.460
Isopropyl alcohol 17.662
Aluminum acetylacetone 0.020
H 2 O 13.752
c Polyvinyl alcohol 1.520
Silane coupling agent 0.050
Isopropyl alcohol 13.844
H 2 O 35.462
Acetic acid 0.130
Total 100.000 (wt%)
Next, the plasma-treated surface formed in the above (2) is coated with the gas barrier composition produced above by the gravure roll coat method, and then heat-treated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, a gas barrier coating film having a thickness of 0.4 g / m 2 (in a dry operation state) was formed to produce a barrier film according to the present invention.
(4). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film formed in (3) above, a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating A biaxially stretched
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched
(5). Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured. In the three-sided seal type soft packaging bag produced above, water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. A semi-finished packaging product is manufactured, and then the semi-finished packaging product is placed in a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 120 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 30 minutes. The retort packaged food according to the present invention was produced.
The retort food produced above has a packaging bag with excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pin hole resistance, piercing properties, transparency, etc. It was excellent in barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., and there was no bag breakage or leakage of contents, and it was excellent in functions as a food container, for example, filling / packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc.
（１）．まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、図７に示すプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記に示す条件で、上記の二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、厚さ９ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した。
（蒸着条件）
反応ガス混合比；へキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１．２：５．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）
到達圧力；５．０×１０-5ｍｂａｒ
製膜圧力；７．０×１０-2ｍｂａｒ
ライン速度；１５０ｍ／ｍｉｎ
パワー；３５ｋＷ
（２）．次に、上記で厚さ９ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、図８に示す巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの厚さ９ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層の面に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成し、次いで、そのプラズマ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力；２５ｋｗ
フィルムの搬送速度；６００ｍ／ｍｉｎ
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、上記と同様に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成した。
（３）．他方、下記の表１に示す組成に従って、組成ａ．ＥＶＯＨ（エチレン共重合比率２９％）をイソプロピルアルコールおよびイオン交換水の混合溶媒にて溶解したＥＶＯＨ溶液に、予め調製した組成ｂ．のエチルシリケート４０、イソプロピルアルコール、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を加えて攪拌、更に予め調製した組成ｃ．のポリビニルアルコール水溶液、シランカップリング剤（エポキシシリカＳＨ６０４０) 、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液を加えて攪拌し、無色透明のバリアー塗工液を得た。
（表１）
ａ ＥＶＯＨ（エチレン共重合率２９％） ０．６１０（ｗｔ％）
イソプロピルアルコール ３．２９４
Ｈ2 Ｏ ２．１９６
ｂ エチルシリケート４０ １１．４６０
イソプロピルアルコール １７．６６２
アルミニウムアセチルアセトン ０．０２０
Ｈ2 Ｏ １３．７５２
ｃ ポリビニルアルコール １．５２０
シランカップリング剤 ０．０５０
イソプロピルアルコール １３．８４４
Ｈ2 Ｏ ３５．４６２
酢酸 ０．１３０
合 計 １００．０００（ｗｔ％）
次に、上記の（２）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、１００℃で３０秒間、加熱処理して、厚さ０．４ｇ／ｍ2 （乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明に係るバリア性フィルムを製造した。
（４）．次に、上記の（３）で形成したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
（５）．次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。 上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１２０℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、３０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、本発明にかかるレトルト包装食品を製造した。
上記で製造したレトルト食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。
(1). First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm is used as a base film, and this is mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus shown in FIG. On the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, an adhesion assistant layer composed of a 9 nm-thick silicon oxide vapor deposition film was formed.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1.2: 5.0: 2.5 (Unit: Slm)
Ultimate pressure: 5.0 × 10 -5 mbar
Film forming pressure: 7.0 × 10 −2 mbar
Line speed: 150 m / min
Power: 35kW
(2). Next, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which an adhesion assistant layer made of a 9 nm thick silicon oxide vapor deposition film was formed as described above was used. Attaching to a delivery roll, then feeding it out, using a magnetron sputtering device on the surface of the adhesion assistant layer consisting of a 9 nm thick silicon oxide vapor deposition film of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the line speed Carrying at 600 m / min, introducing 500 sccm of argon gas, performing plasma treatment at an output of 20 kW to form a plasma treatment surface, and then supplying oxygen gas to the plasma treatment surface using aluminum as a deposition source However, a 20 nm-thick acid is deposited by the following vapor deposition conditions by a vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method. Thereby forming a deposited film of aluminum.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber; 2 × 10 -4 mbar
Degree of vacuum in winding chamber; 2 × 10 -2 mbar
Electron beam power: 25 kW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming the aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 20 nm as described above, the surface of the aluminum oxide vapor deposition film is transported at a line speed of 600 m / min using a magnetron sputtering apparatus in the same manner as described above. Argon gas was introduced at 500 sccm, and plasma treatment was performed at an output of 20 kW to form a plasma treatment surface.
(3). On the other hand, according to the composition shown in Table 1 below, the composition a. Composition prepared in advance in EVOH solution in which EVOH (
(Table 1)
a EVOH (
Isopropyl alcohol 3.294
H 2 O 2.196
b Ethyl silicate 40 11.460
Isopropyl alcohol 17.662
Aluminum acetylacetone 0.020
H 2 O 13.752
c Polyvinyl alcohol 1.520
Silane coupling agent 0.050
Isopropyl alcohol 13.844
H 2 O 35.462
Acetic acid 0.130
Total 100.000 (wt%)
Next, the plasma-treated surface formed in the above (2) is coated with the gas barrier composition produced above by the gravure roll coat method, and then heat-treated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, a gas barrier coating film having a thickness of 0.4 g / m 2 (in a dry operation state) was formed to produce a barrier film according to the present invention.
(4). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film formed in (3) above, a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating A biaxially stretched
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched
(5). Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured. In the three-sided seal type soft packaging bag produced above, water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. A semi-finished packaging product is manufactured, and then the semi-finished packaging product is placed in a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 120 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 30 minutes. The retort packaged food according to the present invention was produced.
The retort food produced above has a packaging bag with excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pin hole resistance, piercing properties, transparency, etc. It was excellent in barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., and there was no bag breakage or leakage of contents, and it was excellent in functions as a food container, for example, filling / packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc.
（１）．まず、基材フィルムとして、厚さ１５μｍの二軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、これを、図７に示すプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記に示す条件で、上記の二軸延伸ナイロン６フィルムのコロナ処理面に、厚さ５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した。
（蒸着条件）
反応ガス混合比；へキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１．２：５．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）
到達圧力；５．０×１０-5ｍｂａｒ
製膜圧力；７．０×１０-2ｍｂａｒ
ライン速度；３００ｍ／ｍｉｎ
パワー；３５ｋＷ
（２）．次に、上記で厚さ５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した二軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、これを、図８に示す巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ナイロン６フィルムの厚さ５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤の面に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成し、次いで、そのプラズマ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力；２５ｋｗ
フィルムの搬送速度；６００ｍ／ｍｉｎ
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、上記と同様に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成した。
（３）．他方、下記の表２に示す組成に従って、組成ａ．ＥＶＯＨ（エチレン共重合比率２９％）イソプロピルアルコールおよびイオン交換水の混合溶媒にて溶解したＥＶＯＨ溶液に、予め調製した組成ｂ．のエチルシリケート４０、イソプロピルアルコー、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を加えて攪拌、更に予め調製した組成ｃ．のポリビニルアルコール水溶液、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液を加えて攪拌し、無色透明のバリアー塗工液を得た。
（表２）
ａ ＥＶＯＨ（エチレン共重合率２９％） ０．１２２（ｗｔ％）
イソプロピルアルコール ０．６５９
Ｈ2 Ｏ ０．４３９
ｂ エチルシリケート４０ ９．１４６
イソプロピルアルコール ８．７８０
アルミニウムアセチルアセトン ０．０１８
Ｈ2 Ｏ １６．２９１
ｃ ポリビニルアルコール １．２２０
イソプロピルアルコール １９．８９３
Ｈ2 Ｏ ４３．３２９
酢酸 ０．１０３
合 計 １００．０００（ｗｔ％）
次に、上記の（１）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、１００℃で３０秒間、加熱処理して、厚さ０．４ｇ／ｍ2 （乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明に係るバリア性フィルムを製造した。
（４）．次に、厚さ１２μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、通常のグラビアインキ組成物を使用し、グラビア印刷方式により、文字、図形、絵柄、その他等からなる所定の印刷模様を印刷して印刷模様層を形成した。
次に、上記で形成した印刷模様層を含む全面に、２液硬化型ポリウレタン系接着剤（主剤：ポリエステルポリオール、硬化剤：脂肪族シソシアネート）を使用し、これをグラビアロールコ−ト法を用いて、厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコーティングしてラミネート用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネート用接着剤層面に、上記（２）で製造したバリア性フィルムを、そのガスバリア性塗布膜の面をを対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−ト積層した。
更に、上記でドライラミネ−ト積層したバリア性フィルムの二軸延伸ナイロン６フィルムのコロナ処理面の面に、２液硬化型ウレタン系接着剤（主剤：ポリエステルポリオール、硬化剤：脂肪族シソシアネート）を使用し、これをグラビアロールコ−ト法を用いて、厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコーティングしてラミネート用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネート用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
（４）．次いで、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてヒ−トシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１２０℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、３０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行った。
上記で製造したレトルト包装食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。
(1). First, a biaxially stretched
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1.2: 5.0: 2.5 (Unit: Slm)
Ultimate pressure: 5.0 × 10 -5 mbar
Film forming pressure: 7.0 × 10 −2 mbar
Line speed: 300m / min
Power: 35kW
(2). Next, the biaxially stretched
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber; 2 × 10 -4 mbar
Degree of vacuum in winding chamber; 2 × 10 -2 mbar
Electron beam power: 25 kW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming the aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 20 nm as described above, the surface of the aluminum oxide vapor deposition film is transported at a line speed of 600 m / min using a magnetron sputtering apparatus in the same manner as described above. Argon gas was introduced at 500 sccm, and plasma treatment was performed at an output of 20 kW to form a plasma treatment surface.
(3). On the other hand, according to the composition shown in Table 2 below, composition a. EVOH (
(Table 2)
a EVOH (
Isopropyl alcohol 0.659
H 2 O 0.439
b Ethylsilicate 40 9.146
Isopropyl alcohol 8.780
Aluminum acetylacetone 0.018
H 2 O 16.291
c Polyvinyl alcohol 1.220
Isopropyl alcohol 19.893
H 2 O 43.329
Acetic acid 0.103
Total 100.000 (wt%)
Next, the plasma-treated surface formed in the above (1) is coated with the gas barrier composition produced above by the gravure roll coating method, and then heat-treated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, a gas barrier coating film having a thickness of 0.4 g / m 2 (in a dry operation state) was formed to produce a barrier film according to the present invention.
(4). Next, a normal gravure ink composition is used on the corona-treated surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, and a predetermined printing pattern consisting of letters, figures, patterns, etc., by a gravure printing method. Was printed to form a printed pattern layer.
Next, a two-component curable polyurethane adhesive (main agent: polyester polyol, curing agent: aliphatic isocyanate) is used on the entire surface including the printed pattern layer formed above, and this is subjected to a gravure roll coating method. Using the coating film to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) to form an adhesive layer for laminating, the barrier film produced in (2) above was then formed on the surface of the laminating adhesive layer. The surfaces of the gas barrier coating film were superposed with each other facing each other, and then both were laminated by dry lamination.
Furthermore, on the surface of the corona-treated surface of the biaxially stretched
(4). Next, two sheets of the laminated material produced above were prepared, and the unstretched polypropylene film faces were overlapped to face each other. -A three-sided seal type flexible packaging bag having a seal part and an opening above was manufactured.
In the three-sided seal type soft packaging bag produced above, water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. A semi-finished packaging product is manufactured, and then the semi-finished packaging product is placed in a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 120 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 30 minutes It was.
The retort packaged food produced above has excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pinhole resistance, piercing properties, transparency, etc. Excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., with no bag breakage or leakage of contents, etc., and functions as a food container, such as content filling and packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc. .
（１）．まず、基材フィルムとして、厚さ１５μｍの二軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、これを、図７に示すプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記に示す条件で、上記の二軸延伸ナイロン６フィルムのコロナ処理面に、厚さ９ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した。
（蒸着条件）
反応ガス混合比；へキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１．２：５．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）
到達圧力；５．０×１０-5ｍｂａｒ
製膜圧力；７．０×１０-2ｍｂａｒ
ライン速度；１５０ｍ／ｍｉｎ
パワー；３５ｋＷ
（２）．次に、上記で厚さ９ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層を形成した二軸延伸ナイロン６フィルムを使用し、これを、図８に示す巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ナイロン６フィルムの厚さ９ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤の面に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成し、次いで、そのプラズマ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力；２５ｋｗ
フィルムの搬送速度；６００ｍ／ｍｉｎ
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、上記と同様に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成した。
（３）．他方、下記の表３に示す組成に従って、調製した組成ａ．のポリビニルアルコール水溶液、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液に、予め調製した組成ｂ．のエチルシリケート４０、イソプロピルアルコー、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を加えて攪拌し、無色透明のバリアー塗工液を得た。
（表３）
ａ ポリビニルアルコール １．２３５（ｗｔ％）
イソプロピルアルコール ２０．１３９
Ｈ2 Ｏ ４３．８６６
酢酸 ０．１０４
ｂ エチルシリケート４０ ９．２５９
イソプロピルアルコール ８．８８８
アルミニウムアセチルアセトン ０．０１８
Ｈ 2 Ｏ １６．４９３
合 計 １００．０００（ｗｔ％）
次に、上記の（２）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、１００℃で３０秒間、加熱処理して、厚さ０．４ｇ／ｍ2 （乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、本発明に係るバリア性フィルムを製造した。
（４）．他方、厚さ２０μｍの２軸延伸ポリプロピレンフィルムのコロナ処理面に、通常のグラビアインキ組成物を使用し、グラビア印刷方式により、文字、図形、絵柄、その他等からなる所定の印刷模様を印刷して印刷模様層を形成した。
次に、上記で形成した印刷模様層を含む全面に、２液硬化型ポリウレタン系接着剤（主剤：ポリエステルポリオール、硬化剤：脂肪族シソシアネート）を使用し、これをグラビアロールコ−ト法を用いて、厚さ５．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコーティングしてラミネート用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネート用接着剤層面に、上記（２）で製造したバリア性フィルムを、そのガスバリア性塗布膜の面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−ト積層した。
更に、上記でドライラミネ−ト積層したバリア性フィルムの二軸延伸ナイロン６フィルムのコロナ処理面の面に、２液硬化型ウレタン系接着剤（主剤：ポリエステルポリオール、硬化剤：脂肪族シソシアネート）を使用し、これをグラビアロールコ−ト法を用いて、厚さ５．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコーティングしてラミネート用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネート用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、本発明に係る積層材を製造した。
（５）．次いで、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。
上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１２０℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、３０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行った。
上記で製造したレトルト包装食品は、その包装用袋が、耐熱性、耐圧性、耐水性、バリア性、ヒ−トシ−ル性、耐ピンホ−ル性、突き刺し性、透明性等に優れ、更に、酸素ガス、水蒸気等に対するバリア性に優れ、破袋ないし内容物の漏れ等も認められず、食品容器としての機能、例えば、内容物の充填包装適性、流通適正、保存適性等に優れていた。
(1). First, a biaxially stretched
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1.2: 5.0: 2.5 (Unit: Slm)
Ultimate pressure: 5.0 × 10 -5 mbar
Film forming pressure: 7.0 × 10 −2 mbar
Line speed: 150 m / min
Power: 35kW
(2). Next, the biaxially stretched
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber; 2 × 10 -4 mbar
Degree of vacuum in winding chamber; 2 × 10 -2 mbar
Electron beam power: 25 kW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming the aluminum oxide vapor deposition film having a thickness of 20 nm as described above, the surface of the aluminum oxide vapor deposition film is transported at a line speed of 600 m / min using a magnetron sputtering apparatus in the same manner as described above. Argon gas was introduced at 500 sccm, and plasma treatment was performed at an output of 20 kW to form a plasma treatment surface.
(3). On the other hand, according to the composition shown in Table 3 below, the prepared composition a. A pre-prepared composition b. A hydrolyzed solution composed of ethyl silicate 40, isopropyl alcohol, acetylacetone aluminum and ion-exchanged water was added and stirred to obtain a colorless and transparent barrier coating solution.
(Table 3)
a Polyvinyl alcohol 1.235 (wt%)
Isopropyl alcohol 20.139
H 2 O 43.866
Acetic acid 0.104
b Ethylsilicate 40 9.259
Isopropyl alcohol 8.888
Aluminum acetylacetone 0.018
H 2 O 16.493
Total 100.000 (wt%)
Next, the plasma-treated surface formed in the above (2) is coated with the gas barrier composition produced above by the gravure roll coat method, and then heat-treated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, a gas barrier coating film having a thickness of 0.4 g / m 2 (in a dry operation state) was formed to produce a barrier film according to the present invention.
(4). On the other hand, a normal gravure ink composition is used on the corona-treated surface of a biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 20 μm, and a predetermined printing pattern composed of letters, figures, patterns, etc. is printed by a gravure printing method. A printed pattern layer was formed.
Next, a two-component curable polyurethane adhesive (main agent: polyester polyol, curing agent: aliphatic isocyanate) is used on the entire surface including the printed pattern layer formed above, and this is subjected to a gravure roll coating method. Using the coating film to a thickness of 5.0 g / m 2 (in a dry state) to form an adhesive layer for laminating, the barrier film produced in (2) above was then formed on the surface of the laminating adhesive layer. The surfaces of the gas barrier coating film were overlapped with each other, and then both were laminated by dry lamination.
Furthermore, on the surface of the corona-treated surface of the biaxially stretched
(5). Next, two sheets of the laminated material produced above were prepared, the surfaces of the unstretched polypropylene film were opposed to each other, and then the outer peripheral edge was sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening and an upper opening was produced.
In the three-sided seal type soft packaging bag produced above, water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. A semi-finished packaging product is manufactured, and then the semi-finished packaging product is placed in a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 120 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 30 minutes It was.
The retort packaged food produced above has excellent heat resistance, pressure resistance, water resistance, barrier properties, heat seal properties, pinhole resistance, piercing properties, transparency, etc. Excellent barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., with no bag breakage or leakage of contents, etc., and functions as a food container, such as content filling and packaging suitability, distribution suitability, storage suitability, etc. .
（比較例１）
（１）．まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、図８に示す巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力；２５ｋｗ
フィルムの搬送速度；６００ｍ／ｍｉｎ
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 ６．０×１０-2ｍｂａｒ、処理速度 ６００ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化アルミニウムの蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
（２）．他方、下記の表１に示す組成に従って、組成ａ．ＥＶＯＨ（エチレン共重合比率２９％）をイソプロピルアルコールおよびイオン交換水の混合溶媒にて溶解したＥＶＯＨ溶液に、予め調製した組成ｂ．のエチルシリケート４０、イソプロピルアルコール、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を加えて攪拌、更に予め調製した組成ｃ．のポリビニルアルコール水溶液、シランカップリング剤（エポキシシリカＳＨ６０４０) 、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液を加えて攪拌し、無色透明のバリアー塗工液を得た。
（表１）
ａ ＥＶＯＨ（エチレン共重合率２９％） ０．６１０（ｗｔ％）
イソプロピルアルコール ３．２９４
Ｈ2 Ｏ ２．１９６
ｂ エチルシリケート４０ １１．４６０
イソプロピルアルコール １７．６６２
アルミニウムアセチルアセトン ０．０２０
Ｈ2 Ｏ １３．７５２
ｃ ポリビニルアルコール １．５２０
シランカップリング剤 ０．０５０
イソプロピルアルコール １３．８４４
Ｈ2 Ｏ ３５．４６２
酢酸 ０．１３０
合 計 １００．０００（ｗｔ％）
次に、上記の（１）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、１００℃で３０秒間、加熱処理して、厚さ０．４ｇ／ｍ2 （乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。
（３）．次に、上記の（２）で形成したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、積層材を製造した。
（４）．次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。 上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１２０℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、３０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、レトルト包装食品を製造した。
(Comparative Example 1)
(1). First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm is used as a base film, and this is attached to a feeding roll of a winding-type vacuum vapor deposition apparatus shown in FIG. A vacuum evaporation method using an electron beam (EB) heating method while supplying oxygen gas to the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film using aluminum as an evaporation source and oxygen aluminum as an evaporation source. Thus, a 20 nm-thick aluminum oxide vapor deposition film was formed under the following vapor deposition conditions.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber; 2 × 10 -4 mbar
Degree of vacuum in winding chamber; 2 × 10 -2 mbar
Electron beam power: 25 kW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming a 20 nm-thick aluminum oxide vapor deposition film as described above, a glow discharge plasma generator is used on the aluminum oxide vapor deposition film surface, and the power is 9 kW, oxygen gas (O 2 ): argon gas. (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) is used, oxygen / argon mixed gas plasma treatment is performed at a mixed gas pressure of 6.0 × 10 −2 mbar and a processing speed of 600 m / min. As a result, a plasma-treated surface was formed in which the surface tension of the vapor deposition film surface of aluminum oxide was improved by 54 dyne / cm or more.
(2). On the other hand, according to the composition shown in Table 1 below, the composition a. Composition prepared in advance in EVOH solution in which EVOH (
(Table 1)
a EVOH (
Isopropyl alcohol 3.294
H 2 O 2.196
b Ethyl silicate 40 11.460
Isopropyl alcohol 17.662
Aluminum acetylacetone 0.020
H 2 O 13.752
c Polyvinyl alcohol 1.520
Silane coupling agent 0.050
Isopropyl alcohol 13.844
H 2 O 35.462
Acetic acid 0.130
Total 100.000 (wt%)
Next, the plasma-treated surface formed in the above (1) is coated with the gas barrier composition produced above by the gravure roll coating method, and then heat-treated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, a gas barrier coating film having a thickness of 0.4 g / m 2 (in a dry operation state) was formed to produce a barrier film.
(3). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film formed in (2) above, a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating A biaxially stretched
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched
(4). Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured. In the three-sided seal type soft packaging bag produced above, water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. A semi-finished packaging product is manufactured, and then the semi-finished packaging product is placed in a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 120 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 30 minutes. Retort packaged food was manufactured.
（比較例２）
（１）．まず、基材フィルムとして、厚さ１２μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、図７に示すプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記に示す条件で、上記の二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのコロナ処理面に、厚さ１５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
反応ガス混合比；へキサメチルジシロキサン：酸素ガス：ヘリウム＝１．２：５．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）
到達圧力；５．０×１０-5ｍｂａｒ
製膜圧力；７．０×１０-2ｍｂａｒ
ライン速度；１２０ｍ／ｍｉｎ
パワー；３５ｋＷ
（２）．次に、上記で厚さ１５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜を形成した二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを使用し、これを、図８に示す巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、これを繰り出し、その二軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの厚さ１５ｎｍの酸化珪素の蒸着膜からなる密着助剤層の面に、マグネトロンスパッタリング装置を使用し、ライン速度６００ｍ／ｍｉｎで搬送し、アルゴンガス５００ｓｃｃｍを導入し、出力２０ｋＷでプラズマ処理を行って、プラズマ処理面を形成し、次いで、そのプラズマ処理面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方式による真空蒸着法により、下記の蒸着条件により、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。
（蒸着条件）
蒸着チヤンバー内の真空度；２×１０-4ｍｂａｒ
巻き取りチヤンバー内の真空度；２×１０-2ｍｂａｒ
電子ビーム電力；２５ｋｗ
フィルムの搬送速度；６００ｍ／ｍｉｎ
次に、上記で厚さ２０ｎｍの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した直後に、その酸化アルミニウムの蒸着膜面に、グロー放電プラズマ発生装置を使用し、パワー９ｋｗ、酸素ガス（Ｏ2 ）：アルゴンガス（Ａｒ）＝７．０：２．５（単位：Ｓｌｍ）からなる混合ガスを使用し、混合ガス圧 ６．０×１０-2ｍｂａｒ、処理速度 ６００ｍ／ｍｉｎで酸素／アルゴン混合ガスプラズマ処理を行って、酸化アルミニウムの蒸着膜面の表面張力を５４ｄｙｎｅ／ｃｍ以上向上させてたプラズマ処理面を形成した。
（３）．他方、下記の表１に示す組成に従って、組成ａ．ＥＶＯＨ（エチレン共重合比率２９％）をイソプロピルアルコールおよびイオン交換水の混合溶媒にて溶解したＥＶＯＨ溶液に、予め調製した組成ｂ．のエチルシリケート４０、イソプロピルアルコール、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を加えて攪拌、更に予め調製した組成ｃ．のポリビニルアルコール水溶液、シランカップリング剤（エポキシシリカＳＨ６０４０) 、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液を加えて攪拌し、無色透明のバリアー塗工液を得た。
（表１）
ａ ＥＶＯＨ（エチレン共重合率２９％） ０．６１０（ｗｔ％）
イソプロピルアルコール ３．２９４
Ｈ2 Ｏ ２．１９６
ｂ エチルシリケート４０ １１．４６０
イソプロピルアルコール １７．６６２
アルミニウムアセチルアセトン ０．０２０
Ｈ2 Ｏ １３．７５２
ｃ ポリビニルアルコール １．５２０
シランカップリング剤 ０．０５０
イソプロピルアルコール １３．８４４
Ｈ2 Ｏ ３５．４６２
酢酸 ０．１３０
合 計 １００．０００（ｗｔ％）
次に、上記の（２）で形成したプラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物を使用し、これをグラビアロールコート法によりコーティングして、次いで、１００℃で３０秒間、加熱処理して、厚さ０．４ｇ／ｍ2 （乾操状態）のガスバリア性塗布膜を形成して、バリア性フィルムを製造した。
（４）．次に、上記の（３）で形成したバリア性フィルムのガスバリア性塗布膜の面に、所望の印刷模様を形成した後、その印刷模様を含む全面に、２液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト用接着剤をグラビアロ−ルコ−ト法を用いて厚さ４．０ｇ／ｍ2 （乾燥状態）にコ−ティングしてラミネ−ト用接着剤層を形成し、次いで、該ラミネ−ト用接着剤層の面に、厚さ１５μｍの２軸延伸ナイロン６フィルムを、そのコロナ処理面を対向させて重ね合わせ、しかる後、その両者をドライラミネ−トして積層した。
次に、上記で積層した２軸延伸ナイロン６フィルムの面に、コロナ放電処理を施した後、そのコロナ処理面に、上記と同様にして、ラミネ−ト用接着剤層を形成し、しかる後、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ６０μｍの無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トして積層して、積層材を製造した。
（５）．次に、上記で製造した積層材の２枚を用意し、その無延伸ポリプロピレンフィルムの面を対向して重ね合わせ、しかる後、その外周周辺の端部を三方ヒ−トシ−ルしてシ−ル部を形成すると共に上方に開口部を有する三方シ−ル型の軟包装用袋を製造した。 上記で製造した三方シ−ル型の軟包装用袋内に、その開口部から水を充填包装し、しかる後、その開口部をヒ−トシ−ルして上方シ−ル部を形成して包装半製品を製造し、次いで、その包装半製品をレトルト釜に入れて、温度、１２０℃、圧力、２．１Ｋｇｆ／ｃｍ2 ・Ｇ、時間、３０分間からなるレトルト処理条件でレトルト処理を行い、レトルト包装食品を製造した。
(Comparative Example 2)
(1). First, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm is used as a base film, and this is mounted on a delivery roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus shown in FIG. A silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 15 nm was formed on the corona-treated surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film.
(Deposition conditions)
Reaction gas mixing ratio: Hexamethyldisiloxane: Oxygen gas: Helium = 1.2: 5.0: 2.5 (Unit: Slm)
Ultimate pressure: 5.0 × 10 -5 mbar
Film forming pressure: 7.0 × 10 −2 mbar
Line speed: 120 m / min
Power: 35kW
(2). Next, using the biaxially stretched polyethylene terephthalate film in which a silicon oxide vapor deposition film having a thickness of 15 nm is formed as described above, this is attached to the feed roll of the winding type vacuum vapor deposition apparatus shown in FIG. Next, this was fed out, and a magnetron sputtering apparatus was used to convey the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on the surface of the adhesion assistant layer made of a 15 nm thick silicon oxide vapor deposition film at a line speed of 600 m / min. Then, 500 sccm of argon gas is introduced, plasma treatment is performed at an output of 20 kW to form a plasma treatment surface, and then oxygen is used for the plasma treatment surface using aluminum as a vapor deposition source and aluminum oxygen as a vapor deposition source. While supplying the gas, the following vapor deposition conditions were applied by the vacuum vapor deposition method using the electron beam (EB) heating method. To form a deposited film of aluminum oxide having a thickness of 20 nm.
(Deposition conditions)
Degree of vacuum in the deposition chamber; 2 × 10 -4 mbar
Degree of vacuum in winding chamber; 2 × 10 -2 mbar
Electron beam power: 25 kW
Film transport speed: 600 m / min
Next, immediately after forming a 20 nm-thick aluminum oxide vapor deposition film as described above, a glow discharge plasma generator is used on the aluminum oxide vapor deposition film surface, and the power is 9 kW, oxygen gas (O 2 ): argon gas. (Ar) = 7.0: 2.5 (unit: Slm) is used, oxygen / argon mixed gas plasma treatment is performed at a mixed gas pressure of 6.0 × 10 −2 mbar and a processing speed of 600 m / min. As a result, a plasma-treated surface was formed in which the surface tension of the vapor deposition film surface of aluminum oxide was improved by 54 dyne / cm or more.
(3). On the other hand, according to the composition shown in Table 1 below, the composition a. Composition prepared in advance in EVOH solution in which EVOH (
(Table 1)
a EVOH (
Isopropyl alcohol 3.294
H 2 O 2.196
b Ethyl silicate 40 11.460
Isopropyl alcohol 17.662
Aluminum acetylacetone 0.020
H 2 O 13.752
c Polyvinyl alcohol 1.520
Silane coupling agent 0.050
Isopropyl alcohol 13.844
H 2 O 35.462
Acetic acid 0.130
Total 100.000 (wt%)
Next, the plasma-treated surface formed in the above (2) is coated with the gas barrier composition produced above by the gravure roll coat method, and then heat-treated at 100 ° C. for 30 seconds. Then, a gas barrier coating film having a thickness of 0.4 g / m 2 (in a dry operation state) was formed to produce a barrier film.
(4). Next, after forming a desired printing pattern on the surface of the gas barrier coating film of the barrier film formed in (3) above, a two-component curable polyurethane laminating film is formed on the entire surface including the printing pattern. The adhesive for coating is coated to a thickness of 4.0 g / m 2 (in a dry state) using a gravure roll coating method to form an adhesive layer for laminating, and then the adhesive for laminating A biaxially stretched
Next, after applying the corona discharge treatment to the surface of the biaxially stretched
(5). Next, two sheets of the laminated material produced above are prepared, the non-stretched polypropylene film faces are overlapped with each other, and then the outer peripheral edge is sealed in a three-way heat seal. A three-sided seal-type flexible packaging bag having an opening portion and an opening on the upper side was manufactured. In the three-sided seal type soft packaging bag produced above, water is filled and packaged from the opening, and then the opening is heat sealed to form the upper seal. A semi-finished packaging product is manufactured, and then the semi-finished packaging product is placed in a retort kettle and subjected to retort treatment under conditions of temperature, 120 ° C., pressure, 2.1 kgf / cm 2 · G, time, 30 minutes. Retort packaged food was manufactured.
（実験例）
上記の実施例１〜４、および、比較例１〜２において製造したバリア性フィルムについて、酸素透過度、水蒸気透過度、および、黄色度Ｙｉを測定した。
また、上記の実施例１〜４、および、比較例１〜２において製造したバリア性フィルム使用して製造した積層材を製袋して製造した包装用袋について、レトルト処理前後の酸素透過度、水蒸気透過度、および、ラミネ−ト強度を測定した。
（１）．酸素透過度の測定
これは、温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、オクストラン（ＯＸＴＲＡＮ）〕にて測定した。
（２）．水蒸気透過度の測定
これは、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件で、米国、モコン（ＭＯＣＯＮ）社製の測定機〔機種名、パ−マトラン（ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）〕にて測定した。
（３）．黄色度（Ｙｉ）の測定
これは、スガ試験機株式会社製、機種名、カラ−コンピュ−タ−を使用して測定した。 （４）．ラミネ−ト強度の測定
これは、テンシロン測定器で測定した。
上記の測定結果について、下記の表４、および、表５に示す。
(Experimental example)
About the barrier film manufactured in said Examples 1-4 and Comparative Examples 1-2, oxygen permeability, water vapor permeability, and yellowness Yi were measured.
Moreover, about the packaging bag manufactured by bag-making the laminated material manufactured using the barrier film manufactured in said Examples 1-4 and Comparative Examples 1-2, oxygen permeability before and behind a retort process, The water vapor transmission rate and the laminating strength were measured.
(1). Measurement of oxygen permeability This was measured with a measuring instrument (model name, OXTRAN) manufactured by MOCON, USA, under conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.
(2). Measurement of water vapor transmission rate This was measured with a measuring instrument (model name, PERMATRAN) manufactured by MOCON, USA, under conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH.
(3). Measurement of Yellowness (Yi) This was measured using Suga Test Instruments Co., Ltd., model name, color computer. (4). Measurement of Laminate Strength This was measured with a Tensilon measuring instrument.
The measurement results are shown in Table 4 and Table 5 below.
（表４）
┌────┬───────┬────────┬─────────┐ │ │ 酸素透過度 │ 水蒸気透過度 │ 黄色度（Ｙｉ） │ ├────┼───────┼────────┼─────────┤ │実施例１│ ０．５２ │ ０．４５ │ ０．５ │ ├────┼───────┼────────┼─────────┤ │実施例２│ ０．４９ │ ０．４２ │ ０．６ │ ├────┼───────┼────────┼─────────┤ │実施例３│ ０．４９ │ ０．７８ │ ０．６ │ ├────┼───────┼────────┼─────────┤ │実施例４│ ０．４４ │ ０．５５ │ ０．７ │ ├────┼───────┼────────┼─────────┤ │比較例１│ ０．６６ │ １．２０ │ ０．１ │ ├────┼───────┼────────┼─────────┤ │比較例２│ ０．４０ │ ０．３５ │ １．４ │ └────┴───────┴────────┴─────────┘ 上記の表４において、酸素透過度の単位は、〔ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ／ａｔｍ・２３℃・９０％ＲＨ〕であり、水蒸気透過度の単位は、〔ｇ／ｍ2 ／ｄａｙ・４０℃・９０％ＲＨ〕である。
(Table 4)
┌────┬───────┬────────┬─────────┐ │ │ Oxygen permeability │ Water vapor permeability │ Yellowness (Yi) │ ├ ────┼───────┼────────┼─────────┤ │Example 1│ 0.52 │ 0.45 │ 0.5 │ ├ ────┼───────┼────────┼─────────┤ │Example 2│ 0.49 │ 0.42 │ 0.6 │ │ ────┼───────┼────────┼─────────┤ │Example 3│ 0.49 │ 0.78 │ 0.6 │ │ ────┼───────┼────────┼─────────┤ │Example 4│ 0.44 │ 0.55 │ 0.7 │ ├ ────┼───────┼────────┼─────────┤ │Comparison 1│ 0.66 │ 1.20 │ .1 │ ├────┼───────┼────────┼─────────┤ │Comparative Example 2│ 0.40 │ 0.35 │ 1 4 │ └────┴───────┴────────┴─────────┘ In Table 4 above, the unit of oxygen permeability is [ cc / m 2 / day / atm · 23 ° C. · 90% RH], and the unit of water vapor permeability is [g / m 2 / day · 40 ° C. · 90% RH].
（表５）
┌────┬───────────┬───────────┐ │ │ 酸素透過度 │ 水蒸気透過度 │ │ ├─────┬─────┼─────┬─────┤ │ │レトルト前│レトルト後│レトルト前│レトルト後│ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │実施例１│０．４５ │０．７２ │０．３６ │０．８１ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │実施例２│０．４１ │０．８３ │０．３３ │０．７５ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │実施例３│０．４０ │０．８０ │０．６０ │０．８５ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │実施例４│０．３５ │０．７７ │０．５５ │０．８０ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │比較例１│０．５６ │０．９３ │０．８４ │１．３５ │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │比較例２│０．３５ │０．６７ │０．３２ │０．７７ │ └────┴─────┴─────┴─────┴─────┘
┌────┬───────────┐ │ │ ラミネ−ト強度 │ │ ├─────┬─────┤ │ │レトルト前│レトルト後│ ├────┼─────┼─────┤ │実施例１│ ５５０ │ ３７０ │ ├────┼─────┼─────┤ │実施例２│ ７７０ │ ４５０ │ ├────┼─────┼─────┤ │実施例３│ ７７０ │ ４５０ │ ├────┼─────┼─────┤ │実施例４│ ７１０ │ ４４０ │ ├────┼─────┼─────┤ │比較例１│ ３５０ │ ５５ │ ├────┼─────┼─────┤ │比較例２│ ７００ │ ４３０ │ └────┴─────┴─────┘ 上記の表５において、酸素透過度の単位は、〔ｃｃ／ｍ2 ／ｄａｙ／ａｔｍ・ ２３℃・９０％ＲＨ〕であり、水蒸気透過度の単位は、〔ｇ／ｍ2 ／ｄａｙ・４０℃・９０％ＲＨ〕であリ、ラミネ−ト強度の単位は、［ｇｆ／１５ｍｍ］である。
(Table 5)
┌────┬───────────┬───────────┐ │ │ Oxygen permeability │ Water vapor permeability │ │ ├ ─────┬── ───┼─────┬ ─────┤ │ │Before retort │After retort │Before retort │After retort │ ├────┼─────┼─────┼── ───┼─────┤ │Example 1│0.45 │0.72 │0.36 │0.81 │ ├────┼─────┼─────┼── ────┼─────┤ │Example 2│0.41 │0.83 │0.33 │0.75 │ ├────┼─────┼─────┼ ─────┼─────┤ │Example 3│0.40 │0.80 │0.60 │0.85 │ ├────┼─────┼───── │Example 4│0.35 │0.77 │0.55 │0.80 │ ────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │Comparative Example 1│0.56 │0.93 │0.84 │1.35 │ ├────┼─────┼─────┼─────┼─────┤ │Comparative Example 2│0.35 │0.67 │0.32 │0.77 │ └────┴─────┴─────┴─────┴─────┘
┌────┬───────────┐ │ │ Laminate strength │ │ ├────┬─────┤ │ │Before retort │After retort │ ├── ──┼─────┼─────┤ │Example 1│ 550 │ 370 │ ├────┼─────┼─────┤ │Example 2 │ 770 │ 450 │ ├────┼─────┼─────┤ │Example 3│ 770 │ 450 │ ├────┼─────┼─────┤ │Example 4 │ 710 │ 440 │ ├────┼─────┼─────┤ │ Comparative Example 1 │ 350 │ 55 │ ├────┼─────┼─────┤ │Comparative Example 2│ 700 │ 430 │ └────┴────┴─────┘ In Table 5 above, the unit of oxygen permeability is [cc / m 2 / day / atm · 23 ° C./90% RH] and water vapor Excessive units [g / m 2 / day · 40 ℃ · 90% RH ] der Li, lamination - DOO intensity units are [gf / 15mm].
上記の表４および表５に示す測定結果から明らかなように、実施例１〜４にかかるものは、酸素透過度および水蒸気透過度において十分に実用性を有するものであることが確認され、また、黄色度、ラミネ−ト強度等においても優れ、更に、透明性を有し、内容物の視認性に優れているものであった。
これに対し、比較例１にかかるものは、水蒸気透過度、ラミネ−ト強度等において劣り、また、比較例２にかかるものは、黄色度において劣るものであった。
As is clear from the measurement results shown in Table 4 and Table 5 above, it was confirmed that the samples according to Examples 1 to 4 were sufficiently practical in terms of oxygen permeability and water vapor permeability. Further, it was excellent in yellowness, laminating strength, etc., and further had transparency and excellent visibility of contents.
On the other hand, those according to Comparative Example 1 were inferior in water vapor transmission rate and laminating strength, and those according to Comparative Example 2 were inferior in yellowness.
本発明に係るバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材、更に、それを使用して製袋した包装用袋は、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するバリア性、特に、水蒸気バリア性に優れ、更に、積層材の密着性に優れ、例えば、レトルト処理等の加工に伴う熱処理に耐え、更に、容器・包装ごみの軽量化、減量化等を図ると共にその製造工捏の短縮化によりその製造コストの低減化を図り、例えば、調理食品、水産練り製品、冷凍食品、煮物、餅、液体スープ、調味料、飲料水、その他等の各種の飲食品を充填包装するに有用であり、かつ、その内容物の充填包装適性、品質保全性等に優れているものである。 The barrier film according to the present invention and the laminated material using the same, and the packaging bag made using the same are excellent in barrier properties for preventing permeation of oxygen gas, water vapor, etc., in particular, in water vapor barrier properties. Furthermore, it has excellent adhesion to the laminated material, for example, withstands heat treatment associated with processing such as retort processing, and further reduces the weight and weight of containers and packaging waste, and shortens the manufacturing process. For example, it is useful for filling and packaging various foods and beverages such as cooked foods, marine products, frozen foods, boiled foods, rice cakes, liquid soups, seasonings, drinking water, etc. It is excellent in filling and packing of contents and quality maintenance.
Ａ バリア性フィルム
Ｂ、Ｂ1 、Ｂ2 積層材
Ｃ 包装用袋
Ｄ 包装半製品
Ｅ 包装製品
１ 基材フィルム
２ 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる密着助剤層
３ 物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜
４ ガスバリア性塗布膜
５ ヒ−トシ−ル性樹脂層
６ 中間基材
７ プラスチック基材
１１ ヒ−トシ−ル部
１２ 開口部
１３ 内容物
１４ 上方のシ−ル部
A barrier film B, B 1 , B 2 laminated material C packaging bag D packaging semi-finished product
Claims (10)
次に、該密着助剤層の上に、物理気相成長法による、膜厚１００〜１０００Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を設け、
更に、該酸化アルミニウムの蒸着膜の面上に、一般式Ｒ1 nＭ（ＯＲ2）m（ただし、式中、Ｒ1、Ｒ2は、炭素数１〜８の有機基を表し、Ｍは、金属原子を表し、ｎは、０以上の整数を表し、ｍは、１以上の整数を表し、ｎ＋ｍは、Ｍの原子価を表す。）で表される少なくとも１種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコ−ル系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコ−ル共重合体とを含有し、更に、ゾルーゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾルゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設け、
かつ、当該ガスバリア性塗布膜が、ガスバリア性組成物を塗工して塗工膜を設けた基材フィルムを、２０℃〜１８０℃で、かつ、上記の基材フィルムの融点以下の温度で１０秒〜１０分間加熱処理した硬化膜からなることを特徴とするバリア性フィルム。 A chemical vapor phase that improves the adhesion between the base film and a vapor deposition film of aluminum oxide by physical vapor deposition, which will be described later, and prevents the occurrence of delamination on one surface of the base film. An adhesion assistant layer made of a deposited film of silicon oxide having a thickness of 3 nm to 10 nm is provided by a growth method,
Next, a vapor deposition film of aluminum oxide having a thickness of 100 to 1000 mm by physical vapor deposition is provided on the adhesion aid layer,
Furthermore, on the surface of the vapor-deposited film of aluminum oxide, a general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms; Represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M.) and polyvinyl A gas barrier obtained by polycondensation by a sol-gel method in the presence of a sol-gel method catalyst, an acid, water, and an organic solvent, containing an alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer A gas barrier coating film is formed with a functional composition,
And the said gas-barrier coating film is 10 to 20 degreeC-180 degreeC and the temperature below the melting | fusing point of said base film, applying the base material film which apply | coated the gas-barrier composition and provided the coating film. barrier film characterized in Rukoto such a cured film of seconds to 10 minutes heat treatment.
Barrier film water, as described in any one of the above claims 1-9, characterized in that it is used in a proportion of 0.1 to 100 moles relative to alkoxide mole.
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