JP2006100186A - Organic el display device - Google Patents

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JP2006100186A JP2004286826A JP2004286826A JP2006100186A JP 2006100186 A JP2006100186 A JP 2006100186A JP 2004286826 A JP2004286826 A JP 2004286826A JP 2004286826 A JP2004286826 A JP 2004286826A JP 2006100186 A JP2006100186 A JP 2006100186A
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Shirou Sumida
祉朗 炭田
Hiroshi Sano
浩 佐野
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Japan Display Central Inc
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Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent occurrence of display unevenness of stripe shape which can be visible in the display picture when hollow sealing is carried out in an EL display device of an upper side emission type. <P>SOLUTION: The organic EL display device 1 is of the upper side emission type and is equipped with an array substrate 2 having an insulating substrate 10 and a plurality of organic EL elements 40 arranged on its one main surface and a sealing substrate 3 which faces the plurality of organic EL elements 40 and are separated away from the organic EL elements 40. The spacing between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 is either filled with a material having a refractive index smaller than that of the front electrode 43 of the organic EL element 40 or vacuum, and the variation Δd in the distance d from the organic EL element 40 to the sealing substrate 3 and the refractive index Δn of the spacing between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 satisfy a relation as shown in the inequality: n×Δd≤1 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置に関する。   The present invention relates to an organic EL (electroluminescence) display device.

有機EL素子は、水分や酸素などと接触すると、容易に劣化する。したがって、有機EL表示装置では、有機EL素子を封止して、有機EL素子と水分や酸素などとの接触を防止している。   An organic EL element easily deteriorates when it comes into contact with moisture or oxygen. Therefore, in the organic EL display device, the organic EL element is sealed to prevent contact between the organic EL element and moisture or oxygen.

有機EL素子の封止方法としては、中空封止と薄膜封止とがある。中空封止では、例えば、ガラス等の封止基板を、アレイ基板の有機EL素子が形成された面と向き合うように及びアレイ基板から離間するように配置する。そして、それら基板の対向面周縁部同士を接着剤で貼り合わせて、中空体を形成する。この中空体の内部空間は、例えば、不活性ガスで満たすか又は真空とする。この場合、典型的には、有機EL表示装置に下面発光型を採用すると共に、先の内部空間に乾燥剤をさらに配置する。   As a sealing method of the organic EL element, there are hollow sealing and thin film sealing. In the hollow sealing, for example, a sealing substrate such as glass is disposed so as to face the surface of the array substrate on which the organic EL element is formed and to be separated from the array substrate. And the opposing surface peripheral parts of these board | substrates are bonded together with an adhesive agent, and a hollow body is formed. The internal space of the hollow body is filled with an inert gas or is evacuated, for example. In this case, typically, a bottom emission type is adopted for the organic EL display device, and a desiccant is further disposed in the inner space.

このように、中空封止を行う場合には、有機EL表示装置に下面発光型を採用するのが一般的である。本発明者らは、これに反し、上面発光型の有機EL表示装置で上記の中空封止を行った。その結果、本発明者らは、上面発光型の有機EL表示装置で中空封止を行うと、表示画像に縞状の表示ムラが生じる可能性があることを見出した。   As described above, when hollow sealing is performed, it is common to adopt a bottom emission type for an organic EL display device. On the contrary, the present inventors performed the above-described hollow sealing with a top emission type organic EL display device. As a result, the present inventors have found that striped display unevenness may occur in a display image when hollow sealing is performed with a top emission type organic EL display device.

本発明の目的は、上面発光型の有機EL表示装置で中空封止を行った場合に、表示画像中に視認され得る縞状の表示ムラが生じるのを防止することにある。   An object of the present invention is to prevent striped display unevenness that can be visually recognized in a display image when hollow sealing is performed in a top emission type organic EL display device.

本発明の第1側面によると、絶縁基板とその一主面上で配列した複数の有機EL素子とを備えたアレイ基板と、前記複数の有機EL素子と向き合うと共にそれら有機EL素子から離間した封止基板とを具備し、前記アレイ基板と前記封止基板との間の空間は、前記有機EL素子の前面電極と比較して屈折率がより小さな材料が充填されているか又は真空であり、前記有機EL素子から前記封止基板までの距離dのばらつきΔdと、前記アレイ基板と前記封止基板との間の前記空間の屈折率nとは、不等式:n×Δd≦1μmに示す関係を満足していることを特徴とする上面発光型の有機EL表示装置が提供される。   According to a first aspect of the present invention, an array substrate comprising an insulating substrate and a plurality of organic EL elements arranged on one main surface thereof, and a seal facing the plurality of organic EL elements and spaced apart from the organic EL elements. A space between the array substrate and the sealing substrate is filled with a material having a refractive index smaller than that of the front electrode of the organic EL element or is a vacuum, The variation Δd of the distance d from the organic EL element to the sealing substrate and the refractive index n of the space between the array substrate and the sealing substrate satisfy the relationship represented by the inequality: n × Δd ≦ 1 μm. Thus, a top emission type organic EL display device is provided.

本発明の第2側面によると、絶縁基板とその一主面上で配列した複数の有機EL素子とを備えたアレイ基板と、前記複数の有機EL素子と向き合うと共にそれら有機EL素子から離間した封止基板とを具備し、前記アレイ基板と前記封止基板との間の空間は、前記有機EL素子の前面電極と比較して屈折率がより小さな材料が充填されているか又は真空であり、前記有機EL素子から前記封止基板までの距離dと、前記アレイ基板と前記封止基板との間の前記空間の屈折率nとは、不等式:n×d≧20μmに示す関係を満足していることを特徴とする上面発光型の有機EL表示装置が提供される。   According to the second aspect of the present invention, an array substrate comprising an insulating substrate and a plurality of organic EL elements arranged on one main surface thereof, and a seal facing the plurality of organic EL elements and spaced apart from the organic EL elements. A space between the array substrate and the sealing substrate is filled with a material having a refractive index smaller than that of the front electrode of the organic EL element or is a vacuum, The distance d from the organic EL element to the sealing substrate and the refractive index n of the space between the array substrate and the sealing substrate satisfy the relationship shown by the inequality: n × d ≧ 20 μm. A top emission organic EL display device is provided.

本発明の第3側面によると、絶縁基板とその一主面上で配列した複数の有機EL素子とを備えたアレイ基板と、前記複数の有機EL素子と向き合うと共にそれら有機EL素子から離間した封止基板とを具備し、前記アレイ基板と前記封止基板との間の空間は、前記有機EL素子の前面電極と比較して屈折率がより小さな材料が充填されているか又は真空であり、前記封止基板の前記アレイ基板との対向面のうち、前記複数の有機EL素子と向き合っている第1領域の中央は、前記接着剤層と接触している第2領域に対して凹んでおり、前記第1領域の前記第2領域との境界近傍において、前記封止基板の前記アレイ基板との対向面は前記絶縁基板の前記主面に対して傾斜し、この傾斜部の少なくとも一部では、勾配δd/δLと、前記アレイ基板と前記封止基板との間の前記空間の屈折率nとが、不等式:n×δd/δL≧1/2000に示す関係を満足していることを特徴とする上面発光型の有機EL表示装置が提供される。   According to the third aspect of the present invention, an array substrate comprising an insulating substrate and a plurality of organic EL elements arranged on one main surface thereof, and a seal facing the plurality of organic EL elements and spaced apart from the organic EL elements. A space between the array substrate and the sealing substrate is filled with a material having a refractive index smaller than that of the front electrode of the organic EL element or is a vacuum, Of the surface of the sealing substrate facing the array substrate, the center of the first region facing the plurality of organic EL elements is recessed with respect to the second region in contact with the adhesive layer, In the vicinity of the boundary between the first region and the second region, the surface of the sealing substrate that faces the array substrate is inclined with respect to the main surface of the insulating substrate. The gradient δd / δL and the array base The top emission organic EL display characterized in that the refractive index n of the space between the plate and the sealing substrate satisfies the relationship shown by the inequality: n × δd / δL ≧ 1/2000 An apparatus is provided.

本発明によると、上面発光型の有機EL表示装置で中空封止を行った場合に、表示画像中に視認され得る縞状の表示ムラが生じるのを防止することが可能となる。   According to the present invention, when hollow sealing is performed with a top emission type organic EL display device, it is possible to prevent the occurrence of striped display unevenness that can be visually recognized in a display image.

以下、本発明の態様について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において、同様または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In each figure, the same reference numerals are given to components that exhibit the same or similar functions, and duplicate descriptions are omitted.

図1は、本発明の第1態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す断面図である。図2は、図1の有機EL表示装置を拡大して示す部分断面図である。なお、図1及び図2では、有機EL表示装置を、その表示面,すなわち前面または光出射面,が上方を向き、背面が下方を向くように描いている。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL display device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the organic EL display device of FIG. 1 in an enlarged manner. In FIGS. 1 and 2, the organic EL display device is drawn so that its display surface, that is, the front surface or the light emitting surface faces upward, and the back surface faces downward.

図1に示す有機EL表示装置1は、アクティブマトリクス型駆動方式を採用した上面発光型の有機EL表示装置である。この有機EL表示装置1は、アレイ基板2と封止基板3とを含んでいる。   An organic EL display device 1 shown in FIG. 1 is a top emission type organic EL display device that employs an active matrix driving method. The organic EL display device 1 includes an array substrate 2 and a sealing substrate 3.

アレイ基板2と封止基板3とは、互いに向き合うように配置されている。また、アレイ基板2と封止基板3との対向面周縁部間には、接着剤層4が介在している。接着剤層4は枠形状を有しており、アレイ基板2及び封止基板3との間に気密空間を形成している。この気密空間は、例えば窒素ガスなどの不活性ガスが充填されているか又は真空である。   The array substrate 2 and the sealing substrate 3 are disposed so as to face each other. An adhesive layer 4 is interposed between the peripheral portions of the opposing surfaces of the array substrate 2 and the sealing substrate 3. The adhesive layer 4 has a frame shape, and forms an airtight space between the array substrate 2 and the sealing substrate 3. This hermetic space is filled with an inert gas such as nitrogen gas or is in a vacuum.

アレイ基板2と封止基板3との結合には、接着剤層4を利用する代わりに、フリットシールなどを利用してもよい。また、アレイ基板2及び封止基板3との間の空間は、例えば透明樹脂などの低屈折率材料を充填してもよい。   Instead of using the adhesive layer 4, a frit seal or the like may be used for bonding the array substrate 2 and the sealing substrate 3. Further, the space between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 may be filled with a low refractive index material such as a transparent resin.

アレイ基板2は、例えば、ガラス基板などの絶縁基板10を含んでいる。絶縁基板10上では、複数の画素がマトリクス状に配列している。   The array substrate 2 includes an insulating substrate 10 such as a glass substrate. On the insulating substrate 10, a plurality of pixels are arranged in a matrix.

各画素は、画素回路と有機EL素子40とを含んでいる。画素回路は、例えば、一対の電源端子間で有機EL素子40と直列に接続された駆動制御素子(図示せず)及び出力制御スイッチ20と、画素スイッチ(図示せず)とを含んでいる。駆動制御素子は、その制御端子が画素スイッチを介して映像信号線(図示せず)に接続されており、映像信号線から供給される映像信号に対応した大きさの電流を出力制御スイッチ20を介して有機EL素子40へ出力する。また、画素スイッチの制御端子は走査信号線(図示せず)に接続されており、走査信号線から供給される走査信号によりスイッチング動作が制御される。なお、これら画素には、他の構造を採用することも可能である。   Each pixel includes a pixel circuit and an organic EL element 40. The pixel circuit includes, for example, a drive control element (not shown) and an output control switch 20 connected in series with the organic EL element 40 between a pair of power supply terminals, and a pixel switch (not shown). The drive control element has a control terminal connected to a video signal line (not shown) via a pixel switch, and outputs a current having a magnitude corresponding to the video signal supplied from the video signal line to the output control switch 20. To the organic EL element 40. The control terminal of the pixel switch is connected to a scanning signal line (not shown), and the switching operation is controlled by the scanning signal supplied from the scanning signal line. Note that other structures may be employed for these pixels.

基板10上には、アンダーコート層12として、例えば、SiNx層とSiOx層とが順次積層されている。アンダーコート層12上には、例えばチャネル及びソース・ドレインが形成されたポリシリコン層である半導体層13、例えばTEOS(TetraEthyl OrthoSilicate)などを用いて形成され得るゲート絶縁膜14、及び例えばMoWなどからなるゲート電極15が順次積層されており、それらはトップゲート型の薄膜トランジスタ(以下、TFTという)を構成している。この例では、これらTFTは、画素スイッチ、出力制御スイッチ20、駆動制御素子のTFTとして利用している。また、ゲート絶縁膜14上には、ゲート電極15と同一の工程で形成可能な走査信号線(図示せず)がさらに配置されている。 On the substrate 10, for example, a SiN x layer and a SiO x layer are sequentially stacked as the undercoat layer 12. On the undercoat layer 12, for example, a semiconductor layer 13, which is a polysilicon layer in which a channel and source / drain are formed, a gate insulating film 14 that can be formed using, for example, TEOS (TetraEthyl OrthoSilicate), etc., and MoW, for example, The gate electrodes 15 are sequentially stacked, and they constitute a top gate type thin film transistor (hereinafter referred to as TFT). In this example, these TFTs are used as pixel switches, output control switches 20, and drive control element TFTs. A scanning signal line (not shown) that can be formed in the same process as the gate electrode 15 is further disposed on the gate insulating film 14.

ゲート絶縁膜14及びゲート電極15は、例えばプラズマCVD法などにより成膜されたSiOxなどからなる層間絶縁膜17で被覆されている。層間絶縁膜17上にはソース・ドレイン電極21が配置されており、それらは、例えばSiNxなどからなるパッシベーション膜18で埋め込まれている。ソース・ドレイン電極21は、例えば、Mo/Al/Moの三層構造を有しており、層間絶縁膜17に設けられたコンタクトホールを介してTFTのソース・ドレインに電気的に接続されている。また、層間絶縁膜17上には、ソース・ドレイン電極21と同一の工程で形成可能な映像信号線(図示せず)がさらに配置されている。 The gate insulating film 14 and the gate electrode 15 are covered with an interlayer insulating film 17 made of, for example, SiO x formed by a plasma CVD method or the like. A source / drain electrode 21 is disposed on the interlayer insulating film 17 and is buried with a passivation film 18 made of, for example, SiN x . The source / drain electrode 21 has, for example, a three-layer structure of Mo / Al / Mo, and is electrically connected to the source / drain of the TFT through a contact hole provided in the interlayer insulating film 17. . Further, video signal lines (not shown) that can be formed in the same process as the source / drain electrodes 21 are further arranged on the interlayer insulating film 17.

パッシベーション膜18上には、平坦化層19が形成されている。平坦化層19上には、反射層70が配置されている。平坦化層19の材料としては、例えば、硬質樹脂を使用することができる。反射層70の材料としては、例えば、Alなどの金属材料を使用することができる。   A planarization layer 19 is formed on the passivation film 18. A reflective layer 70 is disposed on the planarization layer 19. As a material for the planarization layer 19, for example, a hard resin can be used. As a material of the reflective layer 70, for example, a metal material such as Al can be used.

平坦化層19及び反射層70は、光取り出し層30で被覆されている。この光取り出し層30は必ずしも設けなくてもよいが、光取り出し層30を設けると、有機EL素子40の内部で反射を繰り返しながら膜面方向に伝播する光の進行方向を変えることができる。こうすると、有機EL素子40の発光層が放出する光を有機EL素子40の外部へと高い効率で取り出すことを可能とする。光取り出し層30としては、例えば、光散乱層や回折格子などを使用することができる。   The planarizing layer 19 and the reflective layer 70 are covered with the light extraction layer 30. The light extraction layer 30 is not necessarily provided. However, when the light extraction layer 30 is provided, the traveling direction of light propagating in the film surface direction can be changed while repeating reflection inside the organic EL element 40. This makes it possible to extract light emitted from the light emitting layer of the organic EL element 40 to the outside of the organic EL element 40 with high efficiency. As the light extraction layer 30, for example, a light scattering layer or a diffraction grating can be used.

光取り出し層30上には、背面電極として、光透過性の第1電極41が互いから離間して並置されている。各第1電極41は、反射層70と向き合うように配置されている。また、各第1電極41は、パッシベーション膜18と平坦化層19と光取り出し層30とに設けた貫通孔を介して、ドレイン電極21に接続されている。   On the light extraction layer 30, light transmissive first electrodes 41 are juxtaposed apart from each other as a back electrode. Each first electrode 41 is disposed to face the reflective layer 70. In addition, each first electrode 41 is connected to the drain electrode 21 through a through hole provided in the passivation film 18, the planarization layer 19, and the light extraction layer 30.

第1電極41は、この例では陽極である。第1電極41の材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)のような透明導電性酸化物を使用することができる。   The first electrode 41 is an anode in this example. As a material of the first electrode 41, for example, a transparent conductive oxide such as ITO (Indium Tin Oxide) can be used.

光取り出し層30上には、さらに、隔壁絶縁層50が配置されている。この隔壁絶縁層50には、第1電極41に対応した位置に貫通孔が設けられている。隔壁絶縁層50は、例えば、有機絶縁層であり、フォトリソグラフィ技術を用いて形成することができる。   A partition insulating layer 50 is further disposed on the light extraction layer 30. The partition insulating layer 50 is provided with a through hole at a position corresponding to the first electrode 41. The partition insulating layer 50 is an organic insulating layer, for example, and can be formed using a photolithography technique.

隔壁絶縁層50の貫通孔内で露出した第1電極41上には、発光層を含んだ有機物層42が配置されている。発光層は、例えば、発光色が赤色、緑色、または青色のルミネセンス性有機化合物を含んだ薄膜である。この有機物層42は、発光層以外の層をさらに含むことができる。例えば、有機物層42は、第1電極41から発光層への正孔の注入を媒介する役割を果たすバッファ層をさらに含むことができる。また、有機物層42は、正孔輸送層、正孔ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層などもさらに含むことができる。   An organic layer 42 including a light emitting layer is disposed on the first electrode 41 exposed in the through hole of the partition insulating layer 50. The light emitting layer is, for example, a thin film containing a luminescent organic compound whose emission color is red, green, or blue. The organic layer 42 can further include layers other than the light emitting layer. For example, the organic layer 42 may further include a buffer layer that plays a role in mediating injection of holes from the first electrode 41 to the light emitting layer. In addition, the organic layer 42 may further include a hole transport layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like.

隔壁絶縁層50及び有機物層42は、前面電極である光透過性の第2電極43で被覆されている。第2電極43は、この例では、各画素共通に連続して設けられた陰極である。第2電極43は、パッシベーション膜18と平坦化層19と光取り出し層30と隔壁絶縁層50とに設けられたコンタクトホール(図示せず)を介して、映像信号線と同一の層上に形成された電極配線に電気的に接続されている。それぞれの有機EL素子40は、これら第1電極41、有機物層42及び第2電極43で構成されている。   The partition insulating layer 50 and the organic layer 42 are covered with a light transmissive second electrode 43 that is a front electrode. In this example, the second electrode 43 is a cathode provided continuously in common with each pixel. The second electrode 43 is formed on the same layer as the video signal line through a contact hole (not shown) provided in the passivation film 18, the planarizing layer 19, the light extraction layer 30, and the partition insulating layer 50. The electrode wiring is electrically connected. Each organic EL element 40 includes the first electrode 41, the organic material layer 42, and the second electrode 43.

さて、上記の通り、上面発光型の有機EL表示装置で中空封止を行うと、表示画像中に視認され得る縞状の表示ムラが生じることがある。本発明者らは、これについて詳細に調査した結果、この縞状の表示ムラは、アレイ基板2と封止基板3との間の距離のばらつきに起因した干渉縞であることを見出した。   As described above, when hollow sealing is performed with a top emission type organic EL display device, striped display unevenness that may be visually recognized in a display image may occur. As a result of detailed investigations on this, the present inventors have found that the striped display unevenness is an interference fringe resulting from a variation in the distance between the array substrate 2 and the sealing substrate 3.

本態様では、有機EL素子40から封止基板3までの距離dのばらつきΔd(3σ)と、アレイ基板2と封止基板3との間の空間の屈折率nとを、それらが下記不等式(1)に示す関係を満足するように定める。
n×Δd≦1μm…(1)
こうすると、干渉縞の発生自体を防止するか又は干渉縞の縞の間隔を十分に広げることができ、したがって、表示画像中に縞状の表示ムラが視認されるのを防止することが可能となる。
In this embodiment, the variation Δd (3σ) of the distance d from the organic EL element 40 to the sealing substrate 3 and the refractive index n of the space between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 are expressed by the following inequality ( It is determined so as to satisfy the relationship shown in 1).
n × Δd ≦ 1 μm (1)
In this way, it is possible to prevent the occurrence of interference fringes themselves or to sufficiently widen the intervals between the fringes of the interference fringes, and thus to prevent the striped display unevenness from being visually recognized in the display image. Become.

このように、表示画像中に縞状の表示ムラが視認されるのを防止するには、ばらつきΔdを小さくすればよい。ばらつきΔdは、例えば、以下の構造を採用することにより小さくすることができる。   In this way, in order to prevent the striped display unevenness from being visually recognized in the display image, the variation Δd may be reduced. The variation Δd can be reduced, for example, by adopting the following structure.

図3は、本発明の第1態様に係る有機EL表示装置で採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図である。図4は、図3の構造を拡大して示す部分断面図である。なお、図3及び図4では、有機EL表示装置を、その表示面,すなわち前面または光出射面,が上方を向き、背面が下方を向くように描いている。   FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a structure that can be employed in the organic EL display device according to the first aspect of the present invention. FIG. 4 is a partial sectional view showing the structure of FIG. 3 in an enlarged manner. 3 and 4, the organic EL display device is depicted such that its display surface, that is, the front surface or the light emitting surface, faces upward, and the back surface faces downward.

図3及び図4に示す構造では、アレイ基板2と封止基板3とは、隔壁絶縁層50の上面に対応した位置で互いに接触している。こうすると、ばらつきΔdを小さくすることができ、したがって、表示画像中に縞状の表示ムラが視認されるのを防止することが可能となる。   In the structure shown in FIGS. 3 and 4, the array substrate 2 and the sealing substrate 3 are in contact with each other at a position corresponding to the upper surface of the partition insulating layer 50. In this way, the variation Δd can be reduced, and therefore it is possible to prevent the striped display unevenness from being visually recognized in the display image.

なお、この構造では、封止基板3のアレイ基板2との対向面のうち、有機EL素子40と向き合っている第1領域は、接着剤層4と接触している第2領域に対して隆起している。ここでは、一例として、封止基板3として、透明基板80上に光透過層90を配置したものを使用している。光透過層90は、透明基板80のアレイ基板2との対向面のうち略中央部のみを被覆している。また、透明基板80は例えばガラス基板であり、光透過層90は例えばSiO2層などのように透明基板80と比較して屈折率がほぼ等しいか又は小さい層である。 In this structure, of the surface of the sealing substrate 3 facing the array substrate 2, the first region facing the organic EL element 40 is raised with respect to the second region in contact with the adhesive layer 4. is doing. Here, as an example, the sealing substrate 3 in which the light transmission layer 90 is disposed on the transparent substrate 80 is used. The light transmission layer 90 covers only the substantially central portion of the surface of the transparent substrate 80 facing the array substrate 2. The transparent substrate 80 is a glass substrate, for example, and the light transmission layer 90 is a layer having a refractive index substantially equal to or smaller than that of the transparent substrate 80 such as a SiO 2 layer.

このような封止基板3は、以下の点で有利である。
封止基板3のアレイ基板2との対向面が平坦である場合、アレイ基板2及び封止基板3の対向面同士を接触させるためには、接着剤層4を非常に薄くしなければならない。しかしながら、接着剤層4を薄くするべく、アレイ基板2と封止基板3との貼り合わせの際にそれら基板に加える圧力を高めると、接着剤層4の幅が不均一になり易い。
Such a sealing substrate 3 is advantageous in the following points.
When the opposing surface of the sealing substrate 3 to the array substrate 2 is flat, the adhesive layer 4 must be very thin in order to bring the opposing surfaces of the array substrate 2 and the sealing substrate 3 into contact with each other. However, if the pressure applied to the substrate when the array substrate 2 and the sealing substrate 3 are bonded together in order to make the adhesive layer 4 thin, the width of the adhesive layer 4 tends to be uneven.

図3及び図4の構造では、上記の通り、封止基板3のアレイ基板2との対向面のうち、有機EL素子40と向き合っている第1領域は、接着剤層4と接触している第2領域に対して隆起している。そのため、接着剤層4を薄くしなくとも、アレイ基板2及び封止基板3の対向面同士を接触させることができ、したがって、接着剤層4の幅が不均一になるのを防止することができる。   In the structure of FIGS. 3 and 4, the first region of the surface of the sealing substrate 3 facing the array substrate 2 facing the organic EL element 40 is in contact with the adhesive layer 4 as described above. Raised with respect to the second region. Therefore, even if the adhesive layer 4 is not thinned, the opposing surfaces of the array substrate 2 and the sealing substrate 3 can be brought into contact with each other, and therefore, the width of the adhesive layer 4 can be prevented from becoming uneven. it can.

次に、本発明の第2態様について説明する。
図5は、本発明の第2態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す断面図である。
Next, the second aspect of the present invention will be described.
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL display device according to the second embodiment of the present invention.

本態様では、表示画像中に縞状の表示ムラが視認されるのを防止すべく、第1態様で説明した距離dと屈折率nとを、それらが下記不等式(2)に示す関係を満足するように定める。
n×d≧20μm…(2)
すなわち、距離dを十分に長くする。これ以外は、第2態様は、第1態様と同様である。
In this aspect, the distance d and the refractive index n described in the first aspect satisfy the relationship represented by the following inequality (2) in order to prevent the striped display unevenness from being visually recognized in the display image. Determine to do.
n × d ≧ 20 μm (2)
That is, the distance d is made sufficiently long. Other than this, the second aspect is the same as the first aspect.

距離dを長くすると、干渉縞のコントラストが低下する。したがって、距離dを十分に短くすれば、表示画像中に縞状の表示ムラが視認されるのを防止することが可能となる。   Increasing the distance d decreases the contrast of the interference fringes. Therefore, if the distance d is made sufficiently short, it is possible to prevent the striped display unevenness from being visually recognized in the display image.

距離dは、例えば、約100μm以下としてもよい。距離dが長いと、有機EL表示装置1が厚くなると共に、その製造が難しくなる。   The distance d may be about 100 μm or less, for example. When the distance d is long, the organic EL display device 1 becomes thick and its manufacture becomes difficult.

ところで、封止基板3のアレイ基板2との対向面が平坦である場合、距離dを長くするのに対応して、接着剤層4を厚くしなければならない。この場合、距離dの正確な制御が難しくなることがある。   By the way, when the surface of the sealing substrate 3 facing the array substrate 2 is flat, the adhesive layer 4 has to be thickened corresponding to the increase in the distance d. In this case, accurate control of the distance d may be difficult.

図6乃至図8は、本発明の第2態様に係る有機EL表示装置で採用可能な構造の例を概略的に示す断面図である。なお、図6乃至図8では、絶縁基板10と第1電極41との間に介在した構成要素を省略している。   6 to 8 are cross-sectional views schematically showing examples of structures that can be employed in the organic EL display device according to the second aspect of the present invention. In FIG. 6 to FIG. 8, components interposed between the insulating substrate 10 and the first electrode 41 are omitted.

図6乃至図8の構造では、アレイ基板2と封止基板3との間に、スペーサ100を配置している。より具体的には、アレイ基板2と封止基板3との間であって隔壁絶縁層50の上面に対応した位置にスペーサ100を配置している。また、アレイ基板2と封止基板3とに挟まれた空間の圧力は、有機EL表示装置1の外部の圧力,例えば大気圧,よりも小さい。このような構造を採用すると、距離dを長くした場合であっても、そのばらつきΔdを小さくすることができる。   6 to 8, a spacer 100 is disposed between the array substrate 2 and the sealing substrate 3. More specifically, the spacer 100 is disposed between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 at a position corresponding to the upper surface of the partition insulating layer 50. The pressure in the space between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 is smaller than the pressure outside the organic EL display device 1, for example, atmospheric pressure. By adopting such a structure, even if the distance d is increased, the variation Δd can be reduced.

図6の構造では、スペーサ100として粒状スペーサを使用し、これらスペーサ100は、接着剤110により、封止基板3のアレイ基板2との対向面に接着している。封止基板3へのスペーサ100の接着には、例えば、接着剤110で表面処理した粒状スペーサ100を封止基板3上に散布すること、接着剤110と粒状スペーサ100とを含有した塗工液を封止基板上に塗布すること、封止基板3上に接着剤110を薄膜として形成し、その上に粒状スペーサ100を散布することなどを利用することができる。なお、これら粒状スペーサ100及び接着剤100の材料としては、典型的には、透明材料を使用する。   In the structure of FIG. 6, granular spacers are used as the spacers 100, and these spacers 100 are bonded to the surface of the sealing substrate 3 facing the array substrate 2 by an adhesive 110. For adhesion of the spacer 100 to the sealing substrate 3, for example, the granular spacer 100 surface-treated with the adhesive 110 is dispersed on the sealing substrate 3, and a coating liquid containing the adhesive 110 and the granular spacer 100 is used. Can be applied to the sealing substrate, the adhesive 110 can be formed as a thin film on the sealing substrate 3, and the granular spacers 100 can be dispersed on the adhesive 110. In addition, as a material of these granular spacer 100 and the adhesive agent 100, a transparent material is typically used.

図7の構造では、スペーサ100として柱状スペーサを使用している。加えて、図7の構造では、これらスペーサ100は、例えばフォトリソグラフィ技術を利用して、封止基板3のアレイ基板2との対向面上に形成している。柱状スペーサ100を封止基板3上に形成する場合、高い柱状スペーサ100を比較的容易に形成することができる。   In the structure of FIG. 7, a columnar spacer is used as the spacer 100. In addition, in the structure of FIG. 7, these spacers 100 are formed on the surface of the sealing substrate 3 facing the array substrate 2 by using, for example, a photolithography technique. When the columnar spacer 100 is formed on the sealing substrate 3, the high columnar spacer 100 can be formed relatively easily.

図8の構造では、図7の構造と同様、スペーサ100として柱状スペーサを使用している。但し、図8の構造では、これらスペーサ100は、例えばフォトリソグラフィ技術を利用して、アレイ基板2の封止基板3との対向面上に形成している。柱状スペーサ100をアレイ基板2上に形成する場合、アレイ基板2の封止基板3との貼り合わせに高い位置精度が要求されることはない。   In the structure of FIG. 8, a columnar spacer is used as the spacer 100 as in the structure of FIG. 7. However, in the structure of FIG. 8, these spacers 100 are formed on the surface of the array substrate 2 facing the sealing substrate 3 by using, for example, a photolithography technique. When the columnar spacer 100 is formed on the array substrate 2, high positional accuracy is not required for bonding the array substrate 2 to the sealing substrate 3.

次に、本発明の第3態様について説明する。
図9は、本発明の第3態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す断面図である。
Next, the third aspect of the present invention will be described.
FIG. 9 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL display device according to the third aspect of the present invention.

本態様では、図9に示すように、封止基板3のアレイ基板2との対向面のうち、有機EL素子40と向き合っている第1領域A1の中央を、接着剤層4と接触している第2領域A2に対して凹ませる。加えて、本態様では、第1領域A1の第2領域A2との境界近傍において、封止基板3のアレイ基板2との対向面を絶縁基板10の主面に対して傾斜させ、この傾斜部の少なくとも一部において、勾配δd/δLと、アレイ基板2と封止基板3との間の空間の屈折率nとを、それらが下記不等式(3)に示す関係を満足するように定める。
n×δd/δL≧1/2000…(3)
これ以外は、第3態様は、第1態様と同様である。
In this aspect, as shown in FIG. 9, the center of the first region A1 facing the organic EL element 40 in the surface facing the array substrate 2 of the sealing substrate 3 is in contact with the adhesive layer 4. The second region A2 is recessed. In addition, in this aspect, in the vicinity of the boundary between the first region A1 and the second region A2, the surface of the sealing substrate 3 facing the array substrate 2 is inclined with respect to the main surface of the insulating substrate 10, and this inclined portion At least in part, the gradient δd / δL and the refractive index n of the space between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 are determined so that they satisfy the relationship represented by the following inequality (3).
n × δd / δL ≧ 1/2000 (3)
Except for this, the third aspect is the same as the first aspect.

勾配δd/δLが大きい場合、第1領域A1の第2領域A2との境界近傍に生じる干渉縞の縞の幅及び間隔が狭くなる。勾配δd/δLが十分に大きくすれば、干渉縞の縞の幅及び間隔を、個々の縞を識別できないほどに狭くすることができる。したがって、表示画像中に縞状の表示ムラが視認されるのを防止することが可能となる。   When the gradient δd / δL is large, the fringe width and interval of the interference fringes generated near the boundary between the first region A1 and the second region A2 are reduced. If the gradient δd / δL is sufficiently large, the width and interval of the interference fringes can be made so narrow that individual fringes cannot be identified. Therefore, it is possible to prevent the striped display unevenness from being visually recognized in the display image.

勾配δd/δLの最大値は、例えば、約1/100以下としてもよい。勾配δd/δLを大きくすると、ガラス強度やシール強度が不十分となる可能性がある。   The maximum value of the gradient δd / δL may be about 1/100 or less, for example. When the gradient δd / δL is increased, the glass strength and the seal strength may be insufficient.

本態様では、第1領域A1の中央部に対応した位置において、上記の距離dと屈折率nとは、第2態様で説明したのと同様、それらが不等式:n×d≧20μmに示す関係を満足するように定めてもよい。こうすると、第1領域A1の中央部に対応した位置で、表示画像中に縞状の表示ムラが視認されるのを防止することができる。   In this aspect, at the position corresponding to the central portion of the first region A1, the distance d and the refractive index n are similar to those described in the second aspect, as shown by the inequality: n × d ≧ 20 μm. It may be determined to satisfy In this way, it is possible to prevent the striped display unevenness from being visually recognized in the display image at a position corresponding to the central portion of the first area A1.

本態様では、第1領域A1の中央を第2領域A2に対して凹ませるために、例えば、第2態様で説明したスペーサ100を利用してもよい。すなわち、アレイ基板2と封止基板3との間であって第1領域A1の中央に対応した位置のみにスペーサ100を配置する。加えて、接着剤層4は十分に薄くする。こうすると、図9に示すように、第1領域A1の中央を第2領域A2に対して凹ませることができる。   In this aspect, in order to dent the center of the first area A1 with respect to the second area A2, for example, the spacer 100 described in the second aspect may be used. That is, the spacer 100 is disposed only at a position between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 and corresponding to the center of the first region A1. In addition, the adhesive layer 4 is made sufficiently thin. In this way, as shown in FIG. 9, the center of the first area A1 can be recessed with respect to the second area A2.

次に、上記の不等式(1)乃至(3)に関連した試験について説明する。
まず、有機EL表示装置1を複数作製した。ここでは、各有機EL表示装置1の対角寸法を5インチとし、封止基板3としてガラス基板を使用し、アレイ基板2と封止基板3とに挟まれた空間は真空とした。以下、これら有機EL表示装置1を、サンプル(A)乃至(I)と呼ぶ。
Next, tests related to the above inequalities (1) to (3) will be described.
First, a plurality of organic EL display devices 1 were produced. Here, the diagonal dimension of each organic EL display device 1 is 5 inches, a glass substrate is used as the sealing substrate 3, and the space between the array substrate 2 and the sealing substrate 3 is vacuum. Hereinafter, these organic EL display devices 1 are referred to as samples (A) to (I).

サンプル(A)乃至(D)及び(F)乃至(I)は、例えば図1及び図5に示すように、封止基板3は撓ませず、略平坦なままとした。他方、サンプル(E)は、例えば図9に示すように、封止基板3を撓ませた。   In the samples (A) to (D) and (F) to (I), for example, as shown in FIGS. 1 and 5, the sealing substrate 3 was not bent and remained substantially flat. On the other hand, the sample (E) bent the sealing substrate 3, for example, as shown in FIG.

次に、これらサンプル(A)乃至(I)で画像を表示し、目視により、表示画像中に視認され得る縞状の表示ムラが生じるか調べた。さらに、これらサンプル(A)乃至(I)に対し、封止基板3側から表面検査ランプにより光を照射し、視認され得る干渉縞が生じるか調べた。   Next, images were displayed with these samples (A) to (I), and it was examined by visual inspection whether or not striped display unevenness that could be visually recognized in the display image occurred. Further, these samples (A) to (I) were irradiated with light from the sealing substrate 3 side by a surface inspection lamp, and it was investigated whether or not interference fringes that could be visually recognized were generated.

これら結果並びにサンプル(A)乃至(I)のばらつきΔd、距離d及び勾配δd/δLを、以下の表に纏める。

Figure 2006100186
These results and the variations Δd, distances d and gradients δd / δL of samples (A) to (I) are summarized in the following table.
Figure 2006100186

なお、上記表において、「表示ムラ」及び「干渉縞」の欄に記載した記号「○」、「△」、「×」は、それぞれ、表示ムラ又は干渉縞が全く視認されなかったこと、注意して観察した場合にのみ表示ムラ又は干渉縞が視認されたこと、明らかな表示ムラ又は干渉縞が視認されたことを示している。また、サンプル(E)の欄には、各種データを2行に分けて記載している。第1行目には、図9に示す第1領域A1の中央に対応した位置に関するデータを記載しており、第2行目には、第1領域A1の第2領域A2との境界近傍に対応した位置に関するデータを記載している。   In the table above, the symbols “◯”, “△”, and “×” described in the “Display unevenness” and “Interference fringe” columns indicate that no display unevenness or interference fringe was observed at all. It is shown that display unevenness or interference fringes are visually recognized only when observed, and that clear display unevenness or interference fringes are visually recognized. In the column of sample (E), various data are described in two lines. In the first row, data relating to the position corresponding to the center of the first area A1 shown in FIG. 9 is described, and in the second line, in the vicinity of the boundary between the first area A1 and the second area A2. The data about the corresponding position is described.

上記表に示すように、ばらつきΔdが約1μm以下であるサンプル(A)、(B)、(F)及び(H)、並びに、距離dが約20μm以上であるサンプル(H)及び(I)では、表示画像中に視認され得る縞状の表示ムラは生じなかった。また、サンプル(E)では、勾配δd/δLが1/50000未満の領域で表示画像中に縞状の表示ムラが視認されたが、勾配δd/δLが1/2000以上の領域では、表示画像中に視認され得る縞状の表示ムラは生じなかった。   As shown in the above table, samples (A), (B), (F) and (H) having a variation Δd of about 1 μm or less, and samples (H) and (I) having a distance d of about 20 μm or more. Then, the striped display nonuniformity which can be visually recognized in a display image did not arise. In sample (E), striped display unevenness was visually recognized in the display image in the region where the gradient δd / δL was less than 1 / 50,000, but in the region where the gradient δd / δL was 1/2000 or more, the display image There was no striped display unevenness that could be visually recognized inside.

本発明の第1態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す断面図。1 is a cross-sectional view schematically showing an organic EL display device according to a first embodiment of the present invention. 図1の有機EL表示装置を拡大して示す部分断面図。FIG. 2 is a partial cross-sectional view showing the organic EL display device of FIG. 1 in an enlarged manner. 本発明の第1態様に係る有機EL表示装置で採用可能な構造の一例を概略的に示す断面図。1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a structure that can be employed in an organic EL display device according to a first aspect of the present invention. 図3の構造を拡大して示す部分断面図。The fragmentary sectional view which expands and shows the structure of FIG. 本発明の第2態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the organic electroluminescence display which concerns on the 2nd aspect of this invention. 本発明の第2態様に係る有機EL表示装置で採用可能な構造の例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the example of the structure employable with the organic electroluminescence display which concerns on the 2nd aspect of this invention. 本発明の第2態様に係る有機EL表示装置で採用可能な構造の例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the example of the structure employable with the organic electroluminescence display which concerns on the 2nd aspect of this invention. 本発明の第2態様に係る有機EL表示装置で採用可能な構造の例を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the example of the structure employable with the organic electroluminescence display which concerns on the 2nd aspect of this invention. 本発明の第3態様に係る有機EL表示装置を概略的に示す断面図。Sectional drawing which shows schematically the organic electroluminescence display which concerns on the 3rd aspect of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…有機EL表示装置、2…アレイ基板、3…封止基板、4…接着剤層、10…絶縁基板、12…アンダーコート層、13…半導体層、14…ゲート絶縁膜、15…ゲート電極、17…層間絶縁膜、18…パッシベーション膜、19…平坦化層、20…出力制御スイッチ、21…ソース・ドレイン電極、30…光取り出し層、40…有機EL素子、41…第1電極、42…有機物層、43…第2電極、50…隔壁絶縁層、70…反射層、80…透明基板、90…光透過層、100…スペーサ、110…接着剤。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display device, 2 ... Array substrate, 3 ... Sealing substrate, 4 ... Adhesive layer, 10 ... Insulating substrate, 12 ... Undercoat layer, 13 ... Semiconductor layer, 14 ... Gate insulating film, 15 ... Gate electrode , 17 ... Interlayer insulating film, 18 ... Passivation film, 19 ... Planarization layer, 20 ... Output control switch, 21 ... Source / drain electrode, 30 ... Light extraction layer, 40 ... Organic EL element, 41 ... First electrode, 42 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Organic substance layer, 43 ... 2nd electrode, 50 ... Partition insulating layer, 70 ... Reflective layer, 80 ... Transparent substrate, 90 ... Light transmission layer, 100 ... Spacer, 110 ... Adhesive.

Claims (14)

絶縁基板とその一主面上で配列した複数の有機EL素子とを備えたアレイ基板と、
前記複数の有機EL素子と向き合うと共にそれら有機EL素子から離間した封止基板とを具備し、
前記アレイ基板と前記封止基板との間の空間は、前記有機EL素子の前面電極と比較して屈折率がより小さな材料が充填されているか又は真空であり、前記有機EL素子から前記封止基板までの距離dのばらつきΔdと、前記アレイ基板と前記封止基板との間の前記空間の屈折率nとは、不等式:n×Δd≦1μmに示す関係を満足していることを特徴とする上面発光型の有機EL表示装置。
An array substrate comprising an insulating substrate and a plurality of organic EL elements arranged on one main surface thereof;
A sealing substrate facing the plurality of organic EL elements and spaced apart from the organic EL elements;
The space between the array substrate and the sealing substrate is filled with a material having a refractive index smaller than that of the front electrode of the organic EL element or is vacuum, and the sealing is performed from the organic EL element. The variation Δd of the distance d to the substrate and the refractive index n of the space between the array substrate and the sealing substrate satisfy the relationship represented by the inequality: n × Δd ≦ 1 μm. A top emission type organic EL display device.
前記アレイ基板は、前記複数の有機EL素子間に介在した隔壁絶縁層をさらに備え、前記アレイ基板と前記封止基板とは前記隔壁絶縁層の上面に対応した位置で互いに接触していることを特徴とする請求項1に記載の有機EL表示装置。   The array substrate further includes a partition insulating layer interposed between the plurality of organic EL elements, and the array substrate and the sealing substrate are in contact with each other at a position corresponding to an upper surface of the partition insulating layer. The organic EL display device according to claim 1. 前記アレイ基板と前記封止基板との間に配置されると共に前記複数の有機EL素子を取り囲んだ枠状の接着剤層をさらに具備し、前記封止基板の前記アレイ基板との対向面のうち、前記複数の有機EL素子と向き合っている第1領域は、前記接着剤層と接触している第2領域に対して隆起していることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機EL表示装置。   A frame-shaped adhesive layer disposed between the array substrate and the sealing substrate and surrounding the plurality of organic EL elements; and a surface of the sealing substrate facing the array substrate The organic EL according to claim 1, wherein the first region facing the plurality of organic EL elements is raised with respect to the second region in contact with the adhesive layer. Display device. 絶縁基板とその一主面上で配列した複数の有機EL素子とを備えたアレイ基板と、
前記複数の有機EL素子と向き合うと共にそれら有機EL素子から離間した封止基板とを具備し、
前記アレイ基板と前記封止基板との間の空間は、前記有機EL素子の前面電極と比較して屈折率がより小さな材料が充填されているか又は真空であり、前記有機EL素子から前記封止基板までの距離dと、前記アレイ基板と前記封止基板との間の前記空間の屈折率nとは、不等式:n×d≧20μmに示す関係を満足していることを特徴とする上面発光型の有機EL表示装置。
An array substrate comprising an insulating substrate and a plurality of organic EL elements arranged on one main surface thereof;
A sealing substrate facing the plurality of organic EL elements and spaced apart from the organic EL elements;
The space between the array substrate and the sealing substrate is filled with a material having a refractive index smaller than that of the front electrode of the organic EL element or is vacuum, and the sealing is performed from the organic EL element. The distance d to the substrate and the refractive index n of the space between the array substrate and the sealing substrate satisfy the relationship represented by the inequality: n × d ≧ 20 μm. Type organic EL display.
前記アレイ基板と前記封止基板との間にスペーサをさらに具備し、前記アレイ基板は、前記複数の有機EL素子間に介在した隔壁絶縁層をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は4に記載の有機EL表示装置。   The spacer further includes a spacer between the array substrate and the sealing substrate, and the array substrate further includes a partition insulating layer interposed between the plurality of organic EL elements. The organic EL display device described in 1. 絶縁基板とその一主面上で配列した複数の有機EL素子とを備えたアレイ基板と、
前記複数の有機EL素子と向き合うと共にそれら有機EL素子から離間した封止基板とを具備し、
前記アレイ基板と前記封止基板との間の空間は、前記有機EL素子の前面電極と比較して屈折率がより小さな材料が充填されているか又は真空であり、前記封止基板の前記アレイ基板との対向面のうち、前記複数の有機EL素子と向き合っている第1領域の中央は、前記接着剤層と接触している第2領域に対して凹んでおり、前記第1領域の前記第2領域との境界近傍において、前記封止基板の前記アレイ基板との対向面は前記絶縁基板の前記主面に対して傾斜し、この傾斜部の少なくとも一部では、勾配δd/δLと、前記アレイ基板と前記封止基板との間の前記空間の屈折率nとが、不等式:n×δd/δL≧1/2000に示す関係を満足していることを特徴とする上面発光型の有機EL表示装置。
An array substrate comprising an insulating substrate and a plurality of organic EL elements arranged on one main surface thereof;
A sealing substrate facing the plurality of organic EL elements and spaced apart from the organic EL elements;
The space between the array substrate and the sealing substrate is filled with a material having a refractive index smaller than that of the front electrode of the organic EL element or is vacuum, and the array substrate of the sealing substrate The center of the first region facing the plurality of organic EL elements is recessed with respect to the second region in contact with the adhesive layer, and the first region of the first region In the vicinity of the boundary with the two regions, the surface of the sealing substrate facing the array substrate is inclined with respect to the main surface of the insulating substrate, and at least part of the inclined portion has a gradient δd / δL, The top emission organic EL, wherein the refractive index n of the space between the array substrate and the sealing substrate satisfies the relationship represented by the inequality: n × δd / δL ≧ 1/2000 Display device.
前記アレイ基板と前記封止基板との間であって前記第1領域の中央に対応した位置にスペーサをさらに具備したことを特徴とする請求項1、5又は6に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, further comprising a spacer at a position between the array substrate and the sealing substrate and corresponding to a center of the first region. 前記アレイ基板は、前記複数の有機EL素子間に介在した隔壁絶縁層をさらに備えたことを特徴とする請求項7に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 7, wherein the array substrate further includes a partition insulating layer interposed between the plurality of organic EL elements. 前記第1領域の中央に対応した位置で、前記有機EL素子から前記封止基板までの距離dと、前記屈折率nとは、不等式:n×d≧20μmに示す関係を満足していることを特徴とする請求項6に記載の有機EL表示装置。   The distance d from the organic EL element to the sealing substrate at the position corresponding to the center of the first region and the refractive index n satisfy the relationship represented by the inequality: n × d ≧ 20 μm. The organic EL display device according to claim 6. 前記スペーサは、前記封止基板の前記アレイ基板との対向面に支持された粒状スペーサであることを特徴とする請求項7に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 7, wherein the spacer is a granular spacer supported on a surface of the sealing substrate facing the array substrate. 前記スペーサは、前記封止基板の前記アレイ基板との対向面上に形成された柱状スペーサであることを特徴とする請求項7に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 7, wherein the spacer is a columnar spacer formed on a surface of the sealing substrate facing the array substrate. 前記スペーサは、前記隔壁絶縁層上に形成された柱状スペーサであることを特徴とする請求項8に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 8, wherein the spacer is a columnar spacer formed on the partition insulating layer. 前記空間は不活性ガスが充填されていることを特徴とする請求項1乃至12の何れか1項に記載の有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 1, wherein the space is filled with an inert gas. 前記アレイ基板は、前記絶縁基板と前記封止基板との間に配置されるとともに前記複数の有機EL素子と向き合った光取り出し層をさらに備えたことを特徴とする請求項1乃至13の何れか1項に記載の有機EL表示装置。   14. The array substrate according to claim 1, further comprising a light extraction layer disposed between the insulating substrate and the sealing substrate and facing the plurality of organic EL elements. 2. The organic EL display device according to item 1.
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