JP2006092631A - 光ディスクの製造方法および光ディスク - Google Patents
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Abstract
【課題】 光ディスク上に多様な配線パターンを効率よく形成し、ICチップを搭載した場合などにも光ディスクの厚さを抑制させる。
【解決手段】 光ディスク10の基板13上に、ICチップモジュール30を収容するための凹部12を形成しておく。凹部12の側面12cは内側に傾斜させておき、このような凹部12と交差するようにコイルパターン20を薄膜形成することにより、基板13の上面、凹部12の底面12bおよび側面12cに、コイルパターン20が連続的に形成されて、これらは導通状態となる。従って、凹部12にICチップモジュール30を載置して、その底部の接続端子と凹部12の底面12bのコイルパターン20とを接合することで、ICチップモジュール30と基板13の上面のコイルパターン20とを容易に接続することができる。
【選択図】 図4
【解決手段】 光ディスク10の基板13上に、ICチップモジュール30を収容するための凹部12を形成しておく。凹部12の側面12cは内側に傾斜させておき、このような凹部12と交差するようにコイルパターン20を薄膜形成することにより、基板13の上面、凹部12の底面12bおよび側面12cに、コイルパターン20が連続的に形成されて、これらは導通状態となる。従って、凹部12にICチップモジュール30を載置して、その底部の接続端子と凹部12の底面12bのコイルパターン20とを接合することで、ICチップモジュール30と基板13の上面のコイルパターン20とを容易に接続することができる。
【選択図】 図4
Description
本発明は、ICチップが搭載された光ディスクの製造方法およびその光ディスクに関し、特に、光ディスクの厚さの増加を抑制するとともに、多様な配線パターンを効率よく形成することが可能な光ディスクの製造方法および光ディスクに関する。
近年、映像などの大容量データを記録可能な光ディスク媒体として、DVD(Digital Versatile Disk)の普及が著しい。また最近では、さらに高画質でかつ長時間の映像の記録などを目的として、青色半導体レーザを光源とする光ディスクの開発が進められており、その一種としてすでにブルーレイディスクが商品化されている。
このように、高品質のデジタルコンテンツを可搬型の記録媒体に容易に保存できるようになるのに伴い、デジタルコンテンツの著作権保護の重要性が高まっている。ブルーレイディスクでは、ディスクごと固有なIDをバーコード状のパターンとしてBCA(Burst Cutting Area)と呼ばれる信号記録領域の最内周部に記録し、プレーヤにおいてこのIDを読み取ることで、不正なディスクが再生されないように管理している。しかし、不正なディスクを作成する技術は年々高度になっており、さらに強固な著作権保護対策が必要であると言われている。
一方、近年、非接触で外部との情報の受け渡しが可能なICチップであるRFID(Radio Frequency Identification)タグが、入館証や交通乗車券、電子マネーなどに利用されるようになっている。RFIDタグは、内蔵電池を持たず、リーダ/ライタ(R/W)からの電波あるいは磁界をアンテナで受信して起電力に変換するため、軽量で携帯性に優れ、半永久的に使用可能であるという特徴を持つ。これに加えて、複製が非常に困難であるという特徴もある。
このような背景から、光ディスクにRFIDタグを搭載して、著作権保護対策を強化することが考えられている。例えば、読み取り専用の状態でディスクIDを記録したRFIDタグを光ディスクに搭載させることで、同じディスクIDを持つ光ディスクが複製される危険性を、上記のBCAパターンを用いた場合より大幅に低下させることができる。
さらに、RFIDタグの記憶容量に余裕がある場合、余った記憶領域にユーザに対して利益を供与するアプリケーションを格納して、光ディスクに新たな付加価値を発生させることもできる。例えば、ゲームソフトが格納されたROM(Read Only Memory)型光ディスクにRFIDタグを設けて、ゲームの途中状態をそのRFIDタグに保存する、あるいは、光ディスク内の記録内容をRFIDタグに記録して、その光ディスクをプレーヤに挿入しなくてもR/Wにかざすだけで記録内容を知ることができるようにする、などといった用途が考えられる。
ところで、RFIDタグを光ディスクに搭載させる場合、無線通信や電力供給のためのアンテナを光ディスク上に形成する必要がある。光ディスクは中心を軸に回転する円盤であるため、重量バランスの観点からコイル状のアンテナ(以下、アンテナコイルと呼称する)との相性がよい。このため、光ディスク上の信号記録領域よりさらに内側部分、あるいは信号記録領域の裏側にアンテナコイルを形成することが考えられている。
また、アンテナコイルをスパイラル状に形成した場合には、その両端を結線する必要がある。さらに、アンテナコイルの中間部に離間部を設けて、この離間部の両側をICチップの端子と接続する必要がある。これに対して、アンテナコイルの両端の結線機能と、アンテナコイルとICチップとの接続機能の双方を具備するモジュールを用いた作成方法が考えられている(例えば、特許文献1参照)。
図14は、このようなモジュールを用いた場合の従来の光ディスクの構造を示す図である。
図14では例として、光ディスク100の信号読み取り面の裏側全面にアンテナコイルを形成した場合を示している。図14(A)に示すように、信号読み取り面の裏側の基板面には、スパイラル状のアンテナコイル200と、ICチップモジュール300が設けられている。ICチップモジュール300は、図14(B)に示すように、アンテナコイル200の両端部に接続するための接続端子301および302と、それらの間の絶縁部303と、ICチップ310とからなる。ICチップ310の接続端子は、絶縁部303の内部で接続端子301および302と接続されており、例えばその接続のための配線の周りを絶縁皮膜などで覆うことで絶縁部303が形成されている。
図14では例として、光ディスク100の信号読み取り面の裏側全面にアンテナコイルを形成した場合を示している。図14(A)に示すように、信号読み取り面の裏側の基板面には、スパイラル状のアンテナコイル200と、ICチップモジュール300が設けられている。ICチップモジュール300は、図14(B)に示すように、アンテナコイル200の両端部に接続するための接続端子301および302と、それらの間の絶縁部303と、ICチップ310とからなる。ICチップ310の接続端子は、絶縁部303の内部で接続端子301および302と接続されており、例えばその接続のための配線の周りを絶縁皮膜などで覆うことで絶縁部303が形成されている。
図14(C)は、ICチップモジュール300がアンテナコイル200の上に搭載される前の光ディスク100の状態を示している。この図に示すアンテナコイル200の端点201および202に、ICチップモジュール300の接続端子301および302がそれぞれ接合されることにより、ICチップ310とアンテナコイル200との配線が完了する。
図15は、この光ディスクの製造工程を説明するための図である。
図15では、光ディスク100の回転中心を通る断面を概略的に示している。図15(A)に示すように、アンテナコイル200は、導電性材料により基板110の表面に薄膜形成される。なお、この基板110は、例えば、記録信号に応じたスタンパを用いて樹脂材料を射出成型することにより、その裏面に信号記録面121が転写されている。信号記録面121にはさらにAgあるいはAlにより反射層が形成され、その反射層の上に透明樹脂材料によりさらに保護層120が形成される。
図15では、光ディスク100の回転中心を通る断面を概略的に示している。図15(A)に示すように、アンテナコイル200は、導電性材料により基板110の表面に薄膜形成される。なお、この基板110は、例えば、記録信号に応じたスタンパを用いて樹脂材料を射出成型することにより、その裏面に信号記録面121が転写されている。信号記録面121にはさらにAgあるいはAlにより反射層が形成され、その反射層の上に透明樹脂材料によりさらに保護層120が形成される。
アンテナコイル200は、基板110の表面に、導電性材料を用いてスパッタリングあるいは印刷などの手法により薄膜形成される。そして、アンテナコイル200の端点201および202に例えば導電性接着剤が塗布された後、ICチップモジュール300の接続端子301および302がそれぞれ端点201および202に接合されて、このICチップモジュール300が固定される。その後、図15(B)に示すように、基板110の表面には樹脂材料により保護層130が形成され、ICチップモジュール300が封止される。
しかし、このように平坦な基板上にICチップモジュールあるいはICチップを配置し、順次積層していく方法では、光ディスクの厚みが増してしまうことが問題となる。光ディスクの場合、規格によりディスク全体の厚さに制約があるため、ICチップなどの電気回路を搭載させる場合にも、できるだけ厚さを抑えることが可能な構造とすることが望ましい。その例として、ICチップを嵌め込むための嵌入孔を、基板の形成時に同時に設けておく方法が考えられている(例えば、特許文献2参照)。
特開平8−287208号公報(段落番号〔0017〕〜〔0018〕、図1)
特開平11−353714号公報(段落番号〔0018〕〜〔0023〕、図2)
しかし、上記特許文献2のようにICチップを基板上の嵌入孔に嵌め込んだ場合には、そのICチップとアンテナコイルとを接続するための適切な方法が考えられていなかった。例えば、図15に示した方法では、基板上にアンテナコイルを薄膜形成した後、そのパターン上にICチップモジュールを接着することでICチップの配線が完了する。しかし、嵌入孔にICチップを嵌め込んだ場合にはこのような簡単な方法が採れず、例えばアンテナコイルとICチップの端子とをリード線などで結線するといった比較的複雑な工程が必要となり、製造効率を低下させる原因となってしまう。
また、アンテナコイルをディスク基板上に薄膜形成した場合、そのアンテナコイルの両端を結線する必要があり、その際には両端の間に存在するコイルのパターンをブリッジさせて配線しなければならない。上記のICチップモジュールを用いた接続方法では、ICチップモジュールの中間部に絶縁部を設けることで、ブリッジ接続が可能となっている。しかし、ディスク厚を薄くするために、このようなICチップモジュールを用いずに配線を行うには、例えば、アンテナコイルの両端をリード線などでブリッジさせて配線する、あるいは、アンテナコイルの両端の間のパターン上に絶縁膜を形成し、その上に両端を接続するための導電性材料によるパターンをさらに形成するなどといった方法を採るしかなく、効率的に製造できないことが問題であった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、光ディスク上に多様な配線パターンを効率よく形成することが可能で、ICチップを搭載した場合などにも光ディスクの厚さの増加が抑制される光ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明の他の目的は、光ディスク上に多様な配線パターンを効率よく形成することが可能で、ICチップを搭載した場合などにも全体の厚さの増加が抑制される光ディスクを提供することである。
本発明では上記課題を解決するために、ICチップが搭載された光ディスクの製造方法において、前記光ディスクのディスク基材に所定の凹部を形成する第1の工程と、前記ICチップの配線用の配線パターンを前記凹部の境界部と交差するように薄膜形成する第2の工程とを含み、前記境界部に接続した前記凹部の側面を当該凹部の内側方向に傾斜させることで、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとをそれらの間の前記側面の前記配線パターンを介して接続させ、前記境界部に接続した前記凹部の側面を当該凹部の底面に対して垂直にすることで、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとをそれらの間の前記側面を介して絶縁させることを特徴とする光ディスクの製造方法が提供される。
このような光ディスクの製造方法では、1回の工程で凹部の上面および底面の双方に配線パターンが形成され、凹部の上面と底面とで配線構造が多層化される。また、凹部の側面の角度に応じて、その側面と交差する配線パターンを上層と下層との間で接続させるか、あるいは絶縁するかを決めることができ、その際に特に別の配線用あるいは絶縁用の部材を用いる必要がなくなる。従って、多様な配線パターンを効率よく形成可能になる。
また、例えば、凹部にICチップを収容して、ICチップの底部に設けた接続端子と凹部の底面に形成された配線パターンとを接続することで、凹部の上面に形成された配線パターンとICチップとを容易に接続できるとともに、光ディスクの全体の厚さの増加を抑制することができる。
また、本発明では、ICチップが搭載された光ディスクにおいて、前記光ディスクのディスク基材に薄膜形成された、前記ICチップとの配線用の配線パターンと、少なくとも1つの側面が内側方向に傾斜するように前記ディスク基材に形成された凹部とを有し、前記配線パターンが前記凹部の傾斜した側面と交差するように形成されて、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとがそれらの間の傾斜した側面の前記配線パターンを介して接続されたことを特徴とする光ディスクが提供される。
このような光ディスクでは、1回の工程で凹部の上面および底面の双方に配線パターンを形成することができ、その際に、凹部の上面と底面とで配線構造が多層化されるとともに、別の配線用の部材を用いることなく、上層と下層との各配線パターンを容易に接続させることができる。従って、多様な配線パターンを効率よく形成可能になる。
また、例えば、凹部にICチップを収容して、ICチップの底部に設けた接続端子と凹部の底面に形成された配線パターンとを接続することで、凹部の上面に形成された配線パターンとICチップとを容易に接続できるとともに、光ディスクの全体の厚さの増加を抑制することができる。
さらに、本発明では、ICチップが搭載された光ディスクにおいて、前記光ディスクのディスク基材に薄膜形成された、前記ICチップとの配線用の配線パターンと、少なくとも1つの側面がその底面と垂直となるように前記ディスク基材に形成された凹部とを有し、前記配線パターンが前記凹部の垂直な側面と交差するように形成されて、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとがそれらの間の垂直な側面を介して絶縁されたことを特徴とする光ディスクが提供される。
このような光ディスクでは、1回の工程で凹部の上面および底面の双方に配線パターンを形成することができ、その際に、凹部の上面と底面とで互いに絶縁された多層構造の配線パターンが、別の絶縁用の部材を用いることなく形成される。従って、多様な配線パターンを効率よく形成可能になる。
また、上記の凹部の一部をその内側方向に傾斜した形状として、配線パターンの一部を、凹部の傾斜した側面と交差するように形成することで、傾斜した側面を介して上層および下層の配線パターンを容易に接続することができ、作業効率を低下させることなく、配線パターンを一層多様化することができる。
本発明によれば、ディスク基材に設けた凹部の側面の形状を、凹部の上面と底面の各配線パターンを接続するか、あるいは絶縁するかに応じて、あらかじめ凹部の側面の角度を決めて成型しておくことで、1回の形成工程で凹部の上面および底面を用いた多様な配線パターンを効率よく形成することができ、ICチップが搭載された光ディスクの製造コストを低減することが可能となる。
また、例えば、配線パターンが交差する凹部の側面を傾斜させておき、その凹部にICチップなどを収容して凹部の底面の配線パターンと接続させることで、凹部の上面の配線パターンとICチップとを容易に接続できるとともに、光ディスクの全体の厚さを抑制することができる。
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。はじめに、各実施の形態で用いられる光ディスク上における配線パターンの形成方法の概要について説明する。
図1は、配線パターンの形成方法の概要について説明するための図である。なお、図1では、光ディスクのディスク基材の断面形状を示している。
図1は、配線パターンの形成方法の概要について説明するための図である。なお、図1では、光ディスクのディスク基材の断面形状を示している。
DVDなどの光ディスク上にICチップを搭載する場合、そのICチップに対する配線用の配線パターンを光ディスク上に形成し、その配線パターンに対して、ICチップの接続端子を結線する。また、平坦なディスク基材の上にICチップを配置した場合には、光ディスクの全体の厚さが増加する可能性がある。そこで、ディスク基材の一部に凹部を設けて、配線パターンを形成する配線層を凹部の上面および底面の2層構造とし、ICチップをその凹部に配設することを考える。
なお、凹部は、配線パターンの膜厚より十分深く形成する。例えば、配線パターンの膜厚が1μm以下であるのに対し、凹部の深さは100μm以上とされる。
図1(A)では、ディスク基材1に設けた凹部2aの側面3aが、底面4aに対して垂直にされている。このようなディスク基材1に、例えば凹部2aの境界部(側面3aの上縁部)と交差するように、配線パターンを薄膜形成する。配線パターンは、従来と同様に、AgやAlなどの導電性材料を用いて、例えば、マスクを用いたスパッタリング、インクジェット方式の印刷などにより薄膜状に形成する。
図1(A)では、ディスク基材1に設けた凹部2aの側面3aが、底面4aに対して垂直にされている。このようなディスク基材1に、例えば凹部2aの境界部(側面3aの上縁部)と交差するように、配線パターンを薄膜形成する。配線パターンは、従来と同様に、AgやAlなどの導電性材料を用いて、例えば、マスクを用いたスパッタリング、インクジェット方式の印刷などにより薄膜状に形成する。
これにより、ディスク基材1の表面と、凹部2aの底面の2層の配線パターンが同時に形成される。ここで、側面3aが垂直であるため、図1(A)の右側に示すように、この側面3aを境に、ディスク基材1の表面の配線パターン5aと、凹部2aの底面4aの配線パターン6aとは電気的に絶縁された状態となり、各層に独立した配線パターン5aおよび6aを一度に形成することができる。なお、図1(A)では例として、この凹部2aにICチップ7を収容して、そのICチップ7の底部に設けた接続端子を凹部2aの配線パターン6aに接合することでICチップ7の配線を行っている。
これに対して、図1(B)では、凹部2bの側面3bを、凹部2bの内側方向に傾斜させている。このような形状の凹部2bを有する場合に、その凹部2bの境界部(側面3bの上縁部)に交差するように配線パターンを薄膜形成すると、図1(B)の右側に示すように、側面3bにも配線パターン8bが形成される。このため、ディスク基材1の表面の配線パターン5bと、底面4bの配線パターン6bとは、側面3bの配線パターン8bにより電気的に接続される。
このように、配線パターンが交差している凹部の側面の角度に応じて、上層と下層との間で配線パターンを接続させるか、あるいは絶縁させるかについて決めることができる。また、例えばディスク基材を樹脂材料により形成した場合、凹部はディスク基材を射出成型する際に同時に形成することができる。あるいは、ディスク基材として紙材料が用いられた場合にも、平板状のディスク基材に凹部を形成することは比較的容易である。従って、多層構造の配線パターンを1回の薄膜形成工程で形成し、しかも多様な配線パターンを形成可能であるので、様々な配線パターンを持つ光ディスクを効率よく製造し、その製造コストを低減することができる。
また、図1(B)において、この凹部2bにICチップ7を収容して、そのICチップ7の底部に設けた接続端子を凹部2bの配線パターン6bに接合することにより、ICチップ7の配線を行うことができる。接点の接合は例えば導電性接着剤などで行うことができる。このような方法により、光ディスクの全体の厚さを抑制することができ、しかもICチップ7の接続端子と上層の配線パターン5bとを、リード線などを用いずに容易に接続させることができる。ICチップ7以外の電子部品を下層に搭載する際にも、同様に下層と接合するだけで上層の回路と導通させることができる。従って、ICチップなどの電子部品が搭載された薄型の光ディスクを低コストで製造することができる。
なお、ICチップを搭載した場合にも、ディスク基材1自体を薄くすることで光ディスクの厚さを抑制することは可能であるが、その場合はディスク基材1の強度が低下するので、製造時にディスク基材1を破損する可能性が高まる。上記のようにディスク基材1の一部に凹部を設けてICチップを収容する方が、ディスク基材の強度が高まり、製造時の安全性を向上させることができるので、結果的に製造コストを低減する効果が得られる。
さらに、図1(C)では、凹部2cの側面3cを傾斜させた場合に、その側面3cの上縁部および下縁部を曲面により形成している。これにより、配線パターンを形成したときに、ディスク基材1の表面の配線パターン5cと、凹部2cの側面3cの配線パターン8cとが断絶されることを防止し、これらをより確実に導通させることができる。同様に、側面3cの配線パターン8cと、底面4cの配線パターン6cとの間もより確実に導通させることができる。
なお、上記の図1(B)および(C)では、凹部2bおよび2c内の対向する側面を傾斜させた形状の例を示したが、傾斜させた側面の位置は、配線パターンの形状などに応じて形成されればよい。例えば、凹部内の1つの側面のみを傾斜させ、この傾斜した側面を通って凹部の底面で終端される2つの配線パターンを形成し、凹部にICチップを配設して各配線パターンの終端部と接続するようにしてもよい。
次に、光ディスクとしてブルーレイディスク(BD−RE)を想定し、本発明の実施の形態について具体的に説明する。
〔第1の実施の形態〕
図2は、第1の実施の形態に係る光ディスクの構成を示す図である。
〔第1の実施の形態〕
図2は、第1の実施の形態に係る光ディスクの構成を示す図である。
図2において、光ディスク10には、その中心部に中心孔11が設けられており、光ディスク10は、プレーヤに挿入されたときにはこの中心孔11を中心に回転され、信号記録面にレーザ光が照射されて、その反射光の光量に応じて信号が読み取られる。また、この光ディスク10では、信号読み取り面の反対面に、非接触で情報の受け渡しが可能なRFIDタグが設けられている。RFIDタグは、情報を記憶する素子などが集積されたICチップと、信号送受信のためのアンテナとからなる。
図2(A)に示すように、信号読み取り面の裏面の基板上には、中心孔11の周りにスパイラル状の形状を有し、ICチップの無線通信のためのアンテナとして機能するコイルパターン20と、このコイルパターン20の両端を接続するとともに、ICチップとの配線を行う機能を有するICチップモジュール30とが設けられている。
図2(B)は、図2(A)からICチップモジュール30を除去した状態を示している。この図に示すように、コイルパターン20の両端には、ICチップモジュール30と接続するための接続端子21および22が設けられている。一方、光ディスク10のディスク基板には、ICチップモジュール30を収容するための凹部12が形成されている。後述するように、この凹部12は、コイルパターン20の巻き方向に対向する側面が、凹部12の内側方向に傾斜した形状を有している。また、コイルパターン20の接続端子21および22は、ともに凹部12の内部(底部)に設けられている。
図3は、ICチップモジュールの構成例を示す図である。
ICチップモジュール30は、図3に示すように、コイルパターン20の両端部とそれぞれ接続するための接続端子31および32と、それらの間に設けられた絶縁部33と、ICチップ40とからなる。接続端子31および32の間の距離は、コイルパターン20の両端に設けた接続端子21および22の間の距離と同じにされる。また、ICチップ40のアンテナコイルに対する接続端子は、絶縁部33の内部で接続端子31および32と接続されており、例えばその接続のための配線の周りを絶縁皮膜などで覆うことで絶縁部33が形成されている。
ICチップモジュール30は、図3に示すように、コイルパターン20の両端部とそれぞれ接続するための接続端子31および32と、それらの間に設けられた絶縁部33と、ICチップ40とからなる。接続端子31および32の間の距離は、コイルパターン20の両端に設けた接続端子21および22の間の距離と同じにされる。また、ICチップ40のアンテナコイルに対する接続端子は、絶縁部33の内部で接続端子31および32と接続されており、例えばその接続のための配線の周りを絶縁皮膜などで覆うことで絶縁部33が形成されている。
なお、実際にはICチップ40自体も絶縁膜により皮膜されていることが望ましい。逆に、ICチップモジュール30と凹部12内の接続端子21および22とを異方導電性の接合材料によって接合する場合には、ICチップモジュール30の絶縁部33を省略することも可能である。
このような構成のICチップモジュール30をディスク基材の凹部12に収容して、接続端子31および32をそれぞれコイルパターン20の接続端子21および22に接合することで、ICチップ40とコイルパターン20とを結線することができる。このとき、接続端子21および22の間に位置する図中2本のコイルパターン20には、ICチップモジュール30の絶縁部33が接触するので、ICチップ40に対しては接続端子21および22のみが正しく接続されることになる。
図4は、上記の光ディスクの構造を示す図である。また、図5は、光ディスクの構造および製造工程を示す図である。
なお、図4(A)〜(D)は、図2中のB矢視、C矢視、D1矢視、D2矢視からそれぞれ見たときの光ディスク10の断面構造を示している。また、図5は、図2中のA矢視から見たときの光ディスク10の断面構造を示している。
なお、図4(A)〜(D)は、図2中のB矢視、C矢視、D1矢視、D2矢視からそれぞれ見たときの光ディスク10の断面構造を示している。また、図5は、図2中のA矢視から見たときの光ディスク10の断面構造を示している。
まず、図4および図5を用いて、凹部12の形状、およびアンテナコイルの配線パターンの形成状態について説明する。
凹部12は、ICチップモジュール30をほぼ収容可能な大きさを有しており、図5に示すように、光ディスク10の半径方向に対向する側面12aは、底面12bに対して垂直となっている。一方、図4に示すように、ディスク回転方向に対向する側面12cは、その内側方向に傾斜している。
凹部12は、ICチップモジュール30をほぼ収容可能な大きさを有しており、図5に示すように、光ディスク10の半径方向に対向する側面12aは、底面12bに対して垂直となっている。一方、図4に示すように、ディスク回転方向に対向する側面12cは、その内側方向に傾斜している。
ここで、コイルパターン20はディスク回転方向に形成されているので、このコイルパターン20は凹部12の底面12bおよび側面12cにも形成される。従って、コイルパターン20は凹部12を挟んで断絶されず、導通状態が保たれる。また、図4(A)および(C)のように、コイルパターン20の両端の接続端子21および22は、凹部12の底面12bに形成されるが、これらの接続端子21および22は、凹部12の側面12cを介して上層のコイルパターン20と導通される。
以下、この光ディスク10の製造工程について説明する。
基板13は、ポリカーボネートなどの樹脂材料により射出成型により形成される。その際に、スタンパ上のグルーブが信号記録面に転写されるとともに、信号記録面の裏側に凹部12が形成される。信号記録面には記録層14が成膜された後、さらに0.1mmの保護層15が形成される。
基板13は、ポリカーボネートなどの樹脂材料により射出成型により形成される。その際に、スタンパ上のグルーブが信号記録面に転写されるとともに、信号記録面の裏側に凹部12が形成される。信号記録面には記録層14が成膜された後、さらに0.1mmの保護層15が形成される。
図5(A)に示すように、コイルパターン20は、基板13の凹部12が形成された面から形成される。コイルパターン20は、AgあるいはAlなどの導電性材料を用いて、マスクを用いたスパッタリング、あるいはインクジェット方式の印刷などにより薄膜状に形成される。
次に、図5(B)に示すように、凹部12内に形成されたコイルパターン20の両端の接続端子21および22の上に、導電性接着剤50を塗布した後、ICチップモジュール30を凹部12に載置し、圧着する。これにより、図5(C)に示すように、コイルパターン20の接続端子21および22と、ICチップモジュール30の接続端子31および32とがそれぞれ接合し、ICチップモジュール30が基板13に固定される。このとき、凹部12の底面12bにおいて接続端子21および22の間に形成されたコイルパターン20には、ICチップモジュール30の絶縁部33が接触する。従って、ICチップモジュール30を凹部12に載置することで、コイルパターン20とICチップ40との結線が完了するので、例えばリード線を用いて結線する方法などに比べてICチップ40の配線を容易に行うことができる。
なお、図5(C)のようにICチップモジュール30を凹部12内に接合した際に、ICチップモジュール30の下部と凹部12の底面との間に隙間が生じる場合には、この隙間に絶縁性の樹脂などを充填しておくことが望ましい。これに対して、接合材料として異方導電性のものを用い、ICチップモジュール30の下面全体に付着させた場合には、上記のような樹脂の充填が不要となる。ただしこの場合には、ICチップモジュール30の接続端子31および32にバンプ電極などを形成しておく必要がある。
次に、図5(D)に示すように、基板13の表面に、樹脂材料によりさらに保護層16を形成し、ICチップモジュール30をこの保護層16で封止する。なお、基板13と保護層16とを合計した厚さは1.1mmとされる。
ここで、コイルパターン20の形成時などの基板の破壊防止の観点から、基板13はできるだけ厚くしておくことが望ましい。本実施の形態のように、基板13の一部に凹部12を設けて、ICチップモジュール30を収容する構造とすることで、製造時の安全性を保ちつつ、ディスク全体の厚さを規定内に収めることが可能となる。
そして、その凹部12の側面12cを傾斜させておき、その側面12cと交差するようにコイルパターン20を形成することによって、1回の配線パターン形成工程により、ICチップモジュール30と接続させるためのコイルパターン20の接続端子21および22が凹部12の底面12bに設けられるとともに、その接続端子21および22を上層のコイルパターン20と導通状態とすることができる。
従って、ICチップ40およびその無線通信のためのアンテナコイルが形成された光ディスクを効率的に製造することが可能となり、その製造コストを低減させることができる。
図6は、本実施の形態の変形例を示す図である。なお、図6(A)〜(C)は、図2中のB矢視、C矢視、D1矢視からそれぞれ見たときの光ディスク10の断面構造を示している。
この図6に示すように、凹部12の傾斜した側面12cの上縁部および下縁部を曲面状に形成してもよい。このような形状とすることで、基板13の表面のコイルパターン20と、凹部12の底面12bに形成されたコイルパターン20、接続端子21および22とを、より確実に導通させることができる。
〔第2の実施の形態〕
以下の第2の実施の形態では、上記のようなICチップモジュールを用いずに、ICチップとアンテナコイルの接続、およびアンテナコイルの両端の接続を行う場合について示す。
以下の第2の実施の形態では、上記のようなICチップモジュールを用いずに、ICチップとアンテナコイルの接続、およびアンテナコイルの両端の接続を行う場合について示す。
図7は、第2の実施の形態に係る光ディスクの構成を示す図である。なお、図7(B)は、図7(A)中の領域Eを拡大して示した図である。
図7に示す光ディスク10では、信号読み取り面の裏面の基板上に、ICチップ40のアンテナとして機能するスパイラル状のコイルパターン20が形成され、コイルパターン20の中間にICチップ40が接続されている。後述するように、ICチップ40は、これと略同一の大きさの凹部に収容されており、その凹部の底面においてコイルパターン20と接続されている。
図7に示す光ディスク10では、信号読み取り面の裏面の基板上に、ICチップ40のアンテナとして機能するスパイラル状のコイルパターン20が形成され、コイルパターン20の中間にICチップ40が接続されている。後述するように、ICチップ40は、これと略同一の大きさの凹部に収容されており、その凹部の底面においてコイルパターン20と接続されている。
また、この光ディスク10には、コイルパターン20の両端部を接続するための多層配線部17が設けられている。図7(B)に示すように、多層配線部17には、多層の配線構造を実現するための凹部18が形成され、コイルパターン20の両端の接続端子21および22が凹部18の内部に形成され、さらにこの凹部18の内部には接続パターン23が形成されて、この接続パターン23により接続端子21および22が接続されている。
また、接続端子21および22の間に位置するコイルパターン20は凹部18と交差して分断されており、この分断された各パターンがブリッジ配線部材60によりブリッジして接続されている。このような構造により、コイルパターン20の両端が接続されている。
図8は、多層配線部17の断面構造を示す図である。なお、図8(A)〜(C)は、それぞれ図7中のF矢視、G矢視、H矢視から見たときの断面構造を示している。また、図9は、ブリッジ配線部材60および保護層(後述する)を除去したときの多層配線部17の一部を示す斜視図である。
図8(B)および図9に示すように、多層配線部17では、第1層L1、第2層L2、第3層L3の3層の配線構造が形成されている。第1層L1は基板13の表面であり、凹部18の底面が第3層L3とされる。また、凹部18の側面のうち、ディスク回転方向に対向する側面の中間部に段差が設けられて、この段差の上面が第2層L2とされる。なお、凹部18は基板13に設けられ、後述するように、基板13の両面には保護層15および16が積層され、基板13と保護層15との間に記録層14が形成されている。
第3層L3は、コイルパターン20の両端部の接続端子21および22を含むように、光ディスク10の半径方向に比較的長く形成されている。そして、図8(A)および(C)に示すように、これらの接続端子21および22が配置される領域では、それぞれディスク回転方向に対する一方の側面に傾斜が設けられて、この傾斜上に接続端子21および22から連続するコイルパターン20がそれぞれ形成される。このような構造により、接続端子21および22が第1層L1のコイルパターン20と導通されている。
さらに、第3層L3のディスク半径方向には接続パターン23が形成されており、この接続パターン23を通じて接続端子21および22が導通される。これにより、コイルパターン20の両端が結線される。なお、図9では、ディスク外周側の接続端子22と第1層L1上のコイルパターン20との接続部位、および第3層L3における接続端子22と接続パターン23との接続部位の様子が示されている。
一方、第2層L2は、接続端子21および22の中間の領域に形成されている。この領域では、図8(B)および図9に示すように、第1層L1と第2層L2との間の両側面に傾斜が設けられ、これらの傾斜を介して第1層L1から第2層L2までコイルパターン20が連続的に形成されている。また、第2層L2と第3層L3との間の側面は垂直とされており、これらの間が絶縁されている。このように、コイルパターン20は、第3層L3の形成された領域において分断されており、分断された両側のコイルパターン20が、ブリッジ配線部材60によりブリッジ接続されて、導通がとられている。
以上の構造により、コイルパターン20の両端が結線されて、このコイルパターン20をアンテナコイルとして機能させることが可能となる。
なお、ブリッジ配線部材60が、凹部18内の第2層L2に設けられることにより、ディスク全体の厚さが抑制されるとともに、製造時の安全性が高められている。例えば、基板13の上面にブリッジ配線部材60を設けた場合、その厚さ分だけ基板13全体を薄くする必要があり、基板13の強度が低下し、製造時に破損する可能性が高まる。
なお、ブリッジ配線部材60が、凹部18内の第2層L2に設けられることにより、ディスク全体の厚さが抑制されるとともに、製造時の安全性が高められている。例えば、基板13の上面にブリッジ配線部材60を設けた場合、その厚さ分だけ基板13全体を薄くする必要があり、基板13の強度が低下し、製造時に破損する可能性が高まる。
図10は、ICチップ40を搭載した部分における断面構造を示す図である。この図10は、図7中のI矢視から見たときの断面構造を示している。
図10に示すように、ICチップ40は、基板13上に設けられた凹部19に収容されている。この凹部19は、ディスク回転方向に対向する側面にそれぞれ傾斜が設けられており、基板13上のコイルパターン20が、凹部19の側面を介して底面まで連続的に形成されている。また、コイルパターン20は、凹部19の底面の中央部において離間されている。
図10に示すように、ICチップ40は、基板13上に設けられた凹部19に収容されている。この凹部19は、ディスク回転方向に対向する側面にそれぞれ傾斜が設けられており、基板13上のコイルパターン20が、凹部19の側面を介して底面まで連続的に形成されている。また、コイルパターン20は、凹部19の底面の中央部において離間されている。
一方、ICチップ40の底部には、その両端に図示しない接続端子が設けられている。従って、ICチップ40を凹部19に載置し、その底部の各接続端子を、凹部19の底面で離間された両側のコイルパターン24aおよび24bにそれぞれ接合することで、ICチップ40とコイルパターン20とが接続される。従って、ICチップ40を凹部19に収容して、光ディスク10の全体の厚さの抑制効果が得られるとともに、凹部19の底面での接続端子の接合を行うだけで、リード線などを用いることなく、上層のコイルパターン20とICチップ40との接続を行うことが可能となる。
図11および図12は、本実施の形態に係る光ディスクの製造工程を示す図である。なお、これらの図では例として、図7中のG矢視から見た場合の断面構造を示している。
まず、図11(A)のように、射出成型により基板13が形成される。この際に、信号記録面のグルーブ形状が転写されるとともに、多層配線部17の凹部18や、ICチップ40を収容するための凹部19(図示せず)も同時に形成される。なお、この後、信号記録面には記録層14が積層され、さらに保護層15が積層される。
まず、図11(A)のように、射出成型により基板13が形成される。この際に、信号記録面のグルーブ形状が転写されるとともに、多層配線部17の凹部18や、ICチップ40を収容するための凹部19(図示せず)も同時に形成される。なお、この後、信号記録面には記録層14が積層され、さらに保護層15が積層される。
次に、図11(B)のように、コイルパターン20、接続端子21および22(図示せず)、接続パターン23を同時に薄膜形成する。これらのパターンは、AgあるいはAlなどの導電性材料を用いて、マスクを用いたスパッタリング、あるいはインクジェット方式の印刷などにより薄膜状に形成される。
ここで、図13は、コイルパターンの形成時に用いられるマスクを示す図である。
例えば、この図13に示すようなマスク70を用いてスパッタリングを行うことにより、コイルパターン20と、その両端の接続端子21および22と、接続パターン23とを、基板13上にすべて同時に形成することができる。このとき、凹部の傾斜した側面ではその上層と下層のパターンが絶縁され、垂直な側面ではその上層と下層のパターンが側面上のパターンを介して接続されて、上述した多層配線部17のパターンや、ICチップ40を収容する凹部19内のパターンが形成される。
例えば、この図13に示すようなマスク70を用いてスパッタリングを行うことにより、コイルパターン20と、その両端の接続端子21および22と、接続パターン23とを、基板13上にすべて同時に形成することができる。このとき、凹部の傾斜した側面ではその上層と下層のパターンが絶縁され、垂直な側面ではその上層と下層のパターンが側面上のパターンを介して接続されて、上述した多層配線部17のパターンや、ICチップ40を収容する凹部19内のパターンが形成される。
次に、図11(C)のように、凹部18の第2層L2と第3層L3との間の空間を、絶縁性の保護層80により封止する。保護層80としては、例えば紫外線硬化樹脂などが使用され、これにより第3層L3上のパターンが錆などにより劣化することが防止される。
次に、図12(A)のように、第2層L2に形成されたコイルパターン20に導電性接着剤を塗布する。そして、図12(B)のように、ブリッジ配線部材60を保護層80を交差するように第2層L2に載置し、第2層L2上のコイルパターン20と圧着して接合する。
なお、ICチップ40を収容する凹部19においても、その底面両端のコイルパターン20の上に導電性接着剤を塗布した後、ICチップ40を載置して接続端子を接合させる。
また、例えば異方導電性接着シートを凹部18全体を覆うように配設した後、ブリッジ配線部材60を接着シート上から圧着して接合してもよい。この場合、第2層L2がバンプとして機能し、第2層L2上のコイルパターン20とブリッジ配線部材60とが導通され、これとともにブリッジ配線部材60の下部を保護層80で封止する必要がなくなる。
最後に、図12(C)のように、基板13の表面に、紫外線硬化樹脂などによりさらに保護層16を形成し、ブリッジ配線部材60やICチップ40をこの保護層16で封止する。なお、基板13と保護層16とを合計した厚さは1.1mmとされる。
以上の実施の形態では、凹部18および19の形状を射出成型時にあらかじめ基板13に形成しておき、その上からスパッタリングや印刷などによりコイルパターン20などの配線パターンを一度に形成することで、多層構造の配線が形成される。そして、異なる層間のパターンを接続するか、あるいは絶縁するかについて、各凹部の側面の傾斜角度に応じて決めることができるので、上記の多層配線部17のような比較的複雑な配線パターンを効率的に形成することが可能である。
また、ブリッジ配線部材60やICチップ40は凹部に収容されるので、製造時の安全性を低下させることなく、光ディスク10の全体の厚さを抑制することができる。さらに、ブリッジ配線部材60やICチップ40と配線パターンとの接続は、接点に導電性接着剤を塗布して接合することで行われ、リード線などを用いた煩雑な作業を行う必要がない。従って、ICチップ40およびその無線通信のためのアンテナコイルが形成された光ディスクを効率的に製造することが可能となり、その製造コストを低減させることができる。
なお、以上の第2の実施の形態では、多層配線部17において接続端子21および22の間を通過する2つのコイルパターン20の双方を、ブリッジ配線部材60により接続したが、その一方をICチップ40により接続して、ICチップ40とコイルパターン20とを接続させるようにしてもよい。この場合、ICチップ40の接続用の凹部19が不要となり、この部分でコイルパターン20を離間させておく必要もなくなり、多層配線部17の凹部18の形状を基板13上にあらかじめ形成しておくだけで、コイルパターン20の両端の接続、およびコイルパターン20とICチップ40との配線を行うことが可能である。
また、上記第2の実施の形態では、凹部内の傾斜した側面の上縁部および下縁部をすべて曲面状としているが、各側面を平面状としてもよい。ただし、曲面状とすることで、側面の上縁部および下縁部におけるパターンの接続がより確実にされる。
さらに、上記第2の実施の形態では、コイルパターン20の両端部に至る傾斜した側面を、ディスク回転方向の側面の対角方向に設けた例を示した。この形状とすることで、コイルパターン20の形状を単純なスパイラル状とすることができる。しかし、この傾斜した側面を形成する位置は、第2層L2と第3層L3との間の垂直な側面が形成された領域よりそれぞれディスク内周側および外周側であれば、どのような位置に形成されてもよい。
例えば、凹部18のディスク半径方向に対向する側面をそれぞれ傾斜させて、コイルパターン20の両端部付近をそれぞれディスク内周側および外周側に迂回させ、その両端部をディスク半径方向から傾斜した側面を通って第3層L3に接続する構造としてもよい。要するに、例えば凹部を射出成型により形成するための金型や、コイルパターン20および接続パターン23をスパッタリングにより形成するためのマスクなどの製造コストを鑑みて、できるだけ全体の製造コストを抑制できるような形状とされることが望ましい。
また、以上の第1および第2の実施の形態では、光ディスクとしてブルーレイディスクを想定したが、本発明はこれに限らず、DVD、CD(Compact Disc)などの様々な光ディスクに適用することが可能である。また、上記各実施の形態では、アンテナコイルを信号記録面の裏面全体に設けたが、例えば信号記録領域と中心孔との間の領域にアンテナコイルを設けた場合にも、本発明を適用することが可能である。
1……ディスク基材、2a〜2c……凹部、3a〜3c……側面、4a〜4c……底面、5a〜5c,6a〜6c……配線パターン、7……ICチップ、8b,8c……配線パターン、10……光ディスク、11……中心孔、12……凹部、20……コイルパターン、21,22……接続端子、30……ICチップモジュール
Claims (16)
- ICチップが搭載された光ディスクの製造方法において、
前記光ディスクのディスク基材に所定の凹部を形成する第1の工程と、
前記ICチップの配線用の配線パターンを前記凹部の境界部と交差するように薄膜形成する第2の工程と、
を含み、前記境界部に接続した前記凹部の側面を当該凹部の内側方向に傾斜させることで、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとをそれらの間の前記側面の前記配線パターンを介して接続させ、前記境界部に接続した前記凹部の側面を当該凹部の底面に対して垂直にすることで、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとをそれらの間の前記側面を介して絶縁させることを特徴とする光ディスクの製造方法。 - 前記第1の工程では、前記境界部に接続した前記凹部の側面を傾斜させ、当該側面の上縁部および下縁部を曲面により形成することを特徴とする請求項1記載の光ディスクの製造方法。
- 前記第1の工程では、前記凹部の所定の側面を当該凹部の内側方向に傾斜するように形成し、
前記第2の工程では、前記凹部の傾斜した側面とそれぞれ交差し、かつ当該凹部の底面上で互いに離間された第1および第2の配線パターンを形成し、
さらに、前記凹部の底面に前記ICチップを配置して、当該ICチップの底部に設けられた2つの接続端子を、当該凹部の底面に形成された前記第1および第2の配線パターンとそれぞれ接合する第3の工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光ディスクの製造方法。 - 前記ICチップの無線通信用のアンテナとして機能するアンテナパターンを前記配線パターンとして形成する場合に、
前記第1の工程では、前記凹部のディスク回転方向に対向する側面を当該凹部の内側方向に傾斜させるように形成し、
前記第2の工程では、前記光ディスクの中心孔の周りに2以上の巻き数のスパイラル状の形状を有する前記アンテナパターンを、前記凹部の傾斜した側面と交差し、かつ、当該アンテナパターンの両端が当該凹部の底面で終端されるように形成し、
さらに、前記アンテナパターンの両端を結ぶ距離分だけ離間した2つの接続端子と、前記各接続端子の間に配置された絶縁部と、前記絶縁部の内部で前記各接続端子と配線された前記ICチップとからなるICチップモジュールを前記凹部の底面に配置して、前記アンテナパターンの両端と前記接続端子のそれぞれとを接合する第3の工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光ディスクの製造方法。 - 前記ICチップの無線通信用のアンテナとして機能するアンテナパターンを前記配線パターンとして形成する場合に、
前記第1の工程では、前記凹部のディスク回転方向に対向する側面をそれぞれ当該凹部の底面に対して垂直とし、かつ、前記垂直な側面の両側に位置する当該凹部の側面をそれぞれ当該凹部の内側方向に傾斜させるように形成し、
前記第2の工程では、前記光ディスクの中心孔の周りに2以上の巻き数のスパイラル状の形状を有するコイルパターンと、前記コイルパターンの両端を直線状に接続する接続パターンとからなる前記アンテナパターンを、前記垂直な側面の両側に形成された前記傾斜した側面の1つとそれぞれ交差して前記凹部の底面で終端されるように前記コイルパターンの両端が配置され、かつ当該凹部の底面に前記接続パターンが配置されるように形成し、
さらに、前記垂直な側面と交差して前記凹部により分断された前記コイルパターンをそれぞれ接続するように、当該凹部の上に接続部材を架設する第3の工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光ディスクの製造方法。 - 前記ICチップの無線通信用のアンテナとして機能するアンテナパターンを前記配線パターンとして形成する場合に、
前記第1の工程では、前記凹部のディスク回転方向に対向する側面にそれぞれ段差が設けられ、前記段差の上面と前記凹部の底面との間が当該底面に垂直な側面で接続され、前記段差の上面と前記凹部の上面との間が当該凹部の内側方向に傾斜した側面で接続されるようにし、かつ、前記垂直な側面の両側に位置する当該凹部の側面をそれぞれ当該凹部の内側方向に傾斜させて当該凹部の上面と底面とを接続するように形成し、
前記第2の工程では、前記光ディスクの中心孔の周りに2以上の巻き数のスパイラル状の形状を有するコイルパターンと、前記コイルパターンの両端を直線状に接続する接続パターンとからなる前記アンテナパターンを形成して、その際に、前記コイルパターンの両端を、前記垂直な側面の両側に形成された前記傾斜した側面の1つとそれぞれ交差して前記凹部の底面で終端されるように配置し、両端部分以外の前記コイルパターンを前記段差と交差するように配置し、前記接続パターンを前記凹部の底面に配置して、
さらに、前記凹部の底面を挟んで対向する前記段差の間に、当該段差と交差して前記凹部の底面により分断された前記コイルパターンにそれぞれ対応する接続部材を架設して、分断された前記コイルパターンを接続する第3の工程を含むことを特徴とする請求項1記載の光ディスクの製造方法。 - 前記第2の工程では、マスクを用いたスパッタリング、もしくはインクジェット方式の印刷によって前記配線パターンを形成することを特徴とする請求項1記載の光ディスクの製造方法。
- ICチップが搭載された光ディスクにおいて、
前記光ディスクのディスク基材に薄膜形成された、前記ICチップとの配線用の配線パターンと、
少なくとも1つの側面が内側方向に傾斜するように前記ディスク基材に形成された凹部と、
を有し、
前記配線パターンが前記凹部の傾斜した側面と交差するように形成されて、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとがそれらの間の傾斜した側面の前記配線パターンを介して接続されたことを特徴とする光ディスク。 - 前記凹部の傾斜した側面の上縁部および下縁部が曲面により形成されたことを特徴とする請求項8記載の光ディスク。
- 前記凹部の所定の側面が当該凹部の内側方向に傾斜するように形成され、
前記凹部の傾斜した側面とそれぞれ交差し、かつ当該凹部の底面上で互いに離間された第1および第2の配線パターンが配置されて、前記ICチップの底部に設けられた2つの接続端子が、当該凹部の底面に配置された前記第1および第2の配線パターンとそれぞれ接合されたことを特徴とする請求項8記載の光ディスク。 - 前記配線パターンは、前記光ディスクの中心孔の周りに2以上の巻き数のスパイラル状の形状を有して、前記ICチップの無線通信用のアンテナとして機能するアンテナパターンであり、
前記凹部のディスク回転方向に対向する側面が当該凹部の内側方向に傾斜するように形成され、
前記アンテナパターンが、前記凹部の傾斜した側面と交差し、かつ、当該アンテナパターンの両端が当該凹部の底面に配置されるように形成されて、
さらに、前記アンテナパターンの両端を結ぶ距離分だけ離間した2つの接続端子と、前記各接続端子の間に配置された絶縁部と、前記絶縁部の内部で前記各接続端子と配線された前記ICチップとからなるICチップモジュールが前記凹部の底面に配置され、前記アンテナパターンの両端と前記接続端子のそれぞれとが接合されたことを特徴とする請求項8記載の光ディスク。 - ICチップが搭載された光ディスクにおいて、
前記光ディスクのディスク基材に薄膜形成された、前記ICチップとの配線用の配線パターンと、
少なくとも1つの側面がその底面と垂直となるように前記ディスク基材に形成された凹部と、
を有し、
前記配線パターンが前記凹部の垂直な側面と交差するように形成されて、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとがそれらの間の垂直な側面を介して絶縁されたことを特徴とする光ディスク。 - 前記凹部の側面の一部が当該凹部の内側方向に傾斜した形状を有し、
前記配線パターンの一部が、前記凹部の傾斜した側面と交差するように形成されて、当該凹部の底面の前記配線パターンと当該凹部の上面の前記配線パターンとがそれらの間の傾斜した側面の前記配線パターンを介して接続されたことを特徴とする請求項12記載の光ディスク。 - 前記凹部の傾斜した側面の上縁部および下縁部が曲面により形成されたことを特徴とする請求項13記載の光ディスク。
- 前記配線パターンは、前記ICチップの無線通信用のアンテナとして機能するアンテナパターンであり、
前記凹部のディスク回転方向に対向する側面がそれぞれ当該凹部の底面に対して垂直とされ、かつ、前記垂直な側面の両側に位置する当該凹部の側面がそれぞれ当該凹部の内側方向に傾斜するように形成され、
前記光ディスクの中心孔の周りに2以上の巻き数のスパイラル状の形状を有するコイルパターンと、前記コイルパターンの両端を直線状に接続する接続パターンとからなる前記アンテナパターンが、前記垂直な側面の両側に形成された前記傾斜した側面の1つとそれぞれ交差して前記凹部の底面で終端されるように前記コイルパターンの両端が配置され、かつ当該凹部の底面に前記接続パターンが配置されるように形成され、
さらに、前記垂直な側面と交差して前記凹部により分断された前記コイルパターンがそれぞれ接続されるように、当該凹部の上に接続部材が架設されたことを特徴とする請求項13記載の光ディスク。 - 前記配線パターンは、前記ICチップの無線通信用のアンテナとして機能するアンテナパターンであり、
前記凹部のディスク回転方向に対向する側面にそれぞれ段差が設けられ、前記段差の上面と前記凹部の底面との間が当該底面に垂直な側面で接続され、前記段差の上面と前記凹部の上面との間が当該凹部の内側方向に傾斜した側面で接続されて、かつ、前記垂直な側面の両側に位置する当該凹部の側面がそれぞれ当該凹部の内側方向に傾斜して当該側面により当該凹部の上面と底面とが接続されており、
前記光ディスクの中心孔の周りに2以上の巻き数のスパイラル状の形状を有するコイルパターンと、前記コイルパターンの両端を直線状に接続する接続パターンとからなる前記アンテナパターンが形成されて、前記コイルパターンの両端が、前記垂直な側面の両側に形成された前記傾斜した側面の1つとそれぞれ交差して前記凹部の底面で終端されるように配置され、両端部分以外の前記コイルパターンが前記段差と交差するように配置され、前記接続パターンが前記凹部の底面に配置されており
さらに、前記凹部の底面を挟んで対向する前記段差の間に、当該段差と交差して前記凹部の底面により分断された前記コイルパターンにそれぞれ対応する接続部材が架設されて、分断された前記コイルパターンが接続されていることを特徴とする請求項13記載の光ディスク。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2011145792A1 (en) * | 2010-05-20 | 2011-11-24 | Lg Innotek Co., Ltd. | Disk for chipless rfid |
CN112652880A (zh) * | 2019-12-12 | 2021-04-13 | 友达光电股份有限公司 | 天线装置及其制造方法 |
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