JP2006091198A - カラムスペーサ及び液晶表示素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶表示素子製造時のシール剤硬化等の加熱工程を経てもカラムスペーサの弾性特性の変化が小さく、重力不良や低温発泡を引き起こしにくいカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】液晶表示素子に用いられるカラムスペーサであって、25℃で15%圧縮したときの初期圧縮弾性係数E0と、120℃で15%圧縮した後に25℃で15%圧縮したときの圧縮弾性係数E1とが、下記式(1)の関係を満たすカラムスペーサ。
{(E1−E0)/E0}×100≦10 (1)
【選択図】なし
【解決手段】液晶表示素子に用いられるカラムスペーサであって、25℃で15%圧縮したときの初期圧縮弾性係数E0と、120℃で15%圧縮した後に25℃で15%圧縮したときの圧縮弾性係数E1とが、下記式(1)の関係を満たすカラムスペーサ。
{(E1−E0)/E0}×100≦10 (1)
【選択図】なし
Description
本発明は、液晶表示素子製造時のシール剤硬化等の加熱工程を経てもカラムスペーサの弾性特性の変化が小さく、重力不良や低温発泡を引き起こしにくいカラムスペーサ及び液晶表示素子に関する。
一般に、液晶表示素子は、2枚のガラス基板の間隙を一定に維持するためのスペーサを具備し、これらの他に透明電極や偏光板及び液晶物質を配向させる配向層等から構成されている。現在スペーサとしては、主に粒子径が数μm程度の微粒子スペーサが用いられている。しかし、従来の液晶表示素子の製造方法では、ガラス基板上に微粒子スペーサをランダムに散布していたことから、画素部内に微粒子スペーサが配置されてしまうことがあった。画素部内に微粒子スペーサがあると、スペーサ周辺の液晶配向の乱れから光が漏れて画像のコントラストが低下したりする等、画像品質を低下させることがあるという問題がある。これに対して、微粒子スペーサが画素部に配置されないような微粒子スペーサの配置方法が種々検討されているが、いずれも操作が煩雑であり実用性に乏しいものであった。
また、近年、液晶表示素子の生産性を上げるために、ワンドロップフィル法(One Drop Fill Technology:ODF法)が提案されている。この方法は、ガラス基板の液晶封入面上に、所定量の液晶を滴下し、もう一方の液晶パネル用基板を真空下で所定のセルギャップを維持できる状態で対峙させ、貼り合わせることにより液晶表示素子を製造する方法である。この方法によれば、従来の方法に比べて液晶表示素子が大面積化し、セルギャップが狭小化しても、液晶の封入が容易であることから、今後はODF法が液晶表示素子の製造方法の主流になると考えられる。
しかし、ODF法において微粒子スペーサを用いると、液晶の滴下時、又は、対向基板の貼り合わせ時に散布した微粒子スペーサが液晶の流動とともに流されて、基板上における微粒子スペーサの分布が不均一となる問題が生じる。微粒子スペーサの分布が不均一になると、液晶セルのセルギャップにバラツキが生じ、液晶表示に色ムラが発生してしまうという問題があった。
しかし、ODF法において微粒子スペーサを用いると、液晶の滴下時、又は、対向基板の貼り合わせ時に散布した微粒子スペーサが液晶の流動とともに流されて、基板上における微粒子スペーサの分布が不均一となる問題が生じる。微粒子スペーサの分布が不均一になると、液晶セルのセルギャップにバラツキが生じ、液晶表示に色ムラが発生してしまうという問題があった。
これに対して、従来の微粒子スペーサに代って、液晶基板上にフォトリソグラフの手法によってセルギャップを均一保持するための凸型パターンを形成したカラムスペーサが提案され、実用化されるようになってきている(例えば、特許文献1、特許文献2等)。カラムスペーサを用いれば、画素部内にスペーサが配置されてしまう問題や、ODF法においてスペーサムラが生じてしまう問題を解決することができる。
しかしながら、カラムスペーサを用いてODF法により製造した大型液晶表示素子においては、表示装置の使用中に液晶セル内の液晶が下方へ流動することにより、表示パネルの上半面と下半面において色ムラが生じる「重力不良」と呼ばれる欠陥が発生することがあり、大きな問題となっていた。この「重力不良」の現象は、バックライトより発生する熱によって液晶セル内の液晶が膨張してセルギャップを押し広げ、その際にカラムスペーサから基板が浮き上がってしまい、このスペーサによって保持されなくなった体積分の液晶が重力によって下方への流動することにより生じると考えられる。
このような「重力不良」を解消するためには、バックライトより発生する熱によって液晶セル内の液晶が膨張してセルギャップを押し広げる際に、いったん圧縮されていたカラムスペーサを圧縮変形からの弾性回復によりセルギャップの変化に追随できるようにし、基
板とカラムスペーサとの間に隙間が生じないようにすれば解決可能であると考えられる。しかし、従来の方法では、カラムスペーサに高い変形回復力を持たせるためには、カラムスペーサを形成する樹脂を高度に架橋し圧縮時に塑性変形を起こりにくくする必要があるところ、このような高度な架橋構造を有する樹脂は一般的に圧縮弾性率が高く、硬くなってしまう傾向にある。このような硬い樹脂によりカラムスペーサを形成した場合には、カラムスペーサを圧縮変形させる課程において、大きな圧力が必要であり、得られた液晶表示素子においては、圧縮されたカラムスペーサによる液晶セルを押し広げようとする大きな力を内包することになる。このようなカラムスペーサが液晶セルを押し広げようとする力が大きい場合、低温時に液晶セル内の液晶の体積収縮が起こると液晶セル内の内圧が急激に低下して気泡が発生する「低温発泡」という現象を生じてしまうという問題があった。
板とカラムスペーサとの間に隙間が生じないようにすれば解決可能であると考えられる。しかし、従来の方法では、カラムスペーサに高い変形回復力を持たせるためには、カラムスペーサを形成する樹脂を高度に架橋し圧縮時に塑性変形を起こりにくくする必要があるところ、このような高度な架橋構造を有する樹脂は一般的に圧縮弾性率が高く、硬くなってしまう傾向にある。このような硬い樹脂によりカラムスペーサを形成した場合には、カラムスペーサを圧縮変形させる課程において、大きな圧力が必要であり、得られた液晶表示素子においては、圧縮されたカラムスペーサによる液晶セルを押し広げようとする大きな力を内包することになる。このようなカラムスペーサが液晶セルを押し広げようとする力が大きい場合、低温時に液晶セル内の液晶の体積収縮が起こると液晶セル内の内圧が急激に低下して気泡が発生する「低温発泡」という現象を生じてしまうという問題があった。
この問題を解決するために、カラムスペーサが液晶セルを押し広げようとする力、すなわち、カラムスペーサの圧縮特性(圧縮弾性係数)を低温時に「低温発泡」が生じない程度に調整することで、「重力不良」や「低温発泡」が生じることのない液晶表示素子を得ることができると考えられる。
しかしながら、このような圧縮特性を調整したカラムスペーサを用いてなる液晶表示素子であっても、液晶表示素子製造時のシール剤硬化等の加熱工程等によりカラムスペーサの弾性特性が大きく変化してしまい、上述した「重力不良」や「低温発泡」が生じてしまうことがあるという問題があった。
しかしながら、このような圧縮特性を調整したカラムスペーサを用いてなる液晶表示素子であっても、液晶表示素子製造時のシール剤硬化等の加熱工程等によりカラムスペーサの弾性特性が大きく変化してしまい、上述した「重力不良」や「低温発泡」が生じてしまうことがあるという問題があった。
本発明は、上記現状に鑑み、液晶表示素子製造時のシール剤硬化等の加熱工程を経てもカラムスペーサの弾性特性の変化が小さく、重力不良や低温発泡を引き起こしにくいカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供することを目的とする。
本発明は、液晶表示素子に用いられるカラムスペーサであって、25℃で15%圧縮したときの初期圧縮弾性係数E0と、120℃で15%圧縮した後に25℃で15%圧縮したときの圧縮弾性係数E1とが、下記式(1)の関係を満たすカラムスペーサである。
{(E1−E0)/E0}×100≦10 (1)
以下に本発明を詳述する。
{(E1−E0)/E0}×100≦10 (1)
以下に本発明を詳述する。
カラムスペーサは、通常の液晶表示素子の製造時において2枚のガラス基板の間に液晶を封入する際にシール剤を硬化させるために120℃程度の高温で熱圧着される。従って、重力不良や低温発泡を確実に防止するためには、このような高温での熱圧着によっても弾性特性の変化が小さいカラムスペーサを用いることが重要である。
本発明のカラムスペーサは、25℃で15%圧縮したときの初期圧縮弾性係数E0と、120℃で15%圧縮した後に25℃で15%圧縮したときの圧縮弾性係数E1とが上記式(1)を満たす。
なお、ここで「初期」とは、120℃程度の熱圧着履歴がない状態を意味する。
本発明のカラムスペーサは、25℃で15%圧縮したときの初期圧縮弾性係数E0と、120℃で15%圧縮した後に25℃で15%圧縮したときの圧縮弾性係数E1とが上記式(1)を満たす。
なお、ここで「初期」とは、120℃程度の熱圧着履歴がない状態を意味する。
本明細書において15%圧縮とは、カラムスペーサの高さの変形率が15%となるように圧縮することを意味する。また、圧縮弾性係数は、以下の方法により測定したものである。
すなわち、25℃に調整した室内において、カラムスペーサを10mN/sの荷重印加速
度で圧縮し、初期高さH0の85%に相当する高さになるまで圧縮した。ここで、H0の85%に相当するカラムスペーサ高さをH1、H1に達した時点での荷重をFとした。得られた各値を用いて、下記式(2)により15%圧縮時の圧縮弾性係数E0、E1を算出した。
E=F/(D×S) (2)
E:圧縮弾性係数(Pa)
F:荷重(N)
D:カラムスペーサの高さ変形率=(H0−H1)/H0
S:カラムスペーサの断面積(m2)
すなわち、25℃に調整した室内において、カラムスペーサを10mN/sの荷重印加速
度で圧縮し、初期高さH0の85%に相当する高さになるまで圧縮した。ここで、H0の85%に相当するカラムスペーサ高さをH1、H1に達した時点での荷重をFとした。得られた各値を用いて、下記式(2)により15%圧縮時の圧縮弾性係数E0、E1を算出した。
E=F/(D×S) (2)
E:圧縮弾性係数(Pa)
F:荷重(N)
D:カラムスペーサの高さ変形率=(H0−H1)/H0
S:カラムスペーサの断面積(m2)
本発明のカラムスペーサは、120℃で15%圧縮した後において、25℃で15%圧縮した際の圧縮弾性係数の好ましい下限が0.2GPa、好ましい上限は1.1GPaである。0.2GPa未満であると、軟らかすぎてセルギャップの保持が困難となることがあり、1.1GPaを超えると、硬すぎて基板貼り合わせ時にカラーフィルター層に突入してしまったり、回復に必要な充分な弾性変形が得られなかったりすることがある。より好ましい下限は0.3GPa、より好ましい上限は0.9GPaである。
このような弾性特性を有することにより、本発明のカラムスペーサは、液晶表示素子に用いた際に「重力不良」や「低温発泡」を防ぐことができる。このような弾性特性を示す本発明のカラムスペーサは、例えば、カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート、アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物、ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物、及び、光反応性開始剤を含有する硬化性組成物を用いることにより得ることができる。このような化合物を含有することにより、上記硬化性組成物を硬化してなる本発明のカラムスペーサは、液晶表示パネル製造時のシール剤硬化等の加熱工程を経ても圧縮変形からの高い回復性と、柔軟で低弾性率であることとを両立させることができる。
このような弾性特性を有することにより、本発明のカラムスペーサは、液晶表示素子に用いた際に「重力不良」や「低温発泡」を防ぐことができる。このような弾性特性を示す本発明のカラムスペーサは、例えば、カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート、アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物、ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物、及び、光反応性開始剤を含有する硬化性組成物を用いることにより得ることができる。このような化合物を含有することにより、上記硬化性組成物を硬化してなる本発明のカラムスペーサは、液晶表示パネル製造時のシール剤硬化等の加熱工程を経ても圧縮変形からの高い回復性と、柔軟で低弾性率であることとを両立させることができる。
なお、本明細書においてカプロラクトン変性とは、(メタ)アクリレート化合物のアルコール由来部位と(メタ)アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体又は開環重合体が導入されることを意味し、また、カプロラクトン変性体とは、このようなカプロラクトン変性が施された化合物を意味する。
3官能以上の(メタ)アクリレート化合物をカプロラクトン変性する具体的な方法としては特に限定されず、例えば、触媒の存在下に高温でアルコールとカプロラクトンとを反応させ、カプロラクトン変性アルコールを合成した後に、このカプロラクトン変性アルコールと(メタ)アクリル酸とを酸性触媒の存在下脱水溶媒を使用してエステル化反応させる方法や(メタ)アクリル酸とカプロラクトンとを反応させ、カプロラクトン変性(メタ)アクリル酸を合成した後に、アルコールとエステル化反応させる方法等が挙げられる。
上記カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては特に限定されないが、3官能では、例えば、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタン(メタ)アクリレートジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等のカプロラクトン変性体が好適であり、4官能以上では、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール(メタ)テトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等のカプロラクトン変性体が好適である。これらのカプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物は、上述の方法により(メタ)アクリレート化合物をカプロラクトン変性して用いてもよいし、日本化薬
社製の「KAYARAD DPCA−120」(カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)、新中村化学工業社製の「NKエステル AD−TMP−4CL」(カプロラクトン変性ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート)等の市販品を用いてもよい。
上記カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物は、上述の方法により(メタ)アクリレート化合物をカプロラクトン変性して用いてもよいし、日本化薬
社製の「KAYARAD DPCA−120」(カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)、新中村化学工業社製の「NKエステル AD−TMP−4CL」(カプロラクトン変性ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート)等の市販品を用いてもよい。
上記アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物としては特に限定されず、例えば、カルボキシル基含有単官能不飽和化合物と不飽和2重結合を有する単官能化合物とを共重合した共重合体(以下、単に共重合体ともいう)等が挙げられる。
上記カルボキシル基含有単官能不飽和化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。
上記不飽和2重結合を有する単官能化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル等の(メタ)アクリル酸エステル系単量体、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等の芳香族ビニル系単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物;無水マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸無水物;フェニルマレイミド、ベンジルマレイミド、ナフチルマレイミド、o−クロロフェニルマレイミド等の芳香族置換マレイミド;メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、イソプロピルマレイミド等のアルキル置換マレイミド等が挙げられる。
上記不飽和2重結合を有する単官能化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル等の(メタ)アクリル酸エステル系単量体、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン等の芳香族ビニル系単量体;アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物;無水マレイン酸等の不飽和ジカルボン酸無水物;フェニルマレイミド、ベンジルマレイミド、ナフチルマレイミド、o−クロロフェニルマレイミド等の芳香族置換マレイミド;メチルマレイミド、エチルマレイミド、プロピルマレイミド、イソプロピルマレイミド等のアルキル置換マレイミド等が挙げられる。
上記共重合体において、カルボキシル基含有単官能不飽和化合物に起因する成分の比の好ましい下限は10重量%、好ましい上限は40重量%である。10重量%未満であると、アルカリ可溶性を付与することが困難であり、40重量%を超えると、現像時の膨潤が著しくパターンの形成が困難となることがある。より好ましい下限は15重量%、より好ましい上限は30重量%である。
上記共重合体の重量平均分子量は、アルカリ現像可能であれば特に限定されず、好ましい下限は5000、好ましい上限は10万であり、より好ましい下限は8000、より好ましい上限は3万である。
上記カルボキシル基含有単官能不飽和化合物と不飽和2重結合を有する単官能化合物とを共重合する方法としては特に限定されず、例えば、ラジカル重合開始剤及び必要に応じて分子量調節剤を用いて、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、分散重合、乳化重合等の従来公知の方法により重合する方法が挙げられる。なかでも、溶液重合が好適である。
溶液重合法により上記共重合体を製造する場合の溶媒としては特に限定されず、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、グリコール等の脂肪族アルコール類;セロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ類;カルビトール、ブチルカルビトール等のカルビトール類;酢酸セロソルブ、酢酸カルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類;テトラヒドロフラン等の環状エーテル、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の極性を有する有機溶剤等を用いることができる。
また、懸濁重合、分散重合、乳化重合等の非水系の分散重合により上記共重合体を製造する場合の媒体としては特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン等の液状の炭化水素や、その他の非極性の有機溶剤等を用いることができる。
また、懸濁重合、分散重合、乳化重合等の非水系の分散重合により上記共重合体を製造する場合の媒体としては特に限定されず、例えば、ベンゼン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサン等の液状の炭化水素や、その他の非極性の有機溶剤等を用いることができる。
上記共重合体を製造する場合に用いるラジカル重合開始剤としては特に限定されず、例えば、過酸化物、アゾ開始剤等の従来公知のラジカル重合開始剤を用いることができる。重
合開始剤の使用量としては、例えば、全単量体成分100重量部に対して好ましい下限は0.001重量部、好ましい上限は5.0重量部であり、より好ましい下限は0.5重量部、より好ましい上限は3.0重量部である。
合開始剤の使用量としては、例えば、全単量体成分100重量部に対して好ましい下限は0.001重量部、好ましい上限は5.0重量部であり、より好ましい下限は0.5重量部、より好ましい上限は3.0重量部である。
上記分子量調節剤としては、例えば、α−メチルスチレンダイマー、メルカプタン系の連鎖移動剤等を用いることができる。なかでも、炭素数8以上の長鎖アルキルメルカプタンが、臭気や着色の少なさの点で好ましい。
上記硬化性樹脂組成物における上記カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物とアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物との配合比としては特に限定されないが、上記アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物100重量部に対する上記カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物の配合量の好ましい下限は25重量部、好ましい上限は900重量部である。25重量部未満であると、充分に光硬化せずにフォトリソグラフィーによりパターンを形成することができないことがあり、900重量部を超えると、アルカリ現像液への溶解性が不足し、現像性が不充分となることがある。より好ましい下限は50重量部、より好ましい上限は500重量部である。
上記光反応開始剤としては特に限定されず、例えば、ベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンジル、チオキサントン及びこれらの誘導体等の従来公知の光反応開始剤を用いることができる。具体的には、例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ミヒラーケトン、(4−(メチルフェニルチオ)フェニル)フェイルメタノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2−メチル−1(4−メチルチオ)フェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン等が挙げられる。これらの光反応開始剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記硬化性樹脂組成物における上記光重合開始剤の配合量としては、上記カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物100重量部に対して好ましい下限が0.01重量部、好ましい上限が50重量部である。0.01重量部未満であると、光硬化しないことがあり、50重量部を超えると、フォトリソグラフィーにおいてアルカリ現像できないことがある。より好ましい下限は0.05重量部、より好ましい上限は20重量部である。
上記硬化性樹脂組成物は、酸素による反応障害を軽減するために反応助剤を含有してもよい。このような反応助剤と水素引き抜き型の光反応開始剤とを併用することにより光照射したときの硬化速度を向上させることができる。
上記反応助剤としては、n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリエチレンテトラミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン系;トリ−n−ブチルホスフィン等のホスフィン系;s−ベンジルイソチウロニウム−p−トルエンスルフィネート等のスルホン酸のもの等を用いることができる。これらの反応助剤は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記反応助剤としては、n−ブチルアミン、ジ−n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリエチレンテトラミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等のアミン系;トリ−n−ブチルホスフィン等のホスフィン系;s−ベンジルイソチウロニウム−p−トルエンスルフィネート等のスルホン酸のもの等を用いることができる。これらの反応助剤は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
上記ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物は熱架橋剤として働き、上記硬化性樹脂組成物に熱硬化性を付与することができる。
上記ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物としては特に限定されず、例えば、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、及び、これらのオリゴマーからなる多官能イソシアネートを、活性メチレン系、オキシム系、ラクタム系、アルコ−ル系等のブロック剤化合物によりブロック化することにより得られるものが挙げられる。これらのブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
このようなブロックイソシアネート基を2つ以上有する熱架橋剤のうち市販されているものとしては、例えば、デュラネート17B−60PX、デュラネートE−402−B80T(以上、旭化成ケミカルズ社製)等が挙げられる。
上記ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物としては特に限定されず、例えば、トリレンジイソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メチレンビス(4−シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、及び、これらのオリゴマーからなる多官能イソシアネートを、活性メチレン系、オキシム系、ラクタム系、アルコ−ル系等のブロック剤化合物によりブロック化することにより得られるものが挙げられる。これらのブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
このようなブロックイソシアネート基を2つ以上有する熱架橋剤のうち市販されているものとしては、例えば、デュラネート17B−60PX、デュラネートE−402−B80T(以上、旭化成ケミカルズ社製)等が挙げられる。
上記硬化性樹脂組成物における上記ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物の配合量としては、上記アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物100重量部に対して好ましい下限が0.01重量部、好ましい上限が50重量部である。0.01重量部未満であると、充分に熱硬化しないことがあり、50重量部を超えると、得られる硬化物の架橋度が高くなりすぎて上述の弾性特性を満たさないことがある。より好ましい下限は0.05重量部、より好ましい上限は20重量部である。
上記硬化性樹脂組成物は、粘度を調整するために希釈剤により希釈してもよい。上記希釈剤としては、上記硬化性樹脂組成物との相溶性、塗工方法、乾燥時の膜均一性、乾燥効率等を考慮して選択すればよく特に限定されないが、上記硬化性樹脂組成物をスピンコーター、スリットコーターを用いて塗工する場合には、例えば、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、エチルセルソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、イソプロピルアルコール等の有機溶媒が好適である。これらの希釈剤は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、基板との密着性を向上するためのシランカップリング剤等の従来公知の添加剤を含有してもよい。
上記硬化性樹脂組成物を製造する方法としては特に限定されず、例えば、上記カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物、アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物、光反応開始剤、ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物、及び、必要に応じて使用する希釈剤等を従来公知の方法により混合する方法が挙げられる。
次に、上記硬化性樹脂組成物を用いて本発明のカラムスペーサを製造する方法を説明する。
上記硬化性樹脂組成物を用いて本発明のカラムスペーサを製造する場合には、まず、上記硬化性樹脂組成物を所定の厚さになるように基板上に塗工して被膜を形成させる。塗工の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート、スリットコート、スプレーコート、ディップコート、バーコート等の従来公知の塗工法を用いることができる。
上記硬化性樹脂組成物を用いて本発明のカラムスペーサを製造する場合には、まず、上記硬化性樹脂組成物を所定の厚さになるように基板上に塗工して被膜を形成させる。塗工の方法としては特に限定されず、例えば、スピンコート、スリットコート、スプレーコート、ディップコート、バーコート等の従来公知の塗工法を用いることができる。
次いで、得られた被膜上に、所定のパターンが形成されたマスクを介して、紫外線等の活性光線を照射する。これにより、光照射部においては、上記硬化性樹脂組成物中に含まれるカプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート化合物と光反応開始剤とが反応して光硬化する。これをアルカリ現像すれば、基板上に光硬化した硬化性樹脂組成物からなる所定のパターンのカラムスペーサが得られる。上記硬化性樹脂組成物がブロッ
クイソシアネート基を2つ以上有する化合物を含有する場合には、更に加熱することにより、含有されるアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物とブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物とを反応させる。
クイソシアネート基を2つ以上有する化合物を含有する場合には、更に加熱することにより、含有されるアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物とブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物とを反応させる。
本発明のカラムスペーサの高さをセルギャップより若干高くなるように設計して、ODF法等の従来公知の方法により製造することにより、重力不良による色ムラのない液晶表示素子が得られる。
上記硬化性樹脂組成物、又は、本発明のカラムスペーサを用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の1つである。
上記硬化性樹脂組成物、又は、本発明のカラムスペーサを用いてなる液晶表示素子もまた、本発明の1つである。
本発明によれば、液晶表示素子製造時のシール剤硬化等の加熱工程を経てもカラムスペーサの弾性特性の変化が小さく、重力不良や低温発泡を引き起こしにくいカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供することができる。
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
(実施例1)
(1)アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物の重合
3L容のセパラブルフラスコに、溶媒としてジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)60重量部を仕込み、窒素雰囲気下にて90℃に昇温した後、メタクリル酸メチル10重量部、メタクリル酸8重量部、メタクリル酸n−ブチル12重量部、メタクリル酸ヒドロキシエチル10重量部、アゾビスバレロニトリル0.4重量部、及び、n−ドデシルメルカプタン0.8重量部を3時間かけて連続的に滴下した。その後、90℃にて30分間保持した後、温度を105℃に昇温し、3時間重合を継続し、アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物を得た。
得られたアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物をサンプリングし、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)にて分子量を測定したところ、重量平均分子量(Mw)は約20000であった。
(1)アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物の重合
3L容のセパラブルフラスコに、溶媒としてジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)60重量部を仕込み、窒素雰囲気下にて90℃に昇温した後、メタクリル酸メチル10重量部、メタクリル酸8重量部、メタクリル酸n−ブチル12重量部、メタクリル酸ヒドロキシエチル10重量部、アゾビスバレロニトリル0.4重量部、及び、n−ドデシルメルカプタン0.8重量部を3時間かけて連続的に滴下した。その後、90℃にて30分間保持した後、温度を105℃に昇温し、3時間重合を継続し、アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物を得た。
得られたアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物をサンプリングし、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)にて分子量を測定したところ、重量平均分子量(Mw)は約20000であった。
(2)硬化性樹脂組成物の調製
得られたアルカリ可溶性樹脂溶液100重量部、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、DPCA−120)80重量部、光反応開始剤1(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー907)10重量部、光反応開始剤2(日本化薬社製、DETX−S)10重量部、熱架橋剤(旭化成ケミカルズ、デュラネート17B−60PX)8重量部、及び、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
得られたアルカリ可溶性樹脂溶液100重量部、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、DPCA−120)80重量部、光反応開始剤1(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー907)10重量部、光反応開始剤2(日本化薬社製、DETX−S)10重量部、熱架橋剤(旭化成ケミカルズ、デュラネート17B−60PX)8重量部、及び、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
(3)カラムスペーサの作製
透明導電膜が形成されたガラス基板上に得られた硬化性樹脂組成物をスピンコートにより塗布し、80℃、3分間乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、30μm角のドットパターンマスクを介して200mJ/cm2の紫外線を照射した後、0.04%KOH溶液により60秒間現像し、純水にて30秒間洗浄してカラムスペーサのパターンを形成した。220℃、1時間のベーキング処理を行った後、カラムスペーサの断面積は30μm×30μm(900μm2)、高さは4.5μmであった。
透明導電膜が形成されたガラス基板上に得られた硬化性樹脂組成物をスピンコートにより塗布し、80℃、3分間乾燥して塗膜を得た。得られた塗膜に、30μm角のドットパターンマスクを介して200mJ/cm2の紫外線を照射した後、0.04%KOH溶液により60秒間現像し、純水にて30秒間洗浄してカラムスペーサのパターンを形成した。220℃、1時間のベーキング処理を行った後、カラムスペーサの断面積は30μm×30μm(900μm2)、高さは4.5μmであった。
(4)液晶表示素子の製造
得られたカラムスペーサが形成されたガラス基板上に、シール剤(積水化学工業社製)を
長方形の枠を描く様にディスペンサーで塗布した。続いて、液晶(チッソ社製、JC−5004LA)の微小滴をガラス基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方のガラス基板を重ねあわせてシール部に高圧水銀ランプを用い紫外線を50mW/cm2で60秒照射した。その後、液晶アニールを120℃にて1時間行い熱硬化させ、液晶表示素子を作製した。
得られたカラムスペーサが形成されたガラス基板上に、シール剤(積水化学工業社製)を
長方形の枠を描く様にディスペンサーで塗布した。続いて、液晶(チッソ社製、JC−5004LA)の微小滴をガラス基板の枠内全面に滴下塗布し、すぐに他方のガラス基板を重ねあわせてシール部に高圧水銀ランプを用い紫外線を50mW/cm2で60秒照射した。その後、液晶アニールを120℃にて1時間行い熱硬化させ、液晶表示素子を作製した。
(実施例2)
実施例1で得られたアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物100重量部、カプロラクトン変性ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(新中村化学工業社製、NKエステル AD−TMP−4CL)80重量部、光反応開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー369)15重量部、熱架橋剤(旭化成ケミカルズ社製、デュラネートE−402−B80T)8重量部、及び、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
得られた硬化性樹脂組成物を用いた以外は実施例1と同様の方法により、カラムスペーサ及び液晶表示素子を得た。
実施例1で得られたアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物100重量部、カプロラクトン変性ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(新中村化学工業社製、NKエステル AD−TMP−4CL)80重量部、光反応開始剤(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー369)15重量部、熱架橋剤(旭化成ケミカルズ社製、デュラネートE−402−B80T)8重量部、及び、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
得られた硬化性樹脂組成物を用いた以外は実施例1と同様の方法により、カラムスペーサ及び液晶表示素子を得た。
(比較例1)
実施例1で得られたアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物100重量部、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、DPCA−120)80重量部、光反応開始剤1(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー907)10重量部、光反応開始剤2(日本化薬社製、DETX−S)10重量部、及び、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
得られた硬化性樹脂組成物を用いた以外は実施例1と同様の方法により、カラムスペーサ及び液晶表示素子を得た。
実施例1で得られたアルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物100重量部、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製、DPCA−120)80重量部、光反応開始剤1(チバスペシャリティケミカルズ社製、イルガキュアー907)10重量部、光反応開始剤2(日本化薬社製、DETX−S)10重量部、及び、溶剤としてジエチレングリコールジメチルエーテル60重量部を混合して硬化性樹脂組成物を調製した。
得られた硬化性樹脂組成物を用いた以外は実施例1と同様の方法により、カラムスペーサ及び液晶表示素子を得た。
(評価)
実施例1、2及び比較例1で得られたカラムスペーサ及び液晶表示素子について以下の方法により評価を行った。
結果を表1に示した。
実施例1、2及び比較例1で得られたカラムスペーサ及び液晶表示素子について以下の方法により評価を行った。
結果を表1に示した。
(1)カラムスペーサの評価
25℃に調整した室内において、カラムスペーサを10mN/sの荷重印加速度で圧縮し、初期高さH0の85%に相当する高さになるまで圧縮した。ここで、H0の85%に相当するカラムスペーサ高さをH1、H1に達した時点での荷重をFとした。得られた各値を用いて、下記式(2)により15%圧縮時の初期圧縮弾性係数E0を算出した。
一方、120℃で15%圧縮を行い、いったん元の状態に戻した後、更に25℃に調整した室内において15%圧縮を行い、E0と同様にして圧縮弾性係数E1を算出した。
E=F/(D×S) (2)
E:圧縮弾性係数(Pa)
F:荷重(N)
D:カラムスペーサの高さ変形率=(H0−H1)/H0
S:カラムスペーサの断面積(m2)
求めたE0、E1をもとに下記式(3)によりPを求めた。
P={(E1−E0)/E0}×100 (3)
25℃に調整した室内において、カラムスペーサを10mN/sの荷重印加速度で圧縮し、初期高さH0の85%に相当する高さになるまで圧縮した。ここで、H0の85%に相当するカラムスペーサ高さをH1、H1に達した時点での荷重をFとした。得られた各値を用いて、下記式(2)により15%圧縮時の初期圧縮弾性係数E0を算出した。
一方、120℃で15%圧縮を行い、いったん元の状態に戻した後、更に25℃に調整した室内において15%圧縮を行い、E0と同様にして圧縮弾性係数E1を算出した。
E=F/(D×S) (2)
E:圧縮弾性係数(Pa)
F:荷重(N)
D:カラムスペーサの高さ変形率=(H0−H1)/H0
S:カラムスペーサの断面積(m2)
求めたE0、E1をもとに下記式(3)によりPを求めた。
P={(E1−E0)/E0}×100 (3)
(2)液晶表示素子の評価
液晶表示素子を点灯表示し、セルギャップの均一性を表示画面を目視にて観察して、以下の基準により評価した。
また、液晶表示素子を垂直に立てた状態で、60℃の条件下にて2日間放置した。放置後
、クロスニコル間に液晶表示素子を設置し、目視により表示画像を観察し、重力不良の発生について以下の基準により評価した。
更に、液晶表示素子を0℃の条件下にて24時間放置した。放置後、クロスニコル間に液晶表示素子を設置し、目視により観察し、低温発泡の発生について以下の基準により評価した。
<セルギャップの評価>
〇:均一
×:色ムラあり
<重力不良の評価>
〇:均一
×:色ムラあり
<低温発泡の評価>
〇:発泡なし
×:発泡あり
液晶表示素子を点灯表示し、セルギャップの均一性を表示画面を目視にて観察して、以下の基準により評価した。
また、液晶表示素子を垂直に立てた状態で、60℃の条件下にて2日間放置した。放置後
、クロスニコル間に液晶表示素子を設置し、目視により表示画像を観察し、重力不良の発生について以下の基準により評価した。
更に、液晶表示素子を0℃の条件下にて24時間放置した。放置後、クロスニコル間に液晶表示素子を設置し、目視により観察し、低温発泡の発生について以下の基準により評価した。
<セルギャップの評価>
〇:均一
×:色ムラあり
<重力不良の評価>
〇:均一
×:色ムラあり
<低温発泡の評価>
〇:発泡なし
×:発泡あり
本発明によれば、液晶表示素子製造時のシール剤硬化等の加熱工程を経てもカラムスペーサの弾性特性の変化が小さく、重力不良や低温発泡を引き起こしにくいカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供することができる。
Claims (3)
- 液晶表示素子に用いられるカラムスペーサであって、25℃で15%圧縮したときの初期圧縮弾性係数E0と、120℃で15%圧縮した後に25℃で15%圧縮したときの圧縮弾性係数E1とが、下記式(1)の関係を満たすことを特徴とするカラムスペーサ。
{(E1−E0)/E0}×100≦10 (1) - カプロラクトン変性された3官能以上の(メタ)アクリレート、アルカリ可溶カルボキシル基含有高分子化合物、ブロックイソシアネート基を2つ以上有する化合物、及び、光反応性開始剤を含有する硬化性組成物からなることを特徴とする請求項1記載のカラムスペーサ。
- 請求項1又は2記載のカラムスペーサを用いてなることを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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US10/563,979 US20060280878A1 (en) | 2004-02-10 | 2005-02-04 | Column spacer, liquid crystal display element and curable resin composition for column spacer |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004274266A JP2006091198A (ja) | 2004-09-21 | 2004-09-21 | カラムスペーサ及び液晶表示素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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ID=36232285
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Country | Link |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007293241A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-11-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物 |
JP2012063747A (ja) * | 2010-08-17 | 2012-03-29 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法、カラーフィルタ及びカラーフィルタの形成方法 |
-
2004
- 2004-09-21 JP JP2004274266A patent/JP2006091198A/ja active Pending
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