JP2006072367A - 低屈折率SiO2膜及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 炭素原子が1〜4個のアルキル基のH原子の一部または全部がF原子に置換されてなる低屈折率要素が導入された低屈折率SiO2 膜は、加水分解されることがなく、低屈折率効果が長期間維持されるので有用である。
【選択図】 なし
Description
上記の各ガスからなる混合ガスには、望ましい性質を付与する目的でさらに他のガス状物質を添加してもよい。
上記Si原料ガスを含む混合ガスを真空チャンバーへ導入する流量(SLM)比は、1:0.1〜20が望ましい。
プラズマCVDを行う際には真空チャンバー内は10-3〜1mmHg(Torr)の圧力に維持することが望ましい。
2 ウェッブ
3、4 ロール
5 プラズマゾーン
6 平板電極
7 成膜ドラム
Claims (13)
- 炭素原子が1〜4個のアルキル基のH原子の一部または全部がF原子に置換されてなる低屈折率要素が導入された低屈折率SiO2 膜。
- 前記低屈折率要素が導入された低屈折率SiO2 膜が反射防止膜用である請求項1記載の低屈折率SiO2 膜。
- 前記低屈折率要素が導入された低屈折率SiO2 膜は、Si原子及び炭素原子が1〜4個のアルキル基のH原子の一部または全部がF原子に置換された原料を用いたCVD法により作成されたものである請求項1記載の低屈折率SiO2 膜。
- 前記Si原子及び炭素原子が1〜4個のアルキル基のH原子の一部または全部がF原子に置換されたものを含む原料は、HMDSO、TMDSO、オクタメチルシクロテトラシロキサン、TEOS、MTMOS、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシランのH原子の一部または全部がF原子に置換されたものから選ばれた1種以上の化合物を含むものである請求項3記載の低屈折率SiO2 膜。
- Si原子及び炭素原子が1〜4個のアルキル基のH原子の一部または全部がF原子に置換されているものを含むガス、及びO原子を含むガスを原料ガスとし、CVD法により基材上に薄膜を形成することを特徴とする低屈折率SiO2 膜の製造方法。
- (1)Si原子及び炭素原子が1〜4個のアルキル基のH原子の一部または全部がF原子に置換されているものを含む有機化合物の揮発ガス、及びO原子を含むガスとからなる混合ガスを10-3〜1mmHg(Torr)の真空条件に維持された真空チャンバー内に導入して、グロー放電によりプラズマ流とし、
(2)前記プラズマ流を該真空チャンバー内に配置された基材上に接触させることにより、基材上に薄膜を形成することを特徴とする低屈折率SiO2 膜の製造方法。 - 基材上にITO層と、請求項1乃至4の何れか1項に記載の低屈折率SiO2 膜が順次積層されてなる反射防止フィルム。
- 基材上にTiO2 層と、請求項1乃至4の何れか1項に記載の低屈折率SiO2 膜が順次積層されてなる反射防止フィルム。
- さらに防汚コートがなされている請求項7又は8記載の反射防止フィルム。
- 基材上にハードコート層と、ITO層と、請求項1乃至4の何れか1項に記載の低屈折率SiO2 膜が順次積層されてなる反射防止フィルム。
- 基材上にハードコート層と、TiO2 層と、請求項1乃至4の何れか1項に記載の低屈折率SiO2 膜が順次積層されてなる反射防止フィルム。
- さらに防汚コートがなされている請求項10又は11記載の反射防止フィルム。
- LCD用に使用される請求項7乃至12の何れか1項に記載の反射防止フィルム。
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