JP2006066303A - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
試料上の特徴物を観察する機能を有する走査型電子顕微鏡において、合焦点位置のずれを高速に補正する。
【解決手段】
上記目的を解決するために、走査型電子顕微鏡において、電子ビームを走査する試料上の観察対象まで視野を移動させるときに、複数の測定点の内、対象とする観察点の隣接点に関する情報に基づいて、前記試料の表面の高さを測定機構の示す合焦点位置と、実際の合焦点位置との誤差を補正するようにしたものである。
【選択図】図1
Description
SEMの焦点をあわせる手法が知られている(例えば特許文献1参照)。しかし、電子顕微鏡は電子をプローブとして用いるため、ウェーハ表面に帯電を生じることがあり、この帯電の影響で電子の軌道が曲げられ、想定していたところに電子を収束することが出来ずにフォーカスがずれて、画像のぼけの原因となる場合がある。この帯電は高さ検出器で測定することはできないため、撮像の際に大きな問題となる。このフォーカスのずれを補正するために、測定前にウェーハの帯電電位を静電計で測定しておき、その帯電量から予想されるずれ分を補正する、あるいはあらかじめ合焦点位置をウェーハ上の数箇所で測定し、補間曲面を作成することにより、以後その局面に従い対物レンズの電流値を制御し、オートフォーカスの回数を削減する手法が知られている(例えば特許文献2参照)。しかし、これらの場合、経時的に帯電状況が変化し、初めに取得したデータでは補正が上手くいかなくなることがある。
11,アドレス制御回路12,画像メモリ13,制御手段14,ディスプレイ15,コンピュータ16,画像合成手段17等で構成され、キーボード18,マウス19等の入力手段が接続されている。なお、図では真空に維持するためのカラムは省略されている。
図3はウェーハ上の特徴物を観察する手順を示すフローチャートである。ステップ301より順を追って説明する。まず初めに、ステップ302においてコンピュータ16から測定点に関するデータを読み込む。次にステップ303において、測定する場所のリストから、すべての点を回るほぼ最短な経路を計算する。ほぼ最短な経路は様々な算出方法があるが、必ずしも理論上の最短距離とならなくとも、ランダムに選択した場合に比べて総移動距離を短くすることができる方法であればよい。このステップは必須ではないが、精度向上のために実行することが望ましい。
本実施例では、実施例1と比較して、観察点の選択方法が異なる。図4はウェーハ上の特徴物を観察する手順を示すフローチャートである。まず、ステップ401から405のステップを実行する。詳細は実施例1のステップ301から305と各々同様であるためここでは省略する。ただし、ステップ403は実施例1と異なり、必ず実行する。
図5はウェーハ上の特徴物を観察する手順を示すフローチャートである。図5において、まず、ステップ501から505のステップを実行する。詳細は実施例1のステップ
301から305と各々同様であるため省略する。
315と各々同様であるため、ここでは説明を省略する。
図6はウェーハ上の特徴物を観察する手順を示すフローチャートである。図6において、まずステップ601から605のステップを実行する。詳細は実施例1のステップ301から305と同様であるため省略する。
19…マウス、20…二次粒子検出器、21…移動ステージ、22…高さセンサ。
Claims (10)
- 試料上の観察対象まで視野を移動させるときに、複数の測定点の内、対象とする観察点の隣接点に関する情報に基づいて、前記試料の表面の高さを測定機構の示す合焦点位置と、実際の合焦点位置との誤差を補正する手段を有することを特徴とする走査型電子顕微鏡。
- 前記隣接点に関する情報は前記誤差を含むことを特徴とする、請求項第1項記載の走査型顕微鏡。
- 前記誤差を補正する手段は、前記観察点より以前に観察した点のうち、前記誤差の平均を補正量として演算し、前記観察点の前記誤差を、該補正量を用いて補正することを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記誤差を補正する手段は前記測定点の総移動距離が略最短となるように観察順序を決定し、前記観察点から数えて過去数点での前記誤差の平均値を補正量として演算することにより、前記観察点での前記誤差を補正することを特徴とする請求項1記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記誤差を補正する手段は、前記補正量を算出する際に使用する、前記観察点より以前に観察した点の前記誤差を、一定条件に基づき選別する機能を有することを特徴とする請求項3乃至請求項4記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記誤差を補正する手段は、前記試料に関する先見情報を利用して、前記観察点の前記誤差の補正に使用する前記補正量を算出する条件又は手法を選択する機能を有することを特徴とする、請求項3乃至請求項5記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記誤差を補正する手段は、前記補正量自身に含まれる誤差を推定する機能を有することを特徴とする、請求項3乃至請求項6記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記推定された補正量自身に含まれる誤差に基づいて、前記合焦点位置の含まれる範囲を推定又は自動算出することを特徴とした請求項7記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記誤差を補正する手段は、前記観察点における前記補正量を、前記推定された補正量自身に含まれる誤差に基づき修正する機能を有することを特徴とする請求項7乃至請求項8記載の走査型電子顕微鏡。
- 前記誤差を補正する手段は、一定条件のもとで前記補正を一時的に中断又は終了する機能を有することを特徴とする請求項1乃至請求項9記載の走査型電子顕微鏡。
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Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7838833B1 (en) * | 2007-11-30 | 2010-11-23 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Apparatus and method for e-beam dark imaging with perspective control |
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US20120119087A1 (en) * | 2009-08-03 | 2012-05-17 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged-particle microscope |
DE102011076893A1 (de) * | 2011-06-01 | 2012-12-06 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Verfahren und Teilchenstrahlgerät zum Fokussieren eines Teilchenstrahls |
US9194829B2 (en) * | 2012-12-28 | 2015-11-24 | Fei Company | Process for performing automated mineralogy |
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---|---|---|---|---|
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JP4163654B2 (ja) * | 2004-04-19 | 2008-10-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011206285A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Konica Minolta Sensing Inc | 生体情報測定装置および該方法 |
JP2020187980A (ja) * | 2019-05-17 | 2020-11-19 | 株式会社日立製作所 | 検査装置 |
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