JP2006062049A - ナノピラー構造体とその製造方法および分離用デバイスとその製造方法 - Google Patents
ナノピラー構造体とその製造方法および分離用デバイスとその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006062049A JP2006062049A JP2004249674A JP2004249674A JP2006062049A JP 2006062049 A JP2006062049 A JP 2006062049A JP 2004249674 A JP2004249674 A JP 2004249674A JP 2004249674 A JP2004249674 A JP 2004249674A JP 2006062049 A JP2006062049 A JP 2006062049A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alumina
- pores
- porous alumina
- nanopillar
- anodized porous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【解決手段】陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質を充填した後、アルミナを除去することによりナノピラー構造体を作製することを特徴とするナノピラー構造体の製造方法、その方法により製造されたナノピラー構造体、並びに、ナノピラー構造体備えた生体関連分子の分離等に好適な分離用デバイスとその製造方法。
【選択図】図3
Description
〔高規則性ポーラスアルミナの作製〕
ピラー構造体を作製する鋳型構造は、高規則性陽極酸化ポーラスアルミナ(例えば、図2に示したようなもの)を用いる。高規則性陽極酸化ポーラスアルミナは、酸性溶液中における陽極酸化プロセスによって作製される。広範囲に高規則性が保たれる構造を得るには、例えば図4に示すように、アルミニウム7の基材に対し、特開平10-121292 号公報に開示された複数の突起を表面に備えた基板(例えば、SiC モールド10)を陽極酸化するアルミニウム基板に圧着することにより(図4(2))、アルミニウム基板表面に窪みを形成し、この窪みを基点として陽極酸化しポーラスアルミナ6を形成する方法が用いられるのが望ましい(図4(3))。あるいは、二段階陽極酸化法(H. Masuda, M. Satoh, Jpn. J. Appl. Phys., 35, L126 (1996) )により自己組織化的に均一なサイズの細孔が規則的に配列した構造を用いることもできる。次にアルミニウム基材をバリアー層11を残した状態にて選択的に溶解し(図4(4))、ポーラス構造の底部に位置するバリアー層11をリン酸でウエットエッチングする、または研磨により除去することにより、貫通化されたホール構造を得る(図4(5))。
ピラー構造体の作製は、貫通孔化した物質を充填する。充填する物質12としては、ポリマー材料、無機酸化物、金属などが挙げられる。ポリマー材料の充填方法としては、溶媒に溶かしたポリマーを直接充填し、溶媒を蒸発させることにより、形成させる方法と、ポリマーを形成させるためのモノマーおよび重合のための試薬を含んだ溶液を充填した後、熱や光によって重合することにより、構造体を形成する。同様に無機酸化物の場合においても、無機酸化物の原料となる物質を充填し、熱や光によって酸化物とする化学反応を起こさせる。これらのポリマー、無機酸化物によるピラー形成においては、細孔内に充填後、さらにポーラスアルミナの周りを覆うことにより、作製されたナノピラーが倒れないような土台と屋根を充填物質で補強した構造を作製することができる(図4(6))。最後にアルミニウムを水酸化ナトリウム、あるいは酸化クロム−リン酸の混合溶液により選択的に溶解除去することにより、ナノ空隙13を有するナノピラー構造ができる(図4(7))。金属を細孔内に充填するためには、貫通孔化されたポーラスアルミナの片面に蒸着法により金属を被覆し、その後、被覆層を利用することにより、アルミナの片面全体を金属層によって覆う。その後、この被覆金属層を細孔内に金属を充填するための電極とすることにより、電気メッキ法により、もう一方の面から細孔にメッキ液が侵入し、細孔深部から金属が細孔内を充填する。充填後、最後にアルミナを水酸化ナトリウム、あるいは酸化クロム−リン酸の混合溶液により選択的に溶解除去することにより、ナノピラー構造ができる。この場合も電気メッキにより析出した金属が細孔を出て、アルミナ基材表面を十分に覆う程度までメッキを行うことにより、アルミナを除去した時に、ナノピラーが倒れないような土台と屋根を充填物質である金属で補強した構造を作製することができる。
(ポリメタクル酸メチル(PMMA)による500nm 周期のナノピラーアレイの作製)
SiC モールド(500 nmの突起周期を持つ)を用いてアルミニウム板(5x5x0.014mm,純度99.99 %)表面に微細な凹凸パターンを転写し、りん酸溶液中で陽極酸化することにより、500nm の細孔周期を持つ高規則性ナノホール構造を得た。続いて飽和第二塩化水銀溶液に浸漬することによりアルミニウムを選択的に溶解除去した。
電解条件は以下の通りである。
電解液組成:りん酸5.0 g/l
電解電圧:200V定電圧
電解温度:0℃
電解時間:10分
エッチング条件は以下の通りである。
エッチング溶液組成:りん酸50 g/l
エッチング溶液温度:30℃
エッチング時間:20〜30分
このエッチング処理により、細孔周期500nm 、細孔径300nm 、細孔の長さ2.5 μm を持つ高規則性ナノホール構造を得た。
(100nm 周期のナノピラーアレイのPMMA作製)
SiC モールド(100nm の突起周期を持つ)を用いてアルミニウム板(5x5x0.014mm,純度99.99 %)表面に微細な凹凸パターンを転写し、りん酸溶液中で陽極酸化することにより、100nm の細孔周期を持つ高規則性ナノホール構造を得た。続いて飽和第二塩化水銀溶液に浸漬することによりアルミニウムを選択的に溶解除去した。
電解条件は以下の通りである。
電解液組成:しゅう酸5.0g/l
電解電圧:40V 定電圧
電解温度:16℃
電解時間:25分
エッチング条件は以下の通りである。
エッチング溶液組成:りん酸50g/l
エッチング溶液温度:30℃
エッチング時間:20分
このエッチング処理により、細孔周期100nm 、細孔径75nm、細孔の長さ0.62μm を持つ高規則性ナノホール構造を得た。
(高アスペクト比の構造ナノピラーの作製)
SiC モールド(500nm の突起周期を持つ)を用いてアルミニウム板(5x5x0.014mm,純度99.99 %)表面に微細な凹凸パターンを転写し、りん酸溶液中で陽極酸化することにより、500nm の細孔周期を持つ高規則性ナノホール構造を得た。続いて飽和第二塩化水銀溶液に浸漬することによりアルミニウムを選択的に溶解除去した。
電解条件は以下の通りである。
電解液組成:りん酸5.0 g/l
電解電圧:200V定電圧
電解温度:0℃
電解時間:25、45、75分
エッチング条件は以下の通りである。
エッチング溶液組成:りん酸50g/l
エッチング溶液温度:30℃
エッチング時間:20〜30分
このエッチング処理により、細孔周期500 nm、細孔径300 nm、細孔の長さ2.5 、4.5 、7.5 μm を持つ高規則性ナノホール構造を得た。
(ニッケル金属による500nm 周期のナノピラーアレイの作製)
実施例1と同様な方法によって細孔周期500nm 、細孔径300nm 、細孔の長さ2.5 μm を持つ高規則性ナノホール構造を得た。この作製過程においては、リン酸水溶液中において貫通孔化はまだ行わない。アルミナ表面にPt-Pd を10nmスパッタ蒸着した後、導通を取り、ワット浴を用いてNiを200 μm の厚さまでめっき(定電圧-1 V, 6 分, 対極: 白金板(1 cm2))した。この操作により細孔にNiを電析するための電極を作製した。次に、リン酸水溶液に浸漬することにより、バリヤー層を溶解させることにより、細孔の貫通孔化を行った。続いて、再度、ワット浴を用いて細孔内にNiを充填し、電析は、アルミナ表面を完全に覆うまで行った。その後、リン酸−クロム酸混合溶液(85%リン酸35ml+三酸化クロム20g/l 溶液)中に30℃で3時間浸漬することにより、アルミナ鋳型を溶解除去した。作製したピラー構造体は、ピラーの直径300nm 、ピラー間の間隔200nm 、アスペクト比8.3 の構造であった。
(ナノピラー構造体を組み込んだDNA 分離用デバイスの作製法(1) )
実施例1と同様な方法によって細孔周期500nm 、細孔径200nm 、細孔の長さ2.5 μm を持つ高規則性ナノホール構造を有するポーラスアルミナ6を得た(図7(1))。作製したポーラスアルミナ基材(5mmx5mmx0.014mm )をPMMA充填用の鋳型内に設置し、真空下で上記膜に滴下してMMA を陽極酸化ポーラスアルミナ膜の細孔に充填するとともにMMA でアルミナ膜を被覆した。続いてMMA をアルミナ膜とともに40℃で48時間加熱して重合し、アルミナ膜細孔内および膜上にPMMA(充填物質としてのPMMA)を生成した(図7(2))。アルミナ膜を封入したPMMA固形物をアルミナ膜の両面が露出するように切断面14で切断した(図7(3))。切断したポーラスアルミナを封入したPMMA固形物16にDNA を流れ方向15にて導入・検出するための流路18およびその流路の屋根17を作製し、接着した(図7(4))。最後に、水酸化ナトリウム水溶液(10wt%)においてアルミナを選択的に溶解除去することにより、ナノピラー構造体が組み込まれたDNA 分離用デバイスを作製した。
(ナノピラー構造体を組み込んだDNA 分離用デバイスの作製法(2) )
実施例1と同様な方法によって細孔周期500nm 、細孔径300nm 、細孔の長さ2.5 μm を持つ高規則性ナノホール構造を得た。作製したポーラスアルミナ基材(5mmx5mmx0.014mm )をDNA が移動する流路(溝のサイズ5mmx0.014mm x5mm)に設置し(図8(1))、その上から5重量%の過酸化ベンゾイルを含むMMA を真空下で上記膜に滴下してMMA を陽極酸化ポーラスアルミナ膜の細孔に充填するための鋳型19を置き、5重量%の過酸化ベンゾイルを含むMMA 溶液を流し込んだ(図8(2))。続いてMMA をアルミナ膜および流路とともに50℃で12時間加熱して重合し、アルミナ膜細孔内にPMMAを形成させた(図8(3)にポーラスアルミナにPMMAを充填したもの20を示す)。その後、流路の屋根を接着により取り付けた後(図8(4))、水酸化ナトリウム水溶液(10wt%)においてアルミナを選択的に溶解除去することにより(図8(5))、ナノピラー構造体が組み込まれたDNA 分離デバイスを作製した。
(200bpsと5kbpsのDNA の分離操作)
実施例6によって作製したナノピラー構造を組み込んだDNA 分離用デバイスを用いることにより、200bpsと5kbpsの分子サイズを持つDNA の分離を行った。DNA の電気泳動を起こさせる溶液に0.89mol/l トリス−ホウ酸+20mmol/lEDTA水溶液(pH8.3)を用い、ナノピラー構造の両側に33 Vcm-1の直流電圧を印加することにより、ピラーの直径250nm 、ピラー間の間隔250nm 、アスペクト比4、ピラー構造体が形成されている流路の長さ400 μm、流路の幅400 μm のピラー構造体からの流出時間を比較した(図9)。分離に用いたDNA は蛍光色素によって標識することにより、ナノピラー構造体の下流において蛍光顕微鏡を用いて泳動してくるDNA を検出した。200bpsの分子サイズを持つDNA の場合、多くのDNA がナノピラー構造体内を移動してくることが電気泳動開始時から確認できるが、5kbpsの分子サイズを持つDNA の場合には、DNA が流出してくる時間が40分かかり、ナノピラー構造内での保持時間に差があることを確認し、DNA が分子サイズの違いにより分離できることが確認できた。
2 長い分子鎖を持つDNA
3 蛍光色素A
4 蛍光色素B
5 ナノ細孔
6 ポーラスアルミナ
7 アルミニウム
8 充填物質
9 ナノピラー構造体
10 SiC モールド
11 バリヤー層
12 充填物質(PMMA)
13 ナノ空隙
14 切断面
15 DNA が流れる方向
16 ポーラスアルミナを封入したPMMA固形物
17 DNA 導入・検出用流路屋根
18 DNA 導入・検出用流路
19 MMA をポーラスアルミナ上部のみに流し込むための鋳型
20 ポーラスアルミナにPMMAを充填したもの
101 ナノピラー
102 ナノピラー構造体
Claims (20)
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質を充填した後、アルミナを除去することによりナノピラー構造体を作製することを特徴とする、ナノピラー構造体の製造方法。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質を融解させた状態で充填し、放冷することにより充填物質の構造を形成させ、その後、アルミナを除去する、請求項1のナノピラー構造体の製造方法。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質を充填し、熱や光を利用する化学反応により充填物質の構造を形成させ、その後、アルミナを除去する、請求項1のナノピラー構造体の製造方法。
- 細孔が貫通孔化された陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質を充填し、さらにアルミナを前記物質で覆うことにより、土台または/および屋根をナノピラーと一体に充填物質で作製する、請求項1〜3のいずれかに記載のナノピラー構造体の製造方法。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に充填する物質として、ポリマー、モノマー、金属、金属塩、無機酸化物のいずれかを用いる、請求項1〜4のいずれかに記載のナノピラー構造体の製造方法。
- 細孔周期が35nmから500nm である陽極酸化ポーラスアルミナを用いる、請求項1〜5のいずれかに記載のナノピラー構造体の製造方法。
- 細孔径が12nmから400nm である陽極酸化ポーラスアルミナを用いる、請求項1〜6のいずれかに記載のナノピラー構造体の製造方法。
- 細孔の長さが100nm から50μm である陽極酸化ポーラスアルミナを用いる、請求項1〜7のいずれかに記載のナノピラー構造体の製造方法。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質を充填したものを流路中に組み込んだ後、アルミナを除去することにより流路中にナノピラー構造体を形成し、該ナノピラー構造体のナノピラー間のナノ空隙を分離用空隙として形成することを特徴とする、分離用デバイスの製造方法。
- 請求項2〜8のいずれかに記載の方法によりナノピラー構造体を形成する、請求項9の分離用デバイスの製造方法。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質が充填された後アルミナが除去されることにより作製されたことを特徴とするナノピラー構造体。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質が融解された状態で充填され、放冷されることにより充填物質の構造が形成された後アルミナが除去されている、請求項11のナノピラー構造体。
- 熱や光を利用する化学反応により陽極酸化ポーラスアルミナの細孔への充填物質の構造が形成された後アルミナが除去されている、請求項11のナノピラー構造体。
- 細孔が貫通孔化された陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質が充填された後さらにアルミナが前記物質で覆われることにより、土台または/および屋根がナノピラーと一体に充填物質で作製されている、請求項11〜13のいずれかに記載のナノピラー構造体。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に充填する物質として、ポリマー、モノマー、金属、金属塩、無機酸化物のいずれかが用いられている、請求項11〜14のいずれかに記載のナノピラー構造体。
- 細孔周期が35nmから500nm である陽極酸化ポーラスアルミナが用いられている、請求項11〜15のいずれかに記載のナノピラー構造体。
- 細孔径が12nmから400nm である陽極酸化ポーラスアルミナが用いられている、請求項11〜16のいずれかに記載のナノピラー構造体。
- 細孔の長さが100nm から50μm である陽極酸化ポーラスアルミナが用いられている、請求項11〜17のいずれかに記載のナノピラー構造体。
- 陽極酸化ポーラスアルミナの細孔に物質を充填したものを流路中に組み込んだ後アルミナを除去することにより流路中に形成されたナノピラー構造体のナノピラー間のナノ空隙が分離用空隙として形成されていることを特徴とする分離用デバイス。
- 請求項12〜18のいずれかに記載のナノピラー構造体が形成されている、請求項19の分離用デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004249674A JP2006062049A (ja) | 2004-08-30 | 2004-08-30 | ナノピラー構造体とその製造方法および分離用デバイスとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004249674A JP2006062049A (ja) | 2004-08-30 | 2004-08-30 | ナノピラー構造体とその製造方法および分離用デバイスとその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006062049A true JP2006062049A (ja) | 2006-03-09 |
Family
ID=36108950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004249674A Pending JP2006062049A (ja) | 2004-08-30 | 2004-08-30 | ナノピラー構造体とその製造方法および分離用デバイスとその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006062049A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009501811A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品及びこれの製造方法 |
JP2009061197A (ja) * | 2007-09-08 | 2009-03-26 | Kagawa Univ | Uv硬化樹脂製の微小針母型の製造方法 |
JP2009061219A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-03-26 | Kagawa Univ | 微小針の製造方法 |
JP2009221061A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | 微細表面パターンを有する無機系材料の製造方法 |
WO2010095661A1 (ja) | 2009-02-17 | 2010-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 金属部材 |
WO2010098743A1 (en) * | 2009-02-24 | 2010-09-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Printhead and method of fabricating the same |
WO2012147964A1 (ja) | 2011-04-28 | 2012-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 金属ナノワイヤを含有する分散液および導電膜 |
KR20160016668A (ko) * | 2014-07-31 | 2016-02-15 | 아이엠이씨 브이제트더블유 | 나노와이어 클러스터 형성 방법 |
JP2020505605A (ja) * | 2017-01-30 | 2020-02-20 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | 強化されたセンサ信号及び感度のためのナノパターン付きバイオセンサ電極 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61101946A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Kao Corp | メツシユの製造方法 |
JPH0632675A (ja) * | 1992-07-15 | 1994-02-08 | N E Chemcat Corp | 金属酸化物多孔体の製造方法 |
JP2002184775A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-06-28 | Mitsubishi Electric Corp | 柱状構造物を備えた構造体、その製造方法及びそれを用いたdna分離デバイス |
WO2004057064A1 (ja) * | 2002-12-21 | 2004-07-08 | Juridical Foundation Osaka Industrial Promotion Organization | 酸化物ナノ構造体及びそれらの製造方法並びに用途 |
-
2004
- 2004-08-30 JP JP2004249674A patent/JP2006062049A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61101946A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Kao Corp | メツシユの製造方法 |
JPH0632675A (ja) * | 1992-07-15 | 1994-02-08 | N E Chemcat Corp | 金属酸化物多孔体の製造方法 |
JP2002184775A (ja) * | 2000-12-19 | 2002-06-28 | Mitsubishi Electric Corp | 柱状構造物を備えた構造体、その製造方法及びそれを用いたdna分離デバイス |
WO2004057064A1 (ja) * | 2002-12-21 | 2004-07-08 | Juridical Foundation Osaka Industrial Promotion Organization | 酸化物ナノ構造体及びそれらの製造方法並びに用途 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009501811A (ja) * | 2005-07-14 | 2009-01-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ナノ構造化物品及びこれの製造方法 |
JP2009061197A (ja) * | 2007-09-08 | 2009-03-26 | Kagawa Univ | Uv硬化樹脂製の微小針母型の製造方法 |
JP2009061219A (ja) * | 2007-09-10 | 2009-03-26 | Kagawa Univ | 微小針の製造方法 |
JP2009221061A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | 微細表面パターンを有する無機系材料の製造方法 |
WO2010095661A1 (ja) | 2009-02-17 | 2010-08-26 | 富士フイルム株式会社 | 金属部材 |
CN102333656A (zh) * | 2009-02-24 | 2012-01-25 | 惠普开发有限公司 | 打印头及其制造方法 |
WO2010098743A1 (en) * | 2009-02-24 | 2010-09-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Printhead and method of fabricating the same |
US8388112B2 (en) | 2009-02-24 | 2013-03-05 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Printhead and method of fabricating the same |
CN102333656B (zh) * | 2009-02-24 | 2015-04-08 | 惠普开发有限公司 | 打印头及其制造方法 |
WO2012147964A1 (ja) | 2011-04-28 | 2012-11-01 | 富士フイルム株式会社 | 金属ナノワイヤを含有する分散液および導電膜 |
KR20160016668A (ko) * | 2014-07-31 | 2016-02-15 | 아이엠이씨 브이제트더블유 | 나노와이어 클러스터 형성 방법 |
JP2016053212A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-04-14 | アイメック・ヴェーゼットウェーImec Vzw | ナノワイヤクラスタの製造方法 |
KR102290618B1 (ko) * | 2014-07-31 | 2021-08-19 | 아이엠이씨 브이제트더블유 | 나노와이어 클러스터 형성 방법 |
JP2020505605A (ja) * | 2017-01-30 | 2020-02-20 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | 強化されたセンサ信号及び感度のためのナノパターン付きバイオセンサ電極 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5767100B2 (ja) | ナノワイヤ及びナノワイヤを製造する方法 | |
Lin et al. | Ultrathin silica membranes with highly ordered and perpendicular nanochannels for precise and fast molecular separation | |
Vega et al. | Unveiling the hard anodization regime of aluminum: Insight into nanopores self-organization and growth mechanism | |
Losic et al. | Preparation of porous anodic alumina with periodically perforated pores | |
Yuan et al. | A simple method for preparation of through-hole porous anodic alumina membrane | |
Duan et al. | Fabrication of nanofluidic devices | |
Jaugstetter et al. | Electrochemistry under confinement | |
US20060065528A1 (en) | Nanostructured devices for separation and analysis | |
JP5361130B2 (ja) | 多孔性高分子膜およびその製造方法 | |
JP2006062049A (ja) | ナノピラー構造体とその製造方法および分離用デバイスとその製造方法 | |
Piao et al. | Fabrication of nanostructured materials using porous alumina template and their applications for sensing and electrocatalysis | |
Shida et al. | Bipolar electrochemistry in synergy with electrophoresis: electric field-driven electrosynthesis of anisotropic polymeric materials | |
Raoufi et al. | Improved synthesis of anodized aluminum oxide with modulated pore diameters for the fabrication of polymeric nanotubes | |
Sulka et al. | AAO templates with different patterns and channel shapes | |
JP2003511556A (ja) | ナノバーコードとしてのコロイド状ロッド粒子の製造方法 | |
KR101577523B1 (ko) | 마이크로 유체 기반 표면전하 제어형 단백질 농축 소자 및 그 제조 방법 | |
KR20040032884A (ko) | 분리 장치 및 분리 장치의 제조 방법 | |
Pashchanka | Controllable reduction of anionic contamination in degradable amorphous anodic alumina nanoporous membranes | |
Seo et al. | Adhesive lift method for patterning arbitrary-shaped thin ion-selective films in micro/nanofluidic device | |
Hasnain et al. | 2. A review on nanopore sequencing technology, its applications and challenges | |
Kumeria et al. | Nanoporous alumina membranes for chromatography and molecular transporting | |
KR101479211B1 (ko) | 알루미늄의 전기화학적 고온 양극 산화를 통한 극미세 나노 다공성 알루미나 구조체의 제조 방법 | |
WO2002029136A1 (en) | Method of manufacture of colloidal rod particles as nanobarcodes | |
EP1970347A1 (en) | Process to manufacture micro- or nanometric particles | |
Boominatha Sellarajan et al. | Synthesis of highly ordered nanoporous anodic aluminium oxide templates and template-based nanomaterials |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20100423 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20100621 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101019 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20101220 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110408 |