JP2006058055A - 複屈折測定装置及びストークスパラメータ算出プログラム - Google Patents
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Abstract
【課題】安価でシンプルな構造としながら、製作が容易で、高精度の測定が可能な複屈折測定装置を提供する。
【解決手段】光の複屈折特性を測定する複屈折測定装置100は、計測対象となるサンプル4を通過した光源1からの光の位相状態を変化させる位相板5と、位相板5を通過した光を所定の偏光方向に偏光する偏光子6と、偏光板6を通過した光を検出するイメージセンサ7と、イメージセンサ7において検出された光の強度に基づいてサンプル4からの光に関するストークスパラメータを算出する制御部81とを備え、位相板5は、光を通過させる主軸方位が位置によって異なり、主軸方位を少なくとも4つ有し、位相板5は単一の位相板で構成されている。
【選択図】図1
【解決手段】光の複屈折特性を測定する複屈折測定装置100は、計測対象となるサンプル4を通過した光源1からの光の位相状態を変化させる位相板5と、位相板5を通過した光を所定の偏光方向に偏光する偏光子6と、偏光板6を通過した光を検出するイメージセンサ7と、イメージセンサ7において検出された光の強度に基づいてサンプル4からの光に関するストークスパラメータを算出する制御部81とを備え、位相板5は、光を通過させる主軸方位が位置によって異なり、主軸方位を少なくとも4つ有し、位相板5は単一の位相板で構成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、光の複屈折特性を測定する複屈折測定装置に関する。
従来、光や物質の複屈折特性(Re:リタデーション、主軸方位、及びストークスパラメータ等)を測定する装置が広く使用されている。これらの装置として、回転検光子型、回転補償子型、光弾性補償子型、ストークスメータ等が知られている。回転検光子型、回転補償子型、及びストークスメータでは、検光子や補償子等を回転させる駆動機構が必要となるため構造が複雑になってしまう。又、光弾性補償子型の装置では、温度による影響を受けやすいために温度を一定に保つための制御部等の付加的構成が多くなると共に、光弾性補償子自体が高価であるため、装置全体として高価になってしまう。
そこで、安価でシンプルな構造としながら、複屈折特性の測定を可能とする装置が提案されている(特許文献1参照)。この装置は、対象物からの光を集光する集光光学系と、集光光学系からの光の位相状態を変化させる位相板であって、その進相軸の角度が互いに異なる4つの位相板と、4つの位相板のそれぞれからの光を受光する複数の受光素子と、複数の受光素子のそれぞれにおいて受光された光の強度に基づいて、対象物からの光に関する部分偏光状態も記述できるストークスパラメータを算出する演算処理手段とを備えている。
特許文献1記載の装置は、複数の受光素子の位置と4つの位相板とを精密に位置合わせを行う必要がある。この装置では、4つの位相板を同一平面上で貼り合わせた1枚の位相板アレイを用いているため、位相板アレイの各位相板同士に貼り合わせ誤差が生じた場合には、複数の受光素子の位置と各位相板との位置がずれたり、各位相板に段差が生じたりしてしまい、この結果、測定精度が落ちてしまうという問題点がある。又、各位相板を精度良く貼り合わせる必要があるため、位相板アレイの製造が困難であり、装置の製作を容易に行うことができない。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、安価でシンプルな構造としながら、製作が容易で、高精度の測定が可能な複屈折測定装置を提供することを目的とする。
本発明の複屈折測定装置は、光の複屈折特性を測定する複屈折測定装置であって、測定対象となる対象物を通過又は反射した光源からの光の位相状態を変化させる位相板と、前記位相板を通過した光を所定の偏光方向に偏光する偏光子と、前記偏光子を通過した光を検出する光検出手段と、前記光検出手段において検出された光の強度に基づいて前記対象物からの光に関するストークスパラメータを算出するストークスパラメータ算出手段とを備え、前記位相板は、光を通過させる主軸方位が位置によって異なり、前記主軸方位を少なくとも4つ有し、前記位相板は単一の位相板で構成されている。
この構成により、製作が容易になると共に、高精度の測定が可能となる。
本発明の複屈折測定装置は、前記光検出手段が複数の受光素子を含み、前記ストークスパラメータ算出手段は、前記受光素子で受光された光の強度と、予め記憶されている前記受光素子に対応する前記位相板の位置での前記主軸方位とを用いて、前記ストークスパラメータを算出する。
この構成により、製作が容易になると共に、高精度の測定が可能となる。
本発明の複屈折測定装置は、前記位相板が、前記主軸方位が放射状に変化している。
この構成により、製作が容易になると共に、高精度の測定が可能となる。
本発明の複屈折測定装置は、前記位相板が、前記主軸方位が同心円状に変化している。
この構成により、製作が容易になると共に、高精度の測定が可能となる。
本発明のストークスパラメータ算出プログラムは、コンピュータを、前記ストークスパラメータ算出手段として機能させるためのプログラムである。
本発明によれば、安価でシンプルな構造としながら、製作が容易で、高精度の測定が可能な複屈折測定装置を提供することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施形態を説明するための複屈折測定装置の概略構成を示す図である。本実施形態の複屈折測定装置は、対象物からの光の全てのストークスパラメータ(完全偏光状態と部分偏光状態を含む)を測定するものであり、原理的には回転補償子型とほぼ同じである。ただし、回転補償子型は、回転補償子をわずかに回転させながら、その主軸方位を変えていくことで、全てのストークスパラメータの測定を可能としているが、本実施形態の複屈折測定装置は、回転補償子を回転させることなく、特別な補償子(位相板)を用いて全てのストークスパラメータの測定を行う。
図1は、本発明の実施形態を説明するための複屈折測定装置の概略構成を示す図である。本実施形態の複屈折測定装置は、対象物からの光の全てのストークスパラメータ(完全偏光状態と部分偏光状態を含む)を測定するものであり、原理的には回転補償子型とほぼ同じである。ただし、回転補償子型は、回転補償子をわずかに回転させながら、その主軸方位を変えていくことで、全てのストークスパラメータの測定を可能としているが、本実施形態の複屈折測定装置は、回転補償子を回転させることなく、特別な補償子(位相板)を用いて全てのストークスパラメータの測定を行う。
図1に示す複屈折測定装置100は、光源1と、光源1からの光をコリメートするコリメートレンズ2と、コリメートレンズ2からの光を直線偏光光にする偏光板3と、測定対象となるサンプル(対象物)4と、サンプル4を通過した光の位相状態を変化させる位相板5と、位相板5を通過した光を所定の偏光方向(例えば図1の矢印a方向)に偏光する偏光子である偏光板6と、偏光板6を通過した光を検出する光検出手段であるイメージセンサ7と、イメージセンサ7に接続され、イメージセンサ7において検出された光の強度に基づいてサンプル4からの光に関するストークスパラメータを算出するコンピュータ8とを備える。
位相板5は、本実施形態ではλ/4位相板とするが、これに限定されない。位相板5は、光を通過させる主軸方位が位置によって異なるものを用いる。位置とは、位相板5を光源1側から見たときの位相板5の表面上の位置のことである。図2は、位相板5を光源1側から見たときの平面図である。位相板5としては、例えば図2(a)に示すように、矢印で示す主軸方位が同心円状に変化しているものや、図2(b)に示すように、矢印で示す主軸方位が放射状に変化しているものを用いることができる。図2(a)では同心円が完全な円となっているが、これは楕円であっても良い。コンピュータ8によって全てのストークスパラメータを算出するためには、位相板5が少なくとも4つの異なる主軸方位を有していれば良い。
位相板5は、特許文献1記載の位相板アレイのように、複数の位相板を同一平面上で貼り合わせたものではなく、単一の位相板に少なくとも4つの異なる主軸方位を持たせたものである。特許文献1記載の位相板アレイでは、複数の位相板を貼り合わせているため、位相板アレイには、位相板と位相板との接触部分に構造的な境界が存在している。ところが、位相板5は単一の位相板で構成されているため、上記構造的な境界は存在しておらず、従来問題となっている貼り合わせ誤差というものは発生し得ない。この違いが本発明の特徴である。ここで言う構造的な境界とは、物と物(例えば2つの位相板)とが接触しているときの接触部分のことである。位相板5は、複数の主軸方位を持っているため、その内部において、ある主軸方位を持つ位置と別の主軸方位を持つ位置との境界があるが、この境界は上記で言っている構造的な境界には含まれない。
尚、図2(a)に示したような位相板5は、ポリイミド等の配向剤を塗布した基板をその中心を軸に回転させながら、布や植毛ロールによって回転方向にラビングにより配向膜を作成し、更に、その基板に複屈折特性を持つ液晶分子を含むポリマーを塗布、加熱、冷却硬化するが、その際、リタデーションがλ/4になるような適正な製造条件を選択することで製造することができる。
又、図2(b)に示したような位相板5は、ポリイミド等の配向剤を塗布した基板の中心から、布や植毛ロールにより小面積で接触するように、全ての角度について外側方向にラビングすることで配向膜を作成し、更に、その基板に複屈折特性を持つ液晶分子を含むポリマーを塗布、加熱、冷却硬化するが、その際、リタデーションがλ/4になるような適正な製造条件を選択することで製造することができる。
又、図2(b)に示したような位相板5は、ポリイミド等の配向剤を塗布した基板の中心から、布や植毛ロールにより小面積で接触するように、全ての角度について外側方向にラビングすることで配向膜を作成し、更に、その基板に複屈折特性を持つ液晶分子を含むポリマーを塗布、加熱、冷却硬化するが、その際、リタデーションがλ/4になるような適正な製造条件を選択することで製造することができる。
イメージセンサ7は、CCD型やCMOS型のものが用いられ、基板上に2次元状に配列された複数の受光素子(例えばフォトダイオード)によって光を検出する。複屈折測定装置100の測定精度を優先する場合にはCCD型のイメージセンサを用い、測定速度を優先する場合にはCMOS型のイメージセンサを用いれば良い。イメージセンサ7の受光範囲は、位相板5の全面を通過する光を検出することのできる範囲に設定されている。つまり、位相板5を通過した光が全てイメージセンサ7の複数の受光素子によって受光されるようになっている。位相板5の表面は、複数の受光素子の各々に対応して、複数の領域(上記位置に相当)に分割することができ、各領域を通過した光は、各領域に対応する受光素子によって受光されるようになっている。このため、コンピュータ8では、各受光素子で受光された光が、位相板5のどの領域を通過した光なのかを判断することができる。 尚、位相板5の各領域は非常に小さいものとなっている。このため、各領域が持つReや主軸方位は、複数種類が混合しておらず、1種類だけとみなすことができる。
コンピュータ8は、制御部81と、記憶部82とを備える。
記憶部82は、ROMやRAM等の記憶媒体とそのドライブとを含む。記憶媒体には、イメージセンサ7に含まれる複数の受光素子のそれぞれに対応する位相板5の各領域でのReや主軸方位(或いはミューラ行列)等の特性情報がルックアップテーブルとして予め記憶されている。このルックアップテーブルは、位相板5を複屈折測定装置100に組み込む前に、位相板5の任意の領域におけるReや主軸方位(或いはミューラ行列)を2次元走査複屈折測定装置にて測定しておき、測定して得られた特性情報をコンピュータ8に入力することで、コンピュータ8により生成及び記憶される。尚、記憶部82は、コンピュータ8の外部にあっても良い。
記憶部82は、ROMやRAM等の記憶媒体とそのドライブとを含む。記憶媒体には、イメージセンサ7に含まれる複数の受光素子のそれぞれに対応する位相板5の各領域でのReや主軸方位(或いはミューラ行列)等の特性情報がルックアップテーブルとして予め記憶されている。このルックアップテーブルは、位相板5を複屈折測定装置100に組み込む前に、位相板5の任意の領域におけるReや主軸方位(或いはミューラ行列)を2次元走査複屈折測定装置にて測定しておき、測定して得られた特性情報をコンピュータ8に入力することで、コンピュータ8により生成及び記憶される。尚、記憶部82は、コンピュータ8の外部にあっても良い。
制御部81は、記憶部82に記憶される所定のプログラムによって動作するプロセッサを主体に構成され、コンピュータ8全体を統括制御する。制御部81は、各受光素子から出力された電気信号から、各受光素子で受光した光の強度を求め、この強度と、各受光素子に対応する位相板5の領域での主軸方位とを用いて、サンプル4からの光に関するストークスパラメータを算出する。
以下、図1に示す複屈折測定装置100の動作を説明する。
光源1からの光は、コリメートレンズ2によってコリメートされた後、偏光板3に入射し、ここで直線偏光光に変換されてサンプル4に入射する。光は、サンプル4で位相変調の影響を受けて楕円偏光光となり、位相板5に入射する。位相板5は、上述したように、領域(位置)毎に主軸方位が異なる、つまり、領域毎に光の変調が異なる。このため、位相板5の各領域に入射した光は、領域毎に異なる変調を受けて偏光板6に入射し、偏光板6にて所定の偏光方向に偏光された後、イメージセンサ7に入射する。イメージセンサ7は、入射された光を複数の受光素子で受光し、受光した光を電気信号に変換して制御部81に出力する。制御部81は、イメージセンサ7からの電気信号に基づき、各受光素子で受光した光の強度を求め、更に、各受光素子に対応する位相板5の領域の持つ主軸方位を記憶部82に記憶されたルックアップテーブルから読み出す。そして、上記求めた光の強度と、各領域での主軸方位とを用いて、サンプル4からの光に関するストークスパラメータを算出し、算出したストークスパラメータを記憶部82に記憶する。
光源1からの光は、コリメートレンズ2によってコリメートされた後、偏光板3に入射し、ここで直線偏光光に変換されてサンプル4に入射する。光は、サンプル4で位相変調の影響を受けて楕円偏光光となり、位相板5に入射する。位相板5は、上述したように、領域(位置)毎に主軸方位が異なる、つまり、領域毎に光の変調が異なる。このため、位相板5の各領域に入射した光は、領域毎に異なる変調を受けて偏光板6に入射し、偏光板6にて所定の偏光方向に偏光された後、イメージセンサ7に入射する。イメージセンサ7は、入射された光を複数の受光素子で受光し、受光した光を電気信号に変換して制御部81に出力する。制御部81は、イメージセンサ7からの電気信号に基づき、各受光素子で受光した光の強度を求め、更に、各受光素子に対応する位相板5の領域の持つ主軸方位を記憶部82に記憶されたルックアップテーブルから読み出す。そして、上記求めた光の強度と、各領域での主軸方位とを用いて、サンプル4からの光に関するストークスパラメータを算出し、算出したストークスパラメータを記憶部82に記憶する。
以上のように、複屈折測定装置100によれば、回転補償子の代わりに位相板5を用いて全てのストークスパラメータを算出することができる。このため、補償子を回転させる駆動機構が不要となり、安価でシンプルな構造とすることができる。又、複屈折測定装置100によれば、1回の測定で複数の主軸方位での光強度をまとめて検出することができるため、ストークスパラメータの算出を高速に行うことができる。又、複屈折測定装置100によれば、従来用いているような複数の位相板を貼り合わせた位相板アレイのかわりに、単一の位相板で構成された位相板5を用いているため、従来問題となっていた貼り合わせ誤差が生じることはない。又、位相板5は、従来の位相板アレイよりも製造が容易である。このため、装置の製作が容易になると共に、測定精度を従来よりも向上させることができる。又、複屈折測定装置100によれば、実測データを基に生成されたルックアップテーブルを用いてストークスパラメータの算出を行うため、正確な測定を行うことができる。
尚、上記では、サンプル4を通過した光を位相板5に入射させる構成としたが、サンプル4を反射した光を位相板5に入射させる構成としても同様の効果を得ることができる。 又、イメージセンサ7として2次元センサを用いたが、1次元センサを複数用いた構成であっても良い。又、複屈折状態を変化させないために、コリメートレンズ2のNAはできるだけ小さいことが望ましい。
100 複屈折測定装置
1 光源
2 コリメートレンズ
3、6 偏光板
4 サンプル
5 位相板
7 イメージセンサ
8 コンピュータ
81 制御部
82 記憶部
1 光源
2 コリメートレンズ
3、6 偏光板
4 サンプル
5 位相板
7 イメージセンサ
8 コンピュータ
81 制御部
82 記憶部
Claims (5)
- 光の複屈折特性を測定する複屈折測定装置であって、
測定対象となる対象物を通過又は反射した光源からの光の位相状態を変化させる位相板と、
前記位相板を通過した光を所定の偏光方向に偏光する偏光子と、
前記偏光子を通過した光を検出する光検出手段と、
前記光検出手段において検出された光の強度に基づいて前記対象物からの光に関するストークスパラメータを算出するストークスパラメータ算出手段とを備え、
前記位相板は、光を通過させる主軸方位が位置によって異なり、前記主軸方位を少なくとも4つ有し、
前記位相板は単一の位相板で構成されている複屈折測定装置。 - 請求項1記載の複屈折測定装置であって、
前記光検出手段は、複数の受光素子を含み、
前記ストークスパラメータ算出手段は、前記受光素子で受光された光の強度と、予め記憶されている前記受光素子に対応する前記位相板の位置での前記主軸方位とを用いて、前記ストークスパラメータを算出する複屈折測定装置。 - 請求項1又は2記載の複屈折測定装置であって、
前記位相板は、前記主軸方位が放射状に変化している複屈折測定装置。 - 請求項1又は2記載の複屈折測定装置であって、
前記位相板は、前記主軸方位が同心円状に変化している複屈折測定装置。 - コンピュータを、請求項1〜4のいずれか記載のストークスパラメータ算出手段として機能させるためのストークスパラメータ算出プログラム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004238037A JP2006058055A (ja) | 2004-08-18 | 2004-08-18 | 複屈折測定装置及びストークスパラメータ算出プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006058055A true JP2006058055A (ja) | 2006-03-02 |
Family
ID=36105645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004238037A Pending JP2006058055A (ja) | 2004-08-18 | 2004-08-18 | 複屈折測定装置及びストークスパラメータ算出プログラム |
Country Status (1)
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010230565A (ja) * | 2009-03-27 | 2010-10-14 | Saitama Medical Univ | 偏光特性測定装置及び偏光特性測定方法 |
WO2012066959A1 (ja) * | 2010-11-15 | 2012-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 光学特性測定装置及び方法 |
CN104748854A (zh) * | 2013-12-25 | 2015-07-01 | 南京理工大学 | 基于分时偏振调制的全斯托克斯干涉成像光谱装置及方法 |
-
2004
- 2004-08-18 JP JP2004238037A patent/JP2006058055A/ja active Pending
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JP2012107893A (ja) * | 2010-11-15 | 2012-06-07 | Fujifilm Corp | 光学特性測定装置及び方法 |
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KR20130124324A (ko) * | 2010-11-15 | 2013-11-13 | 후지필름 가부시키가이샤 | 광학 특성 측정 장치 및 방법 |
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