JP2006049840A - Variable capacitance capacitor, circuit module and communication device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a variable resonance circuit which exhibits a low degree of waveform distortion or intermodulation distortion, a high electric power resistance and a low loss. <P>SOLUTION: Several variable capacitors C1-C4 each using a thin-film dielectric layer whose dielectric constant varies with applied voltage are connected in series between an input terminal I and an output terminal O of high-frequency signal. First bias lines B11, B12 and B13 on the high potential side of applied voltage and second bias lines B21 and B22 on the low potential side are alternately connected to both ends of the several variable capacitors and between the capacitors. In this way, the rate of capacitance change of a variable capacitance capacitor by bias signal can be maximally used and the resonance frequency can be changed in a wide range of frequencies. In addition, the variable capacitance capacitor exhibits a low degree of waveform distortion or intermodulation distortion in a high-frequency electronic component, a high electric power resistance and a low loss even at a high-frequency. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、印加電圧により誘電率が変化する誘電体層を有し、容量が変化することにより共振周波数を変化させることができる可変容量コンデンサならびにそれを用いた回路モジュールおよび通信装置に関するものであり、特に、耐電力,低歪み,低損失等の特性に優れた可変容量コンデンサならびにそれを用いた回路モジュールおよび通信装置に関するものである。   The present invention relates to a variable capacitor having a dielectric layer whose dielectric constant changes depending on an applied voltage and capable of changing a resonance frequency when the capacitance changes, and a circuit module and a communication device using the same. In particular, the present invention relates to a variable capacitor excellent in characteristics such as power durability, low distortion, and low loss, and a circuit module and a communication device using the same.

従来から、印加電圧により誘電体層の誘電率が変化する薄膜コンデンサが提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。   Conventionally, a thin film capacitor in which the dielectric constant of a dielectric layer changes according to an applied voltage has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

この特許文献1に提案されている薄膜コンデンサは、図10にその例を断面図で示すように、支持基板201上に、下部電極層202と、薄膜誘電体層203と、上部電極層204とを順次被着形成した薄膜コンデンサ200である。具体的には、支持基板201上の略全面に下部電極層202となる導体層を被着形成した後、電極形状にパターン加工を行ない、所定形状の下部電極層202を形成する。次に、下部電極層202上に薄膜誘電体層203を形成する。この薄膜誘電体層203は、所定位置にマスクを載置して薄膜形成法により形成したり、あるいは、スピンコート法により形成し、その後、所定形状にパターニングしたりすることによって形成する。なお、必要に応じて薄膜誘電体層203について加熱硬化処理を行なう。次に、薄膜誘電体層203上の略全面に上部電極層204となる導体層を形成した後、上部電極層204の電極形状にパターン加工を施して所定形状の上部電極層204を形成して、薄膜コンデンサ200が形成されていた。なお、ここで、薄膜誘電体層203のうち、実際に下部電極層202と上部電極層204とで挟持される対向領域が容量発生領域となる。   The thin film capacitor proposed in Patent Document 1 includes a lower electrode layer 202, a thin film dielectric layer 203, an upper electrode layer 204, and a lower electrode layer 202 on a support substrate 201, as shown in a sectional view in FIG. Is a thin film capacitor 200 formed by sequentially depositing and depositing. Specifically, a conductor layer to be the lower electrode layer 202 is deposited on substantially the entire surface of the support substrate 201, and then patterned into an electrode shape to form the lower electrode layer 202 having a predetermined shape. Next, a thin film dielectric layer 203 is formed on the lower electrode layer 202. The thin film dielectric layer 203 is formed by placing a mask at a predetermined position and forming it by a thin film forming method, or forming it by a spin coating method and then patterning it into a predetermined shape. Note that the thin film dielectric layer 203 is heat-cured as necessary. Next, after forming a conductor layer to be the upper electrode layer 204 on substantially the entire surface of the thin film dielectric layer 203, the upper electrode layer 204 having a predetermined shape is formed by patterning the electrode shape of the upper electrode layer 204. The thin film capacitor 200 was formed. Here, in the thin film dielectric layer 203, a facing region that is actually sandwiched between the lower electrode layer 202 and the upper electrode layer 204 is a capacitance generation region.

このような薄膜コンデンサ200によれば、薄膜誘電体層203に所定の直流バイアス電圧(バイアス信号)を印加して、薄膜誘電体層203の誘電率を所望の値に制御することにより容量特性を制御することができ、その結果、可変容量コンデンサとして機能するものとなる。
特開平11−260667号公報
According to such a thin film capacitor 200, a predetermined direct current bias voltage (bias signal) is applied to the thin film dielectric layer 203, and the dielectric constant of the thin film dielectric layer 203 is controlled to a desired value, so that the capacitance characteristic is obtained. As a result, it functions as a variable capacitor.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-260667

しかしながら、この薄膜コンデンサ200を使用する際には、例えば図11(a),(b)にそれぞれ等価回路図で示すように、バイアス信号は薄膜コンデンサ200が実装される配線基板に形成した外部回路(バイアス供給回路)Gで供給されていた。   However, when this thin film capacitor 200 is used, for example, as shown in the equivalent circuit diagrams in FIGS. 11A and 11B, the bias signal is an external circuit formed on the wiring board on which the thin film capacitor 200 is mounted. (Bias supply circuit) G was supplied.

ここで、図11(a)では、薄膜コンデンサ200とバイアス供給回路Gとの接続点Aとバイアス端子Vとの間に、インダクタンス成分としてのチョークコイル205が配置されている。   Here, in FIG. 11A, a choke coil 205 as an inductance component is arranged between a connection point A between the thin film capacitor 200 and the bias supply circuit G and the bias terminal V.

また、図11(b)では、バイアス供給回路Gに、薄膜コンデンサ200で動作させる高周波信号の波長λに対してλ/4線路長のストリップ線路206を形成している。そして、そのストリップ線路206のバイアス端子V側の一端は接地されており、さらに、ストリップ線路206のバイアス端子V側の一端と接地部との間に直流制限容量素子208を形成している。   In FIG. 11B, a strip line 206 having a λ / 4 line length with respect to the wavelength λ of the high-frequency signal operated by the thin film capacitor 200 is formed in the bias supply circuit G. One end of the strip line 206 on the bias terminal V side is grounded, and a DC limiting capacitance element 208 is formed between one end of the strip line 206 on the bias terminal V side and the ground portion.

このように、薄膜コンデンサ200を使用する際には、この薄膜コンデンサ200以外に、配線基板上に薄膜コンデンサ200の構造および特性に応じたバイアス供給回路Gを用意しなくてはならなかった。このため、配線基板に実装される薄膜コンデンサ200に対応したバイアス供給回路Gを設計する必要があり、その調整に非常に複雑な手間が必要となるという問題点があった。さらに、薄膜コンデンサ200とバイアス供給回路Gとが別々に構成されるため、全体として大型化してしまうという問題点もあった。   As described above, when the thin film capacitor 200 is used, in addition to the thin film capacitor 200, a bias supply circuit G corresponding to the structure and characteristics of the thin film capacitor 200 must be prepared on the wiring board. For this reason, it is necessary to design the bias supply circuit G corresponding to the thin film capacitor 200 mounted on the wiring board, and there is a problem that adjustment is very complicated. Furthermore, since the thin film capacitor 200 and the bias supply circuit G are configured separately, there is a problem that the size of the thin film capacitor 200 and the bias supply circuit G increase as a whole.

また、上述のような薄膜コンデンサ200を高周波用電子部品として用いる場合には、薄膜コンデンサ200に容量を変化させるための直流バイアス電圧と、高周波信号の電圧(高周波電圧)とが同時に印加されることになる。しかしながら、高周波電圧が高い場合には、高周波電圧によっても薄膜コンデンサ200の容量が変化するため、高周波電子部品において波形歪みや相互変調歪み等が生じるようになる。これら波形歪みや相互変調歪み等を小さくするためには、高周波電界強度を下げて高周波電圧による容量変化を小さくする必要があり、そのためには、薄膜誘電体層203の厚みを厚くすることが有効であるが、薄膜誘電体層203の厚みを厚くすると直流電界強度も小さくなるため、直流バイアス電圧による容量変化率も下がってしまうという問題点がある。   In addition, when the thin film capacitor 200 as described above is used as a high frequency electronic component, a DC bias voltage for changing the capacitance and a high frequency signal voltage (high frequency voltage) are simultaneously applied to the thin film capacitor 200. become. However, when the high-frequency voltage is high, the capacitance of the thin film capacitor 200 is also changed by the high-frequency voltage, so that waveform distortion, intermodulation distortion, and the like occur in the high-frequency electronic component. In order to reduce the waveform distortion, intermodulation distortion, etc., it is necessary to reduce the capacitance change due to the high-frequency voltage by reducing the high-frequency electric field strength. For this purpose, it is effective to increase the thickness of the thin film dielectric layer 203. However, when the thickness of the thin film dielectric layer 203 is increased, the DC electric field strength is also reduced, so that there is a problem that the capacity change rate due to the DC bias voltage is also reduced.

また、高周波領域ではコンデンサに電流が流れやすくなるため、コンデンサを高周波領域で使用中にはコンデンサの損失抵抗によりコンデンサが発熱し、破壊してしまうという耐電力上の問題点がある。このような耐電力上の問題点に対しても、薄膜誘電体層203の厚みを厚くし、単位体積当たりの発熱量を小さくすることが有効であるが、前述のように薄膜誘電体層203の厚みを厚くすると直流電界強度も小さくなるため、直流バイアス電圧による容量変化率も下がってしまうという問題点がある。   In addition, since a current easily flows through the capacitor in the high frequency region, there is a problem in terms of power resistance that the capacitor generates heat due to the loss resistance of the capacitor and is destroyed when the capacitor is used in the high frequency region. It is effective to increase the thickness of the thin film dielectric layer 203 and reduce the amount of heat generated per unit volume in order to cope with such problems with power durability. As described above, the thin film dielectric layer 203 is effective. If the thickness is increased, the DC electric field strength is also reduced, so that the rate of change in capacity due to the DC bias voltage is also lowered.

本発明は、以上のような従来の技術における問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、可変容量コンデンサに対する独立した外部のバイアス供給回路の形成を不要とし、取り扱いが容易な可変容量コンデンサを提供することにある。   The present invention has been devised in view of the above-described problems in the prior art, and the object thereof is to eliminate the need for forming an independent external bias supply circuit for the variable capacitor and to facilitate handling. The object is to provide a variable capacitor.

また、本発明の別の目的は、高周波信号による容量変化が抑制され、相互変調歪みが小さく、耐電力に優れ、かつ直流バイアスにより容量を大きく変化させることが可能な可変容量コンデンサを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a variable capacitor that suppresses capacitance change due to a high-frequency signal, has low intermodulation distortion, has excellent power resistance, and can greatly change capacitance by a DC bias. It is in.

本発明のさらに別の目的は、上記の可変容量コンデンサを用いた回路モジュールおよび通信装置を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a circuit module and a communication device using the above-described variable capacitor.

本発明の可変容量コンデンサは、1)高周波信号の入力端子と出力端子との間に印加電圧により誘電率が変化する薄膜誘電体層を用いた複数の可変容量素子が直列接続されており、前記印加電圧の高電位側の第1バイアスラインと低電位側の第2バイアスラインとが、複数の前記可変容量素子の両端および各素子間に交互に接続されていることを特徴とするものである。   In the variable capacitor of the present invention, 1) a plurality of variable capacitance elements using a thin film dielectric layer whose dielectric constant is changed by an applied voltage between an input terminal and an output terminal of a high-frequency signal are connected in series; The first bias line on the high potential side and the second bias line on the low potential side of the applied voltage are alternately connected to both ends of the plurality of variable capacitance elements and between the elements. .

また、本発明の可変容量コンデンサは、2)上記1)の構成において、複数の前記可変容量素子のうち、前記第1バイアスラインが前記入力端子側に接続された可変容量素子群Aの容量値の合計値と前記第1バイアスラインが前記出力端子側に接続された可変容量素子群Bの容量値の合計値とが実質的に等しいことを特徴とするものである。   The variable capacitance capacitor of the present invention is 2) In the configuration of 1) above, among the plurality of variable capacitance elements, the capacitance value of the variable capacitance element group A in which the first bias line is connected to the input terminal side. And a total value of capacitance values of the variable capacitance element group B in which the first bias line is connected to the output terminal side are substantially equal to each other.

また、本発明の可変容量コンデンサは、3)上記2)の構成において、前記可変容量素子が偶数であることを特徴とするものである。   The variable capacitor of the present invention is characterized in that 3) in the configuration of 2), the variable capacitor is an even number.

また、本発明の可変容量コンデンサは、4)上記3)の構成において、前記可変容量素子群Aの前記可変容量素子と前記可変容量素子群Bの前記可変容量素子とが実質的に等しい容量値の対になっていることを特徴とするものである。   In the variable capacitor according to the present invention, 4) in the configuration of 3), the variable capacitance element of the variable capacitance element group A and the variable capacitance element of the variable capacitance element group B are substantially equal in capacitance value. It is characterized by being a pair.

また、本発明の可変容量コンデンサは、5)上記3)の構成において、複数の前記可変容量素子の容量値が実質的に等しいことを特徴とするものである。   In addition, the variable capacitor of the present invention is characterized in that, in 5) the configuration of 3), the capacitance values of the plurality of variable capacitors are substantially equal.

また、本発明の可変容量コンデンサは、6)上記2)の構成において、前記可変容量素子が奇数であることを特徴とするものである。   The variable capacitor according to the present invention is characterized in that 6) in the configuration of 2), the variable capacitor is an odd number.

また、本発明の可変容量コンデンサは、7)上記1)〜4)のいずれかまたは6)の構成において、前記入力端子に接続された前記可変容量素子および前記出力端子に接続された前記可変容量素子は、他の前記可変容量素子よりも容量値が大きいことを特徴とするものである。   The variable capacitor of the present invention is 7) In the configuration of any one of 1) to 4) or 6), the variable capacitor connected to the input terminal and the variable capacitor connected to the output terminal. The element has a capacitance value larger than that of the other variable capacitance elements.

また、本発明の回路モジュールは、上記1)〜7)のいずれかの構成の本発明の可変容量コンデンサが共振回路を構成するコンデンサとして用いられていることを特徴とするものである。   The circuit module of the present invention is characterized in that the variable capacitor of the present invention having any one of the constitutions 1) to 7) is used as a capacitor constituting a resonance circuit.

また、本発明の通信装置は、本発明の回路モジュールがフィルタ手段として用いられていることを特徴とするものである。   The communication apparatus of the present invention is characterized in that the circuit module of the present invention is used as a filter means.

本発明の可変容量コンデンサ(図1のようにバイアス端子V1,V2を接続した構成のもの)によれば、1)高周波信号の入力端子と出力端子との間に印加電圧により誘電率が変化する薄膜誘電体層を用いた複数の可変容量素子が直列接続されており、印加電圧の高電位側の第1バイアスラインと低電位側の第2バイアスラインとが、複数の可変容量素子の両端および各素子間に交互に接続されていることから、従来の可変容量コンデンサのように外部の配線基板に実装していた独立したバイアス供給回路を不要とすることができ、可変容量コンデンサが実装される回路基板の小型化が図れるとともに、取り扱いが容易となる。   According to the variable capacitor of the present invention (with the configuration in which the bias terminals V1 and V2 are connected as shown in FIG. 1), 1) the dielectric constant changes depending on the applied voltage between the input terminal and the output terminal of the high-frequency signal. A plurality of variable capacitance elements using thin film dielectric layers are connected in series, and a first bias line on the high potential side and a second bias line on the low potential side of the applied voltage are connected to both ends of the plurality of variable capacitance elements and Since each element is connected alternately, an independent bias supply circuit mounted on an external wiring board like a conventional variable capacitor can be eliminated, and a variable capacitor is mounted. The circuit board can be miniaturized and handled easily.

また、本発明の可変容量コンデンサは、複数の可変容量素子が直列接続されており、印加電圧の高電位側の第1バイアスラインと低電位側の第2バイアスラインとが、複数の可変容量素子の両端および各素子間に交互に接続されていることから、第1バイアスラインを介して供給される印加電圧、すなわち直流バイアス電圧(バイアス信号)が各々の可変容量素子に単独に印加され、その後第2バイアスラインへと抜けることより、直流的には各々の可変容量素子は並列に接続されている。このため、各々の可変容量素子に所望の直流バイアス電圧を印加することができ、これにより、直流バイアス電圧による各々の可変容量素子の容量変化率を最大限に利用でき、容量を大きく変化させることが可能となる。また、本発明の可変容量コンデンサは複数の可変容量素子を具備しているがバイアス信号経路に対して各々の可変容量素子は並列に接続されているため、直流バイアス電圧を供給するためのバイアス電源を2つ(片方を接地した場合は1つ)にまとめることができ、可変容量コンデンサが実装される回路基板の構成が簡易となる。   In the variable capacitor of the present invention, a plurality of variable capacitors are connected in series, and the first bias line on the high potential side and the second bias line on the low potential side of the applied voltage include the plurality of variable capacitors. Are alternately connected between the two ends and each element, so that an applied voltage supplied via the first bias line, that is, a DC bias voltage (bias signal) is independently applied to each variable capacitance element, and thereafter By passing through the second bias line, the variable capacitance elements are connected in parallel in terms of DC. For this reason, a desired DC bias voltage can be applied to each variable capacitance element, so that the capacity change rate of each variable capacitance element due to the DC bias voltage can be utilized to the maximum, and the capacitance can be greatly changed. Is possible. The variable capacitor according to the present invention includes a plurality of variable capacitors, but each variable capacitor is connected in parallel to the bias signal path, so that a bias power supply for supplying a DC bias voltage is provided. Can be combined into two (one when one is grounded), and the configuration of the circuit board on which the variable capacitor is mounted is simplified.

また、本発明の可変容量コンデンサは複数の可変容量素子が高周波的に直列接続されているため、可変容量コンデンサに印加される高周波電圧が各々の可変容量素子に分圧されるので、個々の可変容量素子に印加される高周波電圧は分圧されて小さくなり、これによって、可変容量コンデンサの高周波信号による容量変動を小さく抑えることができ、高周波電子部品において波形歪みや相互変調歪み等を大幅に抑制することができる。さらには、複数の可変容量素子が高周波的に直列接続されているため、高周波的には容量素子の誘電体層の層厚を厚くしたのと同じ効果があり、可変容量コンデンサの損失抵抗による単位体積当たりの発熱量を小さくすることができ、耐電力を向上させることができる。ここで、波形歪みとは、入力信号(高周波信号)の電圧により可変容量コンデンサの容量が変化するため、入力信号と異なる周波数へのエネルギー変換による高調波信号が生じ、出力信号に波形歪みが生じることをいう。また、相互変調歪みとは、入力信号が周波数の異なる2つの入力信号である場合、出力信号は、2つの入力信号の和の項、当該和の2乗の項、当該和の3乗の項、当該和の4乗以上の項を足した式で表され、和の2乗の項以上の項では、2つの入力信号がミキシング(掛け算)され、相互変調歪み(積の項の高調波)が生じる。具体的には、2つの入力信号(X=Acosωt+Bcosωt)(A,Bは定数)を、非線形回路の可変容量コンデンサ(y=αX+α+α+・・・)(α,α,αは定数)に入力すると、出力信号はy=α(Acosωt+Bcosωt)+α(Acosωt+Bcosωt)+α(Acosω1t+Bcosωt)・・・となり、これを展開すると、2乗の項は2ABcosω1t・cosωt=cos(ω±ω)t、3乗の項は3ABcosω1t・cosωt=cos(2ω±ω)t、3ABcosω1t・cosωt=cos(2ω±ω)tで表される相互変調歪みを含むこととなる。 In the variable capacitor according to the present invention, since a plurality of variable capacitors are connected in series in high frequency, the high frequency voltage applied to the variable capacitors is divided into each variable capacitor, so that each variable capacitor The high-frequency voltage applied to the capacitive element is divided and reduced, which makes it possible to reduce the capacitance fluctuation caused by the high-frequency signal of the variable capacitor, and to greatly suppress waveform distortion and intermodulation distortion in high-frequency electronic components. can do. Furthermore, since a plurality of variable capacitance elements are connected in series in terms of high frequency, there is the same effect as increasing the thickness of the dielectric layer of the capacitance elements in terms of high frequency. The calorific value per volume can be reduced, and the power resistance can be improved. Here, the waveform distortion means that a harmonic signal is generated by energy conversion to a frequency different from that of the input signal because the capacitance of the variable capacitor changes depending on the voltage of the input signal (high frequency signal), and the waveform distortion occurs in the output signal. That means. Intermodulation distortion means that when an input signal is two input signals having different frequencies, the output signal is a sum term of the two input signals, a square term of the sum, and a cube term of the sum. , Expressed by an expression that adds the fourth or higher term of the sum, and in the second or higher term of the sum, the two input signals are mixed (multiplied), and intermodulation distortion (harmonic of the product term) Occurs. Specifically, two input signals (X = A cos ω 1 t + B cos ω 2 t) (A and B are constants) are converted into a variable capacitance capacitor (y = α 1 X + α 2 X 2 + α 3 X 3 +... ) (Α 1 , α 2 , α 3 are constants), the output signal is y = α 1 (Acosω 1 t + Bcosω 2 t) + α 2 (Acosω 1 t + Bcosω 2 t) 2 + α 3 (Acosω 1 t + Bcosω 2 t ) 3 ..., and, when deploying it, square terms 2ABcosω 1 t · cosω 2 t = cos (ω 1 ± ω 2) t, 3 cube of section 3A 2 Bcos 2 ω 1 t · cosω 2 It includes an intermodulation distortion represented by t = cos (2ω 1 ± ω 2 ) t, 3AB 2 cosω 1 t · cos 2 ω 2 t = cos (2ω 2 ± ω 1 ) t.

このように、本発明の可変容量コンデンサによれば、複数の可変容量素子が高周波的に直列に接続されていることにより、高周波信号による容量変動が抑制され、高周波電子部品として使用した場合に相互変調歪みが少なく、耐電力に優れたものとなる。   As described above, according to the variable capacitor of the present invention, since a plurality of variable capacitors are connected in series in terms of high frequency, capacitance variation due to a high frequency signal is suppressed, and when used as high frequency electronic components, The modulation distortion is small and the power durability is excellent.

また、本発明の可変容量コンデンサによれば、2)上記1)の構成において、複数の前記可変容量素子のうち、第1バイアスラインが入力端子側に接続された可変容量素子群Aの容量値の合計値と第1バイアスラインが出力端子側に接続された可変容量素子群Bの容量値の合計値とが実質的に等しいことから、高周波電圧により個々の可変容量素子の容量が変動しても、可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとでは極性の異なる直流バイアス電圧が印加されるため、可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとの高周波電圧による容量変動を相殺しあうことで可変容量コンデンサ全体の高周波信号による容量値の変動をさらに小さくすることができ、その結果、高周波電子部品として使用する場合に高周波信号に対する波形歪みや相互変調歪みを少なくすることができる。   According to the variable capacitor of the present invention, 2) in the configuration of 1), the capacitance value of the variable capacitor group A in which the first bias line is connected to the input terminal side among the plurality of variable capacitors. And the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group B having the first bias line connected to the output terminal side are substantially equal to each other. In addition, since DC bias voltages having different polarities are applied between the variable capacitance element group A and the variable capacitance element group B, the capacitance fluctuations caused by the high-frequency voltage between the variable capacitance element group A and the variable capacitance element group B are offset. As a result, the fluctuation of the capacitance value due to the high-frequency signal of the entire variable capacitor can be further reduced. It can be without.

また、本発明の可変容量コンデンサによれば、3)上記2)の構成において、可変容量素子が偶数であることから、個々の可変容量素子にかかる直流バイアス電圧の向きは交互に異なるが、可変容量素子が偶数であるため隣り合う可変容量素子間で直流バイアス電圧の向きの違いによる影響を相殺し合うことで、バイアス信号に対する極性が発生しなくなり、その結果、可変容量コンデンサとして実装する際に極性に注意を払う必要がなく取り扱いの容易なものとなる。   Further, according to the variable capacitor of the present invention, 3) in the configuration of 2) above, since the variable capacitance elements are even numbers, the direction of the DC bias voltage applied to each variable capacitance element varies alternately, but is variable. Because the number of capacitive elements is an even number, the effect of the difference in the direction of the DC bias voltage between adjacent variable capacitive elements is offset to eliminate the polarity with respect to the bias signal. As a result, when mounting as a variable capacitive capacitor It is easy to handle without paying attention to the polarity.

また、本発明の可変容量コンデンサによれば、4)上記3)の構成において、可変容量素子群Aの可変容量素子と可変容量素子群Bの可変容量素子とが実質的に等しい容量値の対になっていることから、高周波電圧により個々の可変容量素子の容量が変動しても、可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとでは極性の異なる直流バイアス電圧が印加されるため、可変容量素子群Aおよび可変容量素子群Bの実質的に等しい容量値の対となっている可変量素子間で容量変動を相殺しあうこととなるので可変容量コンデンサ全体の高周波信号による容量値の変動をさらに小さくすることができ、その結果、高周波電子部品として使用した場合に高周波信号に対する波形歪みや相互変調歪みを少なくすることができる。   According to the variable capacitor of the present invention, 4) in the configuration of 3) above, the variable capacitance elements of the variable capacitance element group A and the variable capacitance elements of the variable capacitance element group B have a pair of capacitance values that are substantially equal. Therefore, even if the capacitance of each variable capacitive element varies due to the high-frequency voltage, the variable capacitive element group A and the variable capacitive element group B are applied with DC bias voltages having different polarities. Capacitance fluctuations are canceled out between the variable quantity elements that are pairs of substantially the same capacitance values of the element group A and the variable capacitance element group B. Therefore, the fluctuation of the capacitance value due to the high-frequency signal of the entire variable capacitor is reduced. As a result, when used as a high-frequency electronic component, waveform distortion and intermodulation distortion with respect to a high-frequency signal can be reduced.

また、本発明の可変容量コンデンサによれば、5)上記3)の構成において、複数の可変容量素子の容量値が実質的に等しいことから、可変容量素子群Aの任意の可変容量素子と可変容量素子群Bの任意の可変容量素子とが実質的に等しい容量値の対となることより、高周波電圧により個々の可変容量素子の容量が変動しても、可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとでは極性の異なる直流バイアス電圧が印加されるため、可変容量素子群Aおよび可変容量素子群Bの実質的に等しい容量値の対となっている可変容量素子間で容量変動を相殺しあうこととなるので可変容量コンデンサ全体の高周波信号による容量値の変動をさらに小さくすることができ、その結果、高周波電子部品として使用した場合に高周波信号に対する波形歪みや相互変調歪みを少なくすることができる。また、同一の可変容量素子を複数個形成すればよいため、個々の可変容量素子の設計が異なる場合に比べて製造が簡易となる。   Further, according to the variable capacitor of the present invention, 5) In the configuration of 3) above, the capacitance values of the plurality of variable capacitors are substantially equal. Since any variable capacitance element of the capacitance element group B forms a pair having substantially the same capacitance value, the variable capacitance element group A and the variable capacitance element even if the capacitance of each variable capacitance element varies due to a high-frequency voltage. Since a DC bias voltage having a polarity different from that of the group B is applied, the capacitance variation is canceled between the variable capacitance elements which are pairs of substantially the same capacitance values of the variable capacitance element group A and the variable capacitance element group B. As a result, the fluctuation of the capacitance value due to the high-frequency signal of the entire variable capacitor can be further reduced. It is possible to reduce the distortion. In addition, since a plurality of the same variable capacitance elements need only be formed, the manufacturing becomes easier as compared with the case where the design of each variable capacitance element is different.

また、本発明の可変容量コンデンサによれば、6)上記2)の構成において、可変容量素子が奇数であることから、高周波信号を供給するための信号端子である入力端子および出力端子と、第1および第2バイアスラインが接続されるバイアス信号を供給するバイアス端子とを共通とすることができ、その結果、実装やパターン設計等の自由度を増やすことができる取扱いが容易な可変容量コンデンサとするこができる。   According to the variable capacitor of the present invention, 6) in the configuration of 2), since the variable capacitance element is an odd number, the input terminal and the output terminal which are signal terminals for supplying a high-frequency signal, A bias capacitor for supplying a bias signal to which the first and second bias lines are connected can be made common, and as a result, an easily handled variable capacitor that can increase the degree of freedom in mounting, pattern design, etc. Can do.

また、本発明の可変容量コンデンサによれば、7)上記1)〜4)のいずれかまたは6)の構成において、入力端子に接続された可変容量素子および出力端子に接続された可変容量素子は、他の可変容量素子よりも容量値が大きいことから、入力端子と入力端子に接続された可変容量素子との間および出力端子と出力端子に接続された可変容量素子との間に生じる浮遊容量値に比べ、入力端子に接続された可変容量子および出力端子に接続された可変容量素子の容量値が大きくなるため、入力端子に接続された可変容量素子および出力端子に接続された可変容量素子の容量値に対する浮遊容量値の影響は小さくなる。また、可変容量コンデンサの容量値は、可変容量素子が直列接続されているため、各可変容量素子の容量値の逆数の総和の逆数となることから、入力端子に接続された可変容量素子および出力端子に接続された可変容量素子の容量値は、他の可変容量素子の容量値より可変容量コンデンサの容量値への寄与は小さくなる。その結果、浮遊容量の影響を抑制することができ、可変容量コンデンサの容量値のばらつきが少ないものとなる。   According to the variable capacitor of the present invention, 7) in the configuration of any one of 1) to 4) or 6), the variable capacitor connected to the input terminal and the variable capacitor connected to the output terminal are The stray capacitance generated between the input capacitor and the variable capacitor connected to the input terminal and between the output capacitor and the variable capacitor connected to the output terminal because the capacitance value is larger than other variable capacitors. Since the capacitance value of the variable capacitance element connected to the input terminal and the variable capacitance element connected to the output terminal is larger than the value, the variable capacitance element connected to the input terminal and the variable capacitance element connected to the output terminal The influence of the stray capacitance value on the capacitance value is small. The capacitance value of the variable capacitor is the reciprocal of the sum of the reciprocal of the capacitance value of each variable capacitance element because the variable capacitance elements are connected in series. Therefore, the variable capacitance element connected to the input terminal and the output The capacitance value of the variable capacitance element connected to the terminal contributes less to the capacitance value of the variable capacitance capacitor than the capacitance values of the other variable capacitance elements. As a result, the influence of the stray capacitance can be suppressed, and the variation in the capacitance value of the variable capacitor is small.

また、本発明の回路モジュールによれば、上記1)〜7)のいずれかの構成の本発明の可変容量コンデンサが共振回路を構成するコンデンサとして用いられていることから、コンデンサの容量変化率が大きく、かつ所望の容量を精度良く得ることができることにより、広い周波数範囲にわたり所望の共振周波数を精度良く得ることのできるものとなる。また、共振回路を構成するコンデンサが耐電力性に優れていることから、信頼性が高いものとなる。   Further, according to the circuit module of the present invention, the variable capacitance capacitor of the present invention having any one of the above configurations 1) to 7) is used as a capacitor constituting the resonance circuit. Since a large and desired capacity can be obtained with high accuracy, a desired resonance frequency can be obtained with high accuracy over a wide frequency range. In addition, since the capacitor constituting the resonance circuit is excellent in power durability, the reliability is high.

また、本発明の通信装置によれば、本発明の回路モジュールがフィルタ手段として用いられていることから、広い周波数範囲にわたり所望の共振周波数を精度良く設定できることより、フィルタ手段として使用可能な周波数範囲が広く、かつ所望のフィルタ機能を精度良く得ることのできるものとなる。   Further, according to the communication device of the present invention, since the circuit module of the present invention is used as the filter means, a desired resonance frequency can be accurately set over a wide frequency range. And a desired filter function can be obtained with high accuracy.

以下、本発明の可変容量コンデンサ,回路モジュールおよび通信装置について図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, a variable capacitor, a circuit module, and a communication device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は4個の可変容量素子を有する本発明の可変容量コンデンサの実施の形態の一例を示す等価回路図である。   FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing an example of an embodiment of a variable capacitor of the present invention having four variable capacitors.

図1に示す等価回路図において、符号C1,C2,C3,C4はいずれも可変容量素子であり、B11,B12,B13は抵抗成分およびインダクタ成分の少なくとも一方を含む第1バイアスライン(同図では、抵抗成分R11,R12,R13を示す。)であり、B21,B22は抵抗成分およびインダクタ成分の少なくとも一方を含む第2バイアスライン(同図では、抵抗成分R21,R22を示す。)である。図1においては第1バイアス端子V1が第2バイアス端子V2よりも高い電位(第1バイアス端子V1が正電位、第2バイアス端子V2が負電位でもよい)に設定されており、可変容量素子C1,C3が、第1バイアスラインが入力端子I側に接続された可変容量素子群Aであり、可変容量素子C2,C4が、第1バイアスラインが出力端子O側に接続された可変容量素子群Bである。   In the equivalent circuit diagram shown in FIG. 1, symbols C1, C2, C3, and C4 are all variable capacitance elements, and B11, B12, and B13 are first bias lines including at least one of a resistance component and an inductor component (in FIG. And B21 and B22 are second bias lines including at least one of the resistance component and the inductor component (in the figure, the resistance components R21 and R22 are shown). In FIG. 1, the first bias terminal V1 is set to a higher potential than the second bias terminal V2 (the first bias terminal V1 may be a positive potential and the second bias terminal V2 may be a negative potential), and the variable capacitance element C1 , C3 is a variable capacitance element group A in which the first bias line is connected to the input terminal I side, and the variable capacitance elements C2 and C4 are variable capacitance element groups in which the first bias line is connected to the output terminal O side. B.

このような構成の可変容量コンデンサCtにおいては、可変容量コンデンサCtの入力端子Iと出力端子Oとの間には、高周波信号が、直列接続された可変容量素子C1,C2,C3,C4を介して流れることになる。このとき、第1バイアスラインB11,B12,B13および第2バイアスラインB21,B22の抵抗成分R11,R12,R13およびR21,R22は、可変容量素子C1,C2,C3,C4の高周波信号の周波数領域でのインピーダンスに対して大きなインピーダンス成分となっており、高周波帯のインピーダンスに悪影響を与えない。   In the variable capacitor Ct having such a configuration, a high frequency signal is passed between the input terminal I and the output terminal O of the variable capacitor Ct via the variable capacitors C1, C2, C3, and C4 connected in series. Will flow. At this time, the resistance components R11, R12, R13 and R21, R22 of the first bias lines B11, B12, B13 and the second bias lines B21, B22 are the frequency regions of the high frequency signals of the variable capacitance elements C1, C2, C3, C4. It is a large impedance component with respect to the impedance at, and does not adversely affect the impedance in the high frequency band.

また、可変容量素子C1の容量成分を制御するバイアス信号は、第1バイアス端子V1からインダクタンスL1,第1バイアスラインB11を介して可変容量素子C1に供給され、第2バイアスラインB21,インダクタンスL2を介して第2バイアス端子V2に流れる。この可変容量素子C1に印加される直流バイアス電圧に応じて、可変容量素子C1は所定の誘電率となり、その結果、所望の容量成分が得られることになる。可変容量素子C2,C3,C4についても、これらは第1バイアスラインB12,B13および第2バイアスラインB21,B22を介して直流的に並列接続されているので、同様に直流的に同じ大きさのバイアス信号が印加され、所定の容量成分を得ることができる。   A bias signal for controlling the capacitance component of the variable capacitance element C1 is supplied from the first bias terminal V1 to the variable capacitance element C1 via the inductance L1 and the first bias line B11, and the second bias line B21 and the inductance L2 are supplied. To the second bias terminal V2. The variable capacitance element C1 has a predetermined dielectric constant according to the DC bias voltage applied to the variable capacitance element C1, and as a result, a desired capacitance component is obtained. The variable capacitance elements C2, C3, and C4 are also connected in parallel with each other through the first bias lines B12 and B13 and the second bias lines B21 and B22. A bias signal is applied, and a predetermined capacitance component can be obtained.

その結果、可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量を所望の値に制御するための直流バイアス電圧を、安定して可変容量素子C1,C2,C3,C4それぞれに別々に供給することができ、バイアス信号の印加による可変容量素子C1,C2,C3,C4の誘電率を所望通りに変化させることができ、よって容量成分の制御が容易な可変容量コンデンサCtとすることができる。   As a result, the DC bias voltage for controlling the capacitances of the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 to a desired value can be stably supplied to the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 separately. In addition, the dielectric constants of the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 can be changed as desired by applying a bias signal, so that the variable capacitance capacitor Ct can easily control the capacitance component.

また、可変容量素子C1,C2,C3,C4に入力される高周波信号は、抵抗成分R11,R12,R13およびR21,R22が高周波信号の周波数領域でのインピーダンスに対して大きなインピーダンス成分となっていることから、第1バイアスラインB11,B12,B13および第2バイアスラインB21,B22を介して漏れることがない。これによっても、バイアス信号が安定して可変容量素子C1,C2,C3,C4に独立に印加されるようになっており、その結果、バイアス信号による各々の可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量変化率を最大限に利用することができるものとなっている。   In the high frequency signal input to the variable capacitance elements C1, C2, C3, C4, the resistance components R11, R12, R13 and R21, R22 are impedance components that are large relative to the impedance in the frequency region of the high frequency signal. Therefore, there is no leakage through the first bias lines B11, B12, B13 and the second bias lines B21, B22. As a result, the bias signal is stably applied independently to the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4. As a result, each variable capacitance element C1, C2, C3, and C4 by the bias signal is applied. The capacity change rate can be used to the maximum.

つまり、可変容量コンデンサCtにおいては、可変容量素子C1,C2,C3,C4は高周波的には直列接続された可変容量素子と見ることができる。   That is, in the variable capacitor Ct, the variable capacitors C1, C2, C3, and C4 can be regarded as variable capacitors connected in series in terms of high frequency.

従って、これら直列接続された可変容量素子C1,C2,C3,C4に印加される高周波電圧は可変容量素子C1,C2,C3,C4のそれぞれに分圧されるので、個々の可変容量素子C1,C2,C3,C4に印加される高周波電圧は減少することとなる。このことから、高周波信号に対する容量変動は小さく抑えることができ、可変容量コンデンサを使用した高周波電子部品において波形歪みや相互変調歪み等を抑制することができる。   Therefore, the high-frequency voltage applied to the series-connected variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 is divided into the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4. The high frequency voltage applied to C2, C3 and C4 will decrease. From this, the capacitance variation with respect to the high frequency signal can be suppressed to be small, and waveform distortion, intermodulation distortion, and the like can be suppressed in the high frequency electronic component using the variable capacitor.

また、可変容量素子C1,C2,C3,C4を直列接続したことにより、高周波的には容量素子の誘電体層の層厚を厚くしたのと同じ効果があり、可変容量コンデンサの損失抵抗による単位体積当りの発熱量を小さくすることができ、可変容量コンデンサCtの耐電力を向上することができる。ここで、可変容量コンデンサの損失抵抗による発熱は、可変容量コンデンサの損失抵抗成分をESR、可変容量コンデンサを流れる電流をI(コンデンサにかかる電圧をV)、電力消費をPとすると、電力消費P=I・ESR(P=V/ESR)が生じ、可変容量コンデンサが発熱することによって生じる。 Further, by connecting the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 in series, there is the same effect as increasing the thickness of the dielectric layer of the capacitance element in terms of high frequency, and the unit by the loss resistance of the variable capacitance capacitor. The calorific value per volume can be reduced, and the power resistance of the variable capacitor Ct can be improved. Here, the heat generation due to the loss resistance of the variable capacitor is defined as ESR as the loss resistance component of the variable capacitor, I as the current flowing through the variable capacitor (V as the voltage applied to the capacitor), and P as the power consumption. = I 2 · ESR (P = V 2 / ESR) occurs, and the variable capacitor generates heat.

また、第1バイアスラインB11,B12,B13および第2バイアスラインB21,B22により第1および第2バイアス端子V1,V2からバイアス信号を供給することができるので、従来の可変容量コンデンサにおいて外部の配線基板に実装していた独立したバイアス供給回路が不要となり、可変容量コンデンサCtが実装される回路基板の小型化が図れるとともに、取り扱いが容易となる。   Further, since bias signals can be supplied from the first and second bias terminals V1 and V2 through the first bias lines B11, B12, B13 and the second bias lines B21, B22, external wiring is provided in the conventional variable capacitor. An independent bias supply circuit mounted on the substrate is not required, and the circuit substrate on which the variable capacitor Ct is mounted can be reduced in size and handled easily.

また、印加電圧の高電位側、すなわち第1バイアス端子V1側の第1バイアスラインB11,B12,B13と、低電位側、すなわち第2バイアス端子V2側の第2バイアスラインB21,B22とが、複数の可変容量素子C1,C2,C3,C4の両端および各素子間に交互に接続されているため、可変容量素子C1およびC2の第2バイアス端子V2側のバイアスライン、可変容量素子C2およびC3の第1バイアス端子V1側のバイアスライン、可変容量素子C3およびC4の第2バイアス端子V2側のバイアスラインを共通化することができている。これによりバイアスラインの数を少なくすることができ、バイアスラインの構成を簡易なものとすることができる。   Further, the first bias lines B11, B12, B13 on the high potential side of the applied voltage, that is, the first bias terminal V1, and the second bias lines B21, B22 on the low potential side, that is, the second bias terminal V2 side, Since the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 are alternately connected to both ends and between the elements, the bias lines on the second bias terminal V2 side of the variable capacitance elements C1 and C2, the variable capacitance elements C2 and C3 The bias line on the first bias terminal V1 side and the bias line on the second bias terminal V2 side of the variable capacitance elements C3 and C4 can be shared. As a result, the number of bias lines can be reduced, and the configuration of the bias lines can be simplified.

また、図1に示す等価回路図において、第2バイアス端子V2を接地しても良い。この場合には、インダクタンスL2は不要となる。   In the equivalent circuit diagram shown in FIG. 1, the second bias terminal V2 may be grounded. In this case, the inductance L2 is not necessary.

ここで、可変容量素子群Aの容量値の合計値と可変容量素子群Bの容量値の合計値とが実質的に等しいことが好ましい。以下、図2および図3を参照しつつ、その理由について説明する。   Here, it is preferable that the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group A and the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group B are substantially equal. Hereinafter, the reason will be described with reference to FIGS.

図2は可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量変化率の印加電圧依存性を示したものである。図2において横軸は印加電圧(単位:V)、縦軸は容量変化率(単位:%)を表わす。ここで、白丸印は直流バイアス電圧が印加された状態を示し、黒丸印は直流バイアス電圧が印加された状態で直流バイアス電圧に重畳して高周波電圧が印加された状態を示している。   FIG. 2 shows the applied voltage dependence of the capacitance change rate of the variable capacitance elements C1, C2, C3 and C4. In FIG. 2, the horizontal axis represents the applied voltage (unit: V), and the vertical axis represents the capacity change rate (unit:%). Here, white circles indicate a state in which a DC bias voltage is applied, and black circles indicate a state in which a high frequency voltage is applied superimposed on the DC bias voltage while the DC bias voltage is applied.

図3(a)および(b)は、図1に示す可変容量コンデンサCtにおける可変容量素子C1,C2,C3,C4の高周波的にみたときの接続構成を示す概念図であり、可変容量素子群Aを構成する可変容量素子C1,C3をまとめて表し、可変容量素子群Bを構成する可変容量素子C2,C4をまとめて表したものである。   FIGS. 3A and 3B are conceptual diagrams showing a connection configuration of the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 in the variable capacitance capacitor Ct shown in FIG. The variable capacitance elements C1 and C3 constituting A are collectively shown, and the variable capacitance elements C2 and C4 constituting the variable capacitance element group B are collectively shown.

図3(a)では、直流バイアス電圧が印加されている状態において、可変容量素子群Aの容量値の合計値をCとし、可変容量素子群Bの容量値の合計値を、可変容量素子群Aの容量値の合計値Cのx倍、すなわちx×Cとしている。   In FIG. 3A, in the state where the DC bias voltage is applied, the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group A is C, and the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group B is the variable capacitance element group. The total capacity value of A is x times the total value C, that is, xxC.

図3(b)では、直流バイアス電圧が印加されている状態において高周波電圧が印加されたときの可変容量素子群Aの容量値の合計値および可変容量素子群Bの容量値の合計値を示している。   FIG. 3B shows the total capacitance value of the variable capacitance element group A and the total capacitance value of the variable capacitance element group B when a high frequency voltage is applied in a state where a DC bias voltage is applied. ing.

図2に示すように、可変容量素子C1,C2,C3,C4に、直流バイアス電圧が印加された状態で高周波電圧を加えた場合に、高周波信号の位相が正電位のときには、直流バイアス電圧が正電位のときには高周波電圧印加により可変容量素子C1,C2,C3,C4に実際に印加されるバイアス電圧は大きくなり、その結果、容量値は直流バイアス電圧のみ印加されている状態に比べて減少する。逆に直流バイアス電圧が負電位の場合には高周波電圧印加により可変容量素子C1,C2,C3,C4に実際に印加される直流バイアス電圧は小さくなり、その結果、容量値は直流バイアス電圧のみ印加されている状態に比べて増加する。このように、直流バイアス電圧の絶対値が等しくてもその極性が異なると、可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量は異なるものとなる。また、図2は可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量変化率の印加電圧依存性を示したものであるので、可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量変化量は、可変容量素子C1,C2,C3,C4の個々の容量により異なる。   As shown in FIG. 2, when a high frequency voltage is applied to the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 with a DC bias voltage applied, the DC bias voltage is When the potential is positive, the bias voltage actually applied to the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 is increased by the application of the high frequency voltage, and as a result, the capacitance value is reduced as compared with the state where only the DC bias voltage is applied. . On the contrary, when the DC bias voltage is a negative potential, the DC bias voltage actually applied to the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 is reduced by applying the high frequency voltage, and as a result, only the DC bias voltage is applied as the capacitance value. Increased compared to the state that has been. Thus, even if the absolute values of the DC bias voltages are equal, the capacitances of the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 are different if their polarities are different. 2 shows the applied voltage dependence of the capacitance change rate of the variable capacitance elements C1, C2, C3, C4. Therefore, the capacitance change amount of the variable capacitance elements C1, C2, C3, C4 is the variable capacitance. It depends on the individual capacitances of the elements C1, C2, C3 and C4.

ここで、可変容量コンデンサCtにおいて、可変容量素子群Aは高電位となる第1バイアスラインB11,B12が入力端子I側に接続されており、可変容量素子群Bは高電位となる第1バイアスラインB12,B13が出力端子O側に接続されていることから、第1バイアス端子V1が正電位、第2バイアス端子V2が負電位となるので、高周波信号の入力端子I側からみると、可変容量素子群Aには正電位の直流バイアス電圧が印加され、可変容量素子群Bには負電位の直流バイアス電圧が印加されていることとなる。このため、可変容量素子群Aにおいてはバイアス電圧が大きくなり、容量値の合計値がCからC−ΔCと小さくなる。一方、可変容量素子群Bにおいてはバイアス電圧が小さくなり、容量値の合計値がx×Cからx×(C+ΔC)と大きくなる。逆に、高周波信号の位相が負電位のときには、可変容量素子群Aの容量値の合計値はC+ΔCとなり、可変容量素子群Bの容量値の合計値はx×(C−ΔC)となる。   Here, in the variable capacitor Ct, the first bias lines B11 and B12 having a high potential are connected to the input terminal I side of the variable capacitor group A, and the variable capacitor group B has a first bias having a high potential. Since the lines B12 and B13 are connected to the output terminal O side, the first bias terminal V1 has a positive potential and the second bias terminal V2 has a negative potential. A positive DC bias voltage is applied to the capacitive element group A, and a negative DC bias voltage is applied to the variable capacitive element group B. For this reason, in the variable capacitance element group A, the bias voltage increases, and the total capacitance value decreases from C to C−ΔC. On the other hand, in the variable capacitance element group B, the bias voltage decreases, and the total capacitance value increases from x × C to x × (C + ΔC). Conversely, when the phase of the high-frequency signal is a negative potential, the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group A is C + ΔC, and the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group B is x × (C−ΔC).

ここで、ΔCは、可変容量素子群Aの容量値の合計値Cを基準とした高周波信号による可変容量素子群Aの容量変化量を示す。なお、図2に示すように、可変容量素子C1〜C4の容量変化率の印加電圧依存性は印加電圧が正の領域,負の領域で一次関数の関係ではない。このため、厳密には高周波電圧による容量変化量ΔCの絶対値は、直流バイアス電圧が正電圧のときと負電圧のときとで等しくならないが、ほぼ一次関数で表されるものとみなすことができるものとした。なお、図12は、可変容量素子C1,C2,C3,C4に、直流バイアス電圧が印加された状態で1MHz〜3GHzの高周波電圧を加えた場合において、可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量変化の周波数依存性を具体的な数値(測定値)で示したグラフ(線図)である。また、図13は、図12の2GHzの高周波電圧における可変容量素子C1,C2,C3,C4の容量変化の印可電圧依存性を具体的な数値(測定値)で示したグラフ(線図)である。     Here, ΔC represents a capacitance change amount of the variable capacitance element group A due to the high frequency signal with reference to the total value C of the capacitance values of the variable capacitance element group A. As shown in FIG. 2, the applied voltage dependence of the capacitance change rate of the variable capacitance elements C1 to C4 is not a linear function relationship between the positive and negative applied voltages. Therefore, strictly speaking, the absolute value of the capacitance change amount ΔC due to the high-frequency voltage is not equal when the DC bias voltage is a positive voltage and when the DC bias voltage is a negative voltage, but can be regarded as being substantially expressed by a linear function. It was supposed to be. FIG. 12 shows the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 when a high frequency voltage of 1 MHz to 3 GHz is applied to the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 with a DC bias voltage applied. It is the graph (diagram) which showed the frequency dependence of the capacity | capacitance change with the specific numerical value (measured value). FIG. 13 is a graph (diagram) showing the applied voltage dependence of the capacitance change of the variable capacitance elements C1, C2, C3, C4 at the high frequency voltage of 2 GHz in FIG. is there.

ここで、直流バイアス電圧印加時の可変容量素子群Aの容量値の合計値Cが2.5pF,高周波信号による可変容量素子群Aの容量変化量ΔCを直流バイアス電圧印加時の可変容量素子群Aの容量値の合計値Cの25%にあたる0.625pFとしたときに、直流バイアス電圧印加時の可変容量素子群Aの容量値の合計値Cおよび可変容量素子群Bの容量値の合計値x×Cの合成容量値、すなわち可変容量コンデンサCtの直流バイアス電圧印加時の容量値C,直流バイアス電圧に重畳して高周波信号を印加した場合の可変容量コンデンサCtの容量値であって、高周波信号の位相が正電位のときの容量値C+および高周波信号の位相が負電位のときの容量値C−,直流バイアス電圧に重畳して高周波信号を加えたことによる可変容量コンデンサCtの容量値の変化の割合C+/C,C−/Cを計算した結果を表1に示す。

Figure 2006049840
Here, the total value C of the capacitance values of the variable capacitance element group A when the DC bias voltage is applied is 2.5 pF, and the capacitance change ΔC of the variable capacitance element group A due to the high frequency signal is represented by the variable capacitance element group A when the DC bias voltage is applied. The total capacitance value C of the variable capacitance element group A and the total capacitance value xx of the variable capacitance element group B when a DC bias voltage is applied is 0.625 pF, which is 25% of the total capacitance value C of The combined capacitance value of C, that is, the capacitance value C T when the DC bias voltage is applied to the variable capacitor Ct, the capacitance value of the variable capacitor Ct when a high frequency signal is applied superimposed on the DC bias voltage, capacitance value when the phase is negative potential of the capacitance value C T + and a high-frequency signal when the phase is positive potential C T -, a variable capacitor due to the added high-frequency signal is superimposed on the DC bias voltage ratio C T + / C T of the change in the capacitance value of t, C T - the result / C T was calculated in Table 1.
Figure 2006049840

表1からわかるように、x=1.0のとき、すなわち可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとの容量値が等しい場合には、直流バイアス電圧に重畳して高周波信号を印加したときの可変容量コンデンサCtの容量値C+とC−とは等しい。しかしながら、xが大きくなるにつれ、すなわち可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとの容量値の差が大きくなるにつれて、高周波信号の位相の違いによる容量値C+とC−との差は大きくなり、x=1.6のときには可変容量コンデンサCtの容量値Cに対する変化の割合の差は10%の差となる。このように、可変容量コンデンサCtは可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとの容量値が異なる場合には高周波信号の位相に対して容量が異なるコンデンサとして振舞うことになるため、高周波電子部品においては高周波信号に対して波形歪み相互変調歪みを発生させることになる。したがって、可変容量素子群Aの容量値の合計値と可変容量素子群Bの容量値の合計値とをほぼ同じに設定することにより、高周波電子部品において波形歪みや相互変調歪みを抑制することができる。 As can be seen from Table 1, when x = 1.0, that is, when the capacitance values of the variable capacitive element group A and the variable capacitive element group B are equal, the variable when the high frequency signal is applied superimposed on the DC bias voltage. The capacitance value C T + and C T − of the capacitance capacitor Ct are equal. However, as x increases, that is, as the difference in capacitance value between the variable capacitance element group A and the variable capacitance element group B increases, the difference between the capacitance values C T + and C T − due to the difference in phase of the high-frequency signal. When x = 1.6, the difference in change rate with respect to the capacitance value C of the variable capacitor Ct is a difference of 10%. As described above, when the variable capacitance element group A and the variable capacitance element group B have different capacitance values, the variable capacitance capacitor Ct behaves as a capacitor having a different capacitance with respect to the phase of the high frequency signal. In this case, waveform distortion intermodulation distortion is generated for a high-frequency signal. Accordingly, by setting the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group A and the total value of the capacitance values of the variable capacitance element group B to be substantially the same, waveform distortion and intermodulation distortion can be suppressed in the high frequency electronic component. it can.

また、可変容量素子を偶数個(ここでは4個)としているので、図1に示すように信号端子I,Oのどちらから高周波信号を印加してもバイアス信号のかかり方は変化しない。つまり、個々の可変容量素子にかかる直流バイアス電圧の向きは交互に異なるが、可変容量素子が偶数であるため隣り合う可変容量素子間で直流バイアス電圧の向きの違いによる影響を相殺し合うことで、バイアス信号に対する極性が発生しなくなり、その結果、可変容量コンデンサとして実装する際に極性に注意を払う必要がなく取り扱いの容易なものとなる。   Further, since the number of variable capacitance elements is an even number (here, four), the application of the bias signal does not change even if a high frequency signal is applied from either of the signal terminals I and O as shown in FIG. In other words, although the direction of the DC bias voltage applied to each variable capacitance element is alternately different, since the number of variable capacitance elements is an even number, the influence of the difference in the direction of the DC bias voltage between adjacent variable capacitance elements can be offset. As a result, the polarity with respect to the bias signal does not occur, and as a result, it is not necessary to pay attention to the polarity when mounting as a variable capacitor and the handling becomes easy.

さらには、可変容量素子群Aの可変容量素子C1,C3と可変容量素子群Bの可変容量素子C2,C4とが実質的に等しい容量値の対になっているとき、たとえば、可変容量素子群Aの可変容量素子C1の容量値を4pF,可変容量素子C3の容量値を2pF、可変容量素子群Bの可変容量素子C2の容量値を2pF,可変容量素子C4の容量値を4pFとすることにより、同じ容量値の可変容量素子が同じ数各可変容量素子群に含まれることになる。このような可変容量コンデンサCtにおいて、直流バイアス電圧に重畳して印加される高周波電圧に対して個々の可変容量素子の容量が変動しても、可変容量素子群Aと可変容量素子群Bとでは極性の異なる直流バイアス電圧が印加されるため、可変容量素子群Aおよび可変容量素子群Bの実質的に等しい容量値の対となっている可変量素子間で容量変動を相殺しあうことで可変容量コンデンサCt全体の高周波信号がバイアス電圧に重畳されることによる容量値の変動をさらに小さくすることができ、その結果、高周波電子部品にいて高周波信号に対する波形歪みや相互変調歪みを少なくすることができる。   Further, when the variable capacitive elements C1 and C3 of the variable capacitive element group A and the variable capacitive elements C2 and C4 of the variable capacitive element group B form a pair having substantially the same capacitance value, for example, the variable capacitive element group The capacitance value of the variable capacitor C1 of A is 4 pF, the capacitance of the variable capacitor C3 is 2 pF, the capacitance of the variable capacitor C2 of the variable capacitor group B is 2 pF, and the capacitance of the variable capacitor C4 is 4 pF. Thus, the same number of variable capacitance elements having the same capacitance value are included in each variable capacitance element group. In such a variable capacitor Ct, even if the capacitance of each variable capacitor varies with respect to the high frequency voltage applied superimposed on the DC bias voltage, the variable capacitor group A and the variable capacitor group B are Since DC bias voltages having different polarities are applied, the variable capacitance element group A and variable capacitance element group B can be varied by canceling capacitance fluctuations between the variable amount elements that are paired with substantially equal capacitance values. The variation of the capacitance value due to the high frequency signal of the entire capacitor Ct being superimposed on the bias voltage can be further reduced, and as a result, the waveform distortion and intermodulation distortion with respect to the high frequency signal can be reduced in the high frequency electronic component. it can.

さらには、可変容量素子C1、C2、C3、C4の容量値が実質的に等しい場合、例えば、全ての容量値が2.6pFである場合には、全ての可変容量素子における容量変化量の絶対値がほぼ等しくなるので、可変容量素子群Aの任意の可変容量素子と可変容量素子群Bの任意の可変容量素子との間で容量変動を相殺しあうことで可変容量コンデンサCt全体の高周波信号がバイアス電圧に重畳されることによる容量値の変動をさらに小さくすることができ、その結果、高周波電子部品において高周波信号に対する波形歪みや相互変調歪みを少なくすることができる。   Further, when the capacitance values of the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4 are substantially equal, for example, when all the capacitance values are 2.6 pF, the absolute value of the capacitance change amount in all the variable capacitance elements. Are substantially equal to each other, so that the capacitance variation between the arbitrary variable capacitance elements of the variable capacitance element group A and the arbitrary variable capacitance elements of the variable capacitance element group B cancels each other. It is possible to further reduce the fluctuation of the capacitance value due to being superimposed on the bias voltage, and as a result, it is possible to reduce waveform distortion and intermodulation distortion with respect to the high frequency signal in the high frequency electronic component.

また、図4(a)および(b)にそれぞれ等価回路図で示すように、図1に示す可変容量コンデンサCtと同様の構成であり、かつ可変容量素子を奇数個(この図では5個)としてもよい。この図において、図1と同様の箇所には同じ符号をつけており、それらについて重複する説明は省略する。   4 (a) and 4 (b), which are equivalent circuit diagrams, have the same configuration as the variable capacitor Ct shown in FIG. 1, and an odd number of variable capacitors (five in this figure). It is good. In this figure, the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

図4において、個々の可変容量素子C1〜C5に直流バイアス電圧を印加するために、第1バイアスラインB11,B12,B13および第2バイアスラインB21,B22,B23を設けた。このような可変容量コンデンサCt’において、図4(a)に示すように信号端子I,Oと第1および第2バイアス端子V1,V2とを別にすることも、図4(b)に示すように第1バイアス電圧V1を入力端子Iに、第2バイアス電圧V2を出力端子Oと共通にして使用することもでき、一般のコンデンサと同等に扱うこともできる。その結果、実装やパターン設計等の自由度を増やすことができ取扱いが容易な可変容量コンデンサCt’とすることができる。   In FIG. 4, first bias lines B11, B12, B13 and second bias lines B21, B22, B23 are provided in order to apply a DC bias voltage to the individual variable capacitance elements C1 to C5. In such a variable capacitor Ct ′, the signal terminals I and O and the first and second bias terminals V1 and V2 can be separated as shown in FIG. 4A, as shown in FIG. 4B. In addition, the first bias voltage V1 can be used in common with the input terminal I, and the second bias voltage V2 can be used in common with the output terminal O, and can be handled in the same manner as a general capacitor. As a result, it is possible to increase the degree of freedom in mounting, pattern design, etc., and to make the variable capacitor Ct ′ easy to handle.

また、可変容量コンデンサCt,Ct’において、入力端子Iに接続された可変容量素子C1および出力端子Oに接続された可変容量素子C4またはC5は、他の可変容量素子よりも容量値が大きいことが好ましい。なぜなら、入力端子Iと入力端子Iに接続された可変容量素子C1との間および出力端子Oと出力端子Oに接続された可変容量素子C4またはC5との間に生じる浮遊容量値に比べ、入力端子Iに接続された可変容量子C1および出力端子Oに接続された可変容量素子C4またはC5の容量値を大きくすることにより、浮遊容量の影響を抑制することができ、可変容量コンデンサCt,Ct’の容量値のばらつきが少ないものとなる。   In the variable capacitors Ct and Ct ′, the variable capacitance element C1 connected to the input terminal I and the variable capacitance element C4 or C5 connected to the output terminal O have larger capacitance values than other variable capacitance elements. Is preferred. This is because, compared with the stray capacitance value generated between the input terminal I and the variable capacitance element C1 connected to the input terminal I and between the output terminal O and the variable capacitance element C4 or C5 connected to the output terminal O, the input By increasing the capacitance value of the variable capacitor C1 connected to the terminal I and the variable capacitor C4 or C5 connected to the output terminal O, the influence of stray capacitance can be suppressed, and the variable capacitors Ct, Ct The variation in the capacitance value of 'is small.

次に、本発明の可変容量コンデンサCtの作製方法の例について説明する。   Next, an example of a method for producing the variable capacitor Ct of the present invention will be described.

図5は本発明の可変容量コンデンサCtについて、4つの可変容量素子C1〜C4を有する可変容量コンデンサCtの例を示す透視状態の平面図であり、図6は図5に示す可変容量コンデンサCtのA−A’線断面図である。   FIG. 5 is a transparent plan view showing an example of a variable capacitor Ct having four variable capacitors C1 to C4 with respect to the variable capacitor Ct of the present invention. FIG. 6 is a plan view of the variable capacitor Ct shown in FIG. It is AA 'line sectional drawing.

図5、図6において、1は支持基板、2は下部電極層、31,32,33は導体ライン、4は薄膜誘電体層、5は上部電極層、61,62,63,64,65は薄膜抵抗、7は絶縁層、8は引き出し電極層、9は保護層、10は半田拡散防止層、111、112および113,114は半田端子部である。なお、この半田拡散防止層10と半田端子部111および112とで、それぞれ第1信号端子(入力端子)Iおよび第2信号端子(出力端子)Oを構成している。また、半田拡散防止層10と半田端子部114および113とで、それぞれ第1バイアス端子V1および第2バイアス端子V2を構成している。   5 and 6, 1 is a support substrate, 2 is a lower electrode layer, 31, 32 and 33 are conductor lines, 4 is a thin film dielectric layer, 5 is an upper electrode layer, 61, 62, 63, 64 and 65 are Thin film resistors, 7 is an insulating layer, 8 is a lead electrode layer, 9 is a protective layer, 10 is a solder diffusion preventing layer, and 111, 112 and 113, 114 are solder terminal portions. The solder diffusion preventing layer 10 and the solder terminal portions 111 and 112 constitute a first signal terminal (input terminal) I and a second signal terminal (output terminal) O, respectively. The solder diffusion preventing layer 10 and the solder terminal portions 114 and 113 constitute a first bias terminal V1 and a second bias terminal V2, respectively.

支持基板1は、アルミナセラミックス等のセラミック基板や、サファイア等の単結晶基板等である。この支持基板1の上に下部電極層2,薄膜誘電体層4および上部電極層5を順次、支持基板1のほぼ全面に成膜する。これら各層の成膜終了後、上部電極層5,薄膜誘電体層4および下部電極層2を順次、所定の形状にエッチングする。   The support substrate 1 is a ceramic substrate such as alumina ceramic, a single crystal substrate such as sapphire, or the like. On the support substrate 1, a lower electrode layer 2, a thin film dielectric layer 4 and an upper electrode layer 5 are sequentially formed on almost the entire surface of the support substrate 1. After the formation of these layers, the upper electrode layer 5, the thin film dielectric layer 4 and the lower electrode layer 2 are sequentially etched into a predetermined shape.

下部電極層2、薄膜誘電体層4、および上部電極層5の成膜に際しては、下部電極層2と薄膜誘電体層4との間、ならびに薄膜誘電体層4と上部電極層5との間に、パーティクル等の可変容量コンデンサの特性を劣化させる要因になりうる不純物の混入を最低限に抑制することが望ましい。従って、これら下部電極層2,薄膜誘電体層4および上部電極層5の成膜は、同じ成膜装置で、成膜室を大気開放せずに連続して行なうことが望ましい。このため、具体的な成膜方法としては、スパッタが好適である。   When forming the lower electrode layer 2, the thin film dielectric layer 4, and the upper electrode layer 5, between the lower electrode layer 2 and the thin film dielectric layer 4 and between the thin film dielectric layer 4 and the upper electrode layer 5. In addition, it is desirable to minimize the contamination of impurities such as particles that can cause the characteristics of the variable capacitor to deteriorate. Therefore, it is desirable that the lower electrode layer 2, the thin film dielectric layer 4 and the upper electrode layer 5 are continuously formed by the same film forming apparatus without opening the film forming chamber to the atmosphere. For this reason, sputtering is suitable as a specific film forming method.

下部電極層2は、薄膜誘電体層4の形成に高温スパッタが必要となるため、その高温に耐えられるように高融点であることが必要である。具体的には、Pt,Pd等の金属材料から成るものである。この下部電極層2も、高温スパッタで形成される。さらに、下部電極層2は、高温スパッタによる形成後に、薄膜誘電体層4のスパッタ温度である700〜900℃へ加熱され、薄膜誘電体層4のスパッタ開始まで一定時間保持することにより、平坦な層となる。   The lower electrode layer 2 needs to have a high melting point so that it can withstand the high temperature because high temperature sputtering is required for forming the thin film dielectric layer 4. Specifically, it is made of a metal material such as Pt or Pd. This lower electrode layer 2 is also formed by high temperature sputtering. Furthermore, the lower electrode layer 2 is flattened by being heated to 700 to 900 ° C. which is the sputtering temperature of the thin film dielectric layer 4 after being formed by high-temperature sputtering, and kept for a certain time until the sputtering of the thin film dielectric layer 4 is started. Become a layer.

下部電極層2の厚みは、可変容量素子C1から可変容量素子C2までの抵抗成分や、可変容量素子C3から可変容量素子C4までの抵抗成分および下部電極層2の連続性を考慮した場合には厚い方が望ましいが、支持基板1との密着性を考慮した場合には相対的に薄い方が望ましく、両方を考慮して決定される。具体的には、0.1μm〜10μmである。下部電極層2の厚みが0.1μmよりも薄くなると、下部電極層2自身の抵抗が大きくなるほか、下部電極層2の連続性が確保できなくなる可能性がある。一方、10μmより厚くすると、内部応力が大きくなって、支持基板1との密着性が低下したり、支持基板1の反りを生じたりするおそれがある。   The thickness of the lower electrode layer 2 is determined in consideration of the resistance component from the variable capacitance element C1 to the variable capacitance element C2, the resistance component from the variable capacitance element C3 to the variable capacitance element C4, and the continuity of the lower electrode layer 2. The thicker one is desirable, but when considering the adhesiveness with the support substrate 1, the relatively thinner one is desirable, and both are determined. Specifically, it is 0.1 μm to 10 μm. If the thickness of the lower electrode layer 2 is less than 0.1 μm, the resistance of the lower electrode layer 2 itself increases and the continuity of the lower electrode layer 2 may not be ensured. On the other hand, if the thickness is greater than 10 μm, the internal stress increases, and the adhesion to the support substrate 1 may be reduced, or the support substrate 1 may be warped.

薄膜誘電体層4は、少なくともBa,Sr,Tiを含有するペロブスカイト型酸化物結晶から成る高誘電率の誘電体層であることが好ましい。例えば、少なくともBa,Sr,Tiを含有するペロブスカイト型酸化物結晶としては、チタン酸バリウムストロンチウム((BaSr1−x)TiO)、チタン酸バリウムストロンチウムにMn,Mg,La,W等をドープしたもの等がある。この薄膜誘電体層4は、下部電極層2の表面(上面)に形成されている。例えば、ペロブスカイト型酸化物結晶が得られる誘電体材料をターゲットとして、スパッタリング法による成膜を所望の厚みになるまで行なう。このとき、基板温度を高く、例えば800℃として高温スパッタリングを行なうことにより、スパッタ後の熱処理を行なうことなく、高誘電率で容量変化率の大きい、低損失の薄膜誘電体層4を得ることができる。 The thin film dielectric layer 4 is preferably a high dielectric constant dielectric layer made of a perovskite oxide crystal containing at least Ba, Sr, and Ti. For example, at least Ba, Sr, as the perovskite type oxide crystal containing Ti, barium strontium titanate ((Ba x Sr 1-x ) TiO 3), Mn in barium strontium titanate, Mg, La, W, and the like Some are doped. The thin film dielectric layer 4 is formed on the surface (upper surface) of the lower electrode layer 2. For example, using a dielectric material from which a perovskite oxide crystal can be obtained as a target, film formation by sputtering is performed until a desired thickness is obtained. At this time, by performing high-temperature sputtering at a high substrate temperature, for example, 800 ° C., a low-loss thin-film dielectric layer 4 having a high dielectric constant and a large capacitance change rate can be obtained without performing heat treatment after sputtering. it can.

上部電極層5の材料としては、この層の抵抗を下げるため、抵抗率の小さなAuが望ましいが、薄膜誘電体層4との密着性向上のためには、Pt等を密着層として用いることが望ましい。この上部電極層5の厚みは0.1μm〜10μmとなっている。この厚みの下限については、下部電極層2と同様に、上部電極層5自身の抵抗および連続性を考慮して設定される。また、厚みの上限については、薄膜誘電体層4との密着性を考慮して設定される。   As the material of the upper electrode layer 5, Au having a low resistivity is desirable in order to reduce the resistance of this layer. However, in order to improve the adhesion with the thin film dielectric layer 4, it is preferable to use Pt or the like as the adhesion layer. desirable. The thickness of the upper electrode layer 5 is 0.1 μm to 10 μm. The lower limit of the thickness is set in consideration of the resistance and continuity of the upper electrode layer 5 itself, similarly to the lower electrode layer 2. Further, the upper limit of the thickness is set in consideration of the adhesion with the thin film dielectric layer 4.

上述のように成膜した後、上部電極層5,薄膜誘電体層4および下部電極層2を、順次、所定の形状にエッチングする。エッチングは、レジストをスピンコーティング法等により全面に均一に塗布し、フォトリソグラフィ法によりレジストを所定の形状にパターニングした後、ウェットエッチングもしくはドライエッチングにより行なう。可変容量素子C1〜C4の容量値は上部電極層5の面積により決定されるため、上部電極層5のエッチングでは、より精度の高いドライエッチングを用いることが望ましい。   After film formation as described above, the upper electrode layer 5, the thin film dielectric layer 4 and the lower electrode layer 2 are sequentially etched into a predetermined shape. Etching is performed by wet etching or dry etching after uniformly applying a resist on the entire surface by spin coating or the like, patterning the resist into a predetermined shape by photolithography. Since the capacitance values of the variable capacitance elements C1 to C4 are determined by the area of the upper electrode layer 5, it is desirable to use dry etching with higher accuracy in the etching of the upper electrode layer 5.

ドライエッチングは、例えば電子サイクロトロン共鳴装置(ECR装置)を用い、アルゴンプラズマをエッチャントとして行なうことができる。   The dry etching can be performed using, for example, an electron cyclotron resonance apparatus (ECR apparatus) and argon plasma as an etchant.

なお、薄膜誘電体層4のエッチングはウェットエッチングおよびドライエッチングのどちらにより行なってもよい。   The thin film dielectric layer 4 may be etched by either wet etching or dry etching.

また、下部電極層2のエッチングは、ウェットエッチングおよびドライエッチングのどちらを用いてもよいが、下部電極層2の厚みが厚い場合には、パターニング精度の観点から、上部電極層5と同様にドライエッチングにより行なうことが望ましい。   The lower electrode layer 2 may be etched by either wet etching or dry etching. However, when the lower electrode layer 2 is thick, dry etching is performed in the same manner as the upper electrode layer 5 from the viewpoint of patterning accuracy. It is desirable to carry out by etching.

以上のような上部電極層5,薄膜誘電体層4および下部電極層2のエッチングにおいては、薄膜誘電体層4の下面は下部電極層2の上面より小さく、上部電極層5の下面は薄膜誘電体層4の上面よりも小さくなるようにエッチングされる。これにより、電界の集中しやすい下部電極層2の外縁部分に薄膜誘電体層4がないので、リーク電流特性が向上する。   In the etching of the upper electrode layer 5, the thin film dielectric layer 4 and the lower electrode layer 2 as described above, the lower surface of the thin film dielectric layer 4 is smaller than the upper surface of the lower electrode layer 2, and the lower surface of the upper electrode layer 5 is a thin film dielectric. Etching is performed to be smaller than the upper surface of the body layer 4. As a result, the thin-film dielectric layer 4 is not present at the outer edge portion of the lower electrode layer 2 where the electric field tends to concentrate, so that the leakage current characteristics are improved.

このようにして、可変容量素子C1〜C4を得ることができる。   In this way, variable capacitance elements C1 to C4 can be obtained.

ここで、第1信号端子Iと可変容量素子C1との間および可変容量素子C4と第2信号端子Oとの間を電気的に接続するために、支持基板1上の第1および第2信号端子I,Oを形成する位置に導電性材料からなる導電層を形成することが望ましい。この導電層は、可変容量コンデンサC1〜C4を形成した後に新たに成膜することで形成してもよいが、下部電極層2のパターニングの際に、同時にこれら導電層も形成するようにパターニングを行なうことによって、下部電極層2と同一の材料および同一の工程で形成してもよい。   Here, in order to electrically connect between the first signal terminal I and the variable capacitance element C1 and between the variable capacitance element C4 and the second signal terminal O, the first and second signals on the support substrate 1 are used. It is desirable to form a conductive layer made of a conductive material at a position where the terminals I and O are formed. This conductive layer may be formed by forming a new film after forming the variable capacitors C1 to C4. However, when the lower electrode layer 2 is patterned, patterning is performed so that these conductive layers are also formed at the same time. By performing, the same material and the same process as the lower electrode layer 2 may be used.

第1バイアスラインB11,B12,B13は、導体ライン32,33と薄膜抵抗61,62,63とから構成されており、第1バイアス端子V1から第1信号端子Iと可変容量素子C1との接続点の間、可変容量素子C2と可変容量素子C3との接続点の間、すなわち可変容量素子C2の上部電極層5と可変容量素子C3の上部電極層5とを接続する引き出し電極層8との間、可変容量素子C4と第2信号端子Oとの接続点の間にそれぞれ設けられており、第1バイアス端子V1を介して外部回路と接続される。   The first bias lines B11, B12, and B13 are composed of conductor lines 32 and 33 and thin film resistors 61, 62, and 63, and the connection from the first bias terminal V1 to the first signal terminal I and the variable capacitance element C1. Between the connection points of the variable capacitance element C2 and the variable capacitance element C3, that is, between the upper electrode layer 5 of the variable capacitance element C2 and the extraction electrode layer 8 connecting the upper electrode layer 5 of the variable capacitance element C3. Between the variable capacitance element C4 and the second signal terminal O, and is connected to an external circuit via the first bias terminal V1.

第2バイアスラインB21,B22は、導体ライン31と薄膜抵抗64,65とから構成されており、第2バイアス端子V2から可変容量素子C2と可変容量素子C3との接続点の間、すなわち可変容量素子C2と可変容量素子C3とで共有する下部電極層2との間および可変容量素子C3と可変容量素子C4との接続点の間、すなわち可変容量素子C2と可変容量素子C3とで共有する下部電極層2との間にそれぞれ設けられており、第2バイアス端子V2を介して外部回路と接続される。   The second bias lines B21 and B22 are composed of the conductor line 31 and the thin film resistors 64 and 65, and between the connection point between the variable capacitance element C2 and the variable capacitance element C3 from the second bias terminal V2, that is, the variable capacitance. Between the lower electrode layer 2 shared by the element C2 and the variable capacitive element C3 and between the connection points of the variable capacitive element C3 and the variable capacitive element C4, that is, the lower part shared by the variable capacitive element C2 and the variable capacitive element C3. They are respectively provided between the electrode layers 2 and connected to an external circuit via a second bias terminal V2.

このような構成の第1および第2バイアスラインB11,B12,B13およびB21,B22を設けることにより、可変容量素子C1〜C4は第1および第2バイアスラインB11,B12,B13およびB21,B22を介して並列に接続されている。   By providing the first and second bias lines B11, B12, B13 and B21, B22 having such a configuration, the variable capacitance elements C1 to C4 have the first and second bias lines B11, B12, B13 and B21, B22. Are connected in parallel.

この導体ライン31,32,33は、上述の下部電極層2,薄膜誘電体層4および上部電極層5を形成した後、新たに成膜することによって形成することができる。その際には、既に形成した下部電極層2,薄膜誘電体層4および上部電極層5を保護するために、リフトオフ法を用いることが望ましい。また、これら導体ライン31〜33は、下部電極層2のパターニングの際に、同時にこれら導体ライン31〜33も形成するようにパターニングを行なうことによっても形成することができる。   The conductor lines 31, 32, and 33 can be formed by forming a new film after the lower electrode layer 2, the thin film dielectric layer 4 and the upper electrode layer 5 are formed. In this case, it is desirable to use a lift-off method in order to protect the already formed lower electrode layer 2, thin film dielectric layer 4 and upper electrode layer 5. The conductor lines 31 to 33 can also be formed by patterning so that the conductor lines 31 to 33 are formed at the same time when the lower electrode layer 2 is patterned.

この導体ライン31〜33の材料としては、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22の抵抗値のばらつきを抑制するために、低抵抗であるAuが望ましいが、薄膜抵抗61,62,63,64,65の抵抗が十分に高いので、Pt等を用いて、下部電極層2と同じ材料および同じ工程で形成してもよい。   As a material for the conductor lines 31 to 33, in order to suppress variation in resistance values of the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, and B22, Au having a low resistance is desirable. , 62, 63, 64, 65 are sufficiently high, and may be formed using the same material and the same process as the lower electrode layer 2 using Pt or the like.

ここで、支持基板1上の第1および第2バイアス端子V1,V2の形成位置にて第1および第2バイアス端子V1,V2を形成しやすくするために、導体ライン31および導体ライン32とそれぞれ電気的に接続した、導電性材料からなる導電層を形成することが望ましい。この導電層は、可変容量コンデンサC1〜C4を形成した後に新たに成膜して形成してもよいが、導体ライン31〜33を形成するときに、導体ライン31,32の第1および第2バイアス端子V1,V2の形成位置における形状を第1および第2バイアス端子V1,V2の形状に合わせて形成することで、同時にこれら導電層も一体となるように形成するようにパターニングを行なうことによって、導体ライン31〜33と同一の材料および同一の工程で形成してもよい。   Here, in order to facilitate the formation of the first and second bias terminals V1 and V2 at the positions where the first and second bias terminals V1 and V2 are formed on the support substrate 1, the conductor line 31 and the conductor line 32 are respectively formed. It is desirable to form an electrically connected conductive layer made of a conductive material. The conductive layer may be formed by forming a film after forming the variable capacitors C1 to C4. However, when the conductor lines 31 to 33 are formed, the first and second conductor lines 31, 32 are formed. By forming the shape of the bias terminals V1 and V2 in accordance with the shapes of the first and second bias terminals V1 and V2, and performing patterning so that these conductive layers are also formed at the same time. The conductor lines 31 to 33 may be formed using the same material and the same process.

なお、第1および第2バイアス端子V1,V2を、本発明の可変容量コンデンサCtの中心に対して互いに点対称の位置に配置することにより、可変容量コンデンサCtを図5に示す平面図において上下反対にしても配線基板に実装することができるため、取り扱いが容易となる。   Note that the first and second bias terminals V1 and V2 are arranged symmetrically with respect to the center of the variable capacitor Ct of the present invention, so that the variable capacitor Ct can be moved up and down in the plan view shown in FIG. Even if it is reversed, since it can be mounted on a wiring board, handling becomes easy.

次に、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22を構成する薄膜抵抗61〜65の材料としては、タンタル(Ta)を含有し、かつその比抵抗が1mΩ・cm以上であるものが望ましい。R=ρ・l/(w・t)(R:薄膜抵抗の抵抗、l:薄膜抵抗の長さ、w:薄膜抵抗の幅、t:薄膜抵抗の膜厚)より得られる比抵抗ρが1mΩ・cmより小さい場合、膜厚tを薄くする必要があり断線が生じ易くなる。また、薄膜抵抗61〜65は、アスペクト比(長さl/幅w)を大きくして長さを長くする必要があるが、アスペクト比が大きすぎると可変容量コンデンサの素子形状が大きくなるため、比抵抗を1mΩ・cm以上としてアスペクト比が大きくなり過ぎないようにすることができる。一方、比抵抗が大きくなり過ぎると、薄膜抵抗61〜65の温度特性や再現性等が劣化し易くなるので、比抵抗の上限の大きさは、両特性を考慮して決定される。例えば、バイアスラインの抵抗値として10kΩを得る場合は比抵抗を1mΩ・cm以上とし、膜厚を50nmとしたときにはアスペクト比は50以下となり、可変容量コンデンサの素子形状を大きくすることなく実現可能なアスペクト比となる。薄膜抵抗61〜65の具体的な材料としては、窒化タンタル(TaN)やTaSiN,Ta−Si−Oを例示することができる。例えば、窒化タンタルの場合であれば、Taをターゲットとして、窒素を雰囲気中に加えてスパッタリングを行なうリアクティブスパッタ法により、所望の組成比および抵抗率の薄膜抵抗61〜65を成膜することができる。   Next, the material of the thin film resistors 61 to 65 constituting the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, B22 contains tantalum (Ta) and has a specific resistance of 1 mΩ · cm or more. Some are desirable. Specific resistance ρ obtained from R = ρ · l / (w · t) (R: resistance of thin film resistor, l: length of thin film resistor, w: width of thin film resistor, t: film thickness of thin film resistor) is 1 mΩ. When the thickness is smaller than cm, it is necessary to reduce the film thickness t, and disconnection is likely to occur. In addition, the thin film resistors 61 to 65 need to increase the aspect ratio (length 1 / width w) to increase the length, but if the aspect ratio is too large, the element shape of the variable capacitor increases. It is possible to prevent the aspect ratio from becoming too large by setting the specific resistance to 1 mΩ · cm or more. On the other hand, if the specific resistance becomes too large, the temperature characteristics and reproducibility of the thin film resistors 61 to 65 are likely to deteriorate, and therefore the upper limit of the specific resistance is determined in consideration of both characteristics. For example, when the resistance value of the bias line is 10 kΩ, the specific resistance is 1 mΩ · cm or more, and when the film thickness is 50 nm, the aspect ratio is 50 or less, which can be realized without increasing the element shape of the variable capacitor. Aspect ratio. Specific examples of the thin film resistors 61 to 65 include tantalum nitride (TaN), TaSiN, and Ta—Si—O. For example, in the case of tantalum nitride, thin film resistors 61 to 65 having a desired composition ratio and resistivity can be formed by a reactive sputtering method in which sputtering is performed by adding Ta to the atmosphere using Ta as a target. it can.

このスパッタリングの条件を適宜選択することにより、膜厚が40nm以上で、比抵抗が1mΩ・cm以上の薄膜抵抗61〜65を形成することができる。さらに、スパッタリングの終了後、レジストを塗布して所定の形状に加工した後、これをマスクとして反応性イオンエッチング(RIE)等のエッチングプロセスを行なうことにより、簡便にパターニングすることができる。   By appropriately selecting the sputtering conditions, thin film resistors 61 to 65 having a film thickness of 40 nm or more and a specific resistance of 1 mΩ · cm or more can be formed. Furthermore, after the sputtering is completed, a resist is applied and processed into a predetermined shape, and then patterning can be easily performed by performing an etching process such as reactive ion etching (RIE) using this as a mask.

第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22の抵抗値は、使用する周波数領域において第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22のインピーダンスが各可変容量素子C1〜C4のインピーダンスよりも大きくなるように設定される。導体ライン31〜33の抵抗値は薄膜抵抗61〜65の抵抗値と比較して非常に小さくなるため、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22の抵抗値は薄膜抵抗61〜65の抵抗値とほぼ等しくなる。従って、薄膜抵抗61〜65の抵抗値を、使用する周波数領域において、各可変容量素子C1〜C4のインピーダンスより大きくなるように設定する。例えば、可変容量コンデンサCtを周波数1GHzで使用し、可変容量素子C1〜C4の容量を5pFとした場合には、この周波数の1/10(100MHz)からインピーダンスに悪影響を与えないように、即ち使用周波数領域の信号成分が第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22に漏洩し、各可変容量素子C1〜C4のインピーダンスに影響を与えないように、薄膜抵抗61〜65を可変容量素子C1〜C4の100MHzでのインピーダンスの10倍以上の抵抗値に設定するものとすると、必要な第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22の抵抗値は、約3.2kΩ以上となる。可変容量コンデンサにおける薄膜抵抗61〜65の比抵抗率は1mΩ・cm以上として、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22の抵抗値として10kΩを得る場合であれば、薄膜抵抗61〜65のアスペクト比(長さ/幅)は、膜厚を50nmとしたとき、50以下とできるため、素子形状を大きくすることなく実現可能なアスペクト比を有する薄膜抵抗61〜65となる。   The resistance values of the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, and B22 are such that the impedances of the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, and B22 are variable capacitance elements C1 in the frequency range to be used. It is set to be larger than the impedance of .about.C4. Since the resistance values of the conductor lines 31 to 33 are very small compared to the resistance values of the thin film resistors 61 to 65, the resistance values of the first and second bias lines B11, B12, B13, B21 and B22 are the thin film resistors 61. It is almost equal to the resistance value of ~ 65. Accordingly, the resistance values of the thin film resistors 61 to 65 are set to be larger than the impedances of the variable capacitance elements C1 to C4 in the frequency region to be used. For example, when the variable capacitor Ct is used at a frequency of 1 GHz and the capacitances of the variable capacitors C1 to C4 are set to 5 pF, the impedance is not adversely affected from 1/10 (100 MHz) of this frequency. The thin film resistors 61 to 65 are variable so that the signal component in the frequency domain leaks to the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, and B22 and does not affect the impedances of the variable capacitance elements C1 to C4. If the resistance value of the capacitive elements C1 to C4 is set to a resistance value of 10 times or more of the impedance at 100 MHz, the required resistance value of the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, B22 is about 3.2 kΩ. That's it. If the specific resistance of the thin film resistors 61 to 65 in the variable capacitor is 1 mΩ · cm or more and the resistance value of the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, B22 is 10 kΩ, the thin film resistors Since the aspect ratio (length / width) of 61 to 65 can be 50 or less when the film thickness is 50 nm, the thin film resistors 61 to 65 have an aspect ratio that can be realized without increasing the element shape.

これら薄膜抵抗61〜65を含む第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22は、支持基板1上に直接形成されている。これにより、可変容量素子C1〜C4上に形成する際に必要となる、下部電極層2,上部電極層4および引き出し電極層8との絶縁を確保するための絶縁層が不要となり、可変容量素子C1〜C4を構成する層の数を低減することが可能となる。さらに、高抵抗の薄膜抵抗61〜65を用いることにより、形状を大きくすることなく、可変容量コンデンサCtを作製することができる。   The first and second bias lines B11, B12, B13, B21, and B22 including these thin film resistors 61 to 65 are directly formed on the support substrate 1. This eliminates the need for an insulating layer for securing insulation from the lower electrode layer 2, the upper electrode layer 4, and the extraction electrode layer 8, which is necessary when forming on the variable capacitance elements C <b> 1 to C <b> 4. It becomes possible to reduce the number of layers constituting C1 to C4. Furthermore, by using the high-resistance thin film resistors 61 to 65, the variable capacitor Ct can be manufactured without increasing the shape.

次に、絶縁層7は、この上に形成する引き出し電極層8と下部電極層2との絶縁を確保するために必要である。さらに、この絶縁層7は、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22を被覆しており、薄膜抵抗61〜65が酸化されるのを防止できるため、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22の抵抗値を経時的に一定とすることができ、これにより信頼性を向上させることができる。絶縁層7の材料は、耐湿性を向上させるために、窒化ケイ素および酸化ケイ素の少なくとも1種類より成るものとするとよい。これらは、被覆性を考慮して、化学気相堆積(CVD)法等により、成膜することが望ましい。   Next, the insulating layer 7 is necessary for ensuring insulation between the lead electrode layer 8 and the lower electrode layer 2 formed thereon. Further, since the insulating layer 7 covers the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, and B22, the thin film resistors 61 to 65 can be prevented from being oxidized. The resistance values of the bias lines B11, B12, B13, B21, and B22 can be made constant over time, thereby improving the reliability. The material of the insulating layer 7 is preferably made of at least one of silicon nitride and silicon oxide in order to improve moisture resistance. These films are preferably formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or the like in consideration of coverage.

また、絶縁層7は、通常のレジストを用いるドライエッチング法等により、所望の形状に加工することができる。そして、絶縁層7には、薄膜抵抗61〜65と引き出し電極層8との接続を確保するために導体ライン33に到達する貫通孔を設けている。その他でこの絶縁層7から露出させる部位としては、上部電極層4および半田端子部111,112,113,114のみとしておくことが、耐湿性向上の観点から好ましい。   The insulating layer 7 can be processed into a desired shape by a dry etching method using a normal resist. The insulating layer 7 is provided with a through hole reaching the conductor line 33 in order to ensure the connection between the thin film resistors 61 to 65 and the lead electrode layer 8. In addition, it is preferable that only the upper electrode layer 4 and the solder terminal portions 111, 112, 113, and 114 are exposed from the insulating layer 7 from the viewpoint of improving moisture resistance.

次に、引き出し電極層8は、第1の可変容量素子C1の上部電極層5と第1信号端子I、すなわち第1信号端子I形成部の導電層との間、可変容量素子C2と可変容量素子C3との上部電極層5同士との間、可変容量素子C4の上部電極層5と第2信号端子O、すなわち第2信号端子O形成部の導電層との間を、絶縁層7の貫通孔を通ってそれぞれ接続するものである。このように引き出し電極層8を形成することにより、第1信号端子Iから第2信号端子Oまで可変容量素子C1〜C4が順に直列接続される。さらに、可変容量素子C2,C3にまたがる引き出し電極層8は、絶縁層7の貫通孔を通って導体ライン33と接続している。この引き出し電極層8の材料としては、Au,Cu等の低抵抗な金属を用いることが望ましい。また、引き出し電極層8に対する絶縁層7との密着性を考慮して、Ti,Ni等の密着層を使用してもよい。   Next, the lead electrode layer 8 is provided between the upper electrode layer 5 of the first variable capacitance element C1 and the first signal terminal I, that is, the conductive layer of the first signal terminal I forming portion, and between the variable capacitance element C2 and the variable capacitance. The insulating layer 7 penetrates between the upper electrode layer 5 of the element C3 and between the upper electrode layer 5 of the variable capacitor C4 and the second signal terminal O, that is, the conductive layer of the second signal terminal O forming portion. Each is connected through a hole. By forming the lead electrode layer 8 in this way, the variable capacitance elements C1 to C4 are connected in series from the first signal terminal I to the second signal terminal O in order. Further, the lead electrode layer 8 extending over the variable capacitance elements C2 and C3 is connected to the conductor line 33 through the through hole of the insulating layer 7. As the material of the extraction electrode layer 8, it is desirable to use a low resistance metal such as Au or Cu. In consideration of adhesion between the lead electrode layer 8 and the insulating layer 7, an adhesion layer such as Ti or Ni may be used.

なお、引出し電極層8を形成するときに、第1および第2信号端子I,Oならびに第1および第2バイアス端子V1,V2の形成位置に、引出し電極層8を構成する材料からなる層を形成することが好ましい。第1および第2信号端子I,Oならびに第1および第2バイアス端子V1,V2を形成する位置の高さを揃えることにより、実装が容易となるからである。   When the extraction electrode layer 8 is formed, a layer made of a material constituting the extraction electrode layer 8 is formed at the positions where the first and second signal terminals I and O and the first and second bias terminals V1 and V2 are formed. Preferably formed. This is because mounting is facilitated by aligning the heights of the positions where the first and second signal terminals I and O and the first and second bias terminals V1 and V2 are formed.

次に、半田端子部111,112,113,114を露出させて全体を被覆するように、保護層9を形成する。保護層9は、可変容量素子C1を始めとする可変容量コンデンサCtの構成部材を機械的に保護するほか、薬品等による汚染から保護するためのものである。ただし、この保護層9の形成時には、半田端子部111,112,113,114を露出するようにする。保護層9の材料としては、耐熱性が高く、段差に対する被覆性が優れたものが良く、具体的には、ポリイミド樹脂やBCB(ベンゾシクロブテン)樹脂等を用いる。これらは、樹脂原料を塗布した後、所定の温度で硬化させることにより形成される。   Next, the protective layer 9 is formed so that the solder terminal portions 111, 112, 113, and 114 are exposed and covered entirely. The protective layer 9 is used to mechanically protect the constituent members of the variable capacitor Ct including the variable capacitor C1 and to protect it from contamination by chemicals and the like. However, when the protective layer 9 is formed, the solder terminal portions 111, 112, 113, 114 are exposed. As a material of the protective layer 9, a material having high heat resistance and excellent coverage with respect to a step is preferable. Specifically, polyimide resin, BCB (benzocyclobutene) resin, or the like is used. These are formed by applying a resin material and then curing at a predetermined temperature.

半田拡散防止層10は、半田端子部111,112,113,114形成の際のリフローや実装の際に、半田端子部111,112,113,114の半田が引き出し電極層8あるいは下部電極層2へとの拡散することを防止するために形成する。この半田拡散防止層10の材料としては、Niが好適である。また、半田拡散防止層10の表面には、半田濡れ性を向上させるために、半田濡れ性の高いAu,Cu等を0.1μm程度形成する場合もある。   The solder diffusion preventing layer 10 is formed by the solder of the solder terminal portions 111, 112, 113, 114 when the solder terminal portions 111, 112, 113, 114 are reflowed or mounted. Formed in order to prevent diffusion into. As a material of the solder diffusion preventing layer 10, Ni is suitable. In addition, in order to improve solder wettability, Au, Cu, etc. having high solder wettability may be formed on the surface of the solder diffusion preventing layer 10 to about 0.1 μm.

最後に、半田端子部111,112,113,114を半田拡散防止層10の上に形成する。これは、可変容量コンデンサの外部の配線基板への実装を容易にするために形成する。これら半田端子部111,112,113,114は、半田端子部111,112,113,114に所定のマスクを用いて半田ペーストを印刷後、リフローを行なうことにより形成するのが一般的である。   Finally, solder terminal portions 111, 112, 113, 114 are formed on the solder diffusion preventing layer 10. This is formed to facilitate mounting of the variable capacitor on the external wiring board. These solder terminal portions 111, 112, 113, 114 are generally formed by reflowing after solder paste is printed on the solder terminal portions 111, 112, 113, 114 using a predetermined mask.

以上述べた可変容量コンデンサCtによれば、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22もしくはその一部に、窒化タンタルを含有し、かつ比抵抗が1mΩ・cm以上の薄膜抵抗61〜65を用いることにより、薄膜抵抗61〜65のアスペクト比を低減して可変容量コンデンサCtの小型化を実現している。さらには、第1および第2バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22を支持基板1上に直接形成することにより、可変容量素子C1等の各素子を構成する層の数が低減されている。また、各素子を構成する各導体層や誘電体層等の形成工程を共通化できるため、構造が比較的複雑であるにもかかわらず、非常に簡単に形成することができる。   According to the above-described variable capacitor Ct, the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, B22 or a part thereof contain tantalum nitride and have a specific resistance of 1 mΩ · cm or more. By using 61 to 65, the aspect ratio of the thin film resistors 61 to 65 is reduced, and the size of the variable capacitor Ct is reduced. Furthermore, by forming the first and second bias lines B11, B12, B13, B21, and B22 directly on the support substrate 1, the number of layers constituting each element such as the variable capacitance element C1 is reduced. . Further, since the formation process of each conductor layer, dielectric layer, etc. constituting each element can be made common, it can be formed very easily despite the relatively complicated structure.

次に、本発明の可変容量コンデンサCt’の作製方法について説明する。   Next, a manufacturing method of the variable capacitor Ct ′ of the present invention will be described.

図7は5つの可変容量素子C1〜C5を有する本発明の可変容量コンデンサCt’の例を示す透視状態の平面図であり、図8は図7に示す可変容量コンデンサCt’のA−A’線断面図である。なお、これらの図において、図5,図6と同様の個所には同じ符号を付してあり、それらについて重複する説明は省略する。   7 is a transparent plan view showing an example of the variable capacitor Ct ′ of the present invention having five variable capacitors C1 to C5, and FIG. 8 is an AA ′ diagram of the variable capacitor Ct ′ shown in FIG. It is line sectional drawing. In these drawings, the same parts as those in FIGS. 5 and 6 are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof will be omitted.

図7、図8において、C5は可変容量素子であり、可変容量素子C4と第2信号端子Oとの間に可変容量素子C1〜C4と同一材料,同一工程にて形成される。   7 and 8, C5 is a variable capacitance element, and is formed between the variable capacitance element C4 and the second signal terminal O in the same material and in the same process as the variable capacitance elements C1 to C4.

34は導体ライン、66は薄膜抵抗であり、バイアス供給回路を構成する第1バイアスラインB13は、導体ライン34と薄膜抵抗63とから構成されており、第2バイアスラインB23は、導体ライン31と薄膜抵抗66とから構成されている。   34 is a conductor line, 66 is a thin film resistor, the first bias line B13 constituting the bias supply circuit is composed of the conductor line 34 and the thin film resistor 63, and the second bias line B23 is the conductor line 31. And a thin film resistor 66.

この第1バイアスラインB13,第2バイアスラインB23は、第1バイアスラインB11,B12および第2バイアスラインB21,B22と同一材料,同一工程にて形成される。   The first bias line B13 and the second bias line B23 are formed of the same material and in the same process as the first bias lines B11 and B12 and the second bias lines B21 and B22.

また、絶縁層7には、薄膜抵抗61と引き出し電極層8との接続を確保するために導体ライン33、34に到達する貫通孔を設けている。   The insulating layer 7 is provided with through holes reaching the conductor lines 33 and 34 in order to ensure the connection between the thin film resistor 61 and the lead electrode layer 8.

第1信号端子Iから第2信号端子Oまで、可変容量素子C1〜C5を直接接続するには、例えば、第1信号端子Iと可変容量素子C1の上部電極層4とを引き出し電極層8を介して電気的に接続し、可変容量素子C1,C2で下部電極層2を共用することで両者を電気的に接続し、可変容量素子C2,C3の上部電極層4を引き出し電極層8を介して電気的に接続し、以下同様に、下部電極層2を共有して可変容量素子C3,C4間を、引き出し電極層8を介して可変容量素子C4,C5の上部電極層4間を、下部電極層2を共有して可変容量素子C5と第2信号端子Oとの間を、それぞれを電気的に接続すればよい。   In order to directly connect the variable capacitance elements C1 to C5 from the first signal terminal I to the second signal terminal O, for example, the lead electrode layer 8 is connected to the first signal terminal I and the upper electrode layer 4 of the variable capacitance element C1. Are electrically connected to each other by sharing the lower electrode layer 2 between the variable capacitance elements C1 and C2, and the upper electrode layer 4 of the variable capacitance elements C2 and C3 is connected via the lead electrode layer 8 In the same manner, the lower electrode layer 2 is shared between the variable capacitor elements C3 and C4, and the upper electrode layer 4 of the variable capacitor elements C4 and C5 is connected to the lower electrode layer via the lead electrode layer 8. The electrode layer 2 may be shared and the variable capacitance element C5 and the second signal terminal O may be electrically connected to each other.

以上述べた可変容量コンデンサCt’によれば、高周波信号を供給するための信号端子である入力端子Iおよび出力端子Oと、第1および第2バイアスラインが接続されるバイアス信号を供給するバイアス端子V1,V2を共通とすることができ、その結果、実装やパターン設計等の自由度を増やすことができ取扱いが容易な可変容量コンデンサCt’とするこができる。   According to the variable capacitor Ct ′ described above, the bias terminal that supplies a bias signal to which the input terminal I and the output terminal O, which are signal terminals for supplying a high-frequency signal, and the first and second bias lines are connected. V1 and V2 can be made common, and as a result, the degree of freedom of mounting and pattern design can be increased, and the variable capacitor Ct ′ can be easily handled.

次に、本発明の回路モジュールおよび通信装置について説明する。   Next, the circuit module and communication device of the present invention will be described.

本発明の回路モジュールは、上記本発明の可変容量コンデンサと、インダクタおよび抵抗の少なくとも一つと、これらに電圧を印加できる電圧供給部とを備えた共振回路として構成されている。本発明の可変容量コンデンサが共振回路を構成するコンデンサとして用いられているため、コンデンサの容量変化率が大きく、かつ所望の容量を精度良く得ることができることにより、直流バイアス電圧の印加により広い周波数範囲にわたり所望の共振周波数を精度良く得ることのできるものとなる。また、コンデンサが耐電力に優れていることから、信頼性が高く、簡便に作製でき、生産性の高いものとなる。また、可変容量素子が偶数の場合には直流バイアス電圧の極性に依存しないため取り扱いが容易となる。   The circuit module of the present invention is configured as a resonant circuit including the variable capacitor of the present invention, at least one of an inductor and a resistor, and a voltage supply unit that can apply a voltage to these. Since the variable capacitor according to the present invention is used as a capacitor constituting a resonance circuit, the capacitance change rate of the capacitor is large and a desired capacitance can be obtained with high accuracy. Thus, a desired resonance frequency can be obtained with high accuracy. In addition, since the capacitor has excellent power resistance, the capacitor is highly reliable, can be easily manufactured, and has high productivity. Further, when the variable capacitance element is an even number, it is easy to handle because it does not depend on the polarity of the DC bias voltage.

また、本発明の通信装置は、上記構成の回路モジュールをフィルタ手段として用いた構成となっている。例えば、このようなフィルタ手段を送信回路および受信回路にそれぞれ設け、送信回路と受信回路とを送受信切替え装置を介して接続することにより本発明の通信装置を得ることができる。このようなフィルタ手段は、例えば、上記回路モジュールとインダクタ,キャパシタ等を組み合わせることで得ることができる帯域通過フィルタがあり、広い周波数範囲にわたり所望の共振周波数を精度良く設定できることにより、使用可能な周波数範囲が広く、かつ所望の通過帯域を精度良く得ることのできるものとなる。このように、本発明の通信装置によれば、広い周波数範囲にわたり所望の共振周波数を精度良く設定できることにより、フィルタ手段として使用可能な周波数範囲が広く、かつ所望のフィルタ機能を精度良く得ることのできるものとなる。   Further, the communication device of the present invention has a configuration using the circuit module having the above configuration as a filter means. For example, the communication device of the present invention can be obtained by providing such filter means in the transmission circuit and the reception circuit, respectively, and connecting the transmission circuit and the reception circuit via a transmission / reception switching device. Such a filter means includes, for example, a band-pass filter that can be obtained by combining the above circuit module, an inductor, a capacitor, and the like, and a desired resonance frequency can be set accurately over a wide frequency range. The range is wide and a desired pass band can be obtained with high accuracy. As described above, according to the communication device of the present invention, a desired resonance frequency can be accurately set over a wide frequency range, so that a frequency range that can be used as a filter means is wide and a desired filter function can be obtained with high accuracy. It will be possible.

なお、本発明は以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることは何ら差し支えない。例えば、上述の実施の形態の例では、バイアス供給回路である第1バイアスラインB11,B12,B13および第2バイアスラインB21,B22を共通にしているが、バイアスラインB11,B12,B13,B21,B22をそれぞれの可変容量素子C1,C2,C3,C4に対して個別に設けた構成とした可変容量コンデンサCtとしても構わない。また、図9に示すようにバイアス電圧V1を入力端子Iから印加しても良い。   In addition, this invention is not limited to the example of the above embodiment, A various change may be added in the range which does not deviate from the summary of this invention. For example, in the above-described embodiment, the first bias lines B11, B12, B13 and the second bias lines B21, B22, which are bias supply circuits, are shared, but the bias lines B11, B12, B13, B21, The variable capacitor Ct may be configured such that B22 is provided individually for each of the variable capacitance elements C1, C2, C3, and C4. Further, a bias voltage V1 may be applied from the input terminal I as shown in FIG.

また、支持基板1上の複数領域にそれぞれ直列接続した可変容量素子からなる本発明の可変容量コンデンサを形成したり、第1および第2バイアスラインをインダクタや伝送線路で形成したりしてもよい。   Moreover, the variable capacitor of the present invention comprising variable capacitors connected in series to a plurality of regions on the support substrate 1 may be formed, or the first and second bias lines may be formed of inductors or transmission lines. .

本発明の可変容量コンデンサの実施の形態の一例を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram showing an example of an embodiment of a variable capacitor of the present invention. 本発明の第1の可変容量コンデンサにおける容量変化率の直流バイアス電圧特性の例を示す線図である。It is a diagram which shows the example of the direct current bias voltage characteristic of the capacity | capacitance change rate in the 1st variable capacitor of this invention. (a),(b)はそれぞれ本発明の第1の可変容量コンデンサにおいて高周波的にみたときの可変容量素子の接続構成を示す概念図である。(A), (b) is a conceptual diagram which shows the connection structure of the variable capacitance element when it sees in high frequency in the 1st variable capacitance capacitor of this invention, respectively. (a),(b)はそれぞれ本発明の可変容量コンデンサの実施の形態の他の例を示す等価回路図である。(A), (b) is an equivalent circuit diagram which shows the other example of embodiment of the variable capacitor of this invention, respectively. 図1に示す可変容量コンデンサの例を示す透視状態の平面図である。It is a top view of the see-through state which shows the example of the variable capacitor shown in FIG. 図5のA−A’線断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 5. 図4に示す可変容量コンデンサの例を示す透視状態の平面図である。It is a top view of the see-through state which shows the example of the variable capacitor shown in FIG. 図7のA−A’線断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 7. バイアス供給回路を個別に設けた本発明の可変容量コンデンサの実施の形態の他の例を示す等価回路図である。It is an equivalent circuit diagram which shows the other example of embodiment of the variable capacitor of this invention which provided the bias supply circuit separately. 従来の薄膜コンデンサの例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of the conventional thin film capacitor. (a)および(b)は、それぞれ従来の可変コンデンサの等価回路図である。(A) And (b) is an equivalent circuit diagram of the conventional variable capacitor, respectively. 可変容量素子に種々の値の直流バイアス電圧が印加された場合における容量の周波数依存性を示す線図である。It is a diagram which shows the frequency dependence of a capacity | capacitance when the DC bias voltage of various values is applied to the variable capacity element. 可変容量素子に直流バイアス電圧が印加された状態で2GHzの高周波電圧を加えた場合において、可変容量素子の容量変化の印加電圧依存性を具体的な数値で示した線図である。FIG. 6 is a diagram showing specific numerical values of applied voltage dependence of capacitance change of a variable capacitance element when a high frequency voltage of 2 GHz is applied in a state where a DC bias voltage is applied to the variable capacitance element.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・支持基板
2・・・下部電極層
31、32、33、34・・・導体ライン
4・・・薄膜誘電体層
5・・・上部電極層
61、62、63、64、65・・・薄膜抵抗
7・・・絶縁層
8・・・引出し電極層
9・・・保護層
10・・・半田拡散防止層
111、112・・・半田端子部
C1、C2、C3、C4、C5・・・可変容量素子
Ct・・・可変容量コンデンサ
B11、B12、B13・・・第1バイアスライン
B21、B22、B23・・・第2バイアスライン
I・・・入力端子
O・・・出力端子
L1、L2・・・インダクタ
R11、R12、R13、R21、R22、R23・・・抵抗成分
V1・・・第1バイアス端子
V2・・・第2バイアス端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support substrate 2 ... Lower electrode layer
31, 32, 33, 34 ... conductor lines 4 ... thin film dielectric layer 5 ... upper electrode layer
61, 62, 63, 64, 65 ... Thin film resistor 7 ... Insulating layer 8 ... Lead electrode layer 9 ... Protective layer
10 ... Solder diffusion prevention layer
111, 112 ... solder terminal portion C1, C2, C3, C4, C5 ... variable capacitance element Ct ... variable capacitance capacitor B11, B12, B13 ... first bias line B21, B22, B23 ..・ Second bias line I ・ ・ ・ Input terminal O ・ ・ ・ Output terminal L1, L2 ・ ・ ・ Inductor R11, R12, R13, R21, R22, R23 ・ ・ ・ Resistance component V1 ・ ・ ・ First bias terminal V2 ・..Second bias terminal

Claims (9)

高周波信号の入力端子と出力端子との間に印加電圧により誘電率が変化する薄膜誘電体層を用いた複数の可変容量素子が直列接続されており、前記印加電圧の高電位側の第1バイアスラインと低電位側の第2バイアスラインとが、複数の前記可変容量素子の両端および各素子間に交互に接続されていることを特徴とする可変容量コンデンサ。 A plurality of variable capacitance elements using a thin film dielectric layer whose dielectric constant varies depending on the applied voltage are connected in series between the input terminal and the output terminal of the high-frequency signal, and a first bias on the high potential side of the applied voltage. A variable capacitance capacitor, wherein a line and a second bias line on a low potential side are alternately connected to both ends of each of the plurality of variable capacitance elements and between each element. 複数の前記可変容量素子のうち、前記第1バイアスラインが前記入力端子側に接続された可変容量素子群Aの容量値の合計値と前記第1バイアスラインが前記出力端子側に接続された可変容量素子群Bの容量値の合計値とが実質的に等しいことを特徴とする請求項1記載の可変容量コンデンサ。 Among the plurality of variable capacitance elements, a total value of capacitance values of the variable capacitance element group A in which the first bias line is connected to the input terminal side and a variable in which the first bias line is connected to the output terminal side. 2. The variable capacitor according to claim 1, wherein a total value of capacitance values of the capacitive element group B is substantially equal. 前記可変容量素子が偶数であることを特徴とする請求項2記載の可変容量コンデンサ。 The variable capacitor according to claim 2, wherein the variable capacitor is an even number. 前記可変容量素子群Aの前記可変容量素子と前記可変容量素子群Bの前記可変容量素子とが実質的に等しい容量値の対になっていることを特徴とする請求項3記載の可変容量コンデンサ。 4. The variable capacitance capacitor according to claim 3, wherein the variable capacitance element of the variable capacitance element group A and the variable capacitance element of the variable capacitance element group B form a pair of substantially equal capacitance values. . 複数の前記可変容量素子の容量値が実質的に等しいことを特徴とする請求項3記載の可変容量コンデンサ。 4. The variable capacitor according to claim 3, wherein capacitance values of the plurality of variable capacitance elements are substantially equal. 前記可変容量素子が奇数であることを特徴とする請求項2記載の可変容量コンデンサ。 The variable capacitor according to claim 2, wherein the variable capacitor is an odd number. 前記入力端子に接続された前記可変容量素子および前記出力端子に接続された前記可変容量素子は、他の前記可変容量素子よりも容量値が大きいことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかまたは請求項6記載の可変容量コンデンサ。 5. The variable capacitance element connected to the input terminal and the variable capacitance element connected to the output terminal have larger capacitance values than the other variable capacitance elements. The variable capacitor according to claim 6. 請求項1乃至請求項7のいずれかに記載の可変容量コンデンサが共振回路を構成するコンデンサとして用いられていることを特徴とする回路モジュール。 8. A circuit module, wherein the variable capacitor according to claim 1 is used as a capacitor constituting a resonance circuit. 請求項8記載の回路モジュールがフィルタ手段として用いられていることを特徴とする通信装置。

9. A communication apparatus, wherein the circuit module according to claim 8 is used as filter means.

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