JP2006048751A - 磁気ディスクおよび磁気ディスク装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ディスク基板上に形成された、記録トラックをなす磁性層のパターンを含むデータ領域と、サーボ信号として利用される磁性層のパターンを含むサーボ領域と、前記磁性層のパターンを分離する非磁性部とを有し、前記磁性層のパターンと非磁性部との面積比率が半径位置によって異なることを特徴とする磁気ディスク。
【選択図】 図1
Description
図7(A)〜(F)および図8(A)〜(F)に示す工程に従って、インプリント法により磁気ディスクを作製した。この磁気ディスクは、データ領域が半径位置4.8mm〜10.2mmの範囲にあり、1トラックが120セクタで構成され、1セクタの容量が10000ビットである。
内周側 4.8mm〜6.6mm 250nm
中間 6.6mm〜8.4mm 225nm
外周側 8.4mm〜10.2mm 200nm。
まず、図7(A)〜(F)に示す方法によりスタンパを作製した。
図7(A)に示すように、6インチ径のSiウエハー41を用意し、その表面をヘキサメチルジシラザン(HMDS)で処理した。一方、日本ゼオン社製のレジストZEP−520をアニソールで2倍に希釈し、0.2μmのメンブランフィルタでろ過した。Siウエハー41上にレジスト溶液をスピンコートした後、200℃で3分間プリベークして、厚さ約0.1μmのレジスト42を形成した。
ホウ酸:40g/L
界面活性剤(ラウリル硫酸ナトリウム):0.15g/L
液の温度:55℃
pH:4.0
電流密度:20A/dm2。
図8(A)に示すように、スタンパ48をアセトンで15分間超音波洗浄をした。インプリント時の離型性を高めるために、スタンパ48に次のような処理を施した。フルオロアルキルシラン[CF3(CF2)7CH2CH2Si(OMe)3](GE東芝シリコーン株式会社製、TSL8233)をエタノールで5%に希釈した溶液を調製した。スタンパ48をこの溶液に30分間浸し、ブロアーで溶液をとばした後に、120℃で1時間アニールした。
実施例1と同様の工程にしたがって、データ領域が半径位置4.8mm〜10.2mmの範囲にあり、1トラックが120セクタで構成され、1セクタの容量が10000ビットである磁気ディスクをインプリント法により作製した。
内周側 4.8mm〜6.6mm 300nm
中間 6.6mm〜8.4mm 400nm
外周側 8.4mm〜10.2mm 500nm。
磁気ディスク基板としては、たとえばガラス基板、Al系合金基板、セラミック基板、カーボン基板、酸化表面を有するSi単結晶基板、およびこれらの基板の表面にNiP層を形成したものなどを用いることができる。ガラス基板には、アモルファスガラスまたは結晶化ガラスを用いることができる。アモルファスガラスとしては、ソーダライムガラス、アルミノシリケートガラスなどがある。結晶化ガラスとしては、リチウム系結晶化ガラスなどがある。セラミック基板としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化珪素などを主成分とする焼結体や、これらの焼結体を繊維強化したものなどを用いることができる。基板の表面にNiP層を形成するには、メッキやスパッタリングが用いられる。
垂直磁気記録媒体を作製する場合には、軟磁性下地層(SUL)上に垂直磁気記録層を有するいわゆる垂直二層媒体とする。垂直二層媒体の軟磁性下地層は、記録磁極からの記録磁界を通過させ、記録磁極の近傍に配置されたリターンヨークへ記録磁界を還流させるために設けられている。すなわち、軟磁性下地層は記録ヘッドの機能の一部を担っており、記録層に急峻な垂直磁界を印加して、記録効率を向上させる役目を果たす。
垂直磁気記録層には、たとえば、Coを主成分とし、少なくともPtを含み、必要に応じてCrを含み、さらに酸化物(たとえば酸化シリコン、酸化チタン)を含む材料が用いられる。垂直磁気記録層中では、磁性結晶粒子が柱状構造をなしていることが好ましい。このような構造を有する垂直磁気記録層では、磁性結晶粒子の配向性および結晶性が良好であり、結果として高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)を得ることができる。上記のような構造を得るためには、酸化物の量が重要になる。酸化物の含有量は、Co、Pt、Crの総量に対して、3mol%以上12mol%以下が好ましく、5mol%以上10mol%以下がより好ましい。垂直磁気記録層中の酸化物の含有量が上記の範囲であれば、磁性粒子の周りに酸化物が析出し、磁性粒子を孤立化および微細化させることができる。酸化物の含有量が上記範囲を超える場合、酸化物が磁性粒子中に残留し、磁性粒子の配向性、結晶性を損ね、さらには磁性粒子の上下に酸化物が析出し、結果として磁性粒子が垂直磁気記録層を上下に貫いた柱状構造が形成されなくなる。一方、酸化物の含有量が上記範囲未満である場合、磁性粒子の孤立化および微細化が不十分となり、結果として記録再生時におけるノイズが増大し、高密度記録に適した信号/ノイズ比(S/N比)が得られなくなる。
保護層は、垂直磁気記録層の腐食を防ぐとともに、磁気ヘッドが媒体に接触したときに媒体表面の損傷を防ぐ作用を有する。保護層の材料としては、たとえばC、SiO2、ZrO2を含む材料が挙げられる。保護層の厚さは、1〜10nmとすることが好ましい。保護層の厚さを上記の範囲にすると、ヘッドと媒体の距離を小さくできるので、高密度記録に好適である。
潤滑剤としては、たとえばパーフルオロポリエーテル、フッ化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。
Claims (6)
- ディスク基板上に形成された、記録トラックをなす磁性層のパターンを含むデータ領域と、サーボ信号として利用される磁性層のパターンを含むサーボ領域と、前記磁性層のパターンを分離する非磁性部とを有し、前記磁性層のパターンと非磁性部との面積比率が半径位置によって異なることを特徴とする磁気ディスク。
- 前記データ領域における前記磁性層のパターンと非磁性部との面積比率が半径位置によって異なることを特徴とする請求項1に記載の磁気ディスク。
- 前記データ領域における前記記録トラックのピッチが半径位置によって異なることを特徴とする請求項1または2に記載の磁気ディスク。
- 前記データ領域における前記記録トラックのピッチは、外周側の方が内周側よりも小さいことを特徴とする請求項3に記載の磁気ディスク。
- 前記データ領域における前記記録トラックのピッチは、外周側の方が内周側よりも大きいことを特徴とする請求項3に記載の磁気ディスク。
- 請求項1ないし5のいずれか1項に記載の磁気ディスクと、浮上型磁気ヘッドとを具備したことを特徴とする磁気ディスク装置。
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JP2010015629A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Fujifilm Corp | モールド構造体の原盤の製造方法、原盤、及びモールド構造体の製造方法 |
US7682713B2 (en) | 2005-02-01 | 2010-03-23 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium with recording layer having a predetermined concavo-convex pattern and magnetic recording and reproducing apparatus |
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7682713B2 (en) | 2005-02-01 | 2010-03-23 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium with recording layer having a predetermined concavo-convex pattern and magnetic recording and reproducing apparatus |
US7686972B2 (en) | 2006-02-16 | 2010-03-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for manufacturing magnetic recording medium |
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US7706093B2 (en) | 2006-09-21 | 2010-04-27 | Showa Denko K.K. | Perpendicular magnetic recording medium, manufacturing method thereof and magnetic recording device |
JP2009009622A (ja) * | 2007-06-26 | 2009-01-15 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体および磁気ディスク装置 |
US8105952B2 (en) | 2007-09-26 | 2012-01-31 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of forming a pattern |
US8120869B2 (en) | 2008-01-17 | 2012-02-21 | Showa Denko K.K. | Magnetic recording medium and magnetic recording/reproducing apparatus |
JP2010015629A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Fujifilm Corp | モールド構造体の原盤の製造方法、原盤、及びモールド構造体の製造方法 |
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