JP2006045416A - Light scattering-type liquid crystal device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light scattering-type liquid crystal device which has a substantially reduced optical hysteresis, especially has a small HS50 in a halftone zone. <P>SOLUTION: The light scattering type liquid crystal device having a dimming layer obtained by polymerizing a dimming layer-forming material containing a side chain radically polymerizable composition and a liquid crystal composition, is characterized in that the above side chain radically polymerizable composition satisfies simultaneously the following formulae: Δα=αmax-αmin≥5, α=N<SB>R1R2</SB>-ä(N<SB>R1</SB>-1)+(N<SB>R2</SB>-1)}/2, -3.16≤Σ(αi×βi)≤2, wherein, Δα is a difference between the maximal α and minimal α among a plurality of αs which are conducted from the radically polymerizable compounds; N<SB>R1R2</SB>is a distance between the adjacent side chains each other formed at the time of polymerizing the radically polymerizable compound; N<SB>R1</SB>and N<SB>R2</SB>are each a side chain length; and Σ(αi×βi) is a theoretical value of the sum of expected values for all αi's, in which a probability of occurrence βi is multiplied by such αi for a plurality of αi as is obtained when the reactivities among the radically polymerizable compounds are assumed to be the same. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は光散乱型の液晶デバイスに関し、更に詳しくは高分子化合物中に液晶を分散させた高分子分散型液晶表示デバイスに関する。この高分子分散型液晶表示デバイスには、ポリマーマトリックスの連続相に液晶滴が分散された狭義の高分子分散型液晶と、三次元網目状に形成されたポリマーマトリックスの網目内に液晶が連続的に分散されたポリマーネットワーク型液晶の双方が含まれる。   The present invention relates to a light scattering liquid crystal device, and more particularly to a polymer dispersed liquid crystal display device in which liquid crystal is dispersed in a polymer compound. This polymer-dispersed liquid crystal display device includes a polymer-dispersed liquid crystal in a narrow sense in which liquid crystal droplets are dispersed in a continuous phase of the polymer matrix, and a liquid crystal continuously in the network of the polymer matrix formed in a three-dimensional network. Both of the polymer network type liquid crystal dispersed in are included.

情報化社会の進展に伴い、情報通信材料の需要がますます高まっている。特に、光散乱型の液晶デバイスは、偏光板が不要なことや視野角依存性が少ないことから、広告板、装飾表示板、時計、コンピューター、プロジェクション、デジタルペーパー、携帯用情報端末、光シャッター、などの液晶表示素子又は光学素子として大きく期待されている。
光散乱型液晶デバイスとしては、重合性組成物と液晶組成物とからなる調光層形成材料に光照射又は加熱して、重合性組成物と液晶組成物とを相分離させた状態で重合性組成物を硬化させて得た、ポリマーマトリックスと液晶組成物からなる調光層を有する高分子分散型液晶表示デバイスが知られている。
With the development of the information society, the demand for information and communication materials is increasing. In particular, light-scattering liquid crystal devices do not require polarizing plates and have little viewing angle dependency, so advertising boards, decorative display boards, watches, computers, projections, digital paper, portable information terminals, optical shutters, It is highly expected as a liquid crystal display element or an optical element.
As the light scattering type liquid crystal device, the light control layer forming material comprising the polymerizable composition and the liquid crystal composition is irradiated with light or heated to polymerize in a state where the polymerizable composition and the liquid crystal composition are phase-separated. A polymer dispersed liquid crystal display device having a light control layer comprising a polymer matrix and a liquid crystal composition obtained by curing the composition is known.

従来の高分子分散型液晶表示デバイスには、光学ヒステリシスが大きいという問題がある。
光学ヒステリシスとは、印加電圧と光の透過率との関係において(印加電圧−光透過率曲線)、同一印加電圧での電圧上昇過程と電圧下降過程で、透過率が同じ軌跡を辿らない現象である。光学ヒステリシスの大きいデバイスは、階調表示が正しく行えない、あるいは表示の焼き付けを起こす等の不具合を生じる。特に印加電圧上昇時に透過率変化50%の透過率を与える電圧と印加電圧下降時に透過率変化50%の透過率を与える電圧の差として定義される光学ヒステリシスHS50(単位:mV)(以下、単にHS50と略す)は、中間調の階調表示性能に強い影響を与えることから、この低減が大きな課題となっていた。なおここで透過率変化50%の透過率(%)をT50(%)と表記すると、T50(%)は数式(a)で表される。
The conventional polymer dispersion type liquid crystal display device has a problem that the optical hysteresis is large.
Optical hysteresis is a phenomenon in which the transmittance does not follow the same trajectory in the voltage increasing process and voltage decreasing process at the same applied voltage in the relationship between the applied voltage and the light transmittance (applied voltage-light transmittance curve). is there. A device having a large optical hysteresis causes a problem such as that gradation display cannot be performed correctly or display burn-in occurs. In particular, an optical hysteresis HS50 (unit: mV) defined as a difference between a voltage that gives a transmittance with a transmittance change of 50% when the applied voltage is increased and a voltage that gives a transmittance with a transmittance change of 50% when the applied voltage is lowered (unit: mV). Since this has a strong influence on halftone gradation display performance, this reduction has been a major issue. Here, when the transmittance (%) at the transmittance change of 50% is expressed as T50 (%), T50 (%) is expressed by the formula (a).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(T100は光散乱型液晶デバイスに対してそれ以上透過率が変化しなくなるまで電圧を印加した場合の透過率(%)を表し、T0は電圧無印加状態における透過率(%)を表す。)
さらに、HS50(mV)は数式(b)で表される。
(T100 represents the transmittance (%) when a voltage is applied until the transmittance does not change any more with respect to the light scattering type liquid crystal device, and T0 represents the transmittance (%) when no voltage is applied.)
Furthermore, HS50 (mV) is expressed by the mathematical formula (b).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(前記数式(a)、(b)において、Vr50(mV)は光散乱型液晶デバイスに対する印加電圧を無印加から上昇させていった時にT50(%)が得られる印加電圧を表し、Vd50(mV)は光散乱型液晶デバイスに対する印加電圧をV100(mV)から下降させていった時にT50(%)が得られる印加電圧を表す。V100(mV)はT100(%)における印加電圧を表す。) (In the above formulas (a) and (b), Vr50 (mV) represents an applied voltage at which T50 (%) is obtained when the applied voltage to the light scattering liquid crystal device is increased from no application, and Vd50 (mV ) Represents an applied voltage at which T50 (%) is obtained when the applied voltage to the light scattering liquid crystal device is lowered from V100 (mV), where V100 (mV) represents the applied voltage at T100 (%).

一般に、光散乱型液晶デバイスの光学ヒステリシスは、用いる重合性組成物と液晶組成物、及び形成されるポリマーネットワークの網目サイズあるいは液晶液滴径が同じであれば、光散乱型液晶デバイスのセルギャップの大きさに比例する。このため、最も簡単な光学ヒステリシスの低減手段は光散乱型液晶デバイスのセルギャップを小さくすることである。しかし光散乱型液晶デバイスのセルギャップを小さくすると、散乱強度が低下して良好な光学特性が得られなくなる。   In general, the optical hysteresis of a light-scattering liquid crystal device is such that the cell gap of the light-scattering liquid crystal device is the same if the polymerizable composition used and the liquid crystal composition and the network size or liquid crystal droplet diameter of the polymer network to be formed are the same. Is proportional to the size of For this reason, the simplest means for reducing optical hysteresis is to reduce the cell gap of the light-scattering liquid crystal device. However, when the cell gap of the light scattering type liquid crystal device is reduced, the scattering intensity is lowered and good optical characteristics cannot be obtained.

光学ヒステリシスを低減させるための対策として、調光層内の液晶滴径の平均を15μm以上とする手法が提案されている(例えば特許文献1参照)。しかし該手法では、光散乱型液晶デバイスのセルギャップが15μm以下の場合には実施不可能であった。またこの手法は、明確な液晶滴が存在しないポリマーネットワーク型液晶には適用できなかった。さらに、このように液晶滴径が大きくなると、ポリマーマトリックスと液晶液滴の界面が少なくなるために、散乱強度の低下や応答速度の低下を避けることができなかった。
また、ポリマーマトリックス中の液晶滴径を、基板界面とポリマーマトリックス内部で変化させることによって電気光学特性の急峻性を調整し、光学ヒステリシスの低減及び駆動電圧の低減の両者を図る提案もなされている(例えば特許文献2)。この方法は、各液晶液滴個々には光学ヒステリシスが存在することを容認したものであり、印加電圧−透過率変化挙動が異なる液晶液滴を共存させ急峻性を最適範囲とすることで、光学ヒステリシス低減を図ったものである。しかしこの方法は、光学ヒステリシスを液晶液滴単位で低減することはできないため、低減効果は十分ではなかった。
As a measure for reducing the optical hysteresis, a method has been proposed in which the average liquid crystal droplet diameter in the light control layer is 15 μm or more (see, for example, Patent Document 1). However, this method cannot be carried out when the cell gap of the light scattering type liquid crystal device is 15 μm or less. In addition, this method cannot be applied to polymer network type liquid crystal having no clear liquid crystal droplets. Further, when the liquid crystal droplet diameter is increased in this way, the interface between the polymer matrix and the liquid crystal droplets is reduced, so that it is impossible to avoid a decrease in scattering intensity and a decrease in response speed.
In addition, proposals have been made to adjust the steepness of the electro-optical characteristics by changing the liquid crystal droplet diameter in the polymer matrix between the substrate interface and the inside of the polymer matrix, thereby reducing both the optical hysteresis and the driving voltage. (For example, patent document 2). This method accepts the existence of optical hysteresis in each liquid crystal droplet. By applying liquid crystal droplets with different applied voltage-transmittance change behavior and making the steepness within the optimum range, This is intended to reduce hysteresis. However, since this method cannot reduce the optical hysteresis in units of liquid crystal droplets, the reduction effect is not sufficient.

また、使用する液晶分子の配向状態をバイポーラ配向とする提案もなされている。かかる提案では、液晶組成物の構成成分として分子長軸に対する側方位置に極性基を有する分子を用いる(例えば特許文献3)、あるいは、重合性組成物と液晶組成物とを相分離させた状態で重合性組成物を紫外線硬化させる、即ち調光層を形成する際の紫外線照射強度を制御して、基板と高分子分散型液晶との界面近傍を除く領域に位置する液晶滴をほぼ同一の形状と大きさとして、電圧無印加時における液晶滴内の液晶分子の配向形態をバイポーラ型とする(例えば特許文献4)、といった手段がとられている。
しかしながら、特許文献3のように、分子長軸方向に対する側方位置に極性基を有する液晶分子を液晶組成物中に含有させると、駆動電圧が上昇するという問題点があった。これを解消するために該デバイスのセルギャップを小さくしたり、液晶滴径を大きくすると、散乱強度が低下してしまう。また特許文献4においては紫外線照射強度が非常に強い条件であり、該紫外線により液晶分子が劣化してしまうといった問題があった。
さらにこれらの提案は、液晶滴内で液晶分子が水平に配向したバイポーラ配向状態を得ることを目的としているが、バイポーラ配向状態が得られたとしても依然として光学ヒステリシスが解消されない場合も数多く、光学ヒステリシスを効果的に低減できるようになったとは言い難い状況であった。
In addition, a proposal has been made that the alignment state of liquid crystal molecules to be used is bipolar alignment. In such a proposal, a molecule having a polar group at a lateral position with respect to the molecular long axis is used as a component of the liquid crystal composition (for example, Patent Document 3), or the polymerizable composition and the liquid crystal composition are phase-separated. In this case, the polymerizable composition is UV-cured, that is, the intensity of UV irradiation when forming the light control layer is controlled, and the liquid crystal droplets located in the region excluding the vicinity of the interface between the substrate and the polymer dispersed liquid crystal are almost the same. As the shape and size, a measure is taken such that the alignment form of the liquid crystal molecules in the liquid crystal droplet when no voltage is applied is a bipolar type (for example, Patent Document 4).
However, as in Patent Document 3, when a liquid crystal molecule having a polar group at a lateral position with respect to the molecular long axis direction is contained in the liquid crystal composition, there is a problem that the driving voltage increases. In order to solve this problem, if the cell gap of the device is reduced or the liquid crystal droplet diameter is increased, the scattering intensity is lowered. In Patent Document 4, the ultraviolet irradiation intensity is very strong, and there is a problem that liquid crystal molecules are deteriorated by the ultraviolet rays.
Furthermore, these proposals aim to obtain a bipolar alignment state in which liquid crystal molecules are horizontally aligned in the liquid crystal droplets, but even if the bipolar alignment state is obtained, there are many cases where the optical hysteresis is still not resolved. It was difficult to say that it has become possible to effectively reduce this.

特開平11−344693号公報JP-A-11-344663 特開2000−137213号公報JP 2000-137213 A 特開平10−195445号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-195445 特開平10−232387号公報JP-A-10-232387

本発明の課題は、光学ヒステリシスを本質的に低減すること、即ち、単位セルギャップ当たりの光学ヒステリシス、特に階調表示に重要な中間調域におけるHS50が小さい光散乱型液晶デバイスを提供することである。(以下、単位セルギャップ当たりの光学ヒステリシスを、単に光学ヒステリシスと略す。また、単位セルギャップ(μm)当たりのHS50(mV)をHS50/d(mV/μm)と略す。)   An object of the present invention is to provide a light-scattering liquid crystal device in which the optical hysteresis per unit cell gap is essentially reduced, that is, a light scattering type liquid crystal device having a low HS50 in a halftone region important for gradation display. is there. (Hereinafter, the optical hysteresis per unit cell gap is simply abbreviated as optical hysteresis. HS50 (mV) per unit cell gap (μm) is abbreviated as HS50 / d (mV / μm).)

本発明者らは、上記課題を解決するために、まず光学ヒステリシスが発生する原因について鋭意検討した。
高分子化合物中に液晶を分散させた高分子分散型液晶表示デバイスにおいては、電圧無印加状態−(電圧印加過程)−印加状態−(電圧降下過程)−無印加状態の各状態における光散乱の強弱により表示を行なう。これらの状態および過程を説明すると、
1)電圧無印加状態
液晶分子は電圧無印加状態では、平均的にはあらゆる方向を向いているポリマーの主鎖または側鎖との相互作用により、あらゆる方向に対して平均的に配向している、所謂ランダムな配向をしている。このため、光散乱状態となる。
2)電圧印加過程
電圧無印加状態に電圧が印加されると、液晶分子はポリマーの主鎖または側鎖との相互作用を振り払って電界方向に配列しようとする。
この際、液晶−ポリマーの相互作用が強いと電圧−光透過率曲線は高電圧側にシフトする。
3)電圧降下過程
電界により電界方向に配列している液晶分子に対して、電界強度を弱める、または無印加にすると、液晶とポリマーの相互作用によるエネルギー安定化状態に戻ろうとする。
この際、液晶−ポリマーの相互作用が強いと安定化状態への戻りが促進され、電圧−光透過率曲線は高電圧側にシフトする。
一方、この相互作用が弱いと安定化状態への戻りが遅くなり、電圧−光透過率曲線は低電圧側にシフトする。
In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have intensively studied the cause of the occurrence of optical hysteresis.
In a polymer dispersion type liquid crystal display device in which liquid crystal is dispersed in a polymer compound, light scattering in each state of no voltage application state- (voltage application process) -application state- (voltage drop process) -no application state Display by strength. Explaining these states and processes:
1) No-voltage application state In the no-voltage application state, liquid crystal molecules are averagely oriented in all directions by interaction with the main chain or side chain of the polymer that is oriented in any direction on the average. , So-called random orientation. For this reason, it will be in a light-scattering state.
2) Voltage application process When a voltage is applied in the state where no voltage is applied, the liquid crystal molecules attempt to align in the direction of the electric field by shaking off the interaction with the main chain or side chain of the polymer.
At this time, if the liquid crystal-polymer interaction is strong, the voltage-light transmittance curve shifts to the high voltage side.
3) Voltage drop process When the electric field strength is weakened or no application is applied to the liquid crystal molecules arranged in the electric field direction by an electric field, the liquid crystal molecules attempt to return to an energy stabilized state due to the interaction between the liquid crystal and the polymer.
At this time, if the liquid crystal-polymer interaction is strong, the return to the stabilized state is promoted, and the voltage-light transmittance curve is shifted to the high voltage side.
On the other hand, when this interaction is weak, the return to the stabilized state is delayed, and the voltage-light transmittance curve is shifted to the low voltage side.

このように、電圧−透過率曲線は、液晶分子とポリマーとの相互作用の大きさによりシフトすることがわかる。
このため、高分子分散型液晶表示デバイスを電気光学素子として利用する際の光学ヒステリシスは、液晶分子とポリマーの相互作用を制御することにより、電圧印加過程と電圧降下過程での電圧−光透過率曲線を一致させることにより低減させることができることがわかった。この考えの基づき多くの液晶分子とポリマー(特に側鎖型ポリマー)の組み合わせについて、電圧印加過程と電圧降下過程の電圧−光透過率曲線および光学ヒステリシスを測定して検討した結果、
1)液晶分子とポリマーの相互作用の大きさの平均値と、
2)液晶分子とポリマーの相互作用の大きさの不均一度とを
制御することによりヒステリシスを低減できることを見出した。
これらの知見により下記1)〜3)の指針に基づく発明を行い、本発明を完成するに至った。
1)液晶と強く相互作用が起こる主鎖領域と側鎖領域とを混在させる。
2)相互作用は全体の内の限られた少ない領域で、強い相互作用をしている方が好ましい。(立ち上がりには、大きな束縛にはならないが、立下りには、トリガーとして働く)
3)しかし、全体としての液晶とポリマーとの相互作用は、あまり大きくない。
(複数ある相互作用が相殺しているような状態が好ましい)
すなわち、液晶相と接するポリマー界面において、液晶分子に対して主鎖が強いアンカリング力がある部分と側鎖が強いアンカリング力がある部分が混在しており、前記の強いアンカリングを有する部分のポリマー全体に対する比率が特定の比率以下であり、ポリマー界面全体の平均としては主鎖若しくは側鎖のアンカリング力がバランスをとられているように、側鎖型ポリマーとして使用するラジカル重合性組成物をラジカル重合性化合物の特定の組み合わせとすることで、上記課題を解決した。
Thus, it can be seen that the voltage-transmittance curve shifts depending on the magnitude of the interaction between the liquid crystal molecules and the polymer.
For this reason, the optical hysteresis when using a polymer-dispersed liquid crystal display device as an electro-optic element is controlled by the interaction between the liquid crystal molecules and the polymer. It was found that this can be reduced by matching the curves. Based on this idea, we examined the voltage-light transmittance curve and optical hysteresis of voltage application process and voltage drop process for many combinations of liquid crystal molecules and polymers (especially side chain polymers),
1) The average value of the interaction between the liquid crystal molecules and the polymer,
2) It has been found that the hysteresis can be reduced by controlling the degree of non-uniformity of the interaction between the liquid crystal molecules and the polymer.
Based on these findings, the inventors have made an invention based on the following guidelines 1) to 3) to complete the present invention.
1) A main chain region and a side chain region in which strong interaction with liquid crystal occurs are mixed.
2) It is preferable that the interaction has a strong interaction in a limited and small region of the whole. (It does not become a big restraint at the start, but acts as a trigger at the fall)
3) However, the interaction between the liquid crystal and the polymer as a whole is not so great.
(It is preferable that multiple interactions cancel each other.)
That is, at the polymer interface in contact with the liquid crystal phase, a portion having a strong anchoring force on the liquid crystal molecules and a portion having a strong anchoring force on the side chain are mixed, and the portion having the strong anchoring described above Is a radically polymerizable composition used as a side chain polymer so that the anchoring force of the main chain or side chain is balanced as an average of the entire polymer interface. The said subject was solved by making a thing into the specific combination of a radically polymerizable compound.

即ち、本発明は、ラジカル重合性組成物及び液晶組成物を含有する調光層形成材料を重合させて得た調光層を有する光散乱型液晶デバイスにおいて、前記ラジカル重合性組成物が、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を少なくとも1種含む組成物であり、且つ、数式(1)および数式(3)を同時に満たすことを特徴とする光散乱型液晶デバイスを提供する。 That is, the present invention relates to a light-scattering liquid crystal device having a light control layer obtained by polymerizing a light control layer-forming material containing a radical polymerizable composition and a liquid crystal composition. There is provided a light scattering liquid crystal device which is a composition containing at least one radical polymerizable compound represented by the formula (1) and satisfies the formulas (1) and (3) at the same time.

Figure 2006045416

(1)
Figure 2006045416

(1)

(式中、Rは炭素原子数3〜40のアルキル基を表す。但し、該アルキル基中の炭素原子は、
a)酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよく、
b)置換基として炭素原子数1〜15のアルキル基を有していても良い。
(In the formula, R represents an alkyl group having 3 to 40 carbon atoms, provided that the carbon atom in the alkyl group is
a) Oxygen atoms are not directly bonded to each other and are replaced by —O—, —CO—O—, —OCO—, —NHCO—O—, —OCONH—, or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms. You may,
b) You may have a C1-C15 alkyl group as a substituent.

は、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は、アルキレン基(但し、該アルキレン基中の炭素原子は、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、炭素原子数6〜12の脂環基、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよい)で表され、Aが結合する2つの炭素原子間結合を辿ったときに含まれる結合数Na1が3〜40である連結基を表し、Aは、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は、アルキレン基(但し、該アルキレン基中の炭素原子は、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、炭素原子数6〜12の脂環基、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよい)を表し、
は、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、アルキレン基、アルキルトリイル基、又はアルキルテトライル基(但し、該アルキレン基、該アルキルトリイル基、又は該アルキルテトライル基中の炭素原子は、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、炭素原子数6〜12の脂環基、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよい)を表し、
−A−A−A−に含まれる結合数Na2が3〜40である連結基を表す。
A 1 represents —O—, —CO—O—, —OCO—, —NHCO—O—, —OCONH—, or an alkylene group (provided that the oxygen atom is directly bonded to the carbon atom in the alkylene group). -O-, -CO-O-, -OCO-, -NHCO-O-, -OCONH-, an alicyclic group having 6 to 12 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms And the number of bonds N a1 included when following a bond between two carbon atoms to which A 1 is bonded is 3 to 40, and A 2 is- O-, -CO-O-, -OCO-, -NHCO-O-, -OCONH-, or an alkylene group (provided that oxygen atoms are not directly bonded to each other in carbon atoms in the alkylene group) -O-, -CO-O-, -OCO-, -NHCO-O -, -OCONH-, an alicyclic group having 6 to 12 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms).
A 3 represents —O—, —CO—O—, —OCO—, —NHCO—O—, —OCONH—, an alkylene group, an alkyltriyl group, or an alkyltetrayl group (provided that the alkylene group, the alkyl The carbon atom in the triyl group or the alkyltetrayl group is defined as —O—, —CO—O—, —OCO—, —NHCO—O—, —OCONH—, in which oxygen atoms are not directly bonded to each other. , Which may be substituted with an alicyclic group having 6 to 12 carbon atoms or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms),
-A 2 -A 3 -A 2 - bond number N a2 contained in represents a linking group which is 3 to 40.

を表す。
は水素原子又はメチル基を表し、Bは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、複数あるR、A、A、A、B、及びBは、同じであってもよく、異なっていて良い。mは2〜4の整数を表す。)
Represents.
B 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, B 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a plurality of R, A 1 , A 2 , A 3 , B 1 and B 2 are the same May be different. m represents an integer of 2 to 4. )

Figure 2006045416
(1)
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Figure 2006045416
(3)

(数式(1)において、Δαは、前記ラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物から導き出された複数のαの、最大値α(αmax)と最小値α(αmin)の差を表し、αは、数式(2)から導き出される値を表す。数式(2)において、NR1R2は、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物において、隣接する2つのRをR及びRとしたとき、及び、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が重合反応することにより形成される、隣接する2つのRをR及びRとしたときの、RおよびRが結合している炭素原子の間にある結合数を表す。NR1及びNR2は、RおよびRが結合している炭素原子からRおよびRの末端の炭素原子までの結合を辿ったときに含まれる結合の数を表す。但し、RおよびRが置換基を有する場合は、もっとも原子数の多い末端の炭素原子までの結合に含まれる結合数をNR1及びNR2とする。また、先端の原子が水素原子である場合はこれを数えない。Σ(αi×βi)は、前記ラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物から導き出された複数のαiに対して、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を含むラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物間の反応性がすべて同じと仮定した際に得られるαiの出現確率βiを乗じた、所謂期待値を、該重合体のすべてのαiに対して和した、理論値を表す。但し、B2とRを取り替えても前記定義を満たす場合は、前記結合数の多い方をRとする。) (In Formula (1), Δα represents a difference between a maximum value α (αmax) and a minimum value α (αmin) of a plurality of α derived from the radical polymerizable compound contained in the radical polymerizable composition, α represents a value derived from Formula (2) In Formula (2), N R1R2 represents two adjacent Rs in R 1 and R in the radical polymerizable compound represented by Formula (1). when a 2, and, the general radical-polymerizable compound represented by (1) is formed by the polymerization reaction, when two adjacent R and R 1 and R 2, R 1 and Represents the number of bonds between the carbon atoms to which R 2 is bonded N R1 and N R2 are from the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded to the terminal carbon atom of R 1 and R 2 Represents the number of bonds included when following a bond. And, if R 1 and R 2 has a substituent, the more distal most atomic number bond number in the join until carbon atoms and N R1 and N R2. The atomic tip are hydrogen atoms In some cases, this is not counted.Σ (αi × βi) is a radical represented by the general formula (1) with respect to a plurality of αi derived from the radically polymerizable compound contained in the radically polymerizable composition. The so-called expected value obtained by multiplying the appearance probability βi of αi obtained on the assumption that all the reactivity between the radically polymerizable compounds contained in the radically polymerizable composition containing the polymerizable compound is the same, Represents the theoretical value summed with respect to αi in the above formula, provided that the above definition is satisfied even if B2 and R are replaced, R is the one with the larger number of bonds.)

本発明によれば、光学ヒステリシスが本質的に小さく、焼き付きが起こりにくく、階調表示性能が高い光散乱型液晶デバイスを提供することができる。
具体的には、HS50/dを20(mV/μm)以下とすることができる。更に、HS50/dを10(mV/μm)とすることで、高階調度の表示を行うことも可能である。
According to the present invention, it is possible to provide a light-scattering liquid crystal device having an essentially small optical hysteresis, hardly causing image sticking, and high gradation display performance.
Specifically, HS50 / d can be set to 20 (mV / μm) or less. Furthermore, by setting HS50 / d to 10 (mV / μm), it is possible to perform display with high gradation.

(一般式(1))
前記一般式(1)において、Rは下記一般式(2)
(General formula (1))
In the general formula (1), R represents the following general formula (2)

Figure 2006045416
(2)
Figure 2006045416
(2)

で表される基であることが好ましい。
一般式(2)中、Vは単結合、又は炭素原子数1〜5のアルキレン基を表す。中でも、単結合又は炭素原子数1のメチレン基が好ましい。
は単結合、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、又は−OCONH−を表す。中でも、−O−、−CO−O−、又は−OCO−が好ましい。
It is preferable that it is group represented by these.
In general formula (2), V represents a single bond or an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. Among these, a single bond or a methylene group having 1 carbon atom is preferable.
X 1 represents a single bond, —O—, —CO—O—, —OCO—, —NHCO—O—, or —OCONH—. Among these, -O-, -CO-O-, or -OCO- is preferable.

Wは炭素原子数3〜30のアルキル基をあらわす。また、該アルキル基は、置換基として、炭素原子数1〜15であり、且つWを構成する炭素原子数と同じ又は少ない数のアルキル基を有していてもよい。
W及びWの置換基に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていても良い。
Wは、具体的には、ノルマルヘキシル基、2−エチルヘキシル基、ノルマルオクチル基、ノルマルウンデシル基、ノルマルトリデシル基、ノルマルテトラデシル基、ノルマルオクタデシル基、2−n−ヘプチルノニル基、イソミリスチル基、2−エチルヘキシル基、ブトキシエチル基、ヘキシロキシエチル基、ノルマルブトキシエトキシメチル基、シクロヘキシル基、ポリエチレングリコールモノエーテル基、4−ノニルフェニレン基、4−オクチルシクロヘキシル基等があげられる。中でも、炭素数6〜20のアルキル基が好ましく、更に、アルキル基が直鎖アルキル基の場合は、炭素数7〜14の直鎖アルキル基がより好ましい、アルキル鎖が分岐鎖の場合は、炭素数9〜18の分岐アルキル基がより好ましい。
Wが、例えば、ノルマルウンデシル基、ノルマルトリデシル基等の炭素数6〜20の直鎖アルキル基であると、より低電圧で駆動可能な液晶デバイスを得ることができる。また。Wが、例えば、2−ノルマルヘプチル−ノニル基等の分岐アルキル基であると、駆動電圧の温度による変化の少ない液晶デバイスを得ることができる。
W represents an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms. In addition, the alkyl group may have an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms and the same or less number of carbon atoms constituting W as a substituent.
One or two or more methylene groups present in the substituents of W and W are optionally independently of one another, as those in which oxygen atoms are not directly bonded to each other, -O- or 6 to 6 carbon atoms It may be replaced by 12 arylene groups.
Specifically, W is a normal hexyl group, a 2-ethylhexyl group, a normal octyl group, a normal undecyl group, a normal tridecyl group, a normal tetradecyl group, a normal octadecyl group, a 2-n-heptylnonyl group, and an isomyostil group. 2-ethylhexyl group, butoxyethyl group, hexyloxyethyl group, normal butoxyethoxymethyl group, cyclohexyl group, polyethylene glycol monoether group, 4-nonylphenylene group, 4-octylcyclohexyl group and the like. Among them, an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms is preferable. Further, when the alkyl group is a linear alkyl group, a linear alkyl group having 7 to 14 carbon atoms is more preferable. When the alkyl chain is branched, carbon is used. A branched alkyl group of several 9 to 18 is more preferable.
When W is, for example, a linear alkyl group having 6 to 20 carbon atoms such as a normal undecyl group or a normal tridecyl group, a liquid crystal device that can be driven at a lower voltage can be obtained. Also. When W is, for example, a branched alkyl group such as a 2-normal heptyl-nonyl group, it is possible to obtain a liquid crystal device with little change in drive voltage temperature.

前記一般式(1)において、Aが結合する2つの炭素原子間結合を辿った時に含まれる結合数Na1は、多すぎると一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物の重合速度が低下するため充分なネットワークが形成されず光散乱が弱くなってしまう。このためNa1は3〜20がより好ましく、3〜7が最も好ましい。
具体的には、−O−CH−、−O−CH−CH−CO−O−CH−、−O−CH−CHO−、又は−O−CH−CH(CH)O−が好ましい。
また、Aは、具体的には−CH−O−、−CH−OCO−、−CH−CO−O−又は−CH−が好ましい。
Polymerization rate of the above general formula (1), A bond number contained when 1 followed the bond between two carbon atoms bonded N a1 a radical polymerizable compound represented too large by the general formula (1) As a result, a sufficient network cannot be formed and light scattering becomes weak. Therefore N a1 is more preferably 3 to 20, 3 to 7 being most preferred.
Specifically, -O-CH 2 -, - O-CH 2 -CH 2 -CO-O-CH 2 -, - O-CH 2 -CH 2 O-, or -O-CH 2 -CH (CH 3 ) O- is preferred.
A 2 is specifically preferably —CH 2 —O—, —CH 2 —OCO—, —CH 2 —CO—O— or —CH 2 —.

前記一般式(1)において、Aは、mが2のときは、炭素数2〜30のアルキレン基(但し、該基中に存在し、Aと直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)、炭素数6〜18のアリーレン基、炭素数3〜10のシクロアルキレン基、又は、−Y−R−Y− (但し、Yはアリーレン基又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基を表し、Rは単結合又は炭素数1〜15のアルキレン基(但し、アルキレン基中に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−で置き換えられていても良い)を表す。)を表す。mが3のときは、炭素数2〜30のアルキルトリイル基(但し、該基中に存在し、Aと直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)を表す。mが4のときは、炭素数2〜30のアルキルテトライル基(但し、該基中に存在し、Aと直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)であることが好ましい。また、Aは、原子数3以上の側鎖を有さないことが好ましい。 In the general formula (1), when m is 2, A 3 is an alkylene group having 2 to 30 carbon atoms (provided that one or two or more alkylene groups present in the group and not directly bonded to A 2 are present). In some cases, the methylene groups may be replaced with —O—, an arylene group, or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms, independently of one another so that oxygen atoms are not directly bonded to each other. , An arylene group having 6 to 18 carbon atoms, a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms, or —Y—R 4 —Y— (wherein Y represents an arylene group or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms, R 4 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms (provided that one or two or more methylene groups present in the alkylene group may be independently of each other, and oxygen atoms may be directly Shall not be combined Represents a represents a good) be replaced by -O-.). When m is 3, an alkyltriyl group having 2 to 30 carbon atoms (provided that one or two or more methylene groups present in the group and not directly bonded to A 2 may be mutually independent depending on the case. And an oxygen atom that is not directly bonded to each other may be replaced by —O—, an arylene group, or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms. When m is 4, an alkyltetrayl group having 2 to 30 carbon atoms (provided that one or two or more methylene groups present in the group and not directly bonded to A 2 may be mutually independent depending on the case. In addition, it is preferable that the oxygen atoms are not directly bonded to each other, and may be replaced by —O—, an arylene group, or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms. A 3 preferably does not have a side chain having 3 or more atoms.

前記Aの、mが2のときの具体例としては、ブチレン基、ヘキシレン基、オクタメチレン基、7,12−ジメチルオクタデシレン基、7−エチルヘキサデシレン基、2,2’−ジメチル−プロピレン基、繰り返し数が2〜10のポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、ポリオキシブチレン基、ポリオキシテトラメチレン基、シクロヘキシレン基、ビフェニレンジイル基、 Specific examples of A 3 when m is 2 include butylene, hexylene, octamethylene, 7,12-dimethyloctadecylene, 7-ethylhexadecylene, 2,2′-dimethyl. A propylene group, a polyoxyethylene group having a repeating number of 2 to 10, a polyoxypropylene group, a polyoxybutylene group, a polyoxytetramethylene group, a cyclohexylene group, a biphenylenediyl group,

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(上記基中、p及びqは各々独立して1〜4の整数を表し、rは1〜3の整数を表す)等の基が挙げられる。
また、前記Aの、mが3のときの具体例としては、
(In the above group, p and q each independently represents an integer of 1 to 4, and r represents an integer of 1 to 3).
Moreover, as a specific example when m is 3 in A 3 ,

Figure 2006045416
Figure 2006045416

Figure 2006045416
Figure 2006045416

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(上記基中、s及びtは各々独立して1〜2の整数を表す)等の基が挙げられる。
また、前記Aの、mが4のときの具体例としては、
(In the above group, s and t each independently represents an integer of 1 to 2).
Also, the A 3, as a specific example of when m is 4,

Figure 2006045416
Figure 2006045416

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(上記基中、uは1〜2の整数を表す)等の基が挙げられる。
一般式(1)においてmは2であるとなお好ましい。また、その場合におけるRの好ましい例としては、Vがメチレン基、Xが−O−、−CO−O−、又は−OCO−、Wが炭素数2〜30のアルキレン基の組み合わせが最も好ましい。
(In the above group, u represents an integer of 1 to 2).
In the general formula (1), m is more preferably 2. Further, as a preferable example of R in that case, a combination of V is a methylene group, X 1 is —O—, —CO—O—, or —OCO—, and W is an alkylene group having 2 to 30 carbon atoms is most preferable. .

また、−A−A−A−に含まれる最小の結合数Na2が少なすぎると隣接する側鎖間の空間的干渉が非常に大きくなるため、側鎖の運動性が極端に低下する。この結果ポリマーの結晶性が高まり、低温における光散乱型液晶デバイスの駆動電圧が高くなるという問題が発生する。また、Na2が多すぎると一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物の重合速度が低下するため充分なネットワークが形成されず光散乱が弱くなってしまう。このためNa2の値は4〜35がより好ましく、6〜30がさらに好ましく、8〜25が最も好ましい。 Further, -A 2 -A 3 -A 2 - for spatial interference between side chains and the adjacent minimum binding number N a2 contained is too small, very large, extremely reduced motility of the side chain To do. As a result, there is a problem that the crystallinity of the polymer is increased and the driving voltage of the light scattering type liquid crystal device at a low temperature is increased. On the other hand, if the amount of Na2 is too large, the polymerization rate of the radical polymerizable compound represented by the general formula (1) is lowered, so that a sufficient network is not formed and light scattering is weakened. The value of the order N a2 is more preferably 4 to 35, more preferably 6 to 30, most preferably 8 to 25.

前記一般式(1)において、Bは水素原子又はメチル基を表す。中でも水素原子であることが、反応性の高さや合成のしやすさから特に好ましい。
は前記一般式(1)と同じ基であり、具体的には、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ノルマルブチル基、ノルマルペンチル基等の炭素数1〜5のアルキル基を表す。なお、Bがアルキル基の場合、該炭素原子数は、前記Rの炭素原子数と同等であるかそれ未満である。
の部位に炭素数1〜5のアルキル基を導入することにより、0℃以下の極低温でも前記一般式(2)における−V−X−Wで表される基の運動性を保つことができる。更に、Bを炭素原子数1〜5のアルキル基とすることにより、前記Wが分岐アルキル基でも低駆動電圧化が図れる。従って、より低駆動電圧で、且つ、低温域における駆動電圧の上昇の少ない光散乱型液晶デバイスを得ることができる。Bの炭素数が5よりも大きくなるとアクリル基の重合性を阻害する恐れがある。
In the general formula (1), B 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Among these, a hydrogen atom is particularly preferable because of its high reactivity and ease of synthesis.
B 2 is the same group as the general formula (1), specifically, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a normal butyl group, or a normal pentyl group. To express. When B 2 is an alkyl group, the number of carbon atoms is equal to or less than the number of carbon atoms of R.
By introducing an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms into the B 2 site, the mobility of the group represented by —VX 1 —W in the general formula (2) is maintained even at an extremely low temperature of 0 ° C. or lower. be able to. Further, by using B 2 as an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a low driving voltage can be achieved even when W is a branched alkyl group. Accordingly, it is possible to obtain a light-scattering liquid crystal device with a lower driving voltage and less increase in driving voltage in a low temperature range. The number of carbon atoms of B 2 is larger than 5 since it may inhibit the polymerization of acrylic groups.

一般式(1)において、複数あるR、A、A、A、B、及びBは、同じであってもよく、異なっていて良い。 In general formula (1), a plurality of R, A 1 , A 2 , A 3 , B 1 , and B 2 may be the same or different.

また、一般式(1)のラジカル重合性化合物は、Tetrahedoron Letters,Vol.30,pp4985、Tetrahedoron Letters,Vol.23,No6,pp681−684、及び、Journal of Polymer Science:PartA:Polymer Chemistry,Vol.34,pp217−225等の公知の方法で合成することができる。
例えば、一般式(1)において、Bが水素であるラジカル重合性化合物は、エポキシ基を複数有する化合物と、エポキシ基と反応し得る活性水素を有するラジカル重合性化合物とを反応させ、水酸基を有するラジカル重合性化合物を合成し、次に、飽和脂肪酸とを反応させることにより得ることができる。
例えば、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が下記化合物の場合は
In addition, the radical polymerizable compound of the general formula (1) is disclosed in Tetrahedoron Letters, Vol. 30, pp 4985, Tetrahedron Letters, Vol. 23, No. 6, pp 681-684, and Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 34, pp217-225 and the like.
For example, in the general formula (1), the radically polymerizable compound in which B 1 is hydrogen is obtained by reacting a compound having a plurality of epoxy groups with a radically polymerizable compound having active hydrogen capable of reacting with the epoxy group. It can be obtained by synthesizing a radically polymerizable compound having it and then reacting with a saturated fatty acid.
For example, when the radical polymerizable compound represented by the general formula (1) is the following compound:

Figure 2006045416
Figure 2006045416

1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルとアクリル酸とを、トリフェニルフォスフィンやN,N−ジメチルベンジルアミンの存在下、80〜120℃で反応させて、水酸基を有するラジカル重合性化合物を合成し、次に、水酸基を有するラジカル重合性化合物とラウリル酸をジシクロヘキシルカルボジイミドなどの脱水剤を用いたエステル化反応により得ることができる。   1,6-hexanediol diglycidyl ether and acrylic acid are reacted at 80 to 120 ° C. in the presence of triphenylphosphine or N, N-dimethylbenzylamine to synthesize a radical polymerizable compound having a hydroxyl group. Next, a radically polymerizable compound having a hydroxyl group and lauric acid can be obtained by an esterification reaction using a dehydrating agent such as dicyclohexylcarbodiimide.

更に、複数のエポキシ基を有する化合物と飽和脂肪酸とを反応させ、水酸基を有する化合物を合成し、次に水酸基と反応し得る基を有するラジカル重合性化合物とを反応させることにより得ることができる。
例えば、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が下記式(1−1)で表される化合物の場合は、
Furthermore, it can be obtained by reacting a compound having a plurality of epoxy groups with a saturated fatty acid to synthesize a compound having a hydroxyl group, and then reacting with a radical polymerizable compound having a group capable of reacting with a hydroxyl group.
For example, when the radically polymerizable compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following formula (1-1),

Figure 2006045416
(1−1)
Figure 2006045416
(1-1)

1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルと酪酸とをトリフェニルフォスフィンやN,N−ジメチルベンジルアミンの存在下80〜120℃で反応させて、水酸基を有するラジカル重合性化合物を合成し、次に、アクリル酸塩化物をトリエチルアミンの存在下で反応させることにより得ることができる。   1,6-hexanediol diglycidyl ether and butyric acid are reacted at 80 to 120 ° C. in the presence of triphenylphosphine or N, N-dimethylbenzylamine to synthesize a radically polymerizable compound having a hydroxyl group, Can be obtained by reacting acryloyl chloride in the presence of triethylamine.

またラジカル重合性化合物が、例えば、一般式(1)のBがアルキル基であり、一般式(2)のVが炭素原子数1であるメチレン基である場合は、オキセタン基を複数有する化合物と、オキセタン基と反応し得る脂肪酸塩化物や脂肪酸とを反応させ、更に、アクリル酸などの活性水素を有する重合性化合物とを反応させる方法や、オキセタン基を一つ有する化合物と、オキセタン基と反応し得る多価の脂肪酸塩化物や脂肪酸とを反応させ、更に、アクリル酸などの活性水素を有する重合性化合物とを反応させる方法等により得ることができる。
また、一般式(2)のVが炭素原子数4であるブチレン基の場合は、オキセタン基の代わりにフラン基を複数有する化合物を用いることにより得ることができる。更に、一般式(2)のVが炭素原子数5であるペンチレン基の場合は、オキセタン基の代わりにピラン基を複数有する化合物を用いることにより得ることができる。
In addition, when the radical polymerizable compound is, for example, B 1 in the general formula (1) is an alkyl group and V in the general formula (2) is a methylene group having 1 carbon atom, a compound having a plurality of oxetane groups A fatty acid chloride or a fatty acid capable of reacting with an oxetane group, and further reacting with a polymerizable compound having active hydrogen such as acrylic acid, a compound having one oxetane group, and an oxetane group It can be obtained by a method of reacting a polyvalent fatty acid chloride or a fatty acid capable of reacting with a polymerizable compound having active hydrogen such as acrylic acid.
Further, when V in the general formula (2) is a butylene group having 4 carbon atoms, it can be obtained by using a compound having a plurality of furan groups instead of the oxetane group. Furthermore, when V in the general formula (2) is a pentylene group having 5 carbon atoms, it can be obtained by using a compound having a plurality of pyran groups instead of an oxetane group.

例えば、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が下記式(1−2)で表される化合物の場合は、   For example, when the radical polymerizable compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following formula (1-2),

Figure 2006045416
(1−2)
Figure 2006045416
(1-2)

1,6−ヘキサンジオールのスルホン酸エステルと3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタンを水酸化ナトリウムの存在下で反応させることにより3,3’−(1,6−ヘキサンジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)を得ることができる。更にこの2官能のジオキセタン化合物とカプリン酸クロリドとをヨウ化ナトリウム、アセトニトリルの存在下、0℃で反応させ炭素数C9のメチレン鎖を有するヨード化合物を得る。次に、生成したヨード化合物とアクリル酸を1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−ウンデセン−7の存在下でジメチルスルオキシドを溶媒に用い、90℃で12時間反応させることにより目的物を得ることができる。   By reacting 1,6-hexanediol sulfonate with 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane in the presence of sodium hydroxide, 3,3 ′-(1,6-hexanediylbis (oxymethylene)) Bis- (3-ethyloxetane) can be obtained. Further, this bifunctional dioxetane compound and capric acid chloride are reacted at 0 ° C. in the presence of sodium iodide and acetonitrile to obtain an iodo compound having a C9 methylene chain. Next, the resulting iodo compound and acrylic acid are reacted in the presence of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -undecene-7 using dimethyl sulfoxide as a solvent at 90 ° C. for 12 hours. Can be obtained.

また、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が下記式(1−3)で表される化合物の場合は、   Moreover, when the radically polymerizable compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following formula (1-3),

Figure 2006045416

(1−3)
Figure 2006045416

(1-3)

ラウリルアルコールのスルホン酸エステルと3−エチル−3ヒドロキシメチルオキセタンを水酸化ナトリウムの存在下で反応させることにより3−エチル−3−ドデシルオキシオキセタンを得ることができる。更にこのオキセタン化合物とセバシン酸クロリドとをヨウ化ナトリウム、アセトニトリルの存在下、0℃で反応させ炭素数C11のメチレン鎖を有するヨード化合物を得る。次に、生成したヨード化合物とアクリル酸を1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−ウンデセン−7の存在下でジメチルスルオキシドを溶媒に用い、90℃、12時間反応させることにより目的物を得ることができる。   3-Ethyl-3-dodecyloxyoxetane can be obtained by reacting sulfonic acid ester of lauryl alcohol with 3-ethyl-3hydroxymethyloxetane in the presence of sodium hydroxide. Further, this oxetane compound and sebacic acid chloride are reacted at 0 ° C. in the presence of sodium iodide and acetonitrile to obtain an iodo compound having a C11 methylene chain. Next, the resulting iodo compound and acrylic acid are reacted in the presence of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -undecene-7 using dimethyl sulfoxide as a solvent at 90 ° C. for 12 hours. Can be obtained.

前記オキセタン基を有する化合物は、ハロゲン化合物とオキセタンアルコールとの反応、カルボン酸とオキセタンアルコールとの反応、アルコールとオキセタンアルコールのスルホン酸エステルとの反応、アルコールとオキセタンを有するハロゲン化合物との反応、ジメチロール化合物と炭酸ジメチルとの反応、等により得ることができる。アルコールとしては、1,6−ヘキサンジオール以外に、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリプロピレングリコール、ダイマー酸ジオール、シクロヘキサンジメタノール、トリメチロールプロパン、エチレンオキサイド変性ビスフェノール、デカノール、ドデカノール、ウンデカノール、等が挙げられる。カルボン酸としては、セバシン酸、アジピン酸、イタコン酸、長鎖二塩基酸、ダイマー酸、カプリル酸、ラウリル酸、ステアリン酸、ミリスチン酸、イソミリスチン酸、パルミチン酸、ウンデカン酸等が挙げられる。ハロゲン化合物としては、1,6−ジブロモヘキサン、1,4−ジブロモブタン、1−クロロヘキサン、1−クロロデカン等が挙げられる。   The compound having an oxetane group includes a reaction between a halogen compound and oxetane alcohol, a reaction between carboxylic acid and oxetane alcohol, a reaction between alcohol and a sulfonate ester of oxetane alcohol, a reaction between alcohol and a halogen compound having oxetane, dimethylol. It can be obtained by a reaction between a compound and dimethyl carbonate, or the like. In addition to 1,6-hexanediol, 1,4-butanediol, neopentyl glycol, polypropylene glycol, dimer acid diol, cyclohexanedimethanol, trimethylolpropane, ethylene oxide modified bisphenol, decanol, dodecanol, undecanol, Etc. Examples of the carboxylic acid include sebacic acid, adipic acid, itaconic acid, long-chain dibasic acid, dimer acid, caprylic acid, lauric acid, stearic acid, myristic acid, isomyristic acid, palmitic acid, and undecanoic acid. Examples of the halogen compound include 1,6-dibromohexane, 1,4-dibromobutane, 1-chlorohexane, 1-chlorodecane and the like.

オキセタン基と反応し得る脂肪酸塩化物や脂肪酸としては、カプリン酸クロリド以外に、カプリル酸クロリド、ラウリル酸クロリド、ステアリン酸クロリド、ミリスチン酸クロリド、イソミリスチン酸クロリド、パルミチン酸クロリド、ウンデカン酸クロリド、カプリル酸、ラウリル酸、ステアリン酸、ミリスチン酸、イソミリスチン酸、パルミチン酸、ウンデカン酸、セバシン酸、アジピン酸、ダイマー酸、イタコン酸、セバシン酸、アジピン酸、イタコン酸等を使用することができる。   Fatty acid chlorides and fatty acids that can react with oxetane groups include caprylic chloride, caprylic chloride, lauric chloride, stearic chloride, myristic acid chloride, isomyristic acid chloride, palmitic acid chloride, undecanoic acid chloride, and capryl. Acid, lauric acid, stearic acid, myristic acid, isomyristic acid, palmitic acid, undecanoic acid, sebacic acid, adipic acid, dimer acid, itaconic acid, sebacic acid, adipic acid, itaconic acid and the like can be used.

前記活性水素を有するラジカル重合性化合物としては、アクリル酸以外に、例えば、メタクリル酸、アクリル酸ダイマー、メタクリル酸ダイマー、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート等を使用することができる。また、オキセタンと脂肪酸との反応の場合は、アクリル酸塩化物、メタクリル酸塩化物、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等を使用することができる。   As the radically polymerizable compound having active hydrogen, in addition to acrylic acid, for example, methacrylic acid, acrylic acid dimer, methacrylic acid dimer, hydroxyethyl acrylate, hydroxypropyl acrylate, and the like can be used. In the case of a reaction between oxetane and a fatty acid, acrylated chloride, methacrylated chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, or the like can be used.

また、オキセタンアルコールの合成方法としては、例えば特開平11−012261号公報、特開平9−71545号公報等の公知の方法で合成することができる。具体的には、トリメチロールアルカンとジメチルカーボネートとを反応させる方法等により得ることができる。
例えばオキセタンアルコールが下記化合物の場合は、
Further, as a method for synthesizing oxetane alcohol, it can be synthesized by a known method such as JP-A-11-012611 and JP-A-9-71545. Specifically, it can be obtained by a method of reacting trimethylolalkane and dimethyl carbonate.
For example, when oxetane alcohol is the following compound:

Figure 2006045416
Figure 2006045416

メチルターシャリーブチルエーテル中にヘキサナールとパラホルムアルデヒドとを水酸化ナトリウムの存在下で反応させ、トリメチロールブタンを合成する。更に、トリメチロールブタンと炭酸ジメチルを炭酸カリウムの存在下で反応させ、副生するメタノールを除去してカーボネート化を行った後に、200℃に加熱して脱炭酸することにより合成することができる。   Trimethylolbutane is synthesized by reacting hexanal and paraformaldehyde in methyl tertiary butyl ether in the presence of sodium hydroxide. Furthermore, it can be synthesized by reacting trimethylolbutane and dimethyl carbonate in the presence of potassium carbonate, removing methanol as a by-product and performing carbonation, followed by heating to 200 ° C. and decarboxylation.

また、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が、例えば下記式(1−4)で表される化合物の場合は、   Moreover, when the radically polymerizable compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following formula (1-4), for example,

Figure 2006045416
(1−4)
Figure 2006045416
(1-4)

ジブチル−1,3−プロパンジオールとアクリル酸クロリドをトリエチルアミンの存在下で反応させ、更にこの生成物とセバシン酸とを1−エチル−3−(3′−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩とジメチルアミノピリジンの存在下で塩化メチレン中に室温で8時間反応させることにより得ることができる。 Dibutyl-1,3-propanediol and acrylic acid chloride are reacted in the presence of triethylamine, and this product and sebacic acid are further reacted with 1-ethyl-3- (3'-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride and dimethylamino. It can be obtained by reacting in methylene chloride for 8 hours at room temperature in the presence of pyridine.

本発明で使用する一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物の具体例としては、例えば、特開平6−32761号公報、特開平11−029527号公報に記載のような化合物が挙げられる。   Specific examples of the radical polymerizable compound represented by the general formula (1) used in the present invention include compounds as described in JP-A-6-32761 and JP-A-11-029527. .

本発明で使用するラジカル重合性組成物は、上記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を少なくとも1種使用し、且つ、数式(1)及び数式(3)を同時に満たすように、モノマーを選択する。   The radically polymerizable composition used in the present invention uses at least one radically polymerizable compound represented by the above general formula (1) and simultaneously satisfies the mathematical formulas (1) and (3). Select monomer.

Figure 2006045416
(1)
Figure 2006045416
(1)

Figure 2006045416

(2)
Figure 2006045416

(2)

Figure 2006045416
(3)
Figure 2006045416
(3)

数式(2)において、αは、ポリマー界面における主鎖または側鎖のアンカリング力の程度を示す指標を表す。
図5に示すように、NR1R2は、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物において、隣接する2つのRをR及びRとしたとき、及び、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が重合反応することにより形成される、隣接する2つのRをR及びRとしたときの、RおよびRが結合している炭素原子の間にある結合数を表す。また、NR1及びNR2は、RおよびRが結合している炭素原子からRおよびRの末端の炭素原子までの結合を辿ったときに含まれる結合の数を表す。(但し、RおよびRが置換基を有する場合は、もっとも原子数の多い末端の炭素原子までの結合に含まれる結合数をNR1及びNR2とする。また、先端の原子が水素原子である場合はこれを数えない。)
In Formula (2), α represents an index indicating the degree of anchoring force of the main chain or side chain at the polymer interface.
As shown in FIG. 5, N R1R2 is a radical-polymerizable compound represented by the general formula (1), when two adjacent Rs are R 1 and R 2 , and the general formula (1) in the radical polymerizable compound represented is formed by the polymerization reaction, when two adjacent R and R 1 and R 2, is between the carbon atoms to which R 1 and R 2 are attached Represents the number of bonds. N R1 and N R2 represent the number of bonds included when following the bond from the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded to the terminal carbon atom of R 1 and R 2 . (However, when R 1 and R 2 have a substituent, the number of bonds included in the bond up to the terminal carbon atom having the largest number of atoms is N R1 and N R2 . If not, don't count this.)

これらの数値は次のように決定する。
R1、NR2:側鎖の付け根から先端までの側鎖骨格を形成する結合の数を数える。ただし先端の原子が水素原子である場合はこれを数えない。なお、本発明においてこの値が3未満の場合は側鎖とみなさない。
R1R2:R、R二本の側鎖間に挟まれた主鎖骨格を形成する結合の数を数える。
例えば図5の場合では、NR1=10、NR2=7、NR1R2=8であり、α=8−{(10−1)+(7−1)}/2=0.5 である。
These numbers are determined as follows.
N R1 , N R2 : Count the number of bonds that form the side chain skeleton from the base of the side chain to the tip. However, this is not counted when the atom at the tip is a hydrogen atom. In the present invention, when this value is less than 3, it is not regarded as a side chain.
N R1R2 : Counts the number of bonds that form the main chain skeleton sandwiched between the two side chains of R 1 and R 2 .
For example, in the case of FIG. 5, N R1 = 10, N R2 = 7, N R1R2 = 8, and α = 8 − {(10−1) + (7-1)} / 2 = 0.5.

例えば、仮にポリマーマトリックスが、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物1種のみで形成されたと考えると、NR1R2は、−A−A−A−の結合数、及び、−A−CO−CB(CHZ)−CH−CBZ−CO−A−の結合数となる(式中Zは隣接主鎖との連結基、又は二重結合と反応した後の重合開始剤を表す)。
具体的には、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が下記式(1−5)で表される化合物であり、該ラジカル重合性化合物のみでポリマーマトリックスが形成された場合、NR1R2の、−A−A−A−は、25であり、−A−CO−CB(CHZ)−CH−CBZ−CO−A−は、10である。
For example, assuming that the polymer matrix is formed of only one kind of the radical polymerizable compound represented by the general formula (1), N R1R2 has the number of bonds of -A 2 -A 3 -A 2- , and , —A 1 —CO—CB 1 (CH 2 Z) —CH 2 —CB 1 Z—CO—A 1 —, wherein Z is a linking group with a neighboring main chain or a double bond Represents the polymerization initiator after the reaction).
Specifically, when the radical polymerizable compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the following formula (1-5), and a polymer matrix is formed only by the radical polymerizable compound, of N R1R2, -A 2 -A 3 -A 2 - is 25, -A 1 -CO-CB 1 (CH 2 Z) -CH 2 -CB 1 Z-CO-a 1 - is a 10 is there.

Figure 2006045416

(1−5)
Figure 2006045416

(1-5)

また、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が、前記式(1−5)で表される化合物、及び下記式(1−6)で表される化合物であり、該2種のラジカル重合性化合物でポリマーマトリックスが形成された場合、NR1R2の、−A−A−A−は、25と8であり、
−A−CO−CB(CHZ)−CH−CBZ−CO−Aは、10である。
Moreover, the radically polymerizable compound represented by the general formula (1) is a compound represented by the formula (1-5) and a compound represented by the following formula (1-6). when the polymer matrix of radical-polymerizable compound is formed, the N R1R2, -A 2 -A 3 -A 2 - is a 25 and 8,
-A 1 -CO-CB 1 (CH 2 Z) -CH 2 -CB 1 Z-CO-A 1 is 10.

Figure 2006045416
(1−6)
Figure 2006045416
(1-6)

定義から明らかなように、隣接するR、Rの二本の側鎖が側鎖間長の結合数に比べて小さくなるとαの値は増加し、逆に隣接するR、R二本の側鎖が側鎖間長の結合数に比べて大きくなるとαの値は減少する。同じく定義から明らかなように、αはポリマーマトリックスあるいはポリマーネットワーク中の任意の微小部分における側鎖長と側鎖間長の関係を示したものである。
ポリマー界面におけるアンカリング力はポリマー界面を形成するポリマー鎖の側鎖長と側鎖間長の関係と強い相関がある。すなわち、側鎖長に比べて側鎖間長が長くなると主鎖のアンカリング力が増大し、側鎖長に比べて側鎖間長が短くなると逆に主鎖のアンカリング力が減少する。さらに側鎖長に比べて側鎖間長が短くなるとその部分は側鎖のアンカリング力を有するようになり、その傾向がさらに顕著になるにつれ側鎖のアンカリング力が増大する。これは側鎖間すなわち主鎖の運動性は低く、側鎖の運動性は一般的にこれよりも著しく高いことに起因している。液晶分子は運動性の低い主鎖に対して水平に配向しやすい。従って液晶バルクからポリマー界面を見て、ポリマー主鎖が露出していればその部分に液晶分子が水平配向することになる。しかしながら、運動性の高い側鎖が存在するとその排除体積効果の及ぶ範囲では、液晶分子は主鎖に接近することができず主鎖に対して水平配向することができない。側鎖の排除体積効果の及ぶ範囲は側鎖長に比例しているため、側鎖長に比べて側鎖間長が長ければ長いほどすなわちαの値が正で大きいほどその部分は液晶分子に対する主鎖の水平アンカリング力が強いことになる。一方、側鎖長が隣接する側鎖間長よりも長くなるとその排除体積効果は側鎖間全体に及び、該側鎖間の主鎖の水平アンカリング力を完全に奪ってしまう。さらに側鎖長が側鎖間長よりも長くなると、次第に隣接する側鎖同士が空間的に干渉するようになり、その立体障害により両方の側鎖の運動性が損なわれる。この立体障害の程度が強まると側鎖はポリマー界面に対して垂直に立った運動性の低い状態に変化する。液晶分子はこの状態となった側鎖に対して平行に配向し、側鎖に対する水平アンカリングが強くなる。この配向は実質的には、ポリマー主鎖に対しては垂直配向することになる。すなわちαの値が負で大きいほど液晶分子と側鎖との水平アンカリングが強くなり、言い換えれば主鎖に対する垂直アンカリング力が強いことになる。
As is clear from the definition, the value of α increases when the two side chains of adjacent R 1 and R 2 become smaller than the number of bonds between the side chains, and conversely the adjacent R 1 and R 2 two When the side chain of the book becomes larger than the number of bonds between the side chains, the value of α decreases. As is clear from the definition, α indicates the relationship between the side chain length and the side chain length in an arbitrary minute portion in the polymer matrix or polymer network.
The anchoring force at the polymer interface has a strong correlation with the relationship between the side chain length of the polymer chain forming the polymer interface and the length between the side chains. That is, the anchoring force of the main chain increases as the length between the side chains becomes longer than the side chain length, and the anchoring force of the main chain decreases when the length between the side chains becomes shorter than the side chain length. Further, when the length between the side chains becomes shorter than the side chain length, the portion has the anchoring force of the side chain, and the anchoring force of the side chain increases as the tendency becomes more prominent. This is due to the fact that the mobility between the side chains, that is, the main chain is low, and the mobility of the side chain is generally significantly higher than this. The liquid crystal molecules are easily aligned horizontally with respect to the main chain having low mobility. Accordingly, when the polymer main chain is exposed when the polymer interface is viewed from the liquid crystal bulk, the liquid crystal molecules are horizontally aligned at that portion. However, if a side chain with high mobility exists, the liquid crystal molecules cannot approach the main chain and cannot be aligned horizontally with respect to the main chain within the range of the excluded volume effect. Since the range covered by the excluded volume effect of the side chain is proportional to the side chain length, the longer the inter-chain length compared to the side chain length, that is, the greater the value of α is, the larger the portion is relative to the liquid crystal molecules. The horizontal anchoring force of the main chain is strong. On the other hand, when the side chain length is longer than the length between adjacent side chains, the excluded volume effect extends over the entire side chain and completely deprives the horizontal anchoring force of the main chain between the side chains. Further, when the side chain length becomes longer than the inter-chain length, adjacent side chains gradually interfere with each other and the steric hindrance impairs the mobility of both side chains. As the degree of steric hindrance increases, the side chain changes to a state of low mobility standing perpendicular to the polymer interface. The liquid crystal molecules are aligned in parallel with the side chain in this state, and the horizontal anchoring with respect to the side chain becomes strong. This orientation is substantially perpendicular to the polymer backbone. That is, as the value of α is negative and larger, the horizontal anchoring between the liquid crystal molecules and the side chains becomes stronger, in other words, the vertical anchoring force with respect to the main chain becomes stronger.

なお、αの定義においてR、Rの各側鎖長の数値から−1しているのは、側鎖の付け根の結合は主鎖に対して垂直方向を向いていることから、排除体積効果によって主鎖を液晶分子から覆い隠すことに寄与しないため、この分を差し引いたものである。 In addition, in the definition of α, the value of the side chain length of R 1 and R 2 is −1 because the bond at the base of the side chain is oriented in the vertical direction with respect to the main chain. Since this does not contribute to obscuring the main chain from the liquid crystal molecules due to the effect, this amount is subtracted.

一方、数式(1)は、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を少なくとも1種含むラジカル重合性組成物から導き出された複数のαの、最大値α(αmax)と最小値α(αmin)の差を表す。
Δαが大きければ大きいほど光学ヒステリシスの低減効果が高くなる。Δαが大きいほどαが正で大きいか、負で大きいかとなるため、主鎖に対する水平アンカリング力の強い部分(αが正で大きい場合)または、側鎖に対する水平アンカリング力の強い部分(αが負で大きい場合)を導入できることになるから、電圧降過程における液晶分子が垂直配向状態から水平配向状態に戻る反応を鋭くすることができるためである。
On the other hand, the numerical formula (1) is a maximum value α (αmax) and a minimum value α of a plurality of α derived from a radical polymerizable composition containing at least one radical polymerizable compound represented by the general formula (1). This represents the difference in (αmin).
The larger Δα is, the higher the effect of reducing optical hysteresis is. As αα is larger, α is positive or large or negative and large. Therefore, a portion with a strong horizontal anchoring force on the main chain (when α is positive and large) or a portion with a strong horizontal anchoring force on the side chain (α This is because the reaction of the liquid crystal molecules returning from the vertical alignment state to the horizontal alignment state in the voltage drop process can be sharpened.

本発明の光散乱型液晶デバイスにおいては、主鎖に対して水平アンカリング力を有する部分のαは正の値、側鎖に対して水平アンカリング力を有する部分(主鎖に対して垂直アンカリング力を有する部分)のαは負の値を示す。ポリマーマトリックスあるいはポリマーネットワーク全体でこれらの主鎖に対して水平アンカリング力を有する部分と垂直アンカリング力を有する部分をどのような比率で存在させるかは光学ヒステリシスを低減させる上で重要である。両者のバランスが悪いと前記した光学ヒステリシス発生要因である電圧−光透過率曲線が電圧印加過程と電圧降下過程で異なった方向にシフトし、光学ヒステリシスが大きくなるからである。その指標が数式(3)である。
数式(3)において、Σ(αi×βi)は、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を少なくとも1種含むラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物から導き出された複数のαiに対して、ラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物間の反応性がすべて同じと仮定した際に得られるαiの出現確率βiを乗じた、所謂期待値を、該重合体のすべてのαiに対して和した、理論値を表す。
出現確率βiは、以下の式(9)により導き出される。
In the light scattering type liquid crystal device of the present invention, α of the portion having the horizontal anchoring force with respect to the main chain is a positive value, and the portion having the horizontal anchoring force with respect to the side chain (the vertical anchor with respect to the main chain) Α of the portion having a ring force indicates a negative value. It is important to reduce the optical hysteresis in the ratio of the portion having the horizontal anchoring force and the portion having the vertical anchoring force with respect to the main chain in the entire polymer matrix or polymer network. If the balance between the two is poor, the voltage-light transmittance curve, which is the cause of the optical hysteresis, shifts in different directions in the voltage application process and the voltage drop process, and the optical hysteresis increases. The index is Equation (3).
In Formula (3), Σ (αi × βi) is a plurality of radically polymerizable compounds derived from a radically polymerizable compound contained in a radically polymerizable composition containing at least one radically polymerizable compound represented by the general formula (1). The so-called expected value obtained by multiplying αi by the appearance probability βi of αi obtained on the assumption that the reactivity between radically polymerizable compounds contained in the radical polymerizable composition is all the same is obtained for all of the polymers. Represents the theoretical value of the sum of αi.
The appearance probability βi is derived by the following equation (9).

Figure 2006045416
(9)
Figure 2006045416
(9)

式中、xiは、ポリマーマトリックスあるいはポリマーネットワーク全体の中に存在する全ての側鎖間のうち、αの値がαiである側鎖間の数の合計値を表す。またyは、ポリマーマトリックスあるいはポリマーネットワーク全体の中にある全ての側鎖間数を表す。異なる構造を持つにも関わらずαの値が同一である側鎖間パターンが複数ある場合は、これらのβiを個々に計算しても良いし、αの値が同一の側鎖間パターンをひとまとめにしてβiを求めても良い。   In the formula, xi represents the total value of the numbers between the side chains having the value of αi among all the side chains existing in the polymer matrix or the entire polymer network. Y represents the number of all side chains in the entire polymer matrix or polymer network. If there are multiple inter-chain patterns with the same α value despite having different structures, these β i values may be calculated individually, or the inter-chain patterns with the same α value may be grouped together. Then, βi may be obtained.

以下具体例を挙げてΔα、Σ(αi×βi)の計算方法を説明する。例えばラジカル重合性化合物として下記式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物と下記式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物を混合させて使用し、その混合比率が、式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物が20mol%、式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物が80mol%であるラジカル重合性組成物を使用する場合を考える。説明上下記のように、式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物の主鎖骨格を側鎖Rが結合した炭素の箇所で区切り、A部分〜C部分の3つの部分に分ける。同様に下記のように式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物の化合物の主鎖骨格を側鎖Rが結合した炭素の箇所で区切り、D部分〜F部分の3つの部分に分ける。   Hereinafter, a method for calculating Δα and Σ (αi × βi) will be described with specific examples. For example, a radical polymerizable compound represented by the following formula (1-7) and a radical polymerizable compound represented by the following formula (1-8) are mixed and used as the radical polymerizable compound, and the mixing ratio is represented by the formula Consider a case in which a radical polymerizable composition in which the radical polymerizable compound represented by (1-7) is 20 mol% and the radical polymerizable compound represented by formula (1-8) is 80 mol% is used. As described below, the main chain skeleton of the radically polymerizable compound represented by the formula (1-7) is divided at the carbon portion to which the side chain R is bonded, and is divided into three parts A part to C part. Similarly, the main chain skeleton of the compound of the radical polymerizable compound represented by the formula (1-8) as shown below is divided at the carbon portion to which the side chain R is bonded, and is divided into three parts, D part to F part. .

Figure 2006045416
(1−7)
Figure 2006045416
(1-7)

Figure 2006045416
(1−8)
Figure 2006045416
(1-8)

式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物と式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物を混合して重合させることにより、重合体中には以下ア)〜シ)の側鎖間パターンが生成しうる。
ア)A部分とA部分が結合して生成する側鎖間
イ)A部分とC部分が結合して生成する側鎖間
ウ)A部分とD部分が結合して生成する側鎖間
エ)A部分とF部分が結合して生成する側鎖間
オ)C部分とC部分が結合して生成する側鎖間
カ)C部分とD部分が結合して生成する側鎖間
キ)C部分とF部分が結合して生成する側鎖間
ク)D部分とD部分が結合して生成する側鎖間
ケ)D部分とF部分が結合して生成する側鎖間
コ)F部分とF部分が結合して生成する側鎖間
サ)B部分
シ)E部分
By mixing and polymerizing the radically polymerizable compound represented by the formula (1-7) and the radically polymerizable compound represented by the formula (1-8), in the polymer, An inter-chain pattern can be generated.
A) Between side chains generated by combining A and A parts a) Between side chains generated by combining A and C parts c) Between side chains generated by combining A and D parts A) between the side chains formed by combining the A part and the F part, e) between the side chains generated by combining the C part and the C part, and c) between the side chains generated by combining the C part and the D part. Between the side chains formed by combining the F part with the F part) and between the side chains formed by combining the D part and the D part. Side chain between parts formed by binding) B part ii) E part

式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物のA部分とC部分は同一構造であり、式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物のD部分とF部分は同一構造であるから、上記ア)〜シ)は下記1)〜5)のようにまとめることができる。
1)AまたはC部分と、AまたはC部分が結合して生成する側鎖間、即ち、ア)、イ)、オ)
2)AまたはC部分と、DまたはF部分が結合して生成する側鎖間、即ちウ)、エ)、カ)、キ)
3)DまたはF部分と、DまたはF部分が結合して生成する側鎖間即ちク)、ケ)、コ)
4)B部分即ちサ)
5)E部分即ちシ)
上記1)〜5)の側鎖間パターンについてそれぞれαを計算すると表1のようになる。
The A part and the C part of the radical polymerizable compound represented by the formula (1-7) have the same structure, and the D part and the F part of the radical polymerizable compound represented by the formula (1-8) have the same structure. Therefore, the above a) to ii) can be summarized as the following 1) to 5).
1) Between the A or C part and the side chain formed by combining the A or C part, that is, a), i), o)
2) Between the side chains formed by combining the A or C moiety and the D or F moiety, ie, c), d), f), g)
3) D or F part and the side chain formed by combining D or F part.
4) Part B, ie)
5) Part E, ie)
When α is calculated for the inter-chain patterns 1) to 5) above, Table 1 is obtained.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

このとき、αの最大値は側鎖間パターン4)の8である。αの最小値は側鎖間パターン3)と5)の−3である。従ってΔα=8−(−3)=11となる。 At this time, the maximum value of α is 8 in the inter-chain pattern 4). The minimum value of α is −3 between the side chain patterns 3) and 5). Therefore, Δα = 8 − (− 3) = 11.

各側鎖間パターンの出現確率βiは次のようにして求める。
ラジカル重合性化合物全体に占める式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物のモル分率は0.2である。同様に式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物のモル分率は0.8である。式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物一個に含まれるA〜C部分の数はそれぞれ一個づつである。式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物一個に含まれるD〜F部分の数はそれぞれ一個づつである。従ってラジカル重合性化合物全体のモル数をγとするとその中に存在するA〜F部分のモル数は表2のようになる。
The appearance probability βi of each inter-chain pattern is obtained as follows.
The molar fraction of the radically polymerizable compound represented by the formula (1-7) in the entire radically polymerizable compound is 0.2. Similarly, the molar fraction of the radically polymerizable compound represented by the formula (1-8) is 0.8. The number of A to C moieties contained in one radical polymerizable compound represented by formula (1-7) is one by one. The number of D to F moieties contained in one radical polymerizable compound represented by formula (1-8) is one by one. Therefore, when the number of moles of the whole radical polymerizable compound is γ, the number of moles of the A to F portions present therein is as shown in Table 2.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

式(1−7)で表されるラジカル重合性化合物と式(1−8)で表されるラジカル重合性化合物の重合速度が同じであり、重合により生成する1)〜3)の側鎖間の数が重合体の末端の数よりも充分に多いとすると、表2から重合後に存在する上記1)〜5)の側鎖間パターンのモル数は下のように計算される。
1)0.4γ×0.4γ/(0.4γ+1.6γ)=0.08γ
3)1.6γ×1.6γ/(0.4γ+1.6γ)=1.28γ
2)上記1)と3)の結果を使って以下のように計算する。
(0.4γ+1.6γ)−(0.08γ+1.28γ)=0.64γ
4)0.2γ
5)0.8γ
計算結果を下記表3にまとめる。
The polymerization rate of the radically polymerizable compound represented by the formula (1-7) and the radically polymerizable compound represented by the formula (1-8) is the same, and the side chains between 1) to 3) produced by polymerization Assuming that the number of is sufficiently larger than the number of terminals of the polymer, the number of moles of the inter-chain patterns of the above 1) to 5) existing after polymerization is calculated from Table 2 as follows.
1) 0.4γ × 0.4γ / (0.4γ + 1.6γ) = 0.08γ
3) 1.6γ × 1.6γ / (0.4γ + 1.6γ) = 1.28γ
2) Using the results of 1) and 3) above, calculate as follows.
(0.4γ + 1.6γ) − (0.08γ + 1.28γ) = 0.64γ
4) 0.2γ
5) 0.8γ
The calculation results are summarized in Table 3 below.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

前述したようにβiは下記数式(9)から求める。 As described above, βi is obtained from the following formula (9).

Figure 2006045416
(9)
Figure 2006045416
(9)

(上式(9)中、xiはαの値がαiである側鎖間の数の合計値、yはポリマーマトリックスまたはポリマーネットワーク全体の中に含まれる全ての側鎖間の数の合計値。) (In the above formula (9), xi is the total value of the numbers between the side chains in which the value of α is αi, and y is the total value of the numbers between all the side chains included in the entire polymer matrix or polymer network. )

側鎖間パターン3)と5)はαが同じであるが、ここではそれぞれ分けてβiを求める。(βiの算出の際このようにαの値が同一であって構造が異なった側鎖間パターンが複数ある場合、それらのβiを個々に計算しても良いし、αの値が同一である側鎖間パターンをひとまとめにして計算しても良い。)すると側鎖間パターン1)〜5)のxiはそれぞれ表3の計算結果の通りとなる。yはこれらの合計値であるから
y=0.08γ+0.64γ+1.28γ+0.2γ+0.8γ=3γ
となる。表3に示したxiと上記yの計算結果を数式(9)に代入することによって、側鎖間パターン1)〜5)のβiは表4のように計算される。
In the inter-chain patterns 3) and 5), α is the same, but here βi is obtained separately. (When βi is calculated, when there are a plurality of inter-chain patterns having the same α value and different structures, βi may be calculated individually or the α values are the same. The inter-chain patterns may be calculated together.) Then, the xi of the inter-chain patterns 1) to 5) are as shown in the calculation results in Table 3, respectively. Since y is the sum of these values, y = 0.08γ + 0.64γ + 1.28γ + 0.2γ + 0.8γ = 3γ
It becomes. By substituting the calculation results of xi and y shown in Table 3 into Equation (9), βi of the inter-chain patterns 1) to 5) is calculated as shown in Table 4.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

側鎖間パターン1)〜5)のαiは表1に示したαの値のとおりである。これと表4のβi計算結果から各側鎖間パターンの(αi×βi)を計算すると表5のようになる。   Αi in the inter-chain patterns 1) to 5) are as shown in Table 1. From this and the βi calculation result of Table 4, (αi × βi) of each inter-chain pattern is calculated as shown in Table 5.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

Σ(αi×βi)は、表5の側鎖間パターン1)〜5)の(αi×βi)を全て合計することによって計算される。この場合は下記のようになる。
Σ(αi×βi)=0.081+0−1.281+0.536−0.801
=−1.465
Σ (αi × βi) is calculated by summing all (αi × βi) of the inter-chain patterns 1) to 5) in Table 5. In this case:
Σ (αi × βi) = 0.081 + 0−1.281 + 0.536−0.801
= -1.465

このようにして得られたΣ(αi×βi)が数式(3)を満たす、即ち、−3.16以上、2.00以下となるように光散乱型液晶デバイスを製造すれば、光学ヒステリシスを小さくすることができる。言い換えると、前記数式(2)及び(3)は、光学ヒステレシスを低減する方法の指標とすることができ、前記数式(2)及び(3)を同時に満たすように前記ラジカル重合性組成物を調整する方法は、光学ヒステリシスの小さい光散乱型液晶デバイスを得る方法として有用である。
具体的には、Δαが5以上であって、(α×β)合計が−3.16以上、2.00以下になるようにすれば、HS50/dを20(mV/μm)以下にすることができる。
さらに、上記条件で、Δαを12以上とすると、HS50/dを10(mV/μm)以下にすることができる。
Σ(αi×βi)は、中でも、−1.79以上、2.00以下の範囲とすることが好ましく、より光学ヒステリシスを低減することができる。
If a light scattering type liquid crystal device is manufactured such that Σ (αi × βi) obtained in this way satisfies the formula (3), that is, −3.16 or more and 2.00 or less, the optical hysteresis is reduced. Can be small. In other words, the mathematical formulas (2) and (3) can be used as an index of a method for reducing optical hysteresis, and the radical polymerizable composition is adjusted to satisfy the mathematical formulas (2) and (3) at the same time. This method is useful as a method for obtaining a light-scattering liquid crystal device with small optical hysteresis.
Specifically, if Δα is 5 or more and (α × β) total is −3.16 or more and 2.00 or less, HS50 / d is 20 (mV / μm) or less. be able to.
Furthermore, when Δα is 12 or more under the above conditions, HS50 / d can be 10 (mV / μm) or less.
In particular, Σ (αi × βi) is preferably in the range of −1.79 or more and 2.00 or less, and the optical hysteresis can be further reduced.

本発明においては、Δαの値は大きければ大きいほど光学ヒステリシス低減効果が高くなるため好ましい。しかしながら側鎖長が骨格を形成する結合数(先端の水素原子は含まない)にして20以上になると低温環境において光散乱型液晶デバイスの駆動電圧が上昇しやすくなる。従って、この低温駆動電圧の観点から側鎖長は19以下とすることが好ましく、17以下とすることが最も好ましい。それに伴って実際上選択できるαの値には好ましい下限がある。また、側鎖間長を長くすることは架橋点間長を長くすることにもなっている。架橋点間長が長くなりすぎると重合速度が極端に低下し、最悪の場合相分離しなくなるため、あまり長くしすぎることはできない。このような観点から側鎖間長は35以下とすることが好ましい。このため実際上選択できるαの値には好ましい上限がある。   In the present invention, the larger the value of Δα, the better the effect of reducing optical hysteresis. However, when the side chain length is 20 or more as the number of bonds forming the skeleton (excluding the hydrogen atom at the tip), the driving voltage of the light scattering liquid crystal device tends to increase in a low temperature environment. Therefore, from the viewpoint of this low temperature driving voltage, the side chain length is preferably 19 or less, and most preferably 17 or less. Accordingly, there is a preferable lower limit for the value of α that can be actually selected. In addition, increasing the length between side chains also increases the length between cross-linking points. If the length between cross-linking points is too long, the polymerization rate is extremely lowered, and in the worst case, phase separation is not achieved, so that it cannot be made too long. From such a viewpoint, the length between side chains is preferably 35 or less. For this reason, there is a preferred upper limit for the value of α that can be selected in practice.

本発明において、前記数式(1)〜(3)を満たすことで、何故光学ヒステレシスが低減できるかを推定した。
上記上記数式(1)〜(3)を満たすことは、主鎖に対するアンカリング又は側鎖に対するアンカリングが大きい部分があるが、全体としての平均アンカリングは大きくないようにすることである。即ち、ポリマー界面の中でアンカリング力の分布を不均一にすることである。このような構成とする理由の一つとして、ポリマー界面全体でアンカリング力の分布が均一である場合、前述した光学ヒステリシス発生要因である電圧印加過程での電圧−光透過率曲線のシフトと電圧降下過程での電圧−光透過率曲線のシフトを最適化できないことが挙げられる。すなわち光学ヒステリシス発生要因である電圧印加過程と電圧降下過程での電圧−光透過率曲線のシフトを最適に制御するためには電圧印加過程ではポリマーの主鎖または側鎖に対する水平アンカリング力が一定の水準より弱く、電圧降下過程には上記水平アンカリング力が一定の水準より強いという相反する条件を満たさなければならない。
In the present invention, it was estimated why the optical hysteresis could be reduced by satisfying the mathematical expressions (1) to (3).
Satisfying the above mathematical formulas (1) to (3) is to prevent the average anchoring as a whole from being large although there is a portion where anchoring to the main chain or anchoring to the side chain is large. That is, making the anchoring force distribution non-uniform in the polymer interface. One reason for this configuration is that when the anchoring force distribution is uniform across the entire polymer interface, the shift of the voltage-light transmittance curve and the voltage during the voltage application process, which is the above-mentioned optical hysteresis generation factor, This is because the shift of the voltage-light transmittance curve in the descending process cannot be optimized. In other words, in order to optimally control the shift of the voltage-light transmittance curve during the voltage application process and the voltage drop process, which are the causes of optical hysteresis, the horizontal anchoring force on the polymer main chain or side chain is constant during the voltage application process. The conflicting condition that the horizontal anchoring force is stronger than a certain level must be satisfied in the voltage drop process.

本発明による光散乱型液晶デバイスは、ポリマー界面の中の限られた主鎖または側鎖の部分が強い水平アンカリング力を持つ。この限られた部分では、電圧印加により大半の液晶分子が主鎖または側鎖に対して垂直に立ち上がった後も、ポリマー界面近傍の液晶分子の水平配向性が維持される。このため電圧降下時にこの水平配向した液晶分子が他の大半の液晶分子をポリマー界面に対して水平に戻すトリガーとして働き、印加電圧−光透過率曲線が低電圧側にシフトすることを防ぐことにより、光学ヒステリシスの発生が抑制される。この強い水平アンカリング力を持つ部分の、ポリマー界面全体における存在比率は高くないため、この部分の水平アンカリング力が他の大半の液晶分子が昇電圧時に立ち上がることを妨げようとする束縛力として働くことは少ない。加えて、ポリマー界面の中には主鎖と側鎖(主鎖に対して垂直)に対するアンカリング力を持つ部分が混在するため、前記水平アンカリング力を持つ部分に接する液晶分子が電圧印加時に他の大半の液晶分子の立ち上がりを妨げようとする力は一層減じられる。このようにして本発明による光散乱型液晶デバイスでは前記光学ヒステリシスの電圧印加過程および電圧降下過程における電圧−光透過率曲線のシフトを最適に制御することができると考えられる。   In the light scattering type liquid crystal device according to the present invention, a limited main chain or side chain portion in the polymer interface has a strong horizontal anchoring force. In this limited portion, the horizontal alignment of the liquid crystal molecules in the vicinity of the polymer interface is maintained even after most of the liquid crystal molecules rise perpendicularly to the main chain or side chain by applying a voltage. Therefore, when the voltage drops, this horizontally aligned liquid crystal molecule acts as a trigger to return most of the other liquid crystal molecules to the polymer interface horizontally, thereby preventing the applied voltage-light transmittance curve from shifting to the low voltage side. The occurrence of optical hysteresis is suppressed. Since the portion with this strong horizontal anchoring force is not high in the entire polymer interface, the horizontal anchoring force in this portion is a binding force that prevents most other liquid crystal molecules from rising at the time of rising voltage. There is little work. In addition, since the polymer interface includes a portion having an anchoring force with respect to the main chain and the side chain (perpendicular to the main chain), liquid crystal molecules in contact with the portion having the horizontal anchoring force are applied when a voltage is applied. The force to block the rise of most other liquid crystal molecules is further reduced. Thus, in the light scattering type liquid crystal device according to the present invention, it is considered that the shift of the voltage-light transmittance curve in the voltage application process and the voltage drop process of the optical hysteresis can be optimally controlled.

本発明においては、調光層形成材料に使用するラジカル重合性組成物を、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を少なくとも1種含み、かつ、前記数式(1)〜(3)を満たすように、組成物を構成するラジカル重合性化合物を選択して得る。従って、この範囲であれば、若干の公知慣用のラジカル重合性化合物を共重合させることは問題ない。
ラジカル重合性化合物としては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ウレタンアクリレート、ポリテトラエチレングリコールジマレイミド等や、1,11−ジアクリロイルオキシ−2,10−ジドデカノイルオキシ−6,6−ジメチル−4,8−ジオキサウンデカン、1,14−ジアクリロイルオキシ−2,10−ジドデカノイルオキシ−4,11−ジオキサテトラデカン、1,14−ジアクリロイルオキシ−2,10−ジテトラデカノイルオキシ−4,11−ジオキサテトラデカン、1,14−ジアクリロイルオキシ−2,10−ジヘキサノイルオキシ−4,11−ジオキサテトラデカン、2,13−ジアクリロイルオキシ−1,14−[ジ(2−n−ヘプチルウンデカノイルオキシ)]−4,11−ジオキサテトラデカン、2,13−ジアクリロイルオキシエチル−1,14−ジエチル−1,14−ウンデカノイルオキシ−4,11−ジオキサテトラデカン、2,13−ジアクリロイルオキシエチル−1,14−ジメチル−1,14−ドデカノイルオキシ−4,11−ジオキサテトラデカン、13,22−ジアクリロイルオキシエチル−13,22−ジエチル−15−オキシカルボニル―20−カルボニルオキシ−11,24−ジオキサテトラトリアコンタン、等が挙げられる。これらのラジカル重合性化合物の配合率としては、一般式(1)のラジカル重合性化合物の合計量に対して、30%以下とすることが好ましく、20%以下とすることが最も好ましい。
In the present invention, the radical polymerizable composition used for the light control layer forming material contains at least one radical polymerizable compound represented by the general formula (1), and the mathematical formulas (1) to (3) The radical polymerizable compound constituting the composition is selected so as to satisfy the above). Therefore, within this range, there is no problem in copolymerizing some known and commonly used radical polymerizable compounds.
Examples of the radical polymerizable compound include ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isomyristyl (meth) acrylate, 1, 6-hexanediol di (meth) acrylate, dicyclopentenyl di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, urethane acrylate, polytetraethylene glycol dimaleimide, 1,11-diacryloyloxy-2,10 -Didodecanoyloxy-6,6-dimethyl-4,8-dioxaundecane, 1,14-diacryloyloxy-2,10-didodecanoyloxy-4,11-dioxatetradecane, 1,14-di Acryloyloki -2,10-ditetradecanoyloxy-4,11-dioxatetradecane, 1,14-diacryloyloxy-2,10-dihexanoyloxy-4,11-dioxatetradecane, 2,13-diacryloyl Oxy-1,14- [di (2-n-heptylundecanoyloxy)]-4,11-dioxatetradecane, 2,13-diacryloyloxyethyl-1,14-diethyl-1,14-undeca Noyloxy-4,11-dioxatetradecane, 2,13-diacryloyloxyethyl-1,14-dimethyl-1,14-dodecanoyloxy-4,11-dioxatetradecane, 13,22-diacryloyloxyethyl -13,22-diethyl-15-oxycarbonyl-20-carbonyloxy-11,24-dioxatetra Riakontan, and the like. The blending ratio of these radical polymerizable compounds is preferably 30% or less, and most preferably 20% or less, based on the total amount of the radical polymerizable compounds of the general formula (1).

また、重合させる際には、重合開始剤を使用するのが好ましい。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤やイオン重合触媒を使用できる。ラジカル重合開始剤としては、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、2−イソプロピルチオキサントン等のラジカル光重合開始剤や、ベンゾイルパーオキサイド、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル熱重合開始剤が挙げられる。またイオン重合触媒としては、三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム等のルイス酸、燐酸等のプロトン酸等のカチオン重合触媒、アルキルリチウム、グリニャール試薬等のアニオン重合触媒等が挙げられる。これらの重合開始剤の添加率はラジカル重合性化合物の全量に対し0.01〜10%が好ましく、1〜5%がより好ましい。   Moreover, when making it superpose | polymerize, it is preferable to use a polymerization initiator. As the polymerization initiator, a radical polymerization initiator or an ionic polymerization catalyst can be used. As radical polymerization initiators, radical photopolymerization initiators such as benzoin isopropyl ether, benzyldimethyl ketal and 2-isopropylthioxanthone, and radical thermal polymerization initiators such as benzoyl peroxide and 2,2′-azobisisobutyronitrile Is mentioned. Examples of the ion polymerization catalyst include cationic polymerization catalysts such as Lewis acids such as boron trifluoride and aluminum chloride, protonic acids such as phosphoric acid, and anionic polymerization catalysts such as alkyl lithium and Grignard reagents. The addition rate of these polymerization initiators is preferably 0.01 to 10%, more preferably 1 to 5%, based on the total amount of the radical polymerizable compound.

その他、必要に応じて酸化防止剤、紫外線吸収剤、非反応性のオリゴマーや無機充填剤、有機充填剤、重合禁止剤、消泡剤、レベリング剤、可塑剤、シランカップリング剤等を適宜、添加しても良い。   In addition, antioxidants, ultraviolet absorbers, non-reactive oligomers and inorganic fillers, organic fillers, polymerization inhibitors, antifoaming agents, leveling agents, plasticizers, silane coupling agents, etc. It may be added.

本発明で使用する液晶組成物は、液晶化合物としては通常この技術分野で液晶相と認識される相を示す化合物および組成物であり、中でも、液晶相としてネマチック液晶、コレステリック液晶、カイラルネマチック液晶を発現するものが好ましい。そのような液晶相を示すものとしては、例えば、安息香酸エステル系、シクロヘキサンカルボン酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン酸系、ピリミジン系、ピリジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、トラン系、アルケニル系、フルオロ系、シアノ系、ナフタレン系等の液晶化合物からなる組成物や、該液晶化合物を含有する組成物が挙げられる。   The liquid crystal composition used in the present invention is a compound or composition showing a phase normally recognized as a liquid crystal phase in this technical field as a liquid crystal compound. Among them, nematic liquid crystal, cholesteric liquid crystal, chiral nematic liquid crystal is used as the liquid crystal phase. What is expressed is preferred. Examples of such a liquid crystal phase include, for example, benzoic acid ester, cyclohexanecarboxylic acid ester, biphenyl, terphenyl, phenylcyclohexane, pyrimidine, pyridine, dioxane, cyclohexanecyclohexane ester, Examples thereof include a composition comprising a liquid crystal compound such as a tolan series, an alkenyl series, a fluoro series, a cyano series, or a naphthalene series, and a composition containing the liquid crystal compound.

中でも、下記に示した一般式(I−a)および(I−b)の液晶化合物を用いることにより、アクティブ素子にて駆動可能な高分子分散型液晶デバイスを得ることができる。
一般式(I-a)及び一般式(I-b)
Among these, by using the liquid crystal compounds of the general formulas (Ia) and (Ib) shown below, a polymer dispersed liquid crystal device that can be driven by an active element can be obtained.
General formula (Ia) and general formula (Ib)

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(式中、R11及びR12はそれぞれ独立して、炭素原子数1から10のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基を表し、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個又は2個以上のCH2基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子で置換されていてもよく、A11及びA12はそれぞれ独立して、1,4−フェニレン基又は1,4−シクロヘキシレン基を表し、該1,4−フェニレン基は非置換であるか又は置換基として1個又は2個以上のフッ素原子、塩素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基を有することができ、X11及びX17はそれぞれ独立して、フッ素原子、塩素原子、イソシアネート基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基又はジフルオロメトキシ基を表し、X12からX16及びX18からX22はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基を表し、Z11及びZ13はそれぞれ独立して、単結合又は−CH2−CH2−を表し、Z12及びZ14はそれぞれ独立して、単結合、−CH2−CH2−又は−CF2O−を表し、n11及びn12は0又は1を表す。)
更に一般式(I-c)とを併用することもできる。
(In the formula, each of R 11 and R 12 independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and one or more present in the alkyl group or alkenyl group or Two or more CH 2 groups may be substituted with oxygen atoms on the assumption that oxygen atoms are not directly bonded to each other, and A 11 and A 12 are each independently a 1,4-phenylene group or 1, Represents a 4-cyclohexylene group, the 1,4-phenylene group being unsubstituted or having one or more fluorine, chlorine, methyl, trifluoromethyl or trifluoromethoxy groups as substituents may have, each independently X 11 and X 17, a fluorine atom, a chlorine atom, an isocyanate group, a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group or a difluoromethoxy meth Represents a sheet group independently each X 22 is a X 16 and X 18 from X 12, a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a trifluoromethyl group or a trifluoromethoxy group, Z 11 and Z 13 are each Independently represents a single bond or —CH 2 —CH 2 —, Z 12 and Z 14 each independently represents a single bond, —CH 2 —CH 2 — or —CF 2 O—, and n 11 and n 12 represents 0 or 1)
Furthermore, general formula (Ic) can also be used together.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(式中、R21は炭素原子数1から10のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基を表し、該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個又は2個以上のCH2基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子で置換されていてもよく、A21は1,4−フェニレン基又は1,4−シクロヘキシレン基を表し、該1,4−フェニレン基は非置換であるか又は置換基として1個又は2個以上のフッ素原子、塩素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基を有することができ、Z21は単結合又は−CH2−CH2−を表し、X51は、炭素原子数1から20のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基(該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個又は2個以上のCH2基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子で置換されていてもよい。)、フッ素原子、塩素原子、イソシアネート基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基又は一般式(I−d)を表し、 (In the formula, R 21 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, and one or more CH 2 groups present in the alkyl group or alkenyl group are The oxygen atoms may not be directly bonded to each other and may be substituted with an oxygen atom, A 21 represents a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, and the 1,4-phenylene group is It may be unsubstituted or may have one or more fluorine atom, chlorine atom, methyl group, trifluoromethyl group or trifluoromethoxy group as a substituent, and Z 21 may be a single bond or —CH 2 —. CH 2 - represents, X 51 is one or more CH 2 groups present in the alkenyl group (the alkyl group or alkenyl group of alkyl or 2 to 10 carbon atoms having 1 to 20 carbon atoms The oxygen The atoms may be substituted with oxygen atoms so that the atoms are not directly bonded to each other.), Fluorine atom, chlorine atom, isocyanate group, trifluoromethyl group, trifluoromethoxy group, difluoromethoxy group or general formula (I- d)

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(式中、A22は1,4−フェニレン基又は1,4−シクロヘキシレン基を表し、該1,4−フェニレン基は非置換であるか又は置換基として1個又は2個以上のフッ素原子、塩素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基を有することができ、X60は、炭素原子数1から10のアルキル基又は炭素原子数2から10のアルケニル基(該アルキル基又はアルケニル基中に存在する1個又は2個以上のCH2基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、酸素原子で置換されていてもよい。)、フッ素原子、塩素原子、イソシアネート基、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、又はジフルオロメトキシ基基を表す。)
52からX57はそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、トリフルオロメチル基、トリフルオロメトキシ基、メチル基、メトキシ基又はエチル基を表し、
10は0又は1を表す。)で表される化合物群から選ばれる化合物を少なくとも一種類含有することが望ましい。
(In the formula, A 22 represents a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, and the 1,4-phenylene group is unsubstituted or has one or more fluorine atoms as a substituent. , A chlorine atom, a methyl group or a trifluoromethyl group or a trifluoromethoxy group, and X 60 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms (the alkyl group or One or two or more CH 2 groups present in the alkenyl group may be substituted with oxygen atoms as those in which oxygen atoms are not directly bonded to each other)), fluorine atom, chlorine atom, isocyanate group, Represents a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, or a difluoromethoxy group.)
X 52 to X 57 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a trifluoromethyl group, a trifluoromethoxy group, a methyl group, a methoxy group or an ethyl group,
n 10 represents 0 or 1. It is desirable to contain at least one compound selected from the group of compounds represented by

本発明の光散乱型液晶デバイスは、例えば、透明電極層を有し少なくとも片方が透明であり、該透明電極層を対向させた状態でスペーサー等を使用して一定間隔を保った2枚の基板間に、ラジカル重合性化合物と、液晶組成物との混合物を挟持させ、相分離させることで得られる。
前記液晶組成物とラジカル重合性組成物との配合比は、所望の電気光学特性に応じて調整することができ、59:41〜89:11の範囲が好ましく、63:36〜75:25の範囲がより好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤を用いることができるが、光重合開始剤が好ましい。具体的には以下の化合物が好ましい。
ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン系;
ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系;ベンジル、メチルフェニルグリオキシエステル系;
ベンゾフェノン、ο−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル−ジフェニルサルファイド、アクリル化ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系;
2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン系;
ミヒラーケトン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系;
10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアンスラキノン、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン等が好ましい。
この中でも、ベンジルジメチルケタールが最も好ましい。
The light-scattering liquid crystal device of the present invention has, for example, two substrates having a transparent electrode layer, at least one of which is transparent, and using a spacer or the like with the transparent electrode layer facing each other. It is obtained by sandwiching a mixture of a radically polymerizable compound and a liquid crystal composition between them and performing phase separation.
The mixing ratio of the liquid crystal composition and the radical polymerizable composition can be adjusted according to desired electro-optical characteristics, and is preferably in the range of 59:41 to 89:11, and is in the range of 63:36 to 75:25. A range is more preferred.
As the radical polymerization initiator, a thermal polymerization initiator or a photopolymerization initiator can be used, but a photopolymerization initiator is preferable. Specifically, the following compounds are preferable.
Diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 4- ( 2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl- Acetophenone series such as 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone;
Benzoins such as benzoin, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; Acylphosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide; Benzyl and methylphenylglyoxyesters;
Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenyl sulfide, acrylated benzophenone, 3,3 ', 4,4' -Benzophenone series such as tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone;
Thioxanthone systems such as 2-isopropylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone;
Aminobenzophenone series such as Michler's ketone and 4,4′-diethylaminobenzophenone;
10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone and the like are preferable.
Of these, benzyldimethyl ketal is most preferred.

透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムチンオキシド(ITO)をスパッタリングすることにより得ることができる。また、低波長分散の透明性基板を用いることにより本発明のデバイスの光散乱能が高まり反射率やコントラストが向上してより好ましい。低波長分散の透明性基板としては、ホウケイ酸硝子や、ポリエチレンテレフタレートまたはポリカーボネート等のプラスチック透明フィルム、1/4λの光干渉条件を使用した誘電体多層膜をコートした透明性基板が挙げられる。   A transparent substrate having a transparent electrode layer can be obtained, for example, by sputtering indium tin oxide (ITO) on a transparent substrate such as a glass plate. Further, it is more preferable to use a transparent substrate with low wavelength dispersion because the light scattering ability of the device of the present invention is increased and the reflectance and contrast are improved. Examples of the low wavelength dispersion transparent substrate include borosilicate glass, a plastic transparent film such as polyethylene terephthalate or polycarbonate, and a transparent substrate coated with a dielectric multilayer film using a 1 / 4λ optical interference condition.

また、該基板上には、必要に応じて、高分子膜や、配向膜やカラーフィルターを配置することもできる。配向膜としては、例えば、ポリイミド配向膜、光配向膜等が使用できる。配向膜の形成方法としては、例えばポリイミド配向膜の場合、ポリイミド樹脂組成物を該透明基板上に塗布し、180℃以上の温度で熱硬化させ、更に綿布やレーヨン布でラビング処理することで得ることができる。また、ラビング処理を施していないポリイミド膜等の高分子膜も用いることもできる。更に、片側の基板にはシリコン等の不透明な材料でも良い。   In addition, a polymer film, an alignment film, and a color filter can be disposed on the substrate as necessary. As the alignment film, for example, a polyimide alignment film, a photo alignment film, or the like can be used. As a method for forming the alignment film, for example, in the case of a polyimide alignment film, the polyimide resin composition is applied on the transparent substrate, thermally cured at a temperature of 180 ° C. or higher, and further rubbed with a cotton cloth or a rayon cloth. be able to. In addition, a polymer film such as a polyimide film that has not been rubbed can also be used. Further, the substrate on one side may be an opaque material such as silicon.

カラーフィルターは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法、又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルターの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルター用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の3色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルター用の画素部を作成することができる。その他、該基板上に、TFT、薄膜ダイオード、金属絶縁体金属比抵抗素子等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。   The color filter can be prepared by, for example, a pigment dispersion method, a printing method, an electrodeposition method, or a dyeing method. A method for producing a color filter by a pigment dispersion method will be described as an example. A curable coloring composition for a color filter is applied on the transparent substrate, subjected to patterning treatment, and cured by heating or light irradiation. By performing this process for each of the three colors red, green, and blue, a pixel portion for a color filter can be created. In addition, a pixel electrode provided with an active element such as a TFT, a thin film diode, or a metal insulator metal specific resistance element may be provided on the substrate.

前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層の厚さが1〜100μm、中でも2〜50μmとなるように、該基板の間隔を調整することが好ましい。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。   The said board | substrate is made to oppose so that a transparent electrode layer may become an inner side. In that case, you may adjust the space | interval of a board | substrate through a spacer. At this time, it is preferable to adjust the space | interval of this board | substrate so that the thickness of the light control layer obtained may be 1-100 micrometers, especially 2-50 micrometers. Examples of the spacer include glass particles, plastic particles, alumina particles, and a photoresist material. Thereafter, a sealant such as an epoxy thermosetting composition is screen-printed on the substrates with a liquid crystal inlet provided, the substrates are bonded together, and heated to thermally cure the sealant.

得られた液晶セルに前記調光層形成材料を封入し、調光層形成材料中の液晶組成物を等方性液体状態に保持した状態で光照射又は加熱、冷却することで、本発明の光散乱型液晶デバイスを作成することができる。作製方法としては、特に限定はなく、紫外線、可視光線、高周波等のエネルギー線を利用することができる。中でも紫外線を用いたラジカル重合性化合物の重合を利用する方法は、調光層形成材料を等方性液体状態に保持した状態で瞬間的にラジカル重合性化合物の重合を進行させるので、調光層内の平均空隙間隔を均一な大きさにでき、且つ3次元ネットワーク状のポリマーマトリックスを得ることができるので、より好ましい。すなわち、該ポリマーマトリックスが3次元ネットワーク状となることで、得られる液晶デバイスの電気光学特性がより向上する。   The light control layer forming material is enclosed in the obtained liquid crystal cell, and the liquid crystal composition in the light control layer forming material is irradiated with light or heated and cooled in a state where the liquid crystal composition is maintained in an isotropic liquid state. A light scattering type liquid crystal device can be produced. The production method is not particularly limited, and energy rays such as ultraviolet rays, visible rays, and high frequencies can be used. Among them, the method utilizing the polymerization of the radical polymerizable compound using ultraviolet rays instantaneously proceeds the polymerization of the radical polymerizable compound while keeping the light control layer forming material in an isotropic liquid state. It is more preferable because the average gap interval in the inside can be made uniform and a three-dimensional network-like polymer matrix can be obtained. That is, when the polymer matrix has a three-dimensional network shape, the electro-optical characteristics of the obtained liquid crystal device are further improved.

また、本発明の液晶デバイスの裏面側に光吸収層や、拡散反射板等を配置することもでき、反射率とコントラストの高い反射型光散乱型液晶デバイスが得られる。また、シアン・マゼンタ・イエロー等の光吸収波長の異なる光吸収層を各色別に分割した画素電極の位置に一致するように配置すると、カラー表示が可能である。鏡面反射、拡散反射、再帰性反射、ホログラム反射等の機能を付加することもできる。   Moreover, a light absorption layer, a diffuse reflector, etc. can also be arrange | positioned at the back surface side of the liquid crystal device of this invention, and a reflective light-scattering type liquid crystal device with a high reflectance and contrast is obtained. Color display is possible by arranging light absorbing layers having different light absorption wavelengths such as cyan, magenta, and yellow so as to coincide with the positions of the pixel electrodes divided for each color. Functions such as specular reflection, diffuse reflection, retroreflection, and hologram reflection can also be added.

以下、合成例及び実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「%」は『質量%』を意味する。   EXAMPLES Hereinafter, although a synthesis example and an Example are given and this invention is further explained in full detail, this invention is not limited to these Examples. Further, “%” in the compositions of the following Examples and Comparative Examples means “% by mass”.

(合成例)
(中間体1)
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、1−ブロモドデカン30g(0.12モル)、テトラブチルアンモニウムブロミド1.9g、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成社製:OXT−101)28g(0.24モル)、およびジメチルスルオキシド200mlを加え、50%水酸化カリウム水溶液26.5gをゆっくり滴下した。滴下終了後は、室温で4時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、シリカゲルカラムにより精製を行い式(1)で表される中間体1を24g得た。
(Synthesis example)
(Intermediate 1)
In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 30 g (0.12 mol) of 1-bromododecane, 1.9 g of tetrabutylammonium bromide, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd .: OXT-) 101) 28 g (0.24 mol) and 200 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 26.5 g of 50% aqueous potassium hydroxide solution was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction was terminated by stirring for 4 hours at room temperature. After adding 1 L of ethyl acetate to the reaction solution, it was washed with 5% sodium carbonate, pure water, and saturated saline in this order, the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure, and purified by a silica gel column. And 24 g of intermediate 1 represented by formula (1) was obtained.

Figure 2006045416
(1)
Figure 2006045416
(1)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,4H),3.56(s,2H),3.45(t、2H),1.75(m,2H),1.59(m,2H),1.26(m,18H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:78.6,73.4,71.6,44.3,43.4,31.9,29.5,29.4,29.3,26.7,26.1,22.7,14.0,8.2
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 4.45-4.40 (dd, 4H), 3.56 (s, 2H), 3.45 (t, 2H), 1.75 (m, 2H) ), 1.59 (m, 2H), 1.26 (m, 18H), 0.88 (t, 6H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 78.6, 73.4, 71.6, 44.3, 43.4, 31.9, 29.5, 29.4, 29.3, 26 .7, 26.1, 22.7, 14.0, 8.2

(中間体2)
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、1−ブロモウンデカン40g(0.17モル)、テトラブチルアンモニウムブロミド2.7g、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成社製:OXT−101)30g(0.25モル)、およびジメチルスルオキシド200mlを加え、50%水酸化カリウム水溶液23.5gをゆっくり滴下した。滴下終了後は、室温で4時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、シリカゲルカラムにより精製を行い式(2)で表される中間体2を30g得た。
(Intermediate 2)
In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 40 g (0.17 mol) of 1-bromoundecane, 2.7 g of tetrabutylammonium bromide, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd .: OXT-) 101) 30 g (0.25 mol) and 200 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 23.5 g of a 50% aqueous potassium hydroxide solution was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction was terminated by stirring for 4 hours at room temperature. After adding 1 L of ethyl acetate to the reaction solution, it was washed with 5% sodium carbonate, pure water, and saturated saline in this order, the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure, and purified by a silica gel column. And 30 g of intermediate 2 represented by formula (2) was obtained.

Figure 2006045416
(2)
Figure 2006045416
(2)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,4H),3.56(s,2H),3.45(t、2H),1.75(m,2H),1.59(m,2H),1.26(m,16H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:78.6,73.4,71.6,44.3,43.4,31.9,29.5,29.4,29.3,26.7,26.1,22.7,14.0,8.2
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 4.45-4.40 (dd, 4H), 3.56 (s, 2H), 3.45 (t, 2H), 1.75 (m, 2H) ), 1.59 (m, 2H), 1.26 (m, 16H), 0.88 (t, 6H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 78.6, 73.4, 71.6, 44.3, 43.4, 31.9, 29.5, 29.4, 29.3, 26 .7, 26.1, 22.7, 14.0, 8.2

(中間体3)
撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、1−ブロモヘキサン20g(0.12モル)、テトラブチルアンモニウムブロミド1.9g、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成社製:OXT−101)28g(0.24モル)、およびジメチルスルオキシド200mlを加え、50%水酸化カリウム水溶液26.5gをゆっくり滴下した。滴下終了後は、室温で4時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、シリカゲルカラムにより精製を行い式(3)で表される中間体3を14g得た。
(Intermediate 3)
In a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 1-bromohexane 20 g (0.12 mol), tetrabutylammonium bromide 1.9 g, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (manufactured by Toagosei Co., Ltd .: OXT-) 101) 28 g (0.24 mol) and 200 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 26.5 g of 50% aqueous potassium hydroxide solution was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the reaction was terminated by stirring for 4 hours at room temperature. After adding 1 L of ethyl acetate to the reaction solution, it was washed with 5% sodium carbonate, pure water, and saturated saline in this order, the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure, and purified by a silica gel column. And 14 g of intermediate 3 represented by formula (3) was obtained.

Figure 2006045416

(3)
Figure 2006045416

(3)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,4H),3.56(s,2H),3.45(t、2H),1.75(m,2H),1.59(m,2H),1.26(m,6H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:78.6,73.4,71.6,44.3,43.4,31.9,29.5,29.3,26.1,22.7,14.0,8.2
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 4.45-4.40 (dd, 4H), 3.56 (s, 2H), 3.45 (t, 2H), 1.75 (m, 2H) ), 1.59 (m, 2H), 1.26 (m, 6H), 0.88 (t, 6H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 78.6, 73.4, 71.6, 44.3, 43.4, 31.9, 29.5, 29.3, 26.1, 22 .7, 14.0, 8.2

(中間体4)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、1,6−ヘキサンジオール23.6g(0.2モル)、トリエチルアミン44.5g(0.44モル)、テトラメチルエチレンジアミン(0.04モル)4.6gおよびトルエン500mlを入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。p−トルエンスルホニウムクロリド80g(0.42モル)を5回に分けて1時間添加した。添加終了後、室温で反応容器を3時間撹拌した後反応を終了した。生成する塩酸塩を濾過した後、反応液を1/10Nの塩酸溶液、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、1,6−ヘキサンジオールジトシレートの白色固体を83.6g得た。
次いで、撹拌装置、及び温度計を備えた反応容器に、1,6−ヘキサンジオールジトシレート50g(0.12モル)、テトラブチルアンモニウムブロミド4g、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成社製:OXT−101)41g(0.35モル)、およびジメチルスルオキシド150mlを加え、50℃で溶解させた後に、粒状の水酸化ナトリウム 18.7g(0.47モル)を5回に分けて1時間かけて添加した。添加終了後に反応容器を80℃に加熱して3時間撹拌して反応を終了した。反応液に酢酸エチルを1L加えた後に5%炭酸ナトリウム、純水、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、式(4)で表される中間体4を30g得た。
(Intermediate 4)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a cooling tube, and a thermometer, 23.6 g (0.2 mol) of 1,6-hexanediol, 44.5 g (0.44 mol) of triethylamine, tetramethylethylenediamine ( (0.04 mol) 4.6 g and 500 ml of toluene were added, and the mixture was stirred while cooling with an ice-water bath so that the temperature became 5 ° C. or lower. 80 g (0.42 mol) of p-toluenesulfonium chloride was added in 5 portions over 1 hour. After completion of the addition, the reaction vessel was stirred at room temperature for 3 hours, and then the reaction was terminated. After filtration of the resulting hydrochloride, the reaction solution was washed with a 1/10 N hydrochloric acid solution, pure water and saturated brine in that order, the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure. 83.6 g of a white solid of 1,6-hexanediol ditosylate was obtained.
Next, in a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 50 g (0.12 mol) of 1,6-hexanediol ditosylate, 4 g of tetrabutylammonium bromide, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane (Toa Gosei) Company: OXT-101) 41 g (0.35 mol) and dimethyl sulfoxide 150 ml were added and dissolved at 50 ° C., then 18.7 g (0.47 mol) of granular sodium hydroxide was divided into 5 portions. Over 1 hour. After completion of the addition, the reaction vessel was heated to 80 ° C. and stirred for 3 hours to complete the reaction. 1 L of ethyl acetate was added to the reaction solution, and then washed with 5% sodium carbonate, pure water, and saturated saline in this order. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the formula (4) 30 g of intermediate 4 represented by

Figure 2006045416

(4)
Figure 2006045416

(4)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:4.45−4.40(dd,8H),3.56(s,4H),3.45(t、4H),1.70(m,4H),1.60(m,4H),1.38(m,4H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:73.4,71.5,44.3,43.4,32.7,29.5,26.8,26.2,26.0,25.5,8.2
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 4.45-4.40 (dd, 8H), 3.56 (s, 4H), 3.45 (t, 4H), 1.70 (m, 4H) ), 1.60 (m, 4H), 1.38 (m, 4H), 0.88 (t, 6H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 73.4, 71.5, 44.3, 43.4, 32.7, 29.5, 26.8, 26.2, 26.0, 25 .5,8.2

(合成例1)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、長鎖二塩基酸であるIPS−22(岡村製油社製)5g、テトラヒドロフラン20ml、ジメチルホルムアミド2滴を仕込み、室温で撹拌した。次いでオキザリルクロリド1.8g(0.014モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で4時間撹拌しながら発生する塩化水素を除去する。その後、反応容器を減圧し、テトラヒドロフラン、塩化水素を除去して、長鎖二塩基酸塩化物(IPS−22Cl)7.8gを得た。
更に撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、前記の中間体1を6g(0.021モル)、ヨウ化ナトリウム3.5g(0.023モル)、およびアセトニトリルを50ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで上記で合成したIPS−22Cl 4.5gをゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後にヘキサン/酢酸エチル=1/1溶液を100ml加え、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 200mlでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−1を10g合成した。
(Synthesis Example 1)
A reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introduction tube, a cooling tube and a thermometer was charged with 5 g of long-chain dibasic acid IPS-22 (Okamura Oil Co., Ltd.), 20 ml of tetrahydrofuran and 2 drops of dimethylformamide, and stirred at room temperature. did. Next, 1.8 g (0.014 mol) of oxalyl chloride was slowly added dropwise. After completion of dropping, hydrogen chloride generated while stirring at room temperature for 4 hours is removed. Thereafter, the reaction vessel was decompressed to remove tetrahydrofuran and hydrogen chloride to obtain 7.8 g of a long-chain dibasic acid chloride (IPS-22Cl).
Furthermore, 6 g (0.021 mol) of the intermediate 1 described above, 3.5 g (0.023 mol) of sodium iodide, and acetonitrile were added to a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a cooling tube, and a thermometer. 50 ml was added and stirred while cooling with an ice water bath so that the temperature was 5 ° C. or lower. Next, 4.5 g of IPS-22Cl synthesized above was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. for 1 hour, and further stirred at room temperature for 3 hours to complete the reaction. After adding a small amount of water to the reaction vessel, 100 ml of a hexane / ethyl acetate = 1/1 solution was added, and iodine was decomposed with 200 ml of a 10% aqueous sodium hydrogen sulfite solution. Further, the organic layer was washed in the order of pure water and saturated saline. After drying the organic layer with anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure to synthesize 10 g of intermediate M-1.

次いで、撹拌装置、温度計を備えた反応容器に、上記の方法で合成した中間体M−1 4g(0.003モル)、アクリル酸1g(0.013モル)、p−メトキシフェノール6mg、およびジメチルスルオキシド40mlを入れ、室温で撹拌しながら1,8―ジアザビシクロ[5,4,0]7−ウンデセン(以下DBUと略す)を2.1g(0.013モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を90℃に加熱し、12時間撹拌して反応を終了した。反応容器にヘキサン/酢酸エチル=1/1 100ml加え、1/10Nの塩酸溶液、5%水酸化ナトリウム溶液、純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機層の溶媒を減圧留去した後、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、ラジカル重合性化合物「M1」を3g得た。   Next, in a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, 4 g (0.003 mol) of intermediate M-1 synthesized by the above method, 1 g (0.013 mol) of acrylic acid, 6 mg of p-methoxyphenol, and Dimethylsulfoxide (40 ml) was added, and 2.1 g (0.013 mol) of 1,8-diazabicyclo [5,4,0] 7-undecene (hereinafter abbreviated as DBU) was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropwise addition, the reaction vessel was heated to 90 ° C. and stirred for 12 hours to complete the reaction. To the reaction vessel, 100 ml of hexane / ethyl acetate = 1/1 was added, and the organic layer was washed in the order of 1/10 N hydrochloric acid solution, 5% sodium hydroxide solution, pure water, and saturated brine. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure. Then, the concentrated solution was purified by silica gel chromatography to obtain 3 g of radical polymerizable compound “M1”.

Figure 2006045416

(M1)
Figure 2006045416

(M1)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.43(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.21(s,4H)4.07(s,4H),3.37(t,4H),3.32(s,4H),2.32(t,4H),1.75−1.38(m,8H),1.25(m,66H),0.87(t,18H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.6,128.3,71.6,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,32.731.9,29.6−29.2,26.9,26.1,25.0,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.43 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.21 (s, 4H) 4.07 (S, 4H), 3.37 (t, 4H), 3.32 (s, 4H), 2.32 (t, 4H), 1.75-1.38 (m, 8H), 1.25 ( m, 66H), 0.87 (t, 18H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.6, 165.9, 130.6, 128.3, 71.6, 70.4, 64.7, 64.4, 41.5, 34 3, 32.731.9, 29.6-29.2, 26.9, 26.1, 25.0, 23.0, 22.6, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例2)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、前記の中間体1を6.7g(0.024モル)、ヨウ化ナトリウム3.9g(0.026モル)、およびアセトニトリルを50ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、ジメチルマロン酸クロリド 2g(0.012モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後にヘキサン/酢酸エチル=1/1溶液を100ml加え、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 200mlでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−2を7g合成した。
(Synthesis Example 2)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introduction tube, a cooling tube and a thermometer, 6.7 g (0.024 mol) of the intermediate 1 described above, 3.9 g (0.026 mol) of sodium iodide, and acetonitrile Was stirred while cooling with an ice-water bath so that the temperature became 5 ° C. or less. Subsequently, 2 g (0.012 mol) of dimethylmalonic acid chloride was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. for 1 hour, and further stirred at room temperature for 3 hours to complete the reaction. After adding a small amount of water to the reaction vessel, 100 ml of a hexane / ethyl acetate = 1/1 solution was added, and iodine was decomposed with 200 ml of a 10% aqueous sodium hydrogen sulfite solution. Further, the organic layer was washed in the order of pure water and saturated saline. After drying the organic layer with anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure to synthesize 7 g of intermediate M-2.

次いで、撹拌装置、温度計を備えた反応容器に、上記の方法で合成した中間体M−2 7g(0.008モル)、アクリル酸2.2g(0.030モル)、p−メトキシフェノール 14mg、およびジメチルスルオキシド100mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを4.6g(0.030モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を90℃に加熱し、12時間撹拌して反応を終了した。反応容器にヘキサン/酢酸エチル=1/1 100ml加え、1/10Nの塩酸溶液、5%水酸化ナトリウム溶液、純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機層の溶媒を減圧留去した後、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、ラジカル重合性化合物「M2」を5g得た。   Next, 7 g (0.008 mol) of the intermediate M-2 synthesized by the above method, 2.2 g (0.030 mol) of acrylic acid, and 14 mg of p-methoxyphenol in a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer. Then, 100 g of dimethyl sulfoxide was added, and 4.6 g (0.030 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropwise addition, the reaction vessel was heated to 90 ° C. and stirred for 12 hours to complete the reaction. To the reaction vessel, 100 ml of hexane / ethyl acetate = 1/1 was added, and the organic layer was washed in the order of 1/10 N hydrochloric acid solution, 5% sodium hydroxide solution, pure water, and saturated brine. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure, and the concentrated solution was purified by silica gel chromatography to obtain 5 g of radical polymerizable compound “M2”.

Figure 2006045416
(M2)
Figure 2006045416
(M2)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.08(s,8H),3.35(t,4H),3.27(s,4H),1.63−1.38(m,14H),1.25(m,36H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:172.2,165.8,130.7,128.2,71.6,70.4,65.4,64.7,64.6,50.2,41.7,31.9,29.5−29.3,26.1,23.1,22.7,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.42 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.08 (s, 8H), 3. 35 (t, 4H), 3.27 (s, 4H), 1.63-1.38 (m, 14H), 1.25 (m, 36H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 172.2, 165.8, 130.7, 128.2, 71.6, 70.4, 65.4, 64.7, 64.6, 50 2, 41.7, 31.9, 29.5-29.3, 26.1, 233.1, 22.7, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例3)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体3を6.5g(0.032モル)、ヨウ化ナトリウム5.3g(0.036モル)、およびアセトニトリルを50ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、セバシン酸クロリド 4g(0.017モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後にヘキサン/酢酸エチル=1/1溶液を100ml加え、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 200mlでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−3を10g合成した。
(Synthesis Example 3)
In a reaction vessel similar to Synthesis Example 2, 6.5 g (0.032 mol) of the intermediate 3 described above, 5.3 g (0.036 mol) of sodium iodide, and 50 ml of acetonitrile are placed at 5 ° C. or lower. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Next, 4 g (0.017 mol) of sebacic acid chloride was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. for 1 hour, and further stirred at room temperature for 3 hours to complete the reaction. After adding a small amount of water to the reaction vessel, 100 ml of a hexane / ethyl acetate = 1/1 solution was added, and iodine was decomposed with 200 ml of a 10% aqueous sodium hydrogen sulfite solution. Further, the organic layer was washed in the order of pure water and saturated saline. After drying the organic layer with anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure to synthesize 10 g of Intermediate M-3.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−3 10g(0.012モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 3.5g(0.048モル)、p−メトキシフェノール 14mg、およびジメチルスルオキシド100mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを7.4g(0.048モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、反応容器を90℃に加熱し、12時間撹拌して反応を終了した。反応容器にヘキサン/酢酸エチル=1/1 100ml加え、1/10Nの塩酸溶液、5%水酸化ナトリウム溶液、純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機層の溶媒を減圧留去した後、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、ラジカル重合性化合物「M3」を6g得た。   Subsequently, 3.5 g (0.048 mol) of acrylic acid, p-, except that 10 g (0.012 mol) of the intermediate M-3 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 14 mg of methoxyphenol and 100 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 7.4 g (0.048 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropwise addition, the reaction vessel was heated to 90 ° C. and stirred for 12 hours to complete the reaction. To the reaction vessel, 100 ml of hexane / ethyl acetate = 1/1 was added, and the organic layer was washed in the order of 1/10 N hydrochloric acid solution, 5% sodium hydroxide solution, pure water, and saturated brine. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure. Then, the concentrated solution was purified by silica gel chromatography to obtain 6 g of radical polymerizable compound “M3”.

Figure 2006045416
(M3)
Figure 2006045416
(M3)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.41(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.35(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.6−1.46(m,12H),1.25(s,20H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.7,128.4,71.7,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,31.6,29.5−29.1,25.8,24.9,23.1,22.6,14.0,7.5
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.41 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.10 (s, 4H) 3.99 (S, 4H), 3.35 (t, 4H), 3.29 (s, 4H), 2.29 (t, 4H), 1.6-1.46 (m, 12H), 1.25 ( s, 20H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.6, 165.9, 130.7, 128.4, 71.7, 70.4, 64.7, 64.4, 41.5, 34 3, 31.6, 29.5-29.1, 25.8, 24.9, 23.1, 22.6, 14.0, 7.5
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例4)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体1を12g(0.042モル)、ヨウ化ナトリウム6.9g(0.046モル)、およびアセトニトリルを70ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、グルタル酸クロリド 3.7g(0.022モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、中間体M−4を17g合成した。
(Synthesis Example 4)
In a reaction vessel similar to Synthesis Example 2, 12 g (0.042 mol) of the intermediate 1 described above, 6.9 g (0.046 mol) of sodium iodide, and 70 ml of acetonitrile are placed so that the temperature is 5 ° C. or less. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Subsequently, 3.7 g (0.022 mol) of glutaric acid chloride was slowly added dropwise. After completion of dropping, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed to synthesize 17 g of intermediate M-4.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−4 16g(0.017モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 5.0g(0.070モル)、p−メトキシフェノール 30mg、およびジメチルスルオキシド200mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを10.5g(0.070モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、シリカゲルクロマトグラフィー精製により、ラジカル重合性化合物「M4」を7.4g得た。   Subsequently, 5.0 g (0.070 mol) of acrylic acid, p− was similarly obtained except that 16 g (0.017 mol) of the intermediate M-4 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 30 mg of methoxyphenol and 200 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 10.5 g (0.070 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropwise addition, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed, and 7.4 g of a radical polymerizable compound “M4” was obtained by silica gel chromatography purification.

Figure 2006045416
(M4)
Figure 2006045416
(M4)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.41(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)4.00(s,4H),3.34(t,4H),3.28(s,4H),2.37(t,4H),1.92(m,2H),1.63(m,8H),1.25(s,36H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:172.6,165.9,130.7,128.3,71.7,70.4,64.7,64.4,41.5,33.2,31.9,29.6−29.3,26.1,23.0,22.6,14.0,7.5
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.41 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.10 (s, 4H) 4.00 (S, 4H), 3.34 (t, 4H), 3.28 (s, 4H), 2.37 (t, 4H), 1.92 (m, 2H), 1.63 (m, 8H) , 1.25 (s, 36H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 172.6, 165.9, 130.7, 128.3, 71.7, 70.4, 64.7, 64.4, 41.5, 33 2, 31.9, 29.6-29.3, 26.1, 23.0, 22.6, 14.0, 7.5
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例5)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体1を10g(0.035モル)、ヨウ化ナトリウム5.8g(0.039モル)、およびアセトニトリルを70ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、コハク酸クロリド 2.9g(0.018モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、中間体M−5を14g合成した。
(Synthesis Example 5)
In a reaction vessel similar to that of Synthesis Example 2, 10 g (0.035 mol) of the intermediate 1 described above, 5.8 g (0.039 mol) of sodium iodide, and 70 ml of acetonitrile are placed so that the temperature is 5 ° C. or less. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Subsequently, 2.9 g (0.018 mol) of succinic chloride was slowly added dropwise. After completion of dropping, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed to synthesize 14 g of intermediate M-5.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−5 14g(0.015モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 4.4g(0.061モル)、p−メトキシフェノール 25mg、およびジメチルスルオキシド200mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを9.3g(0.061モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、シリカゲルクロマトグラフィー精製により、ラジカル重合性化合物「M5」を5.0g得た。   Subsequently, 4.4 g (0.061 mol) of acrylic acid, p-, except that 14 g (0.015 mol) of the intermediate M-5 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 25 mg of methoxyphenol and 200 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 9.3 g (0.061 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropwise addition, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed, and 5.0 g of radical polymerizable compound “M5” was obtained by silica gel chromatography purification.

Figure 2006045416
(M5)
Figure 2006045416
(M5)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)4.02(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.37(s,4H),1.64−1.38(m,8H),1.25(m,36H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:171.9,165.9,130.7,128.3,71.7,70.4,64.9,64.6,41.5,31.9,29.6−29.0,26.1,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.42 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.10 (s, 4H) 4.02 (S, 4H), 3.34 (t, 4H), 3.29 (s, 4H), 2.37 (s, 4H), 1.64-1.38 (m, 8H), 1.25 ( m, 36H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 171.9, 165.9, 130.7, 128.3, 71.7, 70.4, 64.9, 64.6, 41.5, 31 .9, 29.6-29.0, 26.1, 23.0, 22.6, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例6)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体3を10g(0.050モル)、ヨウ化ナトリウム8.2g(0.055モル)、およびアセトニトリルを70ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、スベリル酸クロリド 5.5g(0.026モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、中間体M−6を17g合成した。
(Synthesis Example 6)
In a reaction vessel similar to Synthesis Example 2, 10 g (0.050 mol) of the intermediate 3 described above, 8.2 g (0.055 mol) of sodium iodide, and 70 ml of acetonitrile were placed so that the temperature was 5 ° C. or less. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Subsequently, 5.5 g (0.026 mol) of suberic acid chloride was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed to synthesize 17 g of intermediate M-6.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−6 17g(0.021モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 6.2g(0.085モル)、p−メトキシフェノール 36mg、およびジメチルスルオキシド250mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを13.0g(0.085モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、シリカゲルクロマトグラフィー精製により、ラジカル重合性化合物「M6」を6.5g得た。   Subsequently, 6.2 g (0.085 mol) of acrylic acid, p-, except that 17 g (0.021 mol) of the intermediate M-6 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 36 mg of methoxyphenol and 250 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 13.0 g (0.085 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropping, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed, and 6.5 g of radical polymerizable compound “M6” was obtained by silica gel chromatography purification.

Figure 2006045416
(M6)
Figure 2006045416
(M6)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.41(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.14(s,4H)4.07(s,4H),3.35(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.63−1.43(m,12H),1.25(m,16H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.4,165.9,130.7,128.3,71.6,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,31.9,29.6−29.1,25.7,24.7,23.1,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.41 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.14 (s, 4H) 4.07 (S, 4H), 3.35 (t, 4H), 3.29 (s, 4H), 2.29 (t, 4H), 1.63-1.43 (m, 12H), 1.25 ( m, 16H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.4, 165.9, 130.7, 128.3, 71.6, 70.4, 64.7, 64.4, 41.5, 34 3, 31.9, 29.6-29.1, 25.7, 24.7, 23.1, 22.6, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例7)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル「エポライト1600」(共栄社製)60g(0.26モル)、アクリル酸41g(0.57モル)、p−メトキシフェノール200mg、及び触媒としてN,N−ジメチルベンジルアミン0.5gを入れ、80℃で撹拌した。次いで反応液を100℃に昇温し、5時間撹拌した後反応を終了した。次いでトルエン500ml加え、5%水酸化ナトリウム溶液300ml、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して淡褐色透明液状の中間体M−7を80g得た。
(Synthesis Example 7)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a cooling tube and a thermometer, 1,6-hexanediol diglycidyl ether “Epolite 1600” (manufactured by Kyoeisha) 60 g (0.26 mol), acrylic acid 41 g (0.57) Mol), 200 mg of p-methoxyphenol, and 0.5 g of N, N-dimethylbenzylamine as a catalyst were added and stirred at 80 ° C. Next, the reaction solution was heated to 100 ° C. and stirred for 5 hours, and then the reaction was completed. Subsequently, 500 ml of toluene was added, and the mixture was washed with 300 ml of 5% sodium hydroxide solution and saturated brine in this order. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and the organic solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a light brown transparent liquid intermediate M-7. 80 g of was obtained.

次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、塩化メチレン300ml、n−ヘキサン酸26.7g(0.23mol)、p−メトキシフェノール20mg、「ドータイトWSC」43g(0.23mol)及び触媒として4−ジメチルアミノピリジン2.7gを加え、5℃に保ちながら、上記中間体M−7 40gを溶解させた塩化メチレン溶液50ml溶液を1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で10時間撹拌した後反応を終了した。1/10Nの塩酸溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去した後、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、ラジカル重合性化合物「M7」を45.2g得た。   Next, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a cooling tube and a thermometer, 300 ml of methylene chloride, 26.7 g (0.23 mol) of n-hexanoic acid, 20 mg of p-methoxyphenol, 43 g of “Dotite WSC” (0.23 mol) and 2.7 g of 4-dimethylaminopyridine as a catalyst were added, and a 50 ml solution of methylene chloride in which 40 g of the intermediate M-7 was dissolved was slowly added dropwise over 1 hour while maintaining the temperature at 5 ° C. After completion of the dropwise addition, the reaction was terminated after stirring at room temperature for 10 hours. The organic layer was washed with 1 / 10N hydrochloric acid solution and saturated saline in this order, and dried over anhydrous sodium sulfate. After the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure, the concentrated solution was purified by silica gel chromatography to obtain 45.2 g of a radical polymerizable compound “M7”.

Figure 2006045416

M7
Figure 2006045416

M7

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.45(d,2H),6.17(q,2H),5.87(d,2H),5.28(m,2H),4.41(m,2H),4.37(m,2H),3.6(m,4H),3.4(m,4H),2.32(t,4H),1.73−1.55(m,8H),1.21(s,12H),0.88(t,6H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.0,165.6,131.1,128.0,71.5,70.5,69.9,68.9,63.0,62.6,34.4,34.0,31.8,29.6―29.0,24.9,22.6,14.0,
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr)cm−1:2930,2861,1744,
1652−1622,1176,807
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.45 (d, 2H), 6.17 (q, 2H), 5.87 (d, 2H), 5.28 (m, 2H), 4. 41 (m, 2H), 4.37 (m, 2H), 3.6 (m, 4H), 3.4 (m, 4H), 2.32 (t, 4H), 1.73-1.55 (M, 8H), 1.21 (s, 12H), 0.88 (t, 6H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.0, 165.6, 131.1, 128.0, 71.5, 70.5, 69.9, 68.9, 63.0, 62 6,34.4,34.0,31.8,29.6-29.0,24.9,22.6,14.0,
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr) cm −1 : 2930, 2861, 1744,
1652-1622, 1176, 807

(合成例8)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル「EX−211」(ナガセケミテックス社製)100g(0.46モル)、アクリル酸90g(1.2モル)、p−メトキシフェノール200mg、及び触媒としてN,N−ジメチルベンジルアミン1gを入れ、80℃で撹拌した。次いで反応液を100℃に昇温して、温度を保ちながら5時間撹拌した後反応を終了した。
次にトルエン300mlを加え、5%水酸化ナトリウム溶液300ml、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、有機溶媒を減圧留去して、中間体M−8を170gを得た。
(Synthesis Example 8)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a cooling tube and a thermometer, 100 g (0.46 mol) of neopentyl glycol diglycidyl ether “EX-211” (manufactured by Nagase Chemitex), 90 g of acrylic acid (1 0.2 mol), 200 mg of p-methoxyphenol, and 1 g of N, N-dimethylbenzylamine as a catalyst were added and stirred at 80 ° C. Next, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C., and the reaction was completed after stirring for 5 hours while maintaining the temperature.
Next, 300 ml of toluene was added and washed with 300 ml of 5% sodium hydroxide solution and saturated brine in that order, the organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure, and 170 g of intermediate M-8 was obtained. Got.

次に、撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、塩化メチレン300ml、ラウリン酸55g(0.27モル)、p−メトキシフェノール20mg、同仁化学社製の1−エチル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩「ドータイトWSC」53g(0.27モル)、及び触媒として4−ジメチルアミノピリジン3.3gを入れ、5℃に保ちながら、上記中間体M−8 50gを溶解させた塩化メチレン溶液50ml溶液を1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で10時間撹拌した後反応を終了した。1/10Nの塩酸溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去した後、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製してラジカル重合性化合物「M8」を60g得た。 Next, in a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a cooling tube, and a thermometer, 300 ml of methylene chloride, 55 g (0.27 mol) of lauric acid, 20 mg of p-methoxyphenol, 1-ethyl produced by Dojin Chemical Co., Ltd. -3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride “Dotite WSC” 53 g (0.27 mol) and 4-dimethylaminopyridine 3.3 g were added as a catalyst while maintaining the temperature at 5 ° C. 8 A 50 ml solution of methylene chloride in which 50 g was dissolved was slowly added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was terminated after stirring at room temperature for 10 hours. The organic layer was washed with 1 / 10N hydrochloric acid solution and saturated saline in this order, and dried over anhydrous sodium sulfate. After the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure, the concentrated solution was purified by silica gel chromatography to obtain 60 g of a radical polymerizable compound “M8”.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.45(d,2H),6.17(q,2H),5.87(d,2H),5.28(m,2H),4.41(m,2H),4.37(m,2H),3.6(m,4H),3.2(m,4H),2.34(t,4H),1.6(m,4H),1.25(s,16H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.0,165.6,131.1,128.0,69.9,69.5,63.1,36.4,34.3,31.8,29.5―29.0,24.9,22.6,21.8,14.0,
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr)cm−1:2930,2861,1744,
1652−1622,1176,807
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.45 (d, 2H), 6.17 (q, 2H), 5.87 (d, 2H), 5.28 (m, 2H), 4. 41 (m, 2H), 4.37 (m, 2H), 3.6 (m, 4H), 3.2 (m, 4H), 2.34 (t, 4H), 1.6 (m, 4H) ), 1.25 (s, 16H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.0, 165.6, 131.1, 128.0, 69.9, 69.5, 63.1, 36.4, 34.3, 31 .8, 29.5-29.0, 24.9, 22.6, 21.8, 14.0,
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr) cm −1 : 2930, 2861, 1744,
1652-1622, 1176, 807

(合成例9)
撹拌装置、窒素導入管、冷却管及び温度計を備えた反応容器に、塩化メチレン300ml、ラウリン酸28g(0.14mol)、p−メトキシフェノール20mg、「ドータイトWSC」27g(0.14mol)及び触媒として4−ジメチルアミノピリジン1.7gを加え、5℃に保ちながら、岡村製油社製の長鎖二塩基酸のエポキシアクリレート「IPS−22GA」43.8gを溶解させた塩化メチレン溶液50ml溶液を1時間かけてゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で10時間撹拌した後反応を終了した。1/10Nの塩酸溶液、飽和食塩水の順で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。有機層の溶媒を減圧留去した後、濃縮液をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製してラジカル重合性化合物「M9」を33g得た。
(Synthesis Example 9)
In a reaction vessel equipped with a stirrer, a nitrogen introducing tube, a cooling tube and a thermometer, 300 ml of methylene chloride, 28 g (0.14 mol) of lauric acid, 20 mg of p-methoxyphenol, 27 g (0.14 mol) of “Dotite WSC” and a catalyst As a solution, 1.7 g of 4-dimethylaminopyridine was added, and a 50 ml solution of methylene chloride in which 43.8 g of long-chain dibasic acid epoxy acrylate “IPS-22GA” manufactured by Okamura Oil Co., Ltd. was dissolved was added. Drip slowly over time. After completion of the dropwise addition, the reaction was terminated after stirring at room temperature for 10 hours. The organic layer was washed with 1 / 10N hydrochloric acid solution and saturated saline in this order, and dried over anhydrous sodium sulfate. After the solvent of the organic layer was distilled off under reduced pressure, the concentrated solution was purified by silica gel chromatography to obtain 33 g of a radical polymerizable compound “M9”.

Figure 2006045416

M9
Figure 2006045416

M9

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.45(d,2H),6.17(q,2H),5.67(d,2H),5.30(m,2H),4.33(m,2H),4.25(m,2H),4.21(m,4H),2.34(m,4H),2.32(t,4H),1.70−1.55(m,8H),1.53(m,2H),1.25(s,56H),0.88(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.5,173.2,165.9,131.5,128.0,71.6,69.9,68.9,68.8,63.0,62.6,42.4,34.9,34.0,31.8,29.6―29.0,24.9,22.6,14.0,
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr)cm−1:2930,2861,1744,
1652−1622,1176,807
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.45 (d, 2H), 6.17 (q, 2H), 5.67 (d, 2H), 5.30 (m, 2H), 4. 33 (m, 2H), 4.25 (m, 2H), 4.21 (m, 4H), 2.34 (m, 4H), 2.32 (t, 4H), 1.70-1.55 (M, 8H), 1.53 (m, 2H), 1.25 (s, 56H), 0.88 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.5, 173.2, 165.9, 131.5, 128.0, 71.6, 69.9, 68.9, 68.8, 63 0.0, 62.6, 42.4, 34.9, 34.0, 31.8, 29.6-29.0, 24.9, 22.6, 14.0,
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr) cm −1 : 2930, 2861, 1744,
1652-1622, 1176, 807

(合成例10)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体1を5.7g(0.020モル)、ヨウ化ナトリウム3.3g(0.022モル)、およびアセトニトリルを50ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、セバシン酸クロリド 2.5g(0.010モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後にヘキサン/酢酸エチル=1/1溶液を100ml加え、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 200mlでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−10を6.5g合成した。
(Synthesis Example 10)
In a reaction vessel similar to Synthesis Example 2, 5.7 g (0.020 mol) of intermediate 1 described above, 3.3 g (0.022 mol) of sodium iodide, and 50 ml of acetonitrile are placed at 5 ° C. or lower. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Next, 2.5 g (0.010 mol) of sebacic acid chloride was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. for 1 hour, and further stirred at room temperature for 3 hours to complete the reaction. After adding a small amount of water to the reaction vessel, 100 ml of a hexane / ethyl acetate = 1/1 solution was added, and iodine was decomposed with 200 ml of a 10% aqueous sodium hydrogen sulfite solution. Further, the organic layer was washed in the order of pure water and saturated saline. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and then the organic solvent was distilled off under reduced pressure to synthesize 6.5 g of intermediate M-10.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−10 6.5g(0.012モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 1.4g(0.020モル)、p−メトキシフェノール 14mg、およびジメチルスルオキシド100mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを3.0g(0.020モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、シリカゲルクロマトグラフィー精製により、ラジカル重合性化合物「M10」を3.5g得た。   Subsequently, 1.4 g (0.020 mol) of acrylic acid was similarly obtained except that 6.5 g (0.012 mol) of the intermediate M-10 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 14 mg of p-methoxyphenol and 100 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 3.0 g (0.020 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of dropping, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed, and 3.5 g of radical polymerizable compound “M10” was obtained by silica gel chromatography purification.

Figure 2006045416
(M10)
Figure 2006045416
(M10)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.41(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.14(s,4H)4.03(s,4H),3.36(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.61−1.38(m,12H),1.25(m,44H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.5,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.4,41.4,34.3,31.9,29.6−29.0,26.1,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.41 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.14 (s, 4H) 4.03 (S, 4H), 3.36 (t, 4H), 3.29 (s, 4H), 2.29 (t, 4H), 1.61-1.38 (m, 12H), 1.25 ( m, 44H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.5, 165.9, 130.6, 128.3, 71.5, 70.4, 64.7, 64.4, 41.4, 34 3, 31.9, 29.6-29.0, 26.1, 24.9, 23.0, 22.6, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例11)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体2を15g(0.055モル)、ヨウ化ナトリウム9.1g(0.061モル)、およびアセトニトリルを150ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、アジピン酸クロリド 5.3g(0.029モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後にヘキサン/酢酸エチル=1/1溶液を200ml加え、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 300mlでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−11を23.3g合成した。
(Synthesis Example 11)
In a reaction vessel similar to Synthesis Example 2, 15 g (0.055 mol) of the intermediate 2 described above, 9.1 g (0.061 mol) of sodium iodide, and 150 ml of acetonitrile were placed so that the temperature was 5 ° C. or less. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Next, 5.3 g (0.029 mol) of adipic acid chloride was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. for 1 hour, and further stirred at room temperature for 3 hours to complete the reaction. A small amount of water was added to the reaction vessel, 200 ml of a hexane / ethyl acetate = 1/1 solution was added, and iodine was decomposed with 300 ml of a 10% aqueous sodium bisulfite solution. Further, the organic layer was washed in the order of pure water and saturated saline. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and then the organic solvent was distilled off under reduced pressure to synthesize 23.3 g of intermediate M-11.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−11 23.3g(0.026モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 7.4g(0.102モル)、p−メトキシフェノール 110mg、およびジメチルスルオキシド300mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを3.0g(0.020モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、シリカゲルクロマトグラフィー精製により、ラジカル重合性化合物「M11」を11.2g得た。   Subsequently, 7.4 g (0.102 mol) of acrylic acid was similarly obtained except that 23.3 g (0.026 mol) of the intermediate M-11 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 110 mg of p-methoxyphenol and 300 ml of dimethylsulfoxide were added, and 3.0 g (0.020 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of dropping, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed, and 11.2 g of radical polymerizable compound “M11” was obtained by silica gel chromatography purification.

Figure 2006045416
(M11)
Figure 2006045416
(M11)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.41(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.14(s,4H)4.03(s,4H),3.36(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.61−1.38(m,12H),1.25(m,36H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.5,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.4,41.4,34.3,31.9,29.6−29.0,26.1,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.41 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.14 (s, 4H) 4.03 (S, 4H), 3.36 (t, 4H), 3.29 (s, 4H), 2.29 (t, 4H), 1.61-1.38 (m, 12H), 1.25 ( m, 36H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.5, 165.9, 130.6, 128.3, 71.5, 70.4, 64.7, 64.4, 41.4, 34 3, 31.9, 29.6-29.0, 26.1, 24.9, 23.0, 22.6, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.

(合成例12)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体4を14.3g(0.045モル)、ヨウ化ナトリウム16.4g(0.110モル)、およびアセトニトリルを150ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、n−デカノイルクロリド18.2g(0.095モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後にヘキサン/酢酸エチル=1/1溶液を300ml加え、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 400mlでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−12を28.2g合成した。
(Synthesis Example 12)
In a reaction vessel similar to Synthesis Example 2, 14.3 g (0.045 mol) of the intermediate 4 described above, 16.4 g (0.110 mol) of sodium iodide, and 150 ml of acetonitrile are placed at 5 ° C. or lower. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Next, 18.2 g (0.095 mol) of n-decanoyl chloride was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. for 1 hour, and further stirred at room temperature for 3 hours to complete the reaction. A small amount of water was added to the reaction vessel, 300 ml of a hexane / ethyl acetate = 1/1 solution was added, and iodine was decomposed with 400 ml of a 10% aqueous sodium bisulfite solution. Further, the organic layer was washed in the order of pure water and saturated saline. After drying the organic layer with anhydrous sodium sulfate, the organic solvent was distilled off under reduced pressure to synthesize 28.2 g of intermediate M-12.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−12 28.2g(0.032モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 9.3g(0.128モル)、p−メトキシフェノール 60mg、およびジメチルスルオキシド300mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを19.5g(0.128モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、シリカゲルクロマトグラフィー精製により、ラジカル重合性化合物「M12」を16.7g得た。   Subsequently, 9.3 g (0.128 mol) of acrylic acid was similarly obtained except that 28.2 g (0.032 mol) of the intermediate M-12 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 60 mg of p-methoxyphenol and 300 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 19.5 g (0.128 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropwise addition, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed, and 16.7 g of a radical polymerizable compound “M12” was obtained by silica gel chromatography purification.

Figure 2006045416

(M12)
Figure 2006045416

(M12)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,28H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.6,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.3,41.4,34.3,31.8,29.5−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.42 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.10 (s, 4H) 3.99 (S, 4H), 3.34 (t, 4H), 3.29 (s, 4H), 2.29 (t, 4H), 1.62 (s, 4H), 1.6-1.4 ( m, 8H), 1.25 (m, 28H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.6, 165.9, 130.6, 128.3, 71.5, 70.4, 64.7, 64.3, 41.4, 34 3, 31.8, 29.5-29.1, 25.9, 24.9, 23.0, 22.6, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

(合成例13)
合成例2と同様な反応容器に、前記の中間体4を9.4g(0.029モル)、ヨウ化ナトリウム10.3g(0.069モル)、およびアセトニトリルを150ml入れ、5℃以下になるように氷水バスで冷却しながら撹拌した。次いで、n−ミリストロイルクロリド14.7g(0.060モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、5℃で1時間撹拌した後に、更に室温で3時間撹拌して反応を終了した。反応容器に少量の水を加えた後にヘキサン/酢酸エチル=1/1溶液を400ml加え、10%亜硫酸水素ナトリウム水溶液 500mlでヨウ素を分解した。更に純水、飽和食塩水の順で有機層を洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に、有機溶媒を減圧留去して中間体M−13を22.8g合成した。
(Synthesis Example 13)
9.4 g (0.029 mol) of the intermediate 4 described above, 10.3 g (0.069 mol) of sodium iodide, and 150 ml of acetonitrile are placed in a reaction vessel similar to that of Synthesis Example 2, and the temperature is 5 ° C. or lower. The mixture was stirred while cooling with an ice-water bath. Next, 14.7 g (0.060 mol) of n-myristolyl chloride was slowly added dropwise. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 5 ° C. for 1 hour, and further stirred at room temperature for 3 hours to complete the reaction. After adding a small amount of water to the reaction vessel, 400 ml of a hexane / ethyl acetate = 1/1 solution was added, and iodine was decomposed with 500 ml of a 10% aqueous sodium bisulfite solution. Further, the organic layer was washed in the order of pure water and saturated saline. The organic layer was dried over anhydrous sodium sulfate, and then the organic solvent was distilled off under reduced pressure to synthesize 22.8 g of intermediate M-13.

次いで、合成例2の中間体M−2の代わりに上記中間体M−13 22.8g(0.032モル)を用いた以外は同様にして、アクリル酸 6.8g(0.095モル)、p−メトキシフェノール 60mg、およびジメチルスルオキシド200mlを入れ、室温で撹拌しながらDBUを14.4g(0.094モル)をゆっくり滴下した。滴下終了後、合成例2と同様な操作を行い、シリカゲルクロマトグラフィー精製により、ラジカル重合性化合物「M13」を9.6g得た。   Subsequently, 6.8 g (0.095 mol) of acrylic acid was similarly obtained except that 22.8 g (0.032 mol) of the intermediate M-13 was used instead of the intermediate M-2 of Synthesis Example 2. 60 mg of p-methoxyphenol and 200 ml of dimethyl sulfoxide were added, and 14.4 g (0.094 mol) of DBU was slowly added dropwise with stirring at room temperature. After completion of the dropwise addition, the same operation as in Synthesis Example 2 was performed, and 9.6 g of a radical polymerizable compound “M13” was obtained by silica gel chromatography purification.

Figure 2006045416
(M13)
Figure 2006045416
(M13)

(物性値)
1H−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:6.42(d,2H),6.12(q,2H),5.84(d,2H),4.10(s,4H)3.99(s,4H),3.34(t,4H),3.29(s,4H),2.29(t,4H),1.62(s,4H),1.6−1.4(m,8H),1.25(m,46H),0.87(t,12H)
13C−NMR(溶媒:重クロロホルム):δ:173.7,165.9,130.6,128.3,71.5,70.4,64.7,64.4,41.5,34.3,31.9,29.6−29.1,25.9,24.9,23.0,22.6,14.0,7.4
赤外吸収スペクトル(IR)(KBr):2925,2855,1733,1652−1622,1190,808.9
(Physical property value)
1H-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 6.42 (d, 2H), 6.12 (q, 2H), 5.84 (d, 2H), 4.10 (s, 4H) 3.99 (S, 4H), 3.34 (t, 4H), 3.29 (s, 4H), 2.29 (t, 4H), 1.62 (s, 4H), 1.6-1.4 ( m, 8H), 1.25 (m, 46H), 0.87 (t, 12H)
13 C-NMR (solvent: deuterated chloroform): δ: 173.7, 165.9, 130.6, 128.3, 71.5, 70.4, 64.7, 64.4, 41.5, 34 3, 31.9, 29.6-29.1, 25.9, 24.9, 23.0, 22.6, 14.0, 7.4
Infrared absorption spectrum (IR) (KBr): 2925, 2855, 1733, 1652-1622, 1190, 808.9

実施例中の光散乱型液晶デバイスは以下の方法で作製した。
液晶組成物、ラジカル重合性化合物、光重合開始剤からなる調光層形成材料を真空注入法でセルギャップ5μmのITO付きガラスセル内に注入した。この時、調光層形成材料が常に均一状態となるよう、真空注入装置内の温度をコントロールした。また真空度は2パスカルとなるよう設定した。注入後ガラスセルを取り出し、注入口を封口剤3026E(スリーボンド社製)で封止した後、調光層形成材料のアイソトロピック−ネマチック転移点より1から2℃高い温度にコントロールし、紫外線カットフィルターUV−35(東芝硝子社製)を介した照射強度が10mW/cmとなるように調整された高圧水銀ランプを60秒間照射して、光散乱型液晶デバイスを得た。
The light scattering type liquid crystal devices in the examples were produced by the following method.
A light control layer forming material comprising a liquid crystal composition, a radical polymerizable compound and a photopolymerization initiator was injected into a glass cell with ITO having a cell gap of 5 μm by a vacuum injection method. At this time, the temperature in the vacuum injection apparatus was controlled so that the light control layer forming material was always in a uniform state. The degree of vacuum was set to 2 Pascals. After the injection, the glass cell was taken out, the inlet was sealed with a sealing agent 3026E (manufactured by ThreeBond), and then the temperature was controlled to 1 to 2 ° C. higher than the isotropic-nematic transition point of the light control layer forming material. A light-scattering liquid crystal device was obtained by irradiating with a high-pressure mercury lamp adjusted to an irradiation intensity of 10 mW / cm 2 through UV-35 (manufactured by Toshiba Glass Co., Ltd.) for 60 seconds.

実施例中に示される光散乱型液晶デバイスの特性の略号、及び意味は以下に示す通りである。
25℃の室内環境において、光散乱型液晶デバイスに対する印加電圧を無印加から0.2V/ステップかつ5秒/ステップの条件で光透過率が変化しなくなるまで段階的に上昇させる。光透過率が変化しなくなったら印加電圧を0.2Vステップかつ5秒/ステップの条件で無印加まで下降させる。この操作を行った時の印加電圧と光透過率の関係から、以下の特性値が定義される。
T0:電圧無印加時の光透過率(%)。
T100:印加電圧上昇に伴う光透過率変化が飽和に達し、光透過率が変化しなくなった時の光透過率(%)。
T50:T0+0.5×(T100−T0)で定義される、T0とT100の中間の光透過率(%)。
V100:T100における印加電圧(V)。
Vr50:光散乱型液晶デバイスに対する印加電圧を無印加から上昇させていった時、T50の透過率における印加電圧(V)。
Vd50:光散乱型液晶デバイスに対する印加電圧をV100から下降させていった時、T50の透過率における印加電圧(V)。
HS50:Vr50−Vd50で定義される光学ヒステリシス(mV)。図6にこの定義を図解した。
HS50/d:光散乱型液晶デバイスのHS50を該光散乱型デバイスのセルギャップdで除した値(mV/μm)。
Abbreviations and meanings of characteristics of the light-scattering liquid crystal devices shown in the examples are as follows.
In an indoor environment at 25 ° C., the voltage applied to the light-scattering liquid crystal device is gradually increased until no light transmittance changes under the conditions of 0.2 V / step and 5 seconds / step from no application. When the light transmittance does not change, the applied voltage is lowered to no application under the condition of 0.2 V step and 5 seconds / step. The following characteristic values are defined from the relationship between the applied voltage and the light transmittance when this operation is performed.
T0: Light transmittance (%) when no voltage is applied.
T100: Light transmittance (%) when the light transmittance change due to the increase in applied voltage reaches saturation and the light transmittance does not change.
T50: light transmittance (%) between T0 and T100 defined by T0 + 0.5 × (T100−T0).
V100: Applied voltage (V) at T100.
Vr50: Applied voltage (V) at the transmittance of T50 when the applied voltage to the light scattering type liquid crystal device is increased from no application.
Vd50: Applied voltage (V) at the transmittance of T50 when the applied voltage to the light scattering type liquid crystal device is lowered from V100.
HS50: Optical hysteresis (mV) defined by Vr50-Vd50. This definition is illustrated in FIG.
HS50 / d: a value (mV / μm) obtained by dividing HS50 of the light scattering type liquid crystal device by the cell gap d of the light scattering type device.

(実施例1)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M1)と(M2)の混合物が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(A)の液晶温度範囲は−37℃から82℃である。
Example 1
The liquid crystal composition (A) is 70%, the mixture of the radical polymerizable compounds (M1) and (M2) is 29.4%, and the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is 0.6%. A composition for a light scattering liquid crystal device was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the above-described method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (A) is -37 ° C to 82 ° C.

Figure 2006045416

液晶組成物(A)
Figure 2006045416

Liquid crystal composition (A)

ラジカル重合性化合物(M1)と(M2)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M1同士が結合することによって生じる「M1−M1間」
2)M1とM2が結合することによって生じる「M1−M2間」
3)M2同士が結合することによって生じる「M2−M2間」
4)M1中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M1中」
5)M2中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M2中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表6に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M1) and (M2), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) "Between M1 and M1" generated by M1 bonding
2) “Between M1 and M2” generated by the combination of M1 and M2
3) “Between M2 and M2” generated by M2 bonding
4) “In M1” which is between side chains R1 and R2 existing in M1 from before polymerization
5) “In M2” between side chains R1 and R2 existing in M2 from before polymerization
Table 6 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表6から、ラジカル重合性化合物(M1)と(M2)の混合物より得られるΔαの値は
12−(−5)=17となる。
From Table 6, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M1) and (M2) is 12 − (− 5) = 17.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率であるβiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M1)と(M2)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M1)と(M2)の混合比(モル/モル)を表7のように変化させた。表7においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表7にラジカル重合性化合物(M1)と(M2)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, βi which is the abundance ratio between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radical polymerizable compounds (M1) and (M2) were randomly polymerized. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compounds (M1) and (M2) was changed as shown in Table 7. In Table 7, a monomer represents a radical polymerizable compound. Table 7 shows the abundance ratio βi of the side chain 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the mixing ratios of the radically polymerizable compounds (M1) and (M2) in molar fractions. .

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表6中のαiと表7中のβiから、ラジカル重合性化合物(M1)と(M2)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表8に示す。   Between αi in Table 6 and βi in Table 7, between the side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M1) and (M2) The values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) can be obtained. Table 8 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering type liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例2)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M3)と(M4)の混合物が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。
(Example 2)
70% of the liquid crystal composition (A), 29.4% of the mixture of the radical polymerizable compounds (M3) and (M4), and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals). A composition for a light scattering liquid crystal device was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the above-described method.

ラジカル重合性化合物(M3)と(M4)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M3同士が結合することによって生じる「M3−M3間」
2)M3とM4が結合することによって生じる「M3−M4間」
3)M4同士が結合することによって生じる「M4−M4間」
4)M3中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M3中」
5)M4中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M4中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表9に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M3) and (M4), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M3 and M3” generated by M3 bonding
2) “Between M3 and M4” generated by the combination of M3 and M4
3) “Between M4 and M4” generated by M4 joining
4) “In M3” which is between side chains R1 and R2 existing in M3 from before polymerization
5) “In M4” between the side chains R1 and R2 existing in M4 from before polymerization
Table 9 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表9から、ラジカル重合性化合物(M3)と(M4)の混合物より得られるΔαの値は
8−(−3)=11となる。
From Table 9, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M3) and (M4) is 8 − (− 3) = 11.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M3)と(M4)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M3)と(M4)の混合比(モル/モル)を表10のように変化させた。表10においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表10にラジカル重合性化合物(M3)と(M4)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radical polymerizable compounds (M3) and (M4) were polymerized randomly. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compounds (M3) and (M4) was changed as shown in Table 10. In Table 10, a monomer represents a radical polymerizable compound. Table 10 shows the abundance ratio βi of side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M3) and (M4) in terms of mole fraction. .

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表9中のαiと表10中のβiから、ラジカル重合性化合物(M3)と(M4)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表11に示す。   Between αi in Table 9 and βi in Table 10, between the side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M3) and (M4) The values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) can be obtained. Table 11 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例3)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M3)が5.9%、ラジカル重合性化合物(M5)が23.5%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。
(Example 3)
Liquid crystal composition (A) 70%, radical polymerizable compound (M3) 5.9%, radical polymerizable compound (M5) 23.5%, photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) A composition for a light scattering liquid crystal device comprising 0.6% was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the method described above.

ラジカル重合性化合物(M3)と(M5)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M3同士が結合することによって生じる「M3−M3間」
2)M3とM5が結合することによって生じる「M3−M5間」
3)M5同士が結合することによって生じる「M5−M5間」
4)M3中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M3中」
5)M5中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M5中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表12に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M3) and (M5), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M3 and M3” generated by M3 bonding
2) “Between M3 and M5” generated by the combination of M3 and M5
3) “Between M5 and M5” generated by M5 bonding
4) “In M3” which is between side chains R1 and R2 existing in M3 from before polymerization
5) “In M5” which is between side chains R1 and R2 existing in M5 from before polymerization
Table 12 shows values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表12から、ラジカル重合性化合物(M3)と(M5)の混合物より得られるΔαの値は、8−(−4)=12となる。   From Table 12, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M3) and (M5) is 8-(− 4) = 12.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M3)と(M5)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M3)と(M5)の混合比(モル/モル)は0.22:0.78である。表13においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表13に本実施例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radical polymerizable compounds (M3) and (M5) were polymerized randomly. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compound (M3) and (M5) is 0.22: 0.78. In Table 13, a monomer represents a radical polymerizable compound. Table 13 shows the abundance ratio βi of side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device of this example in terms of mole fraction.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表12中のαと表13中のβから、本実施例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表14に示す。   From [alpha] in Table 12 and [beta] in Table 13, the values of ([alpha] i * [beta] i) and [Sigma] ([alpha] i * [beta] i) between the side chains 1) to 5) included in the light scattering liquid crystal device of this example. Can be requested. Table 14 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例4)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M6)が5.9%、ラジカル重合性化合物(M5)が23.5%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(A)の液晶温度範囲は−37℃から82℃である。
Example 4
Liquid crystal composition (A) 70%, radical polymerizable compound (M6) 5.9%, radical polymerizable compound (M5) 23.5%, photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) A composition for a light scattering liquid crystal device comprising 0.6% was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the method described above. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (A) is -37 ° C to 82 ° C.

ラジカル重合性化合物(M6)と(M5)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M6同士が結合することによって生じる「M6−M6間」
2)M6とM5が結合することによって生じる「M6−M5間」
3)M5同士が結合することによって生じる「M5−M5間」
4)M6中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M6中」
5)M5中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M5中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表15に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M6) and (M5), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M6 and M6” generated by M6 bonding
2) “Between M6 and M5” generated by the combination of M6 and M5
3) “Between M5 and M5” generated by M5 bonding
4) “In M6” which is between side chains R1 and R2 existing in M6 from before polymerization
5) “In M5” which is between side chains R1 and R2 existing in M5 from before polymerization
Table 15 shows values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表15から、ラジカル重合性化合物(M6)と(M5)の混合物より得られるΔαの値は、6−(−4)=10となる。   From Table 15, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M6) and (M5) is 6-(− 4) = 10.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M6)と(M5)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M6)と(M5)の混合比(モル/モル)は0.23:0.77である。表16においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表16に本実施例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radical polymerizable compounds (M6) and (M5) were randomly polymerized. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compound (M6) and (M5) is 0.23: 0.77. In Table 16, a monomer represents a radical polymerizable compound. Table 16 shows the abundance ratio βi between side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device of this example as a mole fraction.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表15中のαiと表16中のβiから、本実施例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表17に示す。   From αi in Table 15 and βi in Table 16, the values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) between the side chains 1) to 5) included in the light-scattering liquid crystal device of this example. Can be requested. Table 17 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering type liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例5)
液晶組成物(B)が70%、ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合物が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(B)の液晶温度範囲は−41℃から80℃である。
(Example 5)
The liquid crystal composition (B) is 70%, the mixture of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) is 29.4%, and the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is 0.6%. A composition for a light scattering liquid crystal device was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the above-described method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (B) is −41 ° C. to 80 ° C.

Figure 2006045416

液晶組成物(B)
Figure 2006045416

Liquid crystal composition (B)

ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M7同士が結合することによって生じる「M7−M7間」
2)M7とM8が結合することによって生じる「M7−M8間」
3)M8同士が結合することによって生じる「M8−M8間」
4)M7中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M7中」
5)M8中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M8中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表18に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M7) and (M8), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M7 and M7” generated by M7 bonding
2) "Between M7 and M8" generated by the combination of M7 and M8
3) “Between M8 and M8” that occurs when M8 bonds
4) “In M7” which is between side chains R1 and R2 existing in M7 before polymerization
5) “In M8” which is between side chains R1 and R2 existing in M8 before polymerization
Table 18 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表18から、ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合物より得られるΔαの値は、5−(−4)=9となる。   From Table 18, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) is 5-(− 4) = 9.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合比(モル/モル)を表19のように変化させた。表19においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表19にラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radically polymerizable compounds (M7) and (M8) were polymerized randomly. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) was changed as shown in Table 19. In Table 19, a monomer represents a radically polymerizable compound. Table 19 shows the abundance ratio βi of the inter-chain 1) to 5) contained in the light-scattering type liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radically polymerizable compounds (M7) and (M8) as a mole fraction. .

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表18中のαiと表19中のβiから、ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表20に示す。   Between αi in Table 18 and βi in Table 19, between the side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) The values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) can be obtained. Table 20 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例6)
液晶組成物(B)が70%、ラジカル重合性化合物(M9)と(M8)の混合物が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(B)の液晶温度範囲は−41℃から80℃である。
(Example 6)
70% of the liquid crystal composition (B), 29.4% of the mixture of the radical polymerizable compounds (M9) and (M8), and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals). A composition for a light scattering liquid crystal device was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the above-described method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (B) is −41 ° C. to 80 ° C.

ラジカル重合性化合物(M9)と(M8)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M9同士が結合することによって生じる「M9−M9間」
2)M9とM8が結合することによって生じる「M9−M8間」
3)M8同士が結合することによって生じる「M8−M8間」
4)M9中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M9中」
5)M8中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M8中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表21に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M9) and (M8), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M9 and M9” generated by M9 bonding
2) "Between M9 and M8" generated by the combination of M9 and M8
3) “Between M8 and M8” that occurs when M8 bonds
4) “In M9” which is between side chains R1 and R2 existing in M9 from before polymerization
5) “In M8” which is between side chains R1 and R2 existing in M8 before polymerization
Table 21 shows values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表21から、ラジカル重合性化合物(M9)と(M8)の混合物より得られるΔαの値は、13−(−4)=17となる。   From Table 21, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M9) and (M8) is 13 − (− 4) = 17.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M9)と(M8)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M9)と(M8)の混合比(モル/モル)を表22のように変化させた。表22においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表22にラジカル重合性化合物(M9)と(M8)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radical polymerizable compounds (M9) and (M8) were polymerized randomly. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compounds (M9) and (M8) was changed as shown in Table 22. In Table 22, the monomer represents a radical polymerizable compound. Table 22 shows the abundance ratios βi of the inter-chain 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the mixing ratios of the radically polymerizable compounds (M9) and (M8) in terms of mole fraction. .

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表21中のαiと表22中のβiから、ラジカル重合性化合物(M9)と(M8)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表23に示す。   Between αi in Table 21 and βi in Table 22, between the side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M9) and (M8) The values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) can be obtained. Table 23 shows this calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering type liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例7)
液晶組成物(B)が70%、ラジカル重合性化合物(M10)が11.8%、ラジカル重合性化合物(M11)が17.6%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(B)の液晶温度範囲は−41℃から80℃である。
(Example 7)
Liquid crystal composition (B) is 70%, radical polymerizable compound (M10) is 11.8%, radical polymerizable compound (M11) is 17.6%, photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) A composition for a light scattering liquid crystal device comprising 0.6% was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the method described above. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (B) is −41 ° C. to 80 ° C.

ラジカル重合性化合物(M10)と(M11)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M10同士が結合することによって生じる「M10−M10間」
2)M10とM11が結合することによって生じる「M10−M11間」
3)M11同士が結合することによって生じる「M11−M11間」
4)M10中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M10中」
5)M11中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M11中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表24に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M10) and (M11), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M10 and M10” generated by M10 bonding
2) “Between M10 and M11” generated by combining M10 and M11
3) "Between M11 and M11" generated by M11 bonding
4) “In M10” between the side chains R1 and R2 existing in M10 from before polymerization
5) “In M11” which is between side chains R1 and R2 existing in M11 before polymerization
Table 24 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表24から、ラジカル重合性化合物(M10)と(M11)の混合物より得られるΔαの値は、2−(−3)=5となる。   From Table 24, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M10) and (M11) is 2-(− 3) = 5.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M10)と(M11)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M10)と(M11)の混合比(モル/モル)は0.38:0.62である。表25においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表25に本実施例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radical polymerizable compounds (M10) and (M11) were polymerized randomly. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compound (M10) and (M11) is 0.38: 0.62. In Table 25, the monomer represents a radical polymerizable compound. Table 25 shows the abundance ratio βi between side chains 1) to 5) included in the light-scattering liquid crystal device of this example in terms of mole fraction.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表24中のαiと表25中のβiから、ラジカル重合性化合物(M10)と(M11)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表26に示す。   From αi in Table 24 and βi in Table 25, between the side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M10) and (M11) The values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) can be obtained. Table 26 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例8)
液晶組成物(C)が70%、ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合物が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。
(Example 8)
The liquid crystal composition (C) is 70%, the mixture of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) is 29.4%, and the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is 0.6%. A composition for a light scattering liquid crystal device was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the above-described method.

Figure 2006045416

液晶組成物(C)
Figure 2006045416

Liquid crystal composition (C)

ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M7同士が結合することによって生じる「M7−M7間」
2)M7とM8が結合することによって生じる「M7−M8間」
3)M8同士が結合することによって生じる「M8−M8間」
4)M7中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M7中」
5)M8中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M8中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表27に示す。
By polymerizing a mixture of the radically polymerizable compounds (M7) and (M8), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M7 and M7” generated by M7 bonding
2) "Between M7 and M8" generated by the combination of M7 and M8
3) “Between M8 and M8” that occurs when M8 bonds
4) “In M7” which is between side chains R1 and R2 existing in M7 before polymerization
5) “In M8” which is between side chains R1 and R2 existing in M8 before polymerization
Table 27 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表27から、ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合物より得られるΔαの値は、5−(−4)=9となる。 From Table 27, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) is 5-(− 4) = 9.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の混合比(モル/モル)を表28のように変化させた。表28においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表28にラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radically polymerizable compounds (M7) and (M8) were polymerized randomly. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) was changed as shown in Table 28. In Table 28, the monomer represents a radical polymerizable compound. Table 28 shows the abundance ratio βi of the interchain side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) in terms of mole fraction. .

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表27中のαiと表28中のβiから、ラジカル重合性化合物(M7)と(M8)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表29に示す。   From αi in Table 27 and βi in Table 28, between the side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M7) and (M8) The values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) can be obtained. Table 29 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light-scattering liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(実施例9)
液晶組成物(C)が70%、ラジカル重合性化合物(M12)と(M13)の混合物が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。
Example 9
The liquid crystal composition (C) is 70%, the mixture of the radical polymerizable compounds (M12) and (M13) is 29.4%, and the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) is 0.6%. A composition for a light scattering liquid crystal device was prepared, and a light scattering liquid crystal device was obtained by the above-described method.

ラジカル重合性化合物(M12)と(M13)の混合物を重合させることによって、下記5種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M12同士が結合することによって生じる「M12−M12間」
2)M12とM13が結合することによって生じる「M12−M13間」
3)M13同士が結合することによって生じる「M13−M13間」
4)M12中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M12中」
5)M13中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M13中」
これら1)〜5)の側鎖間について計算したαの値を表30に示す。
By polymerizing a mixture of the radical polymerizable compounds (M12) and (M13), the following five types of inter-chain patterns can be generated.
1) "Between M12 and M12" generated by M12 bonding
2) “Between M12 and M13” generated by combining M12 and M13
3) “Between M13 and M13” generated by M13 bonding
4) “In M12” which is between side chains R1 and R2 existing in M12 before polymerization
5) “In M13” which is between side chains R1 and R2 existing in M13 from before polymerization
Table 30 shows values of α calculated between the side chains of 1) to 5).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表30から、ラジカル重合性化合物(M12)と(M13)の混合物より得られるΔαの値は、0−(−5)=5となる。   From Table 30, the value of Δα obtained from the mixture of the radical polymerizable compounds (M12) and (M13) is 0 − (− 5) = 5.

次に光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)〜5)の存在比率βiを見積もる。この存在比率βiはラジカル重合性化合物(M12)と(M13)の全てがランダムに重合したとして、確率的に計算した。本実施例ではラジカル重合性化合物(M12)と(M13)の混合比(モル/モル)を表31のように変化させた。表31においてモノマーとはラジカル重合性化合物を表す。表31にラジカル重合性化合物(M12)と(M13)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の存在比率βiをモル分率で示した。   Next, the abundance ratio βi between the side chains 1) to 5) contained in the light scattering type liquid crystal device is estimated. This abundance ratio βi was calculated stochastically assuming that all of the radical polymerizable compounds (M12) and (M13) were polymerized randomly. In this example, the mixing ratio (mol / mol) of the radical polymerizable compounds (M12) and (M13) was changed as shown in Table 31. In Table 31, a monomer represents a radical polymerizable compound. Table 31 shows the abundance ratio βi between side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the mixing ratios of the radically polymerizable compounds (M12) and (M13) in terms of mole fraction. .

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表30中のαiと表31中のβiから、ラジカル重合性化合物(M12)と(M13)の各混合比から得られる光散乱型液晶デバイス中に含まれる、側鎖間1)〜5)の(αi×βi)及びΣ(αi×βi)の値を求めることができる。この計算値と該光散乱型液晶デバイスのHS50/d評価結果を表32に示す。   From αi in Table 30 and βi in Table 31, the distance between side chains 1) to 5) contained in the light-scattering liquid crystal device obtained from the respective mixing ratios of the radical polymerizable compounds (M12) and (M13) The values of (αi × βi) and Σ (αi × βi) can be obtained. Table 32 shows the calculated value and the HS50 / d evaluation result of the light scattering liquid crystal device.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

(比較例1)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M2)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(A)の液晶温度範囲は−37℃から82℃である。
(Comparative Example 1)
For light-scattering liquid crystal devices comprising 70% of the liquid crystal composition (A), 29.4% of the radical polymerizable compound (M2) and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (A) is -37 ° C to 82 ° C.

ラジカル重合性化合物(M2)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M2同士が結合することによって生じる「M2−M2間」
2)M2中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M2中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表33に示す。
By polymerizing the radical polymerizable compound (M2), the following two types of inter-chain patterns can be generated.
1) "Between M2 and M2" generated by M2 bonding
2) “In M2” between side chains R1 and R2 existing in M2 from before polymerization
Table 33 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表33から、ラジカル重合性化合物(M2)より得られるΔαの値は、(−3)−(−5)=2となる。   From Table 33, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M2) is (−3) − (− 5) = 2.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M2)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表33中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると−3.67となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ102.7mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M2) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 33 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) included in the light-scattering liquid crystal device of this comparative example is −3.67.
When HS50 / d of the light-scattering liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 102.7 mV / μm.

(比較例2)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M3)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(A)の液晶温度範囲は−37℃から82℃である。
(Comparative Example 2)
For light-scattering liquid crystal devices comprising 70% of the liquid crystal composition (A), 29.4% of the radical polymerizable compound (M3), and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (A) is -37 ° C to 82 ° C.

ラジカル重合性化合物(M3)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M3同士が結合することによって生じる「M3−M3間」
2)M3中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M3中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表34に示す。
By polymerizing the radical polymerizable compound (M3), the following two types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M3 and M3” generated by M3 bonding
2) “In M3” which is between side chains R1 and R2 existing in M3 before polymerization
Table 34 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表34から、ラジカル重合性化合物(M3)より得られるΔαの値は、8−3=5となる。 From Table 34, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M3) is 8-3 = 5.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M3)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表34中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると4.67となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ49.4mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M3) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 34 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is 4.67.
When HS50 / d of the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 49.4 mV / μm.

(比較例3)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M4)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(A)の液晶温度範囲は−37℃から82℃である。
(Comparative Example 3)
For light-scattering liquid crystal devices comprising 70% of the liquid crystal composition (A), 29.4% of the radical polymerizable compound (M4) and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (A) is -37 ° C to 82 ° C.

ラジカル重合性化合物(M4)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M4同士が結合することによって生じる「M4−M4間」
2)M4中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M4中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表35に示す。
By polymerizing the radical polymerizable compound (M4), the following two types of inter-chain patterns can be generated.
1) "Between M4 and M4" generated by M4 bonding
2) “In M4” between side chains R1 and R2 present in M4 before polymerization
Table 35 shows the values of α calculated for the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表35から、ラジカル重合性化合物(M4)より得られるΔαの値は、(−3)−(−3)=0となる。   From Table 35, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M4) is (−3) − (− 3) = 0.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M4)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表35中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると−3.00となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ43.1mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M4) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 35 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) included in the light-scattering liquid crystal device of this comparative example is −3.00.
When HS50 / d of the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 43.1 mV / μm.

(比較例4)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M5)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(A)の液晶温度範囲は−37℃から82℃である。
(Comparative Example 4)
For light-scattering liquid crystal devices comprising 70% of the liquid crystal composition (A), 29.4% of the radical polymerizable compound (M5) and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (A) is -37 ° C to 82 ° C.

ラジカル重合性化合物(M5)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M5同士が結合することによって生じる「M5−M5間」
2)M5中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M5中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表36に示す。
By polymerizing the radically polymerizable compound (M5), the following two types of inter-chain patterns can be generated.
1) "Between M5 and M5" generated by M5 bonding
2) “In M5” between side chains R1 and R2 present in M5 from before polymerization
Table 36 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表36から、ラジカル重合性化合物(M5)より得られるΔαの値は、(−3)−(−4)=1となる。   From Table 36, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M5) is (−3) − (− 4) = 1.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M5)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表36中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると−3.33となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ76.0mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M5) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 36 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is −3.33.
When HS50 / d of the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 76.0 mV / μm.

(比較例5)
液晶組成物(A)が70%、ラジカル重合性化合物(M6)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(A)の液晶温度範囲は−37℃から82℃である。
(Comparative Example 5)
For light-scattering liquid crystal devices comprising 70% of the liquid crystal composition (A), 29.4% of the radical polymerizable compound (M6), and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals). The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (A) is -37 ° C to 82 ° C.

ラジカル重合性化合物(M6)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M6同士が結合することによって生じる「M6−M6間」
2)M6中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M6中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表37に示す。
By polymerizing the radical polymerizable compound (M6), the following two types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M6 and M6” generated by M6 bonding
2) “In M6” which is between side chains R1 and R2 existing in M6 before polymerization
Table 37 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表37から、ラジカル重合性化合物(M6)より得られるΔαの値は、6−3=3となる。   From Table 37, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M6) is 6-3 = 3.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M6)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表37中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると4.00となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ75.0mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M6) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 37 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is 4.00.
When HS50 / d of the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 75.0 mV / μm.

(比較例6)
液晶組成物(C)が70%、ラジカル重合性化合物(M7)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。
(Comparative Example 6)
For light scattering type liquid crystal device comprising 70% of liquid crystal composition (C), 29.4% of radical polymerizable compound (M7) and 0.6% of photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method.

ラジカル重合性化合物(M7)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M7同士が結合することによって生じる「M7−M7間」
2)M7中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M7中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表38に示す。
By polymerizing the radical polymerizable compound (M7), the following two types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M7 and M7” generated by M7 bonding
2) “In M7” between side chains R1 and R2 present in M7 from before polymerization
Table 38 shows values of α calculated between the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表38から、ラジカル重合性化合物(M7)より得られるΔαの値は、5−4=1となる。   From Table 38, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M7) is 5-4 = 1.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M7)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表38中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると4.33となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ68.0mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M7) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 38 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering type liquid crystal device of this comparative example is 4.33.
When HS50 / d of the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 68.0 mV / μm.

(比較例7)
液晶組成物(C)が70%、ラジカル重合性化合物(M8)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。
(Comparative Example 7)
For light-scattering liquid crystal devices comprising 70% of the liquid crystal composition (C), 29.4% of the radical polymerizable compound (M8), and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method.

ラジカル重合性化合物(M8)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M8同士が結合することによって生じる「M8−M8間」
2)M8中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M8中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表39に示す。
By polymerizing the radical polymerizable compound (M8), the following two types of side chain patterns can be generated.
1) “Between M8 and M8” generated by M8 joining
2) “In M8” which is between side chains R1 and R2 existing in M8 before polymerization
Table 39 shows values of α calculated between the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表39から、ラジカル重合性化合物(M8)より得られるΔαの値は、(−2)−(−4)=2となる。   From Table 39, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M8) is (−2) − (− 4) = 2.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M8)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表39中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると−2.67となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ177.7mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M8) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 39 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering liquid crystal device of this comparative example is -2.67.
When HS50 / d of the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 177.7 mV / μm.

(比較例8)
液晶組成物(B)が70%、ラジカル重合性化合物(M9)が29.4%、光重合開始剤イルガキュア651(チバスペシャリティーケミカルズ社製)が0.6%からなる光散乱型液晶デバイス用組成物を調合し、前述の手法で光散乱型液晶デバイスを得た。液晶組成物(B)の液晶温度範囲は−41℃から80℃である。
(Comparative Example 8)
For light-scattering liquid crystal devices comprising 70% of the liquid crystal composition (B), 29.4% of the radical polymerizable compound (M9), and 0.6% of the photopolymerization initiator Irgacure 651 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) The composition was prepared and the light-scattering type liquid crystal device was obtained by the above-mentioned method. The liquid crystal temperature range of the liquid crystal composition (B) is −41 ° C. to 80 ° C.

ラジカル重合性化合物(M9)を重合させることによって、下記2種類の側鎖間パターンが生成しうる。
1)M9同士が結合することによって生じる「M9−M9間」
2)M9中に重合前から存在している側鎖R1とR2の間である「M9中」
これら1)〜2)の側鎖間について計算したαの値を表40に示す。
By polymerizing the radical polymerizable compound (M9), the following two types of inter-chain patterns can be generated.
1) “Between M9 and M9” generated by M9 bonding
2) “In M9” which is between side chains R1 and R2 existing in M9 from before polymerization
Table 40 shows the values of α calculated between the side chains of 1) to 2).

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表40から、ラジカル重合性化合物(M9)より得られるΔαの値は、13−(−2)=15となる。   From Table 40, the value of Δα obtained from the radical polymerizable compound (M9) is 13 − (− 2) = 15.

本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)の存在比率はラジカル重合性化合物(M9)の全てが重合したとして下記のモル分率βiとなる。
側鎖間1)のβi:側鎖間2)のβi=0.67:0.33
表40中のαiと上記βiから本比較例の光散乱型液晶デバイス中に含まれる側鎖間1)、2)のΣ(αi×βi)を求めると3.00となる。
本比較例の光散乱型液晶デバイスのHS50/dを評価したところ48.8mV/μmであった。
The abundance ratio between the side chains 1) and 2) contained in the light scattering liquid crystal device of this comparative example is the following molar fraction βi assuming that all of the radical polymerizable compound (M9) is polymerized.
1) βi between side chains: βi between side chains 2) = 0.67: 0.33
From αi in Table 40 and βi described above, Σ (αi × βi) between the side chains 1) and 2) included in the light-scattering liquid crystal device of this comparative example is 3.00.
When HS50 / d of the light-scattering type liquid crystal device of this comparative example was evaluated, it was 48.8 mV / μm.

以上に説明した実施例と比較例について、Δα、Σ(αi×βi)、25℃におけるHS50/dの関係を表41にまとめた。   Table 41 shows the relationship between Δα, Σ (αi × βi), and HS50 / d at 25 ° C. for the examples and comparative examples described above.

Figure 2006045416
Figure 2006045416

表41に示すように、Δαが5以上、Σ(αi×βi)が−3.16から2.00まで、の二つの条件を同時に満たす実施例の光散乱型液晶デバイスは単位セルギャップ当たりの光学ヒステリシスであるHS50/dが20mV/μm以下となった。その中でもΔαを12以上にした場合、Σ(αi×βi)を−1.79から2.00まで、にした場合ではさらにHS50/dを低くすることができた。
一方、Δαが5以上、Σ(αi×βi)が−3.16から2.00まで、の二つの条件を同時に満たしていない比較例の光散乱型液晶デバイスは実施例の光散乱型液晶デバイスよりもHS50/dが高かった。比較例の光散乱型液晶デバイスではHS50/dを20mV/μm以下とすることができなかった。
As shown in Table 41, the light scattering type liquid crystal device of the example satisfying the two conditions of Δα of 5 or more and Σ (αi × βi) of −3.16 to 2.00 at the same time per unit cell gap. The optical hysteresis HS50 / d was 20 mV / μm or less. Among them, when Δα was 12 or more, HS50 / d could be further reduced when Σ (αi × βi) was changed from −1.79 to 2.00.
On the other hand, the light scattering liquid crystal device of the comparative example that does not satisfy the two conditions of Δα of 5 or more and Σ (αi × βi) of −3.16 to 2.00 is the light scattering liquid crystal device of the example. HS50 / d was higher. In the light scattering liquid crystal device of the comparative example, HS50 / d could not be made 20 mV / μm or less.

本発明の光散乱型液晶デバイスは、中間調領域における光学ヒステリシスが少ないため、再現性の高い階調表示、高い階調度での階調表示を行うことができる。さらに本発明の光散乱型デバイスは、表示セルのギャップを小さくすることなく低い光学ヒステリシスが得られるため、光散乱型液晶デバイスの散乱特性と低光学ヒステリシスの両立を図ることができる。このため、光散乱モードの高表示品位ディスプレイに使用することができる。具体的にはPDAなどの携帯情報端末の表示素子や光散乱型の直視・反射型ペーパーライクディスプレイに使用することができる。またデジタルペーパー、ICカードの情報表示、電子ブックや、光シャッターなどの光学素子としても有用である。   Since the light scattering liquid crystal device of the present invention has little optical hysteresis in the halftone region, it is possible to perform gradation display with high reproducibility and gradation display with high gradation. Furthermore, since the light scattering type device of the present invention provides low optical hysteresis without reducing the gap of the display cells, it is possible to achieve both the scattering characteristics of the light scattering type liquid crystal device and the low optical hysteresis. For this reason, it can be used for a high display quality display in a light scattering mode. Specifically, it can be used for a display element of a portable information terminal such as a PDA or a light-scattering direct-view / reflective paper-like display. It is also useful as an optical element such as digital paper, IC card information display, electronic book, and optical shutter.

ポリマー主鎖と液晶分子とのアンカリングについて説明した図である。It is a figure explaining the anchoring of a polymer principal chain and a liquid crystal molecule. ポリマーの側鎖と液晶分子とのアンカリングについて説明した図である。It is a figure explaining anchoring of a polymer side chain and a liquid crystal molecule. ポリマー主鎖または側鎖と液晶分子とのアンカリングによって電圧印加過程で電圧−光透過率曲線が高電圧側にずれる様子を説明した図である。It is a figure explaining a mode that a voltage-light transmittance curve shifted to the high voltage side in the process of voltage application by anchoring of a polymer principal chain or a side chain, and liquid crystal molecules. ポリマー主鎖または側鎖と液晶分子とのアンカリングによって電圧降下過程での電圧−光透過率曲線が低電圧側にずれる様子を説明した図である。It is the figure explaining a mode that the voltage-light transmittance curve in a voltage drop process shifted to the low voltage side by anchoring of a polymer principal chain or a side chain, and a liquid crystal molecule. 本発明におけるαの定義について具体例を挙げて説明した図である。It is the figure which gave the specific example and demonstrated the definition of (alpha) in this invention. 本発明の光散乱型液晶デバイスの主要評価項目である光学ヒステリシスHS50の定義について示した図である。It is the figure shown about the definition of optical hysteresis HS50 which is the main evaluation items of the light-scattering type liquid crystal device of the present invention.

Claims (3)

ラジカル重合性組成物及び液晶組成物を含有する調光層形成材料を重合させて得た調光層を有する光散乱型液晶デバイスにおいて、前記ラジカル重合性組成物が、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を少なくとも1種含む組成物であり、且つ、数式(1)および数式(3)を同時に満たすことを特徴とする光散乱型液晶デバイス。
Figure 2006045416

(1)
(式中、Rは炭素原子数3〜40のアルキル基を表す。但し、該アルキル基中の炭素原子は、
a)酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよく、
b)置換基として炭素原子数1〜15のアルキル基を有していても良い。
は、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は、アルキレン基(但し、該アルキレン基中の炭素原子は、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、炭素原子数6〜12の脂環基、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよい)で表され、Aが結合する2つの炭素原子間結合を辿ったときに含まれる結合数Na1が3〜40である連結基を表し、Aは、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、又は、アルキレン基(但し、該アルキレン基中の炭素原子は、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、炭素原子数6〜12の脂環基、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよい)を表し、Aは、−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、アルキレン基、アルキルトリイル基、又はアルキルテトライル基(但し、該アルキレン基、該アルキルトリイル基、又は該アルキルテトライル基中の炭素原子は、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして−O−、−CO−O−、−OCO−、−NHCO−O−、−OCONH−、炭素原子数6〜12の脂環基、又は炭素原子数6〜12のアリーレン基で置き換えられていてもよい)を表し、−A−A−A−に含まれる結合数Na2が3〜40である連結基を表す。
は水素原子又はメチル基を表し、Bは水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、複数あるR、A、A、A、B、及びBは、同じであってもよく、異なっていて良い。mは2〜4の整数を表す。)
Figure 2006045416
(1)
Figure 2006045416

(2)
Figure 2006045416
(3)
(数式(1)において、Δαは、前記ラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物から導き出された複数のαの、最大値α(αmax)と最小値α(αmin)の差を表し、αは、数式(2)から導き出される値を表す。数式(2)において、NR1R2は、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物において、隣接する2つのRをR及びRとしたとき、及び、前記一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物が重合反応することにより形成される、隣接する2つのRをR及びRとしたときの、RおよびRが結合している炭素原子の間にある結合数を表す。NR1及びNR2は、RおよびRが結合している炭素原子からRおよびRの末端の炭素原子までの結合を辿ったときに含まれる結合の数を表す。但し、RおよびRが置換基を有する場合は、もっとも原子数の多い末端の炭素原子までの結合に含まれる結合数をNR1及びNR2とする。また、先端の原子が水素原子である場合はこれを数えない。Σ(αi×βi)は、前記ラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物から導き出された複数のαiに対して、一般式(1)で表されるラジカル重合性化合物を含むラジカル重合性組成物に含まれるラジカル重合性化合物間の反応性がすべて同じと仮定した際に得られるαiの出現確率βiを乗じた、所謂期待値を、該重合体のすべてのαiに対して和した、理論値を表す。但し、B2とRを取り替えても前記定義を満たす場合は、前記結合数の多い方をRとする。)
In a light scattering liquid crystal device having a light control layer obtained by polymerizing a light control layer forming material containing a radical polymerizable composition and a liquid crystal composition, the radical polymerizable composition is represented by the general formula (1). A light-scattering liquid crystal device characterized in that it is a composition containing at least one radical polymerizable compound that satisfies the formulas (1) and (3).
Figure 2006045416

(1)
(In the formula, R represents an alkyl group having 3 to 40 carbon atoms, provided that the carbon atom in the alkyl group is
a) Oxygen atoms are not directly bonded to each other and are replaced by —O—, —CO—O—, —OCO—, —NHCO—O—, —OCONH—, or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms. You may,
b) You may have a C1-C15 alkyl group as a substituent.
A 1 represents —O—, —CO—O—, —OCO—, —NHCO—O—, —OCONH—, or an alkylene group (provided that the oxygen atom is directly bonded to the carbon atom in the alkylene group). -O-, -CO-O-, -OCO-, -NHCO-O-, -OCONH-, an alicyclic group having 6 to 12 carbon atoms, or an arylene group having 6 to 12 carbon atoms And the number of bonds N a1 included when following a bond between two carbon atoms to which A 1 is bonded is 3 to 40, and A 2 is- O-, -CO-O-, -OCO-, -NHCO-O-, -OCONH-, or an alkylene group (provided that oxygen atoms are not directly bonded to each other in carbon atoms in the alkylene group) -O-, -CO-O-, -OCO-, -NHCO-O -, - OCONH-, alicyclic group having 6 to 12 carbon atoms, or represent may) be replaced by an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, A 3 is, -O -, - CO-O -, -OCO-, -NHCO-O-, -OCONH-, an alkylene group, an alkyltriyl group, or an alkyltetrayl group (however, in the alkylene group, the alkyltriyl group, or the alkyltetrayl group) The carbon atom is -O-, -CO-O-, -OCO-, -NHCO-O-, -OCONH-, an alicyclic group having 6 to 12 carbon atoms, as oxygen atoms are not directly bonded to each other, or an may) be replaced by an arylene group having 6 to 12 carbon atoms, -A 2 -A 3 -A 2 - bond number N a2 contained in represents a linking group which is 3 to 40.
B 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, B 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a plurality of R, A 1 , A 2 , A 3 , B 1 and B 2 are the same May be different. m represents an integer of 2 to 4. )
Figure 2006045416
(1)
Figure 2006045416

(2)
Figure 2006045416
(3)
(In Formula (1), Δα represents a difference between a maximum value α (αmax) and a minimum value α (αmin) of a plurality of α derived from the radical polymerizable compound contained in the radical polymerizable composition, α represents a value derived from Formula (2) In Formula (2), N R1R2 represents two adjacent Rs in R 1 and R in the radical polymerizable compound represented by Formula (1). when a 2, and, the general radical-polymerizable compound represented by (1) is formed by the polymerization reaction, when two adjacent R and R 1 and R 2, R 1 and Represents the number of bonds between the carbon atoms to which R 2 is bonded N R1 and N R2 are from the carbon atom to which R 1 and R 2 are bonded to the terminal carbon atom of R 1 and R 2 Represents the number of bonds included when following a bond. And, if R 1 and R 2 has a substituent, the more distal most atomic number bond number in the join until carbon atoms and N R1 and N R2. The atomic tip are hydrogen atoms In some cases, this is not counted.Σ (αi × βi) is a radical represented by the general formula (1) with respect to a plurality of αi derived from the radically polymerizable compound contained in the radically polymerizable composition. The so-called expected value obtained by multiplying the appearance probability βi of αi obtained on the assumption that all the reactivity between the radically polymerizable compounds contained in the radically polymerizable composition containing the polymerizable compound is the same, Represents the theoretical value summed with respect to αi in the above formula, provided that the above definition is satisfied even if B2 and R are replaced, R is the one with the larger number of bonds.)
前記一般式(1)において、Aが−O−CH−、−O−CH−CH−CO−O−CH−、−O−CH−CHO−、又は−O−CH−CH(CH)O−であり、Aが−CH−O−、−CH−OCO−、−CH−CO−O−又は−CH−であり、Aが、mが2のときは、炭素数2〜40のアルキレン基(但し、該基中に存在し、Aと直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)、炭素数6〜18のアリーレン基、炭素数3〜10のシクロアルキレン基、又は、−Y−A−Y− (但し、Yはアリーレン基又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基を表し、Aは単結合又は炭素数1〜15のアルキレン基(但し、アルキレン基中に存在する1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−で置き換えられていても良い)を表す。)を表し、
mが3のときは、炭素数2〜30のアルキルトリイル基(但し、該基中に存在し、Aと直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)を表し、mが4のときは、炭素数2〜30のアルキルテトライル基(但し、該基中に存在し、Aと直接結合しない1個又は2個以上のメチレン基は、場合によりそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接に結合しないものとして、−O−、アリーレン基、又は炭素数3〜10のシクロアルキレン基で置き換えられていても良い)である、請求項1に記載の光散乱型液晶デバイス。
In the general formula (1), A 1 is —O—CH 2 —, —O—CH 2 —CH 2 —CO—O—CH 2 —, —O—CH 2 —CH 2 O—, or —O—. CH 2 —CH (CH 3 ) O—, A 2 is —CH 2 —O—, —CH 2 —OCO—, —CH 2 —CO—O— or —CH 2 —, and A 3 is When m is 2, an alkylene group having 2 to 40 carbon atoms (provided that one or two or more methylene groups present in the group and not directly bonded to A 2 are each independently of each other. The oxygen atoms are not directly bonded to each other, and may be replaced by —O—, an arylene group, or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms), an arylene group having 6 to 18 carbon atoms, or a carbon number 3 to 10 cycloalkylene groups, or —Y—A 4 —Y— (where Y is an aryl) Represents a ren group or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms, and A 4 is a single bond or an alkylene group having 1 to 15 carbon atoms (provided that one or two or more methylene groups present in the alkylene group are And independently of each other, the oxygen atoms may be replaced by -O- as if the oxygen atoms are not directly bonded to each other).
When m is 3, an alkyltriyl group having 2 to 30 carbon atoms (provided that one or two or more methylene groups present in the group and not directly bonded to A 2 may be mutually independent depending on the case. And oxygen atoms may not be directly bonded to each other, and may be replaced by -O-, an arylene group, or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms), and when m is 4, An alkyltetrayl group having 2 to 30 carbon atoms (provided that one or two or more methylene groups which are present in the group and are not directly bonded to A 2 are each independently independent of each other, and oxygen atoms are The light-scattering liquid crystal device according to claim 1, which may be substituted with —O—, an arylene group, or a cycloalkylene group having 3 to 10 carbon atoms.
前記数式(1)のΔαが、数式(4)を満たし、且つ数式(5)を満たす、請求項1又は2に記載の光散乱型液晶デバイス。
Figure 2006045416
(4)
Figure 2006045416

(5)
(但し、Δα、αmax、αmin、及びΣ(αi×βi)は、前記数式(1)〜(3)での定義と同様である)


3. The light scattering liquid crystal device according to claim 1, wherein Δα in the formula (1) satisfies the formula (4) and satisfies the formula (5).
Figure 2006045416
(4)
Figure 2006045416

(5)
(However, [Delta] [alpha], [alpha] max, [alpha] min, and [Sigma] ([alpha] i * [beta] i) are the same as defined in the mathematical expressions (1) to (3)).


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